JP2007052050A - Liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and electronic apparatus - Google Patents

Liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and electronic apparatus Download PDF

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Tomoko Sasabayashi
朋子 笹林
Keihei Cho
惠萍 張
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal device and a method for manufacturing the device preventing degradation of the quality due to moisture absorption, and to provide an electronic apparatus using the device. <P>SOLUTION: The liquid crystal device comprises a liquid crystal held between a pair of substrates 10, 20 opposing to each other. An inorganic alignment layer 16 (22) is provided on the inner face of each substrate 10, 20, and the inorganic alignment layer 16 (22) is subjected to a treatment to impart water repellency with a plurality of water-repellent organic materials having different molecular weights. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器に関する。   The present invention relates to a liquid crystal device, a method for manufacturing a liquid crystal device, and an electronic apparatus.

液晶プロジェクタ等の投射型表示装置の光変調手段として用いられる液晶装置は、一対の基板間の周縁部にシール材が配設され、その中央部に液晶が封止されて構成されている。その一対の基板の内面側には液晶に電圧を印加する電極が形成され、これら電極の内面側には非選択電圧印加時において液晶分子の配向を制御する配向膜が形成されている。このような構成によって液晶装置は、非選択電圧印加時と選択電圧印加時との液晶分子の配向変化に基づいて光源光を変調し、画像光を作製するようになっている。   2. Description of the Related Art A liquid crystal device used as a light modulation unit of a projection display device such as a liquid crystal projector has a configuration in which a sealing material is disposed at a peripheral portion between a pair of substrates, and liquid crystal is sealed at a central portion thereof. Electrodes for applying a voltage to the liquid crystal are formed on the inner surfaces of the pair of substrates, and an alignment film for controlling the alignment of liquid crystal molecules when a non-selective voltage is applied is formed on the inner surfaces of these electrodes. With such a configuration, the liquid crystal device modulates light source light based on a change in orientation of liquid crystal molecules between application of a non-selection voltage and application of a selection voltage, thereby producing image light.

ところで、前述した配向膜としては、側鎖アルキル基を付加したポリイミド等からなる高分子膜の表面に、ラビング処理を施したものが一般に用いられている。ラビング処理とは、柔らかい布からなるローラで高分子膜の表面を所定方向に擦ることにより、高分子を所定方向に配向させるものである。その配向性高分子と液晶分子との分子間相互作用により、配向性高分子に沿って液晶分子が配置されるので、非選択電圧印加時の液晶分子を所定方向に配向させることができるようになっている。また、側鎖アルキル基により、液晶分子にプレチルトを与えることができるようになっている。   By the way, as the alignment film described above, a film obtained by rubbing the surface of a polymer film made of polyimide or the like to which a side chain alkyl group is added is generally used. The rubbing treatment is to orient the polymer in a predetermined direction by rubbing the surface of the polymer film in a predetermined direction with a roller made of a soft cloth. Due to the intermolecular interaction between the alignment polymer and the liquid crystal molecules, the liquid crystal molecules are arranged along the alignment polymer so that the liquid crystal molecules can be aligned in a predetermined direction when a non-selective voltage is applied. It has become. Further, the side chain alkyl group can give a pretilt to the liquid crystal molecules.

しかしながら、このような有機配向膜を備えた液晶装置をプロジェクタの光変調手段として採用した場合、光源から照射される強い光や熱によって配向膜が次第に分解されるおそれがある。そして、長期間の使用後には、液晶分子を所望のプレチルト角に配列することができなくなるなど液晶分子の配向制御機能が低下し、液晶プロジェクタの表示品質が低下してしまうおそれがある。   However, when a liquid crystal device including such an organic alignment film is employed as a light modulation unit of a projector, the alignment film may be gradually decomposed by strong light or heat emitted from a light source. Then, after a long period of use, there is a risk that the liquid crystal molecule alignment control function will be degraded, such as the liquid crystal molecules being unable to align at the desired pretilt angle, and the display quality of the liquid crystal projector will be degraded.

そこで、耐光性および耐熱性に優れた無機材料からなる配向膜の使用が提案されており、このような無機配向膜の製造方法としては、例えば斜方蒸着法による酸化珪素(SiO)膜の成膜が知られている。
ところで、一般に液晶装置では、吸湿や水分の浸入が品質低下の原因となることから、配向膜の表面に撥水処理を施し、耐湿性を高めるといったことが考えられる(例えば、特許文献1参照)。
特開2002−202509号公報
Therefore, the use of an alignment film made of an inorganic material having excellent light resistance and heat resistance has been proposed. As a method for producing such an inorganic alignment film, for example, a silicon oxide (SiO 2 ) film formed by oblique deposition is used. Film formation is known.
By the way, in general, in a liquid crystal device, moisture absorption and moisture permeation cause deterioration in quality. Therefore, it is conceivable that the surface of the alignment film is subjected to water repellent treatment to improve moisture resistance (see, for example, Patent Document 1). .
JP 2002-202509 A

しかしながら、斜方蒸着法などによって形成された無機配向膜は、その表層部に小さな間隙を多く形成した構造となるため、特に分子量が大きい撥水処理剤で撥水処理を行った場合には、この撥水処理剤が前記の小さな間隙内にまで入り込めず、またはこれを良好に覆うことができなくなり、したがって配向膜の耐湿性向上効果が十分に得られなくなってしまう。   However, the inorganic alignment film formed by the oblique deposition method or the like has a structure in which many small gaps are formed in the surface layer portion thereof, and particularly when the water repellent treatment is performed with a water repellent treatment agent having a large molecular weight, This water repellent agent cannot penetrate into the small gaps or cannot be covered well, so that the effect of improving the moisture resistance of the alignment film cannot be obtained sufficiently.

本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、吸湿に起因する品質低下を防止した液晶装置とその製造方法、さらにはこれを用いた電子機器を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal device that prevents deterioration in quality due to moisture absorption, a manufacturing method thereof, and an electronic device using the same. .

本発明の液晶装置は、互いに対向する一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶装置であって、
前記一対の基板のそれぞれの内面に無機配向膜が設けられ、
前記無機配向膜が、異なる分子量の複数の撥水性有機材料により、撥水化処理されていることを特徴としている。
The liquid crystal device of the present invention is a liquid crystal device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates facing each other,
An inorganic alignment film is provided on each inner surface of the pair of substrates;
The inorganic alignment film is water repellent treated with a plurality of water repellent organic materials having different molecular weights.

この液晶装置によれば、無機配向膜が、異なる分子量の複数の撥水性有機材料によって撥水化処理されているので、大きな分子量の撥水性有機材料によって主に無機配向膜の表面が撥水化され、小さな分子量の撥水性有機材料によって主に無機配向膜表層部の間隙内が撥水化されるようになる。したがって、無機配向膜の表層部のほぼ全体が撥水化されることにより、耐湿性向上が十分に図られたものとなり、これによって吸湿に起因する品質低下が確実に防止されたものとなる。   According to this liquid crystal device, since the inorganic alignment film is subjected to water repellency treatment with a plurality of water repellent organic materials having different molecular weights, the surface of the inorganic alignment film is mainly made water repellent with a large molecular weight water repellent organic material. The water repellent organic material having a small molecular weight mainly makes the inside of the gap between the surface layers of the inorganic alignment film water repellent. Therefore, almost all of the surface layer portion of the inorganic alignment film is made water-repellent, so that the moisture resistance is sufficiently improved, and the deterioration due to moisture absorption is surely prevented.

また、前記液晶装置においては、前記無機配向膜が珪素酸化物からなり、前記複数の撥水性有機材料が、異なる分子量のアルコールであるのが好ましい。
このようにすれば、無機配向膜の表層部に形成される親水性のシラノール基(Si−OH)に、アルコールが反応してアルコール中のアルキル基等がシラノール基中の水素と置換する。その結果、撥水性のアルキル基等が無機配向膜の表層部に配されることにより、無機配向膜が撥水性を呈するようになる。
In the liquid crystal device, it is preferable that the inorganic alignment film is made of silicon oxide, and the plurality of water repellent organic materials are alcohols having different molecular weights.
If it does in this way, alcohol will react with the hydrophilic silanol group (Si-OH) formed in the surface layer part of an inorganic alignment film, and the alkyl group etc. in alcohol will substitute for hydrogen in a silanol group. As a result, the water-repellent alkyl group or the like is arranged on the surface layer portion of the inorganic alignment film, so that the inorganic alignment film exhibits water repellency.

本発明の液晶装置の製造方法は、互いに対向する一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶装置の製造方法であって、
前記一対の基板のそれぞれの内面に無機配向膜を形成する工程と、
前記無機配向膜を、異なる分子量の複数の撥水性有機材料によって撥水化処理する工程と、を備えたことを特徴としている。
A method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention is a method for manufacturing a liquid crystal device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates facing each other.
Forming an inorganic alignment film on each inner surface of the pair of substrates;
And a step of subjecting the inorganic alignment film to a water repellent treatment with a plurality of water repellent organic materials having different molecular weights.

この液晶装置の製造方法によれば、無機配向膜を、異なる分子量の複数の撥水性有機材料によって撥水化処理するので、大きな分子量の撥水性有機材料によって主に無機配向膜の表面を撥水化し、小さな分子量の撥水性有機材料によって主に無機配向膜表層部の間隙内を撥水化することが可能になる。したがって、無機配向膜の表層部のほぼ全体を撥水化することにより、得られる液晶装置を、耐湿性向上が十分に図られ、吸湿に起因する品質低下が確実に防止されたものにすることができる。   According to this method of manufacturing a liquid crystal device, the inorganic alignment film is subjected to a water repellency treatment with a plurality of water repellent organic materials having different molecular weights, so that the surface of the inorganic alignment film is mainly water repellent with a large molecular weight water repellent organic material. The water repellent organic material having a small molecular weight can make water repellent mainly in the gaps in the surface of the inorganic alignment film. Therefore, by making the entire surface portion of the inorganic alignment film water repellent, the resulting liquid crystal device is sufficiently improved in moisture resistance, and quality deterioration due to moisture absorption is reliably prevented. Can do.

また、前記液晶装置の製造方法においては、前記無機配向膜を、斜法蒸着法で形成するのが好ましい。
このようにすれば、無機配向膜によって液晶分子にプレチルト角が良好に付与されるようになり、また、無機配向膜に対してラビング処理等を行う必要もなくなる。
Moreover, in the manufacturing method of the liquid crystal device, it is preferable that the inorganic alignment film is formed by an oblique deposition method.
In this way, the pre-tilt angle is favorably imparted to the liquid crystal molecules by the inorganic alignment film, and it is not necessary to perform a rubbing treatment or the like on the inorganic alignment film.

また、前記液晶装置の製造方法においては、前記無機配向膜が珪素酸化物からなり、前記複数の撥水性有機材料が、異なる分子量のアルコールであるのが好ましい。
このようにすれば、無機配向膜の表層部に形成される親水性のシラノール基(Si−OH)に、アルコールが反応してアルコール中のアルキル基等がシラノール基中の水素と置換する。その結果、撥水性のアルキル基等が無機配向膜の表層部に配されることにより、無機配向膜が撥水性を呈するようになる。
In the method for manufacturing a liquid crystal device, it is preferable that the inorganic alignment film is made of silicon oxide, and the plurality of water repellent organic materials are alcohols having different molecular weights.
If it does in this way, alcohol will react with the hydrophilic silanol group (Si-OH) formed in the surface layer part of an inorganic alignment film, and the alkyl group etc. in alcohol will substitute for hydrogen in a silanol group. As a result, the water-repellent alkyl group or the like is arranged on the surface layer portion of the inorganic alignment film, so that the inorganic alignment film exhibits water repellency.

また、前記液晶装置の製造方法においては、前記撥水化処理する工程において、分子量の大きい撥水性有機材料で先に撥水化処理を行い、その後、分子量の小さい撥水性有機材料で撥水化処理を行うのが好ましい。
このようにすれば、大きな分子量の撥水性有機材料によって主に無機配向膜の表面を撥水化することができる。その際、分子量が大きいことで、この撥水性有機材料によって無機配向膜表層部の間隙内までは撥水化し難いものの、その後、小さな分子量の撥水性有機材料によって撥水化するので、無機配向膜表層部の間隙内を撥水化することが可能になる。したがって、無機配向膜の表層部のほぼ全体を良好に撥水化することが可能になる。
In the liquid crystal device manufacturing method, in the water repellent treatment step, the water repellent treatment is first performed with a water repellent organic material having a large molecular weight, and then the water repellent treatment is performed with a water repellent organic material having a small molecular weight. It is preferable to carry out the treatment.
In this way, the surface of the inorganic alignment film can be made water repellent mainly by the water repellent organic material having a large molecular weight. At that time, because of the large molecular weight, it is difficult to make the water repellent within the gaps of the surface of the inorganic alignment film by this water repellent organic material, but then the water repellent by the water repellent organic material having a small molecular weight. It becomes possible to make the inside of the gap in the surface layer water repellent. Therefore, it becomes possible to make the entire surface layer portion of the inorganic alignment film water repellent satisfactorily.

本発明の電子機器は、前記の液晶装置、あるいは前記の製造方法によって得られた液晶装置を備えることを特徴としている。
この電子機器によれば、吸湿に起因する品質低下が確実に防止された液晶装置を備えているので、この電子機器自体も吸湿に起因する品質低下が防止されたものとなる。
An electronic apparatus according to the present invention includes the liquid crystal device or the liquid crystal device obtained by the manufacturing method.
According to this electronic apparatus, since the liquid crystal device in which the deterioration due to moisture absorption is reliably prevented is provided, the electronic apparatus itself is also prevented from being deteriorated in quality due to moisture absorption.

以下、本発明を詳しく説明する。まず、本発明における液晶装置の一実施形態について、図面を参照して説明する。図1は、本発明の一実施形態となる液晶装置60の概略構成を説明するための、TFTアレイ基板の平面図、図2は、液晶装置60の等価回路図、図3は、液晶装置の平面構造の説明図、図4は、液晶装置の断面構造の説明図であり、図3のA−A’線における矢視側断面図である。   The present invention will be described in detail below. First, an embodiment of a liquid crystal device according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view of a TFT array substrate for explaining a schematic configuration of a liquid crystal device 60 according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of the liquid crystal device 60, and FIG. FIG. 4 is an explanatory view of a planar structure, and FIG. 4 is an explanatory view of a cross-sectional structure of the liquid crystal device, and is a cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG.

図4に示すように本実施形態の液晶装置60は、互いに対向する一対の基板10、20間に液晶50を挟持してなるもので、一対の基板10、20の内面に無機配向膜16、22が設けられたものである。そして、特にこれら無機配向膜16、22が、異なる分子量の複数の撥水性有機材料により、撥水化処理されたものとなっている。   As shown in FIG. 4, the liquid crystal device 60 of the present embodiment has a liquid crystal 50 sandwiched between a pair of substrates 10 and 20 facing each other, and the inorganic alignment film 16 and the inner surfaces of the pair of substrates 10 and 20. 22 is provided. In particular, these inorganic alignment films 16 and 22 have been subjected to a water repellent treatment with a plurality of water repellent organic materials having different molecular weights.

この液晶装置60の概略構成を説明すると、図1に示すように一対の基板10、20のうちの一方であるTFTアレイ基板(基板)10の中央には、画像作製領域101が形成されている。この画像作製領域101の周縁部にはシール材19が配設されており、これによって画像作製領域101には液晶50(図4参照)が封止されている。この液晶50は、TFTアレイ基板10上に液晶が直接塗布されて形成されたもので、シール材19には液晶の注入口が設けられていない、いわゆる封口レス構造となっている。このシール材19の外側には、後述する走査線に走査信号を供給する走査線駆動素子110と、後述するデータ線に画像信号を供給するデータ線駆動素子120とが実装されている。その駆動素子110、120から、TFTアレイ基板10の端部の接続端子79にかけて、配線76が引き廻されている。   The schematic configuration of the liquid crystal device 60 will be described. As shown in FIG. 1, an image production region 101 is formed in the center of a TFT array substrate (substrate) 10 that is one of a pair of substrates 10 and 20. . A sealing material 19 is disposed on the peripheral edge of the image production region 101, and thereby the liquid crystal 50 (see FIG. 4) is sealed in the image production region 101. The liquid crystal 50 is formed by directly applying liquid crystal on the TFT array substrate 10, and has a so-called sealing-less structure in which the sealing material 19 is not provided with a liquid crystal inlet. A scanning line driving element 110 that supplies a scanning signal to a scanning line, which will be described later, and a data line driving element 120, which supplies an image signal to a data line, which will be described later, are mounted outside the sealing material 19. A wiring 76 is routed from the driving elements 110 and 120 to the connection terminal 79 at the end of the TFT array substrate 10.

一方、TFTアレイ基板10に貼り合わされる対向基板20(図4参照)には、共通電極21(図4参照)が形成されている。この共通電極21は、画像作製領域101のほぼ全域に形成されたもので、その四隅には基板間導通部70が設けられている。この基板間導通部70からは、接続端子79にかけて配線78が引き廻されている。
そして、外部から入力された各種信号が、接続端子79を介して画像作製領域101に供給されることにより、液晶装置が駆動されるようになっている。
On the other hand, a common electrode 21 (see FIG. 4) is formed on the counter substrate 20 (see FIG. 4) bonded to the TFT array substrate 10. The common electrode 21 is formed over almost the entire image forming region 101, and inter-substrate conducting portions 70 are provided at the four corners. A wiring 78 is routed from the inter-substrate conduction portion 70 to the connection terminal 79.
Then, various signals input from the outside are supplied to the image production region 101 via the connection terminals 79, so that the liquid crystal device is driven.

液晶装置の前記画像作製領域101には、図2の等価回路図に示すように、これを構成すべく複数のドットがマトリクス状に配置されており、これら各ドットには、それぞれ画素電極9が形成されている。また、その画素電極9の側方には、該画素電極9への通電制御を行うためのスイッチング素子であるTFT素子30が形成されている。このTFT素子30のソースにはデータ線6aが接続されている。各データ線6aには、前述したデータ線駆動素子から画像信号S1、S2、…、Snが供給されるようになっている。   In the image production area 101 of the liquid crystal device, as shown in the equivalent circuit diagram of FIG. 2, a plurality of dots are arranged in a matrix to constitute this, and each of these dots has a pixel electrode 9. Is formed. Further, on the side of the pixel electrode 9, a TFT element 30 which is a switching element for performing energization control to the pixel electrode 9 is formed. A data line 6 a is connected to the source of the TFT element 30. Image signals S1, S2,..., Sn are supplied to the data lines 6a from the data line driving elements described above.

また、TFT素子30のゲートには走査線3aが接続されている。走査線3aには、前述した走査線駆動素子から所定のタイミングでパルス的に走査信号G1、G2、…、Gmが供給される。一方、TFT素子30のドレインには画素電極9が接続されている。そして、走査線3aから供給された走査信号G1、G2、…、Gmにより、スイッチング素子であるTFT素子30を一定期間だけオンにすると、データ線6aから供給された画像信号S1、S2、…、Snが、画素電極9を介して各ドットの液晶に所定のタイミングで書き込まれるようになっている。   A scanning line 3 a is connected to the gate of the TFT element 30. Scanning signals G1, G2,..., Gm are supplied to the scanning line 3a in a pulsed manner from the scanning line driving element described above at a predetermined timing. On the other hand, the pixel electrode 9 is connected to the drain of the TFT element 30. When the TFT elements 30 serving as switching elements are turned on for a certain period by the scanning signals G1, G2,..., Gm supplied from the scanning line 3a, the image signals S1, S2,. Sn is written to the liquid crystal of each dot via the pixel electrode 9 at a predetermined timing.

液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号S1、S2、…、Snは、画素電極9と後述する共通電極との間に形成される液晶容量で一定期間保持される。なお、保持された画像信号S1、S2、…、Snがリークするのを防止するため、画素電極9と容量線3bとの間に蓄積容量17が形成され、液晶容量と並列に配置されている。このように、液晶に電圧信号が印加されると、印加された電圧レベルにより液晶分子の配向状態が変化する。これにより、液晶に入射した光源光が変調されて、画像光が作製されるようになっている。   The predetermined level image signals S1, S2,..., Sn written in the liquid crystal are held for a certain period by a liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 9 and a common electrode described later. In order to prevent leakage of the held image signals S1, S2,..., Sn, a storage capacitor 17 is formed between the pixel electrode 9 and the capacitor line 3b, and is arranged in parallel with the liquid crystal capacitor. . Thus, when a voltage signal is applied to the liquid crystal, the alignment state of the liquid crystal molecules changes depending on the applied voltage level. Thereby, the light source light incident on the liquid crystal is modulated to produce image light.

また、本実施形態の液晶装置では、図3の平面構造説明図に示すように、TFTアレイ基板上に、インジウム錫酸化物(Indium Tin Oxide、以下ITOという)等の透明導電性材料からなる矩形状の画素電極9(破線9aによりその輪郭を示す)が、マトリクス状に配列形成されている。さらに、画素電極9の縦横の境界に沿って、データ線6a、走査線3aおよび容量線3bが設けられている。本実施形態では、各画素電極9の形成された矩形領域がドットであり、マトリクス状に配置されたドットごとに表示を行うことが可能な構造になっている。   In the liquid crystal device of this embodiment, as shown in the plan view of FIG. 3, a rectangular array made of a transparent conductive material such as indium tin oxide (hereinafter referred to as ITO) is formed on the TFT array substrate. Shaped pixel electrodes 9 (the outlines of which are indicated by broken lines 9a) are arranged in a matrix. Further, data lines 6 a, scanning lines 3 a, and capacitor lines 3 b are provided along the vertical and horizontal boundaries of the pixel electrode 9. In the present embodiment, the rectangular area in which each pixel electrode 9 is formed is a dot, and the display can be performed for each dot arranged in a matrix.

TFT素子30は、ポリシリコン膜等からなる半導体層1aを中心として形成されている。半導体層1aのソース領域(後述)には、コンタクトホール5を介して、データ線6aが接続されている。また、半導体層1aのドレイン領域(後述)には、コンタクトホール8を介して、画素電極9が接続されている。一方、半導体層1aにおける走査線3aとの対向部分には、チャネル領域1a’が形成されている。   The TFT element 30 is formed around a semiconductor layer 1a made of a polysilicon film or the like. A data line 6 a is connected to a source region (described later) of the semiconductor layer 1 a through a contact hole 5. Further, a pixel electrode 9 is connected to a drain region (described later) of the semiconductor layer 1 a through a contact hole 8. On the other hand, a channel region 1a 'is formed in a portion of the semiconductor layer 1a facing the scanning line 3a.

また、この液晶装置は、図4の断面構造説明図に示すように、TFTアレイ基板10と、これに対向配置された対向基板20と、これらの間に挟持された液晶50とを主体として構成されている。TFTアレイ基板10は、ガラスや石英等の透光性材料からなる基板本体10A、およびその内側に形成されたTFT素子30や画素電極9、配向膜16などを主体として構成されている。一方の対向基板20は、ガラスや石英等の透光性材料からなる基板本体20A、およびその内側に形成された共通電極21や配向膜22などを主体として構成されている。   Further, as shown in the cross-sectional structure explanatory diagram of FIG. 4, this liquid crystal device is mainly composed of a TFT array substrate 10, a counter substrate 20 disposed opposite thereto, and a liquid crystal 50 sandwiched therebetween. Has been. The TFT array substrate 10 is mainly composed of a substrate body 10A made of a translucent material such as glass or quartz, a TFT element 30, a pixel electrode 9, an alignment film 16 and the like formed inside thereof. One counter substrate 20 is mainly composed of a substrate body 20A made of a light-transmitting material such as glass or quartz, and a common electrode 21 and an alignment film 22 formed inside thereof.

TFTアレイ基板10の表面には、第1遮光膜11aおよび第1層間絶縁膜12が形成されている。そして、第1層間絶縁膜12の表面に半導体層1aが形成され、この半導体層1aを中心としてTFT素子30が形成されている。半導体層1aにおける走査線3aとの対向部分にはチャネル領域1a’が形成され、その両側にソース領域およびドレイン領域が形成されている。このTFT素子30はLDD(Lightly Doped Drain)構造を採用しているため、ソース領域およびドレイン領域に、それぞれ不純物濃度が相対的に高い高濃度領域と、相対的に低い低濃度領域(LDD領域)とが形成されている。すなわち、ソース領域には低濃度ソース領域1bと高濃度ソース領域1dとが形成され、ドレイン領域には低濃度ドレイン領域1cと高濃度ドレイン領域1eとが形成されている。   A first light shielding film 11 a and a first interlayer insulating film 12 are formed on the surface of the TFT array substrate 10. A semiconductor layer 1a is formed on the surface of the first interlayer insulating film 12, and a TFT element 30 is formed around the semiconductor layer 1a. A channel region 1a 'is formed in a portion of the semiconductor layer 1a facing the scanning line 3a, and a source region and a drain region are formed on both sides thereof. Since the TFT element 30 employs an LDD (Lightly Doped Drain) structure, a high concentration region having a relatively high impurity concentration and a low concentration region (LDD region) having a relatively low impurity concentration in the source region and the drain region, respectively. And are formed. That is, a low concentration source region 1b and a high concentration source region 1d are formed in the source region, and a low concentration drain region 1c and a high concentration drain region 1e are formed in the drain region.

半導体層1aの表面には、ゲート絶縁膜2が形成されている。そして、ゲート絶縁膜2の表面に走査線3aが形成されて、チャネル領域1a’との対向部分がゲート電極を構成している。また、ゲート絶縁膜2および走査線3aの表面には、第2層間絶縁膜4が形成されている。そして、第2層間絶縁膜4の表面にデータ線6aが形成され、第2層間絶縁膜4に形成されたコンタクトホール5を介して、そのデータ線6aが高濃度ソース領域1dに接続されている。さらに、第2層間絶縁膜4およびデータ線6aの表面には、第3層間絶縁膜7が形成されている。そして、第3層間絶縁膜7の表面に画素電極9が形成され、第2層間絶縁膜4および第3層間絶縁膜7に形成されたコンタクトホール8を介して、その画素電極9が高濃度ドレイン領域1eに接続されている。さらに、画素電極9を覆うように無機配向膜16が形成され、非選択電圧印加時における液晶分子の配向が規制されるようになっている。   A gate insulating film 2 is formed on the surface of the semiconductor layer 1a. A scanning line 3a is formed on the surface of the gate insulating film 2, and a portion facing the channel region 1a 'constitutes a gate electrode. A second interlayer insulating film 4 is formed on the surfaces of the gate insulating film 2 and the scanning line 3a. A data line 6a is formed on the surface of the second interlayer insulating film 4, and the data line 6a is connected to the high-concentration source region 1d through a contact hole 5 formed in the second interlayer insulating film 4. . Further, a third interlayer insulating film 7 is formed on the surfaces of the second interlayer insulating film 4 and the data line 6a. A pixel electrode 9 is formed on the surface of the third interlayer insulating film 7, and the pixel electrode 9 is a high-concentration drain through a contact hole 8 formed in the second interlayer insulating film 4 and the third interlayer insulating film 7. It is connected to the area 1e. Further, an inorganic alignment film 16 is formed so as to cover the pixel electrode 9, and the alignment of liquid crystal molecules when a non-selection voltage is applied is regulated.

なお、本実施形態では、半導体層1aを延設して第1蓄積容量電極1fが形成されている。また、ゲート絶縁膜2を延設して誘電体膜が形成され、その表面に容量線3bが配置されて第2蓄積容量電極が形成されている。これらにより、前述した蓄積容量17が構成されている。
また、TFT素子30の形成領域に対応する基板本体10Aの表面に、第1遮光膜11aが形成されている。第1遮光膜11aは、液晶装置に入射した光が、半導体層1aのチャネル領域1a’、低濃度ソース領域1bおよび低濃度ドレイン領域1cに侵入することを防止するものである。
In the present embodiment, the first storage capacitor electrode 1f is formed by extending the semiconductor layer 1a. Further, the gate insulating film 2 is extended to form a dielectric film, and the capacitor line 3b is disposed on the surface thereof to form a second storage capacitor electrode. Thus, the above-described storage capacitor 17 is configured.
A first light shielding film 11 a is formed on the surface of the substrate body 10 </ b> A corresponding to the formation region of the TFT element 30. The first light shielding film 11a prevents light incident on the liquid crystal device from entering the channel region 1a ′, the low concentration source region 1b, and the low concentration drain region 1c of the semiconductor layer 1a.

一方、対向基板20における基板本体20Aの表面には、第2遮光膜23が形成されている。第2遮光膜23は、液晶装置に入射した光が半導体層1aのチャネル領域1a’や低濃度ソース領域1b、低濃度ドレイン領域1c等に侵入するのを防止するものであり、平面視において半導体層1aと重なる領域に設けられている。また対向基板20の表面には、ほぼ全面にわたってITO等の導電体からなる共通電極21が形成されている。さらに、共通電極21の表面には無機配向膜22が形成され、非選択電圧印加時における液晶分子の配向が規制されるようになっている。   On the other hand, a second light shielding film 23 is formed on the surface of the substrate body 20A in the counter substrate 20. The second light shielding film 23 prevents light incident on the liquid crystal device from entering the channel region 1a ′, the low concentration source region 1b, the low concentration drain region 1c, and the like of the semiconductor layer 1a. It is provided in a region overlapping with the layer 1a. A common electrode 21 made of a conductor such as ITO is formed on the surface of the counter substrate 20 over substantially the entire surface. Furthermore, an inorganic alignment film 22 is formed on the surface of the common electrode 21 so that the alignment of liquid crystal molecules when a non-selection voltage is applied is regulated.

ここで、TFTアレイ基板10側の無機配向膜16、及び対向基板20側の無機配向膜22は、共に本発明の特徴的な構成要素となっている。すなわち、本発明においてこれら無機配向膜16、22は、前述したように異なる分子量の複数の撥水性有機材料によって撥水化処理されたものとなっている。   Here, both the inorganic alignment film 16 on the TFT array substrate 10 side and the inorganic alignment film 22 on the counter substrate 20 side are characteristic components of the present invention. That is, in the present invention, the inorganic alignment films 16 and 22 are subjected to a water repellent treatment with a plurality of water repellent organic materials having different molecular weights as described above.

これら無機配向膜16、22は、SiOやSiO等の珪素酸化物、またはAl、ZnO、MgOやITO等の金属酸化物等により、厚さ0.02〜0.3μm(好ましくは、0.02〜0.08μm)程度に形成されたものである。また、無機配向膜16、22の製造には、イオンビームスパッタ法やマグネトロンスパッタ法等のスパッタ法、蒸着法、ゾルゲル法、自己組織化法などが採用可能である。本実施形態では、無機配向膜16、22はいずれもSiOを主とする珪素酸化物からなり、従来公知の斜法蒸着法で形成されたものとなっている。 These inorganic alignment films 16 and 22 are made of a silicon oxide such as SiO 2 or SiO, or a metal oxide such as Al 2 O 3 , ZnO, MgO or ITO, and the like in a thickness of 0.02 to 0.3 μm (preferably , 0.02 to 0.08 μm). In addition, for the production of the inorganic alignment films 16 and 22, a sputtering method such as an ion beam sputtering method or a magnetron sputtering method, a vapor deposition method, a sol-gel method, or a self-organization method can be employed. In the present embodiment, the inorganic alignment films 16 and 22 are both made of silicon oxide mainly composed of SiO 2 and formed by a conventionally known oblique deposition method.

図5(a)は、斜方蒸着法による成膜を行う成膜装置の一例としての、蒸着装置503である。この蒸着装置503には、無機配向膜材料の蒸気流を発生させる蒸着源512と、無機配向膜形成前の前記TFTアレイ基板10、あるいは無機配向膜形成前の前記対向20(以下、単に基板10(20)と記す)を保持する保持機構514とが備えられている。この蒸着装置503において基板10(20)は、蒸着源512と基板10(20)の基板面重心位置とを結ぶ基準線X1と、基板10(20)の被成膜面と垂直に交わる直線X2とのなす角θ0が、所定値となるように、保持機構514によって保持されている。したがって、図5(a)、(b)において矢印Y1によって示される、蒸着源512で発生された無機材料の進行方向、すなわち無機材料が飛ぶ方向と、基板10(20)において配向膜が形成される基板面(被成膜面)とのなす角度θ1は、角度θ0を変化させることによって調整可能となっている。なお、この角度θ1は、配向膜16(22)において配向制御を行うための表面形状効果が得られるように、後述する柱状構造物を基板面上に配列させるための所定値に設定されている。ただし、本実施形態では斜方蒸着を行うことから、角度θ1は90°未満となっている。   FIG. 5A illustrates a vapor deposition apparatus 503 as an example of a film formation apparatus that performs film formation by oblique vapor deposition. The vapor deposition apparatus 503 includes a vapor deposition source 512 that generates a vapor flow of the inorganic alignment film material, the TFT array substrate 10 before forming the inorganic alignment film, or the counter 20 (hereinafter simply referred to as the substrate 10) before forming the inorganic alignment film. And a holding mechanism 514 for holding (denoted (20)). In this vapor deposition apparatus 503, the substrate 10 (20) has a reference line X 1 connecting the vapor deposition source 512 and the position of the center of gravity of the substrate surface of the substrate 10 (20), and a straight line X 2 perpendicular to the film formation surface of the substrate 10 (20). Is held by the holding mechanism 514 so that the angle θ0 formed by Therefore, an alignment film is formed on the substrate 10 (20) and the traveling direction of the inorganic material generated by the vapor deposition source 512, that is, the direction in which the inorganic material flies, as indicated by the arrow Y1 in FIGS. The angle θ1 formed with the substrate surface (deposition surface) to be adjusted can be adjusted by changing the angle θ0. The angle θ1 is set to a predetermined value for arranging columnar structures to be described later on the substrate surface so as to obtain a surface shape effect for performing alignment control in the alignment film 16 (22). . However, in this embodiment, since oblique deposition is performed, the angle θ1 is less than 90 °.

このような蒸着装置によって斜方蒸着を行うと、図5(b)中矢印で示すように、蒸着源512から昇華した配向膜材料が基板10(20)に対して略一定の入射角度(傾斜角度)で連続入射する。すると、基板10(20)には図6(a)に示すように配向膜材料が斜め柱状に堆積し、これによって無機材料(珪素酸化物)の柱状構造体16a(22a)が形成される。そして、この柱状構造体16a(22a)が基板10(20)の表面に無数に形成されたことにより、無機配向膜16(22)が形成される。このように柱状構造体16a(22a)が所定の傾斜角度で形成され、これによって無機配向膜16(22)が形成されると、液晶装置60では、柱状構造体16a(22a)に沿って液晶分子が配向することにより、液晶分子にプレチルト角が付与される。すなわち、前述したように液晶分子は、非選択電圧印加時に、無機配向膜16、22によって所定方向に配向規制されるようになっているのである。   When oblique vapor deposition is performed by such a vapor deposition apparatus, as shown by an arrow in FIG. 5B, the alignment film material sublimated from the vapor deposition source 512 has a substantially constant incident angle (inclination) with respect to the substrate 10 (20). Angle). Then, as shown in FIG. 6A, the alignment film material is deposited in an oblique column shape on the substrate 10 (20), thereby forming a columnar structure 16a (22a) of an inorganic material (silicon oxide). The columnar structures 16a (22a) are formed innumerably on the surface of the substrate 10 (20), whereby the inorganic alignment film 16 (22) is formed. Thus, when the columnar structure 16a (22a) is formed at a predetermined inclination angle, and thereby the inorganic alignment film 16 (22) is formed, in the liquid crystal device 60, the liquid crystal along the columnar structure 16a (22a) is formed. By aligning the molecules, a pretilt angle is imparted to the liquid crystal molecules. That is, as described above, the alignment of liquid crystal molecules is regulated in a predetermined direction by the inorganic alignment films 16 and 22 when a non-selection voltage is applied.

また、このような斜方蒸着法で形成された無機配向膜16、22は、前述したように、異なる分子量の複数の撥水性有機材料によって撥水化処理される。使用する撥水性有機材料の数(種類)については、3以上であってもよいが、処理により得られる効果を考えた場合、分子量の異なる2種類の有機材料を用いれば十分である。使用する撥水性有機材料としては、特に限定されないものの、撥水性を有する各種の有機溶剤、例えばアルキル基やベンゼン環を有した有機溶剤が好適に用いられ、また、複数種類(2種類)の有機材料については、互いに親和性が高いもの、例えば同系統の官能基を有したものが用いられる。特に、無機配向膜16、22がSiOを主とする珪素酸化物からなる本実施形態では、複数の撥水性有機材料の全てを、アルコールとするのが好ましい。 In addition, as described above, the inorganic alignment films 16 and 22 formed by such an oblique vapor deposition method are subjected to water repellent treatment with a plurality of water repellent organic materials having different molecular weights. The number (type) of the water-repellent organic material to be used may be 3 or more, but considering the effect obtained by the treatment, it is sufficient to use two types of organic materials having different molecular weights. The water-repellent organic material to be used is not particularly limited, but various organic solvents having water repellency, for example, organic solvents having an alkyl group or a benzene ring are preferably used, and plural kinds (two kinds) of organic solvents are used. As materials, materials having high affinity with each other, for example, materials having the same functional group are used. In particular, in the present embodiment in which the inorganic alignment films 16 and 22 are made of silicon oxide mainly composed of SiO 2 , it is preferable that all of the plurality of water repellent organic materials be alcohol.

撥水性有機材料として2種類のアルコールを用いる場合、特に撥水性を呈する比較的炭素数の多いアルキル基を有したものと、これより炭素数が少なく、したがってこれより分子量が小さいものとを用いるのが好ましい。例えば、炭素数が8のオクチルアルコール(オクタノール;C17OH)と、炭素数が3のイソプロピルアルコール(イソプロパノール;(CHCHOH)とを用い、撥水化処理するのが好ましい。
また、このような分子量の異なる2種類の撥水性有機材料により、撥水処理を行うに際しては、特に、分子量の大きい撥水性有機材料で先に撥水化処理を行い、その後、分子量の小さい撥水性有機材料で撥水化処理を行うのが好ましい。
When two types of alcohol are used as the water-repellent organic material, particularly those having an alkyl group having a relatively high carbon number that exhibits water repellency and those having a smaller carbon number and therefore a smaller molecular weight are used. Is preferred. For example, it is preferable to perform a water repellency treatment using octyl alcohol having 8 carbon atoms (octanol; C 8 H 17 OH) and isopropyl alcohol having 3 carbon atoms (isopropanol; (CH 3 ) 2 CHOH).
In addition, when water repellent treatment is performed using two types of water repellent organic materials having different molecular weights, the water repellent treatment is performed first with a water repellent organic material having a large molecular weight, and then a water repellent treatment with a small molecular weight is performed. It is preferable to perform a water repellent treatment with an aqueous organic material.

すなわち、まず、分子量の大きい撥水性有機材料として、例えばオクチルアルコールを用いて珪素酸化物からなる無機配向膜16(22)を撥水化処理する。この撥水化処理としては、特に限定されないものの、気相での処理が好適に採用される。気相での処理とは、例えば密閉容器中に、前記無機配向膜16(22)を形成した基板10(20)と容器に入れたオクチルアルコールとを入れ、オクチルアルコールの蒸気を前記無機配向膜16(22)に所定時間接触させることで行う。その際、必要に応じて加熱し、密閉容器中でのオクタノール蒸気の濃度を高めるようにしてもよい。   That is, first, as the water repellent organic material having a large molecular weight, the inorganic alignment film 16 (22) made of silicon oxide is subjected to a water repellent treatment using, for example, octyl alcohol. The water repellent treatment is not particularly limited, but a gas phase treatment is preferably employed. In the gas phase treatment, for example, the substrate 10 (20) on which the inorganic alignment film 16 (22) is formed and the octyl alcohol in the container are placed in a sealed container, and the vapor of octyl alcohol is supplied to the inorganic alignment film. 16 (22) for a predetermined time. At that time, heating may be performed as necessary to increase the concentration of octanol vapor in the sealed container.

このようにして無機配向膜16(22)にオクチルアルコール蒸気を接触させると、珪素酸化物からなる無機配向膜16(22)の表層部に形成される親水性のシラノール基(Si−OH)に、オクチルアルコールが反応してオクチルアルコール中のオクチル基(C17−)がシラノール基中の水素と置換し、(Si−OC17)となる。その結果、図6(b)に示すように撥水性のオクチル基(アルキル基)Aが無機配向膜16(22)の表層部に多数配されることにより、無機配向膜16(22)が撥水性を呈するようになる。ただし、オクチル基Aは比較的分子量が大きく、立体的にも大きくなっているので、この分子量が大きい撥水性有機材料(オクチルアルコール)により、無機配向膜16(22)の表層部の間隙内、すなわち柱状構造体16a(22a)間に形成される間隙内などまで撥水化するのは困難である。 When the octyl alcohol vapor is brought into contact with the inorganic alignment film 16 (22) in this way, the hydrophilic silanol group (Si—OH) formed on the surface layer portion of the inorganic alignment film 16 (22) made of silicon oxide is formed. The octyl alcohol reacts to replace the octyl group (C 8 H 17 —) in the octyl alcohol with the hydrogen in the silanol group to give (Si—OC 8 H 17 ). As a result, as shown in FIG. 6B, a large number of water-repellent octyl groups (alkyl groups) A are arranged on the surface layer portion of the inorganic alignment film 16 (22), so that the inorganic alignment film 16 (22) is repellent. It becomes water-based. However, since the octyl group A has a relatively large molecular weight and is also sterically large, the water-repellent organic material (octyl alcohol) having a large molecular weight causes a gap in the surface layer portion of the inorganic alignment film 16 (22), That is, it is difficult to make the water repellent even in the gap formed between the columnar structures 16a (22a).

そこで、本発明では、先の撥水性有機材料とは分子量が異なる材料、特に分子量が小さい撥水性有機材料により、無機配向膜16(22)を再度撥水化処理する。すなわち、分子量の小さい撥水性有機材料として例えばイソプロピルアルコールを用い、オクチル基Aを多数配した無機配向膜16(22)を、再度撥水化処理する。この撥水化処理としては、前述したような気相での処理を採用することもでき、また、液相での処理を採用することもできる。液相での処理としては、液状のイソプロピルアルコール中に、前記基板10(20)を浸漬してその無機配向膜16(22)の表層部を液状のイソプロピルアルコールに接触させる。そして、その状態で基板10(20)やイソプロピルアルコールに超音波を与え、またはこの処理室内を減圧する。   Therefore, in the present invention, the inorganic alignment film 16 (22) is again subjected to water repellency treatment using a material having a molecular weight different from that of the water-repellent organic material, particularly a water-repellent organic material having a small molecular weight. That is, for example, isopropyl alcohol is used as a water repellent organic material having a small molecular weight, and the inorganic alignment film 16 (22) in which a large number of octyl groups A are arranged is subjected to a water repellent treatment again. As this water repellency treatment, the treatment in the gas phase as described above can be adopted, and the treatment in the liquid phase can also be adopted. In the liquid phase treatment, the substrate 10 (20) is immersed in liquid isopropyl alcohol, and the surface layer portion of the inorganic alignment film 16 (22) is brought into contact with liquid isopropyl alcohol. In this state, ultrasonic waves are applied to the substrate 10 (20) and isopropyl alcohol, or the inside of the processing chamber is decompressed.

このように超音波処理や減圧処理を併せて行うことにより、イソプロピルアルコールが無機配向膜16(22)の表層部の間隙内により良好に入り込み、この間隙内のシラノール基(Si−OH)と反応してイソプロピルアルコール中のイソプロピル基((CHCH−)がシラノール基中の水素と置換し、(Si−O(CHCH)となる。その結果、図6(c)に示すように撥水性のイソプロピル基(アルキル基)Bが、主に無機配向膜16(22)表層部の間隙内に多数配されることにより、無機配向膜16(22)がより強い撥水性を呈するようになる。 By performing ultrasonic treatment and pressure reduction treatment in this manner, isopropyl alcohol enters the gap in the surface layer portion of the inorganic alignment film 16 (22) more favorably and reacts with silanol groups (Si—OH) in the gap. Then, the isopropyl group ((CH 3 ) 2 CH—) in isopropyl alcohol is replaced with hydrogen in the silanol group to form (Si—O (CH 3 ) 2 CH). As a result, as shown in FIG. 6C, a large number of water-repellent isopropyl groups (alkyl groups) B are mainly arranged in the gaps of the surface of the inorganic alignment film 16 (22), whereby the inorganic alignment film 16 (22) comes to exhibit stronger water repellency.

したがって、このようにして撥水化処理がなされた無機配向膜16(22)は、オクチル基Aによってその表層部が撥水化されているのに加え、イソプロピル基Bによって無機配向膜16(22)表層部の間隙内まで撥水化されているので、膜全体として、より耐湿性の向上が図られたものとなる。
すなわち、撥水化処理がなされる前の、図6(a)に示した状態での無機配向膜16(22)では、特にその親水性のシラノール基の存在により、図6(a)中二点鎖線で示す領域Wに水(湿気)が存在し易くなっている。よって、このように無機配向膜16、22に撥水化処理を行わないままで基板10、20等を組み立て、液晶装置を形成すると、外部から水や湿気が浸入した際、これが無機配向膜16、22の表層部に入り込み、液晶と直接接触することで液晶を劣化させ、その特性を低下させてしまうことになる。
Therefore, the inorganic alignment film 16 (22) subjected to the water repellent treatment in this way has the surface layer portion made water repellent by the octyl group A and the inorganic alignment film 16 (22 by the isopropyl group B). ) Since the water-repellent property is formed even in the gap of the surface layer portion, the moisture resistance of the entire film is further improved.
That is, in the inorganic alignment film 16 (22) in the state shown in FIG. 6A before the water repellent treatment is performed, the presence of the hydrophilic silanol group causes the two in FIG. Water (humidity) is likely to exist in the region W indicated by the dotted line. Therefore, when the substrates 10 and 20 are assembled without performing the water repellency treatment on the inorganic alignment films 16 and 22 and the liquid crystal device is formed, when the water or moisture enters from the outside, the inorganic alignment films 16 and 22 are formed. , 22 enters the surface layer portion and comes into direct contact with the liquid crystal, thereby deteriorating the liquid crystal and degrading its characteristics.

また、大きな分子量の撥水性有機材料で撥水化処理を行い、主に無機配向膜16(22)の表層部を撥水化することにより、無機配向膜16、22の表層部において水(湿気)が存在し易い領域を、図6(b)中二点鎖線で示すように、オクチル基Aが配されていない領域にまで狭くすることができる。しかしながら、このようにしても、特に無機配向膜16(22)の間隙内まではオクチル基Aが配されないことから、依然として水(湿気)が存在し易い領域Wが比較的広く残っている。したがって、この状態で基板10、20等を組み立て、液晶装置を形成すると、外部から水や湿気が浸入した際、やはりこれが無機配向膜16、22の表層部に入り込み、液晶と直接接触することで液晶の特性を低下させてしまうおそれがある。   Further, water repellent treatment is performed with a water-repellent organic material having a large molecular weight, and mainly the surface layer portion of the inorganic alignment film 16 (22) is made water repellent, so that water (moisture) is formed in the surface layer portions of the inorganic alignment films 16 and 22. ) Can easily be narrowed to a region where the octyl group A is not arranged, as indicated by a two-dot chain line in FIG. 6B. However, even in this case, since the octyl group A is not arranged especially in the gap of the inorganic alignment film 16 (22), the region W in which water (humidity) still exists remains relatively wide. Therefore, when the substrates 10 and 20 are assembled in this state and the liquid crystal device is formed, when water or moisture enters from the outside, it also enters the surface layers of the inorganic alignment films 16 and 22 and directly contacts the liquid crystal. There is a risk of deteriorating the properties of the liquid crystal.

そこで、小さな分子量の撥水性有機材料で再度撥水化処理を行い、主に無機配向膜16(22)表層部の間隙部内を撥水化することにより、無機配向膜16、22の表層部において水(湿気)が存在し易い領域Wを、図6(c)中二点鎖線で示すように、イソプロピル基Bが配されていない領域にまでさらに狭くすることができる。
このように異なる分子量の撥水性有機材料で複数回の撥水化処理を行った後、基板10、20等を組み立てて本発明の液晶装置とすることにより、この液晶装置60は、外部から水や湿気が浸入しようとしても、これが撥水化された無機配向膜16、22の表層部に入り込み難いことから、結果として無機配向膜16、22の表層部に水や湿気がほとんど浸入しないものとなる。
Therefore, the water repellent treatment is again performed with a water repellent organic material having a small molecular weight, and the surface layer portion of the inorganic alignment films 16 and 22 is mainly made water repellent in the gap portion of the surface layer portion of the inorganic alignment film 16 (22). The region W where water (humidity) tends to exist can be further narrowed to a region where the isopropyl group B is not arranged as shown by a two-dot chain line in FIG.
After the water repellent treatment is performed a plurality of times with the water repellent organic materials having different molecular weights, the substrates 10 and 20 are assembled to form the liquid crystal device of the present invention. Even if moisture or moisture tries to enter, it is difficult for the water to enter the surface layer portions of the inorganic alignment films 16 and 22 that have been made water-repellent. As a result, water and moisture hardly enter the surface layer portions of the inorganic alignment films 16 and 22. Become.

図4に示したように本実施形態の液晶装置60には、前述したような撥水化処理を行った無機配向膜16(22)を有するTFTアレイ基板10と対向基板20との間に、ネマチック液晶等からなる液晶50が挟持され、シール材19(図1参照)によって封止されている。ネマチック液晶分子は、正の誘電率異方性を有するものであり、非選択電圧印加時には基板に沿って水平配向し、選択電圧印加時には電界方向に沿って垂直配向する。また、ネマチック液晶分子は、正の屈折率異方性を有するものであり、その複屈折と液晶厚との積(リタデーション)Δndは、例えば約0.40μm(60℃)となっている。なお、TFTアレイ基板10の配向膜16による配向規制方向と、対向基板20の配向膜22による配向規制方向とは、約90°ねじれた状態に設定されている。これにより、本実施形態の液晶装置60は、ツイステッドネマチックモードで動作するようになっている。   As shown in FIG. 4, in the liquid crystal device 60 of the present embodiment, between the TFT array substrate 10 having the inorganic alignment film 16 (22) subjected to the water repellent treatment as described above and the counter substrate 20, A liquid crystal 50 made of nematic liquid crystal or the like is sandwiched and sealed with a sealing material 19 (see FIG. 1). Nematic liquid crystal molecules have a positive dielectric anisotropy, and are horizontally aligned along the substrate when a non-selection voltage is applied, and vertically aligned along the electric field direction when a selection voltage is applied. The nematic liquid crystal molecules have positive refractive index anisotropy, and the product (retardation) Δnd of the birefringence and the liquid crystal thickness is, for example, about 0.40 μm (60 ° C.). Note that the alignment regulation direction by the alignment film 16 of the TFT array substrate 10 and the alignment regulation direction by the alignment film 22 of the counter substrate 20 are set to be twisted by about 90 °. Thereby, the liquid crystal device 60 of the present embodiment operates in the twisted nematic mode.

また、両基板10、20の外側には、ポリビニルアルコール(PVA)にヨウ素をドープした材料等からなる偏光板18、28が配置されている。なお、各偏光板18、28は、サファイヤガラスや水晶等の高熱伝導率材料からなる支持基板上に装着して、液晶装置60から離間配置することが望ましい。各偏光板18、28は、その吸収軸方向の直線偏光を吸収し、透過軸方向の直線偏光を透過する機能を有する。TFTアレイ基板10側の偏光板18は、その透過軸が配向膜16の配向規制方向と略一致するように配置され、対向基板20側の偏光板28は、その透過軸が配向膜22の配向規制方向と略一致するように配置されている。   In addition, polarizing plates 18 and 28 made of a material obtained by doping polyvinyl alcohol (PVA) with iodine or the like are disposed outside the substrates 10 and 20. The polarizing plates 18 and 28 are preferably mounted on a support substrate made of a high thermal conductivity material such as sapphire glass or quartz, and are separated from the liquid crystal device 60. Each of the polarizing plates 18 and 28 has a function of absorbing linearly polarized light in the absorption axis direction and transmitting linearly polarized light in the transmission axis direction. The polarizing plate 18 on the TFT array substrate 10 side is arranged so that its transmission axis substantially coincides with the alignment regulating direction of the alignment film 16. The polarizing plate 28 on the counter substrate 20 side has its transmission axis aligned with the alignment film 22. It arrange | positions so that it may correspond with a regulation direction substantially.

液晶装置60は、対向基板20を光源側に向けて配置される。その光源光のうち偏光板28の透過軸と一致する直線偏光のみが偏光板28を透過して液晶装置60に入射する。
非選択電圧印加時の液晶装置60では、基板に対して水平配向した液晶分子が液晶50の厚さ方向に約90°ねじれたらせん状に積層配置されている。そのため、液晶装置60に入射した直線偏光は、約90°旋光されて液晶装置60から出射する。この直線偏光は、偏光板18の透過軸と一致するため、偏光板18を透過する。したがって、非選択電圧印加時の液晶装置60では白表示が行われるようになっている(ノーマリーホワイトモード)。
The liquid crystal device 60 is disposed with the counter substrate 20 facing the light source. Of the light source light, only linearly polarized light that matches the transmission axis of the polarizing plate 28 passes through the polarizing plate 28 and enters the liquid crystal device 60.
In the liquid crystal device 60 when the non-selection voltage is applied, the liquid crystal molecules horizontally aligned with respect to the substrate are arranged in a spiral manner by twisting about 90 ° in the thickness direction of the liquid crystal 50. Therefore, the linearly polarized light incident on the liquid crystal device 60 is rotated about 90 ° and emitted from the liquid crystal device 60. Since this linearly polarized light coincides with the transmission axis of the polarizing plate 18, it passes through the polarizing plate 18. Accordingly, white display is performed in the liquid crystal device 60 when the non-selection voltage is applied (normally white mode).

また、選択電圧印加時の液晶装置60では、液晶分子が基板に対して垂直配向している。そのため、液晶装置60に入射した直線偏光は、旋光されることなく液晶装置60から出射する。この直線偏光は、偏光板18の透過軸と直交するため、偏光板18を透過しない。したがって、選択電圧印加時の液晶装置60では黒表示が行われるようになっている。   Further, in the liquid crystal device 60 when the selection voltage is applied, the liquid crystal molecules are vertically aligned with respect to the substrate. Therefore, the linearly polarized light incident on the liquid crystal device 60 is emitted from the liquid crystal device 60 without being rotated. Since this linearly polarized light is orthogonal to the transmission axis of the polarizing plate 18, it does not pass through the polarizing plate 18. Accordingly, black display is performed in the liquid crystal device 60 when the selection voltage is applied.

このような構成の液晶装置60にあっては、無機配向膜16、22が、異なる分子量の撥水性有機材料で複数回(2回)撥水化処理されているので、前述したように外部から水や湿気が浸入しようとしても、これが撥水化された無機配向膜16、22の表層部に入り込み難くなり、したがって無機配向膜16、22の表層部に水や湿気がほとんど浸入しないようになる。よって、耐湿性向上が十分に図られたものとなり、吸湿に起因する品質低下が確実に防止されたものとなる。   In the liquid crystal device 60 having such a configuration, the inorganic alignment films 16 and 22 are subjected to water repellency treatment a plurality of times (twice) with water repellent organic materials having different molecular weights. Even if water or moisture tries to enter, it becomes difficult for the water or moisture to enter the surface layer portions of the inorganic alignment films 16 and 22 that have been made water-repellent, so that water and moisture hardly enter the surface layer portions of the inorganic alignment films 16 and 22. . Therefore, the moisture resistance is sufficiently improved, and quality deterioration due to moisture absorption is surely prevented.

また、このような液晶装置60の製造方法にあっても、無機配向膜16、22を、異なる分子量の複数の撥水性有機材料によって撥水化処理するので、大きな分子量の撥水性有機材料によって主に無機配向膜の表面を撥水化し、小さな分子量の撥水性有機材料によって主に無機配向膜表層部の間隙内を撥水化することができる。したがって、無機配向膜16、22の表層部のほぼ全体を撥水化することにより、得られる液晶装置60を、前述したように耐湿性向上が十分に図られ、吸湿に起因する品質低下が確実に防止されたものにすることができる。
また、このように撥水性有機材料で撥水化処理するので、例えば撥水化処理前の無機配向膜16、22に、前処理としての洗浄処理などによって不純物としての有機成分が付着していたとしても、この撥水化処理によって有機成分を除去し、清浄化することができる。
Also in such a method of manufacturing the liquid crystal device 60, the inorganic alignment films 16 and 22 are subjected to water repellency treatment using a plurality of water repellent organic materials having different molecular weights. In addition, the surface of the inorganic alignment film can be made water-repellent, and the inside of the surface of the inorganic alignment film can be made water-repellent mainly by a water-repellent organic material having a small molecular weight. Therefore, by making the entire surface layer portion of the inorganic alignment films 16 and 22 water-repellent, the obtained liquid crystal device 60 is sufficiently improved in moisture resistance as described above, and quality deterioration due to moisture absorption is surely achieved. Can be prevented.
Further, since the water repellent treatment is performed with the water repellent organic material in this way, for example, organic components as impurities are attached to the inorganic alignment films 16 and 22 before the water repellent treatment by a cleaning treatment or the like as a pretreatment. However, the organic component can be removed and cleaned by this water repellent treatment.

なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、本発明の要旨を逸脱しない限り種々の変更が可能である。例えば、前記実施形態では撥水性有機材料としてオクチルアルコールとイソプロピルアルコールとを用いたが、これ以外のアルコールを用いてもよく、さらにアルコール以外の、撥水性有機材料を用いてもよい。
また、撥水化処理に際しては、大きな分子量の撥水性有機材料で先に処理を行い、その後、小さな分子量の撥水性有機材料で処理を行うようにしたが、順番を逆にして撥水化処理を行ってもよい。
さらに、大きな分子量の撥水性有機材料での撥水化処理については、気相法で行うようにしたが、液相法で処理するようにしてもよいのはもちろんである。ただし、分子量が大きくなるに連れ、その沸点が高くなり、蒸気圧が低くなることから、気相法で処理する場合に比べ、乾燥を十分に行う必要がある。
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. For example, although octyl alcohol and isopropyl alcohol are used as the water-repellent organic material in the above embodiment, other alcohols may be used, and water-repellent organic materials other than alcohol may be used.
In addition, in the water repellent treatment, the treatment was first performed with the water repellent organic material having a large molecular weight, and then the treatment was performed with the water repellent organic material having a small molecular weight. May be performed.
Further, the water repellent treatment with a water-repellent organic material having a large molecular weight is performed by the vapor phase method, but it is needless to say that the treatment may be performed by the liquid phase method. However, as the molecular weight increases, the boiling point thereof becomes higher and the vapor pressure becomes lower. Therefore, it is necessary to sufficiently dry compared with the case of processing by a gas phase method.

(プロジェクタ)
次に、本発明の電子機器の一実施形態としてのプロジェクタについて、図7を用いて説明する。図7は、プロジェクタの要部を示す概略構成図である。このプロジェクタは、前記実施形態に係る液晶装置を光変調手段として備えたものである。
(projector)
Next, a projector as an embodiment of the electronic apparatus of the invention will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing a main part of the projector. This projector includes the liquid crystal device according to the above-described embodiment as light modulation means.

図7において、810は光源、813、814はダイクロイックミラー、815、816、817は反射ミラー、818は入射レンズ、819はリレーレンズ、820は出射レンズ、822、823、824は本発明の液晶装置からなる光変調手段、825はクロスダイクロイックプリズム、826は投射レンズである。光源810は、メタルハライド等のランプ811とランプの光を反射するリフレクタ812とからなる。   7, 810 is a light source, 813 and 814 are dichroic mirrors, 815, 816 and 817 are reflection mirrors, 818 is an entrance lens, 819 is a relay lens, 820 is an exit lens, and 822, 823 and 824 are liquid crystal devices of the present invention. 825 is a cross dichroic prism, and 826 is a projection lens. The light source 810 includes a lamp 811 such as a metal halide and a reflector 812 that reflects the light of the lamp.

ダイクロイックミラー813は、光源810からの白色光に含まれる赤色光を透過させるとともに、青色光と緑色光とを反射する。透過した赤色光は反射ミラー817で反射されて、赤色光用光変調手段822に入射される。また、ダイクロイックミラー813で反射された緑色光は、ダイクロイックミラー814によって反射され、緑色光用光変調手段823に入射される。さらに、ダイクロイックミラー813で反射された青色光は、ダイクロイックミラー814を透過する。青色光に対しては、長い光路による光損失を防ぐため、入射レンズ818、リレーレンズ819および出射レンズ820を含むリレーレンズ系からなる導光手段821が設けられている。この導光手段821を介して、青色光が青色光用光変調手段824に入射される。   The dichroic mirror 813 transmits red light contained in white light from the light source 810 and reflects blue light and green light. The transmitted red light is reflected by the reflection mirror 817 and is incident on the light modulation means 822 for red light. The green light reflected by the dichroic mirror 813 is reflected by the dichroic mirror 814 and is incident on the light modulating means 823 for green light. Further, the blue light reflected by the dichroic mirror 813 passes through the dichroic mirror 814. For blue light, in order to prevent light loss due to a long optical path, a light guide means 821 including a relay lens system including an incident lens 818, a relay lens 819, and an exit lens 820 is provided. Blue light is incident on the light modulating means 824 for blue light through the light guiding means 821.

各光変調手段822、823、824により変調された3つの色光は、クロスダイクロイックプリズム825に入射する。このクロスダイクロイックプリズム825は4つの直角プリズムを貼り合わせたものであり、その界面には赤光を反射する誘電体多層膜と青光を反射する誘電体多層膜とがX字状に形成されている。これらの誘電体多層膜により3つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が形成される。合成された光は、投射光学系である投射レンズ826によってスクリーン827上に投影され、画像が拡大されて表示される。   The three color lights modulated by the respective light modulation means 822, 823, and 824 are incident on the cross dichroic prism 825. The cross dichroic prism 825 is formed by bonding four right-angle prisms. A dielectric multilayer film that reflects red light and a dielectric multilayer film that reflects blue light are formed in an X shape at the interface. Yes. These dielectric multilayer films combine the three color lights to form light representing a color image. The synthesized light is projected onto the screen 827 by the projection lens 826 which is a projection optical system, and the image is enlarged and displayed.

このような構成からなるプロジェクタは、前記の液晶装置を光変調手段として備えている。この液晶装置は、前述したように耐光性および耐熱性に優れた無機配向膜を備えているので、光源から照射される強い光や熱により配向膜が劣化することはない。また、このプロジェクタは、吸湿に起因する品質低下が確実に防止された液晶装置を備えているので、この電子機器自体も吸湿に起因する品質低下が防止されたものとなる。   The projector having such a configuration includes the liquid crystal device as a light modulation unit. Since the liquid crystal device includes the inorganic alignment film having excellent light resistance and heat resistance as described above, the alignment film is not deteriorated by strong light or heat irradiated from the light source. In addition, since the projector includes the liquid crystal device in which quality deterioration due to moisture absorption is reliably prevented, the electronic device itself is also prevented from being deteriorated in quality due to moisture absorption.

なお、本発明の技術的範囲は、前述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、前述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。例えば、前記実施形態ではスイッチング素子としてTFTを備えた液晶装置を例にして説明したが、スイッチング素子として薄膜ダイオード(Thin Film Diode)等の二端子型素子を備えた液晶装置に本発明を適用することも可能である。また、前記実施形態では透過型液晶装置を例にして説明したが、反射型液晶装置に本発明を適用することも可能である。また、前記実施形態ではTN(Twisted Nematic)モードで機能する液晶装置を例にして説明したが、VA(Vertical Alignment)モードで機能する液晶装置に本発明を適用することも可能である。また、実施形態では3板式の投射型表示装置(プロジェクタ)を例にして説明したが、単板式の投射型表示装置や直視型表示装置に本発明を適用することも可能である。   It should be noted that the technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and includes those in which various modifications are made to the above-described embodiment without departing from the gist of the present invention. For example, in the above embodiment, a liquid crystal device including a TFT as a switching element has been described as an example. However, the present invention is applied to a liquid crystal device including a two-terminal element such as a thin film diode as a switching element. It is also possible. In the above embodiment, the transmissive liquid crystal device has been described as an example. However, the present invention can also be applied to a reflective liquid crystal device. In the above embodiment, the liquid crystal device functioning in the TN (Twisted Nematic) mode has been described as an example. However, the present invention can be applied to a liquid crystal device functioning in the VA (Vertical Alignment) mode. Further, in the embodiment, the description has been given by taking a three-plate projection display device (projector) as an example, but the present invention can also be applied to a single-plate projection display device or a direct-view display device.

また、本発明の液晶装置を、プロジェクタ以外の電子機器に適用することも可能である。その具体例として、携帯電話を挙げることができる。この携帯電話は、前述した各実施形態またはその変形例に係る液晶装置を表示部に備えたものである。また、その他の電子機器としては、例えばICカード、ビデオカメラ、パーソナルコンピュータ、ヘッドマウントディスプレイ、さらに表示機能付きファックス装置、デジタルカメラのファインダ、携帯型TV、DSP装置、PDA、電子手帳、電光掲示盤、宣伝公告用ディスプレイ等が挙げられる。   The liquid crystal device of the present invention can also be applied to electronic devices other than projectors. A specific example is a mobile phone. This mobile phone includes the liquid crystal device according to each of the above-described embodiments or modifications thereof in a display unit. Other electronic devices include, for example, IC cards, video cameras, personal computers, head-mounted displays, fax machines with display functions, digital camera finders, portable TVs, DSP devices, PDAs, electronic notebooks, and electronic bulletin boards. And advertising announcement displays.

液晶装置のTFTアレイ基板の平面図である。It is a top view of the TFT array substrate of a liquid crystal device. 液晶装置の等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram of a liquid crystal device. 液晶装置の平面構造の説明図である。It is explanatory drawing of the planar structure of a liquid crystal device. 液晶装置の断面構造の説明図である。It is explanatory drawing of the cross-section of a liquid crystal device. (a)は蒸着装置の模式図、(b)は斜方蒸着の説明図である。(A) is a schematic diagram of a vapor deposition apparatus, (b) is explanatory drawing of oblique vapor deposition. (a)〜(c)は無機配向膜への撥水化処理の説明図である。(A)-(c) is explanatory drawing of the water-repellent process to an inorganic alignment film. プロジェクタの要部を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the principal part of a projector.

符号の説明Explanation of symbols

10…基板(TFTアレイ基板)、16…無機配向膜、20…基板(対向基板)、22…無機配向膜、50…液晶、60…液晶装置、A…オクチル基、B…イソプロピル基

DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Substrate (TFT array substrate), 16 ... Inorganic alignment film, 20 ... Substrate (counter substrate), 22 ... Inorganic alignment film, 50 ... Liquid crystal, 60 ... Liquid crystal device, A ... Octyl group, B ... Isopropyl group

Claims (7)

互いに対向する一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶装置であって、
前記一対の基板のそれぞれの内面に無機配向膜が設けられ、
前記無機配向膜が、異なる分子量の複数の撥水性有機材料により、撥水化処理されていることを特徴とする液晶装置。
A liquid crystal device having a liquid crystal sandwiched between a pair of substrates facing each other,
An inorganic alignment film is provided on each inner surface of the pair of substrates;
The liquid crystal device, wherein the inorganic alignment film is subjected to a water repellent treatment with a plurality of water repellent organic materials having different molecular weights.
前記無機配向膜が珪素酸化物からなり、前記複数の撥水性有機材料が、異なる分子量のアルコールであることを特徴とする請求項1記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 1, wherein the inorganic alignment film is made of silicon oxide, and the plurality of water repellent organic materials are alcohols having different molecular weights. 互いに対向する一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶装置の製造方法であって、
前記一対の基板のそれぞれの内面に無機配向膜を形成する工程と、
前記無機配向膜を、異なる分子量の複数の撥水性有機材料によって撥水化処理する工程と、を備えたことを特徴とする液晶装置の製造方法。
A method of manufacturing a liquid crystal device in which a liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates facing each other,
Forming an inorganic alignment film on each inner surface of the pair of substrates;
And a step of subjecting the inorganic alignment film to a water repellent treatment with a plurality of water repellent organic materials having different molecular weights.
前記無機配向膜を、斜法蒸着法で形成することを特徴とする請求項3記載の液晶装置の製造方法。   4. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 3, wherein the inorganic alignment film is formed by an oblique deposition method. 前記無機配向膜が珪素酸化物からなり、前記複数の撥水性有機材料が、異なる分子量のアルコールであることを特徴とする請求項3又は4記載の液晶装置。   5. The liquid crystal device according to claim 3, wherein the inorganic alignment film is made of silicon oxide, and the plurality of water repellent organic materials are alcohols having different molecular weights. 前記撥水化処理する工程において、分子量の大きい撥水性有機材料で先に撥水化処理を行い、その後、分子量の小さい撥水性有機材料で撥水化処理を行うことを特徴とする請求項3〜5のいずれか一項に記載の液晶装置。   4. The water repellent treatment is performed by first performing a water repellent treatment with a water repellent organic material having a large molecular weight, and then performing a water repellent treatment with a water repellent organic material having a low molecular weight. The liquid crystal device according to claim 1. 請求項1又は請求項2に記載の液晶装置、あるいは請求項3〜請求項6のいずれか一項に記載の製造方法によって得られた液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。

An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1 or 2, or the liquid crystal device obtained by the manufacturing method according to any one of claims 3 to 6.

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