JP2007091855A - Film manufacturing process - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film manufacturing process which reduces defects such as scratches and streaks of a film obtained and yields a polyarylene film with an excellent appearance in obtaining the film from a composition containing a polyarylene having sulfonic acid groups and an organic solvent by casting. <P>SOLUTION: The film manufacturing process involves a step (1) to form a coated film by coating a composition containing a polyarylene having sulfonic acid groups and an organic solvent on a substrate and drying the composition and a step (2) to reduce the content of the remaining organic solvent in the coated film. The sulfonic acid equivalent of the polyarylene is ≥0.3 meq/g. The content of the remaining organic solvent in 100 pts.wt. of the coated film obtained in the step (2) is ≤0.5 pt.wt. The peel strength between the coated film obtained in the step (2) and the substrate is 0.05-2 N/25 mm width at a pulling rate of 0.7 m/min in the 180° peel test. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、ポリアリーレン系フィルムの製造方法に関し、さらに詳しくは、一次電池用電解質、二次電池用電解質、燃料電池用高分子固体電解質、表示素子、各種センサー、信号伝達媒体、固体コンデンサー、イオン交換膜などに用いられるプロトン伝導膜として有用なポリアリーレン系フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a polyarylene film, and more specifically, an electrolyte for a primary battery, an electrolyte for a secondary battery, a polymer solid electrolyte for a fuel cell, a display element, various sensors, a signal transmission medium, a solid capacitor, an ion The present invention relates to a method for producing a polyarylene-based film useful as a proton conductive membrane used for an exchange membrane or the like.

スルホン化芳香族系ポリマーは、通常、フィルム状に成形され、燃料電池のプロトン伝導膜などとして用いられている。スルホン化芳香族系ポリマーを用いて伝導膜を成形する方法としては、たとえば、スルホン化芳香族系ポリマーを有機溶媒に溶解し、流延法によりフィルム化する方法などが挙げられる(たとえば、特許文献1参照)。   The sulfonated aromatic polymer is usually formed into a film and used as a proton conductive membrane of a fuel cell. Examples of a method for forming a conductive film using a sulfonated aromatic polymer include a method in which a sulfonated aromatic polymer is dissolved in an organic solvent and formed into a film by a casting method (for example, Patent Documents). 1).

しかしながら、スルホン化芳香族系ポリマーを、表面処理を実施した基体上に流延し、乾燥すると、基体上の表面処理剤との相互作用のため、基体からスルホン化芳香族系ポリマーからなるフィルムを剥離することが困難となる。このように基体からのフィルムの剥離が困難となると、フィルムの外観に異常をきたし、剥離傷やスジなどの不良が発生することがある。特に、スルホン酸当量が高く(たとえば、0.3meq/g以上)、プロトン伝導膜として有用な、スルホン酸基を有するポリアリーレンの場合、スルホン酸基と基体に施された表面処理剤との相互作用が生じやすく、前記剥離傷やスジなどが発生することがあった。   However, when a sulfonated aromatic polymer is cast on a surface-treated substrate and dried, a film composed of the sulfonated aromatic polymer is formed from the substrate due to the interaction with the surface treatment agent on the substrate. It becomes difficult to peel off. Thus, when peeling of the film from a base | substrate becomes difficult, it will have abnormality in the external appearance of a film and defects, such as a peeling flaw and a stripe, may generate | occur | produce. In particular, in the case of polyarylene having a sulfonic acid group having a high sulfonic acid equivalent (for example, 0.3 meq / g or more) and useful as a proton conductive membrane, the mutual treatment between the sulfonic acid group and the surface treatment agent applied to the substrate. The action tends to occur, and the above-mentioned peeling scratches and streaks may occur.

ここで、プロトン伝導膜などの電気・電子材料に用いる場合において、フィルムに求められる重要な特性として、ガス燃料や液体燃料をフィルムの反対側に通過させないという燃料遮断性がある。上記剥離傷やスジなどを有するフィルムを、燃料電池用高分子固体電解質として長時間使用した場合、該剥離傷やスジなどが、ガス漏れや燃料漏れなどの起点になるなどの重大な問題となる。   Here, when used for electrical / electronic materials such as proton conducting membranes, an important characteristic required for a film is a fuel barrier property that gas fuel or liquid fuel is not allowed to pass through the opposite side of the film. When the above film having peeling scratches and streaks is used as a polymer solid electrolyte for a fuel cell for a long time, the peeling scratches and streaks become serious problems such as gas leaks and fuel leaks. .

また、スルホン酸基を有するポリアリーレンの場合、流延のための有機溶媒が比較的高沸点であるため、乾燥温度は高温となる。高温の乾燥を行うと、基体が熱収縮してしまうため、フィルムにスジやしわ等のフィルム外観異常を発生させてしまう傾向にある。これらの外観異常も上記の様な重大な問題となる。   Further, in the case of polyarylene having a sulfonic acid group, the drying temperature is high because the organic solvent for casting has a relatively high boiling point. When the drying is performed at a high temperature, the substrate is thermally contracted, and thus the film appearance abnormality such as streaks and wrinkles tends to occur in the film. These abnormal appearances also become a serious problem as described above.

スルホン化芳香族系ポリマーからなるフィルムをプロトン伝導膜などの電気・電子材料に用いる場合、フィルム表面には電極等をプレスするなどして転写する必要がある。ここで、流延法によって得られたフィルムにおいて、基体に触れていた面の表面粗さは、基体の表面粗さが転写して現れることになる。そのため、上記フィルム表面に電極等を転写する工程において、フィルムの表面粗さの程度が大きいと、電極が均一に転写できず、燃料電池用高分子固体電解質として、もはや使用できないものとなってしまう。
特開2005−171027号公報
When a film made of a sulfonated aromatic polymer is used for an electric / electronic material such as a proton conducting membrane, it is necessary to transfer the film surface by pressing an electrode or the like. Here, in the film obtained by the casting method, the surface roughness of the surface touching the substrate appears as a result of the surface roughness of the substrate being transferred. Therefore, in the process of transferring the electrode or the like to the film surface, if the surface roughness of the film is large, the electrode cannot be uniformly transferred and can no longer be used as a polymer solid electrolyte for fuel cells. .
JP 2005-171027 A

本発明の課題は、スルホン酸基を有するポリアリーレンと有機溶媒とを含む組成物から流延法によってフィルムを得るに際し、得られるフィルムの剥離傷やスジなどの不良を低減させ、外観の優れたポリアリーレン系フィルムが得られるフィルム製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to reduce defects such as peeling scratches and streaks of the obtained film when a film is obtained by a casting method from a composition containing a polyarylene having a sulfonic acid group and an organic solvent, and has an excellent appearance. It is providing the film manufacturing method from which a polyarylene-type film is obtained.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した。その結果、スルホン酸基を含有するポリアリーレンの流延法によるフィルム化において、表面処理をしていない基体上に流延し、塗膜中の溶媒残留量を低減することで外観の優れたフィルムが得られることを見出した。   The present inventors diligently studied to solve the above problems. As a result, in the film formation by the casting method of polyarylene containing sulfonic acid groups, the film has excellent appearance by casting on a substrate that has not been surface-treated and reducing the amount of solvent remaining in the coating film. It was found that can be obtained.

すなわち、本発明に係るフィルム製造方法は、スルホン酸基を含有するポリアリーレンと有機溶媒とを含むポリアリーレン系組成物を、基体に塗布して乾燥することにより塗膜を形成する工程(1)と、該塗膜中に残留する有機溶媒の含有量を低減させる工程(2)とを含み、前記ポリアリーレンのスルホン酸当量が0.3meq/g以上であり、前記工程(2)で得られた塗膜100重量部中に残留する有機溶媒の含有量が0.5重量部以下であり、前記工程(2)で得られた塗膜と基体との間の剥離強度が、180度剥離試験における引っ張り速度0.7m/minの条件下で、0.05〜2N/幅25mmの範囲内であることを特徴とする。   That is, the film manufacturing method according to the present invention includes a step (1) of forming a coating film by applying a polyarylene-based composition containing a polyarylene containing a sulfonic acid group and an organic solvent to a substrate and drying it. And the step (2) of reducing the content of the organic solvent remaining in the coating film, the sulfonic acid equivalent of the polyarylene is 0.3 meq / g or more, and is obtained in the step (2). The content of the organic solvent remaining in 100 parts by weight of the coated film is 0.5 parts by weight or less, and the peel strength between the coated film obtained in the step (2) and the substrate is a 180 ° peel test. It is characterized by being in the range of 0.05 to 2 N / width 25 mm under the condition of a pulling speed of 0.7 m / min.

前記ポリアリーレンは、下記一般式(A)で表される構造単位と、下記一般式(B)で表される構造単位とを含むことが好ましい。   The polyarylene preferably includes a structural unit represented by the following general formula (A) and a structural unit represented by the following general formula (B).

Figure 2007091855
Figure 2007091855

式(A)中、Yは、−CO−、−SO2−、−SO−、−CONH−、−COO−、−
(CF2i−(iは1〜10の整数を示す。)または−C(CF32−を示し、Zは、独立に直接結合、−(CH2j−(jは1〜10の整数を示す。)、−C(CH32−、−O−または−S−を示し、Arは、−SO3H、−O(CH2pSO3Hまたは−O(CF2pSO3H(pは1〜12の整数を示す。)で表される置換基を有する芳香族基を示し
、mは0〜10の整数を示し、nは0〜10の整数を示し、kは1〜4の整数を示す。
In the formula (A), Y represents —CO—, —SO 2 —, —SO—, —CONH—, —COO—, —
(CF 2 ) i — (i represents an integer of 1 to 10) or —C (CF 3 ) 2 —, Z is independently a direct bond, — (CH 2 ) j — (j is 1 to Represents an integer of 10.), —C (CH 3 ) 2 —, —O— or —S—, and Ar represents —SO 3 H, —O (CH 2 ) p SO 3 H or —O (CF 2) p SO 3 H (p represents an aromatic group having a substituent represented by indicating.) an integer of 1 to 12, m represents an integer of 0, n is an integer of 0 K represents an integer of 1 to 4.

Figure 2007091855
Figure 2007091855

式(B)中、AおよびDは、それぞれ独立に直接結合、−CO−、−SO2−、−SO
−、−CONH−、−COO−、−(CF2i−(iは1〜10の整数を示す。)、−(CH2j−(jは1〜10の整数を示す。)、−CR’2−(R’は脂肪族炭化水素基、
芳香族炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基を示す。)、シクロヘキシリデン基、フルオレニリデン基、−O−または−S−を示し、Bは独立に酸素原子または硫黄原子を示し
、R1〜R16は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、アルキル基、一部もしくは全部
がハロゲン化されたハロゲン化アルキル基、アリル基、アリール基、ニトロ基またはニトリル基を示し、sおよびtは、それぞれ0〜4の整数を示し、rは0または1以上の整数を示す。
In formula (B), A and D are each independently a direct bond, —CO—, —SO 2 —, —SO
-, - CONH -, - COO -, - (CF 2) i -, (i is an integer of 1~10.) - (CH 2) j -, (j is an integer of 1 to 10.) —CR ′ 2 — (R ′ is an aliphatic hydrocarbon group,
An aromatic hydrocarbon group or a halogenated hydrocarbon group is shown. ), A cyclohexylidene group, a fluorenylidene group, —O— or —S—, B independently represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R 1 to R 16 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or an alkyl group. Represents a partially or fully halogenated alkyl group, allyl group, aryl group, nitro group or nitrile group, s and t each represents an integer of 0 to 4, and r is 0 or 1 or more Indicates an integer.

前記基体はポリエチレンテレフタレートであること、また、前記基体の表面の中心線平均粗さが0.02μm以下であること、さらに、前記基体の熱収縮率が、基体の巻出し方向で0.9%以下であり、かつ、基体の幅方向で0.2%以下であることが好ましい。   The substrate is polyethylene terephthalate, the center line average roughness of the surface of the substrate is 0.02 μm or less, and the thermal shrinkage of the substrate is 0.9% in the unwinding direction of the substrate. And preferably 0.2% or less in the width direction of the substrate.

本発明によれば、剥離傷やスジなどの不良が低減し、外観の優れたポリアリーレン系フィルムを得ることができる。したがって、本発明から得られるポリアリーレン系フィルム(プロトン伝導膜)を、一次電池用電解質、二次電池用電解質、燃料電池用高分子固体電解質、表示素子、各種センサー、信号伝達媒体、固体コンデンサー、イオン交換膜などの伝導膜として用いれば、広い温度範囲にわたって高いプロントン伝導性を発現するとともに、フィルム特性を損なうことなく長時間使用することができる。   According to the present invention, defects such as peeling scratches and streaks are reduced, and a polyarylene film having an excellent appearance can be obtained. Therefore, the polyarylene-based film (proton conductive membrane) obtained from the present invention is used as an electrolyte for primary batteries, an electrolyte for secondary batteries, a polymer solid electrolyte for fuel cells, a display element, various sensors, a signal transmission medium, a solid capacitor, When used as a conductive membrane such as an ion exchange membrane, it exhibits high pronton conductivity over a wide temperature range and can be used for a long time without impairing film properties.

以下、本発明に係るフィルム製造方法について詳細に説明する。
本発明に係るフィルム製造方法は、スルホン酸基を有するポリアリーレン(以下「スルホン化ポリアリーレン」ともいう。)と有機溶媒とを含むポリアリーレン系組成物を基体に塗布して乾燥することにより塗膜を形成する工程(1)と、該塗膜中に残留する有機溶媒の含有量を低減させる工程(2)とを含む。
Hereinafter, the film manufacturing method according to the present invention will be described in detail.
The method for producing a film according to the present invention comprises applying a polyarylene-based composition containing a polyarylene having a sulfonic acid group (hereinafter also referred to as “sulfonated polyarylene”) and an organic solvent to a substrate and drying. The process (1) which forms a film | membrane, and the process (2) which reduces content of the organic solvent which remains in this coating film are included.

〔スルホン化ポリアリーレン〕
本発明で用いられるスルホン化ポリアリーレンは、特に限定されないが、下記一般式(A)で表されるスルホン酸基を有する構造単位(以下、「スルホン酸ユニット」または「構造単位(A)」ともいう。)と、下記一般式(B)で表されるスルホン酸基を有さない構造単位(以下、「疎水性ユニット」または「構造単位(B)」ともいう。)とを含む、下記一般式(C)で表される重合体であることが好ましい。
[Sulfonated polyarylene]
The sulfonated polyarylene used in the present invention is not particularly limited, but is also a structural unit having a sulfonic acid group represented by the following general formula (A) (hereinafter referred to as “sulfonic acid unit” or “structural unit (A)”). And a structural unit having no sulfonic acid group represented by the following general formula (B) (hereinafter also referred to as “hydrophobic unit” or “structural unit (B)”) A polymer represented by the formula (C) is preferable.

<スルホン酸ユニット>   <Sulphonic acid unit>

Figure 2007091855
Figure 2007091855

上記式(A)中、Yは、−CO−、−SO2−、−SO−、−CONH−、−COO−
、−(CF2i−(iは1〜10の整数を示す。)または−C(CF32−を示す。これらの中では、−CO−および−SO2−が好ましい。
In the above formula (A), Y represents —CO—, —SO 2 —, —SO—, —CONH—, —COO—.
, - (CF 2) i - (i is an integer from 1 to 10.) Or -C (CF 3) 2 - shows a. Of these, —CO— and —SO 2 — are preferable.

Zは、独立に直接結合、−(CH2j−(jは1〜10の整数を示す。)、−C(CH32−、−O−または−S−を示す。これらの中では、直接結合および−O−が好ましい。 Z independently represents a direct bond, — (CH 2 ) j — (j represents an integer of 1 to 10), —C (CH 3 ) 2 —, —O— or —S—. Among these, a direct bond and —O— are preferable.

Arは、−SO3H、−O(CH2pSO3Hまたは−O(CF2pSO3H(pは1〜
12の整数を示す。)で表される置換基を有する芳香族基を示す。芳香族基としては、たとえば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基などが挙げられる。これらの中では、フェニル基およびナフチル基が好ましい。また、Arは、−SO3H、
−O(CH2pSO3Hまたは−O(CF2pSO3Hで表される置換基を少なくとも1個有していることが必要であり、ナフチル基である場合には2個以上有することが好ましい。
Ar is —SO 3 H, —O (CH 2 ) p SO 3 H or —O (CF 2 ) p SO 3 H (p is 1 to
An integer of 12 is shown. The aromatic group which has a substituent represented by this is shown. Examples of the aromatic group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, and the like. In these, a phenyl group and a naphthyl group are preferable. Ar represents —SO 3 H;
It is necessary to have at least one substituent represented by —O (CH 2 ) p SO 3 H or —O (CF 2 ) p SO 3 H, and two in the case of a naphthyl group It is preferable to have the above.

mは0〜10、好ましくは0〜2の整数であり、nは0〜10、好ましくは0〜2の整数であり、kは1〜4の整数を示す。
上記構造単位(A)の好ましい構造としては、上記式(A)において、
(1)m=0、n=0であり、Yが−CO−であり、Arが置換基として−SO3Hを有
するフェニル基である構造、
(2)m=1、n=0であり、Yが−CO−であり、Zが−O−であり、Arが置換基として−SO3Hを有するフェニル基である構造、
(3)m=1、n=1、k=1であり、Yが−CO−であり、Zが−O−であり、Arが置換基として−SO3Hを有するフェニル基である構造、
(4)m=1、n=0であり、Yが−CO−であり、Arが置換基として2個の−SO3
Hを有するナフチル基である構造、
(5)m=1、n=0であり、Yが−CO−であり、Zが−O−であり、Arが置換基として−O(CH24SO3Hを有するフェニル基である構造
などを挙げることができる。
m is an integer of 0 to 10, preferably 0 to 2, n is an integer of 0 to 10, preferably 0 to 2, and k is an integer of 1 to 4.
As a preferred structure of the structural unit (A), in the above formula (A),
(1) a structure in which m = 0, n = 0, Y is —CO—, and Ar is a phenyl group having —SO 3 H as a substituent;
(2) a structure in which m = 1, n = 0, Y is —CO—, Z is —O—, and Ar is a phenyl group having —SO 3 H as a substituent;
(3) A structure in which m = 1, n = 1, k = 1, Y is —CO—, Z is —O—, and Ar is a phenyl group having —SO 3 H as a substituent;
(4) m = 1, n = 0, Y is —CO—, and Ar is two substituents —SO 3.
A structure which is a naphthyl group having H,
(5) m = 1, n = 0, Y is —CO—, Z is —O—, and Ar is a phenyl group having —O (CH 2 ) 4 SO 3 H as a substituent. Examples include structures.

<疎水性ユニット>   <Hydrophobic unit>

Figure 2007091855
Figure 2007091855

上記式(B)中、AおよびDは、それぞれ独立に直接結合、−CO−、−SO2−、−
SO−、−CONH−、−COO−、−(CF2i−(iは1〜10の整数を示す。)、−(CH2j−(jは1〜10の整数を示す。)、−CR’2−、シクロヘキシリデン基
、フルオレニリデン基、−O−または−S−を示す。これらの中では、直接結合、−CO−、−SO2−、−CR’2−、シクロヘキシリデン基、フルオレニリデン基および−O−が好ましい。なお、R’は脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基を示し、たとえば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、プロピル基、オクチル基、デシル基、オクタデシル基、フェニル基、トリフルオロメチル基などが挙げられる。
In the above formula (B), A and D are each independently a direct bond, —CO—, —SO 2 —, —
SO—, —CONH—, —COO—, — (CF 2 ) i — (i represents an integer of 1 to 10), — (CH 2 ) j — (j represents an integer of 1 to 10) , -CR '2 -, showing cyclohexylidene group, a fluorenylidene group, -O- or -S-. Among these, a direct bond, —CO—, —SO 2 —, —CR ′ 2 —, a cyclohexylidene group, a fluorenylidene group, and —O— are preferable. R ′ represents an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group or a halogenated hydrocarbon group. For example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, t-butyl group, A propyl group, an octyl group, a decyl group, an octadecyl group, a phenyl group, a trifluoromethyl group, etc. are mentioned.

Bは独立に酸素原子または硫黄原子を示し、酸素原子が好ましい。
1〜R16は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、アルキル基、一部もしくは全部
がハロゲン化されたハロゲン化アルキル基、アリル基、アリール基、ニトロ基またはニトリル基を示す。
B independently represents an oxygen atom or a sulfur atom, preferably an oxygen atom.
R 1 to R 16 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group, a halogenated alkyl group, an allyl group, an aryl group, a nitro group or a nitrile group, which is partially or wholly halogenated.

上記R1〜R16におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、アミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基などが挙げられる。ハロゲン化アルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基などが挙げられる。アリル基としては、プロペニル基などが挙げられる。アリール基としては、フェニル基、ペンタフルオロフェニル基などが挙げられる。
Examples of the alkyl group in R 1 to R 16 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an amyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group, and an octyl group. Examples of the halogenated alkyl group include a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluoropentyl group, and a perfluorohexyl group. Examples of the allyl group include a propenyl group. Examples of the aryl group include a phenyl group and a pentafluorophenyl group.

sおよびtは、それぞれ0〜4の整数を示す。rは0または1以上の整数を示し、上限は通常100、好ましくは1〜80である。
上記構造単位(B)の好ましい構造としては、上記式(B)において、
(1)s=1、t=1であり、Aが−CR’2−、シクロヘキシリデン基またはフルオレ
ニリデン基であり、Bが酸素原子であり、Dが−CO−または−SO2−であり、R1〜R16が水素原子またはフッ素原子である構造、
(2)s=1、t=0であり、Bが酸素原子であり、Dが−CO−または−SO2−であ
り、R1〜R16が水素原子またはフッ素原子である構造、
(3)s=0、t=1であり、Aが−CR’2−、シクロヘキシリデン基またはフルオレ
ニリデン基であり、Bが酸素原子であり、R1〜R16が水素原子、フッ素原子またはニト
リル基である構造
などが挙げられる。
s and t each represent an integer of 0 to 4. r shows 0 or an integer greater than or equal to 1, and an upper limit is 100 normally, Preferably it is 1-80.
As a preferable structure of the structural unit (B), in the above formula (B),
(1) s = 1, t = 1, A is —CR ′ 2 —, a cyclohexylidene group or a fluorenylidene group, B is an oxygen atom, and D is —CO— or —SO 2 —. , R 1 to R 16 are hydrogen atoms or fluorine atoms,
(2) a structure in which s = 1, t = 0, B is an oxygen atom, D is —CO— or —SO 2 —, and R 1 to R 16 are hydrogen atoms or fluorine atoms,
(3) s = 0, t = 1, A is —CR ′ 2 —, a cyclohexylidene group or a fluorenylidene group, B is an oxygen atom, and R 1 to R 16 are a hydrogen atom, a fluorine atom or Examples thereof include a structure that is a nitrile group.

<ポリマー構造>   <Polymer structure>

Figure 2007091855
Figure 2007091855

上記式(C)中、A、B、D、Y、Z、Ar、k、m、n、r、s、tおよびR1〜R16は、上記式(A)および(B)中で定義した通りであり、xおよびyは、x+y=10
0モル%とした場合のモル比を示す。
In the above formula (C), A, B, D, Y, Z, Ar, k, m, n, r, s, t and R 1 to R 16 are defined in the above formulas (A) and (B). Where x and y are x + y = 10
The molar ratio in the case of 0 mol% is shown.

本発明で特に好ましく用いられるスルホン化ポリアリーレンは、上記構造単位(A)、すなわちxのユニットを0.5〜100モル%、好ましくは10〜99.999モル%の割合で含有し、上記構造単位(B)、すなわちyのユニットを99.5〜0モル%、好ましくは90〜0.001モル%の割合で含有している。   The sulfonated polyarylene particularly preferably used in the present invention contains the structural unit (A), that is, the unit x, in a proportion of 0.5 to 100 mol%, preferably 10 to 99.999 mol%, The unit (B), that is, the unit of y is contained in a proportion of 99.5 to 0 mol%, preferably 90 to 0.001 mol%.

<ポリマーの製造方法>
上記スルホン化ポリアリーレンの製造方法としては、たとえば、下記に示すA法、B法
およびC法が挙げられる。
<Method for producing polymer>
Examples of the method for producing the sulfonated polyarylene include the following methods A, B, and C.

(A法)たとえば、特開2004−137444号公報に記載の方法で、上記構造単位(A)となりうるスルホン酸エステル基を有するモノマーと、上記構造単位(B)となりうるモノマーまたはオリゴマーとを共重合させ、スルホン酸エステル基を有するポリアリーレンを製造し、このスルホン酸エステル基を脱エステル化してスルホン酸基に変換する方法。   (Method A) For example, by the method described in JP-A No. 2004-137444, a monomer having a sulfonate group that can be the structural unit (A) and a monomer or oligomer that can be the structural unit (B) A method of polymerizing to produce a polyarylene having a sulfonic acid ester group, and deesterifying the sulfonic acid ester group to convert it into a sulfonic acid group.

(B法)たとえば、特開2001−342241号公報に記載の方法で、上記式(A)で表される骨格を有するが、スルホン酸基およびスルホン酸エステル基を有しないモノマーと、上記構造単位(B)となりうるモノマーまたはオリゴマーとを共重合させ、得られた共重合体をスルホン化剤を用いてスルホン化する方法。   (Method B) For example, in the method described in JP-A-2001-342241, a monomer having a skeleton represented by the above formula (A) but not having a sulfonic acid group or a sulfonic acid ester group, and the above structural unit (B) A method in which a monomer or an oligomer that can be used is copolymerized, and the resulting copolymer is sulfonated using a sulfonating agent.

(C法)上記式(A)中のArが、−O(CH2pSO3Hまたは−O(CF2pSO3Hで表される置換基を有する芳香族基である場合には、たとえば、特開2005−60625号公報に記載の方法で、上記構造単位(A)となりうる前駆体のモノマーと、上記構造単位(B)となりうるモノマーまたはオリゴマーとを共重合させ、次いで、アルキルスルホン酸またはフッ素置換されたアルキルスルホン酸を導入する方法。 (Method C) When Ar in the above formula (A) is an aromatic group having a substituent represented by —O (CH 2 ) p SO 3 H or —O (CF 2 ) p SO 3 H Is, for example, copolymerized a precursor monomer that can be the structural unit (A) and a monomer or oligomer that can be the structural unit (B) by the method described in JP-A-2005-60625, A method of introducing an alkyl sulfonic acid or a fluorine-substituted alkyl sulfonic acid.

上記A法で用いることができる、上記構造単位(A)となりうるスルホン酸エステル基を有するモノマーとしては、たとえば、特開2004−137444号公報、特開2004−345997号公報、特開2004−346163号公報に記載されているスルホン酸エステル類を挙げることができる。   Examples of the monomer having a sulfonate group that can be the structural unit (A) that can be used in the method A include, for example, JP-A Nos. 2004-137444, 2004-345997, and 2004-346163. Examples thereof include sulfonic acid esters described in Japanese Patent Publication No. Gazette.

上記B法で用いることができる、上記構造単位(A)となりうるスルホン酸基およびスルホン酸エステル基を有しないモノマーとしては、たとえば、特開2001−342241号公報、特開2002−293889号公報に記載されているジハロゲン化物を挙げることができる。   Examples of the monomer having no sulfonic acid group and sulfonic acid ester group that can be the structural unit (A) that can be used in the above-mentioned method B include, for example, JP-A Nos. 2001-342241 and 2002-293889. Mention may be made of the dihalides described.

上記C法で用いることができる、上記構造単位(A)となりうる前駆体のモノマーとしては、たとえば、特開2005−36125号公報に記載されているジハロゲン化物を挙げることができる。   Examples of the precursor monomer that can be the structural unit (A) that can be used in the method C include dihalides described in JP-A-2005-36125.

また、いずれの方法においても用いられる、上記構造単位(B)となりうるモノマーまたはオリゴマーとしては、
r=0の場合、たとえば、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンズアニリド、2,2−ビス(4−クロロフェニル)ジフルオロメタン、2,2−ビス(4−クロロフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、4−クロロ安息香酸−4−クロロフェニルエステル、ビス(4−クロロフェニル)スルホキシド、ビス(4−クロロフェニル)スルホン、2,6−ジクロロベンゾニトリルなどが挙げられる。これらの化合物において、塩素原子が臭素原子またはヨウ素原子に置き換わった化合物なども用いることができる。
In addition, as a monomer or oligomer that can be the structural unit (B) used in any method,
When r = 0, for example, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzanilide, 2,2-bis (4-chlorophenyl) difluoromethane, 2,2-bis (4-chlorophenyl) -1 , 1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 4-chlorobenzoic acid-4-chlorophenyl ester, bis (4-chlorophenyl) sulfoxide, bis (4-chlorophenyl) sulfone, 2,6-dichlorobenzonitrile, etc. Is mentioned. Among these compounds, compounds in which a chlorine atom is replaced with a bromine atom or an iodine atom can also be used.

r=1の場合、たとえば、特開2003−113136号公報に記載の化合物を挙げることができる。
r≧2の場合、たとえば、特開2004−137444号公報、特開2004−244517号公報、特開2004−346164号公報、特開2005−112985号公報、特願2004−211739号、特願2004−211740号などに記載の化合物を挙げることができる。
In the case of r = 1, for example, compounds described in JP-A-2003-113136 can be exemplified.
In the case of r ≧ 2, for example, JP 2004-137444 A, JP 2004-244517 A, JP 2004-346164 A, JP 2005-112985 A, Japanese Patent Application No. 2004-211739, and Japanese Patent Application No. 2004. And compounds described in No. -211740.

スルホン酸基を有するポリアリーレンを得るためには、まず、上記構造単位(A)となりうるモノマーと、上記構造単位(B)となりうるモノマーまたはオリゴマーとを、触媒の存在下で共重合させ、前駆体のポリアリーレンを得ることが必要である。この共重合を行う際に用いられる触媒は、遷移金属化合物を含む触媒系であり、この触媒系は、(i)遷移金属塩および配位子となる化合物、または、配位子が配位された遷移金属錯体(銅塩を含む)と、(ii)還元剤とを必須成分とし、さらに、重合速度を上げるために「塩」を添加してもよい。これらの触媒成分の具体例、各成分の使用割合、反応溶媒、濃度、温度、時間等の重合条件は、たとえば、特開2001−342241号公報に記載されている条件等を採用することができる。   In order to obtain a polyarylene having a sulfonic acid group, first, a monomer that can be the structural unit (A) and a monomer or oligomer that can be the structural unit (B) are copolymerized in the presence of a catalyst. It is necessary to obtain body polyarylene. The catalyst used in carrying out the copolymerization is a catalyst system containing a transition metal compound, and this catalyst system is (i) a compound that becomes a transition metal salt and a ligand, or a ligand is coordinated. In addition, a transition metal complex (including a copper salt) and (ii) a reducing agent may be essential components, and a “salt” may be added to increase the polymerization rate. Specific examples of these catalyst components, the use ratio of each component, the polymerization conditions such as the reaction solvent, concentration, temperature, time, etc. can employ the conditions described in JP-A-2001-342241, for example. .

本発明で用いられるスルホン化ポリアリーレンは、上記のようにして得られた前駆体のポリアリーレンを、スルホン酸基を有するポリアリーレンに変換することにより得ることができる。この方法としては、下記の3通りの方法がある。   The sulfonated polyarylene used in the present invention can be obtained by converting the precursor polyarylene obtained as described above into a polyarylene having a sulfonic acid group. As this method, there are the following three methods.

(a法)上記A法で得られた、前駆体のスルホン酸エステル基を有するポリアリーレンを、特開2004−137444号公報に記載の方法で脱エステル化する方法。
(b法)上記B法で得られた前駆体のポリアリーレンを、特開2001−342241号公報に記載の方法でスルホン化する方法。
(Method a) A method of deesterifying the precursor polyarylene having a sulfonate group obtained by Method A by the method described in JP-A-2004-137444.
(Method b) A method of sulfonating the precursor polyarylene obtained in Method B by the method described in JP-A-2001-342241.

(c法)上記C法で得られた前駆体のポリアリーレンに、特開2005−60625号公報に記載の方法で、アルキルスルホン酸基を導入する方法。
上記のような方法により製造される、上記式(C)で表されるスルホン化ポリアリーレンのスルホン酸当量は、通常、0.3meq/g以上、好ましくは0.5〜5meq/g、さらに好ましくは0.8〜3meq/gである。スルホン酸当量が上記範囲よりも低いと、プロトン伝導度が低くなり発電性能が低下する傾向にある。一方、スルホン酸当量が上記範囲を超えると、耐水性が大幅に低下してしまうことがあるため好ましくない。
(Method c) A method of introducing an alkylsulfonic acid group into the precursor polyarylene obtained by the method C by the method described in JP-A-2005-60625.
The sulfonic acid equivalent of the sulfonated polyarylene represented by the above formula (C) produced by the above method is usually 0.3 meq / g or more, preferably 0.5 to 5 meq / g, more preferably Is 0.8-3 meq / g. When the sulfonic acid equivalent is lower than the above range, the proton conductivity tends to be low and the power generation performance tends to be lowered. On the other hand, when the sulfonic acid equivalent exceeds the above range, the water resistance may be significantly lowered, which is not preferable.

上記スルホン酸当量は、たとえば、上記構造単位(A)となりうる前駆体のモノマーおよび上記構造単位(B)となりうるモノマーまたはオリゴマーの種類、使用割合、組み合わせを変えることにより、調整することができる。   The sulfonic acid equivalent can be adjusted, for example, by changing the type, use ratio, and combination of the precursor monomer that can be the structural unit (A) and the monomer or oligomer that can be the structural unit (B).

このようにして得られるスルホン酸基を有するポリアリーレンの分子量は、ゲルパーミエションクロマトグラフィ(GPC)によるポリスチレン換算重量平均分子量で、1万〜100万、好ましくは2万〜80万である。   The molecular weight of the polyarylene having a sulfonic acid group thus obtained is 10,000 to 1,000,000, preferably 20,000 to 800,000 in terms of polystyrene-equivalent weight average molecular weight by gel permeation chromatography (GPC).

〔有機溶媒〕
本発明で用いられる有機溶媒としては、たとえば、N−メチル−2−ピロリドン、メタノール、エタノール、プロパノール、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、トルエン、キシレン、メチルアミルケトン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルブタン酸メ
チル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、クロロホルム、塩化メチレンなどを挙げることができる。これらの中では、N−メチル−2−ピロリドン、メタノール、プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、γ−ブチロラクトン、N,N−ジメチルホルムアミド、エチルカルビトール、メチルカルビトールが好ましい。上記有機溶媒は、1種単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
[Organic solvent]
Examples of the organic solvent used in the present invention include N-methyl-2-pyrrolidone, methanol, ethanol, propanol, tetrahydrofuran, cyclohexanone, dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and γ-butyrolactone. , Propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol methyl ethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether , Jiechire Glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, toluene, xylene, methyl amyl ketone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, ethyl 2-hydroxypropionate, 2- Methyl hydroxy-2-methylpropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-2-methylbutanoate, methyl 3-methoxypropionate, 3-methoxypropionic acid Examples thereof include ethyl, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl lactate, ethyl lactate, chloroform, and methylene chloride. Among these, N-methyl-2-pyrrolidone, methanol, propanol, propylene glycol monomethyl ether, γ-butyrolactone, N, N-dimethylformamide, ethyl carbitol, and methyl carbitol are preferable. The said organic solvent may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types.

〔ポリアリーレン系組成物〕
本発明で用いられるポリアリーレン系組成物は、上記スルホン化ポリアリーレンと有機溶媒とを含み、該組成物中における固形分濃度、すなわちスルホン化ポリアリーレンの含有量は、組成物全体に対して、通常、3〜40重量%、好ましくは5〜35重量%である。固形分濃度が上記範囲よりも低いと、充分な厚さの塗膜が得られないことがあり、一方、上記範囲を超えると、充分に流延せず、均一な塗膜が得られないことがある。
[Polyarylene composition]
The polyarylene-based composition used in the present invention contains the sulfonated polyarylene and the organic solvent, and the solid content concentration in the composition, that is, the content of the sulfonated polyarylene is based on the whole composition. Usually, it is 3 to 40% by weight, preferably 5 to 35% by weight. If the solid content concentration is lower than the above range, a coating film having a sufficient thickness may not be obtained. On the other hand, if the solid content concentration exceeds the above range, the film cannot be sufficiently cast and a uniform coating film cannot be obtained. There is.

また、本発明に用いられる組成物の室温での粘度は、通常、1〜1,000,000mPa・s、好ましくは10〜100,000mPa・s、より好ましくは100〜80,000mPa・s、特に好ましくは1000〜60,000mPa・sである。粘度が上記範囲よりも低いと、塗工時に膜とすることができず、一方、上記範囲を超えると、充分に流延せず、均一な塗膜が得られないことがある。   Moreover, the viscosity at room temperature of the composition used in the present invention is usually 1 to 1,000,000 mPa · s, preferably 10 to 100,000 mPa · s, more preferably 100 to 80,000 mPa · s, particularly Preferably it is 1000-60,000 mPa * s. If the viscosity is lower than the above range, it cannot be formed into a film at the time of coating, while if it exceeds the above range, it may not be sufficiently cast and a uniform coating film may not be obtained.

なお、本発明に用いられる組成物は、上記スルホン化ポリアリーレンおよび有機溶媒を主成分とするが、必要に応じて添加剤、たとえば、レベリング剤、シランカップリング剤などを添加してもよい。   In addition, although the composition used for this invention has the said sulfonated polyarylene and an organic solvent as a main component, you may add additives, for example, a leveling agent, a silane coupling agent, etc. as needed.

レベリング剤としては、一般的に使用されているレベリング剤であれば特に限定されず、たとえば、フッ素系ノニオン界面活性剤、特殊アクリル樹脂系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤などを使用することができる。   The leveling agent is not particularly limited as long as it is a commonly used leveling agent, and for example, a fluorine-based nonionic surfactant, a special acrylic resin leveling agent, a silicone leveling agent, and the like can be used.

〔フィルム製造方法〕
本発明のフィルム製造方法は、上記ポリアリーレン系組成物を基体に塗布して乾燥することにより塗膜を形成する工程(1)を含む。
[Film production method]
The film manufacturing method of this invention includes the process (1) which forms a coating film by apply | coating the said polyarylene-type composition to a base | substrate, and drying.

上記ポリアリーレン系組成物を基体に塗布する方法としては特に限定されず、たとえば、ダイス、コーター、スプレー、ハケ、ロールスピンコート、ディッピング、スクリーンなどの手段を用いて塗布することができる。なお、塗布の繰り返しによりフィルムの厚みや表面平滑性などを制御してもよい。   The method for applying the polyarylene-based composition to the substrate is not particularly limited, and for example, it can be applied using means such as a die, coater, spray, brush, roll spin coat, dipping, or screen. In addition, you may control the thickness of a film, surface smoothness, etc. by repetition of application | coating.

本発明で用いられる基体としては、乾燥時の加熱により容易に変形しないものであれば特に限定されず、たとえば、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム、ポリブチレンテレフタレート(PBT)フィルム、ナイロン6フィルム、ナイロン6,6フィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリテトラフルオロエチレンフィルムなどが挙げられる。これらの中では、高温下で熱収縮が少ないことから、PETフィルムおよびPENフィルムが好ましく、傷が少ないことなどからPETフィルムがより好ましい。   The substrate used in the present invention is not particularly limited as long as it is not easily deformed by heating during drying. For example, polyethylene terephthalate (PET) film, polyethylene naphthalate (PEN) film, polybutylene terephthalate (PBT). Examples include films, nylon 6 films, nylon 6,6 films, polypropylene films, polytetrafluoroethylene films, and the like. Among these, a PET film and a PEN film are preferable because of low thermal shrinkage at high temperatures, and a PET film is more preferable because of few scratches.

本発明では、基体上の表面処理剤との相互作用を防ぐことから、上記基体は表面処理されていないことが好ましい。ただし、フィルムのすべり性を得るために、フィルム中に粒子、たとえば、シリカ粒子やアルミナ粒子などを添加することは、本発明でいう表面処理には含まれない。   In the present invention, in order to prevent interaction with the surface treatment agent on the substrate, the substrate is preferably not surface-treated. However, the addition of particles such as silica particles or alumina particles in the film in order to obtain the slipperiness of the film is not included in the surface treatment referred to in the present invention.

本発明で好適に用いられる基体の表面粗さとしては、表面の中心線平均粗さが0.02μm以下、好ましくは0.005〜0.015μmである。表面の中心線平均粗さが上記範囲を越えると電極の転写が均一に行われず、燃料電池用固体高分子電解質としての寿命が著しく低下してしまう。   As the surface roughness of the substrate suitably used in the present invention, the center line average roughness of the surface is 0.02 μm or less, preferably 0.005 to 0.015 μm. If the center line average roughness of the surface exceeds the above range, the transfer of the electrode is not performed uniformly, and the life as a solid polymer electrolyte for a fuel cell is remarkably reduced.

本発明で好適に用いられる基体の熱収縮率は、JIS C 2318に準じて行われる150℃×30分の試験条件において、基体の巻出し方向で0.9%以下、基体の幅方向で0.2%以下であり、好ましくは、基体の巻出し方向で0.7%以下、基体の幅方向で0.2%以下である。基体の熱収縮率が、基体の巻出し方向および幅方向において上記範囲を超えると、乾燥時に起きる基体の熱収縮により、流延されたフィルムにしわ等が発生してしまう。このような外観異常は、プロトン伝導膜などの電気・電子材料に使用する場合、燃料漏れの起点になるなど重大な問題となる。   The heat shrinkage rate of the substrate suitably used in the present invention is 0.9% or less in the unwinding direction of the substrate and 0 in the width direction of the substrate under the test conditions of 150 ° C. × 30 minutes performed according to JIS C 2318. .2% or less, preferably 0.7% or less in the unwinding direction of the substrate and 0.2% or less in the width direction of the substrate. If the thermal contraction rate of the substrate exceeds the above range in the unwinding direction and the width direction of the substrate, wrinkles and the like occur in the cast film due to the thermal contraction of the substrate that occurs during drying. Such an appearance abnormality becomes a serious problem such as a starting point of fuel leakage when used for electrical / electronic materials such as proton conducting membranes.

また、上記基体の厚みは、通常、25〜250μm、好ましくは50〜200μmである。基体の厚みが上記範囲を下回ると、基体の剛性が不十分となり、均一なプロトン伝導膜が得られないことがあり、一方、上記範囲を超えると、乾燥時の熱伝導が悪く十分な乾燥ができないことがある。   The substrate has a thickness of usually 25 to 250 μm, preferably 50 to 200 μm. If the thickness of the substrate is less than the above range, the rigidity of the substrate may be insufficient, and a uniform proton conductive membrane may not be obtained. On the other hand, if the thickness exceeds the above range, heat conduction during drying is poor and sufficient drying is not possible. There are things that cannot be done.

上記基体上に塗布した組成物の乾燥は、一般的に用いられる方法、たとえば、多数のローラーを介して乾燥炉中を通過させる方法等により行うことができる。しかしながら、この乾燥工程において、溶媒の蒸発に伴い気泡が発生すると、フィルムの特性が著しく低下することがある。このようなフィルム特性の低下を防止するために、乾燥工程を2段以上の複数工程とし、各工程での温度あるいは風量を制御することが好ましい。各工程は、たとえば、30〜200℃、好ましくは50〜180℃で、10〜180分、好ましくは15〜60分間の条件で乾燥すればよい。   The composition coated on the substrate can be dried by a generally used method, for example, a method of passing through a drying furnace through a number of rollers. However, in this drying process, if bubbles are generated as the solvent evaporates, the properties of the film may be significantly deteriorated. In order to prevent such deterioration of film characteristics, it is preferable to set the drying process to a plurality of steps of two or more stages and to control the temperature or the air volume in each step. Each step may be performed, for example, at 30 to 200 ° C., preferably 50 to 180 ° C., for 10 to 180 minutes, preferably 15 to 60 minutes.

上記乾燥工程後におけるフィルム中の固形分濃度は、好ましくは50〜90重量%、より好ましくは60〜90重量%である。
本発明のフィルム製造方法は、上記工程(1)で形成された塗膜中に残留する有機溶媒の含有量を低減させる工程(2)を含む。
The solid concentration in the film after the drying step is preferably 50 to 90% by weight, more preferably 60 to 90% by weight.
The film manufacturing method of this invention includes the process (2) which reduces content of the organic solvent which remains in the coating film formed at the said process (1).

基体とフィルムとの間の剥離強度(剥離接着強さ)は、スルホン化ポリアリーレンの性質、基体の表面処理の有無および塗膜中の残留溶媒量などにより決定される。したがって、フィルムを安定した形状で剥離するためには、さらにフィルムの固形分濃度を上げる、すなわちフィルム(塗膜)中の残留溶媒量を減らす必要がある。塗膜100重量部中の残留溶媒量は0.5重量部以下が好ましい。0.5重量部を超えると、フィルムと基体との密着性が強くなり、剥離させる際に剥離傷やすじが生じる可能性がある。   The peel strength (peel adhesion strength) between the substrate and the film is determined by the nature of the sulfonated polyarylene, the presence or absence of surface treatment of the substrate, the amount of residual solvent in the coating film, and the like. Therefore, in order to peel the film in a stable shape, it is necessary to further increase the solid content concentration of the film, that is, to reduce the amount of residual solvent in the film (coating film). The amount of residual solvent in 100 parts by weight of the coating film is preferably 0.5 parts by weight or less. If it exceeds 0.5 parts by weight, the adhesion between the film and the substrate becomes strong, and there is a possibility that a peeling wound or a streak may occur when peeling.

残留溶媒量を低減する方法としては、塗膜を湿式処理して乾燥する方法が挙げられる。上記工程(1)で得られた塗膜を、基体上に積層された状態のまま、たとえば、水、アルコール類、エーテル類、アセトンなどの媒体に浸漬させた後、乾燥することにより、湿式処理後の塗膜100重量部中の残留溶媒量を0.5重量部以下にまで低減することができる。前記媒体は、1種単独で用いても、2種以上を混合して用いてもよく、また、2種以上の媒体に浸漬させてもよい。   Examples of the method for reducing the residual solvent amount include a method in which a coating film is wet-treated and dried. The coating film obtained in the above step (1) is wet-treated by, for example, immersing it in a medium such as water, alcohols, ethers, acetone or the like while being laminated on the substrate and then drying it. The amount of residual solvent in 100 parts by weight of the subsequent coating film can be reduced to 0.5 parts by weight or less. The said medium may be used individually by 1 type, may be used in mixture of 2 or more types, and may be immersed in 2 or more types of media.

基体上に形成された塗膜を液媒体に浸漬させる際には、湿式処理前の塗膜1重量部に対し、媒体が10重量部以上、好ましくは30重量部以上の接触比となるようにすることがよい。得られるフィルム(塗膜)の残留溶媒量をできるだけ少なくするためには、できるだけ大きな接触比を維持することが好ましい。また、浸漬に使用する媒体を交換したり、
オーバーフローさせたりして、常に媒体中の有機溶媒濃度を一定濃度以下に維持しておくことも、得られるフィルムの残留溶媒量の低減に有効である。また、フィルム中に残留する有機溶媒量の面内分布を小さく抑えるためには、媒体中の有機溶媒濃度を撹拌等によって均質化させることが好ましい。
When the coating film formed on the substrate is immersed in the liquid medium, the contact ratio of the medium is 10 parts by weight or more, preferably 30 parts by weight or more with respect to 1 part by weight of the coating film before the wet treatment. It is good to do. In order to minimize the residual solvent amount of the obtained film (coating film), it is preferable to maintain a contact ratio as large as possible. Also, you can change the medium used for immersion,
Maintaining the organic solvent concentration in the medium at a certain concentration or less by overflowing is also effective in reducing the amount of residual solvent in the resulting film. Further, in order to suppress the in-plane distribution of the amount of the organic solvent remaining in the film, it is preferable to homogenize the organic solvent concentration in the medium by stirring or the like.

フィルムを浸漬する際の媒体の温度は、通常、5〜80℃の範囲である。媒体温度が高すぎると、乾燥後に得られるフィルムの表面状態が荒れる懸念がある。残留溶媒量の低減効率および取り扱い性などを考慮すれば、10〜60℃の範囲が好ましい。なお、フィルムの液媒体中への浸漬時間や浸漬回数は、塗膜100重量部中の残留溶媒量が0.5重量部以下になるように、適宜選択することができる。   The temperature of the medium when dipping the film is usually in the range of 5 to 80 ° C. If the medium temperature is too high, the surface state of the film obtained after drying may be roughened. Considering the reduction efficiency of the residual solvent amount and the handleability, the range of 10 to 60 ° C. is preferable. In addition, the immersion time and the frequency | count of immersion in the liquid medium of a film can be suitably selected so that the residual solvent amount in 100 weight part of coating films may be 0.5 weight part or less.

上記湿式処理後の乾燥は、一般的に用いられている方法で行うことができる。
上記湿式処理により、塗膜100重量部中の残留溶媒量が0.5重量部以下にまで低減された塗膜と、上記基体との間の剥離強度は、JIS−K6854−2に規定される180度剥離試験に準じて、引張り速度0.7m/minの条件下で測定した場合、0.05〜2N/幅25mm、好ましくは0.1〜1N/幅25mmの範囲内であることが望ましい。剥離強度が上記範囲を下回ると、密着力が弱すぎて乾燥中に剥離が進行してしまうことがあり、一方、上記範囲を超えると、密着力が強すぎて、剥離傷やスジ等の不良が発生してしまうことがある。
Drying after the wet treatment can be performed by a generally used method.
The peel strength between the coating film in which the amount of residual solvent in 100 parts by weight of the coating film is reduced to 0.5 parts by weight or less by the wet treatment and the substrate is defined in JIS-K6854-2. According to the 180 degree peel test, when measured under the condition of a tensile speed of 0.7 m / min, it is desirable that the thickness is in the range of 0.05 to 2 N / width 25 mm, preferably 0.1 to 1 N / width 25 mm. . If the peel strength is lower than the above range, the adhesive force is too weak and may be peeled during drying. On the other hand, if the peel strength exceeds the above range, the adhesive force is too strong, resulting in defects such as peeling scratches and streaks. May occur.

本発明の製造方法により得られるフィルムの厚さは、通常、0.1〜1,000μm、好ましくは1〜800μm、より好ましくは5〜500μm、特に好ましくは10〜300μmである。フィルムの厚みが上記範囲を下回ると、実質的にハンドリングが困難となり、一方、上記範囲を超えると、プロトン伝導性が低下することがある。   The thickness of the film obtained by the production method of the present invention is usually 0.1 to 1,000 μm, preferably 1 to 800 μm, more preferably 5 to 500 μm, and particularly preferably 10 to 300 μm. When the thickness of the film is below the above range, handling becomes substantially difficult. On the other hand, when the thickness exceeds the above range, proton conductivity may be reduced.

本発明の製造方法により得られるフィルムの厚み分布は、厚みの平均値に対して、通常±30%以内、好ましくは±20%以内、より好ましくは±15%以内、特に好ましくは±10%以内である。かかる厚み制御を実施することにより、フィルムの局部的な劣化を防ぐことができる。   The thickness distribution of the film obtained by the production method of the present invention is usually within ± 30%, preferably within ± 20%, more preferably within ± 15%, and particularly preferably within ± 10% with respect to the average thickness. It is. By carrying out such thickness control, local deterioration of the film can be prevented.

本発明の方法により得られるフィルム(プロトン伝導膜)は、長時間使用した場合においてもフィルムとしての燃料遮断性を損なうことなく、広い温度範囲にわたって高いプロントン伝導性を有する。したがって、本発明により得られるフィルムは、たとえば、一次電池用電解質、二次電池用電解質、燃料電池用高分子固体電解質、表示素子、各種センサー、信号伝達媒体、固体コンデンサー、イオン交換膜などに用いられるプロトン伝導膜として好適に利用することができる。   The film (proton conductive membrane) obtained by the method of the present invention has a high Pronton conductivity over a wide temperature range without impairing the fuel barrier property as a film even when used for a long time. Therefore, the film obtained by the present invention is used for, for example, an electrolyte for a primary battery, an electrolyte for a secondary battery, a polymer solid electrolyte for a fuel cell, a display element, various sensors, a signal transmission medium, a solid capacitor, an ion exchange membrane, and the like. It can be suitably used as a proton conductive membrane.

[実施例]
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、各種物性は以下のようにして求めた。
[Example]
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated further more concretely based on an Example, this invention is not limited to these Examples. Various physical properties were determined as follows.

1.分子量
スルホン酸基を有しないポリアリーレンの分子量は、溶剤としてテトラヒドロフラン(THF)を用い、GPCによってポリスチレン換算の分子量を求めた。スルホン酸基を有するポリアリーレンの分子量は、臭化リチウムと燐酸を添加したN−メチル−2−ピロリドン(NMP)を溶離液として用い、GPCによってポリスチレン換算の分子量を求めた。
1. Molecular weight The molecular weight of polyarylene having no sulfonic acid group was determined by GPC using polystyrene (THF) as a solvent and the molecular weight in terms of polystyrene. The molecular weight of the polyarylene having a sulfonic acid group was determined by GPC using polystyrene as a molecular weight using N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) to which lithium bromide and phosphoric acid were added.

2.スルホン酸当量
得られたスルホン酸基を有する重合体の水洗水が中性になるまで充分に洗浄し、フリー
に残存している酸を除去して乾燥後、所定量を秤量し、THF/水の混合溶剤に溶解したフェノールフタレインを指示薬とし、NaOHの標準液を用いて滴定を行い、中和点からスルホン酸当量を求めた。
2. Sulfonic acid equivalent The polymer having a sulfonic acid group was thoroughly washed until the water was neutralized, the remaining acid was removed free of charge and dried, and a predetermined amount was weighed. Titration was performed using a standard solution of NaOH using phenolphthalein dissolved in a mixed solvent of No. 1 as an indicator, and the sulfonic acid equivalent was determined from the neutralization point.

3.外観検査
得られたフィルムをCLASS10000のクリーンルーム内において基体から剥離し、目視で外観検査を行い不良部分を検出し、顕微鏡で観察することにより内容の分類を行った。分類項目はすじ、傷、異物、異常なしである。
3. Appearance inspection The obtained film was peeled from the substrate in a clean room of CLASS10000, visually inspected to detect defective portions, and classified by observing with a microscope. The classification items are lines, scratches, foreign objects, and no abnormalities.

4.表面粗さ
基体の表面粗さは(株)小坂研究所製の非接触二次元三次元微細形状測定機「ET−30K」と、表面粗さ解析装置「サーフコーダ AY−31」とを使用して測定を行った。
4). Surface roughness The surface roughness of the substrate is measured using a non-contact two-dimensional three-dimensional shape measuring machine “ET-30K” manufactured by Kosaka Laboratory Co., Ltd. and a surface roughness analyzer “Surfcoder AY-31”. And measured.

5.熱収縮率
JIS C 2318に準じて150℃×30分の条件での収縮率を求めた。
<合成例1>
(1)ポリアリーレンの合成
撹拌羽根、温度計および窒素導入管を取り付けた1000mLの3口フラスコに、3−(2,5−ジクロロベンゾイル)ベンゼンスルホン酸ネオペンチル90.3g(225mmol)、2,5−ジクロロベンゾフェノン69.1g(275mmol)、4−クロロベンゾフェノン1.08g(5mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケルジクロリド9.81g(15mmol)、よう化ナトリウム2.25g(15mmol)、トリフェニルホスフィン52.5g(200mmol)および亜鉛78.4g(1200mmol)を加えた。フラスコ内を2時間真空乾燥した後、乾燥窒素置換し、脱水したジメチルアセトアミド(DMAc)373mLを加え、重合を開始した。反応温度が90℃を超えないように制御しながら、3時間重合を続けた後、DMAc1400mLを加えて重合溶液を希釈し、不溶部をろ過した。ろ液を10Lのメタノールに注いで重合体を凝固させた。沈殿した重合体を回収して真空乾燥し、目的のポリアリーレン120gを得た。GPCで求めた生成物の数平均分子量(Mn)は39,000、重量平均分子量(Mw)は153,000であった。
5. Thermal contraction rate The shrinkage rate under conditions of 150 ° C. × 30 minutes was determined according to JIS C 2318.
<Synthesis Example 1>
(1) Synthesis of polyarylene 90.3 g (225 mmol) of neopentyl 3- (2,5-dichlorobenzoyl) benzenesulfonate was added to a 1000-mL three-necked flask equipped with a stirring blade, a thermometer, and a nitrogen introduction tube. -Dichlorobenzophenone 69.1 g (275 mmol), 4-chlorobenzophenone 1.08 g (5 mmol), bis (triphenylphosphine) nickel dichloride 9.81 g (15 mmol), sodium iodide 2.25 g (15 mmol), triphenylphosphine 52 0.5 g (200 mmol) and 78.4 g (1200 mmol) of zinc were added. After the inside of the flask was vacuum-dried for 2 hours, 373 mL of dimethylacetamide (DMAc) that had been purged with dry nitrogen and dehydrated was added to initiate polymerization. Polymerization was continued for 3 hours while controlling the reaction temperature not to exceed 90 ° C., and then 1400 mL of DMAc was added to dilute the polymerization solution, and the insoluble part was filtered. The filtrate was poured into 10 L of methanol to solidify the polymer. The precipitated polymer was collected and vacuum dried to obtain 120 g of the desired polyarylene. The number average molecular weight (Mn) of the product determined by GPC was 39,000, and the weight average molecular weight (Mw) was 153,000.

(2)スルホン化ポリアリーレンの合成
撹拌羽根、温度計および窒素導入管を取り付けた300mLの3口フラスコに、(1)で得られたポリアリーレン120g、DMAc970mLおよび臭化リチウム29.3g(338mmol)を加え、120℃で7時間撹拌した。得られた反応溶液を5Lのアセトンに注いで重合体を凝固させた。得られた固体を蒸留水/濃塩酸混合溶液(3.0L/0.37L)で2度処理した後、蒸留水でpHが中性になるまで洗浄した。70℃で12時間乾燥することにより、目的のスルホン化ポリアリーレン100gを得た。このポリマーのスルホン酸当量は2.0meq/gであった。また、重量平均分子量(Mw)は、116,000であった。
(2) Synthesis of sulfonated polyarylene 120 g of polyarylene obtained in (1), 970 mL of DMAc and 29.3 g of lithium bromide (338 mmol) were added to a 300 mL three-necked flask equipped with a stirring blade, a thermometer and a nitrogen introduction tube. And stirred at 120 ° C. for 7 hours. The obtained reaction solution was poured into 5 L of acetone to solidify the polymer. The obtained solid was treated twice with distilled water / concentrated hydrochloric acid mixed solution (3.0 L / 0.37 L) and then washed with distilled water until the pH became neutral. By drying at 70 ° C. for 12 hours, 100 g of the target sulfonated polyarylene was obtained. The sulfonic acid equivalent of this polymer was 2.0 meq / g. Moreover, the weight average molecular weight (Mw) was 116,000.

<合成例2>
(1)疎水性ユニットの合成
攪拌機、温度計、Dean-stark管、窒素導入管および冷却管を取り付けた1Lの三口フラスコに、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン20.2g(60.2mmol)、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン18.1g(51.6mmol)、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン29.6g(103mmol)および炭酸カリウム20.1g(145mmol)をはかりとった。フラスコ内を窒素置換後、スルホラン170mLおよびトルエン85mLを加えて攪拌し、オイルバスを用いて反応液を150℃で加熱還流させた。反応によって生
成する水はDean-stark管にトラップした。3時間後、水の生成がほとんど認められなくなったところで、トルエンをDean-stark管から系外に除去した。徐々に反応温度を200℃に上げ、5時間攪拌を続けた後、4,4’−ジクロロベンゾフェノン10.8g(43mmol)を加え、さらに8時間反応させた。
<Synthesis Example 2>
(1) Synthesis of hydrophobic unit 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1,1 was added to a 1 L three-necked flask equipped with a stirrer, thermometer, Dean-stark tube, nitrogen introduction tube and cooling tube. , 3,3,3-hexafluoropropane 20.2 g (60.2 mmol), 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene 18.1 g (51.6 mmol), 4,4′-dichlorodiphenylsulfone 29. 6 g (103 mmol) and 20.1 g (145 mmol) of potassium carbonate were weighed. After the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen, 170 mL of sulfolane and 85 mL of toluene were added and stirred, and the reaction solution was heated to reflux at 150 ° C. using an oil bath. Water produced by the reaction was trapped in a Dean-stark tube. After 3 hours, when almost no water was observed, toluene was removed from the Dean-stark tube out of the system. The reaction temperature was gradually raised to 200 ° C. and stirring was continued for 5 hours. Then, 10.8 g (43 mmol) of 4,4′-dichlorobenzophenone was added, and the reaction was further continued for 8 hours.

得られた反応液を放冷後、トルエン100mLを加えて希釈した。反応液に不溶の無機塩をろ過し、ろ液をメタノール2Lに注いで生成物を沈殿させた。沈殿した生成物をろ過、乾燥後、テトラヒドロフラン250mLに溶解し、これをメタノール2Lに注いで再沈殿させた。沈殿した白色粉末をろ過、乾燥することにより、目的の疎水性ユニット56.5gを得た。GPCで測定した数平均分子量(Mn)は7,800であった。得られた化合物は、下記式(i)で表されるオリゴマーであることを確認した。下記式(i)中、aとbの比(a:b)は54:46であった。   The resulting reaction solution was allowed to cool and then diluted by adding 100 mL of toluene. Inorganic salts insoluble in the reaction solution were filtered, and the filtrate was poured into 2 L of methanol to precipitate the product. The precipitated product was filtered and dried, then dissolved in 250 mL of tetrahydrofuran, and poured into 2 L of methanol for reprecipitation. The precipitated white powder was filtered and dried to obtain 56.5 g of the target hydrophobic unit. The number average molecular weight (Mn) measured by GPC was 7,800. It was confirmed that the obtained compound was an oligomer represented by the following formula (i). In the following formula (i), the ratio of a to b (a: b) was 54:46.

Figure 2007091855
Figure 2007091855

(2)スルホン化ポリアリーレンの合成
攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lのフラスコに、3−(2,5−ジクロロベンゾイル)ベンゼンスルホン酸ネオペンチル119g(296mmol)、(1)で得られた分子量(Mn)7,800の疎水性ユニット30.4g(3.9mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケルジクロリド5.89g(9.0mmol)、ヨウ化ナトリウム1.35g(9.0mmol)、トリフェニルホスフィン31.5g(120mmol)および亜鉛47.1g(720mmol)をはかりとり、乾燥窒素置換した。ここにN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)350mLを加え、反応温度を80℃に保持しながら、3時間攪拌を続けた後、DMAc700mLを加えて希釈し、不溶物をろ過した。
(2) Synthesis of sulfonated polyarylene In a 1 L flask equipped with a stirrer, a thermometer and a nitrogen introduction tube, 119 g (296 mmol) of neopentyl 3- (2,5-dichlorobenzoyl) benzenesulfonate was obtained in (1). 30.4 g (3.9 mmol) of a hydrophobic unit having a molecular weight (Mn) of 7,800, 5.89 g (9.0 mmol) of bis (triphenylphosphine) nickel dichloride, 1.35 g (9.0 mmol) of sodium iodide, 31.5 g (120 mmol) of triphenylphosphine and 47.1 g (720 mmol) of zinc were weighed and replaced with dry nitrogen. 350 mL of N, N-dimethylacetamide (DMAc) was added thereto, and stirring was continued for 3 hours while maintaining the reaction temperature at 80 ° C. Then, 700 mL of DMAc was added for dilution, and insoluble matters were filtered off.

得られた反応溶液を、攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた2Lのフラスコに入れ、115℃に加熱攪拌し、臭化リチウム56.6g(651mmol)を加えた。7時間攪拌後、アセトン5Lに注いで生成物を沈殿させた。次いで、1N塩酸、純水の順に洗浄後、乾燥して目的の重合体103gを得た。得られた重合体の重量平均分子量(Mw)は260,000であった。得られた重合体は、下記式(ii)で表されるスルホン化ポリアリーレンと推定される。このポリマーのスルホン酸当量は2.3meq/gであった。   The obtained reaction solution was put into a 2 L flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a nitrogen introduction tube, heated and stirred at 115 ° C., and 56.6 g (651 mmol) of lithium bromide was added. After stirring for 7 hours, the product was precipitated by pouring into 5 L of acetone. Next, after washing with 1N hydrochloric acid and pure water in that order, the product was dried to obtain 103 g of the desired polymer. The weight average molecular weight (Mw) of the obtained polymer was 260,000. The obtained polymer is presumed to be a sulfonated polyarylene represented by the following formula (ii). The sulfonic acid equivalent of this polymer was 2.3 meq / g.

Figure 2007091855
Figure 2007091855

<合成例3>
(1)疎水性ユニットの合成
攪拌機、温度計、Dean-stark管、窒素導入管および冷却管を取り付けた1Lの三口フラスコに、2,6−ジクロロベンゾニトリル44.5g(259mmol)、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン102.0g(291mmol)および炭酸カリウム52.3g(379mmol)をはかりとった。窒素置換後、スルホラン366mLおよびトルエン183mLを加えて攪拌し、オイルバスを用いて反応液を150℃で加熱還流させた。反応によって生成する水はDean-stark管にトラップした。3時間後、水の生成がほとんど認められなくなったところで、トルエンをDean-stark管から系外に除去した。徐々に反応温度を200℃に上げ、3時間攪拌を続けた後、2,6−ジクロロベンゾニトリル16.7g(97mmol)を加え、さらに5時間反応させた。
<Synthesis Example 3>
(1) Synthesis of hydrophobic unit To a 1 L three-necked flask equipped with a stirrer, thermometer, Dean-stark tube, nitrogen inlet tube and condenser tube, 44.5 g (259 mmol) of 2,6-dichlorobenzonitrile, 9,9 -Weighed 102.0 g (291 mmol) of bis (4-hydroxyphenyl) fluorene and 52.3 g (379 mmol) of potassium carbonate. After nitrogen substitution, 366 mL of sulfolane and 183 mL of toluene were added and stirred, and the reaction solution was heated to reflux at 150 ° C. using an oil bath. Water produced by the reaction was trapped in a Dean-stark tube. After 3 hours, when almost no water was observed, toluene was removed from the Dean-stark tube out of the system. The reaction temperature was gradually raised to 200 ° C., and stirring was continued for 3 hours. Then, 16.7 g (97 mmol) of 2,6-dichlorobenzonitrile was added, and the reaction was further continued for 5 hours.

得られた反応液を放冷後、トルエン100mLを加えて希釈した。反応液に不溶の無機塩を濾過し、濾液をメタノール2Lに注いで生成物を沈殿させた。沈殿した生成物を濾過、乾燥後、テトラヒドロフラン250mLに溶解し、これをメタノール2Lに注いで再沈殿させた。沈殿した白色粉末を濾過、乾燥し、目的の疎水性ユニット118gを得た。GPCで測定した数平均分子量(Mn)は7,300であった。得られた化合物は、下記式(iii)で表されるオリゴマーであることを確認した。   The resulting reaction solution was allowed to cool and then diluted by adding 100 mL of toluene. Inorganic salts insoluble in the reaction solution were filtered, and the filtrate was poured into 2 L of methanol to precipitate the product. The precipitated product was filtered and dried, then dissolved in 250 mL of tetrahydrofuran, and poured into 2 L of methanol for reprecipitation. The precipitated white powder was filtered and dried to obtain 118 g of the desired hydrophobic unit. The number average molecular weight (Mn) measured by GPC was 7,300. It was confirmed that the obtained compound was an oligomer represented by the following formula (iii).

Figure 2007091855
Figure 2007091855

(2)スルホン化ポリアリーレンの合成
攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに、3−(2,5−ジクロロベンゾイル)ベンゼンスルホン酸ネオペンチル207.5g(517mmol)、(1)で得られたMn7,300の疎水性ユニット57.5g(7.88mmol)、
ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケルジクロリド10.3g(15.8mmol)、ヨウ化ナトリウム2.36g(15.8mmol)、トリフェニルホスフィン55.1g(210mmol)および亜鉛82.4g(1260mmol)をはかりとり、乾燥窒素置換した。ここにN,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)720mLを加え、反応温度を80℃に保持しながら3時間攪拌を続けた後、DMAc1360mLを加えて希釈し、不溶物を濾過した。
(2) Synthesis of sulfonated polyarylene To a 1 L three-necked flask equipped with a stirrer, thermometer and nitrogen introduction tube, 207.5 g (517 mmol) of neopentyl 3- (2,5-dichlorobenzoyl) benzenesulfonate, (1) 57.5 g (7.88 mmol) of hydrophobic units of Mn 7,300 obtained in
Weigh 10.3 g (15.8 mmol) of bis (triphenylphosphine) nickel dichloride, 2.36 g (15.8 mmol) of sodium iodide, 55.1 g (210 mmol) of triphenylphosphine and 82.4 g (1260 mmol) of zinc, Replaced with dry nitrogen. 720 mL of N, N-dimethylacetamide (DMAc) was added thereto, and stirring was continued for 3 hours while maintaining the reaction temperature at 80 ° C. Then, 1360 mL of DMAc was added for dilution, and insoluble matters were filtered off.

得られた反応溶液を、攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた2Lの三口フラスコに入れ、115℃に加熱攪拌し、臭化リチウム98.8g(1140mmol)を加えた。7時間攪拌後、アセトン5Lに注いで生成物を沈殿させた。次いで、1N塩酸、純水の順で洗浄後、乾燥して目的の重合体223gを得た。得られた重合体の重量平均分子量(Mw)は142,000であった。得られた重合体は、下記式(iv)で表されるスルホン化ポリマーと推定される。このポリマーのスルホン酸当量は2.4meq/gであった。   The obtained reaction solution was put into a 2 L three-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a nitrogen introduction tube, heated and stirred at 115 ° C., and 98.8 g (1140 mmol) of lithium bromide was added. After stirring for 7 hours, the product was precipitated by pouring into 5 L of acetone. Subsequently, it was washed with 1N hydrochloric acid and pure water in this order and dried to obtain 223 g of the desired polymer. The weight average molecular weight (Mw) of the obtained polymer was 142,000. The obtained polymer is presumed to be a sulfonated polymer represented by the following formula (iv). The sulfonic acid equivalent of this polymer was 2.4 meq / g.

Figure 2007091855
Figure 2007091855

〔実施例1〕
合成例1で得られたスルホン化ポリアリーレン130gを、メタノール348gおよびNMP522gの混合溶媒に溶解させ、濃度13重量%(室温での溶液粘度は5,600mPa・s)の組成物を調製した。この組成物を、井上金属工業製INVEXラボコーターを用いて、表面処理のされていないPETフィルム(帝人デュポン(株)製「テトロンHSL−125」、厚さ123μm、幅430mm)に塗布した。なお、この基体(PETフィルム)の表面の中心線平均粗さは0.013μmであり、熱収縮率は、基体の巻出し方向で0.5%、幅方向で0.1%であった。
[Example 1]
130 g of the sulfonated polyarylene obtained in Synthesis Example 1 was dissolved in a mixed solvent of 348 g of methanol and 522 g of NMP to prepare a composition having a concentration of 13% by weight (solution viscosity at room temperature is 5,600 mPa · s). This composition was applied to an untreated PET film (“Tetron HSL-125” manufactured by Teijin DuPont, thickness 123 μm, width 430 mm) using an INVEX lab coater manufactured by Inoue Metal Industry. The center line average roughness of the surface of the substrate (PET film) was 0.013 μm, and the thermal shrinkage rate was 0.5% in the unwinding direction of the substrate and 0.1% in the width direction.

上記組成物を塗布したPETフィルムを、予備乾燥として80℃で乾燥後、さらに140℃で乾燥して塗膜(フィルム)を形成した。塗膜100重量部中の残留溶媒量を400MHz 1H−NMRを用いて測定したところ、30重量部であった。なお、残留溶媒であるNMPの割合は、約2.18ppm付近に出現するNMPのプロトンの吸収から算出した。 The PET film coated with the above composition was preliminarily dried at 80 ° C. and further dried at 140 ° C. to form a coating film (film). It was 30 weight part when the amount of residual solvents in 100 weight part of coating films was measured using 400 MHz < 1 > H-NMR. The ratio of NMP as a residual solvent was calculated from absorption of protons of NMP appearing in the vicinity of about 2.18 ppm.

次いで、塗膜が形成されたPETフィルムを、24℃の純水中に16分間浸漬することにより、湿式処理した。湿式処理後の塗膜100重量部中の残留溶媒量を、上記と同様にして測定したところ、0.35重量部であった。また、湿式処理後、基体上に形成された塗膜と該基体との剥離強度を、JIS−K6854−2に規定される180度剥離試験を準用して、引っ張り速度0.7m/minの条件下で測定したところ、0.49N/幅25mmであった。また、湿式処理後のフィルムを300mm間隔で切断し、枚様のフィルムを50枚得て、外観検査を行った。結果を表1に示す。   Next, the PET film on which the coating film was formed was wet-treated by immersing it in pure water at 24 ° C. for 16 minutes. When the amount of residual solvent in 100 parts by weight of the coating film after the wet treatment was measured in the same manner as described above, it was 0.35 parts by weight. Further, after the wet treatment, the peel strength between the coating film formed on the substrate and the substrate is applied to the 180 ° peel test specified in JIS-K6854-2, and the tensile speed is 0.7 m / min. When measured below, it was 0.49 N / width 25 mm. Moreover, the film after wet processing was cut | disconnected by 300 mm space | interval, 50 sheet-like films were obtained, and the external appearance test | inspection was performed. The results are shown in Table 1.

上記基体(PETフィルム)から剥離したフィルムの基体接触面に、電極を150℃で熱プレスして転写することにより、電極接合フィルムを得た。得られた電極接合フィルムを水中に1時間浸漬して電極の接合性を確認したところ、剥離は確認されなかった。   The electrode was heated and transferred at 150 ° C. to the substrate contact surface of the film peeled from the substrate (PET film) to obtain an electrode bonding film. When the obtained electrode bonding film was immersed in water for 1 hour to confirm the bonding property of the electrode, no peeling was confirmed.

〔実施例2〕
合成例2で得られたスルホン化ポリアリーレン130gを、メタノール348gおよびNMP522gの混合溶媒に溶解させ、濃度13重量%(室温での溶液粘度は7,000mPa・s)の組成物を調製した。この組成物を、井上金属工業製INVEXラボコーターを用いて、表面処理のされていないPETフィルム(帝人デュポン(株)製「テトロンHSL−125」、厚さ125μm)に塗布した。なお、この基体(PETフィルム)の表面の中心線平均粗さは0.013μmであり、熱収縮率は、基体の巻出し方向で0.5%、幅方向で0.1%であった。
[Example 2]
130 g of the sulfonated polyarylene obtained in Synthesis Example 2 was dissolved in a mixed solvent of 348 g of methanol and 522 g of NMP to prepare a composition having a concentration of 13% by weight (solution viscosity at room temperature is 7,000 mPa · s). This composition was applied to a PET film (“Tetron HSL-125” manufactured by Teijin DuPont Co., Ltd., thickness 125 μm) that had not been surface-treated using an INVEX lab coater manufactured by Inoue Metal Industry. The center line average roughness of the surface of the substrate (PET film) was 0.013 μm, and the thermal shrinkage rate was 0.5% in the unwinding direction of the substrate and 0.1% in the width direction.

上記組成物を塗布したPETフィルムを、予備乾燥として80℃で乾燥後、さらに140℃で乾燥して塗膜を形成した。塗膜100重量部中の残留溶媒量を実施例1と同様にして測定したところ、31重量部であった。   The PET film coated with the above composition was preliminarily dried at 80 ° C. and further dried at 140 ° C. to form a coating film. When the amount of residual solvent in 100 parts by weight of the coating film was measured in the same manner as in Example 1, it was 31 parts by weight.

次いで、塗膜が形成されたPETフィルムを、24℃の純水中に16分間浸漬することにより、湿式処理した。湿式処理後の塗膜100重量部中の残留溶媒量を実施例1と同様にして測定したところ、0.32重量部であった。また、湿式処理後、基体上に形成された塗膜と該基体との剥離強度を、実施例1と同様にして測定したところ、0.38N/幅
25mmであった。また、湿式処理後のフィルムを用いて、実施例1と同様にして外観検査を行った。結果を表1に示す。
Next, the PET film on which the coating film was formed was wet-treated by immersing it in pure water at 24 ° C. for 16 minutes. When the amount of residual solvent in 100 parts by weight of the coating film after the wet treatment was measured in the same manner as in Example 1, it was 0.32 parts by weight. Further, after the wet treatment, the peel strength between the coating film formed on the substrate and the substrate was measured in the same manner as in Example 1 and found to be 0.38 N / width 25 mm. In addition, an appearance inspection was performed in the same manner as in Example 1 using the film after the wet treatment. The results are shown in Table 1.

上記基体(PETフィルム)から剥離したフィルムの基体接触面に、電極を150℃で熱プレスして転写することにより、電極接合フィルムを得た。得られた電極接合フィルムを水中に1時間浸漬して電極の接合性を確認したところ、剥離は確認されなかった。   The electrode was heated and transferred at 150 ° C. to the substrate contact surface of the film peeled from the substrate (PET film) to obtain an electrode bonding film. When the obtained electrode bonding film was immersed in water for 1 hour to confirm the bonding property of the electrode, no peeling was confirmed.

〔実施例3〕
合成例3で得られたスルホン化ポリアリーレン130gを、メタノール348gおよびNMP522gの混合溶媒に溶解させ、濃度13重量%(室温での溶液粘度は6,200mPa・s)の組成物を調製した。この組成物を、井上金属工業製INVEXラボコーターを用いて、表面処理のされていないPETフィルム(帝人デュポン(株)製「テトロンHSL−125」、厚さ125μm)に塗布した。なお、この基体(PETフィルム)の表面の中心線平均粗さは0.013μmであり、熱収縮率は、基体の巻出し方向で0.5%、幅方向で0.1%であった。
Example 3
130 g of the sulfonated polyarylene obtained in Synthesis Example 3 was dissolved in a mixed solvent of 348 g of methanol and 522 g of NMP to prepare a composition having a concentration of 13% by weight (solution viscosity at room temperature is 6,200 mPa · s). This composition was applied to a PET film (“Tetron HSL-125” manufactured by Teijin DuPont Co., Ltd., thickness 125 μm) that had not been surface-treated using an INVEX lab coater manufactured by Inoue Metal Industry. The center line average roughness of the surface of the substrate (PET film) was 0.013 μm, and the thermal shrinkage rate was 0.5% in the unwinding direction of the substrate and 0.1% in the width direction.

上記組成物を塗布したPETフィルムを、予備乾燥として80℃で乾燥後、さらに140℃で乾燥して塗膜を形成した。塗膜100重量部中の残留溶媒量を実施例1と同様にして測定したところ、31重量部であった。   The PET film coated with the above composition was preliminarily dried at 80 ° C. and further dried at 140 ° C. to form a coating film. When the amount of residual solvent in 100 parts by weight of the coating film was measured in the same manner as in Example 1, it was 31 parts by weight.

次いで、塗膜が形成されたPETフィルムを、24℃の純水中に16分間浸漬することにより、湿式処理した。湿式処理後の塗膜100重量部中の残留溶媒量を実施例1と同様にして測定したところ、0.33重量部であった。また、湿式処理後、基体上に形成された塗膜と該基体との剥離強度を、実施例1と同様にして測定したところ、0.32N/幅
25mmであった。また、湿式処理後のフィルムを用いて、実施例1と同様にして外観検査を行った。結果を表1に示す。
Next, the PET film on which the coating film was formed was wet-treated by immersing it in pure water at 24 ° C. for 16 minutes. When the amount of residual solvent in 100 parts by weight of the coating film after the wet treatment was measured in the same manner as in Example 1, it was 0.33 parts by weight. Further, after the wet treatment, the peel strength between the coating film formed on the substrate and the substrate was measured in the same manner as in Example 1 and found to be 0.32 N / width 25 mm. In addition, an appearance inspection was performed in the same manner as in Example 1 using the film after the wet treatment. The results are shown in Table 1.

上記基体(PETフィルム)から剥離したフィルムの基体接触面に、電極を150℃で
熱プレスして転写することにより、電極接合フィルムを得た。得られた電極接合フィルムを水中に1時間浸漬して電極の接合性を確認したところ、剥離は確認されなかった。
The electrode was heated and transferred at 150 ° C. to the substrate contact surface of the film peeled from the substrate (PET film) to obtain an electrode bonding film. When the obtained electrode bonding film was immersed in water for 1 hour to confirm the bonding property of the electrode, no peeling was confirmed.

〔比較例1〕
合成例2で得られたスルホン化ポリアリーレン130gを、メタノール348gおよびNMP522gの混合溶媒に溶解させ、濃度13重量%(室温での溶液粘度は7,000mPa・s)の組成物を調製した。この組成物を、井上金属工業製INVEXラボコーターを用いて、多目的易接着の表面処理がされたPETフィルム(東レ(株)製「ルミラーU−94」、厚さ125μm)に塗布した。
[Comparative Example 1]
130 g of the sulfonated polyarylene obtained in Synthesis Example 2 was dissolved in a mixed solvent of 348 g of methanol and 522 g of NMP to prepare a composition having a concentration of 13% by weight (solution viscosity at room temperature is 7,000 mPa · s). This composition was applied to a PET film (“Lumirror U-94” manufactured by Toray Industries, Inc., 125 μm thick) that had been subjected to surface treatment for multipurpose easy adhesion using an INVEX lab coater manufactured by Inoue Metal Industry.

上記組成物を塗布したPETフィルムを、予備乾燥として80℃で乾燥後、さらに140℃で乾燥して塗膜を形成した。塗膜100重量部中の残留溶媒量を実施例1と同様にして測定したところ、42重量部であった。   The PET film coated with the above composition was preliminarily dried at 80 ° C. and further dried at 140 ° C. to form a coating film. When the amount of residual solvent in 100 parts by weight of the coating film was measured in the same manner as in Example 1, it was 42 parts by weight.

次いで、塗膜が形成されたPETフィルムを、24℃の純水中に16分間浸漬することにより、湿式処理した。湿式処理後の塗膜100重量部中の残留溶媒量を実施例1と同様にして測定したところ、0.33重量部であった。また、湿式処理後、基体上に形成された塗膜と該基体との剥離強度を、実施例1と同様にして測定したところ、3N/幅25m
mであった。また、湿式処理後のフィルムを用いて、実施例1と同様にして外観検査を行った。結果を表1に示す。
Next, the PET film on which the coating film was formed was wet-treated by immersing it in pure water at 24 ° C. for 16 minutes. When the amount of residual solvent in 100 parts by weight of the coating film after the wet treatment was measured in the same manner as in Example 1, it was 0.33 parts by weight. Further, after the wet treatment, the peel strength between the coating film formed on the substrate and the substrate was measured in the same manner as in Example 1, and 3N / width 25 m was measured.
m. In addition, an appearance inspection was performed in the same manner as in Example 1 using the film after the wet treatment. The results are shown in Table 1.

〔比較例2〕
合成例2で得られたスルホン化ポリアリーレン130gを、メタノール348gおよびNMP522gの混合溶媒に溶解させ、濃度13重量%(室温での溶液粘度は7,000mPa・s)の組成物を調製した。この組成物を、井上金属工業製INVEXラボコーターを用いて、表面処理のされていないPETフィルム(帝人デュポン(株)製「テトロンHSL−125」、厚さ125μm)に塗布した。
[Comparative Example 2]
130 g of the sulfonated polyarylene obtained in Synthesis Example 2 was dissolved in a mixed solvent of 348 g of methanol and 522 g of NMP to prepare a composition having a concentration of 13% by weight (solution viscosity at room temperature is 7,000 mPa · s). This composition was applied to a PET film (“Tetron HSL-125” manufactured by Teijin DuPont Co., Ltd., thickness 125 μm) that had not been surface-treated using an INVEX lab coater manufactured by Inoue Metal Industry.

上記組成物を塗布したPETフィルムを、予備乾燥として80℃で乾燥後、さらに140℃で乾燥して塗膜を形成した。塗膜100重量部中の残留溶媒量を実施例1と同様にして測定したところ、31重量部であった。   The PET film coated with the above composition was preliminarily dried at 80 ° C. and further dried at 140 ° C. to form a coating film. When the amount of residual solvent in 100 parts by weight of the coating film was measured in the same manner as in Example 1, it was 31 parts by weight.

次いで、塗膜が形成されたPETフィルムを、24℃の純水中に5分間浸漬することにより、湿式処理した。湿式処理後の残留溶媒量を実施例1と同様にして測定したところ、18重量部であった。また、湿式処理後、基体上に形成された塗膜と該基体との剥離強度を、実施例1と同様にして測定したところ、3.4N/幅25mmであった。また、湿式
処理後のフィルムを用いて、実施例1と同様にして外観検査を行った。結果を表1に示す。
Next, the PET film on which the coating film was formed was wet-treated by immersing it in pure water at 24 ° C. for 5 minutes. When the amount of residual solvent after the wet treatment was measured in the same manner as in Example 1, it was 18 parts by weight. Further, after the wet treatment, the peel strength between the coating film formed on the substrate and the substrate was measured in the same manner as in Example 1 and found to be 3.4 N / width 25 mm. In addition, an appearance inspection was performed in the same manner as in Example 1 using the film after the wet treatment. The results are shown in Table 1.

〔比較例3〕
合成例2で得られたスルホン化ポリアリーレン130gを、メタノール348gおよびNMP522gの混合溶媒に溶解させ、濃度13重量%(室温での溶液粘度は7,000mPa・s)の組成物を調製した。この組成物を、井上金属工業製INVEXラボコーターを用いて、表面処理のされていないPETフィルム(帝人デュポン(株)製「テトロンS−125」、厚さ125μm)に塗布した。なお、この基体の表面の中心線平均粗さは0.025μmであり、熱収縮率は、基体の巻出し方向で1.0%、幅方向で0.25%であった。
[Comparative Example 3]
130 g of the sulfonated polyarylene obtained in Synthesis Example 2 was dissolved in a mixed solvent of 348 g of methanol and 522 g of NMP to prepare a composition having a concentration of 13% by weight (solution viscosity at room temperature is 7,000 mPa · s). This composition was applied to an untreated surface-treated PET film (“Tetron S-125” manufactured by Teijin DuPont Co., Ltd., thickness 125 μm) using an INVEX lab coater manufactured by Inoue Metal Industry. The center line average roughness of the surface of this substrate was 0.025 μm, and the thermal shrinkage rate was 1.0% in the unwinding direction of the substrate and 0.25% in the width direction.

上記組成物を塗布したPETフィルムを、予備乾燥として80℃で乾燥後、さらに140℃で乾燥して塗膜を形成した。塗膜100重量部中の残留溶媒量を実施例1と同様にし
て測定したところ、31重量部であった。
The PET film coated with the above composition was preliminarily dried at 80 ° C. and further dried at 140 ° C. to form a coating film. When the amount of residual solvent in 100 parts by weight of the coating film was measured in the same manner as in Example 1, it was 31 parts by weight.

次いで、塗膜が形成されたPETフィルムを、24℃の純水中に16分間浸漬することにより、湿式処理した。湿式処理後の塗膜100重量部中の残留溶媒量を実施例1と同様にして測定したところ、0.33重量部であった。また、湿式処理後、基体上に形成された塗膜と該基体との剥離強度を、実施例1と同様にして測定したところ、0.37N/幅
25mmであった。また、湿式処理後のフィルムを用いて、実施例1と同様にして外観検査を行った。結果を表1に示す。
Next, the PET film on which the coating film was formed was wet-treated by immersing it in pure water at 24 ° C. for 16 minutes. When the amount of residual solvent in 100 parts by weight of the coating film after the wet treatment was measured in the same manner as in Example 1, it was 0.33 parts by weight. Further, after the wet treatment, the peel strength between the coating film formed on the substrate and the substrate was measured in the same manner as in Example 1 and found to be 0.37 N / width 25 mm. In addition, an appearance inspection was performed in the same manner as in Example 1 using the film after the wet treatment. The results are shown in Table 1.

上記基体(PETフィルム)から剥離したフィルムの基体接触面に、電極を150℃で熱プレスして転写することにより、電極接合フィルムを得た。得られた電極接合フィルムを水中に1時間浸漬して電極の接合性を確認したところ、電極の一部が剥離してフィルムが露出している部分が確認された。   The electrode was heated and transferred at 150 ° C. to the substrate contact surface of the film peeled from the substrate (PET film) to obtain an electrode bonding film. When the obtained electrode bonding film was immersed in water for 1 hour to confirm the bonding property of the electrode, a part where the electrode was peeled off and the film was exposed was confirmed.

Figure 2007091855
Figure 2007091855

Claims (6)

スルホン酸基を含有するポリアリーレンと有機溶媒とを含むポリアリーレン系組成物を、基体に塗布して乾燥することにより塗膜を形成する工程(1)と、該塗膜中に残留する有機溶媒の含有量を低減させる工程(2)とを含み、
前記ポリアリーレンのスルホン酸当量が0.3meq/g以上であり、
前記工程(2)で得られた塗膜100重量部中に残留する有機溶媒の含有量が0.5重量部以下であり、
前記工程(2)で得られた塗膜と基体との間の剥離強度が、180度剥離試験における引っ張り速度0.7m/minの条件下で、0.05〜2N/幅25mmの範囲内であることを特徴とするフィルム製造方法。
A step (1) of forming a coating film by applying a polyarylene-based composition containing a polyarylene containing a sulfonic acid group and an organic solvent to a substrate and drying, and an organic solvent remaining in the coating film And (2) reducing the content of
The polyarylene has a sulfonic acid equivalent of 0.3 meq / g or more,
The content of the organic solvent remaining in 100 parts by weight of the coating film obtained in the step (2) is 0.5 parts by weight or less,
The peel strength between the coating film obtained in the step (2) and the substrate is within a range of 0.05 to 2 N / width 25 mm under the condition of a tensile rate of 0.7 m / min in a 180 degree peel test. A method for producing a film, comprising:
前記ポリアリーレンが、下記一般式(A)で表される構造単位と、下記一般式(B)で表される構造単位とを含むことを特徴とする請求項1に記載のフィルム製造方法。
Figure 2007091855
[式(A)中、Yは、−CO−、−SO2−、−SO−、−CONH−、−COO−、−
(CF2i−(iは1〜10の整数を示す。)または−C(CF32−を示し、
Zは、独立に直接結合、−(CH2j−(jは1〜10の整数を示す。)、−C(CH3
2−、−O−または−S−を示し、
Arは、−SO3H、−O(CH2pSO3Hまたは−O(CF2pSO3H(pは1〜1
2の整数を示す。)で表される置換基を有する芳香族基を示し、
mは0〜10の整数を示し、nは0〜10の整数を示し、kは1〜4の整数を示す。]
Figure 2007091855
[式(B)中、AおよびDは、それぞれ独立に直接結合、−CO−、−SO2−、−SO
−、−CONH−、−COO−、−(CF2i−(iは1〜10の整数を示す。)、−(CH2j−(jは1〜10の整数を示す。)、−CR’2−(R’は脂肪族炭化水素基、
芳香族炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基を示す。)、シクロヘキシリデン基、フルオレニリデン基、−O−または−S−を示し、
Bは独立に酸素原子または硫黄原子を示し、
1〜R16は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、アルキル基、一部もしくは全部が
ハロゲン化されたハロゲン化アルキル基、アリル基、アリール基、ニトロ基またはニトリル基を示し、
sおよびtは、それぞれ0〜4の整数を示し、rは0または1以上の整数を示す。]
The film production method according to claim 1, wherein the polyarylene includes a structural unit represented by the following general formula (A) and a structural unit represented by the following general formula (B).
Figure 2007091855
[In the formula (A), Y represents —CO—, —SO 2 —, —SO—, —CONH—, —COO—, —
(CF 2) i - (i is an integer from 1 to 10.) Or -C (CF 3) 2 - indicates,
Z is independently a direct bond, — (CH 2 ) j — (j represents an integer of 1 to 10), —C (CH 3
) 2- , -O- or -S-
Ar is —SO 3 H, —O (CH 2 ) p SO 3 H or —O (CF 2 ) p SO 3 H (p is 1 to 1).
An integer of 2 is shown. An aromatic group having a substituent represented by:
m shows the integer of 0-10, n shows the integer of 0-10, k shows the integer of 1-4. ]
Figure 2007091855
[In the formula (B), A and D are each independently a direct bond, —CO—, —SO 2 —, —SO
-, - CONH -, - COO -, - (CF 2) i -, (i is an integer of 1~10.) - (CH 2) j -, (j is an integer of 1 to 10.) —CR ′ 2 — (R ′ is an aliphatic hydrocarbon group,
An aromatic hydrocarbon group or a halogenated hydrocarbon group is shown. ), Cyclohexylidene group, fluorenylidene group, -O- or -S-
B independently represents an oxygen atom or a sulfur atom;
R 1 to R 16 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group, a halogenated alkyl group partially or wholly halogenated, an allyl group, an aryl group, a nitro group, or a nitrile group;
s and t each represent an integer of 0 to 4, and r represents 0 or an integer of 1 or more. ]
前記基体がポリエチレンテレフタレートであることを特徴とする請求項1に記載のフィ
ルム製造方法。
The film production method according to claim 1, wherein the substrate is polyethylene terephthalate.
前記基体の表面の中心線平均粗さが0.02μm以下であることを特徴とする請求項1に記載のフィルム製造方法。   The film manufacturing method according to claim 1, wherein the center line average roughness of the surface of the substrate is 0.02 μm or less. 前記基体の熱収縮率が、基体の巻出し方向で0.9%以下であり、かつ、基体の幅方向で0.2%以下であることを特徴とする請求項1に記載のフィルム製造方法。   2. The film manufacturing method according to claim 1, wherein the thermal shrinkage rate of the substrate is 0.9% or less in the unwinding direction of the substrate and 0.2% or less in the width direction of the substrate. . 前記工程(2)が、工程(1)で得られた塗膜を湿式処理して乾燥することにより行われることを特徴とする請求項1に記載のフィルム製造方法。   The film manufacturing method according to claim 1, wherein the step (2) is performed by wet-treating and drying the coating film obtained in the step (1).
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