JP2007072933A - Ic card and its manufacturing method - Google Patents

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JP2007072933A JP2005261698A JP2005261698A JP2007072933A JP 2007072933 A JP2007072933 A JP 2007072933A JP 2005261698 A JP2005261698 A JP 2005261698A JP 2005261698 A JP2005261698 A JP 2005261698A JP 2007072933 A JP2007072933 A JP 2007072933A
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Ryoji Hattori
良司 服部
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Konica Minolta Photo Imaging Inc
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Konica Minolta Photo Imaging Inc
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the durability of an IC card and improve its surface property at a high level. <P>SOLUTION: The IC card has a component including an IC module composed of an IC chip 3a, a reinforcement structure 3b adjacent to the IC chip 3a, and an antenna 3c at a predetermined position between a first member 1 and a second member 2 opposing each other arranged via an IC card adhesive. In the IC card, a foam resin 20 is provided, having a density of 0.03-0.95 g/cm<SP>3</SP>according to a JISK-7222 measurement so that one member out of the reinforcement structure 3b and the IC chip 3a is adjacent thereto. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

この発明は、偽造、変造防止等の安全性(セキュリティ)が要求される個人情報等を記憶する非接触式の電子カード、あるいはシートに適用して好適なICカード及びICカードの製造方法に関するものである。   The present invention relates to an IC card suitable for application to a non-contact type electronic card or sheet for storing personal information that requires safety (security) such as forgery and tampering prevention, and an IC card manufacturing method. It is.

従来から、ICチップ上に補強構造物を設けることにより、ICカードの強度向上することは、特開2000−182016等で開示されている。しかし十分なカード耐久性が得られないため、多くの試みが行われている。例えば特開2004−38449では、ICチップに隣接したICチップの曲率半径の規定、補強構造物の形状、補強構造物に隣接する接着剤の物性などを規定することにより、外力を応力分散させ、ICチップを破壊より守り、また点圧等に非常に強くなり、ICカードの凹凸性が良好になり、印字性が向上することが開示されている。しかし、当該技術では、カード耐久性を満足するものではなかった。
特開2000−182016号公報 特開2004−38449号公報
Conventionally, improving the strength of an IC card by providing a reinforcing structure on an IC chip is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2000-182016. However, many attempts have been made because sufficient card durability cannot be obtained. For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-38449, the external force is stress-dispersed by defining the curvature radius of the IC chip adjacent to the IC chip, the shape of the reinforcing structure, the physical properties of the adhesive adjacent to the reinforcing structure, and the like. It is disclosed that the IC chip is protected from destruction, is very strong against point pressure, the unevenness of the IC card is improved, and the printability is improved. However, this technique does not satisfy the card durability.
JP 2000-182016 A JP 2004-38449 A

この発明では、従来の補強構造物や接着剤の物性規定よりもむしろ、補強構造物とICチップ間の接着剤の構造がICカードの強度(点圧強度、衝撃、曲げ)に有効であることを導き出した。また、その構造は、ICカードを平滑化するには最も効率よい構造であることを見出した。   In this invention, the structure of the adhesive between the reinforcing structure and the IC chip is effective for the strength (point pressure strength, impact, bending) of the IC card, rather than the conventional physical properties of the reinforcing structure and adhesive. Derived. Further, the present inventors have found that the structure is the most efficient structure for smoothing an IC card.

ICカードはセキュリティ性が高いために耐久性が偽造変造の観点からも重要になっている。特に、ICカード内部にICチップと外部との情報のやりとりをするためのアンテナなどの電気部品が内蔵されているため、その耐久性を確保するためさまざまな試みが行われている。しかしながら、さまざまな用途に使用され普及しつつある中、さらに高い耐久性が必要とされてきた。ICカードという特性上、常に携帯しズボンのポケット等での繰返し曲げ、落下、コイン等の圧力に対して強い耐久性が要求される。これに対しICチップに強固な補強構造物を設ける等の改良が提案されている。しかしながら、一定の耐久性の向上は見られるが、さまざまな状況に対して十分な耐久性が得られてなく、例えば急激な応力がかかる衝撃への耐久性、繰返しに応力がかかる繰返し曲げ耐久性、繰返し局所荷重等に対して、ICチップが割れたり、ICカードが破損し引いては電気動作が不可能になるなどの問題が発生していた。また、これらの耐久性を改善するだけでなく、個人情報等を記載するためには、昇華印画、溶融印字等で濃度変動なくカスレのないようにするよう平滑なカード表面性が必要になる。   Since the IC card has high security, durability is important from the viewpoint of counterfeiting and alteration. In particular, since electrical components such as an antenna for exchanging information between the IC chip and the outside are built in the IC card, various attempts have been made to ensure its durability. However, higher durability has been required while being used and spread in various applications. Due to the characteristics of an IC card, strong durability is required against pressure such as repeated bending, dropping, coins, etc., always carried in a pants pocket. On the other hand, improvements such as providing a strong reinforcing structure on the IC chip have been proposed. However, although a certain improvement in durability can be seen, sufficient durability has not been obtained for various situations. For example, durability against shocks that are subjected to sudden stress, repeated bending durability that is repeatedly stressed However, there have been problems such as the IC chip being cracked against repeated local loads and the like, and the IC card is damaged and pulled, making electrical operation impossible. In addition to improving the durability, in order to describe personal information and the like, a smooth card surface property is required so that there is no blurring without density fluctuation in sublimation printing, melt printing, and the like.

この発明は、かかる点に鑑みてなされたもので、耐久性を改善し、尚且つ表面性を高い次元で改善するICカード及びICカードの製造方法を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of this point, and an object of the present invention is to provide an IC card and an IC card manufacturing method that improve durability and improve surface properties at a high level.

前記課題を解決し、かつ目的を達成するために、この発明は、以下のように構成されている。   In order to solve the above problems and achieve the object, the present invention is configured as follows.

請求項1に記載の発明は、対向する第1シート部材と第2シート部材の間の所定位置に、ICチップ、ICチップに隣接した補強構造物、アンテナからなるICモジュールを含む部品がICカード接着剤を介在して配置されるICカードにおいて、前記補強構造物及び前記ICチップのいずれかひとつの部材に隣接するようにJISK−7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂を設けてあることを特徴とするICカードである。 According to a first aspect of the present invention, there is provided an IC card including an IC chip, a reinforcing structure adjacent to the IC chip, and an IC module including an antenna at a predetermined position between the first sheet member and the second sheet member facing each other. In an IC card arranged with an adhesive interposed therebetween, the bulk density measured by JISK-7222 is 0.03 to 0.95 g / cm so as to be adjacent to any one member of the reinforcing structure and the IC chip. The IC card is characterized in that a foamed resin 3 is provided.

請求項2に記載の発明は、対向する第1シート部材と第2シート部材の間の所定位置に、ICチップ、ICチップに隣接した補強構造物、アンテナからなるICモジュールを含む部品がICカード接着剤を介在して配置されるICカードにおいて、前記補強構造物と前記ICチップを接続する接続用接着剤がJISK−7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂であることを特徴とするICカードである。 According to a second aspect of the present invention, there is provided an IC card including an IC chip, an IC module comprising an IC chip, a reinforcing structure adjacent to the IC chip, and an antenna at a predetermined position between the opposing first sheet member and second sheet member. In an IC card arranged with an adhesive interposed therebetween, the connecting adhesive for connecting the reinforcing structure and the IC chip has a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222. An IC card characterized by being a foamed resin.

請求項3に記載の発明は、前記ICカード接着剤の2%弾性率が1kg/mm以上90kg/mm以下、破断点伸度が200%以上1300%以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のICカードである。 The invention according to claim 3 is characterized in that the IC card adhesive has a 2% elastic modulus of 1 kg / mm 2 to 90 kg / mm 2 and an elongation at break of 200% to 1300%. The IC card according to claim 1 or claim 2.

請求項4に記載の発明は、前記ICチップの回路面と反対側に密着層、前記補強構造物の順に具備し、
前記ICチップの回路面側が、
モジュール支持体上に形成された前記アンテナとを電気的に接続するバンプと、
2%弾性率が0.05〜80kg/mmからなる樹脂成分またはJISK−7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂のいずれか一方を満たす材料からなる密着剤であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のICカードである。
Invention of Claim 4 comprises in order of the contact | adherence layer and the said reinforcement structure on the opposite side to the circuit surface of the said IC chip,
The circuit surface side of the IC chip is
A bump for electrically connecting the antenna formed on the module support;
It is made of a material satisfying either a resin component having a 2% elastic modulus of 0.05 to 80 kg / mm 2 or a foamed resin having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222. The IC card according to any one of claims 1 to 3, wherein the IC card is an adhesive.

請求項5に記載の発明は、前記ICチップの厚みが、5μm以上120μm以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のICカードである。   The invention according to claim 5 is the IC card according to any one of claims 1 to 4, wherein the thickness of the IC chip is not less than 5 μm and not more than 120 μm.

請求項6に記載の発明は、対向する第1シート部材と第2シート部材の表面の少なくとも一方に受像層を有し、この受像層に氏名、顔画像からなる個人識別情報が設けられ、他方に筆記可能な筆記層を有することを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のICカードである。   The invention according to claim 6 has an image receiving layer on at least one of the surfaces of the first sheet member and the second sheet member facing each other, and personal identification information including a name and a face image is provided on the image receiving layer, 6. The IC card according to claim 1, further comprising a writable layer that can be written on.

請求項7に記載の発明は、前記ICカード接着剤が、反応型接着剤であることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のICカードである。   The invention according to claim 7 is the IC card according to any one of claims 1 to 6, wherein the IC card adhesive is a reactive adhesive.

請求項8に記載の発明は、対向する第1シート部材と第2シート部材の間の所定位置に、ICチップ、ICチップに隣接した補強構造物、アンテナからなるICモジュールを含む部品がICカード接着剤を介在して配置される請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載のICカードの製造方法であり、
前記補強構造物及び前記ICチップのいずれかひとつの部材に隣接するようにJISK−7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂を形成した後、発泡のためのエネルギーにより発泡させたことを特徴とするICカードの製造方法である。
According to an eighth aspect of the present invention, there is provided an IC card including an IC chip, an IC module including an IC chip, a reinforcing structure adjacent to the IC chip, and an antenna at a predetermined position between the first sheet member and the second sheet member facing each other. The IC card manufacturing method according to any one of claims 1 to 7, wherein the IC card is disposed with an adhesive interposed therebetween.
For foaming, after forming a foamed resin having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 measured by JISK-7222 so as to be adjacent to any one member of the reinforcing structure and the IC chip It is the manufacturing method of the IC card characterized by making it foam with the energy of.

請求項9に記載の発明は、対向する第1シート部材と第2シート部材の間の所定位置に、ICチップ、ICチップに隣接した補強構造物、アンテナからなるICモジュールを含む部品がICカード接着剤を介在して配置される請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載のICカードの製造方法であり、
前記補強構造物及び前記ICチップのいずれかひとつの部材に隣接するようにJISK−7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂を形成した後、発泡のためのエネルギーにより発泡させ、更に平板プレス、ロールプレスを用い成型することを特徴とするICカードの製造方法である。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided an IC card including an IC chip, an IC module including an IC chip, a reinforcing structure adjacent to the IC chip, and an antenna at a predetermined position between the first sheet member and the second sheet member facing each other. The IC card manufacturing method according to any one of claims 1 to 7, wherein the IC card is disposed with an adhesive interposed therebetween.
For foaming, after forming a foamed resin having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 measured by JISK-7222 so as to be adjacent to any one member of the reinforcing structure and the IC chip This is a method for producing an IC card, which is foamed by the energy of, and further molded using a flat plate press or roll press.

請求項10に記載の発明は、対向する第1シート部材と第2シート部材の表面の少なくとも一方に受像層を有し、この受像層に氏名、顔画像からなる個人識別情報が設けられ、他方に筆記可能な筆記層を有することを特徴とする請求項8又は請求項9に記載のICカードの製造方法である。   The invention according to claim 10 has an image receiving layer on at least one of the surfaces of the first sheet member and the second sheet member facing each other, and personal identification information including a name and a face image is provided on the image receiving layer, 10. The method for producing an IC card according to claim 8, further comprising a writable layer.

請求項11に記載の発明は、前記ICカード接着剤が、反応型接着剤であることを特徴とする請求項8乃至請求項10のいずれか1項に記載のICカードの製造方法である。   The invention according to claim 11 is the IC card manufacturing method according to any one of claims 8 to 10, wherein the IC card adhesive is a reactive adhesive.

前記構成により、この発明は、以下のような効果を有する。   With the above configuration, the present invention has the following effects.

請求項1に記載の発明では、補強構造物及びICチップのいずれかひとつの部材に隣接するようにJISK−7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂を設けてあり、特定な発泡樹脂を使用することにより、補強構造物とICチップ間のクッション性が向上すると共に応力分散し、耐久性、即ち点圧強度、曲げ、衝撃が向上する。また、ICカード上に情報記録する場合、補強構造物とICチップが存在する部分では印字性(情報記録性)が劣化することなく、補強構造物とICチップ間に発泡樹脂を設けることでよりクッション性が向上し、これにより印字性が向上する。 In the first aspect of the invention, a foamed resin having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222 so as to be adjacent to any one member of the reinforcing structure and the IC chip. By using a specific foamed resin, the cushioning property between the reinforcing structure and the IC chip is improved and the stress is dispersed, and the durability, that is, the point pressure strength, the bending, and the impact are improved. In addition, when information is recorded on an IC card, the printability (information recording property) is not deteriorated in a portion where the reinforcing structure and the IC chip exist, and a foamed resin is provided between the reinforcing structure and the IC chip. The cushioning property is improved, and thereby the printing property is improved.

請求項2に記載の発明では、補強構造物とICチップを接続する接続用接着剤がJISK−7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂であり、接続用接着剤に特定な発泡樹脂を使用することにより、補強構造物とICチップ間のクッション性が向上すると共に応力分散し、耐久性、即ち点圧強度、曲げ、衝撃が向上する。また、ICカード上に情報記録する場合、補強構造物とICチップが存在する部分では印字性(情報記録性)が劣化することなく、補強構造物とICチップ間に発泡樹脂を設けることでよりクッション性が向上し、これにより印字性が向上する。 In the invention described in claim 2, the connecting adhesive for connecting the reinforcing structure and the IC chip is a foamed resin having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 measured by JISK-7222, By using a specific foamed resin for the adhesive, the cushioning property between the reinforcing structure and the IC chip is improved and the stress is dispersed, and the durability, that is, the point pressure strength, the bending, and the impact are improved. In addition, when information is recorded on an IC card, the printability (information recording property) is not deteriorated in a portion where the reinforcing structure and the IC chip exist, and a foamed resin is provided between the reinforcing structure and the IC chip. The cushioning property is improved, and thereby the printing property is improved.

請求項3に記載の発明では、ICカード接着剤の2%弾性率、破断点伸度の規定により、ICモジュールの破損を防止することができ、かつより点圧強度、曲げ、衝撃が向上する。   In the invention described in claim 3, the IC module adhesive can be prevented from being damaged by the 2% elastic modulus and elongation at break of the IC card adhesive, and the point pressure strength, bending and impact are further improved. .

請求項4に記載の発明では、ICチップの回路面と反対側に密着層、補強構造物の順に具備し、ICチップの回路面側は、アンテナとを電気的に接続するバンプと、特定な樹脂成分またはJISK−7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂のいずれか一方を満たす材料からなる密着剤を使用することにより、補強構造物とICチップ間のクッション性が向上すると共に応力分散し、耐久性、即ち点圧強度、曲げ、衝撃が向上する。 In the invention according to claim 4, an adhesion layer and a reinforcing structure are provided in this order on the side opposite to the circuit surface of the IC chip, and the circuit surface side of the IC chip has a bump that electrically connects the antenna, and a specific structure. By using an adhesive made of a resin material or a material satisfying any one of foamed resins having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222, the reinforcing structure and the IC chip As well as improving the cushioning property, the stress is dispersed, and durability, that is, point pressure strength, bending, and impact are improved.

請求項5に記載の発明では、ICチップが厚いと曲げの応力に対してチップの回路が破壊しやすく、薄すぎると、局部応力により割れやすくなり、ICチップの厚みを規定することで、耐久性を改善することができる。   In the invention according to claim 5, if the IC chip is thick, the circuit of the chip is liable to be broken with respect to bending stress, and if it is too thin, the chip circuit is liable to be broken by local stress. Can improve sex.

請求項6に記載の発明では、対向する第1シート部材と第2シート部材の表面の少なくとも一方に受像層を有し、この受像層に氏名、顔画像からなる個人識別情報が設けられ、他方に筆記可能な筆記層を有することで、免許証類、身分証明書、パスポート、外国人登録証、図書館利用カード、キャッシュカード、クレジットカード、従業者証、社員証、会員証、医療カード及び学生証等に印字性や筆記性がよく好ましく用いることができる。   In the invention according to claim 6, the image receiving layer is provided on at least one of the surfaces of the first sheet member and the second sheet member facing each other, and personal identification information including a name and a face image is provided on the image receiving layer, By having a writing layer that can be written on, a license, identification card, passport, alien registration card, library card, cash card, credit card, employee card, employee card, membership card, medical card and student For prints and the like, the printability and the writing property are good and can be preferably used.

請求項7に記載の発明では、ICカード接着剤が、反応型接着剤であり、平滑化した後で、反応を促進させ、かつ接着剤が硬化する前に接着することで、接着強度が充分取れるので、剥がれたりすることもなく逆に無理やりはがそうとすると、破壊が起こり、偽変造防止にもなる。   In the invention according to claim 7, the IC card adhesive is a reactive adhesive, and after smoothing, the reaction is promoted and the adhesive is bonded before the adhesive is cured, so that the adhesive strength is sufficient. If you try to forcibly peel it off without peeling off, destruction will occur and it will prevent falsification.

請求項8に記載の発明では、補強構造物及びICチップのいずれかひとつの部材に隣接するようにJISK−7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂をICチップ上に形成した後、発泡のためのエネルギーにより発泡させることで、発泡樹脂を制御しながら製造することができるため生産安定性を確保することができる。 In the invention according to claim 8, a foamed resin having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222 so as to be adjacent to any one member of the reinforcing structure and the IC chip. After forming on the IC chip, foaming is performed with the energy for foaming, so that the foamed resin can be manufactured while being controlled, so that production stability can be ensured.

請求項9に記載の発明では、補強構造物及びICチップのいずれかひとつの部材に隣接するようにJISK−7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂を形成した後、発泡のためのエネルギーにより発泡させることで、発泡樹脂を制御しながら製造することができるため生産安定性を確保することができる。更に、平板プレス、ロールプレスを用い成型し、発泡後、発泡を制御し、更にかさ密度の均一化をすることができる。 In the invention according to claim 9, a foamed resin having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222 so as to be adjacent to any one member of the reinforcing structure and the IC chip. After forming, by foaming with energy for foaming, the foamed resin can be produced while being controlled, so that production stability can be ensured. Furthermore, it can shape | mold using a flat plate press and a roll press, and after foaming, foaming can be controlled and the bulk density can be made uniform.

請求項10に記載の発明では、対向する第1シート部材と第2シート部材の表面の少なくとも一方に受像層を有し、この受像層に氏名、顔画像からなる個人識別情報が設けられ、他方に筆記可能な筆記層を有することで、印字性や筆記性がよい免許証類、身分証明書、パスポート、外国人登録証、図書館利用カード、キャッシュカード、クレジットカード、従業者証、社員証、会員証、医療カード及び学生証等を製造することができる。   In the invention described in claim 10, the image receiving layer is provided on at least one of the surfaces of the first sheet member and the second sheet member facing each other, and personal identification information including a name and a face image is provided on the image receiving layer, By having a writing layer that can be written on, licenses with good printability and writing property, identification card, passport, alien registration card, library card, cash card, credit card, employee ID card, employee ID card, Can produce membership cards, medical cards, student ID cards, etc.

請求項11に記載の発明では、ICカード接着剤が、反応型接着剤であり、平滑化した後で、反応を促進させ、かつICカード接着剤が硬化する前に接着することで、接着強度が充分取れるので、剥がれたりすることもなく逆に無理やりはがそうとすると、破壊が起こり、偽変造防止にもなるICカードを製造することができる。   In the invention according to claim 11, the IC card adhesive is a reactive adhesive, and after smoothing, the reaction is promoted and bonded before the IC card adhesive is cured. Therefore, an IC card can be manufactured that prevents destruction and forgery and tampering if it is forcibly peeled off without peeling off.

以下、この発明のICカード及びICカードの製造方法の実施の形態について説明するが、この発明の実施の形態は、発明の最も好ましい形態を示すものであり、この発明はこれに限定されない。   Hereinafter, embodiments of the IC card and the IC card manufacturing method of the present invention will be described. However, the embodiment of the present invention shows the most preferable embodiment of the present invention, and the present invention is not limited to this.

まず、この発明のICカードについて説明する。図1はICカードを示し、図1(a)はICカードの層構成を示す図、図2(b)はICチップ部の平面図である。この実施の形態のICカードは、身分証明書カードやクレジットカードなどに広く適用することができ、対向する第1シート部材1と第2シート部材2の間の所定位置に、ICチップ3a、ICチップ3aに隣接した補強構造物3b、アンテナ3cからなるICモジュール3を含む部品が接着剤4a、4bを介在して配置されてなる。第1シート部材1は、表支持体1aと受像層1bからなり、第2シート部材2は、裏支持体2aと筆記層2bからなり、対向する2つの表支持体1aと裏支持体2aとの間に、ICカード接着剤4a、4bを介在してICモジュール3を含む部品が配置されている。   First, the IC card of the present invention will be described. FIG. 1 shows an IC card, FIG. 1 (a) is a diagram showing a layer structure of the IC card, and FIG. 2 (b) is a plan view of an IC chip part. The IC card of this embodiment can be widely applied to an identification card, a credit card, etc., and an IC chip 3a, an IC is provided at a predetermined position between the first sheet member 1 and the second sheet member 2 facing each other. Parts including the reinforcing structure 3b adjacent to the chip 3a and the IC module 3 including the antenna 3c are arranged with adhesives 4a and 4b interposed therebetween. The first sheet member 1 is composed of a front support 1a and an image receiving layer 1b, and the second sheet member 2 is composed of a back support 2a and a writing layer 2b, and two front support 1a and back support 2a facing each other. In between, components including the IC module 3 are arranged with the IC card adhesives 4a and 4b interposed therebetween.

ICカード接着剤4a、4bは、同じ組成であり、この接着剤の2%弾性率が、1kg/mm以上90kg/mm以下、破断点伸度が200%以上1300%以下である。2%弾性率が90kg/mm以上になると応力を吸収できず、ICモジュール3を破損し、1kg/mm以下になると、自己支持性が低下し、ICモジュール3との一体化が低下し、ICモジュール3を破損するが、規定の2%弾性率の接着剤を介して固定することでICモジュール3の破損を防止することができる。また、破断伸度200%未満であると衝撃性、点圧強度、曲げ性が劣化し問題となる。1300%より大きいとカード状に成型する際に劣化し問題となり、2%弾性率が1kg/mm以上90kg/mm以下、破断点伸度200%以上1300%以下の材料であることが好ましいが、より好ましくは、発行後のICカードの薬品耐性等から、反応型接着剤が好ましい。 The IC card adhesives 4a and 4b have the same composition, and the adhesive has a 2% elastic modulus of 1 kg / mm 2 to 90 kg / mm 2 and an elongation at break of 200% to 1300%. When the 2% elastic modulus is 90 kg / mm 2 or more, the stress cannot be absorbed, and the IC module 3 is damaged. When the 2% elastic modulus is 1 kg / mm 2 or less, the self-supporting property is lowered and the integration with the IC module 3 is lowered. Although the IC module 3 is damaged, the IC module 3 can be prevented from being damaged by fixing it with an adhesive having a prescribed 2% elastic modulus. On the other hand, when the elongation at break is less than 200%, the impact property, the point pressure strength, and the bendability are deteriorated, which causes a problem. If it is larger than 1300%, it becomes a problem when it is molded into a card shape, and a 2% elastic modulus is preferably 1 kg / mm 2 or more and 90 kg / mm 2 or less, and an elongation at break of 200% or more and 1300% or less is preferable. However, more preferably, a reactive adhesive is preferable from the viewpoint of chemical resistance of the IC card after issuance.

受像層1bには、氏名、顔画像を含む個人識別情報である認証画像8a、属性情報8bが記録される。この氏名、顔画像からなる個人識別情報は、溶融熱転写、または昇華熱転写で設けられ、濃度変動がなくカスレのない情報記録ができる。   In the image receiving layer 1b, an authentication image 8a, which is personal identification information including a name and a face image, and attribute information 8b are recorded. The personal identification information consisting of the name and face image is provided by fusion thermal transfer or sublimation thermal transfer, and can record information without fluctuations in density and without blur.

受像層1bには、個人識別情報である認証画像8a、属性情報8bを保護する保護層9が設けられ、この保護層9を設けることで、摩耗や薬品などから、また、落下、コイン等の圧力に対して耐久性が向上する。   The image receiving layer 1b is provided with a protective layer 9 that protects the authentication image 8a and the attribute information 8b that are personal identification information. By providing this protective layer 9, it is possible to prevent wear, chemicals, etc. Durability is improved against pressure.

ICチップ3a、アンテナ3cは、モジュール支持体3d上に設けられ、このモジュール支持体3dは、例えばフィルムで構成される。ICチップ3aの厚みが、5μm以上120μm以下であり、ICチップ3aが厚いと曲げの応力に対してチップの回路が破壊しやすく、薄すぎると、局部応力により割れやすい。   The IC chip 3a and the antenna 3c are provided on the module support 3d, and the module support 3d is made of, for example, a film. If the thickness of the IC chip 3a is not less than 5 μm and not more than 120 μm, and the IC chip 3a is thick, the circuit of the chip is liable to be broken with respect to bending stress, and if it is too thin, it is liable to crack due to local stress.

フィルムで構成されるモジュール支持体3d上には、アンテナ3cが形成されている。このアンテナ3cとICチップ3aの回路面側3a1とは、バンプ3eによって電気的に接続され、ICチップ3aの回路面側3a1と反対側3a2には、補強構造物3bが隣接して具備されている。ICチップ3aを囲むようにJISK−7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂20が設けられ、補強構造物3b及びICチップ3aのいずれの部材にも隣接するようになっている。このICカードの製造は、発泡樹脂20を形成した後、発泡のためのエネルギーにより発泡させ、この発泡樹脂20を発泡のためのエネルギーとして、例えば熱および光、圧力などを用いることができる。ICカードは、発泡樹脂20を発泡させ、更に平板プレス、ロールプレスを用い成型することができる。この補強構造物3bとICチップ3aを接続する接続用接着剤が、JISK−7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂20である。 An antenna 3c is formed on the module support 3d made of a film. The antenna 3c and the circuit surface side 3a1 of the IC chip 3a are electrically connected by a bump 3e, and a reinforcing structure 3b is provided adjacent to the circuit surface side 3a1 and the opposite side 3a2 of the IC chip 3a. Yes. A foamed resin 20 having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222 is provided so as to surround the IC chip 3a, and adjacent to any member of the reinforcing structure 3b and the IC chip 3a. It is supposed to be. In the manufacture of this IC card, after the foamed resin 20 is formed, the foamed resin 20 is foamed by energy for foaming, and heat, light, pressure, etc. can be used as the energy for foaming. The IC card can be molded by foaming the foamed resin 20 and further using a flat plate press or a roll press. The connecting adhesive for connecting the reinforcing structure 3b and the IC chip 3a is a foamed resin 20 having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222.

このように、特定な発泡樹脂20を使用することにより、補強構造物3bとICチップ3a間のクッション性が向上すると共に応力分散し、耐久性、即ち点圧強度、曲げ、衝撃が向上する。また、ICカード上に情報記録する場合、補強構造物3bとICチップ3aが存在する部分では印字性(情報記録性)が劣化することなく、補強構造物3bとICチップ3a間に発泡樹脂20を設けることでよりクッション性が向上し、これにより印字性が向上する。   Thus, by using the specific foamed resin 20, the cushioning property between the reinforcing structure 3b and the IC chip 3a is improved and the stress is dispersed, and the durability, that is, the point pressure strength, the bending, and the impact are improved. Further, when information is recorded on the IC card, the foamed resin 20 is provided between the reinforcing structure 3b and the IC chip 3a without deteriorating printability (information recording property) in the portion where the reinforcing structure 3b and the IC chip 3a exist. By providing, the cushioning property is further improved, and thereby the printing property is improved.

この実施の形態では、ICチップ3aより補強構造物3bを大きく形成し、この補強構造物3bと発泡樹脂20は、それぞれ上方から見て略同じ大きさに形成されているが、図1(b)に示すように、2%弾性率が0.05〜80kg/mmからなる樹脂成分21またはJISK−7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂22を用いることができ、ICチップ3aや補強構造物3bより樹脂成分21または発泡樹脂22を大きく形成することで、より補強構造物3bとICチップ3a間のクッション性が向上すると共に応力分散し、耐久性、即ち点圧強度、曲げ、衝撃が向上する。 In this embodiment, the reinforcing structure 3b is formed larger than the IC chip 3a, and the reinforcing structure 3b and the foamed resin 20 are formed in substantially the same size as viewed from above, but FIG. ), A resin component 21 having a 2% elastic modulus of 0.05 to 80 kg / mm 2 or a foamed resin 22 having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222. By forming the resin component 21 or the foamed resin 22 larger than the IC chip 3a or the reinforcing structure 3b, the cushioning property between the reinforcing structure 3b and the IC chip 3a is improved and the stress is dispersed and the durability is improved. Properties, that is, point pressure strength, bending and impact are improved.

図2はICカードの層構成を示す図である。この実施の形態のICカードは、図1の実施の形態と同様に構成されるが、ICチップ3aの回路面側3a1が、モジュール支持体3d上に形成されたアンテナ3cとを電気的に接続するバンプ3eと、2%弾性率が0.05〜80kg/mmからなる樹脂成分21またはJISK−7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂22のいずれか一方を満たす材料からなる密着剤である。樹脂成分21または発泡樹脂22は、ICチップ3aの側部周りからバンプ3eを囲むように設けれ、この樹脂成分21または発泡樹脂22を囲み、さらに回路面側3a1と反対側3a2も囲むように発泡樹脂20が設けられ、ICチップ3aの回路面3a1と反対側3a2に発泡樹脂20、補強構造物3bの順に具備している。発泡樹脂20が、密着層を構成し、発泡樹脂20がICチップ3aと補強構造物3bとを接着し、補強構造物3bとICチップ3a間のクッション性が向上すると共に応力分散し、耐久性が向上する。 FIG. 2 is a diagram showing the layer structure of the IC card. The IC card of this embodiment is configured similarly to the embodiment of FIG. 1, but the circuit surface side 3a1 of the IC chip 3a is electrically connected to the antenna 3c formed on the module support 3d. The bump 3e to be formed and the resin component 21 having a 2% elastic modulus of 0.05 to 80 kg / mm 2 or the foamed resin 22 having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222 It is an adhesive made of a material that satisfies either of them. The resin component 21 or the foamed resin 22 is provided so as to surround the bump 3e from around the side portion of the IC chip 3a, surrounds the resin component 21 or the foamed resin 22, and further surrounds the circuit surface side 3a1 and the opposite side 3a2. A foamed resin 20 is provided, and the foamed resin 20 and the reinforcing structure 3b are provided in this order on the side 3a2 opposite to the circuit surface 3a1 of the IC chip 3a. The foamed resin 20 constitutes an adhesion layer, and the foamed resin 20 adheres the IC chip 3a and the reinforcing structure 3b, thereby improving the cushioning property between the reinforcing structure 3b and the IC chip 3a and dispersing the stress for durability. Will improve.

図3はICカードを示し、図3(a)はICカードの層構成を示す図、図3(b)はICチップ部の平面図である。この実施の形態のICカードは、図1の実施の形態と同様に構成されるが、ICチップ3aの回路面側3a1が、モジュール支持体3d上に形成されたアンテナ3cとを電気的に接続するバンプ3eと、2%弾性率が0.05〜80kg/mmからなる樹脂成分21またはJISK−7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂20のいずれか一方を満たす材料からなる密着剤である。樹脂成分21または発泡樹脂22は、ICチップ3aの回路面側3a1と反対側3a2も囲み、さらにバンプ3eを囲むように設けられ、ICチップ3aの回路面3a1と反対側3a2に樹脂成分21または発泡樹脂22、第1補強構造物3b1の順に具備している。樹脂成分21または発泡樹脂22が、密着層を構成し、樹脂成分21または発泡樹脂22がICチップ3aと第1補強構造物3b1とを接着する。この樹脂成分21または発泡樹脂22と第1補強構造物3b1とを囲むように発泡樹脂20が設けられ、この発泡樹脂20の上に第2補強構造物3b2が具備されている。この実施の形態では、第1補強構造物3b1と第2補強構造物3b2間の発泡樹脂20によりクッション性が向上すると共に応力分散し、耐久性が向上する。第1補強構造物3b1と第2補強構造物3b2は、図3(a)に示すように、第1補強構造物3b1より第2補強構造物3b2を大きく形成してもよいし、図3(b)に示すように、第1補強構造物3b1と第2補強構造物3b2を同じ大きさで円形に形成してもよい。 FIG. 3 shows an IC card, FIG. 3 (a) is a diagram showing a layer structure of the IC card, and FIG. 3 (b) is a plan view of the IC chip portion. The IC card of this embodiment is configured similarly to the embodiment of FIG. 1, but the circuit surface side 3a1 of the IC chip 3a is electrically connected to the antenna 3c formed on the module support 3d. The bump 3e to be formed and the resin component 21 having a 2% elastic modulus of 0.05 to 80 kg / mm 2 or the foamed resin 20 having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222 It is an adhesive made of a material that satisfies either of them. The resin component 21 or the foamed resin 22 is provided so as to surround the circuit surface side 3a1 and the opposite side 3a2 of the IC chip 3a and further surround the bump 3e, and the resin component 21 or the foamed resin 22 is provided on the side 3a2 opposite to the circuit surface 3a1 of the IC chip 3a. The foamed resin 22 and the first reinforcing structure 3b1 are provided in this order. The resin component 21 or the foamed resin 22 constitutes an adhesive layer, and the resin component 21 or the foamed resin 22 bonds the IC chip 3a and the first reinforcing structure 3b1. A foamed resin 20 is provided so as to surround the resin component 21 or the foamed resin 22 and the first reinforcing structure 3b1, and a second reinforcing structure 3b2 is provided on the foamed resin 20. In this embodiment, the foamed resin 20 between the first reinforcing structure 3b1 and the second reinforcing structure 3b2 improves cushioning properties and disperses stress, thereby improving durability. As shown in FIG. 3A, the first reinforcing structure 3b1 and the second reinforcing structure 3b2 may be formed so that the second reinforcing structure 3b2 is larger than the first reinforcing structure 3b1. As shown in b), the first reinforcing structure 3b1 and the second reinforcing structure 3b2 may be formed in a circular shape with the same size.

図4はICカードの層構成を示す図である。この実施の形態のICカードは、図2の実施の形態と同様に構成されるが、ICチップ3aの回路面3a1と反対側3a2に発泡樹脂20、補強構造物3bの順に具備し、さらにJISK−7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂23が補強構造物3bより大きく接触するようにして配置されている。この実施の形態では、発泡樹脂23を補強構造物3bより大きく接触するようにして配置することで、発泡樹脂23により補強構造物3bのクッション性が向上すると共に応力分散し、耐久性が向上する。 FIG. 4 is a diagram showing the layer structure of the IC card. The IC card of this embodiment is configured in the same manner as the embodiment of FIG. 2, except that the foamed resin 20 and the reinforcing structure 3b are provided in this order on the side 3a2 opposite to the circuit surface 3a1 of the IC chip 3a. The foamed resin 23 having a bulk density measured by −7222 of 0.03 to 0.95 g / cm 3 is arranged so as to be in contact with the reinforcing structure 3b more greatly. In this embodiment, by disposing the foamed resin 23 so as to be in contact with the reinforcing structure 3b more greatly, the foamed resin 23 improves the cushioning property of the reinforcing structure 3b and also disperses the stress, thereby improving the durability. .

図5はICカードの層構成を示す図である。この実施の形態のICカードは、図1の実施の形態と同様に構成されるが、樹脂成分21または発泡樹脂20は、ICチップ3aからバンプ3eを囲むように設けられ、ICチップ3aの回路面3a1と反対側3a2に樹脂成分21または発泡樹脂20、補強構造物3bの順に具備している。樹脂成分21または発泡樹脂20が、密着層を構成し、樹脂成分21または発泡樹脂20がICチップ3aと補強構造物3bとを接着し、補強構造物3bとICチップ3a間のクッション性が向上すると共に応力分散し、耐久性、即ち点圧強度、曲げ、衝撃が向上する。この実施の形態では、発泡樹脂20を補強構造物3bより大きくし、しかも接触しないように配置することで、発泡樹脂20により補強構造物3bのクッション性が向上すると共に応力分散し、耐久性が向上する。   FIG. 5 is a diagram showing the layer structure of the IC card. The IC card of this embodiment is configured similarly to the embodiment of FIG. 1, but the resin component 21 or the foamed resin 20 is provided so as to surround the bump 3e from the IC chip 3a, and the circuit of the IC chip 3a. The resin component 21 or the foamed resin 20 and the reinforcing structure 3b are provided in this order on the side 3a2 opposite to the surface 3a1. The resin component 21 or the foamed resin 20 constitutes an adhesion layer, and the resin component 21 or the foamed resin 20 bonds the IC chip 3a and the reinforcing structure 3b, thereby improving the cushioning property between the reinforcing structure 3b and the IC chip 3a. In addition, the stress is dispersed and durability, that is, point pressure strength, bending and impact are improved. In this embodiment, the foamed resin 20 is made larger than the reinforcing structure 3b and arranged so as not to come into contact with the foamed resin 20, so that the cushioning property of the reinforcing structure 3b is improved by the foamed resin 20, and the stress is dispersed and the durability is improved. improves.

図6はICカードの層構成を示す図である。この実施の形態のICカードは、図5の実施の形態と同様に構成されるが、この実施の形態では、発泡樹脂20が樹脂成分21または発泡樹脂22、補強構造物3bを囲み、さらにICカード接着剤4bの厚さ分に相当する厚さに形成されており、発泡樹脂20によってよりクッション性が向上すると共に応力分散し、耐久性が向上する。   FIG. 6 is a diagram showing the layer structure of the IC card. The IC card of this embodiment is configured similarly to the embodiment of FIG. 5, but in this embodiment, the foamed resin 20 surrounds the resin component 21 or the foamed resin 22 and the reinforcing structure 3b, and further the IC card. It is formed to a thickness corresponding to the thickness of the card adhesive 4b, and the cushioning property is further improved by the foamed resin 20, and stress is dispersed to improve durability.

図7はICカードの層構成を示す図である。この実施の形態のICカードは、図5の実施の形態と同様に構成されるが、この実施の形態では、発泡樹脂20が補強構造物3bに接触するように形成され、さらに発泡樹脂20と同様な発泡樹脂24をICチップ3aと反対側のモジュール支持体3dに設けており、発泡樹脂20と発泡樹脂24とによってよりクッション性が向上すると共に応力分散し、耐久性が向上する。   FIG. 7 is a diagram showing the layer structure of the IC card. The IC card of this embodiment is configured in the same manner as the embodiment of FIG. 5, but in this embodiment, the foamed resin 20 is formed so as to contact the reinforcing structure 3b. A similar foamed resin 24 is provided on the module support 3d opposite to the IC chip 3a, and the foamed resin 20 and the foamed resin 24 improve cushioning and stress dispersion, thereby improving durability.

図8はICカードの層構成を示す図である。この実施の形態のICカードは、図1の実施の形態と同様に構成されるが、この実施の形態では、樹脂成分21または発泡樹脂22が、ICチップ3aの側部周りからバンプ3eを囲むように設けれ、ICカード接着剤4bとして発泡樹脂20を用い、発泡樹脂20によってよりクッション性が向上すると共に応力分散し、耐久性が向上する。   FIG. 8 is a diagram showing the layer structure of the IC card. The IC card of this embodiment is configured in the same manner as the embodiment of FIG. 1, but in this embodiment, the resin component 21 or the foamed resin 22 surrounds the bump 3e from around the side of the IC chip 3a. The foamed resin 20 is used as the IC card adhesive 4b, and the foamed resin 20 improves the cushioning property and disperses the stress, thereby improving the durability.

図9はICカードの層構成を示す図である。この実施の形態のICカードは、図1の実施の形態と同様に構成されるが、この実施の形態では、モジュール支持体3dを不織布で構成し、モジュール支持体3d上に補強構造物3b、発泡樹脂20、ICチップ3aの順に具備し、ICチップ3aの回路面3a1と反対側3a2を発泡樹脂20に接着し、発泡樹脂20によってクッション性が向上すると共に応力分散し、耐久性が向上する。   FIG. 9 is a diagram showing a layer structure of the IC card. The IC card of this embodiment is configured in the same manner as the embodiment of FIG. 1, but in this embodiment, the module support 3d is formed of a non-woven fabric, and the reinforcing structure 3b on the module support 3d, The foamed resin 20 and the IC chip 3a are provided in this order, and the circuit surface 3a1 and the opposite side 3a2 of the IC chip 3a are adhered to the foamed resin 20. The foamed resin 20 improves the cushioning property and disperses the stress, thereby improving the durability. .

図10はICカードの層構成を示す図である。この実施の形態のICカードは、図9の実施の形態と同様に構成されるが、この実施の形態では、樹脂成分21または発泡樹脂22が、ICチップ3aの側部周りからバンプ3eを囲むように設けれ、樹脂成分21または発泡樹脂21と、発泡樹脂20とによってクッション性が向上すると共に応力分散し、耐久性が向上する。   FIG. 10 is a diagram showing the layer structure of the IC card. The IC card of this embodiment is configured in the same manner as the embodiment of FIG. 9, but in this embodiment, the resin component 21 or the foamed resin 22 surrounds the bump 3e from around the side of the IC chip 3a. The cushioning property is improved by the resin component 21 or the foamed resin 21 and the foamed resin 20, and the stress is dispersed and the durability is improved.

図11はICカードを示し、図11(a)はICカードの層構成を示す図、図11(b)はICチップ部の平面図である。この実施の形態のICカードは、図10の実施の形態と同様に構成されるが、第1補強構造物3b1と第2補強構造物3b2とを有し、第1補強構造物3b1より第2補強構造物3b2が大きく形成されている。この第1補強構造物3b1と第2補強構造物3b2を囲むように発泡樹脂20が設けられ、この発泡樹脂20によってクッション性が向上すると共に応力分散し、耐久性が向上する。この実施の形態では、第1補強構造物3b1より第2補強構造物3b2が大きく形成されているが、図11(b)に示すように、第1補強構造物3b1と第2補強構造物3b2とを円形で同じ大きさに形成してもよい。   FIG. 11 shows an IC card, FIG. 11 (a) is a diagram showing a layer structure of the IC card, and FIG. 11 (b) is a plan view of the IC chip portion. The IC card of this embodiment is configured in the same manner as the embodiment of FIG. 10, but has a first reinforcing structure 3b1 and a second reinforcing structure 3b2, and is second from the first reinforcing structure 3b1. The reinforcing structure 3b2 is formed large. A foamed resin 20 is provided so as to surround the first reinforcing structure 3b1 and the second reinforcing structure 3b2, and the foamed resin 20 improves cushioning properties, disperses stress, and improves durability. In this embodiment, the second reinforcement structure 3b2 is formed larger than the first reinforcement structure 3b1, but as shown in FIG. 11B, the first reinforcement structure 3b1 and the second reinforcement structure 3b2 are formed. And may be formed in the same size in a circle.

図12はICカードの層構成を示す図である。この実施の形態のICカードは、図9の実施の形態と同様に構成されるが、この実施の形態では、発泡樹脂20が、ICチップ3aの側部周りからバンプ3eを囲むように設けれ、発泡樹脂20とによってクッション性が向上すると共に応力分散し、耐久性が向上する。   FIG. 12 is a diagram showing a layer structure of the IC card. The IC card of this embodiment is configured in the same manner as the embodiment of FIG. 9, but in this embodiment, the foamed resin 20 is provided so as to surround the bump 3e from around the side of the IC chip 3a. The foamed resin 20 improves the cushioning properties and disperses the stress, thereby improving the durability.

図13はICカードの層構成を示す図である。この実施の形態のICカードは、図12の実施の形態と同様に構成されるが、この実施の形態では、モジュール支持体3dと表支持体1aとの間に発泡樹脂20と同じ構成の発泡樹脂24を設け、この発泡樹脂20と発泡樹脂24とによってクッション性が向上すると共に応力分散し、耐久性が向上する。   FIG. 13 is a diagram showing a layer structure of the IC card. The IC card of this embodiment is configured in the same manner as in the embodiment of FIG. 12, but in this embodiment, foaming having the same configuration as the foamed resin 20 is provided between the module support 3d and the front support 1a. The resin 24 is provided, and the foamed resin 20 and the foamed resin 24 improve the cushioning property and disperse the stress, thereby improving the durability.

図14はICカードの層構成を示す図である。この実施の形態のICカードは、図13の実施の形態と同様に構成されるが、この実施の形態では、発泡樹脂20が、ICチップ3aの回路面3a1から側部周りを囲み、ICチップ3aの回路面3a1と反対側3a2とバンプ3eは囲まないように設けられている。モジュール支持体3dと表支持体1aとの間に発泡樹脂20と同じ構成の発泡樹脂24は、ICカード接着剤4aと略同じ厚さに形成されている。また、ICチップ3aの回路面3a1と反対側3a2には、発泡樹脂20と同じ構成の発泡樹脂25が反対側3a2と接触しないように設けられている。この実施の形態では、発泡樹脂20、発泡樹脂24、発泡樹脂25によってクッション性が向上すると共に応力分散し、耐久性が向上する。   FIG. 14 is a diagram showing the layer structure of the IC card. The IC card of this embodiment is configured in the same manner as the embodiment of FIG. 13, but in this embodiment, the foamed resin 20 surrounds the side from the circuit surface 3a1 of the IC chip 3a, and the IC chip. The side 3a2 opposite to the circuit surface 3a1 of 3a and the bump 3e are provided so as not to be surrounded. A foamed resin 24 having the same configuration as the foamed resin 20 is formed between the module support 3d and the front support 1a in substantially the same thickness as the IC card adhesive 4a. Further, a foamed resin 25 having the same configuration as the foamed resin 20 is provided on the side 3a2 opposite to the circuit surface 3a1 of the IC chip 3a so as not to contact the opposite side 3a2. In this embodiment, the foamed resin 20, the foamed resin 24, and the foamed resin 25 improve cushioning properties and disperse stress, thereby improving durability.

図15はICカードの層構成を示す図である。この実施の形態のICカードは、図9の実施の形態と同様に構成されるが、この実施の形態では、ICカード接着剤4bとして発泡樹脂20を用い、発泡樹脂20によってよりクッション性が向上すると共に応力分散し、耐久性が向上する。   FIG. 15 is a diagram showing a layer structure of the IC card. The IC card of this embodiment is configured similarly to the embodiment of FIG. 9, but in this embodiment, the foamed resin 20 is used as the IC card adhesive 4b, and the cushioning property is further improved by the foamed resin 20. In addition, stress is dispersed and durability is improved.

図16はICカードの層構成を示す図である。この実施の形態のICカードは、図1の実施の形態と同様に構成されるが、この実施の形態では、モジュール支持体3dをPET−Gシート3d1で構成し、このPET−Gシート3d1にICチップ3aを埋め込み、このICチップ3aとアンテナ3cとをワイヤーボンディング3fで接続している。このICチップ3aを囲むように発泡樹脂20が設けられ、この発泡樹脂20上を補強構造物3bで覆うようにし、この補強構造物3bとしてリードフレーム3b3を用いている。   FIG. 16 is a diagram showing a layer structure of the IC card. The IC card of this embodiment is configured in the same manner as the embodiment of FIG. 1, but in this embodiment, the module support 3d is configured by a PET-G sheet 3d1, and the PET-G sheet 3d1 The IC chip 3a is embedded, and the IC chip 3a and the antenna 3c are connected by wire bonding 3f. A foamed resin 20 is provided so as to surround the IC chip 3a. The foamed resin 20 is covered with a reinforcing structure 3b, and a lead frame 3b3 is used as the reinforcing structure 3b.

図17はICカードの層構成を示す図である。この実施の形態のICカードは、図16の実施の形態と同様に構成されるが、この実施の形態では、ICチップ3aを囲むように樹脂成分21または発泡樹脂22が設けられ、ICチップ3aとリードフレーム3b3は発泡樹脂20により接続している。   FIG. 17 is a diagram showing the layer structure of the IC card. The IC card of this embodiment is configured similarly to the embodiment of FIG. 16, but in this embodiment, the resin component 21 or the foamed resin 22 is provided so as to surround the IC chip 3a, and the IC chip 3a. The lead frame 3b3 is connected by the foamed resin 20.

図18はICカードの層構成を示す図である。この実施の形態のICカードは、図16の実施の形態と同様に構成されるが、この実施の形態では、リードフレーム3b3の第2シート部材側に発泡樹脂20と同じ構成の発泡樹脂26が設けられている。   FIG. 18 is a diagram showing the layer structure of the IC card. The IC card of this embodiment is configured similarly to the embodiment of FIG. 16, but in this embodiment, a foamed resin 26 having the same configuration as the foamed resin 20 is provided on the second sheet member side of the lead frame 3b3. Is provided.

以下、この発明のICカード及びICカードの製造方法について詳細に説明する。
[第1シート部材と第2シート部材の定義]
この発明の第1シート部材(表シート基材)、第2シート部材(裏シート部材)の定義は、第1シート部材は、この発明では受像層などを付与しているカード券面側のシート部材を表す。第2シート部材とは、この発明では筆記層などを付与しているカード裏面側のシート部材を表す。
[第1シート部材]
この発明における第1シート部材とは、カード券面側に位置する部材を表すが、カード券面に位置する受像層、クッション層などを必要に応じて設けることができる。受像層とは、書誌情報及び識別情報を熱転写方式、インクジェット方式、電子写真方式等により形成することができる層のことを表す。
The IC card and the IC card manufacturing method of the present invention will be described in detail below.
[Definition of first sheet member and second sheet member]
The first sheet member (front sheet base material) and the second sheet member (back sheet member) of the present invention are defined as follows. Represents. In the present invention, the second sheet member represents a sheet member on the back side of the card to which a writing layer or the like is applied.
[First sheet member]
The 1st sheet member in this invention expresses the member located in the card ticket surface side, However, The image receiving layer, cushion layer, etc. which are located in a card ticket surface can be provided as needed. The image receiving layer refers to a layer in which bibliographic information and identification information can be formed by a thermal transfer method, an ink jet method, an electrophotographic method, or the like.

熱転写により情報を記録する方式としては、一般的に知られている昇華型熱転写方式、溶融型熱転写方式等が挙げられる。インクジェット方式で記録する方法としては、一般的に知られている方法を用いることができ具体的には特開2000−44857、特開平9−71743で記載されているような情報記録することができる。この発明では特に画像形成材料として制限はなく用いることができる。   Examples of methods for recording information by thermal transfer include generally known sublimation type thermal transfer methods and melt type thermal transfer methods. As a method for recording by the ink jet method, a generally known method can be used, and specifically, information recording as described in JP-A-2000-44857 and JP-A-9-71743 can be performed. . In the present invention, the image forming material is not particularly limited and can be used.

[ICカード用材料]
<基材>
この発明ICカード用の第1シート部材、第2シート部材の支持体、または基材は、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート/イソフタレート共重合体等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ4フッ化エチレン、エチレン−4フッ化エチレン共重合体、等のポリフッ化エチレン系樹脂、ナイロン6、ナイロン6.6等のポリアミド、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、エチレン/ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、ビニロン等のビニル重合体、生分解性脂肪族ポリエステル、生分解性ポリカーボネート、生分解性ポリ乳酸、生分解性ポリビニルアルコール、生分解性セルロースアセテート、生分解性ポリカプロラクトン等の生分解性樹脂、三酢酸セルロース、セロファン等のセルロース系樹脂、ポリメタアクリル酸メチル、ポリメタアクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、等のアクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリイミド等の合成樹脂シート、又は上質紙、薄葉紙、グラシン紙、硫酸紙等の紙、金属箔等の単層体或いはこれら2層以上の積層体が挙げられる。この発明の支持体の厚みは30〜300μm望ましくは50〜200μmである。
[IC card materials]
<Base material>
The first sheet member for the invention IC card, the support for the second sheet member, or the substrate is, for example, a polyester resin such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate / isophthalate copolymer, polyethylene, polypropylene, Polyolefin resins such as polymethylpentene, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, polytetrafluoroethylene, ethylene-tetrafluoroethylene copolymer, and other polyfluorinated ethylene resins, nylon 6, nylon 6.6, and other polyamides , Polyvinyl chloride, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer, ethylene / vinyl alcohol copolymer, vinyl polymers such as polyvinyl alcohol and vinylon, biodegradable aliphatic polyester, biodegradable Polycarbonate Biodegradable resins such as biodegradable polylactic acid, biodegradable polyvinyl alcohol, biodegradable cellulose acetate, biodegradable polycaprolactone, cellulose resins such as cellulose triacetate and cellophane, polymethyl methacrylate, polymeta Acrylic resins such as ethyl acrylate, polyethyl acrylate, and polybutyl acrylate, synthetic resin sheets such as polystyrene, polycarbonate, polyarylate, and polyimide, or paper such as fine paper, thin paper, glassine paper, and sulfuric acid paper, metal A single layer body such as a foil or a laminate of two or more layers may be mentioned. The thickness of the support of the present invention is 30 to 300 μm, desirably 50 to 200 μm.

ICカードを作成する際、同一または配向角を合わしても良く、場合によっては異なる基材または厚さの異なる支持体を複数積層し、貼り合わせ等により構成されたカードを作成しても良い。   When creating an IC card, the same or orientation angles may be matched, and in some cases, a plurality of substrates having different base materials or different thicknesses may be laminated and a card constituted by bonding or the like may be created.

また、支持体上に、易接化処理を施してもよく、カップリング剤、ラテックス、親水性樹脂、帯電防止樹脂などの樹脂層より形成される。場合により支持体をコロナ処理、プラズマ処理等の易接処理を施しても良い。また、熱収縮を低減するためにアニール処理などを行っても良い。   Further, the support may be subjected to an easy-to-contact treatment, and is formed from a resin layer such as a coupling agent, latex, hydrophilic resin, or antistatic resin. In some cases, the support may be subjected to easy contact treatment such as corona treatment or plasma treatment. In addition, annealing treatment or the like may be performed in order to reduce thermal shrinkage.

前記支持体には必要に応じてエンボス、サイン、ICメモリ、光メモリ、磁気記録層、偽変造防止用印刷層(パール顔料層、透かし印刷層、マイクロ文字等)、エンボス印刷層、ICチップ隠蔽層等を設けることができる。
[ICカード用材料への付加可能な材料]
前記記載のICカード用の基材には、必要に応じて、ICカードの材料構成に合わし、受像層、クッション層、筆記層、フォーマット印刷層などを設けることができる。尚、筆記層を設ける場合、受像層とは反対側のカード面に設けることが好ましい。
If necessary, the support may be embossed, signed, IC memory, optical memory, magnetic recording layer, falsification preventing printing layer (pearl pigment layer, watermark printing layer, micro characters, etc.), embossed printing layer, IC chip concealing layer Etc. can be provided.
[Materials that can be added to IC card materials]
The base material for an IC card described above may be provided with an image receiving layer, a cushion layer, a writing layer, a format printing layer, etc., as necessary, in accordance with the material configuration of the IC card. In addition, when providing a writing layer, it is preferable to provide in the card | curd surface on the opposite side to an image receiving layer.

<受像層>
前記記載の基材上に下記記載の受像層などを設け第1シート部材などを設けることができる。以下、この発明に用いることができる受像層を形成する成分について詳述する。
<Image receiving layer>
An image-receiving layer described below can be provided on the substrate described above to provide a first sheet member or the like. Hereinafter, the components forming the image receiving layer that can be used in the present invention will be described in detail.

この発明における受像層用のバインダーは、通常に知られているバインダーを適宜に用いることができる。例えばポリ塩化ビニル樹脂、塩化ビニルと他のモノマー(例えばイソブチルエーテル、プロピオン酸ビニル等)との共重合体樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、三酢酸セルロース、ポリスチレン、スチレンと他のモノマー(例えばアクリル酸エステル、アクリロニトリル、塩化エチレン等)との共重合体、ビニルトルエンアクリレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカプロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、およびそれらの変性物などを挙げることができるが、好ましいのは、ポリ塩化ビニル樹脂、塩化ビニルと他のモノマーとの共重合体、ポリエステル樹脂、ポリビニルアセタ−ル系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、スチレンと他のモノマーとの共重合体、エポキシ樹脂、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂などさまざまのバインダーを使用することができる。具体的な1例として受像層を特開平6−286350号、特開平5−64989号に記載のような金属イオン化合物やキレート化合物、離型材料等の材料を用い重層により受像層する方法が挙げられる。また、必要に応じて基材色調剤として染料や顔料、膜強度を向上させるために硬膜剤、カチオン媒染剤、退色防止剤、アニオン、カチオンまたは非イオンの各種界面活性剤、潤滑剤、防腐剤、増粘剤、帯電防止剤、マット剤等の公知の各種添加剤を含有させることもできる。   As the binder for the image receiving layer in the present invention, a conventionally known binder can be appropriately used. For example, polyvinyl chloride resin, copolymer resin of vinyl chloride and other monomers (for example, isobutyl ether, vinyl propionate, etc.), polyester resin, poly (meth) acrylate ester, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral Resin, polyvinyl alcohol, polycarbonate, cellulose triacetate, polystyrene, copolymer of styrene and other monomers (for example, acrylic ester, acrylonitrile, ethylene chloride, etc.), vinyl toluene acrylate resin, polyurethane resin, polyamide resin, urea resin , Epoxy resin, phenoxy resin, polycaprolactone resin, polyacrylonitrile resin, and modified products thereof, but preferably polyvinyl chloride resin, vinyl chloride Copolymers with other monomers, polyester resins, polyvinyl acetal resins, polyvinyl butyral resins, copolymers of styrene and other monomers, epoxy resins, photo-curing resins, thermosetting resins, etc. A binder can be used. As a specific example, there is a method in which the image receiving layer is formed by using multiple layers such as metal ion compounds, chelate compounds and releasing materials as described in JP-A-6-286350 and JP-A-5-64989. It is done. If necessary, dyes and pigments as base color toning agents, hardeners, cationic mordants, anti-fading agents, various anionic, cationic or nonionic surfactants, lubricants, preservatives to improve film strength Further, various known additives such as a thickener, an antistatic agent, and a matting agent can be contained.

この発明に受像層として形成される材料を溶媒又は水に分散あるいは溶解してなる受像層用塗工液を調製し、その受像層用塗工液を前記基材上に塗工し、乾燥する塗工法によって製造することができる。   An image-receiving layer coating solution prepared by dispersing or dissolving a material formed as an image-receiving layer in this invention in a solvent or water is prepared, and the image-receiving layer coating solution is applied onto the substrate and dried. It can be manufactured by a coating method.

支持体に形成される受像層の厚みは、一般に0.01〜30μm、好ましくは0.01〜20μm、より好ましくは0.03〜20μm程度である。
<クッション層>
この発明には必要に応じて、印字性を良化させるためにクッション層を設けることができる。クッション層を構成する材質としては例えばウレタン樹脂、アクリル樹脂、エチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ブタジエンラバー、エポキシ樹脂、ポリオレフィン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−水素添加イソプレン−スチレンブロック共重合体、ポリブタジエン、特開2002−222403記載の光硬化型樹脂等を用いることができる。クッション層の厚さは通常、1〜50μm、好ましくは3〜30μmである。この発明でいうクッション層とは、IDカード用に作成した受像層と基材の間、筆記層と支持体の間のいずれの形態であればよく特に制限はなく、複数層合ってもかまわない。
[第2シート部材]
この発明における第2シート部材とはカード裏面側に位置する部材を表すが、カード裏面に位置するため筆記層、クッション層などを必要に応じて設けることができる。
<筆記層>
前記記載の基材上に下記記載の受像層などを設け第2シート部材などを設けることができる。この発明には必要に応じて、カードに追加情報を記録するために筆記層を設けてもよい。
The thickness of the image receiving layer formed on the support is generally about 0.01 to 30 μm, preferably about 0.01 to 20 μm, more preferably about 0.03 to 20 μm.
<Cushion layer>
In the present invention, a cushion layer can be provided as necessary to improve the printability. Examples of the material constituting the cushion layer include urethane resin, acrylic resin, ethylene resin, polypropylene resin, butadiene rubber, epoxy resin, polyolefin, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, styrene- Butadiene-styrene block copolymer, styrene-isoprene-styrene block copolymer, styrene-ethylene-butadiene-styrene block copolymer, styrene-hydrogenated isoprene-styrene block copolymer, polybutadiene, JP-A-2002-222403 A photo-curable resin or the like can be used. The thickness of the cushion layer is usually 1 to 50 μm, preferably 3 to 30 μm. The cushion layer referred to in the present invention is not particularly limited as long as it is in any form between the image-receiving layer prepared for the ID card and the base material, and between the writing layer and the support, and a plurality of layers may be combined. .
[Second sheet member]
Although the 2nd sheet member in this invention expresses the member located in the card back side, since it is located in the card back side, a writing layer, a cushion layer, etc. can be provided if needed.
<Writing layer>
An image receiving layer described below can be provided on the substrate described above to provide a second sheet member or the like. If necessary, the present invention may be provided with a writing layer for recording additional information on the card.

筆記層は、バインダーと各種の添加剤で形成することができる。筆記層は、ICカードの裏面に筆記をすることができるようにした層でこの層が筆記性を有するため少なくとも1層以上からなることが好ましく、好ましくは1〜5層より形成されていることが好ましい。このような筆記層としては、例えば無機微細粉末、多孔質物質等を用いることができる。多孔質物質としては、例えば、シリカ(沈降性、またはゲルタイプ)、タルク、カオリン、クレー、アルミナホワイト、ケイソウ土、酸化チタン、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等を使用することができる。なお、上記多孔質物質としては、上記化合物等の中から1種、または2種以上を混合して使用されるようにしてもよい。多孔質物質を含むことができ特に限定はない。   The writing layer can be formed of a binder and various additives. The writing layer is a layer that allows writing on the back side of the IC card, and since this layer has writing properties, it is preferably composed of at least one layer, preferably 1 to 5 layers. Is preferred. As such a writing layer, an inorganic fine powder, a porous substance, etc. can be used, for example. As the porous material, for example, silica (sedimentable or gel type), talc, kaolin, clay, alumina white, diatomaceous earth, titanium oxide, calcium carbonate, barium sulfate and the like can be used. In addition, as said porous substance, you may make it use 1 type from the said compound etc., or 2 or more types in mixture. A porous material can be included and is not particularly limited.

また、他にバインダーを用いることができ、例えばセラック、ロジンおよびその誘導体、硝化綿および繊維素誘導体、ポリアミド樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、石油樹脂、環化ゴム、塩化ゴム、塩素化ポリプロピレン、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ブチラール樹脂、塩化ビニリデン樹脂、水溶性樹脂等を用いることができる。また、紫外線により共重合し硬化するプレポリマーを含有するUV硬化型樹脂を用いてもよい。それに用いる共重合性化合物としてはポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアックリレート、ウレタンアクリレート、アルキドアクリレートがあげられる。中でも、ポリエステル樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスチレン樹脂、が好ましく用いられる。なお、上記樹脂としては、上記化合物等の中から1種、または2種以上を混合して使用されるようにしてもよい。多孔質物質の粒径としては、1〜10μmのものを用いることができ、好ましくは平均粒径が1〜8μmであることが好ましい。樹脂に対する多孔質物質の重量比は、固形分比で樹脂100重量部に対し、20重量部〜100重量部であることが好ましい。その他の添加剤としてワックス、界面活性剤、溶剤、水を含んでいてもよく特に制限はない。   Other binders can be used, such as shellac, rosin and derivatives thereof, nitrified cotton and cellulose derivatives, polyamide resin, polyacrylate resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polystyrene resin, petroleum resin, ring Rubberized rubber, chlorinated rubber, chlorinated polypropylene, urethane resin, epoxy resin, polyester resin, acrylic resin, vinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, butyral resin, vinylidene chloride resin, water-soluble resin, etc. can be used. . Further, a UV curable resin containing a prepolymer which is copolymerized and cured by ultraviolet rays may be used. Examples of the copolymerizable compound used therefor include polyol acrylate, polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, and alkyd acrylate. Among these, polyester resins, polyacrylate resins, polyvinyl chloride resins, polyvinyl acetate resins, polyamide resins, and polystyrene resins are preferably used. In addition, as said resin, you may make it use 1 type from the said compound etc., or 2 or more types in mixture. As the particle diameter of the porous material, those having a particle diameter of 1 to 10 μm can be used, and preferably the average particle diameter is 1 to 8 μm. The weight ratio of the porous material to the resin is preferably 20 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin in terms of solid content. Other additives may include wax, surfactant, solvent and water, and are not particularly limited.

この筆記層の厚さは、好ましくは、5〜40μm、更に好ましくは5〜30μmである。筆記層を形成する場合、場合により支持体との密着性を良好にするために接着層、又は筆記性を良好にするためにクッション層などを設けてもよい。この発明の場合、仕上がった筆記層の表面Raが2.0μm以下であることが好ましく、より好ましくは0.2〜2.0μm、更に好ましくは0.3〜1.8μmである。表面粗さが0.2μm以下であると筆記性が劣化し問題となる。2.0μm以上であると、この発明の筆記可能層への表面保護材料との密着性劣化と、表面の粗さが粗いために筆記可能層に手作業または昇華熱転写方式、溶融熱転写方式、インクジェット方式に昇華熱転写、溶融熱転写、インクジェット、油性ペン、水性ペン、印鑑等により個人識別情報を記載した場合が滲んだりし判別がしづらく問題となる。
[印刷層]
この発明においては、第1シート部材、第2シート部材上に印刷層を設けることができる。具体的には受像層上または筆記層上にフォーマット印刷からなる情報坦持体を設けることができる。情報坦持体は、第1シート部材と第2シート部材は貼り合わせる前後いずれかにフォーマット印刷または、情報記録を行ってもよく、オフセット印刷、グラビア印刷、シルク印刷、スクリーン印刷、凹版印刷、凸版印刷、インクジェット方式、昇華転写方式、電子写真方式、熱溶融方式等のいずれの方式によって形成することができる。特に限定はないが、この発明においては、オフセット印刷などで設けることが好ましい。
The thickness of the writing layer is preferably 5 to 40 μm, more preferably 5 to 30 μm. When the writing layer is formed, an adhesive layer may be provided in order to improve the adhesion to the support, or a cushion layer may be provided in order to improve the writing property. In the case of the present invention, the surface Ra of the finished writing layer is preferably 2.0 μm or less, more preferably 0.2 to 2.0 μm, still more preferably 0.3 to 1.8 μm. When the surface roughness is 0.2 μm or less, the writing property is deteriorated, which causes a problem. When the thickness is 2.0 μm or more, adhesion to the surface-protective material on the writable layer of the present invention is deteriorated, and the surface is rough, so that the writable layer is manually operated or sublimation heat transfer method, melt heat transfer method, inkjet When the personal identification information is described by sublimation heat transfer, melt heat transfer, ink jet, oil-based pen, water-based pen, seal stamp, or the like in the system, it becomes a problem that it is difficult to distinguish.
[Print layer]
In this invention, a printing layer can be provided on the first sheet member and the second sheet member. Specifically, an information carrier comprising format printing can be provided on the image receiving layer or the writing layer. The information carrier may be subjected to format printing or information recording either before or after the first sheet member and the second sheet member are bonded, offset printing, gravure printing, silk printing, screen printing, intaglio printing, letterpress It can be formed by any method such as printing, ink jet method, sublimation transfer method, electrophotographic method, heat melting method and the like. Although not particularly limited, in the present invention, it is preferably provided by offset printing or the like.

また、ICカードには、フォーマット印刷からなる情報坦持体が具備されており、識別情報及び書籍情報を記録した複数の選ばれる少なくとも一つが設けられた情報坦持体層からなる。具体的には、罫線、社名、カード名称、注意事項、発行元電話番号等が表記されている。   Further, the IC card is provided with an information carrier made of format printing, and consists of an information carrier layer provided with a plurality of at least one selected from which identification information and book information are recorded. Specifically, ruled lines, company names, card names, notes, issuer telephone numbers, and the like are written.

この発明のフォーマット印刷層は、目視による偽造防止の為に透かし印刷、細紋等が採用されてもよく、偽造変造防止層としては印刷物、ホログラム、バーコード、マット調柄、細紋、地紋、凹凸パターンなどで適時選択さ、可視光吸収色材、紫外線吸収材、赤外線吸収材、蛍光増白材、ガラス蒸着層、ビーズ層、光学変化素子層、パールインキ層、燐片顔料層、IC隠蔽層、透かし印刷層などから表シートに印刷等で設けることも可能である。   The format printing layer of the present invention may employ watermark printing, thin prints, etc. to prevent visual forgery, and the printed material, hologram, barcode, matte pattern, fine print, ground pattern, Appropriately selected for uneven pattern, visible light absorbing colorant, ultraviolet absorber, infrared absorber, fluorescent brightener, glass deposition layer, bead layer, optical change element layer, pearl ink layer, flake pigment layer, IC concealment It is also possible to provide a front sheet by printing or the like from a layer, a watermark printing layer, or the like.

フォーマット印刷からなる情報坦持体の形成には、日本印刷技術協会出版の「平版印刷技術」、「新・印刷技術概論」、「オフセット印刷技術」、「製版・印刷はやわかり図鑑」等に記載されている一般的なインキを用いて形成することができ、光硬化型インキ、油溶性インキ、溶剤型インキなどにカーボンなどのインキにより形成される。   For the formation of an information carrier consisting of format printing, use the “lithographic printing technology”, “new printing technology overview”, “offset printing technology”, “plate making / printing slightly understandable picture book” published by Japan Printing Technology Association, etc. It can be formed using the general inks described, and is formed of ink such as carbon in photocurable ink, oil-soluble ink, solvent-type ink, and the like.

この発明においては、フォーマット印刷層に使用することができる印刷層は、バインダー樹脂の代表例としては、例えば活性光線硬化性樹脂、ポリメタクリル酸メチル系のアクリル系樹脂、ポリスチレン等のスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル等の塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン等の塩化ビニリデン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、酢酸セルロース等のセルロース系樹脂、ポリビニルブチラール等のポリビニルアセタール系樹脂、エポキシ系樹脂、アミド系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、アルキッド系樹脂、フェノール系樹脂、弗素系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、カゼイン、ゼラチン等を挙げることができる。本発明においては光硬化型樹脂層であることが好ましく、更に好ましくは(a)一個以上の不飽和結合を有するモノマーもしくはオリゴマーの一種類以上からなるバインダー成分25〜95重量部、(b)開始剤1〜20重量部とを含む組成物からなる光硬化型樹脂組成物からなる印刷インキ層を用いることがカード表面強度の点から特に好ましいものである。活性光線硬化樹脂を用いる場合、水銀灯、UVランプ、キセノン等の光源により、100mj〜500mjの露光で硬化し用いることができる。
[ICモジュール材料]
<電子部品>
ICカードは、ICモジュールの電子部品を設けることができる。電子部品とは、情報記録部材のことを示し、具体的には当該電子カードの利用者の情報を電気的に記憶するICチップおよび該ICチップに接続されたコイル状のアンテナである。ICチップはメモリのみやそれに加えてマイクロコンピューターなどである。場合により電子部品にコンデンサーを含んでもよい。この発明はこれに限定はされず、情報記録部材に必要な電子部品であれば特に限定はない。
<ICチップ>
この発明で用いられることのできるICチップの大きさに制限はないが、機械的強度の点からICチップの厚さは、5μm以上120μm以下であることが好ましい。好ましくは、10μm〜120μm、より好ましくは20μm〜120μmである。120μm以上であるとICチップ自身の強度が低下し、点圧強度、衝撃性、曲げ性が劣化する。5μm以下であると現状の加工技術では、均一に薄膜化できず表面性が劣化するため、点圧強度、衝撃性、曲げ性が劣化する。
<補強構造物>
この発明では、ICチップの耐久性向上のためICチップに補強構造物を固定する。この発明の補強構造物は、機械的強度に優れることが好ましい。強度確保のため補強構造物を厚くするとカード厚みが厚くなり、表面印画性などが低下するため補強構造物は高強度の素材が好ましい。金属、セラミック、カーボンファイバー、ガラス繊維、アラミト゛繊維、高弾性樹脂などが上げられる。これらより選択される。1種または複数からなる複合材料でもよい。特にヤング率100GPa以上の素材が主構造に使用されているのが好ましい。厚みとしては、10〜300μm、好ましくは、20〜200μm、さらに好ましくは、30〜150μmがよい。補強構造物の形状としては、この発明の趣旨に反しない限り、適宜用いることができる。この発明では、補強構造物形状は、1つ以上あれば特に制限はない。
<JISK−7222測定による、かさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂>
JISK−7222測定による、かさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂からなる接着剤とは、特開2004−189799、
特開平2−16180、特開2003−231875、特開平5−279508、特開2001−239606、特開2001−336104等に記載されているような発泡樹脂を用いることができる。
In this invention, the print layer that can be used for the format print layer is, for example, an actinic ray curable resin, a polymethyl methacrylate acrylic resin, a styrene resin such as polystyrene, as a representative example of a binder resin, Vinyl chloride resin such as polyvinyl chloride, vinylidene chloride resin such as polyvinylidene chloride, polyester resin such as polyethylene terephthalate, cellulose resin such as cellulose acetate, polyvinyl acetal resin such as polyvinyl butyral, epoxy resin, amide Resin, urethane resin, melamine resin, alkyd resin, phenol resin, fluorine resin, silicone resin, polycarbonate, polyvinyl alcohol, casein, gelatin and the like. In the present invention, it is preferably a photocurable resin layer, more preferably (a) 25 to 95 parts by weight of a binder component composed of one or more monomers or oligomers having one or more unsaturated bonds, (b) initiation It is particularly preferable from the viewpoint of card surface strength to use a printing ink layer comprising a photocurable resin composition comprising a composition containing 1 to 20 parts by weight of an agent. When an actinic ray curable resin is used, it can be used after being cured with an exposure of 100 mj to 500 mj by a light source such as a mercury lamp, a UV lamp, or xenon.
[IC module materials]
<Electronic parts>
The IC card can be provided with electronic components of an IC module. The electronic component refers to an information recording member, and specifically, an IC chip that electrically stores information of a user of the electronic card and a coiled antenna connected to the IC chip. The IC chip is only a memory or in addition to a microcomputer. In some cases, a capacitor may be included in the electronic component. The present invention is not limited to this, and is not particularly limited as long as it is an electronic component necessary for the information recording member.
<IC chip>
Although there is no restriction | limiting in the magnitude | size of the IC chip which can be used by this invention, It is preferable that the thickness of an IC chip is 5 micrometers or more and 120 micrometers or less from the point of mechanical strength. Preferably, they are 10 micrometers-120 micrometers, More preferably, they are 20 micrometers-120 micrometers. When it is 120 μm or more, the strength of the IC chip itself is lowered, and the point pressure strength, impact property, and bendability are deteriorated. If the thickness is 5 μm or less, the current processing technology cannot uniformly reduce the film thickness and surface properties deteriorate, so that the point pressure strength, impact property, and bendability deteriorate.
<Reinforced structure>
In the present invention, the reinforcing structure is fixed to the IC chip in order to improve the durability of the IC chip. The reinforcing structure of the present invention is preferably excellent in mechanical strength. If the reinforcing structure is made thicker to ensure strength, the card thickness becomes thicker and the surface printability and the like are lowered, so that the reinforcing structure is preferably a high-strength material. Metals, ceramics, carbon fibers, glass fibers, aramid fibers, high elastic resins, etc. are raised. It is selected from these. It may be a composite material composed of one or more kinds. In particular, a material having a Young's modulus of 100 GPa or more is preferably used for the main structure. The thickness is 10 to 300 μm, preferably 20 to 200 μm, and more preferably 30 to 150 μm. The shape of the reinforcing structure can be used as appropriate as long as it does not contradict the gist of the present invention. In the present invention, there is no particular limitation as long as the shape of the reinforcing structure is one or more.
<Foamed resin with a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222>
An adhesive made of a foamed resin having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222 is disclosed in JP 2004-189799 A,
Foamed resins as described in JP-A-2-16180, JP-A-2003-231875, JP-A-5-279508, JP-A-2001-239606, JP-A-2001-336104, and the like can be used.

発泡樹脂に用いられることができるポリマー材料としては、ポリエチレン,ポリプロピレン,エチレン−プロピレン共重合体,エチレン−プロピレン−ジエン共重合体,エチレン−酢酸ビニル共重合体等のオレフィン系樹脂、ポリメチルアクリレート,ポリメチルメタクレート,エチレン−エチルアクリレート共重合体等のアクリル系樹脂、ブタジエン−スチレン,アクリロニトリル−スチレン,スチレン,スチレン−ブタジエン−スチレン,スチレン−イソプレン−スチレン,スチレン−アクリル酸等のスチレン系樹脂、アクリロニトリル−ポリ塩化ビニル,ポリ塩化ビニル−エチレン等の塩化ビニル系樹脂、ポリフッ化ビニル,ポリフッ化ビニリデン等のフッ化ビニル系樹脂、6−ナイロン,6・6−ナイロン,12−ナイロン等のアミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート,ポリブチレンテレフタレート等の飽和エステル系樹脂、ポリカーボネート、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール、ポリフェニレンスルフィド、シリコーン樹脂、熱可塑性ウレタン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、各種エラストマーやこれらの架橋体、天然ゴムもしくは合成ゴム、ポリビニルアルコール、セルローズ、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、エポキシ樹脂、アクリル系樹脂、シリコン樹脂、ポリイミド樹脂等の各種樹脂等の発泡体が挙げられる。   Polymer materials that can be used for the foamed resin include olefin resins such as polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-propylene-diene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, polymethyl acrylate, Acrylic resins such as polymethyl methacrylate, ethylene-ethyl acrylate copolymer, styrene resins such as butadiene-styrene, acrylonitrile-styrene, styrene, styrene-butadiene-styrene, styrene-isoprene-styrene, styrene-acrylic acid, Vinyl chloride resins such as acrylonitrile-polyvinyl chloride and polyvinyl chloride-ethylene, vinyl fluoride resins such as polyvinyl fluoride and polyvinylidene fluoride, amino acids such as 6-nylon, 6-6-nylon and 12-nylon Resin, saturated ester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycarbonate, polyphenylene oxide, polyacetal, polyphenylene sulfide, silicone resin, thermoplastic urethane resin, polyether ether ketone, polyether imide, various elastomers and cross-linked products thereof, Examples thereof include foams such as natural rubber or synthetic rubber, polyvinyl alcohol, cellulose, polyamide resin, phenol resin, urea resin, epoxy resin, acrylic resin, silicon resin, polyimide resin, and the like.

この発明の場合、取り扱いしやすさから好ましくは、熱、光などのトリガーにより架橋する材料であることが好ましい。具体的には熱硬化型、湿気硬化型、光硬化型などの樹脂材料からなる発泡樹脂であることが好ましい。   In the case of the present invention, a material that is cross-linked by a trigger such as heat or light is preferable because of easy handling. Specifically, it is preferably a foamed resin made of a resin material such as a thermosetting type, a moisture curable type, or a photocurable type.

熱硬化型樹脂材料としては、常温で流動性を示し、加熱により硬化性を示す樹脂であれば特に限定されない。例えば、ポリウレタン、不飽和ポリエステル、フェノール樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリブタジエン、シリコーン樹脂等を挙げることができる。特に、発泡が容易で耐衝撃性の高いポリウレタン、エポキシ樹脂が好ましい。   The thermosetting resin material is not particularly limited as long as it is a resin that exhibits fluidity at room temperature and exhibits curability when heated. Examples thereof include polyurethane, unsaturated polyester, phenol resin, urea resin, epoxy resin, acrylic resin, polybutadiene, and silicone resin. In particular, polyurethane and epoxy resin which are easy to foam and have high impact resistance are preferable.

光硬化型樹脂材料としては、ラジカル重合性成分及び光ラジカル重合開始剤、カチオン重合性成分及び光カチオン重合開始剤からなる組成物が用いることができる。この発明では、特に制限はないが好ましくは硬化後の膜の柔軟性があることより、カチオン重合性成分及び光カチオン重合開始剤からなる組成物を用いることが好ましい。   As the photocurable resin material, a composition comprising a radical polymerizable component and a photo radical polymerization initiator, a cationic polymerizable component and a photo cationic polymerization initiator can be used. In the present invention, although there is no particular limitation, it is preferable to use a composition comprising a cationically polymerizable component and a photocationic polymerization initiator because the film after curing is flexible.

前記カチオン重合性成分としては、例えば、ビスフェノール−エポキシ樹脂、フェノリックエポキシ樹脂、ハロゲン化フェノールエポキシ樹脂、ポリアルキレングリコールエポキシ樹脂、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル等のエポキシ化合物が好適に用いられる。さらに、イソプロピルビニルエーテル、セチルビニルエーテル等のビニルエーテル化合物、オキセタンなどを用いることも可能である。具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、(1981年大成社);加藤清視編、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」(1985年、高分子刊行会);ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の応用と市場」、79頁、(1989年、シーエムシー);滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、(1988年、日刊工業新聞社)等に記載の市販品もしくは業界で公知のラジカル重合性、カチオン重合成ないし架橋性のモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いることができる。   As the cationic polymerizable component, for example, epoxy compounds such as bisphenol-epoxy resin, phenolic epoxy resin, halogenated phenol epoxy resin, polyalkylene glycol epoxy resin, butyl glycidyl ether, and phenyl glycidyl ether are preferably used. Furthermore, vinyl ether compounds such as isopropyl vinyl ether and cetyl vinyl ether, oxetane and the like can also be used. Specifically, Shinzo Yamashita, “Cross-linking agent handbook” (1981 Taiseisha); Kato Kiyomi, “UV / EB curing handbook (raw material)” (1985, Polymer publication society); Commercial editions described in the association edition, “Application and Market of UV / EB Curing Technology”, p. 79, (1989, CMC); Eiichiro Takiyama, “Polyester Resin Handbook”, (1988, Nikkan Kogyo Shimbun) Radically polymerizable, cationic polysynthetic or crosslinkable monomers, oligomers and polymers known in the art or in the industry can be used.

前記光カチオン重合開始剤とは、光によってカチオン種を発生させる重合開始剤のことであり、一般的にはオニウム塩がよく知られている。オニウム塩としては、ルイス酸のジアゾニウム塩、ルイス酸のヨードニウム塩、ルイス酸のスルホニウム塩などが用いられる。これらの化合物の具体例としては、例えば、四フッ化ホウ素のフェニルジアゾニウム塩、六フッ化リンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化アンチモンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化ヒ素のトリ−4−メチルフェニルスルホニウム塩、四フッ化アンチモンのトリ−4−メチルフェニルスルホニウム塩等が挙げられる。これらに限定されるものではなく、光照射によってカチオン種を発生させる化合物であれば使用可能である。   The photocationic polymerization initiator is a polymerization initiator that generates cationic species by light, and onium salts are generally well known. As the onium salt, a diazonium salt of Lewis acid, an iodonium salt of Lewis acid, a sulfonium salt of Lewis acid, or the like is used. Specific examples of these compounds include, for example, boron tetrafluoride phenyldiazonium salt, phosphorus hexafluoride diphenyliodonium salt, antimony hexafluoride diphenyliodonium salt, arsenic hexafluoride tri-4-methylphenylsulfonium Salt, tri-4-methylphenylsulfonium salt of antimony tetrafluoride, and the like. The compound is not limited to these, and any compound that generates a cationic species by light irradiation can be used.

湿気硬化型樹脂材料としては、特開平2−16180、特開2000−036026、特開2000−219855、特開平2000−211278、特開平2000−219855、特願平2000−369855で開示されている。具体的には、ウレタン系樹脂、アルコキシド基含有シリコーン系樹脂などが挙げられる。湿気硬化接着剤の1例として、分子末端にイソシアネート基含有ウレタンポリマーを主成分とし、このイソシアネート基が水分と反応して架橋構造を形成するものがある。湿気硬化型接着剤としては、例えば積水化学工業社製9613N、住友スリーエム社製TE030、TE100、日立化成ポリマー社製ハイボン4820、カネボウエヌエスシー社製ボンドマスター170シリーズ、Henkel社製Macroplast QR3460等があげられる。   Moisture curable resin materials are disclosed in JP-A-2-16180, JP-A-2000-036026, JP-A-2000-211985, JP-A-2000-211978, JP-A-2000-21985, and Japanese Patent Application No. 2000-369855. Specific examples include urethane resins and alkoxide group-containing silicone resins. As one example of the moisture-curing adhesive, there is one in which an isocyanate group-containing urethane polymer is a main component at a molecular end, and this isocyanate group reacts with moisture to form a crosslinked structure. Examples of the moisture curable adhesive include 9613N manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., TE030 and TE100 manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd., Hibon 4820 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., Bond Master 170 series manufactured by Kanebo UESC, Inc. It is done.

JISK−7222測定による、かさ密度が、0.03〜0.95g/cmになるためには、この発明では発泡剤が必要である。発泡剤は、前記記載の熱硬化型、湿気硬化型、光硬化型樹脂を用いた場合、発泡剤から気体が発生する前に樹脂が架橋するか、発泡剤から気体が発生した後に架橋するか、発泡剤からの気体発生と樹脂の架橋が同時に行われてもよく特に制限はない。 In order to achieve a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222, a foaming agent is required in the present invention. When the above-mentioned thermosetting, moisture curable, or photocurable resin is used, the foaming agent is crosslinked before the gas is generated from the foaming agent or is crosslinked after the gas is generated from the foaming agent. The gas generation from the foaming agent and the crosslinking of the resin may be performed at the same time, and there is no particular limitation.

発泡剤は使用する樹脂により適宜選択できる。例えば、フロン、炭酸ガス、ペンタン等の物理的発泡剤や、特開2003−231875記載の気体発生剤としてアゾ化合物、アジド化合物や、重曹(炭酸水素ナトリウム)、タルク、炭酸カルシウム、クエン酸等の分解型発泡剤や、イソシアネートと水の反応で発生する炭酸ガス等の反応型発泡剤、特開平11−38610に開示されているような光熱変換材料、架橋促進剤などの反応促進型発泡剤が挙げられる。また、発泡剤としての機能が、この発明で使用する発泡剤としては、気体発生剤、分解型発泡剤、反応促進型発泡剤が製造の容易さから使用上好ましい。本発明の発泡樹脂材料中には必要に応じて各種公知の添加剤を加えることにより作製することができる。、例えば、気泡調整剤、粘着性付与剤、フィラー、粘度調整剤、染料、顔料、帯電防止剤、金属微粒子、難燃剤等が挙げられる。   The foaming agent can be appropriately selected depending on the resin used. For example, physical foaming agents such as chlorofluorocarbon, carbon dioxide, pentane, etc., and gas generating agents described in JP-A-2003-231875 such as azo compounds, azide compounds, sodium bicarbonate (sodium bicarbonate), talc, calcium carbonate, citric acid, etc. Reaction-type foaming agents such as decomposition-type foaming agents, reactive foaming agents such as carbon dioxide generated by the reaction of isocyanate and water, photothermal conversion materials as disclosed in JP-A-11-38610, and crosslinking accelerators Can be mentioned. As the foaming agent used in the present invention, a gas generating agent, a decomposable foaming agent, and a reaction promoting foaming agent are preferable in terms of ease of production. The foamed resin material of the present invention can be prepared by adding various known additives as required. Examples thereof include bubble regulators, tackifiers, fillers, viscosity modifiers, dyes, pigments, antistatic agents, metal fine particles, flame retardants and the like.

また、発泡剤等の混合方法は公知の混合方法を適時採用することができる、具体的にはボールミル、メカニカル攪拌機、ホモジナイザー、超音波分散機等の公知技術を使用することができる。   Moreover, the mixing method of a foaming agent etc. can employ | adopt a well-known mixing method timely, Specifically, well-known techniques, such as a ball mill, a mechanical stirrer, a homogenizer, an ultrasonic disperser, can be used.

前記記載の発泡樹脂組成物を使用する場合、この発明においてはかさ密度が、0.03〜0.95g/cmであることが好ましい。より好ましくは0.03〜0.90g/cmであり、より好ましくは0.03〜0.80g/cmである。0.03g/cm以下であると、クッション性が劣化し衝撃性、点圧強度、曲げ強度、印字性が劣化する。0.95g/cm以上であると空隙が多くなるため密着度が低下し、電子部品等の自由度が増し、曲げ強度、点圧強度が劣化する。かさ密度の測定法は、下記の手順で実施した。
<かさ密度測定方法>
JISK7222(発泡プラスチック及びゴム−見掛け密度の測定)の方法にて測定した。すなわち、別途10cm×10cm×5cmの大きさの物性測定用試験体を作成し、試験片を試料のセル構造を変えないように切断し、その質量を測定し、次式にて算出した。
When the above-described foamed resin composition is used, in this invention, the bulk density is preferably 0.03 to 0.95 g / cm 3 . More preferably, it is 0.03-0.90 g / cm < 3 >, More preferably, it is 0.03-0.80 g / cm < 3 >. When it is 0.03 g / cm 3 or less, cushioning properties are deteriorated, and impact properties, point pressure strength, bending strength, and printability are deteriorated. If it is 0.95 g / cm 3 or more, the number of voids increases, so that the degree of adhesion decreases, the degree of freedom of electronic parts and the like increases, and the bending strength and point pressure strength deteriorate. The bulk density was measured by the following procedure.
<Method for measuring bulk density>
It measured by the method of JISK7222 (foamed plastic and rubber-measurement of apparent density). That is, a physical property measurement specimen having a size of 10 cm × 10 cm × 5 cm was separately prepared, the test piece was cut so as not to change the cell structure of the sample, its mass was measured, and the following equation was calculated.

かさ密度(g/cm)=試験片質量(g)/試験片体積(cm
<ICチップ及び補強構造物のいずれかひとつの部材に隣接の定義>
この発明では、ICチップ及び補強構造物のいずれかひとつの部材に隣接するように前記記載の、かさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂からなる接着剤を用いることが好ましい。この接着剤は、この発明で表されるカード構造中にある、ICカード用接着剤に使用するものとは違う材料である。カード端面に0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂からなる接着剤を用いると発泡した空隙層から水や薬品が浸透しやすくなり、カード破壊などがされやすく問題であるため使用はできない。ICカードに用いられる接着剤の詳細は後述する。
Bulk density (g / cm 3 ) = Test piece mass (g) / Test piece volume (cm 3 )
<Definition adjacent to any one member of IC chip and reinforcing structure>
In this invention, the adhesive made of a foamed resin having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 is used so as to be adjacent to any one member of the IC chip and the reinforcing structure. Is preferred. This adhesive is a material different from that used for the IC card adhesive in the card structure represented by the present invention. Use of an adhesive made of a foamed resin of 0.03 to 0.95 g / cm 3 on the end face of the card is likely to cause water and chemicals to penetrate from the foamed void layer, which is likely to cause card destruction, etc. Can not. Details of the adhesive used for the IC card will be described later.

隣接部に設けるとはチップ部周辺、補強板周辺に設けることが好ましい。前記したようにカード端面に位置するような配置にする。より好ましくは、補強構造物と第1シート部材間、補強構造物と第2シート部材間、ICチップとアンテナ間、チップアンテナ接合部と第1シート部材間、チップアンテナ接合部と第2シート部材間、補強構造物とICチップを接続する部分に設けることが好ましく、更に好ましくは補強構造物とICチップを接続する部分に設けることが好ましい。   Providing in the adjacent part is preferably provided around the chip part and around the reinforcing plate. As described above, it is arranged so as to be located on the card end face. More preferably, between the reinforcing structure and the first sheet member, between the reinforcing structure and the second sheet member, between the IC chip and the antenna, between the chip antenna joint and the first sheet member, and between the chip antenna joint and the second sheet member. In the meantime, it is preferably provided at a portion connecting the reinforcing structure and the IC chip, more preferably provided at a portion connecting the reinforcing structure and the IC chip.

JISK−7222測定による、かさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂からなる接着剤は、ICチップ及び補強構造物に接触もしくは非接触で設けても良く、特に制限はないが、より好ましくは接触していることが好ましい。
<かさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂の作成方法>
前記記載の樹脂、発泡剤等の混合物後は、ICモジュール作成時またはICカード作成時のいずれかで付与することができる。ICモジュール作成時に形成する場合、ICチップ上または補強構造物上、バンプ近傍にポッティング、塗布、噴射、印刷、IJ形成等により、この発明の発泡樹脂を任意の大きさに形成することができる。
An adhesive made of a foamed resin having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222 may be provided in contact or non-contact with the IC chip and the reinforcing structure. Although it is not, it is more preferable that it is contacting.
<Method for producing foamed resin having bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 >
After the mixture of the resin, foaming agent and the like described above, it can be applied either when the IC module is created or when the IC card is created. When forming at the time of IC module creation, the foamed resin of the present invention can be formed in an arbitrary size by potting, coating, spraying, printing, IJ formation, etc. on the IC chip or the reinforcing structure and in the vicinity of the bump.

形成後、発泡のため熱、光、圧力などのトリガーなどにより発泡樹脂を発泡させることができる。   After the formation, the foamed resin can be foamed by a trigger such as heat, light, or pressure for foaming.

熱は20〜500℃の範囲の温度を与えることができればよく、具体的な手段としては、レーザー、ハロゲンランプ、電熱素子などの公知の技術であればよい。   As long as the heat can provide a temperature in the range of 20 to 500 ° C., specific means may be a known technique such as a laser, a halogen lamp, or an electric heating element.

光は、300〜1000nmの光源であればよく、具体的な素子としては例えば、レーザー、発光ダイオード、キセノンフラッシュランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タングステンランプ、水銀灯、無電極光源等をあげることができる。好ましくは、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タングステンランプ、水銀灯等の光源が挙げられるが、この発明では特に制限はない。   The light may be a light source of 300 to 1000 nm, and specific elements include, for example, lasers, light emitting diodes, xenon flash lamps, halogen lamps, carbon arc lamps, metal halide lamps, tungsten lamps, mercury lamps, electrodeless light sources, and the like. I can give you. Preferably, a light source such as a xenon lamp, a halogen lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a tungsten lamp, or a mercury lamp is used, but there is no particular limitation in the present invention.

前記発泡後、発泡を制御し、更にかさ密度の均一化をするために、この発明においては発泡後、平板プレス、ロールプレスなどを用いることが好ましい。平板プレス、ロールプレスは、圧力と特定の温度を付与するために用いられる。この発明では平板プレス、ロールプレスを用いているが、圧力と特定の温度を付与することがこの発明においては重要である。   In order to control foaming and make the bulk density uniform after foaming, it is preferable to use a flat plate press, a roll press or the like after foaming in the present invention. A flat plate press and a roll press are used to apply pressure and a specific temperature. In this invention, a flat plate press and a roll press are used, but it is important in this invention to apply a pressure and a specific temperature.

特定の圧力とは、0.01〜100kgf/cmが好ましく、より好ましくは0.1〜50kgf/cmである。加圧時間は0.01〜180secより好ましくは0.05〜120secである。加熱は、10〜500℃が好ましく、より好ましくは30〜300℃である。
<アンテナ>
ICモジュールはアンテナとしてアンテナコイルを有するものであるが、アンテナパターンを有する場合、導電性ペースト印刷加工、或いは銅箔エッチング加工、巻線溶着加工等のいずれかの方法を用いてもよい。プリント基板としては、ポリエステル等の熱可塑性のフィルムが用いられ、更に耐熱性が要求される場合はポリイミドが有利である。通信性から場合により樹脂、絶縁層などで被覆していても良い。
The specific pressure, preferably 0.01~100kgf / cm 2, more preferably 0.1~50kgf / cm 2. The pressurization time is 0.01 to 180 seconds, more preferably 0.05 to 120 seconds. 10-500 degreeC is preferable for heating, More preferably, it is 30-300 degreeC.
<Antenna>
The IC module has an antenna coil as an antenna. However, when it has an antenna pattern, any method such as conductive paste printing, copper foil etching, or winding welding may be used. As the printed board, a thermoplastic film such as polyester is used, and polyimide is advantageous when heat resistance is required. In some cases, it may be covered with a resin, an insulating layer or the like from the viewpoint of communication.

アンテナコイルを含む回路パターンは巻き線タイプであることが好ましく、場合により途中のコイルパターンと短絡することないよう別工程で電気的に接続することも可能である。アンテナコイルのターン回数は2〜10ターンであることが好ましいが、この発明では特に制限はない。この発明では、ICチップの回路面に形成されるバンプが、アンテナ形成されているフィルム支持体と対向してアンテナとバンプが電気的に接続される。   The circuit pattern including the antenna coil is preferably a winding type, and can be electrically connected in a separate process so as not to be short-circuited with the coil pattern in the middle. The number of turns of the antenna coil is preferably 2 to 10 turns, but there is no particular limitation in the present invention. In the present invention, the bump formed on the circuit surface of the IC chip is electrically connected to the antenna and the bump so as to face the film support on which the antenna is formed.

この発明においては、ICチップの回路面側がフィルム支持体上に形成されたアンテナとを電気的に接続するバンプ近傍に接続と2%弾性率が0.05〜80kg/mmからなる樹脂成分またはJISK−7222測定による「かさ密度」が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂のいずれか一方を満たす材料を含むことが好ましい。この発明においてはバンプ近傍に配置することが好ましいが、より好ましくはバンプに接触していることが好ましい。 In this invention, the circuit component side of the IC chip is connected in the vicinity of the bump for electrically connecting the antenna formed on the film support and the resin component having a 2% elastic modulus of 0.05 to 80 kg / mm 2 or It is preferable to include a material satisfying any one of foamed resins having a “bulk density” measured by JISK-7222 of 0.03 to 0.95 g / cm 3 . In the present invention, it is preferable to arrange in the vicinity of the bump, but more preferably it is in contact with the bump.

この発明で使用する、2%弾性率が0.05〜80kg/mmからなる樹脂成分とは、500μmの厚さでの樹脂物性を表す(硬化性化合物である場合、硬化後樹脂物性)。この発明においては、0.05〜80kg/mmであることが好ましく、より好ましくは0.05〜55kg/mmである。0.05kg/mmより低い又は80kg/mmより大きいと補強構造物への応力、変形がICチップに集中的にかかり、耐久性が低下し、問題となってしまう。この発明における2%弾性率は、下記のような方法にて測定を行った。 A resin component having a 2% elastic modulus of 0.05 to 80 kg / mm 2 used in the present invention represents a resin physical property at a thickness of 500 μm (in the case of a curable compound, a resin physical property after curing). In the present invention, it is preferably 0.05~80kg / mm 2, more preferably 0.05~55kg / mm 2. If it is lower than 0.05 kg / mm 2 or larger than 80 kg / mm 2 , stress and deformation to the reinforcing structure are concentrated on the IC chip, resulting in a decrease in durability and a problem. The 2% elastic modulus in this invention was measured by the following method.

<2%弾性率の測定方法>
接着剤を、厚さ500μmの硬化後の接着剤シートを作成し、この接着剤シートを株式会社オリエンテックテンシロン万能試験機RTA−100を用いASTM D638に準じて、引張弾性率を測定した。
<Measurement method of 2% elastic modulus>
An adhesive sheet after curing having a thickness of 500 μm was prepared from the adhesive, and the tensile modulus of the adhesive sheet was measured according to ASTM D638 using an Orientec Tensilon universal testing machine RTA-100.

この発明で使用できる、2%弾性率が0.05〜80kg/mmからなる樹脂成分の詳細を下記に示す。
<2%弾性率が0.05〜80kg/mmからなる樹脂>
この発明の材料は、この発明の趣旨より反しない限り、一般に使用されている樹脂材を制限なく用いることができる。エポキシ系、ウレタン系、シリコン系、シアノアクリレート系、ニトリルゴム等の合成ゴム系、UV硬化型、ホットメルト、嫌気性、セルロース系密着剤、酢酸ビニール系密着剤等を用いることができる。これら単独、または、複数用いることもできる。好ましくは、弾性エポキシ材料が用いられる。弾性エポキシ樹脂として、例えば、低温時の硬化性を得るために特開昭63−63716に開示されるような、エポキシ樹脂とメルカプタン系硬化剤との組み合わせからなるエポキシ樹脂組成物や、複素環状ジアミン硬化剤との組み合わせからなるエポキシ樹脂組成物が用いられてきた。また、高強度を得るためには芳香族ポリアミン硬化剤との組み合わせからなるエポキシ樹脂が用いられてきた。作業環境特性、支持体との接着性、接着安定性を得るために特開平10−120764に開示されているような、ビスフェノール型エポキシ樹脂とアミン系硬化剤として(C)ポリアミドアミン、(D)芳香族変性アミン、及び(E)脂肪族変性ポリアミンとの組み合わせによりエポキシ樹脂組成物が用いられている。また、特開平2000−229927には、エポキシ樹脂とアミンイミド化合物系硬化剤との組み合わせからなる硬化速度が早いエポキシ樹脂が得られている。特開平6−87190、特開平5−295272には特殊変性シリコーンプレポリマーを硬化剤と用いた記載がされており樹脂の柔軟性を改良した材料が開示されている。
Details of a resin component having a 2% elastic modulus of 0.05 to 80 kg / mm 2 that can be used in the present invention are shown below.
<Resin whose 2% elastic modulus is 0.05 to 80 kg / mm 2 >
As long as the material of this invention is not contrary to the meaning of this invention, the resin material generally used can be used without a restriction | limiting. Epoxy-based, urethane-based, silicone-based, cyanoacrylate-based, synthetic rubber-based nitrile rubber, UV curable, hot melt, anaerobic, cellulose-based adhesive, vinyl acetate-based adhesive, and the like can be used. These can be used alone or in combination. Preferably, an elastic epoxy material is used. As an elastic epoxy resin, for example, an epoxy resin composition comprising a combination of an epoxy resin and a mercaptan curing agent as disclosed in JP-A-63-63716 in order to obtain curability at low temperatures, or a heterocyclic diamine An epoxy resin composition comprising a combination with a curing agent has been used. Moreover, in order to obtain high strength, an epoxy resin comprising a combination with an aromatic polyamine curing agent has been used. (C) Polyamidoamine as amine-based curing agent and bisphenol-type epoxy resin as disclosed in JP-A No. 10-120964 in order to obtain working environment characteristics, adhesion to a support, and adhesion stability, (D) An epoxy resin composition is used in combination with an aromatic modified amine and (E) an aliphatic modified polyamine. Japanese Patent Laid-Open No. 2000-229927 discloses an epoxy resin having a high curing rate made of a combination of an epoxy resin and an amine imide compound-based curing agent. JP-A-6-87190 and JP-A-5-295272 describe the use of a specially modified silicone prepolymer as a curing agent, and disclose a material with improved resin flexibility.

この発明で用いることができる弾性エポキシ密着剤とは、例えば、セメダイン株式会社製、セメダインEP−001、株式会社スリーボンド社製、3950シリーズ、3950,3951,3952、コニシ株式会社製ボンドMOSシリーズ、MOS07、MOS10、東邦化成工業株式会社ウルタイト1500シリーズ、ウルタイト1540等を用いることが好ましい。   Examples of the elastic epoxy adhesive that can be used in this invention include Cemedine Co., Ltd., Cemedine EP-001, Three Bond Co., Ltd., 3950 Series, 3950, 3951, 3952, Konishi Co., Ltd. Bond MOS Series, MOS07. It is preferable to use MOS10, Toho Kasei Kogyo Co., Ltd. ULTITE 1500 series, ULTITE 1540 and the like.

この発明における樹脂とは、23℃における粘度が1000〜35000cpsであることが好ましく、更に好ましくは3000〜35000cpsである。粘度が1000cps以下であるとICチップと補強構造物密着時に粘度が低すぎるため設けた液が流れてしまい膜厚制御、膜厚ムラができてしまい問題とる。また、粘度が35000cps以上であると製造時に塗工スジ、気泡が発生してしまい密着性が劣化してしまう。   The resin in this invention preferably has a viscosity at 23 ° C. of 1000 to 35000 cps, more preferably 3000 to 35000 cps. When the viscosity is 1000 cps or less, the viscosity is too low when the IC chip and the reinforcing structure are in close contact with each other, so that the provided liquid flows and film thickness control and film thickness unevenness are caused. Further, when the viscosity is 35000 cps or more, coating streaks and bubbles are generated at the time of production, and the adhesion is deteriorated.

また、この発明材料は、ポッティング、塗布、噴射、印刷、IJ形成等、特に制限なく補強構造物上、ICチップ上に設けることができる。   Further, the material of the present invention can be provided on a reinforcing structure or an IC chip without particular limitation such as potting, coating, spraying, printing, IJ formation and the like.

この発明では、この発明の趣旨より反しない限り、添加剤を加えることができる。特に密着剤に弾性粒子を含有するのが好ましい。密着剤に添加可能な素材としては、導電性材料、金属微粒子、WAX、熱可塑性樹脂、無機微粒子、レベリング剤、ゴム弾性粒子、熱可塑性エラストマー、熱可塑性樹脂、粘着剤、硬化剤、硬化触媒、流展剤、平板上粒子、針状粒子、その他添加剤等を配合することも可能である。
<JISK−7222測定による「かさ密度」が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂>
前記記載した材料と同様な材料を用い、更に付与方法も同様なので省略する
<モジュール支持体>
予めICチップを含む部品を所定の位置に載置してから樹脂を充填するために、樹脂の流動による剪断力で接合部が外れたり、樹脂の流動や冷却に起因して表面の平滑性を損なったりと安定性に欠けることを解消するため、予め基板シートに樹脂層を形成しておいて該樹脂層内に部品を封入するために該電子部品を多孔質の樹脂フィルム、多孔質の発泡性樹脂フィルム、可撓性の樹脂シート、多孔性の樹脂シート又は不織布シート状にし使用されることができる。例えば特願平11−105476等の記載されている方法等を用いることができる。
In the present invention, additives can be added unless it is contrary to the spirit of the present invention. In particular, the adhesive preferably contains elastic particles. Materials that can be added to the adhesive include conductive materials, metal fine particles, WAX, thermoplastic resins, inorganic fine particles, leveling agents, rubber elastic particles, thermoplastic elastomers, thermoplastic resins, adhesives, curing agents, curing catalysts, It is also possible to blend a spreading agent, particles on a flat plate, acicular particles, and other additives.
<Foamed resin having a “bulk density” of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222>
The same materials as those described above are used, and the application method is also the same, so the module support is omitted.
In order to fill the resin after placing the parts including the IC chip in a predetermined position in advance, the shearing force due to the flow of the resin causes the joint to come off or the surface smoothness due to the flow or cooling of the resin. In order to eliminate the damage and lack of stability, a resin layer is previously formed on the substrate sheet, and the electronic component is sealed with a porous resin film or porous foam to enclose the component in the resin layer. It can be used in the form of a conductive resin film, a flexible resin sheet, a porous resin sheet, or a nonwoven fabric sheet. For example, a method described in Japanese Patent Application No. 11-105476 can be used.

例えば、アンテナフィルム支持体としてはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリイミド、PET−G(イーストマンケミカル社)、ポリエチレンテレフタレート/イソフタレート共重合体等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ4フッ化エチレン、エチレン−4フッ化エチレン共重合体、等のポリフッ化エチレン系樹脂、ナイロン6、ナイロン6.6等のポリアミド、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、エチレン/ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、ビニロン等のビニル重合体、生分解性脂肪族ポリエステル、 生分解性ポリカーボネート、生分解性ポリ乳酸 、生分解性ポリビニルアルコール、生分解性セルロースアセテート、生分解性ポリカプロラクトン等の生分解性樹脂、三酢酸セルロース、セロファン等のセルロース系樹脂、ポリメタアクリル酸メチル、ポリメタアクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、等のアクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリイミド等の合成樹脂シート、又は上質紙、薄葉紙、グラシン紙、硫酸紙等の紙、金属箔等の単層体或いはこれら2層以上の積層体が挙げられる。この発明の支持体の厚みは10〜50μmが好ましい。10μm以下であると第1の支持体と第2の支持体の貼り合わせ時に熱収縮等を起こし問題である。50μm以上では、クッション効果が低下し、ICチップが破損しやすくなる。   For example, as the antenna film support, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyimide, PET-G (Eastman Chemical Co., Ltd.), polyester resins such as polyethylene terephthalate / isophthalate copolymer, polyolefins such as polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, etc. Resin, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, polytetrafluoroethylene, ethylene-tetrafluoroethylene copolymer, and other polyfluorinated ethylene resins, nylon 6, nylon 6.6, and other polyamides, polyvinyl chloride, chloride Vinyl / vinyl acetate copolymers, ethylene / vinyl acetate copolymers, ethylene / vinyl alcohol copolymers, vinyl polymers such as polyvinyl alcohol and vinylon, biodegradable aliphatic polyesters, biodegradable polycarbonates Biodegradable resins such as nates, biodegradable polylactic acid, biodegradable polyvinyl alcohol, biodegradable cellulose acetate, biodegradable polycaprolactone, cellulose resins such as cellulose triacetate and cellophane, polymethylmethacrylate, poly Acrylic resins such as ethyl methacrylate, polyethyl acrylate, polybutyl acrylate, synthetic resin sheets such as polystyrene, polycarbonate, polyarylate, polyimide, or paper such as fine paper, thin paper, glassine paper, sulfate paper, A single layer body such as a metal foil or a laminate of two or more layers can be used. As for the thickness of the support body of this invention, 10-50 micrometers is preferable. When the thickness is 10 μm or less, there is a problem in that heat shrinkage or the like is caused when the first support and the second support are bonded. If it is 50 μm or more, the cushioning effect is lowered, and the IC chip is easily damaged.

前記記載のICチップ、アンテナ、補強構造物、モジュール支持体等からなるICモジュールの全厚さは、10〜500μmが好ましく、より好ましくは10〜450μm、更に好ましくは10〜350μmが好ましい。
[第1シート部材と、第2シート部材との間に所定の厚みの電子部品とを備える方法]
この発明の第1シート部材と第2シート部材との間に接着剤を介して所定のICモジュールとを備え、ICカード基材を製造する方法としては、熱貼合法、接着剤貼合法及び射出成形法が知られているが、いずれの方法で貼り合わしてもよい。
The total thickness of the IC module comprising the IC chip, antenna, reinforcing structure, module support and the like described above is preferably 10 to 500 μm, more preferably 10 to 450 μm, and still more preferably 10 to 350 μm.
[Method of providing electronic component of predetermined thickness between first sheet member and second sheet member]
A method for producing an IC card substrate, which includes a predetermined IC module via an adhesive between the first sheet member and the second sheet member of the present invention, includes a thermal bonding method, an adhesive bonding method, and an injection. Although a molding method is known, it may be bonded by any method.

ICカード基材の製造方法は、特開2000−036026、特開2000−219855、特開平2000−211278、特開平2000−219855、特開平10−316959、特開平11−5964等のように貼り合わせ、塗設方法が開示されている。   The manufacturing method of the IC card substrate is bonded as in JP 2000-036026, JP 2000-21855, JP 2000-2111278, JP 2000-21855, JP 10-316959, JP 11-5964, and the like. A coating method is disclosed.

この発明のICカードの製造方法は、少なくとも、常温状態では固形物または粘調体であり、加熱状態では軟化する接着部材をカード用の支持体に設ける工程と、電子部品をこの支持体上に配置する工程と、この支持体上の電子部品を覆うように接着部材を設けた支持体を配置する工程と、所定の加圧加温条件の下で支持体、電子部品及び表面用の支持体とを貼り合わせる工程とを有し貼り合わせることができる。   The method for producing an IC card according to the present invention includes a step of providing an adhesive member that is a solid or viscous body at a normal temperature and softens in a heated state on a card support, and an electronic component on the support. A step of arranging, a step of arranging a support provided with an adhesive member so as to cover the electronic component on the support, and a support for the support, the electronic component, and the surface under a predetermined pressure and heating condition And a step of bonding together.

また、この発明の「かさ密度」が0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂をこのときに用いることも可能である。具体的には、加熱状態では軟化する接着部材をカード用の支持体に設ける工程と、電子部品をこの支持体上に配置する工程と、「かさ密度」が0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂をポッティングなどによりICチップまたは補強構造物近傍に設ける工程、発泡樹脂を付与したICモジュールを、光又は熱により発泡させる工程、この支持体上の電子部品を覆うように接着部材を設けた支持体を配置する工程と、所定の加圧加温条件の下で支持体、電子部品及び表面用の支持体とを貼り合わせる工程とを有し貼り合わせることができる。 Moreover, it is also possible to use the foamed resin whose "bulk density" of this invention is 0.03-0.95 g / cm < 3 > at this time. Specifically, a step of providing an adhesive member that softens in a heated state on a card support, a step of placing electronic components on the support, and a “bulk density” of 0.03 to 0.95 g / cm 3. A step of providing the foamed resin 3 in the vicinity of the IC chip or the reinforcing structure by potting or the like, a step of foaming the IC module provided with the foamed resin by light or heat, and an adhesive member so as to cover the electronic component on the support And a step of attaching the support, the electronic component, and the support for the surface under a predetermined pressure and heating condition.

該固形物または粘調体の加熱状態で軟化する接着部材とは、接着剤自身をシート状に形成し具備する方法と接着剤自身を加熱または常温で溶融し射出成型によって貼り合わせることが好ましい。   The adhesive member that softens in the heated state of the solid or viscous material is preferably formed by bonding the adhesive itself by heating or melting at room temperature and injection molding.

該シート部材付与時に粘調体である接着部材とは、接着剤自身をシート状に形成し具備する方法と接着剤自身を加熱または常温で溶融し塗布又は射出成型によって貼り合わせることが好ましい。   The adhesive member, which is a viscous material when the sheet member is applied, is preferably formed by forming the adhesive itself in a sheet form and bonding the adhesive itself by heating or melting at room temperature and then applying or injection molding.

貼り合わせ時には、基材の表面平滑性、第1シート部材と第2シート部材との間の密着性をあげるために加熱及び加圧を行うことが好ましく、上下プレス方式、ラミネート方式、キャタピラ方式等で製造することが好ましい。加熱は、10〜120℃が好ましく、より好ましくは30〜100℃である。加圧は、0.05〜300kgf/cmが好ましく、より好ましくは0.05〜100kgf/cmである。これより圧が高いICチップが破損する。加熱及び加圧時間は好ましくは、0.1〜180secより好ましくは0.1〜120secである。これより時間が長いと製造効率が低下する。 At the time of bonding, it is preferable to perform heating and pressurization in order to increase the surface smoothness of the base material and the adhesion between the first sheet member and the second sheet member, such as a vertical press method, a laminate method, a caterpillar method, etc. It is preferable to manufacture by. The heating is preferably 10 to 120 ° C, more preferably 30 to 100 ° C. Pressure is preferably 0.05~300kgf / cm 2, more preferably 0.05~100kgf / cm 2. An IC chip having a higher pressure is damaged. The heating and pressurizing time is preferably 0.1 to 180 sec, more preferably 0.1 to 120 sec. If the time is longer than this, the production efficiency is lowered.

前記接着剤貼合法や樹脂射出法で貼り合わせた枚葉シート又は連続塗工ラミロールは、接着剤の所定硬化時間に合わした時間内放置後、認証識別画像や書誌事項を記録しても良く、その後所定のカードサイズに成形しても良い。所定のカードサイズに形成する方法としては打ち抜く方法、断裁する方法等が主に選択されICカード基材を作成することができる。   The single-wafer sheet or continuous coating laminar bonded by the adhesive bonding method or the resin injection method may record the authentication identification image or bibliographic information after being allowed to stand within a time that matches the predetermined curing time of the adhesive. You may shape | mold to a predetermined card size. As a method of forming a predetermined card size, a punching method, a cutting method, or the like is mainly selected, and an IC card substrate can be created.

ICカード基材作成用に用いられるICカード接着剤とは、2%弾性率が1kg/mm以上90kg/mm以下、破断点伸度200%以上1300%以下の材料であることが好ましい。1kg/mm未満であるとカード状に成型する際に劣化し問題となる。90kg/mmより大きいと、衝撃性、点圧強度、曲げ性が劣化し問題となる。破断伸度200%未満であると衝撃性、点圧強度、曲げ性が劣化し問題となる。1300%より大きいとカード状に成型する際に劣化し問題となる。この発明では2%弾性率が1kg/mm以上90kg/mm以下、破断点伸度200%以上1300%以下の材料であることが好ましいが、より好ましくは、発行後のICカードの薬品耐性等から、反応型接着剤が好ましい。具体的には光硬化型接着剤若しくは湿気硬化型接着剤、エポキシ接着剤等である。この発明では湿気硬化型接着剤を用いることが好ましい。反応型ホットメルト接着剤として湿気硬化型の材料があり、特開2000−036026、特開2000−219855、特開平2000−211278、特願平2000−369855で開示されている。光硬化型接着剤として特開平10−316959、特開平11−5964等に開示されている。これら接着剤のいずれも使用してもよく、この発明には制限はない材料を用いることが好ましい。接着剤の全体の膜厚は、仕上がりカードに依存するが、800〜300μmが好ましく、更に好ましくは800〜400μm、より好ましくは700〜400μmである。
<2%弾性率、破断伸度の測定方法>
接着剤を、厚さ500μmの硬化後の接着剤シートを作成し、この接着剤シートは株式会社オリエンテックテンシロン万能試験機RTA−100を用いASTM D638に準じて、引張弾性率、破断伸度を測定した。
The IC card adhesive used for preparing the IC card base material is preferably a material having a 2% elastic modulus of 1 kg / mm 2 or more and 90 kg / mm 2 or less and an elongation at break of 200% or more and 1300% or less. When it is less than 1 kg / mm 2 , it deteriorates when it is molded into a card shape. When it is larger than 90 kg / mm 2 , impact properties, point pressure strength, and bendability are deteriorated. When the elongation at break is less than 200%, impact properties, point pressure strength, and bendability are deteriorated, which is a problem. If it is larger than 1300%, it deteriorates when it is molded into a card shape. In the present invention, the material is preferably a material having a 2% elastic modulus of 1 kg / mm 2 or more and 90 kg / mm 2 or less, and an elongation at break of 200% or more and 1300% or less, more preferably chemical resistance of the IC card after issuance. From the above, a reactive adhesive is preferable. Specifically, it is a light curable adhesive, a moisture curable adhesive, an epoxy adhesive, or the like. In the present invention, it is preferable to use a moisture curable adhesive. There are moisture curable materials as reactive hot melt adhesives, which are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2000-036026, 2000-2119855, 2000-2111278, and Japanese Patent Application No. 2000-369855. JP-A-10-316959 and JP-A-11-5964 are disclosed as photocurable adhesives. Any of these adhesives may be used, and it is preferable to use a material that is not limited in the present invention. The total film thickness of the adhesive depends on the finished card, but is preferably 800 to 300 μm, more preferably 800 to 400 μm, and more preferably 700 to 400 μm.
<Measurement method of 2% elastic modulus and elongation at break>
An adhesive sheet having a thickness of 500 μm was prepared as an adhesive, and this adhesive sheet was measured for tensile modulus and elongation at break according to ASTM D638 using Orientec Tensilon Universal Testing Machine RTA-100. It was measured.

この発明で実施可能なICカードの断面層などの構成の1例を図1乃至図18に示した。
[仕上がりICカード厚さ]
この発明では前記記載の材料から構成されICカードを作成することができる。この発明対象ICカードは、厚さ300〜1200μmの厚さを有することが好ましく、更に好ましくは400〜1000μmであり、より好ましくは400〜1000μmであることがこのましい。最大膜厚をICカード厚さとした。厚み測定は、接触式の膜厚計(東京精密社製 電機マイクロメーター ミニコムM)を用いて測定を行った。
<画像記録体の画像形成方法>
前記作成されたICカードに画像要素すなわち顔画像等の認証識別画像、属性情報画像、フォーマット印刷から選ばれる少なくとも1つを設けた発行済みICカードを、画像記録体と称する。顔画像等の認証識別画像、属性情報画像、フォーマット印刷から選ばれる少なくとも1つは、第1シート部材または第2シート部材のいずれに設けてもよく、好ましくは第1シート部材側に設けることが好ましい。
One example of the configuration of the cross-sectional layer of the IC card that can be implemented in the present invention is shown in FIGS.
[Finished IC card thickness]
In the present invention, an IC card made of the materials described above can be produced. The IC card according to the present invention preferably has a thickness of 300 to 1200 μm, more preferably 400 to 1000 μm, and more preferably 400 to 1000 μm. The maximum film thickness was taken as the IC card thickness. The thickness was measured using a contact-type film thickness meter (Electric Micrometer Minicom M manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.).
<Image Forming Method of Image Recorder>
An issued IC card in which at least one selected from an image element, that is, an authentication identification image such as a face image, an attribute information image, and format printing is provided on the created IC card is referred to as an image recording body. At least one selected from an authentication identification image such as a face image, an attribute information image, and format printing may be provided on either the first sheet member or the second sheet member, and is preferably provided on the first sheet member side. preferable.

顔画像は通常の場合、階調を有するフルカラー画像で、例えば昇華型感熱転写記録方式、溶融型感熱転写記録方式、電子写真方式、インクジェット方式等により作製されている。この発明においては、昇華型感熱転写記録方式により顔画像等の認証識別画像、属性情報画像を記録することが好ましい。   The face image is usually a full-color image having gradation, and is produced by, for example, a sublimation type thermal transfer recording system, a melt type thermal transfer recording system, an electrophotographic system, an ink jet system, or the like. In the present invention, it is preferable to record an authentication identification image such as a face image and an attribute information image by a sublimation type thermal transfer recording method.

属性情報は氏名、住所、生年月日、資格等であり、属性情報は通常文字情報として記録され溶融型感熱転写記録方法が一般的である。フォーマット印刷または、情報記録を行ってもよく、オフセット印刷、グラビア印刷、シルク印刷、スクリーン印刷、凹版印刷、凸版印刷、インクジェット方式、昇華転写方式、電子写真方式、熱溶融方式等のいずれの方式によって形成することができる。   The attribute information includes name, address, date of birth, qualification, etc., and the attribute information is usually recorded as character information, and a melt type thermal transfer recording method is generally used. Format printing or information recording may be performed. By any method such as offset printing, gravure printing, silk printing, screen printing, intaglio printing, letterpress printing, ink jet method, sublimation transfer method, electrophotographic method, heat melting method, etc. Can be formed.

具体的に使用される昇華型熱転写材料及び形成方法、溶融型熱転写材料及び形成方法の具体的な材料を下記に示す。さらに、偽変造防止の目的で透かし印刷、ホログラム、細紋等を設けても良い。具体的な偽造変造防止層としては印刷物、ホログラム、バーコード、マット調柄、細紋、地紋、凹凸パターンなどで適時選択さ、可視光吸収色材、紫外線吸収材、赤外線吸収材、蛍光増白材、金属蒸着層、ガラス蒸着層、ビーズ層、光学変化素子層、パールインキ層、隣片顔料層などから成るものが挙げられる。
<昇華画像形成方法>
昇華型感熱転写記録用インクシートは、支持体とその上に形成された昇華性色素含有インク層とで構成することができる。
(支持体)
支持体としては、寸法安定性がよく、感熱ヘッドでの記録の際の熱に耐える限り特に制限がなく、従来から公知のものを使用することができる。
(昇華性色素含有インク層)
上記昇華性色素含有インク層は、基本的に昇華性色素とバインダーとを含有する。前記昇華性色素としてはシアン色素、マゼンタ色素およびイエロー色素を挙げることができる。
Specific materials for the sublimation type thermal transfer material and formation method, and the melt type thermal transfer material and formation method that are specifically used are shown below. Further, for the purpose of preventing forgery and alteration, watermark printing, holograms, fine patterns, etc. may be provided. Specific anti-counterfeiting prevention layers are selected from printed materials, holograms, barcodes, matte patterns, fine patterns, ground patterns, uneven patterns, etc., visible light absorbing color materials, ultraviolet absorbing materials, infrared absorbing materials, fluorescent whitening Examples thereof include materials, metal vapor deposition layers, glass vapor deposition layers, bead layers, optical change element layers, pearl ink layers, and adjacent pigment layers.
<Sublimation image forming method>
The sublimation type thermal transfer recording ink sheet can be composed of a support and a sublimable dye-containing ink layer formed thereon.
(Support)
As the support, there is no particular limitation as long as it has good dimensional stability and can withstand the heat at the time of recording with a thermal head, and conventionally known ones can be used.
(Sublimation dye-containing ink layer)
The sublimable dye-containing ink layer basically contains a sublimable dye and a binder. Examples of the sublimable dye include a cyan dye, a magenta dye, and a yellow dye.

シアン色素としては、特開昭59−78896号公報、同59−227948号公報、同60−24966号公報、同60−53563号公報、同60−130735号公報、同60−131292号公報、同60−239289号公報、同61−19396号公報、同61−22993号公報、同61−31292号公報、同61−31467号公報、同61−35994号公報、同61−49893号公報、同61−148269号公報、同62−191191号公報、同63−91288号公報、同63−91287号公報、同63−290793号公報などに記載されているナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、アゾメチン系色素等が挙げられる。   Examples of cyan dyes include JP-A-59-78896, JP-A-59-227948, JP-A-60-24966, JP-A-60-53563, JP-A-60-130735, and JP-A-60-131292. 60-239289, 61-19396, 61-22993, 61-31292, 61-31467, 61-35994, 61-49893, 61 -148269, 62-191191, 63-91288, 63-91287, 63-290793, etc. Naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, azomethine dyes, etc. Is mentioned.

マゼンタ色素としては、特開昭59−78896号公報、同60−30392号公報、同60−30394号公報、同60−253595号公報、同61−262190号公報、同63−5992号公報、同63−205288号公報、同64−159号、同64−63194号公報等の各公報に記載されているアントラキノン系色素、アゾ色素、アゾメチン系色素等が挙げられる。   As magenta dyes, JP-A-59-78896, JP-A-60-30392, JP-A-60-30394, JP-A-60-253595, JP-A-61-262190, JP-A-63-5992, Examples thereof include anthraquinone dyes, azo dyes, and azomethine dyes described in JP-A-63-205288, JP-A-64-159, and JP-A-64-63194.

イエロー色素としては、特開昭59−78896号公報、同60−27594号公報、同60−31560号公報、同60−53565号公報、同61−12394号公報、同63−122594号公報等の各公報に記載されているメチン系色素、アゾ系色素、キノフタロン系色素およびアントライソチアゾール系色素が挙げられる。   Examples of yellow dyes include those disclosed in JP-A-59-78896, JP-A-60-27594, JP-A-60-31560, JP-A-60-53565, JP-A-61-1394, and JP-A-63-1252594. Examples thereof include methine dyes, azo dyes, quinophthalone dyes, and antisothiazole dyes described in each publication.

また、昇華性色素として特に好ましいのは、開鎖型または閉鎖型の活性メチレン基を有する化合物をp−フェニレンジアミン誘導体の酸化体またはp−アミノフェノール誘導体の酸化体とのカップリング反応により得られるアゾメチン色素およびフェノールまたはナフトール誘導体またはp−フェニレンジアミン誘導体の酸化体またはp−アミノフェノール誘導体の酸化体のとのカップリング反応により得られるインドアニリン色素である。   Also particularly preferred as the sublimable dye is an azomethine obtained by coupling a compound having an open chain or closed active methylene group with an oxidized form of a p-phenylenediamine derivative or an oxidized form of a p-aminophenol derivative. It is an indoaniline dye obtained by a coupling reaction between a dye and an oxidized form of a phenol or naphthol derivative or p-phenylenediamine derivative or an oxidized form of a p-aminophenol derivative.

また、受像層中に金属イオン含有化合物が配合されているときには、この金属イオン含有化合物と反応してキレートを形成する昇華性色素を、昇華性色素含有インク層中に含めておくのが良い。このようなキレート形成可能な昇華性色素としては、例えば特開昭59−78893号、同59−109349号、特願平2−213303号、同2−214719号、同2−203742号に記載されている、少なくとも2座のキレートを形成することができるシアン色素、マゼンタ色素およびイエロー色素を挙げることができる。   Further, when a metal ion-containing compound is blended in the image receiving layer, a sublimable dye that reacts with the metal ion-containing compound to form a chelate may be included in the sublimable dye-containing ink layer. Examples of such chelating sublimable dyes are described in JP-A-59-78893, JP-A-59-109349, JP-A-2-213303, JP-A-2-214719, and JP-A-2-203742. And cyan, magenta and yellow dyes capable of forming at least bidentate chelates.

キレートの形成可能な好ましい昇華性色素は、下記一般式で表わすことができる。   A preferred sublimable dye capable of forming a chelate can be represented by the following general formula.

X1 −N=N−X2 −G
ただし、式中X1 は、少なくとも一つの環が5〜7個の原子から構成される芳香族の炭素環、または複素環を完成するのに必要な原子の集まりを表わし、アゾ結合に結合する炭素原子の隣接位の少なくとも一つが、窒素原子またはキレート化基で置換された炭素原子である。X2 は、少なくとも一つの環が5〜7個の原子から構成される芳香族複素環または、芳香族炭素環を表わす。Gはキレート化基を表わす。
X1-N = N-X2-G
In the formula, X1 represents an aromatic carbocyclic ring in which at least one ring is composed of 5 to 7 atoms, or a group of atoms necessary for completing a heterocyclic ring, and is a carbon bonded to an azo bond. At least one of the adjacent positions of the atom is a nitrogen atom or a carbon atom substituted with a chelating group. X2 represents an aromatic heterocycle or an aromatic carbocycle in which at least one ring is composed of 5 to 7 atoms. G represents a chelating group.

いずれの昇華性色素に関しても前記昇華性色素含有インク層に含有される昇華性色素は、形成しようとする画像が単色であるならば、イエロー色素、マゼンタ色素、およびシアン色素の何れであっても良く、形成しようとする画像の色調によっては、前記三種の色素のいずれか二種以上もしくは他の昇華性色素を含んでいても良い。前記昇華性色素の使用量は、通常、支持体1m当たり0.1〜20g、好ましくは0.2〜5gである。 With regard to any sublimable dye, the sublimable dye contained in the sublimable dye-containing ink layer may be any of a yellow dye, a magenta dye, and a cyan dye if the image to be formed is a single color. In addition, depending on the color tone of the image to be formed, any two or more of the three kinds of dyes or other sublimable dyes may be included. The use amount of the sublimable dye is usually 0.1 to 20 g, preferably 0.2 to 5 g, per 1 m 2 of the support.

インク層のバインダーとしては特に制限がなく従来から公知のものを使用することができる。さらに前記インク層には、従来から公知の各種添加剤を適宜に添加することができる。また、インクシート用支持体には、バインダーとの接着性の改良や色素のインクシート用支持体側への転写、染着を防止する目的で下引層を有していてもよい。更にインクシート用支持体の裏面(インク層と反対側)には、ヘッドのインクシート用支持体に対する融着やスティッキング、熱昇華型感熱転写インクシートのシワが発生するのを防止する目的でスティッキング防止層を設けてもよい。上記のオーバーコート層、下引層及びスティッキング防止層厚みは、通常0.1〜1μmである。   The binder for the ink layer is not particularly limited, and conventionally known binders can be used. Furthermore, conventionally known various additives can be appropriately added to the ink layer. Further, the ink sheet support may have an undercoat layer for the purpose of improving adhesiveness with the binder and preventing the transfer and dyeing of the dye to the ink sheet support. Further, the back surface of the ink sheet support (opposite to the ink layer) is stuck for the purpose of preventing fusing and sticking of the head to the ink sheet support and wrinkles of the thermal sublimation type thermal transfer ink sheet. A prevention layer may be provided. The thickness of the overcoat layer, the undercoat layer, and the anti-sticking layer is usually 0.1 to 1 μm.

昇華型感熱転写記録用インクシートは、インク層を形成する前記各種の成分を溶媒に分散ないし溶解してなるインク層形成用塗工液を調製し、これを支持体の表面に塗工し、乾燥することにより製造することができる。かくして形成されたインク層の膜厚は、通常、0.2〜10μmであり、好ましくは、0.3〜3μmである。
<熱溶融画像形成方法>
(熱溶融性インク層)
熱溶融転写記録用インクシートは、支持体とその上に形成された熱溶融含有インク層とで構成することができる。熱溶融性インク層は、熱溶融性化合物、熱可塑性樹脂および着色剤等から構成される。また、昇華型感熱転写記録用インクシート同様、熱溶融型感熱転写インクシートのシワが発生するのを防止する目的でスティッキング防止層を設けてもよい。上記のオーバーコート層、下引層及びスティッキング防止層の厚みは、通常0.1〜1μmである。
The ink sheet for sublimation type thermal transfer recording is prepared by dispersing or dissolving the various components for forming the ink layer in a solvent, and coating this on the surface of the support. It can be manufactured by drying. The film thickness of the ink layer thus formed is usually 0.2 to 10 μm, preferably 0.3 to 3 μm.
<Hot-melt image forming method>
(Hot-melting ink layer)
The ink sheet for hot melt transfer recording can be composed of a support and a hot melt-containing ink layer formed thereon. The heat-meltable ink layer is composed of a heat-meltable compound, a thermoplastic resin, a colorant, and the like. Further, like the sublimation type thermal transfer recording ink sheet, an anti-sticking layer may be provided for the purpose of preventing wrinkling of the hot melt type thermal transfer ink sheet. The overcoat layer, undercoat layer, and anti-sticking layer have a thickness of usually 0.1 to 1 μm.

熱溶融性化合物としては、通常この種の熱溶融型感熱転写記録用インクシートの熱溶融性インク層に使用されるものを任意に使用することができ、具体的には、たとえば、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、スチレン−アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等の熱可塑性樹脂の低分子量物、特開昭63−193886号公報の第4頁左上欄第8行から同頁右上欄第12行までに例示の物質を挙げることができ、さらにこれらの他に、ロジン、水添ロジン、重合ロジン、ロジン変性グリセリン、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性ポリエステル樹脂、ロジン変性フェノ−ル樹脂およびエステルガム等のロジン誘導体、ならびにフェノ−ル樹脂、テルペン樹脂、ケトン樹脂、シクロペンタジエン樹脂および芳香族炭化水素樹脂などを挙げることができる。なお、これらの熱溶融性化合物は、分子量が通常、10,000以下、特に、5,000以下で、融点もしくは軟化点が50〜150℃の範囲にあるものが好ましい。前記熱溶融性化合物は、一種単独で使用してもよいし、二種以上を組合せて用いてもよい。前記熱溶融性インク層の成分として使用される前記熱可塑性樹脂としては、通常この種の熱溶融型感熱転写記録用インクシートの熱溶融性インク層に使用されるものなど各種のものが使用可能であり、たとえば、特開昭63−193886号公報の第4頁右上欄第5頁左上欄第18行に例示の物質を挙げることができる。前記熱溶融性インク層の成分として使用される前記着色剤としては、通常この種の熱溶融型感熱転写記録用インクシートの熱溶融性インク層に使用されるものを制限なく使用することができ、たとえば、特開昭63−193886号公報第5頁右上欄第3行から第15行に記載の無機顔料、有機顔料等の顔料、ならびに有機染料等の染料を挙げることができる。   As the heat-meltable compound, those usually used for the heat-meltable ink layer of this kind of heat-melt type thermal transfer recording ink sheet can be arbitrarily used. Specifically, for example, polystyrene resin, Low molecular weight products of thermoplastic resins such as acrylic resins, styrene-acrylic resins, polyester resins, polyurethane resins, etc., from page 8, upper left column, line 8 to upper right column, line 12 of JP-A-63-193886. Illustrative substances can be mentioned, and besides these, rosin, hydrogenated rosin, polymerized rosin, rosin modified glycerin, rosin modified maleic resin, rosin modified polyester resin, rosin modified phenolic resin, ester gum and the like Rosin derivatives, phenolic resins, terpene resins, ketone resins, cyclopentadiene resins and aromatic hydrocarbon resins Etc. can be mentioned. These heat-meltable compounds preferably have a molecular weight of usually 10,000 or less, particularly 5,000 or less, and a melting point or softening point in the range of 50 to 150 ° C. The said heat-meltable compound may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. As the thermoplastic resin used as a component of the heat-meltable ink layer, various materials such as those usually used for the heat-meltable ink layer of this kind of heat-melt type thermal transfer recording ink sheet can be used. For example, the substances exemplified in JP-A 63-193886, page 4, upper right column, page 5, upper left column, line 18, can be mentioned. As the colorant used as a component of the heat-meltable ink layer, those usually used for the heat-meltable ink layer of this kind of heat-melt type thermal transfer recording ink sheet can be used without limitation. Examples thereof include inorganic pigments, organic pigments and the like, and dyes such as organic dyes described in JP-A 63-193886, page 5, right upper column, lines 3 to 15.

これら各種の着色剤は、一種単独で使用してもよいし、必要に応じて、二種以上を併用してもよい。前記熱溶融性インク層には、必要に応じて本発明の目的を阻害しない範囲で、上記以外の他の添加成分を適宜添加することができる。たとえば、この熱溶融性インク層には、フッ素系界面活性剤を含有させても良い。フッ素系界面活性剤の含有により、前記熱溶融性インク層のブロッキング現象を防止することができる。また、転写した文字情報含有画像の先鋭性すなわち、文字境界部の切れを良くするために有機微粒子、無機微粒子、非相溶性樹脂を添加するのも効果的である。前記熱溶融性インク層の膜厚は、通常、0.6〜5.0μmであり、特に1.0〜4.0μmであるのが好ましい。この熱溶融性インク層は、形成成分を有機溶媒に分散あるいは溶解して塗布する方法(有機溶剤法)、加熱により熱可塑性樹脂などを軟化あるいは溶融状態にして塗布する方法(ホットメルト塗布法)などを採用して塗設されていても良いが、形成成分を水や有機溶媒に分散もしくは溶解させたエマルジョン、もしくは溶液などを用いて塗工されてなるのが好ましい。前記熱溶融性インク層の塗設に用いる塗工液中の層形成成分の合計の含有率は、通常は、5〜50重量%の範囲内に設定される。塗布方法は、通常の方法を利用して行なうことができる。塗布方法の例としては、ワイヤーバーを用いた方法、スクイズコート法およびグラビアコート法などを挙げることができる。また、熱溶融性インク層は、少なくとも一層で設けられていることが必要であるが、たとえば着色剤の種類および含有率、あるいは熱可塑性樹脂と熱溶融性化合物との配合比率などの異なる二層以上の熱溶融性インク層を積層して構成してもよい。
<認証識別画像の形成>
認証識別画像を形成するには、昇華型感熱転写記録用インクシートの熱拡散性色素含有インク層と基材における受像層とを重ねあわせ、熱拡散性色素含有インク層と受像層とにイメージワイズに熱エネルギーを与える。すると、熱拡散性色素含有インク層中の熱拡散性色素は、この画像形成時に加えられた熱エネルギーに応じた量だけ気化あるいは昇華し、受像層側に移行し、受容される結果、受像層に階調情報含有画像が形成される。
These various colorants may be used alone or in combination of two or more as required. In the heat-meltable ink layer, other additive components other than those described above can be appropriately added as necessary within the range not impairing the object of the present invention. For example, this hot-melt ink layer may contain a fluorinated surfactant. By containing the fluorosurfactant, the blocking phenomenon of the hot-melt ink layer can be prevented. It is also effective to add organic fine particles, inorganic fine particles, and incompatible resins in order to improve the sharpness of the transferred character information-containing image, that is, the character boundary portion. The film thickness of the hot-melt ink layer is usually 0.6 to 5.0 μm, and preferably 1.0 to 4.0 μm. This heat-meltable ink layer is formed by dispersing or dissolving the forming components in an organic solvent (organic solvent method), or by applying a thermoplastic resin in a softened or molten state by heating (hot-melt coating method). However, it is preferably coated using an emulsion or solution in which the forming component is dispersed or dissolved in water or an organic solvent. The total content of the layer forming components in the coating liquid used for coating the heat-meltable ink layer is usually set in the range of 5 to 50% by weight. The coating method can be performed using a normal method. Examples of the coating method include a method using a wire bar, a squeeze coating method, and a gravure coating method. In addition, the heat-meltable ink layer needs to be provided in at least one layer. For example, the two layers differ in the type and content of the colorant or the blending ratio of the thermoplastic resin and the heat-meltable compound. The above heat-meltable ink layer may be laminated.
<Formation of authentication identification image>
In order to form an authentication identification image, the heat-diffusible dye-containing ink layer of the sublimation type thermal transfer recording ink sheet and the image-receiving layer on the substrate are overlapped, and the heat-diffusible dye-containing ink layer and the image-receiving layer are imagewise. Heat energy. Then, the heat diffusible dye in the heat diffusible dye-containing ink layer is vaporized or sublimated by an amount corresponding to the heat energy applied at the time of image formation, and moves to the image receiving layer side. A gradation information-containing image is formed.

熱エネルギーを与える熱源としては、サーマルヘッドが一般的であるが、このほかにレーザー光、赤外線フラッシュ、熱ペンなどの公知のものを使用することができる。熱エネルギーを与える熱源としてサーマルヘッドを用いるときは、サーマルヘッドに印加する電圧あるいはパルス巾を変調することにより、与える熱エネルギーを連続的にあるいは多段階に変化させることができる。熱エネルギーを与える熱源としてレーザー光を用いるときは、レーザー光の光量や照射面積を変化させることにより与える熱エネルギーを変化させることができる。   A thermal head is generally used as a heat source for applying thermal energy, but other known devices such as laser light, infrared flash, and thermal pen can be used. When a thermal head is used as a heat source for applying thermal energy, the applied thermal energy can be changed continuously or in multiple stages by modulating the voltage or pulse width applied to the thermal head. When laser light is used as a heat source for applying thermal energy, the thermal energy to be applied can be changed by changing the amount of light and the irradiation area of the laser light.

この場合、レーザー光を吸収し易くするため、レーザー光吸収材料(例えば、半導体レーザーの場合、カーボンブラックや近赤外線吸収物質など)をインク層中、もしくはインク層近傍に存在せしめるとよい。なお、レーザー光を用いるときは昇華型感熱転写記録用インクシートと基材における受像層とを充分に密着させて行うとよい。   In this case, in order to easily absorb the laser light, a laser light absorbing material (for example, in the case of a semiconductor laser, carbon black, a near-infrared absorbing substance, etc.) is preferably present in the ink layer or in the vicinity of the ink layer. When using laser light, the sublimation type thermal transfer recording ink sheet and the image receiving layer on the substrate are preferably adhered sufficiently.

熱エネルギーの与え方としては昇華型感熱転写記録用インクシート側から行なっても、感熱転写記録用受像シート側から行っても、あるいは両側から行ってもよいが、熱エネルギーの有効利用を優先させるなら、昇華型感熱転写記録用インクシート側から行なうのが望ましい。以上の熱転写記録により、感熱転写記録用受像シートの受像層に一色の画像を記録することができるが、下記の方法によると、各色の掛け合せからなるカラー写真調のカラー画像を得ることもできる。たとえばイエロー、マゼンタ、シアンおよび必要に応じて黒色の感熱転写記録用感熱シートを順次取り換えて、各色に応じた熱転写を行なうと、各色のかけあわせからなるカラー写真調のカラー画像を得ることもできる。   The heat energy may be applied from the sublimation type thermal transfer recording ink sheet side, from the thermal transfer recording image receiving sheet side, or from both sides, but priority is given to effective use of thermal energy. Then, it is desirable to perform from the ink sheet side for sublimation type thermal transfer recording. With the thermal transfer recording described above, a single color image can be recorded on the image receiving layer of the thermal transfer recording image receiving sheet. However, according to the following method, a color photographic tone color image composed of a combination of the respective colors can be obtained. For example, by sequentially replacing yellow, magenta, cyan and, if necessary, black thermal transfer recording thermal sheet and performing thermal transfer according to each color, it is also possible to obtain a color image of a color photographic tone consisting of a mixture of the respective colors. .

さらに上記方法で画像を形成した後に、画像保存性の向上の目的で、上記記載の方法で加熱処理を施してもよい。たとえば、画像形成面全面にわたって、サーマルヘッドで昇華型感熱転写記録用インクシートの熱拡散性色素含有インク層を設けていない部分を用いて、加熱処理したり、あるいは新たにヒートロール等の加熱処理を行ってもよい。また、近赤外線吸収剤を含有している場合には、赤外線フラッシュランプを用いて画像形成面を露光させてもよい。いずれの場合も、加熱手段は問わないが、受像層内部に色素をさらに拡散させるのが目的であるので、加熱方向は受像層の支持体側から加熱するのが効果的で、この発明ではサーマルヘッドを用いることが好ましい。   Further, after the image is formed by the above method, the heat treatment may be performed by the method described above for the purpose of improving the image storage stability. For example, the entire surface of the image forming surface is heated using a portion of the ink sheet for sublimation type thermal transfer recording that is not provided with the heat diffusible dye-containing ink layer with a thermal head, or a new heating process such as a heat roll. May be performed. Further, when a near-infrared absorber is contained, the image forming surface may be exposed using an infrared flash lamp. In any case, any heating means may be used, but since the purpose is to further diffuse the dye inside the image receiving layer, it is effective to heat the heating direction from the support side of the image receiving layer. Is preferably used.

この発明では、感熱転写記録用受像シ−トの受像層と熱溶融型感熱転写記録用シ−トとを重ね合わし、画像を形成する際に記録信号に応じて0.3kg/cm〜0.01の範囲で加圧し、ヘッドの温度50〜500℃、好ましくは100〜500℃、100〜400℃で階調情報含有画像を形成することが好ましい。更に好ましくは0.25kg/cm〜0.01、更に好ましくは0.25kg/cm〜0.02である。
<属性情報の形成>
前記熱溶融型感熱転写記録用インクシートを用いる熱溶融型転写方法は、通常の感熱転写記録方法と異なるものではない前記記載の認証識別画像層を形成の際に使用した場合と同様な方法で形成することができる。
In the present invention, the image-receiving layer of the thermal transfer recording image-receiving sheet and the hot-melt type thermal transfer recording sheet are overlapped to form 0.3 kg / cm 2 to 0 in accordance with the recording signal when an image is formed. It is preferable to form an image containing gradation information at a pressure of 0.01 and a head temperature of 50 to 500 ° C., preferably 100 to 500 ° C. and 100 to 400 ° C. More preferably, it is 0.25 kg / cm < 2 > -0.01, More preferably, it is 0.25 kg / cm < 2 > -0.02.
<Formation of attribute information>
The hot-melt transfer method using the hot-melt thermal transfer recording ink sheet is not different from the normal thermal transfer recording method in the same manner as that used when forming the authentication identification image layer described above. Can be formed.

具体的には、熱溶融型感熱転写記録用インクシートの熱溶融性インク層と基材の受像層面とを密着させ、必要に応じてさらに熱溶融性インク層にサーマルヘッドによって熱パルスを与え、所望の印字ないし転写パターンに対応する熱溶融性インク層を局部的に加熱する。   Specifically, the heat-meltable ink layer of the heat-melt type thermal transfer recording ink sheet and the image-receiving layer surface of the substrate are brought into close contact with each other, and if necessary, a heat pulse is applied to the heat-meltable ink layer by a thermal head, A hot-melt ink layer corresponding to a desired print or transfer pattern is locally heated.

熱溶融性インク層の被加熱部は、その温度が上昇し、速やかに軟化して基材の受像面に転写される。なお、この文字、図形、記号あるいは罫線等の階調性を必要としない非階調情報含有画像の形成は、前記した階調情報含有画像の形成に先立って行われても良く、また、階調情報含有画像が形成されてからこの非階調情報含有画像の形成が行われてもよい。また、この文字情報含有画像は、前記昇華型感熱転写記録用インクシートを使用することによっても形成することができる。   The temperature of the heated portion of the heat-meltable ink layer rises, quickly softens, and is transferred to the image receiving surface of the substrate. The formation of the non-gradation information-containing image that does not require gradation such as characters, figures, symbols, or ruled lines may be performed prior to the formation of the gradation information-containing image. The non-gradation information-containing image may be formed after the tone information-containing image is formed. The character information-containing image can also be formed by using the sublimation type thermal transfer recording ink sheet.

この発明では、感熱転写記録用受像シ−トの受像層と熱溶融型感熱転写記録用シ−トとを重ね合わし、文字情報画像を形成する際に記録信号に応じて0.3kg/cm〜0.01の範囲で加圧し、ヘッドの温度50〜500℃、好ましくは100〜500℃、100〜400℃で階調情報含有画像を形成することが好ましい。更に好ましくは0.25kg/cm〜0.01、更に好ましくは0.25kg/cm〜0.02である。
<カード表面保護用転写箔>
ICカード発行装置において、カードの表面強度を向上させる目的で、一般な転写箔を用い表面保護をすることができる。例えば下記のような材料を用いることができる。
(転写箔用支持体)
支持体としては例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート/イソフタレート共重合体等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ4フッ化エチレン、エチレン−4フッ化エチレン共重合体、等のポリフッ化エチレン系樹脂、ナイロン6、ナイロン6.6等のポリアミド、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、エチレン/ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアルコール、ビニロン等のビニル重合体、三酢酸セルロース、セロファン等のセルロース系樹脂、ポリメタアクリル酸メチル、ポリメタアクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、等のアクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリイミド等の合成樹脂シート、又は上質紙、薄葉紙、グラシン紙、硫酸紙等の紙、金属箔等の単層体或いはこれら2層以上の積層体が挙げられる。支持体の厚みは10〜200μm望ましくは15〜80μmである。10μm以下であると支持体が転写時に破壊してしまい問題である。本発明の特定離型層においては、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。必要に応じて凹凸を有することができる。凹凸作成手段としては、マット剤練り込み、サンドブラスト加工、ヘアライン加工、マットコーティング、もしくはケミカルエッチング等が挙げられる。マットコーティングの場合有機物及び無機物のいずれでもよい。例えば、無機物としては、スイス特許第330,158号等に記載のシリカ、仏国特許第1,296,995号等に記載のガラス粉、英国特許第1,173,181号等に記載のアルカリ土類金属又はカドミウム、亜鉛等の炭酸塩、等をマット剤として用いることができる。有機物としては、米国特許第2,322,037号等に記載の澱粉、ベルギー特許第625,451号や英国特許第981,198号等に記載された澱粉誘導体、特公昭44−3643号等に記載のポリビニルアルコール、スイス特許第330,158号等に記載のポリスチレン或いはポリメタアクリレート、米国特許第3,079,257号等に記載のポリアクリロニトリル、米国特許第3,022,169号等に記載されたポリカーボネートの様な有機マット剤を用いることができる。マット剤の付着方法は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前にマット剤を噴霧する方法を用いてもよい。又複数の種類のマット剤を添加する場合は、両方の方法を併用してもよい。この発明で凹凸加工する場合、転写面、背面のいずれか片面以上に施すことが可能である。また必要に応じて帯電防止層を具備していてもよい。
(転写箔離型層)
剥離層としては、高ガラス転移温度を有するアクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ボリビニルブチラール樹脂などの樹脂、ワックス類、シリコンオイル類、フッ素化合物、水溶性を有するポリビニルピロリドン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、Si変性ポリビニルアルコール、メチルセルロース樹脂、ヒドロキシセルロース樹脂、シリコン樹脂、パラフィンワックス、アクリル変性シリコーン、ポリエチレンワックス、エチレン酢酸ビニルなどの樹脂が挙げられ、他にポリジメチルシロキサンやその変性物、例えばポリエステル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、ウレタン変性シリコーン、アルキッド変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等のオイルや樹脂、またはこの硬化物、等が挙げられる。他のフッ素系化合物としては、フッ素化オレフィン、パーフルオロ燐酸エステル系化合物が挙げられる。好ましいオレフィン系化合物としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等の分散物、ポリエチレンイミンオクタデシル等の長鎖アルキル系化合物等が挙げられる。これらの離型剤で溶解性の乏しいものは分散するなどして用いることができる。この離型層は、離型層の膜厚は特に限定されないが、好ましくは0.000g/m〜3.00g/mであり、より好ましくは0.000005g/m〜2.00g/mであり、さらに好ましくは0.00001g/m〜2.00g/mである。転写箔を2枚以上転写する場合は熱可塑性エラストマーを添加してもよい。
In this invention, the image-receiving layer of the thermal transfer recording image-receiving sheet and the hot-melt type thermal transfer recording sheet are overlapped to form a character information image at 0.3 kg / cm 2 according to the recording signal. It is preferable to form a gradation information-containing image at a pressure in the range of -0.01, and at a head temperature of 50-500 ° C, preferably 100-500 ° C, 100-400 ° C. More preferably, it is 0.25 kg / cm < 2 > -0.01, More preferably, it is 0.25 kg / cm < 2 > -0.02.
<Card surface protection transfer foil>
In the IC card issuing device, a general transfer foil can be used to protect the surface for the purpose of improving the surface strength of the card. For example, the following materials can be used.
(Support for transfer foil)
Examples of the support include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate / isophthalate copolymer, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and polymethylpentene, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, and polytetrafluoride. Polyethylene fluoride resin such as ethylene, ethylene-tetrafluoroethylene copolymer, polyamide such as nylon 6, nylon 6.6, polyvinyl chloride, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer Polymer, ethylene / vinyl alcohol copolymer, vinyl polymer such as polyvinyl alcohol and vinylon, cellulose resin such as cellulose triacetate and cellophane, polymethyl methacrylate, polyethyl methacrylate, polyacrylate Acrylic resin such as ethyl acrylate, polybutyl acrylate, etc., synthetic resin sheet such as polystyrene, polycarbonate, polyarylate, polyimide, etc., or paper such as fine paper, thin paper, glassine paper, sulfuric acid paper, single layer such as metal foil Or the laminated body of these two or more layers is mentioned. The thickness of the support is 10 to 200 μm, preferably 15 to 80 μm. If the thickness is 10 μm or less, the support is broken during transfer, which is a problem. In the specific release layer of the present invention, polyethylene terephthalate is preferable. It can have irregularities as necessary. Examples of the unevenness creation means include matting agent kneading, sandblasting, hairline processing, mat coating, or chemical etching. In the case of mat coating, either organic or inorganic materials may be used. Examples of inorganic substances include silica described in Swiss Patent No. 330,158 and the like, glass powder described in French Patent No. 1,296,995 and the like, and alkali described in British Patent No. 1,173,181 and the like. Earth metals, carbonates such as cadmium and zinc, and the like can be used as the matting agent. Examples of organic substances include starch described in U.S. Pat. No. 2,322,037 and the like, starch derivatives described in Belgian Patent 625,451 and British Patent 981,198, and Japanese Patent Publication No. 44-3643. Polyvinyl alcohol described, polystyrene or polymethacrylate described in Swiss Patent No. 330,158, polyacrylonitrile described in US Pat. No. 3,079,257, US Pat. No. 3,022,169 etc. An organic matting agent such as a polycarbonate can be used. The method of attaching the matting agent may be a method in which the matting agent is dispersed and applied in advance, or a method of spraying the matting agent after the coating solution is applied and before the drying is completed may be used. When a plurality of types of matting agents are added, both methods may be used in combination. When uneven processing is performed in the present invention, it can be applied to one or more of the transfer surface and the back surface. Moreover, you may comprise the antistatic layer as needed.
(Transfer foil release layer)
As the release layer, resins such as acrylic resins having a high glass transition temperature, polyvinyl acetal resins, poly vinyl butyral resins, waxes, silicon oils, fluorine compounds, water-soluble polyvinyl pyrrolidone resins, polyvinyl alcohol resins, Si-modified Examples include polyvinyl alcohol, methyl cellulose resin, hydroxy cellulose resin, silicone resin, paraffin wax, acrylic modified silicone, polyethylene wax, ethylene vinyl acetate, and other resins, as well as polydimethylsiloxane and modified products thereof such as polyester modified silicone, acrylic modified. Oils and resins such as silicone, urethane modified silicone, alkyd modified silicone, amino modified silicone, epoxy modified silicone, polyether modified silicone, etc. The cured product, and the like. Other fluorinated compounds include fluorinated olefins and perfluorophosphate ester compounds. Preferred olefin compounds include dispersions such as polyethylene and polypropylene, and long-chain alkyl compounds such as polyethyleneimine octadecyl. These release agents having poor solubility can be used after being dispersed. The thickness of the release layer is not particularly limited, but is preferably 0.000 g / m 2 to 3.00 g / m 2 , more preferably 0.000005 g / m 2 to 2.00 g / m. m 2 , more preferably 0.00001 g / m 2 to 2.00 g / m 2 . When transferring two or more transfer foils, a thermoplastic elastomer may be added.

また、必要に応じて、この発明の離型層と樹脂層或いは活性光線硬化層との間に熱硬化型樹脂層を用いてもよい。具体的には、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂、グアナミン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリアミド樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。また、前述のようにカードのゴミ付着、装置バグ防止を行うために、c)金属酸化物微粒子、d)導電性粉末又は導電性樹脂の何れか1つ以上を含んでいてもよい。
(表面保護層)
次いで離型層に隣接しカード表面保護層を設けることができる。具体的にはポリ塩化ビニル樹脂、塩化ビニルと他のモノマー(例えばイソブチルエーテル、プロピオン酸ビニル等)との共重合体樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリビニルピロリドン、ポリカーボネート、ポリスチレン、スビニルトルエンアクリレート樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカプロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、およびそれらの変性物などを挙げることができるが、本発明のカード用表面保護層として好ましいのは、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂などの樹脂であり。特に好ましくは光硬化済硬化層を設けることが好ましい。
If necessary, a thermosetting resin layer may be used between the release layer of the present invention and the resin layer or the actinic ray curable layer. Specific examples include polyester resins, acrylic resins, epoxy resins, xylene resins, guanamine resins, diallyl phthalate resins, phenol resins, polyimide resins, maleic acid resins, melamine resins, urea resins, polyamide resins, urethane resins, and the like. Further, as described above, in order to prevent the card from adhering to the card and preventing the device bug, it may contain one or more of c) metal oxide fine particles, d) conductive powder or conductive resin.
(Surface protective layer)
A card surface protective layer can then be provided adjacent to the release layer. Specifically, polyvinyl chloride resin, copolymer resin of vinyl chloride and other monomers (for example, isobutyl ether, vinyl propionate, etc.), polyester resin, poly (meth) acrylate, polyvinyl pyrrolidone, polycarbonate, polystyrene, Examples of the surface protective layer for the card of the present invention are light vinyl toluene acrylate resin, polyurethane resin, epoxy resin, phenoxy resin, polycaprolactone resin, polyacrylonitrile resin, and modified products thereof. It is a resin such as a curable resin or a thermosetting resin. It is particularly preferable to provide a photocured cured layer.

光硬化型樹脂層としては、活性光線硬化性樹脂を用いることができる。活性光線硬化性樹脂は、付加重合性または開環重合性を有するものであり、付加重合性化合物とは、ラジカル重合性化合物、例えば特開平7−159983号、特公平7−31399号、特開平8−224982、特開平10−863の各号公報に記載されている光重合性組成物を用いた光硬化型材料などである。付加重合性化合物とは、カチオン重合系の光硬化性樹脂が知られており、最近では可視光以上の長波長域に増感された光カチオン重合系の光硬化性樹脂も例えば、特開平6−43633号、特開平8−324137公報等に公開されている。ラジカル重合性化合物には通常の光重合性化合物及び熱重合性化合物が包含される。ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物であればどの様なものでもよく、モノマー、オリゴマー、ポリマー等の化学形態をもつものが含まれる。ラジカル重合性化合物は1種のみ用いてもよく、また目的とする特性を向上するために任意の比率で2種以上を併用してもよい。ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エステル、ウレタン、アミドや無水物、アクリロニトリル、スチレン、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル重合性化合物が挙げられる。具体的には、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ビス(4−アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレート、N−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、2,2−ビス(4−メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン等のメタクリル誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられ、さらに具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、(1981年大成社);加藤清視編、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」(1985年、高分子刊行会);ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の応用と市場」、79頁、(1989年、シーエムシー);滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、(1988年、日刊工業新聞社)等に記載の市販品もしくは業界で公知のラジカル重合性ないし架橋性のモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いることができる。上記ラジカル重合性化合物のラジカル重合性組成物中の添加量は好ましくは1〜97重量%であり、より好ましくは30〜95重量%である。これらの中で特に好ましいものは、常温での安定性に優れ、加熱時の分解速度が速く、かつ分解時に無色となる化合物であり、このようなものとしては、過酸化ベンゾイル、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル等を挙げることができる。また、この発明では、これらの熱重合開始剤を1種又は2種以上混合して用いることができる。更に、熱重合開始剤は、熱重合性の組成物中通常0.1〜30重量%が好ましく、0.5〜20重量%の範囲がより好ましい。カチオン重合系光硬化樹脂としては、カチオン重合により高分子化の起こるタイプ(主にエポキシタイプ)のエポキシタイプの紫外線硬化性プレポリマー、モノマーは、1分子内にエポキシ基を2個以上含有するプレポリマーを挙げることができる。このようなプレポリマーとしては、例えば、脂環式ポリエポキシド類、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物類およびエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これらのプレポリマーは、その一種を単独で使用することもできるし、また、その二種以上を混合して使用することもできる。紫外線硬化保護層形成用コーティング剤中の、エポキシ基を1分子内に2個以上有するプレポリマーの含有量は70重量%以上であるのが好ましい。カチオン重合性組成物中に含有されるカチオン重合性化合物としては、他に例えば下記の(1)スチレン誘導体、(2)ビニルナフタレン誘導体、(3)ビニルエーテル類及び(4)N−ビニル化合物類を挙げることができる。   An actinic ray curable resin can be used as the photocurable resin layer. The actinic ray curable resin has addition polymerization property or ring-opening polymerization property, and the addition polymerization compound is a radical polymerizable compound such as Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-159983, Japanese Patent Publication No. 7-31399, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-224982, and a photocurable material using a photopolymerizable composition described in JP-A-10-863. As the addition-polymerizable compound, a cationic polymerization type photocurable resin is known. Recently, a photocationic polymerization type photocurable resin sensitized to a long wavelength region longer than visible light is also disclosed in, for example, -43633, JP-A-8-324137, and the like. The radical polymerizable compound includes ordinary photopolymerizable compounds and thermopolymerizable compounds. The radical polymerizable compound is a compound having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization, and may be any compound as long as it has at least one ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization in the molecule. , Oligomers, polymers and the like having a chemical form. Only one kind of radically polymerizable compound may be used, or two or more kinds thereof may be used in combination at an arbitrary ratio in order to improve desired properties. Examples of compounds having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid and their salts, esters, urethanes, amides. And radically polymerizable compounds such as unsaturated monomers, acrylonitrile, styrene, various unsaturated polyesters, unsaturated polyethers, unsaturated polyamides, and unsaturated urethanes. Specifically, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, carbitol acrylate, cyclohexyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, bis (4-acryloxypolyethoxyphenyl) propane, neopentyl glycol Diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol Tetraacrylate, dipentaery Acrylic acid derivatives such as lithol tetraacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, oligoester acrylate, N-methylol acrylamide, diacetone acrylamide, epoxy acrylate, methyl methacrylate, n-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate , Lauryl methacrylate, allyl methacrylate, glycidyl methacrylate, benzyl methacrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, trimethylol Methacryl derivatives such as tan trimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, 2,2-bis (4-methacryloxypolyethoxyphenyl) propane, and other derivatives of allyl compounds such as allyl glycidyl ether, diallyl phthalate, triallyl trimellitate More specifically, Yamashita Junzo, “Crosslinker Handbook”, (1981 Taiseisha); Kato Kiyomi, “UV / EB Curing Handbook (Materials)” (1985, Polymer Publication) ); Rad-Tech Study Group, “Application and Market of UV / EB Curing Technology”, p. 79, (1989, CMC); Eiichiro Takiyama, “Polyester Resin Handbook”, (1988, Nikkan Kogyo Shimbun) Commercially available products described in the above, or radically polymerizable or crosslinkable monomers known in the industry Oligomers and polymers can be used. The addition amount of the radical polymerizable compound in the radical polymerizable composition is preferably 1 to 97% by weight, more preferably 30 to 95% by weight. Particularly preferred among these are compounds that are excellent in stability at room temperature, have a high decomposition rate upon heating, and become colorless upon decomposition. Examples of such compounds include benzoyl peroxide, 2,2 ′ -Azobisisobutyronitrile and the like can be mentioned. Moreover, in this invention, these thermal polymerization initiators can be used 1 type or in mixture of 2 or more types. Furthermore, 0.1-30 weight% is preferable normally in a thermopolymerizable composition, and the range of 0.5-20 weight% is more preferable. As a cationic polymerization type photo-curing resin, an epoxy-type UV curable prepolymer of a type (mainly epoxy type) that is polymerized by cationic polymerization and a monomer containing two or more epoxy groups in one molecule. Mention may be made of polymers. Examples of such prepolymers include alicyclic polyepoxides, polyglycidyl esters of polybasic acids, polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols, polyglycidyl ethers of polyoxyalkylene glycols, and polyglycidyls of aromatic polyols. Examples include ethers, hydrogenated compounds of polyglycidyl ethers of aromatic polyols, urethane polyepoxy compounds, and epoxidized polybutadienes. One of these prepolymers can be used alone, or two or more thereof can be mixed and used. The content of the prepolymer having two or more epoxy groups in one molecule in the coating agent for forming an ultraviolet curable protective layer is preferably 70% by weight or more. Other examples of the cationic polymerizable compound contained in the cationic polymerizable composition include the following (1) styrene derivatives, (2) vinyl naphthalene derivatives, (3) vinyl ethers, and (4) N-vinyl compounds. Can be mentioned.

上記カチオン重合性化合物のカチオン重合性組成物中の含有量は1〜97重量%が好ましくは、より好ましくは30〜95重量%である。   The content of the cationically polymerizable compound in the cationically polymerizable composition is preferably 1 to 97% by weight, more preferably 30 to 95% by weight.

カチオン重合系光硬化樹脂の開始剤としては、芳香族オニウム塩を挙げることができる。この芳香族オニウム塩として、周期表第Va族元素の塩たとえばホスホニウム塩(たとえばヘキサフルオロリン酸トリフェニルフェナシルホスホニウムなど)、第VIa族元素の塩たとえばスルホニウム塩(たとえばテトラフルオロホウ酸トリフェニルスルホニウム、ヘキサフルオロリン酸トリフェニルスルホニウム、ヘキサフルオロリン酸トリス(4−チオメトキシフェニル)、スルホニウムおよびヘキシサフルオロアンチモン酸トリフェニルスルホニウムなど)、および第VII a族元素の塩たとえばヨードニウム塩(たとえば塩化ジフェニルヨードニウムなど)を挙げることができる。   An aromatic onium salt can be mentioned as an initiator of the cationic polymerization photocurable resin. Examples of the aromatic onium salt include salts of Group Va elements of the periodic table, such as phosphonium salts (for example, triphenylphenacylphosphonium hexafluorophosphate), salts of Group VIa elements, such as sulfonium salts (for example, triphenylsulfonium tetrafluoroborate). , Triphenylsulfonium hexafluorophosphate, tris (4-thiomethoxyphenyl) hexafluorophosphate, sulfonium and triphenylsulfonium hexisafluoroantimonate), and salts of group VIIa elements such as iodonium salts (eg diphenyl chloride) Iodonium etc.).

このような芳香族オニウム塩をエポキシ化合物の重合におけるカチオン重合開始剤として使用することは、米国特許第4,058,401号、同第4,069,055号、同第4,101,513号および同第4,161,478号公報に詳述されている。好ましいカチオン重合開始剤としては、第VIa族元素のスルホニウム塩が挙げられる。その中でも、紫外線硬化性と紫外線硬化性の組成物の貯蔵安定性の観点からすると、ヘキサフルオロアンチモン酸トリアリールスホニウムが好ましい。またフォトポリマーハンドブック(フォトポリマー懇話会編 工業調査会発行 1989年)の39〜56頁に記載の公知の光重合開始剤、特開昭64−13142号、特開平2−4804号に記載されている化合物を任意に用いることが可能である。活性光線硬化型樹脂層には必要に応じて、増感剤、重合促進剤、連鎖移動剤、重合禁止剤等を添加できる。   The use of such an aromatic onium salt as a cationic polymerization initiator in the polymerization of an epoxy compound is disclosed in U.S. Pat. Nos. 4,058,401, 4,069,055, and 4,101,513. And 4,161,478. Preferable cationic polymerization initiators include sulfonium salts of Group VIa elements. Among these, from the viewpoint of storage stability of ultraviolet curable and ultraviolet curable compositions, triarylsulfonium hexafluoroantimonate is preferable. In addition, the photopolymerization initiators described in pages 39 to 56 of the photopolymer handbook (published by Photographic Society Committee, 1989), JP-A 64-13142, JP-A-2-4804 Any compound can be used. If necessary, a sensitizer, a polymerization accelerator, a chain transfer agent, a polymerization inhibitor, and the like can be added to the actinic ray curable resin layer.

この光硬化済硬化層は、3.0〜15g/mであることが好ましい。特に好ましくは、3.0〜13g/m、より好ましくは5.0〜13g/mである。3.0g/m以下であるとスクラッチ強度が低下し問題となる。光硬化済層の膜厚15g/m以上であるとスクラッチ強度は良好であるもののカード転写後時の剥離力変化によりバリが発生しやすくなり装置内でのゴミ発生量が増しゴミ付着量が増大し問題となる。 The photocured cured layer is preferably 3.0 to 15 g / m 2 . Especially preferably, it is 3.0-13 g / m < 2 >, More preferably, it is 5.0-13 g / m < 2 >. When it is 3.0 g / m 2 or less, the scratch strength is lowered, which causes a problem. When the film thickness of the photocured layer is 15 g / m 2 or more, the scratch strength is good, but burrs are easily generated due to a change in peeling force after card transfer, and the amount of dust generated in the apparatus is increased and the amount of dust attached is increased. Increases and becomes a problem.

前記光硬化層を硬化させる方法としては、製造時に硬化させる方法などいずれの方式を採用してもよい。活性光線としては、重合開始剤に対し活性な電磁波を発生させるものは全て用いることができる。例えば、レーザー、発光ダイオード、キセノンフラッシュランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タングステンランプ、水銀灯、無電極光源等をあげることができる。好ましくは、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タングステンランプ、水銀灯等の光源が挙げられ、この際加えられるエネルギーは、重合開始剤の種類のより、露光距離、時間、強度を調整することにより適時選択して用いることができる。また活性光線は、場合により、窒素置換、減圧下等による方法で空気を遮断し重合速度を向上させてもよい。レーザーを光源として用いる場合には、露光面積を微小サイズに絞ることが容易であり、高解像度の画像形成が可能となる。レーザー光源としてはアルゴンレーザー、He−Neガスレーザー、YAGレーザー、半導体レーザー等を何れも好適に用いることが可能である。   As a method of curing the photocured layer, any method such as a method of curing at the time of manufacture may be adopted. As the actinic ray, any one that generates an electromagnetic wave active with respect to the polymerization initiator can be used. For example, a laser, a light emitting diode, a xenon flash lamp, a halogen lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a tungsten lamp, a mercury lamp, an electrodeless light source, and the like can be given. Preferred examples include light sources such as xenon lamps, halogen lamps, carbon arc lamps, metal halide lamps, tungsten lamps, mercury lamps, and the energy applied here adjusts the exposure distance, time, and intensity depending on the type of polymerization initiator. By doing so, it can be selected and used in a timely manner. In some cases, the actinic ray may block the air by a method such as nitrogen substitution or under reduced pressure to improve the polymerization rate. When a laser is used as a light source, it is easy to reduce the exposure area to a very small size, and high-resolution image formation is possible. As the laser light source, an argon laser, a He—Ne gas laser, a YAG laser, a semiconductor laser, or the like can be preferably used.

表面保護と偽変造防止の目的で光学変化素子層転写層設けることが可能である。光学変化素子(Optical Variable Device:OVD)とは、1)キネグラムのような回析格子の2次元のCG画像であり、線画像構成の画像が移動、回転、膨張、縮小等自由に動き変化する点に特徴があるもの、2)Pixelgramのような画像がポジとネガに変化する特徴があるようなもの、3)OSD(Optical Security Device)のような色が金色から緑色に変化するもの、4)LEAD(Long Lasting Economical Anticopy Device)のような像画が変化して見えるもの、5)ストライブ型OVD、6)金属箔等を表し、日本印刷学会誌(1998年)第35巻第6号P482〜P496記載に有るような用紙の素材、特殊な印刷技法、特殊インキ等でセキュリティを維持してもよい。この発明においては、ホログラムがとくに好ましい。
(中間層及びプライマー層、バリヤ層)
転写箔は、該表面保護層に隣接したポリビニルブチラール樹脂又はポリブチラールの中間層又は/及び接着層を有し、且つ該中間層又は/及び接着層に紫外線吸収剤を含有することが好ましい。該中間層の他にバリヤ層、ホログラム層、光学変化素子層、プライマー層等を層間密着性、カード密着性のために付与してもよく制限はない。
An optical change element layer transfer layer can be provided for the purpose of surface protection and prevention of falsification. An optical variable device (OVD) is 1) a two-dimensional CG image of a diffraction grating such as a kinegram, and the image of the line image structure freely moves and changes such as movement, rotation, expansion, and reduction. 1) Characteristic of point, 2) Image such as Pixelgram that changes positive and negative, 3) OSD (Optical Security Device) color that changes from gold to green, 4 ) An image such as LEAD (Long Lasting Economic Anti- Device) which appears to change, 5) A stripe type OVD, 6) A metal foil, etc., Japan Printing Society Journal (1998) Vol. 35, No. 6 Paper materials, special printing techniques, special inks as described in P482-P496 In may be to maintain the security. In the present invention, a hologram is particularly preferable.
(Intermediate layer, primer layer, barrier layer)
The transfer foil preferably has an intermediate layer and / or adhesive layer of polyvinyl butyral resin or polybutyral adjacent to the surface protective layer, and the intermediate layer and / or adhesive layer preferably contains an ultraviolet absorber. In addition to the intermediate layer, a barrier layer, a hologram layer, an optical change element layer, a primer layer, and the like may be provided for interlayer adhesion and card adhesion without limitation.

転写箔の中間層としては、中間層1層以上の層から構成されることが好ましく、場合によりプライマー層、バリヤ層として介在しても層間の接着性をさらに向上させてもよい。中間層は、画像の耐光性をあげるために、紫外線吸収剤、酸化防止剤及び光安定化剤から選ばれる少なくとも1種を含有することが好ましい。   The intermediate layer of the transfer foil is preferably composed of one or more intermediate layers. In some cases, it may be interposed as a primer layer or a barrier layer, or the adhesion between the layers may be further improved. The intermediate layer preferably contains at least one selected from an ultraviolet absorber, an antioxidant, and a light stabilizer in order to increase the light resistance of the image.

紫外線吸収剤としては、色素画像の紫外線吸収用として機能し、かつ熱転写が可能であればよく、例えば特開昭59−158287号、同63−74686号、同63−145089号、同59−196292号、同62−229594号、同63−122596号、同61−283595号、特開平1−204788号等の各公報に記載の化合物、及び写真その他の画像記録材料における画像耐久性を改善するものとして公知の化合物を使用することができる。具体的にはサリチル酸系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系のものが挙げられ、例えばTinuvin P、Tinuvin123、234、320、326、327、328、312、315、384、400(チバガイギー社製)、Sumisorb−110、130、140、200、250、300、320、340、350、400(住友化学工業(株)製)、MarkLa−32、36、1413(アデカア−ガス化学(株)製)等の商品名のものが使用できる。また、ベンゾフェノン誘導体等を側鎖に持つペンダントポリマーも好ましく用いられる。また、紫外線領域に吸収を持つ無機微粒子、超微粒子金属酸化物粉末分散剤等も使用することができる。無機微粒子としては酸化チタン、酸化亜鉛、ケイ素化合物等が挙げられる。超微粒子金属酸化物粉末分散剤としては、超微粒子酸化亜鉛粉末、超微粒子酸化チタン粉末、等を水又はアルコール混合液又は各種油性分散媒体と、界面活性剤や水溶性高分子や溶剤可溶性高分子等の分散剤を用いて作られたものが挙げられる。   Any ultraviolet absorber may be used as long as it functions as an ultraviolet absorber for a dye image and can be thermally transferred. For example, JP-A Nos. 59-158287, 63-74666, 63-145089, and 59-196292. , No. 62-229594, No. 63-122596, No. 61-283595, JP-A-1-204788, etc., and those that improve image durability in photographs and other image recording materials Known compounds can be used. Specific examples include salicylic acid type, benzophenone type, benzotriazole type, and cyanoacrylate type. For example, Tinuvin P, Tinuvin 123, 234, 320, 326, 327, 328, 312, 315, 384, 400 (manufactured by Ciba Geigy) ), Sumisorb-110, 130, 140, 200, 250, 300, 320, 340, 350, 400 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), MarkLa-32, 36, 1413 (manufactured by Adeka Gas Chemical Co., Ltd.) The product name such as can be used. A pendant polymer having a benzophenone derivative or the like in the side chain is also preferably used. In addition, inorganic fine particles having absorption in the ultraviolet region, ultrafine metal oxide powder dispersants and the like can also be used. Examples of inorganic fine particles include titanium oxide, zinc oxide, and silicon compounds. Examples of the ultrafine metal oxide powder dispersant include ultrafine zinc oxide powder, ultrafine titanium oxide powder, and the like, water or alcohol mixed liquids or various oil-based dispersion media, surfactants, water-soluble polymers, and solvent-soluble polymers. And those made using a dispersing agent such as

酸化防止剤としては、特開昭59−182785号、同60−130735号、特開平1−127387号等の各公報に記載の酸化防止剤、及び写真その他の画像記録材料における画像耐久性を改善するものとして公知の化合物を挙げることができる。具体的にはフェノール系、モノフェノール系、ビスフェノール系、アミン系等の一次酸化防止剤、或いは硫黄系、リン系等の二次酸化防止剤が挙げられ、例えばSumilizerBBM−S、BHT、BP−76、MDP−S、GM、WX−R、BP−179、GA、TPM、TP−D、TNP(住友化学工業(株)製)、Irganox−245、259、565、1010、1035、1076、1081、1098、3114(チバガイギー社製)、MarkAQ−20、AO−30、AO−40(アデカアーガス化学(株)製)等の商品名のものが使用できる。   Antioxidants described in JP-A-59-182785, JP-A-60-130735, JP-A-1-127387, etc., and improvement in image durability in photographs and other image recording materials. Known compounds can be listed as examples. Specific examples include primary antioxidants such as phenols, monophenols, bisphenols, and amines, or secondary antioxidants such as sulfurs and phosphoruss. For example, Sumizer BBM-S, BHT, and BP-76. , MDP-S, GM, WX-R, BP-179, GA, TPM, TP-D, TNP (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), Irganox-245, 259, 565, 1010, 1035, 1076, 1081, Commercially available products such as 1098, 3114 (manufactured by Ciba-Geigy), MarkAQ-20, AO-30, AO-40 (manufactured by Adeka Argus Chemical Co., Ltd.) can be used.

光安定化剤としては、特開昭59−158287号、同63−74686号、同63−145089号、同59−196292号、同62−229594号、同63−122596号、同61−283595号、特開平1−204788号等の各公報に記載の化合物、及び写真その他の画像記録材料における画像耐久性を改善するものとして公知の化合物を挙げることができる。具体的にはヒンダードアミン系等が挙げられ、例えばTinuvin622LD、144、Chimassob 944 LD(チバガイギー社製)、サノール LS−770、LS−765、LS−292、LS−2626、LS−114、LS−774(三共(株)製)、Mark LA−62、LA−67、LA−63、LA−68、LA−82、LA−87(アデカアーガス化学(株)製)等の商品名のものが使用できる。   As light stabilizers, JP-A-59-158287, 63-74666, 63-145089, 59-196292, 62-229594, 63-122596, 61-283595 are disclosed. And compounds described in JP-A-1-204788, and known compounds for improving image durability in photographs and other image recording materials. Specific examples include hindered amines. For example, Tinuvin 622LD, 144, Chimassob 944 LD (manufactured by Ciba Geigy), Sanol LS-770, LS-765, LS-292, LS-2626, LS-114, LS-774 ( Sanyo Co., Ltd.), Mark LA-62, LA-67, LA-63, LA-68, LA-82, LA-87 (manufactured by Adeka Argus Chemical Co., Ltd.) and the like can be used.

紫外線吸収剤、酸化防止剤及び光安定化剤の他にバインダーを用いることができ、本発明では、中間層として光硬化済層への密着性等からポリビニルブチラール樹脂又はポリブチラールを用いることが特に好ましい。   In addition to the ultraviolet absorber, the antioxidant and the light stabilizer, a binder can be used. In the present invention, it is particularly preferable to use a polyvinyl butyral resin or polybutyral as an intermediate layer from the viewpoint of adhesion to the photocured layer. preferable.

併用して、例えば熱可塑性樹脂として塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、セルロース系樹脂、スチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、アミド系樹脂、尿素系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカプロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、熱可塑性エラストマーとして、スチレン系(スチレン・ブロック・コポリマー(SBC))、オレフィン系(TP)、ウレタン系(TPU)、ポリエステル系(TPEE)、ポリアミド系(TPAE)、1,2−ポリブタジエン系、塩ビ系(TPVC)、フッ素系、アイオノマー樹脂、塩素化ポリエチレン、シリコーン系等が挙げられ具体的には1996年度版「12996の化学商品」(化学工業日報社)等に記載されているSEBS樹脂、SEPS樹脂およびそれらの変性物などを用いることができる。これらの樹脂は一種を単独に用いることもできるし、二種以上を組み合わせて用いることもできる。   In combination, for example, as a thermoplastic resin, vinyl chloride resin, polyester resin, acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyvinyl alcohol, polycarbonate, cellulose resin, styrene resin, urethane resin, urethane acrylate resin, amide resin Resin, urea resin, epoxy resin, phenoxy resin, polycaprolactone resin, polyacrylonitrile resin, thermoplastic elastomer, styrene (styrene block copolymer (SBC)), olefin (TP), urethane (TPU), Examples include polyester (TPEE), polyamide (TPAE), 1,2-polybutadiene, vinyl chloride (TPVC), fluorine, ionomer resin, chlorinated polyethylene, silicone, and the like. 996 Chemical Products "(The Chemical Daily Co., Ltd.) SEBS resins described in the like can be used as SEPS resin and their modified products. These resins can be used alone or in combination of two or more.

具体的な化合物としては、ポリスチレンとポリオレフィンのブロックポリマーからなる熱可塑性樹脂、ポリビニルブチラール等が好ましい。   As a specific compound, a thermoplastic resin composed of a block polymer of polystyrene and polyolefin, polyvinyl butyral, and the like are preferable.

ポリビニルブチラール樹脂としては積水化学工業(株)製のエスレックBH−3、BX−1、BX−2、BX−5、BX−55、BH−S、BL−S、電気化学工業(株)製のデンカブチラール#4000−2、#5000−A、#6000−EP等が市販されている。中間層のポリブチラールの熱硬化樹脂としては熱硬化前の重合度に限定はい。皮膜強度UPのために熱硬化性化合物を添加してもよい。具体的にはイソシアネート硬化剤やエポキシ硬化剤等を用いることができ、熱硬化条件は50〜90℃で1〜24時間が好ましい。   As a polyvinyl butyral resin, SRECIK BH-3, BX-1, BX-2, BX-5, BX-55, BH-S, BL-S manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. Denkabutyral # 4000-2, # 5000-A, # 6000-EP and the like are commercially available. There is no limitation on the degree of polymerization before thermosetting as a thermosetting resin for polybutyral in the intermediate layer. A thermosetting compound may be added to increase the film strength. Specifically, an isocyanate curing agent, an epoxy curing agent, or the like can be used, and the thermal curing conditions are preferably 50 to 90 ° C. and 1 to 24 hours.

紫外線吸収剤、酸化防止剤及び光安定化剤はバインダーに100重量%に対し0.05〜20重量%であることが好ましく、更に好ましくは0.05重量%〜10重量%以下となる。紫外線吸収剤、酸化防止剤及び光安定化剤を含有している中間層膜厚は、0.05〜15.0g/mであることが好ましく、より好ましくは0.05〜10g/m、更に好ましくは0.1〜10.0g/mである。
(接着層)
転写箔の接着層としては、熱貼着性樹脂としてエチレン酢酸ビニル樹脂、エチンエチルアクリレート樹脂、エチレンアクリル酸樹脂、アイオノマー樹脂、ポリブタジエン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、オレフィン樹脂、ウレタン樹脂、粘着付与剤(例えばフェノール樹脂、ロジン樹脂、テルペン樹脂、石油樹脂など)などが挙げられそれらの共重合体や混合物でもよい。
The ultraviolet absorber, antioxidant and light stabilizer are preferably 0.05 to 20% by weight, more preferably 0.05 to 10% by weight, based on 100% by weight of the binder. Ultraviolet absorber, an intermediate layer thickness containing an antioxidant and light stabilizer is preferably 0.05~15.0g / m 2, more preferably 0.05 to 10 g / m 2 , more preferably from 0.1~10.0g / m 2.
(Adhesive layer)
For the adhesive layer of the transfer foil, ethylene vinyl acetate resin, ethyne ethyl acrylate resin, ethylene acrylic resin, ionomer resin, polybutadiene resin, acrylic resin, polystyrene resin, polyester resin, olefin resin, urethane resin, A tackifier (for example, a phenol resin, a rosin resin, a terpene resin, a petroleum resin, etc.) may be mentioned, and a copolymer or a mixture thereof may be used.

具体的には、ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体としては東邦化学工業(株)製のハイテックS−6254、S−6254B、S−3129等が市販され、ポリアクリル酸エステル共重合体としては日本純薬(株)製のジュリマーAT−210、AT−510、AT−613、互応化学工業(株)製のプラスサイズL−201、SR−102、SR−103、J−4等が市販されている。ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体とポリアクリル酸エステル共重合体の重量比は9:1から2:8が好ましく、接着層の厚みは0.1〜1.0μmが好ましい。またこの層には、前記記載の紫外線吸収剤、酸化防止剤及び光安定化剤を含有していてよい。
<ICカード作成装置>
以下、ICカード作成装置実施の形態を図面に基づいて説明するが、この発明はこの実施の形態の説明及び図面に限定されるものではない。ICカード作成装置の実施の形態を図19に示す。
Specifically, as a urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer, Hitech S-6254, S-6254B, S-3129 and the like manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd. are commercially available, and as a polyacrylic acid ester copolymer, Japan. Jurimer AT-210, AT-510, AT-613 manufactured by Junyaku Co., Ltd., plus size L-201, SR-102, SR-103, J-4, etc. manufactured by Kyoyo Chemical Industry Co., Ltd. are commercially available. Yes. The weight ratio of the urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer and the polyacrylic acid ester copolymer is preferably 9: 1 to 2: 8, and the thickness of the adhesive layer is preferably 0.1 to 1.0 μm. In addition, this layer may contain the ultraviolet absorber, the antioxidant and the light stabilizer described above.
<IC card making device>
Hereinafter, although an embodiment of an IC card making device will be described with reference to the drawings, the present invention is not limited to the description of the embodiments and the drawings. An embodiment of an IC card creation apparatus is shown in FIG.

図19には、上方位置にカード供給部110及び情報記録部120が配置され、下方位置に、表面保護層付与部170が配置され、この後更に表面保護層付与部170が配置され、画像記録体としてICカードを作成することができる。   In FIG. 19, the card supply unit 110 and the information recording unit 120 are arranged at the upper position, the surface protective layer applying unit 170 is arranged at the lower position, and the surface protective layer applying unit 170 is further arranged after that. An IC card can be created as a body.

カード基材供給部110には、カード使用者の個人情報を書き込むために予め枚葉状にカットされた複数枚のカード基材150が、顔写真を記録する面を上に向けてストックされている。この例では、カード基材150が支持体と受像層からなり、このカード基材150は1枚ずつカード基材供給部110から所定のタイミングで自動供給される。   In the card base material supply unit 110, a plurality of card base materials 150 that have been cut in a sheet shape in advance to write personal information of the card user are stocked with a face photo recording surface facing upward. . In this example, the card base 150 includes a support and an image receiving layer, and the card base 150 is automatically supplied from the card base supply unit 110 one by one at a predetermined timing.

情報記録部120には、イエローリボンカセット121、マゼンタリボンカセット122、シアンリボンカセット123、ブラックリボンカセット131が配置され、それぞれに対応して記録ヘッド125〜128が配置されている。イエローリボン、マゼンタリボン、シアンリボン等の熱転写シートによる熱転写で、カード基材150が移動されている間に、その受像層の所定領域にカード使用者の顔写真等の諧調を有する画像領域が記録される。また、文字リボンカセット131及び記録ヘッド132が配置され、文字リボン等の熱転写シートによる熱転写で、その氏名やカード発行日等の認証識別情報が記録され、画像記録層が形成される。文字情報画像を形成する際に記録信号に応じて0.3kg/cm〜0.01の範囲で加圧し、ヘッドの温度50〜500℃、好ましくは100〜500℃、100〜400℃で階調情報含有画像を形成することが好ましい。更に好ましくは0.25kg/cm〜0.01、更に好ましくは0.25kg/cm〜0.02である。 In the information recording unit 120, a yellow ribbon cassette 121, a magenta ribbon cassette 122, a cyan ribbon cassette 123, and a black ribbon cassette 131 are arranged, and recording heads 125 to 128 are arranged correspondingly. While the card substrate 150 is being moved by thermal transfer using a thermal transfer sheet such as a yellow ribbon, magenta ribbon, or cyan ribbon, an image area having a gradation such as a photo of the card user is recorded in a predetermined area of the image receiving layer. Is done. In addition, a character ribbon cassette 131 and a recording head 132 are arranged, and authentication identification information such as a name and a card issue date is recorded by thermal transfer using a thermal transfer sheet such as a character ribbon, and an image recording layer is formed. When a character information image is formed, pressurization is performed in the range of 0.3 kg / cm 2 to 0.01 according to the recording signal, and the head temperature is 50 to 500 ° C., preferably 100 to 500 ° C. It is preferable to form a tone information-containing image. More preferably, it is 0.25 kg / cm < 2 > -0.01, More preferably, it is 0.25 kg / cm < 2 > -0.02.

さらに画像、文字が記録された受像体上に下記手段によって表面保護層を設けた。   Further, a surface protective layer was provided on the image receptor on which images and characters were recorded by the following means.

表面保護層170では、転写箔カセット171が配置され、この転写箔カセット171に対応してヒートロール172が配置されている。表面保護転写箔164を転写し、表面保護層含有転写層が設けられる。   In the surface protective layer 170, a transfer foil cassette 171 is arranged, and a heat roll 172 is arranged corresponding to the transfer foil cassette 171. The surface protective transfer foil 164 is transferred, and a surface protective layer-containing transfer layer is provided.

透明保護層形成する際のヒートロール表面温度は200℃に加熱した、直径5cmゴム硬度85のヒートローラーを用いて圧力150kg/cmで1.2秒間熱をかけて転写を行った。この発明では、カードに書誌情報及び識別情報を記録するICカード作成装置であれば特に制限はなく、この発明の事例の1つとして表面保護層を2層設けたときの実例を示した。
「実施例」
以下、実施例を挙げて、この発明を詳細に説明するが、この発明の態様はこれに限定されない。
The surface temperature of the heat roll when forming the transparent protective layer was transferred to 200 ° C. by applying heat for 1.2 seconds at a pressure of 150 kg / cm 2 using a heat roller having a diameter of 5 cm and a rubber hardness of 85. In the present invention, there is no particular limitation as long as it is an IC card making apparatus that records bibliographic information and identification information on a card. As one example of the present invention, an example in which two surface protective layers are provided is shown.
"Example"
EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, the aspect of this invention is not limited to this.

[発泡樹脂の作成]
<発泡樹脂1>
Henkel社製Macroplast QR3460(湿気硬化型ホットメルト接着剤を120℃に加熱しながら乾燥窒素を吹き込み混連攪拌がら発泡樹脂を得た。かさ密度は、0.45g/cmであった。
<発泡樹脂2>
下記の組成物を120℃で加熱混合して光重合性組成物を調製した。この組成物を120℃に加熱し乾燥窒素ガスにより0.4MPaに加圧しながら、200rpmで30分間撹拌して窒素ガスを圧入した後大気圧下に開放して発泡させ、更に365nmの紫外線を1500mJ/cmの強度で照射し光硬化型粘着性発泡体を得た。かさ密度は、0.9g/cmであった。
発泡樹脂2組成物
リカレジンDME−100(新日本理化(株)社製) 7重量部
リカレジンBEO−60E(新日本理化(株)社製) 25重量部
エピコート1003F(油化シェルエポキシ(株)社製) 60重量部
光カチオン重合開始剤UVI−6990(ユニオンカーバイド(株)社製) 5重量部
<発泡樹脂3>
下記の組成物を120で加熱混合して発泡樹脂を調製した。この組成物を120℃に加熱し特定箇所に皮膜を形成し、発振波長830nmの半導体レーザーを用い、0.1メガワット/cmの露光強度で皮膜全表面を露光し、湿気硬化型発泡体を得た。かさ密度は、0.4g/cm3であった。
発泡樹脂3組成物
エスダイン9621(湿気硬化型接着剤) 80重量部
カーボンブラック分散物〔大日本インキ化学工業(株)製、SD−9020〕
20重量部
<発泡樹脂4>(比較例)
発泡樹脂1と同様な製造方法で作成したが、乾燥窒素吹き込み量を約10倍にし混連攪拌しながら発泡樹脂を得た。かさ密度は、1.2g/cmであった。
<発泡樹脂5>(比較例)
発泡樹脂1と同様な製造方法で作成したが、乾燥窒素吹き込みは実施しなかった。かさ密度は、0g/cmであった。
[アンテナとを電気的に接続するバンプ部に使用する密着剤の作成]
<密着剤1>
2液硬化型弾性エポキシ接着剤:東邦化成工業株式会社製
ウルタイト1540セット(硬化後、2%弾性率0.4%、)を用いた主剤と硬化剤を使用した。
<密着剤2>
スリーボンド本剤2002H/硬化剤2105F(硬化後2%弾性率0.05%)を用いた主剤と硬化剤を使用した。
<密着剤3>
アロンアルファGEL−10(2%弾性率60kg/mm、東亜合成(株)社製)を使用した。
<密着剤4>(比較例)
セミコート220H(2%弾性率300kg/mm、信越化学社製)を使用した。
<密着剤5>
前記発泡樹脂1を使用した。
<密着剤6>
前記発泡樹脂2を使用した。
<密着剤7>
前記発泡樹脂3を使用した。
<密着剤8>(比較例)
前記発泡樹脂4を使用した。
<密着剤9>(比較例)
前記発泡樹脂5を使用した。
[ICモジュールの作成]
<ICモジュール1>
エッチングによりアンテナパターンの形成された厚み38μmの透明PET支持体に、厚み60μm、3×3mm角のICチップとアンテナを導電性接着剤で厚み20μm接合し、次いでSUS301からなる厚み50μmの4×4mm角板状の補強板を回路面と反対側に乾燥窒素の圧力により発泡させた発泡樹脂1を10μmの厚さになるようポッティングしチップを封止するよう離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレスし接着させICモジュール1を得た。
<ICモジュール2>
エッチングによりアンテナパターンの形成された厚み38μmの透明PET支持体に、厚み60μm、3×3mm角のICチップとアンテナを導電性接着剤で厚み20μm接合し、次いでSUS301からなる厚み50μmの4×4mm角板状の補強板を回路面と反対側に乾燥窒素の圧力により発泡させた発泡樹脂1を10μmの厚さになるようポッティングしチップを封止するよう離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレスし接着させた。ついで第1補強板の上にSU301からなる厚み50μmの5×5mm角板状の第2補強板を乾燥窒素の圧力により発泡させた発泡樹脂1により第2の補強板面積より大きくなり厚み10μmになるようポッティングしチップを封止するよう離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレスし接着させICモジュール2を得た。
<ICモジュール3>
エッチングによりアンテナパターンの形成された厚み38μmの透明PET支持体に、厚み60μm、3×3mm角のICチップとアンテナを導電性接着剤で厚み20μm接合し、次いでSUS301からなる厚み50μmの4×4mm角板状の補強板を回路面と反対側に乾燥窒素の圧力により発泡させた発泡樹脂2を10μmの厚さでチップを封止するようにポッティングし、365nmの紫外線を1500mJ/cmの強度で照射し、離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレス後硬化させた後ICモジュール3を得た。
<ICモジュール4>
エッチングによりアンテナパターンの形成された厚み38μmの透明PET支持体に、厚み60μm、3×3mm角のICチップとアンテナを導電性接着剤で厚み20μm接合し、次いでSUS301からなる厚み50μmの4×4mm角板状の補強板を回路面と反対側に乾燥窒素の圧力により発泡させた発泡樹脂3を10μmの厚さになるようポッティングし、チップを封止するよう形成する。更に半導体レーザーで露光し、離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレスし接着させICモジュール4を得た。
<ICモジュール5>(比較例)
エッチングによりアンテナパターンの形成された厚み38μmの透明PET支持体に、厚み60μm、3×3mm角のICチップとアンテナを導電性接着剤で厚み20μm接合し、次いでSUS301からなる厚み50μmの4×4mm角板状の補強板を回路面と反対側に乾燥窒素の圧力により発泡させた発泡樹脂4を10μmの厚さになるようポッティングしチップを封止するよう離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレスし接着させICモジュール5を得た。
<ICモジュール6>(比較例)
エッチングによりアンテナパターンの形成された厚み38μmの透明PET支持体に、厚み60μm、3×3mm角のICチップとアンテナを導電性接着剤で厚み20μm接合し、次いでSUS301からなる厚み50μmの4×4mm角板状の補強板を回路面と反対側に乾燥窒素の圧力により発泡させた発泡樹脂5を10μmの厚さになるようポッティングしチップを封止するよう離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレスし接着させICモジュール6を得た。
<ICモジュール7>
直径50μmの銅線アンテナに厚み180μm、3×3mm角のICチップのバンプを電気的に直接接続し、SUS301からなる厚み30μmの4×4mm角板状の第1の補強板を回路面と反対側に乾燥窒素の圧力により発泡させた発泡樹脂1を10μmの厚さになるようポッティングしチップを離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレスし接着させICモジュール7を得た。
<ICモジュール8>
直径50μmの銅線アンテナに厚み180μm、3×3mm角のICチップのバンプを電気的に直接接続し、SUS301からなる厚み30μmの4×4mm角板状の第1の補強板を回路面と反対側に乾燥窒素の圧力により発泡させた発泡樹脂1を10μmの厚さになるようポッティングしチップを離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレスし接着させた。ついでバンプを電気的に直接接続した側から密着剤1により厚み10μmになるようポッティングしバンプ部を封止した。ついで厚み50μmの不織布支持体上に補強板とアンテナを密着させICモジュール8を得た。
<ICモジュール9>
直径50μmの銅線アンテナに厚み180μm、3×3mm角のICチップのバンプを電気的に直接接続し、SUS301からなる厚み30μmの4×4mm角板状の第1の補強板を回路面と反対側に乾燥窒素の圧力により発泡させた発泡樹脂1を10μmの厚さになるようポッティングしチップを離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレスし接着させた。ついでバンプを電気的に直接接続した側から密着剤2により厚み10μになるようポッティングしバンプ部を封止した。ついで厚み50μmの不織布支持体上に補強板とアンテナを密着させ、密着剤2に対して365nmの紫外線を1500mJ/cmの強度で照射し、ICモジュール9を得た。
<ICモジュール10>
直径50μmの銅線アンテナに厚み180μm、3×3mm角のICチップのバンプを電気的に直接接続し、SUS301からなる厚み30μmの4×4mm角板状の第1の補強板を回路面と反対側に乾燥窒素の圧力により発泡させた発泡樹脂1を10μmの厚さになるようポッティングしチップを離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレスし接着させた。ついでバンプを電気的に直接接続した側から密着剤3により厚み10μmになるようポッティングしバンプ部を封止した。ついで厚み50μmの不織布支持体上に補強板とアンテナを密着させ密着剤3に対して半導体レーザーで照射後、ICモジュール10を得た。
<ICモジュール11>
直径50μmの銅線アンテナに厚み180μm、3×3mm角のICチップのバンプを電気的に直接接続し、SUS301からなる厚み30μmの4×4mm角板状の第1の補強板を回路面と反対側に乾燥窒素の圧力により発泡させた発泡樹脂1を10μmの厚さになるようポッティングしチップを離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレスし接着させた。ついでバンプを電気的に直接接続した側から密着剤4により厚み10μmになるようポッティングしバンプ部を封止した。ついで厚み50μmの不織布支持体上に補強板とアンテナを密着させICモジュール11を得た。
<ICモジュール12>
直径50μmの銅線アンテナに厚み180μm、3×3mm角のICチップのハ゛ンフ゜を電気的に直接接続し、SUS301からなる厚み30μmの4×4mm角板状の第1の補強板を回路面と反対側に乾燥窒素の圧力により発泡させた発泡樹脂1を10μmの厚さになるようポッティングしチップを離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレスし接着させた。ついでバンプを電気的に直接接続した側から乾燥窒素の圧力により発泡させた密着剤5により厚み10μmになるようポッティングしバンプ部を封止した。ついで厚み50μmの不織布支持体上に補強板とアンテナを密着させICモジュール12を得た。
<ICモジュール13>
直径50μmの銅線アンテナに厚み180μm、3×3mm角のICチップのバンプを電気的に直接接続し、SUS301からなる厚み30μmの4×4mm角板状の第1の補強板を回路面と反対側に乾燥窒素の圧力により発泡させた発泡樹脂1を10μmの厚さになるようポッティングしチップを離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレスし接着させた。ついでバンプを電気的に直接接続した側から窒素ガスの圧力により発泡させた密着剤6により厚み10μmになるようバンプ部を封止した。ついで厚み50μmの不織布支持体上に補強板とアンテナを密着させICモジュール13を得た。
<ICモジュール14>
直径50μmの銅線アンテナに厚み180μm、3×3mm角のICチップのバンプを電気的に直接接続し、SUS301からなる厚み30μmの4×4mm角板状の第1の補強板を回路面と反対側に乾燥窒素の圧力により発泡させた発泡樹脂1を10μmの厚さになるようポッティングしチップを離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレスし接着させた。ついでバンプを電気的に直接接続した側からポッティングし、半導体レーザーにより発泡させた密着剤7を厚み10μmになるようバンプ部を封止した。ついで厚み50μmの不織布支持体上に補強板とアンテナを密着させICモジュール14を得た。
<ICモジュール15>
直径50μmの銅線アンテナに厚み180μm、3×3mm角のICチップのバンプを電気的に直接接続し、SUS301からなる厚み30μmの4×4mm角板状の第1の補強板を回路面と反対側に乾燥窒素の圧力により発泡させた発泡樹脂1を10μmの厚さになるようポッティングしチップを離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレスし接着させた。ついでバンプを電気的に直接接続した側から乾燥窒素の圧力により発泡させた密着剤8により厚み10μmになるようポッティングしバンプ部を封止した。ついで厚み50μmの不織布支持体上に補強板とアンテナを密着させICモジュール15を得た。
<ICモジュール16>
直径50μmの銅線アンテナに厚み180μm、3×3mm角のICチップのバンプを電気的に直接接続し、SUS301からなる厚み30μmの4×4mm角板状の第1の補強板を回路面と反対側に乾燥窒素の圧力により発泡させた発泡樹脂1を10μmの厚さになるようポッティングしチップを離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレスし接着させた。ついでバンプを電気的に直接接続した側から乾燥窒素の圧力により発泡させた密着剤9により厚み10μmになるようポッティングしバンプ部を封止した。ついで厚み50μmの不織布支持体上に補強板とアンテナを密着させICモジュール16を得た。
<ICモジュール17>
直径50μmの銅線アンテナに厚み180μm、3×3mm角のICチップのバンプを電気的に直接接続し、SUS301からなる厚み30μmの4×4mm角板状の第1の補強板を回路面と反対側に乾燥窒素の圧力により発泡させた発泡樹脂1を10μmの厚さになるようポッティングしチップを離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレスし接着させた。ついで第1補強板の上にSUS301からなる厚み30μmの5×5mm角板状の第2補強板を配置し、乾燥窒素の圧力により発泡させた発泡樹脂1により厚み10μmになるようポッティングしチップを離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレスし接着させた。ついで厚み50μmの不織布支持体上に補強板とアンテナを密着させICモジュール17を得た。
<ICモジュール18>
エッチングによりアンテナパターンの形成された厚み250μmの透明PET支持体に、厚み180μm、3×3mm角のICチップを厚み110μmの4×5mm角板状のリードフレーム金属板上に回路面と反対側を、発泡樹脂1を5μmの厚さになるようポッティングしチップ密着させ、ワイヤーボンディングにより回路とリードフレームを電気的に接続した後、封止するよう密着剤樹脂1をさらにICチップ上に80μmとなるようポッティングしICチップを封止した。その後、離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレスし成型した。ついでアンテナを形成した透明PETにチップ封止部を勘合しリードフレームとアンテナを導電性接着剤により電気的に接合しICモジュール18を得た。
<ICモジュール19>
エッチングによりアンテナパターンの形成された厚み250μmの透明PET支持体に、厚み180μm、3×3mm角のICチップを厚み110μmの4×5mm角板状のリードフレーム金属板上に回路面と反対側を、発泡樹脂1を5μmの厚さになるようポッティングしチップ密着させ、ワイヤーボンディングにより回路とリードフレームを電気的に接続した後、封止するよう密着剤樹脂5をさらにICチップ上に80μmとなるようポッティングしICチップを封止した。その後、離型処理された加圧ロール(0.001kg/cm)によりプレスし成型した。ついで、アンテナを形成した透明PETにチップ封止部を勘合しリードフレームとアンテナを導電性接着剤により電気的に接合しICモジュール19を得た。
<ICモジュール20>
ICモジュール1と同様な方法で作成したが、平板プレス等で加圧等を実施せず、ICモジュール20を得た。
[第1シート部材及び第2シート部材の作成]
下記作成の受像層を有する第1シート部材、筆記層を有する第2シート部材作成方法シートを作成し、下記ICカード基材作成方法によりテストカード1を作成した。
<第1シート部材作成方法>
表面シート基材として帝人デュポンフィルム株式会社製U2L98W−188μm低熱収グレード上に下記組成の第1受像層形成用塗工液、第2受像層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚みが第1受像層2.5μm、第2受像層0.5μmになる様に積層することにより受像層を形成した。
<受像層の形成>
〈第1受像層形成用塗工液〉
ポリビニルブチラール樹脂 6重量部

〔積水化学工業(株)製:エスレックBX−1〕
金属イオン含有化合物(化合物MS) 4重量部
[Creation of foamed resin]
<Foamed resin 1>
Macroplast QR3460 (manufactured by Henkel Co., Ltd.) Drying nitrogen was blown in while heating a moisture-curable hot melt adhesive at 120 ° C. to obtain a foamed resin with continuous stirring. The bulk density was 0.45 g / cm 3 .
<Foamed resin 2>
The following composition was heated and mixed at 120 ° C. to prepare a photopolymerizable composition. The composition was heated to 120 ° C. and pressurized to 0.4 MPa with dry nitrogen gas, stirred at 200 rpm for 30 minutes, pressurized with nitrogen gas, then released under atmospheric pressure and foamed, and 365 nm ultraviolet light was applied to 1500 mJ. Irradiated with an intensity of / cm 2 to obtain a photocurable adhesive foam. The bulk density was 0.9 g / cm 3 .
Foam Resin 2 Composition Rika Resin DME-100 (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.) 7 parts by weight Rika Resin BEO-60E (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.) 25 parts by weight Epicoat 1003F (Oka Shell Epoxy Co., Ltd.) 60 parts by weight Photocationic polymerization initiator UVI-6990 (manufactured by Union Carbide Corp.) 5 parts by weight <Foamed resin 3>
The following composition was heated and mixed at 120 to prepare a foamed resin. This composition is heated to 120 ° C. to form a film at a specific location, and using a semiconductor laser with an oscillation wavelength of 830 nm, the entire surface of the film is exposed with an exposure intensity of 0.1 megawatt / cm 2 to obtain a moisture-curable foam. Obtained. The bulk density was 0.4 g / cm 3 .
Foamed resin 3 composition Esdine 9621 (moisture curable adhesive) 80 parts by weight Carbon black dispersion [Dainippon Ink & Chemicals, SD-9020]
20 parts by weight <Foamed resin 4> (Comparative example)
The foaming resin 1 was prepared by the same production method as that of the foamed resin 1, but the dry nitrogen blowing amount was increased to about 10 times, and the foamed resin was obtained while mixing and stirring. The bulk density was 1.2 g / cm 3 .
<Foamed resin 5> (Comparative example)
Although it produced with the manufacturing method similar to the foamed resin 1, dry nitrogen blowing was not implemented. The bulk density was 0 g / cm 3 .
[Creation of adhesive used for bumps that electrically connect antennas]
<Adhesive 1>
Two-component curable elastic epoxy adhesive: A main agent and a curing agent using ULTITE 1540 set (after curing, 2% elastic modulus 0.4%) manufactured by Toho Kasei Kogyo Co., Ltd. were used.
<Adhesive 2>
The main agent and the curing agent using Three Bond main agent 2002H / curing agent 2105F (2% elastic modulus after curing 0.05%) were used.
<Adhesive 3>
Aron Alpha GEL-10 (2% elastic modulus 60 kg / mm 2 , manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was used.
<Adhesive 4> (Comparative Example)
Semicoat 220H (2% elastic modulus 300 kg / mm 2 , manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used.
<Adhesive 5>
The foamed resin 1 was used.
<Adhesive 6>
The foamed resin 2 was used.
<Adhesive 7>
The foamed resin 3 was used.
<Adhesive 8> (Comparative Example)
The foamed resin 4 was used.
<Adhesive 9> (Comparative Example)
The foamed resin 5 was used.
[Create IC module]
<IC module 1>
An IC chip having a thickness of 60 μm and a 3 × 3 mm square and an antenna are bonded to a transparent PET support having a thickness of 38 μm on which an antenna pattern has been formed by etching with a conductive adhesive, and then 4 × 4 mm having a thickness of 50 μm made of SUS301. A pressure roll (0) which is potted with a foamed resin 1 obtained by foaming a square plate-like reinforcing plate on the opposite side of the circuit surface with the pressure of dry nitrogen to a thickness of 10 μm and sealing the chip. The IC module 1 was obtained by pressing and adhering at 001 kg / cm 2 ).
<IC module 2>
An IC chip having a thickness of 60 μm and a 3 × 3 mm square and an antenna are bonded to a transparent PET support having a thickness of 38 μm on which an antenna pattern has been formed by etching with a conductive adhesive, and then 4 × 4 mm having a thickness of 50 μm made of SUS301. A pressure roll (0) which is potted with a foamed resin 1 obtained by foaming a square plate-like reinforcing plate on the opposite side of the circuit surface with the pressure of dry nitrogen to a thickness of 10 μm and sealing the chip. 0.001 kg / cm 2 ) and bonded. Next, the area of the second reinforcing plate becomes larger than the second reinforcing plate by the foamed resin 1 obtained by foaming the second reinforcing plate made of SU301 and having a thickness of 50 μm and having a thickness of 5 × 5 mm on the first reinforcing plate with the pressure of dry nitrogen to a thickness of 10 μm. The IC module 2 was obtained by pressing and bonding with a pressure roll (0.001 kg / cm 2 ) that was potted and sealed to release the chip.
<IC module 3>
An IC chip having a thickness of 60 μm and a 3 × 3 mm square and an antenna are bonded to a transparent PET support having a thickness of 38 μm on which an antenna pattern has been formed by etching with a conductive adhesive, and then 4 × 4 mm having a thickness of 50 μm made of SUS301. A foamed resin 2 obtained by foaming a square plate-like reinforcing plate on the opposite side of the circuit surface with the pressure of dry nitrogen is potted so as to seal the chip with a thickness of 10 μm, and ultraviolet rays of 365 nm have an intensity of 1500 mJ / cm 2 . The IC module 3 was obtained after being cured by pressing with a pressure roll (0.001 kg / cm 2 ) that had been irradiated with and released from the mold.
<IC module 4>
An IC chip having a thickness of 60 μm and a 3 × 3 mm square and an antenna are bonded to a transparent PET support having a thickness of 38 μm on which an antenna pattern has been formed by etching with a conductive adhesive, and then 4 × 4 mm having a thickness of 50 μm made of SUS301. A foamed resin 3 obtained by foaming a square plate-like reinforcing plate on the opposite side of the circuit surface by the pressure of dry nitrogen is potted to a thickness of 10 μm so as to seal the chip. Further, the IC module 4 was obtained by being exposed by a semiconductor laser and pressed and adhered by a pressure roll (0.001 kg / cm 2 ) subjected to a release treatment.
<IC module 5> (Comparative example)
An IC chip having a thickness of 60 μm and a 3 × 3 mm square and an antenna are bonded to a transparent PET support having a thickness of 38 μm on which an antenna pattern has been formed by etching with a conductive adhesive, and then 4 × 4 mm having a thickness of 50 μm made of SUS301. A pressure roll (0) which is potted with a foamed resin 4 obtained by foaming a square plate-like reinforcing plate on the opposite side of the circuit surface with the pressure of dry nitrogen to a thickness of 10 μm and sealing the chip. The IC module 5 was obtained by pressing and adhering at 001 kg / cm 2 ).
<IC module 6> (Comparative example)
An IC chip having a thickness of 60 μm and a 3 × 3 mm square and an antenna are bonded to a transparent PET support having a thickness of 38 μm on which an antenna pattern has been formed by etching with a conductive adhesive, and then 4 × 4 mm having a thickness of 50 μm made of SUS301. A pressure roll (0) which is potted with a foamed resin 5 obtained by foaming a square plate-like reinforcing plate on the opposite side of the circuit surface with the pressure of dry nitrogen to a thickness of 10 μm and sealing the chip. 001 kg / cm 2 ) and bonded to obtain an IC module 6.
<IC module 7>
A bump of an IC chip having a thickness of 180 μm and a 3 × 3 mm square is electrically connected directly to a copper wire antenna having a diameter of 50 μm, and a first reinforcing plate having a 4 × 4 mm square plate made of SUS301 and having a thickness of 30 μm is opposite to the circuit surface. The foamed resin 1 foamed by dry nitrogen pressure is potted to a thickness of 10 μm, and the chip is pressed and bonded by a pressure roll (0.001 kg / cm 2 ) that has been subjected to a mold release treatment to attach the IC module 7. Obtained.
<IC module 8>
A bump of an IC chip having a thickness of 180 μm and a 3 × 3 mm square is electrically connected directly to a copper wire antenna having a diameter of 50 μm, and a first reinforcing plate having a 4 × 4 mm square plate made of SUS301 and having a thickness of 30 μm is opposite to the circuit surface. The foamed resin 1 foamed by dry nitrogen pressure was potted to a thickness of 10 μm, and the chip was pressed and adhered by a pressure roll (0.001 kg / cm 2 ) subjected to mold release treatment. Next, the bump was sealed by potting with an adhesive 1 from the side where the bumps were directly electrically connected to a thickness of 10 μm. Next, an IC module 8 was obtained by closely attaching a reinforcing plate and an antenna on a 50 μm-thick nonwoven fabric support.
<IC module 9>
A bump of an IC chip having a thickness of 180 μm and a 3 × 3 mm square is electrically connected directly to a copper wire antenna having a diameter of 50 μm, and a first reinforcing plate of SUS301 having a thickness of 4 × 4 mm square plate is opposite to the circuit surface. The foamed resin 1 foamed by dry nitrogen pressure was potted to a thickness of 10 μm, and the chip was pressed and adhered by a pressure roll (0.001 kg / cm 2 ) subjected to mold release treatment. Next, the bump was sealed by potting with an adhesive 2 to a thickness of 10 μm from the side where the bumps were directly electrically connected. Next, the reinforcing plate and the antenna were brought into close contact with a 50 μm-thick nonwoven fabric support, and the adhesive 2 was irradiated with 365 nm ultraviolet light at an intensity of 1500 mJ / cm 2 to obtain an IC module 9.
<IC module 10>
A bump of an IC chip having a thickness of 180 μm and a 3 × 3 mm square is electrically connected directly to a copper wire antenna having a diameter of 50 μm, and a first reinforcing plate having a 4 × 4 mm square plate made of SUS301 and having a thickness of 30 μm is opposite to the circuit surface. The foamed resin 1 foamed by dry nitrogen pressure was potted to a thickness of 10 μm, and the chip was pressed and adhered by a pressure roll (0.001 kg / cm 2 ) subjected to mold release treatment. Next, the bump was sealed by potting with the adhesive 3 from the side where the bumps were directly electrically connected to the thickness of 10 μm. Then, a reinforcing plate and an antenna were brought into close contact with a 50 μm-thick nonwoven fabric support, and an IC module 10 was obtained after irradiating the adhesive 3 with a semiconductor laser.
<IC module 11>
A bump of an IC chip having a thickness of 180 μm and a 3 × 3 mm square is electrically connected directly to a copper wire antenna having a diameter of 50 μm, and a first reinforcing plate having a 4 × 4 mm square plate made of SUS301 and having a thickness of 30 μm is opposite to the circuit surface. The foamed resin 1 foamed by dry nitrogen pressure was potted to a thickness of 10 μm, and the chip was pressed and adhered by a pressure roll (0.001 kg / cm 2 ) subjected to mold release treatment. Subsequently, the bump part was sealed by potting with the adhesive 4 from the side where the bumps were directly electrically connected to the thickness of 10 μm. Next, an IC module 11 was obtained by closely attaching a reinforcing plate and an antenna on a 50 μm-thick nonwoven fabric support.
<IC module 12>
A bump of an IC chip with a thickness of 180 μm and a 3 × 3 mm square is electrically connected directly to a copper wire antenna with a diameter of 50 μm, and the first reinforcing plate of 30 μm thick 4 × 4 mm square plate made of SUS301 is opposite to the circuit surface. The foamed resin 1 foamed by dry nitrogen pressure was potted to a thickness of 10 μm, and the chip was pressed and adhered by a pressure roll (0.001 kg / cm 2 ) subjected to mold release treatment. Next, the bump portion was sealed by potting with a bonding agent 5 foamed by the pressure of dry nitrogen from the side where the bumps were directly connected directly to a thickness of 10 μm. Next, an IC module 12 was obtained by closely attaching a reinforcing plate and an antenna on a 50 μm-thick nonwoven fabric support.
<IC module 13>
A bump of an IC chip having a thickness of 180 μm and a 3 × 3 mm square is electrically connected directly to a copper wire antenna having a diameter of 50 μm, and a first reinforcing plate having a 4 × 4 mm square plate made of SUS301 and having a thickness of 30 μm is opposite to the circuit surface. The foamed resin 1 foamed by dry nitrogen pressure was potted to a thickness of 10 μm, and the chip was pressed and adhered by a pressure roll (0.001 kg / cm 2 ) subjected to mold release treatment. Subsequently, the bump part was sealed so as to have a thickness of 10 μm with the adhesive 6 foamed by the pressure of nitrogen gas from the side where the bump was directly electrically connected. Next, an IC module 13 was obtained by closely attaching a reinforcing plate and an antenna on a 50 μm-thick nonwoven fabric support.
<IC module 14>
A bump of an IC chip having a thickness of 180 μm and a 3 × 3 mm square is electrically connected directly to a copper wire antenna having a diameter of 50 μm, and a first reinforcing plate having a 4 × 4 mm square plate made of SUS301 and having a thickness of 30 μm is opposite to the circuit surface. The foamed resin 1 foamed by dry nitrogen pressure was potted to a thickness of 10 μm, and the chip was pressed and adhered by a pressure roll (0.001 kg / cm 2 ) subjected to mold release treatment. Next, the bumps were potted from the side where the bumps were directly directly connected, and the bumps were sealed so that the adhesive 7 foamed by the semiconductor laser had a thickness of 10 μm. Next, an IC module 14 was obtained by closely attaching a reinforcing plate and an antenna on a 50 μm-thick nonwoven fabric support.
<IC module 15>
A bump of an IC chip having a thickness of 180 μm and a 3 × 3 mm square is electrically connected directly to a copper wire antenna having a diameter of 50 μm, and a first reinforcing plate having a 4 × 4 mm square plate made of SUS301 and having a thickness of 30 μm is opposite to the circuit surface. The foamed resin 1 foamed by dry nitrogen pressure was potted to a thickness of 10 μm, and the chip was pressed and adhered by a pressure roll (0.001 kg / cm 2 ) subjected to mold release treatment. Next, the bump part was sealed by potting with a sticking agent 8 foamed by the pressure of dry nitrogen from the side where the bumps were directly connected directly to a thickness of 10 μm. Next, an IC module 15 was obtained by closely attaching a reinforcing plate and an antenna on a 50 μm-thick nonwoven fabric support.
<IC module 16>
A bump of an IC chip having a thickness of 180 μm and a 3 × 3 mm square is electrically connected directly to a copper wire antenna having a diameter of 50 μm, and a first reinforcing plate having a 4 × 4 mm square plate made of SUS301 and having a thickness of 30 μm is opposite to the circuit surface. The foamed resin 1 foamed by dry nitrogen pressure was potted to a thickness of 10 μm, and the chip was pressed and adhered by a pressure roll (0.001 kg / cm 2 ) subjected to mold release treatment. Next, the bump portion was sealed by potting with a bonding agent 9 foamed by the pressure of dry nitrogen from the side where the bumps were directly connected directly to a thickness of 10 μm. Next, an IC module 16 was obtained by closely attaching a reinforcing plate and an antenna on a 50 μm-thick nonwoven fabric support.
<IC module 17>
A bump of an IC chip having a thickness of 180 μm and a 3 × 3 mm square is electrically connected directly to a copper wire antenna having a diameter of 50 μm, and a first reinforcing plate having a 4 × 4 mm square plate made of SUS301 and having a thickness of 30 μm is opposite to the circuit surface. The foamed resin 1 foamed by dry nitrogen pressure was potted to a thickness of 10 μm, and the chip was pressed and adhered by a pressure roll (0.001 kg / cm 2 ) subjected to mold release treatment. Next, a 5 × 5 mm square plate-shaped second reinforcing plate made of SUS301 is placed on the first reinforcing plate, and the chip is potted to a thickness of 10 μm with the foamed resin 1 foamed by the pressure of dry nitrogen. It was pressed and adhered by a pressure roll (0.001 kg / cm 2 ) subjected to a release treatment. Next, an IC module 17 was obtained by closely attaching a reinforcing plate and an antenna onto a 50 μm-thick nonwoven fabric support.
<IC module 18>
An IC chip with a thickness of 180 μm and a 3 × 3 mm square is placed on a transparent PET support with a thickness of 250 μm on which an antenna pattern is formed by etching. The foamed resin 1 is potted to a thickness of 5 μm and brought into close contact with the chip. After the circuit and the lead frame are electrically connected by wire bonding, the adhesive resin 1 is further placed on the IC chip to be 80 μm for sealing. Potting was performed to seal the IC chip. Then, it pressed and molded with the pressure roll (0.001 kg / cm < 2 >) by which the mold release process was carried out. Next, the chip sealing portion was fitted into the transparent PET on which the antenna was formed, and the lead frame and the antenna were electrically joined with a conductive adhesive to obtain the IC module 18.
<IC module 19>
An IC chip with a thickness of 180 μm and a 3 × 3 mm square is placed on a transparent PET support with a thickness of 250 μm on which an antenna pattern is formed by etching. Then, the foamed resin 1 is potted to a thickness of 5 μm and brought into close contact with the chip. After the circuit and the lead frame are electrically connected by wire bonding, the adhesive resin 5 is further placed on the IC chip to be 80 μm to be sealed. Potting was performed to seal the IC chip. Then, it pressed and molded with the pressure roll (0.001 kg / cm < 2 >) by which the mold release process was carried out. Next, the chip sealing part was fitted into the transparent PET on which the antenna was formed, and the lead frame and the antenna were electrically joined with a conductive adhesive to obtain the IC module 19.
<IC module 20>
Although it created with the method similar to IC module 1, IC module 20 was obtained, without performing pressurization etc. with a flat plate press etc.
[Creation of first sheet member and second sheet member]
A first sheet member having an image receiving layer prepared below and a second sheet member forming method sheet having a writing layer were prepared, and a test card 1 was prepared by the following IC card substrate forming method.
<First sheet member creation method>
As a surface sheet base material, a first image-receiving layer forming coating solution and a second image-receiving layer forming coating solution having the following composition were applied and dried in this order on a T2 DuPont Film U2L98W-188 μm low heat yield grade, respectively. Were laminated so that the thickness of the first image receiving layer was 2.5 μm and the second image receiving layer was 0.5 μm.
<Formation of image receiving layer>
<First image-receiving layer forming coating solution>
6 parts by weight of polyvinyl butyral resin

[Sekisui Chemical Co., Ltd. product: S REC BX-1]
4 parts by weight of metal ion-containing compound (compound MS)

メチルエチルケトン 80重量部
酢酸ブチル 10重量部
〈第2受像層形成用塗工液〉
ポリエチレンワックス 2重量部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックE1000〕
ウレタン変性エチレンアクリル酸共重合体 8重量部
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254〕
メチルセルロース〔信越化学工業(株)製:SM15〕 0.1重量部
水 90重量部
(受像層へのフォーマット印刷層の形成)
該受像層上に樹脂凸印刷法により、フォーマット印刷(従業員証、氏名)を行いフォーマット印刷済第1シート部材を作成した。印刷インキはUV墨インキを用いた。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。
<第2シート部材の作成方法>
裏面シート基材として帝人デュポンフィルム株式会社製U2L98W−188μm低熱収グレード上に第1筆記層形成用塗工液、第2筆記層形成用塗工液及び第3筆記層形成用塗工液をこの順に塗布乾燥して、それぞれの厚みが第1筆記層から5μm、15μm、0.2μmになる様に積層することにより筆記層を形成した。筆記層の塗布後の最表面のRaは、1.56μmであった。
〈第1筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂〔東洋紡績(株)製:バイロン200〕 8重量部
イソシアネート 1重量部
〔日本ポリウレタン工業(株)製:コロネートHX〕
カーボンブラック 微量
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 1重量部
メチルエチルケトン 80重量部
酢酸ブチル 10重量部
〈第2筆記層形成用塗工液〉
ポリエステル樹脂 4重量部
〔東洋紡績(株)製:バイロナールMD1200〕
シリカ 6重量部
二酸化チタン粒子〔石原産業(株)製:CR80〕 2重量部
水 90重量部
〈第3筆記層形成用塗工液〉
ポリアミド樹脂〔三和化学工業(株)製:サンマイド55〕 5重量部
メタノール 95重量部
(筆記層へのフォーマット印刷層の形成)
筆記層上に樹脂凸印刷法により、樹脂凸印刷(罫線、発行者名、発行者電話番号)を行いフォーマット印刷済第2シート部材1を作成した。印刷インキはUV墨インキを用いた。印刷時のUV照射条件は、高圧水銀灯で200mj相当であった。
80 parts by weight of methyl ethyl ketone 10 parts by weight of butyl acetate <second image-receiving layer forming coating solution>
2 parts by weight of polyethylene wax [manufactured by Toho Chemical Co., Ltd .: Hitech E1000]
8 parts by weight of urethane-modified ethylene acrylic acid copolymer [manufactured by Toho Chemical Co., Ltd .: Hitech S6254]
Methylcellulose [manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: SM15] 0.1 parts by weight Water 90 parts by weight (formation of a format printing layer on the image receiving layer)
On the image receiving layer, format printing (employee ID, name) was performed by a resin convex printing method to form a format printed first sheet member. UV ink was used as printing ink. The UV irradiation conditions during printing were equivalent to 200 mj with a high-pressure mercury lamp.
<Method for creating second sheet member>
The first writing layer forming coating solution, the second writing layer forming coating solution, and the third writing layer forming coating solution on the T2jin DuPont Films U2L98W-188 μm low heat yield grade as the back sheet base material. The writing layer was formed by coating and drying in order, and laminating each of the first writing layer so as to have a thickness of 5 μm, 15 μm, and 0.2 μm. Ra of the outermost surface after application of the writing layer was 1.56 μm.
<First writing layer forming coating solution>
Polyester resin [Toyobo Co., Ltd .: Byron 200] 8 parts by weight Isocyanate 1 part by weight [Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd .: Coronate HX]
Carbon black Trace amount of titanium dioxide particles [Ishihara Sangyo Co., Ltd .: CR80] 1 part by weight Methyl ethyl ketone 80 parts by weight Butyl acetate 10 parts by weight <Coating liquid for forming the second writing layer>
4 parts by weight of polyester resin [Toyobo Co., Ltd .: Vylonal MD1200]
Silica 6 parts by weight Titanium dioxide particles [manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd .: CR80] 2 parts by weight Water 90 parts by weight <third writing layer forming coating solution>
Polyamide resin [manufactured by Sanwa Chemical Industry Co., Ltd .: Sanmide 55] 5 parts by weight Methanol 95 parts by weight (formation of format printing layer on writing layer)
Resin convex printing (ruled lines, issuer name, issuer telephone number) was performed on the writing layer by the resin convex printing method to produce a format-printed second sheet member 1. UV ink was used as printing ink. The UV irradiation conditions during printing were equivalent to 200 mj with a high-pressure mercury lamp.

前記作成された、第1シート部材、第2シート部材を用い下記の製造方法でICカード基材を得ることができた。
<IDカード基材の製造方法>
以下、図面を参照しながら、この発明の実施形態としての画像記録体、その製造装置及びその製造方法について説明をする。
[ICカード基材の作成]
第1シート部材、第2シート部材を用い図20乃至図22のICカード作成装置によりICカードを作成した。以下ICカード作成装置について説明する。
<ICカード基材作成方法1>
実施形態としての図20のICカード作成装置について説明をする。この発明のICカード作成装置は、長尺シート状で第2シート部材(裏シート)と、枚葉シート状で第1シート部材(表シート)とが配備され、第1シート部材に接着剤供給部から積水化学工業株式会社製 湿気硬化型ホットメルト接着剤MK2013接着剤を窒素下120℃で溶融し、接着剤供給部からTダイ塗布方式により接着剤供給し、その塗布部上にICチップ、補強構造物、アンテナ等から構成されるICモジュールをICモジュール供給部から配置される。第2シート部材(裏シート)に接着剤供給部からICカード用接着剤、積水化学工業株式会社製 湿気硬化型ホットメルト接着剤MK2013接着剤を窒素下120℃で溶融し、接着剤供給部からTダイ塗布方式により接着剤供給した。
An IC card substrate could be obtained by the following manufacturing method using the first sheet member and the second sheet member prepared as described above.
<Method for producing ID card substrate>
Hereinafter, an image recording body, an apparatus for manufacturing the same, and a method for manufacturing the same will be described with reference to the drawings.
[ Creation of IC card substrate]
Using the first sheet member and the second sheet member, an IC card was created by the IC card making apparatus shown in FIGS. The IC card creation device will be described below.
<IC card substrate production method 1>
The IC card creation apparatus of FIG. 20 as an embodiment will be described. The IC card making apparatus of the present invention is provided with a second sheet member (back sheet) in the form of a long sheet and a first sheet member (front sheet) in the form of a single sheet, and supplies an adhesive to the first sheet member Moisture-curable hot melt adhesive MK2013 manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. is melted at 120 ° C. under nitrogen, and the adhesive is supplied from the adhesive supply unit by a T-die coating method. An IC module including a reinforcing structure, an antenna, and the like is disposed from the IC module supply unit. From the adhesive supply section to the second sheet member (back sheet), IC card adhesive, Sekisui Chemical Co., Ltd. moisture-curing hot melt adhesive MK2013 adhesive is melted at 120 ° C. under nitrogen, and from the adhesive supply section. The adhesive was supplied by a T-die coating method.

接着剤が塗工された第1シート部材、第2シート部材を加熱/加圧ロール、(圧力3kg/cm、ロール表面温度65℃)により貼合され、膜厚制御ロールにより760μmに制御されたICカード基材4用の原版が作成される。接着剤の硬化、支持体との密着性が十分に行われたてから化粧断裁することが好ましく、この発明では、23℃/55%環境下で14日硬化促進させた後、原版を図23に示すカード打ち抜き機により55mm×85mmサイズ、厚さ760μmのICカード基材を得ることができた。
<ICカード基材作成方法2>
実施形態としての図21のICカード作成装置について説明をする。この発明のICカード作成装置は、長尺シート状で第2シート部材(裏シート)と、枚葉シート状で第1シート部材(表シート)とが配備され、第1シート部材に接着剤供給部から積水化学工業株式会社製 湿気硬化型ホットメルト接着剤MK2013接着剤を120℃で窒素下で溶融し、接着剤供給部からTダイ塗布方式により接着剤供給し、その塗布部上にICチップ、補強構造体、アンテナ等から構成されるICモジュールをICモジュール供給部から配置される。更にICモジュール供給後、補強板上もしくはバンプ上に発泡樹脂供給部から熱溶融された発泡樹脂をポッティングし発泡前の発泡樹脂3を配置し、半導体レザー照射部から半導体レザーにより発泡樹脂3の発泡を行った。
The first sheet member and the second sheet member coated with the adhesive are bonded by a heating / pressurizing roll (pressure 3 kg / cm 2 , roll surface temperature 65 ° C.), and controlled to 760 μm by a film thickness control roll. An original for the IC card base 4 is prepared. It is preferable to cut the makeup after the adhesive has been cured and the adhesiveness to the support has been sufficiently achieved. In the present invention, after the curing is accelerated for 14 days in an environment of 23 ° C./55%, the original plate is formed as shown in FIG. An IC card substrate having a size of 55 mm × 85 mm and a thickness of 760 μm could be obtained using the card punching machine shown in FIG.
<IC card substrate creation method 2>
The IC card making apparatus of FIG. 21 as an embodiment will be described. The IC card making apparatus of the present invention is provided with a second sheet member (back sheet) in the form of a long sheet and a first sheet member (front sheet) in the form of a single sheet, and supplies an adhesive to the first sheet member Moisture curable hot melt adhesive MK2013 adhesive manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. is melted at 120 ° C. under nitrogen from the part, and the adhesive is supplied from the adhesive supply part by a T-die coating method. An IC module including a reinforcing structure, an antenna, and the like is disposed from the IC module supply unit. Further, after supplying the IC module, the foamed resin 3 that has been thermally melted from the foamed resin supply unit is potted on the reinforcing plate or the bump, and the foamed resin 3 before foaming is disposed. Went.

その後、第2シート部材(裏シート)に接着剤供給部からICカード用接着剤、積水化学工業株式会社製 湿気硬化型ホットメルト接着剤MK2013接着剤を窒素下で120℃溶融し、接着剤供給部からTダイ塗布方式により接着剤供給した。   Thereafter, the adhesive for IC card, the moisture curing type hot melt adhesive MK2013 adhesive manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. is melted at 120 ° C. under nitrogen from the adhesive supply section to the second sheet member (back sheet), and the adhesive is supplied. The adhesive was supplied from the part by a T-die coating method.

上記、接着剤塗工された第1シート部材、第2シート部材を加熱/加圧ロール、(圧力3kg/cm2、ロール表面温度65℃)により貼合され、膜厚制御ロールにより760μmに制御されたICカード基材4用の原版が作成される。接着剤の硬化、支持体との密着性が十分に行われたてから化粧断裁することが好ましく、この発明では、23℃/55%環境下で14日硬化促進させた後、原版を図23に示すカード打ち抜き機により55mm×85mmサイズ、厚さ760μmのICカード基材を得ることができた。
<ICカード基材作成方法3>
実施形態としての図22のICカード作成装置について説明をする。この発明のICカード作成装置は、長尺シート状で第2シート部材(裏シート)と、枚葉シート状で第1シート部材(表シート)とが配備され、第1シート部材に接着剤供給部から積水化学工業株式会社製 湿気硬化型ホットメルト接着剤MK2013接着剤を窒素下で120℃溶融し、接着剤供給部からTダイ塗布方式により接着剤供給し、その塗布部上にICチップ、補強構造体、アンテナ等から構成されるICモジュールをICモジュール供給部から配置される。更にICモジュール供給後、補強板上もしくはバンプ上に発泡樹脂供給部から熱溶融された発泡樹脂をポッティングし、光硬化前の発泡樹脂2を配置し、紫外線照射部から紫外線照射により発泡樹脂2の固定化を行った。
The above-mentioned first and second sheet members coated with adhesive are bonded by a heating / pressurizing roll (pressure 3 kg / cm 2 , roll surface temperature 65 ° C.) and controlled to 760 μm by a film thickness control roll. A master for the IC card substrate 4 is prepared. It is preferable to cut the makeup after the adhesive has been cured and the adhesiveness to the support has been sufficiently achieved. In the present invention, after the curing is accelerated for 14 days in an environment of 23 ° C./55%, the original plate is formed as shown in FIG. An IC card substrate having a size of 55 mm × 85 mm and a thickness of 760 μm could be obtained using the card punching machine shown in FIG.
<IC card base material creation method 3>
The IC card creation apparatus of FIG. 22 as an embodiment will be described. The IC card making apparatus of the present invention is provided with a second sheet member (back sheet) in the form of a long sheet and a first sheet member (front sheet) in the form of a single sheet, and an adhesive is supplied to the first sheet member Moisture curable hot melt adhesive MK2013 adhesive manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. is melted at 120 ° C. under nitrogen, and the adhesive is supplied from the adhesive supply unit by a T-die coating method. An IC module including a reinforcing structure, an antenna, and the like is disposed from the IC module supply unit. Further, after supplying the IC module, the foamed resin melted from the foamed resin supply part is potted on the reinforcing plate or the bump, and the foamed resin 2 before photocuring is disposed. Immobilization was performed.

その後、第2シート部材(裏シート)に接着剤供給部からICカード用接着剤、積水化学工業株式会社製 湿気硬化型ホットメルト接着剤MK2013接着剤を窒素下で120℃溶融し、接着剤供給部からTダイ塗布方式により接着剤供給し、その直後、第1シートに供給されたICモジュールの補強板上もしくはバンプ上に配置されるような位置に発泡樹脂供給部から熱溶融された発泡樹脂をポッティングし、光硬化前の発泡樹脂2を配置し、紫外線照射部から紫外線照射により発泡樹脂2の固定化を行った。   Thereafter, the adhesive for IC card, the moisture curing type hot melt adhesive MK2013 adhesive manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. is melted at 120 ° C. under nitrogen from the adhesive supply section to the second sheet member (back sheet), and the adhesive is supplied. The adhesive resin is supplied from the part by a T-die coating method, and immediately after that, the foamed resin melted from the foamed resin supply part at a position on the reinforcing plate or bump of the IC module supplied to the first sheet. The foamed resin 2 before photocuring was placed, and the foamed resin 2 was fixed by ultraviolet irradiation from the ultraviolet irradiation section.

その後、接着剤塗工された第1シート部材、第2シート部材を加熱/加圧ロール、(圧力3kg/cm、ロール表面温度65℃)により貼合され、膜厚制御ロールにより760μmに制御されたICカード基材4用の原版が作成される。接着剤の硬化、支持体との密着性が十分に行われたてから化粧断裁することが好ましく、この発明では、23℃/55%環境下で14日硬化促進させた後、原版を図23に示すカード打ち抜き機により55mm×85mmサイズ、厚さ760μmのICカード基材を得ることができた。
「ICカード発行装置での使用材料詳細」
<書誌情報及び識別情報用材料の作成>
下記記載の感熱転写記録用インクシート1、表面保護層用転写箔1を用い、ICカード発行装置図23で書誌情報及び識別情報の記録を行い、ICカードを作成した。
[昇華型感熱転写記録用インクシート作成1と記録方法]
裏面に融着防止加工した厚さ6μmのポリエチレンテレフタレートシートに下記組成のイエローインク層形成用塗工液、マゼンタインク層形成用塗工液、シアンインク層形成用塗工液を各々の厚みが1μmになる様に設け、イエロー、マゼンタ、シアンの3色のインクシートを得た。
Thereafter, the adhesive-coated first sheet member and second sheet member are bonded by a heating / pressurizing roll (pressure 3 kg / cm 2 , roll surface temperature 65 ° C.) and controlled to 760 μm by a film thickness control roll. A master for the IC card substrate 4 is prepared. It is preferable to cut the makeup after the adhesive has been cured and the adhesiveness to the support has been sufficiently achieved. In the present invention, after the curing is accelerated for 14 days in a 23 ° C./55% environment, the original plate is formed as shown in FIG. An IC card substrate having a size of 55 mm × 85 mm and a thickness of 760 μm could be obtained using the card punching machine shown in FIG.
"Details of materials used in IC card issuing equipment"
<Creation of bibliographic information and identification information materials>
Using the thermal transfer recording ink sheet 1 and the surface protective layer transfer foil 1 described below, the IC card issuance apparatus shown in FIG. 23 was used to record bibliographic information and identification information, thereby producing an IC card.
[Sublimation type thermal transfer recording ink sheet preparation 1 and recording method]
A 6 μm-thick polyethylene terephthalate sheet with anti-fusion processing on the back side is coated with a yellow ink layer forming coating liquid, a magenta ink layer forming coating liquid, and a cyan ink layer forming coating liquid each having a thickness of 1 μm. Thus, ink sheets of three colors of yellow, magenta and cyan were obtained.

カード上への書誌情報及び識別情報の記録は、昇華型感熱転写記録用のインクシートのインク側を重ね合わせインクシート側からサーマルヘッドを用いて出力0.23W/ドット、パルス幅0.3〜4.5m秒、ドット密度16ドット/mmの条件で加熱することにより画像に階調性のある人物画像を形成することができた。
〈イエローインク層形成用塗工液〉
イエロー染料
(三井東圧染料(株)製MSYellow) 3重量部
ポリビニルアセタール 5.5重量部
〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕
ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 1重量部
〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕
ウレタン変性シリコンオイル 0.5重量部
〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕
メチルエチルケトン 70重量部
トルエン 20重量部
〈マゼンタインク層形成用塗工液〉
マゼンタ染料
(三井東圧染料(株)製 MS Magenta) 2重量部
ポリビニルアセタール 5.5重量部
〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕
ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 2重量部
〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕
ウレタン変性シリコンオイル 0.5重量部
〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕
メチルエチルケトン 70重量部
トルエン 20重量部
〈シアンインク層形成用塗工液〉
シアン染料
(日本化薬(株)製 カヤセットブルー136) 3重量部
ポリビニルアセタール 5.6重量部
〔電気化学工業(株)製:デンカブチラールKY−24〕
ポリメチルメタアクリレート変性ポリスチレン 1重量部
〔東亜合成化学工業(株)製:レデダGP−200〕
ウレタン変性シリコンオイル 0.5重量部
〔大日精化工業(株)製:ダイアロマーSP−2105〕
メチルエチルケトン 70重量部
トルエン 20重量部
(溶融型感熱転写記録用のインクシートの作成(受像層面溶融印字用))
[溶融型感熱転写記録用インクシート作成1と記録方法]
裏面に融着防止加工した厚さ6μmのポリエチレンテレフタレートシートに下記組成のインク層形成用塗工液を厚みが2μmになる様に塗布乾燥してインクシートを得た。
Bibliographic information and identification information are recorded on the card by superimposing the ink side of the ink sheet for sublimation type thermal transfer recording using a thermal head from the ink sheet side and an output of 0.23 W / dot, pulse width of 0.3 to A person image having gradation was able to be formed on the image by heating under conditions of 4.5 milliseconds and a dot density of 16 dots / mm.
<Coating liquid for yellow ink layer formation>
Yellow dye (MSY Yellow manufactured by Mitsui Toatsu Dye Co., Ltd.) 3 parts by weight Polyvinyl acetal 5.5 parts by weight [manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd .: Denka Butyral KY-24]
Polymethyl methacrylate-modified polystyrene 1 part by weight [manufactured by Toa Gosei Chemical Co., Ltd .: Rededa GP-200]
Urethane-modified silicone oil 0.5 parts by weight [Dainipei Chemical Industry Co., Ltd .: Dialomer SP-2105]
Methyl ethyl ketone 70 parts by weight Toluene 20 parts by weight <Coating liquid for forming a magenta ink layer>
Magenta dye
(MS Magenta manufactured by Mitsui Toatsu Dye Co., Ltd.) 2 parts by weight Polyvinyl acetal 5.5 parts by weight [manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd .: Denkabutyral KY-24]
Polymethylmethacrylate-modified polystyrene 2 parts by weight [manufactured by Toa Gosei Chemical Co., Ltd .: Rededa GP-200]
Urethane-modified silicone oil 0.5 parts by weight [Dainipei Chemical Industry Co., Ltd .: Dialomer SP-2105]
Methyl ethyl ketone 70 parts by weight Toluene 20 parts by weight <Cyan ink layer forming coating solution>
Cyan dye
(Nippon Kayaku Co., Ltd. Kayaset Blue 136) 3 parts by weight Polyvinyl acetal 5.6 parts by weight [Denka Butyral KY-24, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.]
Polymethyl methacrylate-modified polystyrene 1 part by weight [manufactured by Toa Gosei Chemical Co., Ltd .: Rededa GP-200]
Urethane-modified silicone oil 0.5 parts by weight [Dainipei Chemical Industry Co., Ltd .: Dialomer SP-2105]
Methyl ethyl ketone 70 parts by weight Toluene 20 parts by weight (Preparation of ink sheet for melt-type thermal transfer recording (for image-receiving layer surface fusion printing))
[Melting type thermal transfer recording ink sheet preparation 1 and recording method]
An ink sheet was obtained by applying and drying an ink layer forming coating solution having the following composition to a polyethylene terephthalate sheet having a thickness of 6 μm that had been processed to prevent fusing on the back surface to a thickness of 2 μm.

カード上への書誌情報及び識別情報の記録は、溶融型感熱転写記録用のインクシートのインク側を重ね合わせインクシート側からサーマルヘッドを用いて出力0.5W/ドット、パルス幅1.0m秒、ドット密度16ドット/mmの条件で加熱することにより文字情報を形成することができた。
〈インク層形成用塗工液〉
カルナバワックス 1重量部
エチレン酢酸ビニル共重合体 1重量部
〔三井デュポンケミカル社製:EV40Y〕
カーボンブラック 3重量部
フェノール樹脂〔荒川化学工業(株)製:タマノル521〕 5重量部
メチルエチルケトン 90重量部
<カード表面保護転写箔の作成>
下記記載の表面保護転写箔1を用い、ICカード発行装置でカードへの表面保護を実施した。
[表面保護層使用樹脂の合成]
窒素気流下の三ツ口フラスコに、メタアクリル酸メチル73部、スチレン15部、メタアクリル酸12部とエタノール500部、α、α′−アゾビスイソブチロニトリル3部を入れ、窒素気流中80℃のオイルバスで6時間反応させた。その後、トリエチルアンモニウムクロライド3部、グリシジルメタクリレート1.0部を加え、3時間反応させ目的のアクリル系共重合体の合成バインダー1を得た。
<表面保護転写箔1の作成>
(離型層形成塗工液) 膜厚0.2μm
ポリビニルアルコール(GL−05) (日本合成化学(株)社製) 10重量部
水 90重量部
離型層は、90℃/30secの乾燥条件により塗工を行った。
(活性光線硬化性化合物) 膜厚7.0μm
新中村化学社製A−9300/新中村化学社製EA−1020=35/11.75重量部
反応開始剤
イルガキュア184日本チバガイギー社製 5重量部
上記合成バインダー1 48重量部
大日本インキ界面活性剤F−179 0.25重量部
トルエン 500重量部
塗布後の活性光線硬化性化合物は、90℃/30secで乾燥を行い、次いで水銀灯(300mJ/cm)で光硬化を行った。
〈中間層形成塗工液〉 膜厚1.0μm
ポリビニルブチラール樹脂〔積水化学(株)製:エスレックBX−1〕 3.5重量部
タフテックスM−1913(旭化成) 5重量部
硬化剤 ポリイソシアネート[コロネートHX 日本ポリウレタン製] 1.5重量部
メチルエチルケトン 90重量部
塗布後硬化剤の硬化は、50℃、24時間で行った。
〈接着層形成塗工液〉 膜厚0.5μm
ウレタン変性エチレンエチルアクリレート共重合体
〔東邦化学工業(株)製:ハイテックS6254B〕 8重量部
ポリアクリル酸エステル共重合体〔日本純薬(株)製:ジュリマーAT510〕2重量部
水 45重量部
エタノール 45重量部
塗布後、70℃/30secで乾燥を行った。
Bibliographic information and identification information are recorded on the card by superimposing the ink side of the ink sheet for melt-type thermal transfer recording on the ink sheet side using a thermal head and outputting 0.5 W / dot, pulse width 1.0 ms. Character information could be formed by heating at a dot density of 16 dots / mm.
<Ink layer forming coating solution>
Carnauba wax 1 part by weight Ethylene vinyl acetate copolymer 1 part by weight [Mitsui DuPont Chemical Co., Ltd .: EV40Y]
Carbon black 3 parts by weight Phenolic resin [Arakawa Chemical Industries, Ltd .: Tamorol 521] 5 parts by weight Methyl ethyl ketone 90 parts by weight <Preparation of card surface protective transfer foil>
The surface protection transfer foil 1 described below was used to protect the surface of the card with an IC card issuing device.
[Synthesis of resin using surface protective layer]
In a three-necked flask under a nitrogen stream, 73 parts of methyl methacrylate, 15 parts of styrene, 12 parts of methacrylic acid, 500 parts of ethanol, and 3 parts of α, α'-azobisisobutyronitrile were placed at 80 ° C. in a nitrogen stream. For 6 hours in an oil bath. Thereafter, 3 parts of triethylammonium chloride and 1.0 part of glycidyl methacrylate were added and reacted for 3 hours to obtain a synthetic binder 1 of the desired acrylic copolymer.
<Creation of surface protection transfer foil 1>
(Release layer forming coating solution) Film thickness 0.2 μm
Polyvinyl alcohol (GL-05) (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) 10 parts by weight water 90 parts by weight
The release layer was coated under a drying condition of 90 ° C./30 sec.
(Actinic ray curable compound) Film thickness 7.0 μm
Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. A-9300 / Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. EA-1020 = 35 / 11.75 parts by weight Reaction initiator Irgacure 184 Nippon Ciba Geigy Co., Ltd. 5 parts by weight Synthetic binder 1 48 parts by weight Dainippon Ink Surfactant F-179 0.25 parts by weight Toluene 500 parts by weight The applied actinic ray curable compound was dried at 90 ° C./30 sec, and then photocured with a mercury lamp (300 mJ / cm 2 ).
<Intermediate layer forming coating solution> Film thickness 1.0 μm
Polyvinyl butyral resin [manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd .: ESREC BX-1] 3.5 parts by weight
Tuftex M-1913 (Asahi Kasei) 5 parts by weight curing agent Polyisocyanate [Coronate HX made by Nippon Polyurethane] 1.5 parts by weight Methyl ethyl ketone 90 parts by weight After curing, curing of the curing agent was carried out at 50 ° C. for 24 hours.
<Adhesive layer forming coating solution> Film thickness 0.5 μm
Urethane-modified ethylene ethyl acrylate copolymer [manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd .: Hitec S6254B] 8 parts by weight
Polyacrylic acid ester copolymer [Nippon Pure Chemicals Co., Ltd .: Jurimer AT510] 2 parts by weight
45 parts by weight of water After applying 45 parts by weight of ethanol, drying was performed at 70 ° C./30 sec.

さらに画像、文字が記録された前記受像体又は透明樹脂層、鱗片顔料含有層上に前記構成からなる活性光線硬化型転写箔1を用いて表面温度200℃に加熱した、直径5cmゴム硬度85のヒートローラーを用いて圧力150kg/cmで1.2秒間熱をかけて転写を行った。
「評価方法」
<繰り返し曲げ試験>
JIS K6404−6 の揉み試験装置を用い、チップ上をクランプし振幅50mm、間隙30mm、120回/分で繰り返し曲げを100回行った。試験後動作および変形、破損を確認した。
◎・・・変形・剥離なく変化なし
○・・・変形・剥離なく問題ないが痕跡が残っている
△・・・剥離破損はないが変形している
×・・・変形・剥離破損あり
<点圧強度試験>
先端直径1mmの鋼球で1kg荷重をICチップの回路面、非回路面それぞれ硬度50のゴムシート上で200回かけた。試験後動作および変形、破損を確認した。
◎・・・変形・剥離なく変化なし
○・・・変形・剥離なく問題ないが痕跡が残っている
△・・・剥離破損はないが変形している
×・・・変形・破損あり
<衝撃試験>
JIS K5600‐5−3の落体式衝撃試験機を用い、内径27mmの穴の空いた受け台にICチップが中心にくるようにカードを上下より挟んで強固に固定し、先端直径20mm、重さ100g重の重り(S45C鋼)を10cmの高さより受け台中心のICチップ上に自由落下させた。試験後動作および変形、破損を確認した。
◎・・・変形・剥離なく変化なし
○・・・変形・剥離なく問題ないが痕跡が残っている
△・・・剥離破損はないが変形している
×・・・変形・剥離破損あり
<印字性>
作成したカードに昇華画像を印画し、かすれ具合を評価した。
◎・・・問題なく印画できる
○・・・一部濃度が低下する部分があるが判別できるレベルである
△・・・一部濃度が低下し判別できないレベルである
×・・・完全に色抜けする部分がある
以下、表1に実施例、表2に結果を示す。
(表1)
<ICモジュール>

Furthermore, on the image receptor or transparent resin layer in which images and characters are recorded, the scale pigment-containing layer is heated to a surface temperature of 200 ° C. using the actinic ray curable transfer foil 1 having the above-described configuration, and has a diameter of 5 cm and a rubber hardness of 85 Transfer was performed by applying heat for 1.2 seconds at a pressure of 150 kg / cm 2 using a heat roller.
"Evaluation methods"
<Repeated bending test>
Using a sag test device of JIS K6404-6, the chip was clamped and repeatedly bent 100 times with an amplitude of 50 mm, a gap of 30 mm, and 120 times / minute. Operation, deformation, and damage were confirmed after the test.
◎ ... No change without deformation / peeling ○ ... No problem with deformation / peeling but trace remains Δ ... No peeling damage but deformed × ... Deformation / peeling damage <Point Pressure strength test>
A 1 kg load was applied 200 times on a rubber sheet having a hardness of 50 on each of the circuit surface and non-circuit surface of the IC chip with a steel ball having a tip diameter of 1 mm. Operation, deformation, and damage were confirmed after the test.
◎ ... No change without deformation / peeling ○ ... No problem with deformation / peeling but trace remains Δ ... No peeling damage but deformed × ... Deformed / damaged <Impact test >
Using a falling impact tester of JIS K5600-5-3, firmly hold the card from above and below so that the IC chip is centered on a cradle with a hole with an inner diameter of 27 mm, tip diameter 20 mm, weight A 100 g weight (S45C steel) was dropped freely onto the IC chip at the center of the cradle from a height of 10 cm. Operation, deformation, and damage were confirmed after the test.
◎ ... No change without deformation / peeling ○ ... No problem with deformation / peeling but trace remains Δ ... No peeling damage but deformed × ... Deformation / peeling damage <Print Sex>
Sublimation images were printed on the cards created, and the degree of blur was evaluated.
◎ ・ ・ ・ Can print without problems ○ ・ ・ ・ Some levels can be discriminated, but can be discriminated △ ・ ・ ・ Partial density has fallen and cannot be discriminated ×× Color is completely missing Table 1 shows examples and Table 2 shows the results.
(table 1)
<IC module>

(表2)

(Table 2)

この発明は、偽造、変造防止等の安全性(セキュリティ)が要求される個人情報等を記憶する非接触式の電子カード、あるいはシートに適用して好適なICカード及びICカードの製造方法に適用でき、耐久性を改善し、尚且つ表面性を高い次元で改善する。   The present invention is applied to a contactless electronic card that stores personal information or the like that requires safety (security) such as forgery and alteration prevention, or an IC card suitable for application to a sheet and an IC card manufacturing method. Can improve durability, and improve surface quality at a high level.

ICカードを示し、図1(a)はICカードの層構成を示す図、図2(b)はICチップ部の平面図である。FIG. 1A is a diagram showing a layer structure of an IC card, and FIG. 2B is a plan view of an IC chip portion. ICカードの層構成を示す図である。It is a figure which shows the layer structure of an IC card. ICカードを示し、図1(a)はICカードの層構成を示す図、図2(b)はICチップ部の平面図である。FIG. 1A is a diagram showing a layer structure of an IC card, and FIG. 2B is a plan view of an IC chip portion. ICカードの層構成を示す図である。It is a figure which shows the layer structure of an IC card. ICカードの層構成を示す図である。It is a figure which shows the layer structure of an IC card. ICカードの層構成を示す図である。It is a figure which shows the layer structure of an IC card. ICカードの層構成を示す図である。It is a figure which shows the layer structure of an IC card. ICカードの層構成を示す図である。It is a figure which shows the layer structure of an IC card. ICカードの層構成を示す図である。It is a figure which shows the layer structure of an IC card. ICカードの層構成を示す図である。It is a figure which shows the layer structure of an IC card. ICカードを示し、図1(a)はICカードの層構成を示す図、図2(b)はICチップ部の平面図である。FIG. 1A is a diagram showing a layer structure of an IC card, and FIG. 2B is a plan view of an IC chip portion. ICカードの層構成を示す図である。It is a figure which shows the layer structure of an IC card. ICカードの層構成を示す図である。It is a figure which shows the layer structure of an IC card. ICカードの層構成を示す図である。It is a figure which shows the layer structure of an IC card. ICカードの層構成を示す図である。It is a figure which shows the layer structure of an IC card. ICカードの層構成を示す図である。It is a figure which shows the layer structure of an IC card. ICカードの層構成を示す図である。It is a figure which shows the layer structure of an IC card. ICカードの層構成を示す図である。It is a figure which shows the layer structure of an IC card. ICカード作成装置の実施の形態を示す図である。It is a figure which shows embodiment of an IC card production apparatus. ICカード作成装置の実施の形態を示す図である。It is a figure which shows embodiment of an IC card production apparatus. ICカード作成装置の実施の形態を示す図である。It is a figure which shows embodiment of an IC card production apparatus. ICカード作成装置の実施の形態を示す図である。It is a figure which shows embodiment of an IC card production apparatus. ICカード作成装置の実施の形態を示す図である。It is a figure which shows embodiment of an IC card production apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

1 第1シート部材
2 第2シート部材
3 ICモジュール
3a ICチップ
3b 補強構造物
3c アンテナ
4a、4b ICカード接着剤
20、22、23、24、25 発泡樹脂

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st sheet member 2 2nd sheet member 3 IC module 3a IC chip 3b Reinforcement structure 3c Antenna 4a, 4b IC card adhesive 20, 22, 23, 24, 25 Foam resin

Claims (11)

対向する第1シート部材と第2シート部材の間の所定位置に、ICチップ、ICチップに隣接した補強構造物、アンテナからなるICモジュールを含む部品がICカード接着剤を介在して配置されるICカードにおいて、
前記補強構造物及び前記ICチップのいずれかひとつの部材に隣接するようにJISK−7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂を設けてあることを特徴とするICカード。
In a predetermined position between the first sheet member and the second sheet member facing each other, an IC chip, a reinforcing structure adjacent to the IC chip, and a component including an IC module including an antenna are arranged with an IC card adhesive interposed therebetween. In IC card,
A foamed resin having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222 is provided so as to be adjacent to any one member of the reinforcing structure and the IC chip. IC card to do.
対向する第1シート部材と第2シート部材の間の所定位置に、ICチップ、ICチップに隣接した補強構造物、アンテナからなるICモジュールを含む部品がICカード接着剤を介在して配置されるICカードにおいて、
前記補強構造物と前記ICチップを接続する接続用接着剤がJISK-7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂であることを特徴とするICカード。
In a predetermined position between the first sheet member and the second sheet member facing each other, an IC chip, a reinforcing structure adjacent to the IC chip, and a component including an IC module including an antenna are arranged with an IC card adhesive interposed therebetween. In IC card,
An IC card, wherein the connecting adhesive for connecting the reinforcing structure and the IC chip is a foamed resin having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222.
前記ICカード接着剤の2%弾性率が1kg/mm以上90kg/mm以下、破断点伸度が200%以上1300%以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のICカード。 The 2% elastic modulus of the IC card adhesive is 1 kg / mm 2 or more and 90 kg / mm 2 or less, and the elongation at break is 200% or more and 1300% or less. IC card. 前記ICチップの回路面と反対側に密着層、前記補強構造物の順に具備し、
前記ICチップの回路面側が、
モジュール支持体上に形成された前記アンテナと電気的に接続するバンプと、
2%弾性率が0.05〜80kg/mmからなる樹脂成分またはJISK−7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂のいずれか一方を満たす材料からなる密着剤であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のICカード。
Provided in the order of the adhesion layer, the reinforcing structure on the opposite side of the circuit surface of the IC chip,
The circuit surface side of the IC chip is
A bump electrically connected to the antenna formed on the module support;
It is made of a material satisfying either a resin component having a 2% elastic modulus of 0.05 to 80 kg / mm 2 or a foamed resin having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222. The IC card according to any one of claims 1 to 3, wherein the IC card is an adhesive.
前記ICチップの厚みが、5μm以上120μm以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のICカード。   5. The IC card according to claim 1, wherein a thickness of the IC chip is 5 μm or more and 120 μm or less. 対向する第1シート部材と第2シート部材の表面の少なくとも一方に受像層を有し、この受像層に氏名、顔画像からなる個人識別情報が設けられ、他方に筆記可能な筆記層を有することを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のICカード。   An image receiving layer is provided on at least one of the surfaces of the first sheet member and the second sheet member facing each other, personal identification information including a name and a face image is provided on the image receiving layer, and a writing layer capable of writing is provided on the other. The IC card according to any one of claims 1 to 5, wherein: 前記ICカード接着剤が、反応型接着剤であることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のICカード。   The IC card according to any one of claims 1 to 6, wherein the IC card adhesive is a reactive adhesive. 対向する第1シート部材と第2シート部材の間の所定位置に、ICチップ、ICチップに隣接した補強構造物、アンテナからなるICモジュールを含む部品が接着剤を介在して配置される請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載のICカードの製造方法であり、
前記補強構造物及び前記ICチップのいずれかひとつの部材に隣接するようにJISK−7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂を形成した後、発泡のためのエネルギーにより発泡させたことを特徴とするICカードの製造方法。
A part including an IC chip, an IC module including an IC chip, a reinforcing structure adjacent to the IC chip, and an antenna is disposed at a predetermined position between the first sheet member and the second sheet member facing each other with an adhesive interposed therebetween. An IC card manufacturing method according to any one of claims 1 to 7,
For foaming, after forming a foamed resin having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222 so as to be adjacent to any one member of the reinforcing structure and the IC chip A method for producing an IC card, which is foamed by the energy of
対向する第1シート部材と第2シート部材の間の所定位置に、ICチップ、ICチップに隣接した補強構造物、アンテナからなるICモジュールを含む部品がICカード接着剤を介在して配置される請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載のICカードの製造方法であり、
前記補強構造物及び前記ICチップのいずれかひとつの部材に隣接するようにJISK−7222測定によるかさ密度が、0.03〜0.95g/cmである発泡樹脂を形成した後、発泡のためのエネルギーにより発泡させ、更に平板プレス、ロールプレスを用い成型することを特徴とするICカードの製造方法。
In a predetermined position between the first sheet member and the second sheet member facing each other, an IC chip, a reinforcing structure adjacent to the IC chip, and a component including an IC module including an antenna are arranged with an IC card adhesive interposed therebetween. It is a manufacturing method of the IC card according to any one of claims 1 to 7,
For foaming, after forming a foamed resin having a bulk density of 0.03 to 0.95 g / cm 3 as measured by JISK-7222 so as to be adjacent to any one member of the reinforcing structure and the IC chip A method for producing an IC card, wherein foaming is performed using the energy of, and molding is further performed using a flat plate press or a roll press.
対向する第1シート部材と第2シート部材の表面の少なくとも一方に受像層を有し、この受像層に氏名、顔画像からなる個人識別情報が設けられ、他方に筆記可能な筆記層を有することを特徴とする請求項8又は請求項9に記載のICカードの製造方法。   An image receiving layer is provided on at least one of the surfaces of the first sheet member and the second sheet member facing each other, personal identification information including a name and a face image is provided on the image receiving layer, and a writing layer capable of writing is provided on the other side. An IC card manufacturing method according to claim 8 or 9, wherein: 前記ICカード接着剤が、反応型接着剤であることを特徴とする請求項8乃至請求項10のいずれか1項に記載のICカードの製造方法。












The method for manufacturing an IC card according to claim 8, wherein the IC card adhesive is a reactive adhesive.












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