JP2007062217A - Support for lithographic printing plate - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the support for a lithographic printing plate employing an aluminum alloy plate obtained by continuous casting, which is manufactured inexpensively in a short period of time, has a uniform surface appearance, and, at the same time, to which uniform electrolytic surface roughening is applied. <P>SOLUTION: This support for the lithographic printing plate is obtained by applying at least surface roughening including electrochemical surface roughening with a nitric acid-containing aqueous solution to the aluminum alloy plate, which includes 0.10-0.40 mass% of Fe, 0.03-0.12 mass% of Si, ≤0.003 mass% of Cu, 0.001-0.02 mass% of Ti and the remainder of Al and unavoidable impurities, is cast by the continuous casting and obtained by applying cold rolling, intermediate annealing ranging from 280°C to 490°C and finishing cold rolling in the order named, under the condition that the nitric acid concentration of the aqueous solution is set to be ≤10 g/L. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、連続鋳造法で鋳造したアルミニウム合金板を用いる平版印刷版用支持体に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate support using an aluminum alloy plate cast by a continuous casting method.

オフセット印刷に幅広く使用されている感光性平版印刷版原版は、一般に、板厚0.1〜0.5mmのアルミニウム合金板(圧延板)に、電気化学的粗面化処理等の各種表面処理を施して得られる平版印刷版用支持体を用いている。
アルミニウム合金板に用いられるアルミニウム材料としては、JIS1000系材料や、JIS3000系材料が用いられることが多い。アルミニウム材料の組成に関しては、アルミニウム純度が99.7質量%以上の材料を用いて電気化学的粗面化処理(電解粗面化処理)の均一性を確保するための提案が、本発明者によってなされている(特許文献1参照。)。また、アルミニウム材料の組成に加えて、電解粗面化処理の均一性を、アルミニウム合金板の製造工程における焼鈍条件を規定して向上させる方法についても、本発明者によって提案されている(例えば、特許文献2〜4参照。)。
Photosensitive lithographic printing plate precursors widely used for offset printing are generally subjected to various surface treatments such as electrochemical roughening treatment on aluminum alloy plates (rolled plates) with a thickness of 0.1 to 0.5 mm. A lithographic printing plate support obtained by application is used.
As an aluminum material used for the aluminum alloy plate, a JIS1000 material or a JIS3000 material is often used. Regarding the composition of the aluminum material, the present inventor proposed a method for ensuring the uniformity of the electrochemical surface roughening treatment (electrolytic surface roughening treatment) using a material having an aluminum purity of 99.7% by mass or more. (See Patent Document 1). In addition to the composition of the aluminum material, the present inventors have also proposed a method for improving the uniformity of the electrolytic surface roughening treatment by defining the annealing conditions in the production process of the aluminum alloy plate (for example, (See Patent Documents 2 to 4.)

アルミニウム合金板の製造方法としては、アルミニウム合金溶湯(以下「Al溶湯」ともいう。)を半連続鋳造法により鋳造したスラブを、均質化熱処理後、熱間圧延、冷間圧延および必要に応じて焼鈍を施してアルミニウム合金板を得る方法が一般に採用されている。これに対し、アルミニウム合金板を連続的に、より簡易な工程で製造することを目的として、駆動式の鋳型を用いてAl溶湯を直接板状に鋳造する連続鋳造法が種々提案されている。
そのような駆動鋳型を用いる連続鋳造法としては、例えば、ハズレー法に代表される一対のベルト状駆動鋳型を用いる方法や、ハンター法および3C法に代表される一対のロール状駆動鋳型を用いる方法が知られている。ハンター法は、一対の冷却ロールを鉛直方向から15°程度傾けて配置し、アルミニウム合金板を斜め上方に向かって鋳造する方法である。3C法は、一対の冷却ロールを鉛直に配置し、アルミニウム合金板を水平方向に向かって鋳造する方法である。
これらの駆動鋳型を用いる連続鋳造法は、設備をコンパクトにすることができ、投資コストが少ないという利点を有する。中でも、ロール状駆動鋳型を用いる方法がその点で優れている。
As a method for producing an aluminum alloy sheet, a slab obtained by casting a molten aluminum alloy (hereinafter also referred to as “Al molten metal”) by a semi-continuous casting method is subjected to homogenization heat treatment, hot rolling, cold rolling, and as necessary. A method for obtaining an aluminum alloy sheet by annealing is generally employed. On the other hand, various continuous casting methods have been proposed in which an aluminum alloy plate is directly cast into a plate shape using a driving mold for the purpose of continuously producing an aluminum alloy plate in a simpler process.
As a continuous casting method using such a driving mold, for example, a method using a pair of belt-shaped driving molds typified by the Husley method, or a method using a pair of roll-shaped driving molds typified by the Hunter method and the 3C method It has been known. The Hunter method is a method in which a pair of cooling rolls are disposed at an angle of about 15 ° from the vertical direction, and an aluminum alloy plate is cast obliquely upward. The 3C method is a method in which a pair of cooling rolls are arranged vertically and an aluminum alloy plate is cast in the horizontal direction.
The continuous casting method using these driving molds has the advantage that the equipment can be made compact and the investment cost is low. Among them, the method using a roll-shaped drive mold is excellent in that respect.

ロール状駆動鋳型を用いる方法においては、Al溶湯が溶湯供給ノズルを介して一対の冷却ロールの間に供給され、その冷却ロールによって、Al溶湯の凝固と圧延とが一つの工程で行われる。ロール状駆動鋳型を用いる方法は、具体的には、例えば、特許文献5〜10に記載されている。   In the method using a roll-shaped driving mold, molten Al is supplied between a pair of cooling rolls via a molten metal supply nozzle, and solidification and rolling of the molten Al are performed in one step by the cooling roll. Specifically, the method using a roll-shaped drive mold is described in, for example, Patent Documents 5 to 10.

特許第3148057号公報Japanese Patent No. 3148057 米国特許第5,711,827号明細書US Pat. No. 5,711,827 米国特許第5,779,824号明細書US Pat. No. 5,779,824 米国特許第5,525,168号明細書US Pat. No. 5,525,168 米国特許第2,790,216号明細書U.S. Pat. No. 2,790,216 カナダ国特許第619,491号明細書Canadian Patent 619,491 Specification 特公昭51−15968号公報Japanese Patent Publication No.51-15968 特開昭51−89827号公報JP 51-89827 A 特開昭58−209449号公報JP 58-209449 A 特開平1−215441号公報JP-A-1-215441

得られた鋳造板に対しては、薄くするための冷間圧延と、結晶組織を微細にするとともに強度を調整するための中間焼鈍とが行われる。
この中間焼鈍は、連続的に、短時間かつ高温で行うことが結晶粒微細化に有効であるが、中間焼鈍を連続的に行う装置(連続焼鈍炉)は、概して巨大で設備コストが高い。そのため、中間焼鈍装置を連続鋳造設備と組み合わせる場合は、その設備がコンパクトであり、投資コストが少ないという利点を活かすために、装置設備コストが低く、かつ、コンパクトなバッチ式の中間焼鈍装置(バッチ式焼鈍炉)を用いることが多い。
The obtained cast plate is subjected to cold rolling for making it thin and intermediate annealing for making the crystal structure fine and adjusting the strength.
This intermediate annealing is effective for refining crystal grains continuously and at a high temperature for a short time. However, an apparatus (continuous annealing furnace) for continuously performing the intermediate annealing is generally large and has high equipment costs. Therefore, when the intermediate annealing equipment is combined with continuous casting equipment, the equipment costs are low and the compact batch-type intermediate annealing equipment (batch) is used to take advantage of the compact equipment and low investment cost. In many cases, an annealing furnace is used.

しかしながら、バッチ式の中間焼鈍装置を用いると、結晶粒が粗大になりやすい。また、バッチ式の中間焼鈍装置は、電解粗面化処理の均一性に劣ることが知られている。
これに対し、本発明者は、中間焼鈍温度を高温にすることにより、電解粗面化処理の均一性を向上させる方法を提案しているが(特開平8−92709号公報参照。)、高温にするためには、多くの動熱費および高温に耐えるバッチ式の中間焼鈍装置が必要であり、必ずしもコストに関し最適ではない。
However, when a batch type intermediate annealing apparatus is used, the crystal grains tend to be coarse. Moreover, it is known that the batch type intermediate annealing apparatus is inferior in the uniformity of the electrolytic surface roughening treatment.
On the other hand, the present inventor has proposed a method for improving the uniformity of the electrolytic surface roughening treatment by increasing the intermediate annealing temperature (see JP-A-8-92709). In order to achieve this, a batch-type intermediate annealing apparatus that can withstand many dynamic heat costs and high temperatures is required, and is not necessarily optimal in terms of cost.

また、平版印刷版原版の製造方法としては、一般に、シート状またはコイル状のアルミニウム合金板の表面に粗面化処理および陽極酸化処理を施して、平版印刷版用支持体を得た後、この支持体上に感光液を塗布し乾操させて画像記録層を形成させ、必要に応じて所望のサイズに切りそろえる方法が知られている。この平版印刷版原版は、画像焼付け後、現像処理を施されて、平版印刷版とされる。   Further, as a method for producing a lithographic printing plate precursor, generally, a surface of a sheet-like or coil-like aluminum alloy plate is subjected to a roughening treatment and an anodizing treatment to obtain a lithographic printing plate support, There is known a method in which a photosensitive solution is applied on a support and dried to form an image recording layer, and if necessary, cut to a desired size. This lithographic printing plate precursor is subjected to a development process after image printing to form a lithographic printing plate.

この方法において、画像記録層と支持体との密着性を向上させるためには、酸性溶液中での電解粗面化処理が有効であり、また、陽極酸化処理後に表面処理や下塗液の塗布を行うことも有効である。
電解粗面化処理を含む粗面化処理を行う場合、支持体の表面に微小な凹凸(ピット)が生成する。従来、その径を均一でかつ大きくし、また、その深さを深くすることによって、画像部においては画像記録層と支持体との密着性が強固になり、数多くの枚数を印刷しても画像記録層がはく離したりせず、また、非画像部においては多くの湿し水を表面に保持することが可能となり、汚れが発生しにくく、印刷性に優れる平版印刷版原版が得られると考えられている。例えば、そのような観点から電解粗面化ピットの形状や均一性を改善することが有効である。
また、平版印刷版原版の露光現像されて非画像部となる部分は、粗面化処理および陽極酸化処理を施された支持体表面がそのまま露出するため、支持体表面の外観上の均一性も極めて重要となる。
In this method, in order to improve the adhesion between the image recording layer and the support, an electrolytic surface-roughening treatment in an acidic solution is effective, and after the anodizing treatment, a surface treatment or an undercoat solution is applied. It is also effective to do.
When the roughening treatment including the electrolytic roughening treatment is performed, minute irregularities (pits) are generated on the surface of the support. Conventionally, by making the diameter uniform and large, and by increasing the depth, the adhesion between the image recording layer and the support is strengthened in the image area. The recording layer does not peel off, and a large amount of fountain solution can be retained on the surface in the non-image area, so that a lithographic printing plate precursor excellent in printability can be obtained. It has been. For example, from such a viewpoint, it is effective to improve the shape and uniformity of the electrolytic roughening pits.
In addition, the surface of the lithographic printing plate precursor that is exposed and developed to become a non-image portion is exposed to the surface of the support that has been subjected to the roughening treatment and anodizing treatment, so that the uniformity of the appearance of the support surface is also provided. It becomes extremely important.

したがって、本発明は、連続鋳造法により得られたアルミニウム合金板を用いた平版印刷版用支持体であって、安価で短時間に製造することができ、表面の外観が均一であり、かつ、均一な電解粗面化処理が施されている平版印刷版用支持体を提供することを第1の目的とする。   Therefore, the present invention is a lithographic printing plate support using an aluminum alloy plate obtained by a continuous casting method, can be manufactured at a low cost in a short time, the surface appearance is uniform, and A first object is to provide a lithographic printing plate support that has been subjected to a uniform electrolytic surface-roughening treatment.

また、平版印刷版原版は、露光および現像を施されて平版印刷版とされた後、印刷機に取り付けて印刷に供されるが、昨今、露光、現像および印刷機への取り付けは自動的に行われることが多く、露光機と現像機との間および現像機と印刷機との間の搬送も自動で行われることが多い。その際、平版印刷版原版および平版印刷版の搬送が確実に行われることが必須条件となる。搬送が確実に行われないと、印刷の生産性に悪影響を及ぼす。   In addition, the lithographic printing plate precursor is subjected to exposure and development to form a lithographic printing plate, which is then attached to a printing machine and used for printing. Nowadays, exposure, development and attachment to a printing machine are automatically performed. In many cases, conveyance is performed automatically between the exposure machine and the developing machine and between the developing machine and the printing machine. At that time, it is an essential condition that the lithographic printing plate precursor and the lithographic printing plate are reliably conveyed. If transport is not performed reliably, printing productivity will be adversely affected.

また、平版印刷版原版は、通常、画像記録層を保護するために、合紙と呼ばれる紙を差し挟んで、積層された状態で保管されている。この平版印刷版原版を自動的に露光機に搬送するためには、合紙と平版印刷版原版とを確実に分離する必要があるが、この合紙の分離において不具合が生じることがまれにあり、印刷の生産性に悪影響を及ぼす。
具体的には、まず、平版印刷版原版の上にある合紙を、合紙吸着式の除去装置で吸着除去し、ついで、その下の平版印刷版原版を吸盤式の搬送装置で露光装置内に搬送するが、その際、平版印刷版原版の下にある次の合紙が一緒に搬送される不具合が起こりうるのである。これは、搬送時に平版印刷版原版の裏面と次の合紙との間に空気が入り込みにくい場合に、合紙が平版印刷版原版の裏面にくっついて搬送されるためである。
In addition, the planographic printing plate precursor is usually stored in a stacked state with paper called interleaving paper sandwiched between them in order to protect the image recording layer. In order to automatically transport the lithographic printing plate precursor to the exposure machine, it is necessary to reliably separate the slip sheet and the lithographic printing plate precursor. Adversely affect printing productivity.
Specifically, the slip sheet on the lithographic printing plate precursor is first removed by suction with a slip sheet adsorption-type removal device, and then the lithographic printing plate precursor below is placed in the exposure device with a suction cup type transport device. However, there is a possibility that the next slip sheet under the planographic printing plate precursor is transported together. This is because, when air is difficult to enter between the back side of the lithographic printing plate precursor and the next slip sheet during transport, the slip sheet is transported by adhering to the back surface of the lithographic printing plate precursor.

更に、アルミニウム合金板の製造を連続鋳造法で行う場合、従来のDC鋳造法および熱間圧延を行う方法に比べて、製造中の板の断面プロファイルの制御がやりにくいという不具合がある。板の断面プロファイルの制御が不十分となると、板の圧延方向に垂直な方向(以下「幅方向」ともいう。)の厚さの制御が不十分となり、その結果、アルミニウム合金板をニップロールで搬送する際に搬送不良の原因になる場合がある。   Further, when the aluminum alloy plate is manufactured by the continuous casting method, there is a problem that it is difficult to control the cross-sectional profile of the plate being manufactured, compared to the conventional DC casting method and hot rolling method. Insufficient control of the cross-sectional profile of the plate will result in insufficient control of the thickness in the direction perpendicular to the rolling direction of the plate (hereinafter also referred to as the “width direction”). As a result, the aluminum alloy plate is conveyed by nip rolls. May cause a conveyance failure.

また、DC鋳造法で得られたアルミニウム合金板を用いて平版印刷版原版を製造する既存の製造設備によって、連続鋳造法で得られたアルミニウム合金板を用いて平版印刷版原版を製造する場合、アルミニウム合金板の断面プロファイルが異なるため、搬送不良の原因になることがある。具体的には、DC鋳造法で得られたアルミニウム合金板は、幅方向の中央が厚いのに対し、連続鋳造法で得られたアルミニウム合金板は、幅方向に平坦であるか、幅方向の中央が薄いかであるため、ニップロールで搬送する際に搬送不良の原因になる場合があるのである。   In addition, when producing a lithographic printing plate precursor using an aluminum alloy plate obtained by a continuous casting method by an existing production facility for producing a lithographic printing plate precursor using an aluminum alloy plate obtained by a DC casting method, Since the cross-sectional profiles of the aluminum alloy plates are different, it may cause a conveyance failure. Specifically, the aluminum alloy plate obtained by the DC casting method has a thick center in the width direction, whereas the aluminum alloy plate obtained by the continuous casting method is flat in the width direction or in the width direction. Since the center is thin, it may cause a conveyance failure when conveyed by a nip roll.

したがって、本発明は、連続鋳造法により得られたアルミニウム合金板を用いた平版印刷版用支持体であって、平版印刷版原版や平版印刷版としたときに搬送性および合紙分離性に優れる平版印刷版用支持体を提供することを第2の目的とする。   Accordingly, the present invention is a lithographic printing plate support using an aluminum alloy plate obtained by a continuous casting method, and is excellent in transportability and interleaf separation when used as a lithographic printing plate precursor or a lithographic printing plate. A second object is to provide a lithographic printing plate support.

本発明者は、連続鋳造法で鋳造されるアルミニウム合金板について、組成を特定の範囲にし、中間焼鈍の温度を280〜490℃にし、更に、このアルミニウム合金板に粗面化処理を施す際に、硝酸濃度が10g/L以下の硝酸水溶液を用いて電気化学的粗面化処理を施すことにより、安価で短時間に製造することができ、表面の外観が均一であり、かつ、均一な電解粗面化処理が施されている平版印刷版用支持体が得られることを見出し、本発明の第1の態様の平版印刷版用支持体を完成させた。
また、本発明者は、連続鋳造法で鋳造されるアルミニウム合金板について、組成を特定の範囲にし、中間焼鈍の温度を280〜490℃にし、更に、このアルミニウム合金板に粗面化処理を施す際に、粗面化処理を施される面の反対側の面(即ち、裏面)に、アルミニウム溶解量1〜10g/m2のアルカリエッチング処理を施し、かつ、裏面の圧延方向および幅方向の平均表面粗さを特定の範囲にすることにより、平版印刷版原版や平版印刷版としたときに搬送性および合紙分離性に優れる平版印刷版用支持体が得られることを見出し、本発明の第2の態様の平版印刷版用支持体を完成させた。
The present inventor sets the composition of the aluminum alloy plate cast by the continuous casting method to a specific range, sets the temperature of the intermediate annealing to 280 to 490 ° C., and further applies a roughening treatment to the aluminum alloy plate. By applying an electrochemical surface roughening treatment using a nitric acid aqueous solution having a nitric acid concentration of 10 g / L or less, it can be manufactured at a low cost in a short time, and the surface appearance is uniform and uniform electrolysis. The inventors found that a lithographic printing plate support having been subjected to a roughening treatment was obtained, and completed the lithographic printing plate support of the first aspect of the present invention.
Further, the inventor sets the composition of the aluminum alloy plate cast by the continuous casting method to a specific range, sets the temperature of the intermediate annealing to 280 to 490 ° C., and further subjects the aluminum alloy plate to a roughening treatment. In this case, the surface opposite to the surface subjected to the roughening treatment (that is, the back surface) is subjected to an alkali etching treatment with an aluminum dissolution amount of 1 to 10 g / m 2 , and in the rolling direction and the width direction of the back surface. By making the average surface roughness within a specific range, it has been found that a lithographic printing plate support having excellent transportability and interleaf separation when obtained as a lithographic printing plate precursor or a lithographic printing plate can be obtained. The lithographic printing plate support of the second aspect was completed.

即ち、本発明は、以下の(1)〜(5)を提供する。
(1)Fe:0.10〜0.40質量%、Si:0.03〜0.12質量%、Cu:0.003質量%以下、Ti:0.001〜0.02質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物とからなり、連続鋳造法で鋳造され、冷間圧延と、温度280〜490℃の中間焼鈍と、仕上げ冷間圧延とをこの順に行って得られるアルミニウム合金板に、少なくとも、硝酸を含有する水溶液を用いた電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理を施して得られる平版印刷版用支持体であって、
前記水溶液の硝酸濃度が10g/L以下である、平版印刷版用支持体(本発明の第1の態様の平版印刷版用支持体)。
(2)前記アルミニウム合金板が、Fe:0.10〜0.20質量%、Si:0.03〜0.06質量%、Cu:0.003質量%以下、Ti:0.001〜0.02質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物とからなる、上記(1)に記載の平版印刷版用支持体。
(3)前記アルミニウム合金板が、Fe:0.24〜0.36質量%、Si:0.06〜0.10質量%、Cu:0.003質量%以下、Ti:0.001〜0.02質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物とからなる、上記(1)に記載の平版印刷版用支持体。
(4)Fe:0.10〜0.40質量%、Si:0.03〜0.12質量%、Cu:0.003質量%以下、Ti:0.001〜0.02質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物とからなり、連続鋳造法で鋳造され、冷間圧延と、温度280〜490℃の中間焼鈍と、仕上げ冷間圧延とをこの順に行って得られるアルミニウム合金板に、少なくとも、粗面化処理を施して得られる平版印刷版用支持体であって、
前記アルミニウム合金板の前記粗面化処理を施される面の反対側の面が、アルミニウム溶解量1〜10g/m2のアルカリエッチング処理を施されており、かつ、圧延方向の平均表面粗さRaが0.15〜0.35であり、圧延方向に垂直な方向の平均表面粗さRaが0.20〜0.40である、平版印刷版用支持体(本発明の第2の態様の平版印刷版用支持体)。
(5)前記アルミニウム合金板の前記粗面化処理を施される面の反対側の面において、圧延方向に垂直な方向に、ほぼ等間隔の複数の凸条が形成されており、前記複数の凸条の間隔が3〜10mmの範囲である、上記(4)に記載の平版印刷版用支持体。
That is, the present invention provides the following (1) to (5).
(1) Fe: 0.10 to 0.40 mass%, Si: 0.03 to 0.12 mass%, Cu: 0.003 mass% or less, Ti: 0.001 to 0.02 mass% The balance is made of Al and unavoidable impurities, and is cast by a continuous casting method.In the aluminum alloy plate obtained by performing cold rolling, intermediate annealing at a temperature of 280 to 490 ° C., and finish cold rolling in this order, At least a support for a lithographic printing plate obtained by performing a surface roughening treatment including an electrochemical surface roughening treatment using an aqueous solution containing nitric acid,
A lithographic printing plate support (the lithographic printing plate support according to the first aspect of the present invention), wherein the aqueous solution has a nitric acid concentration of 10 g / L or less.
(2) The said aluminum alloy plate is Fe: 0.10-0.20 mass%, Si: 0.03-0.06 mass%, Cu: 0.003 mass% or less, Ti: 0.001-0. The lithographic printing plate support according to (1) above, comprising 02% by mass, the balance comprising Al and inevitable impurities.
(3) The said aluminum alloy plate is Fe: 0.24-0.36 mass%, Si: 0.06-0.10 mass%, Cu: 0.003 mass% or less, Ti: 0.001-0. The lithographic printing plate support according to (1) above, comprising 02% by mass, the balance comprising Al and inevitable impurities.
(4) Fe: 0.10-0.40 mass%, Si: 0.03-0.12 mass%, Cu: 0.003% or less, Ti: 0.001-0.02 mass% The balance is made of Al and unavoidable impurities, and is cast by a continuous casting method.In the aluminum alloy plate obtained by performing cold rolling, intermediate annealing at a temperature of 280 to 490 ° C., and finish cold rolling in this order, At least a support for a lithographic printing plate obtained by subjecting to a roughening treatment,
The surface of the aluminum alloy plate opposite to the surface subjected to the roughening treatment is subjected to an alkali etching treatment with an aluminum dissolution amount of 1 to 10 g / m 2 and an average surface roughness in the rolling direction. R a is 0.15 to 0.35, an average surface roughness in the direction perpendicular to the rolling direction R a is 0.20 to 0.40, the lithographic printing plate support (second of the present invention A support for a lithographic printing plate of an embodiment).
(5) On the surface of the aluminum alloy plate opposite to the surface subjected to the roughening treatment, a plurality of ridges having substantially equal intervals are formed in a direction perpendicular to the rolling direction. The support for a lithographic printing plate as described in (4) above, wherein the interval between the ridges is in the range of 3 to 10 mm.

本発明の第1の態様の平版印刷版用支持体は、連続鋳造法により得られたアルミニウム合金板を用いた平版印刷版用支持体であって、安価で短時間に製造することができ、表面の外観が均一であり、かつ、均一な電解粗面化処理が施されている。
また、本発明の第2の態様の平版印刷版用支持体は、連続鋳造法により得られたアルミニウム合金板を用いた平版印刷版用支持体であって、平版印刷版原版や平版印刷版としたときに搬送性および合紙分離性に優れる。
The lithographic printing plate support according to the first aspect of the present invention is a lithographic printing plate support using an aluminum alloy plate obtained by a continuous casting method, and can be produced at low cost in a short time. The surface appearance is uniform, and a uniform electrolytic surface roughening treatment is applied.
The lithographic printing plate support according to the second aspect of the present invention is a lithographic printing plate support using an aluminum alloy plate obtained by a continuous casting method, and includes a lithographic printing plate precursor and a lithographic printing plate. It has excellent transportability and interleaf separation.

以下、本発明の第1の態様の平版印刷版用支持体および第2の態様の平版印刷版用支持体(以下、両者を合わせて「本発明の平版印刷版用支持体」ともいう。)を詳細に説明する。本発明においては、第1の態様および第2の態様のいずれにも該当する平版印刷版用支持体が好ましい。   Hereinafter, the lithographic printing plate support according to the first aspect of the present invention and the lithographic printing plate support according to the second aspect (hereinafter, both are also referred to as the “lithographic printing plate support according to the present invention”). Will be described in detail. In the present invention, a support for a lithographic printing plate corresponding to both the first aspect and the second aspect is preferable.

[平版印刷版用支持体]
<アルミニウム合金板>
本発明の平版印刷版用支持体に用いられるアルミニウム合金板(以下、単に「アルミニウム板」ともいう。)は、Fe:0.10〜0.40質量%、Si:0.03〜0.12質量%、Cu:0.003質量%以下、Ti:0.001〜0.02質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物とからなり、連続鋳造法で鋳造され、冷間圧延と、温度280〜490℃の中間焼鈍と、冷間圧延とをこの順に行って得られるアルミニウム合金板である。
[Support for lithographic printing plate]
<Aluminum alloy plate>
The aluminum alloy plate (hereinafter also simply referred to as “aluminum plate”) used for the lithographic printing plate support of the present invention is Fe: 0.10 to 0.40 mass%, Si: 0.03 to 0.12. Cu: 0.003% by mass or less, Cu: 0.001 to 0.02% by mass, the balance is made of Al and inevitable impurities, cast by a continuous casting method, cold rolling, temperature It is an aluminum alloy plate obtained by performing intermediate annealing at 280 to 490 ° C. and cold rolling in this order.

<組成>
Siは、原材料であるAl地金に不可避不純物として0.03〜0.1質量%前後含有される元素であり、原材料差によるばらつきを防ぐため、意図的に微量添加されることが多い。Siは、アルミニウム中に固溶した状態で、または、金属間化合物もしくは単独の析出物として存在する。
本発明においては、Si量は、0.03〜0.12質量%である。
<Composition>
Si is an element contained as an inevitable impurity in an Al ingot, which is a raw material, in an amount of about 0.03 to 0.1% by mass, and is often intentionally added in a small amount to prevent variation due to a difference in raw materials. Si exists as a solid solution in aluminum, or as an intermetallic compound or a single precipitate.
In the present invention, the amount of Si is 0.03 to 0.12% by mass.

Feは、アルミニウム合金の機械的強度を高める作用があり、支持体の強度に大きな影響を与える。特に、耐熱軟化性を向上させる効果が大きいため、意図的に添加されるのが好ましい。
Fe含有量が少なすぎると、機械的強度が低すぎて、平版印刷版を印刷機の版胴に取り付ける際に、版切れを起こしやすくなる。また、高速で大部数の印刷を行う際にも、同様に版切れを起こしやすくなる。一方、Fe含有量が多すぎると、必要以上に高強度となり、平版印刷版を印刷機の版胴に取り付ける際に、フィットネス性に劣り、印刷中に版切れを起こしやすくなる。また、Feの含有量が、多すぎると圧延途中に割れが生じやすくなる。
Feは、アルミニウム中に固溶する量は少なく、ほとんどが金属間化合物として存在する。
本発明においては、Fe量は、0.10〜0.40質量%である。
Fe has an effect of increasing the mechanical strength of the aluminum alloy, and greatly affects the strength of the support. In particular, it is preferably added intentionally because it has a great effect of improving heat-softening resistance.
If the Fe content is too small, the mechanical strength is too low, and it becomes easy to cause plate breakage when a lithographic printing plate is attached to a plate cylinder of a printing press. Further, when printing a large number of copies at high speed, the plate is likely to be cut out similarly. On the other hand, when the Fe content is too high, the strength becomes higher than necessary, and when the lithographic printing plate is attached to the plate cylinder of a printing press, the fitness is inferior, and the plate is easily cut during printing. Moreover, when there is too much content of Fe, it will become easy to produce a crack in the middle of rolling.
Fe has a small amount of solid solution in aluminum, and most of it exists as an intermetallic compound.
In the present invention, the amount of Fe is 0.10 to 0.40 mass%.

本発明に用いられるアルミニウム合金板においては、Fe:0.10〜0.40質量%、Si:0.03〜0.12質量%であるが、中でも、Fe:0.10〜0.20質量%、Si:0.03〜0.06質量%である組み合わせ、および、Fe:0.24〜0.36質量%、Si:0.06〜0.10質量%である組み合わせが好ましい。
Fe量およびSi量の組み合わせが上記二つの組み合わせのいずれかにあると、電解粗面化処理が均一に行われる。特に、FeとSiの質量比(Fe/Si)が3〜4の範囲にあるのが好ましい。その理由は明らかではないが、FeとSiとは互いに金属間化合物になることがあり、特に連続鋳造法で製造した場合、FeとSiの化合物(例えば、α−AlFeSi、β−AlFeSi)が生成しやすいため、相対的に固溶するFeおよびSiの量が増減することが原因と考えられる。特に、FeとSiの化合物が増えることで、固溶Si量が減少し、その結果、特に硝酸を含有する水溶液を用いた電気化学的粗面化処理の際に、ピット生成電位が低下し、表面のピット形成開始点が過剰に増え、隣接するピット同士が一体化し、独立した略半球状のピット形成が困難になると考えられる。Feについても同様に、添加量に応じて一部が前述のSiとの化合物を形成し、残りはAl中に固溶して、または金属間化合物として存在する。Feの固溶量が少ないと、Siと同様に電解粗面化処理の均一性が低下する。Feの量が0.10〜0.20質量%の領域および0.24〜0.36質量%の二つの領域において好ましい理由も明確ではないが、総添加量に応じて増減するFe固溶量がこれら二つの領域において、前述のSiの固溶量と相俟って、電解粗面化処理の均一性を向上させる効果を奏するものと考えられる。電解粗面化処理の均一性を向上させることで、面質も良好なものとすることができる。
In the aluminum alloy plate used in the present invention, Fe: 0.10 to 0.40 mass%, Si: 0.03 to 0.12 mass%, and among them, Fe: 0.10 to 0.20 mass% %, Si: 0.03-0.06% by mass, and Fe: 0.24-0.36% by mass, Si: 0.06-0.10% by mass.
When the combination of the amount of Fe and the amount of Si is one of the above two combinations, the electrolytic surface roughening treatment is performed uniformly. In particular, the mass ratio of Fe to Si (Fe / Si) is preferably in the range of 3-4. The reason for this is not clear, but Fe and Si may become intermetallic compounds. In particular, when manufactured by a continuous casting method, a compound of Fe and Si (for example, α-AlFeSi, β-AlFeSi) is formed. This is considered to be caused by an increase or decrease in the amount of Fe and Si that dissolve relatively. In particular, as the amount of Fe and Si compounds increases, the amount of dissolved Si decreases, and as a result, the pit generation potential decreases, particularly during electrochemical surface roughening using an aqueous solution containing nitric acid, It is considered that the pit formation start points on the surface are excessively increased, adjacent pits are integrated, and it becomes difficult to form independent substantially hemispherical pits. Similarly, part of Fe forms a compound with the above-mentioned Si according to the addition amount, and the rest exists as a solid solution in Al or as an intermetallic compound. When the solid solution amount of Fe is small, the uniformity of the electrolytic surface roughening treatment is lowered as in the case of Si. The reason why it is preferable in the region where the amount of Fe is 0.10 to 0.20% by mass and two regions of 0.24 to 0.36% by mass is not clear, but the amount of Fe solid solution that increases or decreases depending on the total amount added However, it is considered that in these two regions, combined with the above-described solid solution amount of Si, there is an effect of improving the uniformity of the electrolytic surface roughening treatment. The surface quality can be improved by improving the uniformity of the electrolytic surface roughening treatment.

Cuは、電解粗面化処理を制御するうえで重要な元素である。Cuは極めて固溶しやすい元素で、一部が金属間化合物になる。
本発明においては、電解粗面化処理時に小さく均一なピットを生成するのが好ましいので、Cuを0.003質量%以下とする。
Cu量の下限は、特に限定されないが、高純度のAl地金は高価であるので、Al地金のコストの点からは、0.0001質量%以上であるのが好ましい。
Cu is an important element in controlling the electrolytic surface roughening treatment. Cu is an element that is very easily dissolved, and part of it is an intermetallic compound.
In the present invention, it is preferable to produce small and uniform pits during the electrolytic surface roughening treatment, so Cu is made 0.003 mass% or less.
The lower limit of the amount of Cu is not particularly limited, but high-purity Al ingots are expensive. From the viewpoint of the cost of Al ingots, 0.0001% by mass or more is preferable.

アルミニウム合金板は、鋳造時の割れ発生防止のために、結晶粒を微細化する元素であるTiを0.001〜0.02質量%含有する。
また、Bは結晶粒微細化材としてTiとの化合物として添加するのが好ましいので、アルミニウム合金板はBを0.0002〜0.005質量%の範囲で含有することができる。Bは電解粗面化性に影響を与えない。
The aluminum alloy plate contains 0.001 to 0.02% by mass of Ti, which is an element for refining crystal grains, in order to prevent cracking during casting.
Further, since B is preferably added as a compound with Ti as a crystal grain refining material, the aluminum alloy plate can contain B in a range of 0.0002 to 0.005 mass%. B does not affect the electrolytic roughening property.

TiおよびBは、それぞれ別個に添加しても結晶粒を微細化する効果があるが、特にTiおよびBの化合物であるTiB2は結晶成長の核になるため、TiB2粒子が多く存在すると、結晶の核が多く生成し、結果として微細な結晶が数多く存在するようになるので、平版印刷版用支持体にする際の表面処理において、粗大な結晶粒に起因する表面処理ムラの発生を抑制することができる。したがって、TiB2を添加するのが好ましい。TiB2を含む母合金としては、例えば、Ti(5質量%)−B(1質量%)、残部はAlと不可避不純物とからなるワイヤ状の母合金が代表的に挙げられる。 Even if Ti and B are added separately, there is an effect of refining the crystal grains. However, TiB 2 which is a compound of Ti and B becomes a nucleus of crystal growth, so when there are many TiB 2 particles, Since many crystal nuclei are formed and many fine crystals are present as a result, surface treatment unevenness caused by coarse crystal grains is suppressed in surface treatment when making a lithographic printing plate support. can do. Therefore, it is preferable to add TiB 2 . The mother alloy containing TiB 2, for example, Ti (5 wt%) - B (1 wt%), the balance wire-like mother alloy consisting of Al and unavoidable impurities and the like typically.

TiB2は、単独では、通常、1〜2μmの極めて小さい粒子であるが、凝集して100μm以上の粗大粒子になる場合があり、その場合には、その粗大粒子が表面処理ムラの原因になるので、後述するろ過工程および/または供給工程において、かくはん手段を設けるのが好ましい。 TiB 2 alone is usually very small particles of 1 to 2 μm, but sometimes aggregates to become coarse particles of 100 μm or more, and in that case, the coarse particles cause surface treatment unevenness. Therefore, it is preferable to provide a stirring means in the filtration step and / or the supply step described later.

アルミニウム合金板の残部は、Alおよび不可避不純物からなる。不可避不純物としては、例えば、Mg、Mn、Zn、Cr、Zr、V、Zn、Beが挙げられる。これらはそれぞれ0.05質量%以下の範囲で含有することができる。
不可避不純物の大部分は、Al地金中に含有される。不可避不純物は、例えば、Al純度99.7質量%の地金に含有されるものであれば、本発明の効果を損なわない。不可避不純物については、例えば、L.F.Mondolfo著「Aluminum Alloys:Structurand properties」(1976年)等に記載されている量の不純物が含有されていてもよい。
The balance of the aluminum alloy plate is made of Al and inevitable impurities. Examples of inevitable impurities include Mg, Mn, Zn, Cr, Zr, V, Zn, and Be. These can each be contained in a range of 0.05% by mass or less.
Most of the inevitable impurities are contained in the Al ingot. If the inevitable impurities are contained in, for example, a metal having an Al purity of 99.7% by mass, the effects of the present invention are not impaired. For inevitable impurities, see, for example, F. The amount of impurities described in Mondolfo's “Aluminum Alloys: Structure properties” (1976) and the like may be contained.

<連続鋳造>
本発明に用いられる上述した成分を含有するアルミニウム合金板は、上述した成分を含有するAl溶湯から、連続鋳造法で鋳造される。
連続鋳造法としては、双ロール法(ハンター法)、3C法に代表される冷却ロールを用いる方法、双ベルト法(ハズレー法)、アルスイスキャスターII型に代表される冷却ベルトや冷却ブロックを用いる方法が、工業的に行われている。連続鋳造法を用いる場合には、冷却速度が100〜1000℃/秒の範囲で凝固する。連続鋳造法は、一般的には、DC鋳造法に比べて冷却速度が速いため、アルミニウムマトリックスに対する合金成分の固溶度を高くすることができる。
連続鋳造法に関しては、本願出願人によって提案された技術が、特開平3−79798号、特開平5−201166号、特開平5−156414号、特開平6−262203号、特開平6−122949号、特開平6−210406号、特開平6−26308号の各公報等に記載されている。本発明においては、これらの方法を用いることができる。
<Continuous casting>
The aluminum alloy plate containing the above-described components used in the present invention is cast from a molten Al containing the above-described components by a continuous casting method.
As the continuous casting method, a twin roll method (hunter method), a method using a cooling roll typified by the 3C method, a twin belt method (Hazley method), a cooling belt or a cooling block typified by Al-Swiss Caster II type is used. The method is carried out industrially. When the continuous casting method is used, it solidifies at a cooling rate of 100 to 1000 ° C./second. Since the continuous casting method generally has a higher cooling rate than the DC casting method, the solid solubility of the alloy components in the aluminum matrix can be increased.
Regarding the continuous casting method, the techniques proposed by the applicant of the present application are disclosed in JP-A-3-79798, JP-A-5-201166, JP-A-5-156414, JP-A-6-262203, and JP-A-6-122949. JP-A-6-210406 and JP-A-6-26308. In the present invention, these methods can be used.

連続鋳造を行った場合において、例えば、ハンター法等の冷却ロールを用いる方法を用いると、板厚1〜10mmの鋳造板を直接、連続鋳造することができ、熱間圧延の工程を省略することができるというメリットが得られる。また、ハズレー法等の冷却ベルトを用いる方法を用いると、板厚10〜50mmの鋳造板を鋳造することができ、一般的に、鋳造直後に熱間圧延ロールを配置し連続的に圧延することで、板厚1〜10mmの連続鋳造圧延板が得られる。   When continuous casting is performed, for example, if a method using a cooling roll such as a Hunter method is used, a cast plate having a thickness of 1 to 10 mm can be directly cast continuously, and the hot rolling step is omitted. The advantage of being able to In addition, when a method using a cooling belt such as the Husley method is used, a cast plate having a thickness of 10 to 50 mm can be cast. Generally, a hot rolling roll is arranged immediately after casting and continuously rolled. Thus, a continuous cast and rolled plate having a thickness of 1 to 10 mm is obtained.

以下、連続鋳造法の一例として、Al溶湯を溶湯供給ノズルを介して一対の冷却ロールの間に供給し、前記一対の冷却ロールによって前記アルミニウム合金溶湯を凝固させつつ圧延を行ってアルミニウム合金板を形成させる方法を挙げて、具体的に説明する。   Hereinafter, as an example of the continuous casting method, molten aluminum is supplied between a pair of cooling rolls via a molten metal supply nozzle, and the aluminum alloy sheet is rolled by solidifying the molten aluminum alloy by the pair of cooling rolls. A specific description will be given by taking a method of forming.

<清浄化処理工程>
連続鋳造工程の前には、上述した成分を含有するように調製されたAl溶湯に、清浄化処理を施すことができる。清浄化処理としては、例えば、Al溶湯中の水素等の不要ガスを除去するために、フラックス処理、アルゴンガス、塩素ガス等を用いる脱ガス処理が挙げられる。清浄化処理は、常法に従って行うことができる。
清浄化処理は、必須ではないが、Al溶湯中の非金属介在物、酸化物等の異物による欠陥や、Al溶湯に溶け込んだガスによる欠陥を防ぐために実施されることが好ましい。
<Cleaning process>
Prior to the continuous casting step, the Al molten metal prepared to contain the above-described components can be subjected to a cleaning treatment. Examples of the cleaning treatment include flux treatment, degassing treatment using argon gas, chlorine gas, etc. in order to remove unnecessary gas such as hydrogen in the molten Al. The cleaning treatment can be performed according to a conventional method.
The cleaning treatment is not essential, but is preferably performed to prevent defects due to foreign matters such as non-metallic inclusions and oxides in the molten Al and defects due to gas dissolved in the molten Al.

溶湯のフィルタリングに関しては、特開平6−57432号、特開平3−162530号、特開平5−140659号、特開平4−231425号、特開平4−276031号、特開平5−311261号および特開平6−136466号の各公報等に記載されている。また、溶湯の脱ガスに関しては、特開平5−51659号公報、実開平5−49148号公報等に記載されている。本願出願人も、特開平7−40017号公報において、溶湯の脱ガスに関する技術を提案している。本発明においては、これらの方法を用いることができる。   Regarding filtering of the molten metal, JP-A-6-57432, JP-A-3-162530, JP-A-5-140659, JP-A-4-231425, JP-A-4-276031, JP-A-5-312661 and JP-A-5-311261 are disclosed. 6-136466 and the like. Further, the degassing of the molten metal is described in JP-A-5-51659, Japanese Utility Model Laid-Open No. 5-49148, and the like. The applicant of the present application has also proposed a technique relating to degassing of molten metal in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-40017. In the present invention, these methods can be used.

<結晶粒微細化工程>
Tiおよび/またはBは、溶解炉で溶解させることもできるが、TiB2を含む母合金を溶解炉より下流の流路で添加するのが好ましい。
<Crystal grain refinement process>
Ti and / or B can be dissolved in a melting furnace, but it is preferable to add a master alloy containing TiB 2 in a flow path downstream from the melting furnace.

<ろ過工程>
連続鋳造工程の前には、前記Al溶湯をフィルタ槽を用いてろ過するろ過工程を行うのが好ましい。これにより、Al溶湯中に混入した不純物や、溶解炉、溶湯流路等の中に残っていたコンタミ等を除去することができる。また、上述したTiB2の粗大粒子の流出を抑制することもできる。そのためには、TiB2をAl溶湯に添加する位置より、下流にフィルタ槽を配置するのが好ましい。
ろ過工程およびそれに用いられるフィルタ槽については、特許第3549080号公報に記載されているものが好ましい。
<Filtration process>
Prior to the continuous casting step, it is preferable to perform a filtration step of filtering the molten Al using a filter tank. Thereby, impurities mixed in the Al molten metal, contaminants remaining in the melting furnace, the molten metal flow path, and the like can be removed. Moreover, the outflow of the coarse particles of TiB 2 described above can also be suppressed. For this purpose, it is preferable to dispose the filter tank downstream from the position where TiB 2 is added to the molten Al.
About a filtration process and the filter tank used for it, what is described in patent 3549080 is preferable.

<供給工程>
本発明においては、ろ過工程後の前記アルミニウム合金溶湯を、前記フィルタ槽から流路を経由して前記溶湯供給ノズルに供給する供給工程を行い、供給工程において、前記流路の底面に形成された凹部に設けられたかくはん手段が、前記アルミニウム合金溶湯をかくはんするのが好ましい。これにより、TiB2の粗大粒子が、ろ過工程を通過した後、溶湯のよどみ部で再度凝集するのが防止される。
<Supply process>
In the present invention, a supply step of supplying the molten aluminum alloy after the filtration step to the molten metal supply nozzle from the filter tank via the flow channel is performed, and the supply step is formed on the bottom surface of the flow channel. It is preferable that the stirring means provided in the recess stir the molten aluminum alloy. This prevents the coarse particles of TiB 2 from aggregating again at the stagnation part of the molten metal after passing through the filtration step.

<溶湯供給ノズル>
溶湯供給ノズルから吐出されたAl溶湯は冷却ロール表面に接し、凝固を開始する。ここで、Al溶湯が溶湯供給ノズルの先端部から冷却ロール表面まで移動する際に、Al溶湯のメニスカスが形成される。このメニスカスが振動すると、冷却ロールへの接触点が振動することになり、その結果、凝固履歴が異なる部分が表面に生じ、結晶組織の不均一および微量元素の偏析が起こりやすくなる。この故障をリップルマークと呼び、冷間圧延、中間焼鈍および仕上げ冷間圧延を受けた後、平版印刷版用支持体として表面処理を行う際、表面処理ムラの原因になりやすい。
これに対し、ノズルの先端部を、少なくとも前記先端部下側の外側面の角度が前記溶湯の吐出方向に対して鋭角になっていると、Al溶湯がノズルの先端部から離脱する位置が1箇所に安定しやすく、リップルマークを軽減することができるので好ましい。例えば、特開平10−58094号公報に記載されている方法を好適に使用することができる。
<Melting nozzle>
The Al molten metal discharged from the molten metal supply nozzle comes into contact with the surface of the cooling roll and starts to solidify. Here, when the molten Al moves from the tip of the molten metal supply nozzle to the surface of the cooling roll, a meniscus of the molten Al is formed. When this meniscus vibrates, the contact point with the cooling roll vibrates, and as a result, a portion having a different solidification history is generated on the surface, and the crystal structure is uneven and segregation of trace elements is likely to occur. This failure is called a ripple mark, and when subjected to cold rolling, intermediate annealing and finish cold rolling, surface treatment as a lithographic printing plate support tends to cause surface treatment unevenness.
On the other hand, when the tip end of the nozzle has an acute angle with respect to the discharge direction of the molten metal, at least one position where the Al molten metal detaches from the tip of the nozzle. It is preferable because the ripple mark can be reduced. For example, the method described in JP-A-10-58094 can be preferably used.

また、メニスカスが振動した際の振幅を小さくするため、ノズルの先端部と冷却ロール表面との距離を小さくするのが好ましい。そのため、理想的には、上述した下側(好ましくは下側および上側)の外側面の角度が前記溶湯の吐出方向に対して鋭角になっているノズルの先端部と冷却ロール表面とが常に接触している状態が好ましい。
具体的には、例えば、前記溶湯供給ノズルを構成する部材のうち、前記Al溶湯に上面から接触する上板部材と、前記Al溶湯に下面から接触する下板部材とが、それぞれ上下方向に可動であり、前記上板部材および前記下板部材が、それぞれ、前記Al溶湯の圧力によって加圧され、隣接する前記冷却ロールの表面に押しつけられる態様が好適に挙げられる。例えば、特開2000−117402号公報に記載されている態様を好適に使用することができる。
これにより、溶湯供給ノズルの先端部と冷却ロールとが常に接し、その結果、溶湯メニスカス部の形状が一定状態で維持されるため、リップルマーク等の外観故障がより抑制された平版印刷版用支持体を得ることができる。
In order to reduce the amplitude when the meniscus vibrates, it is preferable to reduce the distance between the tip of the nozzle and the surface of the cooling roll. Therefore, ideally, the tip of the nozzle and the surface of the cooling roll are always in contact with each other, the angle of the lower (preferably lower and upper) outer surfaces described above being acute with respect to the discharge direction of the molten metal. The state which is carrying out is preferable.
Specifically, for example, among the members constituting the molten metal supply nozzle, the upper plate member that comes into contact with the Al molten metal from the upper surface and the lower plate member that comes into contact with the Al molten metal from the lower surface are respectively movable in the vertical direction. Preferably, an embodiment in which the upper plate member and the lower plate member are respectively pressed by the pressure of the Al molten metal and pressed against the surface of the adjacent cooling roll is preferable. For example, the mode described in JP 2000-117402 A can be suitably used.
As a result, the tip of the molten metal supply nozzle is always in contact with the cooling roll, and as a result, the shape of the molten metal meniscus is maintained in a constant state. You can get a body.

このようにAl溶湯のメニスカスを安定化させたとしても、溶湯供給ノズル内でのAl溶湯の流れが不均一であれば、連続鋳造されたアルミニウム合金板も不均一になりやすい。そのため、溶湯供給ノズル内での溶湯の流れを均一にする必要があるが、一対の冷却ロール同士の隙間が数mmから10mm程度と極めて小さいため、そこに溶湯を供給するノズルも極めて薄い構造になり、ノズル内部のAl溶湯が通過するスペースも狭くなる。したがって、ノズル内部でのAl溶湯の滞りは直ちにAl溶湯の流れの不均一につながる。
ノズル内部でのAl溶湯の滞り防止のためには、前溶湯供給ノズルが、そのAl溶湯に接する内面に、あらかじめ、メジアン径が5〜20μmであり、モード径が4〜12μmである粒度分布の骨材粒子を含む離型剤を塗布されているのが好ましい。Al溶湯の滞りを起こしにくい離型剤としては、例えば、酸化亜鉛、窒化ボロン(BN)等を骨材に用いる離型剤が挙げられる。中でも、窒化ボロンを骨材に用いる離型剤が好ましい。例えば、特開平11−192537号公報に記載されている方法を好適に使用することができる。
Even if the meniscus of the molten Al is stabilized in this way, if the flow of the molten Al in the molten metal supply nozzle is not uniform, the continuously cast aluminum alloy plate tends to be nonuniform. Therefore, it is necessary to make the molten metal flow uniform in the molten metal supply nozzle. However, since the gap between the pair of cooling rolls is as small as several mm to 10 mm, the nozzle that supplies the molten metal to the thin nozzle also has a very thin structure. Thus, the space through which the molten Al inside the nozzle passes is also narrowed. Therefore, the stagnation of the Al molten metal in the nozzle immediately leads to non-uniform Al molten metal flow.
In order to prevent stagnation of the Al melt inside the nozzle, the pre-melt supply nozzle has a median diameter of 5 to 20 μm and a mode diameter of 4 to 12 μm in advance on the inner surface in contact with the Al melt. It is preferable to apply a release agent containing aggregate particles. Examples of the release agent that does not easily cause stagnation of the molten Al include a release agent that uses zinc oxide, boron nitride (BN), or the like as an aggregate. Among these, a release agent using boron nitride as an aggregate is preferable. For example, the method described in JP-A-11-192537 can be preferably used.

<冷却ロール>
冷却ロールは、特に限定されず、例えば、鉄製のコア・シェル構造の冷却ロール等の従来公知のものを使用することができる。コア・シェル構造の冷却ロールを用いる場合、コア・シェル間に設けた流路中に冷却水を通水することで、冷却ロール表面の冷却能を高めることができる。また、凝固させたアルミニウムに更に圧下を加えることでアルミニウム合金板の厚さを所望の厚さに精度よく揃えることができる。
冷却ロール表面で凝固したアルミニウムはそのままでは、冷却ロールに固着しやすく、連続的に安定して鋳造することが容易でない場合がある。そこで、本発明においては、前記一対の冷却ロールが、その表面に、離型剤を塗布されるのが好ましい。離型剤としては、耐熱性に優れるものが好ましく、例えば、カーボングラファイトを含有するものが好適に挙げられる。塗布の方法は、特に限定されないが、例えば、カーボングラファイト粒子の懸濁液(好ましくは水懸濁液)をスプレー塗布する方法が好適に挙げられる。スプレー塗布は、冷却ロールに非接触で離型剤を供給することが可能な点で好ましい。
<Cooling roll>
A cooling roll is not specifically limited, For example, conventionally well-known things, such as a cooling roll of iron core-shell structure, can be used. When using a core-shell structured cooling roll, the cooling capacity of the surface of the cooling roll can be increased by passing cooling water through a channel provided between the core and shell. Further, by further reducing the solidified aluminum, the thickness of the aluminum alloy plate can be accurately adjusted to a desired thickness.
If the aluminum solidified on the surface of the chill roll is left as it is, it may be easily fixed to the chill roll, and it may not be easy to cast stably and continuously. Therefore, in the present invention, it is preferable that a release agent is applied to the surface of the pair of cooling rolls. As a mold release agent, what is excellent in heat resistance is preferable, For example, what contains carbon graphite is mentioned suitably. The method of application is not particularly limited, and for example, a method of spray-coating a suspension of carbon graphite particles (preferably an aqueous suspension) is preferable. Spray coating is preferred because it can supply the release agent to the cooling roll in a non-contact manner.

ここで、塗布された離型剤の厚さが冷却ロールの幅方向および/または周方向で異なると、冷却ロールへの熱移動の速度に影響が出て、結晶粒の不均一につながるため、本発明においては、塗布された離型剤の厚さを均一化するのが好ましい。
具体的には、例えば、耐火材や耐熱性の布で作られたワイパを冷却ロール表面に一定圧力で接触させる方法が好適に挙げられる。また、溶湯と直接接する危険性がない場合には木綿等の布を使用して、均一化することができる。
Here, if the thickness of the applied release agent is different in the width direction and / or the circumferential direction of the cooling roll, it affects the speed of heat transfer to the cooling roll and leads to nonuniform crystal grains. In the present invention, it is preferable to make the thickness of the applied release agent uniform.
Specifically, for example, a method in which a wiper made of a refractory material or a heat-resistant cloth is brought into contact with the surface of the cooling roll at a constant pressure is preferable. Further, when there is no risk of direct contact with the molten metal, a cloth such as cotton can be used to make it uniform.

また、離型剤は、ワイパ等の均一化手段に捕捉されたり、連続鋳造されたアルミニウム合金板の表面に移動したりするため、定期的に冷却ロール表面に供給するのが好ましい。   Moreover, since the mold release agent is captured by a uniformizing means such as a wiper or moved to the surface of a continuously cast aluminum alloy plate, it is preferable to periodically supply it to the surface of the cooling roll.

また、溶湯供給ノズルが冷却ロールに対して幅方向において不均一に接触すると、冷却ロール表面の離型剤を部分的に掻き取ることになり、結果としてロール表面の離型剤の厚さが不均一になりやすく、ひいては結晶粒の不均一になりやすい。結晶粒の不均一は、平版印刷版用支持体にした際に、ストリーク等のスジ状外観故障につながる。
したがって、本発明においては、前記溶湯供給ノズルの口部外縁が前記冷却ロールに接触せず、またはその先端でのみ接触するのが好ましい。
Further, when the molten metal supply nozzle contacts the cooling roll in the width direction unevenly, the release agent on the surface of the cooling roll is partially scraped off, resulting in an inadequate thickness of the release agent on the roll surface. It tends to be uniform, and in turn tends to make crystal grains non-uniform. The non-uniformity of the crystal grains leads to streaky appearance failure such as streak when the planographic printing plate support is used.
Therefore, in the present invention, it is preferable that the outer edge of the mouth of the molten metal supply nozzle does not contact the cooling roll or contacts only at the tip thereof.

<冷間圧延工程>
連続鋳造工程後、冷間圧延工程を行う。冷間圧延工程は、連続鋳造工程で得られたアルミニウム合金板の厚さを減じさせる工程である。これにより、アルミニウム合金板を所望の厚さにする。
冷間圧延工程は、従来公知の方法により行うことができる。
<Cold rolling process>
A cold rolling process is performed after a continuous casting process. The cold rolling process is a process of reducing the thickness of the aluminum alloy plate obtained in the continuous casting process. Thereby, an aluminum alloy plate is made into desired thickness.
The cold rolling process can be performed by a conventionally known method.

<中間焼鈍工程>
冷間圧延工程後、中間焼鈍工程を行う。中間焼鈍工程は、冷間圧延工程のアルミニウム合金板に熱処理を行う工程である。
本来、連続鋳造工程は、従来の固定鋳型を用いる方法と異なり、アルミニウムを極めて急速に冷却凝固させることができる。その結果、連続鋳造を経て得られたアルミニウム合金板中の結晶粒は、従来の固定鋳型を用いる方法に比べて格段に微細化されうる。ただし、そのままでは結晶粒の大きさがまだ大きく、仕上げ冷間圧延後、更に、粗面化処理を経て平版印刷版用支持体としたときに、結晶粒の大きさに起因する外観故障(表面処理ムラ)が発生しやすい。
そこで、上述した冷間圧延工程で加工歪みを蓄えたうえで、中間焼鈍工程を行うことで、冷間圧延工程で蓄積された転位が解放されて、再結晶が起こり、結晶粒を更に微細化することができるようになる。具体的には、冷間圧延工程の加工率および中間焼鈍工程の熱処理条件(中でも、温度、時間および昇温速度)の条件によって、結晶粒を制御することができる。
<Intermediate annealing process>
After the cold rolling step, an intermediate annealing step is performed. The intermediate annealing step is a step of performing a heat treatment on the aluminum alloy plate in the cold rolling step.
Originally, the continuous casting process can cool and solidify aluminum very rapidly, unlike the conventional method using a fixed mold. As a result, the crystal grains in the aluminum alloy plate obtained through continuous casting can be remarkably refined as compared with the conventional method using a fixed mold. However, as it is, the size of the crystal grains is still large, and after the finish cold rolling, when the surface of the lithographic printing plate is further subjected to a roughening treatment, the appearance failure due to the size of the crystal grains (surface Uneven processing) is likely to occur.
Therefore, after accumulating processing strain in the cold rolling process described above, by performing the intermediate annealing process, the dislocation accumulated in the cold rolling process is released, recrystallization occurs, and the crystal grains are further refined Will be able to. Specifically, the crystal grains can be controlled by the processing rate in the cold rolling process and the heat treatment conditions in the intermediate annealing process (in particular, the temperature, time, and heating rate).

本発明においては、280〜490℃で中間焼鈍を行う。これにより、結晶粒の微細化を促進することができ、ひいては結晶粒の大きさに起因する外観故障(表面処理ムラ)の発生を抑制することができる。
中間焼鈍の時間は、5〜40時間であるのが好ましい。
中間焼鈍の昇温速度は、1〜60℃/分であるのが好ましい。
本発明においては、バッチ式焼鈍炉を用いることもでき、連続焼鈍炉を用いることもできる。装置設備コストが低く、かつ、コンパクトである点で、バッチ式焼鈍炉が好ましい。
In the present invention, intermediate annealing is performed at 280 to 490 ° C. Thereby, refinement | miniaturization of a crystal grain can be accelerated | stimulated and by extension generation | occurrence | production of the appearance failure (surface treatment nonuniformity) resulting from the magnitude | size of a crystal grain can be suppressed.
The intermediate annealing time is preferably 5 to 40 hours.
The temperature raising rate of the intermediate annealing is preferably 1 to 60 ° C./min.
In the present invention, a batch type annealing furnace can be used, and a continuous annealing furnace can also be used. A batch-type annealing furnace is preferable in that the equipment cost is low and it is compact.

<仕上げ冷間圧延工程>
中間焼鈍工程後、仕上げ冷間圧延工程を行う。仕上げ冷間圧延工程は、中間焼鈍後のアルミニウム合金板の厚さを減じさせる工程である。仕上げ冷間圧延工程後の厚さは、0.1〜0.5mmであるのが好ましい。
冷間圧延工程は、従来公知の方法により行うことができる。例えば、上述した中間焼鈍工程前に行われる冷間圧延工程と同様の方法により行うことができる。
<Finish cold rolling process>
A finishing cold rolling process is performed after an intermediate annealing process. The finish cold rolling step is a step of reducing the thickness of the aluminum alloy sheet after the intermediate annealing. The thickness after the finish cold rolling step is preferably 0.1 to 0.5 mm.
The cold rolling process can be performed by a conventionally known method. For example, it can be performed by the same method as the cold rolling step performed before the intermediate annealing step described above.

ここで、本発明においては、仕上げ冷間圧延において、潤滑油を標準量より少ない量にする方法または圧下率を80%以上にする方法により、幅方向に、間隔が3〜10mmの範囲のほぼ等間隔の複数の凸条(以下「等ピッチパターン」ともいう。)を形成させることができる。この凸条(チャタリング)は、高さが最大でも板厚の1%程度であり、模様に見える。
平版印刷版用支持体の製造時に、アルカリエッチング処理を施すことにより、粗面化処理を施され画像記録層を設けられる面の反対側の面に、この凸条を顕在化させて、搬送性および合紙分離性に優れる平版印刷版原版を得ることができる。
Here, in the present invention, in the finish cold rolling, the distance in the width direction is almost in the range of 3 to 10 mm by the method of making the lubricant less than the standard amount or the method of making the reduction ratio 80% or more. A plurality of ridges with equal intervals (hereinafter also referred to as “equal pitch pattern”) can be formed. This protrusion (chattering) is about 1% of the plate thickness at the maximum, and looks like a pattern.
During the production of a lithographic printing plate support, by carrying out an alkali etching treatment, the surface of the surface opposite to the surface on which the roughening treatment is performed and the image recording layer is provided is made to manifest this protrusion, and the transportability In addition, a lithographic printing plate precursor having excellent slip sheet separation can be obtained.

<平面性矯正工程>
本発明においては、仕上げ冷間圧延工程後、粗面化処理工程前に、平面性矯正工程を行うのが好ましい。平面性矯正工程は、アルミニウム合金板の平面性を矯正する工程である。
平面性矯正工程は、従来公知の方法により行うことができる。例えば、ローラレベラ、テンションレベラ等の矯正装置を用いて行うことができる。
平面性矯正工程は、アルミニウム合金板をシート状にカットした後に行ってもよいが、生産性を向上させるためには、連続したコイルの状態で行うのが好ましい。
<Flatness correction process>
In the present invention, it is preferable to perform the flatness correction step after the finish cold rolling step and before the roughening treatment step. The flatness correcting step is a step of correcting the flatness of the aluminum alloy plate.
The flatness correction step can be performed by a conventionally known method. For example, it can be performed using a correction device such as a roller leveler or a tension leveler.
The flatness correction step may be performed after the aluminum alloy plate is cut into a sheet shape, but it is preferably performed in a continuous coil state in order to improve productivity.

<スリット工程>
また、板幅を所定の幅に加工するため、スリッタラインを通すスリット工程を行うこともできる。スリット工程は、従来公知の方法で行うことができる。
<Slit process>
Moreover, in order to process the plate width into a predetermined width, a slitting process through a slitter line can be performed. A slit process can be performed by a conventionally well-known method.

<油膜形成工程>
また、アルミニウム合金板同士の摩擦による傷の発生を防止するために、アルミニウム合金板の表面に薄い油膜を設けることができる。油膜に用いられる油は、揮発性であってもよく、不揮発性であってもよく、適宜選択して用いることができる。
<Oil film formation process>
Moreover, in order to prevent generation | occurrence | production of the damage | wound by friction between aluminum alloy plates, a thin oil film can be provided on the surface of an aluminum alloy plate. The oil used for the oil film may be volatile or non-volatile, and can be appropriately selected and used.

<調質工程>
本発明に用いられるアルミニウム合金板は、JISに規定されるH18の調質が行われているのが好ましい。
<Refining process>
The aluminum alloy plate used in the present invention is preferably subjected to H18 tempering as defined in JIS.

<性状>
本発明に用いられるアルミニウム合金板は、結晶粒の幅の平均値が50〜150μm、長さの平均値が300〜900μmであるのが好ましい。
上記範囲であると、結晶粒が大きくなりやすいバッチ式焼鈍炉を用いても面質ムラが発生しにくい。
<Properties>
The aluminum alloy plate used in the present invention preferably has an average crystal grain width of 50 to 150 μm and an average length of 300 to 900 μm.
Within the above range, even if a batch-type annealing furnace in which crystal grains tend to be large is used, uneven surface quality is unlikely to occur.

また、本発明に用いられるアルミニウム合金板は、引っ張り強度が140〜160MPaであるのが好ましい。上記範囲であると、印刷中に版切れが生じにくくなる。   The aluminum alloy plate used in the present invention preferably has a tensile strength of 140 to 160 MPa. Within the above range, it is difficult for plate breakage to occur during printing.

また、本発明に用いられるアルミニウム合金板は、270℃で7分間保持した後の0.2%耐力が100〜120MPaであるのが好ましい。
上記範囲であると、通常、200℃以上、特に240〜270℃前後で行われることが多いバーニング処理を行った後も、平版印刷版原版の曲げに対する剛性が適度であるため、版胴に取り付けるための折り曲げを問題なく行うことができる。したがって、印刷中に版切れが生じにくくなる。
本発明において「0.2%耐力」とは、引張試験において、永久伸びが0.2%となるときの荷重をいう。例えば、JIS Z2241−1993の規定に準じて求めることができる。
加熱は、全面を均一に加熱することができる装置を用いて行う。そのような加熱装置としては、例えば、輻射式加熱装置が挙げられる。具体的には、輻射式加熱装置として、富士写真フイルム社製のPLANO PSバーニングプロセッサ 1300が挙げられる。
The aluminum alloy plate used in the present invention preferably has a 0.2% proof stress of 100 to 120 MPa after being held at 270 ° C. for 7 minutes.
If it is within the above range, it is usually attached to the plate cylinder because the rigidity of the lithographic printing plate precursor for bending is moderate even after performing a burning treatment which is often performed at 200 ° C. or more, particularly around 240 to 270 ° C. Can be bent without problems. Therefore, it is difficult for plate breakage to occur during printing.
In the present invention, “0.2% yield strength” refers to a load when the permanent elongation is 0.2% in a tensile test. For example, it can be determined according to the provisions of JIS Z2241-1993.
Heating is performed using an apparatus that can uniformly heat the entire surface. Examples of such a heating device include a radiant heating device. Specifically, a PLANO PS burning processor 1300 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. can be cited as a radiant heating device.

<粗面化処理>
本発明の第1の態様の平版印刷版用支持体は、上述したアルミニウム合金板に、少なくとも、硝酸を含有する水溶液を用いた電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理を施して得られる。
また、本発明の第2の態様の平版印刷版用支持体は、上述したアルミニウム合金板に、少なくとも、粗面化処理を施して得られる。
本発明の平版印刷版用支持体の製造においては、上記以外の各種の工程を含んでいてもよい。例えば、硝酸または塩酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理、アルカリ水溶液中でのエッチング処理、酸性水溶液中でのデスマット処理等を1回または複数回含んでいてもよい。
<Roughening treatment>
The lithographic printing plate support of the first aspect of the present invention is obtained by subjecting the above-described aluminum alloy plate to a surface roughening treatment including an electrochemical surface roughening treatment using an aqueous solution containing at least nitric acid. It is done.
The lithographic printing plate support according to the second aspect of the present invention is obtained by subjecting the above-described aluminum alloy plate to at least a roughening treatment.
In the production of the lithographic printing plate support of the present invention, various steps other than those described above may be included. For example, an electrochemical surface roughening treatment in an aqueous solution containing nitric acid or hydrochloric acid, an etching treatment in an alkaline aqueous solution, a desmut treatment in an acidic aqueous solution, or the like may be included once or a plurality of times.

具体的には、例えば、アルカリ水溶液中でのエッチング処理(以下「第1アルカリエッチング処理」ともいう。)、酸性水溶液中でのデスマット処理(以下「第1デスマット処理」ともいう。)、硝酸または塩酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理(以下「第1電気化学的粗面化処理」ともいう。)、アルカリ水溶液中でのエッチング処理(以下「第2アルカリエッチング処理」ともいう。)、酸性水溶液中でのデスマット処理(以下「第2デスマット処理」ともいう。)および陽極酸化処理をこの順に施す方法が好適に挙げられる。
また、例えば、第1アルカリエッチング処理、第1デスマット処理、第1電気化学的粗面化処理、第2アルカリエッチング処理、第2デスマット処理、塩酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理(以下「第2電気化学的粗面化処理」ともいう。)、アルカリ水溶液中でのエッチング処理(以下「第3アルカリエッチング処理」ともいう。)、酸性水溶液中でのデスマット処理(以下「第3デスマット処理」ともいう。)および陽極酸化処理をこの順に施す方法が好適に挙げられる。
また、上記陽極酸化処理の後に、更に、封孔処理、親水化処理、または、封孔処理およびその後の親水化処理を施す方法も好ましい。
また、第1アルカリエッチング処理の前に、機械的粗面化処理を行うこともできる。これにより、第1電気化学的粗面化処理に用いられる電気量を低減させることができる。
Specifically, for example, etching treatment in an alkaline aqueous solution (hereinafter also referred to as “first alkaline etching treatment”), desmutting treatment in an acidic aqueous solution (hereinafter also referred to as “first desmutting treatment”), nitric acid or Electrochemical roughening treatment in an aqueous solution containing hydrochloric acid (hereinafter also referred to as “first electrochemical roughening treatment”), etching treatment in an alkaline aqueous solution (hereinafter referred to as “second alkaline etching treatment”). And a method of performing desmutting treatment in an acidic aqueous solution (hereinafter also referred to as “second desmutting treatment”) and anodizing treatment in this order.
In addition, for example, a first alkali etching treatment, a first desmutting treatment, a first electrochemical roughening treatment, a second alkali etching treatment, a second desmutting treatment, and an electrochemical roughening in an aqueous solution containing hydrochloric acid. Treatment (hereinafter also referred to as “second electrochemical roughening treatment”), etching treatment in an alkaline aqueous solution (hereinafter also referred to as “third alkaline etching treatment”), desmutting treatment in an acidic aqueous solution (hereinafter referred to as “second electrochemical etching treatment”). A method of performing the third desmut treatment ”) and anodizing treatment in this order is preferable.
Further, after the anodizing treatment, a sealing treatment, a hydrophilization treatment, or a sealing treatment and a subsequent hydrophilization treatment are also preferable.
Moreover, a mechanical surface roughening process can also be performed before a 1st alkali etching process. Thereby, the amount of electricity used for the first electrochemical surface roughening treatment can be reduced.

以下、表面処理の各工程について、詳細に説明する。   Hereinafter, each step of the surface treatment will be described in detail.

<機械的粗面化処理>
機械的粗面化処理としては、例えば、アルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立てするボールグレイン法、特開平6−135175号公報および特公昭50−40047号公報に記載されているナイロンブラシと研磨剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法を用いることができる。
また、凹凸面をアルミニウム板に圧接する転写方法(転写ロール法)を用いることもできる。即ち、特開昭55−74898号、特開昭60−36195号、特開昭60−203496号の各公報に記載されている方法のほか、転写を数回行うことを特徴とする特開平6−55871号公報、表面が弾性であることを特徴とした特開平6−24168号公報に記載されている方法も適用可能である。
中でも、転写ロール法が、平版印刷版用支持体の製造工程の高速化に対応しやすいので、好ましい。転写ロール法は、上述したように、最終板厚に調整する冷間圧延、または、最終板厚調整後の表面形状を仕上げる仕上げ冷間圧延において、転写を行うのが好ましい。
<Mechanical roughening>
Examples of the mechanical surface roughening treatment include, for example, a wire brush grain method in which the aluminum surface is scratched with a metal wire, a ball grain method in which the aluminum surface is grained with a polishing ball and an abrasive, JP-A-6-135175 and JP-B-50. The brush grain method in which the surface is grained with a nylon brush and an abrasive described in Japanese Patent No. 40047 can be used.
Moreover, the transfer method (transfer roll method) which press-contacts an uneven surface to an aluminum plate can also be used. That is, in addition to the methods described in JP-A-55-74898, JP-A-60-36195, and JP-A-60-20396, transfer is performed several times. The method described in JP-A-6-24168 and JP-A-6-24168 characterized in that the surface is elastic is also applicable.
Among these, the transfer roll method is preferable because it can easily cope with the speedup of the manufacturing process of the support for a lithographic printing plate. As described above, the transfer roll method preferably performs the transfer in the cold rolling for adjusting to the final plate thickness or the finish cold rolling for finishing the surface shape after the final plate thickness adjustment.

以下、機械的粗面化処理として用いられるブラシグレイン法について説明する。
ブラシグレイン法は、一般に、円柱状の胴の表面に、ナイロン(商標名)、プロピレン、塩化ビニル樹脂等の合成樹脂からなる合成樹脂毛等のブラシ毛を多数植設したローラ状ブラシを用い、回転するローラ状ブラシに研磨剤を含有するスラリー液を噴きかけながら、上記アルミニウム板の表面の一方または両方を擦ることにより粗面化処理を行う方法である。上記ローラ状ブラシおよびスラリー液の代わりに、表面に研磨層を設けたローラである研磨ローラを用いることもできる。
Hereinafter, the brush grain method used as the mechanical surface roughening process will be described.
The brush grain method generally uses a roller-shaped brush in which a large number of brush hairs such as synthetic resin hair made of synthetic resin such as nylon (trade name), propylene, and vinyl chloride resin are implanted on the surface of a cylindrical body. In this method, the surface is roughened by rubbing one or both of the surfaces of the aluminum plate while spraying a slurry liquid containing an abrasive on a rotating roller brush. Instead of the roller brush and the slurry liquid, a polishing roller which is a roller having a polishing layer on the surface can be used.

ローラ状ブラシを用いる場合、曲げ弾性率が好ましくは10,000〜40,000kgf/cm2、より好ましくは15,000〜35,000kgf/cm2であり、かつ、毛腰の強さが好ましくは500gf以下、より好ましくは400gf以下であるブラシ毛を用いる。ブラシ毛の直径は、一般に、0.2〜0.9mmである。ブラシ毛の長さは、ローラ状ブラシの外径および胴の直径に応じて適宜決定することができるが、一般に、10〜100mmである。
本発明においては、ブラシは複数本用いるのが好ましく、具体的には、3本以上が好ましく、4本以上がより好ましい。ブラシの本数を調整することにより、アルミニウム板表面に形成される凹部の波長成分を調整することができる。
When using a roller-like brush, the flexural modulus is preferably 10,000 to 40,000 kgf / cm 2 , more preferably 15,000 to 35,000 kgf / cm 2 , and the bristle strength is preferably Brush hair of 500 gf or less, more preferably 400 gf or less is used. The diameter of the brush bristles is generally 0.2 to 0.9 mm. The length of the brush bristles can be appropriately determined according to the outer diameter of the roller brush and the diameter of the trunk, but is generally 10 to 100 mm.
In the present invention, it is preferable to use a plurality of brushes, specifically, 3 or more are preferable, and 4 or more are more preferable. By adjusting the number of brushes, the wavelength component of the recesses formed on the aluminum plate surface can be adjusted.

また、ブラシを回転させる駆動モータの負荷は、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して1kWプラス以上が好ましく、2kWプラス以上がより好ましく、8kWプラス以上が更に好ましい。負荷を調整することにより、アルミニウム板表面に形成される凹部の深さを調整することができる。ブラシの回転数は、100回転以上が好ましく、200回転以上がより好ましい。   The load of the drive motor that rotates the brush is preferably 1 kW plus or more, more preferably 2 kW plus or more, and even more preferably 8 kW plus or more with respect to the load before the brush roller is pressed against the aluminum plate. By adjusting the load, the depth of the recess formed on the aluminum plate surface can be adjusted. The rotation number of the brush is preferably 100 rotations or more, and more preferably 200 rotations or more.

研磨剤としては、公知のものを用いることができる。例えば、パミストン(パミスストーン)、ケイ砂、水酸化アルミニウム、アルミナ粉、炭化ケイ素、窒化ケイ素、火山灰、カーボランダム、金剛砂等の研磨剤;これらの混合物を用いることができる。中でも、パミストン、ケイ砂が好ましい。ケイ砂は、パミストンに比べて硬く、壊れにくいので粗面化効率に優れる。また、水酸化アルミニウムは過度の荷重がかかると粒子が破損するため、局所的に深い凹部を生成させたくない場合に好適である。
研磨剤のメジアン径は、粗面化効率に優れ、かつ、砂目立てピッチを狭くすることができる点で、2〜100μmであるのが好ましく、20〜60μmであるのがより好ましい。研磨剤のメジアン径を調整することにより、アルミニウム板表面に形成される凹部の深さを調整することができる。
A well-known thing can be used as a polishing agent. For example, abrasives such as pumice stone (pumice stone), silica sand, aluminum hydroxide, alumina powder, silicon carbide, silicon nitride, volcanic ash, carborundum, and gold sand; a mixture thereof can be used. Of these, pumiston and silica sand are preferable. Quartz sand is harder and less fragile than Pamiston, so it has excellent roughening efficiency. In addition, aluminum hydroxide is suitable when an excessive load is applied and the particles are damaged, so that it is not desired to generate deep recesses locally.
The median diameter of the abrasive is preferably from 2 to 100 μm, more preferably from 20 to 60 μm, from the viewpoint of excellent surface roughening efficiency and the ability to narrow the graining pitch. By adjusting the median diameter of the abrasive, the depth of the recess formed on the aluminum plate surface can be adjusted.

研磨剤は、例えば、水中に懸濁させて、スラリー液として用いる。スラリー液には、研磨剤のほかに、増粘剤、分散剤(例えば、界面活性剤)、防腐剤等を含有させることができる。スラリー液の比重は0.5〜2であるのが好ましい。
機械的粗面化処理に適した装置としては、例えば、特公昭50−40047号公報に記載された装置を挙げることができる。
For example, the abrasive is suspended in water and used as a slurry. In addition to the abrasive, the slurry liquid may contain a thickener, a dispersant (for example, a surfactant), a preservative, and the like. The specific gravity of the slurry liquid is preferably 0.5-2.
As an apparatus suitable for the mechanical surface roughening treatment, for example, an apparatus described in JP-B-50-40047 can be exemplified.

ブラシと研磨剤とを用いて機械的粗面化処理を行う装置の詳細については、例えば、本願出願人が特開2002−211159号公報に提案したものを用いることができる。   As for details of an apparatus for performing a mechanical surface roughening process using a brush and an abrasive, for example, the one proposed by the applicant of the present application in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-211159 can be used.

本発明では、転写により表面に形成された凹凸パターンを有するアルミニウム板を用いてブラシと研磨剤とを用いる機械的粗面化処理の代わりとしてもよいし、両方の粗面化を併用してもよい。   In the present invention, an aluminum plate having a concavo-convex pattern formed on the surface by transfer may be used instead of a mechanical surface roughening treatment using a brush and an abrasive, or both surface roughening may be used in combination. Good.

<第1アルカリエッチング処理>
アルカリエッチング処理は、上述したアルミニウム板をアルカリ溶液に接触させることにより、表層を溶解する処理である。
<First alkali etching treatment>
An alkali etching process is a process which melt | dissolves a surface layer by making the aluminum plate mentioned above contact an alkaline solution.

第1電気化学的粗面化処理の前に行われる第1アルカリエッチング処理は、第1電気化学的粗面化処理で均一な凹部を形成させること、および、機械的粗面化処理を行なった場合には、機械的粗面化処理により形成させた凹凸形状をなめらかにすること、機械的粗面化処理を行わなかった場合には、アルミニウム板(圧延アルミ)の表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等を除去することを目的として行われる。
第1アルカリエッチング処理においては、後に電気化学的粗面化処理を施される面のエッチング量は、0.1g/m2以上であるのが好ましく、0.5g/m2以上であるのがより好ましく、1g/m2以上であるのが更に好ましく、また、10g/m2以下であるのが好ましく、8g/m2以下であるのがより好ましく、5g/m2以下であるのが更に好ましい。エッチング量が0.5g/m2以上であると、第1電気化学的粗面化処理において均一なピットを生成させることができ、更に処理ムラの発生を防止することができる。エッチング量が10g/m2以下であると、アルカリ水溶液の使用量が少なくなり、経済的に有利となる。
The first alkali etching treatment performed before the first electrochemical roughening treatment was performed by forming a uniform recess in the first electrochemical roughening treatment and performing a mechanical roughening treatment. In this case, the uneven shape formed by the mechanical surface roughening treatment should be smoothed. If the mechanical surface roughening treatment was not performed, the rolling oil on the surface of the aluminum plate (rolled aluminum), dirt, It is performed for the purpose of removing a natural oxide film or the like.
In the first alkali etching treatment, the etching amount of the surface to be subjected to the electrochemical roughening treatment later is preferably 0.1 g / m 2 or more, more preferably 0.5 g / m 2 or more. more preferably, more preferably at 1 g / m 2 or more, but preferably not more 10 g / m 2 or less, more preferably at 8 g / m 2 or less, further not less 5 g / m 2 or less preferable. When the etching amount is 0.5 g / m 2 or more, uniform pits can be generated in the first electrochemical surface roughening treatment, and the occurrence of processing unevenness can be prevented. When the etching amount is 10 g / m 2 or less, the amount of alkaline aqueous solution used is reduced, which is economically advantageous.

アルミニウム合金板の粗面化処理を施される面の反対側の面のエッチング量は、電気化学的粗面化処理を施される面のエッチング量の5質量%以上であるのが好ましく、10質量%以上であるのがより好ましく、また、50質量%以下であるのが好ましく、30質量%以下であるのがより好ましい。上記範囲であると、アルミニウム板の裏面の圧延油の除去効果と、経済性とのバランスに優れる。
後述する第2アルカリエッチング処理および第3アルカリエッチング処理においても、同様である。
The etching amount of the surface opposite to the surface subjected to the roughening treatment of the aluminum alloy plate is preferably 5% by mass or more of the etching amount of the surface subjected to the electrochemical roughening treatment. The content is more preferably at least mass%, more preferably at most 50 mass%, and even more preferably at most 30 mass%. It is excellent in the balance with the removal effect of the rolling oil of the back surface of an aluminum plate, and economical efficiency as it is the said range.
The same applies to a second alkali etching process and a third alkali etching process to be described later.

本発明の第2の態様の平版印刷版用支持体においては、アルミニウム合金板の粗面化処理を施される面の反対側の面(裏面)のエッチング量は、1〜10g/m2である。これにより、裏面の平均表面粗さを後述する好適範囲とすることができる。
なお、本発明の第2の態様の平版印刷版用支持体において、アルカリエッチング処理を複数回行う場合、エッチング量の合計が上記範囲であればよい。
In the lithographic printing plate support according to the second aspect of the present invention, the etching amount of the surface (back surface) opposite to the surface to be roughened of the aluminum alloy plate is 1 to 10 g / m 2 . is there. Thereby, the average surface roughness of a back surface can be made into the suitable range mentioned later.
In the lithographic printing plate support of the second aspect of the present invention, when the alkali etching treatment is performed a plurality of times, the total etching amount may be in the above range.

アルカリ溶液に用いられるアルカリとしては、例えば、カセイアルカリ、アルカリ金属塩が挙げられる。具体的には、カセイアルカリとしては、例えば、カセイソーダ、カセイカリが挙げられる。また、アルカリ金属塩としては、例えば、メタケイ酸ソーダ、ケイ酸ソーダ、メタケイ酸カリ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩;炭酸ソーダ、炭酸カリ等のアルカリ金属炭酸塩;アルミン酸ソーダ、アルミン酸カリ等のアルカリ金属アルミン酸塩;グルコン酸ソーダ、グルコン酸カリ等のアルカリ金属アルドン酸塩;第二リン酸ソーダ、第二リン酸カリ、第一リン酸ソーダ、第一リン酸カリ等のアルカリ金属リン酸水素塩が挙げられる。中でも、エッチング速度が速い点および安価である点から、カセイアルカリの溶液、および、カセイアルカリとアルカリ金属アルミン酸塩との両者を含有する溶液が好ましい。特に、カセイソーダの水溶液が好ましい。   Examples of the alkali used in the alkaline solution include caustic alkali and alkali metal salts. Specifically, examples of caustic alkali include caustic soda and caustic potash. Examples of the alkali metal salt include alkali metal silicates such as sodium metasilicate, sodium silicate, potassium metasilicate, and potassium silicate; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; sodium aluminate and alumina. Alkali metal aluminates such as potassium acid; alkali metal aldones such as sodium gluconate and potassium gluconate; dibasic sodium phosphate, dibasic potassium phosphate, primary sodium phosphate, primary potassium phosphate, etc. An alkali metal hydrogen phosphate is mentioned. Among these, a caustic alkali solution and a solution containing both a caustic alkali and an alkali metal aluminate are preferable from the viewpoint of high etching rate and low cost. In particular, an aqueous solution of caustic soda is preferable.

第1アルカリエッチング処理においては、アルカリ溶液の濃度は、30g/L以上であるのが好ましく、300g/L以上であるのがより好ましく、また、500g/L以下であるのが好ましく、450g/L以下であるのがより好ましい。
また、アルカリ溶液は、アルミニウムイオンを含有しているのが好ましい。アルミニウムイオン濃度は、1g/L以上であるのが好ましく、50g/L以上であるのがより好ましく、また、200g/L以下であるのが好ましく、150g/L以下であるのがより好ましい。このようなアルカリ溶液は、例えば、水と48質量%カセイソーダ水溶液とアルミン酸ソーダとを用いて調製することができる。
In the first alkali etching treatment, the concentration of the alkaline solution is preferably 30 g / L or more, more preferably 300 g / L or more, and preferably 500 g / L or less, 450 g / L. The following is more preferable.
The alkaline solution preferably contains aluminum ions. The aluminum ion concentration is preferably 1 g / L or more, more preferably 50 g / L or more, and preferably 200 g / L or less, more preferably 150 g / L or less. Such an alkaline solution can be prepared using, for example, water, a 48 mass% sodium hydroxide aqueous solution, and sodium aluminate.

第1アルカリエッチング処理においては、アルカリ溶液の温度は、30℃以上であるのが好ましく、50℃以上であるのがより好ましく、また、80℃以下であるのが好ましく、75℃以下であるのがより好ましい。
第1アルカリエッチング処理においては、処理時間は、1秒以上であるのが好ましく、2秒以上であるのがより好ましく、また、30秒以下であるのが好ましく、15秒以下であるのがより好ましい。
In the first alkali etching treatment, the temperature of the alkali solution is preferably 30 ° C. or higher, more preferably 50 ° C. or higher, and preferably 80 ° C. or lower, and 75 ° C. or lower. Is more preferable.
In the first alkaline etching treatment, the treatment time is preferably 1 second or longer, more preferably 2 seconds or longer, more preferably 30 seconds or shorter, and more preferably 15 seconds or shorter. preferable.

アルミニウム板を連続的にエッチング処理していくと、アルカリ溶液中のアルミニウムイオン濃度が上昇していき、アルミニウム板のエッチング量が変動する。そこで、エッチング液の組成管理を、以下のようにして行うのが好ましい。
即ち、カセイソーダ濃度とアルミニウムイオン濃度とのマトリクスに対応する、電導度と比重と温度とのマトリクス、または、電導度と超音波伝搬速度と温度とのマトリクスをあらかじめ作成しておき、電導度と比重と温度、または、電導度と超音波伝搬速度と温度によって液組成を測定し、液組成の制御目標値になるようにカセイソーダと水とを添加する。そして、カセイソーダと水とを添加することによって増加したエッチング液を、循環タンクからオーバーフローさせることにより、その液量を一定に保つ。添加するカセイソーダとしては、工業用の40〜60質量%のものを用いることができる。
電導度計および比重計としては、それぞれ温度補償されているものを用いるのが好ましい。比重計としては、差圧式のものを用いるのが好ましい。
When the aluminum plate is continuously etched, the aluminum ion concentration in the alkaline solution increases and the etching amount of the aluminum plate varies. Therefore, the composition management of the etching solution is preferably performed as follows.
That is, a matrix of conductivity, specific gravity, and temperature, or a matrix of conductivity, ultrasonic propagation velocity, and temperature corresponding to the matrix of caustic soda concentration and aluminum ion concentration is prepared in advance, and the conductivity and specific gravity are prepared. The liquid composition is measured according to the temperature and temperature, or the electrical conductivity, the ultrasonic wave propagation speed, and the temperature, and caustic soda and water are added so that the control target value of the liquid composition is reached. Then, the amount of the etching solution increased by adding caustic soda and water is overflowed from the circulation tank, thereby keeping the amount of the solution constant. As caustic soda to be added, 40 to 60% by mass for industrial use can be used.
As the conductivity meter and the specific gravity meter, it is preferable to use those that are temperature-compensated. As the specific gravity meter, a differential pressure type is preferably used.

アルミニウム板をアルカリ溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム板をアルカリ溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム板をアルカリ溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、アルカリ溶液をアルミニウム板の表面に噴きかける方法が挙げられる。   Examples of the method of bringing the aluminum plate into contact with the alkaline solution include, for example, a method in which the aluminum plate is passed through a tank containing the alkaline solution, a method in which the aluminum plate is immersed in a tank containing the alkaline solution, The method of spraying on the surface of a board is mentioned.

中でも、アルカリ溶液をアルミニウム板の表面に噴きかける方法が好ましい。具体的には、φ2〜5mmの孔を10〜50mmピッチで有するスプレー管から、スプレー管1本あたり、10〜100L/minの量でエッチング液を吹き付ける方法が好ましい。スプレー管は複数本設けるのが好ましい。   Among these, a method in which an alkali solution is sprayed on the surface of an aluminum plate is preferable. Specifically, a method of spraying an etching solution in an amount of 10 to 100 L / min per spray tube from a spray tube having φ2 to 5 mm holes at a pitch of 10 to 50 mm is preferable. It is preferable to provide a plurality of spray tubes.

アルカリエッチング処理が終了した後は、ニップロールで液切りし、更に、1〜10秒間水洗処理を行った後、ニップロールで液切りするのが好ましい。
水洗処理は、自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する装置を用いて水洗し、更に、スプレー管を用いて水洗するのが好ましい。
After the alkali etching treatment is completed, it is preferable to drain the liquid with a nip roll, and further perform the water washing treatment for 1 to 10 seconds, and then drain the liquid with a nip roll.
The water washing treatment is preferably carried out using an apparatus for washing with a free-falling curtain-like liquid film, and further using a spray tube.

また、水洗処理に用いられるスプレー管としては、例えば、扇状に噴射水が広がるスプレーチップをアルミニウム板の幅方向に複数個有するスプレー管を用いることができる。スプレーチップの間隔は20〜100mmであるのが好ましく、また、スプレーチップ1本あたりの液量は0.5〜20L/minであるのが好ましい。スプレー管は複数本用いるのが好ましい。   Moreover, as a spray tube used for the water-washing process, for example, a spray tube having a plurality of spray tips in the width direction of the aluminum plate in which spray water spreads in a fan shape can be used. The distance between spray tips is preferably 20 to 100 mm, and the amount of liquid per spray tip is preferably 0.5 to 20 L / min. It is preferable to use a plurality of spray tubes.

<第1デスマット処理>
第1アルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗い(第1デスマット処理)を行うのが好ましい。デスマット処理は、アルミニウム板を酸性溶液に接触させることにより行う。
<First desmut treatment>
After the first alkali etching treatment, it is preferable to perform pickling (first desmutting treatment) in order to remove dirt (smut) remaining on the surface. The desmut treatment is performed by bringing an aluminum plate into contact with an acidic solution.

用いられる酸としては、例えば、硝酸、硫酸、塩酸、リン酸、クロム酸、フッ化水素酸、ホウフッ化水素酸が挙げられる。中でも、硝酸、硫酸が好ましい。具体的には、例えば、後述する硝酸電解で用いた硝酸水溶液のオーバーフロー廃液、後述する陽極酸化処理工程で用いた硫酸水溶液の廃液を好適に用いることができる。   Examples of the acid used include nitric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, and borohydrofluoric acid. Of these, nitric acid and sulfuric acid are preferable. Specifically, for example, an overflow waste solution of a nitric acid aqueous solution used in nitric acid electrolysis described later and a sulfuric acid aqueous solution waste solution used in an anodic oxidation treatment step described later can be suitably used.

デスマット処理液の組成管理においては、酸性溶液濃度とアルミニウムイオン濃度とのマトリクスに対応する、電導度と温度で管理する方法、電導度と比重と温度とで管理する方法、および、電導度と超音波の伝搬速度と温度とで管理する方法のいずれかを選択して用いることができる。   In the composition management of the desmut treatment liquid, a method of managing by conductivity and temperature, a method of managing by conductivity, specific gravity and temperature, and a conductivity and superconductivity corresponding to a matrix of acidic solution concentration and aluminum ion concentration. Either of the methods managed by the propagation speed of sound waves and temperature can be selected and used.

第1デスマット処理においては、1〜400g/Lの酸および0.1〜5g/Lのアルミニウムイオンを含有する酸性溶液を用いるのが好ましい。   In the first desmutting treatment, it is preferable to use an acidic solution containing 1 to 400 g / L acid and 0.1 to 5 g / L aluminum ions.

酸性溶液の温度は、20℃以上であるのが好ましく、30℃以上であるのがより好ましく、また、70℃以下であるのが好ましく、60℃以下であるのがより好ましい。   The temperature of the acidic solution is preferably 20 ° C. or more, more preferably 30 ° C. or more, and preferably 70 ° C. or less, more preferably 60 ° C. or less.

第1デスマット処理においては、処理時間は、1秒以上であるのが好ましく、4秒以上であるのがより好ましく、また、60秒以下であるのが好ましく、40秒以下であるのがより好ましい。   In the first desmutting treatment, the treatment time is preferably 1 second or longer, more preferably 4 seconds or longer, and preferably 60 seconds or shorter, more preferably 40 seconds or shorter. .

アルミニウム板を酸性溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム板を酸性溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム板を酸性溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、酸性溶液をアルミニウム板の表面に噴きかける方法が挙げられる。
中でも、酸性溶液をアルミニウム板の表面に噴きかける方法が好ましい。具体的には、φ2〜5mmの孔を10〜50mmピッチで有するスプレー管から、スプレー管1本あたり、10〜100L/minの量でエッチング液を吹き付ける方法が好ましい。スプレー管は複数本設けるのが好ましい。
Examples of the method of bringing the aluminum plate into contact with the acidic solution include, for example, a method of passing the aluminum plate through a bath containing the acidic solution, a method of immersing the aluminum plate in a bath containing the acidic solution, and an acidic solution containing aluminum. The method of spraying on the surface of a board is mentioned.
Among these, a method in which an acidic solution is sprayed on the surface of an aluminum plate is preferable. Specifically, a method of spraying an etching solution in an amount of 10 to 100 L / min per spray tube from a spray tube having φ2 to 5 mm holes at a pitch of 10 to 50 mm is preferable. It is preferable to provide a plurality of spray tubes.

デスマット処理が終了した後は、ニップロールで液切りし、更に、1〜10秒間水洗処理を行った後、ニップロールで液切りするのが好ましい。
水洗処理は、アルカリエッチング処理の後の水洗処理と同様である。ただし、スプレーチップ1本あたりの液量は1〜20L/minであるのが好ましい。
After the desmutting process is completed, it is preferable to drain the liquid with a nip roll, and further perform the water washing process for 1 to 10 seconds, and then drain the liquid with a nip roll.
The water washing treatment is the same as the water washing treatment after the alkali etching treatment. However, the amount of liquid per spray tip is preferably 1 to 20 L / min.

なお、第1デスマット処理において、デスマット処理液として、引き続き行われる硝酸電解に用いた硝酸水溶液のオーバーフロー廃液を用いる場合には、デスマット処理後にニップロールによる液切りおよび水洗処理を行わず、アルミニウム板の表面が乾かないように、必要に応じて適宜デスマット処理液をスプレーしながら、硝酸電解工程までアルミニウム板をハンドリングするのが好ましい。   In the first desmutting treatment, when the overflow waste solution of the nitric acid aqueous solution used in the subsequent nitric acid electrolysis is used as the desmutting treatment solution, the surface of the aluminum plate is not subjected to the draining with a nip roll and the water washing treatment after the desmutting treatment. It is preferable to handle the aluminum plate up to the nitric acid electrolysis step while spraying a desmut treatment solution as necessary so that it does not dry.

<第1電気化学的粗面化処理>
第1電気化学的粗面化処理は、硝酸または塩酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理である。本発明の第1の態様においては、硝酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理を行う。
第1電気化学的粗面化処理および後述する第2電気化学的粗面化処理をこの順序で行うことにより、均一性の高い凹凸構造を重畳した砂目形状をアルミニウム板の表面に形成させることができ、ひいては耐汚れ性および耐刷性を優れたものにすることができる。なお、第1電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板表面の平均粗さRaは0.2〜1.0μmであるのが好ましい。
<First electrochemical surface roughening treatment>
The first electrochemical surface roughening treatment is an electrochemical surface roughening treatment in an aqueous solution containing nitric acid or hydrochloric acid. In the first aspect of the present invention, an electrochemical surface roughening treatment is performed in an aqueous solution containing nitric acid.
By performing the first electrochemical roughening treatment and the second electrochemical roughening treatment described later in this order, a grain shape with a highly uniform uneven structure is formed on the surface of the aluminum plate. As a result, stain resistance and printing durability can be improved. The average roughness R a of the first electrochemical graining treatment after the aluminum plate surface is preferably 0.2 to 1.0 [mu] m.

<硝酸電解>
第1電気化学的粗面化処理として、硝酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理(硝酸電解)を行う場合、好適な凹凸構造をアルミニウム板の表面に形成させることができる。
<Nitric acid electrolysis>
When the electrochemical surface roughening treatment (nitric acid electrolysis) in an aqueous solution containing nitric acid is performed as the first electrochemical surface roughening treatment, a suitable uneven structure can be formed on the surface of the aluminum plate.

硝酸を含有する水溶液は、通常の直流または交流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられるものを使用することができる。例えば、濃度1〜100g/L(本発明の第1の態様の平版印刷版用支持体においては10g/L以下)の硝酸の水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸イオンを有する硝酸化合物の少なくとも一つを1g/Lから飽和するまでの範囲で添加して使用することができる。
また、硝酸を含有する水溶液には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、ケイ素等のアルミニウム合金板中に含まれる元素が溶解していてもよい。次亜塩素酸や過酸化水素が1〜100g/L含有されていてもよい。
具体的には、硝酸濃度5〜15g/L(本発明の第1の態様の平版印刷版用支持体においては10g/L以下)の硝酸水溶液に、硝酸アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を3〜7g/Lとなるように調整した液が好ましい。
As the aqueous solution containing nitric acid, an aqueous solution used for electrochemical surface roughening using ordinary direct current or alternating current can be used. For example, nitric acid having nitrate ions such as aluminum nitrate, sodium nitrate, and ammonium nitrate in an aqueous solution of nitric acid having a concentration of 1 to 100 g / L (10 g / L or less in the lithographic printing plate support according to the first aspect of the present invention). At least one of the compounds can be added and used in a range from 1 g / L to saturation.
Moreover, the element contained in aluminum alloy plates, such as iron, copper, manganese, nickel, titanium, magnesium, and silicon, may melt | dissolve in the aqueous solution containing nitric acid. Hypochlorous acid or hydrogen peroxide may be contained in an amount of 1 to 100 g / L.
Specifically, aluminum nitrate is dissolved in an aqueous nitric acid solution having a nitric acid concentration of 5 to 15 g / L (10 g / L or less in the lithographic printing plate support according to the first aspect of the present invention) to obtain an aluminum ion concentration of 3 A liquid adjusted to be ˜7 g / L is preferable.

本発明の第1の態様の平版印刷版用支持体においては、硝酸を含有する水溶液の硝酸濃度が10g/L以下である。これにより、バッチ式の中間焼鈍装置を用いた場合であっても、電気化学的粗面化処理が均一になり、また、面質ムラが生じにくくなる。したがって、本発明の第1の態様の平版印刷版用支持体は、安価で短時間に製造することができ、表面の外観が均一であり、かつ、均一な電解粗面化処理が施される。具体的には、高価な連続焼鈍装置や高温のバッチ焼鈍条件に頼ることなく、結晶粒が多少大きくても外観故障が抑制され、均一な電解粗面化処理が実現される。   In the lithographic printing plate support according to the first aspect of the present invention, the concentration of nitric acid in the aqueous solution containing nitric acid is 10 g / L or less. Thereby, even if it is a case where a batch type intermediate annealing apparatus is used, an electrochemical roughening process becomes uniform and surface quality nonuniformity becomes difficult to produce. Therefore, the lithographic printing plate support of the first aspect of the present invention can be produced at low cost in a short time, has a uniform surface appearance, and is subjected to a uniform electrolytic surface roughening treatment. . Specifically, without depending on an expensive continuous annealing apparatus or high-temperature batch annealing conditions, even if the crystal grains are somewhat large, the appearance failure is suppressed and a uniform electrolytic surface-roughening treatment is realized.

硝酸を含有する水溶液の温度は、20℃以上であるのが好ましく、また、55℃以下であるのが好ましい。   The temperature of the aqueous solution containing nitric acid is preferably 20 ° C. or higher, and preferably 55 ° C. or lower.

硝酸電解により、平均開口径1〜10μmのピットを形成することができる。ただし、電気量を比較的多くしたときは、電解反応が集中し、10μmを超えるハニカムピットも生成する。   Pits having an average opening diameter of 1 to 10 μm can be formed by nitric acid electrolysis. However, when the amount of electricity is relatively large, the electrolytic reaction is concentrated, and honeycomb pits exceeding 10 μm are also generated.

このような砂目を得るためには、電解反応が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和が、150C/dm2以上であるのが好ましく、170C/dm2以上であるのがより好ましく、また、600C/dm2以下であるのが好ましく、500C/dm2以下であるのがより好ましい。この際の電流密度は、交流を用いる場合には電流のピーク値で20〜100A/dm2であるのが好ましく、直流を用いる場合には20〜100A/dm2であるのが好ましい。 To obtain such a grain, the total amount of electricity furnished to anode reaction on the aluminum plate up until the electrolysis reaction is completed is preferably at 150C / dm 2 or more, at 170C / dm 2 or more more preferably, but preferably not 600C / dm 2 or less, more preferably 500C / dm 2 or less. The current density at this time is preferably from 20 to 100 A / dm 2 at the peak value of the current in the case of using the alternating current, preferably in the case of using a DC is 20 to 100 A / dm 2.

<塩酸電解>
第1電気化学的粗面化処理として、塩酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理(塩酸電解)を行う場合、
<Hydrochloric acid electrolysis>
When performing the electrochemical surface roughening treatment (hydrochloric acid electrolysis) in an aqueous solution containing hydrochloric acid as the first electrochemical surface roughening treatment,

塩酸を含有する水溶液は、通常の直流または交流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられるものを使用することができる。例えば、濃度1〜30g/L、好ましくは2〜10g/Lの塩酸水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸イオンを発生させうる硝酸化合物および/または塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム等の塩化物イオンを発生させうる塩酸化合物の少なくとも一つを1g/Lから飽和するまでの範囲で添加して使用することができる。
また、塩酸を含有する水溶液は、銅と錯体を形成する化合物を1〜200g/Lの割合で含有することもできる。
更に、塩酸を含有する水溶液には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、ケイ素等のアルミニウム合金板中に含まれる元素が溶解していてもよい。次亜塩素酸や過酸化水素が1〜100g/L含有されていてもよい。
As the aqueous solution containing hydrochloric acid, those used for electrochemical surface roughening treatment using ordinary direct current or alternating current can be used. For example, nitric acid compounds capable of generating nitrate ions such as aluminum nitrate, sodium nitrate, ammonium nitrate in an aqueous hydrochloric acid solution having a concentration of 1-30 g / L, preferably 2-10 g / L, and / or aluminum chloride, sodium chloride, ammonium chloride, etc. At least one of the hydrochloric acid compounds capable of generating the chloride ion can be added and used in the range from 1 g / L to saturation.
Moreover, the aqueous solution containing hydrochloric acid can also contain the compound which forms a complex with copper in the ratio of 1-200 g / L.
Furthermore, the element contained in aluminum alloy plates, such as iron, copper, manganese, nickel, titanium, magnesium, and silicon, may melt | dissolve in the aqueous solution containing hydrochloric acid. Hypochlorous acid or hydrogen peroxide may be contained in an amount of 1 to 100 g / L.

具体的には、塩酸濃度2〜10g/Lの塩酸水溶液に、アルミニウム塩(例えば、塩化アルミニウム、AlCl3・6H2O)を溶解させてアルミニウムイオン濃度を3〜7g/L、好ましくは4〜6g/Lとなるように調整した液が好ましい。
このような塩酸水溶液を用いて電気化学的粗面化処理を行うと、粗面化処理による表面形状が均一になり、低純度のアルミニウム合金板でも高純度のアルミニウム合金板を使用しても、粗面化処理による処理ムラが発生せず、平版印刷版としたときの優れた耐刷性および耐汚れ性を両立することができる。
Specifically, an aluminum salt (for example, aluminum chloride, AlCl 3 .6H 2 O) is dissolved in a hydrochloric acid aqueous solution having a hydrochloric acid concentration of 2 to 10 g / L to make the aluminum ion concentration 3 to 7 g / L, preferably 4 to The liquid adjusted so that it may become 6 g / L is preferable.
When electrochemical surface roughening treatment is performed using such a hydrochloric acid aqueous solution, the surface shape by the surface roughening treatment becomes uniform, even if a low-purity aluminum alloy plate or a high-purity aluminum alloy plate is used, Processing unevenness due to the surface roughening treatment does not occur, and it is possible to achieve both excellent printing durability and stain resistance when using a lithographic printing plate.

塩酸を含有する水溶液の温度は、20℃以上であるのが好ましく、30℃以上であるのがより好ましく、また、55℃以下であるのが好ましく、50℃以下であるのがより好ましい。   The temperature of the aqueous solution containing hydrochloric acid is preferably 20 ° C or higher, more preferably 30 ° C or higher, more preferably 55 ° C or lower, and even more preferably 50 ° C or lower.

塩酸を含有する水溶液中への添加物、装置、電源、電流密度、流速、温度としては、電気化学的粗面化処理に使用するものとして公知のものを用いることができる。
電源としては、交流または直流が用いられるが、交流が好ましい。
As an additive, an apparatus, a power source, a current density, a flow rate, and a temperature in an aqueous solution containing hydrochloric acid, those known as those used for electrochemical surface roughening can be used.
As the power source, AC or DC is used, but AC is preferable.

塩酸は、それ自身のアルミニウム溶解力が強いため、わずかな電流を加えるだけで表面に微細な凹凸を形成させることが可能である。この微細な凹凸は、平均開口径が0.01〜0.4μmであり、アルミニウム板の表面の全面に均一に生成する。
更に、電気量を増やしていく(電気量の総和(アノード反応)が150〜2000C/dm2)と平均開口径0.01〜0.4μmのピットを表面に有する平均開口径1〜30μmのピットが生成する。このような砂目を得るためには電解反応が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和が、10C/dm2以上であるのが好ましく、50C/dm2以上であるのがより好ましく、100C/dm2以上であるのが更に好ましい。また、2000C/dm2以下であるのが好ましく、600C/dm2以下であるのがより好ましい。
電流密度は、電流のピーク値で20〜100A/dm2であるのが好ましい。
Since hydrochloric acid itself has a strong ability to dissolve aluminum, fine irregularities can be formed on the surface by applying a slight current. The fine irregularities have an average opening diameter of 0.01 to 0.4 μm and are uniformly generated on the entire surface of the aluminum plate.
Further, when the amount of electricity is increased (total amount of electricity (anode reaction) is 150 to 2000 C / dm 2 ), pits having an average opening diameter of 0.01 to 0.4 μm on the surface and having an average opening diameter of 1 to 30 μm Is generated. In order to obtain such a grain, the total amount of electricity involved in the anode reaction of the aluminum plate at the time when the electrolytic reaction is completed is preferably 10 C / dm 2 or more, and more preferably 50 C / dm 2 or more. Is more preferably 100 C / dm 2 or more. But preferably not more 2000C / dm 2 or less, more preferably 600C / dm 2 or less.
The current density is preferably 20 to 100 A / dm 2 at the peak value of the current.

上述した電気量が多い条件でアルミニウム合金板に塩酸電解を施すと、大きなうねりと微細な凹凸を同時に形成させることができ、後述する第2アルカリエッチング処理により、その大きなうねりをより均一にすることで、耐汚れ性を向上させることができる。   When hydrochloric acid electrolysis is performed on the aluminum alloy plate under the above-mentioned conditions with a large amount of electricity, large undulations and fine irregularities can be formed simultaneously, and the large undulations can be made more uniform by the second alkali etching process described later. Thus, the stain resistance can be improved.

硝酸または塩酸を含有する水溶液を用いる第1電気化学的粗面化処理は、例えば、特公昭48−28123号公報および英国特許第896,563号明細書に記載されている電気化学的グレイン法(電解グレイン法)に従うことができる。この電解グレイン法は、正弦波形の交流電流を用いるものであるが、特開昭52−58602号公報に記載されているような特殊な波形を用いて行ってもよい。また、特開平3−79799号公報に記載されている波形を用いることもできる。また、特開昭55−158298号、特開昭56−28898号、特開昭52−58602号、特開昭52−152302号、特開昭54−85802号、特開昭60−190392号、特開昭58−120531号、特開昭63−176187号、特開平1−5889号、特開平1−280590号、特開平1−118489号、特開平1−148592号、特開平1−178496号、特開平1−188315号、特開平1−154797号、特開平2−235794号、特開平3−260100号、特開平3−253600号、特開平4−72079号、特開平4−72098号、特開平3−267400号、特開平1−141094号の各公報に記載されている方法も適用することができる。また、前述のほかに、電解コンデンサーの製造方法として提案されている特殊な周波数の交番電流を用いて電解することも可能である。例えば、米国特許第4,276,129号明細書および同第4,676,879号明細書に記載されている。   The first electrochemical surface roughening treatment using an aqueous solution containing nitric acid or hydrochloric acid is performed by, for example, the electrochemical grain method described in Japanese Patent Publication No. 48-28123 and British Patent No. 896,563 ( Electrolytic grain method). This electrolytic grain method uses a sinusoidal alternating current, but it may be performed using a special waveform as described in JP-A-52-58602. Further, the waveform described in JP-A-3-79799 can also be used. JP-A-55-158298, JP-A-56-28898, JP-A-52-58602, JP-A-52-152302, JP-A-54-85802, JP-A-60-190392, JP-A-58-120531, JP-A-63-176187, JP-A-1-5889, JP-A-1-280590, JP-A-1-118489, JP-A-1-148592, and JP-A-1-17896. JP-A-1-188315, JP-A-1-1549797, JP-A-2-235794, JP-A-3-260100, JP-A-3-253600, JP-A-4-72079, JP-A-4-72098, The methods described in JP-A-3-267400 and JP-A-1-141094 can also be applied. In addition to the above, it is also possible to perform electrolysis using an alternating current having a special frequency that has been proposed as a method of manufacturing an electrolytic capacitor. For example, it is described in US Pat. Nos. 4,276,129 and 4,676,879.

電解槽および電源については、種々提案されているが、米国特許第4,203,637号明細書、特開昭56−123400号、特開昭57−59770号、特開昭53−12738号、特開昭53−32821号、特開昭53−32822号、特開昭53−32823号、特開昭55−122896号、特開昭55−132884号、特開昭62−127500号、特開平1−52100号、特開平1−52098号、特開昭60−67700号、特開平1−230800号、特開平3−257199号の各公報等に記載されているものを用いることができる。
また、特開昭52−58602号、特開昭52−152302号、特開昭53−12738号、特開昭53−12739号、特開昭53−32821号、特開昭53−32822号、特開昭53−32833号、特開昭53−32824号、特開昭53−32825号、特開昭54−85802号、特開昭55−122896号、特開昭55−132884号、特公昭48−28123号、特公昭51−7081号、特開昭52−133838号、特開昭52−133840号、特開昭52−133844号、特開昭52−133845号、特開昭53−149135号、特開昭54−146234号の各公報等に記載されているものも用いることができる。
Various electrolyzers and power sources have been proposed, including US Pat. No. 4,203,637, JP-A-56-123400, JP-A-57-59770, JP-A-53-12738, JP 53-32821, JP 53-32222, JP 53-32823, JP 55-122896, JP 55-13284, JP 62-127500, JP Those described in JP-A-1-52100, JP-A-1-52098, JP-A-60-67700, JP-A-1-230800, JP-A-3-257199 and the like can be used.
Further, JP-A-52-58602, JP-A-52-152302, JP-A-53-12738, JP-A-53-12739, JP-A-53-32821, JP-A-53-32822, JP 53-32833, JP 53-32824, JP 53-32825, JP 54-85802, JP 55-122896, JP 55-13284, JP 48-28123, JP-B-51-7081, JP-A-52-13338, JP-A-52-133840, JP-A-52-133844, JP-A-52-133845, JP-A-53-149135 And those described in JP-A No. 54-146234 and the like.

電導度計および比重計としては、それぞれ温度補償されているものを用いるのが好ましい。比重計としては、差圧式のものを用いるのが好ましい。
液組成の測定に用いるために電解液から採取されたサンプルは、電解液とは別の熱交換機を用いて、一定温度(例えば、40±0.5℃)に制御した後に、測定に用いるのが、測定の精度が高くなる点で好ましい。
As the conductivity meter and the specific gravity meter, it is preferable to use those that are temperature-compensated. As the specific gravity meter, a differential pressure type is preferably used.
Samples taken from the electrolyte for use in measuring the liquid composition are used for measurement after being controlled at a constant temperature (eg, 40 ± 0.5 ° C.) using a heat exchanger different from the electrolyte. However, it is preferable in that the accuracy of measurement is increased.

電気化学的粗面化処理に用いられる交流電源波は、特に限定されず、サイン波(正弦波)、矩形波、台形波、三角波等が用いられる。   The AC power supply wave used for the electrochemical surface roughening treatment is not particularly limited, and a sine wave (sine wave), a rectangular wave, a trapezoidal wave, a triangular wave, or the like is used.

交流のduty比は1:2〜2:1のものが使用可能であるが、特開平5−195300号公報に記載されているように、アルミニウムにコンダクタロールを用いない間接給電方式においてはduty比が1:1のものが好ましい。
交流の周波数は0.1〜120Hzのものを用いることが可能であるが、50〜70Hzが設備上好ましい。50Hzよりも低いと、主極のカーボン電極が溶解しやすくなり、また、70Hzよりも高いと、電源回路上のインダクタンス成分の影響を受けやすくなり、電源コストが高くなる。
An AC duty ratio of 1: 2 to 2: 1 can be used. However, as described in Japanese Patent Laid-Open No. 5-195300, the duty ratio is used in an indirect power feeding method in which no conductor roll is used for aluminum. Is preferably 1: 1.
An AC frequency of 0.1 to 120 Hz can be used, but 50 to 70 Hz is preferable in terms of equipment. If it is lower than 50 Hz, the carbon electrode of the main electrode is likely to be dissolved, and if it is higher than 70 Hz, it is likely to be affected by the inductance component on the power supply circuit and the power supply cost is increased.

電解槽は、縦型、フラット型、ラジアル型等の公知の表面処理に用いる電解槽が使用可能であるが、特開平5−195300号公報に記載されているようなラジアル型電解槽が特に好ましい。電解槽内を通過する電解液は、アルミニウムウェブの進行方向に対してパラレルであってもカウンターであってもよい。   As the electrolytic cell, electrolytic cells used for known surface treatments such as a vertical type, a flat type, and a radial type can be used, but a radial type electrolytic cell as described in JP-A-5-195300 is particularly preferable. . The electrolytic solution passing through the electrolytic cell may be parallel to the traveling direction of the aluminum web or may be a counter.

また、直流を用いた電気化学的粗面化処理には、通常の直流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる電解液を用いることができる。具体的には、上記交流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる電解液と同様のものを用いることができる。   In addition, in the electrochemical surface roughening treatment using direct current, an electrolytic solution used for the normal electrochemical surface roughening treatment using direct current can be used. Specifically, the same electrolyte solution used for the electrochemical surface roughening treatment using the alternating current can be used.

電気化学的粗面化処理に用いられる直流電源波は、極性の変化しない電流であれば特に限定されず、くし形波、連続直流、商用交流をサイリスタで全波整流したもの等が用いられるが、平滑化された連続直流が好ましい。
直流を用いた電気化学的粗面化処理は、回分法、半連続法および連続法のいずれでも行うことができるが、連続法で行うのが好ましい。
The DC power supply wave used for the electrochemical surface roughening treatment is not particularly limited as long as the current does not change in polarity. Smoothed continuous direct current is preferred.
The electrochemical surface roughening treatment using direct current can be performed by any of a batch method, a semi-continuous method and a continuous method, but is preferably performed by a continuous method.

直流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる装置は、交互に配置された陽極と陰極との間に直流電圧を印加し、アルミニウム板を該陽極および該陰極と、間隔を保って通過させることができるものであれば、特に限定されない。   The apparatus used for the electrochemical surface roughening treatment using direct current applies a direct current voltage between alternately arranged anodes and cathodes, and passes through the aluminum plate at a distance from the anodes and the cathodes. If it can be made, it will not be specifically limited.

電極は、特に限定されず、電気化学的粗面化処理に用いられる従来公知の電極を用いることができる。
陽極としては、例えば、チタン、タンタル、ニオブ等のバルブ金属に白金族系の金属を
めっきし、またはクラッドしたもの;バルブ金属に白金族系の金属の酸化物を塗布し、または焼結させたもの;アルミニウム;ステンレスが挙げられる。中でも、バルブ金属に白金をクラッドしたものが好ましい。電極の内部に水を通して水冷化するなどの方法により、陽極の寿命を更に長くすることができる。
陰極としては、例えば、ブールベイダイヤグラムから、電極電位を負としたときに溶解しない金属等を選択して用いることができる。中でも、カーボンが好ましい。
An electrode is not specifically limited, The conventionally well-known electrode used for an electrochemical roughening process can be used.
As the anode, for example, a valve metal such as titanium, tantalum, or niobium is plated or clad with a platinum group metal; the valve metal is coated with a platinum group metal oxide or sintered. Aluminium; stainless steel. Among these, a valve metal obtained by cladding platinum is preferable. The life of the anode can be further extended by a method such as water-cooling by passing water through the electrode.
As the cathode, for example, a metal that does not dissolve when the electrode potential is negative can be selected and used from the Boolean Bay diagram. Among these, carbon is preferable.

電極の配列は、波状構造に応じて、適宜選択することができる。また、陽極と陰極とのアルミニウム板の進行方向の長さを変えたり、アルミニウム板の通過速度を変えたり、電解液の流速、液温、液組成、電流密度等を変えることにより、波状構造を調整することができる。また、陽極の槽と陰極の槽とを別個の電解槽とした装置を用いる場合には、各処理槽の電解条件を変えることもできる。   The arrangement of the electrodes can be appropriately selected according to the wave structure. In addition, by changing the length of the aluminum plate between the anode and the cathode in the traveling direction, changing the passage speed of the aluminum plate, changing the flow rate of the electrolyte, the liquid temperature, the liquid composition, the current density, etc. Can be adjusted. In addition, in the case of using an apparatus in which the anode tank and the cathode tank are separated from each other, the electrolysis conditions of each treatment tank can be changed.

第1電気化学的粗面化処理が終了した後は、ニップロールで液切りし、更に、1〜10秒間水洗処理を行った後、ニップロールで液切りするのが好ましい。
水洗処理は、スプレー管を用いて水洗するのが好ましい。水洗処理に用いられるスプレー管としては、例えば、扇状に噴射水が広がるスプレーチップをアルミニウム板の幅方向に複数個有するスプレー管を用いることができる。スプレーチップの間隔は20〜100mmであるのが好ましく、また、スプレーチップ1本あたりの液量は1〜20L/minであるのが好ましい。スプレー管は複数本用いるのが好ましい。
After the first electrochemical surface roughening treatment is completed, it is preferable to drain the liquid with a nip roll, and further perform the water washing treatment for 1 to 10 seconds and then drain the liquid with a nip roll.
The washing treatment is preferably carried out using a spray tube. As the spray tube used for the water washing treatment, for example, a spray tube having a plurality of spray tips in the width direction of the aluminum plate in which fan water spreads in a fan shape can be used. The distance between spray tips is preferably 20 to 100 mm, and the amount of liquid per spray tip is preferably 1 to 20 L / min. It is preferable to use a plurality of spray tubes.

<第2アルカリエッチング処理>
第1電気化学的粗面化処理と第2電気化学的粗面化処理との間に行われる第2アルカリエッチング処理は、第1電気化学的粗面化処理で生成したスマットを溶解させること、および、第1電気化学的粗面化処理により形成されたピットのエッジ部分を溶解させることを目的として行われる。これにより、第1電気化学的粗面化処理によって形成された大きなピットのエッジ部分が溶解して表面が滑らかになり、インキがエッジ部分にひっかかりにくくなるため、耐汚れ性に優れる平版印刷版原版を得ることができる。
第2アルカリエッチング処理は、基本的に第1アルカリエッチング処理と同様であるので、異なる点のみ以下に説明する。
<Second alkali etching treatment>
The second alkali etching process performed between the first electrochemical surface roughening process and the second electrochemical surface roughening process is to dissolve the smut generated by the first electrochemical surface roughening process; And it is performed for the purpose of dissolving the edge part of the pit formed by the 1st electrochemical roughening process. As a result, the edge portion of the large pit formed by the first electrochemical surface roughening process is melted and the surface becomes smooth, and the ink is less likely to be caught on the edge portion. Therefore, the lithographic printing plate precursor having excellent stain resistance Can be obtained.
Since the second alkali etching process is basically the same as the first alkali etching process, only different points will be described below.

第2アルカリエッチング処理においては、アルカリ溶液の濃度は、30g/L以上であるのが好ましく、300g/L以上であるのがより好ましく、また、500g/L以下であるのが好ましく、450g/L以下であるのがより好ましい。
また、アルカリ溶液は、アルミニウムイオンを含有しているのが好ましい。アルミニウムイオン濃度は、1g/L以上であるのが好ましく、50g/L以上であるのがより好ましく、また、200g/L以下であるのが好ましく、150g/L以下であるのがより好ましい。このようなアルカリ溶液は、例えば、水と48質量%カセイソーダ水溶液とアルミン酸ソーダとを用いて調製することができる。
In the second alkali etching treatment, the concentration of the alkali solution is preferably 30 g / L or more, more preferably 300 g / L or more, and preferably 500 g / L or less, 450 g / L. The following is more preferable.
The alkaline solution preferably contains aluminum ions. The aluminum ion concentration is preferably 1 g / L or more, more preferably 50 g / L or more, and preferably 200 g / L or less, more preferably 150 g / L or less. Such an alkaline solution can be prepared using, for example, water, a 48 mass% sodium hydroxide aqueous solution, and sodium aluminate.

第2アルカリエッチング処理においては、エッチング量は、0.05g/m2以上であるのが好ましく、0.1g/m2以上であるのがより好ましく、また、4g/m2以下であるのが好ましく、3.5g/m2以下であるのがより好ましい。エッチング量が0.05g/m2以上であると、平版印刷版の非画像部において、第1電気化学的粗面化処理で生成したピットのエッジ部分が滑らかとなり、インキがひっかかりにくくなるため、耐汚れ性が優れる。一方、エッチング量が4g/m2以下であると、第1電気化学的粗面化処理で生成した凹凸が大きくなるため、耐刷性が優れる。 In the second alkali etching treatment, the etching amount is preferably at 0.05 g / m 2 or more, more preferably 0.1 g / m 2 or more, and it is at 4g / m 2 or less Preferably, it is 3.5 g / m 2 or less. When the etching amount is 0.05 g / m 2 or more, in the non-image portion of the lithographic printing plate, the edge portion of the pit generated by the first electrochemical roughening treatment becomes smooth, and the ink is difficult to get caught. Excellent stain resistance. On the other hand, when the etching amount is 4 g / m 2 or less, the unevenness generated by the first electrochemical surface roughening treatment becomes large, so that the printing durability is excellent.

<第2デスマット処理>
第2アルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗い(第2デスマット処理)を行うのが好ましい。第2デスマット処理は、第1デスマット処理と同様の方法で行うことができる。
<Second desmut treatment>
After the second alkali etching treatment, it is preferable to perform pickling (second desmut treatment) in order to remove dirt (smut) remaining on the surface. The second desmut process can be performed in the same manner as the first desmut process.

第2デスマット処理においては、硝酸または硫酸を用いるのが好ましい。
第2デスマット処理においては、1〜400g/Lの酸および0.1〜8g/Lのアルミニウムイオンを含有する酸性溶液を用いるのが好ましい。
硫酸を用いる場合は、具体的には、硫酸濃度100〜350g/Lの硫酸水溶液に、硫酸アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を0.1〜5g/Lとなるように調整した液を用いることができる。また、後述する陽極酸化処理に用いられる電解液のオーバーフロー廃液を用いこともできる。
In the second desmut treatment, nitric acid or sulfuric acid is preferably used.
In the second desmutting treatment, it is preferable to use an acidic solution containing 1 to 400 g / L acid and 0.1 to 8 g / L aluminum ions.
When using sulfuric acid, specifically, use a solution prepared by dissolving aluminum sulfate in a sulfuric acid aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 100 to 350 g / L so that the aluminum ion concentration becomes 0.1 to 5 g / L. Can do. Moreover, the overflow waste liquid of the electrolyte solution used for the anodizing process mentioned later can also be used.

第2デスマット処理においては、処理時間は、1秒以上であるのが好ましく、4秒以上であるのがより好ましく、また、60秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
第2デスマット処理においては、酸水溶液の温度は、20℃以上であるのが好ましく、30℃以上であるのがより好ましく、また、70℃以下であるのが好ましく、60℃以下であるのがより好ましい。
In the second desmut treatment, the treatment time is preferably 1 second or more, more preferably 4 seconds or more, and preferably 60 seconds or less, more preferably 20 seconds or less. .
In the second desmutting treatment, the temperature of the aqueous acid solution is preferably 20 ° C. or higher, more preferably 30 ° C. or higher, and preferably 70 ° C. or lower, preferably 60 ° C. or lower. More preferred.

<第2電気化学的粗面化処理>
第2電気化学的粗面化処理は、塩酸を含有する水溶液中での交流または直流を用いた電気化学的粗面化処理である。本発明においては、上述した第1電気化学的粗面化処理のみを行ってもよいが、この第2電気化学的粗面化処理を組み合わせることにより、更に複雑な凹凸構造をアルミニウム板の表面に形成させることができ、ひいては、耐刷性を優れたものにすることができる。
<Second electrochemical roughening treatment>
The second electrochemical roughening treatment is an electrochemical roughening treatment using alternating current or direct current in an aqueous solution containing hydrochloric acid. In the present invention, only the first electrochemical surface roughening treatment described above may be performed, but by combining this second electrochemical surface roughening treatment, a more complicated uneven structure is formed on the surface of the aluminum plate. Thus, the printing durability can be improved.

第2電気化学的粗面化処理は、上述した第1電気化学的粗面化処理として行われる塩酸電解と基本的に同様である。
第2電気化学的粗面化処理におけるアルミニウム板が陽極反応にあずかる電気量の総和は、電気化学的粗面化処理が終了した時点で、10〜200C/dm2であるのが好ましい。中でも、第1電気化学的粗面化処理で形成した粗面を大きくくずさないためには、10〜100C/dm2であるのが好ましく、50〜80C/dm2がより好ましい。
The second electrochemical roughening treatment is basically the same as the hydrochloric acid electrolysis performed as the first electrochemical roughening treatment described above.
In the second electrochemical roughening treatment, the total amount of electricity that the aluminum plate takes part in the anodic reaction is preferably 10 to 200 C / dm 2 when the electrochemical roughening treatment is completed. Among these, in order not to greatly break the rough surface formed by the first electrochemical surface roughening treatment, 10 to 100 C / dm 2 is preferable, and 50 to 80 C / dm 2 is more preferable.

<第3アルカリエッチング処理>
第2電気化学的粗面化処理の後に行われる第3アルカリエッチング処理は、第2電気化学的粗面化処理で生成したスマットを溶解させること、および、第2電気化学的粗面化処理により形成されたピットのエッジ部分を溶解させることを目的として行われる。第3アルカリエッチング処理は、基本的に第1アルカリエッチング処理と同様であるので、異なる点のみ以下に説明する。
<Third alkali etching treatment>
The third alkali etching treatment performed after the second electrochemical roughening treatment is performed by dissolving the smut generated by the second electrochemical roughening treatment, and by the second electrochemical roughening treatment. This is performed for the purpose of dissolving the edge portion of the formed pit. Since the third alkali etching process is basically the same as the first alkali etching process, only different points will be described below.

第3アルカリエッチング処理においては、エッチング量は、0.05g/m2以上であるのが好ましく、0.1g/m2以上であるのがより好ましく、また、0.3g/m2以下であるのが好ましく、0.25g/m2以下であるのがより好ましい。エッチング量が0.05g/m2以上であると、平版印刷版の非画像部において、第2電気化学的粗面化処理で生成したピットのエッジ部分が滑らかとなり、インキがひっかかりにくくなるため、耐汚れ性が優れたものになる。一方、エッチング量が0.3g/m2以下であると、第1電気化学的粗面化処理および第2電気化学的粗面化処理で生成した凹凸が大きくなるため、耐刷性が優れたものになる。 In the third alkali etching treatment, the etching amount is preferably at 0.05 g / m 2 or more, more preferably 0.1 g / m 2 or more, is 0.3 g / m 2 or less Of 0.25 g / m 2 or less is more preferable. When the etching amount is 0.05 g / m 2 or more, in the non-image portion of the lithographic printing plate, the edge portion of the pit generated by the second electrochemical surface roughening process becomes smooth, and the ink is not easily caught. Excellent stain resistance. On the other hand, when the etching amount is 0.3 g / m 2 or less, the unevenness generated in the first electrochemical surface roughening treatment and the second electrochemical surface roughening treatment becomes large, and thus the printing durability is excellent. Become a thing.

第3アルカリエッチング処理においては、アルカリ溶液の濃度は、30g/L以上であるのが好ましく、また、第2電気化学的粗面化処理によって生じた凹凸を小さくしすぎないようにするため、100g/L以下であるのが好ましく、70g/L以下であるのがより好ましい。
また、アルカリ溶液は、アルミニウムイオンを含有しているのが好ましい。アルミニウムイオン濃度は、1g/L以上であるのが好ましく、3g/L以上であるのがより好ましく、また、50g/L以下であるのが好ましく、8g/L以下であるのがより好ましい。このようなアルカリ溶液は、例えば、水と48質量%カセイソーダ水溶液とアルミン酸ソーダとを用いて調製することができる。
In the third alkali etching treatment, the concentration of the alkali solution is preferably 30 g / L or more, and in order not to make the unevenness caused by the second electrochemical roughening treatment too small, 100 g / L or less is preferable, and 70 g / L or less is more preferable.
The alkaline solution preferably contains aluminum ions. The aluminum ion concentration is preferably 1 g / L or more, more preferably 3 g / L or more, and preferably 50 g / L or less, more preferably 8 g / L or less. Such an alkaline solution can be prepared using, for example, water, a 48 mass% sodium hydroxide aqueous solution, and sodium aluminate.

第3アルカリエッチング処理においては、アルカリ溶液の温度は、25℃以上であるのが好ましく、30℃以上であるのがより好ましく、また、60℃以下であるのが好ましく、50℃以下であるのがより好ましい。
第3アルカリエッチング処理においては、処理時間は、1秒以上であるのが好ましく、2秒以上であるのがより好ましく、また、30秒以下であるのが好ましく、10秒以下であるのがより好ましい。
In the third alkali etching treatment, the temperature of the alkaline solution is preferably 25 ° C or higher, more preferably 30 ° C or higher, and preferably 60 ° C or lower, and 50 ° C or lower. Is more preferable.
In the third alkali etching treatment, the treatment time is preferably 1 second or longer, more preferably 2 seconds or longer, more preferably 30 seconds or shorter, and more preferably 10 seconds or shorter. preferable.

第1アルカリエッチング処理、硝酸電解、第2アルカリエッチング処理、第2電気化学的粗面化処理および第3アルカリエッチング処理を組み合わせて行う場合は、硝酸電解においてアノード反応における総電気量を65〜500C/dm2とし、0.1g/m2以上のアルミニウムを化学的に溶解させ、第2電気化学的粗面化処理においてアノード反応における総電気量を25〜100C/dm2とし、第3アルカリエッチング処理において0.03g/m2以上のアルミニウムを化学的に溶解させるのが好ましい。本発明のアルミニウム合金素板をこの組み合わせで粗面化処理すれば、耐汚れ性に優れ、かつ耐刷性に優れた平版印刷版用支持体が得られる。 When the first alkali etching treatment, nitric acid electrolysis, second alkali etching treatment, second electrochemical surface roughening treatment and third alkali etching treatment are performed in combination, the total amount of electricity in the anode reaction in nitric acid electrolysis is 65 to 500 C. / Dm 2 , 0.1 g / m 2 or more of aluminum is chemically dissolved, and in the second electrochemical roughening treatment, the total amount of electricity in the anode reaction is 25 to 100 C / dm 2, and the third alkali etching In the treatment, 0.03 g / m 2 or more of aluminum is preferably chemically dissolved. If the aluminum alloy base plate of the present invention is roughened with this combination, a lithographic printing plate support excellent in stain resistance and printing durability can be obtained.

<第3デスマット処理>
第3アルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗い(第3デスマット処理)を行うのが好ましい。第3デスマット処理は、基本的に第1デスマット処理と同様であるので、異なる点のみ以下に説明する。
第3デスマット処理においては、5〜400g/Lの酸および0.5〜8g/Lのアルミニウムイオンを含有する酸性溶液を用いるのが好ましい。硫酸を用いる場合は、具体的には、硫酸濃度100〜350g/Lの硫酸水溶液に、硫酸アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を1〜5g/Lとなるように調整した液が好ましい。
<Third desmut processing>
After the third alkali etching treatment, pickling (third desmutting treatment) is preferably performed to remove dirt (smut) remaining on the surface. Since the third desmut process is basically the same as the first desmut process, only the differences will be described below.
In the third desmutting treatment, it is preferable to use an acidic solution containing 5-400 g / L acid and 0.5-8 g / L aluminum ions. In the case of using sulfuric acid, specifically, a solution prepared by dissolving aluminum sulfate in a sulfuric acid aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 100 to 350 g / L to adjust the aluminum ion concentration to 1 to 5 g / L is preferable.

第3デスマット処理においては、処理時間は、1秒以上であるのが好ましく、4秒以上であるのがより好ましく、また、60秒以下であるのが好ましく、15秒以下であるのがより好ましい。
第3デスマット処理において、デスマット処理液として、引き続き行われる陽極酸化処理に用いられる電解液と同じ種類の液を用いる場合には、デスマット処理後にニップロールによる液切りおよび水洗処理を省略することができる。
In the third desmut treatment, the treatment time is preferably 1 second or longer, more preferably 4 seconds or longer, and preferably 60 seconds or shorter, more preferably 15 seconds or shorter. .
In the third desmut process, when the same type of electrolyte as that used in the subsequent anodic oxidation process is used as the desmut process liquid, the draining with a nip roll and the water washing process can be omitted after the desmut process.

<陽極酸化処理>
以上のように処理されたアルミニウム板には、更に、陽極酸化処理を施すことができる。陽極酸化処理はこの分野で従来行われている方法で行うことができる。この場合、例えば、硫酸濃度50〜300g/Lで、アルミニウム濃度5質量%以下の溶液中で、アルミニウム板を陽極として通電して陽極酸化皮膜を形成させることができる。陽極酸化処理に用いられる溶液としては、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸、アミドスルホン酸等を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
<Anodizing treatment>
The aluminum plate treated as described above can be further anodized. The anodizing treatment can be performed by a method conventionally used in this field. In this case, for example, in a solution having a sulfuric acid concentration of 50 to 300 g / L and an aluminum concentration of 5% by mass or less, an anodized film can be formed by energizing an aluminum plate as an anode. As a solution used for the anodizing treatment, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, amidosulfonic acid and the like can be used alone or in combination of two or more.

この際、少なくともアルミニウム板、電極、水道水、地下水等に通常含まれる成分が電解液中に含まれていても構わない。更には、第2、第3の成分が添加されていても構わない。ここでいう第2、第3の成分としては、例えば、Na、K、Mg、Li、Ca、Ti
、Al、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn等の金属のイオン;アンモニウムイオン等の陽イオン;硝酸イオン、炭酸イオン、塩化物イオン、リン酸イオン、フッ化物イオン、亜硫酸イオン、チタン酸イオン、ケイ酸イオン、ホウ酸イオン等の陰イオンが挙げられ、0〜10000ppm程度の濃度で含まれていてもよい。
Under the present circumstances, the component normally contained at least in an aluminum plate, an electrode, tap water, groundwater, etc. may be contained in electrolyte solution. Furthermore, the 2nd, 3rd component may be added. Examples of the second and third components here include Na, K, Mg, Li, Ca, and Ti.
Metal ions such as Al, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu and Zn; cations such as ammonium ions; nitrate ions, carbonate ions, chloride ions, phosphate ions, fluoride ions, sulfurous acid Examples include anions such as ions, titanate ions, silicate ions, and borate ions, which may be contained at a concentration of about 0 to 10,000 ppm.

陽極酸化処理の条件は、使用される電解液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一般的には電解液濃度1〜80質量%、液温5〜70℃、電流密度0.5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間15秒〜50分であるのが適当であり、所望の陽極酸化皮膜量となるように調整される。 The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be determined unconditionally. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 0.5. ˜60 A / dm 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 15 seconds to 50 minutes are appropriate and adjusted so as to obtain a desired anodic oxide film amount.

また、特開昭54−81133号、特開昭57−47894号、特開昭57−51289号、特開昭57−51290号、特開昭57−54300号、特開昭57−136596号、特開昭58−107498号、特開昭60−200256号、特開昭62−136596号、特開昭63−176494号、特開平4−176897号、特開平4−280997号、特開平6−207299号、特開平5−24377号、特開平5−32083号、特開平5−125597号、特開平5−195291号の各公報等に記載されている方法を使用することもできる。   Further, JP-A-54-81133, JP-A-57-47894, JP-A-57-51289, JP-A-57-51290, JP-A-57-54300, JP-A-57-136596, JP-A-58-107498, JP-A-60-200366, JP-A-62-136696, JP-A-63-176494, JP-A-4-17697, JP-A-4-280997, JP-A-6-280997 The methods described in JP-A-207299, JP-A-5-24377, JP-A-5-32083, JP-A-5-125597, JP-A-5-195291 and the like can also be used.

中でも、特開昭54−12853号公報および特開昭48−45303号公報に記載されているように、電解液として硫酸溶液を用いるのが好ましい。電解液中の硫酸濃度は、10〜300g/L(1〜30質量%)であるのが好ましく、50〜200g/L(5〜20質量%)であるのがより好ましく、また、アルミニウムイオン濃度は、1〜25g/L(0.1〜2.5質量%)であるのが好ましく、2〜10g/L(0.2〜1質量%)であるのがより好ましい。このような電解液は、例えば、硫酸濃度が50〜200g/Lである希硫酸に硫酸アルミニウム等を添加することにより調製することができる。   Of these, as described in JP-A-54-12853 and JP-A-48-45303, it is preferable to use a sulfuric acid solution as the electrolytic solution. The sulfuric acid concentration in the electrolytic solution is preferably 10 to 300 g / L (1 to 30% by mass), more preferably 50 to 200 g / L (5 to 20% by mass), and the aluminum ion concentration. Is preferably 1 to 25 g / L (0.1 to 2.5% by mass), more preferably 2 to 10 g / L (0.2 to 1% by mass). Such an electrolytic solution can be prepared, for example, by adding aluminum sulfate or the like to dilute sulfuric acid having a sulfuric acid concentration of 50 to 200 g / L.

電解液の組成管理は、上述した硝酸電解等の場合と同様の方法を用いて、硫酸濃度とアルミニウムイオン濃度とのマトリクスに対応する、電導度と比重と温度、または、電導度と超音波伝搬速度と温度により管理するのが好ましい。   The composition management of the electrolyte is conducted using the same method as in the case of nitric acid electrolysis described above, and the conductivity, specific gravity and temperature, or conductivity and ultrasonic wave propagation corresponding to the matrix of sulfuric acid concentration and aluminum ion concentration. It is preferable to control by speed and temperature.

電解液の液温は、25〜55℃であるのが好ましく、30〜50であるのがより好ましい。   The liquid temperature of the electrolytic solution is preferably 25 to 55 ° C, more preferably 30 to 50.

硫酸を含有する電解液中で陽極酸化処理を行う場合には、アルミニウム板と対極との間に直流を印加してもよく、交流を印加してもよい。
アルミニウム板に直流を印加する場合においては、電流密度は、1〜60A/dm2であるのが好ましく、5〜40A/dm2であるのがより好ましい。
連続的に陽極酸化処理を行う場合には、アルミニウム板の一部に電流が集中していわゆる「焼け」(皮膜が周囲より厚くなる部分)が生じないように、陽極酸化処理の開始当初は、5〜10A/m2の低電流密度で電流を流し、陽極酸化処理が進行するにつれ、30〜50A/dm2またはそれ以上に電流密度を増加させるのが好ましい。
このような条件で陽極酸化処理を行うことによりポア(マイクロポア)と呼ばれる孔を多数有する多孔質皮膜が得られるが、通常、その平均ポア径は5〜50nm程度であり、平均ポア密度は300〜800個/μm2程度である。
When anodizing is performed in an electrolytic solution containing sulfuric acid, direct current may be applied between the aluminum plate and the counter electrode, or alternating current may be applied.
When a direct current is applied to the aluminum plate, the current density is preferably from 1 to 60 A / dm 2, and more preferably 5 to 40 A / dm 2.
In the case of continuous anodizing treatment, at the beginning of anodizing treatment, so that current is concentrated on a part of the aluminum plate and so-called “burning” (part where the film becomes thicker than the surroundings) does not occur. It is preferable to increase the current density to 30 to 50 A / dm 2 or higher as the anodic oxidation process proceeds with a current flowing at a low current density of 5 to 10 A / m 2 .
By performing anodizing treatment under such conditions, a porous film having many pores called micropores can be obtained. Usually, the average pore diameter is about 5 to 50 nm, and the average pore density is 300. ˜800 / μm 2 or so.

陽極酸化皮膜の量は1〜5g/m2であるのが好ましい。1g/m2未満であると版に傷が入りやすくなり、一方、5g/m2を超えると製造に多大な電力が必要となり、経済的に不利となる。陽極酸化皮膜の量は、1.5〜4g/m2であるのがより好ましい。また、アルミニウム板の中央部と縁部近傍との間の陽極酸化皮膜量の差が1g/m2以下になるように行うのが好ましい。 The amount of the anodized film is preferably 1 to 5 g / m 2 . If it is less than 1 g / m 2 , the plate is likely to be scratched. On the other hand, if it exceeds 5 g / m 2 , a large amount of power is required for production, which is economically disadvantageous. The amount of the anodized film is more preferably 1.5 to 4 g / m 2 . Moreover, it is preferable to carry out so that the difference in the amount of the anodized film between the center portion of the aluminum plate and the vicinity of the edge portion is 1 g / m 2 or less.

陽極酸化処理に用いられる電解装置としては、特開昭48−26638号、特開昭47−18739号、特公昭58−24517号、特開2001−11698号の各公報等に記載されているものを用いることができる。   As electrolysis apparatuses used for anodizing treatment, those described in JP-A-48-26638, JP-A-47-18739, JP-B-58-24517, JP-A-2001-11698, etc. Can be used.

<封孔処理>
本発明においては、必要に応じて陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアを封じる封孔処理を行ってもよい。封孔処理は、沸騰水処理、熱水処理、蒸気処理、ケイ酸ソーダ処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等の公知の方法に従って行うことができる。例えば、特公昭56−12518号公報、特開平4−4194号公報、特開平5−202496号公報、特開平5−179482号公報等に記載されている装置および方法で封孔処理を行ってもよい。
<Sealing treatment>
In this invention, you may perform the sealing process which seals the micropore which exists in an anodic oxide film as needed. The sealing treatment can be performed according to a known method such as boiling water treatment, hot water treatment, steam treatment, sodium silicate treatment, nitrite treatment, ammonium acetate treatment and the like. For example, even if the sealing treatment is carried out by the apparatus and method described in JP-B-56-12518, JP-A-4-4194, JP-A-5-20296, JP-A-5-179482, etc. Good.

<親水化処理>
陽極酸化処理後または封孔処理後、親水化処理を行ってもよい。親水化処理としては、例えば、米国特許第2,946,638号明細書に記載されているフッ化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第3,201,247号明細書に記載されているホスホモリブデート処理、英国特許第1,108,559号に記載されているアルキルチタネート処理、独国特許第1,091,433号明細書に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許第1,134,093号明細書および英国特許第1,230,447号明細書に記載されているポリビニルホスホン酸処理、特公昭44−6409号公報に記載されているホスホン酸処理、米国特許第3,307,951号明細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭58−16893号公報および特開昭58−18291号公報に記載されている親油性有機高分子化合物と2価の金属との塩による処理、米国特許第3,860,426号明細書に記載されているように、水溶性金属塩(例えば、酢酸亜鉛)を含む親水性セルロース(例えば、カルボキシメチルセルロース)の下塗層を設ける処理、特開昭59−101651号公報に記載されているスルホ基を有する水溶性重合体を下塗りする処理が挙げられる。
<Hydrophilic treatment>
A hydrophilization treatment may be performed after the anodizing treatment or the sealing treatment. Examples of the hydrophilization treatment include treatment with potassium fluorozirconate described in US Pat. No. 2,946,638 and phosphomolybdate described in US Pat. No. 3,201,247. Treatment, alkyl titanate treatment described in British Patent 1,108,559, polyacrylic acid treatment described in German Patent 1,091,433, German Patent 1,134, No. 093 and British Patent No. 1,230,447, polyvinylphosphonic acid treatment, Japanese Patent Publication No. 44-6409, phosphonic acid treatment, US Pat. No. 3,307,951 Phytic acid treatment described in the specification of JP, No. 58-16893 and JP-A No. 58-18291 Treatment with a salt of a molecular compound and a divalent metal, as described in US Pat. No. 3,860,426, hydrophilic cellulose (eg, zinc acetate) containing a water-soluble metal salt (eg, zinc acetate) Carboxymethyl cellulose) is provided with a primer layer, and a water-soluble polymer having a sulfo group described in JP-A-59-101651.

また、特開昭62−019494号公報に記載されているリン酸塩、特開昭62−033692号公報に記載されている水溶性エポキシ化合物、特開昭62−097892号公報に記載されているリン酸変性デンプン、特開昭63−056498号公報に記載されているジアミン化合物、特開昭63−130391号公報に記載されているアミノ酸の無機または有機酸、特開昭63−145092号公報に記載されているカルボキシ基またはヒドロキシ基を含む有機ホスホン酸、特開昭63−165183号公報に記載されているアミノ基とホスホン酸基を有する化合物、特開平2−316290号公報に記載されている特定のカルボン酸誘導体、特開平3−215095号公報に記載されているリン酸エステル、特開平3−261592号公報に記載されている1個のアミノ基とリンの酸素酸基1個を持つ化合物、特開平5−246171号公報に記載されているフェニルホスホン酸等の脂肪族または芳香族ホスホン酸、特開平1−307745号公報に記載されているチオサリチル酸のようなS原子を含む化合物、特開平4−282637号公報に記載されているリンの酸素酸のグループを持つ化合物等を用いた下塗りによる処理も挙げられる。
更に、特開昭60−64352号公報に記載されている酸性染料による着色を行うこともできる。
Further, phosphates described in JP-A No. 62-019494, water-soluble epoxy compounds described in JP-A No. 62-033692, and JP-A No. 62-097892 Phosphoric acid modified starch, diamine compounds described in JP-A-63-056498, inorganic or organic acids of amino acids described in JP-A-63-130391, JP-A-63-145092 Organic phosphonic acids containing carboxy group or hydroxy group, compounds having amino group and phosphonic acid group described in JP-A-63-165183, and JP-A-2-316290 Specific carboxylic acid derivatives, phosphate esters described in JP-A-3-215095, JP-A-3-261592 Compounds having one amino group and one oxygen acid group of phosphorus described in the report, aliphatic or aromatic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid described in JP-A-5-246171, Treatment by undercoating using a compound containing an S atom such as thiosalicylic acid described in JP-A-1-307745, a compound having a group of phosphorus oxyacids described in JP-A-4-282737, etc. Can be mentioned.
Further, coloring with an acid dye described in JP-A-60-64352 can also be performed.

また、ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸せきさせる方法、親水性ビニルポリマーまたは親水性化合物を塗布して親水性の下塗層を形成させる方法等により、親水化処理を行うのが好ましい。   Hydrophilicity can also be achieved by soaking in an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate or potassium silicate, or by applying a hydrophilic vinyl polymer or hydrophilic compound to form a hydrophilic primer layer. It is preferable to carry out the treatment.

ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液による親水化処理は、米国特許第2,714,066号明細書および米国特許第3,181,461号明細書に記
載されている方法および手順に従って行うことができる。
アルカリ金属ケイ酸塩としては、例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムが挙げられる。アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を適当量含有してもよい。
また、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液は、アルカリ土類金属塩または4族(第IVA族)金属塩を含有してもよい。アルカリ土類金属塩としては、例えば、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウム等の硝酸塩;硫酸塩;塩酸塩;リン酸塩;酢酸塩;シュウ酸塩;ホウ酸塩が挙げられる。4族(第IVA族)金属塩としては、例えば、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムが挙げられる。これらのアルカリ土類金属塩および4族(第IVA族)金属塩は、単独でまたは2種以上組み合わせて用いられる。
Hydrophilization treatment with an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate and potassium silicate is described in US Pat. No. 2,714,066 and US Pat. No. 3,181,461. It can be performed according to methods and procedures.
Examples of the alkali metal silicate include sodium silicate, potassium silicate, and lithium silicate. The aqueous solution of alkali metal silicate may contain an appropriate amount of sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide or the like.
The aqueous solution of alkali metal silicate may contain an alkaline earth metal salt or a Group 4 (Group IVA) metal salt. Examples of the alkaline earth metal salt include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate; sulfates; hydrochlorides; phosphates; acetates; oxalates; Examples of Group 4 (Group IVA) metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium fluoride titanium, potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium tetrachloride. Is mentioned. These alkaline earth metal salts and Group 4 (Group IVA) metal salts are used alone or in combination of two or more.

アルカリ金属ケイ酸塩処理によって吸着するSi量は蛍光X線分析装置により測定することができ、その吸着量は約1.0〜15.0mg/m2であるのが好ましい。
このアルカリ金属ケイ酸塩処理により、平版印刷版用支持体の表面のアルカリ現像液に対する耐溶解性向上の効果が得られ、アルミニウム成分の現像液中への溶出が抑制されて、現像液の疲労に起因する現像カスの発生を低減することができる。
The amount of Si adsorbed by the alkali metal silicate treatment can be measured with a fluorescent X-ray analyzer, and the amount of adsorption is preferably about 1.0 to 15.0 mg / m 2 .
By this alkali metal silicate treatment, the effect of improving the dissolution resistance to the alkaline developer on the surface of the lithographic printing plate support is obtained, and the dissolution of the aluminum component into the developer is suppressed, and the developer fatigue It is possible to reduce the occurrence of development residue due to the above.

<乾燥>
上述したようにして平版印刷版用支持体を得た後、画像記録層を設ける前に、平版印刷版用支持体の表面を乾燥させるのが好ましい。乾燥は、表面処理の最後の処理の後、水洗処理およびニップロールで液切りしてから行うのが好ましい。
乾燥温度は、70℃以上であるのが好ましく、80℃以上であるのがより好ましく、また、110℃以下であるのが好ましく、100℃以下であるのがより好ましい。
乾燥時間は、1秒以上であるのが好ましく、2秒以上であるのがより好ましく、また20秒以下であるのが好ましく、15秒であるのがより好ましい。
<Drying>
After obtaining the lithographic printing plate support as described above, it is preferable to dry the surface of the lithographic printing plate support before providing the image recording layer. Drying is preferably performed after the final treatment of the surface treatment, after washing with water and draining with a nip roll.
The drying temperature is preferably 70 ° C or higher, more preferably 80 ° C or higher, preferably 110 ° C or lower, more preferably 100 ° C or lower.
The drying time is preferably 1 second or more, more preferably 2 seconds or more, and preferably 20 seconds or less, more preferably 15 seconds.

<液組成の管理>
本発明においては、上述した表面処理に用いられる各種の処理液の組成を、特開2001−121837号公報に記載されている方法で管理するのが好ましい。あらかじめ、種々の濃度の多数の処理液サンプルを調製し、それぞれ二つの液温における超音波の伝搬速度を測定し、マトリクス状のデータテーブルを作成しておき、処理中に、液温および超音波の伝搬速度をリアルタイム測定し、それに基づいて濃度の制御を行うのが好ましい。特に、デスマット処理において、硫酸濃度250g/L以上の電解液を用いる場合においては、上述する方法により、濃度の制御を行うのが好ましい。
なお、電解粗面化処理および陽極酸化処理に用いられる各電解液は、Cu濃度が100ppm以下であるのが好ましい。Cu濃度が高すぎると、ラインを停止するとアルミニウム板上にCuが析出し、ラインを再度稼動した際に析出したCuがパスロールに転写されて、処理ムラの原因となる場合がある。
<Management of liquid composition>
In the present invention, it is preferable to manage the composition of various processing solutions used for the surface treatment described above by the method described in JP-A-2001-121837. Prepare a large number of treatment liquid samples with various concentrations in advance, measure the propagation speed of ultrasonic waves at two liquid temperatures, create a matrix data table, It is preferable to measure the propagation speed of the light in real time and control the concentration based on the measurement. In particular, in the desmutting treatment, when an electrolytic solution having a sulfuric acid concentration of 250 g / L or more is used, it is preferable to control the concentration by the method described above.
In addition, it is preferable that each electrolyte solution used for an electrolytic roughening process and an anodic oxidation process is 100 ppm or less of Cu concentration. If the Cu concentration is too high, Cu is deposited on the aluminum plate when the line is stopped, and Cu deposited when the line is operated again may be transferred to a pass roll, which may cause processing unevenness.

<支持体の裏面の表面形状>
本発明の第2の態様の平版印刷版用支持体においては、圧延方向の平均表面粗さRaが0.15〜0.35であり、幅方向の平均表面粗さRaが0.20〜0.40である。これにより、平版印刷版原版および平版印刷版の搬送性および合紙分離性が優れたものになる。その結果、印刷の生産性低下を防ぐことができる。
<Surface shape of the back surface of the support>
In the second lithographic printing plate support of the embodiment of the present invention, the average surface roughness R a in the rolling direction is 0.15 to 0.35, the average surface roughness R a in the width direction is 0.20 ~ 0.40. As a result, the transportability and interleaf separation of the planographic printing plate precursor and the planographic printing plate are excellent. As a result, a decrease in printing productivity can be prevented.

[平版印刷版原版]
本発明の平版印刷版用支持体には、画像記録層を設けて平版印刷版原版とすることができる。画像記録層には、感光性組成物が用いられる。
本発明に好適に用いられる感光性組成物としては、例えば、アルカリ可溶性高分子化合物と光熱変換物質とを含有するサーマルポジ型感光性組成物(以下、この組成物およびこれを用いた画像記録層について、「サーマルポジタイプ」という。)、硬化性化合物と光熱変換物質とを含有するサーマルネガ型感光性組成物(以下、同様に「サーマルネガタイプ」という。)、光重合型感光性組成物(以下、同様に「フォトポリマータイプ」という。)、ジアゾ樹脂または光架橋樹脂を含有するネガ型感光性組成物(以下、同様に「コンベンショナルネガタイプ」という。)、キノンジアジド化合物を含有するポジ型感光性組成物(以下、同様に「コンベンショナルポジタイプ」という。)、特別な現像工程を必要としない感光性組成物(以下、同様に「無処理タイプ」という。)が挙げられる。
中でも、レーザ直描型の画像記録層であるサーマルポジタイプ、サーマルネガタイプ、フォトポリマータイプ、無処理タイプが好ましく、サーマルポジタイプ、フォトポリマータイプがより好ましい。以下、これらの好適な感光性組成物について説明する。
[Lithographic printing plate precursor]
The lithographic printing plate support of the present invention can be provided with an image recording layer to form a lithographic printing plate precursor. A photosensitive composition is used for the image recording layer.
Examples of the photosensitive composition suitably used in the present invention include a thermal positive photosensitive composition containing an alkali-soluble polymer compound and a photothermal conversion substance (hereinafter, this composition and an image recording layer using the same). ), A thermal negative photosensitive composition containing a curable compound and a photothermal conversion substance (hereinafter also referred to as “thermal negative type”), a photopolymerizable photosensitive composition (hereinafter referred to as “thermal positive type”). , Also referred to as “photopolymer type”), negative photosensitive composition containing diazo resin or photocrosslinking resin (hereinafter also referred to as “conventional negative type”), and positive photosensitive composition containing quinonediazide compound. Product (hereinafter also referred to as “conventional positive type”), a photosensitive composition that does not require a special development step (hereinafter referred to as “the conventional positive type”). As the referred to as "non-treatment type".), And the like.
Of these, a thermal positive type, a thermal negative type, a photopolymer type, and an unprocessed type which are laser direct-drawing type image recording layers are preferable, and a thermal positive type and a photopolymer type are more preferable. Hereinafter, these suitable photosensitive compositions will be described.

<サーマルポジタイプ>
<感光層>
サーマルポジタイプの感光性組成物は、アルカリ可溶性高分子化合物と光熱変換物質とを含有する。サーマルポジタイプの画像記録層においては、光熱変換物質が赤外線レーザ等の光のエネルギーを熱に変換し、その熱がアルカリ可溶性高分子化合物のアルカリ溶解性を低下させている相互作用を効率よく解除する。
<Thermal positive type>
<Photosensitive layer>
The thermal positive type photosensitive composition contains an alkali-soluble polymer compound and a photothermal conversion substance. In the thermal positive type image recording layer, the photothermal conversion substance converts the energy of light such as infrared lasers into heat, which effectively eliminates the interaction that reduces the alkali solubility of alkali-soluble polymer compounds. To do.

アルカリ可溶性高分子化合物としては、例えば、分子中に酸性基を含有する樹脂およびその2種以上の混合物が挙げられる。特に、フェノール性ヒドロキシ基、スルホンアミド基(−SO2NH−R(式中、Rは炭化水素基を表す。))、活性イミノ基(−SO2NHCOR、−SO2NHSO2R、−CONHSO2R(各式中、Rは上記と同様の意味である。))等の酸性基を有する樹脂がアルカリ現像液に対する溶解性の点で好ましい。
とりわけ、赤外線レーザ等の光による露光での画像形成性に優れる点で、フェノール性ヒドロキシ基を有する樹脂が好ましく、例えば、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−、p−およびm−/p−混合のいずれでもよい)混合−ホルムアルデヒド樹脂(フェノール−クレゾール−ホルムアルデヒド共縮合樹脂)等のノボラック樹脂が好適に挙げられる。
更に、特開2001−305722号公報(特に[0023]〜[0042])に記載されている高分子化合物、特開2001−215693号公報に記載されている一般式(1)で表される繰り返し単位を含む高分子化合物、特開2002−311570号公報(特に[0107])に記載されている高分子化合物も好適に挙げられる。
Examples of the alkali-soluble polymer compound include a resin containing an acidic group in the molecule and a mixture of two or more thereof. In particular, a phenolic hydroxy group, sulfonamide group (in -SO 2 NH-R (wherein, R represents a hydrocarbon group.)), Active imino group (-SO 2 NHCOR, -SO 2 NHSO 2 R, -CONHSO A resin having an acidic group such as 2 R (wherein R has the same meaning as described above) is preferable in terms of solubility in an alkali developer.
In particular, a resin having a phenolic hydroxy group is preferable in that it has excellent image-forming properties when exposed to light such as an infrared laser, and examples thereof include phenol-formaldehyde resins, m-cresol-formaldehyde resins, p-cresol-formaldehyde resins, m- / p-mixed cresol-formaldehyde resin, phenol / cresol (any of m-, p- and m- / p-mixed) mixed-formaldehyde resin (phenol-cresol-formaldehyde co-condensation resin) and other novolak resins Are preferable.
Furthermore, the polymer compound described in JP-A No. 2001-305722 (particularly [0023] to [0042]), and the repetition represented by the general formula (1) described in JP-A No. 2001-215893 Preferred examples also include polymer compounds containing units, and polymer compounds described in JP-A No. 2002-311570 (particularly [0107]).

光熱変換物質としては、記録感度の点で、波長700〜1200nmの赤外域に光吸収域がある顔料または染料が好適に挙げられる。染料としては、例えば、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体(例えば、ニッケルチオレート錯体)が挙げられる。中でも、シアニン染料が好ましく、とりわけ特開2001−305722号公報に記載されている一般式(I)で表されるシアニン染料が好ましい。   Preferable examples of the photothermal conversion substance include pigments or dyes having a light absorption region in the infrared region having a wavelength of 700 to 1200 nm in terms of recording sensitivity. Examples of the dye include azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes (for example, , Nickel thiolate complex). Among these, cyanine dyes are preferable, and cyanine dyes represented by the general formula (I) described in JP 2001-305722 A are particularly preferable.

サーマルポジタイプの感光性組成物中には、溶解阻止剤を含有させることができる。溶解阻止剤としては、例えば、特開2001−305722号公報の[0053]〜[0055]に記載されているような溶解阻止剤が好適に挙げられる。
また、サーマルポジタイプの感光性組成物中には、添加剤として、感度調節剤、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼出し剤、画像着色剤としての染料等の化合物、塗布性および処理安定性を向上させるための界面活性剤を含有させるのが好ましい。これらについては、特開2001−305722号公報の[0056]〜[0060]に記載されているような化合物が好ましい。
上記以外の点でも、特開2001−305722号公報に詳細に記載されている感光性組成物が好ましく用いられる。
The thermal positive type photosensitive composition may contain a dissolution inhibitor. As the dissolution inhibitor, for example, dissolution inhibitors described in JP-A-2001-305722, [0053] to [0055] are preferably exemplified.
In addition, in the thermal positive type photosensitive composition, as a additive, a sensitivity modifier, a printing agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, a compound such as a dye as an image colorant, a coating property In addition, it is preferable to include a surfactant for improving the processing stability. For these, compounds described in JP-A-2001-305722, [0056] to [0060] are preferable.
The photosensitive composition described in detail in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-305722 is also preferably used in other respects.

また、サーマルポジタイプの画像記録層は、単層に限らず、2層構造であってもよい。
2層構造の画像記録層(重層系の画像記録層)としては、支持体に近い側に耐刷性および耐溶剤性に優れる下層(以下「A層」という。)を設け、その上にポジ画像形成性に優れる層(以下「B層」という。)を設けたタイプが好適に挙げられる。このタイプは感度が高く、広い現像ラチチュードを実現することができる。B層は、一般に、光熱変換物質を含有する。光熱変換物質としては、上述した染料が好適に挙げられる。
A層に用いられる樹脂としては、スルホンアミド基、活性イミノ基、フェノール性ヒドロキシ基等を有するモノマーを共重合成分として有するポリマーが耐刷性および耐溶剤性に優れている点で好適に挙げられる。B層に用いられる樹脂としては、フェノール性ヒドロキシ基を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂が好適に挙げられる。
A層およびB層に用いられる組成物には、上記樹脂のほかに、必要に応じて、種々の添加剤を含有させることができる。具体的には、特開2002−3233769号公報の[0062]〜[0085]に記載されているような種々の添加剤が好適に用いられる。また、上述した特開2001−305722号公報の[0053]〜[0060]に記載されている添加剤も好適に用いられる。
A層およびB層を構成する各成分およびその含有量については、特開平11−218914号公報に記載されているようにするのが好ましい。
Further, the thermal positive type image recording layer is not limited to a single layer but may have a two-layer structure.
As an image recording layer having a two-layer structure (multilayer image recording layer), a lower layer (hereinafter referred to as “A layer”) having excellent printing durability and solvent resistance is provided on the side close to the support, and a positive layer is provided thereon. A type provided with a layer having excellent image formability (hereinafter referred to as “B layer”) is preferable. This type has high sensitivity and can realize a wide development latitude. The B layer generally contains a photothermal conversion substance. Preferred examples of the photothermal conversion substance include the dyes described above.
As the resin used in the A layer, a polymer having a monomer having a sulfonamide group, an active imino group, a phenolic hydroxy group or the like as a copolymerization component is preferably used because it has excellent printing durability and solvent resistance. . As the resin used for the B layer, an alkaline aqueous solution-soluble resin having a phenolic hydroxy group is preferably exemplified.
In addition to the resin, the composition used for the A layer and the B layer can contain various additives as necessary. Specifically, various additives as described in [0062] to [0085] of JP-A-2002-3233769 are preferably used. Further, the additives described in [0053] to [0060] of JP-A-2001-305722 described above are also preferably used.
About each component which comprises A layer and B layer, and its content, it is preferable to make it describe in Unexamined-Japanese-Patent No. 11-218914.

<中間層>
サーマルポジタイプの画像記録層と支持体との間には、中間層を設けるのが好ましい。中間層に含有される成分としては、特開2001−305722号公報の[0068]に記載されている種々の有機化合物が好適に挙げられる。
また、特開2001−108538号公報に記載されている酸基を有するモノマーとオニウム基を有するモノマーとを有する重合体を含有する中間層も好適に用いられる。この中間層は、サーマルポジタイプ以外の画像記録層にも好適に用いられる。
<Intermediate layer>
An intermediate layer is preferably provided between the thermal positive type image recording layer and the support. As the component contained in the intermediate layer, various organic compounds described in [0068] of JP-A No. 2001-305722 are preferably exemplified.
Further, an intermediate layer containing a polymer having a monomer having an acid group and a monomer having an onium group described in JP-A-2001-108538 is also preferably used. This intermediate layer is also suitably used for image recording layers other than the thermal positive type.

<その他>
サーマルポジタイプの画像記録層の製造方法および製版方法については、特開2001−305722号公報に詳細に記載されている方法を用いることができる。
<Others>
As a method for producing a thermal positive type image recording layer and a plate making method, methods described in detail in JP-A No. 2001-305722 can be used.

<サーマルネガタイプ>
サーマルネガタイプの感光性組成物は、硬化性化合物と光熱変換物質とを含有する。サーマルネガタイプの画像記録層は、赤外線レーザ等の光で照射された部分が硬化して画像部を形成するネガ型の感光層である。
<重合層>
サーマルネガタイプの画像記録層の一つとして、重合型の画像記録層(重合層)が好適に挙げられる。重合層は、光熱変換物質と、ラジカル発生剤と、硬化性化合物であるラジカル重合性化合物と、バインダーポリマーとを含有する。重合層においては、光熱変換物質が吸収した赤外線を熱に変換し、この熱によりラジカル発生剤が分解してラジカルが発生し、発生したラジカルによりラジカル重合性化合物が連鎖的に重合し、硬化する。
<Thermal negative type>
The thermal negative photosensitive composition contains a curable compound and a photothermal conversion substance. The thermal negative type image recording layer is a negative photosensitive layer in which a portion irradiated with light such as an infrared laser is cured to form an image portion.
<Polymerized layer>
As one of the thermal negative type image recording layers, a polymerization type image recording layer (polymerization layer) is preferably exemplified. The polymerization layer contains a photothermal conversion substance, a radical generator, a radical polymerizable compound that is a curable compound, and a binder polymer. In the polymerization layer, infrared light absorbed by the light-to-heat conversion substance is converted into heat, the radical generator is decomposed by this heat to generate radicals, and the radical polymerizable compound is polymerized in a chain by the generated radicals and cured. .

光熱変換物質としては、例えば、上述したサーマルポジタイプに用いられる光熱変換物質が挙げられる。特に好ましいシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969号公報の[0017]〜[0019]に記載されているものが挙げられる。
ラジカル発生剤としては、オニウム塩が好適に挙げられる。特に、特開2001−133969号公報の[0030]〜[0033]に記載されているオニウム塩が好ましい。
ラジカル重合性化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物が挙げられる。
バインダーポリマーとしては、線状有機ポリマーが好適に挙げられる。水または弱アルカリ水に対して可溶性または膨潤性である線状有機ポリマーが好適に挙げられる。中でも、アリル基、アクリロイル基等の不飽和基またはベンジル基と、カルボキシ基とを側鎖に有する(メタ)アクリル樹脂が、膜強度、感度および現像性のバランスに優れている点で好適である。
ラジカル重合性化合物およびバインダーポリマーについては、特開2001−133969号公報の[0036]〜[0060]に詳細に記載されているものを用いることができる。
As a photothermal conversion substance, the photothermal conversion substance used for the thermal positive type mentioned above is mentioned, for example. Specific examples of particularly preferred cyanine dyes include those described in JP-A-2001-133969, [0017] to [0019].
Preferred examples of the radical generator include onium salts. In particular, onium salts described in JP-A-2001-133969, [0030] to [0033] are preferable.
Examples of the radical polymerizable compound include compounds having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more.
As the binder polymer, a linear organic polymer is preferably exemplified. Preferred examples include linear organic polymers that are soluble or swellable in water or weak alkaline water. Among them, a (meth) acrylic resin having an unsaturated group such as an allyl group or an acryloyl group or a benzyl group and a carboxy group in the side chain is preferable in that it has an excellent balance of film strength, sensitivity, and developability. .
As the radical polymerizable compound and the binder polymer, those described in detail in [0036] to [0060] of JP-A No. 2001-133969 can be used.

サーマルネガタイプの感光性組成物中には、特開2001−133969号公報の[0061]〜[0068]に記載されている添加剤(例えば、塗布性を向上させるための界面活性剤)を含有させるのが好ましい。   The additive described in [0061] to [0068] of JP-A No. 2001-133969 is contained in the thermal negative photosensitive composition (for example, a surfactant for improving coatability). Is preferred.

重合層の製造方法および製版方法については、特開2001−133969号公報に詳細に記載されている方法を用いることができる。   As a method for producing the polymerization layer and a plate making method, methods described in detail in JP-A No. 2001-133969 can be used.

<酸架橋層>
また、サーマルネガタイプの画像記録層の一つとして、酸架橋型の画像記録層(酸架橋層)も好適に挙げられる。酸架橋層は、光熱変換物質と、熱酸発生剤と、硬化性化合物である酸により架橋する化合物(架橋剤)と、酸の存在下で架橋剤と反応しうるアルカリ可溶性高分子化合物とを含有する。酸架橋層においては、光熱変換物質が吸収した赤外線を熱に変換し、この熱により熱酸発生剤が分解して酸が発生し、発生した酸により架橋剤とアルカリ可溶性高分子化合物とが反応し、硬化する。
<Acid cross-linked layer>
Further, as one of the thermal negative type image recording layers, an acid cross-linked image recording layer (acid cross-linked layer) is also preferably exemplified. The acid cross-linking layer comprises a photothermal conversion substance, a thermal acid generator, a compound that cross-links with an acid that is a curable compound (cross-linking agent), and an alkali-soluble polymer compound that can react with the cross-linking agent in the presence of an acid. contains. In the acid cross-linking layer, infrared light absorbed by the photothermal conversion substance is converted into heat, the heat acid generator is decomposed by this heat to generate an acid, and the generated acid reacts with the cross-linking agent and the alkali-soluble polymer compound. And harden.

光熱変換物質としては、重合層に用いられるのと同様のものが挙げられる。
熱酸発生剤としては、例えば、光重合の光開始剤、色素類の光変色剤、マイクロレジスト等に使用されている酸発生剤等の熱分解化合物が挙げられる。
架橋剤としては、例えば、ヒドロキシメチル基またはアルコキシメチル基で置換された芳香族化合物;N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル基またはN−アシルオキシメチル基を有する化合物;エポキシ化合物が挙げられる。
アルカリ可溶性高分子化合物としては、例えば、ノボラック樹脂、側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーが挙げられる。
Examples of the photothermal conversion substance include the same substances as those used for the polymerization layer.
Examples of the thermal acid generator include thermal decomposition compounds such as photoinitiators for photopolymerization, photochromic agents for dyes, and acid generators used in microresists.
Examples of the crosslinking agent include an aromatic compound substituted with a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group; a compound having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group; and an epoxy compound.
Examples of the alkali-soluble polymer compound include a novolak resin and a polymer having a hydroxyaryl group in the side chain.

<フォトポリマータイプ>
光重合型感光性組成物は、付加重合性化合物と、光重合開始剤と、高分子結合剤とを含有する。
付加重合性化合物としては、付加重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物が好適に挙げられる。エチレン性不飽和結合含有化合物は、末端エチレン性不飽和結合を有する化合物である。具体的には、例えば、モノマー、プレポリマー、これらの混合物等の化学的形態を有する。モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミドが挙げられる。
また、付加重合性化合物としては、ウレタン系付加重合性化合物も好適に挙げられる。
<Photopolymer type>
The photopolymerization type photosensitive composition contains an addition polymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a polymer binder.
As the addition polymerizable compound, an ethylenically unsaturated bond-containing compound capable of addition polymerization is preferably exemplified. The ethylenically unsaturated bond-containing compound is a compound having a terminal ethylenically unsaturated bond. Specifically, for example, it has a chemical form such as a monomer, a prepolymer, and a mixture thereof. Examples of monomers include esters of unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid) and aliphatic polyhydric alcohol compounds, amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyvalent amine compounds. Is mentioned.
Moreover, as an addition polymerizable compound, a urethane type addition polymerizable compound is also preferably exemplified.

光重合開始剤としては、種々の光重合開始剤または2種以上の光重合開始剤の併用系(光開始系)を、使用する光源の波長により適宜選択して用いることができる。例えば、特開2001−22079号公報の[0021]〜[0023]に記載されている開始系が好適に挙げられる。
高分子結合剤は、光重合型感光性組成物の皮膜形成剤として機能するだけでなく、画像記録層をアルカリ現像液に溶解させる必要があるため、アルカリ水に対して可溶性または膨潤性である有機高分子重合体が用いられる。そのような有機高分子重合体としては、特開2001−22079号公報の[0036]〜[0063]に記載されているものが好適に挙げられる。
As the photopolymerization initiator, various photopolymerization initiators or a combination system (photoinitiation system) of two or more kinds of photopolymerization initiators can be appropriately selected depending on the wavelength of the light source to be used. For example, an initiation system described in JP-A-2001-22079, [0021] to [0023] is preferably exemplified.
The polymer binder not only functions as a film-forming agent for the photopolymerization type photosensitive composition, but is soluble or swellable in alkaline water because it is necessary to dissolve the image recording layer in an alkaline developer. An organic high molecular polymer is used. As such an organic polymer, those described in JP-A-2001-22079, [0036] to [0063] are preferably exemplified.

フォトポリマータイプの光重合型感光性組成物中には、特開2001−22079号公報の[0079]〜[0088]に記載されている添加剤(例えば、塗布性を向上させるための界面活性剤、着色剤、可塑剤、熱重合禁止剤)を含有させるのが好ましい。   In the photopolymer type photopolymerization type photosensitive composition, additives described in JP-A-2001-22079, [0079] to [0088] (for example, a surfactant for improving coatability) , Colorants, plasticizers, thermal polymerization inhibitors).

また、フォトポリマータイプの画像記録層の上に、酸素の重合禁止作用を防止するために酸素遮断性保護層を設けることが好ましい。酸素遮断性保護層に含有される重合体としては、例えば、ポリビニルアルコール、その共重合体が挙げられる。
更に、特開2001−228608号公報の[0124]〜[0165]に記載されているような中間層または接着層を設けるのも好ましい。
Further, it is preferable to provide an oxygen-blocking protective layer on the photopolymer type image recording layer in order to prevent the action of inhibiting the polymerization of oxygen. Examples of the polymer contained in the oxygen barrier protective layer include polyvinyl alcohol and copolymers thereof.
Furthermore, it is also preferable to provide an intermediate layer or an adhesive layer as described in [0124] to [0165] of JP-A-2001-228608.

<コンベンショナルネガタイプ>
コンベンショナルネガタイプの感光性組成物は、ジアゾ樹脂または光架橋樹脂を含有する。中でも、ジアゾ樹脂とアルカリ可溶性または膨潤性の高分子化合物(結合剤)とを含有する感光性組成物が好適に挙げられる。
ジアゾ樹脂としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデヒド等の活性カルボニル基含有化合物との縮合物;p−ジアゾフェニルアミン類とホルムアルデヒドとの縮合物とヘキサフルオロリン酸塩またはテトラフルオロホウ酸塩との反応生成物である有機溶媒可溶性ジアゾ樹脂無機塩が挙げられる。特に、特開昭59−78340号公報に記載されている6量体以上を20モル%以上含んでいる高分子量ジアゾ化合物が好ましい。
結合剤としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸またはマレイン酸を必須成分として含む共重合体が挙げられる。具体的には、特開昭50−118802号公報に記載されているような2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリル酸等のモノマーの多元共重合体、特開昭56−4144号公報に記載されているようなアルキルアクリレート、(メタ)アクリロニトリルおよび不飽和カルボン酸からなる多元共重合体が挙げられる。
<Conventional negative type>
The conventional negative-type photosensitive composition contains a diazo resin or a photocrosslinking resin. Among these, a photosensitive composition containing a diazo resin and an alkali-soluble or swellable polymer compound (binder) is preferable.
Examples of the diazo resin include a condensate of an aromatic diazonium salt and an active carbonyl group-containing compound such as formaldehyde; a condensate of p-diazophenylamines and formaldehyde and a hexafluorophosphate or a tetrafluoroborate. Organic solvent-soluble diazo resin inorganic salts which are reaction products of In particular, a high molecular weight diazo compound containing 20 mol% or more of a hexamer described in JP-A-59-78340 is preferable.
Examples of the binder include a copolymer containing acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, or maleic acid as an essential component. Specifically, a multi-component copolymer of monomers such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylonitrile, (meth) acrylic acid as described in JP-A-50-118802, Examples thereof include multi-component copolymers composed of alkyl acrylate, (meth) acrylonitrile and unsaturated carboxylic acid as described in JP-A-56-4144.

コンベンショナルネガタイプの感光性組成物には、添加剤として、特開平7−281425号公報の[0014]〜[0015]に記載されている焼出し剤、染料、塗膜の柔軟性および耐摩耗性を付与するための可塑剤、現像促進剤等の化合物、塗布性を向上させるための界面活性剤を含有させるのが好ましい。   The conventional negative type photosensitive composition has, as an additive, a printing agent, dye, and flexibility and abrasion resistance described in JP-A-7-281425, [0014] to [0015]. It is preferable to contain a plasticizer for imparting, a compound such as a development accelerator, and a surfactant for improving coating properties.

コンベンショナルネガタイプの感光層の下には、特開2000−105462号公報に記載されている、酸基を有する構成成分とオニウム基を有する構成成分とを有する高分子化合物を含有する中間層を設けるのが好ましい。   Under the conventional negative type photosensitive layer, an intermediate layer containing a polymer compound having a component having an acid group and a component having an onium group as described in JP-A-2000-105462 is provided. Is preferred.

<コンベンショナルポジタイプ>
コンベンショナルポジタイプの感光性組成物は、キノンジアジド化合物を含有する。中でも、o−キノンジアジド化合物とアルカリ可溶性高分子化合物とを含有する感光性組成物が好適に挙げられる。
o−キノンジアジド化合物としては、例えば、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホニルクロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂またはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、米国特許第3,635,709号明細書に記載されている1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホニルクロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルが挙げられる。
アルカリ可溶性高分子化合物としては、例えば、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール−クレゾール−ホルムアルデヒド共縮合樹脂、ポリヒドロキシスチレン、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミドの共重合体、特開平7−36184号公報に記載されているカルボキシ基含有ポリマー、特開昭51−34711号公報に記載されているようなフェノール性ヒドロキシ基を含有するアクリル系樹脂、特開平2−866号公報に記載されているスルホンアミド基を有するアクリル系樹脂、ウレタン系の樹脂が挙げられる。
<Conventional positive type>
The conventional positive-type photosensitive composition contains a quinonediazide compound. Among these, a photosensitive composition containing an o-quinonediazide compound and an alkali-soluble polymer compound is preferable.
Examples of the o-quinonediazide compound include esters of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride and phenol-formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, described in US Pat. No. 3,635,709. And esters of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride and pyrogallol-acetone resin.
Examples of the alkali-soluble polymer compound include phenol-formaldehyde resin, cresol-formaldehyde resin, phenol-cresol-formaldehyde co-condensation resin, polyhydroxystyrene, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide copolymer, A carboxy group-containing polymer described in JP-A-7-36184, an acrylic resin containing a phenolic hydroxy group as described in JP-A-51-34711, and described in JP-A-2-866 Examples thereof include acrylic resins having a sulfonamide group and urethane resins.

コンベンショナルポジタイプの感光性組成物には、添加剤として、特開平7−92660号公報の[0024]〜[0027]に記載されている感度調節剤、焼出剤、染料等の化合物や、特開平7−92660号公報の[0031]に記載されているような塗布性を向上させるための界面活性剤を含有させるのが好ましい。   Conventional positive type photosensitive compositions include compounds such as sensitivity modifiers, printing agents, dyes and the like described in JP-A-7-92660, [0024] to [0027] as additives. It is preferable to contain a surfactant for improving the coating property as described in [0031] of Kaihei 7-92660.

コンベンショナルポジタイプの感光層の下には、上述したコンベンショナルネガタイプに好適に用いられる中間層と同様の中間層を設けるのが好ましい。   Under the conventional positive type photosensitive layer, it is preferable to provide an intermediate layer similar to the intermediate layer suitably used for the above-described conventional negative type.

<無処理タイプ>
無処理タイプの感光性組成物には、熱可塑性微粒子ポリマー型、マイクロカプセル型、スルホン酸発生ポリマー含有型等が挙げられる。これらはいずれも光熱変換物質を含有する感熱型である。光熱変換物質は、上述したサーマルポジタイプに用いられるのと同様の染料が好ましい。
<Non-treatment type>
Examples of the non-processing type photosensitive composition include a thermoplastic fine particle polymer type, a microcapsule type, and a sulfonic acid-generating polymer-containing type. These are all heat-sensitive types containing a photothermal conversion substance. The photothermal conversion substance is preferably the same dye as that used in the above-described thermal positive type.

熱可塑性微粒子ポリマー型の感光性組成物は、疎水性かつ熱溶融性の微粒子ポリマーが親水性高分子マトリックス中に分散されたものである。熱可塑性微粒子ポリマー型の画像記録層においては、露光により発生する熱により疎水性の微粒子ポリマーが溶融し、互いに融着して疎水性領域、即ち、画像部を形成する。
微粒子ポリマーとしては、微粒子同士が熱により溶融合体するものが好ましく、表面が親水性で、湿し水等の親水性成分に分散しうるものがより好ましい。具体的には、Reseach Disclosure No.33303(1992年1月)、特開平9−123387号、同9−131850号、同9−171249号および同9−171250号の各公報、欧州特許出願公開第931,647号明細書等に記載されている熱可塑性微粒子ポリマーが好適に挙げられる。中でも、ポリスチレンおよびポリメタクリル酸メチルが好ましい。親水性表面を有する微粒子ポリマーとしては、例えば、ポリマー自体が親水性であるもの;ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール等の親水性化合物を微粒子ポリマー表面に吸着させて表面を親水性化したものが挙げられる。
微粒子ポリマーは、反応性官能基を有するのが好ましい。
The thermoplastic fine particle polymer type photosensitive composition is obtained by dispersing a hydrophobic and heat-meltable fine particle polymer in a hydrophilic polymer matrix. In the image recording layer of the thermoplastic fine particle polymer type, the hydrophobic fine particle polymer is melted by heat generated by exposure and is fused to form a hydrophobic region, that is, an image portion.
As the fine particle polymer, those in which fine particles melt and coalesce with heat are preferable, and those having a hydrophilic surface and capable of being dispersed in a hydrophilic component such as dampening water are more preferable. Specifically, Research Disclosure No. 33303 (January 1992), JP-A-9-123387, JP-A-9-131850, JP-A-9-171249, and JP-A-9-171250, and European Patent Application Publication No. 931,647. Preferred examples thereof include thermoplastic fine particle polymers. Of these, polystyrene and polymethyl methacrylate are preferred. Examples of the fine particle polymer having a hydrophilic surface include those in which the polymer itself is hydrophilic; those in which a hydrophilic compound such as polyvinyl alcohol and polyethylene glycol is adsorbed on the surface of the fine particle polymer to make the surface hydrophilic.
The fine particle polymer preferably has a reactive functional group.

マイクロカプセル型の感光性組成物としては、特開2000−118160号公報に記載されているもの、特開2001−277740号公報に記載されているような熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセル型が好適に挙げられる。   As a microcapsule type photosensitive composition, a compound having a heat-reactive functional group as described in JP-A No. 2000-118160 or JP-A No. 2001-277740 is included. A microcapsule type is preferable.

スルホン酸発生ポリマー含有型の感光性組成物に用いられるスルホン酸発生ポリマーとしては、例えば、特開平10−282672号公報に記載されているスルホン酸エステル基、ジスルホン基またはsec−もしくはtert−スルホンアミド基を側鎖に有するポリマーが挙げられる。   Examples of the sulfonic acid generating polymer used in the sulfonic acid generating polymer-containing photosensitive composition include sulfonic acid ester groups, disulfone groups, and sec- or tert-sulfonamides described in JP-A No. 10-282672. Examples thereof include polymers having a group in the side chain.

無処理タイプの感光性組成物に、親水性樹脂を含有させることにより、機上現像性が良好となるばかりか、感光層自体の皮膜強度も向上する。親水性樹脂としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、カルボキシメチル基等の親水基を有するもの、親水性のゾルゲル変換系結着樹脂が好ましい。   By incorporating a hydrophilic resin into the unprocessed photosensitive composition, not only on-press developability is improved, but also the film strength of the photosensitive layer itself is improved. Examples of the hydrophilic resin include those having a hydrophilic group such as hydroxy group, carboxy group, hydroxyethyl group, hydroxypropyl group, amino group, aminoethyl group, aminopropyl group, carboxymethyl group, and hydrophilic sol-gel conversion system. A binder resin is preferred.

無処理タイプの画像記録層は、特別な現像工程を必要とせず、印刷機上で現像することができる。無処理タイプの画像記録層の製造方法および製版印刷方法については、特開2002−178655号公報に詳細に記載されている方法を用いることができる。   The unprocessed type image recording layer does not require a special development step and can be developed on a printing press. As a method for producing an unprocessed image recording layer and a plate-making printing method, methods described in detail in JP-A No. 2002-178655 can be used.

<バックコート>
このようにして、本発明の平版印刷版用支持体上に各種の画像記録層を設けて得られる平版印刷版原版の裏面には、必要に応じて、重ねた場合における画像記録層の傷付きを防止するために、有機高分子化合物からなる被覆層を設けることができる。
<Back coat>
In this way, the back surface of the lithographic printing plate precursor obtained by providing various image recording layers on the lithographic printing plate support of the present invention is scratched on the image recording layer when overlaid as necessary. In order to prevent this, a coating layer made of an organic polymer compound can be provided.

[製版方法(平版印刷版の製造方法)]
本発明の平版印刷版用支持体を用いた平版印刷版原版は、画像記録層に応じた種々の処理方法により、平版印刷版とされる。
像露光に用いられる活性光線の光源としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプが挙げられる。レーザビームとしては、例えば、ヘリウム−ネオンレーザ(He−Neレーザ)、アルゴンレーザ、クリプトンレーザ、ヘリウム−カドミウムレーザ、KrFエキシマーレーザ、半導体レーザ、YAGレーザ、YAG−SHGレーザが挙げられる。
[Plate making method (lithographic printing plate production method)]
The lithographic printing plate precursor using the lithographic printing plate support of the present invention is converted into a lithographic printing plate by various treatment methods according to the image recording layer.
Examples of the actinic ray light source used for image exposure include a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, and a chemical lamp. Examples of the laser beam include helium-neon laser (He-Ne laser), argon laser, krypton laser, helium-cadmium laser, KrF excimer laser, semiconductor laser, YAG laser, and YAG-SHG laser.

上記露光の後、画像記録層がサーマルポジタイプ、サーマルネガタイプ、コンベンショナルネガタイプ、コンベンショナルポジタイプおよびフォトポリマータイプのいずれかである場合は、露光した後、現像液を用いて現像して平版印刷版を得るのが好ましい。
現像液は、アルカリ現像液であるのが好ましく、有機溶剤を実質的に含有しないアルカリ性の水溶液であるのがより好ましい。
また、アルカリ金属ケイ酸塩を実質的に含有しない現像液も好ましい。アルカリ金属ケイ酸塩を実質的に含有しない現像液を用いて現像する方法としては、特開平11−109637号公報に詳細に記載されている方法を用いることができる。
また、アルカリ金属ケイ酸塩を含有する現像液を用いることもできる。
After the above exposure, if the image recording layer is one of a thermal positive type, a thermal negative type, a conventional negative type, a conventional positive type, and a photopolymer type, it is exposed and then developed using a developer to obtain a lithographic printing plate. It is preferable to obtain.
The developer is preferably an alkaline developer, and more preferably an alkaline aqueous solution substantially free of an organic solvent.
Moreover, the developing solution which does not contain alkali metal silicate substantially is also preferable. As a method of developing using a developer substantially not containing an alkali metal silicate, a method described in detail in JP-A No. 11-109637 can be used.
A developer containing an alkali metal silicate can also be used.

以下に実施例を示して本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限られるものではない。
1−1.アルミニウム合金板の作製(その1)
第1表に示される量の各成分を含有し、残部はAlと不可避不純物とからなるAl溶湯を用いて、双ロール式連続鋳造装置(ハンターエンジニアリング社製)により連続鋳造を行い、ついで、冷間圧延を行い、更に、第1表に示される条件で中間焼鈍を行った後、仕上げ冷間圧延で厚さを0.3mmにし、更に、平面性矯正を行って、アルミニウム合金板(Al板)1〜14を得た。なお、アルミニウム合金板12においては、中間焼鈍を行わなかった。
The present invention will be specifically described below with reference to examples. However, the present invention is not limited to these.
1-1. Production of aluminum alloy plate (Part 1)
Each component of the amount shown in Table 1 is contained, and the balance is continuously cast by a twin roll type continuous casting apparatus (manufactured by Hunter Engineering Co.) using an Al molten metal composed of Al and inevitable impurities. After performing the intermediate rolling and further performing the intermediate annealing under the conditions shown in Table 1, the thickness is adjusted to 0.3 mm by finish cold rolling, and the flatness is further corrected to obtain an aluminum alloy plate (Al plate). ) 1-14 were obtained. In addition, in the aluminum alloy plate 12, intermediate annealing was not performed.

Figure 2007062217
Figure 2007062217

1−2.アルミニウム合金板の評価
上記で得られたアルミニウム合金板1〜14について、以下のようにして結晶粒の大きさおよび強度の評価を行った。
(1)結晶粒の大きさ
アルミニウム合金板の表面にバフ研磨を行い、鏡面にした。バフ研磨は、粒径1μmの研磨材を用いて粗仕上げを行い、ついで、粒径0.05μmの研磨材を用いて仕上げを行うことにより、行った。
ついで、バフ研磨したアルミニウム合金板の表面に、濃度10質量%のフッ化水素酸水溶液を用いて、室温で45秒間化学エッチングを行って、結晶粒を可視化させた。
その後、偏光顕微鏡(オリンパス社製)を用いて結晶粒の写真を写真倍率15倍で撮影し、得られた写真中の結晶粒の幅(圧延方向と垂直な方向の長さ)および長さ(圧延方向の長さ)の平均値を画像解析ソフトを用いて測定した。
結果を第2表に示す。
1-2. Evaluation of aluminum alloy plate The aluminum alloy plates 1 to 14 obtained above were evaluated for the size and strength of crystal grains as follows.
(1) Size of crystal grains The surface of the aluminum alloy plate was buffed to give a mirror surface. The buffing was performed by performing a rough finish using an abrasive having a particle diameter of 1 μm, and then performing a finish using an abrasive having a particle diameter of 0.05 μm.
Subsequently, the surface of the buffed aluminum alloy plate was subjected to chemical etching for 45 seconds at room temperature using a hydrofluoric acid aqueous solution having a concentration of 10% by mass to visualize crystal grains.
Thereafter, a photograph of the crystal grains was taken at a photographic magnification of 15 times using a polarizing microscope (manufactured by Olympus), and the width (length in the direction perpendicular to the rolling direction) and length of the crystal grains in the obtained photograph ( The average value of the length in the rolling direction) was measured using image analysis software.
The results are shown in Table 2.

(2)強度
アルミニウム合金板から、有効幅20mmとなるようにサンプルを切り出し、オートグラフ(島津製作所製)を用いて、圧延方向の引張試験を行い、破断時の応力を測定して、引張強度とした。
また、ソルトバスを用いて270℃で7分間の熱処理を行った後、上記と同様の方法で引張試験を行い、永久伸びが0.2%となるときの荷重を測定して、0.2%耐力とした。
結果を第2表に示す。
(2) Strength A sample was cut out from an aluminum alloy plate so as to have an effective width of 20 mm, a tensile test in the rolling direction was performed using an autograph (manufactured by Shimadzu Corporation), a stress at break was measured, and a tensile strength was measured. It was.
In addition, after performing a heat treatment at 270 ° C. for 7 minutes using a salt bath, a tensile test was performed in the same manner as described above, and the load when the permanent elongation was 0.2% was measured. % Proof stress.
The results are shown in Table 2.

1−3.平版印刷版用支持体の製造
(実施例1〜10および比較例1〜4)
上記で得られたアルミニウム合金板1〜14の表面に、濃度20質量%、温度70℃の水酸化ナトリウム水溶液を用いて、第1アルカリエッチング処理を行い、後に電気化学的粗面化処理を施す面の表面を約3μm溶解させ、かつ、反対側の面を4g/m2溶解させた。その後、濃度1質量%、温度35℃の硝酸水溶液を用いて、第1デスマット処理を行った。
ついで、濃度7g/L、温度35℃の硝酸水溶液を用いて、周波数60.0Hzの交流で、アルミニウム合金板がアノード反応時の通電量が160C/dm2となるように、電気化学的粗面化処理を行った。
その後、濃度25質量%、温度60℃の硫酸水溶液を用いて、第2デスマット処理を行い、平版印刷版用支持体を得た。
1-3. Production of lithographic printing plate support (Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 4)
A first alkali etching treatment is performed on the surfaces of the aluminum alloy plates 1 to 14 obtained above using a sodium hydroxide aqueous solution having a concentration of 20% by mass and a temperature of 70 ° C., followed by an electrochemical surface roughening treatment. About 3 μm of the surface of the surface was dissolved, and 4 g / m 2 of the opposite surface was dissolved. Thereafter, a first desmut treatment was performed using an aqueous nitric acid solution having a concentration of 1 mass% and a temperature of 35 ° C.
Then, using an aqueous nitric acid solution having a concentration of 7 g / L and a temperature of 35 ° C., an electrochemical rough surface so that the amount of electricity applied to the aluminum alloy plate during the anode reaction is 160 C / dm 2 at an alternating current of 60.0 Hz. The chemical treatment was performed.
Then, the 2nd desmut process was performed using the sulfuric acid aqueous solution of density | concentration 25 mass% and temperature 60 degreeC, and the support body for lithographic printing plates was obtained.

1−4.平版印刷版用支持体の表面の観察
上記で得られた平版印刷版用支持体の表面の砂目形状の観察を行った。具体的には、走査型電子顕微鏡(T5500、日立電子社製)を用いて、写真倍率2000倍でSEM写真を撮影し、SEM写真に基づき、平版印刷版用支持体の表面のピットの均一性および面質ムラ(結晶粒に起因する表面に見えるざらつき)を目視で評価した。
ピットの均一性は、以下の5段階で評価した。○△以上であると、実用上問題がない。
○:形状が丸く、均一で、ピットの稜線が明確であり、未エッチ部(ピット生成不足部)が存在しない
○△:形状がやや崩れているが、均一で、ピットの稜線がやや不明瞭であり、未エッチ部が存在しない
△:形状が丸く、均一で、ピットの稜線が明確であるが、未エッチ部が存在する
△×:形状が崩れており、不均一で、ピットの稜線が不明瞭
×:形状が大きく崩れており、不均一で、ピットの稜線が存在しない
また、面質ムラは、ざらつきが少ない方から○、○△、△、△×、×の5段階で評価した。○△以上であると、実用上問題がない。
結果を第3表に示す。
1-4. Observation of surface of lithographic printing plate support The grain shape of the surface of the lithographic printing plate support obtained above was observed. Specifically, using a scanning electron microscope (T5500, manufactured by Hitachi Electronics Co., Ltd.), an SEM photograph was taken at a photographic magnification of 2000 times. Based on the SEM photograph, the pit uniformity on the surface of the lithographic printing plate support And surface unevenness (roughness seen on the surface due to crystal grains) was visually evaluated.
The uniformity of pits was evaluated according to the following five levels. If it is more than Δ, there is no practical problem.
○: The shape is round and uniform, the pit ridgeline is clear, and there is no unetched part (pit generation insufficient part) ○ △: The shape is slightly broken, but the shape is uniform and the pit ridgeline is slightly unclear △: The shape is round and uniform, and the pit ridgeline is clear, but the unetched portion exists. △ ×: The shape is broken, uneven, and the pit ridgeline is Unclear x: The shape is greatly collapsed, non-uniform, and there is no pit ridgeline. Also, surface irregularities were evaluated in five grades: ○, ○ △, △, △ ×, × from the side with less roughness. . If it is more than Δ, there is no practical problem.
The results are shown in Table 3.

第2表および第3表から明らかなように、本発明の第1の態様の平版印刷版用支持体(実施例1〜10)は、結晶粒の幅および長さが好適な範囲にあり、ピットが均一であり、かつ、面質ムラが抑制されている。中でも、Fe量およびSi量の関係が好適範囲にある場合(実施例1〜6)は、ピットの均一性が特に優れている。
また、本発明の第1の態様の平版印刷版用支持体(実施例1〜10)は、引張強度および加熱後の0.2%耐力が好適な範囲にあるため、印刷中に版切れが生じにくい。
これに対し、Cu量が多すぎる場合(比較例1)は、未エッチ部が存在し、面質ムラが発生していた。中間焼鈍を行わなかった場合(比較例2)は、結晶粒が大きく、面質ムラが発生していた。中間焼鈍の温度が低すぎた場合(比較例3)は、結晶粒が大きく、ピットが均一でなく、面質ムラが発生していた。Fe量およびSi量が少なすぎる場合(比較例4)は、ピットが均一でなく、面質ムラが発生していた。
As is apparent from Tables 2 and 3, the lithographic printing plate support (Examples 1 to 10) of the first aspect of the present invention has a crystal grain width and length in a suitable range, The pits are uniform and surface quality unevenness is suppressed. Among these, when the relationship between the Fe amount and the Si amount is in a suitable range (Examples 1 to 6), the pit uniformity is particularly excellent.
Further, since the lithographic printing plate support of the first aspect of the present invention (Examples 1 to 10) has a tensile strength and a 0.2% proof stress after heating within suitable ranges, the plate breaks during printing. Hard to occur.
On the other hand, when there was too much Cu amount (comparative example 1), the unetched part existed and the surface quality nonuniformity had generate | occur | produced. When the intermediate annealing was not performed (Comparative Example 2), the crystal grains were large and surface unevenness occurred. When the temperature of the intermediate annealing was too low (Comparative Example 3), crystal grains were large, pits were not uniform, and surface quality unevenness occurred. When the amounts of Fe and Si were too small (Comparative Example 4), the pits were not uniform and surface unevenness occurred.

Figure 2007062217
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Figure 2007062217
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2−1.アルミニウム合金板の作製(その2)
(実施例11〜14)
仕上げ冷間圧延の最終パスにおいて、圧延油の供給量を20%削減した以外は、アルミニウム合金板(Al板)1〜4と同様の方法により、アルミニウム合金板(Al板)15〜18を得た。
2-1. Production of aluminum alloy sheet (Part 2)
(Examples 11-14)
Aluminum alloy plates (Al plates) 15 to 18 are obtained in the same manner as the aluminum alloy plates (Al plates) 1 to 4 except that the supply amount of rolling oil is reduced by 20% in the final cold rolling pass. It was.

得られたアルミニウム合金板15〜18ならびに「アルミニウム合金板の作製(その1)で得られたアルミニウム1〜4および11〜14を、以下のアルミニウム合金板の評価に供した。   The obtained aluminum alloy plates 15 to 18 and “aluminum 1 to 4 and 11 to 14 obtained in preparation of aluminum alloy plate (Part 1) were subjected to the evaluation of the following aluminum alloy plates.

2−2.平版印刷版用支持体の製造(その2)
(実施例11〜14)
上記で得られたアルミニウム合金板15〜18の表面に、実施例1〜10および比較例1〜4と同様の方法により、第1アルカリエッチング処理、第1デスマット処理、電気化学的粗面化処理および第2デスマット処理を行い、平版印刷版用支持体を得た。
2-2. Production of lithographic printing plate support (Part 2)
(Examples 11-14)
By the method similar to Examples 1-10 and Comparative Examples 1-4, the 1st alkali etching process, the 1st desmut process, and the electrochemical roughening process were carried out to the surface of the aluminum alloy plates 15-18 obtained above. And the 2nd desmut process was performed and the support body for lithographic printing plates was obtained.

2−3.平版印刷版用支持体の評価
実施例1〜4および11〜14ならびに比較例1〜4で得られた平版印刷版用支持体について、以下のようにして裏面の等ピッチパターンおよび裏面の平均表面粗さの評価を行った。
(1)裏面の等ピッチパターン
平版印刷版用支持体の裏面に、等ピッチパターン(幅方向に平行な3〜10mmピッチのほぼ等間隔の凸条)が存在するか否かを目視で観察した。
結果を第4表に示す。
2-3. Evaluation of Support for Lithographic Printing Plate For the lithographic printing plate supports obtained in Examples 1 to 4 and 11 to 14 and Comparative Examples 1 to 4, an equal pitch pattern on the back surface and an average surface on the back surface are as follows. Roughness was evaluated.
(1) Equi-pitch pattern on the back side It was visually observed whether or not an equi-pitch pattern (protrusions with substantially equal intervals of 3 to 10 mm pitch parallel to the width direction) was present on the back side of the support for a lithographic printing plate. .
The results are shown in Table 4.

(2)裏面の平均表面粗さ
平版印刷版用支持体の裏面について、幅方向および圧延方向の平均表面粗さ(Ra)を測定した。平均表面粗さの測定は、触針式粗さ計(Surfcom575、東京精密社製)で2次元粗さ測定を行い、ISO4287に規定されている平均粗さRaを5回測定し、その平均値を平均表面粗さとした。
結果を第4表に示す。
(2) Average surface roughness of the back surface The average surface roughness (R a ) in the width direction and the rolling direction was measured for the back surface of the lithographic printing plate support. Measurement of the average surface roughness, stylus roughness meter (Surfcom575, manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.) subjected to two-dimensional roughness measurement, the measured 5 times an average roughness R a as defined in ISO4287, the average The value was the average surface roughness.
The results are shown in Table 4.

2−4.平版印刷版原版の製造
実施例1〜4および11〜14ならびに比較例1〜4で得られた平版印刷版用支持体に、以下のようにしてサーマルポジタイプの画像記録層を設けて平版印刷版原版を製造した。
2-4. Production of lithographic printing plate precursors A lithographic printing plate support obtained in Examples 1 to 4 and 11 to 14 and Comparative Examples 1 to 4 is provided with a thermal positive type image recording layer as follows, and lithographic printing is performed. An original plate was produced.

<親水化処理>
平版印刷版用支持体に、親水化処理を施した。具体的には、平版印刷版用支持体を3号ケイ酸ソーダ1質量%水溶液(温度30℃)に10秒間浸せきさせ、アルカリ金属ケイ酸塩処理(シリケート処理)を行った。その後、井水を用いたスプレーによる水洗を行った。蛍光X線分析装置で測定したアルミニウム合金板表面のSi量は、3.6mg/m2であった。
<Hydrophilic treatment>
The lithographic printing plate support was hydrophilized. Specifically, the lithographic printing plate support was immersed in a 1% by weight aqueous solution of sodium silicate No. 3 (temperature 30 ° C.) for 10 seconds to perform alkali metal silicate treatment (silicate treatment). Then, the water washing by the spray using well water was performed. The amount of Si on the surface of the aluminum alloy plate measured with a fluorescent X-ray analyzer was 3.6 mg / m 2 .

<下塗層の形成>
ついで、下塗層を設けた。具体的には、アルカリ金属ケイ酸塩処理後の平版印刷版用支持体上に、下記組成の下塗液を塗布し、80℃で15秒間乾燥し、下塗層の塗膜を形成させた。乾燥後の塗膜の被覆量は15mg/m2であった。
<Formation of undercoat layer>
Next, an undercoat layer was provided. Specifically, an undercoat solution having the following composition was applied onto a lithographic printing plate support after the alkali metal silicate treatment, and dried at 80 ° C. for 15 seconds to form a coating film of an undercoat layer. The coating amount of the coating film after drying was 15 mg / m 2 .

<下塗液組成>
・下記式Iで表される高分子化合物 0.3g
・メタノール 100g
・水 1g
<Undercoat liquid composition>
・ 0.3 g of a polymer represented by the following formula I
・ Methanol 100g
・ Water 1g

Figure 2007062217
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<画像記録層の形成>
更に、下塗層を設けた平版印刷版用支持体に、下記組成の感熱層用塗布液1をワイヤーバーを用いて塗布し、140℃で50秒間乾燥させて、画像記録層の下層を形成させた。下層の乾燥後の塗布量(感熱層塗布量)は0.85g/m2であった。ついで、下記組成の感熱層用塗布液2をワイヤーバーを用いて塗布し、140℃で1分間乾燥させて、画像記録層の上層を形成させた。下層および上層の乾燥後の塗布量(感熱層塗布量)の合計は1.1g/m2であった。
このようにして、感熱層(重層型のサーマルポジタイプの画像記録層)を形成させ、平版印刷版原版を得た。
<Formation of image recording layer>
Further, a thermosensitive layer coating solution 1 having the following composition is applied to a lithographic printing plate support provided with an undercoat layer using a wire bar and dried at 140 ° C. for 50 seconds to form a lower layer of the image recording layer. I let you. The coating amount after drying of the lower layer (heat-sensitive layer coating amount) was 0.85 g / m 2 . Subsequently, the heat-sensitive layer coating solution 2 having the following composition was applied using a wire bar and dried at 140 ° C. for 1 minute to form an upper layer of the image recording layer. The total coating amount after drying of the lower layer and the upper layer (coating amount of the heat-sensitive layer) was 1.1 g / m 2 .
In this manner, a heat-sensitive layer (multi-layer type thermal positive type image recording layer) was formed to obtain a lithographic printing plate precursor.

<感熱層用塗布液1の組成>
・N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/アクリロニトリル/メタクリル酸メチル(モル比36/34/30、重量平均分子量50,000) 1.920g
・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量4000) 0.213g
・下記式Aで表されるシアニン染料A 0.032g
・p−トルエンスルホン酸 0.008g
・テトラヒドロ無水フタル酸 0.19g
・ビス−p−ヒドロキシフェニルスルホン 0.126g
・2−メトキシ−4−(N−フェニルアミノ)ベンゼンジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート 0.032g
・ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを1−ナフタレンスルホン酸アニオンにした染料 0.078g
・フッ素系界面活性剤(メガファックF−780、大日本インキ化学工業社製) 0.02g
・γ−ブチロラクトン 13.18g
・メチルエチルケトン 25.41g
・1−メトキシ−2−プロパノール 12.97g
<Composition of coating solution 1 for heat-sensitive layer>
N- (4-aminosulfonylphenyl) methacrylamide / acrylonitrile / methyl methacrylate (molar ratio 36/34/30, weight average molecular weight 50,000) 1.920 g
・ M, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 4000) 0.213 g
-0.032 g of cyanine dye A represented by the following formula A
・ 0.008 g of p-toluenesulfonic acid
・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.19g
・ Bis-p-hydroxyphenylsulfone 0.126 g
・ 2-methoxy-4- (N-phenylamino) benzenediazonium ・ hexafluorophosphate 0.032 g
-0.078 g of a dye in which the counter anion of Victoria Pure Blue BOH is a 1-naphthalenesulfonic acid anion
・ Fluorine-based surfactant (Megafac F-780, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.02g
・ Γ-butyrolactone 13.18g
・ Methyl ethyl ketone 25.41g
・ 1-methoxy-2-propanol 12.97g

Figure 2007062217
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<感熱層用塗布液2の組成>
・フェノール/m,p−クレゾールノボラック(フェノール/m/p比=5/3/2、重量平均分子量4,000) 0.274g
・上記式Aで表されるシアニン染料A 0.029g
・下記式Bで表されるポリマーの30質量%メチルエチルケトン溶液 0.14g
・下記式Cで表される第四級アンモニウム塩 0.004g
・下記式Dで表されるスルホニウム塩 0.065g
・フッ素系界面活性剤(メガファックF−780、大日本インキ化学工業社製) 0.004g
・フッ素系界面活性剤(メガファックF−782、大日本インキ化学工業社製) 0.020g
・メチルエチルケトン 10.39g
・1−メトキシ−2−プロパノール 20.98g
<Composition of coating solution 2 for heat-sensitive layer>
-Phenol / m, p-cresol novolak (phenol / m / p ratio = 5/3/2, weight average molecular weight 4,000) 0.274 g
-Cyanine dye A represented by the above formula A 0.029 g
-0.14g of 30 mass% methyl ethyl ketone solution of the polymer represented by the following formula B
-Quaternary ammonium salt represented by the following formula C 0.004 g
・ Sulphonium salt represented by the following formula D 0.065 g
・ Fluorosurfactant (Megafac F-780, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.004g
・ Fluorine-based surfactant (Megafac F-782, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.020 g
・ Methyl ethyl ketone 10.39g
・ 1-methoxy-2-propanol 20.98g

Figure 2007062217
Figure 2007062217

2−5.平版印刷版原版の評価
上記で得られた平版印刷版原版について、以下のようにして合紙分離性、搬送ベルト搬送性およびニップロール搬送性の評価を行った。
(1)合紙分離性
40枚の平版印刷版原版が合紙と呼ばれる紙を差し挟んで積層された状態から、Creo社製TrendSetterを用い、まず、平版印刷版原版の上にある合紙を、合紙吸着式の除去装置で吸着除去し、ついで、その下の平版印刷版原版を吸盤式の搬送装置で露光装置内に搬送させた。この操作を10枚の平版印刷版原版について連続的に行い、平版印刷版原版の下にある次の合紙が一緒に搬送される不具合の発生の有無を調べた。
結果を第4表に示す。平版印刷版原版の下にある次の合紙が一緒に搬送される不具合が生じたものがなかったものを○、不具合が生じたものがあったものを×で示した。
2-5. Evaluation of lithographic printing plate precursor The lithographic printing plate precursor obtained above was evaluated for interleaving paper separation property, conveyance belt conveyance property and nip roll conveyance property as follows.
(1) Interleaving paper separation From a state in which 40 lithographic printing plate precursors are laminated with a paper called interleaving paper sandwiched between them, first, a slip paper on the lithographic printing plate precursor is removed using a TrendSetter manufactured by Creo. Then, the sheet was adsorbed and removed by a slip-sheet adsorption type removing device, and then the lithographic printing plate precursor below was conveyed into the exposure device by a suction cup type conveying device. This operation was continuously performed for 10 lithographic printing plate precursors, and it was examined whether or not there was a problem that the next slip sheet under the lithographic printing plate precursor was conveyed together.
The results are shown in Table 4. The case where there was no defect in which the next slip sheet under the lithographic printing plate precursor was conveyed together was indicated by ○, and the case where there was a defect was indicated by ×.

(2)搬送ベルト搬送性
幅50mmのベルト(クラリーノ社製)を200mm間隔で配したベルト搬送性試験機を用いて、ベルトでの搬送性を調べた。具体的には、平版印刷版原版が3m移動する間の進行方向のずれの有無を、10枚の平版印刷版原版について評価した。
結果を第4表に示す。平版印刷版原版の先端位置が搬送方向に垂直な方向に2mm以上ずれたものがなかったものを○、2mm以上ずれたものがあったものを×で示した。
結果を第4表に示す。
(2) Conveyance of Conveying Belt Using a belt conveyability tester in which belts having a width of 50 mm (manufactured by Clarino Co., Ltd.) were arranged at intervals of 200 mm, the conveyability of the belt was examined. Specifically, 10 lithographic printing plate precursors were evaluated for the presence or absence of deviation in the direction of travel while the lithographic printing plate precursor moved 3 m.
The results are shown in Table 4. A case where the tip position of the lithographic printing plate precursor did not deviate by 2 mm or more in the direction perpendicular to the conveying direction was indicated by ◯, and a case where there was a deviation by 2 mm or more was indicated by x.
The results are shown in Table 4.

(3)ニップロール搬送性
直径30mmの一対のゴム製ニップロールテスト機で、ニップ時の搬送性を調べた。具体的には、平版印刷版原版がニップロールに挟まれ始めてから出るまでの間の進行方向のずれの有無を、10枚の平版印刷版原版について評価した。
結果を第4表に示す。平版印刷版原版の先端位置が搬送方向に垂直な方向に1mm以上ずれたものがなかったものを○、1mm以上ずれたものがあったものを×で示した。
結果を第4表に示す。
(3) Nip roll transportability A pair of rubber nip roll testers with a diameter of 30 mm was used to examine the transportability during nip. Specifically, 10 lithographic printing plate precursors were evaluated for the presence or absence of a shift in the traveling direction from when the lithographic printing plate precursor started to be sandwiched between nip rolls until it came out.
The results are shown in Table 4. The case where the tip position of the lithographic printing plate precursor did not deviate by 1 mm or more in the direction perpendicular to the conveying direction was indicated by ◯, and the case where there was a deviation by 1 mm or more was indicated by x.
The results are shown in Table 4.

第4表から明らかなように、本発明の第2の態様の平版印刷版用支持体(実施例1〜4および11〜14)は、合紙分離性、搬送ベルト搬送性およびニップロール搬送性に優れる。中でも、裏面の平均表面粗さ(Ra)が大きい場合(実施例4)は、合紙分離性に優れる。また、裏面に等ピッチパターンを持つ場合(実施例11〜14)も、等ピッチパターン自体は平均表面粗さ(Ra)に影響する程度のピッチではないものの、平均表面粗さ(Ra)の大小によらず合紙分離性に優れる。
これに対し、裏面の平均表面粗さ(Ra)が小さすぎる場合(比較例1〜4)は、合紙分離性、搬送ベルト搬送性およびニップロール搬送性に劣っていた。
As is apparent from Table 4, the lithographic printing plate support (Examples 1 to 4 and 11 to 14) of the second aspect of the present invention has interleaving paper separation properties, conveyance belt conveyance properties, and nip roll conveyance properties. Excellent. Among them, when the average surface roughness (R a ) on the back surface is large (Example 4), the interleaf separation property is excellent. Also, if you have an equal pitch pattern on the back surface (Examples 11-14) also, although an equal pitch pattern itself is not the degree of pitch that affect average surface roughness (R a), the average surface roughness (R a) Excellent interleaving paper separation regardless of size.
On the other hand, when the average surface roughness ( Ra ) of the back surface was too small (Comparative Examples 1 to 4), the interleaf separation property, the conveyance belt conveyance property, and the nip roll conveyance property were inferior.

Figure 2007062217
Figure 2007062217

3−1.平版印刷版用支持体の製造(その3)
(実施例15および16ならびに比較例5および6)
上記で得られたアルミニウム合金板1の表面に、電気化学的粗面化処理に用いた硝酸水溶液の濃度を第5表に示すように変更した以外は実施例1〜10および比較例1〜4と同様の方法により、第1アルカリエッチング処理、第1デスマット処理、電気化学的粗面化処理および第2デスマット処理を行い、平版印刷版用支持体を得た。
3-1. Production of lithographic printing plate support (Part 3)
(Examples 15 and 16 and Comparative Examples 5 and 6)
Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 4 except that the concentration of the aqueous nitric acid solution used in the electrochemical roughening treatment was changed as shown in Table 5 on the surface of the aluminum alloy plate 1 obtained above. By the same method, the first alkali etching treatment, the first desmutting treatment, the electrochemical surface roughening treatment and the second desmutting treatment were carried out to obtain a lithographic printing plate support.

3−2.平版印刷版用支持体の表面の観察(その2)
上記で得られた平版印刷版用支持体の表面の砂目形状の観察を行った。具体的には、上述したのと同様の方法により、平版印刷版用支持体の表面のピットの均一性および面質ムラを目視で評価した。
結果を第5表に示す。
3-2. Observation of the surface of a lithographic printing plate support (Part 2)
The grain shape of the surface of the lithographic printing plate support obtained above was observed. Specifically, the pit uniformity and surface quality unevenness on the surface of the lithographic printing plate support were visually evaluated by the same method as described above.
The results are shown in Table 5.

第5表から明らかなように、本発明の第1の態様の平版印刷版用支持体(実施例15および16)は、ピットが均一であり、かつ、面質ムラが抑制されている。
これに対し、硝酸電解に用いた水溶液の硝酸濃度が高すぎる場合(比較例5および6)には、未エッチ部が存在し、またはピットの均一性に劣り、面質ムラが生じていた。
As is apparent from Table 5, the lithographic printing plate support (Examples 15 and 16) of the first aspect of the present invention has uniform pits and suppressed surface quality unevenness.
On the other hand, when the concentration of nitric acid in the aqueous solution used for nitric acid electrolysis was too high (Comparative Examples 5 and 6), unetched portions existed or the pit uniformity was inferior, resulting in uneven surface quality.

Figure 2007062217
Figure 2007062217

Claims (5)

Fe:0.10〜0.40質量%、Si:0.03〜0.12質量%、Cu:0.003質量%以下、Ti:0.001〜0.02質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物とからなり、連続鋳造法で鋳造され、冷間圧延と、温度280〜490℃の中間焼鈍と、仕上げ冷間圧延とをこの順に行って得られるアルミニウム合金板に、少なくとも、硝酸を含有する水溶液を用いた電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理を施して得られる平版印刷版用支持体であって、
前記水溶液の硝酸濃度が10g/L以下である、平版印刷版用支持体。
Fe: 0.10-0.40% by mass, Si: 0.03-0.12% by mass, Cu: 0.003% by mass or less, Ti: 0.001-0.02% by mass, the balance being An aluminum alloy plate made of Al and inevitable impurities, cast by a continuous casting method, and obtained by performing cold rolling, intermediate annealing at a temperature of 280 to 490 ° C., and finish cold rolling in this order, at least nitric acid A support for a lithographic printing plate obtained by performing a roughening treatment including an electrochemical roughening treatment using an aqueous solution containing
A lithographic printing plate support, wherein the aqueous solution has a nitric acid concentration of 10 g / L or less.
前記アルミニウム合金板が、Fe:0.10〜0.20質量%、Si:0.03〜0.06質量%、Cu:0.003質量%以下、Ti:0.001〜0.02質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物とからなる、請求項1に記載の平版印刷版用支持体。   The aluminum alloy plate is Fe: 0.10 to 0.20 mass%, Si: 0.03 to 0.06 mass%, Cu: 0.003 mass% or less, Ti: 0.001 to 0.02 mass% The lithographic printing plate support according to claim 1, wherein the balance comprises Al and inevitable impurities. 前記アルミニウム合金板が、Fe:0.24〜0.36質量%、Si:0.06〜0.10質量%、Cu:0.003質量%以下、Ti:0.001〜0.02質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物とからなる、請求項1に記載の平版印刷版用支持体。   The aluminum alloy plate is Fe: 0.24-0.36 mass%, Si: 0.06-0.10 mass%, Cu: 0.003 mass% or less, Ti: 0.001-0.02 mass% The lithographic printing plate support according to claim 1, wherein the balance comprises Al and inevitable impurities. Fe:0.10〜0.40質量%、Si:0.03〜0.12質量%、Cu:0.003質量%以下、Ti:0.001〜0.02質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物とからなり、連続鋳造法で鋳造され、冷間圧延と、温度280〜490℃の中間焼鈍と、仕上げ冷間圧延とをこの順に行って得られるアルミニウム合金板に、少なくとも、粗面化処理を施して得られる平版印刷版用支持体であって、
前記アルミニウム合金板の前記粗面化処理を施される面の反対側の面が、アルミニウム溶解量1〜10g/m2のアルカリエッチング処理を施されており、かつ、圧延方向の平均表面粗さRaが0.15〜0.35であり、圧延方向に垂直な方向の平均表面粗さRaが0.20〜0.40である、平版印刷版用支持体。
Fe: 0.10-0.40% by mass, Si: 0.03-0.12% by mass, Cu: 0.003% by mass or less, Ti: 0.001-0.02% by mass, the balance being An aluminum alloy sheet made of Al and inevitable impurities, cast by a continuous casting method, and obtained by performing cold rolling, intermediate annealing at a temperature of 280 to 490 ° C., and finish cold rolling in this order, is at least rough. A support for a lithographic printing plate obtained by surface treatment,
The surface of the aluminum alloy plate opposite to the surface subjected to the roughening treatment is subjected to an alkali etching treatment with an aluminum dissolution amount of 1 to 10 g / m 2 and an average surface roughness in the rolling direction. R a is 0.15 to 0.35, the average surface roughness R a in the direction perpendicular to the rolling direction is 0.20 to 0.40, the lithographic printing plate support.
前記アルミニウム合金板の前記粗面化処理を施される面の反対側の面において、圧延方向に垂直な方向に、ほぼ等間隔の複数の凸条が形成されており、前記複数の凸条の間隔が3〜10mmの範囲である、請求項4に記載の平版印刷版用支持体。   On the surface of the aluminum alloy plate opposite to the surface subjected to the roughening treatment, a plurality of ridges having substantially equal intervals are formed in a direction perpendicular to the rolling direction. The lithographic printing plate support according to claim 4, wherein the distance is in the range of 3 to 10 mm.
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