JP2007058033A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 シリコン基板11上に設けられ、入射する露光光に強度変調を与えて射出するマイクロミラーデバイス3と、シリコン基板11上にてマイクロミラーデバイス3の搬送方向先頭側の部分に設けられ、カラーフィルタ基板9上の基準パターンを撮像する撮像手段4と、搬送手段1とマイクロミラーデバイス3及び撮像手段4との間に配設され、上記カラーフィルタ基板9上のブラックマトリクスのピクセルの像を撮像手段4の受光面に結像すると共に、マイクロミラーデバイス3からの射出光をカラーフィルタ基板9上に投影する投影レンズ5と、撮像手段4で撮像された上記ピクセルに予め設定された基準位置を検出し、該基準位置を基準にしてマイクロミラーデバイス3の駆動を制御する制御手段7と、を備えたものである。
【選択図】 図1
Description
先ず、装置に設けられた図示省略の起動スイッチが投入されると、制御手段7が起動して照明光源駆動部25により照明光源6が点灯され、撮像手段4が撮像を開始する。また、搬送手段1は、ステージ9上の所定位置にカラーレジストを塗布したカラーフィルタ基板8を載置して待機状態となっている。次に、図示省略の露光開始スイッチが投入されると、搬送手段1のステージ9が搬送手段コントローラ24に制御されて矢印A方向に所定の速度で移動を開始する。
1a…載置面
2…露光光源
3…マイクロミラーデバイス
4…撮像手段
5…投影レンズ
7…制御手段
8…カラーフィルタ基板(被露光体)
10…マイクロミラー
11…シリコン基板(半導体基板)
16…ブラックマトリクス
17…ピクセル(基準パターン)
18…受光素子
Claims (4)
- 被露光体を載置面に載置して所定方向に搬送する搬送手段と、
前記搬送手段の上方に配設され、半導体基板上に複数のマイクロミラーが所定状態に配置され、各マイクロミラーが入力される駆動制御信号に基づいて個別に傾動されて、入射する露光光に強度変調を与えて射出するマイクロミラーデバイスと、
前記半導体基板上にて前記マイクロミラーデバイスの前記被露光体の搬送方向先頭側の部分に該マイクロミラーデバイスと近接させて配設され、前記複数のマイクロミラーの前記被露光体の搬送方向と直交する方向の並びにそれぞれ対応させて配置された複数の受光素子で被露光体上の基準パターンを撮像する撮像手段と、
前記搬送手段とマイクロミラーデバイス及び撮像手段との間に配設され、前記被露光体上の基準パターンの像を前記撮像手段の受光素子面に結像すると共に、前記マイクロミラーからの射出光を前記被露光体上に投影する投影レンズと、
前記撮像手段で撮像された前記基準パターンに予め設定された基準位置を検出し、該基準位置を基準にして前記マイクロミラーデバイスの駆動を制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記マイクロミラーデバイスは、複数のマイクロミラーを前記搬送手段の載置面に平行な面内にて搬送方向と直交する方向に一直線状に並べて配置したことを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記マイクロミラーデバイスは、複数のマイクロミラーを前記搬送手段の載置面に平行な面内にマトリクス状に配置したことを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記撮像手段は、前記複数の受光素子を前記搬送手段の載置面に平行な面内にて前記被露光体の搬送方向と直交する方向に一直線状に並べて配置したことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の露光装置。
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