JP2007071702A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

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潤 大西
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor integrated circuit which separates and connects output buffer and pads for output in arbitrary operation timing while maintaining a normal mode. <P>SOLUTION: The pad itself for output to be cut is simultaneously used as control terminal of separation or connection. By giving negative pulse potential lower than the negative potential of a power line to the pad for output, the output pad is controlled for separation or connection. The control circuit used in the control makes control for not varying separation or connection state when the potential of the pad for output is the potential between the positive power line and the negative power line. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は半導体集積回路に係わるものであり、特には半導体集積回路をテストする際に半導体集積回路を所望のモードにするための設定機能を搭載した半導体集積回路に関するものである。   The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a semiconductor integrated circuit having a setting function for setting the semiconductor integrated circuit to a desired mode when testing the semiconductor integrated circuit.

近年、半導体集積回路の動作周波数の高速化にともない、半導体集積回路の設計要件として低消費電流化が常用になってきている。このような状況下において、半導体集積回路の消費電流を正確に把握する構成や方法は特に注目を集めている。   In recent years, with the increase in operating frequency of semiconductor integrated circuits, reduction in current consumption has become a common requirement as a design requirement for semiconductor integrated circuits. Under such circumstances, the configuration and method for accurately grasping the current consumption of the semiconductor integrated circuit are attracting particular attention.

半導体集積回路の正確な動作消費電流テストを行う場合、テスト装置により外部から半導体集積回路の特定の入力端子に対して信号を入力し、半導体集積回路の動作時と同様の状態を擬似的に再現するとともに半導体集積回路の動作を擬似的に継続させながら、半導体集積回路の電源間に流れる電流を一定期間測定を行う方法が知られている。   When conducting an accurate operation current consumption test of a semiconductor integrated circuit, a test device inputs a signal from the outside to a specific input terminal of the semiconductor integrated circuit, and simulates the same state as when the semiconductor integrated circuit is operating In addition, a method is known in which the current flowing between the power supplies of the semiconductor integrated circuit is measured for a certain period while the operation of the semiconductor integrated circuit is continued in a pseudo manner.

しかしながら、半導体集積回路の出力端子にテスト装置が接続された状態でテストを行うと、テスト装置自体が有する負荷容量等により、見かけ上半導体集積回路に容量などが負荷している状態となってしまい、半導体集積回路自体の正しい動作消費電流が測定できないという問題があった。   However, when a test is performed with the test device connected to the output terminal of the semiconductor integrated circuit, the semiconductor integrated circuit is apparently loaded with a capacity due to the load capacity of the test device itself. There is a problem that the correct operating current consumption of the semiconductor integrated circuit itself cannot be measured.

このような問題を解決するために、多くの提案を見るものであるが、テスト装置によるテスト時に、半導体集積回路の出力端子とテスト装置とを切り離す技術が知られている(例えば、特許文献1参照。)。   In order to solve such a problem, many proposals are seen. A technique for separating the output terminal of the semiconductor integrated circuit from the test apparatus at the time of the test by the test apparatus is known (for example, Patent Document 1). reference.).

特許文献1に示した従来技術は、半導体集積回路に搭載している出力バッファ回路と出力端子であるパッドとの間を分離して、接続しているテスト装置の負荷容量の影響を無くすものである。
すわなち、出力バッファ回路と出力端子であるパッドとの間にスイッチング手段を設け、このスイッチング手段の制御によって、半導体集積回路のテスト時に出力バッファ回路とパッド間とを分離するというものである。
The prior art disclosed in Patent Document 1 separates the output buffer circuit mounted on the semiconductor integrated circuit and the pad serving as the output terminal, thereby eliminating the influence of the load capacity of the connected test apparatus. is there.
In other words, a switching means is provided between the output buffer circuit and the pad serving as the output terminal, and the output buffer circuit and the pad are separated when the semiconductor integrated circuit is tested by controlling the switching means.

図を用いて詳しく説明する。図3は特許文献1に示した従来技術の半導体集積回路を説明する図であって、その主旨を逸脱しない程度に書き直したものである。図3において、100は出力バッファ、20はテスト用パッド、30はPチャネルMIS型トランジスタ、5は出力用パッド、60はNチャネルMIS型トランジスタ、70は制御信号線、80はラッチ回路、90はテスト信号線である。   This will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 3 is a diagram for explaining the prior art semiconductor integrated circuit disclosed in Patent Document 1, which has been rewritten to the extent that it does not depart from its gist. 3, 100 is an output buffer, 20 is a test pad, 30 is a P-channel MIS transistor, 5 is an output pad, 60 is an N-channel MIS transistor, 70 is a control signal line, 80 is a latch circuit, 90 is Test signal line.

出力バッファ100と出力用パッド5との間には、この間の接続と分離とを行う為のスイッチとして機能するPチャネルMIS型トランジスタ30を有している。出力用パッド5とラッチ回路80との間には、この間の接続と分離とを行うためのスイッチとして機能するNチャネルMIS型トランジスタ60を有している。
NチャネルMIS型トランジスタ60のゲートは、テスト信号線90に接続している。ラッチ回路80は、PチャネルMIS型トランジスタ30をオン・オフ制御するための制御情報記憶用のラッチであって、ラッチ回路80とPチャネルMIS型トランジスタ30とは制御信号線70により接続している。
Between the output buffer 100 and the output pad 5, there is a P-channel MIS transistor 30 that functions as a switch for connecting and separating between them. Between the output pad 5 and the latch circuit 80, there is an N-channel MIS transistor 60 that functions as a switch for connecting and separating between the output pad 5 and the latch circuit 80.
The gate of the N-channel MIS transistor 60 is connected to the test signal line 90. The latch circuit 80 is a latch for storing control information for ON / OFF control of the P-channel MIS transistor 30, and the latch circuit 80 and the P-channel MIS transistor 30 are connected by a control signal line 70. .

次に、特許文献1に示した従来技術の動作について説明する。まず、テスト装置から所
定の信号を入力し半導体集積回路をテストする場合を説明する、この状態は、テストモードと称する。
まず、テスト用パッド20にハイレベルの信号を入力し、NチャネルMIS型トランジスタ60は、テスト信号線90を介してハイレベルの信号が伝達し、オン状態となる。これにより出力用パッド5とラッチ回路80の入力とが接続される。
次に、出力用パッド5にハイレベルの信号を入力する。このとき、出力用パッド5から入力された信号と出力バッファ100の出力信号との衝突を防ぐため、出力バッファ100は、ハイインピーダンス状態またはハイレベルの信号を出力する常態にしておく。これにより、ラッチ回路80にはハイレベルが記憶されて、PチャネルMIS型トランジスタ30はオフ状態となる。このときPチャネルMIS型トランジスタ30はロウアクティブ回路とする。
Next, the operation of the prior art disclosed in Patent Document 1 will be described. First, a case where a predetermined signal is input from a test apparatus to test a semiconductor integrated circuit will be described. This state is called a test mode.
First, a high level signal is input to the test pad 20, and the N-channel MIS transistor 60 is turned on by transmitting a high level signal via the test signal line 90. As a result, the output pad 5 and the input of the latch circuit 80 are connected.
Next, a high level signal is input to the output pad 5. At this time, in order to prevent a collision between a signal input from the output pad 5 and an output signal of the output buffer 100, the output buffer 100 is set to a normal state for outputting a high impedance state or a high level signal. As a result, a high level is stored in the latch circuit 80, and the P-channel MIS transistor 30 is turned off. At this time, the P-channel MIS transistor 30 is a low active circuit.

次に、テスト用パッド20をロウレベルに遷移させる。NチャネルMIS型トランジスタ60は、テスト信号線90を介してロウレベルの信号が伝達し、オフ状態となる。これにより、ラッチ回路80は、ハイレベルを維持した状態で出力用パッド5から分離され、PチャネルMIS型トランジスタ30は、オフ状態を維持して出力バッファ100と出力用パッド5とは分離される。   Next, the test pad 20 is shifted to the low level. The N-channel MIS transistor 60 is turned off when a low-level signal is transmitted through the test signal line 90. As a result, the latch circuit 80 is separated from the output pad 5 while maintaining the high level, and the P-channel MIS transistor 30 is maintained off and the output buffer 100 and the output pad 5 are separated. .

このように、出力バッファ100と出力用パッド5とを分離した後、半導体集積回路をテストするには、図示しない入力用パッドにテスト装置から所望の信号を入力し、出力バッファ100を動作させながら消費電流測定を行うのである。このようにすることによって、出力用パッド5には不必要な容量等が接続しないため、正確な動作消費電流が可能となるものである。   Thus, in order to test the semiconductor integrated circuit after separating the output buffer 100 and the output pad 5, a desired signal is input from a test device to an input pad (not shown) and the output buffer 100 is operated. The current consumption is measured. By doing so, an unnecessary capacity or the like is not connected to the output pad 5, so that an accurate current consumption can be achieved.

次に、特許文献1に示した半導体集積回路を通常動作させる場合を説明する。この状態は、便宜上、通常モードと称する。
まず、出力バッファ100と出力用パッド5との間を接続させる。テスト用パッド20にハイレベルの信号を入力する。NチャネルMIS型トランジスタ60は、テスト信号線90を介してハイレベルの信号が伝達し、オン状態となる。これにより、出力用パッド5とラッチ回路80の入力とが接続される。
次に、出力用パッド5にロウレベルの信号を入力する。このとき、出力用パッド5からの入力されたロウレベルの信号と出力バッファ100の出力信号との衝突を防ぐため、出力バッファ100は、ハイインピーダンス状態またはロウレベルの信号を出力する状態にしておく。これにより、ラッチ回路80にはロウレベルが記憶されて、PチャネルMIS型トランジスタ30はオン状態となる。
Next, a case where the semiconductor integrated circuit disclosed in Patent Document 1 is normally operated will be described. This state is referred to as a normal mode for convenience.
First, the output buffer 100 and the output pad 5 are connected. A high level signal is input to the test pad 20. The N-channel MIS transistor 60 is turned on when a high level signal is transmitted through the test signal line 90. As a result, the output pad 5 and the input of the latch circuit 80 are connected.
Next, a low level signal is input to the output pad 5. At this time, in order to prevent a collision between the low level signal input from the output pad 5 and the output signal of the output buffer 100, the output buffer 100 is set to a high impedance state or a state of outputting a low level signal. As a result, the low level is stored in the latch circuit 80, and the P-channel MIS transistor 30 is turned on.

次に、テスト用パッド20をロウレベルに遷移させることにより、テスト信号線90には、ロウレベルとなり、NチャネルMIS型トランジスタ60はオフ状態となり、ラッチ回路80は、ロウレベルを維持した状態で出力用パッド5から分離され、PチャネルMIS型トランジスタ30は、オン状態を維持して出力バッファ100と出力用パッド5とは接続される。   Next, by causing the test pad 20 to transition to the low level, the test signal line 90 is set to the low level, the N-channel MIS transistor 60 is turned off, and the latch circuit 80 maintains the low level in the output pad. 5, the P-channel MIS transistor 30 is maintained in an ON state, and the output buffer 100 and the output pad 5 are connected.

このようにして、出力バッファ100と出力用パッド5とを接続した後、通常モードにおける通常の出力信号が出力用パッド5への伝達される。   In this way, after connecting the output buffer 100 and the output pad 5, a normal output signal in the normal mode is transmitted to the output pad 5.

特開平10−73639号公報(第3頁、第1図)Japanese Patent Laid-Open No. 10-73639 (page 3, FIG. 1)

しかしながら、特許文献1に示した従来技術は、出力バッファ100と出力用パッド5
との分離や接続の移行時に、必ず出力バッファ100が出力する状態を特定の状態に固定する必要があり、つまりは、通常モードにおける半導体集積回路の動作を中断または停止させ、テストモードにする必要があった。
半導体集積回路の動作時の消費電流テストを行うに当たって、半導体集積回路の動作を中断または停止させた後、テストをしたい目的の動作タイミングまで待機し、その後、動作時の消費電流テストを開始することは、測定時間の短縮を阻害させる要因となっていた。
However, the prior art disclosed in Patent Document 1 has an output buffer 100 and an output pad 5.
It is necessary to always fix the output state of the output buffer 100 to a specific state at the time of disconnection and connection transition, that is, it is necessary to interrupt or stop the operation of the semiconductor integrated circuit in the normal mode and enter the test mode. was there.
In conducting a current consumption test during operation of a semiconductor integrated circuit, after interrupting or stopping the operation of the semiconductor integrated circuit, wait until the target operation timing to be tested, and then start a current consumption test during operation. Was a factor that hindered shortening of measurement time.

また、特許文献1に示した従来技術は、出力バッファ100と出力用パッド5との分離や接続の移行時に、必ず出力バッファ100が出力する状態をハイレベル、ロウレベルまたはハイインピーダンスの状態に固定する必要があり、出力バッファ100が出力する状態を固定するための制御回路が必要であった。半導体集積回路のテストのみに必要な制御回路を半導体集積回路上に更に設けることは、微細化を阻害させる要因となっていた。   The prior art disclosed in Patent Document 1 always fixes the output state of the output buffer 100 to a high level, low level, or high impedance state when the output buffer 100 and the output pad 5 are separated or the connection is shifted. Therefore, a control circuit for fixing the output state of the output buffer 100 is necessary. Providing a control circuit necessary only for testing the semiconductor integrated circuit on the semiconductor integrated circuit has been a factor that hinders miniaturization.

そこで、本発明の目的は、分離や接続したい出力バッファと接続する出力用パッドのみにテスト装置から信号を入力することで、通常モードを維持しつつ任意の動作タイミングにおいて出力バッファと出力用パッドを分離や接続することを可能にする半導体集積回路を提供することである。   Therefore, an object of the present invention is to input a signal from a test device only to an output pad connected to an output buffer to be separated or connected, so that the output buffer and the output pad can be connected at any operation timing while maintaining the normal mode. A semiconductor integrated circuit that can be separated or connected is provided.

前述した課題を解決するために、本発明の半導体集積回路は下記の構成を採用するものである。   In order to solve the above-described problems, the semiconductor integrated circuit of the present invention employs the following configuration.

内部回路とパッドとの間に切り離し手段と切り離し手段を制御する制御手段とを有し、制御手段はパッドに外部から入力する負の電源電圧より大きい負のパルス信号の有無に応じて切り離し手段を制御することを特徴とする。   A separation means between the internal circuit and the pad; and a control means for controlling the separation means. The control means changes the separation means according to the presence or absence of a negative pulse signal larger than the negative power supply voltage input from the outside to the pad. It is characterized by controlling.

制御手段は、ダイオードとMIS型トランジスタと抵抗とラッチ回路とを有し、
ダイオードのカソード端子をパッドに接続し、ダイオードのアノード端子を負の電源電位を供給する電源線に接続し、
MIS型トランジスタは、ソース端子とバルク端子とをパッドに接続し、ゲート端子を負の電源電位を供給する電源線に接続し、ドレイン端子は、抵抗の一方の端子と接続するとともにラッチ回路の入力に接続し、抵抗の他方の端子は正の電源電位を供給する電源線に接続し、ラッチ回路の出力は、切り離し手段に接続することを特徴とする。
The control means includes a diode, a MIS transistor, a resistor, and a latch circuit.
Connect the cathode terminal of the diode to the pad, connect the anode terminal of the diode to the power supply line that supplies the negative power supply potential,
In the MIS transistor, a source terminal and a bulk terminal are connected to a pad, a gate terminal is connected to a power supply line that supplies a negative power supply potential, a drain terminal is connected to one terminal of a resistor and an input of a latch circuit. The other terminal of the resistor is connected to a power supply line for supplying a positive power supply potential, and the output of the latch circuit is connected to a disconnecting means.

制御手段は、負のパルス信号の有無に応じて正の電源電位と負の電源電位とを切り換えて出力することを特徴とする。   The control means switches between a positive power supply potential and a negative power supply potential according to the presence or absence of a negative pulse signal, and outputs the switching power.

本発明の半導体集積回路の構成を適用すれば、出力バッファと出力用パッドとの接続と分離とを、テストモードを介することなく通常モードから連続的に行うことができるため、通常モードの任意のタイミングから直接短時間に正確な動作消費電流を測定することが可能となる。
また、本発明の半導体集積回路は、その制御に特別複雑な制御回路は必要としない。このため、半導体集積回路自体の微細化を阻害することもない。
By applying the configuration of the semiconductor integrated circuit of the present invention, the connection and separation between the output buffer and the output pad can be performed continuously from the normal mode without going through the test mode. It is possible to measure an accurate operating current consumption in a short time directly from the timing.
Further, the semiconductor integrated circuit of the present invention does not require a particularly complicated control circuit for its control. For this reason, miniaturization of the semiconductor integrated circuit itself is not hindered.

[全体構成の説明:図1]
以下、図を用いて本発明の実施の形態を説明する。図1は本発明の半導体集積回路の一実施の形態における構成を示す図である。図1において、1は出力バッファ、3はトラン
スミッションゲート(以下、TGと表す)、5は出力用パッド、6はNチャネルMIS型トランジスタ、7は制御信号線、8はラッチ回路、9はクロック信号線、10はダイオード、12は抵抗体、13は正の電源線(以下VDDと表す)、14は負の電源線(以下VSSと表す)である。
VDD13の電位は、GNDレベルである。VSS14の電位は、例えば、−1.5Vや−3.0Vなどの負の電位レベルである。本発明の半導体集積回路は、このVDD13の電位とVSS14の電位との間の電位差で動作する。
[Description of overall configuration: Fig. 1]
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an embodiment of a semiconductor integrated circuit according to the present invention. In FIG. 1, 1 is an output buffer, 3 is a transmission gate (hereinafter referred to as TG), 5 is an output pad, 6 is an N-channel MIS transistor, 7 is a control signal line, 8 is a latch circuit, and 9 is a clock signal. Lines 10, 10 are diodes, 12 are resistors, 13 is a positive power supply line (hereinafter referred to as VDD), and 14 is a negative power supply line (hereinafter referred to as VSS).
The potential of VDD13 is at the GND level. The potential of the VSS 14 is a negative potential level such as −1.5V or −3.0V, for example. The semiconductor integrated circuit of the present invention operates with a potential difference between the potential of VDD13 and the potential of VSS14.

本発明の半導体集積回路は、テスト装置からVSS14の電位レベルより低い負の電位VINを出力用パッド5に印加することで、特別なテストモードにすることなく、出力バッファ1と出力用パッド5とを分離または接続することができる。テスト装置は、測定者が設定することで、任意の幅や任意の振幅をもつパルスを任意のタイミングに発生するドライバと呼ばれる機能を持つものが一般的であり、このドライバ機能を活用してVINの電位レベルを発生する。   The semiconductor integrated circuit of the present invention applies the negative potential VIN lower than the potential level of VSS 14 from the test device to the output pad 5, so that the output buffer 1, the output pad 5, Can be separated or connected. Test devices generally have a function called a driver that generates pulses having an arbitrary width and arbitrary amplitude at arbitrary timings as set by the measurer. By utilizing this driver function, VIN is used. Is generated.

TG3は、出力用パッド5と内部回路である出力バッファ1とを接続または分離する切り離し手段である。
NチャネルMIS型トランジスタ6とラッチ回路8とダイオード10と抵抗体12とで制御手段を構成する。
The TG 3 is a disconnecting unit that connects or separates the output pad 5 and the output buffer 1 that is an internal circuit.
The N channel MIS transistor 6, the latch circuit 8, the diode 10, and the resistor 12 constitute a control means.

出力バッファ1と出力用パッド5との間には、この間の接続と分離とを行う為のスイッチとして機能するTG3を有している。出力用パッド5とVSS14との間には、TG3の切り離し制御手段としてダイオード10を有している。ダイオード10は、カソード端子を出力用端子5に接続し、アノード端子をVSS14に接続している。同じくTG3の切り離し制御手段として、出力用パッド5とVDD13との間には、NチャネルMIS型トランジスタ6と抵抗体12とが直列に接続している。   Between the output buffer 1 and the output pad 5, there is a TG 3 that functions as a switch for connecting and separating between them. Between the output pad 5 and the VSS 14, a diode 10 is provided as a TG3 disconnection control means. The diode 10 has a cathode terminal connected to the output terminal 5 and an anode terminal connected to the VSS 14. Similarly, an N-channel MIS transistor 6 and a resistor 12 are connected in series between the output pad 5 and the VDD 13 as a TG3 disconnection control means.

NチャネルMIS型トランジスタ6のソース端子とバルク端子とは、出力用パッド5と接続し、ドレイン端子は、抵抗体12の一方の端子と接続し、ゲート端子は、VSS14と接続している。抵抗体12の他方の端子は、VDD13と接続している。   The source terminal and bulk terminal of the N-channel MIS transistor 6 are connected to the output pad 5, the drain terminal is connected to one terminal of the resistor 12, and the gate terminal is connected to the VSS 14. The other terminal of the resistor 12 is connected to the VDD 13.

同じくTG3の切り離し制御手段として、ラッチ回路8を有している。ラッチ回路8の入力は、NチャネルMIS型トランジスタ6と抵抗体12との交点とクロック信号線9により接続し、出力は、制御信号線7によりTG3の制御信号入力に接続している。   Similarly, a latch circuit 8 is provided as a TG3 disconnection control means. The input of the latch circuit 8 is connected to the intersection of the N-channel MIS transistor 6 and the resistor 12 by the clock signal line 9, and the output is connected to the control signal input of the TG 3 by the control signal line 7.

TG3は、制御信号7の制御信号がハイレベル(VDD13の電位)のときオンし、ロウレベル(VSS14の電位)のときオフするハイアクティブ回路とする。ラッチ回路8は、トグル型フリッププロップを用いている。このとき、ラッチ回路8は立ち下がりの制御信号により出力状態を反転するものとする。   TG3 is a high active circuit that is turned on when the control signal of the control signal 7 is at a high level (VDD13 potential) and turned off when the control signal 7 is at a low level (VSS14 potential). The latch circuit 8 uses a toggle flip-flop. At this time, it is assumed that the latch circuit 8 inverts the output state by the falling control signal.

また、ダイオード10は、半導体基板上に選択的に設ける複数の導電領域からなり、導電型の異なる導電領域同士の接合により構成する。
ダイオード10は、一方の端子であるカソード端子に対する他方の端子であるアノード端子の電位差が所定の電位差(以下、VFと表す)より大きい場合、カソード端子とアノード端子との間が導通する。これを一般的に順方向接続という。
また、順方向接続とは反対に、アノード端子がカソード端子に対してVFより低い電位の場合、カソード端子とアノード端子との間が絶縁する。これを逆方向接続という。このような電気特性は、一般的なものである。
The diode 10 includes a plurality of conductive regions selectively provided on a semiconductor substrate, and is configured by joining conductive regions having different conductivity types.
When the potential difference between the anode terminal, which is the other terminal, and the anode terminal, which is the other terminal, is greater than a predetermined potential difference (hereinafter referred to as VF), the diode 10 is electrically connected between the cathode terminal and the anode terminal. This is generally called forward connection.
Contrary to the forward connection, when the anode terminal has a potential lower than VF with respect to the cathode terminal, the cathode terminal and the anode terminal are insulated. This is called reverse connection. Such electrical characteristics are general.

抵抗体12は、半導体基板上に形成される抵抗素子により構成する。特に限定しないが
、例えば、半導体基板に選択的に導電領域を形成してなる拡散抵抗や半導体基板上に設けるポリシリコン抵抗などである。
The resistor 12 is composed of a resistance element formed on a semiconductor substrate. Although not particularly limited, for example, a diffused resistor formed by selectively forming a conductive region on a semiconductor substrate, a polysilicon resistor provided on the semiconductor substrate, or the like.

次に、本発明の半導体集積回路の出力用パッド5のそれぞれの電位状態における動作を説明する。   Next, the operation in each potential state of the output pad 5 of the semiconductor integrated circuit of the present invention will be described.

まず、出力用パッド5の電位がVDD13のときの動作に付いて説明する。
出力用パッド5の電位がVDD13の場合、ダイオード10のカソード端子は、出力用パッド5に接続しているのでVDD13の電位となる。ダイオード10のアノード端子は、VSS14に接続しているのでアノード端子はカソード端子に対してVFより低い電位となる。つまり、ダイオード10は逆方向接続となりダイオード10の両端は絶縁する。
また、NチャネルMIS型トランジスタ6は、ゲート端子がダイオード10のアノード端子とVSS14とに接続しているから、このゲート端子には、ダイオード10の絶縁によりVSS14の電位が印加される。一方、ソース端子およびバルク端子は、出力用パッド5に接続しているためVDD13の電位が印加される。このため、ソース端子およびバルク端子に対するゲート端子の電位が逆バイアスとなりオフする。
First, the operation when the potential of the output pad 5 is VDD 13 will be described.
When the potential of the output pad 5 is VDD13, the cathode terminal of the diode 10 is connected to the output pad 5, so that the potential of the diode 13 is VDD13. Since the anode terminal of the diode 10 is connected to the VSS 14, the anode terminal has a potential lower than VF with respect to the cathode terminal. That is, the diode 10 is connected in the reverse direction and both ends of the diode 10 are insulated.
Further, since the gate terminal of the N-channel MIS transistor 6 is connected to the anode terminal of the diode 10 and the VSS 14, the potential of the VSS 14 is applied to the gate terminal due to the insulation of the diode 10. On the other hand, since the source terminal and the bulk terminal are connected to the output pad 5, the potential of VDD13 is applied. For this reason, the potential of the gate terminal with respect to the source terminal and the bulk terminal is reverse biased and turned off.

ラッチ回路8のクロック信号線9は、出力用パッド5とVDD13との間に直列に接続するNチャネルMIS型トランジスタ6と抵抗体12との交点に接続しており、NチャネルMIS型トランジスタ6がオフすることから、抵抗体12を介してVDD13の電位が伝達する。
これにより、ラッチ回路8の入力がVDD13の電位となることから、ラッチ回路8の出力信号でもあるTG3の制御信号線7は、直前の状態を維持する。
TG3は、制御信号線7の状態が変わらないことからオンまたはオフの状態も変わらず、出力バッファ1と出力用パッド5との分離または接続の状態は変わらない。
つまり、半導体集積回路が内部で成形し出力バッファ1から出力される2つの電位の1つであるVDD13の電位(ハイレベル)において、TG3の状態が変わることはない。
The clock signal line 9 of the latch circuit 8 is connected to the intersection of the N-channel MIS transistor 6 and the resistor 12 connected in series between the output pad 5 and the VDD 13, and the N-channel MIS transistor 6 is connected to the latch circuit 8. Since it is turned off, the potential of VDD 13 is transmitted through the resistor 12.
As a result, since the input of the latch circuit 8 becomes the potential of VDD13, the control signal line 7 of TG3 which is also the output signal of the latch circuit 8 maintains the immediately preceding state.
Since the state of the control signal line 7 does not change, the on / off state of the TG 3 does not change, and the state of separation or connection between the output buffer 1 and the output pad 5 does not change.
That is, the state of TG3 does not change at the potential (high level) of VDD13 which is one of the two potentials that are formed inside the semiconductor integrated circuit and output from the output buffer 1.

次に、出力用パッド5の電位がVSS14のときの動作に付いて説明する。
出力用パッド5の電位がVSS14の場合、ダイオード10のカソード端子は、出力用パッド5に接続しているのでVSS14の電位となる。ダイオード10のアノード端子は、VSS14に接続しているのでダイオード10は逆方向接続となりダイオード10の両端は絶縁する。
また、NチャネルMIS型トランジスタ6は、ゲート端子がダイオード10のアノード端子とVSS14とに接続しているから、このゲート端子には、ダイオード10の絶縁によりVSS14の電位のみが印加され、ソース端子およびバルク端子は、出力用パッド5に接続しているためVSS14の電位が印加される。このため、ソース端子およびバルク端子に対するゲート端子の電位がなく、オフする。
Next, the operation when the potential of the output pad 5 is VSS 14 will be described.
When the potential of the output pad 5 is VSS 14, the cathode terminal of the diode 10 is connected to the output pad 5, and thus becomes the potential of VSS 14. Since the anode terminal of the diode 10 is connected to the VSS 14, the diode 10 is reversely connected and both ends of the diode 10 are insulated.
Further, since the gate terminal of the N-channel MIS transistor 6 is connected to the anode terminal of the diode 10 and the VSS 14, only the potential of the VSS 14 is applied to the gate terminal due to the insulation of the diode 10, and the source terminal and Since the bulk terminal is connected to the output pad 5, the potential of VSS14 is applied. For this reason, there is no potential of the gate terminal with respect to the source terminal and the bulk terminal, and it is turned off.

このように、NチャネルMIS型トランジスタ6は、出力用パッド5の電位がVDD13のときのと同様な状態となるため、半導体集積回路が内部で成形し出力バッファ1から出力される2つの電位の1つであるVSS14の電位(ロウレベル)において、TG3の状態が変わることはない。   As described above, the N-channel MIS transistor 6 is in the same state as when the potential of the output pad 5 is VDD 13, so that the two potentials output from the output buffer 1 by the semiconductor integrated circuit are internally formed. At one VSS 14 potential (low level), the state of TG3 does not change.

以上の説明で明らかなように、半導体集積回路が内部で形成し出力バッファ1から出力するいかなる電位においても、TG3の状態が変わることはなく、つまりは、出力バッファ1と出力用パッド5の接続状態が変わることないのである。   As is apparent from the above description, the state of TG 3 does not change at any potential that is internally formed by the semiconductor integrated circuit and output from the output buffer 1, that is, the connection between the output buffer 1 and the output pad 5. The state does not change.

次に、出力用パッド5の電位がVDD13またはVSS14からVSS14の電位より低い負の電位VINに遷移した時の動作に付いて説明する。
出力用パッド5に、図示しないテスト装置によってVSS14の電位より負の電位VINを印加し、VSS14の電位とVINとの電位差がVFより大きい場合、ダイオード10のカソード端子は、出力用パッド5に接続しているからVINの電位となる。このとき、アノード端子は、VSS14に接続していることからカソード端子に対してVFの電位差が発生する。
Next, the operation when the potential of the output pad 5 transits from VDD13 or VSS14 to the negative potential VIN lower than the potential of VSS14 will be described.
When a negative potential VIN from the potential of VSS14 is applied to the output pad 5 by a test device (not shown) and the potential difference between the potential of VSS14 and VIN is larger than VF, the cathode terminal of the diode 10 is connected to the output pad 5 Therefore, the potential becomes VIN. At this time, since the anode terminal is connected to VSS 14, a potential difference of VF is generated with respect to the cathode terminal.

NチャネルMIS型トランジスタ6は、ゲート端子がダイオード10のアノード端子とVSS14とに接続しているから、このゲート端子には、VSSが印加され、ソース端子およびバルク端子は出力用パッド5に接続しているため、VSS14の電位より負の電位VINとなる。これにより、NチャネルMIS型トランジスタ6は、ソース端子およびバルク端子とゲート端子との間にVFの電位が発生してオンする。   Since the gate terminal of the N-channel MIS transistor 6 is connected to the anode terminal of the diode 10 and the VSS 14, VSS is applied to the gate terminal, and the source terminal and the bulk terminal are connected to the output pad 5. Therefore, the potential is more negative than the potential of VSS. As a result, the N-channel MIS transistor 6 is turned on by generating a potential VF between the source terminal, the bulk terminal, and the gate terminal.

NチャネルMIS型トランジスタ6がオンすると、出力用パッド5とVDD13とは抵抗体12を介して導通し、NチャネルMIS型トランジスタ6のソース端子と抵抗体12の一方の端子との接続点であるクロック信号線9の電位は、VDD13と出力用パッド5に印加しているVINの電位とを、NチャネルMIS型トランジスタ6がオンしたときのソース端子とドレイン端子との間の導通抵抗(以下、オン抵抗と表す)と抵抗体12の抵抗とで分割した値となる。   When the N-channel MIS transistor 6 is turned on, the output pad 5 and the VDD 13 are conducted through the resistor 12, and is a connection point between the source terminal of the N-channel MIS transistor 6 and one terminal of the resistor 12. The potential of the clock signal line 9 is the same as the potential of VDD 13 and the potential of VIN applied to the output pad 5 when the N-channel MIS transistor 6 is turned on (hereinafter referred to as a conduction resistance between the source terminal and the drain terminal). This is a value divided by the resistance of the resistor 12 and the resistance of the resistor 12.

NチャネルMIS型トランジスタ6のオン抵抗が抵抗体12の抵抗より十分小さい場合、クロック信号線9の電位は、VDD13の電位より十分低い電位となる。
ラッチ回路8の入力がVDD13の電位より十分低い電位の場合、ラッチ回路8には立ち下がり信号が入力し、ラッチ回路8の出力でもあるTG3の制御信号を伝達する制御信号線7は、直前の状態から反転する。
TG3の制御信号が反転すると、TG3の状態も反転することから、出力バッファ1と出力用パッド5との分離または接続の状態は入れ替わる。
When the on-resistance of the N-channel MIS transistor 6 is sufficiently smaller than the resistance of the resistor 12, the potential of the clock signal line 9 is sufficiently lower than the potential of VDD13.
When the input of the latch circuit 8 is sufficiently lower than the potential of VDD13, the falling signal is input to the latch circuit 8, and the control signal line 7 for transmitting the control signal of TG3 which is also the output of the latch circuit 8 Invert from state.
When the control signal of TG3 is inverted, the state of TG3 is also inverted, so that the state of separation or connection between the output buffer 1 and the output pad 5 is switched.

[動作の説明:図2]
次に、図2を用いて、本願発明の半導体集積回路の動作を説明する。図2は、本発明の半導体集積回路の動作を説明するためのタイムチャートである。
図2において、信号aは半導体集積回路内部で成形される出力バッファ1の出力信号である。信号bは、図示しないテスト装置から出力用パッド5に入力するパルス信号である。信号cはラッチ回路8の入力信号であるクロック信号線9の信号である。信号dは、出力用パッド5の信号である。信号eは、TG3の制御信号でありラッチ回路8の出力信号でもある制御信号線7の信号である。
[Description of Operation: FIG. 2]
Next, the operation of the semiconductor integrated circuit of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a time chart for explaining the operation of the semiconductor integrated circuit of the present invention.
In FIG. 2, a signal a is an output signal of the output buffer 1 formed inside the semiconductor integrated circuit. The signal b is a pulse signal input to the output pad 5 from a test device (not shown). The signal c is a signal of the clock signal line 9 that is an input signal of the latch circuit 8. The signal d is a signal from the output pad 5. The signal e is a signal on the control signal line 7 which is a control signal for the TG 3 and an output signal for the latch circuit 8.

図2に示す各信号の横方向に引いた3本の破線は、それぞれ電位レベルを示している。破線のうち1番上位はVDD13の電位レベルでありVDDと表記している。中位はVSS14の電位レベルでありVSSと表記している。下位は図示しないテスト装置から出力用パッド5に入力するVSS14の電位レベルより低い負のパルスのVINの電位レベルであり、VINと表記している。   The three broken lines drawn in the horizontal direction of each signal shown in FIG. 2 indicate the potential level. The uppermost part of the broken line is the potential level of VDD13 and is expressed as VDD. The middle level is the potential level of VSS14 and is expressed as VSS. The lower level is the potential level of VIN of a negative pulse lower than the potential level of VSS 14 input to the output pad 5 from a test device (not shown), and is expressed as VIN.

図2に示す各信号の実線は、それぞれ固定の電圧レベルである。信号bと信号dとに示すVDD13の電位レベルとVSS14の電位レベルとの間の実線は、特定の電圧レベルがないフローティングレベルを示すものである。
また、信号cのVSS14の電位レベルとVSS14より負の電位レベルであるVINとの間の実線は、出力用パッド5の電位レベルとVDD13の電位レベルをNチャネルMIS型トランジスタ6と抵抗体12とで分割した電位レベルである。
The solid line of each signal shown in FIG. 2 is a fixed voltage level. The solid line between the potential level of VDD 13 and the potential level of VSS 14 shown in the signals b and d indicates a floating level without a specific voltage level.
Further, the solid line between the potential level of VSS 14 of signal c and VIN which is a negative potential level from VSS 14 indicates the potential level of output pad 5 and the potential level of VDD 13 with N-channel MIS transistor 6 and resistor 12. Is the potential level divided by.

図2に示すタイムチャートの最下位は、TG3のオンの制御状態とオフの制御状態の区
間を示す。信号bに示すように、出力用パッド5にVSS14の電位より低い負のパルス信号を入れるたびにTG3の制御信号である制御信号線7が反転し、TG3はオフまたはオンする。
The lowest part of the time chart shown in FIG. 2 shows a section between the on-control state and off-control state of TG3. As shown by the signal b, every time a negative pulse signal lower than the potential of the VSS 14 is input to the output pad 5, the control signal line 7 which is a control signal of TG3 is inverted, and TG3 is turned off or on.

次に、図2を用いて、出力バッファ1と出力用パッド5の分離または接続の変遷を説明する。TG3の制御信号である制御信号線7の信号eが当初ハイレベル(VDD13の電位)であるとする。
このとき、TG3の状態はオンであり、出力バッファ1と出力用パッド5とは接続している。
図示しないテスト装置から出力用パッド5に入力する信号bは、フローティングである。このとき、ラッチ回路8の制御信号であるクロック信号線9の信号cは、VDD13の電位である。
信号cがVDD13の電位であることから、TG3の制御信号である信号eは当初のハイレベルを維持している。
出力バッファ1と出力用パッド5は接続し、信号bがフローティングであるため、半導体集積回路の内部で成形される出力バッファ1の出力信号である信号aは出力用パッド5の信号dに伝達する。
Next, transition of separation or connection between the output buffer 1 and the output pad 5 will be described with reference to FIG. It is assumed that the signal e of the control signal line 7, which is a control signal of TG3, is initially at a high level (VDD13 potential).
At this time, the state of TG3 is ON, and the output buffer 1 and the output pad 5 are connected.
The signal b input to the output pad 5 from a test device (not shown) is floating. At this time, the signal c of the clock signal line 9 which is a control signal of the latch circuit 8 is the potential of VDD13.
Since the signal c is at the potential of VDD13, the signal e, which is the control signal of TG3, maintains the initial high level.
Since the output buffer 1 and the output pad 5 are connected and the signal b is floating, the signal a which is the output signal of the output buffer 1 formed inside the semiconductor integrated circuit is transmitted to the signal d of the output pad 5. .

次に、図中のタイミング1において、図示しないテスト装置から出力用パッド5に電位VINのパルス信号である信号bを印加した場合について説明する。   Next, a case where a signal b, which is a pulse signal of the potential VIN, is applied to the output pad 5 from a test device (not shown) at timing 1 in the drawing will be described.

図示しないテスト装置から出力用パッド5への入力は、電位VINのパルス信号である信号bを印加した後、フローティングにするものとする。
タイミング1のとき、出力用パッド5の信号dは、図示しないテスト装置からの入力信号である電位VINに引かれる。
ラッチ回路8の制御信号であるクロック信号線9の信号cは、VSS14の電位より負の電位となる。
信号cがVSS14の電位より負となることから、TG3の制御信号である信号eは当初のハイレベルから反転し、ロウレベル(VSS14の電位)となる。これによりTG3の状態もオンからオフへ反転する。
The input from the test device (not shown) to the output pad 5 is assumed to be in a floating state after applying the signal b which is a pulse signal of the potential VIN.
At timing 1, the signal d of the output pad 5 is pulled to the potential VIN which is an input signal from a test device (not shown).
The signal c of the clock signal line 9 that is a control signal of the latch circuit 8 becomes a negative potential from the potential of the VSS 14.
Since the signal c is more negative than the potential of the VSS 14, the signal e, which is the control signal of the TG3, is inverted from the initial high level and becomes the low level (the potential of the VSS 14). As a result, the state of TG3 is also reversed from on to off.

このとき、出力用パッド5は、出力バッファ1から切り離され、出力用パッド5の信号bは伝達する電位がなくなり、フローティングとなる。同様にラッチ回路8の制御信号であるクロック信号線9の信号cは、信号bがフローティングとなることから、抵抗体12によりハイレベルへ引かれ固定される。これにより、TG3の制御信号である信号eもロウレベルを維持し、TG3の状態もオフを維持する。   At this time, the output pad 5 is disconnected from the output buffer 1, and the signal b of the output pad 5 has no potential to be transmitted and becomes floating. Similarly, the signal c of the clock signal line 9 which is a control signal of the latch circuit 8 is pulled to a high level by the resistor 12 and fixed because the signal b becomes floating. As a result, the signal e, which is the control signal for TG3, also maintains the low level, and the state of TG3 also remains off.

さらに、図中のタイミング2において、図示しないテスト装置から出力用パッド5にVSS14の電位より負の電位VINのパルス信号である信号bを印加した場合について説明する。   Further, a case where a signal b that is a pulse signal having a negative potential VIN from the potential of VSS 14 is applied to the output pad 5 from a test device (not shown) at timing 2 in the drawing will be described.

図示しないテスト装置から出力用パッド5への入力は、電位VINのパルス信号である信号bを印加した後、フローティングにするものとする。
タイミング1のとき、出力用パッド5の信号dは、図示しないテスト装置からの入力信号である電位VINに引かれる。
ラッチ回路8の制御信号であるクロック信号線9の信号cは、VSS14の電位より負の電位となる。
信号cがVSS14の電位より負となることから、TG3の制御信号である信号eはロウレベルから反転し、ハイレベルとなる。これにより、TG3の状態もオフからオンへ反転する。このとき、出力用パッド5は、出力バッファ1に接続する。
The input from the test device (not shown) to the output pad 5 is assumed to be in a floating state after applying the signal b which is a pulse signal of the potential VIN.
At timing 1, the signal d of the output pad 5 is pulled to the potential VIN which is an input signal from a test device (not shown).
The signal c of the clock signal line 9 that is a control signal of the latch circuit 8 becomes a negative potential from the potential of the VSS 14.
Since the signal c is more negative than the potential of the VSS 14, the signal e which is a control signal of the TG3 is inverted from the low level and becomes the high level. As a result, the state of TG3 is also reversed from off to on. At this time, the output pad 5 is connected to the output buffer 1.

ラッチ回路8の制御信号であるクロック信号線9の信号cは、タイミング2以降、信号bがフローティングとなることから、抵抗体12によりハイレベルへ引かれ固定される。これにより、TG3の制御信号である信号eもハイレベルを維持し、TG3の状態もオンを維持する。よって、 出力バッファ1と出力用パッド5とは接続し、信号bがフローティングであるため、半導体集積回路の内部で成形される出力バッファ1の出力信号である信号aは、出力用パッドの信号dに伝達する。   The signal c of the clock signal line 9 that is a control signal of the latch circuit 8 is pulled to a high level by the resistor 12 and fixed because the signal b becomes floating after timing 2. As a result, the signal e, which is the control signal for TG3, also maintains a high level, and the state of TG3 also remains on. Therefore, since the output buffer 1 and the output pad 5 are connected and the signal b is floating, the signal a which is the output signal of the output buffer 1 formed inside the semiconductor integrated circuit is the signal d of the output pad. To communicate.

以上の説明で明らかなように、本発明の半導体集積回路は、半導体集積回路をテストモードなどの特別なモードに設定することなく、負の電源電位より低い負の電位を出力パッドに与えるだけで、通常モードの任意のタイミングにおいて、出力バッファと出力用パッドとを分離または接続することができる。
このような構成によって、テスト装置を用いることで出力用パッドに接続する測定装置の負荷容量の影響を解消した正確な消費電流測定ができる。また、通常モードからモードを変更することなく連続的に測定することができるので、消費電流の測定に有する時間を大幅に短縮することができる。これにより、テスト装置を用いる半導体集積回路のテスト時のリードタイムを短縮することができるため、半導体集積回路のコストを短縮する効果もある。
As is apparent from the above description, the semiconductor integrated circuit according to the present invention only applies a negative potential lower than the negative power supply potential to the output pad without setting the semiconductor integrated circuit to a special mode such as a test mode. The output buffer and the output pad can be separated or connected at any timing in the normal mode.
With such a configuration, the current consumption can be accurately measured by eliminating the influence of the load capacity of the measuring device connected to the output pad by using the test device. Moreover, since the measurement can be continuously performed without changing the mode from the normal mode, the time required for the measurement of the current consumption can be greatly shortened. As a result, the lead time at the time of testing the semiconductor integrated circuit using the test apparatus can be shortened, which has the effect of reducing the cost of the semiconductor integrated circuit.

本発明の半導体集積回路は、消費電流測定に大幅な追加回路が必要ないから、不必要にチップサイズが大きくなることもない。したがって、高集積な半導体集積回路に用いることができる。   Since the semiconductor integrated circuit of the present invention does not require a large additional circuit for current consumption measurement, the chip size is not unnecessarily increased. Therefore, it can be used for highly integrated semiconductor integrated circuits.

本発明の半導体集積回路の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the semiconductor integrated circuit of this invention. 本発明の半導体集積回路の動作を説明するためのタイムチャートである。3 is a time chart for explaining the operation of the semiconductor integrated circuit of the present invention. 従来技術における半導体集積回路の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the semiconductor integrated circuit in a prior art.

符号の説明Explanation of symbols

1 出力バッファ
3 トランスミッションゲート
5 出力用パッド
6 NチャネルMIS型トランジスタ
7 制御信号
8 ラッチ回路
9 クロック信号線
10 ダイオード
12 抵抗
13 VDD
14 VSS
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Output buffer 3 Transmission gate 5 Output pad 6 N channel MIS type transistor 7 Control signal 8 Latch circuit 9 Clock signal line 10 Diode 12 Resistor 13 VDD
14 VSS

Claims (3)

内部回路とパッドとの間に切り離し手段と該切り離し手段を制御する制御手段とを有し、前記制御手段は前記パッドに外部から入力する負の電源電圧より大きい負のパルス信号の有無に応じて前記切り離し手段を制御することを特徴とする半導体集積回路。   A separation means between the internal circuit and the pad; and a control means for controlling the separation means, the control means depending on the presence or absence of a negative pulse signal greater than the negative power supply voltage input from the outside to the pad A semiconductor integrated circuit characterized by controlling said separating means. 前記制御手段は、ダイオードとMIS型トランジスタと抵抗とラッチ回路とを有し、
前記ダイオードのカソード端子を前記パッドに接続し、前記ダイオードのアノード端子を負の電源電位を供給する電源線に接続し、
前記MIS型トランジスタは、ソース端子とバルク端子とを前記パッドに接続し、ゲート端子を前記負の電源電位を供給する電源線に接続し、ドレイン端子は、前記抵抗の一方の端子と接続するとともに前記ラッチ回路の入力に接続し、前記抵抗の他方の端子は正の電源電位を供給する電源線に接続し、
前記ラッチ回路の出力は、前記切り離し手段に接続することを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路。
The control means includes a diode, a MIS transistor, a resistor, and a latch circuit,
The cathode terminal of the diode is connected to the pad, the anode terminal of the diode is connected to a power supply line that supplies a negative power supply potential,
The MIS transistor has a source terminal and a bulk terminal connected to the pad, a gate terminal connected to a power supply line for supplying the negative power supply potential, and a drain terminal connected to one terminal of the resistor. Connected to the input of the latch circuit, the other terminal of the resistor is connected to a power supply line for supplying a positive power supply potential;
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the output of the latch circuit is connected to the disconnecting means.
前記制御手段は、前記負のパルス信号の有無に応じて正の電源電位と負の電源電位とを切り換えて出力することを特徴とする請求項1または2に記載の半導体集積回路。   3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the control means switches between a positive power supply potential and a negative power supply potential according to the presence or absence of the negative pulse signal.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2014513275A (en) * 2011-03-02 2014-05-29 サンディスク テクノロジィース インコーポレイテッド System and method for bond continuity pad continuity testing

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