JP2007063375A - Inorganic film-forming coating liquid - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、低温焼成が可能な、チタン化合物を含有する無機膜形成材料に関する。 The present invention relates to an inorganic film forming material containing a titanium compound that can be fired at a low temperature.
金属酸化物の被膜を形成するための塗布液は、種々の産業において幅広く応用されており、例えば液晶ディスプレイの製作に用いられている。
公知の技術である液晶ディスプレイでは、ストライプ状または格子状に形成された透明電極、TFT（薄層トランジスタ）等を有する二枚のガラス基板間に液晶を封入するという構造を有しており、上記透明電極の絶縁保護膜を形成する材料として使用されている。
The coating liquid for forming a metal oxide film is widely applied in various industries, and is used, for example, in the production of liquid crystal displays.
A known liquid crystal display has a structure in which liquid crystal is sealed between two glass substrates having transparent electrodes, TFTs (thin layer transistors), etc., which are formed in a stripe shape or a lattice shape. It is used as a material for forming an insulating protective film for transparent electrodes.
このような絶縁保護膜を形成する材料としては、例えば、特許文献１に開示されている、アルコキシシラン、テトラアルコキシチタンおよび塩基性ジルコニウム塩を原料とする金属酸化物被膜形成用塗布液がある。この特許文献１では、高硬度、耐薬品性を向上させるために塩基性ジルコニウム塩を添加している。 As a material for forming such an insulating protective film, for example, there is a coating solution for forming a metal oxide film, which is disclosed in Patent Document 1, using alkoxysilane, tetraalkoxytitanium and basic zirconium salt as raw materials. In Patent Document 1, a basic zirconium salt is added to improve high hardness and chemical resistance.
また、上記のような塗布液では、チタンアルコキシドの加水分解速度が速いために、一般に、チタンアルコキシドを含む組成物においては、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチルもしくはアセチルアセトンといったキレート剤を添加してチタンアルコキシドをキレート化し、加水分解速度を制御している。しかしながら、これらのキレート剤は熱分解温度が高く、したがってチタンキレート化合物を含有する塗布液を用いる場合、成膜温度は高温とならざるを得ない。
このような状況下で、特に透明電極の保護、焼成時のコストを下げる意味等で焼成温度を従来よりも低くすることができる無機絶縁膜形成用塗布液が求められているが、上記特許文献１等では無機膜形成時の焼成温度について考慮されておらず、低温焼成化が困難である。
本発明は、高い硬度を備えつつ、低温で焼成することができる無機膜形成用塗布液を提供することを目的とする。
Under such circumstances, there is a demand for a coating liquid for forming an inorganic insulating film capable of lowering the firing temperature than in the past, particularly for the purpose of protecting the transparent electrode and reducing the cost during firing. No. 1 does not take into account the firing temperature at the time of forming the inorganic film, and low temperature firing is difficult.
An object of this invention is to provide the coating liquid for inorganic film formation which can be baked at low temperature, having high hardness.
本発明者は、無機膜形成用塗布液の原料として、過剰量の硝酸を加えることにより、チタンアルコキシドを含む組成物を安定に加水分解し、且つ、硬質無機絶縁膜を従来に比して低温で焼成できることを見出し、キレート剤の添加を行うことなく、上記の課題を解決するに至った。 The present inventor stably hydrolyzes the composition containing titanium alkoxide by adding an excessive amount of nitric acid as a raw material for the coating liquid for forming an inorganic film, and the hard inorganic insulating film has a lower temperature than conventional ones. The present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved without adding a chelating agent.
本発明に係る無機絶縁膜形成用塗布液は、チタンアルコキシドを含有する混合物の加水分解生成物、および溶媒を含む無機絶縁膜形成用塗布液であって、焼成低温化剤として、硝酸を含むことを特徴とする。 The coating liquid for forming an inorganic insulating film according to the present invention is a coating liquid for forming an inorganic insulating film containing a hydrolysis product of a mixture containing a titanium alkoxide and a solvent, and contains nitric acid as a firing temperature reducing agent. It is characterized by.
本発明に係る硬質無機絶縁膜形成用塗布液を用いることによって、従来に較べ、焼成温度を低くすることができ、膜生成のコストを下げることができ、且つ、焼成温度を低下させるための手段が硝酸であるために、原料溶液の製造のコストについても下げることができる。 By using the coating liquid for forming a hard inorganic insulating film according to the present invention, the firing temperature can be lowered, the cost of film formation can be reduced, and means for lowering the firing temperature. Since nitric acid is nitric acid, the production cost of the raw material solution can be reduced.
以下、本発明をより詳細に説明する。
本発明に係る無機膜形成用塗布液は、チタンアルコキシドの加水分解生成物および溶媒と、焼成低温化剤としての硝酸を含むことを特徴とする。前記チタンアルコキシドとしては、
Ti(OR0)4
（ここで、R0は、独立して、アルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。）
で表される化合物が挙げられる。R0としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。このチタンアルコキシドの中でも、チタン=テトライソプロポキシドであるのが好ましい。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
The coating liquid for forming an inorganic film according to the present invention is characterized by containing a hydrolysis product of titanium alkoxide and a solvent, and nitric acid as a calcination temperature reducing agent. As the titanium alkoxide,
Ti (OR 0 ) 4
(Here, R 0 independently represents an alkyl group, an alkenyl group, or an aryl group.)
The compound represented by these is mentioned. Examples of R 0 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. Among these titanium alkoxides, titanium = tetraisopropoxide is preferable.
好ましくは、前記無機膜形成用塗布液は、構造式が R1 nSi(OR2)4-n である、ケイ素アルコキシドの加水分解生成物を含む。ここで、上記式中の R1は、アルキル基、アルケニル基、アリール基であり、 R2 はアルキル基であり、且つ n は 0、1、もしくは2 である。 Preferably, the coating liquid for forming an inorganic film contains a hydrolysis product of silicon alkoxide having a structural formula of R 1 n Si (OR 2 ) 4-n . Here, R 1 in the above formula is an alkyl group, an alkenyl group, or an aryl group, R 2 is an alkyl group, and n is 0, 1, or 2.
上記R1としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ステアリル基、ビニル基、3-クロロプロピル基、3-ヒドロキシプロピル基、3-グリシドキシプロピル基、3-メタクリロキシプロピル基、フェニル基等が挙げられる。上記R2としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が好ましく、中でも加水分解性の高さからメチル基及びエチル基が好ましい。前記ケイ素アルコキシドは、オルトケイ酸テトラエチル（テトラエトキシシラン）であるのがさらに好ましい。このように、無機膜形成用塗布液がケイ素アルコキシドの加水分解生成物を含むことにより、この無機膜形成用塗布液から形成される無機膜の耐薬品性、特に耐酸性を向上させることができる。 Examples of R 1 include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, stearyl, vinyl, 3-chloropropyl, 3-hydroxypropyl, 3- Examples thereof include a glycidoxypropyl group, a 3-methacryloxypropyl group, and a phenyl group. As R 2 , a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and the like are preferable. Among them, a methyl group and an ethyl group are preferable because of high hydrolyzability. More preferably, the silicon alkoxide is tetraethyl orthosilicate (tetraethoxysilane). Thus, the chemical resistance of the inorganic film formed from this inorganic film-forming coating solution, in particular the acid resistance, can be improved by including the hydrolysis product of the silicon alkoxide in the inorganic film-forming coating solution. .
ここで、チタンアルコキシドの加水分解生成物とケイ素アルコキシドの加水分解生成物とを含む場合には、チタンアルコキシドとケイ素アルコキシドとを含む混合物の加水分解生成物を含む概念である。中でも、上記加水分解生成物は、チタンアルコキシドとケイ素アルコキシドとを含む混合物の加水分解生成物であることが好ましい。 Here, when the hydrolysis product of a titanium alkoxide and the hydrolysis product of a silicon alkoxide are included, it is the concept including the hydrolysis product of the mixture containing a titanium alkoxide and a silicon alkoxide. Especially, it is preferable that the said hydrolysis product is a hydrolysis product of the mixture containing a titanium alkoxide and a silicon alkoxide.
塗布液中のTiO2換算質量と、SiO2換算質量との比は、10:0 から 1:9の範囲であることが好ましく、7:3から4:6であることがより好ましい。
前記塗布液中の硝酸の濃度は、前記を TiO2 に換算質量（および、SiO2換算質量との和）に対して0.5質量%〜10質量% であるのが好ましく、1質量%〜8質量%であることがより好ましい。前記硝酸の濃度が前記の範囲にすることにより、前記塗布液が白濁することを防止することできる。このように、焼成低温化剤としての硝酸を加えることにより、キレート剤を用いることなく塗布液中の金属アルコキシドを安定化することができ、膜形成時の焼成温度を下げることが可能となっている。つまり、本願の塗布液においては、キレート剤を含まないことが好ましい。
The ratio between the TiO 2 converted mass and the SiO 2 converted mass in the coating solution is preferably in the range of 10: 0 to 1: 9, more preferably 7: 3 to 4: 6.
The concentration of nitric acid in the coating solution is preferably 0.5% by mass to 10% by mass with respect to the mass converted to TiO 2 (and the sum of the mass with SiO 2 equivalent), and 1% by mass to 8% by mass. % Is more preferable. By setting the concentration of nitric acid within the above range, the coating solution can be prevented from becoming cloudy. Thus, by adding nitric acid as a baking temperature reducing agent, the metal alkoxide in the coating solution can be stabilized without using a chelating agent, and the baking temperature during film formation can be lowered. Yes. That is, the coating solution of the present application preferably does not contain a chelating agent.
また、前記溶媒は、例えば、メタノール、エタノールもしくはプロパノールといったアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコールもしくは 2-メチル-2,4-ペンタンジオールといったジオール類、アセトンもしくはエチルメチルケトンといったケトン類、ベンゼン、トルエンもしくはキシレンといった芳香族類、2-エトキシエタノール （エチルセロソルブ）、2-ブトキシエタノール （ブチルセロソルブ）、2-(2-エトキシエトキシ)エタノール （エチルカルビトール）、2-(2-ブトキシエトキシ)エタノール （ブチルカルビトール）、1,2-ジエトキシエタン （ジエチルセロソルブ）もしくはビス(2-エトキシエチル)エーテル （ジエチルカルビトール）といったグリコールエーテル類、N-メチル-2-ピロリドン、ならびに N,N-ジメチルホルムアミド、である。前記溶媒は、塗布液が白濁しないようにする点に鑑みて、エタノール、イソプロパノール、もしくは 3-メチル-3-メトキシ-ブタン-1-オール、もしくはこれらの混合物であるのが特に好ましい。 Examples of the solvent include alcohols such as methanol, ethanol or propanol, diols such as ethylene glycol, propylene glycol or 2-methyl-2,4-pentanediol, ketones such as acetone or ethyl methyl ketone, benzene, toluene or Aromatics such as xylene, 2-ethoxyethanol (ethyl cellosolve), 2-butoxyethanol (butyl cellosolve), 2- (2-ethoxyethoxy) ethanol (ethylcarbitol), 2- (2-butoxyethoxy) ethanol (butylcarbi Tol), glycol ethers such as 1,2-diethoxyethane (diethyl cellosolve) or bis (2-ethoxyethyl) ether (diethylcarbitol), N-methyl-2-pyrrolidone, and N, N-dimethylformami , It is. In view of preventing the coating solution from becoming cloudy, the solvent is particularly preferably ethanol, isopropanol, 3-methyl-3-methoxy-butan-1-ol, or a mixture thereof.
前記チタンアルコキシドおよびケイ素アルコキシドを加水分解する際には、水を添加する。水の添加量は、前記チタンアルコキシド（および、ケイ素アルコキシドを含む場合には前記ケイ素アルコキシドとの合計）とのモル比が 1:1.5 〜 1:4 の範囲となる量であるのが好ましい。水の添加量が前記の範囲の上限以下にすることにより、前記塗布液の経時安定性を高め、ゲル化を防止することができる。また、水の添加量が前記の範囲の下限以上にすることにより、無機絶縁膜の形成能を高めることができる。水の添加は、通常は室温で行うが、加熱下に行うこともできる。チタンアルコキシドおよびケイ素アルコキシドの加水分解反応させることによって、本発明の塗布液は得られるが、加水分解反応後にさらに熟成の目的で50℃〜150℃の範囲で加熱してもよい。 When the titanium alkoxide and silicon alkoxide are hydrolyzed, water is added. The amount of water added is preferably such that the molar ratio with the titanium alkoxide (and the total with the silicon alkoxide when silicon alkoxide is included) is in the range of 1: 1.5 to 1: 4. When the amount of water added is not more than the upper limit of the above range, the temporal stability of the coating solution can be improved and gelation can be prevented. Moreover, the formation ability of an inorganic insulating film can be improved by making the addition amount of water more than the lower limit of the said range. The addition of water is usually performed at room temperature, but can be performed under heating. By subjecting the titanium alkoxide and silicon alkoxide to a hydrolysis reaction, the coating solution of the present invention can be obtained.
前記の金属アルコキシドの加水分解反応は、有機溶媒中のチタンアルコキシドおよび／もしくはケイ素アルコキシドの有機溶媒溶液に、触媒および水、または有機溶媒および水の混合液を添加することによって行うことができる。あるいは、有機溶媒中のチタンアルコキシドに触媒を含む、水、または、有機溶媒および水の混合液を添加した後、ケイ素アルコキシドを加えて反応を行ってもよい。この触媒としては、酸性触媒でも塩基性触媒でもよいが、酸性触媒が好ましい。この酸性触媒としては、有機酸、無機酸のいずれを使用してもよい。 The hydrolysis reaction of the metal alkoxide can be carried out by adding a catalyst and water, or a mixed solution of an organic solvent and water to an organic solvent solution of titanium alkoxide and / or silicon alkoxide in an organic solvent. Alternatively, the reaction may be performed by adding water or a mixture of an organic solvent and water containing a catalyst to titanium alkoxide in an organic solvent and then adding silicon alkoxide. The catalyst may be an acidic catalyst or a basic catalyst, but an acidic catalyst is preferred. As the acidic catalyst, either an organic acid or an inorganic acid may be used.
無機酸としては、リン酸、硝酸などが使用でき、中でも、リン酸、硝酸が好適である。
上記有機酸としては、ギ酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、氷酢酸、無水酢酸、プロピオン酸、n-酪酸などのカルボン酸及び硫黄含有酸残基をもつ有機酸が用いられる。
As the inorganic acid, phosphoric acid, nitric acid and the like can be used, among which phosphoric acid and nitric acid are preferable.
Examples of the organic acid include carboxylic acids such as formic acid, oxalic acid, fumaric acid, maleic acid, glacial acetic acid, acetic anhydride, propionic acid, and n-butyric acid, and organic acids having sulfur-containing acid residues.
本発明の無機膜形成用塗布液に添加される硝酸は、触媒と同時に添加してもよいし、別途添加してもよい。触媒として硝酸を添加する場合には、無機膜形成用塗布液における加水分解の触媒として過剰な量であることが、無機膜形成のための焼成温度の低下のために必要である。 The nitric acid added to the coating solution for forming an inorganic film of the present invention may be added simultaneously with the catalyst or may be added separately. In the case of adding nitric acid as a catalyst, an excessive amount as a catalyst for hydrolysis in the coating solution for forming an inorganic film is necessary for lowering the firing temperature for forming the inorganic film.
本発明に係る無機膜形成用塗布液は、スピンコート、フレキソ印刷、ディッピング刷毛塗り、ロールコートもしくはスプレーといった、通常使用される塗布方法を用いて塗布することができる。塗付後、熱風乾燥機などの手段によって乾燥してから、焼成を行って成膜することができる。焼成温度は、好ましくは300℃以下であり、より好ましくは200℃〜300℃である。 The coating solution for forming an inorganic film according to the present invention can be applied using a commonly used coating method such as spin coating, flexographic printing, dipping brush coating, roll coating or spraying. After coating, the film can be dried by means such as a hot air dryer and then baked to form a film. The firing temperature is preferably 300 ° C. or lower, more preferably 200 ° C. to 300 ° C.
以下、本発明を実施例および比較例に基づいてさらに詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples and comparative examples.
（実施例１）
ビーカーAに、Tiアルコキシドとしてチタン=テトライソプロポキシド（TPTA-1（商品名）； 日本曹達株式会社）を 76.88g 、 Siアルコキシドとしてテトラエトキシシラン（正珪酸エチル（商品名）； 多摩化学工業株式会社）を 74.88g を添加し、攪拌羽にて攪拌を行い、さらにエタノール 280.44g を添加して1時間攪拌し、アルコキシド溶解液を得た。
Example 1
In beaker A, titanium = tetraisopropoxide (TPTA-1 (trade name); Nippon Soda Co., Ltd.) 76.88g as Ti alkoxide, tetraethoxysilane (normal ethyl silicate (trade name); Tama Chemical Co., Ltd. as Si alkoxide (Company) was added with 74.88 g and stirred with a stirring blade, and further 280.44 g of ethanol was added and stirred for 1 hour to obtain an alkoxide solution.
さらに、ビーカーBに、エタノール 407.88g 、水 22.68g 、および濃度60%の硝酸 1.44g を添加して1時間攪拌し、エタノール加水液を得た。
その後、ビーカーAを攪拌しながら、ビーカーBのエタノール加水液を加え、室温で3時間攪拌した。さらに室温で12時間静置し、塗布液(1)を得た。
Further, 407.88 g of ethanol, 22.68 g of water, and 1.44 g of nitric acid having a concentration of 60% were added to the beaker B and stirred for 1 hour to obtain an ethanol water solution.
Thereafter, while stirring the beaker A, the ethanol water solution of the beaker B was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Furthermore, it was left to stand at room temperature for 12 hours to obtain a coating solution (1).
（実施例２）
ビーカーAに、Tiアルコキシドとして TPTA-1（商品名； 日本曹達株式会社）を 76.88g を単独で添加したこと以外は、実施例1と同様に調製し、塗布液(2)を得た。
(Example 2)
A coating solution (2) was obtained in the same manner as in Example 1, except that 76.88 g of TPTA-1 (trade name; Nippon Soda Co., Ltd.) was added as a Ti alkoxide alone to Beaker A.
（実施例３）
ビーカーAに、Tiアルコキシドとして TPTA-1（商品名； 日本曹達株式会社）を 15.33g 、 Siアルコキシドとして正珪酸エチル（商品名； 多摩化学工業株式会社）を 134.78g を添加したこと以外は、実施例1と同様に調製し、塗布液(3)を得た。
(Example 3)
Except for adding TPTA-1 (trade name; Nippon Soda Co., Ltd.) as Ti alkoxide to Beaker A, and adding 134.78 g of ethyl ethyl silicate (trade name; Tama Chemical Co., Ltd.) as Si alkoxide. In the same manner as in Example 1, a coating solution (3) was obtained.
（実施例４）
ビーカーAに、Tiアルコキシドとして TPTA-1（商品名； 日本曹達株式会社）を 76.88g 、 Siアルコキシドとして正珪酸エチル（商品名； 多摩化学工業株式会社）を 74.88g を添加し、攪拌羽にて攪拌を行い、さらにエタノール 280.44g を添加して1時間攪拌し、アルコキシド溶解液を得た。
Example 4
To beaker A, add 76.88g of TPTA-1 (trade name; Nippon Soda Co., Ltd.) as Ti alkoxide and 74.88g of normal ethyl silicate (trade name; Tama Chemical Co., Ltd.) as Si alkoxide. Stirring was performed, and 280.44 g of ethanol was further added and stirred for 1 hour to obtain an alkoxide solution.
さらに、ビーカーBに、エタノール 396.54g 、水 34.02g 、および濃度60%の硝酸 1.44g を添加して1時間攪拌し、エタノール加水液を得た。
その後、ビーカーAを攪拌しながら、ビーカーBのエタノール加水液を加え、室温で3時間攪拌した。さらに室温で12時間静置し、塗布液(4)を得た。
Further, 396.54 g of ethanol, 34.02 g of water, and 1.44 g of nitric acid having a concentration of 60% were added to the beaker B and stirred for 1 hour to obtain an ethanol water solution.
Thereafter, while stirring the beaker A, the ethanol water solution of the beaker B was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The mixture was further allowed to stand at room temperature for 12 hours to obtain a coating solution (4).
（実施例５）
ビーカーAに、Tiアルコキシドとして TPTA-1（商品名； 日本曹達株式会社）を 76.88g 、 Siアルコキシドとして正珪酸エチル（商品名； 多摩化学工業株式会社）を 74.88g を添加し、攪拌羽にて攪拌を行い、さらにエタノール 280.44g を添加して1時間攪拌し、アルコキシド溶解液を得た。
(Example 5)
To beaker A, add 76.88g of TPTA-1 (trade name; Nippon Soda Co., Ltd.) as Ti alkoxide and 74.88g of normal ethyl silicate (trade name; Tama Chemical Co., Ltd.) as Si alkoxide. Stirring was performed, and 280.44 g of ethanol was further added and stirred for 1 hour to obtain an alkoxide solution.
さらに、ビーカーBに、エタノール 396.54g 、水 45.36g 、および濃度60%の硝酸 2.88g を添加して1時間攪拌し、エタノール加水液を得た。
その後、ビーカーAを攪拌しながら、ビーカーBのエタノール加水液を加え、室温で3時間攪拌した。さらに室温で12時間静置し、塗布液(5)を得た。
Further, 396.54 g of ethanol, 45.36 g of water, and 2.88 g of nitric acid having a concentration of 60% were added to the beaker B and stirred for 1 hour to obtain an ethanol water solution.
Thereafter, while stirring the beaker A, the ethanol water solution of the beaker B was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Furthermore, it was allowed to stand at room temperature for 12 hours to obtain a coating solution (5).
（実施例６）
実施例1にて調製した塗布液(1)を三ツ口フラスコに入れ、 N-メチル-2-ピロリドン 75g 、ジプロピレングリコール 225g 、3-メチル-3-メトキシ-ブタン-1-オール 520g を加え、40℃水浴にて加温、減圧を行い、低沸点溶媒を除去した塗布液(6)を得た。
(Example 6)
The coating liquid (1) prepared in Example 1 was placed in a three-necked flask, and 75 g of N-methyl-2-pyrrolidone, 225 g of dipropylene glycol, and 520 g of 3-methyl-3-methoxy-butan-1-ol were added. The coating liquid (6) from which the low boiling point solvent was removed was obtained by heating and reducing the pressure in a water bath at ° C.
（比較例１）
ビーカーAに、Tiアルコキシドとして TPTA-1（商品名； 日本曹達株式会社）を 76.88g 、 Siアルコキシドとして正珪酸エチル（商品名； 多摩化学工業株式会社）を 74.88g を添加し、攪拌羽にて攪拌を行い、アセチルアセトン 96.40g を添加し、さらにエタノール 280.44g を添加して1時間攪拌し、アルコキシド溶解液を得た。
(Comparative Example 1)
To beaker A, add 76.88g of TPTA-1 (trade name; Nippon Soda Co., Ltd.) as Ti alkoxide and 74.88g of normal ethyl silicate (trade name; Tama Chemical Co., Ltd.) as Si alkoxide. The mixture was stirred, 96.40 g of acetylacetone was added, and 280.44 g of ethanol was further added, followed by stirring for 1 hour to obtain an alkoxide solution.
さらに、ビーカーBに、エタノール 396.54g 、水 34.02g 、および濃度60%の硝酸 0.07g を添加して1時間攪拌し、エタノール加水液を得た。
その後、ビーカーAを攪拌しながら、ビーカーBのエタノール加水液を加え、室温で3時間攪拌した。さらに室温で12時間静置し、塗布液(A)を得た。
Further, 396.54 g of ethanol, 34.02 g of water, and 0.07 g of nitric acid having a concentration of 60% were added to the beaker B and stirred for 1 hour to obtain an ethanol water solution.
Thereafter, while stirring the beaker A, the ethanol water solution of the beaker B was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Furthermore, it was left to stand at room temperature for 12 hours to obtain a coating solution (A).
以上の塗布液を、基板 Si-Wafer 、ガラス基板にそれぞれスピンコートにて塗布し、80℃の熱風乾燥機にて15分乾燥した後、250℃のマッフル炉にて30分焼成を行い、成膜した。得られた膜の膜厚、屈折率、膜硬度、耐酸性を測定した。耐酸性については、ガラス基板に成膜した膜を、濃度 0.028wt% の弗化水素溶液に 60秒浸漬して水洗した後に、膜厚を測定して評価を行った。 The above coating solution was applied to the substrate Si-Wafer and glass substrate by spin coating, dried for 15 minutes in a hot air dryer at 80 ° C, and then baked in a muffle furnace at 250 ° C for 30 minutes. Filmed. The film thickness, refractive index, film hardness, and acid resistance of the obtained film were measured. The acid resistance was evaluated by measuring the film thickness after the film formed on the glass substrate was immersed in a hydrogen fluoride solution having a concentration of 0.028 wt% for 60 seconds and washed with water.
以上の実施例および比較例の実験条件を表１に、実験結果を表２にまとめて示した。
本発明に係る無機絶縁膜形成用塗布液を用いて形成された無機絶縁膜は、低温で焼成しても、比較例に較べて高い硬度を持っており、また、耐酸性も高いことが示された。さらに、原料の成分比によって焼成後の膜の屈折率を調整することができることも示された。
The experimental conditions of the above examples and comparative examples are summarized in Table 1, and the experimental results are summarized in Table 2.
The inorganic insulating film formed using the coating liquid for forming an inorganic insulating film according to the present invention has higher hardness than that of the comparative example even when baked at a low temperature, and also shows high acid resistance. It was done. Furthermore, it was shown that the refractive index of the film after baking can be adjusted by the component ratio of the raw materials.
Claims (7)
焼成低温化剤として、硝酸を含むことを特徴とする、無機膜形成用塗布液。 A coating solution for forming an inorganic film containing a hydrolysis product of titanium alkoxide and a solvent,
A coating liquid for forming an inorganic film, characterized by containing nitric acid as a baking temperature reducing agent.
（式中の R1 はアルキル基、アルケニル基、アリール基であり、 R2 はアルキル基であり、且つ n は0、1、もしくは2である。） The coating solution for forming an inorganic film according to claim 1, comprising a silicon alkoxide represented by R 1 n Si (OR 2 ) 4-n .
(In the formula, R 1 is an alkyl group, an alkenyl group, or an aryl group, R 2 is an alkyl group, and n is 0, 1, or 2.)
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