JP2007051960A - 光パルスのタイミング雑音計測装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光パルスのタイミング雑音計測装置は高繰り返しパルス光源と光強度変調器と局部発信器と逓倍器と高速光検出器とミキサと信号解析装置からなり光源からの高繰り返し周波数の光パルスを光強度変調器において高繰り返し周波数より低い周波数の局部発振器の信号で強度変調し高次の変調サイドバンドを有する縦モード信号光を生成し高次の変調サイドバンド光と隣接する縦モード光により生成されるビート信号のうちマイクロ波帯、またはミリ波帯のビート信号を検出し高速光検出器の出力を逓倍した局部発振器の信号とともにミキサに入力し信号解析装置によりミキサから出力される中間周波信号からタイミング雑音を求める。
【選択図】図3
Description
本発明は高繰り返し光パルスのタイミング雑音計測に利用する光パルスのタイミング雑音計測装置に関する。
上記の計測においては電気的な解析装置を利用するため、高繰り返し光パルス信号の強度を、光検出器を用いて電気信号に変換する必要がある。しかしながら、光検出器や電子回路の応答速度の制限により、繰り返し周波数が100GHz以上の光パルスに適用することは困難である。
図1は光電子ハーモニックミキサの構成と各部の信号のスペクトラムを示す図である。
図1(a)は図1(c)の光電子ハーモニックミキサにおける高繰り返しパルス光源の出力スペクトル中の2本の縦モードを抜き出した図、図1(b)は図1(c)の光電子ハーモニックミキサにおける光強度変調器の出力スペクトル中の2本の縦モードを抜き出した図、 図1(c)は光電子ハーモニックミキサの構成図である。
図1(a)および図1(b)の縦軸は光信号強度、横軸は周波数を意味する。
図1(c)は、高繰り返しパルス光源1、光強度変調器2、低速光検出器3、信号解析装置5が直列接続され、光強度変調器2に局部発振器4が接続されている。
但し、図1の場合は、8次変調サイドバンドBと隣接する縦モードA間のビート信号を(A×B)を検出する例を示している。
H. Tsuchida, "Wideband phase noise measurement of mode−locked locked laser pulses by a demodulation technique", Optics Letters, vol.23, no.4, pp.286 − 288 (1998) H. Tsuchida, "Time interval analysis of laser pulse timing fluctuations", Optics Letters, vol.24, no.22, pp.1434 − 1436 (1999) H. Tsuchida, "Timing noise measurement of 160−GHz optical pulses by optoelectronic harmonic mixing", IEICE Transactions on Electronics, vol.E87−C, no.7, pp.1181 − 1185 (2004)
本発明の目的は、高次サイドバンドの振幅を増大して、高次の変調サイドバンドと隣接する縦モードにより生成されるビート信号のうち、マイクロ波帯、またはミリ波帯のビート信号を検出して、より高い周波数の光パルスのタイミング雑音の計測を可能とする光パルスのタイミング雑音計測装置を提供することにある。
(1) 高繰り返し周波数の光パルスを、前記高繰り返し周波数より低い周波数の局部発振信号で強度変調し、高次の変調サイドバンドを有する縦モード信号光を生成し、前記高次の変調サイドバンド光と隣接する縦モード光により生成されるマイクロ波帯、またはミリ波帯のビート信号を高速光検出器により検出して電気信号に変換し、前記高速光検出器の出力を低周波の中間周波信号に変換して、タイミング雑音を計測することを特徴とする。
(2) 上記(1)記載の光パルスのタイミング雑音計測装置は、高繰り返しパルス光を局部発振器信号により高次の変調サイドバンドを有するパルス光に変換し、高次の変調サイドバンドと隣接する縦モードの周波数の差を、前記高速光検出器により検出可能な程度に小さくした周波数のビート信号として出力し、前記ビート信号をミキサによりさらに低周波の中間周波信号に変換し、前記中間周波信号を解析して前記高繰り返しパルスの雑音を求めることを特徴とする。
(3) 上記(1)記載の光パルスのタイミング雑音計測装置は、高繰り返し周波数の光パルスを発生する高繰り返しパルス光源と、光強度変調器と、高速光検出器と、ミキサと、信号解析装置と、局部発振器と逓倍器とからなり、前記高繰り返しパルス光源の高繰り返しパルス光を、前記局部発振器の出力信号により駆動された光強度変調器により、高次のサイドバンドを有する縦モード信号光に変換し、高次のサイドバンドと隣接する縦モードの周波数の差を、前記光強度変調器により検出可能な程度に小さくした周波数のビート信号として出力し、前記ビートを前記高速光検出器により検出して電気信号に変換し、前記電気信号を前記局部発振器の出力信号を逓倍した信号とともに前記ミキサに入力してさらに低周波の中間周波信号に変換し、前記信号解析装置により解析して前記高繰り返しパルスの雑音を求めることを特徴とする。
図3の場合は、図3(b)に示すように、6次変調サイドバンドCと隣接する縦モードA間のビート信号(A×C)を検出する例を示している。
図3のタイミング雑音計測装置は、図1の光電子ハーモニックミキサの低速光検出器3の代わりに高速光検出器6とミキサ8を設け、局部発信器4の発信周波数を逓倍器7により逓倍してミキサ8に入力する回路を利用する。
高繰り返し光パルスを発生する光源として、衝突パルスモード同期半導体レーザー11(以下、CPM半導体レーザーと呼ぶ)を用いる。詳しくは、モード同期光ファイバレーザー9、シンセサイザー10、CPM半導体レーザー11および分散媒質12により図3の高繰り返しパルス光源1を構成する。モード同期光ファイバレーザー9は注入同期の基準光源を構成する。分散媒質12はファイバの長さを調整することにより分散値を設定する。その他の回路構成は図3の例と同じに構成する。
注入同期のマスターレーザー光源として、周波数が10.037220GHzのシンセサイザー10で駆動されるモード同期光ファイバレーザー9を用いる。モード同期光ファイバレーザー9は、持続時間がおよそ1.7ps、繰り返し周波数が10.037220GHzの光パルスを安定に発生することができる。モード同期光ファイバレーザー9から出力される光パルスを、CPM半導体レーザー11に注入することにより、注入同期が起こり、CPM半導体レーザー11はモード同期光ファイバレーザー9の16倍の繰り返し周波数である160.595520GHzの光パルスを安定に発生する。
CPM半導体レーザー11から発生する繰り返し周波数が160.595520GHzの光パルスを、繰り返し周波数が321.191040GHzの光パルスに2逓倍するため、分散媒質12による時間的なTalbot効果を利用する。分散媒質12は、群速度分散がおよそ7ps/nmの光ファイバである。分散媒質12に入力した繰り返し周波数が160.595520GHzの光パルスは、繰り返し周波数が321.191040GHzの光パルスに変換される。
高速光検出器6から出力される周波数81.191040GHzのビート信号は、ミリ波帯増幅器13により増幅した後、ミキサ8に入力される。ミキサ8の局部発振器信号として、位相同期発振器14の出力を2逓倍器15により変換した、周波数が80.000000GHzの信号を用いる。ミキサ8から、周波数1.191040GHzの中間周波信号が出力され、低周波帯増幅器16により増幅した後、ベクトル信号解析装置17を用いて、タイミング雑音の計測を行う。
分散媒質12により、繰り返し周波数が2逓倍されていることがわかる。
図中、縦軸はRF Power(高周波パワー)[dBm]、横軸はFrequency(周波数)[GHz]、RBW(分解能)=1MHZ、AVG(平均化処理)=64(データ数)、Noise Floor(背景雑音)、IF Signal(中間周波信号)を意味する。
図7において、中間周波信号(IF Signal)が背景雑音(Noise Floor)よりも大きく検出されている。このことは、本発明のタイミング雑音計測装置が有効に働いていることを表す。
周波数1.191040GHzに鋭い線スペクトルが現れており、6次変調サイドバンドと隣接する縦モードとのビート信号に相当する。測定系の背景雑音に比べて、十分に高いレベルの中間周波信号が検出できている。
図中の濃い色の線状部分a(時間に関係なく周波数変動0MHzを含む極めて狭い幅の部分からなる直線(図8中、水平線相当)状部分)は注入同期した場合の周波数変動を表し、比較的薄い色の線(図8中の前記濃い色の線状部分を除く部分)は受動モード同期の場合の周波数変動を表し、注入同期状態および受動モード同期状態の測定結果が、重ねて表示されている。
注入同期の作用により、周波数変動が著しく減少し、タイミング雑音が低減されたことを示している。
図中、縦軸(左側)はPNPSD Sφ(f)(パワースペクトル密度)[rad2/Hz]で曲線A〜Cに対応、縦軸(右側)はRMS Jitter(二乗平均ジッター)σJ[ps]で曲線D〜Fに対応、Fourier Frequency(雑音の周波数)f[Hz]である。
曲線AとDは注入同期のマスターレーザー光源に対応し、評価の基準となる特性である。曲線Bは繰り返し160.595520GHzの光パルスの雑音で、曲線Cは繰り返し321.191040GHzの光パルスの雑音を表し、曲線Cの値は曲線Bの値のほぼ4倍になっており、繰り返し周波数の2逓倍を反映している。曲線A、B、Cの形状はほぼ等しく、CPM半導体レーザー11の雑音は、注入同期のマスターレーザー光源であるモード同期光ファイバレーザー9の雑音を反映していることがわかる。
曲線D〜Fは曲線A〜Cを積分して計算されている。曲線Eと曲線Fはほとんど重なり、ほぼ同じジッター値を示しているので、正しい計測が行われていることがわかる。
フーリエ周波数が10Hz〜18.6MHzの範囲で計算したタイミングジッターは、271fs(160.595520GHz、曲線E)、311fs(321.191040GHz、曲線F)である。
以上のように本発明により、繰り返し周波数が320GHzを超える光パルスに対して、高精度のタイミング雑音計測が可能になり、実験結果により有効性が示された。
2 光強度変調器
3 低速光検出器
4 局部発振器
5 信号解析装置
6 高速光検出器
7 逓倍器
8 ミキサ
9 モード同期光ファイバレーザー
10 シンセサイザー
11 衝突パルスモード同期半導体レーザー
12 分散媒質
13 ミリ波帯増幅器
14 位相同期発振器
15 2逓倍器
16 低周波帯増幅器
17 ベクトル信号解析装置
Claims (3)
- 高繰り返し周波数の光パルスを、前記高繰り返し周波数より低い周波数の局部発振信号で強度変調し、高次の変調サイドバンドを有する縦モード信号光を生成し、縦モード光と前記高次の変調サイドバンド光と隣接する縦モード光により生成されるマイクロ波帯、またはミリ波帯のビート信号を高速光検出器により検出して電気信号に変換し、前記高速光検出器の出力を低周波の中間周波信号に変換して、タイミング雑音を計測することを特徴とする光パルスのタイミング雑音計測装置。
- 光パルスのタイミング雑音計測装置において、高繰り返しパルス光を局部発振器信号により高次の変調サイドバンドを有するパルス光に変換し、高次の変調サイドバンドと隣接する縦モードの周波数の差を、前記高速光検出器により検出可能な程度に小さくした周波数のビート信号として出力し、前記ビート信号をミキサによりさらに低周波の中間周波信号に変換し、前記中間周波信号を解析して前記高繰り返しパルスの雑音を求めることを特徴とする請求項1記載の光パルスのタイミング雑音計測装置。
- 光パルスのタイミング雑音計測装置において、高繰り返し周波数の光パルスを発生する高繰り返しパルス光源と、光強度変調器と、光検出器と、ミキサと、信号解析装置と、局部発振器と、逓倍器からなり、前記高繰り返しパルス光源の高繰り返しパルス光を、前記局部発振器の出力信号により駆動された光強度変調器により、高次のサイドバンドを有する縦モード信号光に変換し、高次のサイドバンドと隣接する縦モードとの周波数の差を、前記光検出器により検出可能な程度に小さくした周波数のビート信号として出力し、前記ビート信号を前記高速光検出器により検出して電気信号に変換し、前記電気信号を前記局部発振器の出力信号を逓倍した信号とともに前記ミキサに入力してさらに低周波の中間周波信号に変換し、前記信号解析装置により解析して前記高繰り返しパルスの雑音を求めることを特徴とする請求項1記載の光パルスのタイミング雑音計測装置。
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