JP2007066477A - Perpendicular magnetic recording medium and perpendicular magnetic recording device - Google Patents

Perpendicular magnetic recording medium and perpendicular magnetic recording device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To stably obtain, with high productivity, a perpendicular magnetic recording medium wherein a soft magnetic layer to be provided between the substrate and the perpendicular magnetic recording layer of the recording medium can be formed in a thick coated film in a short period of time and spike noise and noise of the soft magnetic layer are reduced by forming the soft magnetic layer using an alloy plating method by which the complex state of a complex is not changed and stable continuous plating is made possible. <P>SOLUTION: The perpendicular magnetic recording medium is formed by forming a soft magnetic backing layer made of a Co-Ni-P alloy plating layer, a soft magnetic buffer layer composed of two layers of a Ni-Fe alloy and a Co-Fe, an anti-ferromagnetic layer, an underlayer and a perpendicular magnetic recording layer sequentially from a lower side on a substrate or a glass substrate wherein an amorphous Ni-P alloy plating layer is provided to an aluminum plate or an aluminum alloy plate. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、軟磁性裏打ち層に起因するノイズ、特にスパイクノイズの抑制が可能で、ハードディスクや磁気テープなどに好適に適用できる垂直磁気記録媒体およびそれを用いた垂直磁気記録装置に関する。   The present invention relates to a perpendicular magnetic recording medium that can suppress noise caused by a soft magnetic backing layer, particularly spike noise, and can be suitably applied to a hard disk, a magnetic tape, and the like, and a perpendicular magnetic recording apparatus using the perpendicular magnetic recording medium.

従来、ハードディスク装置(HDD)等の磁気記録装置に搭載されている磁気記録媒体として、記録媒体の表面に平行な方向、すなわち磁気記録層の面内方向に磁化方向を固定してデータを記録する面内記録方式が使用されている。この面内記録方式においては、単位面積あたりの記録密度をさらに高めることが求められ、保磁力を高めることで対応してきた。しかし、保磁力が高くなり過ぎるとリングヘッドを用いるデータの書き込みが不可能になるなどの弊害が認められる。   Conventionally, as a magnetic recording medium mounted on a magnetic recording device such as a hard disk drive (HDD), data is recorded with a magnetization direction fixed in a direction parallel to the surface of the recording medium, that is, in an in-plane direction of the magnetic recording layer. The in-plane recording method is used. In this in-plane recording method, it is required to further increase the recording density per unit area, and it has been dealt with by increasing the coercive force. However, if the coercive force becomes too high, there are problems such as data writing using a ring head becoming impossible.

一方、単磁極ヘッドを用いて、記録媒体の表面に垂直な方向にデータを記録する垂直磁気記録方式においては、高保磁力を有する記録媒体であっても記録することが可能であり、面内記録方式よりも高い記録密度が得られる。そのため垂直磁気記録方式を用いる記録媒体の研究開発も従来より行われている。垂直磁気記録媒体としては、記録媒体の基体上に軟磁性層とその上に垂直磁気記録層との2層を設けてなる構造の垂直磁気記録媒体が用いられている。この2層構造の垂直磁気記録媒体においては、垂直磁気記録層の10倍以上の厚さのパーマロイ系結晶質材料やCoZrNbなどの非晶質材料からなる軟磁性層をスパッタリング法を用いて設けているが、軟磁性層中に形成される磁壁から磁束が漏洩することに起因するスパイクノイズが多発する欠点を有している。   On the other hand, in the perpendicular magnetic recording method in which data is recorded in a direction perpendicular to the surface of the recording medium using a single magnetic pole head, it is possible to record even a recording medium having a high coercive force. A recording density higher than that of the method can be obtained. For this reason, research and development of recording media using the perpendicular magnetic recording method has been conventionally performed. As the perpendicular magnetic recording medium, a perpendicular magnetic recording medium having a structure in which a soft magnetic layer and a perpendicular magnetic recording layer are provided on a recording medium substrate is used. In this perpendicular magnetic recording medium having a two-layer structure, a soft magnetic layer made of an amorphous material such as a permalloy-based crystalline material or CoZrNb having a thickness 10 times or more that of the perpendicular magnetic recording layer is provided by a sputtering method. However, there is a drawback that spike noise frequently occurs due to leakage of magnetic flux from the domain wall formed in the soft magnetic layer.

上記のスパイクノイズの発生を抑制することを目的として、以下に示すような技術が提案されている。例えば、基体と非晶質のCo合金からなる軟磁性層の間に、Coを含むMn合金またはIrを含むMn合金からなる反強磁性薄膜を形成し、交換結合を利用して軟磁性層の磁化を固定することにより、軟磁性層における磁壁形成を阻止してスパイクノイズの発生を抑制する方法が開示されている(例えば、特許文献1参照)。この方法においては、基体上にスパッタリング法を用いて反強磁性薄膜層、軟磁性層、磁気記録層などを形成しているが、軟磁性層の厚さは反強磁性薄膜層や磁気記録層などの厚さの10倍近くまで厚く形成する必要があり、長時間のパッタリング処理が余儀なくされ、生産性に乏しい。   In order to suppress the occurrence of spike noise, the following techniques have been proposed. For example, an antiferromagnetic thin film made of a Mn alloy containing Co or a Mn alloy containing Ir is formed between a base and a soft magnetic layer made of an amorphous Co alloy, and the soft magnetic layer is made of exchange coupling. A method of suppressing the occurrence of spike noise by fixing the magnetization to prevent the domain wall formation in the soft magnetic layer is disclosed (for example, see Patent Document 1). In this method, an antiferromagnetic thin film layer, a soft magnetic layer, a magnetic recording layer, and the like are formed on a substrate using a sputtering method. The thickness of the soft magnetic layer may be an antiferromagnetic thin film layer or a magnetic recording layer. For example, it is necessary to form a thick film up to nearly 10 times as thick as the above, and a long-time sputtering process is required, resulting in poor productivity.

また、垂直磁化膜と裏打ち軟磁性層の間に垂直磁化膜から100nm以下の距離を隔てて反強磁性層を設け、垂直磁化膜と反強磁性層の間に非磁性中間層を配置し、垂直磁化膜と反強磁性層の間に非磁性中間層と強磁性層(軟磁性膜)からなる層を設けることにより、裏打ち軟磁性層から発生するスパイク状ノイズを低減する方法が開示されている(例えば特許文献2参照)。この方法においても、これらの各層はスパッタリング法を用いて形成されるが、軟磁性層の厚さは各層の厚さの10倍以上の厚さで形成する必要があり、長時間のパッタリング処理が余儀なくされ、生産性に乏しい。   Further, an antiferromagnetic layer is provided between the perpendicular magnetization film and the backing soft magnetic layer at a distance of 100 nm or less from the perpendicular magnetization film, and a nonmagnetic intermediate layer is disposed between the perpendicular magnetization film and the antiferromagnetic layer, Disclosed is a method for reducing spike noise generated from a backing soft magnetic layer by providing a layer composed of a nonmagnetic intermediate layer and a ferromagnetic layer (soft magnetic film) between a perpendicular magnetization film and an antiferromagnetic layer. (For example, refer to Patent Document 2). Also in this method, each of these layers is formed by sputtering, but the soft magnetic layer needs to be formed with a thickness of 10 times or more the thickness of each layer. Is forced to be less productive.

厚い軟磁性層を得る方法として、Ni−Fe系合金のパーマロイを、B化合物やP化合物を還元剤とする無電解めっき法を用いて製膜する方法があるが、めっき浴中のFe2+イオンが大気中では容易に酸化してFe3+イオンとなり浴組成が経時変化してしまうために、安定して連続めっきすることが困難である。 As a method for obtaining a thick soft magnetic layer, there is a method in which a permalloy of a Ni—Fe based alloy is formed using an electroless plating method using a B compound or a P compound as a reducing agent. Fe 2+ ions in a plating bath There to easily oxidized to Fe 3+ ions becomes bath composition in the atmosphere will change with time, it is difficult to continuously plating stably.

無電解めっき法を用いて軟磁性層を成膜する方法としてNi、Fe、Coの中から選ばれた2種以上の金属とPを含有する皮膜を成膜する方法が開示されている(例えば特許文献3参照)が、めっき浴中にアンモニウムイオンを含有させためっき浴を用いた場合は、長時間のめっきによりアンミン錯体を構成するアンモニウムイオンがアンモニアガスとして揮発散逸するが、失われたアンモニウムイオンを補給しても、アンミン錯体の錯化状態が変化し、めっき析出速度が低下してしまうために、安定して連続めっきすることが困難になる。   As a method of forming a soft magnetic layer using an electroless plating method, a method of forming a film containing two or more metals selected from Ni, Fe, and Co and P (for example, is disclosed) When a plating bath containing ammonium ions in the plating bath is used, the ammonium ions constituting the ammine complex are volatilized and dissipated as ammonia gas by the plating for a long time, but the lost ammonium Even if ions are replenished, the complexing state of the ammine complex changes and the plating deposition rate decreases, making it difficult to perform stable and continuous plating.

上記のように、本出願に関する先行技術情報として、以下のものがある。
特開2001−291224号公報 特開2002−298326号公報 特開平09−171925号公報
As described above, the prior art information relating to the present application includes the following.
JP 2001-291224 A JP 2002-298326 A Japanese Patent Application Laid-Open No. 09-171925

本発明においては、記録媒体の基板と垂直磁気記録層の間に設ける軟磁性層を、短時間で厚く皮膜形成が可能でかつ、浴組成が計時変化せず安定して連続めっきが可能な合金めっき法を用いて形成させることにより、スパイクノイズや軟磁性層ノイズが低減された垂直磁気記録媒体を高生産性で安定して得ることを目的とする。   In the present invention, the soft magnetic layer provided between the substrate of the recording medium and the perpendicular magnetic recording layer can be formed into a thick film in a short time, and the alloy can be continuously plated stably without changing the bath composition. It is an object to stably obtain a perpendicular magnetic recording medium with reduced spike noise and soft magnetic layer noise by using a plating method with high productivity.

上記目的を達成するため、本発明の垂直磁気記録媒体は、軟磁性裏打ち層を介して垂直磁気記録層を有する垂直磁気記録媒体であって、基板と無電解めっき法によって成膜するCo−Ni−P合金めっきからなる前記軟磁性裏打ち層と、該軟磁性裏打ち層上に成膜してなる反強磁性層と、該反強磁性層上にスパッタ法を用いて成膜してなる下地層と、該下地層上にスパッタ法を用いて成膜してなる垂直磁気記録層とを備えてなる垂直磁気記録媒体(請求項1)であり、
上記(請求項1)の垂直磁気記録媒体において、前記Co−Ni−P合金めっきからなる軟磁性裏打ち層において、Co+Ni+Pの総和を100重量%とした場合に、Coの含有量が60〜73重量%、Niの含有量が20〜30重量%、Pの含有量が7〜13重量%であること(請求項2)を特徴とし、また
上記(請求項1または2)の垂直磁気記録媒体において、前記Co−Ni−P合金めっきが、アミノ酸イオンを含むめっき浴を用いた無電解めっきにより形成されてなること(請求項3)を特徴とし、さらに
上記(請求項3)の垂直磁気記録媒体において、前記アミノ酸イオンは化合物がグリシンであること(請求項4)を特徴とし、また
上記(請求項1〜4)のいずれかの垂直磁気記録媒体において、前記軟磁性裏打ち層は、研磨後の厚さが100〜1000nmであり、表面粗さRa(JIS B 0601)が0.5nm以下であること(請求項5)を特徴とし、また
上記(請求項1〜5)のいずれかの垂直磁気記録媒体において、前記軟磁性裏打ち層の飽和磁束密度が1.0T以上、保磁力が5Oe以下であること(請求項6)を特徴し、また
上記(請求項1〜6)のいずれかの垂直磁気記録媒体において、アルミニウム基板に非晶質Ni−P合金めっき層を形成した基板またはガラス基板からなること(請求項7)を特徴し、また
上記(請求項1〜7)のいずれかの垂直磁気記録媒体において、前記軟磁性裏打ち層と反強磁性層との間に、軟磁性バッファー層を設けてなること(請求項8)を特徴し、さらに
上記(請求項8)の垂直磁気記録媒体において、前記軟磁性バッファー層が、下層のNi−Fe合金層と上層のCo−Fe合金層との2層からなること(請求項9)を特徴とする。
また、本発明の垂直磁気記録装置は、上記(請求項1〜9)のいずれかの垂直磁気記録媒体を用いてなる垂直磁気記録装置(請求項10)である。
In order to achieve the above object, a perpendicular magnetic recording medium of the present invention is a perpendicular magnetic recording medium having a perpendicular magnetic recording layer via a soft magnetic underlayer, and is formed by electroless plating with a substrate. The soft magnetic backing layer made of -P alloy plating, an antiferromagnetic layer formed on the soft magnetic backing layer, and an underlayer formed on the antiferromagnetic layer using a sputtering method And a perpendicular magnetic recording medium (claim 1) comprising a perpendicular magnetic recording layer formed on the underlayer by sputtering.
In the perpendicular magnetic recording medium of the above (Claim 1), the Co content in the soft magnetic underlayer made of the Co—Ni—P alloy plating is 60 to 73 wt% when the sum of Co + Ni + P is 100 wt%. %, Ni content is 20 to 30% by weight, and P content is 7 to 13% by weight (Claim 2), and the perpendicular magnetic recording medium according to (Claim 1 or 2) is characterized in that The Co—Ni—P alloy plating is formed by electroless plating using a plating bath containing amino acid ions (Claim 3), and the perpendicular magnetic recording medium according to (Claim 3) The amino acid ion is characterized in that the compound is glycine (Claim 4), and in the perpendicular magnetic recording medium of any of the above (Claims 1 to 4), the soft magnetic underlayer is The thickness after polishing is 100 to 1000 nm, the surface roughness Ra (JIS B 0601) is 0.5 nm or less (Claim 5), and any of the above (Claims 1 to 5) In the perpendicular magnetic recording medium, the soft magnetic underlayer has a saturation magnetic flux density of 1.0 T or more and a coercive force of 5 Oe or less (Claim 6), and any of the above (Claims 1 to 6) Such a perpendicular magnetic recording medium is characterized by comprising a substrate in which an amorphous Ni—P alloy plating layer is formed on an aluminum substrate or a glass substrate (Claim 7), and any of the above (Claims 1 to 7). In the perpendicular magnetic recording medium, a soft magnetic buffer layer is provided between the soft magnetic underlayer and the antiferromagnetic layer (Claim 8), and the perpendicular of the above (Claim 8). In magnetic recording media, Serial soft buffer layer, the two layers the lower layer of Ni-Fe alloy layer and the upper layer of Co-Fe alloy layer and wherein (claim 9).
The perpendicular magnetic recording apparatus of the present invention is a perpendicular magnetic recording apparatus (claim 10) using any one of the perpendicular magnetic recording media described above (claims 1 to 9).

本発明の垂直磁気記録媒体は、記録媒体の基板と垂直磁気記録層の間に設ける軟磁性裏打ち層を、無電解めっき法により短時間で厚膜に成膜して構成するので、スパッタ法のみで厚膜の軟磁性裏打ち層を設ける場合に比べて高生産性で垂直磁気記録媒体を得ることができる。また無電解めっき浴として、錯化剤としてアミノ酸イオンを含有しアンモニウムイオンを含有しないCo−Ni−P合金めっき浴を用いるので、めっき析出速度を低下させることなく、安定して高生産性を維持して軟磁性皮膜を形成させることができる。特に、アルミニウム板またはアルミニウム合金板に湿式皮膜形成法である無電解合金めっきにより表面硬度確保のためのNi−P合金めっき層を形成させた基板を用いる場合は、引き続いて皮膜形成法を変更することなく、湿式皮膜形成法である無電解合金めっきにより軟磁性裏打ち層を形成させるので、極めて効率がよく高生産性で皮膜形成することが可能となる。また、無電解めっき法を用いて形成した軟磁性裏打ち層の上にスパッタ法を用いて軟磁性バッファー層を設け、さらにその上に反強磁性層を設けることにより、スパイクノイズの発生を抑制することができる。   In the perpendicular magnetic recording medium of the present invention, the soft magnetic backing layer provided between the substrate of the recording medium and the perpendicular magnetic recording layer is formed by forming a thick film in a short time by an electroless plating method. Thus, a perpendicular magnetic recording medium can be obtained with higher productivity than when a thick soft magnetic backing layer is provided. Also, as the electroless plating bath, a Co-Ni-P alloy plating bath containing amino acid ions and no ammonium ions as a complexing agent is used, so that high productivity can be maintained stably without reducing the plating deposition rate. Thus, a soft magnetic film can be formed. In particular, when using a substrate on which an Ni-P alloy plating layer for ensuring surface hardness is formed by electroless alloy plating, which is a wet film formation method, on an aluminum plate or an aluminum alloy plate, the film formation method is subsequently changed. Without forming the soft magnetic backing layer by electroless alloy plating, which is a wet film forming method, it is possible to form a film with extremely high efficiency and high productivity. In addition, by providing a soft magnetic buffer layer using a sputtering method on a soft magnetic backing layer formed using an electroless plating method, and further providing an antiferromagnetic layer thereon, the occurrence of spike noise is suppressed. be able to.

以下、本発明の垂直磁気記録媒体とそれを備えた磁気記録装置の一実施形態について図面に基づき説明する。なお、これらの実施形態は発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り本発明を限定するものではない。   Hereinafter, an embodiment of a perpendicular magnetic recording medium of the present invention and a magnetic recording apparatus including the same will be described with reference to the drawings. These embodiments are specifically described for better understanding of the gist of the invention, and do not limit the present invention unless otherwise specified.

図1は本発明の垂直磁気記録媒体の実施例の一例を示す、概略断面図である。垂直磁気
記録媒体10は、基板1上に図面上で下から順に、軟磁性裏打ち層3、Ni−Fe合金層4aおよびCo−Fe合金層4bの2層からなる軟磁性バッファー層4、反強磁性層5、下地層6、垂直磁気記録層7、および保護膜8、潤滑膜9を形成して構成される。図2は本発明の垂直磁気記録媒体の実施例の他の一例において、基板としてアルミニウム基板からなる基板1aに非晶質Ni−P合金めっき層1bを形成したものを用いた場合を示す概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of an embodiment of the perpendicular magnetic recording medium of the present invention. The perpendicular magnetic recording medium 10 includes a soft magnetic buffer layer 4 composed of two layers of a soft magnetic backing layer 3, a Ni—Fe alloy layer 4 a and a Co—Fe alloy layer 4 b in order from the bottom on the substrate 1 on the substrate 1. The magnetic layer 5, the underlayer 6, the perpendicular magnetic recording layer 7, the protective film 8, and the lubricating film 9 are formed. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing another example of the embodiment of the perpendicular magnetic recording medium of the present invention, in which a substrate 1a made of an aluminum substrate and an amorphous Ni—P alloy plating layer 1b formed thereon is used. FIG.

基板1としては、磁気ディスク用に非磁性の金属や樹脂からなる円板またはその上に他の非磁性の皮膜を形成させたものが上げられる。非磁性の金属や樹脂からなる円板としては、アルミニウム、チタン、またはそれらを主成分とする合金、ガラス、シリコン、カーボン、セラミックス、樹脂、またはこれらの2種以上からなる複合体からなる円板を用いることができる。ガラス基板としては、結晶化ガラスやイオン交換法などを用いて表面に圧縮応力を付与した強化ガラスなどからなるガラス基板を用いることがより好ましい。これらの円板上に形成させる皮膜は、高温に加熱しても磁性を帯びず、導電性を有し、熱伝導性に優れ、研磨などの機械加工が容易に実施可能で、かつ取扱に際して疵が付きにくい適度な硬度を有している非磁性皮膜が用いられ、Ni−P、Ni−Ta、Ni−Ti、Ni−Alなどの合金からなる皮膜があり、スパッタ法、蒸着法、めっき法などを用いて成膜することができる。基板1aに形成する非晶質Ni−P合金めっき層1bも非磁性皮膜である。   Examples of the substrate 1 include a disk made of a nonmagnetic metal or resin for a magnetic disk or another nonmagnetic film formed thereon. As a disk made of a nonmagnetic metal or resin, a disk made of aluminum, titanium, an alloy mainly containing them, glass, silicon, carbon, ceramics, resin, or a composite made of two or more of these. Can be used. As the glass substrate, it is more preferable to use a glass substrate made of tempered glass having a compressive stress applied to the surface using crystallized glass or an ion exchange method. Films formed on these disks do not become magnetized even when heated to high temperatures, have electrical conductivity, have excellent thermal conductivity, can be easily machined such as polishing, and must be handled easily. A non-magnetic film having an appropriate hardness that is difficult to stick to is used, and there is a film made of an alloy such as Ni-P, Ni-Ta, Ni-Ti, Ni-Al, a sputtering method, a vapor deposition method, and a plating method. The film can be formed using, for example. The amorphous Ni—P alloy plating layer 1b formed on the substrate 1a is also a nonmagnetic film.

本発明においては、軟磁性裏打ち層3を湿式皮膜形成法である無電解めっき法により形成することを特徴としている。そのため、同様に湿式皮膜形成法を用いて磁気ディスク基板として広汎に製造されている、図2に示すようなアルミニウム基板1a(アルミニウム合金板も含む、以下同様)上に非晶質Ni−P合金めっき層1bを形成した基板1を用いると、構造が共通しためっき装置やめっき廃液処理設備等を利用できるので、生産性の観点から好ましい。   The present invention is characterized in that the soft magnetic backing layer 3 is formed by an electroless plating method which is a wet film forming method. Therefore, an amorphous Ni-P alloy is similarly formed on an aluminum substrate 1a (including an aluminum alloy plate, hereinafter the same) as shown in FIG. 2, which is also widely manufactured as a magnetic disk substrate using the wet film formation method. Use of the substrate 1 on which the plating layer 1b is formed is preferable from the viewpoint of productivity because a plating apparatus or plating waste liquid treatment equipment having a common structure can be used.

本発明においては、特にCo−Ni−P合金を無電解めっき法により軟磁性裏打ち層3として形成することを特徴とする。軟磁性層はFe、Ni、Coなどの強磁性金属で構成されるが、無電解めっき法を用いて強磁性金属を析出させる場合、Feは大気中で酸化されやすく、典型的な軟磁性皮膜であるパーマロイなどのNi−Fe合金皮膜を湿式めっき法で形成させる場合、めっき浴中のFeの供給源としてのFe2+イオンがめっき中において容易にFe3+イオンに変化するので、連続的に安定した組成の軟磁性皮膜を得ることが困難である。そのため、本発明においては、大気中でめっき浴中の金属イオンが酸化しないCo−Ni合金を、P化合物を還元剤として無電解めっき法により、Co−Ni−P合金からなる軟磁性皮膜として形成させる。 In the present invention, in particular, a Co—Ni—P alloy is formed as the soft magnetic backing layer 3 by an electroless plating method. The soft magnetic layer is composed of a ferromagnetic metal such as Fe, Ni, or Co. However, when the ferromagnetic metal is deposited by using an electroless plating method, Fe is easily oxidized in the atmosphere, and a typical soft magnetic film is formed. When a Ni-Fe alloy film such as permalloy is formed by a wet plating method, since Fe 2+ ions as the Fe supply source in the plating bath easily change to Fe 3+ ions during plating, it is continuously stable. It is difficult to obtain a soft magnetic film having the composition described above. Therefore, in the present invention, a Co—Ni alloy in which metal ions in a plating bath are not oxidized in the atmosphere is formed as a soft magnetic film made of a Co—Ni—P alloy by an electroless plating method using a P compound as a reducing agent. Let

Co−Ni−P合金を無電解めっき法により形成させるためのめっき浴としては、金属イオンとして硫酸コバルトや硫酸ニッケルなどのCoイオンおよびNiイオン、還元剤として次亜リン酸ナトリウムや亜リン酸ナトリウムなどの次亜リン酸イオンまたは/および亜リン酸イオン、錯化剤としてクエン酸ナトリウムや酒石酸ナトリウムなどの有機酸のアルカリ金属塩、αアラニン、βアラニン、グリシン、グルタミン酸などのアミノ基とカルボキシル基の両方を有するアミノ酸イオンの1種または2種以上を含むめっき浴を用いることが好ましく、特に錯化剤としてアミノ酸イオンを供給するグリシンを含むめっき浴を用いることがより好ましい。さらに浴のpHを調整するためには水酸化ナトリウムを添加することが好ましい。めっき浴のpH調整用にアンモニア水を用いたり、まためっき浴の安定剤として硫酸アンモニウムなどのアンモニウムイオンを含む物質をめっき浴に添加すると、加温しためっき浴からアンモニウムイオンがアンモニアガスとして揮発散逸してアンミン錯体の錯化状態が変化し、めっき皮膜の析出速度が低下して、高速で安定した皮膜組成を有する軟磁性皮膜を得ることが困難になり、好ましくない。   As a plating bath for forming a Co—Ni—P alloy by an electroless plating method, Co ions and Ni ions such as cobalt sulfate and nickel sulfate are used as metal ions, and sodium hypophosphite and sodium phosphite are used as reducing agents. Hypophosphite ions and / or phosphite ions such as alkali metal salts of organic acids such as sodium citrate and sodium tartrate as complexing agents, amino groups and carboxyl groups such as α alanine, β alanine, glycine, glutamic acid It is preferable to use a plating bath containing one or more of amino acid ions having both of these, and it is more preferable to use a plating bath containing glycine that supplies amino acid ions as a complexing agent. Further, sodium hydroxide is preferably added to adjust the pH of the bath. When ammonia water is used to adjust the pH of the plating bath, or a substance containing ammonium ions such as ammonium sulfate is added to the plating bath as a plating bath stabilizer, ammonium ions are volatilized and dissipated as ammonia gas from the heated plating bath. Thus, the complexing state of the ammine complex is changed, the deposition rate of the plating film is lowered, and it becomes difficult to obtain a soft magnetic film having a stable film composition at high speed.

図3に、グリシンを含みアンモニアを含まないめっき浴(グリシン浴)を用いて連続めっきした場合と、グリシンを含まずアンモニアを含むめっき浴(アンモニア浴)を用いて連続めっきした場合の、連続めっきの経時変化によるめっき析出速度の影響を示す。グリシン浴を用いた場合は、めっき浴を建浴して80℃まで昇温した後17時間以上経過してもめっき析出速度はほぼ一定の2μm/Hであるのに対して、アンモニア浴を用いた場合は、めっき開始から4時間を経過するとめっき速度が低下し始め、15時間以上経過するとめっきが全く析出しなくなる。このように、めっき浴にアンモニウムイオンを用いず、アンモニウムイオンの代替の錯化剤としてアミノ酸イオンを供給するグリシンを含有させることにより、めっき皮膜の析出速度を低下させることなく、安定した皮膜組成を有する軟磁性皮膜が得られる。   Fig. 3 shows continuous plating in the case of continuous plating using a plating bath containing glycine and not containing ammonia (glycine bath), and in the case of continuous plating using a plating bath containing no glycine and containing ammonia (ammonia bath). The influence of the plating deposition rate due to the change with time is shown. When the glycine bath is used, the plating deposition rate is almost constant 2 μm / H even if 17 hours or more elapses after the plating bath is built and heated to 80 ° C., whereas the ammonia bath is used. In this case, the plating rate starts to decrease after 4 hours from the start of plating, and the plating does not precipitate at all after 15 hours. Thus, without using ammonium ions in the plating bath, by including glycine that supplies amino acid ions as an alternative complexing agent for ammonium ions, a stable film composition can be obtained without reducing the deposition rate of the plating film. A soft magnetic film is obtained.

一般に、垂直磁気記録媒体の場合、磁気ヘッドが該垂直磁気記録媒体に書き込まれた信号を良好に読みとるためには、磁気ヘッドと該垂直磁気記録媒体の空隙は小さい方が好ましい。特に、磁気ヘッドが垂直磁気記録媒体上を浮上しながら記録再生する場合には、その浮上量は出きるだけ小さい方が好ましい。さらに、磁気ヘッドを浮上させずに垂直磁気記録媒体の表面に接触させて記録再生することができればより好ましい。したがって、垂直磁気記録媒体用の基体としては、優れた表面平滑性を有するものが好ましく、さらには、基体の表裏両面の平行性、および基体の円周方向のうねりが適切に制御されたものが好ましい。   In general, in the case of a perpendicular magnetic recording medium, it is preferable that the gap between the magnetic head and the perpendicular magnetic recording medium is small in order for the magnetic head to satisfactorily read a signal written on the perpendicular magnetic recording medium. In particular, when the magnetic head performs recording / reproduction while flying above the perpendicular magnetic recording medium, the flying height is preferably as small as possible. Further, it is more preferable that recording / reproduction can be performed by bringing the magnetic head into contact with the surface of the perpendicular magnetic recording medium without flying. Accordingly, the substrate for the perpendicular magnetic recording medium is preferably one having excellent surface smoothness, and further, one in which the parallelism of the front and back surfaces of the substrate and the circumferential waviness of the substrate are appropriately controlled. preferable.

基板1上に設ける軟磁性裏打ち層3は、ヘッド系磁気回路の一部として機能するため、膜厚は50〜500nmのように厚く堆積し、その後表面を研磨して用いられる。そのため、生産性の観点からはスパッタ法、蒸着法などの皮膜形成方法を用いるよりも無電解めっきなどの湿式皮膜形成法を用いる方が有利である。特に、基板1としてNi−P合金めっき層を形成したアルミニウム板を用いる場合は、上記のように、構造が共通しためっき装置や、共通のめっき廃液処理設備等を利用できるのでより有利になる。   Since the soft magnetic backing layer 3 provided on the substrate 1 functions as a part of the head magnetic circuit, it is deposited to a thickness of 50 to 500 nm, and then the surface is polished for use. Therefore, from the viewpoint of productivity, it is more advantageous to use a wet film forming method such as electroless plating than to use a film forming method such as sputtering or vapor deposition. In particular, when an aluminum plate on which a Ni-P alloy plating layer is formed is used as the substrate 1, it is more advantageous because a plating apparatus having a common structure, a common plating waste liquid treatment facility, and the like can be used as described above.

軟磁性裏打ち層3としては、スパッタ法によって成膜するNi−Fe、Ni−Fe−Co、Co−Zr−Nb、Fe−Al−Si、Co−Ta−Zr、Fe−Ta−C、Fe−Nなどの合金を用いることができるが、本発明においては、上記のように湿式皮膜形成法である無電解めっき法を用いてP化合物を還元剤とするCo−Ni−P合金めっき層を軟磁性裏打ち層3として適用する。基板1に非晶質Ni−P合金めっき層を形成したアルミニウム板を用いる場合は、非晶質Ni−P合金めっき層上に無電解めっき法を用いてCo−Ni−P合金めっき層を形成する。   As the soft magnetic backing layer 3, Ni—Fe, Ni—Fe—Co, Co—Zr—Nb, Fe—Al—Si, Co—Ta—Zr, Fe—Ta—C, Fe— An alloy such as N can be used, but in the present invention, the Co—Ni—P alloy plating layer using the P compound as a reducing agent is softened by using the electroless plating method which is a wet film forming method as described above. The magnetic backing layer 3 is applied. When an aluminum plate having an amorphous Ni—P alloy plating layer formed on the substrate 1 is used, a Co—Ni—P alloy plating layer is formed on the amorphous Ni—P alloy plating layer using an electroless plating method. To do.

Co−Ni−P合金めっき層を軟磁性裏打ち層3として適用する場合、Co−Ni−P合金めっき層においてCo+Ni+Pの総和を100重量%とした場合、Coの含有量を60〜73重量%、Niの含有量を20〜30重量%、Pの含有量を7〜13重量%とすることにより、飽和磁束密度を1.0T以上、保磁力を5Oe以下とすることが可能となり、結晶構造は結晶質となる。Co−Ni−P合金めっきにおいて、Co、Ni、Pのそれぞれの含有量を上記の範囲とするためには、合金めっきにおいてめっき浴の温度を変えてめっき層の析出速度を加減したり、めっきのpHを変化させて適宜調整する。   When the Co—Ni—P alloy plating layer is applied as the soft magnetic backing layer 3, the Co content is 60 to 73 wt% when the total of Co + Ni + P in the Co—Ni—P alloy plating layer is 100 wt%. By setting the Ni content to 20 to 30% by weight and the P content to 7 to 13% by weight, the saturation magnetic flux density can be made 1.0 T or more and the coercive force can be made 5 Oe or less. Become crystalline. In Co-Ni-P alloy plating, in order to keep the contents of Co, Ni, and P within the above ranges, the plating bath temperature can be changed in alloy plating to adjust the deposition rate of the plating layer, The pH is appropriately adjusted by changing the pH.

これらの軟磁性裏打ち層2の厚さは研磨後の厚さで100〜1000nmであることが好ましく、300〜500nmであることがより好ましい。100nm未満であると、研磨に際して十分な研磨精度の確保が困難になり、1000nmを超えても記録密度向上の利点が向上せず、経済的に有利でなくなる。   The thickness of these soft magnetic backing layers 2 is preferably 100 to 1000 nm, more preferably 300 to 500 nm, as the thickness after polishing. If it is less than 100 nm, it will be difficult to ensure sufficient polishing accuracy during polishing, and if it exceeds 1000 nm, the advantage of improving the recording density will not be improved and it will not be economically advantageous.

また、これらの軟磁性裏打ち層3の表面粗さRa(JIS B 0601)は0.5nm以下とする必要がある。表面粗さRa(JIS B 0601)が0.5nmを超えるとノイズパワースペクトル中に観測されるノイズパワーが増加するばかりではなく、ヘッドクラッシュが生じやすくなる。そのためには、基板1として非晶質Ni−P合金めっき層を形成したアルミニウム板を用いる場合は、非晶質Ni−P合金めっき後に表面粗さRa(JIS B 0601)が0.2nm以下となるように表面を研磨した非晶質Ni−P合金めっき層上にCo−Ni−P合金めっき層を上記の厚さで形成した後、表面を再研磨することにより表面粗さRa(JIS B 0601)を0.5nm以下とすることができる。また、アルミニウム板上に非晶質Ni−P合金めっき層を形成した後に行う表面研磨を省略してCo−Ni−P合金めっき層を形成させた後、表面研磨を行って表面粗さRa(JIS B 0601)を0.5nm以下とすることもできる。   Further, the surface roughness Ra (JIS B 0601) of these soft magnetic backing layers 3 needs to be 0.5 nm or less. When the surface roughness Ra (JIS B 0601) exceeds 0.5 nm, not only the noise power observed in the noise power spectrum increases, but also head crashes easily occur. For this purpose, when an aluminum plate having an amorphous Ni—P alloy plating layer is used as the substrate 1, the surface roughness Ra (JIS B 0601) is 0.2 nm or less after the amorphous Ni—P alloy plating. After forming the Co—Ni—P alloy plating layer with the above thickness on the amorphous Ni—P alloy plating layer whose surface has been polished, the surface roughness Ra (JIS B) is obtained by repolishing the surface. 0601) can be 0.5 nm or less. Further, the surface polishing performed after forming the amorphous Ni—P alloy plating layer on the aluminum plate was omitted to form the Co—Ni—P alloy plating layer, and then the surface polishing was performed to obtain the surface roughness Ra ( JIS B 0601) may be 0.5 nm or less.

一般に、垂直磁気記録媒体においては、基板上に軟磁性層を設けた後にその上に反強磁性層を設ける。反強磁性層は、軟磁性層との交換結合作用により、軟磁性層にブロッホ磁壁を形成させずにスパイクノイズを抑制するために設ける層である。特に軟磁性裏打ち層の磁化を基板(円板)の径方向に固定し、残留磁化状態で単磁区化させることは、ブロッホ磁壁からの漏洩磁束を完全に排除できる結果スパイクノイズの発生を抑制できるため好ましい。軟磁性層との交換結合により大きな一方向磁気異方性を誘導するために、反強磁性層の結晶成長ならびに結晶配向制御を目的として、軟磁性層と反強磁性層の間に軟磁性バッファー層を設けてもよい。本発明においては、上記のように基板1上に軟磁性裏打ち層3としてCo−Ni−P合金めっき層を形成し、その上に軟磁性バッファー層4を形成する。軟磁性バッファー層4としては、特に限定するものではないが、反強磁性層の構造をめっき軟磁性層の構造に依存せずに制御できるような軟磁性材料、また、軟磁性バッファー層4の上に形成する反強磁性層5との組み合わせにより大きな一方向磁気異方性を誘導できるような軟磁性材料、あるいはそれらの積層構成を用いてもよい。具体的には、Co−Fe合金からなる単層、または図1に示すように基板側からNi−Fe合金4aとCo−Fe合金4bからなる2層を用いることが好ましい。軟磁性バッファー層4の厚さは生産性の観点から1〜20nmであることが好ましい。軟磁性バッファー層4の形成には湿式皮膜形成法、乾式皮膜形成法のいずれも適用できるが、膜厚の厳密制御の観点からは、スパッタリング法等の乾式皮膜形成が好ましい。   In general, in a perpendicular magnetic recording medium, a soft magnetic layer is provided on a substrate and then an antiferromagnetic layer is provided thereon. The antiferromagnetic layer is a layer provided to suppress spike noise without forming a Bloch domain wall in the soft magnetic layer by an exchange coupling action with the soft magnetic layer. In particular, fixing the magnetization of the soft magnetic underlayer in the radial direction of the substrate (disk) and making it a single domain in the residual magnetization state can completely eliminate the leakage magnetic flux from the Bloch domain wall, thereby suppressing the occurrence of spike noise. Therefore, it is preferable. In order to induce large unidirectional magnetic anisotropy by exchange coupling with the soft magnetic layer, the soft magnetic buffer is interposed between the soft magnetic layer and the antiferromagnetic layer for the purpose of controlling crystal growth and crystal orientation of the antiferromagnetic layer. A layer may be provided. In the present invention, as described above, the Co—Ni—P alloy plating layer is formed on the substrate 1 as the soft magnetic backing layer 3, and the soft magnetic buffer layer 4 is formed thereon. The soft magnetic buffer layer 4 is not particularly limited, but a soft magnetic material that can control the structure of the antiferromagnetic layer without depending on the structure of the plated soft magnetic layer, A soft magnetic material capable of inducing a large unidirectional magnetic anisotropy by a combination with the antiferromagnetic layer 5 formed above, or a laminated structure thereof may be used. Specifically, it is preferable to use a single layer made of a Co—Fe alloy or two layers made of a Ni—Fe alloy 4a and a Co—Fe alloy 4b from the substrate side as shown in FIG. The thickness of the soft magnetic buffer layer 4 is preferably 1 to 20 nm from the viewpoint of productivity. Either the wet film formation method or the dry film formation method can be applied to the formation of the soft magnetic buffer layer 4, but dry film formation such as sputtering is preferred from the viewpoint of strict control of the film thickness.

反強磁性層5としては、Mn−Ir、Co−Mn、Ni−Mn、Pt−Mn等の合金およびこれらの合金に反強磁性層としての特性に悪影響を与えない範囲で他の金属1種以上を添加したものを用いることができる。厚さは、ヘッド系磁気回路の観点からスペーシングロスとなるため、一方向磁気異方性を誘導する機能を損ねない程度に薄いことが好ましい。具体的には1〜10nmの厚さの層を設けることが好ましい。反強磁性層5の形成には湿式皮膜形成法、乾式皮膜形成法などのいずれも適用できるが、膜厚の厳密制御の観点からは、スパッタリング法等の乾式皮膜形成法がより好ましい。   The antiferromagnetic layer 5 includes alloys such as Mn—Ir, Co—Mn, Ni—Mn, and Pt—Mn, and other metals as long as they do not adversely affect the properties of the antiferromagnetic layer. What added the above can be used. Since the thickness is a spacing loss from the viewpoint of the head system magnetic circuit, the thickness is preferably thin enough not to impair the function of inducing unidirectional magnetic anisotropy. Specifically, it is preferable to provide a layer having a thickness of 1 to 10 nm. Both the wet film formation method and the dry film formation method can be applied to the formation of the antiferromagnetic layer 5, but a dry film formation method such as a sputtering method is more preferable from the viewpoint of strict control of the film thickness.

次いで反強磁性層5の上にスパッタ法を用いて、下地層6を設けてもよい。この下地層6としては、その上に形成する垂直記録層7を垂直磁化膜化させる材料であればいかなる材料であっても差し支えない。例えば、Ru、Hf、非磁性CoCr、Pt及びPdを用いることができる。また、下地層6の構成としては、これらの単層構造の他、2層またはそれ以上の多層構造であってもよい。   Next, the underlayer 6 may be provided on the antiferromagnetic layer 5 by sputtering. The underlayer 6 may be made of any material as long as it is a material for forming the perpendicular recording layer 7 formed thereon into a perpendicular magnetization film. For example, Ru, Hf, nonmagnetic CoCr, Pt, and Pd can be used. In addition to the single layer structure, the underlayer 6 may have a multilayer structure of two layers or more.

スパッタ法を用いて形成する垂直磁気記録層7は、磁化容易軸が膜面に略垂直方向に一方向に磁気異方性を有して配向した強磁性材料であればよく、特に組成を限定するものではないが、例えば、CoとCrを主たる成分とし、磁化容易軸が膜面に略垂直方向に一方向に磁気異方性を有して配向した六方稠密構造(hcp:hexagonal closest packed structure)を有するCo−Cr系強磁性材料が好適に用いられる。このCo−Cr系強磁性材料は、必要に応じて他の元素を添加したものであっても良い。   The perpendicular magnetic recording layer 7 formed by sputtering may be a ferromagnetic material whose easy axis is oriented with magnetic anisotropy in one direction substantially perpendicular to the film surface, and its composition is particularly limited. However, for example, a hexagonal closest packed structure in which Co and Cr are main components and the easy magnetization axis is oriented with magnetic anisotropy in one direction substantially perpendicular to the film surface. Co-Cr-based ferromagnetic material having a) is preferably used. This Co—Cr based ferromagnetic material may be added with other elements as required.

CoCr系強磁性材料の具体例としては、Co−Cr(Cr<25原子%)、Co−Cr−Ni、Co−Cr−Ta、Co−Cr−Pt、Co−Cr−Pt−Ta、Co−Cr−Pt−B等のCo−Cr系合金が挙げられる。また、この垂直磁気記録層7の結晶粒の粒径制御や粒間の偏析制御、結晶粒の結晶磁気異方性定数(Ku)、結晶粒径の制御、耐食性の制御、低温プロセスへの対応等を目的として、これら合金にO、SiO、MgO、TaO、ZrO、Fe、Mo、V、Si、B、Ir、W、Hf、Nb、Ru、希土類元素等を適宜添加してもよい。 Specific examples of the CoCr-based ferromagnetic material include Co—Cr (Cr <25 atomic%), Co—Cr—Ni, Co—Cr—Ta, Co—Cr—Pt, Co—Cr—Pt—Ta, and Co—. Examples include Co—Cr alloys such as Cr—Pt—B. Also, the grain size control and grain segregation control of the perpendicular magnetic recording layer 7, crystal grain magnetic anisotropy constant (Ku), grain size control, corrosion resistance control, correspondence to low temperature process For these purposes, O, SiO x , MgO x , TaO x , ZrO x , Fe, Mo, V, Si, B, Ir, W, Hf, Nb, Ru, rare earth elements, etc. are appropriately added to these alloys. Also good.

また、上記のCo−Cr系合金以外の強磁性材料、例えば、Co−Pt、Co−Pd、Fe−Pt等の熱擾乱耐性に優れた材料や、それらを微細化するためにB、N、O、SiO、MgO、TaO、ZrO、Zr等を添加した材料を用いてもよい。さらに、Co層とPt層を多数積層した多層構造の垂直記録層も適用可能である。このような多層構造の垂直記録層としては、Co層とPd層、あるいはFe層とPd層等を組み合わせた多層構造の垂直記録層、またはこれらの各層にB、N、O、Zr、SiO等を添加したものも適用可能である。これらいずれの記録層材料を選定した場合も、垂直磁気記録層7の厚さは5〜100nmであることが好ましい。 In addition, ferromagnetic materials other than the above Co-Cr alloys, for example, materials excellent in thermal disturbance resistance such as Co-Pt, Co-Pd, and Fe-Pt, and B, N, A material to which O, SiO x , MgO x , TaO x , ZrO x , Zr, or the like is added may be used. Furthermore, a perpendicular recording layer having a multilayer structure in which a large number of Co layers and Pt layers are laminated is also applicable. Examples of such a perpendicular recording layer having a multilayer structure include a Co layer and a Pd layer, or a multilayer perpendicular recording layer in which an Fe layer and a Pd layer, etc. are combined, or B, N, O, Zr, and SiO x in each of these layers. Those to which etc. are added are also applicable. Regardless of which recording layer material is selected, the thickness of the perpendicular magnetic recording layer 7 is preferably 5 to 100 nm.

このようにして本発明の垂直磁気記録媒体が得られるが、実際にドライブに組み込んで使用する場合は、垂直磁気記録層7の上に保護膜8および保護膜8上に潤滑膜9を設ける必要がある。保護層8は、垂直磁気記録層7の表面を保護するためのもので、保護膜として必要な機械的強度、耐熱性、耐酸化性、耐腐食性等を備えたものであればよく、特に材料組成を限定するものではないが、例えば、カーボンが好適に用いられる。潤滑膜は基体が回転している際に、磁気ヘッドを安定して浮上させるためのものであり、例えばパーフルオロポリエーテルが好適に用いられる。   In this way, the perpendicular magnetic recording medium of the present invention can be obtained. However, when actually used in a drive, it is necessary to provide the protective film 8 on the perpendicular magnetic recording layer 7 and the lubricating film 9 on the protective film 8. There is. The protective layer 8 is for protecting the surface of the perpendicular magnetic recording layer 7 and may be any layer provided with mechanical strength, heat resistance, oxidation resistance, corrosion resistance, etc. necessary as a protective film. Although the material composition is not limited, for example, carbon is preferably used. The lubricating film is for stably floating the magnetic head when the substrate is rotating. For example, perfluoropolyether is preferably used.

以下、実施例にて本発明を詳細に説明する。
(基板の作成)
磁気ディスク用のアルミニウム合金からなる、中心に孔を有する直径:2.5インチ規格の円板(直径:65mm)に非晶質のNi−P合金めっきを施した後、アルミナ系の研磨液を用いて粗研磨した後、コロイダルシリカ研磨液を用いて仕上げ研磨し、表面粗さRa(JIS B 0601)を0.2nmにポリッシュし、基板とした。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples.
(Creation of substrate)
An amorphous Ni—P alloy plating is applied to a 2.5-inch diameter disc (diameter: 65 mm) made of an aluminum alloy for a magnetic disk and having a hole in the center, and then an alumina-based polishing liquid is used. After rough polishing using this, finish polishing was performed using a colloidal silica polishing liquid, and the surface roughness Ra (JIS B 0601) was polished to 0.2 nm to obtain a substrate.

(軟磁性裏打ち層の形成)
この基板上に、以下に示す浴組成のCo−Ni−P合金めっき浴を用いてCo(68.8重量%)−Ni(24.2重量%)−P(7.0重量%)の組成を有するCo−Ni−P合金層を形成した。次いでコロイダルシリカ研磨液を用いて表面を研磨し、表面粗さ(Ra):0.29nmおよび厚さ:300nmを有する軟磁性裏打ち層とし、試料番号1の試料とした。このようにして得られた試料番号1の試料の軟磁性裏打ち層の軟磁気特性を振動試料型磁力計(VSM:理研電子社製BHV−35)を用いて測定したところ、保磁力:0.5Oe、飽和磁束密度:1.1Tであった。
(Formation of soft magnetic backing layer)
A composition of Co (68.8 wt%)-Ni (24.2 wt%)-P (7.0 wt%) was formed on this substrate using a Co—Ni—P alloy plating bath having the following bath composition. The Co—Ni—P alloy layer having Next, the surface was polished with a colloidal silica polishing liquid to obtain a soft magnetic backing layer having a surface roughness (Ra): 0.29 nm and a thickness: 300 nm, and a sample of sample number 1 was obtained. When the soft magnetic properties of the soft magnetic backing layer of the sample No. 1 obtained in this way were measured using a vibrating sample magnetometer (VSM: BHV-35 manufactured by Riken Denshi Co., Ltd.), the coercive force was 0. 5 Oe, saturation magnetic flux density: 1.1 T.

[Co−Ni−P合金めっき浴]
硫酸コバルト 10g/L
硫酸ニッケル 3g/L
クエン酸三ナトリウム 30g/L
酒石酸ナトリウム 30g/L
グリシン 7.5g/L
次亜リン酸ナトリウム 25g/L
pH(水酸化ナトリウム水溶液で調整) 9.0
浴温 80℃
[Co-Ni-P alloy plating bath]
Cobalt sulfate 10g / L
Nickel sulfate 3g / L
Trisodium citrate 30g / L
Sodium tartrate 30g / L
Glycine 7.5g / L
Sodium hypophosphite 25g / L
pH (adjusted with aqueous sodium hydroxide) 9.0
Bath temperature 80 ° C

(軟磁性バッファー層の形成)
上記のようにして基板にCo−Ni−P合金めっき層を形成して表面を研磨した試料番号1の試料に、スパッタリング法を用いて表面に基板から順にNi(81重量%)−Fe(19重量%)の組成を有する厚さ:6nmのFe−Ni合金層およびCo(70重量%)−Fe(30重量%)の組成を有する厚さ:4nmのCo−Fe合金層を設け、厚さ:10nmの軟磁性バッファー層を形成した。
(Formation of soft magnetic buffer layer)
The sample of Sample No. 1 in which the Co—Ni—P alloy plating layer was formed on the substrate and the surface was polished as described above was applied to the Ni (81 wt%)-Fe (19 A thickness of 6 nm Fe-Ni alloy layer and a thickness of Co (70 wt%)-Fe (30 wt%): a Co-Fe alloy layer of 4 nm in thickness. : A 10 nm soft magnetic buffer layer was formed.

(反強磁性層の形成)
この軟磁性バッファー層の上にスパッタリング法を用いて、厚さ:6nmのMnIrからなる反強磁性層を形成し、径方向へ磁化容易軸を誘導させた。比較用に、試料番号1の試料に反強磁性層を設けない試料(試料番号2)も作製した。
(Formation of antiferromagnetic layer)
An antiferromagnetic layer made of MnIr with a thickness of 6 nm was formed on the soft magnetic buffer layer by sputtering, and the easy axis of magnetization was induced in the radial direction. For comparison, a sample (sample number 2) in which an antiferromagnetic layer was not provided on the sample of sample number 1 was also produced.

(スパイクノイズの有無の判定)
反強磁性層を形成させた後の試料番号1および反強磁性層を設けない試料番号2の試料について、オプティカル・サーフェス・アナライザを用いディスク状の軟磁性層の磁区構造を評価することにより、スパイクノイズの有無を判定した。結果を図4および図5に示す。図4は試料番号2の磁区構造を示したものであり、磁壁の生成を示す縞状模様が認められ、したがってスパイクノイズが発生する。一方、図5は試料番号1の磁区構造を示したものであり、磁壁の生成を示す縞状模様16が認められず、スパイクノイズは発生しない。
(Determination of spike noise)
By evaluating the magnetic domain structure of the disk-shaped soft magnetic layer using the optical surface analyzer for the sample No. 1 after forming the antiferromagnetic layer and the sample No. 2 without the antiferromagnetic layer, The presence or absence of spike noise was determined. The results are shown in FIG. 4 and FIG. FIG. 4 shows the magnetic domain structure of Sample No. 2. A striped pattern indicating the generation of a domain wall is recognized, and therefore spike noise is generated. On the other hand, FIG. 5 shows the magnetic domain structure of Sample No. 1, the striped pattern 16 indicating the generation of the domain wall is not recognized, and spike noise does not occur.

(下地層および垂直磁気記録層の形成)
次いで試料番号1の試料の反強磁性層の上にスパッタ法を用いて、下地層として厚さ20nmを有するRu層を形成させた後、この下地Ru層の上に、Co(65重量%)−Cr(20重量%)−Pt(15重量%)の組成を有する厚さ:22nmのCo−Cr−Pt合金からなる垂直磁気記録層を形成した。
(Formation of underlayer and perpendicular magnetic recording layer)
Next, a Ru layer having a thickness of 20 nm was formed as an underlayer on the antiferromagnetic layer of the sample of sample No. 1 by using sputtering, and then Co (65 wt%) was formed on the underlayer Ru layer. A perpendicular magnetic recording layer made of a Co—Cr—Pt alloy having a thickness of 22 nm and a composition of —Cr (20 wt%) — Pt (15 wt%) was formed.

(保護膜および潤滑膜の形成)
次いで垂直磁気記録層の上にスパッタ法を用いて、厚さ:7nmのカーボンからなる保護膜を形成し、次いで、浸漬法を用いて厚さ:2nmのパーフルオロポリエーテルからなる潤滑膜を形成した。以上のようにして本発明の垂直磁気記録媒体を作成した。
(Formation of protective film and lubricating film)
Next, a protective film made of carbon having a thickness of 7 nm is formed on the perpendicular magnetic recording layer by sputtering, and then a lubricating film made of perfluoropolyether having a thickness of 2 nm is formed by using an immersion method. did. The perpendicular magnetic recording medium of the present invention was produced as described above.

本発明の垂直磁気記録媒体は上記のように構成されており、軟磁性裏打ち層を湿式皮膜形成法である無電解めっき法により形成するので、乾式皮膜形成法あるスパッタリング法などに比べて簡便に短時間で厚い軟磁性裏打ち層を成膜できる。また、錯化剤としてアミノ酸イオンを含有しアンモニウムイオンを含有しないCo−Ni−P合金めっき浴を用いて軟磁性裏打ち層を形成するので、めっき析出速度を低下させることなく、安定して高生産性を維持して軟磁性皮膜を形成させることができる。さらに、スパッタリング法によるコラム状に成長する結晶質軟磁性裏打ち層に比べ、高生産性でスパイクノイズが低減した垂直磁気記録媒体を得ることができる。   The perpendicular magnetic recording medium of the present invention is configured as described above, and since the soft magnetic underlayer is formed by an electroless plating method that is a wet film forming method, it is simpler than a sputtering method that is a dry film forming method. A thick soft magnetic backing layer can be formed in a short time. In addition, a soft magnetic backing layer is formed using a Co—Ni—P alloy plating bath that contains amino acid ions and no ammonium ions as a complexing agent, so that stable and high production can be achieved without reducing the plating deposition rate. The soft magnetic film can be formed while maintaining the properties. Furthermore, it is possible to obtain a perpendicular magnetic recording medium with high productivity and reduced spike noise as compared with a crystalline soft magnetic underlayer grown in a column shape by sputtering.

本発明の垂直磁気記録媒体の実施例の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the Example of the perpendicular magnetic recording medium of this invention. 本発明の垂直磁気記録媒体に用いる基板の一例を示す、概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the board | substrate used for the perpendicular magnetic recording medium of this invention. 本発明のグリシンを含みアンモニウムオンを含まないめっき浴(グリシン浴)を用いて連続めっきした場合と、比較用のグリシンを含まずアンモニウムイオンを含むめっき浴(アンモニア浴)を用いて連続めっきした場合の、連続めっきの経時変化によるめっき析出速度の影響を示すラフ。In the case of continuous plating using the plating bath containing glycine of the present invention and not containing ammonium-on (glycine bath), and in the case of continuous plating using the plating bath containing no ammonium ion for comparison (ammonia bath) The rough showing the influence of the plating deposition rate due to the change over time of continuous plating. 比較用の反強磁性層を形成させない場合の磁区構造を示す図である。It is a figure which shows the magnetic domain structure when not forming the antiferromagnetic layer for a comparison. 本発明の反強磁性層を形成させた場合の磁区構造を示す図である。It is a figure which shows the magnetic domain structure at the time of forming the antiferromagnetic layer of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
1a 基板(アルミニウム板)
1b 非晶質Ni−P合金めっき層
3 軟磁性裏打ち層
4 軟磁性バッファー層
4a Ni−Fe合金
4b Co−Fe合金
5 反強磁性層
6 下地層
7 垂直磁気記録層
8 保護膜
9 潤滑膜
10 垂直磁気記録媒体
15 反強磁性層を設けない試料
16 磁壁の生成を示す縞状模様
20 反強磁性層を形成させた後の試料
1 substrate 1a substrate (aluminum plate)
1b Amorphous Ni-P alloy plating layer 3 Soft magnetic backing layer 4 Soft magnetic buffer layer 4a Ni-Fe alloy 4b Co-Fe alloy 5 Antiferromagnetic layer 6 Underlayer 7 Perpendicular magnetic recording layer 8 Protective film 9 Lubricating film 10 Perpendicular magnetic recording medium 15 Sample without an antiferromagnetic layer 16 Striped pattern 20 showing the generation of a domain wall Sample after forming an antiferromagnetic layer

Claims (10)

軟磁性裏打ち層を介して垂直磁気記録層を有する垂直磁気記録媒体であって、基板と無電解めっき法によって成膜するCo−Ni−P合金めっきからなる前記軟磁性裏打ち層と、該軟磁性裏打ち層上に成膜してなる反強磁性層と、該反強磁性層上にスパッタ法を用いて成膜してなる下地層と、該下地層上にスパッタ法を用いて成膜してなる垂直磁気記録層とを備えてなる垂直磁気記録媒体。 A perpendicular magnetic recording medium having a perpendicular magnetic recording layer via a soft magnetic backing layer, the soft magnetic backing layer comprising a substrate and a Co—Ni—P alloy plating formed by an electroless plating method, and the soft magnetic An antiferromagnetic layer formed on the backing layer, an underlayer formed by sputtering on the antiferromagnetic layer, and formed by sputtering on the underlayer A perpendicular magnetic recording medium comprising: a perpendicular magnetic recording layer comprising: 前記Co−Ni−P合金めっきからなる軟磁性裏打ち層において、Co+Ni+Pの総和を100重量%とした場合に、Coの含有量が60〜73重量%、Niの含有量が20〜30重量%、Pの含有量が7〜13重量%である、請求項1に記載の垂直磁気記録媒体。 In the soft magnetic backing layer comprising the Co—Ni—P alloy plating, when the total of Co + Ni + P is 100% by weight, the Co content is 60 to 73% by weight, the Ni content is 20 to 30% by weight, The perpendicular magnetic recording medium according to claim 1, wherein the P content is 7 to 13 wt%. 前記Co−Ni−P合金めっきが、アミノ酸イオンを含むめっき浴を用いた無電解めっきにより形成されてなる、請求項1または2に記載の垂直磁気記録媒体。 The perpendicular magnetic recording medium according to claim 1, wherein the Co—Ni—P alloy plating is formed by electroless plating using a plating bath containing amino acid ions. 前記アミノ酸イオンは化合物がグリシンである、請求項3に記載の垂直磁気記録媒体。 The perpendicular magnetic recording medium according to claim 3, wherein the amino acid ion is a compound of glycine. 前記軟磁性裏打ち層は、研磨後の厚さが100〜1000nmであり、表面粗さRa(JIS B 0601)が0.5nm以下である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の垂直磁気記録媒体。 5. The vertical according to claim 1, wherein the soft magnetic backing layer has a polished thickness of 100 to 1000 nm and a surface roughness Ra (JIS B 0601) of 0.5 nm or less. Magnetic recording medium. 前記軟磁性裏打ち層の飽和磁束密度が1.0T以上、保磁力が5Oe以下であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の垂直磁気記録媒体。 6. The perpendicular magnetic recording medium according to claim 1, wherein the soft magnetic backing layer has a saturation magnetic flux density of 1.0 T or more and a coercive force of 5 Oe or less. アルミニウム基板に非晶質Ni−P合金めっき層を形成した基板またはガラス基板からなる、請求項1〜6のいずれか1項に記載の垂直磁気記録媒体。 The perpendicular magnetic recording medium according to claim 1, wherein the perpendicular magnetic recording medium is made of a substrate in which an amorphous Ni—P alloy plating layer is formed on an aluminum substrate or a glass substrate. 前記軟磁性裏打ち層と反強磁性層との間に、軟磁性バッファー層を設けてなる、請求項1〜7のいずれか1項に記載の垂直磁気記録媒体。 The perpendicular magnetic recording medium according to claim 1, wherein a soft magnetic buffer layer is provided between the soft magnetic backing layer and the antiferromagnetic layer. 前記軟磁性バッファー層が、下層のNi−Fe合金層と上層のCo−Fe合金層との2層からなる、請求項8に記載の垂直磁気記録媒体。 The perpendicular magnetic recording medium according to claim 8, wherein the soft magnetic buffer layer is composed of two layers of a lower Ni—Fe alloy layer and an upper Co—Fe alloy layer. 請求項1〜9のいずれか1項に記載の垂直磁気記録媒体を用いてなる垂直磁気記録装置。

A perpendicular magnetic recording apparatus using the perpendicular magnetic recording medium according to claim 1.

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