JP2007103302A - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 69
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 23
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 41
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 31
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 10
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 22
- 238000004904 shortening Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 33
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 7
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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- Coating Apparatus (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
【課題】 液滴の塗布時間が短縮可能であるとともに、液滴の乾燥時間の差に起因した液滴の乾燥ムラの発生を抑制することが可能な塗布装置及びこの塗布装置に適用可能な塗布方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 一対の電極間に保持される光活性層を形成するための液滴を塗布する塗布装置であって、処理基板SUBが載置されるステージ131と、ステージ131上の処理基板SUBに対向して配置され処理基板SUB上に向けてそれぞれ液滴を塗布する複数のヘッド132と、ステージ131上に載置された処理基板SUBと複数のヘッド132とが対向した状態でヘッド132のそれぞれが処理基板SUBの異なる領域に液滴を塗布するようにステージ131及びヘッド132の少なくとも一方を移動させる移動機構133と、処理基板SUBとヘッド132との間に閉空間Sを形成するためのカバー134と、を備えたことを特徴とする。
【選択図】 図3
【解決手段】 一対の電極間に保持される光活性層を形成するための液滴を塗布する塗布装置であって、処理基板SUBが載置されるステージ131と、ステージ131上の処理基板SUBに対向して配置され処理基板SUB上に向けてそれぞれ液滴を塗布する複数のヘッド132と、ステージ131上に載置された処理基板SUBと複数のヘッド132とが対向した状態でヘッド132のそれぞれが処理基板SUBの異なる領域に液滴を塗布するようにステージ131及びヘッド132の少なくとも一方を移動させる移動機構133と、処理基板SUBとヘッド132との間に閉空間Sを形成するためのカバー134と、を備えたことを特徴とする。
【選択図】 図3
Description
この発明は、塗布装置及び塗布方法に係り、特に、自発光性素子を構成する一対の電極間に保持された光活性層を形成するための液滴を塗布するインクジェット方式などの選択塗布方式を採用した塗布装置、及び、この塗布装置に適用可能な塗布方法に関する。
近年、平面表示装置として、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置が注目されている。この有機EL表示装置は、自発光性素子であることから、視野角が広く、バックライトを必要とせず薄型化が可能であり、消費電力が抑えられ、且つ応答速度が速いといった特徴を有している。
これらの特徴から、有機EL表示装置は、液晶表示装置に代わる、次世代平面表示装置の有力候補として注目を集めている。このような有機EL表示装置は、陽極と陰極との間に発光機能を有する有機化合物を含む光活性層を挟持した有機EL素子をマトリックス状に配置することにより構成されたアレイ基板を備えている。光活性層は、例えば、高分子系材料を用いてインクジェット法などの選択塗布方式により形成される。
このような選択塗布方式を採用した場合、先に塗布した液滴と、後に塗布した液滴とでは、液滴が大気雰囲気に触れる条件が異なり、液滴の乾燥時間に差が生ずることがある。このような乾燥時間の差は、光活性層の形状の差異(乾燥ムラ)を生じさせ、表示ムラを生ずる原因となる。
このような課題に対して、液滴を塗布する以前に予め溶剤を塗布する技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開2004−031070号公報
特許文献1に記載の技術によれば、4組のインクジェット機構を備え、1組のインクジェット機構は溶剤を吐出し、他の3組のインクジェット機構はそれぞれ赤、緑、青のインク(液滴)を吐出するように構成されている。このような構成によれば、これら4組のインクジェット機構が基板全体をスキャンするため、ステージのストロークが大きくなってしまう。このため、液滴が塗布された後にインクジェット機構から大きく離間した画素では、大気雰囲気に触れ、液滴の乾燥が促進されてしまう。したがって、液滴の乾燥時間に差が生ずる課題に十分に対処できないおそれがある。
この発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、液滴の塗布時間が短縮可能であるとともに、液滴の乾燥時間の差に起因した液滴の乾燥ムラの発生を抑制することが可能な塗布装置及びこの塗布装置に適用可能な塗布方法を提供することにある。
この発明の第1の態様による塗布装置は、
一対の電極間に保持される光活性層を形成するための液滴を塗布する塗布装置であって、
処理基板が載置されるステージと、
前記ステージ上の処理基板に対向して配置され、処理基板上に向けてそれぞれ液滴を塗布する複数のヘッドと、
前記ステージ上に載置された処理基板と複数の前記ヘッドとが対向した状態で、前記ヘッドのそれぞれが処理基板の異なる領域に液滴を塗布するように、前記ステージ及び前記ヘッドの少なくとも一方を移動させる移動機構と、
処理基板と前記ヘッドとの間に閉空間を形成するためのカバーと、
を備えたことを特徴とする。
一対の電極間に保持される光活性層を形成するための液滴を塗布する塗布装置であって、
処理基板が載置されるステージと、
前記ステージ上の処理基板に対向して配置され、処理基板上に向けてそれぞれ液滴を塗布する複数のヘッドと、
前記ステージ上に載置された処理基板と複数の前記ヘッドとが対向した状態で、前記ヘッドのそれぞれが処理基板の異なる領域に液滴を塗布するように、前記ステージ及び前記ヘッドの少なくとも一方を移動させる移動機構と、
処理基板と前記ヘッドとの間に閉空間を形成するためのカバーと、
を備えたことを特徴とする。
この発明の第2の態様による塗布方法は、
画素毎に第1電極を形成する工程と、
前記第1電極を形成済みの処理基板をステージ上に載置する工程と、
前記ステージ上に載置された処理基板と、前記第1電極上に前記光活性層を形成するための液滴を塗布する複数のヘッドと、が対向した状態で、前記ヘッドのそれぞれが処理基板の異なる領域に液滴を塗布するように、前記ステージ及び前記ヘッドの少なくとも一方を移動させて光活性層を形成する工程と、
各画素の前記光活性層を覆うように第2電極を形成する工程と、を備え、
前記光活性層を形成する工程では、処理基板と前記ヘッドとの間に閉空間を形成した状態で液滴を塗布することを特徴とする。
画素毎に第1電極を形成する工程と、
前記第1電極を形成済みの処理基板をステージ上に載置する工程と、
前記ステージ上に載置された処理基板と、前記第1電極上に前記光活性層を形成するための液滴を塗布する複数のヘッドと、が対向した状態で、前記ヘッドのそれぞれが処理基板の異なる領域に液滴を塗布するように、前記ステージ及び前記ヘッドの少なくとも一方を移動させて光活性層を形成する工程と、
各画素の前記光活性層を覆うように第2電極を形成する工程と、を備え、
前記光活性層を形成する工程では、処理基板と前記ヘッドとの間に閉空間を形成した状態で液滴を塗布することを特徴とする。
この発明によれば、液滴の塗布時間が短縮可能であるとともに、液滴の乾燥時間の差に起因した液滴の乾燥ムラの発生を抑制することが可能な塗布装置及びこの塗布装置に適用可能な塗布方法を提供することができる。これにより、表示品位の良好な表示装置を提供することが可能となる。
以下、この発明の一実施の形態に係る表示装置について図面を参照して説明する。なお、この実施の形態では、表示装置として、自己発光型表示装置、例えば有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置を例にして説明する。
有機EL表示装置1は、図1に示すように、画像を表示する表示エリア102を有するアレイ基板100を備えている。表示エリア102は、マトリクス状に配置された複数の画素PX(R、G、B)によって構成されている。
また、アレイ基板100は、画素PXの行方向(すなわち図1のY方向)に沿って配置された複数の走査線Ym(m=1、2、…)と、走査線Ymと略直交する列方向(すなわち図1のX方向)に沿って配置された複数の信号線Xn(n=1、2、…)と、有機EL素子40の第1電極60側に電源を供給するための電源供給線Pと、を備えている。
さらに、アレイ基板100は、表示エリア102の外周に沿った周辺エリア104に、走査線Ymのそれぞれに走査信号を供給する走査線駆動回路107と、信号線Xnのそれぞれに映像信号を供給する信号線駆動回路108と、を備えている。すべての走査線Ymは、走査線駆動回路107に接続されている。また、すべての信号線Xnは、信号線駆動回路108に接続されている。
各画素PX(R、G、B)は、画素回路及び画素回路によって駆動制御される表示素子を備えている。画素回路は、オン画素とオフ画素とを電気的に分離しかつオン画素への映像信号を保持する機能を有する画素スイッチ10と、画素スイッチ10を介して供給される映像信号に基づき表示素子へ所望の駆動電流を供給する駆動トランジスタ20と、駆動トランジスタ20のゲート−ソース間電位を所定期間保持する蓄積容量素子30とを有している。これら画素スイッチ10及び駆動トランジスタ20は、例えば薄膜トランジスタにより構成され、ここでは、半導体層にポリシリコンを用いている。
表示素子は、自発光素子である有機EL素子40(R、G、B)によって構成されている。すなわち、赤色画素PXRは、主に赤色波長に対応した光を出射する有機EL素子40Rを備えている。緑色画素PXGは、主に緑色波長に対応した光を出射する有機EL素子40Gを備えている。青色画素PXBは、主に青色波長に対応した光を出射する有機EL素子40Bを備えている。
各種有機EL素子40(R、G、B)は、基本的に同一構成であり、例えば、図2に示すように、画素毎PXに独立島状に形成された第1電極60と、第1電極60に対向して配置され全画素PXに共通に形成された第2電極66と、これら第1電極60と第2電極66との間に保持された光活性層64と、によって構成されている。
画素スイッチ10は、ここでは走査線Ymと信号線Xnとの交差部近傍に配置されている。画素スイッチ10のゲート電極は走査線Ymに接続され、ソース電極は信号線Xnに接続され、ドレイン電極は蓄積容量素子30を構成する一方の電極及び駆動トランジスタ20のゲート電極に接続されている。駆動トランジスタ20のソース電極は蓄積容量素子30を構成する他方の電極及び電源供給線Pに接続され、ドレイン電極は有機EL素子40の第1電極60に接続されている。電源供給線Pは、表示エリア102の周囲に配置された図示しない第1電極電源線に接続されている。有機EL素子40の第2電極66は、表示エリア102の周囲に配置されコモン電位ここでは接地電位を供給する図示しない第2電極電源線に接続されている。
図2に示すように、アレイ基板100は、配線基板120上に配置された複数の有機EL素子40を備えている。なお、配線基板120は、ガラス基板やプラスチックシートなどの絶縁性支持基板上に、画素スイッチ10、駆動トランジスタ20、蓄積容量素子30、走査線駆動回路107、信号線駆動回路108、各種配線(走査線、信号線、電源供給線等)などを備えて構成されたものとする。
有機EL素子40を構成する第1電極60は、配線基板120表面の絶縁膜(例えば平坦化層)上に配置され、陽極として機能する。
光活性層64は、少なくとも発光層を含んでいる。この光活性層64は、発光層以外の層として、例えば、各色共通に形成される正孔輸送層を備え、各色画素に形成される発光層と積層した2層構造で構成されても良いし、正孔注入層、ブロッキング層、電子輸送層、電子注入層、バッファ層などを含んでも良いし、またこれらを機能的に複合した層を含んでもよい。光活性層62においては、発光層が有機系材料であればよく、発光層以外の層は無機系材料でも有機系材料でも構わない。発光層は、赤、緑、または青に発光する発光機能を有する有機化合物によって形成される。すなわち、赤色画素PXRの有機EL素子40Rは、主に赤色に発光する光活性層64Rを備えている。緑色画素PXGの有機EL素子40Gは、主に緑色に発光する光活性層64Gを備えている。青色画素PXBの有機EL素子40Bは、主に青色に発光する光活性層64Bを備えている。
第2電極66は、光活性層64(R、G、B)上に各有機EL素子40に共通に配置される。この第2電極66は、電子注入機能を有する金属材料によって形成され、陰極として機能している。
次に、光活性層64を形成するための液滴を塗布するための塗布装置について説明する。ここでは、インクジェット方式により液滴を選択的に塗布する塗布装置について説明する。例えば、図3に示すように、塗布装置130は、処理基板(すなわち第1電極60を形成済みの配線基板120)SUBが載置されるステージ131と、ステージ131上方において処理基板SUBに対向して配置された複数のヘッド132と、ステージ131及びヘッド132の少なくとも一方を移動させる移動機構133と、を備えている。
複数のヘッド132は、処理基板SUB上に向けてそれぞれ液滴を塗布する。各ヘッド132は、光活性層64を形成するための液滴を吐出するノズルを備えている。このような構成のヘッド132は、例えば各ノズルに対応して配置された圧電素子などを備えて構成されており、この圧電素子に印加する電圧を制御することにより液滴の吐出量や吐出タイミングなどを制御している。
これらの複数のヘッド132は、マトリクス状に配置されている。すなわち、処理基板SUBにおいて、表示エリア102に対応した有効領域(塗布領域)Aは、複数の領域A1、A2…によって構成されている。塗布装置130は、有効領域Aを構成する領域数に対応する数のヘッド132A、132B…を備えている。図4に示した例では、有効領域Aは、5行5列の25領域によって構成されており、これに対応して、塗布装置130は、マトリクス状に配置された25個のヘッドを備えている。各ヘッドは、それぞれの領域に対応して設けられている。つまり、第1ヘッド132Aは、第1領域A1に対応して設けられ、第2ヘッド132Bは、第2領域A2に対応して設けられ、同様にして、第25ヘッド132Yは、第25領域A25に対応して設けられている。
移動機構133は、ステージ131上に載置された処理基板SUBと複数のヘッド132とが対向した状態で、ヘッド132のそれぞれが処理基板SUBの異なる領域に液滴を塗布するように相対移動させる機構である。この実施の形態では、移動機構133は、ステージ131を移動させる。すなわち、移動機構133は、ステージ131の下方において互いにほぼ直交するように配置され、X方向に延在するレール133X及びY方向に延在するレール133Yを備えている。移動機構133は、ステージ131をレール133Xに沿ってX方向に移動可能であるとともに、レール133Yに沿ってY方向に移動可能である。
このような構成により、ステージ131に載置された処理基板SUBが、ヘッド132に対して、互いに略直交するX方向及びY方向の双方に相対移動可能である。このようなステージ131の移動に伴い、第1ヘッド132Aは、第1領域A1の各画素に液滴を塗布し、第2ヘッド132Bは、第2領域A2の各画素に液滴を塗布し、同様にして、第25ヘッド132Yは、第25領域A25の各画素に液滴を塗布する。
このように、処理基板SUB上の有効領域Aを複数のヘッドで分担しながら同時に塗布するため、処理基板SUB1枚辺りの塗布に要する時間を短縮することが可能となる。また、各ヘッドが塗布する領域の面積は有効領域に比べて小さいため、有効領域を1つのヘッドで塗布する場合と比較して、移動機構133によるステージ131のストロークを低減することが可能となる。図4に示した例では、ステージ131の移動範囲は、図中の矢印Mx及びMyで示した通りである。
また、上述した塗布装置130は、図3に示すように、処理基板SUBとヘッド132との間に閉空間Sを形成するためのカバー134を備えている。このカバー134は、例えば、ステージ131に対向して配置された四角形状の天板134Aと、この天板134Aの四方に連結された側板134Bとで構成されている。天板134Aは、ヘッド132の少なくともノズルをステージ131に向けて配置可能とするようにヘッド132の一部を嵌合可能に形成されている。4つの側板134Bは、それぞれ天板134Aからステージ131に向かって延在し、しかも、ステージ131の裏側(処理基板SUBが載置される面とは反対側)まで回り込んでいる。
なお、これらの側板134Bは、ステージ131の移動範囲及び移動機構133に干渉しないように設けられている。この実施の形態では、処理基板SUB上の有効領域Aを複数のヘッドで分担して塗布する構成としたため、ステージ131の移動範囲は十分に低減されており、移動機構133も小型化できる。このため、ステージ131を囲むカバー134の寸法を小さくすることができる。したがって、塗布装置全体の大きさも小型化が可能となる。
このような構成のカバー134により、閉空間Sが形成される。つまり、ステージ131上の処理基板SUBは、カバー134によって囲まれた閉空間Sに位置している。そして、処理基板SUBに対して閉空間S内でヘッド132から液滴を塗布することが可能となる。このため、閉空間S内の蒸気圧を制御することにより、塗布した液滴から、液滴の溶媒の蒸発つまり液滴の乾燥を抑制することが可能となる。例えば、閉空間S内に、液滴の溶媒に相当する有機系材料の蒸気が充満していると、液滴からの溶媒の蒸発が抑制される。
上述したように、複数のヘッドで分担して塗布することによる塗布時間の短縮に加えて、塗布時間内での液滴からの溶媒の蒸発を抑制したことにより、閉空間S内に処理基板SUBが配置されている間は、塗布された液滴の乾燥を抑制することが可能となる。このため、後の乾燥工程でほぼ同時に液滴を乾燥することが可能となり、乾燥時間の差に起因した液滴の乾燥ムラの発生を抑制することが可能となる。
なお、閉空間S内の蒸気圧を制御するために、塗布装置130は、図3に示したように、閉空間S内に液滴の溶媒に相当する有機系材料の蒸気を導入する蒸気導入機構135を備えていても良い。この蒸気導入機構135は、例えば、有機系材料の蒸気を発生する蒸気発生源135Aと、この蒸気発生源135Aと閉空間Sとをつなぐ導入路135Bとで構成されている。これにより、閉空間Sの内部の蒸気圧は、液滴の乾燥を抑制するように制御可能となる。
また、カバー134の側板134Bは、図3に示すように、開閉可能に構成されている。すなわち、側板134Bは、処理基板SUBに液滴を塗布する工程では、閉鎖し、ステージ131の裏面側まで囲むように配置される。これに対して、処理基板SUBをステージ131上に載置する際、及び、液滴の塗布が終了した処理基板SUBをステージ131から取り出す際には、側板134Bは、開放され、ステージ131から離間する。
また、カバー134は、ヘッド132を伴ってZ方向すなわちステージ131の法線方向に移動可能に構成されている。すなわち、側板134Bが開放している状態において、カバー134の全体がステージ131から離間する方向に移動することにより、処理基板SUBの交換を容易に行うことが可能となる。
次に、上述したような構成の表示装置の製造方法について説明する。なお、ここでは、光活性層64は高分子系材料を用いてインクジェットによる選択塗布法により形成されるものとする。
すなわち、金属膜及び絶縁膜の成膜、パターニングなどの処理を繰り返し、縦480画素、横640×3(R、G、B)画素の合計92万画素からなる表示エリア102を有した配線基板120を用意する。そして、図5Aに示すように、配線基板120上の表示エリア102において画素毎に第1電極60を形成する。この第1電極60の形成方法については、一般的はフォトリソグラフィプロセスで形成しても良いし、第1電極のパターンを有するマスクを介したマスクスパッタ法で形成しても良い。
続いて、図5Bに示すように、表示エリア102において第1電極60を露出する隔壁70を形成する。すなわち、感光性樹脂材料例えばアクリルタイプのポジティブトーンのレジストを成膜した後に一般的なフォトリソグラフィプロセスなどでパターニングした後に、220℃で30分間の焼成処理を行う。これにより、表示エリア102において互いに隣接する異なる色の画素列の間を分離する隔壁70が形成される。
続いて、各画素列の画素毎に第1電極60上に対応する色に発光する発光層を含む光活性層64を形成する。すなわち、図5Cに示すように、塗布装置130において、カバー134を開放し、隔壁70を備えた配線基板120を塗布装置130のステージ131上に載置した後、ヘッド132を配線基板120に対向配置し、カバー134を閉鎖する。これにより、ステージ131上の配線基板120とヘッド132との間に閉空間Sが形成される。このとき、配線基板120において画素列の延びる方向を塗布装置130におけるX方向に対応させるとともに、画素列の延びる方向と直交する方向を塗布装置130におけるY方向に対応させ、さらに、マトリクス状に配置された各ヘッド132がそれぞれ液滴を塗布する領域に対応するように配線基板120を位置決めする。
その後、図5Dに示すように、閉空間S内に、光活性層64を形成するための液滴64Lの溶媒に相当する有機系材料の蒸気を導入した状態で、各ヘッド132から対応する領域の各画素に発光層の他にホールバッファ層などを形成するための高分子系材料の液滴64Lを塗布する。この液滴64Lの塗布工程は、移動機構133により、各ヘッド132を対応する領域の全体にわたって相対的にスキャンしながら行う。
その後、図5Eに示すように、液滴の塗布が終了したのに基づき、カバー134を開放し、ヘッド132とともにカバー132を配線基板120から離間する方向に退避させた後、配線基板120を取り出し、全画素の液滴を一斉に乾燥させる。これにより、赤色画素からなる赤色画素列のそれぞれの第1電極60上に光活性層64Rが形成される。同様に、緑色画素からなる緑色画素列のそれぞれの第1電極60上に光活性層64Gが形成され、また、青色画素からなる青色画素列のそれぞれの第1電極60上に光活性層64Bが形成される。
続いて、図5Fに示すように、表示エリア102において各色画素の光活性層64(R、G、B)を覆うように第2電極66を形成する。この第2電極66は、先に形成された光活性層64(R、G、B)が水分の影響によりダメージを受けないようにドライプロセスで形成されることが望ましく、例えば、蒸着法によって形成される。
一方で、アレイ基板100上の表示エリア102を封止するために、封止体の外周に沿って紫外線硬化型のシール材を塗布し、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガス雰囲気中において、アレイ基板100と封止体とを貼り合わせる。これにより、有機EL素子40は、不活性ガス雰囲気の密閉空間内に封入される。その後、紫外線を照射して、シール材を硬化させる。
上述した製造方法によれば、表示エリア全体の各画素に短時間で液滴を塗布することが可能であるとともに、塗布された液滴をほぼ一斉に乾燥させることが可能である。このため、液滴の乾燥時間の差に起因した液滴の乾燥ムラの発生を抑制することができた。また、このようにして製造した表示装置によれば、乾燥ムラに起因した表示ムラは確認されず、良好な表示品位が得られた。
なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
1…有機EL表示装置、10…画素スイッチ、20…駆動トランジスタ、30…蓄積容量素子、40…有機EL素子、60…第1電極、64(R、G、B)…光活性層、64L…液滴、66…第2電極、70…隔壁、100…アレイ基板、102…表示エリア、120…配線基板、PX…画素、130…塗布装置、132…ヘッド、133…移動機構、134…カバー、135…蒸気導入機構、SUB…処理基板
Claims (6)
- 一対の電極間に保持される光活性層を形成するための液滴を塗布する塗布装置であって、
処理基板が載置されるステージと、
前記ステージ上の処理基板に対向して配置され、処理基板上に向けてそれぞれ液滴を塗布する複数のヘッドと、
前記ステージ上に載置された処理基板と複数の前記ヘッドとが対向した状態で、前記ヘッドのそれぞれが処理基板の異なる領域に液滴を塗布するように、前記ステージ及び前記ヘッドの少なくとも一方を移動させる移動機構と、
処理基板と前記ヘッドとの間に閉空間を形成するためのカバーと、
を備えたことを特徴とする塗布装置。 - さらに、処理基板と前記ヘッドとの間に形成された閉空間内に、前記液滴の溶媒に相当する有機系材料の蒸気を導入する蒸気導入機構を備えたことを特徴とする請求項1に記載の塗布装置。
- 前記カバーは、開閉可能に構成されたことを特徴とする請求項1に記載の塗布装置。
- 画素毎に第1電極を形成する工程と、
前記第1電極を形成済みの処理基板をステージ上に載置する工程と、
前記ステージ上に載置された処理基板と、前記第1電極上に前記光活性層を形成するための液滴を塗布する複数のヘッドと、が対向した状態で、前記ヘッドのそれぞれが処理基板の異なる領域に液滴を塗布するように、前記ステージ及び前記ヘッドの少なくとも一方を移動させて光活性層を形成する工程と、
各画素の前記光活性層を覆うように第2電極を形成する工程と、を備え、
前記光活性層を形成する工程では、処理基板と前記ヘッドとの間に閉空間を形成した状態で液滴を塗布することを特徴とする塗布方法。 - 前記光活性層を形成する工程では、処理基板と前記ヘッドとの間に形成された閉空間内に、前記液滴の溶媒に相当する有機系材料の蒸気を導入した状態で液滴を塗布することを特徴とする請求項4に記載の塗布方法。
- 前記光活性層を形成する工程では、液滴を塗布するときに閉空間を形成するようにカバーを閉鎖し、液滴の塗布が終了したときにカバーを開放して処理基板の交換を可能とすることを特徴とする請求項4に記載の塗布方法。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2005295151A JP2007103302A (ja) | 2005-10-07 | 2005-10-07 | 塗布装置及び塗布方法 |
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CN112371456A (zh) * | 2020-11-09 | 2021-02-19 | 江西省建筑卫生陶瓷质量监督检验中心 | 一种陶瓷粉料喷涂装置 |
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JP2003022892A (ja) * | 2001-07-06 | 2003-01-24 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置の製造方法 |
-
2005
- 2005-10-07 JP JP2005295151A patent/JP2007103302A/ja active Pending
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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