JP2007055189A - Method for manufacturing coated film and coated film - Google Patents

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Tetsuya Okabe
鉄也 岡部
Takatoshi Sakaguchi
貴俊 坂口
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Daicel Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a coated film (a gas barrier film) to which excellent gas barrier properties can be imparted, even in the case wherein the film is manufactured by a laminating process using a take-up device etc. <P>SOLUTION: This method comprises (1) a coating process to apply a coating liquid containing a hydrolytically condensable organic metal compound (alkoxysilane etc.) onto at least one surface of a base film, (2) a drying process to dry the film after the coating process (1), and (3) a lamination process to laminate the film under a moist condition after the drying process (2). In this method, the film is dried in a moist atomosphere in the drying process (2). In the drying process (2), the film may be moistened and dried under such a condition that the temperature be 40 to 170°C and the humidity [mass(kg) of water vapor/mass(kg) of dried air (dry air)] be 0.012 to 0.2. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、酸素などに対するガスバリア性に優れたコートフィルム(ガスバリア性フィルム)の製造方法およびこの方法により得られたコートフィルムに関する。   The present invention relates to a method for producing a coated film (gas barrier film) having excellent gas barrier properties against oxygen and the like, and a coated film obtained by this method.

食品、医薬品、精密電子部品などに用いられる包装フィルムは、内容物の視認性や美観性などのために、高い透明性が要求されると共に、内容物の吸湿や酸化などによる変質などを防止するため、高いガスバリア性が必要とされる。また、近年、電子レンジの普及に伴い、調理済みまたは半調理食品(以下、調理食品と総称する)が、包装されたまま電子レンジで加熱される場合がある。また、前記調理食品は、包装後にレトルト処理される場合も多い。そのため、このような包装フィルムには、レトルト処理や電子レンジでの加熱に対する耐性が要求される場合もある。   Packaging films used for foods, pharmaceuticals, precision electronic parts, etc. are required to have high transparency for the visibility and aesthetics of the contents, as well as to prevent deterioration of the contents due to moisture absorption and oxidation. Therefore, a high gas barrier property is required. In recent years, with the spread of microwave ovens, cooked or semi-cooked foods (hereinafter collectively referred to as cooked foods) may be heated in a microwave oven while being packaged. In addition, the cooked food is often retorted after packaging. Therefore, such a packaging film may be required to have resistance to retort processing and heating in a microwave oven.

このような包装フィルムは、通常、基材フィルムとこの基材フィルム上に形成されたガスバリア層とで少なくとも構成でき、種々の積層フィルムが提案されている。例えば、特開平1−202435号公報(特許文献1)や特開平1−202436号公報(特許文献2)には、基材フィルムの表面に、ケイ素酸化物の蒸着層と、ヒートシール層又は保護層とを形成した電子レンジ用包装材料やレトルト食品用包装材料が開示されている。   Such a packaging film can usually be constituted at least by a base film and a gas barrier layer formed on the base film, and various laminated films have been proposed. For example, in JP-A-1-202435 (Patent Document 1) and JP-A-1-202436 (Patent Document 2), a silicon oxide vapor-deposited layer and a heat seal layer or protection are provided on the surface of a base film. A packaging material for a microwave oven and a packaging material for a retort food, in which a layer is formed, are disclosed.

ガスバリア層を金属アルコキシドなどの加水分解性縮合性化合物の縮合物で形成したガスバリア性フィルムも知られている。例えば、特開平8−309913号公報(特許文献3)には、基材フィルム層の少なくとも一方の面が、ケイ素酸化物などで構成されている無機質薄膜層を介して、シランカップリング剤を含むバリア性樹脂層で被覆されているバリア性複合フィルムが開示されている。また、特許第3119113号公報(特許文献4)には、ポリエチレンイミンなどの分子内に1級および/または2級アミノ基を有する高分子有機化合物(A)と、前記アミノ基と反応し得る官能基を有する化合物(B)と、有機シラン化合物(C)および/またはその加水分解縮合物と、アルコールとを含有する表面被覆用組成物で樹脂成形体表面を被覆した表面処理樹脂成形体が開示されている。さらに、特開2003−128121号公報(特許文献5)には、ポリエステル、ポリオレフィンまたはポリアミドからなる成形体(A)表面の少なくとも一部に、活性水素が結合した窒素原子を分子内に有する有機化合物(I)と前記活性水素と反応しうる官能基を有する有機化合物(II)とを反応させて得られた組成物を用いたガスバリア層(B)および金属層または金属酸化物層(C)が形成された包装材料であって、40℃、90%RHでの水蒸気透過度が5g/m2・24時間である包装材料が開示されている。 A gas barrier film in which a gas barrier layer is formed of a condensate of a hydrolyzable condensable compound such as a metal alkoxide is also known. For example, in JP-A-8-309913 (Patent Document 3), at least one surface of a base film layer contains a silane coupling agent via an inorganic thin film layer made of silicon oxide or the like. A barrier composite film coated with a barrier resin layer is disclosed. Japanese Patent No. 3119113 (Patent Document 4) discloses a polymer organic compound (A) having a primary and / or secondary amino group in a molecule such as polyethyleneimine and a functional group capable of reacting with the amino group. Disclosed is a surface-treated resin molded article in which the surface of a resin molded article is coated with a surface coating composition containing a group-containing compound (B), an organosilane compound (C) and / or a hydrolysis condensate thereof, and an alcohol. Has been. Furthermore, JP-A-2003-128121 (Patent Document 5) discloses an organic compound having in its molecule a nitrogen atom having active hydrogen bonded to at least a part of the surface of a molded body (A) made of polyester, polyolefin or polyamide. A gas barrier layer (B) and a metal layer or metal oxide layer (C) using a composition obtained by reacting (I) with an organic compound (II) having a functional group capable of reacting with active hydrogen, A packaging material is disclosed which has a water vapor transmission rate of 5 g / m 2 · 24 hours at 40 ° C. and 90% RH.

しかし、これらの文献に記載のガスバリア性フィルムでは、シランカップリング剤などの加水分解縮合を効率よく行うことができず、充分なガスバリア性を付与できない。特に、このようなガスバリア性フィルムをロール状に巻き取るなどにより製造する場合、加水分解のための水分が不足したり、加水分解に伴って生じる副生物(アルコールなど)の拡散(又は放散)が生じにくくなるため、ガスバリア性の高いフィルムを効率よく得ることが困難である。   However, in the gas barrier film described in these documents, hydrolysis condensation such as a silane coupling agent cannot be performed efficiently, and sufficient gas barrier properties cannot be imparted. In particular, when producing such a gas barrier film by winding it in a roll shape, there is insufficient moisture for hydrolysis or diffusion (or diffusion) of by-products (such as alcohol) that accompanies hydrolysis. Since it becomes difficult to generate, it is difficult to efficiently obtain a film having a high gas barrier property.

一方、ガスバリア性を向上させるため、基材に加水分解性化合物を含むバリア層を形成した後、エージング処理を行うことが知られている。例えば、特開2002−292810号公報(特許文献6)には、ポリビニルアルコール、アミノ基及び/又はイミノ基を有する特定のアルコキシシラン、エポキシ基を有する特定のアルコキシシラン、および水又は低級アルコールを添加した水を特定の割合で含む組成物をポリエステル基材上に塗布し、乾燥してガスバリア層を形成する第一の工程と、該ガスバリア層を形成した基材をエージングする第二の工程と、該ガスバリア層上にラミネートする第三の工程を有するガスバリア性フィルムの製造方法が開示されている。この文献には、エージングに関し、エージング時間は好ましくは20時間以上、より好ましくは24時間以上であること、エージング温度は20℃〜40℃が好ましいこと、エージング時の湿度は50%RH〜80%RHが好ましいことが記載されている。   On the other hand, in order to improve gas barrier properties, it is known to perform an aging treatment after forming a barrier layer containing a hydrolyzable compound on a substrate. For example, in JP-A-2002-292810 (Patent Document 6), polyvinyl alcohol, a specific alkoxysilane having an amino group and / or an imino group, a specific alkoxysilane having an epoxy group, and water or a lower alcohol are added. A first step of applying a composition containing water in a specific ratio on a polyester substrate and drying to form a gas barrier layer; and a second step of aging the substrate on which the gas barrier layer is formed; A method for producing a gas barrier film having a third step of laminating on the gas barrier layer is disclosed. In this document, with respect to aging, the aging time is preferably 20 hours or more, more preferably 24 hours or more, the aging temperature is preferably 20 ° C. to 40 ° C., and the humidity during aging is 50% RH to 80%. It is stated that RH is preferred.

また、特開2003−191404号公報(特許文献7)には、熱可塑性樹脂フィルムよりなる基材層と珪素アルコキシドの加水分解物、層状珪酸塩及びポリビニルアルコール系樹脂よりなるガスバリア層とを含む積層体の製法において、前記基剤層上に、ポリビニルアルコール系樹脂の水性溶液に分散された層状珪酸塩の存在下に珪素アルコキシドを加水分解して得られた水性溶液よりなるガスバリアコート剤を塗工し、所定の温度で乾燥してガスバリア層を形成させた後、さらにエージング処理を施す方法が開示されている。この文献には、前記エージング処理が、温度30℃〜80℃、相対湿度30%RH〜100%RHの雰囲気下で行うことが好ましいこと、相対湿度が30%RH以上の雰囲気下でエージング処理することにより、ガスバリア層内で残存している珪素アルコキシドのアルコキシ基の加水分解やそれに伴う重縮合反応あるいはポリビニルアルコール系樹脂との水素結合が進行し、コート層中のフリーボリュームが縮小すること、エージング処理に要する日数は1日〜10日の範囲となるように設定すればよいことなどが記載されている。   Japanese Patent Laying-Open No. 2003-191404 (Patent Document 7) discloses a laminate including a base material layer made of a thermoplastic resin film and a gas barrier layer made of a hydrolyzate of silicon alkoxide, a layered silicate, and a polyvinyl alcohol resin. In the body manufacturing method, a gas barrier coating agent comprising an aqueous solution obtained by hydrolyzing silicon alkoxide in the presence of a layered silicate dispersed in an aqueous solution of a polyvinyl alcohol-based resin is applied onto the base layer. In addition, a method is disclosed in which an aging treatment is further performed after a gas barrier layer is formed by drying at a predetermined temperature. According to this document, the aging treatment is preferably performed in an atmosphere of a temperature of 30 ° C. to 80 ° C. and a relative humidity of 30% RH to 100% RH, and the aging treatment is performed in an atmosphere of a relative humidity of 30% RH or more. As a result, hydrolysis of the alkoxy group of the silicon alkoxide remaining in the gas barrier layer and subsequent polycondensation reaction or hydrogen bonding with the polyvinyl alcohol resin proceeds, and the free volume in the coating layer is reduced, aging It is described that the number of days required for processing may be set to be in the range of 1 day to 10 days.

この文献には、エージング処理を行う方法として、前記基材層上にガスバリアコート剤を塗工・乾燥したフィルムを、湿度、相対湿度を設定した恒温恒湿室などでエージング処理する方法、フィルムをロール状に巻き取る場合、巻き取り張力を低くしガスバリア性フィルム同士に空隙を設けたうえで恒温恒湿室でエージング処理する方法や、ロール状に巻き取る際に該ガスバリア層へ水蒸気を噴霧しエージング処理する方法等を用いてもよいことが記載されている。   In this document, as a method for performing an aging treatment, a film in which a gas barrier coating agent is applied and dried on the base material layer is subjected to an aging treatment in a constant temperature and humidity chamber in which humidity and relative humidity are set. When winding in a roll shape, lowering the winding tension and providing a gap between gas barrier films and then aging treatment in a constant temperature and humidity chamber, or spraying water vapor to the gas barrier layer when winding in a roll shape It describes that an aging method or the like may be used.

さらに、特開平7−323261号公報(特許文献8)には、特定のシラン化合物(A)、および該シラン化合物(A)中のアミノ基との反応性を有する官能基を分子内に持つ化合物(B)を含むコーティング用組成物を基材に塗布した後、加温・加湿雰囲気下で乾燥させて被膜化することを特徴とするコーティングフィルムの製造方法が開示されている。この文献には、乾燥被膜化の加温条件は、50℃以上、相対湿度で5%RH以上、および1秒以上行うのが好ましいことが記載されており、具体的には、実施例1において、調製したコーティング用組成物を25μmPETフィルムにバーコーターで塗布し、80℃、60%RHで30秒間乾燥したことが記載されている。   Further, JP-A-7-323261 (Patent Document 8) discloses a compound having a specific silane compound (A) and a functional group having reactivity with an amino group in the silane compound (A) in the molecule. A method for producing a coating film is disclosed in which a coating composition containing (B) is applied to a substrate and then dried in a heated and humidified atmosphere to form a film. In this document, it is described that the heating conditions for dry coating are preferably 50 ° C. or higher, 5% RH or higher in relative humidity, and preferably 1 second or longer. The prepared coating composition was applied to a 25 μm PET film with a bar coater and dried at 80 ° C. and 60% RH for 30 seconds.

しかし、これらの文献に記載のようなエージング処理を施しても、巻き取りなどによりガスバリア性フィルムを積層して製造する場合、依然として、ガスバリア性の高いフィルムを効率よく得ることが困難である。
特開平1−202435号公報(特許請求の範囲) 特開平1−202436号公報(特許請求の範囲) 特開平8−309913号公報(特許請求の範囲) 特許第3119113号公報(特許請求の範囲) 特開2003−128121号公報(特許請求の範囲) 特開2002−292810号公報(特許請求の範囲) 特開2003−191404号公報(特許請求の範囲、段落番号[0087]〜[0094]) 特開平7−323261号公報(特許請求の範囲、段落番号[0039][0045])
However, even when an aging treatment as described in these documents is performed, when a gas barrier film is laminated and manufactured by winding or the like, it is still difficult to efficiently obtain a film having a high gas barrier property.
JP-A-1-202435 (Claims) JP-A-1-202436 (Claims) JP-A-8-309913 (Claims) Japanese Patent No. 3119113 (Claims) JP 2003-128121 A (Claims) JP 2002-292810 A (Claims) JP 2003-191404 A (claims, paragraph numbers [0087] to [0094]) JP-A-7-323261 (Claims, paragraph numbers [0039] [0045])

従って、本発明の目的は、巻き取りなどの積層により製造しても、優れたガスバリア性を効率よく付与できるコートフィルム(ガスバリア性フィルム)の製造方法を提供することにある。   Therefore, the objective of this invention is providing the manufacturing method of the coat film (gas barrier film) which can provide the outstanding gas barrier property efficiently, even if manufactured by lamination | stacking, such as winding.

本発明の他の目的は、高いガスバリア性を有するコートフィルムを、積層(例えば、フィルムの巻き取りなど)により効率よく製造する方法を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a method for efficiently producing a coated film having a high gas barrier property by lamination (for example, winding of the film).

本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、基材フィルムに加水分解縮合性有機金属化合物を含む塗布液をコーティングする塗布工程と、フィルムを乾燥させる乾燥工程と、フィルムを巻き取りなどにより積層する積層工程とを含む一連のコートフィルム(ガスバリア性フィルム)の製造方法において、前記乾燥工程においてフィルムを加湿下で乾燥させるとともに、前記積層工程において加湿下でフィルムを積層することにより、加水分解縮合性有機金属化合物の加水分解および縮合を著しく促進できるためか、フィルムを積層しつつ製造しても、高いガスバリア性を有するコートフィルムを効率よく製造できることを見いだし、本発明を完成した。   As a result of intensive investigations to achieve the above-mentioned problems, the inventors of the present invention have applied a coating process in which a base film is coated with a coating solution containing a hydrolytic condensable organometallic compound, a drying process for drying the film, and a film winding. In a manufacturing method of a series of coat films (gas barrier films) including a lamination step of laminating by removing, etc., by drying the film under humidification in the drying step, and laminating the film under humidification in the lamination step The present inventors completed the present invention by finding that a coat film having high gas barrier properties can be efficiently produced even when the films are laminated while the hydrolysis and condensation of the hydrolysis-condensable organometallic compound can be remarkably accelerated. .

すなわち、本発明のコートフィルムの製造方法は、基材フィルムの少なくとも一方の面に加水分解縮合性有機金属化合物(A)を含む塗布液を塗布する塗布工程(1)と、この塗布工程(1)の後、フィルムを乾燥する乾燥工程(2)と、この乾燥工程(2)の後、フィルムを加湿下で積層する積層工程(3)とを含むコートフィルムの製造方法であって、前記乾燥工程(2)がフィルムを加湿処理する加湿工程を含む。   That is, the method for producing a coated film of the present invention includes a coating step (1) for coating a coating liquid containing a hydrolytic condensable organometallic compound (A) on at least one surface of a base film, and this coating step (1 ) And then a drying step (2) for drying the film, and after this drying step (2), a laminating step (3) for laminating the film under humidification, wherein the drying is performed. Step (2) includes a humidifying step of humidifying the film.

前記乾燥工程(2)において、加湿処理は加温下で行ってもよく、例えば、前記乾燥工程(2)は、温度55〜150℃および湿度(混合比、水分含有量)[水蒸気の質量(kg)/乾燥空気(乾き空気)の質量(kg)]0.03〜0.18の加湿条件下でフィルムを加湿処理する加湿工程を含む工程であってもよい。また、前記積層工程(3)では、湿度(又は水分含有量)[水蒸気の質量(kg)/乾燥空気(乾き空気)の質量(kg)]0.015〜0.06程度の加湿条件下で積層してもよい。   In the drying step (2), the humidification treatment may be performed under heating. For example, the drying step (2) is performed at a temperature of 55 to 150 ° C. and humidity (mixing ratio, water content) [mass of water vapor ( kg) / mass of dry air (dry air) (kg)] may be a step including a humidifying step of humidifying the film under a humidifying condition of 0.03 to 0.18. In the lamination step (3), humidity (or moisture content) [mass of water vapor (kg) / mass of dry air (dry air) (kg)] is in a humidified condition of about 0.015 to 0.06. You may laminate.

前記積層工程(3)では、例えば、乾燥工程(2)を経たフィルムを巻き取りながら積層してもよい。前記製造方法は、積層工程(3)の後、積層したフィルムをさらにエージング処理するエージング処理工程(4)を含んでいてもよい。   In the laminating step (3), for example, the film that has undergone the drying step (2) may be laminated while being wound. The manufacturing method may include an aging treatment step (4) for further aging the laminated film after the lamination step (3).

前記エージング処理工程(4)は、特に、加湿下でエージング処理するエージング工程(4)であってもよく、例えば、エージング工程(4)において、温度30〜130℃および湿度[水蒸気の質量(kg)/乾燥空気(乾き空気)の質量(kg)]0.016〜0.05の加湿条件下でエージング処理してもよい。   In particular, the aging treatment step (4) may be an aging step (4) for aging treatment under humidification. For example, in the aging step (4), a temperature of 30 to 130 ° C. and humidity [mass of steam (kg ) / Mass of dry air (dry air) (kg)] Aging treatment may be performed under a humidified condition of 0.016 to 0.05.

代表的な前記製造方法では、(i)乾燥工程(2)が、温度60〜150℃および湿度[水蒸気の質量(kg)/乾燥空気(乾き空気)の質量(kg)]0.035〜0.16の加湿条件下で、フィルムに水滴を付着させることなく加湿処理し、(ii)積層工程(3)において、温度30〜100℃および湿度[水蒸気の質量(kg)/乾燥空気(乾き空気)の質量(kg)]0.016〜0.05の加湿条件下で、水滴を付着させることなくフィルムを巻き取り、(iii)エージング工程(4)において、温度30〜130℃および湿度[水蒸気の質量(kg)/乾燥空気(乾き空気)の質量(kg)]0.017〜0.045の加湿条件下で、水滴を付着させることなく巻き取ったフィルムを12時間〜20時間エージング処理してもよい。   In the typical production method, (i) the drying step (2) includes a temperature of 60 to 150 ° C. and humidity [mass of water vapor (kg) / mass of dry air (dry air) (kg)] 0.035 to 0. (Ii) In the laminating step (3), a temperature of 30 to 100 ° C. and a humidity [mass of water vapor (kg) / dry air (dry air) ) Mass (kg)] under a humidified condition of 0.016 to 0.05 without winding water droplets, (iii) in the aging step (4), temperature 30 to 130 ° C. and humidity [water vapor Mass (kg) / mass of dry air (dry air) (kg)] Under humidified conditions of 0.017 to 0.045, the film wound without adhering water droplets was subjected to aging treatment for 12 to 20 hours. May be.

前記基材フィルムは、例えば、ポリプロピレン系樹脂、ポリエステル系樹脂又はポリアミド系樹脂で形成されたベースフィルムで構成されていてもよい。また、前記基材フィルムは、ベースフィルムと、このベースフィルムの少なくとも一方の面に形成され、金属酸化物(例えば、アルミニウム酸化物およびケイ素酸化物から選択された少なくとも一種の金属酸化物)で構成された無機質層とで構成されていてもよい。   The base film may be composed of, for example, a base film formed of a polypropylene resin, a polyester resin, or a polyamide resin. The base film is formed of a base film and a metal oxide (for example, at least one metal oxide selected from aluminum oxide and silicon oxide) formed on at least one surface of the base film. It may be comprised with the made inorganic layer.

前記塗布液は、加水分解縮合性有機金属化合物[特に、アルコキシシラン類などの有機ケイ素化合物]と水性溶媒(水、アルコール類など)とで構成された水性溶液であってもよい。また、前記塗布液は、さらにアミノ基を有する化合物を含む塗布液(水性溶液)であってもよく、このような塗布液は、例えば、(A1)アミノ基に対して反応可能な官能基および加水分解縮合性基を有する有機ケイ素化合物と、(B)アミノ基を有する化合物と、(C)アルコール類とで構成された水性塗布液であってもよい。   The coating solution may be an aqueous solution composed of a hydrolytic condensable organometallic compound [in particular, an organosilicon compound such as alkoxysilanes] and an aqueous solvent (water, alcohols, etc.). Further, the coating solution may be a coating solution (aqueous solution) further containing an amino group-containing compound, such as (A1) a functional group capable of reacting with an amino group and An aqueous coating liquid composed of an organosilicon compound having a hydrolytic condensable group, (B) a compound having an amino group, and (C) an alcohol may be used.

本発明には、前記製造方法により得られたコートフィルムも含まれる。このようなコートフィルムは、巻き取りなどの積層により製造するにも拘わらず、ガスバリア性が高い。例えば、前記積層フィルムの温度20℃、湿度90%RH雰囲気下での酸素透過度は、60ml/m2・day・MPa以下であってもよい。 The coated film obtained by the said manufacturing method is also contained in this invention. Such a coated film has high gas barrier properties despite being manufactured by lamination such as winding. For example, the oxygen permeability of the laminated film at a temperature of 20 ° C. and a humidity of 90% RH may be 60 ml / m 2 · day · MPa or less.

本発明の方法では、加水分解縮合性有機金属化合物を含む塗布液をコーティングした後、加湿下で乾燥するとともに、積層工程において加湿下で積層するため、フィルム内に水分を有効に供給でき、巻き取りなどの積層により製造しても、積層フィルム(ガスバリア性フィルム)に優れたガスバリア性を効率よく付与できる。また、本発明の方法では、塗布工程、乾燥工程および積層工程を経る一連の製造プロセスに組み込むことができ、高いガスバリア性を有するコートフィルムを、積層(例えば、フィルムの巻き取りなど)により効率よく製造できる。特に、本発明では、巻き取りなどの積層により製造できるため、工業的に有利にコートフィルムを得ることができ、実用性が高い。   In the method of the present invention, after coating a coating solution containing a hydrolytic condensable organometallic compound, it is dried under humidification, and is laminated under humidification in the laminating step, so that moisture can be effectively supplied into the film and wound. Even if it manufactures by lamination | stacking, such as taking off, the gas barrier property excellent in the laminated | multilayer film (gas barrier film) can be provided efficiently. Further, in the method of the present invention, a coated film having a high gas barrier property can be efficiently incorporated by laminating (for example, winding up the film), which can be incorporated into a series of manufacturing processes that undergo a coating process, a drying process, and a laminating process. Can be manufactured. In particular, in the present invention, since it can be produced by lamination such as winding, a coated film can be obtained industrially advantageously and is highly practical.

本発明のコートフィルム(積層フィルム、積層コートフィルム)の製造方法は、基材フィルムの少なくとも一方の面に加水分解縮合性有機金属化合物を含む塗布液を塗布(コーティング)する塗布工程(1)と、この塗布工程(1)の後、フィルムを乾燥する乾燥工程(2)と、この乾燥工程(2)の後、フィルムを積層する積層工程(3)とを含んでおり、少なくとも前記乾燥工程(2)および積層工程(3)においてフィルムを加湿処理する。本発明では、加湿下での乾燥と加湿下での積層とを組み合わせることにより、巻き取りなどにより積層しても、ガスバリア性に優れたフィルムを得ることができる。   The manufacturing method of the coated film (laminated film, laminated coated film) of the present invention includes a coating step (1) of coating (coating) a coating liquid containing a hydrolytic condensable organometallic compound on at least one surface of a base film. In addition, after this coating step (1), a drying step (2) for drying the film and a lamination step (3) for laminating the film after the drying step (2) are included, and at least the drying step ( The film is humidified in 2) and the laminating step (3). In the present invention, by combining drying under humidification and lamination under humidification, a film having excellent gas barrier properties can be obtained even when lamination is performed by winding.

すなわち、加水分解縮合性有機金属化合物を含む塗布液で形成される塗布層は、水により加水分解縮合反応が進行してガスバリア性能を発現するが、このようなガスバリア層が形成されたフィルムは、連続的に工業生産するためには、積層されていない一枚のフィルムではなく、ロール状に巻き取るなどにより積層した積層フィルムの形態で製造するのが有利である。しかし、このような積層フィルムでは、多層(例えば、数千、数万)に積層されるため、フィルムに水が浸透するのに長時間を要するなどの理由により、加水分解縮合反応の進行が極めて遅くなり、工業的に生産することが困難である。このような加水分解縮合反応を進行させるため、フィルムを加湿下でエージングすることも知られているが、このようなエージングによっても、工業的に許容される期間(例えば、一ヶ月間程度)では十分なガスバリア性能を発現することができない。   That is, a coating layer formed of a coating solution containing a hydrolytic condensable organometallic compound develops a gas barrier performance as a result of a hydrolysis-condensation reaction proceeding with water, but a film on which such a gas barrier layer is formed, In order to continuously produce industrially, it is advantageous to manufacture in the form of a laminated film laminated by, for example, winding in a roll shape, instead of a single film not laminated. However, since such a laminated film is laminated in multiple layers (for example, thousands or tens of thousands), the hydrolysis and condensation reaction is extremely progressed because it takes a long time for water to penetrate into the film. It is slow and difficult to produce industrially. In order to advance such a hydrolysis-condensation reaction, it is also known to age the film under humidification, but even with such aging, in an industrially acceptable period (for example, about one month) Sufficient gas barrier performance cannot be expressed.

[基材フィルム]
基材フィルムは、ベースとなるフィルム(ベースフィルム、基材フィルム層)で少なくとも構成できる。
[Base film]
The base film can be composed at least of a base film (base film, base film layer).

(ベースフィルム)
ベースフィルムは、紙、金属(金属フィルム)などであってもよいが、通常、樹脂で構成されたフィルム(樹脂フィルム、プラスチックフィルム)である場合が多い。ベースフィルム(基材フィルム層、コア層)を構成する樹脂としては、成膜可能な種々の樹脂、例えば、オレフィン系樹脂[例えば、ポリエチレン系樹脂(ポリエチレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、アイオノマーなど)、ポリプロピレン系樹脂(例えば、ポリプロピレン、プロピレン−エチレン共重合体、プロピレン−ブテン−1共重合体、プロピレン−エチレン−ブテン−1共重合体などのプロピレン含有80重量%以上のプロピレン系樹脂など)、ポリ−4−メチルペンテン−1などのポリオレフィンなど]、ポリエステル系樹脂[例えば、ポリアルキレンテレフタレート(ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなど)、ポリアルキレンナフタレート(ポリエチレン−2,6−ナフタレートなど)などのホモ又はコポリアルキレンアリレート、液晶性ポリエステルなど]、ポリアミド系樹脂(ポリアミド6、ポリアミド11、ポリアミド12、ポリアミド66、ポリアミド610、ポリアミド6/66、ポリアミド66/610、ポリアミドMXDなど)、塩化ビニル系樹脂(ポリ塩化ビニルなど)、塩化ビニリデン系樹脂(塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニリデン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体など)、スチレン系樹脂(ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体など)、ポリビニルアルコール系樹脂(ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体など)、ポリイミド系樹脂(ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミドなど)、ポリカーボネート系樹脂、ポリスルホン系樹脂(ポリスルホン、ポリエーテルスルホンなど)、ポリフェニレンエーテル系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂(ポリフェニレンスルフィドなど)、セルロース系樹脂(セルロースエステル系樹脂、セロハンなど)、ポリエーテルエーテルケトン、ポリパラキシレン、ポリアクリロニトリル、これらの種々の樹脂(ポリマー)の構成成分を含む共重合体などが例示される。これらのポリマーは、単独で又は二種以上組み合わせてもよい。
(Base film)
The base film may be paper, metal (metal film), or the like, but is usually a film made of resin (resin film, plastic film) in many cases. Examples of the resin constituting the base film (base film layer, core layer) include various resins that can be formed, such as olefin resins [for example, polyethylene resins (polyethylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-acrylic). Propylene-containing 80 weight by weight such as ethyl acid copolymer, ionomer), polypropylene resin (eg, polypropylene, propylene-ethylene copolymer, propylene-butene-1 copolymer, propylene-ethylene-butene-1 copolymer) % Of propylene-based resin and the like), polyolefin such as poly-4-methylpentene-1], polyester-based resin [for example, polyalkylene terephthalate (polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, etc.), polyalkylene naphthalate (polyethylene- , 6-naphthalate, etc.), polyamide resins (polyamide 6, polyamide 11, polyamide 12, polyamide 66, polyamide 610, polyamide 6/66, polyamide 66/610, polyamide) MXD, etc.), vinyl chloride resins (polyvinyl chloride, etc.), vinylidene chloride resins (vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, vinylidene chloride- (meth) acrylic acid ester copolymer, etc.) ), Styrene resin (polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-acrylonitrile-butadiene copolymer, etc.), polyvinyl alcohol resin (polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, etc.) , Polyimide resins (polyimide, polyamideimide, polyetherimide, etc.), polycarbonate resins, polysulfone resins (polysulfone, polyethersulfone, etc.), polyphenylene ether resins, polyphenylene sulfide resins (polyphenylene sulfide, etc.), cellulose resins Examples include cellulose ether resins, cellophane, etc., polyether ether ketone, polyparaxylene, polyacrylonitrile, copolymers containing these various resin (polymer) components, and the like. These polymers may be used alone or in combination of two or more.

ベースフィルムは単一のフィルムであってもよく、複数の層で構成された複合フィルム(例えば、異種又は同種のプラスチックフィルム同士の積層体など)であってもよい。これらのベースフィルムのうち、非塩素系樹脂、例えば、オレフィン系樹脂(ポリプロピレンなどのポリプロピレン系樹脂など)、ポリエステル系樹脂(例えば、ポリC2-4アルキレンアリレート又はコポリエステルなどの芳香族ポリエステル系樹脂)、ポリアミド系樹脂が好ましく、特に、ポリプロピレン系樹脂、ポリエステル系樹脂又はポリアミド系樹脂(特に、ポリエステル系樹脂)で構成されたベースフィルムが好ましい。ベースフィルムは、通常、熱可塑性樹脂で構成される場合が多い。 The base film may be a single film or a composite film composed of a plurality of layers (for example, a laminate of different or similar plastic films). Among these base films, non-chlorine resins such as olefin resins (polypropylene resins such as polypropylene), polyester resins (eg, aromatic polyester resins such as poly C 2-4 alkylene arylate or copolyester) ), A polyamide-based resin is preferable, and a base film composed of a polypropylene-based resin, a polyester-based resin, or a polyamide-based resin (particularly a polyester-based resin) is particularly preferable. The base film is usually composed of a thermoplastic resin in many cases.

基材フィルム(又はベースフィルム)には、必要に応じて、安定化剤(酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐光安定剤、熱安定化剤など)、結晶核剤、難燃剤、難燃助剤、充填剤、可塑剤、耐衝撃改良剤、補強剤、着色剤、分散剤、帯電防止剤、発泡剤、抗菌剤、滑剤(例えば、シリカ系微粉末、アルミナ系微粉末などの無機滑剤、ポリエチレン系微粉末、アクリル系微粉末などの有機滑剤など)、炭化水素系重合体(スチレン系樹脂、テルペン系樹脂、石油樹脂、ジシクロペンタジエン樹脂、クマロンインデン樹脂などのクマロン樹脂、フェノール樹脂、ロジンとその誘導体やそれらの水添樹脂など)、ワックス類(高級脂肪酸アミド、高級脂肪酸とその塩、高級脂肪酸エステル、鉱物系、植物系などの天然ワックス、ポリエチレンなどの合成ワックスなど)などを添加してもよい。これらの添加剤は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。   For the base film (or base film), if necessary, stabilizers (antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, heat stabilizers, etc.), crystal nucleating agents, flame retardants, flame retardant aids , Fillers, plasticizers, impact modifiers, reinforcing agents, colorants, dispersants, antistatic agents, foaming agents, antibacterial agents, lubricants (for example, inorganic lubricants such as silica-based fine powder and alumina-based fine powder, polyethylene Organic lubricants such as organic fine powder and acrylic fine powder), hydrocarbon polymer (styrene resin, terpene resin, petroleum resin, dicyclopentadiene resin, coumarone resin such as coumarone indene resin, phenol resin, rosin And derivatives thereof and hydrogenated resins thereof), waxes (higher fatty acid amides, higher fatty acids and salts thereof, higher fatty acid esters, mineral-based, plant-based natural waxes, synthetic waxes such as polyethylene) Box, etc.) may be added. These additives can be used alone or in combination of two or more.

基材フィルム(又はベースフィルム)は、未延伸フィルムであってもよく、延伸(一軸又は二軸)フィルムであってもよい。延伸フィルムとしては、通常、二軸延伸フィルムを用いる場合が多い。延伸法としては、例えば、ロール延伸、圧延延伸、ベルト延伸、テンター延伸、チューブ延伸や、これらを組み合わせた延伸などの慣用の延伸法が適用できる。延伸倍率は、所望するフィルムの特性に応じて適宜設定でき、例えば、少なくとも一方の方向に1.5〜20倍、好ましくは2〜15倍程度である。   The base film (or base film) may be an unstretched film or a stretched (uniaxial or biaxial) film. As the stretched film, a biaxially stretched film is usually used in many cases. As the stretching method, for example, a conventional stretching method such as roll stretching, roll stretching, belt stretching, tenter stretching, tube stretching, or a combination of these can be applied. The draw ratio can be appropriately set according to the desired film properties, and is, for example, about 1.5 to 20 times, preferably about 2 to 15 times in at least one direction.

基材フィルム(又はベースフィルム)の厚みは、包装適性、機械的強度、可撓性などを考慮して適宜選択でき、通常、5〜200μm、好ましくは7〜100μm、さらに好ましくは8〜50μm、特に、10〜30μm(例えば、10〜25μm)程度であってもよい。   The thickness of the base film (or base film) can be appropriately selected in consideration of packaging suitability, mechanical strength, flexibility and the like, and is usually 5 to 200 μm, preferably 7 to 100 μm, more preferably 8 to 50 μm, In particular, it may be about 10 to 30 μm (for example, 10 to 25 μm).

なお、ベースフィルムの表面には、コロナ放電やグロー放電などの放電処理、クロム酸処理などの酸処理、焔処理などの表面処理を施してもよい。   The surface of the base film may be subjected to surface treatment such as discharge treatment such as corona discharge or glow discharge, acid treatment such as chromic acid treatment, and soot treatment.

また、ベースフィルム(基材フィルム層)の表面には、表面処理に代えて、又は表面処理とともに、下塗層が形成されていてもよい。下塗層は、種々の樹脂、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性(又は活性光線硬化性)樹脂(電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂など)や、カップリング剤などで構成することができる。下塗層の成分としては、例えば、アクリル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、セルロース系ポリマー、ロジン変性マレイン酸樹脂などの熱可塑性樹脂;ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂などの熱硬化性樹脂;ウレタン(メタ)アクリレートなどの光硬化性樹脂などが挙げられる。これらの成分は、単独で又は二種以上組み合わせて用いることができる。下塗層は、汎用の染料または顔料などの着色剤を含有していてもよい。着色剤の含有量は、フィルムの透明性を損なわない範囲で適宜選択され、前記下塗層を構成する樹脂に対して、通常、1〜30重量%程度であってもよい。下塗層の厚さは、特に制限されず、通常、0.1〜5μm程度であってもよい。下塗層の形成方法は特に限定されず、前記下塗層の成分を含む有機又は水性コーティング剤を、ロールコーティング法、グラビアコーティング法、リバースコーティング法、スプレーコーティング法などの慣用のコーティング法により塗布し、乾燥または硬化することによって行なわれる。なお、光硬化性樹脂を用いる場合には、活性光線を照射してもよい。   An undercoat layer may be formed on the surface of the base film (base film layer) instead of or together with the surface treatment. The undercoat layer is made of various resins such as thermoplastic resins, thermosetting resins, photo-curable (or actinic ray curable) resins (electron beam curable resins, ultraviolet curable resins, etc.), coupling agents, etc. Can be configured. Examples of the component of the undercoat layer include thermoplastic resins such as acrylic resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, polyvinyl butyral, cellulose polymers, and rosin-modified maleic resins; urethane resins, epoxy resins, and the like. Thermosetting resin; Photocurable resin such as urethane (meth) acrylate. These components can be used alone or in combination of two or more. The undercoat layer may contain a colorant such as a general-purpose dye or pigment. The content of the colorant is appropriately selected within a range that does not impair the transparency of the film, and may usually be about 1 to 30% by weight with respect to the resin constituting the undercoat layer. The thickness of the undercoat layer is not particularly limited, and may usually be about 0.1 to 5 μm. The method for forming the primer layer is not particularly limited, and an organic or aqueous coating agent containing the components of the primer layer is applied by a conventional coating method such as a roll coating method, a gravure coating method, a reverse coating method, or a spray coating method. And drying or curing. In addition, when using a photocurable resin, you may irradiate actinic light.

また、基材フィルム(又はベースフィルム)の光線透過率は、積層フィルムの用途に応じて、透明又は不透明であってもよいが、視認性や美観性が要求される用途の積層フィルムでは、白色光線での全光線透過率が、通常、40%以上(例えば、45〜99%程度)、好ましくは60%以上(例えば、70〜98%程度)、さらに好ましくは80%以上(例えば、85〜95%程度)であってもよい。   In addition, the light transmittance of the base film (or base film) may be transparent or opaque depending on the use of the laminated film, but in the laminated film for applications requiring visibility and aesthetics, it is white. The total light transmittance with light is usually 40% or more (for example, about 45 to 99%), preferably 60% or more (for example, about 70 to 98%), more preferably 80% or more (for example, 85 to 85%). About 95%).

(無機質層)
基材フィルムは、ベースフィルム単独で構成してもよく、ベースフィルムとこのベースフィルムの少なくとも一方の面に形成された無機質層とで構成してもよい。
(Inorganic layer)
The base film may be composed of the base film alone, or may be composed of the base film and an inorganic layer formed on at least one surface of the base film.

無機質層を形成する無機物としては、特に限定されないが、通常、透明性薄膜を形成できる金属成分であるのが好ましく、このような金属成分には、例えば、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムなどの周期表2A族元素(金属元素);チタン、ジルコニウム、ルテニウム、ハフニウム、タンタルなどの遷移金属元素;亜鉛などの周期表2B族元素;アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウムなどの周期表3B族元素;ケイ素、ゲルマニウム、錫などの周期表4B族元素;セレン、テルルなどの周期表6B族元素などの単体(金属単体)、これらの元素を含む化合物(通常、無機化合物)、例えば、酸化物、ハロゲン化物、炭化物、窒化物などが挙げられる。これらの無機物は、単独で又は二種以上組合せて用いることができる。   Although it does not specifically limit as an inorganic substance which forms an inorganic layer, Usually, it is preferable that it is a metal component which can form a transparent thin film, For example, beryllium, magnesium, calcium, strontium, barium etc. Periodic Table 2A group elements (metal elements); transition metal elements such as titanium, zirconium, ruthenium, hafnium, tantalum; periodic table 2B elements such as zinc; periodic table 3B elements such as aluminum, gallium, indium, thallium; Periodic table 4B group elements such as silicon, germanium and tin; simple substance (metal simple substance) such as periodic table 6B group elements such as selenium and tellurium, compounds containing these elements (usually inorganic compounds), for example, oxides, halogens And nitride, carbide, nitride and the like. These inorganic substances can be used alone or in combination of two or more.

これらの無機物(金属成分)のうち、無機質層は、特に、アルミニウム成分およびケイ素成分から選択された少なくとも一種の金属成分で構成されているのが好ましい。   Among these inorganic substances (metal components), the inorganic layer is preferably composed of at least one metal component selected from an aluminum component and a silicon component.

アルミニウム成分としては、例えば、アルミニウム単体(金属単体)の他、アルミニウム元素を含む化合物(通常、無機化合物)、例えば、酸化物(アルミニウム酸化物又は酸化アルミニウム)、ハロゲン化物、炭化物、窒化物などが挙げられる。アルミニウム成分は、単独で又は2種以上組みあわせてもよい。これらのアルミニウム成分のうち、アルミニウム酸化物が好ましい。   As an aluminum component, for example, in addition to aluminum alone (metal simple substance), a compound containing aluminum element (usually an inorganic compound), for example, oxide (aluminum oxide or aluminum oxide), halide, carbide, nitride, etc. Can be mentioned. Aluminum components may be used alone or in combination of two or more. Of these aluminum components, aluminum oxide is preferred.

また、ケイ素成分としては、例えば、ケイ素(ケイ素単体)、ケイ素元素を含む化合物(通常、無機化合物)、例えば、酸化物(ケイ素酸化物又は酸化ケイ素)、ハロゲン化物、炭化物、窒化物などが挙げられる。ケイ素成分は、単独で又は2種以上組みあわせてもよい。これらのケイ素成分のうち、ケイ素酸化物が好ましい。なお、ケイ素酸化物(酸化ケイ素)には、一酸化ケイ素や、二酸化ケイ素のみならず、組成式SiOx(式中、0<x≦2、好ましくは0.8≦x≦1.5)で表されるケイ素酸化物が含まれる。   Examples of the silicon component include silicon (silicon simple substance), a compound containing silicon element (usually an inorganic compound), for example, oxide (silicon oxide or silicon oxide), halide, carbide, nitride, and the like. It is done. A silicon component may be individual or may combine 2 or more types. Of these silicon components, silicon oxide is preferred. The silicon oxide (silicon oxide) includes not only silicon monoxide and silicon dioxide but also a composition formula SiOx (where 0 <x ≦ 2, preferably 0.8 ≦ x ≦ 1.5). Silicon oxide.

前記金属成分のなかでも、ケイ素酸化物、アルミニウム酸化物は透明性やバリア性に優れていることに加えて、緻密な薄膜を形成でき、基材フィルムや後述するバリア層の構成成分との密着性(又は親和性)が高い。そのため、機械的外力が作用しても、無機質層に亀裂や欠陥が生成せず、高いガスバリア性を長期間に亘り維持できる。   Among the metal components, in addition to being excellent in transparency and barrier properties, silicon oxide and aluminum oxide can form a dense thin film, and adhere to the components of the base film and the barrier layer described later. Sex (or affinity) is high. Therefore, even if a mechanical external force is applied, cracks and defects are not generated in the inorganic layer, and high gas barrier properties can be maintained for a long period of time.

そのため、無機質層は、特に、アルミニウム酸化物およびケイ素酸化物から選択された少なくとも一種の金属酸化物で構成されているのが好ましい。   Therefore, the inorganic layer is particularly preferably composed of at least one metal oxide selected from aluminum oxide and silicon oxide.

なお、包装材料(例えば、電磁波加熱用包装材料など)においては、導電率の低い金属成分、例えば、酸化物、ハロゲン化物、炭化物、窒化物などの非導電性無機物を好適に使用できる。好ましい非導電性金属成分には、アルミニウム酸化物、ケイ素酸化物(又はシリカ)などが含まれる。   Note that in a packaging material (for example, a packaging material for electromagnetic wave heating), a non-conductive inorganic material such as a metal component having low conductivity, such as an oxide, halide, carbide, or nitride, can be suitably used. Preferred non-conductive metal components include aluminum oxide, silicon oxide (or silica) and the like.

このような金属成分で構成された無機質層と、バリア層(特に、後述する特定の成分で構成されたバリア層)とを組み合わせることにより、無機質層と基材フィルム及び/又はバリア層との密着性を効率よく向上できる。このような無機質層は、基材フィルムの少なくとも一方の面に形成すればよく、基材フィルムの両面に形成してもよい。無機質層は、通常、基材フィルムの一方の面に形成してもよい。無機質層は、特に、ベースフィルム(および下塗層)とバリア層との間に形成される場合が多い。なお、無機質層は、透明又は不透明であってもよいが、視認性などが要求される用途の積層フィルムでは、通常、透明性を有している場合が多い。   By combining such an inorganic layer composed of a metal component and a barrier layer (particularly, a barrier layer composed of a specific component described later), the inorganic layer and the base film and / or the barrier layer are adhered to each other. Efficiency can be improved efficiently. Such an inorganic layer should just be formed in at least one surface of a base film, and may be formed in both surfaces of a base film. The inorganic layer may be usually formed on one surface of the base film. In particular, the inorganic layer is often formed between the base film (and the undercoat layer) and the barrier layer. In addition, although an inorganic layer may be transparent or opaque, in the laminated | multilayer film of the use for which visibility etc. are requested | required, it usually has transparency in many cases.

無機質層の厚みは、50〜5000Å(0.005〜5μm)の範囲から選択でき、例えば、100〜5000Å(0.01〜0.5μm)、好ましくは200〜3000Å(0.02〜0.3μm)、さらに好ましくは300〜1500Å(0.03〜0.15μm)、特に400〜1000Å(0.04〜0.1μm)程度であってもよい。   The thickness of the inorganic layer can be selected from the range of 50 to 5000 mm (0.005 to 5 μm), for example, 100 to 5000 mm (0.01 to 0.5 μm), preferably 200 to 3000 mm (0.02 to 0.3 μm). ), More preferably about 300 to 1500 mm (0.03 to 0.15 μm), particularly about 400 to 1000 mm (0.04 to 0.1 μm).

なお、無機質層は、慣用の方法、例えば、物理的方法(真空蒸着法、反応性蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーティング法、反応性イオンプレーティング法など)、化学的方法(CVD法、プラズマCVD法、レーザーCVD法など)により、ベースフィルム(基材フィルム)の表面を、前記無機物で被覆することにより形成できる。無機質層は蒸着などの物理的方法により形成する場合が多く、無機質層は基材フィルム(ベースフィルム)の一方の面又は両面に形成できる。   The inorganic layer may be formed by a conventional method, for example, a physical method (vacuum vapor deposition method, reactive vapor deposition method, sputtering method, reactive sputtering method, ion plating method, reactive ion plating method, etc.), chemical method, etc. It can be formed by coating the surface of a base film (base film) with the inorganic material (CVD method, plasma CVD method, laser CVD method, etc.). In many cases, the inorganic layer is formed by a physical method such as vapor deposition, and the inorganic layer can be formed on one surface or both surfaces of a base film (base film).

なお、基材フィルムには、後述するように、さらに、種々のコーティング層やラミネート層、例えば、ヒートシール層、滑性層、帯電防止層、装飾用印刷フィルム層や、ナイロンフィルムなどによる補強層、紫外線遮断層(例えば、特開2003−128121号公報に記載のUV遮断性被覆層など)などを形成してもよい。   In addition, as described later, the base film further includes various coating layers and laminate layers, such as a heat seal layer, a slipping layer, an antistatic layer, a decorative printing film layer, and a reinforcing layer made of nylon film or the like. An ultraviolet blocking layer (for example, a UV blocking coating layer described in JP-A No. 2003-128121) may be formed.

[塗布液]
バリア層を形成するための塗布液は、少なくとも加水分解縮合性有機金属化合物(A)で構成されている。このような加水分解縮合性有機金属化合物(以下、単に、加水分解縮合性化合物、加水分解性化合物などということがある)を含む塗布液を基材フィルムに塗布することにより、加水分解縮合性化合物が縮合又は重縮合し、バリア層にガスバリア性が発現又は付与される。
[Coating solution]
The coating solution for forming the barrier layer is composed of at least a hydrolytic condensable organometallic compound (A). By applying a coating solution containing such a hydrolytic condensable organometallic compound (hereinafter sometimes simply referred to as a hydrolytic condensable compound, hydrolyzable compound, etc.) to the base film, the hydrolytic condensable compound Is condensed or polycondensed, and gas barrier properties are expressed or imparted to the barrier layer.

(加水分解縮合性有機金属化合物)
加水分解縮合性有機金属化合物(A)は、加水分解縮合性基を有する有機金属化合物であればよく、加水分解縮合性基としては、例えば、金属原子(アルミニウム、ケイ素、チタン、ジルコニウムなど、特にケイ素)に加水分解性基[例えば、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのC1-4アルコキシ基、好ましくはC1-2アルコキシ基などの低級アルコキシ基)などの炭化水素基、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子、特に塩素原子)など]が直接結合した基(例えば、アルコキシシリル基、ハロシリル基)などが挙げられる。加水分解縮合性有機金属化合物は、単独で又は2種以上組みあわせて加水分解縮合性基を有していてもよい。
(Hydrolytic condensable organometallic compound)
The hydrolytic condensable organometallic compound (A) may be an organometallic compound having a hydrolytic condensable group. Examples of the hydrolytic condensable group include metal atoms (aluminum, silicon, titanium, zirconium, etc. Silicon) hydrolyzable groups [eg, alkoxy groups (eg, C 1-4 alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, preferably lower alkoxy groups such as C 1-2 alkoxy group), etc.] A hydrocarbon group, a halogen atom (a chlorine atom, a bromine atom, particularly a chlorine atom)] directly bonded (for example, an alkoxysilyl group, a halosilyl group), and the like. The hydrolytic condensable organometallic compound may have a hydrolytic condensable group alone or in combination of two or more.

加水分解縮合性有機金属化合物(A)は、少なくとも加水分解縮合性基を有していればよく、加水分解縮合性基に加えて、官能基[例えば、ヒドロキシル基、アミノ基、置換アミノ基、メルカプト基、エポキシ基、カルボキシル基又はその誘導性基(酸無水物基、酸ハライド基など)、イソシアネート基、チオイソシアネート基、オキサゾリニル基、アルデヒド基、ケトン基、ハロアルキル基、重合性基(ビニル基、アリル基、(メタ)アクリロイル基、ビニレン基など)など]を有する化合物(シランカップリング剤など)であってもよい。加水分解縮合性有機金属化合物(A)は、これらの官能基を単独で又は2種以上組みあわせて有していてもよい。   The hydrolytic condensable organometallic compound (A) may have at least a hydrolytic condensable group. In addition to the hydrolytic condensable group, a functional group [for example, a hydroxyl group, an amino group, a substituted amino group, Mercapto group, epoxy group, carboxyl group or derivative group thereof (acid anhydride group, acid halide group, etc.), isocyanate group, thioisocyanate group, oxazolinyl group, aldehyde group, ketone group, haloalkyl group, polymerizable group (vinyl group) , An allyl group, a (meth) acryloyl group, a vinylene group, and the like)] (a silane coupling agent and the like). The hydrolytic condensable organometallic compound (A) may have these functional groups singly or in combination of two or more.

具体的な加水分解縮合性有機金属化合物(A)には、加水分解により縮合又は重縮合可能な有機金属化合物、例えば、有機ケイ素化合物、有機アルミニウム化合物[例えば、トリアルコキシアルミネート(トリメトキシアルミネート、トリエトキシアルミネート、トリプロポキシアルミネートなどのトリC1-4アルコキシアルミネートなど)など]、有機チタン化合物[例えば、ジアルキルジC1-4アルコキシチタネート(ジエチルジエトキシチタネートなど)などのジアルコキシチタネート類;トリC1-4アルコキシチタネート(トリメトキシチタネートなど)、アルキルトリC1-4アルコキシチタネート(エチルトリメトキシチタネートなど)、アリールトリC1-4アルコキシチタネート(フェニルトリメトキシチタネートなど)などのトリアルコキシチタネート類;テトラメトキシチタネート、テトラエトキシチタネート、テトラプロポキシチタネートなどのテトラC1-4アルコキシチタネートなどのテトラアルコキシチタネート類など)]などが挙げられる。これらの加水分解縮合性有機金属化合物のうち、特に、有機ケイ素化合物が好ましい。加水分解縮合性有機金属化合物は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。 Specific hydrolysis-condensable organometallic compounds (A) include organometallic compounds that can be condensed or polycondensed by hydrolysis, such as organosilicon compounds, organoaluminum compounds [for example, trialkoxyaluminate (trimethoxyaluminate). , Tri-C 1-4 alkoxyaluminates such as triethoxyaluminate and tripropoxyaluminate)], organotitanium compounds [eg dialkoxytitanates such as dialkyldiC 1-4 alkoxytitanates (such as diethyldiethoxytitanate) s; (such as trimethoxy titanate) tri C 1-4 alkoxy titanates, (such as ethyl trimethoxy titanate) alkyl tri C 1-4 alkoxy titanates, thoria such Arirutori C 1-4 alkoxy titanates (such as phenyltrimethoxysilane titanate) Kokishichitaneto like; tetramethoxy titanate, tetraethoxy titanate, tetraalkoxy titanates such as tetra-C 1-4 alkoxy titanates such as tetra propoxy titanate, etc.) and the like. Of these hydrolytic condensable organometallic compounds, organosilicon compounds are particularly preferred. Hydrolytic condensable organometallic compounds may be used alone or in combination of two or more.

有機ケイ素化合物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類などが例示でき、アルコキシシラン類が好ましい。アルコキシシラン類としては、ゾルゲル法による加水分解縮合が可能なアルコキシシラン類、例えば、下記式(1)で表されるアルコキシシラン類又はその縮合物などが挙げられる。   Examples of organosilicon compounds include halosilanes and alkoxysilanes, with alkoxysilanes being preferred. Examples of the alkoxysilanes include alkoxysilanes that can be hydrolyzed and condensed by a sol-gel method, for example, alkoxysilanes represented by the following formula (1) or condensates thereof.

1 mSi(OR2n (1)
(式中、R1は水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は官能基を有していてもよい炭化水素基、R2は炭化水素基を示し、mは0又は1以上の整数であり、nは1以上の整数であり、m+n=4である。)
前記式(1)において、基R1で表される炭化水素基としては、例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基などの直鎖状又は分岐鎖状C1-8アルキル基、好ましくはC1-6アルキル基、さらに好ましくはC1-4アルキル基)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基などのC2-6アルケニル基、好ましくはC2-4アルケニル基、さらに好ましくはC2-3アルケニル基)、シクロアルキル基(例えば、シクロヘキシル基などのC3-8シクロアルキル基)、アリール基(例えば、フェニル基などのC6-15アリール基、好ましくはC6-10アリール基、さらに好ましくはC6-8アリール基)などが挙げられる。これらのうち、好ましい炭化水素基には、アルキル基(C1-4アルキル基など)などが含まれる。
R 1 m Si (OR 2 ) n (1)
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom or a hydrocarbon group optionally having a functional group, R 2 represents a hydrocarbon group, m is 0 or an integer of 1 or more, n Is an integer of 1 or more, and m + n = 4.)
In the formula (1), examples of the hydrocarbon group represented by the group R 1 include linear groups such as an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and an isobutyl group) A branched C 1-8 alkyl group, preferably a C 1-6 alkyl group, more preferably a C 1-4 alkyl group, an alkenyl group (for example, a C 2-6 alkenyl group such as a vinyl group, an allyl group, preferably Is a C 2-4 alkenyl group, more preferably a C 2-3 alkenyl group), a cycloalkyl group (eg, a C 3-8 cycloalkyl group such as a cyclohexyl group), an aryl group (eg, a C 6- such as a phenyl group). 15 aryl group, preferably C 6-10 aryl group, more preferably C 6-8 aryl group). Of these, preferred hydrocarbon groups include alkyl groups (C 1-4 alkyl groups and the like) and the like.

基R1で表される炭化水素基において、官能基としては、前記例示の官能基{例えば、アミノ基又は置換アミノ基[例えば、アミノアルキルアミノ基(2−アミノエチルアミノ基などのアミノC2-4アルキルアミノ基など)、アルケニルアミノ基(アリルアミノ基などのC2-4アルケニルアミノ基など)など]、メルカプト基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、イソシアネート基など}が挙げられる。これらの官能基は、単独で又は2種以上組み合わせて炭化水素基に置換していてもよい。なお、置換数mが複数である場合、複数の基R1は、同一又は異なっていてもよい。 In the hydrocarbon group represented by the group R 1 , the functional group includes, for example, the above-described functional group {for example, an amino group or a substituted amino group [for example, an aminoalkylamino group (such as an amino C 2 such as a 2-aminoethylamino group). -4 alkylamino group, etc.), alkenylamino group ( C2-4 alkenylamino group such as allylamino group, etc.)], mercapto group, (meth) acryloyl group, epoxy group, isocyanate group, etc.}. These functional groups may be substituted alone or in combination of two or more with a hydrocarbon group. In addition, when the substitution number m is plural, the plural groups R 1 may be the same or different.

基R2としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基などが挙げられ、通常、基R2はアルキル基であってもよい。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基などの直鎖状又は分岐鎖状C1-4アルキル基、好ましくはC1-2アルキル基などが例示できる。好ましい置換数nは、2〜4、さらに好ましくは3又は4である。なお、置換数nが複数である場合、基R2は、同一又は異なっていてもよい。 Examples of the group R 2 include an alkyl group and a cycloalkyl group. Usually, the group R 2 may be an alkyl group. Examples of the alkyl group include a linear or branched C 1-4 alkyl group such as a methyl group and an ethyl group, preferably a C 1-2 alkyl group. The preferable number n of substitution is 2 to 4, more preferably 3 or 4. In addition, when the substitution number n is plural, the groups R 2 may be the same or different.

前記式(1)で表されるアルコキシシランは、モノアルコキシシラン類(例えば、ビニルジメチルエトキシシランなどの前記式(1)においてn=1のアルコキシシラン)であってもよいが、通常、ジアルコキシシラン類(前記式(1)においてn=2のアルコキシシラン類)、トリアルコキシシラン類(前記式(1)においてn=3のアルコキシシラン類)、テトラアルコキシシラン類(前記式(1)においてn=4のアルコキシシラン類)であってもよい。   The alkoxysilane represented by the formula (1) may be monoalkoxysilanes (for example, alkoxysilane having n = 1 in the formula (1) such as vinyldimethylethoxysilane). Silanes (alkoxysilanes with n = 2 in the formula (1)), trialkoxysilanes (alkoxysilanes with n = 3 in the formula (1)), tetraalkoxysilanes (n in the formula (1)) = 4 alkoxysilanes).

代表的なジアルコキシシラン類としては、例えば、ジアルキルジアルコキシシラン(例えば、ジメチルジメトキシシランなどのジC1-4アルキルジC1-4アルコキシシランなど)、ジアリールジアルコキシシラン、アミノ基を有するジアルコキシシラン(例えば、3−アミノプロピルメチルジメトキシシランなどのアミノC1-4アルキルC1-4アルキルジC1-4アルコキシシラン;3−[N−(2−アミノエチル)アミノ]プロピルメチルジメトキシシランなどの(アミノC1-4アルキルアミノ)C1-4アルキル−C1-4アルキルジC1-4アルコキシシランなど)、メルカプト基を有するジアルコキシシラン(例えば、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシランなどのメルカプトC1-4アルキルC1-4アルキルジC1-4アルコキシシラン)、アルケニル基を有するジアルコキシシラン(例えば、ビニルジメトキシメチルシランなどのモノ又はジC2-4アルケニルジC1-4アルコキシシランなど)、(メタ)アクリロイル基を有するジアルコキシシラン(例えば、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシランなどの(メタ)アクリロイルオキシC1-4アルキルC1-4アルキルジC1-4アルコキシシランなど)、エポキシ基を有するジアルコキシシラン類[例えば、3−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピルエチルジエトキシシランなどの(グリシジルオキシC1-4アルキル)C1-4アルキルジC1-4アルコキシシランなど]などが挙げられる。 Representative dialkoxysilane having, for example, dialkyl dialkoxy silanes (e.g., di-C 1-4 alkyl di C 1-4 alkoxysilane such as dimethyldimethoxysilane), diaryl dialkoxy silane, an amino group dialkoxy silane (for example, an amino C 1-4 alkyl C 1-4 alkyl di C 1-4 alkoxysilane such as 3-aminopropyl methyl dimethoxy silane; 3- such [N-(2-aminoethyl) amino] propyl methyl dimethoxysilane etc. (amino C 1-4 alkylamino) C 1-4 alkyl -C 1-4 alkyl di C 1-4 alkoxysilane), mercapto C such dialkoxysilanes (e.g., 3-mercaptopropyl methyl dimethoxy silane having a mercapto group 1-4 alkyl C 1-4 alkyl di C 1-4 alkoxysilane), alkenyl Dialkoxysilane having (e.g., mono- or di-C 2-4 Arukeniruji C 1-4 alkoxysilane such as vinyldimethoxymethylsilane), dialkoxysilane having a (meth) acryloyl group (e.g., 3- (meth) acrylate b alkoxy such as (meth) acryloyloxy C 1-4 alkyl C 1-4 alkyl di C 1-4 alkoxysilane such as methyl dimethoxysilane), dialkoxy silanes having an epoxy group [e.g., 3-glycidyloxypropyl methyl dimethoxy silane , (Glycidyloxy C 1-4 alkyl) C 1-4 alkyl diC 1-4 alkoxysilane etc.] such as 3-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidyloxypropylethyldiethoxysilane, and the like.

代表的なトリアルコキシシラン類としては、例えば、トリアルコキシシラン(例えば、トリメトキシシランなどのトリC1-4アルコキシシランなど)、アルキルトリアルコキシシラン(例えば、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシランなどのC1-4アルキルトリC1-4アルコキシシランなど)、アリールトリアルコキシシラン(例えば、フェニルトリメトキシシランなどのC6-10アリールトリC1-4アルコキシシランなど)、アミノ基を有するトリアルコキシシラン(例えば、2−アミノエチルトリメトキシシランなどのアミノC1-4アルキルトリC1-4アルコキシシラン;2−[N−(2−アミノエチル)アミノ]エチルトリメトキシシランなどのN−(アミノC2-4アルキル)アミノC1-4アルキルトリC1-4アルコキシシランなど)、メルカプト基を有するトリアルコキシシラン(例えば、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどのメルカプトC2-4アルキルトリC1-4アルコキシシラン)、アルケニル基を有するトリアルコキシシラン(例えば、ビニルトリメトキシシランなどのC2-4アルケニルトリC1-4アルコキシシランなど)、(メタ)アクリロイル基を有するトリアルコキシシラン[例えば、2−(メタ)アクリロキシエチルトリメトキシシラン、2−(メタ)アクリロキシエチルトリエトキシシランなどの(メタ)アクリロイルオキシC1-4アルキルトリC1-4アルコキシシランなど]、エポキシ基を有するトリアルコキシシラン類{例えば、(グリシジルオキシアルキル)トリアルコキシシラン(例えば、グリシジルオキシメチルトリメトキシシラン、2−グリシジルオキシエチルトリメトキシシラン、2−グリシジルオキシエチルトリエトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシランなどのグリシジルオキシC1-4アルキルトリC1-4アルコキシシランなど)、エポキシシクロアルキルトリアルコキシシラン[例えば、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリメトキシシラン、3−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリエトキシシランなどのエポキシC5-8シクロアルキルC1-4アルキルトリC1-4アルコキシシランなど]など}、イソシアネート基を有するトリアルコキシシラン類(例えば、γ−イソシアノプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアノプロピルトリエトキシシランなどのイソシアノC1-4アルキルトリC1-4アルコキシシランなど)などが挙げられる。 Representative trialkoxysilanes include, for example, trialkoxysilane (eg, tri-C 1-4 alkoxysilane such as trimethoxysilane), alkyltrialkoxysilane (eg, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, C 1-4 alkyltri C 1-4 alkoxysilane such as ethyltriethoxysilane), aryltrialkoxysilane (eg C 6-10 aryltri C 1-4 alkoxysilane such as phenyltrimethoxysilane), amino group amino C 1-4 alkyl tri C 1-4 alkoxysilane such as trialkoxysilanes (e.g., 2-aminoethyl trimethoxysilane having; 2- [N-(2-aminoethyl) amino] such as ethyltrimethoxysilane N- (amino C 2-4 alkyl) amino C 1-4 alkyl tri-C 1-4 alkoxysilane), trialkoxysilane having a mercapto group (for example, mercapto C 2-4 alkyltri-C 1-4 alkoxysilane such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane), trialkoxysilane having an alkenyl group ( For example, C 2-4 alkenyl tri-C 1-4 alkoxysilane such as vinyltrimethoxysilane), trialkoxysilane having a (meth) acryloyl group [for example, 2- (meth) acryloxyethyltrimethoxysilane, 2- (Meth) acryloyloxy C 1-4 alkyl tri C 1-4 alkoxy silane etc. such as (meth) acryloxyethyl triethoxy silane], trialkoxy silanes having an epoxy group {for example, (glycidyloxyalkyl) trialkoxy silane (For example, glycidyloxymethyl Glycidyloxy C 1-4 alkyltri-C such as trimethoxysilane, 2-glycidyloxyethyltrimethoxysilane, 2-glycidyloxyethyltriethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane 1-4 alkoxysilane, etc.), epoxycycloalkyltrialkoxysilane [for example, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 3- ( 3,4-epoxycyclohexyl) propyltrimethoxysilane, 3- (3,4-epoxycyclohexyl) propyltriethoxysilane, and other epoxy C 5-8 cycloalkyl C 1-4 alkyltri C 1-4 alkoxysilanes, etc.] } Trialkoxysilanes having an isocyanate group (e.g., .gamma. isocyanoacetate trimethoxysilane, etc. isocyano C 1-4 alkyl tri C 1-4 alkoxysilane such as .gamma. isocyanoacetate triethoxysilane) and the like.

代表的なテトラアルコキシシランとしては、上記例示のジ又はトリアルコキシシラン類に対応するテトラアルコキシシラン、例えば、テトラアルコキシシラン[テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシランなどのテトラC1-4アルコキシシランなど]などが挙げられる。 Typical tetraalkoxysilanes include tetraalkoxysilanes corresponding to the above-exemplified di- or trialkoxysilanes, such as tetraalkoxysilanes [tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, 1-4 alkoxysilane, etc.].

また、アルコキシシランの縮合物(又は加水分解縮合物)としては、例えば、前記式(1)で表されるアルコキシシランの縮合物(又は重合物)などが挙げられる。このような縮合物(又は部分縮合物)は、単一の(又は同種の)アルコキシシランの縮合物であってもよく、複数の(又は異種の)アルコキシシランの縮合物(例えば、異種のテトラアルコキシシランの縮合物など)であってもよい。   Examples of the alkoxysilane condensate (or hydrolysis condensate) include, for example, the alkoxysilane condensate (or polymerized product) represented by the formula (1). Such a condensate (or partial condensate) may be a condensate of a single (or the same type) alkoxysilane, or a condensate of a plurality (or different types) of alkoxysilanes (for example, different types of tetrasilanes). A condensate of alkoxysilane).

アルコキシシランの縮合物(アルコキシシラン縮合物)は、例えば、2〜10量体、好ましくは2〜8量体、さらに好ましくは3〜6量体程度のオリゴマーであってもよい。   The alkoxysilane condensate (alkoxysilane condensate) may be, for example, an oligomer of about 2 to 10 mer, preferably about 2 to 8 mer, more preferably about 3 to 6 mer.

アルコキシシラン縮合物は、網目状の縮合物(又は部分縮合物)であってもよく、鎖状又は直鎖状の縮合物(又は部分縮合物)であってもよい。代表的なアルコキシシラン縮合物としては、テトラアルコキシシラン類(前記例示のテトラアルコキシシラン類)の縮合物(部分縮合物)、例えば、下記式(2)で表される直鎖状のアルコキシシラン縮合物などが含まれる。   The alkoxysilane condensate may be a network condensate (or partial condensate), or may be a linear or linear condensate (or partial condensate). Typical alkoxysilane condensates include condensates (partial condensates) of tetraalkoxysilanes (tetraalkoxysilanes exemplified above), for example, linear alkoxysilane condensation represented by the following formula (2) Things are included.

Figure 2007055189
Figure 2007055189

(式中、R2は前記に同じ。dは2以上の整数を示す)
上記式(2)において、好ましい基R2としては、メチル基、エチル基などのC1-4アルキル基(特にC1-2アルキル基)などが挙げられる。なお、前記のように、複数の基R2は、同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。また、好ましい縮合度dは、例えば、2〜8、好ましくは2〜6、さらに好ましくは3〜5程度であってもよい。
(In the formula, R 2 is the same as above. D represents an integer of 2 or more)
In the above formula (2), preferred groups R 2 include C 1-4 alkyl groups (particularly C 1-2 alkyl groups) such as a methyl group and an ethyl group. As described above, the plurality of groups R 2 may be the same group or different groups. Further, the preferable degree of condensation d may be, for example, about 2 to 8, preferably about 2 to 6, and more preferably about 3 to 5.

さらに、前記有機ケイ素化合物には、前記アルコキシシラン類の錯体化合物、トリアシルオキシシラン類(メチルトリアセトキシシランなど)、トリアルキルシラノール(トリメチルシラノールなど)、これらの化合物を含む高分子有機ケイ素化合物類なども含まれる。   Further, the organosilicon compounds include complex compounds of the alkoxysilanes, triacyloxysilanes (such as methyltriacetoxysilane), trialkylsilanols (such as trimethylsilanol), and polymer organosilicon compounds containing these compounds. Is also included.

有機ケイ素化合物(アルコキシシラン類)は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。   The organosilicon compounds (alkoxysilanes) may be used alone or in combination of two or more.

塗布液は、必要に応じて、樹脂成分[特に、ガスバリア性を有する樹脂(ガスバリア性樹脂)]を含んでいてもよい。樹脂成分としては、例えば、塩化ビニリデン系共重合体、ビニルアルコール系重合体{ポリビニルアルコール、脂肪酸ビニルエステルと共重合性単量体[C2-4オレフィン(エチレン、プロピレン、ブテンなど)などのオレフィン;(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステルなどの(メタ)アクリル系単量体;アルキルビニルエーテル類;ビニルピロリドンなど]との共重合体のケン化物(例えば、エチレン−ビニルアルコール共重合体など)など}などが挙げられる。樹脂成分は、単独で又は2種以上組みあわせてもよい。 The coating liquid may contain a resin component [particularly a resin having gas barrier properties (gas barrier resin)] as necessary. Examples of the resin component include vinylidene chloride copolymers, vinyl alcohol polymers {polyvinyl alcohol, fatty acid vinyl esters and copolymerizable monomers [olefins such as C 2-4 olefins (ethylene, propylene, butene, etc.)]. Saponified products of (meth) acrylic monomers such as (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid esters; alkyl vinyl ethers; vinyl pyrrolidone and the like] (for example, ethylene-vinyl alcohol copolymer) Etc.) etc.}. The resin components may be used alone or in combination of two or more.

樹脂成分を使用する場合、樹脂成分の割合は、加水分解縮合性有機金属化合物100重量部に対して、例えば、1〜1000重量部、好ましくは3〜500重量部、さらに好ましくは5〜200重量部程度であってもよい。   When the resin component is used, the ratio of the resin component is, for example, 1 to 1000 parts by weight, preferably 3 to 500 parts by weight, more preferably 5 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the hydrolytic condensable organometallic compound. It may be about a part.

塗布液は、無溶媒であってもよいが、通常、溶媒を含んでいる場合が多い。溶媒としては、加水分解縮合性有機金属化合物(A)を溶解又は分散可能であれば特に限定されず、例えば、アルコール類[メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、ペンタノールなどのアルカノール類;エチレングリコールなどのアルキレングリコール類;ジエチレングリコール、トリエチレングリコールなどの(ポリ)オキシアルキレングリコール類;エチレングリコールモノメチルエーテルなどのアルキレングリコールモノアルキルエーテル類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテルなどの(ポリ)オキシアルキレングリコールモノアルキルエーテル類など]、ケトン類(アセトンなど)、炭化水素類(例えば、トルエンなどの芳香族炭化水素類;ヘキサンなどの脂肪族炭化水素類)、エステル類(メチルアセテート、エチルアセテートなどのアセテート類など)、エーテル類(エチルフェノールエーテル、プロピルエーテル、テトラヒドロフランなどの環状エーテルなど)、水などが挙げられる。これらのうち、安定性などの観点から、水、アルコール類(例えば、メタノール、エタノールなどのC1-4アルカノール類)などの水性溶媒が好ましい。溶媒は、単独で又は2種以上組み合わせて使用できる。 The coating solution may be solvent-free, but usually contains a solvent in many cases. The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve or disperse the hydrolytic condensable organometallic compound (A). For example, alcohols [alkanols such as methanol, ethanol, 2-propanol, butanol, pentanol; ethylene; Alkylene glycols such as glycol; (poly) oxyalkylene glycols such as diethylene glycol and triethylene glycol; alkylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether; (poly) oxy such as diethylene glycol monomethyl ether and triethylene glycol monomethyl ether Alkylene glycol monoalkyl ethers], ketones (such as acetone), hydrocarbons (for example, aromatic hydrocarbons such as toluene; fats such as hexane) Family hydrocarbons), esters (methyl acetate, acetates such as ethyl acetate, etc.), ethers (ethyl phenol ether, propyl ether, and cyclic ethers such as tetrahydrofuran), water and the like. Among these, from the viewpoint of stability and the like, aqueous solvents such as water and alcohols (for example, C 1-4 alkanols such as methanol and ethanol) are preferable. A solvent can be used individually or in combination of 2 or more types.

溶媒の割合は、加水分解縮合性有機金属化合物1重量部に対して、例えば、0.1〜30重量部、好ましくは0.3〜20重量部、さらに好ましくは0.5〜10重量部(例えば、0.8〜5重量部)、特に1〜3重量部程度であってもよい。   The ratio of the solvent is, for example, 0.1 to 30 parts by weight, preferably 0.3 to 20 parts by weight, more preferably 0.5 to 10 parts by weight (1 part by weight based on 1 part by weight of the hydrolytic condensable organometallic compound ( For example, it may be about 0.8 to 5 parts by weight), particularly about 1 to 3 parts by weight.

なお、塗布液は、少なくとも水性溶媒で構成された水性塗布液(例えば、水及び/又は前記アルコール類の溶液など)である場合が多い。   In many cases, the coating solution is an aqueous coating solution composed of at least an aqueous solvent (for example, water and / or a solution of the alcohol).

塗布液には、必要に応じて、酸成分(例えば、塩酸などの揮発性の酸成分)などの加水分解縮合を促進可能な成分を含んでいてもよい。また、塗布液には、必要であれば、安定化剤(酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐光安定剤、熱安定化剤など)、可塑剤、着色剤、充填剤、分散剤、帯電防止剤、抗菌剤又は防腐剤、粘度調整剤、消泡剤などを添加してもよい。これらの添加剤は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。   The coating solution may contain a component capable of promoting hydrolysis condensation such as an acid component (for example, a volatile acid component such as hydrochloric acid) as necessary. In addition, for the coating liquid, if necessary, stabilizers (antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, heat stabilizers, etc.), plasticizers, colorants, fillers, dispersants, antistatic agents. An antibacterial agent or preservative, a viscosity modifier, an antifoaming agent, and the like may be added. These additives can be used alone or in combination of two or more.

さらに、塗布液は、バリア層のガスバリア性などを向上させるため、加水分解縮合性有機金属化合物の種類などに応じて、アミノ基を有する化合物、無機層状化合物[例えば、スメクタイト群粘土鉱物(モンモリロナイトなど)、バーミキュライト群粘土鉱物(バーミキュライトなど)、カオリン型鉱物(ハロイサイトなど)、フィロケイ酸塩(タルク、白雲母、金雲母など)、ジャモン石群鉱物(アンチゴライトなど)、緑泥石群鉱物(クロライト、クックアイト、ナンタイトなど)など]などの種々の化合物を含んでいてもよい。これらの化合物は、単独で又は2種以上組みあわせてもよい。   Furthermore, in order to improve the gas barrier property of the barrier layer, the coating liquid is a compound having an amino group, an inorganic layered compound [for example, smectite group clay mineral (montmorillonite, etc.) depending on the type of the hydrolytic condensable organometallic compound. ), Vermiculite group clay minerals (such as vermiculite), kaolin type minerals (such as halloysite), phyllosilicates (such as talc, muscovite, phlogopite), jamonite group minerals (such as antigolite), chlorite group minerals (black) And various compounds such as Wright, Cookite, Nantite, etc.). These compounds may be used alone or in combination of two or more.

例えば、前記加水分解縮合性有機金属化合物を、アミノ基に対して反応可能な官能基および加水分解縮合性基を有する化合物(A1)で少なくとも構成する場合、前記塗布液は、さらにアミノ基を有する化合物(B)を含んでいてもよい。また、前記加水分解縮合性有機金属化合物(A)と水溶性高分子(ビニルアルコール系重合体など)と無機層状化合物とを組みあわせることにより、ガスバリア性を向上させることが知られている(例えば、特開2001−80003号公報、特開2003−191404号公報などを参照)。   For example, when the hydrolysis-condensable organometallic compound is composed of at least a compound having a functional group capable of reacting with an amino group and a hydrolysis-condensable group (A1), the coating solution further has an amino group. The compound (B) may be included. It is also known to improve gas barrier properties by combining the hydrolysis-condensable organometallic compound (A), a water-soluble polymer (such as a vinyl alcohol polymer) and an inorganic layered compound (for example, JP-A-2001-80003, JP-A-2003-191404, etc.).

以下に、バリア層のガスバリア性を向上させるための塗布液の一態様として、アミノ基を有する化合物(B)を含む塗布液について詳述する。   Below, the coating liquid containing the compound (B) which has an amino group is explained in full detail as one aspect | mode of the coating liquid for improving the gas barrier property of a barrier layer.

(アミノ基を有する化合物(B)を含む塗布液)
前記塗布液(アミノ基を有する化合物(B)を含む塗布液)は、アミノ基に対して反応可能な官能基および加水分解縮合性基を有する化合物(A1)とアミノ基を有する化合物(B)とで少なくとも構成できる。このような塗布液で形成されたバリア層は、通常、前記化合物(A1)と前記アミノ基を有する化合物(B)とを縮合成分(共縮合成分)とする縮合物(又は反応生成物)で構成される場合が多い。具体的には、このような塗布液で形成されたバリア層は、前記アミノ基を有する化合物(B)および前記化合物(A1)が前記アミノ基を介して結合するとともに、前記反応性化合物(A1)や後述する縮合成分の加水分解縮合性基により縮合した縮合物で構成されている。なお、このような縮合物(又は架橋物)は、未反応の(又は残存する)加水分解縮合性基(例えば、アルコキシ基など)を有する予備縮合物であってもよい。
(Coating liquid containing compound (B) having amino group)
The coating solution (coating solution containing a compound (B) having an amino group) is composed of a compound (A1) having a functional group capable of reacting with an amino group and a hydrolytic condensable group and a compound (B) having an amino group. And at least. The barrier layer formed with such a coating solution is usually a condensate (or reaction product) containing the compound (A1) and the compound (B) having an amino group as a condensation component (co-condensation component). Often configured. Specifically, the barrier layer formed of such a coating solution has the compound (B) having an amino group and the compound (A1) bonded through the amino group and the reactive compound (A1). And a condensate condensed with a hydrolytic condensable group of a condensing component described later. Such a condensate (or cross-linked product) may be a precondensate having an unreacted (or remaining) hydrolytic condensable group (for example, an alkoxy group).

(化合物(A1))
アミノ基に対して反応可能な官能基を有する化合物(A1)としては、前記加水分解縮合性有機金属化合物(A)のうち、アミノ基に対して反応可能な官能基[例えば、エポキシ基、カルボキシル基又はその誘導性基(酸無水物基、酸ハライド基など)、イソシアネート基、チオイソシアネート基、オキサゾリニル基、アルデヒド基、ケトン基、アルキルハライド基など]を有する加水分解縮合性有機金属化合物などが挙げられる。これらの官能基のうち、反応性、耐水性(又は耐熱水性)などの観点から、エポキシ基、イソシアネート基が好ましく、特に、エポキシ基が好ましい。なお、化合物(A1)は、少なくとも1つのアミノ基に対して反応可能な官能基を有する化合物であればよい。
(Compound (A1))
As the compound (A1) having a functional group capable of reacting with an amino group, among the hydrolysis-condensable organometallic compound (A), a functional group capable of reacting with an amino group [for example, epoxy group, carboxyl Hydrolyzable condensable organometallic compounds having a group or an inductive group thereof (an acid anhydride group, an acid halide group, etc.), an isocyanate group, a thioisocyanate group, an oxazolinyl group, an aldehyde group, a ketone group, an alkyl halide group, etc. Can be mentioned. Among these functional groups, an epoxy group and an isocyanate group are preferable from the viewpoints of reactivity, water resistance (or hot water resistance), and an epoxy group is particularly preferable. The compound (A1) may be a compound having a functional group capable of reacting with at least one amino group.

代表的なアミノ基に対して反応可能な官能基を有する化合物(A1)としては、エポキシ基を有するアルコキシシラン類(例えば、前記例示のエポキシ基を有するジアルコキシシラン類、前記例示のエポキシ基を有するトリアルコキシシラン類など)、イソシアネート基を有するアルコキシシラン類(例えば、前記例示のイソシアネート基を有するトリアルコキシシラン類など)などが挙げられる。化合物(A1)は、単独で又は2種以上組みあわせてもよい。   Examples of the compound (A1) having a functional group capable of reacting with a typical amino group include alkoxysilanes having an epoxy group (for example, dialkoxysilanes having the epoxy group exemplified above, and epoxy groups exemplified above). For example, trialkoxysilanes having an isocyanate group (for example, trialkoxysilanes having an isocyanate group as exemplified above). A compound (A1) may be individual or may combine 2 or more types.

(アミノ基を有する化合物(B))
アミノ基を有する化合物(B)において、アミノ基としては、アミノ基(−NH2)の他、置換アミノ基(例えば、メチルアミノ基などのN−アルキルアミノ基)、イミノ基(−NH−)なども含まれる。好ましいアミノ基は、化合物(A1)と反応可能な水素原子(活性水素原子)が結合した窒素原子を含む基、例えば、アミノ基(−NH2)、イミノ基(−NH−)である。アミノ基を有する化合物(B)は、これらのアミノ基を単独で又は2種以上組み合わせて(例えば、アミノ基とイミノ基とを)有していてもよい。
(Compound (B) having an amino group)
In the compound (B) having an amino group, examples of the amino group include an amino group (—NH 2 ), a substituted amino group (eg, an N-alkylamino group such as a methylamino group), and an imino group (—NH—). Etc. are also included. A preferred amino group is a group containing a nitrogen atom to which a hydrogen atom (active hydrogen atom) capable of reacting with the compound (A1) is bonded, for example, an amino group (—NH 2 ) or an imino group (—NH—). The compound (B) having an amino group may have these amino groups alone or in combination of two or more thereof (for example, an amino group and an imino group).

アミノ基を有する化合物(B)は、化合物(A1)の種類に応じて、低分子量化合物[例えば、アルカノールアミン(エタノールアミンなどのC2-6アルカノールアミン、好ましくはC2-4アルカノールアミンなど)など]であってもよいが、通常、前記アミノ基を有するポリマー(又はオリゴマー)である場合が多い。 The compound (B) having an amino group is a low molecular weight compound [for example, alkanolamine (C 2-6 alkanolamine such as ethanolamine, preferably C 2-4 alkanolamine, etc.) depending on the type of compound (A1). In general, the polymer is often a polymer (or oligomer) having the amino group.

代表的なアミノ基を有するポリマー(又は高分子化合物)としては、例えば、ポリアルキレンイミン(ポリC1-6アルキレンイミンなど)、ポリアルケニルアミン(ポリアリルアミンなどのポリC2-6アルケニルアミン、好ましくはポリC2-4アルケニルアミンなど)、ポリオキシアルキレンアルキルアミン(ポリオキシエチレンアルキルアミンなど)などが挙げられる。 The polymer having a typical amino group (or polymeric compounds), for example, polyalkylene imine (poly C 1-6 alkylene imines etc.), poly C 2-6 alkenyl amine such polyalkenylamine (polyallylamine, preferably And poly C2-4 alkenylamine), polyoxyalkylene alkylamine (polyoxyethylene alkylamine, etc.) and the like.

ポリアルキレンイミンとしては、ポリメチレンイミン、ポリエチレンイミン、ポリプロピレンイミン、ポリイソプロピレンイミン、ポリブチレンイミン、ポリイソブチレンイミンなどのホモポリC1-6アルキレンイミン(好ましくはポリC1-4アルキレンイミン)、これらのホモポリアルキレンイミンに対応するコポリアルキレンイミン(コポリC1-4アルキレンイミンなど)などが挙げられる。ポリアルキレンイミンの構造は、直鎖状又は分岐鎖状であってもよく、通常、分岐鎖状である場合が多い。 The polyalkylene imines, polymethylene imine, polyethyleneimine, polypropyleneimine, poly isopropylene imine, polybutylene imine, homo C 1-6 alkylene imine such as polyisobutylene imine (preferably poly C 1-4 alkylene imine), these And copolyalkyleneimines (copoly C 1-4 alkyleneimines etc.) corresponding to these homopolyalkyleneimines. The structure of the polyalkyleneimine may be linear or branched and is usually branched.

なお、ポリアルキレンイミンは、慣用の方法[アルキレンイミン(例えば、エチレンイミンなど)の開環重合など]により合成してもよく、市販品を用いてもよい。例えば、ポリアルキレンイミン(ポリエチレンイミン)は、例えば、日本触媒(株)から、エポミンシリーズ(「エポミンSP−003」、「エポミンSP−006」、「エポミンSP−012」、「エポミンSP−018」、「エポミンSP−103」、「エポミンSP−110」、「エポミンSP−200」、「エポミンSP−300」、「エポミンSP−1000」、「エポミンSP−1020」など)などとして入手できる。   The polyalkyleneimine may be synthesized by a conventional method [such as ring-opening polymerization of alkyleneimine (for example, ethyleneimine)], or a commercially available product may be used. For example, polyalkyleneimine (polyethyleneimine) is available from, for example, Nippon Shokubai Co., Ltd. Epomin series ("Epomin SP-003", "Epomin SP-006", "Epomin SP-012", "Epomin SP-018"). ”,“ Epomin SP-103 ”,“ Epomin SP-110 ”,“ Epomin SP-200 ”,“ Epomin SP-300 ”,“ Epomin SP-1000 ”,“ Epomin SP-1020 ”, etc.).

また、ポリアルケニルアミン(ポリアリルアミン)は、慣用の方法(アルケニルアミンのラジカル重合など)により合成してもよく、市販品(例えば、日東紡績(株)製、「PAA−L」、「PAA−H」など)を用いてもよい。   Further, polyalkenylamine (polyallylamine) may be synthesized by a conventional method (such as radical polymerization of alkenylamine), and is commercially available (for example, “PAA-L”, “PAA-” manufactured by Nitto Boseki Co., Ltd.). H "etc.) may be used.

好ましいアミノ基を有する化合物(B)は、ポリアルキレンイミン(特に、ポリエチレンイミン)である。ポリアルキレンイミンは、成膜性、透明性、可撓性などに優れており、好適に使用できる。   A preferred compound (B) having an amino group is a polyalkyleneimine (particularly polyethyleneimine). Polyalkyleneimine is excellent in film formability, transparency, flexibility and the like, and can be suitably used.

なお、アミノ基を有する化合物(B)は、通常、水性溶媒に溶解可能であってもよい。   In addition, the compound (B) having an amino group may be usually soluble in an aqueous solvent.

アミノ基を有するポリマー(又はオリゴマー)の数平均分子量は、例えば、250以上(例えば、250〜200000程度)、好ましくは300以上(例えば、300〜100000程度)、さらに好ましくは400以上(例えば、400〜50000程度)であってもよく、通常、500以上(例えば、500〜10000程度)であってもよい。   The number average molecular weight of the polymer (or oligomer) having an amino group is, for example, 250 or more (for example, about 250 to 200,000), preferably 300 or more (for example, about 300 to 100,000), more preferably 400 or more (for example, 400 To about 50,000), and usually 500 or more (for example, about 500 to 10,000).

前記塗布液において、前記アミノ基を有する化合物(B)の使用量(含有量)は、化合物(A1)100重量部に対して、5〜1000重量部程度の範囲から選択でき、例えば、10〜500重量部、好ましくは20〜400重量部、さらに好ましくは30〜300重量部(例えば、50〜250重量部)程度であってもよい。   In the coating solution, the amount (content) of the amino group-containing compound (B) can be selected from a range of about 5 to 1000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound (A1). It may be about 500 parts by weight, preferably about 20 to 400 parts by weight, and more preferably about 30 to 300 parts by weight (for example, 50 to 250 parts by weight).

前記縮合物は、少なくとも化合物(A1)および前記アミノ基を有する化合物(B)を縮合成分とすればよく、さらに、(A2)他の縮合成分(又は共縮合成分)を含んでいてもよい。このような他の縮合成分を用いると、より一層ガスバリア性を向上できる。   The condensate may include at least the compound (A1) and the compound (B) having an amino group as a condensing component, and may further include (A2) another condensing component (or a cocondensation component). When such other condensation components are used, the gas barrier property can be further improved.

(他の縮合成分(A2))
他の縮合成分(A2)としては、特に限定されないが、前記加水分解縮合性有機金属化合物(A)のうち、アミノ基に対して非反応性の加水分解縮合性有機金属化合物(又は前記化合物(A1)の範疇に属さない加水分解縮合性有機金属化合物、すなわち、前記アミノ基に対して反応可能な官能基を有しない加水分解縮合性有機金属化合物)、例えば、ジアルコキシシラン類、トリアルコキシシラン類(例えば、アルキルトリアルコキシシランなど)、テトラアルコキシシラン、アルコキシシランの縮合物(例えば、テトラアルコキシシラン類の縮合物など)などが挙げられる。
(Other condensation component (A2))
Although it does not specifically limit as another condensation component (A2), Among the said hydrolytic condensable organometallic compounds (A), it is a non-reactive hydrolytic condensable organometallic compound (or said compound ( A1) hydrolysis-condensable organometallic compounds that do not belong to the category, that is, hydrolysis-condensable organometallic compounds having no functional group capable of reacting with the amino group), for example dialkoxysilanes, trialkoxysilanes (For example, alkyltrialkoxysilane), tetraalkoxysilane, condensate of alkoxysilane (for example, condensate of tetraalkoxysilane) and the like.

アミノ基を有する化合物を含む塗布液において、好ましい縮合成分(A2)としては、有機ケイ素化合物(前記化合物(A1)の範疇に属さない有機ケイ素化合物)、例えば、テトラアルコキシシラン(例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどのテトラC1-4アルコキシシラン、特に、テトラC1-2アルコキシシラン)、テトラアルコキシシランの縮合物(例えば、2〜10量体)などが挙げられる。 In the coating liquid containing a compound having an amino group, as a preferable condensation component (A2), an organosilicon compound (an organosilicon compound not belonging to the category of the compound (A1)), for example, tetraalkoxysilane (for example, tetramethoxysilane) is used. , Tetra C1-4 alkoxysilanes such as tetraethoxysilane, especially tetra C1 2 alkoxysilanes), tetraalkoxysilane condensates (for example, 2 to 10 mer), and the like.

縮合成分(A2)は、単独で又は2種以上組みあわせてもよい。   The condensation component (A2) may be used alone or in combination of two or more.

アミノ基を有する化合物(B)を含む塗布液において、縮合成分(A2)(例えば、テトラアルコキシシラン、テトラアルコキシシランの縮合物などの前記有機ケイ素化合物など)の使用量(含有量)は、前記化合物(A1)及び前記アミノ基を有する化合物(B)の総量100重量部に対して、0〜200重量部(例えば、3〜180重量部)程度の範囲から選択でき、例えば、5〜150重量部、好ましくは8〜130重量部、さらに好ましくは10〜100重量部(例えば、20〜100重量部)程度であってもよい。   In the coating solution containing the compound (B) having an amino group, the use amount (content) of the condensation component (A2) (for example, the organosilicon compound such as a tetraalkoxysilane or a tetraalkoxysilane condensate) is as described above. The total amount of the compound (A1) and the compound (B) having an amino group can be selected from a range of about 0 to 200 parts by weight (for example, 3 to 180 parts by weight), for example, 5 to 150 parts by weight. Part, preferably 8 to 130 parts by weight, more preferably about 10 to 100 parts by weight (for example, 20 to 100 parts by weight).

また、アミノ基を有する化合物(B)を含む塗布液は、前記と同様に、通常、溶媒を含んでいる。溶媒としては、前記例示の溶媒と同様の溶媒を使用でき、特に、アルコール類(C)(例えば、メタノール、エタノールなどのC1-4アルカノール類など)などの水性溶媒を好適に使用できる。溶媒は、単独で又は2種以上組みあわせてもよい。 Moreover, the coating liquid containing the compound (B) which has an amino group contains the solvent normally like the above. As the solvent, the same solvents as those exemplified above can be used, and in particular, aqueous solvents such as alcohols (C) (for example, C 1-4 alkanols such as methanol and ethanol) can be suitably used. The solvents may be used alone or in combination of two or more.

溶媒の使用量は、前記と同様の範囲であればよい。特に、溶媒の使用量は、バリア層の構成成分(化合物(A1)、アミノ基を有する化合物(B)および縮合成分(A2)など)の総量100重量部に対して、例えば、10〜3000重量部の範囲から選択でき、例えば、30〜2000重量部、好ましくは50〜1500重量部(例えば、80〜1000重量部)、さらに好ましくは90〜900重量部(例えば、100〜800重量部)程度であってもよい。   The amount of solvent used may be in the same range as described above. Particularly, the amount of the solvent used is, for example, 10 to 3000 weights with respect to 100 parts by weight of the total amount of the constituent components of the barrier layer (compound (A1), amino group-containing compound (B), condensation component (A2), etc.). For example, about 30 to 2000 parts by weight, preferably about 50 to 1500 parts by weight (for example, 80 to 1000 parts by weight), more preferably about 90 to 900 parts by weight (for example, 100 to 800 parts by weight). It may be.

なお、アミノ基を有する化合物(B)を含む塗布液は、さらに必要に応じて、多官能性化合物[エポキシ基を有する多官能性化合物(ポリグリシジルエーテル類、ポリグリシジルエステル類)、イソシアネート基を有する多官能性化合物(ジイソシアネート類など)、カルボキシル基を有する多官能性化合物(例えば、アジピン酸、酒石酸などの脂肪族ジカルボン酸類、ポリアクリル酸などのカルボキシル基を有するポリマーなど)など]を含んでいてもよい。これらの多官能性化合物は、単独で又は2種以上組みあわせてもよい。   In addition, the coating liquid containing the compound (B) having an amino group may further contain a polyfunctional compound [polyfunctional compound having an epoxy group (polyglycidyl ethers, polyglycidyl esters), isocyanate group, if necessary. A polyfunctional compound having a carboxyl group (such as an aliphatic dicarboxylic acid such as adipic acid or tartaric acid, a polymer having a carboxyl group such as polyacrylic acid, etc.) May be. These polyfunctional compounds may be used alone or in combination of two or more.

また、アミノ基を有する化合物(B)を含む塗布液は、前記と同様に、慣用の添加剤(例えば、界面活性剤など)を含んでいてもよい。   Moreover, the coating liquid containing the compound (B) which has an amino group may contain a conventional additive (for example, surfactant etc.) like the above.

なお、アミノ基を有する化合物(B)を含む塗布液は、樹脂成分(又はガスバリア性樹脂、前記例示の樹脂成分など)を含んでいてもよいが、通常、このような樹脂成分(例えば、ビニルアルコール系重合体などのガスバリア性樹脂)を含まない場合が多い。アミノ基を有する化合物(B)を含む塗布液を使用すると、樹脂成分(特にガスバリア性樹脂)を含んでいなくても、効率よく高いレベルでガスバリア性を向上できる。   The coating solution containing the amino group-containing compound (B) may contain a resin component (or a gas barrier resin, the resin component exemplified above, etc.), but usually such a resin component (for example, vinyl In many cases, it does not contain a gas barrier resin such as an alcohol polymer. When a coating solution containing an amino group-containing compound (B) is used, the gas barrier property can be improved efficiently and at a high level even if it does not contain a resin component (particularly a gas barrier resin).

塗布液は、通常、加水分解縮合性有機金属化合物(A)と溶媒と必要に応じて他の成分(アミノ基を有する化合物(B)、添加剤など)とを混合することにより調製できる。   The coating solution can be usually prepared by mixing the hydrolytic condensable organometallic compound (A), a solvent, and other components (a compound having an amino group (B), an additive, etc.) as necessary.

なお、塗布液において、前記加水分解縮合性有機金属化合物は、部分的に反応(部分縮合反応、予備縮合反応、結合形成反応)していてもよい。すなわち、塗布液中の前記加水分解縮合性有機金属化合物は、基材フィルムに塗布する前において、加水分解縮合性有機金属化合物同士の反応、加水分解縮合性有機金属化合物とアミノ基を有する化合物との反応などの反応が部分的に進行していてもよい。特に、前記塗布液は、塗布性を高めるため、前記加水分解縮合性化合物(前記有機シラン化合物など)が部分的に縮合したゾル溶液(水性溶液)であってもよい。塗布液における反応は、例えば、常温又は加温下(例えば、温度30〜100℃、好ましくは40〜80℃程度)で行ってもよく、空気中又は不活性雰囲気下で行ってもよい。反応時間は、例えば、5分〜10時間、好ましくは10分〜6時間、さらに好ましくは30分〜4時間程度であってもよい。   In the coating solution, the hydrolytic condensable organometallic compound may partially react (partial condensation reaction, precondensation reaction, bond formation reaction). That is, the hydrolyzable condensable organometallic compound in the coating solution is a reaction between hydrolyzable condensable organometallic compounds, a compound having an amino group and a hydrolyzable condensable organometallic compound before being applied to the base film. Reactions such as the reaction may be partially proceeding. In particular, the coating solution may be a sol solution (aqueous solution) obtained by partially condensing the hydrolysis-condensable compound (such as the organosilane compound) in order to improve the coating property. The reaction in the coating solution may be performed, for example, at normal temperature or under heating (for example, a temperature of 30 to 100 ° C., preferably about 40 to 80 ° C.), or may be performed in air or under an inert atmosphere. The reaction time may be, for example, about 5 minutes to 10 hours, preferably about 10 minutes to 6 hours, and more preferably about 30 minutes to 4 hours.

また、前記反応は、同じ溶媒系で行ってもよく、新たに溶媒を添加して行ってもよい。溶媒の添加は、一段階で行ってもよく、多段階で行ってもよい。具体的には、溶媒中で、加水分解縮合性有機金属化合物(A)又は(A1)[および必要に応じてアミノ基を有する化合物(B)、さらに必要により縮合成分(A2)]を反応(予備縮合)させたのち、さらに溶媒を添加して縮合させてもよい。また、縮合成分(A2)を使用する場合には、例えば、(1)溶媒中で、アミン化合物(B)と化合物(B)とを反応させたのち、さらに縮合成分(A2)と溶媒とを添加して縮合させてもよく、(2)溶媒中で、アミノ基を有する化合物(B)と化合物(A1)とを反応させ、さらに溶媒を添加して縮合させたのち、縮合成分(A2)(および必要に応じてさらに溶媒)を添加して縮合させてもよい。   In addition, the reaction may be performed in the same solvent system or may be performed by newly adding a solvent. The addition of the solvent may be performed in one step or may be performed in multiple steps. Specifically, the hydrolysis-condensable organometallic compound (A) or (A1) [and the compound (B) having an amino group as necessary, and further the condensation component (A2) if necessary] in a solvent ( After precondensation, a solvent may be further added to condense. When the condensation component (A2) is used, for example, (1) after the amine compound (B) and the compound (B) are reacted in a solvent, the condensation component (A2) and the solvent are further reacted. (2) The compound (B) having an amino group and the compound (A1) are reacted in a solvent, and after further condensation by adding a solvent, the condensation component (A2) (And a solvent if necessary) may be added for condensation.

縮合反応において、新たに添加する溶媒としては、化合物(A1)や縮合成分(A2)を加水分解可能な溶媒であれば特に限定されず、例えば、水、アルコール類(メタノールなどの前記例示のアルコール類など)などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。   In the condensation reaction, the solvent to be newly added is not particularly limited as long as it is a solvent capable of hydrolyzing the compound (A1) or the condensation component (A2). For example, water, alcohols (the exemplified alcohols such as methanol) Etc.). These solvents may be used alone or in combination of two or more.

前記塗布液の粘度(溶液粘度)は、塗布液の塗布性や塗布方法などに応じて選択でき、通常、温度20℃での塗布液の粘度は、2〜10000mPa・s(2〜10000cps)、好ましくは5〜7000mPa・s(5〜7000cps)、さらに好ましくは10〜5000mPa・s(10〜5000cps)程度であってもよい。なお、塗布液の粘度は、例えば、添加剤(例えば、前記アミノ基を有する化合物など)の添加により調整してもよく、前記加水分解縮合性有機金属化合物を部分的に加水分解させることにより調整してもよい。   The viscosity of the coating solution (solution viscosity) can be selected according to the coating property and coating method of the coating solution, and the viscosity of the coating solution at a temperature of 20 ° C. is usually 2 to 10,000 mPa · s (2 to 10,000 cps), Preferably, it may be about 5 to 7000 mPa · s (5 to 7000 cps), more preferably about 10 to 5000 mPa · s (10 to 5000 cps). The viscosity of the coating solution may be adjusted by, for example, adding an additive (for example, the compound having an amino group) or by partially hydrolyzing the hydrolysis-condensable organometallic compound. May be.

[積層フィルムの製造方法]
(塗布工程(1))
塗布工程(1)では、基材フィルムの少なくとも一方の面に前記塗布液をコーティング(塗布)する。
[Production method of laminated film]
(Coating process (1))
In the coating step (1), the coating liquid is coated (coated) on at least one surface of the base film.

塗布液の塗布方法は、無機質層に亀裂や欠陥を生成させない限り特に制限されず、慣用の方法、例えば、ロールコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、ノズルコーティング法、ダイコーティング法、スプレーコーティング法、スピンコーティング法、カーテンコーティング法、フローコーティング法、スクリーン印刷、グラビア印刷、曲面印刷などの各種印刷法、これらを組み合わせた方法などが採用できる。   The coating method of the coating solution is not particularly limited as long as cracks and defects are not generated in the inorganic layer, and conventional methods such as a roll coating method, a dip coating method, a bar coating method, a nozzle coating method, a die coating method, and a spray coating are used. Various printing methods such as a method, a spin coating method, a curtain coating method, a flow coating method, screen printing, gravure printing, and curved surface printing, or a combination of these can be employed.

塗布液の塗布量(又は厚み)は、乾燥後において、0.01〜20μm(例えば、0.1〜10μm)程度の範囲から選択でき、例えば、0.2〜5μm、好ましくは0.3〜3μm、さらに好ましくは0.5〜2μm程度であってもよい。   The coating amount (or thickness) of the coating solution can be selected from the range of about 0.01 to 20 μm (for example, 0.1 to 10 μm) after drying, for example, 0.2 to 5 μm, preferably 0.3 to It may be about 3 μm, more preferably about 0.5 to 2 μm.

なお、前記塗布液の塗布は、例えば、ロールコーター(グラビアロールコーターなど)、ダイコーターなどの前記塗布方法に対応する塗布装置を用いて行うことができる。   In addition, application | coating of the said coating liquid can be performed using the coating apparatus corresponding to the said coating methods, such as a roll coater (gravure roll coater etc.) and a die coater, for example.

(乾燥工程(2))
乾燥工程(2)では、前記塗布工程(1)を経て得られたフィルムを乾燥する。本発明では、この乾燥工程において、フィルムを加湿処理する。すなわち、前記乾燥工程(2)は、フィルムを加湿処理(加湿乾燥処理)する加湿工程(加湿乾燥工程)を少なくとも含んでいる。加湿下でフィルムを乾燥(加湿乾燥)することにより、後述の積層工程における加湿の効果と相まって、加水分解縮合性有機金属化合物の縮合反応を十分に促進できるためか、乾燥後のフィルムを後述する積層工程に供しても、高いガスバリア性を有するフィルムを効率よく得ることができる。
(Drying process (2))
In the drying step (2), the film obtained through the coating step (1) is dried. In the present invention, the film is humidified in this drying step. That is, the drying step (2) includes at least a humidification step (humidification drying step) for humidifying the film (humidification drying treatment). The dried film (humidified and dried), combined with the humidification effect in the laminating process described later, can sufficiently accelerate the condensation reaction of the hydrolytic condensable organometallic compound, or the dried film will be described later. Even if it uses for a lamination process, the film which has high gas-barrier property can be obtained efficiently.

加湿下での乾燥(加湿乾燥)において、加湿条件は、温度にもよるが、湿度[水蒸気の質量(kg)/乾燥空気(乾き空気)の質量(kg)]で、例えば、0.015以上(例えば、0.016〜0.3)、好ましくは0.02〜0.25(例えば、0.025〜0.2)、さらに好ましくは0.03〜0.18(例えば、0.032〜0.17)程度であり、通常、0.035〜0.16(例えば、0.04〜0.15)程度であってもよい。   In drying under humidification (humidification drying), the humidification condition depends on the temperature, but the humidity [mass of water vapor (kg) / mass of dry air (dry air) (kg)] is, for example, 0.015 or more (E.g., 0.016-0.3), preferably 0.02-0.25 (e.g., 0.025-0.2), more preferably 0.03-0.18 (e.g., 0.032- About 0.17), and usually about 0.035 to 0.16 (for example, 0.04 to 0.15).

また、加湿乾燥は、通常、加温下で行ってもよい。加湿乾燥において、温度(加熱温度)は、例えば、35〜180℃(例えば、40〜170℃)、好ましくは45〜160℃(例えば、50〜155℃)、さらに好ましくは55〜150℃程度、通常60〜150℃(例えば、70〜145℃程度)であってもよい。なお、加湿乾燥における温度は、加湿装置(又は加湿器)を用いる場合には加湿器内の温度又はフィルムの表面温度であってもよく、通常、フィルムの表面温度を示す温度であってもよい。   Further, the humidification drying may be usually performed under heating. In humidification drying, temperature (heating temperature) is 35-180 degreeC (for example, 40-170 degreeC), for example, Preferably it is 45-160 degreeC (for example, 50-155 degreeC), More preferably, it is about 55-150 degreeC, Usually, it may be 60 to 150 ° C. (for example, about 70 to 145 ° C.). In addition, when using a humidifier (or humidifier), the temperature in humidification drying may be the temperature in a humidifier or the surface temperature of a film, and may be the temperature which shows the surface temperature of a film normally. .

加湿乾燥時間は、湿度(湿度)、塗布液の塗布量などに応じて適宜選択でき、例えば、5秒以上(例えば、10秒〜1時間)、好ましくは15秒〜30分、さらに好ましくは20秒〜20分(例えば、20秒〜10分)、通常20秒〜8分(例えば、25秒〜5分)程度であってもよい。なお、「加湿時間」とは、加湿下での乾燥時間を意味し、連続的にフィルムを加湿乾燥する場合には、フィルム上の処理部が加湿域を通過した時間を意味する。同様に「時間」を使用する用語(前記乾燥工程(2)に供するまでの時間、後述の積層工程(3)に供するまでの時間など)においても、連続的工程では、同様である。   The humidifying and drying time can be appropriately selected according to the humidity (humidity), the coating amount of the coating solution, and the like. For example, it is 5 seconds or longer (for example, 10 seconds to 1 hour), preferably 15 seconds to 30 minutes, and more preferably 20 It may be about 2 to 20 minutes (for example, 20 seconds to 10 minutes), usually about 20 seconds to 8 minutes (for example, 25 seconds to 5 minutes). The “humidification time” means a drying time under humidification, and when the film is continuously humidified and dried, it means a time when the processing portion on the film passes through the humidification area. Similarly, the terms using “time” (the time until the drying step (2) is used, the time until the drying step (3) described later, etc.) are the same in the continuous step.

加湿乾燥(加湿処理)は、少なくとも加湿器を備えた加湿装置を用いて行ってもよい。加湿器は、蒸気加湿方式又は水噴霧方式の加湿器であってもよく、本発明では、蒸気加湿方式の加湿器を好適に使用できる。蒸気加湿方式の加湿器としては、例えば、蒸気発生器(例えば、電熱式蒸気発生器、電極式蒸気発生器、パン型蒸気発生器など)、蒸気ボイラなどで製造された蒸気を用いて加湿する蒸気加湿器などが挙げられる。加湿装置(加湿器)は、加温下で加湿するための加熱手段を備えていてもよい。   Humidification drying (humidification treatment) may be performed using a humidifier equipped with at least a humidifier. The humidifier may be a steam humidifier or water spray humidifier. In the present invention, a steam humidifier humidifier can be suitably used. As the humidifier of the steam humidification method, for example, a steam generator (for example, an electrothermal steam generator, an electrode-type steam generator, a pan-type steam generator, etc.), humidification is performed using steam produced by a steam boiler or the like. Steam humidifier etc. are mentioned. The humidifier (humidifier) may include a heating means for humidifying under heating.

また、加湿は、通常、フィルム(又はフィルム表面)に水滴を付着させることなく(又はフィルムに結露を生じさせることなく)行うのが好ましい。すなわち、加湿は、通常、水蒸気をフィルムに接触させることにより行うことができるが、フィルム上で水蒸気を凝結させない程度に行うことが好ましい。水滴を付着させない程度で加湿処理すると、ブロッキングを生じさせることなく、ガスバリア性に優れた高品質のフィルムを簡便にかつ効率よく製造できる。すなわち、水スプレーや蒸気噴霧などの方法によりフィルムに結露を生じさせると、積層したフィルム中に結露した水分が挟み込まれてブロッキングを生じる虞がある。   Further, it is usually preferable to perform humidification without causing water droplets to adhere to the film (or the film surface) (or without causing condensation on the film). That is, the humidification can be usually performed by bringing water vapor into contact with the film, but is preferably performed to such an extent that the water vapor is not condensed on the film. When the humidification process is performed to such an extent that no water droplets are attached, a high-quality film excellent in gas barrier properties can be easily and efficiently produced without causing blocking. That is, when dew condensation is generated on the film by a method such as water spraying or steam spraying, there is a risk that dew condensation will be sandwiched in the laminated film and blocking will occur.

なお、乾燥工程(2)は、少なくともフィルムを加湿処理する加湿工程を含んでいればよく、他の乾燥工程を含んでいてもよい。例えば、乾燥工程は、前記加湿工程と慣用の乾燥(非加湿下における乾燥)とで構成してもよい。   In addition, the drying process (2) should just include the humidification process which humidifies a film at least, and may include the other drying process. For example, the drying step may be constituted by the humidification step and conventional drying (drying under non-humidification).

代表的には、塗布液を塗布した後のフィルム(塗布工程(1)を経たフィルム)は、前記加湿工程に供する前に、溶媒を除去するため、予備的に乾燥(予備乾燥)させてもよい。予備乾燥では、例えば、前記塗布液の塗布面から液状成分(溶媒など)の一部又は全部を除去できる程度までフィルムの塗布面を乾燥してもよい。予備乾燥温度は、例えば、40〜200℃、好ましくは60〜180℃、さらに好ましくは80〜150℃程度であってもよい。   Typically, the film after coating the coating liquid (the film that has undergone the coating process (1)) may be preliminarily dried (preliminary drying) to remove the solvent before being subjected to the humidification process. Good. In the preliminary drying, for example, the coated surface of the film may be dried to such an extent that a part or all of the liquid component (such as a solvent) can be removed from the coated surface of the coating solution. The preliminary drying temperature may be, for example, about 40 to 200 ° C, preferably 60 to 180 ° C, and more preferably about 80 to 150 ° C.

なお、塗布液を塗布した後(および予備乾燥した後)、塗布したフィルムを加湿工程に供するまでの時間は、特に限定されないが、工業的には、例えば、1秒〜5分、好ましくは3秒〜1分、さらに好ましくは5〜40秒程度であってもよい。   In addition, after apply | coating a coating liquid (and after pre-drying), time until it uses for the humidification process of the apply | coated film is not specifically limited, However, Industrially, for example, 1 second-5 minutes, Preferably it is 3 Second to 1 minute, more preferably about 5 to 40 seconds.

また、加湿乾燥後のフィルムを積層工程(3)に供するまでの時間は、特に限定されないが、フィルムの塗布面の加湿状態をできるだけ保持して積層するため、比較的短時間、例えば、1秒〜3分、好ましくは5秒〜1分、さらに好ましくは10〜40秒程度であってもよい。   In addition, the time until the humidified and dried film is subjected to the laminating step (3) is not particularly limited, but the film is laminated while keeping the humidified state of the coated surface as much as possible. -3 minutes, preferably 5 seconds to 1 minute, more preferably about 10 to 40 seconds.

(積層工程(3))
積層工程(3)では、乾燥工程(2)を経たフィルムを加湿下で積層(加湿積層)する。本発明では、前記乾燥層工程において加湿乾燥するとともに、加湿下で積層することにより、フィルム間に水分が存在する状態で積層するので、塗布及び乾燥後のフィルムを積層に供しても、効率よく優れたガスバリア性を有するフィルムを調製できる。
(Lamination process (3))
In a lamination process (3), the film which passed through the drying process (2) is laminated | stacked under humidification (humidification lamination | stacking). In the present invention, it is humidified and dried in the dry layer step, and by laminating under humidification, the film is laminated in a state where moisture exists between the films. Therefore, even if the film after application and drying is subjected to lamination, the film is efficiently laminated. A film having excellent gas barrier properties can be prepared.

積層方法としては、種々の方法、例えば、(i)フィルムを巻き取る方法、(ii)複数枚のフィルム(シート状フィルム)を積層する方法、(iii)一枚の連続したフィルムを折り返し又は折り畳みつつ重ねて積層する方法などが挙げられる。これらの方法のうち、工業的には、フィルムを巻き取りにより積層する方法(i)が有利である。   As a lamination method, various methods, for example, (i) a method of winding up a film, (ii) a method of laminating a plurality of films (sheet-like film), and (iii) folding or folding a single continuous film The method of laminating and laminating while being mentioned. Among these methods, industrially, the method (i) of laminating films by winding is advantageous.

積層工程(3)において、加湿(加湿積層)条件は、温度にもよるが、湿度[水蒸気の質量(kg)/乾燥空気(乾き空気)の質量(kg)]で、例えば、0.011以上(例えば、0.012〜0.2)、好ましくは0.013〜0.15、さらに好ましくは0.014〜0.1(例えば、0.015〜0.06)、特に0.016〜0.05(例えば、0.02〜0.04)程度であってもよい。また、加湿積層は、温度10〜150℃、好ましくは20〜120℃、さらに好ましくは30〜100℃、特に35〜70℃程度の条件下で行ってもよい。   In the lamination step (3), the humidification (humidification lamination) condition depends on the temperature, but is humidity [mass of water vapor (kg) / mass of dry air (dry air) (kg)], for example, 0.011 or more. (E.g. 0.012-0.2), preferably 0.013-0.15, more preferably 0.014-0.1 (e.g. 0.015-0.06), especially 0.016-0. .05 (for example, about 0.02 to 0.04). Further, the humidification lamination may be performed under conditions of a temperature of 10 to 150 ° C., preferably 20 to 120 ° C., more preferably 30 to 100 ° C., particularly about 35 to 70 ° C.

なお、加湿積層は、慣用の加湿器(例えば、前記乾燥工程(2)の項で例示の加湿器など)を用いて行うことができる。また、前記と同様に、積層工程において加湿する場合、通常、フィルム(又はフィルム表面)に水滴を付着させることなく(又はフィルムに結露を生じさせることなく)加湿するのが好ましい。   In addition, humidification lamination | stacking can be performed using a conventional humidifier (For example, the humidifier illustrated by the term of the said drying process (2) etc.). Similarly to the above, when humidifying in the laminating step, it is usually preferable to humidify the film (or film surface) without attaching water droplets (or without causing condensation on the film).

積層工程(3)において、フィルムの積層数(フィルムの重なり数、巻き取り回数)は、10以上(例えば、100〜1000000程度)の範囲から選択でき、例えば、100以上(例えば、200〜500000程度)、好ましくは500以上(例えば、1000〜300000程度)、さらに好ましくは5000以上(例えば、10000〜200000程度)であってもよい。特に、ロール状に巻き取ることによりフィルムを積層する場合、フィルムの巻き取り張力は、例えば、50N/m以上(例えば、60〜300N/m)、好ましくは70〜200N/m、さらに好ましくは90〜150N/m程度であってもよい。また、巻き取りにより積層する場合、巻き取り速度は、例えば、10〜500m/分、好ましくは20〜400m/分、さらに好ましくは30〜300m/分程度であってもよい。本発明では、このような積層数、巻き取り張力や巻き取り速度で積層しても、高いガスバリア性を付与できる。   In the laminating step (3), the number of laminated films (the number of film overlaps and the number of windings) can be selected from the range of 10 or more (for example, about 100 to 1000000), for example, 100 or more (for example, about 200 to 500000). ), Preferably 500 or more (for example, about 1,000 to 300,000), more preferably 5000 or more (for example, about 10,000 to 200,000). In particular, when a film is laminated by winding in a roll shape, the film winding tension is, for example, 50 N / m or more (for example, 60 to 300 N / m), preferably 70 to 200 N / m, and more preferably 90. About 150 N / m may be sufficient. Moreover, when laminating | stacking by winding, winding speed | velocity may be about 10-500 m / min, for example, Preferably it is 20-400 m / min, More preferably, about 30-300 m / min may be sufficient. In this invention, even if it laminates | stacks with such a lamination | stacking number, winding tension | tensile_strength, and winding speed, high gas barrier property can be provided.

なお、積層は、フィルムを積層可能な積層装置を用いて行ってもよく、例えば、巻き取りにより積層する場合には、慣用の巻き取り装置を用いて行うことができる。   In addition, lamination | stacking may be performed using the lamination apparatus which can laminate | stack a film, for example, when laminating | stacking by winding, it can be performed using a conventional winding apparatus.

(エージング工程(4))
積層工程(3)の経た後のフィルム、(積層したフィルム)には、必要に応じてエージング処理(4)を施してもよい。すなわち、本発明の積層フィルムの製造方法は、積層工程(3)の後、さらにエージング処理するエージング工程(4)を含んでいてもよい。このようなフィルムの積層後のエージング処理と前記加湿乾燥(および加湿積層)とを組みあわせることにより、積層フィルムのガスバリア性をさらに向上できる。
(Aging process (4))
The film after the lamination step (3), (laminated film) may be subjected to an aging treatment (4) as necessary. That is, the manufacturing method of the laminated | multilayer film of this invention may include the aging process (4) which carries out an aging process further after a lamination process (3). By combining such an aging treatment after lamination of the film and the humidification drying (and humidification lamination), the gas barrier property of the laminated film can be further improved.

エージング処理において、エージング処理条件は適宜選択でき、例えば、エージング処理温度は、20〜200℃(例えば、25〜160℃)、好ましくは30〜150℃、さらに好ましくは30〜130℃、通常35〜125℃程度であってもよい。   In the aging treatment, the aging treatment conditions can be appropriately selected. For example, the aging treatment temperature is 20 to 200 ° C. (for example, 25 to 160 ° C.), preferably 30 to 150 ° C., more preferably 30 to 130 ° C., usually 35 to 35 ° C. It may be about 125 ° C.

また、エージング処理は、非加湿下又は加湿下で行ってもよく、加湿下で行うのが好ましい。加湿下でエージング処理すると、前記乾燥工程及び積層工程における加湿でフィルムに挟み込まれた水分が経時的に蒸発又は揮発しても、フィルムに水分を補充しつつエージングできるため、より一層効率よく加水分解縮合反応を促進できる。エージング処理において、加湿条件は、湿度[水蒸気の質量(kg)/乾燥空気(乾き空気)の質量(kg)]で、例えば、0.011以上(例えば、0.012〜0.3)、好ましくは0.014〜0.2、さらに好ましくは0.015〜0.1(例えば、0.016〜0.05)、特に0.017〜0.045(例えば、0.02〜0.04)程度であってもよい。なお、エージング処理における加湿は、フィルムに水分を補充するという観点から、積層工程における湿度よりも、同じ又はそれよりも大きい湿度(特により大きい湿度)で加湿してもよい。   The aging treatment may be performed under non-humidification or humidification, and is preferably performed under humidification. When the aging treatment is performed under humidification, even if the moisture sandwiched between the films in the drying and laminating steps evaporates or volatilizes over time, the film can be aged while being replenished with moisture. The condensation reaction can be promoted. In the aging treatment, the humidification condition is humidity [mass of water vapor (kg) / mass of dry air (dry air) (kg)], for example, 0.011 or more (for example, 0.012 to 0.3), preferably Is 0.014 to 0.2, more preferably 0.015 to 0.1 (for example, 0.016 to 0.05), particularly 0.017 to 0.045 (for example, 0.02 to 0.04). It may be a degree. Note that the humidification in the aging treatment may be performed at the same or higher humidity (particularly higher humidity) than the humidity in the lamination step from the viewpoint of replenishing the film with moisture.

さらに、エージング処理において、エージング時間は、例えば、6時間以上(例えば、7時間〜30日程度)、好ましくは8時間以上(例えば、9時間〜25日間程度)、さらに好ましくは10時間以上(例えば、12時間〜20日程度)、さらに好ましくは1日以上(例えば、1.5〜16日程度)であってもよい。   Furthermore, in the aging treatment, the aging time is, for example, 6 hours or more (for example, about 7 hours to 30 days), preferably 8 hours or more (for example, about 9 hours to 25 days), more preferably 10 hours or more (for example, , About 12 hours to 20 days), more preferably 1 day or more (for example, about 1.5 to 16 days).

なお、加湿下でのエージング処理は、慣用の加湿器(例えば、前記乾燥工程(2)の項で例示の加湿器など)を用いて行うことができる。また、前記と同様に、エージング工程において加湿する場合、通常、フィルム(又はフィルム表面)に水滴を付着させることなく(又はフィルムに結露を生じさせることなく)加湿するのが好ましい。   The aging treatment under humidification can be performed using a conventional humidifier (for example, the humidifier exemplified in the section of the drying step (2)). Similarly to the above, when humidifying in the aging step, it is usually preferable to humidify the film (or film surface) without attaching water droplets (or without causing condensation on the film).

本発明の製造方法において、塗布工程(1)と、乾燥工程(2)と、積層工程(3)と、必要に応じてさらにエージング工程(4)とを含む一連の工程は、間欠的(段階的、個別的)に行ってもよく、連続的に行ってもよい。工業的には、前記各工程を連続的に行う連続工程であるが好ましい。   In the production method of the present invention, the series of steps including the coating step (1), the drying step (2), the laminating step (3), and, if necessary, the aging step (4) are intermittent (stages). Or individually) or continuously. Industrially, it is a continuous process in which the above steps are continuously performed, but is preferable.

このような本発明の製造方法は、前記基材フィルムに前記塗布液を塗布するための塗布装置、塗布液を塗布した基材フィルムを加湿下で乾燥するための加湿装置(加湿乾燥装置)と、加湿後のフィルムを加湿下で積層するための積層装置とを少なくとも備えた製造装置(製造ユニット)を用いて行うことができる。   Such a production method of the present invention includes a coating apparatus for applying the coating liquid to the base film, a humidifying apparatus (humidification drying apparatus) for drying the base film coated with the coating liquid under humidification, It can be performed using a manufacturing apparatus (manufacturing unit) provided with at least a laminating apparatus for laminating a film after humidification under humidification.

すなわち、前記製造装置(製造ユニット)は、(i)前記塗布工程(1)において、基材フィルムの少なくとも一方の面に前記塗布液を塗布するための塗布装置と、(ii)塗布工程(1)を経て得られたフィルムを加湿下で乾燥するための加湿装置と、(iii)乾燥工程(2)を経たフィルムを加湿下で積層するための積層装置とを少なくとも備えている。このような製造ユニットにおいて、塗布装置、加湿装置および積層装置(巻き取り装置など)は、それぞれ、前記例示の装置を利用できる。また、前記製造ユニットは、他の装置(前記エージング処理に用いる加湿装置など)をさらに備えていてもよい。   That is, the manufacturing apparatus (manufacturing unit) includes: (i) a coating apparatus for coating the coating liquid on at least one surface of the base film in the coating process (1); and (ii) a coating process (1). ) At least a humidifying device for drying the film obtained through humidification, and (iii) a laminating device for laminating the film subjected to the drying step (2) under humidification. In such a manufacturing unit, the apparatus exemplified above can be used for each of the coating device, the humidifying device, and the laminating device (winding device and the like). The manufacturing unit may further include other devices (such as a humidifier used for the aging process).

[積層フィルム]
本発明の製造方法により得られるコートフィルム(基材フィルムとこの基材フィルムの少なくとも一方の面に形成されたバリア層とで構成されたフィルム)は、加水分解縮合性有機金属化合物で形成されたバリア層で構成されたフィルムを巻き取りなどにより積層するにも拘わらず、優れたガスバリア性(又は保香性)を有している。例えば、本発明のコートフィルムの酸素透過度(単位ml/m2・day・MPa)は、基材フィルムやバリア層の構成成分の種類などにもよるが、温度20℃、湿度90%RH雰囲気下で、例えば、100以下(例えば、0.1〜80)、好ましくは60以下(例えば、0.5〜55)、さらに好ましくは40以下(例えば、1〜35)、特に2〜30(例えば、3〜25)程度である。
[Laminated film]
The coated film obtained by the production method of the present invention (a film composed of a base film and a barrier layer formed on at least one surface of the base film) was formed of a hydrolytic condensable organometallic compound. In spite of laminating a film composed of a barrier layer by winding or the like, it has excellent gas barrier properties (or fragrance retention). For example, the oxygen permeability (unit ml / m 2 · day · MPa) of the coated film of the present invention depends on the type of components of the base film and the barrier layer, but the temperature is 20 ° C. and the humidity is 90% RH atmosphere. Under, for example, 100 or less (for example, 0.1 to 80), preferably 60 or less (for example, 0.5 to 55), more preferably 40 or less (for example, 1 to 35), particularly 2 to 30 (for example, 3 to 25).

また、前記コートフィルムは、透明性にも優れ、例えば、ヘイズが10%以下(例えば、1〜10%)、好ましくは9%以下(例えば、1〜9%)、さらに好ましくは8%以下(例えば、1〜8%)程度であってもよい。   Moreover, the said coat film is excellent also in transparency, for example, a haze is 10% or less (for example, 1 to 10%), Preferably it is 9% or less (for example, 1 to 9%), More preferably, it is 8% or less ( For example, it may be about 1 to 8%).

なお、本発明のコートフィルム(前記製造方法を経て得られたコートフィルム)には、フィルムの種類や用途に応じて、さらに、種々のコーティング層やラミネート層、例えば、ヒートシール層、滑性層、帯電防止層、装飾用印刷フィルム層や、ナイロンフィルムなどによる補強層、紫外線遮断層(例えば、特開2003−128121号公報に記載のUV遮断性被覆層など)などを形成してもよい。これらのコーティング層やラミネート層は、前記製造方法を経て得られたコートフィルムのバリア層に、接着剤層(又はアンカー層)を介して又は介することなく形成してもよく、バリア層よりも内側の面(例えば、基材フィルムのバリア層を形成しない面や基材フィルムとバリア層の間など)に形成してもよい。バリア層の内側に形成する場合、前記製造方法の適当な段階(例えば、バリア層形成前など)で形成してもよく、前記製造方法を経たコートフィルムに形成してもよい。   In addition, according to the kind and use of a film, the coating film of this invention (the coating film obtained through the said manufacturing method) is further various coating layers and laminate layers, for example, a heat seal layer, a slipping layer. Further, an antistatic layer, a decorative printing film layer, a reinforcing layer made of nylon film or the like, an ultraviolet blocking layer (for example, a UV blocking coating layer described in JP-A No. 2003-128121), or the like may be formed. These coating layers and laminate layers may be formed on the barrier layer of the coated film obtained through the above-described production method, with or without an adhesive layer (or anchor layer), inside the barrier layer. It may be formed on the surface (for example, the surface of the base film where the barrier layer is not formed or between the base film and the barrier layer). When forming inside a barrier layer, you may form in the suitable step (for example, barrier layer formation etc.) of the said manufacturing method, and you may form in the coat film which passed through the said manufacturing method.

特に、本発明の積層フィルムを包装用に用いる場合には、さらにヒートシール層を形成してもよい。このようなヒートシール層は、バリア層に形成してもよく、基材フィルムの他方の面(無機質層が形成されていない面)に形成してもよく、これらを組みあわせてもよい。ヒートシール層を形成する場合、通常、少なくともバリア層にヒートシール層を形成する場合が多い。   In particular, when the laminated film of the present invention is used for packaging, a heat seal layer may be further formed. Such a heat seal layer may be formed on the barrier layer, may be formed on the other surface (the surface where the inorganic layer is not formed) of the base film, or a combination thereof. When forming a heat seal layer, usually, a heat seal layer is often formed at least on the barrier layer.

ヒートシール層を構成するポリマー(又はシーラント)としては、熱接合性ポリマー(ヒートシール性ポリマー)、例えば、オレフィン系ポリマー、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ゴム系ポリマーなどが挙げられる。これらの熱接合性ポリマーは単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。   Examples of the polymer (or sealant) constituting the heat seal layer include heat bondable polymers (heat seal polymers) such as olefin polymers, vinyl acetate-vinyl chloride copolymers, polyesters, polyamides, rubber polymers, and the like. It is done. These heat bondable polymers can be used alone or in combination of two or more.

ヒートシール性オレフィン系ポリマーとしては、例えば、低密度ポリエチレンや直鎖状低密度ポリエチレンなどのポリエチレン、エチレン−ブテン−1共重合体、エチレン−(4−メチルペンテン−1)共重合体、エチレン−ヘキセン−1共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリレート共重合体、アイオノマー、ポリプロピレン、プロピレン−ブテン−1共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−プロピレン−ブテン−1共重合体、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体、無水マレイン酸変性ポリエチレンや無水マレイン酸変性ポリプロピレンなどの変性ポリオレフィンなどが挙げられる。好ましいオレフィン系ポリマーには、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、非晶質ポリオレフィン(例えば、アモルファスポリプロピレンなど)、エチレン−プロピレン共重合体などが含まれる。ラミネートによりヒートシール層を形成する場合、好ましい熱接合性ポリマー(フィルム)には、無延伸ポリプロピレンフィルム、無延伸エチレン−プロピレン共重合体フィルムなどが含まれる。   Examples of the heat-sealable olefin polymer include polyethylene such as low density polyethylene and linear low density polyethylene, ethylene-butene-1 copolymer, ethylene- (4-methylpentene-1) copolymer, ethylene- Hexene-1 copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, ethylene- (meth) acrylate copolymer, ionomer, polypropylene, propylene-butene-1 copolymer, ethylene -Propylene copolymer, ethylene-propylene-butene-1 copolymer, ethylene-propylene-diene copolymer, modified polyolefin such as maleic anhydride-modified polyethylene and maleic anhydride-modified polypropylene. Preferred olefin-based polymers include polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, amorphous polyolefin (for example, amorphous polypropylene), ethylene-propylene copolymer, and the like. When the heat seal layer is formed by laminating, preferred heat-bonding polymers (films) include unstretched polypropylene films, unstretched ethylene-propylene copolymer films, and the like.

ヒートシール性ポリエステルには、非晶性ポリエステル、例えば、脂肪族ジオールと、脂肪族ジカルボン酸および非対称芳香族ジカルボン酸(イソフタル酸など)から選択された少なくとも1つのジカルボン酸と、必要により対称構造の芳香族ジカルボン酸(テレフタル酸など)とを構成成分とする脂肪族ポリエステルなどが含まれる。また、ヒートシール性ポリアミドとしては、例えば、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン6/12などが挙げられる。ゴム系ポリマーには、例えば、ブチルゴム、イソブチレンゴム、クロロプレンゴム、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体などが含まれる。   The heat-sealable polyester includes an amorphous polyester, for example, an aliphatic diol, at least one dicarboxylic acid selected from an aliphatic dicarboxylic acid and an asymmetric aromatic dicarboxylic acid (such as isophthalic acid), and a symmetric structure as necessary. Aliphatic polyesters containing aromatic dicarboxylic acids (such as terephthalic acid) as constituent components are included. Examples of the heat-sealable polyamide include nylon 11, nylon 12, nylon 6/12, and the like. Examples of the rubber-based polymer include butyl rubber, isobutylene rubber, chloroprene rubber, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-acrylonitrile-butadiene copolymer, and the like.

ヒートシール層の厚さは、コートフィルムの用途などに応じて、例えば、3〜100μm程度の範囲で適宜選択でき、フィルムのラミネートによりヒートシール層を形成する場合には、例えば、20〜100μm、好ましくは30〜80μm程度であってもよい。   The thickness of the heat seal layer can be appropriately selected, for example, in the range of about 3 to 100 μm, depending on the use of the coat film, and when the heat seal layer is formed by laminating the film, for example, 20 to 100 μm, Preferably, it may be about 30 to 80 μm.

なお、積層フィルム全体の厚みは、例えば、5〜300μm、好ましくは10〜200μm、さらに好ましくは15〜100μm(例えば、20〜80μm)程度であってもよい。   In addition, the thickness of the whole laminated film may be, for example, about 5 to 300 μm, preferably 10 to 200 μm, and more preferably about 15 to 100 μm (for example, 20 to 80 μm).

本発明の方法は、加水分解縮合性有機金属化合物で構成されたバリア層を積層しても、前記加水分解縮合性有機金属化合物の縮合反応を充分に促進でき、簡便にかつ効率よく優れたガスバリア性フィルムを得ることができる。特に、ロール状に巻き取るなどにより積層できるため、煩雑な処理を必要とすることなく、高いガスバリア性を有するフィルムを大量生産でき、工業的に極めて有利である。   The method of the present invention is capable of sufficiently promoting the condensation reaction of the hydrolytic condensable organometallic compound even if a barrier layer composed of the hydrolytic condensable organometallic compound is laminated, and easily and efficiently an excellent gas barrier. Can be obtained. In particular, since it can be laminated by winding it up in a roll shape, etc., a film having high gas barrier properties can be mass-produced without requiring complicated processing, which is extremely advantageous industrially.

そして、本発明の方法により得られたコートフィルムは、ガスバリア性を必要とする種々の用途、例えば、電子レンジ用食品、レトルト食品、冷凍食品、マイクロ波殺菌、フレーババリア、医薬品、精密電子部品などの各種包装用フィルムや、風船などのバルーン用フィルムなどとして好適に用いることができる。また、食品などを包装すると、劣化や変質を抑制しつつ、内容物を長期間に亘り保存できる。本発明の方法により得られたフィルムフィルムを用いた包装体の形態は、特に制限されないが、例えば、ハンバーグ、シューマイ、ギョーザなどの固形物の包装袋、カレー、スープ、コーヒー、紅茶などの液状物の包装袋として用いることができる。これらの食品を収容した包装袋は、そのまま、レトルト処理又は電子レンジ加熱できる。また、酒パックなどの紙製容器の内袋として使用することにより、電子レンジ加熱などにより、内容物を加熱できる。   The coated film obtained by the method of the present invention can be used in various applications that require gas barrier properties, such as food for microwave oven, retort food, frozen food, microwave sterilization, flavor barrier, pharmaceuticals, precision electronic parts, etc. It can be suitably used as various packaging films and balloon films such as balloons. In addition, when food is packaged, the contents can be stored for a long period of time while suppressing deterioration and alteration. The form of the package using the film obtained by the method of the present invention is not particularly limited. For example, it is a solid packaging bag such as hamburger, shumai, gyoza, or a liquid product such as curry, soup, coffee, or tea. It can be used as a packaging bag. A packaging bag containing these foods can be retorted or heated in a microwave oven as it is. Further, by using it as an inner bag of a paper container such as a sake pack, the contents can be heated by microwave heating or the like.

また、包装材料による包装形態としては、袋、カップ、チューブ、スタンディングバック、トレイなどの容器、フタ材や、酒、醤油、みりん、油、牛乳、ジュースなどを収容する紙パックの内貼り材などが挙げられる。   In addition, packaging forms using packaging materials include bags, cups, tubes, standing bags, trays and other containers, lid materials, and paper pack inner materials that contain sake, soy sauce, mirin, oil, milk, juice, etc. Is mentioned.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

なお、実施例において、酸素透過度は、以下のようにして測定した。   In the examples, the oxygen permeability was measured as follows.

[酸素透過度(O2−TR)]
ASTMD−3985に従って、酸素透過率測定装置(モコン(MOCON)社製、「OX−TRAN2/20 SH MODULE」)を用いて酸素透過度(酸素透過率)を測定した。測定条件は、20℃、相対湿度90%RHである。
[Oxygen permeability (O2-TR)]
In accordance with ASTM D-3985, oxygen permeability (oxygen permeability) was measured using an oxygen permeability measuring device (“OX-TRAN 2/20 SH MODULE” manufactured by MOCON). The measurement conditions are 20 ° C. and relative humidity 90% RH.

(合成例1)
ポリエチレンイミン(日本触媒(株)製、「エポミンSP−018」)7.22重量部、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン)3.56重量部、メタノール51.1重量部を混合し、65℃、窒素雰囲気下で3時間攪拌して反応させ、室温まで冷却した。次いで、この反応溶液にテトラメトキシシランのオリゴマー(多摩化学工業(株)製、「Mシリケート51」)52.0重量部とメタノール15.4重量部との混合液を加えて、室温で1時間反応させ、コーティング液(1)を調製した。
(Synthesis Example 1)
Polyethyleneimine (Nippon Shokubai Co., Ltd., “Epomin SP-018”) 7.22 parts by weight, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane) 3.56 parts by weight, methanol 51 .1 part by weight was mixed, reacted under stirring at 65 ° C. under a nitrogen atmosphere for 3 hours, and cooled to room temperature. Subsequently, a mixed solution of 52.0 parts by weight of tetramethoxysilane oligomer (manufactured by Tama Chemical Co., Ltd., “M silicate 51”) and 15.4 parts by weight of methanol was added to this reaction solution, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour The coating liquid (1) was prepared by reacting.

(合成例2)
ポリエチレンイミン(日本触媒(株)製、「エポミンSP−018」)2.6重量部、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン)2.3重量部、メタノール54重量部を混合し、60℃、窒素雰囲気下で3時間攪拌して反応させ、室温まで冷却した。次いで、この反応溶液に水1.0重量部とメタノール5.4重量部との混合液を加えて30分間反応させ、さらにテトラメトキシシランのオリゴマー(多摩化学工業(株)製、「Mシリケート51」)11.3重量部とメタノール24重量部との混合液を加えて、室温で24時間反応させ、コーティング液(2)を調製した。
(Synthesis Example 2)
Polyethyleneimine (made by Nippon Shokubai Co., Ltd., “Epomin SP-018”) 2.6 parts by weight, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane) 2.3 parts by weight, methanol 54 The parts by weight were mixed, stirred for 3 hours in a nitrogen atmosphere at 60 ° C., and cooled to room temperature. Next, a mixed solution of 1.0 part by weight of water and 5.4 parts by weight of methanol was added to the reaction solution and reacted for 30 minutes. Further, an oligomer of tetramethoxysilane (manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd., “M silicate 51 ]) A liquid mixture of 11.3 parts by weight and 24 parts by weight of methanol was added and reacted at room temperature for 24 hours to prepare a coating liquid (2).

(実施例1)
合成例1で得られたコーティング液(1)を、ダイコーターを用いて、1.0g/m2(乾燥重量)の塗布量で、二軸延伸ポリプロピレンフィルム(20μm)に塗布し、ドライヤーを用いて温度90℃で予備乾燥した。
Example 1
The coating liquid (1) obtained in Synthesis Example 1 is applied to a biaxially stretched polypropylene film (20 μm) at a coating amount of 1.0 g / m 2 (dry weight) using a die coater, and a dryer is used. And pre-dried at a temperature of 90 ° C.

次いで、予備乾燥したフィルムを、加湿器を用いて、温度100℃および湿度[単位:水蒸気の質量(kg)/乾き空気の質量(kg)、以下同じ]0.070の条件で1分間加湿乾燥したのち、さらに、加湿器により温度40℃および湿度0.017の条件で加湿しつつ巻き取り装置を用いて巻き取った。なお、加湿乾燥から巻き取りまでの時間は、25秒であり、巻き取り条件は、巻き取り張力95N/mおよび巻き取り速度125m/分であった。   Next, the pre-dried film was humidified and dried for 1 minute using a humidifier at a temperature of 100 ° C. and humidity [unit: mass of steam (kg) / mass of dry air (kg), the same applies hereinafter] 0.070. After that, it was wound up by a winder while being humidified by a humidifier under the conditions of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 0.017. The time from humidification drying to winding was 25 seconds, and the winding conditions were a winding tension of 95 N / m and a winding speed of 125 m / min.

次いで、フィルムを巻き取り後、ロール状態のフィルムを、温度45℃および湿度0.018の加温及び加湿条件で2日間エージング処理し、コートフィルムを得た。得られたコートフィルムの酸素透過度は、30ml/m2・day・MPaであった。 Subsequently, after winding up the film, the film in a roll state was subjected to an aging treatment for 2 days under a heating and humidifying condition of a temperature of 45 ° C. and a humidity of 0.018 to obtain a coated film. The resulting coated film had an oxygen permeability of 30 ml / m 2 · day · MPa.

(実施例2)
合成例1で得られたコーティング液(1)を、ダイコーターを用いて、1.0g/m2(乾燥重量)の塗布量で、二軸延伸ポリプロピレンフィルム(20μm)に塗布し、ドライヤーを用いて温度90℃で予備乾燥した。
(Example 2)
The coating liquid (1) obtained in Synthesis Example 1 is applied to a biaxially stretched polypropylene film (20 μm) at a coating amount of 1.0 g / m 2 (dry weight) using a die coater, and a dryer is used. And pre-dried at a temperature of 90 ° C.

次いで、予備乾燥したフィルムを、加湿器を用いて、温度100℃および湿度[単位:水蒸気の質量(kg)/乾き空気の質量(kg)、以下同じ]0.100の条件で1分間加湿乾燥したのち、さらに、加湿器により温度50℃および湿度0.025の条件で加湿しつつ巻き取り装置を用いて巻き取った。なお、加湿乾燥から巻き取りまでの時間は、25秒であり、巻き取り条件は、巻き取り張力95N/mおよび巻き取り速度125m/分であった。   Next, the pre-dried film was humidified and dried for 1 minute using a humidifier at a temperature of 100 ° C. and humidity [unit: mass of steam (kg) / mass of dry air (kg), the same applies hereinafter] 0.100. After that, it was wound up with a winder while being humidified with a humidifier under conditions of a temperature of 50 ° C. and a humidity of 0.025. The time from humidification drying to winding was 25 seconds, and the winding conditions were a winding tension of 95 N / m and a winding speed of 125 m / min.

次いで、フィルムを巻き取り後、ロール状態のフィルムを、温度50℃および湿度0.020の加温及び加湿条件で7日間エージング処理し、コートフィルムを得た。得られたコートフィルムの酸素透過度は、22ml/m2・day・MPaであった。 Subsequently, after winding up the film, the roll film was subjected to aging treatment for 7 days under heating and humidification conditions of a temperature of 50 ° C. and a humidity of 0.020 to obtain a coated film. The obtained coated film had an oxygen permeability of 22 ml / m 2 · day · MPa.

(実施例3)
合成例1で得られたコーティング液(1)を、ダイコーターを用いて、1.0g/m2(乾燥重量)の塗布量で、ポリエチレンテレフタレートフィルム(12μm)に塗布し、ドライヤーを用いて温度90℃で予備乾燥した。
(Example 3)
The coating liquid (1) obtained in Synthesis Example 1 was applied to a polyethylene terephthalate film (12 μm) at a coating amount of 1.0 g / m 2 (dry weight) using a die coater, and the temperature was measured using a dryer. Pre-dried at 90 ° C.

次いで、予備乾燥したフィルムを、加湿器を用いて、温度135℃および湿度0.140の条件で30秒間加湿乾燥したのち、さらに、加湿器により温度60℃および湿度0.035の条件で加湿しつつ巻き取り装置を用いて巻き取った。なお、加湿乾燥から巻き取りまでの時間は、25秒であり、巻き取り条件は、巻き取り張力95N/mおよび巻き取り速度125m/分であった。   Next, the pre-dried film is humidified and dried for 30 seconds at a temperature of 135 ° C. and a humidity of 0.140 using a humidifier, and further humidified by a humidifier at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 0.035. It was wound up using a winding device. The time from humidification drying to winding was 25 seconds, and the winding conditions were a winding tension of 95 N / m and a winding speed of 125 m / min.

次いで、フィルムを巻き取り後、ロール状態のフィルムを、温度60℃および湿度0.032の加温及び加湿条件で14日間エージング処理し、コートフィルムを得た。得られたコートフィルムの酸素透過度は、15ml/m2・day・MPaであった。 Subsequently, after winding up the film, the roll film was subjected to an aging treatment for 14 days under heating and humidification conditions of a temperature of 60 ° C. and a humidity of 0.032 to obtain a coated film. The obtained coated film had an oxygen permeability of 15 ml / m 2 · day · MPa.

(実施例4)
合成例1で得られたコーティング液(1)を、ダイコーターを用いて、1.0g/m2(乾燥重量)の塗布量で、ポリアミドフィルム(15μm)に塗布し、ドライヤーを用いて温度90℃で予備乾燥した。
Example 4
The coating liquid (1) obtained in Synthesis Example 1 was applied to a polyamide film (15 μm) at a coating amount of 1.0 g / m 2 (dry weight) using a die coater, and the temperature was 90 ° C. using a dryer. Pre-dried at ℃.

次いで、予備乾燥したフィルムを、加湿器を用いて、温度80℃および湿度0.080の条件で4分間加湿乾燥したのち、さらに、加湿器により温度50℃および湿度0.025の条件で加湿しつつ巻き取り装置を用いて巻き取った。なお、加湿乾燥から巻き取りまでの時間は、25秒であり、巻き取り条件は、巻き取り張力95N/mおよび巻き取り速度125m/分であった。   Next, the pre-dried film is humidified and dried for 4 minutes using a humidifier at a temperature of 80 ° C. and a humidity of 0.080, and further humidified by a humidifier at a temperature of 50 ° C. and a humidity of 0.025. It was wound up using a winding device. The time from humidification drying to winding was 25 seconds, and the winding conditions were a winding tension of 95 N / m and a winding speed of 125 m / min.

次いで、フィルムを巻き取り後、ロール状態のフィルムを、温度50℃および湿度0.023の加温及び加湿条件で10日間エージング処理し、コートフィルムを得た。得られたコートフィルムの酸素透過度は、20ml/m2・day・MPaであった。 Next, after winding up the film, the roll film was subjected to aging treatment for 10 days under heating and humidification conditions of a temperature of 50 ° C. and a humidity of 0.023 to obtain a coated film. The obtained coated film had an oxygen permeability of 20 ml / m 2 · day · MPa.

(実施例5)
合成例2で得られたコーティング液(1)を、ダイコーターを用いて、1.0g/m2(乾燥重量)の塗布量で、二軸延伸ポリプロピレンフィルム(20μm)に塗布し、ドライヤーを用いて温度90℃で予備乾燥した。
(Example 5)
The coating liquid (1) obtained in Synthesis Example 2 was applied to a biaxially stretched polypropylene film (20 μm) at a coating amount of 1.0 g / m 2 (dry weight) using a die coater, and a dryer was used. And pre-dried at a temperature of 90 ° C.

次いで、予備乾燥したフィルムを、加湿器を用いて、温度100℃および湿度0.040の条件で2分間加湿乾燥したのち、さらに、加湿器により温度50℃および湿度0.025の条件で加湿しつつ巻き取り装置を用いて巻き取った。なお、加湿乾燥から巻き取りまでの時間は、25秒であり、巻き取り条件は、巻き取り張力95N/mおよび巻き取り速度125m/分であった。   Next, the pre-dried film is humidified and dried for 2 minutes at a temperature of 100 ° C. and a humidity of 0.040 using a humidifier, and further humidified by a humidifier at a temperature of 50 ° C. and a humidity of 0.025. It was wound up using a winding device. The time from humidification drying to winding was 25 seconds, and the winding conditions were a winding tension of 95 N / m and a winding speed of 125 m / min.

次いで、フィルムを巻き取り後、ロール状態のフィルムを、温度50℃および湿度0.023の加温及び加湿条件で7日間エージング処理し、コートフィルムを得た。得られたコートフィルムの酸素透過度は、50ml/m2・day・MPaであった。 Subsequently, after winding up the film, the roll film was subjected to an aging treatment for 7 days under heating and humidification conditions of a temperature of 50 ° C. and a humidity of 0.023 to obtain a coated film. The resulting coated film had an oxygen permeability of 50 ml / m 2 · day · MPa.

(実施例6)
合成例2で得られたコーティング液(1)を、ダイコーターを用いて、1.0g/m2(乾燥重量)の塗布量で、二軸延伸ポリプロピレンフィルム(20μm)に塗布し、ドライヤーを用いて温度90℃で予備乾燥した。
(Example 6)
The coating liquid (1) obtained in Synthesis Example 2 was applied to a biaxially stretched polypropylene film (20 μm) at a coating amount of 1.0 g / m 2 (dry weight) using a die coater, and a dryer was used. And pre-dried at a temperature of 90 ° C.

次いで、予備乾燥したフィルムを、加湿器を用いて、温度60℃および湿度0.050の条件で1分間加湿乾燥したのち、さらに、加湿器により温度40℃および湿度0.025の条件で加湿しつつ巻き取り装置を用いて巻き取った。なお、加湿乾燥から巻き取りまでの時間は、25秒であり、巻き取り条件は、巻き取り張力95N/mおよび巻き取り速度125m/分であった。   Next, the pre-dried film is humidified and dried for 1 minute at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 0.050 using a humidifier, and further humidified by a humidifier at a temperature of 40 ° C. and a humidity of 0.025. It was wound up using a winding device. The time from humidification drying to winding was 25 seconds, and the winding conditions were a winding tension of 95 N / m and a winding speed of 125 m / min.

次いで、フィルムを巻き取り後、ロール状態のフィルムを、温度40℃および湿度0.025の加温及び加湿条件で4日間エージング処理し、コートフィルムを得た。得られたコートフィルムの酸素透過度は、40ml/m2・day・MPaであった。 Subsequently, after winding up the film, the roll film was subjected to aging treatment for 4 days under heating and humidification conditions of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 0.025 to obtain a coated film. The resulting coated film had an oxygen permeability of 40 ml / m 2 · day · MPa.

(実施例7)
合成例2で得られたコーティング液(1)を、ダイコーターを用いて、1.0g/m2(乾燥重量)の塗布量で、ポリアミドフィルム(15μm)に塗布し、ドライヤーを用いて温度90℃で予備乾燥した。
(Example 7)
The coating liquid (1) obtained in Synthesis Example 2 was applied to a polyamide film (15 μm) at a coating amount of 1.0 g / m 2 (dry weight) using a die coater, and the temperature was 90 ° C. using a dryer. Pre-dried at ℃.

次いで、予備乾燥したフィルムを、加湿器を用いて、温度120℃および湿度0.120の条件で30秒間加湿乾燥したのち、さらに、加湿器により温度60℃および湿度0.040の条件で加湿しつつ巻き取り装置を用いて巻き取った。なお、加湿乾燥から巻き取りまでの時間は、25秒であり、巻き取り条件は、巻き取り張力95N/mおよび巻き取り速度125m/分であった。   Next, the pre-dried film is humidified and dried for 30 seconds at a temperature of 120 ° C. and a humidity of 0.120 using a humidifier, and further humidified by a humidifier at a temperature of 60 ° C. and a humidity of 0.040. It was wound up using a winding device. The time from humidification drying to winding was 25 seconds, and the winding conditions were a winding tension of 95 N / m and a winding speed of 125 m / min.

次いで、フィルムを巻き取り後、ロール状態のフィルムを、温度50℃および湿度0.030の加温及び加湿条件で10日間エージング処理し、コートフィルムを得た。得られたコートフィルムの酸素透過度は、27ml/m2・day・MPaであった。 Subsequently, after winding up the film, the roll film was subjected to aging treatment for 10 days under heating and humidification conditions of a temperature of 50 ° C. and a humidity of 0.030 to obtain a coated film. The resulting coated film had an oxygen permeability of 27 ml / m 2 · day · MPa.

(実施例8)
合成例2で得られたコーティング液(1)を、ダイコーターを用いて、1.0g/m2(乾燥重量)の塗布量で、ポリエチレンテレフタレートフィルム(12μm)に塗布し、ドライヤーを用いて温度90℃で予備乾燥した。
(Example 8)
The coating liquid (1) obtained in Synthesis Example 2 was applied to a polyethylene terephthalate film (12 μm) at a coating amount of 1.0 g / m 2 (dry weight) using a die coater, and the temperature was measured using a dryer. Pre-dried at 90 ° C.

次いで、予備乾燥したフィルムを、加湿器を用いて、温度125℃および湿度0.040の条件で48秒間加湿乾燥したのち、さらに、加湿器により温度50℃および湿度0.025の条件で加湿しつつ巻き取り装置を用いて巻き取った。なお、加湿乾燥から巻き取りまでの時間は、25秒であり、巻き取り条件は、巻き取り張力95N/mおよび巻き取り速度125m/分であった。   Next, the pre-dried film is humidified and dried for 48 seconds at a temperature of 125 ° C. and a humidity of 0.040 using a humidifier, and further humidified by a humidifier at a temperature of 50 ° C. and a humidity of 0.025. It was wound up using a winding device. The time from humidification drying to winding was 25 seconds, and the winding conditions were a winding tension of 95 N / m and a winding speed of 125 m / min.

次いで、フィルムを巻き取り後、ロール状態のフィルムを、温度120℃および湿度0.022の加温及び加湿条件で10日間エージング処理し、コートフィルムを得た。得られたコートフィルムの酸素透過度は、12ml/m2・day・MPaであった。 Subsequently, after winding up the film, the roll film was subjected to aging treatment for 10 days under heating and humidification conditions of a temperature of 120 ° C. and a humidity of 0.022 to obtain a coated film. The resulting coated film had an oxygen permeability of 12 ml / m 2 · day · MPa.

(比較例1)
合成例1で得られたコーティング液(1)を、ダイコーターを用いて、1.0g/m2(乾燥重量)の塗布量で、二軸延伸ポリプロピレンフィルム(20μm)に塗布し、ドライヤーを用いて温度90℃で予備乾燥した。
(Comparative Example 1)
The coating liquid (1) obtained in Synthesis Example 1 is applied to a biaxially stretched polypropylene film (20 μm) at a coating amount of 1.0 g / m 2 (dry weight) using a die coater, and a dryer is used. And pre-dried at a temperature of 90 ° C.

次いで、予備乾燥したフィルムを、温度100℃で1分間乾燥した。なお、乾燥における湿度は0.010であった。さらに、乾燥したフィルムを、加湿器により温度40℃および湿度0.017の条件で加湿しつつ巻き取り装置を用いて巻き取った。なお、加湿乾燥から巻き取りまでの時間は、25秒であり、巻き取り条件は、巻き取り張力95N/mおよび巻き取り速度125m/分であった。   The pre-dried film was then dried at a temperature of 100 ° C. for 1 minute. The humidity during drying was 0.010. Further, the dried film was wound using a winder while being humidified by a humidifier under conditions of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 0.017. The time from humidification drying to winding was 25 seconds, and the winding conditions were a winding tension of 95 N / m and a winding speed of 125 m / min.

次いで、フィルムを巻き取り後、ロール状態のフィルムを、温度45℃および湿度0.018の加温及び加湿条件で2日間エージング処理し、コートフィルムを得た。得られたコートフィルムの酸素透過度は、210ml/m2・day・MPaであった。 Subsequently, after winding up the film, the film in a roll state was subjected to an aging treatment for 2 days under a heating and humidifying condition of a temperature of 45 ° C. and a humidity of 0.018 to obtain a coated film. The resulting coated film had an oxygen permeability of 210 ml / m 2 · day · MPa.

(比較例2)
合成例1で得られたコーティング液(1)を、ダイコーターを用いて、1.0g/m2(乾燥重量)の塗布量で、二軸延伸ポリプロピレンフィルム(20μm)に塗布し、ドライヤーを用いて温度90℃で予備乾燥した。
(Comparative Example 2)
The coating liquid (1) obtained in Synthesis Example 1 is applied to a biaxially stretched polypropylene film (20 μm) at a coating amount of 1.0 g / m 2 (dry weight) using a die coater, and a dryer is used. And pre-dried at a temperature of 90 ° C.

次いで、予備乾燥したフィルムを、加湿器を用いて、温度100℃および湿度0.070の条件で1分間加湿乾燥したのち、さらに、温度40℃で巻き取り装置を用いて巻き取った。なお、巻き取りの際の湿度は、0.010であった。なお、加湿乾燥から巻き取りまでの時間は、25秒であり、巻き取り条件は、巻き取り張力95N/mおよび巻き取り速度125m/分であった。   Next, the pre-dried film was humidified and dried for 1 minute under the conditions of a temperature of 100 ° C. and a humidity of 0.070 using a humidifier, and further wound up using a winder at a temperature of 40 ° C. In addition, the humidity at the time of winding was 0.010. The time from humidification drying to winding was 25 seconds, and the winding conditions were a winding tension of 95 N / m and a winding speed of 125 m / min.

次いで、フィルムを巻き取り後、ロール状態のフィルムを、温度45℃および湿度0.025の加温及び加湿条件で7日間エージング処理し、コートフィルムを得た。得られたコートフィルムの酸素透過度は、300ml/m2・day・MPaであった。 Next, after the film was wound, the roll film was subjected to aging treatment for 7 days under heating and humidification conditions of a temperature of 45 ° C. and a humidity of 0.025 to obtain a coated film. The resulting coated film had an oxygen permeability of 300 ml / m 2 · day · MPa.

(比較例3)
合成例2で得られたコーティング液(1)を、ダイコーターを用いて、1.0g/m2(乾燥重量)の塗布量で、ポリエチレンテレフタレートフィルム(12μm)に塗布し、ドライヤーを用いて温度90℃で予備乾燥した。
(Comparative Example 3)
The coating liquid (1) obtained in Synthesis Example 2 was applied to a polyethylene terephthalate film (12 μm) at a coating amount of 1.0 g / m 2 (dry weight) using a die coater, and the temperature was measured using a dryer. Pre-dried at 90 ° C.

次いで、予備乾燥したフィルムを、温度100℃で4分間乾燥した。なお、乾燥における湿度は0.007であった。さらに、乾燥したフィルムを、加湿器により温度50℃および湿度0.040の条件で加湿しつつ巻き取り装置を用いて巻き取った。なお、加湿乾燥から巻き取りまでの時間は、25秒であり、巻き取り条件は、巻き取り張力95N/mおよび巻き取り速度125m/分であった。   The pre-dried film was then dried at a temperature of 100 ° C. for 4 minutes. The humidity during drying was 0.007. Furthermore, the dried film was wound up using a winder while being humidified by a humidifier under conditions of a temperature of 50 ° C. and a humidity of 0.040. The time from humidification drying to winding was 25 seconds, and the winding conditions were a winding tension of 95 N / m and a winding speed of 125 m / min.

次いで、フィルムを巻き取り後、ロール状態のフィルムを、温度50℃および湿度0.040の加温及び加湿条件で7日間エージング処理し、コートフィルムを得た。得られたコートフィルムの酸素透過度は、160ml/m2・day・MPaであった。 Subsequently, after winding up the film, the roll film was subjected to an aging treatment for 7 days under heating and humidification conditions of a temperature of 50 ° C. and a humidity of 0.040 to obtain a coated film. The resulting coated film had an oxygen permeability of 160 ml / m 2 · day · MPa.

実施例および比較例で得られた結果を表1に示す。   Table 1 shows the results obtained in Examples and Comparative Examples.

Figure 2007055189
Figure 2007055189

Claims (11)

基材フィルムの少なくとも一方の面に加水分解縮合性有機金属化合物(A)を含む塗布液を塗布する塗布工程(1)と、この塗布工程(1)の後、フィルムを乾燥する乾燥工程(2)と、この乾燥工程(2)の後、フィルムを加湿下で積層する積層工程(3)とを含むコートフィルムの製造方法であって、前記乾燥工程(2)がフィルムを加湿処理する加湿工程を含むコートフィルムの製造方法。   A coating process (1) for coating a coating solution containing the hydrolytic condensable organometallic compound (A) on at least one surface of the base film, and a drying process (2) for drying the film after this coating process (1) ) And a laminating step (3) for laminating the film under humidification after the drying step (2), wherein the drying step (2) humidifies the film. The manufacturing method of the coat film containing this. 乾燥工程(2)が、温度55〜150℃および湿度[水蒸気の質量(kg)/乾燥空気(乾き空気)の質量(kg)]0.03〜0.18の加湿条件下でフィルムを加湿処理する加湿工程を含む請求項1記載の製造方法。   In the drying step (2), the film is humidified under a humidification condition of a temperature of 55 to 150 ° C. and a humidity [mass of water vapor (kg) / mass of dry air (dry air) (kg)] of 0.03 to 0.18. The manufacturing method of Claim 1 including the humidification process to perform. 積層工程(3)において、湿度[水蒸気の質量(kg)/乾燥空気(乾き空気)の質量(kg)]0.015〜0.06の加湿条件下で積層する請求項1記載の製造方法。   The production method according to claim 1, wherein in the laminating step (3), lamination is performed under a humidified condition of humidity [mass of water vapor (kg) / mass of dry air (dry air) (kg)] 0.015 to 0.06. 積層工程(3)において、乾燥工程(2)を経たフィルムを巻き取りながら積層する請求項1記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, wherein in the laminating step (3), the film having undergone the drying step (2) is laminated while being wound. 積層工程(3)の後、さらに加湿下でエージング処理するエージング工程(4)を含む請求項1記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, further comprising an aging step (4) for performing an aging treatment under humidification after the laminating step (3). エージング工程(4)において、温度30〜130℃および湿度[水蒸気の質量(kg)/乾燥空気(乾き空気)の質量(kg)]0.016〜0.05の加湿条件下でエージング処理する請求項5記載の製造方法。   In the aging step (4), an aging treatment is performed at a temperature of 30 to 130 ° C. and a humidity [mass of water vapor (kg) / mass of dry air (dry air) (kg)] of 0.016 to 0.05. Item 6. The production method according to Item 5. (i)乾燥工程(2)が、温度60〜150℃および湿度[水蒸気の質量(kg)/乾燥空気(乾き空気)の質量(kg)]0.035〜0.16の加湿条件下で、フィルムに水滴を付着させることなく加湿処理する工程を含み、(ii)積層工程(3)において、温度30〜100℃および湿度[水蒸気の質量(kg)/乾燥空気(乾き空気)の質量(kg)]0.016〜0.05の条件下で、水滴を付着させることなくフィルムを巻き取り、(iii)エージング工程(4)において、温度30〜130℃および湿度[水蒸気の質量(kg)/乾燥空気(乾き空気)の質量(kg)]0.017〜0.045の条件下で、水滴を付着させることなく巻き取ったフィルムを12時間〜20日間エージング処理する請求項5記載の製造方法。   (I) The drying step (2) is performed under humidification conditions of a temperature of 60 to 150 ° C. and humidity [mass of water vapor (kg) / mass of dry air (dry air) (kg)] of 0.035 to 0.16. Including a step of humidifying without attaching water droplets to the film, (ii) in the laminating step (3), temperature 30 to 100 ° C. and humidity [mass of water vapor (kg) / mass of dry air (dry air) (kg )] The film is wound up under the conditions of 0.016 to 0.05 without adhering water droplets. (Iii) In the aging step (4), the temperature is 30 to 130 ° C. and the humidity [mass of steam (kg) / 6. The process according to claim 5, wherein the film wound without adhering water droplets is subjected to an aging treatment for 12 hours to 20 days under the condition of mass (kg) of dry air (dry air) 0.017 to 0.045. . 基材フィルムが、ポリプロピレン系樹脂、ポリエステル系樹脂又はポリアミド系樹脂で形成されたベースフィルムで構成されている請求項1記載の製造方法。   The manufacturing method of Claim 1 with which the base film is comprised with the base film formed with the polypropylene resin, the polyester-type resin, or the polyamide-type resin. 基材フィルムが、ベースフィルムと、このベースフィルムの少なくとも一方の面に形成され、アルミニウム酸化物およびケイ素酸化物から選択された少なくとも一種の金属酸化物で構成された無機質層とで構成されている請求項8記載の製造方法。   The base film is composed of a base film and an inorganic layer formed on at least one surface of the base film and composed of at least one metal oxide selected from aluminum oxide and silicon oxide. The manufacturing method of Claim 8. 塗布液が、(A1)アミノ基に対して反応可能な官能基および加水分解縮合性基を有する有機ケイ素化合物と、(B)アミノ基を有する化合物と、(C)アルコール類とで構成された水性塗布液である請求項1記載の製造方法。   The coating solution was composed of (A1) an organosilicon compound having a functional group capable of reacting with an amino group and a hydrolytic condensable group, (B) a compound having an amino group, and (C) an alcohol. The production method according to claim 1, which is an aqueous coating solution. 温度20℃、湿度90%RH雰囲気下での酸素透過度が、60ml/m2・day・MPa以下のコートフィルムを得る請求項1記載の製造方法。 The manufacturing method of Claim 1 which obtains the coated film whose oxygen permeability in temperature 20 degreeC and humidity 90% RH atmosphere is 60 ml / m < 2 > * day * MPa or less.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008290359A (en) * 2007-05-25 2008-12-04 Toppan Printing Co Ltd Method for producing laminate
JPWO2013061747A1 (en) * 2011-10-27 2015-04-02 旭硝子株式会社 Method for manufacturing substrate with coating

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