JP2007089691A - 冷却ｒｆアブレーションニードル - Google Patents

Abstract

【課題】組織アブレーションのための電気外科手術用装置、この電気外科手術用装置を備えた組織アブレーションのためのシステム、およびこの組織アブレーションのためのシステムを用いて、異常（例えば、癌腫）を含む組織をアブレーションするための方法を提供する。
【解決手段】アブレーションシステム１００であって、以下： アブレーション電極アセンブリ１１０であって、電気外科手術用エネルギーの供給源および冷却用流体の供給源に作動可能に連結可能であり、該アブレーション電極アセンブリ１１０が、以下：ハブ１３０；該ハブから延びる少なくとも１つの電気伝導性アブレーションニードル１１２；ヒートシンク；および流体の供給源から該ハブのチャンバ１３２内に流体を送達するために該ハブに流体連結された、導管、 を備える電極アセンブリ、を備える、構成とする。
【選択図】図８

Description

本開示は、ヒトの生命を延長および改善するための医療用システムおよび手順における進歩に関し、より具体的には、組織アブレーションのための新規の電気外科手術用装置、その電気外科手術用装置を備える組織アブレーションのためのシステム、およびこの組織アブレーションのためのシステムを用いた、異常（例えば、癌腫）を含む組織をアブレーションするための方法に関する。

（関連技術の考察）
生体における治療的損傷は、数十年間、高周波（ＲＦ）および他の形態のエネルギーを用いて達成されてきた。この手順は、特に、神経外科手術の分野において、有用であった。ここでは、代表的に、ＲＦアブレーション電極（通常、細長い円筒状の幾何学的形状である）が、生体に挿入される。このようなアブレーション電極の代表的な形態は、絶縁シース（そこから、露出された先端(非絶縁）が延びる）を組み込む。

一般的に、アブレーション電極は、生体の広い面に接触するために、接地されたＲＦ電力源（例えば、電気外科手術用ジェネレータ（体外））と、基準接地または不関電極（例えば、帰還電極（ｒｅｔｕｒｎ ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ））との間に接続される。ＲＦ電圧が、アブレーション電極と基準接地との間に提供される場合、ＲＦ電流は、アブレーション電極から身体を通って流れる。代表的に、この電流密度は、アブレーション電極の先端部近くで非常に高く、近隣組織を加熱および損傷する。

過去においては、ＲＦアブレーション電極は、温度センサ（例えば、Ｃｏｓｍａｎへの特許文献１に開示されるようなサーミスタもしくは熱電対の形態である）を組み込んでいた。代表的に、このセンサは、所望の損傷の達成を補助するために温度を表示するための、モニタリング装置に接続される。一般的に知られているように、所定の先端の幾何学的形状および先端の温度のため、規定されたサイズの損傷が、かなり一定して作製され得る。このこともまた、Ｃｏｓｍａｎへの特許文献１に開示される。

長年にわたって、多種多様なＲＦ電極の形状および構造が使用されてきた。例えば、複数の電流形態が、Ｍａｓｓ、Ｂｕｒｌｉｎｇｔｏｎに所在するＲａｄｉｏｎｉｃｓ，Ｉｎｃ．から入手可能である。このような電極は、体内の多種多様な標的（脳、脊柱および心臓を含む）における損傷を達成するために使用されている。

電極アブレーションシステムを使用する場合に重要な基準は、アブレーションプロセスの間に達成される先端の温度に関する。具体的には、特定のアブレーション電極の、所定の先端部の幾何学的形状の温度を１００℃より下に維持することが望ましい。１００℃もしくはそれ以上の温度では、アブレーション電極周辺の組織が沸騰し、焦げる傾向がある。結果的に、所定の電極の幾何学的形状についての損傷サイズは、一般的に、先端部近くの組織が１００℃を超えてはならないという事実によってある程度限定されると考えられてきた。

本質的に、ＲＦアブレーションの間、電極温度は先端部近くで最も高い。なぜなら、電流密度がその場所で最も高いからである。従って、温度は、組織伝導率における異常の可能性等を除いて、電極先端部からの距離の関数として、ある程度予測可能、かつさらには計算可能なパターンで降下する。付随する結果として、所定の電極の幾何学的形状についてのＲＦ損傷のサイズは、ある程度限定される。

損傷のサイズの制限に対して提唱される一解決策は、「軸外」電極（例えば、Ｍａｓｓ、ＢｕｒｌｉｎｇｔｏｎのＲａｄｉｏｎｉｃ，Ｉｎｃ．によって製造されるような、Ｚｅｒｖａｓ Ｈｙｐｏｐｈｙｓｅｃｔｏｍｙ ＥｌｅｃｔｒｏｄｅもしくはＧｉｌｄｅｎｂｅｒｇ Ｓｉｄｅ−Ｏｕｔｌｅｔ電極）を使用することであった。しかし、このようなシステムは、複数の組織穿刺を必要とし、患者の外傷を増加させる。

損傷サイズを考慮すると、１０〜１２ミリメートルまでの脳の損傷が、非常に大きなアブレーション電極を使用することによって、作製され得ることがわかっている。しかし、相対的により小さいアブレーション電極によって同様のサイズの損傷もしくはより大きなサイズの損傷を作製するために、その先端部に冷却用流体を送達する導管を有するアブレーション電極を含むアブレーションシステムが開発された。このようなシステムの詳細な考察のために、特許文献２；特許文献３；特許文献４および特許文献５が参照され得る（これらの各々の全内容は、本明細書において参考として援用される）。一般的に、冷却された伝導性先端部を有する電極は、冷却されないアブレーション先端部と比較した場合、より大きな損傷体積を生じる。
米国特許第４，４１１，２６６号 米国特許第５，９５１，５４６号 米国特許第６，５０６，１８９号 米国特許第６，５３０，９２２号 米国特許第６，５７５，９６９号

従って、組織アブレーションのための電気外科手術用装置、この電気外科手術用装置を備えた組織アブレーションのためのシステム、およびこの組織アブレーションのためのシステムを用いて、異常（例えば、癌腫）を含む組織をアブレーションするための方法に対する必要性が存在する。

（要旨）
本開示は、組織アブレーションのための新規の電気外科手術用装置、この電気外科手術用装置を備えた組織アブレーションのためのシステム、およびこの組織アブレーションのためのシステムを用いて、異常（例えば、癌腫）を含む組織をアブレーションするための方法に関する。

本開示の一局面に従って、アブレーションシステムが提供される。このアブレーションシステムは、電気外科手術用エネルギーの供給源と冷却用流体の供給源とに作動可能に連結可能な、アブレーション電極アセンブリを備える。このアブレーション電極アセンブリは、以下を備える：その中にチャンバを規定するハブ；このハブから延びる、少なくとも一つの電気伝導性アブレーションニードル（このアブレーションニードルは、組織を貫入するように構成された遠位端部を備え、この遠位端部は、組織との電気的および熱的連絡を確立するために、電気伝導性および熱伝導性である）；このアブレーションニードルと作動可能に連結されたヒートシンク（このヒートシンクは、アブレーションニードルと連結されて、少なくともその遠位端部からエネルギーを逃がし、このヒートシンクは、上記ハブのチャンバへと延びる近位端を備える）；ならびに、流体の供給源から上記ハブのチャンバに流体を送達するための、そのハブと流体連結された導管（ここで、この流体は、上記ヒートシンクの近位端からエネルギーを除去する）。

上記ヒートシンクは、異方性の伝導性材料（例えば、グラニット（ｇｒａｎｉｔｅ）繊維など）から製造され得る。

上記アブレーションシステムは、ハブのチャンバからの流体を送達するための、そのハブのチャンバに流体連結された出口導管をさらに備え得る。

アブレーションニードルは、その中に腔を規定し得る。上記ヒートシンクは、このアブレーションニードルの腔内に配置され得る。上記アブレーションニードルの腔は、その遠位端部へと延び得る。したがって、このヒートシンクの遠位端は、このアブレーションニードルの腔の遠位端表面と電気伝導性に係合し得る。

上記アブレーションシステムはさらに、上記アブレーションニードルの長さの少なくとも一部の周囲に、絶縁コーティングを備え得る。このアブレーションニードルの遠位端部は、露出され得る。

上記ヒートシンクは、上記アブレーションニードルの長さの少なくとも一部を覆うことが企図される。望ましくは、このアブレーションニードルの遠位端部は、露出される。一実施形態において、絶縁コーティングは、このアブレーションニードルを覆うヒートシンクの長さの少なくとも一部を囲み得る。

上記アブレーションシステムは、上記アブレーションニードルと電気的に連結された電源もしくは電気外科手術用エネルギーさらに備え得る。このアブレーションシステムは、ハブのチャンバと流体連結された冷却用流体の供給源を、その上さらに備え得る。このアブレーションシステムは、上記アブレーションニードルの温度を測定するため、このアブレーションニードルと電気的に連結された熱感知回路をさらに備え得る。上記アブレーションシステムは、電気外科手術用エネルギーの供給源と流体の供給源とに連結されて、それらの作動を調整するための、マイクロプロセッサをさらに備え得る。

一実施形態において、上記アブレーションニードルが中実であることが、企図される。複数のアブレーションニードルが提供され得ることが、企図される。

本開示のさらなる局面に従って、電気外科手術用エネルギーの供給源と冷却用流体の供給源とに作動可能に連結可能なアブレーション電極アセンブリが、提供される。このアブレーション電極アセンブリは、以下を備える：その中にチャンバを規定するハブ；このハブから延びる、少なくとも一つの電気伝導性アブレーションニードル（このアブレーションニードルは、組織を貫入するように構成された遠位端部を備え、この遠位端部は、組織との電気的および熱的連絡を確立するために、電気伝導性および熱伝導性である）；このアブレーションニードルと作動可能に連結されたヒートシンク（このヒートシンクは、アブレーションニードルと連結されて、少なくともその遠位端部からエネルギーを逃がし、このヒートシンクは、上記ハブのチャンバへと延びる近位端を備える）；ならびに、流体の供給源から上記ハブのチャンバに流体を送達するための、そのハブと流体連結された導管（ここで、この流体は、上記ヒートシンクの近位端からエネルギーを除去する）。

上記ヒートシンクは、異方性材料（例えば、グラニット繊維など）を含む伝導性材料から製造され得る。

上記アブレーション電極アセンブリは、上記ハブのチャンバからの流体を送達するため、このハブのチャンバに流体連結された出口導管をさらに備え得る。

上記アブレーションニードルは、その中に腔を規定し得る。上記ヒートシンクは、このアブレーションニードルの腔内に配置され得る。このアブレーションニードルの腔は、その遠位端部へと延び得る。したがって、このヒートシンクの遠位端は、このアブレーションニードルの腔の遠位端表面と電気伝導性に係合し得る。

上記アブレーション電極はさらに、上記アブレーションニードルの長さの少なくとも一部の周囲に、絶縁コーティングを備え得る。このアブレーションニードルの遠位端部は、望ましくは、露出されたままである。

一実施形態において、上記ヒートシンクが、上記アブレーションニードルの長さの少なくとも一部を覆うことが企図される。一実施形態において、望ましくは、このアブレーションニードルの遠位端部は、露出されたままである。絶縁コーティングが、このアブレーションニードルを覆う上記ヒートシンクの長さの少なくとも一部を囲み得ることが企図される。

上記アブレーション電極アセンブリは、上記アブレーションニードルの温度を測定するため、このアブレーションニードルと電気的に連結された熱感知回路をさらに備え得る。

上記アブレーションニードルは、中実であり得る。複数のアブレーションニードルが提供され得ることが、企図される。

本開示のなお別の局面に従って、患者において、組織を熱アブレーションするための方法が、提供される。この方法は、組織アブレーションのためのアブレーション電極アセンブリを提供する工程を包含する。このアブレーション電極アセンブリは、以下を備える：その中にチャンバを規定するハブ；このハブから延びる、少なくとも一つの電気伝導性アブレーションニードル（このアブレーションニードルは、組織を貫入するように構成された遠位端部を備え、この遠位端部は、組織との電気的および熱的連絡を確立するために、電気伝導性および熱伝導性である）；このアブレーションニードルと作動可能に連結されたヒートシンク（このヒートシンクは、アブレーションニードルと連結されて、少なくともその遠位端部からエネルギーを逃がし、このヒートシンクは、上記ハブのチャンバへと延びる近位端を備える）；ならびに、流体の供給源から上記ハブのチャンバに流体を送達するための、そのハブと流体連結された導管（ここで、この流体は、上記ヒートシンクの近位端からエネルギーを除去する）。

上記方法は、以下をさらに包含する：標的外科手術部位へと組織内にアブレーションニードルを挿入する工程；このアブレーションニードルの遠位端部に電気的エネルギーを供給し、この遠位端部の近位の組織アブレーションをもたらす工程；および、上記ハブのチャンバへと延びる上記ヒートシンクの近位端の周りに流体を循環させることによって、このアブレーションニードルの遠位端部を冷却する工程。

上記方法は、上記アブレーションニードル内に規定される腔の内部にヒートシンクを提供する工程を、さらに包含し得る。

上記方法は、上記アブレーションニードルの実質的な長さにわたって絶縁コーティングを提供し、この絶縁コーティングに近接する患者の体内の組織のアブレーションを防止する工程を、さらに包含し得る。

上記方法は、以下の少なくとも一つを提供する工程を、その上さらに包含し得る：上記アブレーションニードルと電気的に連結された電源もしくは電気外科手術用エネルギー；上記ハブのチャンバと流体連結された冷却用流体の供給源；上記アブレーションニードルの温度を測定するための、このアブレーションニードルと電気的に連結された熱感知回路；および、上記電気外科手術用エネルギーの供給源と流体の供給源とに連結されて、それらの作動を調整するための、マイクロプロセッサ。

上記方法は、複数のアブレーションニードルを提供する工程を、さらに包含し得る。

本開示のさらに別の局面に従って、アブレーションシステムが提供され、このアブレーションシステムは、電気外科手術用エネルギーの供給源および冷却用流体の供給源の少なくとも一つに作動可能に連結可能な、アブレーション電極アセンブリを備える。このアブレーション電極アセンブリは、以下を備える：組織を貫入するように構成された遠位端部を有する、少なくとも一つの電気伝導性アブレーションニードル（ここで、この遠位端部は、組織との電気的および熱的連絡を確立するために、電気伝導性および熱伝導性である）；ならびに、このアブレーションニードルと作動可能に連結されたヒートシンク（ここで、このヒートシンクは、アブレーションニードルと連結されて、少なくともその遠位端部からエネルギーを逃がす）。このヒートシンクは、アブレーションニードルの近位に延びる近位端を備える。

上記アブレーション電極アセンブリは、その中にチャンバを規定するハブをさらに備える。したがって、上記アブレーションニードルは、このハブから延び、そして上記ヒートシンクの近位端は、このハブのチャンバへと延びる。

上記アブレーションシステムは、上記流体の供給源から上記ハブのチャンバに流体を送達するため、このハブと流体連結された導管をさらに備え得る。ここで、この流体は、上記ヒートシンクの近位端からエネルギーを除去する。

上記目的を達成するために、本発明は、例えば、さらに以下を提供する。
（項目１） アブレーションシステムであって、以下：
アブレーション電極アセンブリであって、該アブレーション電極アセンブリが、電気外科手術用エネルギーの供給源および冷却用流体の供給源に作動可能に連結可能であり、該アブレーション電極アセンブリが、以下：
中にチャンバを規定する、ハブ；
該ハブから延びる少なくとも１つの電気伝導性アブレーションニードルであって、該アブレーションニードルが、組織に貫入するように構成された遠位端部分を備え、該遠位端部分が、該組織と電気的および熱的な連絡を確立するために、電気的および熱的に伝導性である、アブレーションニードル；
該アブレーションニードルに作動可能に連結されるヒートシンクであって、該ヒートシンクが、エネルギーを少なくとも該アブレーションニードルの遠位端から引き離すように該アブレーションニードルに連結され、該ヒートシンクが、該ハブのチャンバ内に延びる近位端を備える、ヒートシンク；および
導管であって、該導管が、該流体の供給源から該ハブのチャンバ内に流体を送達するために該ハブに流体連結されており、該流体が、該ヒートシンクの近位端からエネルギーを取り除く、導管、
を備える電極アセンブリ、
を備える、アブレーションシステム。
（項目２） 項目１に記載のアブレーションシステムであって、前記ヒートシンクが、伝導性材料から製造されている、アブレーションシステム。
（項目３） 項目２に記載のアブレーションシステムであって、前記ヒートシンクが、異方性材料から製造されている、アブレーションシステム。
（項目４） 項目３に記載のアブレーションシステムであって、前記ヒートシンクが、グラニット繊維から製造されている、アブレーションシステム。
（項目５） 項目１に記載のアブレーションシステムであって、前記ハブのチャンバから流体を送達するために、該ハブのチャンバに流体連結されている出口導管をさらに備える、アブレーションシステム。
（項目６） 項目５に記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーションニードルが、中に腔を規定している、アブレーションシステム。
（項目７） 項目６に記載のアブレーションシステムであって、前記ヒートシンクが、前記アブレーションニードルの腔内に配置されている、アブレーションシステム。
（項目８） 項目７に記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーションニードルの腔が、その遠位端部へと延び、そして前記ヒートシンクの遠位端が、該アブレーションニードルの腔の遠位端表面と伝導性係合している、アブレーションシステム。
（項目９） 項目８に記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーションニードルの長さの少なくとも一部を取り囲む絶縁コーティングをさらに備える、アブレーションシステム。
（項目１０） 項目９に記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーションニードルの遠位端部が露出されている、アブレーションシステム。
（項目１１） 項目１０に記載のアブレーションシステムであって、前記ヒートシンクが、グラファイト繊維から製造されている、アブレーションシステム。
（項目１２） 項目５に記載のアブレーションシステムであって、前記ヒートシンクが、前記アブレーションニードルの長さの少なくとも一部を覆う、アブレーションシステム。
（項目１３） 項目１２に記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーションニードルの遠位端部が、露出されている、アブレーションシステム。
（項目１４） 項目１３に記載のアブレーションシステムであって、前記ヒートシンクが、グラファイト繊維から製造されている、アブレーションシステム。
（項目１５） 項目１４に記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーションニードルを覆う前記ヒートシンクの長さの少なくとも一部を取り囲む絶縁コーティングをさらに備える、アブレーションシステム。
（項目１６） 項目１４に記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーションニードルに電気的に連結される電気外科手術用エネルギーの供給源；および前記ハブのチャンバに流体連結される冷却用流体の供給源をさらに備える、アブレーションシステム。
（項目１７） 項目１６に記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーションニードルの温度を測定するために該アブレーションニードルに電気的に連結された熱感知回路をさらに備える、アブレーションシステム。
（項目１８） 項目１７に記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーションニードルが中実である、アブレーションシステム。
（項目１９） 項目１８に記載のアブレーションシステムであって、複数のアブレーションニードルをさらに備える、アブレーションシステム。
（項目２０） 項目１９に記載のアブレーションシステムであって、前記電気外科手術用エネルギーの供給源および前記流体の供給源の作動を調整するためにこれらに連結されるマイクロプロセッサをさらに備える、アブレーションシステム。
（項目２１） 電気外科手術用エネルギーの供給源および冷却用流体の供給源に作動可能に連結可能であるアブレーション電極アセンブリであって、該アブレーション電極アセンブリは、以下：
中にチャンバを規定する、ハブ；
該ハブから延びる少なくとも１つの電気伝導性アブレーションニードルであって、該アブレーションニードルが、組織に貫入するように構成された遠位端部分を備え、該遠位端部分が、該組織と電気的および熱的な連絡を確立するために、電気的および熱的に伝導性である、アブレーションニードル；
該アブレーションニードルに作動可能に連結されるヒートシンクであって、該ヒートシンクが、エネルギーを少なくとも該アブレーションニードルの遠位端から引き離すように該アブレーションニードルに連結され、該ヒートシンクが、該ハブのチャンバ内に延びる近位端を備える、ヒートシンク；および
導管であって、該導管が、該流体の供給源から該ハブのチャンバ内に流体を送達するために該ハブに流体連結されており、該流体が、該ヒートシンクの近位端からエネルギーを取り除く、導管、
を備えるアブレーション電極アセンブリ。
（項目２２） 項目２１に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記ヒートシンクが、伝導性材料から製造されている、アブレーション電極アセンブリ。
（項目２３） 項目２２に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記ヒートシンクが、異方性材料から製造されている、アブレーション電極アセンブリ。
（項目２４） 項目２３に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記ヒートシンクが、グラニット繊維から製造されている、アブレーション電極アセンブリ。
（項目２５） 項目２１に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記ハブのチャンバから流体を送達するために、該ハブのチャンバに流体連結されている出口導管をさらに備える、アブレーション電極アセンブリ。
（項目２６） 項目２５に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記アブレーションニードルが、中に腔を規定している、アブレーション電極アセンブリ。
（項目２７） 項目２６に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記ヒートシンクが、前記アブレーションニードルの腔内に配置されている、アブレーション電極アセンブリ。
（項目２８） 項目２７に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記アブレーションニードルの腔が、その遠位端部へと延び、そして前記ヒートシンクの遠位端が、該アブレーションニードルの腔の遠位端表面と伝導性係合している、アブレーション電極アセンブリ。
（項目２９） 項目２８に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記アブレーションニードルの長さの少なくとも一部を取り囲む絶縁コーティングをさらに備える、アブレーション電極アセンブリ。
（項目３０） 項目２９に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記アブレーションニードルの遠位端部が露出されている、アブレーション電極アセンブリ。
（項目３１） 項目３０に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記ヒートシンクが、グラファイト繊維から製造されている、アブレーション電極アセンブリ。
（項目３２） 項目２５に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記ヒートシンクが、前記アブレーションニードルの長さの少なくとも一部を覆う、アブレーション電極アセンブリ。
（項目３３） 項目３２に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記アブレーションニードルの遠位端部が、露出されている、アブレーション電極アセンブリ。
（項目３４） 項目３３に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記ヒートシンクが、グラファイト繊維から製造されている、アブレーション電極アセンブリ。
（項目３５） 項目３４に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記アブレーションニードルを覆う前記ヒートシンクの長さの少なくとも一部を取り囲む絶縁コーティングをさらに備える、アブレーション電極アセンブリ。
（項目３６） 項目３５に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記アブレーションニードルの温度を測定するために該アブレーションニードルに電気的に連結された熱感知回路をさらに備える、アブレーション電極アセンブリ。
（項目３７） 項目３６に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記アブレーションニードルが中実である、アブレーション電極アセンブリ。
（項目３８） 項目３７に記載のアブレーション電極アセンブリであって、複数のアブレーションニードルをさらに備える、アブレーション電極アセンブリ。
（項目３９） 患者の組織の熱アブレーションのための方法であって、以下の工程：
組織アブレーションのためのアブレーション電極アセンブリを提供する工程であって、該アブレーション電極アセンブリが、以下：
中にチャンバを規定する、ハブ；
該ハブから延びる少なくとも１つの電気伝導性アブレーションニードルであって、該アブレーションニードルが、組織に貫入するように構成された遠位端部分を備え、該遠位端部分が、該組織と電気的および熱的な連絡を確立するために、電気的および熱的に伝導性である、アブレーションニードル；
該アブレーションニードルに作動可能に連結されるヒートシンクであって、該ヒートシンクが、エネルギーを少なくとも該アブレーションニードルの遠位端から引き離すように該アブレーションニードルに連結され、該ヒートシンクが、該ハブのチャンバ内に延びる近位端を備える、ヒートシンク；および
導管であって、該導管が、流体の供給源から該ハブのチャンバ内に流体を送達するために該ハブに流体連結されており、該流体が、該ヒートシンクの近位端からエネルギーを取り除く、導管、
を備える、工程；
該アブレーションニードルを標的外科手術部位の組織内に挿入する、工程；
電気エネルギーを該アブレーションニードルの遠位端部に供給して、該遠位端部近くで組織アブレーションを行う、工程；ならびに
該ハブのチャンバ内に延びるヒートシンクの近位端の周りで流体を循環させることによって、該アブレーションニードルの遠位端部を冷却する、工程、
を包含する、方法。
（項目４０） 項目３９に記載の方法であって、前記アブレーションニードル内に規定される腔内に前記ヒートシンクを提供する工程をさらに包含する、方法。
（項目４１） 項目４０に記載の方法であって、絶縁コーティングに隣接する患者の身体の組織のアブレーションを妨げるために、前記アブレーションニードルの実質的な長さにわたって絶縁コーティングを提供する工程をさらに包含する、方法。
（項目４２） 項目４１に記載の方法であって、前記アブレーションニードルに電気的に連結される電気外科手術用エネルギーの供給源を提供する工程をさらに包含する、方法。
（項目４３） 項目４２に記載の方法であって、前記ハブのチャンバに流体連結される冷却用流体の供給源を提供する工程をさらに包含する、方法。
（項目４４） 項目４３に記載の方法であって、前記アブレーションニードルの温度を測定するために該アブレーションニードルに電気的に連結されている熱感知回路を提供する工程をさらに包含する、方法。
（項目４５） 項目４４に記載の方法であって、複数のアブレーションニードルを提供する工程をさらに包含する、方法。
（項目４６） 項目４３に記載の方法であって、前記電気外科手術用エネルギーの供給源および前記流体の供給源の作動を調整するためにこれらに連結されるマイクロプロセッサを提供する工程をさらに包含する、方法。
（項目４７） アブレーションシステムであって、以下：
アブレーション電極アセンブリであって、該アブレーション電極アセンブリが、電気外科手術用エネルギーの供給源および冷却用流体の供給源のうちの少なくとも１つに作動可能に連結可能であり、該アブレーション電極アセンブリが、以下：
少なくとも１つの電気伝導性アブレーションニードルであって、該アブレーションニードルが、組織に貫入するように構成された遠位端部分を備え、該遠位端部分が、該組織と電気的および熱的な連絡を確立するために、電気的および熱的に伝導性である、アブレーションニードル；および
該アブレーションニードルに作動可能に連結されるヒートシンクであって、該ヒートシンクが、エネルギーを少なくとも該アブレーションニードルの遠位端部から引き離すように該アブレーションニードルに連結され、該ヒートシンクが、該アブレーションニードルの近位に延びる近位端を備える、ヒートシンク、
を備える、アブレーション電極アセンブリ、
を備える、アブレーションシステム。
（項目４８） 項目４７に記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーション電極アセンブリが、中にチャンバを規定するハブを備え、ここで、前記アブレーションニードルが、該ハブから延び、そして前記ヒートシンクの近位端が、該ハブの該チャンバ内に延びる、アブレーションシステム。
（項目４９） 項目４８に記載のアブレーションシステムであって、導管をさらに備え、該導管が、前記流体の供給源から前記ハブのチャンバ内に流体を送達するために該ハブに流体連結されており、該流体が、該ヒートシンクの近位端からエネルギーを取り除く、アブレーションシステム。
（項目３９ａ） アブレーションシステムの操作を制御するための方法であって、以下の工程：
組織アブレーションのためのアブレーション電極アセンブリを提供する工程であって、該アブレーション電極アセンブリが、以下：
中にチャンバを規定する、ハブ；
該ハブから延びる少なくとも１つの電気伝導性アブレーションニードルであって、該アブレーションニードルが、組織に貫入するように構成された遠位端部分を備え、該遠位端部分が、該組織と電気的および熱的な連絡を確立するために、電気的および熱的に伝導性である、アブレーションニードル；
該アブレーションニードルに作動可能に連結されるヒートシンクであって、該ヒートシンクが、エネルギーを少なくとも該アブレーションニードルの遠位端から引き離すように該アブレーションニードルに連結され、該ヒートシンクが、該ハブのチャンバ内に延びる近位端を備える、ヒートシンク；および
導管であって、該導管が、流体の供給源から該ハブのチャンバ内に流体を送達するために該ハブに流体連結されており、該流体が、該ヒートシンクの近位端からエネルギーを取り除く、導管、
を備える、工程；
電気エネルギーを標的外科手術部位の組織内に挿入された該アブレーションニードルの遠位端部に供給する、工程；ならびに
該ハブのチャンバ内に延びるヒートシンクの近位端の周りで流体を循環させることによって、該アブレーションニードルの遠位端部を冷却する、工程、
を包含する、方法。
（項目４０ａ） 項目３９ａに記載の方法であって、前記アブレーションニードル内に規定される腔内に前記ヒートシンクを提供する工程をさらに包含する、方法。
（項目４１ａ） 項目４０ａに記載の方法であって、絶縁コーティングに隣接する患者の身体の組織のアブレーションを妨げるために、前記アブレーションニードルの実質的な長さにわたって絶縁コーティングを提供する工程をさらに包含する、方法。
（項目４２ａ） 項目４１ａに記載の方法であって、前記アブレーションニードルに電気的に連結される電気外科手術用エネルギーの供給源を提供する工程をさらに包含する、方法。
（項目４３ａ） 項目４２ａに記載の方法であって、前記ハブのチャンバに流体連結される冷却用流体の供給源を提供する工程をさらに包含する、方法。
（項目４４ａ） 項目４３ａに記載の方法であって、前記アブレーションニードルの温度を測定するために該アブレーションニードルに電気的に連結されている熱感知回路を提供する工程をさらに包含する、方法。
（項目４５ａ） 項目４４ａに記載の方法であって、複数のアブレーションニードルを提供する工程をさらに包含する、方法。
（項目４６ａ） 項目４３ａに記載の方法であって、前記電気外科手術用エネルギーの供給源および前記流体の供給源の作動を調整するためにこれらに連結されるマイクロプロセッサを提供する工程をさらに包含する、方法。
（項目４１ｂ） 項目７に記載のアブレーションシステムであって、絶縁コーティングに隣接する患者の身体の組織のアブレーションを妨げるために、前記アブレーションニードルの実質的な長さにわたって絶縁コーティングをさらに備える、アブレーションシステム。
（項目４２ｂ） 項目４１ｂに記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーションニードルに電気的に連結される電気外科手術用エネルギーの供給源をさらに備える、アブレーションシステム。
（項目４３ｂ） 項目４２ｂに記載のアブレーションシステムであって、前記ハブのチャンバに流体連結される冷却用流体の供給源をさらに備える、アブレーションシステム。
（項目４４ｂ） 項目４３ｂに記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーションニードルの温度を測定するために該アブレーションニードルに電気的に連結されている熱感知回路をさらに備える、アブレーションシステム。
（項目４５ｂ） 項目４４ｂに記載のアブレーションシステムであって、複数のアブレーションニードルをさらに備える、アブレーションシステム。
（項目４６ｂ） 項目４３ｂに記載のアブレーションシステムであって、前記電気外科手術用エネルギーの供給源および前記流体の供給源の作動を調整するためにこれらに連結されるマイクロプロセッサをさらに備える、アブレーションシステム。

（実施形態の詳細な説明）
最初に図１および２を参照して、先行技術に従うニードル電極が示され、かつ記載され、そして一般に１０として指定される。図１に見られるように、ニードル電極１０は、遠位端１６および近位端２０を含み、そして、曝される先端部分１６、および穿刺路からの出血の最小のリスクをともなって組織を貫通するようにみなされる先端点１６’（図２を参照のこと）を有する外側チューブ１４をさらに含む。この外側チューブ１４の曝されない部分は、絶縁性材料１２によって取り囲まれる。外側チューブ１４の遠位部分は、絶縁されず、そしてそれによってＤＣまたはＡＣ、好ましくは、ＲＦ送達に曝される。内側チューブ１８は、チューブ１４内側に、外側チューブ１４と同軸に提供される。

アダプター４０は、上記先端部分または遠位端１６とは反対に、ニードル電極１０の近位端２０に提供される。このアダプター４０にはライン２２が装備され、このライン２２は、上記内側チューブ１８に接続され、そしてニードル電極１０の遠位端１６に、水のような冷却用流体を提供するためにそれと連通している。この水は、内側チューブ１８を通じで上記先端部分１６に導かれ、そして上記外側チューブ１４の内側を通じて上記先端部分から離れる。外側チューブ１４は、冷却水の排出のためのライン２４に接続され、かつ連通する。ライン２２および２４は、各々、冷却水リザーバー（図示せず）と連通している。冷却水の循環は、ポンプ（図示せず）で確立される。冷却されたニードル電極１０の外側チューブ１４は、この冷却されたニードル電極１０に電力を提供するためにライン２６を通じてＲＦ電気外科手術用ジェネレータ（図示せず）に接続される。

図２では、図１の冷却されたニードル電極１０の遠位端１６の先端部分が示される。図２に見られるように、冷却水は、内側チューブ１８を通じ、そして内側チューブ１８の先端部２８で外に流れ、そして先端部分１６中に、そして３０で示される外側チューブ１４に流れ、それによって冷却されたニードル電極１０を提供する。

現在開示されているアブレーションシステムの好ましい実施形態は、ここで、描写された図面を参照して詳細に説明され、ここで、同様の参照番号は、類似または同一の要素を識別する。本明細書で用いられるとき、用語「遠位」は、使用者からより遠い部分をいい、その一方、用語「近位」は、使用者により近い部分をいう。

図３および４をここで参照して、本開示の実施形態によるアブレーションシステムは、一般に１００として示されるアブレーションシステム１００は、電気外科手術用エネルギー供給源「Ｇ」（例えば、電気外科手術用ジェネレータ）、および冷却用流体「ＦＳ」の供給源に作動可能に接続される。マイクロプロセッサーまたはコンピューター「Ｍ」は、アブレーションシステム１００の作動パラメーターを制御およびモニターするために、エネルギー供給源「Ｇ」および流体供給源「ＦＳ」に接続され得る。

図３および４に見られるように、アブレーション電極アセンブリ１１０は、経皮的または手術中いずれかに、患者への挿入のための形態または寸法である細長いアブレーションニードル１１２を含む。アブレーションニードル１１２は、実質的に円筒形の本体、またはシャフト部分１１４を備え、これは、その中に腔またはチャンバー１１６を規定するアブレーションニードル１１２は、鋭くなった先端部１１８ａを有する遠位端部分１１８、およびハブ１３０などへの接続のための形態かつ適合された近位端部分１２０を含む。望ましくは、アブレーションニードル１１２は、例えば、ステンレス鋼、チタンなどのような電気的に伝導性の材料から製作される。

アブレーション電極アセンブリ１１０は、アブレーションニードル１１２の長さの少なくとも一部分の上に、好ましくは、アブレーションニードル１１２の長さの大部分の上に絶縁性コーティング１２２を有する。望ましくは、絶縁性コーティング１２２は、ハブ１３０からアブレーションニードル１１２の遠位端部分１１８で、アブレーションニードル１１２の遠位端部分１１８が曝されるか、または絶縁されないように延びる。絶縁性コーティング１２２は、アブレーションニードル１１２のシャフト部分１１４から周辺組織への電流の流れを選択的に防ぐ。従って、絶縁性コーティング１２２は、介在組織を、ＲＦ電流から、そのような組織が曝される遠位端部分１１８からの加熱効果によることを除いて、シャフト部分１１４の長さに沿って実質的に加熱されないように遮蔽する。

アブレーション電極アセンブリ１１０は、アブレーションニードル１１２の腔１１６を通って延びる熱ストラップまたは熱パイプ１２４の形態にある、少なくとも１つのヒートシンクをさらに含む。単一の熱ストラップ１２４が示され、そして説明されているが、本開示の範囲内に、提供される複数の熱ストラップ１２４が想定される。熱ストラップ１２４は、アブレーションニードル１１２に作動可能に固定された遠位端１２４ａ、およびハブ１３０内に形成された腔１３２中に延びる近位端１２４ｂを含む。現在の実施形態では、熱ストラップ１２４の遠位端１２４ａは、アブレーションニードル１１２の遠位端部分１１８に作動可能に接続または固定される実施形態では、熱ストラップ１２４の遠位端１２４ａは、熱伝導性接着剤などとともに、アブレーションニードル１１２の遠位端部分１１８に結合される。

熱ストラップ１２４は、例えば、グラファイト繊維のような高度に熱伝導性異方性材料から製作される。従って、使用において、以下により詳細に記載されるように、熱ストラップ１２４は、アブレーションニードル１１２の遠位端部分１１８から熱を引き離して、そしてその長さに沿って熱を散逸する。熱散逸の効率および速度を増加するために、
以下により詳細に記載されるように、冷却用流体は、熱ストラップ１２４の近位端１２４ｂ上を循環され得る。

図３に見られるように、アブレーションシステム１００は、アブレーション電極アセンブリ１１０を支持するような形態かつ適合されたハブ１３０をさらに含む。ハブ１３０は、その中のチャンバー１３２、冷却用流体「Ｆ」を流体供給源「ＦＳ」からチャンバー１３２中に送達するための入口導管１３４、およびチャンバー１３２から冷却用流体「Ｆ」を送達するための出口導管１３６を規定する。操作において、冷却用流体「Ｆ」は、入口導管１３４を通ってチャンバー１３２中に、そして出口導管１３６を通ってチャンバー１３２から外に連通される。

上記で述べたように、熱ストラップ１２４の近位端１２４ｂはハブ１３０のチャンバー１３２中に延び、冷却用流体「Ｆ」がハブ１３０のチャンバー１３２を通って循環されるとき、熱またはエネルギーが熱ストラップ１２４の近位端１２４ｂから引かれ、そして再冷却などのために流体供給源「ＦＳ」に運ばれる。

図３に見られるように、ハブ１３０は、ルアーコネクターとして知られる近位コネクターを含み得、これは、テーパー状の穴１４０などある。雌ルアーコネクター１４０中に、高周波数または熱感知電極１４２のハブが、その雄ルアー接続によって挿入かつシールされ得る。熱感知電極１４２のプローブ１４４は、その点でアブレーションニードル１１２の温度を感知し得るアブレーションニードル１１２に接続され得るか、またはそれに代わり、遠位端部分１１８の温度を感知し得るアブレーションニードル１１２の遠位端部分１１８は、連続的で、かつその外表面で患者身体内の標的組織と接触するので、熱感知プローブ１４４は、アブレーションニードル１１２との熱接触に依存して、遠位端部分１１８のすぐ外側の組織の温度の測定を得ることができる。

高周波および／または熱感知電極１４２のハブに接続され、またはその中で、身体の外側に存在し得る、高周波電気外科手術用ジェネレータ「Ｇ」および／または熱感知回路「ＴＣ」に接続する点線によって示される接続がある。

電気外科手術用ジェネレータ「Ｇ」は、アブレーションニードル１１２の遠位端部分１１８から出る高周波電流を生成する高周波電圧の供給源であり得る。上記熱感知回路「ＴＣ」は、熱電対タイプであり得、そして上記温度センサーはまた、銅コンスタンタンのようなバイメタル接合熱電対であり得る。

ここで、図５を参照して、アブレーション電極アセンブリの代替の実施形態が、一般に、１１０ａとして示されるアブレーション電極アセンブリ１１０ａは、アブレーション電極アセンブリ１１０と実質的に類似しており、そしてそれ故、構成および／または操作における差異を識別するために必要な程度までのみ詳細に論議される。図５に見られるように、熱ストラップ１２４は、アブレーションニードル１１２の腔１１６を完全に満たす。そのようにすることで、熱および／またはエネルギーの散逸が、アブレーションニードル１１２の実質的に全長に沿って生じ得る。アブレーション電極アセンブリ１１０に関して上記で述べたように、アブレーション電極アセンブリ１１０ａに関し、熱ストラップ１２４の近位端１２４ｂは、ハブ１３０のチャンバー１３２中に延び、冷却用流体「Ｆ」がハブ１３０のチャンバー１３２を通って循環されるとき、再冷却などのために、熱またはエネルギーが熱ストラップ１２４の近位端１２４ｂから引かれ、そして流体供給源「ＦＳ」まで運ばれて離される。熱ストラップ１２４の近位端１２４ｂは複数のフィンガー１２５などを含み得ることが企図され、それによって、その上を流体「Ｆ」が循環される表面積を増加し、そしてそれ故、熱および／またはエネルギー散逸の速度を増加する。

ここで、図６および７を参照して、アブレーション電極アセンブリの代替の実施形態は、それぞれ、一般に、１１０ｂおよび１１０ｃで示されるアブレーション電極アセンブリ１１０ｂ、１１０ｃは、アブレーション電極アセンブリ１１０に実質的に類似であり、そしてそれ故、構成および／または操作における差異を識別するために必要な範囲までのみ詳細に論議される。

図６に見られるように、アブレーション電極アセンブリ１１０ｂは、ヒートシンクまたは熱トスラップを、アブレーションニードル１１２の少なくとも一部分の長さの、好ましくは、アブレーションニードル１１２の大部分の長さの周り、または取り囲んで覆われるスリーブまたはコーティング２２４の形態で含む。望ましくは、熱ストラップ２２４は、アブレーションニードル１１２の遠位端部分１１８まで、かつそれを超えずに延び、それ故、アブレーションニードル１１２の遠位端部分１１８を剥き出して維持する。熱ストラップ２２４は、ハブ１３０を通り、そして腔１３２中に延びる近位端部分２２４ｂを含む。

この実施形態では、絶縁性コーティング１２２は、望ましくは、熱ストラップ２２４の実質的すべてをおおい、および／または取り囲む。あるいは、熱ストラップ２２４は、絶縁性スリーブまたはバリアとして機能し得、それ故、熱ストラップ２２４上またはその周りに配置された絶縁性コーティング１２２の必要性をなくす。

図７に見られるように、アブレーション電極アセンブリ１１０ｃは、中実（すなわち、腔１１６は提供されない）であるアブレーションニードル１１２を含み得る。現在の実施形態では、熱ストラップ２２４は、アブレーションニードル１１２を実質的に囲う。望ましくは、アブレーションニードル１１２の遠位端部分１１８は、剥き出たままである。熱ストラップ２２４は、ハブ１３０を通り、かつ腔１３２中に延びる近位端部分２２４ｂを含む。図６中の実施形態でのように、現在の実施形態の熱ストラップ２２４はまた、絶縁性コーティングなどとして機能する。

望ましくは、アブレーションニードル１１２の遠位端部分１１８は、長さが約２．０ｃｍ剥き出されるアブレーションニードル１１２は、望ましくは、約２ｍｍの横断方向直径を有する。

操作において、アブレーション電極アセンブリ１１０は、経皮的または手術中いずれかで、患者の手術部位に挿入される。望ましくは、アブレーション電極アセンブリ１１０は、アブレーションニードル１１２の遠位端部分１１８が、アブレーションされる標的組織に隣接して、またはその中に位置決めまたは配置されるまで、操作部位中に挿入される。戻りパッドまたは帰還電極（図示せず）は、公知であり得るか、または先に上記患者に作動可能に接着または接続され得る。任意の公知の技法が、手術部位において、アブレーションニードル１１２の遠位端部分１１８を視覚的に位置決めするため用いられ得、例えば、制限されないで、Ｘ線造影、ＣＴ走査、ＭＲＩ、蛍光透視、血管造影、ＰＥＴ、ＳＰＥＣＴ、ＭＥＧ、超音波造影などがある。

アブレーションニードル１１２の遠位端部分１１８を位置に置き、電気外科手術用エネルギーが、電気外科手術用ジェネレータ「Ｇ」からアブレーションニードル１１２の遠位端部分１１８に送達される。望ましくは、有効エネルギーレベルにあり、そして有効持続時間の間、有効量の電気外科的エネルギーがアブレーションニードル１１２の遠位端部分１１８に送達され、標的組織などを処置および／またはアブレーションする。例えば、電気外科手術用ジェネレータ「Ｇ」は、約１００キロヘルツ〜数百メガヘルツまでのエネルギー周波数を送達し得る。このような出力を生成し得る電気外科手術用ジェネレータ「Ｇ」の例は、Ｂｕｒｌｉｎｇｔｏｎ、ＭａｓｓのＲａｄｉｏｎｉｃｓ、Ｉｎｃ．、から入手可能な損傷ジェネレータである。

アブレーションニードル１１２の遠位端部分１１８への電気外科手術用エネルギーの送達前、またはそれと同時いずれかで、流体「Ｆ」（例えば、水、生理食塩水など）は、ハブ１３０のチャンバー１３２を循環される。望ましくは、流体「Ｆ」は、循環の前に約０℃の温度まで冷却される。循環の間に、流体「Ｆ」は、入口導管１３４を通ってハブ１３０のチャンバー１３２に入り、そして出口導管１３６を通ってハブ１３０のチャンバー１３２を出る。そうすることで、流体「Ｆ」は、熱ストラップ１２４、２２４の近位端１２４ｂまたは２２４ｂをそれぞれ、その上および／または横切って、それらに接触および／または洗浄し、そして熱および／またはエネルギーをそれから、次に、アブレーションニードル１１２から引抜く。

標的組織の処置またはアブレーションの後、アブレーション電極アセンブリ１１０は、標的部位から引き抜かれ得、そして別の標的部位中に、異なる角度またはアプローチから同じ部位中に、または実質的に同じ位置に再導入され得る。

ここで、図８および９を参照して、アブレーションシステム１００は、ハブ１３０中に支持されたクラスター「Ｃ」または複数のアブレーション電極アセンブリ１１０を含み得る。望ましくは、任意のアブレーション電極アセンブリ１１０〜１１０ｃがハブ１３０上に支持され得るか、またはそれに作動可能に接続され得る。クラスター「Ｃ」のアブレーション電極アセンブリ１１０は、各々電気外科手術用ジェネレータ「Ｇ」に接続される。従って、クラスター「Ｃ」は、より大きな電極として効率的に作用する。

アブレーション電極アセンブリ１１０は、図９に示されるように、実施的に直線状アレイで配列され得るか、または図８に示されるように、互いから均一に間隔を置かれ得ることが想定される。３つのアブレーション電極アセンブリ１１０が示され、かつ記載されているけれども、任意の数のアブレーション電極アセンブリが提供され得ることが想定される。

使用において、流体「Ｆ」がハブ１３０のチャンバー１３２を通って循環されるとき、流体「Ｆ」は、ハブ１３０のチャンバー１３２中に延びる各アブレーション電極アセンブリ１１０の熱ストラップ２２４の近位端２２４ｂの上または横切って循環するか、または洗浄する。そうすることで、熱および／またはエネルギーは、各熱ストラップ２２４から、そして、次に、各アブレーションニードル１１２から引かれる。

複数Ｎのアブレーション電極アセンブリ１１０の使用は、標的組織部位への加熱のためのＲＦ電流を送る、全体の伝導性の剥き出た先端部面積を増加する。これは、送達され得る加熱力を増加し、そしてそれ故、可能なアブレーション容量のサイズを増加する。

複数Ｎのアブレーション電極アセンブリの冷却能力はまた、数Ｎが増加するとき増加するアブレーション電極アセンブリの数を増加することは、クラスター「Ｃ」近傍の冷却表面積を増加する。従って、アブレーション電極アセンブリのクラスターからの熱シンキング効果は、単一のアブレーション電極アセンブリからの熱シンキング効果より大きい。これは、従って、拡大された損傷のサイズを可能にする。

例えば、特定の実施形態では、クラスター「Ｃ」のアブレーション電極アセンブリ１１０は、約０．５ｍｍ〜約３．０ｍｍの範囲の直径を有し得る。単一の大きな電極の挿入に対する、複数の干渉性のより小さな電極の利点は、このより小さな電極が出血の機会をより少なくすることである。

アブレーションシステムは、電気外科手術用エネルギーの供給源および冷却用流体の供給源に作動可能に連結可能なアブレーション電極アセンブリを備える。この電極アセンブリは、中にチャンバを規定するハブ；このハブから延びる少なくとも１つの電気伝導性アブレーションニードルであって、このアブレーションニードルが、組織を貫入するように構成された遠位端部分を備え、この遠位端部が、組織と電気的および熱的な連絡を確立するために、電気的および熱的に伝導性である、アブレーションニードル；このアブレーションニードルに作動可能に連結されるヒートシンクであって、このヒートシンクが、エネルギーを少なくともアブレーションニードルの遠位端部から引き離すようにアブレーションニードルに連結され、このヒートシンクが、ハブのチャンバ内に延びる近位端を備える、ヒートシンク；ならびに導管であって、この導管が、流体の供給源からハブのチャンバ内に流体を送達するためにこのハブに流体連結されており、この流体が、ヒートシンクの近位端からエネルギーを取り除く、導管、を備える。

主題のデバイス、システムおよび方法が、好ましい実施形態に関して記載されてきたが、本開示の主題の思想または範囲を逸脱することなく、それに対する変更および改変がなされ得ることは当業者に容易に明らかである。

本発明のさらなる特徴および利点は、以下の明細書および図面から容易に明らかとなる。
図１は、先行技術の冷却ニードル電極の部分断面図である。 図２は、図１の冷却ニードル電極の先端部分の切断部分断面図である。 図３は、本開示の実施形態に従うアブレーションシステムの、模式的部分断面図である。 図４は、図３のアブレーションシステムのアブレーション電極アセンブリの一実施形態の、模式的部分断面図である。 図５は、図３のアブレーションシステムのアブレーション電極アセンブリの別の実施形態の、模式的部分断面図である。 図６は、図３のアブレーションシステムのアブレーション電極アセンブリのなお別の実施形態の、模式的部分断面図である。 図７は、図３のアブレーションシステムのアブレーション電極アセンブリのさらに別の実施形態の、模式的部分断面図である。 図８は、本開示の別の実施形態に従うアブレーションシステムの、模式的透視図である。 図９は、図８のアブレーションシステムの、模式的長軸方向断面図である。

Claims (49)

1. アブレーションシステムであって、以下：
   アブレーション電極アセンブリであって、該アブレーション電極アセンブリが、電気外科手術用エネルギーの供給源および冷却用流体の供給源に作動可能に連結可能であり、該アブレーション電極アセンブリが、以下：
   中にチャンバを規定する、ハブ；
   該ハブから延びる少なくとも１つの電気伝導性アブレーションニードルであって、該アブレーションニードルが、組織に貫入するように構成された遠位端部分を備え、該遠位端部分が、該組織と電気的および熱的な連絡を確立するために、電気的および熱的に伝導性である、アブレーションニードル；
   該アブレーションニードルに作動可能に連結されるヒートシンクであって、該ヒートシンクが、エネルギーを少なくとも該アブレーションニードルの遠位端から引き離すように該アブレーションニードルに連結され、該ヒートシンクが、該ハブのチャンバ内に延びる近位端を備える、ヒートシンク；および
   導管であって、該導管が、該流体の供給源から該ハブのチャンバ内に流体を送達するために該ハブに流体連結されており、該流体が、該ヒートシンクの近位端からエネルギーを取り除く、導管、
   を備える電極アセンブリ、
   を備える、アブレーションシステム。
2. 請求項１に記載のアブレーションシステムであって、前記ヒートシンクが、伝導性材料から製造されている、アブレーションシステム。
3. 請求項２に記載のアブレーションシステムであって、前記ヒートシンクが、異方性材料から製造されている、アブレーションシステム。
4. 請求項３に記載のアブレーションシステムであって、前記ヒートシンクが、グラニット繊維から製造されている、アブレーションシステム。
5. 請求項１に記載のアブレーションシステムであって、前記ハブのチャンバから流体を送達するために、該ハブのチャンバに流体連結されている出口導管をさらに備える、アブレーションシステム。
6. 請求項５に記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーションニードルが、中に腔を規定している、アブレーションシステム。
7. 請求項６に記載のアブレーションシステムであって、前記ヒートシンクが、前記アブレーションニードルの腔内に配置されている、アブレーションシステム。
8. 請求項７に記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーションニードルの腔が、その遠位端部へと延び、そして前記ヒートシンクの遠位端が、該アブレーションニードルの腔の遠位端表面と伝導性係合している、アブレーションシステム。
9. 請求項８に記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーションニードルの長さの少なくとも一部を取り囲む絶縁コーティングをさらに備える、アブレーションシステム。
10. 請求項９に記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーションニードルの遠位端部が露出されている、アブレーションシステム。
11. 請求項１０に記載のアブレーションシステムであって、前記ヒートシンクが、グラファイト繊維から製造されている、アブレーションシステム。
12. 請求項５に記載のアブレーションシステムであって、前記ヒートシンクが、前記アブレーションニードルの長さの少なくとも一部を覆う、アブレーションシステム。
13. 請求項１２に記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーションニードルの遠位端部が、露出されている、アブレーションシステム。
14. 請求項１３に記載のアブレーションシステムであって、前記ヒートシンクが、グラファイト繊維から製造されている、アブレーションシステム。
15. 請求項１４に記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーションニードルを覆う前記ヒートシンクの長さの少なくとも一部を取り囲む絶縁コーティングをさらに備える、アブレーションシステム。
16. 請求項１４に記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーションニードルに電気的に連結される電気外科手術用エネルギーの供給源；および前記ハブのチャンバに流体連結される冷却用流体の供給源をさらに備える、アブレーションシステム。
17. 請求項１６に記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーションニードルの温度を測定するために該アブレーションニードルに電気的に連結された熱感知回路をさらに備える、アブレーションシステム。
18. 請求項１７に記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーションニードルが中実である、アブレーションシステム。
19. 請求項１８に記載のアブレーションシステムであって、複数のアブレーションニードルをさらに備える、アブレーションシステム。
20. 請求項１９に記載のアブレーションシステムであって、前記電気外科手術用エネルギーの供給源および前記流体の供給源の作動を調整するためにこれらに連結されるマイクロプロセッサをさらに備える、アブレーションシステム。
21. 電気外科手術用エネルギーの供給源および冷却用流体の供給源に作動可能に連結可能であるアブレーション電極アセンブリであって、該アブレーション電極アセンブリは、以下：
    中にチャンバを規定する、ハブ；
    該ハブから延びる少なくとも１つの電気伝導性アブレーションニードルであって、該アブレーションニードルが、組織に貫入するように構成された遠位端部分を備え、該遠位端部分が、該組織と電気的および熱的な連絡を確立するために、電気的および熱的に伝導性である、アブレーションニードル；
    該アブレーションニードルに作動可能に連結されるヒートシンクであって、該ヒートシンクが、エネルギーを少なくとも該アブレーションニードルの遠位端から引き離すように該アブレーションニードルに連結され、該ヒートシンクが、該ハブのチャンバ内に延びる近位端を備える、ヒートシンク；および
    導管であって、該導管が、該流体の供給源から該ハブのチャンバ内に流体を送達するために該ハブに流体連結されており、該流体が、該ヒートシンクの近位端からエネルギーを取り除く、導管、
    を備えるアブレーション電極アセンブリ。
22. 請求項２１に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記ヒートシンクが、伝導性材料から製造されている、アブレーション電極アセンブリ。
23. 請求項２２に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記ヒートシンクが、異方性材料から製造されている、アブレーション電極アセンブリ。
24. 請求項２３に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記ヒートシンクが、グラニット繊維から製造されている、アブレーション電極アセンブリ。
25. 請求項２１に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記ハブのチャンバから流体を送達するために、該ハブのチャンバに流体連結されている出口導管をさらに備える、アブレーション電極アセンブリ。
26. 請求項２５に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記アブレーションニードルが、中に腔を規定している、アブレーション電極アセンブリ。
27. 請求項２６に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記ヒートシンクが、前記アブレーションニードルの腔内に配置されている、アブレーション電極アセンブリ。
28. 請求項２７に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記アブレーションニードルの腔が、その遠位端部へと延び、そして前記ヒートシンクの遠位端が、該アブレーションニードルの腔の遠位端表面と伝導性係合している、アブレーション電極アセンブリ。
29. 請求項２８に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記アブレーションニードルの長さの少なくとも一部を取り囲む絶縁コーティングをさらに備える、アブレーション電極アセンブリ。
30. 請求項２９に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記アブレーションニードルの遠位端部が露出されている、アブレーション電極アセンブリ。
31. 請求項３０に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記ヒートシンクが、グラファイト繊維から製造されている、アブレーション電極アセンブリ。
32. 請求項２５に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記ヒートシンクが、前記アブレーションニードルの長さの少なくとも一部を覆う、アブレーション電極アセンブリ。
33. 請求項３２に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記アブレーションニードルの遠位端部が、露出されている、アブレーション電極アセンブリ。
34. 請求項３３に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記ヒートシンクが、グラファイト繊維から製造されている、アブレーション電極アセンブリ。
35. 請求項３４に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記アブレーションニードルを覆う前記ヒートシンクの長さの少なくとも一部を取り囲む絶縁コーティングをさらに備える、アブレーション電極アセンブリ。
36. 請求項３５に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記アブレーションニードルの温度を測定するために該アブレーションニードルに電気的に連結された熱感知回路をさらに備える、アブレーション電極アセンブリ。
37. 請求項３６に記載のアブレーション電極アセンブリであって、前記アブレーションニードルが中実である、アブレーション電極アセンブリ。
38. 請求項３７に記載のアブレーション電極アセンブリであって、複数のアブレーションニードルをさらに備える、アブレーション電極アセンブリ。
39. 患者の組織の熱アブレーションのための方法であって、以下の工程：
    組織アブレーションのためのアブレーション電極アセンブリを提供する工程であって、該アブレーション電極アセンブリが、以下：
    中にチャンバを規定する、ハブ；
    該ハブから延びる少なくとも１つの電気伝導性アブレーションニードルであって、該アブレーションニードルが、組織に貫入するように構成された遠位端部分を備え、該遠位端部分が、該組織と電気的および熱的な連絡を確立するために、電気的および熱的に伝導性である、アブレーションニードル；
    該アブレーションニードルに作動可能に連結されるヒートシンクであって、該ヒートシンクが、エネルギーを少なくとも該アブレーションニードルの遠位端から引き離すように該アブレーションニードルに連結され、該ヒートシンクが、該ハブのチャンバ内に延びる近位端を備える、ヒートシンク；および
    導管であって、該導管が、流体の供給源から該ハブのチャンバ内に流体を送達するために該ハブに流体連結されており、該流体が、該ヒートシンクの近位端からエネルギーを取り除く、導管、
    を備える、工程；
    該アブレーションニードルを標的外科手術部位の組織内に挿入する、工程；
    電気エネルギーを該アブレーションニードルの遠位端部に供給して、該遠位端部近くで組織アブレーションを行う、工程；ならびに
    該ハブのチャンバ内に延びるヒートシンクの近位端の周りで流体を循環させることによって、該アブレーションニードルの遠位端部を冷却する、工程、
    を包含する、方法。
40. 請求項３９に記載の方法であって、前記アブレーションニードル内に規定される腔内に前記ヒートシンクを提供する工程をさらに包含する、方法。
41. 請求項４０に記載の方法であって、絶縁コーティングに隣接する患者の身体の組織のアブレーションを妨げるために、前記アブレーションニードルの実質的な長さにわたって絶縁コーティングを提供する工程をさらに包含する、方法。
42. 請求項４１に記載の方法であって、前記アブレーションニードルに電気的に連結される電気外科手術用エネルギーの供給源を提供する工程をさらに包含する、方法。
43. 請求項４２に記載の方法であって、前記ハブのチャンバに流体連結される冷却用流体の供給源を提供する工程をさらに包含する、方法。
44. 請求項４３に記載の方法であって、前記アブレーションニードルの温度を測定するために該アブレーションニードルに電気的に連結されている熱感知回路を提供する工程をさらに包含する、方法。
45. 請求項４４に記載の方法であって、複数のアブレーションニードルを提供する工程をさらに包含する、方法。
46. 請求項４３に記載の方法であって、前記電気外科手術用エネルギーの供給源および前記流体の供給源の作動を調整するためにこれらに連結されるマイクロプロセッサを提供する工程をさらに包含する、方法。
47. アブレーションシステムであって、以下：
    アブレーション電極アセンブリであって、該アブレーション電極アセンブリが、電気外科手術用エネルギーの供給源および冷却用流体の供給源のうちの少なくとも１つに作動可能に連結可能であり、該アブレーション電極アセンブリが、以下：
    少なくとも１つの電気伝導性アブレーションニードルであって、該アブレーションニードルが、組織に貫入するように構成された遠位端部分を備え、該遠位端部分が、該組織と電気的および熱的な連絡を確立するために、電気的および熱的に伝導性である、アブレーションニードル；および
    該アブレーションニードルに作動可能に連結されるヒートシンクであって、該ヒートシンクが、エネルギーを少なくとも該アブレーションニードルの遠位端部から引き離すように該アブレーションニードルに連結され、該ヒートシンクが、該アブレーションニードルの近位に延びる近位端を備える、ヒートシンク、
    を備える、アブレーション電極アセンブリ、
    を備える、アブレーションシステム。
48. 請求項４７に記載のアブレーションシステムであって、前記アブレーション電極アセンブリが、中にチャンバを規定するハブを備え、ここで、前記アブレーションニードルが、該ハブから延び、そして前記ヒートシンクの近位端が、該ハブの該チャンバ内に延びる、アブレーションシステム。
49. 請求項４８に記載のアブレーションシステムであって、導管をさらに備え、該導管が、前記流体の供給源から前記ハブのチャンバ内に流体を送達するために該ハブに流体連結されており、該流体が、該ヒートシンクの近位端からエネルギーを取り除く、アブレーションシステム。

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