JP2007128998A - Lead frame, manufacturing method of semiconductor device, and electronic machine - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、リードフレーム、当該リードフレームを利用した半導体装置の製造方法、および、当該製造方法により製造された半導体装置を適用した電子機器に関し、より具体的には、樹脂封止時に形成されリード端子に付着して残存する樹脂バリに起因した不具合を低減するための技術に関する。 The present invention relates to a lead frame, a method of manufacturing a semiconductor device using the lead frame, and an electronic device to which the semiconductor device manufactured by the manufacturing method is applied, and more specifically, a lead formed at the time of resin sealing. The present invention relates to a technique for reducing problems caused by resin burrs remaining on a terminal.
図23〜図27に従来のリードフレーム100Zおよびそれを利用した半導体装置1Zの製造方法を説明するための平面図および断面図を示す。なお、図24は図23中の24−24線における断面図であり、図27は図26中の27−27線における断面図である。
23 to 27 are a plan view and a cross-sectional view for explaining a
図23に示すように、従来のリードフレーム100Zは、複数の(図では3本を例示している)リード端子110Zと、これらのリード端子110Zに結合したタイバー120Zと、ダイパッド190Zとを含んでいる。なお、リードフレーム100Zは板状の銅材等をリードフレーム打ち抜き金型によってパンチングして形成される。
As shown in FIG. 23, a
半導体装置1Zにおいて、ダイパッド190Z上に半導体チップ50が搭載されており、この半導体チップ50はリード端子110Zの一端部(いわゆるインナーリード部分)やダイパッド190Zにワイヤ60で電気的に接続されている。半導体チップ50およびワイヤ60は樹脂封止されており、樹脂パッケージ200内に埋設されている。このとき、ダイパッド190Zおよびリード端子110Zの上記一端部も樹脂パッケージ200内に埋設されている。
In the
樹脂パッケージ200は、半導体チップ50が搭載された状態のリードフレーム100Zを封止金型(またはモールド金型)内にセッティングし、当該金型内へ樹脂を流し込むことにより形成される。封止金型にはリード端子110Z間の位置にエアーベントが設けられており、当該エアーベントから封止樹脂がエアーとともに漏れ出て、樹脂パッケージ200に結合した樹脂バリ210が発生する(図23および図24参照)。なお、流出した樹脂はタイバー120Zでせき止められるため、タイバー120Zとリード端子110Zとで囲まれた箇所に樹脂バリ210が発生する。
The
かかる樹脂封止工程後、リード端子110Zに外装メッキを施し、図25に示すようにレジンカット金型400Zによって樹脂バリ210を除去し、タイバー120Z等を除去する。これにより、図26に示すように半導体装置1Zが完成する。
After the resin sealing step, the
さて、上述のようにリードフレーム100Zは板状の銅材等をリードフレーム打ち抜き金型によってパンチングして形成される。この形成方法によれば、図24に示すように、リード端子110Zの角部が直角にはならず丸くなってしまう、すなわちダレ(またはダレ面)113Zが発生してしまう。
As described above, the
このようなダレ113Zを有したリードフレーム100Zを用いて上述の樹脂封止工程を行うと、図24に示すようにダレ113Z上にも樹脂バリ210が形成される。なお、必要に応じて、樹脂バリ210のうちでダレ113Z上の部分を「樹脂バリ211」と呼ぶことにする。ダレ113上の樹脂バリ211は、図25に示すようにレジンカット金型400Zに当たらないので除去できず、レジンカット工程後においても残ってしまう(図26および図27参照)。
When the above-described resin sealing process is performed using the
ダレ113Z上の樹脂バリ211は、樹脂パッケージ200との結合が強い一方、リード端子110Zとの密着性は弱い。また、樹脂バリ211は、その形成箇所に起因して細長く薄い。このため、当該樹脂バリ211は、非常に折れ易く、後工程で折れて剥がれると種々の不具合を招く可能性がある。例えば、上述の外装メッキ工程においてダレ113Zの部分は樹脂バリ211に覆われており当該部分にはメッキが付かないので、外装メッキ工程後に樹脂バリ211が剥がれるとリード端子110Zのメッキ外観上の不具合が生じうる。また、半導体装置1Zを基板に実装する工程でダレ113Z上の樹脂バリ211が剥がれて半導体装置1Zと基板のはんだ付け箇所との間に挟まると、はんだ付けの不具合が生じうる。
The
本発明は、かかる点にかんがみてなされたものであり、樹脂封止時に形成されリード端子に付着した樹脂バリに起因する不具合を低減しうるリードフレームおよび半導体装置の製造方法を提供し、当該製造方法で製造された半導体装置によって信頼性が向上した電子機器を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such points, and provides a manufacturing method of a lead frame and a semiconductor device that can reduce defects caused by resin burrs formed at the time of resin sealing and attached to lead terminals, and the manufacturing method. An object of the present invention is to provide an electronic device whose reliability is improved by a semiconductor device manufactured by the method.
上記目的を達成するために本発明は、樹脂封止型の半導体装置に用いられるリードフレームにおいて、樹脂で封止される第1領域と前記第1領域に連続し前記樹脂で封止されない第2領域とに渡って延在したリード端子と、前記リード端子に前記第2領域内において結合したタイバーと、前記タイバーよりも前記第1領域の側に設けられた樹脂遮断部とを備え、前記樹脂遮断部は、前記リード端子のうちで前記タイバーと前記第1領域との間の第3領域内の一部分から前記リード端子の幅方向へ突出した突出部であることを特徴とする。 In order to achieve the above object, according to the present invention, in a lead frame used in a resin-encapsulated semiconductor device, a first region that is sealed with a resin and a second region that is continuous with the first region and is not sealed with the resin. A lead terminal extending over a region, a tie bar coupled to the lead terminal in the second region, and a resin blocking portion provided on the first region side of the tie bar, the resin The blocking part is a protruding part that protrudes in a width direction of the lead terminal from a portion of the lead terminal in a third region between the tie bar and the first region.
このような構成によれば、樹脂封止時に封止金型のエアーベントから第3領域へ流出した樹脂は樹脂遮断部(突出部)によって遮断される(せき止められる)ので、リード端子への樹脂の付着を従来よりも減らすことができる(小さくすることができる)。したがって、樹脂バリの剥がれによる上述の不具合を減らすことができる。さらに、リード端子への樹脂付着の低減によって、リード端子のメッキ面積が増える。このため、リード端子のメッキ外観がより良好になるし、当該メッキ部分におけるはんだ付けの信頼性が向上する。 According to such a configuration, the resin flowing out from the air vent of the sealing mold to the third region at the time of resin sealing is blocked (damped) by the resin blocking portion (protruding portion), so the resin to the lead terminal Can be reduced (can be made smaller) than before. Therefore, the above-described problems due to peeling of the resin burrs can be reduced. Furthermore, the plating area of the lead terminal increases due to the reduction of resin adhesion to the lead terminal. For this reason, the plating appearance of the lead terminal becomes better, and the soldering reliability in the plated portion is improved.
そして、前記突出部を前記幅方向において両側に有する前記リード端子を複数備え、前記突出部は前記第1領域から同じ距離に位置していること、または、隣接する前記リード端子間に在る前記突出部は前記第1領域から異なる距離に位置していることが好ましい。 And a plurality of the lead terminals having the protrusions on both sides in the width direction, the protrusions being located at the same distance from the first region, or between the adjacent lead terminals. The protrusions are preferably located at different distances from the first region.
さらに、上記目的を達成するために本発明は、樹脂封止型の半導体装置に用いられるリードフレームにおいて、前記リード端子と、前記タイバーと、前記タイバーよりも前記第1領域の側に設けられた樹脂遮断部とを備え、前記樹脂遮断部は、前記タイバーと前記第1領域との間の第3領域内において平面視上前記リード端子の横の空間を仕切るように設けられた仕切りであることを特徴とする。 Furthermore, in order to achieve the above object, the present invention provides a lead frame used in a resin-encapsulated semiconductor device, wherein the lead terminal, the tie bar, and the tie bar are provided closer to the first region. A resin blocking portion, and the resin blocking portion is a partition provided so as to partition a space next to the lead terminal in a plan view in a third region between the tie bar and the first region. It is characterized by.
このような構成によれば、樹脂封止時に封止金型のエアーベントから第3領域へ流出した樹脂は樹脂遮断部(仕切り)によって遮断される(せき止められる)ので、リード端子への樹脂の付着を従来よりも減らすことができる(小さくすることができる)。したがって、樹脂バリの剥がれによる上述の不具合を減らすことができる。さらに、リード端子への樹脂付着の低減によって、リード端子のメッキ面積が増える。また、仕切りは第3領域内においてリード端子横の空間を仕切るように設けられているので、リード端子の側面が樹脂封止工程後において露出し、当該側面にメッキを施すことができる。このため、リード端子のメッキ外観がより良好になるし、当該メッキ部分におけるはんだ付けの信頼性が向上する。 According to such a configuration, the resin flowing out from the air vent of the sealing mold to the third region at the time of resin sealing is blocked (damped) by the resin blocking portion (partition). Adhesion can be reduced (can be reduced) than before. Therefore, the above-described problems due to peeling of the resin burrs can be reduced. Furthermore, the plating area of the lead terminal increases due to the reduction of resin adhesion to the lead terminal. Moreover, since the partition is provided so as to partition the space beside the lead terminal in the third region, the side surface of the lead terminal is exposed after the resin sealing step, and the side surface can be plated. For this reason, the plating appearance of the lead terminal becomes better, and the soldering reliability in the plated portion is improved.
そして、前記仕切りは、前記第3領域内において前記リード端子に結合した両端を有することが好ましい。または、前記仕切りは、前記第3領域内において前記リード端子に結合した一端と、前記タイバーに結合した他端と、を有することが好ましい。または、前記仕切りは、前記第3領域内において前記リード端子に結合した一端と、前記第1領域内に設けられた他端と、を有することが好ましい。または、前記仕切りは、前記タイバーに結合した一端と、前記第1領域内に設けられた他端と、を有することが好ましい。または、前記仕切りは、前記第1領域内に設けられた一端および他端を有し、前記一端から前記第3領域内を通って前記他端へ至る形状を有することが好ましい。 The partition preferably has both ends coupled to the lead terminal in the third region. Alternatively, it is preferable that the partition has one end coupled to the lead terminal and the other end coupled to the tie bar in the third region. Alternatively, it is preferable that the partition has one end coupled to the lead terminal in the third region and the other end provided in the first region. Alternatively, the partition preferably has one end coupled to the tie bar and the other end provided in the first region. Alternatively, the partition preferably has one end and the other end provided in the first region, and has a shape extending from the one end to the other end through the third region.
さらに、本発明は、前記リードフレームを利用した半導体装置の製造方法であって、前記リード端子とエアーベントとの間に前記樹脂遮断部が介在するように前記リードフレームを封止金型へセッティングして前記第1領域を前記樹脂で封止する封止工程と、前記封止工程によって前記第3領域内に形成された樹脂バリと、前記樹脂遮断部のうちで前記第3領域内の部分と、を同時に除去する除去工程とを備えることを特徴とする。または、前記封止工程によって前記第3領域内に形成された樹脂バリを除去するバリ除去工程と、前記バリ除去工程の後に前記樹脂遮断部のうちで前記第3領域内の部分を除去する樹脂遮断部除去工程とを備えることを特徴とする。このような構成によれば、上述のリードフレームを利用するので、樹脂バリの剥がれによる上述の不具合が低減した、さらには、リード端子のメッキ外観が良好で、はんだ付けの信頼性が高い、半導体装置を製造することができる。 Further, the present invention is a method of manufacturing a semiconductor device using the lead frame, wherein the lead frame is set in a sealing mold so that the resin blocking portion is interposed between the lead terminal and an air vent. Then, a sealing step for sealing the first region with the resin, a resin burr formed in the third region by the sealing step, and a portion in the third region among the resin blocking portions And a removing step for removing at the same time. Alternatively, a burr removing step for removing the resin burr formed in the third region by the sealing step, and a resin for removing a portion in the third region in the resin blocking portion after the burr removing step And a blocking part removing step. According to such a configuration, since the above-described lead frame is used, the above-mentioned problems due to peeling of resin burrs are reduced, and the lead terminal plating appearance is good and the soldering reliability is high. The device can be manufactured.
さらに、本発明は、電子機器において、前記製造方法によって製造された半導体装置を搭載していることを特徴とし、このような構成によれば、上述のはんだ付け不具合の低減およびはんだ付けの高い信頼性によって、信頼性の高い電子機器を提供することができる。 Furthermore, the present invention is characterized in that a semiconductor device manufactured by the above-described manufacturing method is mounted in an electronic device. According to such a configuration, the above-described soldering defects are reduced and soldering is highly reliable. Depending on the characteristics, a highly reliable electronic device can be provided.
このように、本発明によれば、樹脂封止時に形成されリード端子に付着した樹脂バリに起因する不具合を低減しうるリードフレームおよび半導体装置の製造方法を提供することができ、当該製造方法で製造された半導体装置によって信頼性が向上した電子機器を提供することができる。 As described above, according to the present invention, it is possible to provide a method for manufacturing a lead frame and a semiconductor device that can reduce defects caused by resin burrs formed at the time of resin sealing and attached to lead terminals. An electronic device with improved reliability can be provided by the manufactured semiconductor device.
図1に実施形態1に係るリードフレーム101を説明するための平面図を示し、図1中の一点鎖線で囲んだ部分2の拡大図を図2に示す。なお、説明のため、図1には半導体チップ50およびワイヤ60も併せて図示している。また、図3〜図8にリードフレーム101を適用した樹脂封止型の半導体装置1の製造方法を説明するための平面図および断面図を示す。なお、図4は図3中の一点鎖線で囲んだ部分4の拡大図であり、図5は後述の樹脂封止工程における図4中の5−5線での断面図であり、図8は図7中の一点鎖線で囲んだ部分8の拡大図である。なお、図4中の(a)および(b)は図面の煩雑化を避けるために分けているが同じ図面である。
FIG. 1 is a plan view for explaining the
まず、図1および図2に示すように、リードフレーム101は、樹脂で封止され樹脂パッケージ200(図3参照)内に埋設される領域である第1領域A1と、当該第1領域A1に連続する領域であり上記樹脂で封止されずに樹脂パッケージ200外に設けられる領域である第2領域A2とに大別される。
First, as shown in FIG. 1 and FIG. 2, the
リードフレーム101は、複数の(図では3本を例示している)リード端子110と、タイバー120と、ダイパッド190とを含んでいる。各リード端子110は第1領域A1と第2領域A2とに渡って延在しており、これらのリード端子110にタイバー120が結合している。なお、タイバー120は第2領域A2内においてリード端子110に結合している。また、各リード端子110はタイバー120の両側において同じ幅である。ダイパッド190は第1領域A1内に設けられており、図示の例ではリード端子110の1本と結合している。
The
特にリードフレーム101は樹脂遮断部としての突出部131をさらに含んでいる。詳細には、突出部131は、第2領域A2内のうちで第1領域A1とタイバー120との間の領域である第3領域A3内に設けられている(したがって、タイバー120よりも第1領域A1の側に設けられている)。そして、突出部131は、リード端子110のうちで第3領域A3内の一部分111(図面ではわかりやすくするために太破線で囲んでいる)から当該リード端子110の幅方向Wへ突出しており、換言すればリード端子110の上記一部分111に結合している。なお、突出部131およびリード端子110の上記一部分111は第1領域A1およびタイバー120から離れている。突出部131は各リード端子110の上記一部分111の両側(幅方向Wにおける両側)に設けられており、このため各リード端子110は両側に突出部131を有している。これらの突出部131はすべて第1領域A1から同じ距離に位置しており、このため隣接するリード端子110間の2つの突出部131は互いに対向するように突出している。
In particular, the
このような平面パターンを有するリードフレーム101は板状の銅材等をリードフレーム打ち抜き金型によってパンチングして形成される。このため、リード端子110、タイバー120および突出部131は、同じ厚さを有し、同一平面上に存在する。そして、かかる形成方法によれば、従来と同様に、リード端子110の角部にダレ(またはダレ面)113Z(図24参照)が発生する。
The
次に、半導体装置1(図7参照)の製造方法を説明する。まず、図1に示すようにダイパッド190上に半導体チップ50を搭載し、当該チップ50をワイヤ60でリード端子110の第1領域A1内の部分およびダイパッド190に電気的に接続する。その後、半導体チップ50が搭載された状態のリードフレーム101を、樹脂パッケージ200に対応した形状の封止金型300(図5参照)内にセッティングする。図5に示すように封止金型300は上型310と下型320で構成され、図4(b)に示すように封止金型300にはリード端子110間および最も外側のリード端子110のさらに外側に封止金型300のエアーベント301が設けられている。なお、図面ではエアーベント301をその配置位置を太破線で模式的に図示している。このとき、第3領域A3においてリード端子110の上記一部分111と封止金型300のエアーベント301との間には突出部131が介在し、突出部131によって両者111,301間が遮断されることになる。リードフレーム101のセッティング後、封止金型300内へ樹脂を流し込むことにより樹脂パッケージ200が形成され、半導体チップ50等が樹脂封止される。
Next, a method for manufacturing the semiconductor device 1 (see FIG. 7) will be described. First, as shown in FIG. 1, the
かかる樹脂封止工程において、エアーベント301から封止樹脂がエアーとともに漏れ出て、樹脂パッケージ200に結合した樹脂バリ210が発生する(図3等参照)。なお、流出した樹脂はタイバー120でせき止められる。このとき、突出部131が第3領域A3へ流出した樹脂を遮断することによって(せき止めることによって)、図4に示すようにリード端子110の上記一部分111には樹脂が付着しない。これに対して、第3領域A3においてリード端子110のうちの上記一部分111以外の残余部分には樹脂が付着し、当該残余部分のダレ113Z(図24参照)にも樹脂が付着する。ただし、樹脂バリ210のうちでダレ113Z上の部分は、突出部131の存在によって、突出部131よりも第1領域A1に近い側に形成され樹脂パッケージ200に結合した樹脂バリ211と、突出部131よりも第1領域A1から遠い側に形成され樹脂パッケージ200に結合していない樹脂バリ212と、の2つに分断されている。つまり、突出部131の存在により第3領域A3内においてリード端子110に付着する樹脂を従来よりも減らすことができる(小さくすることができる)。
In such a resin sealing process, the sealing resin leaks from the
樹脂封止工程後、リード端子110に外装メッキを施す。このとき、突出部131によってダレ113Z上の樹脂バリ210(樹脂バリ211,212)は従来よりも小さいので、ダレ113Z上の樹脂バリ211,212によってメッキがされない面積を従来よりも減らすことができる、換言すればメッキ面積を増やすことができる。
After the resin sealing step, the
その後、図6に示すように、金型401によって樹脂バリ210および突出部131(突出部131のうちで第3領域A3内の部分、すなわち突出部131の全体)を同時に切断除去する。かかる同時除去は、リード端子110、タイバー120および樹脂パッケージ200(または第1領域A1)で囲まれた形状に対応した金型401を利用することにより可能である。このとき、ダレ113Z上の樹脂バリ211,212は、金型401に当たらないので、当該金型401によって直接的には除去されない。しかし、樹脂パッケージ200に結合していない樹脂バリ212はリード端子110との密着性が弱く薄いので、当該レジンカット工程において剥がれて除去される。これに対して、樹脂パッケージ200に結合した樹脂バリ211は、当該樹脂パッケージ200との結合が強いので当該除去工程以後も残存する。
After that, as shown in FIG. 6, the
当該同時除去工程後、タイバーカット工程およびリードカット工程を経て、図7に示すように半導体装置1が完成する。
After the simultaneous removal process, the
リードフレーム101によれば、ダレ113Z上の樹脂バリ210(樹脂バリ211,212)が剥がれて生じる上述の不具合を従来よりも減らすことができる。すなわち、上述のように樹脂バリ211,212によってメッキがされない面積を従来よりも減らすことができるので、樹脂バリ212の除去後においてもメッキ外観上の不具合を低減できる。また、図7および図8に示すように半導体装置1の完成後においても樹脂パッケージ200に結合した樹脂バリ211は残存するが、上述の分断によって従来よりも短いので、半導体装置1の実装工程で剥がれてはんだ付け不具合を引き起こすのを低減できる。
According to the
さらに、リードフレーム101によれば、上述のようにリード端子110のメッキ面積が従来よりも増えるので、リード端子110のメッキ外観が良好になる。また、当該増加したメッキ部分を利用して実装基板へのはんだ付けを行う場合、はんだ付けの信頼性が向上する。
Furthermore, according to the
つまり、リードフレーム101を利用した製造方法によれば、樹脂バリ211,212の剥がれによる上述の不具合が低減し、さらには、リード端子110のメッキ外観が良好で、はんだ付けの信頼性が高い、半導体装置1を製造することができる。
That is, according to the manufacturing method using the
ここで、図9〜図11に半導体装置1の他の製造方法を説明するための平面図を示す。当該製造方法では樹脂バリ210および突出部131を順次、切断除去する。すなわち、図9に示すように、リード端子110、突出部131、タイバー120および樹脂パッケージ200(または第1領域A1)で囲まれた形状に対応したレジンカット金型402を利用することにより、まず樹脂バリ210を切断除去する。このとき、上述の製造方法と同様に、ダレ113Z(図24参照)上の樹脂バリ211,212は、レジンカット金型402によって直接的には除去されないが、樹脂パッケージ200に結合していない樹脂バリ212は当該レジンカット工程において剥がれて除去される。これに対して、樹脂パッケージ200に結合した樹脂バリ211はレジンカット工程以後も残存する(図10参照)。次に、図11に示すように、例えば上述の金型401(図6参照)と同様の形状の金型403によって、突出部131(突出部131のうちで第3領域A3内の部分、すなわち突出部131の全体)を切断除去する。その後、上述の製造方法と同様にタイバーカット工程およびリードカット工程を経て、既述の図7に示すように半導体装置1が完成する。かかる製造方法によっても上述と同様の効果が得られる。
9 to 11 are plan views for explaining another method for manufacturing the
図12に実施形態2に係るリードフレーム102を説明するための平面図を示す。当該リードフレーム102は上述のリードフレーム101(図2等参照)において突出部131の配置位置を違えた形状を有している。すなわち、リードフレーム102では、隣接するリード端子110間に在る突出部131は第1領域A1から異なる距離に位置し、これらの突出部131は段違いに(ジグザクに)配置されている。このとき、各リード端子110は両側に突出部131を有しており、リード端子110において両側の突出部131間の部分が上記一部分111に該当する。すなわち、図12に示すように当該一部分111は平面視上長方形の部分でなくてもよい。このような形状のリードフレーム102も、打ち抜き金型によってパンチング形成され、上述のいずれの製造方法にも適用可能である。そして、リードフレーム102によっても上述のリードフレーム101と同様の効果が得られる。
FIG. 12 is a plan view for explaining the
図13に実施形態3に係るリードフレーム103を説明するための平面図を示す。なお、図13中の(a)および(b)は図面の煩雑化を避けるために分けているが同じ図面である。
FIG. 13 is a plan view for explaining the
当該リードフレーム103は上述のリードフレーム101(図2等参照)において突出部131を樹脂遮断部としての仕切り132に変えた形状を有している。詳細には、仕切り132は、コ字形(または角張ったU字形)をした平面視上線状部材であり、当該コ字形の開口をリード端子110の側に向けかつリード端子110の第3領域A3内における一部分111に対向するようにして当該一部分111に結合している。すなわち、線状の仕切り132の一端132aおよび他端132bはそれぞれリード端子110の上記一部分111の隅部に結合している。このため、上述の突出部131(図2参照)とは異なり、仕切り132とリード端子110とで囲まれて空間が生じている。つまり、仕切り132は、平面視上、第3領域A3内においてリード端子110の横の空間を2つに仕切っている。なお、仕切り132およびリード端子110の上記一部分111は第1領域A1およびタイバー120から離れている。仕切り132は各リード端子110の上記一部分111の両側に設けられており、このため各リード端子110は両側に仕切り132を有している。これらの仕切り132はすべて第1領域A1から同じ距離に位置しており、このため隣接するリード端子110間の2つの仕切り132は互いに対向している。このような形状のリードフレーム103も、打ち抜き金型によってパンチング形成され、上述のいずれの製造方法にも適用可能である。
The
リードフレーム103によれば、封止金型300のエアーベント301をリード端子110間および最も外側のリード端子110のさらに外側に設けることによって、第3領域A3においてリード端子110の上記一部分111とエアーベント301との間には仕切り132が介在する。このため、仕切り132が上述の突出部131(図4参照)と同様に機能するので、上述のリードフレーム101と同様の効果が得られる。
According to the
特にリードフレーム103によれば、仕切り132とリード端子110とで囲まれた上記空間内には樹脂が流入しないので、樹脂封止後においても当該空間にリード端子110の側面が露出する。このため、外装メッキ工程において当該露出側面にもメッキをすることができる。したがって、リード端子110のメッキ外観がより良好になるし、当該メッキ部分におけるはんだ付けの信頼性が向上する。
In particular, according to the
図14に実施形態4に係るリードフレーム104を説明するための平面図を示す。なお、図14中の(a)および(b)は図面の煩雑化を避けるために分けているが同じ図面である。
FIG. 14 is a plan view for explaining the
当該リードフレーム104は上述のリードフレーム103(図13参照)において仕切り132の形状を違えた場合にあたる。詳細には、リードフレーム104の仕切り132は、L字形をした平面視上線状部材であり、当該L字形の角部がリード端子110から離れて位置するようにかつ第1領域A1の側に位置するようにして第3領域A3内に設けられている。そして、当該線状の仕切り132の一端132aは第1領域A1から離れた位置においてリード端子110に結合し、当該仕切り132の他端132bはタイバー120に結合している。このとき、仕切り132はリード端子110の第3領域A3内における一部分111(図14(b)参照)に対向しており、また、仕切り132とリード端子110とタイバー120とで囲まれて空間が生じている。つまり、仕切り132は、平面視上、第3領域A3内においてリード端子110の横の空間を2つに仕切っている。仕切り132は各リード端子110の上記一部分111の両側に設けられており、このため各リード端子110は両側に仕切り132を有している。これらの仕切り132はすべて第1領域A1から同じ距離に位置しており、このため隣接するリード端子110間の2つの仕切り132は互いに対向している。このような形状のリードフレーム104も、打ち抜き金型によってパンチング形成され、上述のいずれの製造方法にも適用可能である。
The
リードフレーム104によっても、リードフレーム103(図13参照)と同様の効果が得られる。特にリードフレーム104によれば、仕切り132の他端132bがタイバー120に結合しているので、樹脂パッケージ200に結合していない樹脂バリ212(図4参照)が発生しない。このため、メッキ外観およびはんだ付けの信頼性がより向上する。
The
図15に実施形態5に係るリードフレーム105を説明するための平面図を示し、図15中の一点鎖線で囲んだ部分16の拡大図を図16に示す。なお、図16中の(a)および(b)は図面の煩雑化を避けるために分けているが同じ図面である。また、樹脂封止工程における図16(b)中の17−17線および18−18線での断面図を図17および図18に示す。
FIG. 15 is a plan view for explaining the
当該リードフレーム105は上述のリードフレーム104(図14参照)において仕切り132の向きを反転させた場合にあたる。詳細には、リードフレーム105の仕切り132は、L字形をした平面視上線状部材であり、当該L字形の角部がリード端子110から離れて位置するようにかつタイバー120の側に位置するようにして設けられている。そして、当該線状の仕切り132の一端132aは第3領域A3内においてタイバー120から離れた位置でリード端子110に結合し、当該仕切り132の他端132bは第1領域A1内に設けられている。なお、図示の例では、当該他端132bは第1領域A1内においてリード端子110には結合していない。このとき、仕切り132はリード端子110の第3領域A3内における一部分111(図16(b)参照)に対向しており、また、仕切り132とリード端子110と第1領域A1とで囲まれて空間が生じている。つまり、仕切り132は、平面視上、第3領域A3内においてリード端子110の横の空間を2つに仕切っている。仕切り132は各リード端子110の上記一部分111の両側に設けられており、このため各リード端子110は両側に仕切り132を有している。これらの仕切り132はすべて第1領域A1から同じ距離に位置しており、このため隣接するリード端子110間の2つの仕切り132は互いに対向している。このような形状のリードフレーム105も、打ち抜き金型によってパンチング形成される。
The
リードフレーム105は上述のいずれの製造方法にも適用可能である。このとき、樹脂封止工程において、図16(b)および図17に示すように、封止金型300のエアーベント301をリード端子110間において隣接する2つの仕切り132の間および最も外側の仕切り132のさらに外側に設けることによって、第3領域A3においてリード端子110の上記一部分111とエアーベント301との間に仕切り132が介在し、仕切り132によって両者111,301間が遮断されることになる。一方、図18に示すように、第3領域A3における仕切り132とリード端子110との間には、すなわち仕切り132とリード端子110と第1領域A1とで囲まれた上記空間内には下型320のダムブロック部321を設けて、樹脂バリ210の発生を防いでいる。なお、リードフレーム105の場合、仕切り132のうちで第3領域A3内の部分が切断除去され、仕切り132のうちで第1領域A1内の部分は樹脂パッケージ200内に残存する。
The
したがって、リードフレーム105によっても、リードフレーム103(図13参照)等と同様の効果が得られる。特にリードフレーム105によれば、仕切り132の他端132bおよびエアーベント301の上述の配置関係から、樹脂パッケージ200に結合した樹脂バリ211(図13参照)が発生しない。このため、メッキ外観がより向上する。また、樹脂パッケージ200に結合していない樹脂バリ212は樹脂バリ210および仕切り132の切断除去工程において剥がれて除去される。したがって、リードフレーム105によれば樹脂バリ211,212を除去することができるので、樹脂封止工程の後工程において樹脂バリ211,212が剥がれてはんだ付けの不具合を引き起こすことがない。
Therefore, the
図19に実施形態6に係るリードフレーム106を説明するための平面図を示し、図19中の一点鎖線で囲んだ部分20の拡大図を図20に示す。
FIG. 19 is a plan view for explaining the
当該リードフレーム106は上述のリードフレーム103(図13参照)等において仕切り132の形状を違えた場合にあたる。詳細には、リードフレーム106の仕切り132は、平面視上直線状部材であり、リード端子110から離れた位置において第1領域A1と第3領域A3とに渡って設けられている。そして、当該直線状の仕切り132の一端132aはタイバー120に結合し、当該仕切り132の他端132bは第1領域A1内に設けられている。なお、図示の例では、上記他端132bは第1領域A1内においてリード端子110には結合していない。このとき、仕切り132はリード端子110の第3領域A3内の全体112(図20ではわかりやすくするために太破線で囲んでいる)に対向しており、また、仕切り132とリード端子110との間には空間が生じている。つまり、仕切り132は、平面視上、第3領域A3内においてリード端子110の横の空間を2つに仕切っている。仕切り132は各リード端子110の上記全体112の両側に設けられており、このため各リード端子110は両側に仕切り132を有している。このような形状のリードフレーム106も、打ち抜き金型によってパンチング形成される。
The
リードフレーム106は上述のいずれの製造方法にも適用可能である。このとき、上述のリードフレーム105(図16参照)の場合と同様に封止金型300のエアーベント301を設けることによって、リードフレーム105と同様の効果が得られる。特にリードフレーム106によれば、樹脂バリ211,212が全く発生しないので、樹脂封止工程の後工程において樹脂バリ211,212が剥がれてはんだ付けの不具合を引き起こすことがない。さらに、上述のようにダレ上の樹脂バリ211,212が全く発生せず、かつ、リード端子110の第3領域A3内全体112が露出しているので、側面も含めて当該全体112にメッキを施すことができる。このため、メッキ外観およびはんだ付けの信頼性がより向上する。
The
図21に実施形態7に係るリードフレーム107を説明するための平面図を示し、図21中の一点鎖線で囲んだ部分22の拡大図を図22に示す。
FIG. 21 shows a plan view for explaining the
当該リードフレーム107は上述のリードフレーム103(図13参照)等において仕切り132の形状を違えた場合にあたる。詳細には、リードフレーム107の仕切り132は、平面視上角張ったΩ(ギリシャ文字の大文字の“オメガ”)形をした線状部材であり、第1領域A1と第3領域A3とに渡って設けられている。そして、当該仕切り132の一端132aは第1領域A1内に設けられてリード端子110に結合しており、当該仕切り132の他端132bは第1領域A1内に設けられて隣のリード端子110に結合しており、仕切り132は全体として上記一端132aから第3領域A3内を通って上記他端132bへ延在する形状をしている。このとき、第3領域A3において仕切り132とリード端子110との間には空間が生じている。つまり、仕切り132は、平面視上、第3領域A3内においてリード端子110の横の空間を2つに仕切っている。仕切り132は上述のように隣接する2つのリード端子110に結合しており、リード端子110と仕切り132とが交互に並んでいる。このような形状のリードフレーム107も、打ち抜き金型によってパンチング形成される。
The
リードフレーム107は上述のいずれの製造方法にも適用可能である。このとき、封止金型300のエアーベント301を仕切り132の大略Ω形の開口部に設けることによって、第3領域A3においてリード端子110の第3領域内全体112とエアーベント301との間に仕切り132が介在し、仕切り132によって両者112,301間が遮断されることになる。したがって、リードフレーム107によっても、リードフレーム106(図19および図20参照)と同様の効果が得られる。
The
上述のリードフレーム101〜107を利用して種々の半導体装置1を製造することができ、かかる半導体装置1を搭載した電子機器は、上述のはんだ付け不具合の低減およびはんだ付けの高い信頼性によって、高い信頼性を発揮する。
なお、突出部131および仕切り132は、例示した平面視上角張った形状でなくてもよく、曲線を含んだ形状であってもよい。
In addition, the
1 半導体装置
101〜107 リードフレーム
110 リード端子
111 一部分
120 タイバー
131 突出部(樹脂遮断部)
132 仕切り(樹脂遮断部)
132a 一端
132b 他端
210 樹脂バリ
300 封止金型
301 エアーベント
A1 第1領域
A2 第2領域
A3 第3領域
W 幅方向
DESCRIPTION OF
132 Partition (resin blocking part)
132a one
Claims (12)
樹脂で封止される第1領域と前記第1領域に連続し前記樹脂で封止されない第2領域とに渡って延在したリード端子と、
前記リード端子に前記第2領域内において結合したタイバーと、
前記タイバーよりも前記第1領域の側に設けられた樹脂遮断部とを備え、
前記樹脂遮断部は、前記リード端子のうちで前記タイバーと前記第1領域との間の第3領域内の一部分から前記リード端子の幅方向へ突出した突出部であることを特徴とするリードフレーム。 A lead frame used in a resin-encapsulated semiconductor device,
A lead terminal extending over a first region sealed with resin and a second region continuous with the first region and not sealed with the resin;
A tie bar coupled to the lead terminal in the second region;
A resin blocking portion provided on the first region side than the tie bar,
The lead frame, wherein the resin blocking portion is a protruding portion protruding in a width direction of the lead terminal from a part of the lead terminal in a third region between the tie bar and the first region. .
前記突出部は前記第1領域から同じ距離に位置していることを特徴とする請求項1に記載のリードフレーム。 A plurality of the lead terminals having the protruding portions on both sides in the width direction,
The lead frame according to claim 1, wherein the protrusions are located at the same distance from the first region.
隣接する前記リード端子間に在る前記突出部は前記第1領域から異なる距離に位置していることを特徴とする請求項1に記載のリードフレーム。 A plurality of the lead terminals having the protruding portions on both sides in the width direction,
2. The lead frame according to claim 1, wherein the protrusions located between the adjacent lead terminals are located at different distances from the first region.
樹脂で封止される第1領域と前記第1領域に連続し前記樹脂で封止されない第2領域とに渡って延在したリード端子と、
前記リード端子に前記第2領域内において結合したタイバーと、
前記タイバーよりも前記第1領域の側に設けられた樹脂遮断部とを備え、
前記樹脂遮断部は、前記タイバーと前記第1領域との間の第3領域内において平面視上前記リード端子の横の空間を仕切るように設けられた仕切りであることを特徴とするリードフレーム。 A lead frame used in a resin-encapsulated semiconductor device,
A lead terminal extending over a first region sealed with resin and a second region continuous with the first region and not sealed with the resin;
A tie bar coupled to the lead terminal in the second region;
A resin blocking portion provided on the first region side than the tie bar,
The lead frame according to claim 1, wherein the resin blocking portion is a partition provided so as to partition a space beside the lead terminal in a plan view in a third region between the tie bar and the first region.
前記リード端子とエアーベントとの間に前記樹脂遮断部が介在するように前記リードフレームを封止金型へセッティングして前記第1領域を前記樹脂で封止する封止工程と、
前記封止工程によって前記第3領域内に形成された樹脂バリと、前記樹脂遮断部のうちで前記第3領域内の部分と、を同時に除去する除去工程とを備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。 A method of manufacturing a semiconductor device using the lead frame according to any one of claims 1 to 9,
A sealing step of sealing the first region with the resin by setting the lead frame to a sealing mold so that the resin blocking portion is interposed between the lead terminal and the air vent;
A semiconductor device comprising: a removal step of simultaneously removing a resin burr formed in the third region by the sealing step and a portion of the resin blocking portion in the third region. Manufacturing method.
前記リード端子とエアーベントとの間に前記樹脂遮断部が介在するように前記リードフレームを封止金型へセッティングして前記第1領域を前記樹脂で封止する封止工程と、
前記封止工程によって前記第3領域内に形成された樹脂バリを除去するバリ除去工程と、
前記バリ除去工程の後に前記樹脂遮断部のうちで前記第3領域内の部分を除去する樹脂遮断部除去工程とを備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。 A method of manufacturing a semiconductor device using the lead frame according to any one of claims 1 to 9,
A sealing step of sealing the first region with the resin by setting the lead frame to a sealing mold so that the resin blocking portion is interposed between the lead terminal and the air vent;
A burr removing step of removing the resin burr formed in the third region by the sealing step;
A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: a resin blocking portion removing step of removing a portion in the third region of the resin blocking portion after the burr removing step.
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---|---|---|---|
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2549531A1 (en) * | 2011-07-21 | 2013-01-23 | Nxp B.V. | Lead frame for semiconductor device |
JP2015153946A (en) * | 2014-02-17 | 2015-08-24 | トヨタ自動車株式会社 | Manufacturing method of semiconductor device, and semiconductor device |
-
2005
- 2005-11-02 JP JP2005319021A patent/JP2007128998A/en active Pending
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JP2015153946A (en) * | 2014-02-17 | 2015-08-24 | トヨタ自動車株式会社 | Manufacturing method of semiconductor device, and semiconductor device |
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