JP2007042390A - Electric contact material manufacturing method and electric contact material - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electric contact material manufacturing method and an electric contact material capable of appropriately setting amount of graphite on the surface of a metal body. <P>SOLUTION: A photosensitive drum 13 is charged with electricity by a static charging mechanism 14, the photosensitive drum 13 after the static charging is rotated for a given number of times, and then, an exposure mechanism 15 irradiates light on the photosensitive drum 13 to form a latent electrostatic image on the surface of the drum 13. The photosensitive drum 13 is further rotated with a prescribed angle, a development mechanism 16 develops charged graphite particles on the photosensitive drum, and the graphite particles are adhered to the latent electrostatic image of the photosensitive drum. Next, a part with the graphite particles adhered of the photosensitive drum 13 is made rotated up to a position where it faces a sample 11, and a transfer mechanism 17 transfers the graphite particles to the sample 11 by giving reverse charge on the rear surface of the sample 11. Then, the graphite particles transferred to the sample 11 are fixed to the sample surface by a fixing mechanism 18. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば電気回路のスイッチング接点等に用いる電気接点材料製造方法及び電気接点材料に関する。   The present invention relates to an electrical contact material manufacturing method and electrical contact material used for, for example, a switching contact of an electrical circuit.

従来、電気回路のスイッチング接点等に用いる電気接点材料としては、例えば特許文献1〜3に開示されるような焼結材の銀−グラファイト合金が広く使用されている。グラファイトは、元来、溶着性が殆ど無く、化学的に極めて安定であり、非常に高い潤滑作用を有している。従って、グラファイトを含有した銀−グラファイト合金は耐摩耗性の高い部材となるため、銀−グラファイト合金を電気接点材料として用いれば、グリースやオイル等の潤滑剤を用いなくてもよいことから、銀−グラファイト合金はグリースレス摺動接点材料として使用される。   Conventionally, as an electrical contact material used for a switching contact of an electrical circuit, for example, a sintered silver-graphite alloy as disclosed in Patent Documents 1 to 3 has been widely used. Graphite originally has little weldability, is extremely chemically stable, and has a very high lubricating action. Therefore, since a silver-graphite alloy containing graphite becomes a highly wear-resistant member, if a silver-graphite alloy is used as an electrical contact material, it is not necessary to use a lubricant such as grease or oil. -Graphite alloys are used as greaseless sliding contact materials.

ここで、焼結材を用いた場合、銀には多量のグラファイトを含有することができるが、銀に対するグラファイトの含有量が多くなると電気接点材料の強度が低くなり、もろくなってしまう問題がある。従って、電気接点材料の強度的な面を考えた場合には、例えば銅等の母材に対し、グラファイトを含有した銀をメッキすることによって、グラファイト含有の電気接点材料を製造する手法がとられる。
特開2002−53919号公報 特開1996−13065号公報 特開昭63−7345号公報
Here, when a sintered material is used, silver can contain a large amount of graphite, but if the graphite content relative to silver increases, the strength of the electrical contact material decreases and becomes brittle. . Therefore, when considering the strength aspect of the electrical contact material, a method of producing an electrical contact material containing graphite by plating silver containing graphite on a base material such as copper, for example, is employed. .
JP 2002-53919 A JP-A-1996-13065 JP 63-7345 A

ところで、グラファイトを含有した電気接点材料では、例えば金属体表面上のグラファイト量があまりに多いと金属体表面に露出する金属体の量が少なくなるため、これは電気接点材料としては好ましくない。よって、グラファイトの摺動性と金属体の金属接触とにバランスを持たせる必要があり、このためには金属体表面上のグラファイト量を適量とする必要がある。しかし、グラファイト含有の電気接点材料が焼結材で製造される場合、或いはメッキで製造される場合に拘らず、グラファイト粒子を金属体表面上に適量分布させることは難しい現状があり、何らかの対応策が望まれていた。   By the way, in the electrical contact material containing graphite, for example, if the amount of graphite on the surface of the metal body is too large, the amount of the metal body exposed on the surface of the metal body is reduced, which is not preferable as the electrical contact material. Therefore, it is necessary to provide a balance between the slidability of graphite and the metal contact of the metal body. For this purpose, the amount of graphite on the surface of the metal body needs to be set to an appropriate amount. However, regardless of whether the graphite-containing electrical contact material is made of a sintered material or plated, it is difficult to distribute graphite particles on the surface of the metal body. Was desired.

本発明の目的は、金属体表面上のグラファイト量を適量に設定することができる電気接点材料製造方法及び電気接点材料を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an electrical contact material manufacturing method and an electrical contact material capable of setting an appropriate amount of graphite on the surface of a metal body.

上記問題点を解決するために、請求項1に記載の発明では、中心点回りに回転可能な感光体を帯電する手順と、前記感光体に露光する光量によって当該感光体の表面に静電潜像を形成する手順と、前記静電潜像を形成した前記感光体に、電荷を付与したグラファイト粒子を現像する手順と、前記グラファイト粒子の転写先である金属体を搬送する際に、当該金属体の裏側から逆電荷をかけることによって、前記感光体に現像された前記グラファイト粒子を前記金属体に転写する手順と、前記金属体に転写された前記グラファイト粒子を当該金属体の表面に定着する手順とを備えたことを要旨とする。   In order to solve the above-described problems, in the invention described in claim 1, an electrostatic latent image is formed on the surface of the photoconductor by the procedure of charging the photoconductor that can rotate around the center point and the amount of light that is exposed to the photoconductor. A procedure for forming an image, a procedure for developing graphite particles imparted with charge to the photoconductor on which the electrostatic latent image has been formed, and a metal body that is a transfer destination of the graphite particles, Applying a reverse charge from the back side of the body to transfer the graphite particles developed on the photoconductor to the metal body, and fixing the graphite particles transferred to the metal body on the surface of the metal body The gist is to provide a procedure.

この発明によれば、まず最初に感光体の表面を帯電し、帯電後の感光体を所定量回転させて帯電部位を光受光可能な位置に配置し、その帯電部位を露光して静電潜像を形成する。続いて、静電潜像形成後の感光体を更に所定量回転させ、静電潜像部位をグラファイト現像可能な位置に配置し、静電潜像にグラファイト粒子を現像する。そして、グラファイト現像後の感光体を更に所定量回転させ、その現像部位をグラファイト転写可能な位置に配置し、金属体の裏側から逆電荷をかけることで、感光体に現像されたグラファイトを金属体に転写する。グラファイト転写後、金属体に転写されたグラファイトを金属体に定着させる。以上の処理が感光体の回転に合わせて連続的に行われることで、金属体の表面にグラファイト粒子が散布され、それが金属体に定着した状態となる。   According to the present invention, the surface of the photosensitive member is first charged, the charged photosensitive member is rotated by a predetermined amount, the charged portion is disposed at a position where light can be received, the charged portion is exposed, and the electrostatic latent image is exposed. Form an image. Subsequently, the photosensitive member after the electrostatic latent image is formed is further rotated by a predetermined amount, the electrostatic latent image portion is disposed at a position where graphite development is possible, and the graphite particles are developed on the electrostatic latent image. Then, the photoconductor after the graphite development is further rotated by a predetermined amount, the development site is arranged at a position where the graphite can be transferred, and a reverse charge is applied from the back side of the metal body, so that the graphite developed on the photoconductor Transcript to. After the graphite transfer, the graphite transferred to the metal body is fixed to the metal body. By performing the above processing continuously in accordance with the rotation of the photoconductor, the graphite particles are dispersed on the surface of the metal body, and it is fixed to the metal body.

ところで、感光体を帯電させてそれを露光し、その感光体に粒子を現像して被転写体に転写する処理は、転写物となる粒子を被転写体に均一に散布することが可能な技術である。従って、この処理を用いてグラファイト粒子を金属体に散布すれば、グラファイト粒子をほぼ均一に金属体に散布することが可能となるため、金属体表面上のグラファイト量にバラツキが生じ難くなることから、金属体表面上のグラファイト量を適量とすることが可能となる。よって、金属体の耐摩耗性は金属体表面上のグラファイト量によって決まるため、金属体表面上のグラファイトが適量であれば、金属体(電気接点材料)が持つ耐摩耗性が好適な値に設定される。   By the way, the process of charging a photoconductor, exposing it, developing the particles on the photoconductor and transferring the particles to the transfer target is a technology that can uniformly disperse the particles to be transferred onto the transfer target. It is. Therefore, if the graphite particles are dispersed on the metal body using this treatment, the graphite particles can be dispersed almost uniformly on the metal body, so that the amount of graphite on the surface of the metal body is less likely to vary. It becomes possible to make the amount of graphite on the surface of the metal body an appropriate amount. Therefore, since the wear resistance of the metal body is determined by the amount of graphite on the surface of the metal body, if the amount of graphite on the surface of the metal body is an appropriate amount, the wear resistance of the metal body (electrical contact material) is set to a suitable value. Is done.

請求項2に記載の発明では、請求項1に記載の発明において、前記グラファイト粒子を前記金属体に定着する手順は、当該金属体に高温化処理を施して当該金属体の表面を溶融する手順であることを要旨とする。   In the invention according to claim 2, in the invention according to claim 1, the procedure for fixing the graphite particles to the metal body is a procedure for subjecting the metal body to a high temperature treatment to melt the surface of the metal body. It is a summary.

この発明によれば、請求項1に記載の発明の作用に加え、金属体に高温化処理を施すと金属体の表面が溶融するため、グラファイトの周囲は溶融した金属体で満たされる。従って、例えばただ単に金属体に引っ掛かっているだけのグラファイトが金属体に強く固定され、これによってグラファイトが金属体に定着する。よって、グラファイトが金属体から脱落し難くなり、電気接点材料の耐摩耗性が向上する。   According to this invention, in addition to the effect of the invention described in claim 1, when the metal body is subjected to a high temperature treatment, the surface of the metal body is melted, so that the periphery of the graphite is filled with the molten metal body. Therefore, for example, graphite that is simply caught on the metal body is firmly fixed to the metal body, and thereby the graphite is fixed to the metal body. Therefore, it becomes difficult for graphite to fall off from the metal body, and the wear resistance of the electrical contact material is improved.

請求項3に記載の発明では、請求項1に記載の発明において、前記グラファイト粒子を前記金属体に定着する手順は、前記金属体の表面に加圧処理を施すことで当該金属体の表面を塑性変形させる手順であることを要旨とする。   According to a third aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, the procedure for fixing the graphite particles to the metal body is performed by applying a pressure treatment to the surface of the metal body. The gist is that it is a procedure for plastic deformation.

この発明によれば、請求項1に記載の発明の作用に加え、金属体に加圧処理を施すと金属体の表面が塑性変形するため、グラファイトの周囲は塑性変形した金属体で満たされる。従って、例えばただ単に金属体に引っ掛かっているだけのグラファイトが金属体に強く固定され、これによってグラファイトが金属体に定着する。よって、グラファイトが金属体から脱落し難くなり、電気接点材料の耐摩耗性が向上する。また、金属体に加圧処理が施されると、金属体の表面が硬くなって硬度が高まるため、更なる耐摩耗性向上に効果がある。   According to the present invention, in addition to the effect of the invention of the first aspect, when the metal body is subjected to pressure treatment, the surface of the metal body is plastically deformed, so that the periphery of the graphite is filled with the plastic body. Therefore, for example, graphite that is simply caught on the metal body is firmly fixed to the metal body, and thereby the graphite is fixed to the metal body. Therefore, it becomes difficult for graphite to fall off from the metal body, and the wear resistance of the electrical contact material is improved. Further, when the metal body is subjected to pressure treatment, the surface of the metal body is hardened and the hardness is increased, which is effective in further improving wear resistance.

請求項4に記載の発明では、請求項1〜3のうちいずれか一項に記載の発明において、前記グラファイト粒子には、樹脂を材質とする絶縁皮膜がコーティングされていることを要旨とする。   The invention according to claim 4 is summarized in that, in the invention according to any one of claims 1 to 3, the graphite particles are coated with an insulating film made of a resin.

この発明によれば、請求項1〜3のうちいずれか一項に記載の発明の作用に加え、グラファイト粒子に絶縁皮膜をコーティングすれば、絶縁皮膜には帯電し易い性質があるため、グラファイト粒子の帯電性がよくなる。従って、グラファイトが感光体に取り付き易くなり、グラファイトの均一分散効果が一層高まる。   According to this invention, in addition to the action of the invention according to any one of claims 1 to 3, the graphite particles are easily charged when the graphite particles are coated with an insulating film. The charging property is improved. Therefore, the graphite can be easily attached to the photoreceptor, and the effect of uniformly dispersing the graphite is further enhanced.

請求項5に記載の発明では、請求項1〜4のうちいずれか一項に記載の発明において、母材の表面の一部又は全体にグラファイト含有の金属メッキを形成することで前記金属体を形成し、当該金属メッキの表面に前記グラファイトが転写されることを要旨とする。   The invention according to claim 5 is the invention according to any one of claims 1 to 4, wherein the metal body is formed by forming a graphite-containing metal plating on a part of or the entire surface of the base material. The gist is that the graphite is transferred to the surface of the metal plating.

この発明によれば、請求項1〜4のうちいずれか一項に記載の発明の作用に加え、例えばグラファイトを増量する処理を施したとしても、グラファイトは金属メッキ内でその量が増えることになるため、母材の材質成分はそのままであることから、母材の強度が低下するようなことはなく、その母材を基材とした電気接点材料の強度が充分に確保される。   According to this invention, in addition to the action of the invention according to any one of claims 1 to 4, for example, even if a treatment for increasing the amount of graphite is performed, the amount of graphite increases in the metal plating. Therefore, since the material component of the base material remains as it is, the strength of the base material does not decrease, and the strength of the electrical contact material using the base material as a base material is sufficiently ensured.

請求項6に記載の発明では、母材の表面の一部又は全体に金属メッキを形成し、グラファイトを固めた棒材を、前記金属メッキの表面の粗い部分に擦り付けることで、前記グラファイトを前記金属メッキの表面に定着させることを要旨とする。   In the invention according to claim 6, the metal is formed on a part or the whole of the surface of the base material, and the graphite is solidified and rubbed against a rough portion of the surface of the metal plating, thereby the graphite is The gist is to fix to the surface of the metal plating.

この発明によれば、グラファイトを固めた棒材を金属メッキの表面に擦り付けることでグラファイトを金属メッキに固定する場合、例えば棒材の擦る強さや回数を変えれば、それに応じたグラファイト量が金属メッキの表面に取り付くことになる。従って、グラファイトを固めた棒材を金属メッキに擦り付ける手法を用いれば、適量のグラファイトを簡単な作業で金属メッキに固定することが可能となる。よって、金属メッキの耐摩耗性はメッキ表面上のグラファイト量によって決まるため、メッキ表面上のグラファイトが適量であれば、金属体(電気接点材料)が持つ耐摩耗性が好適な値に設定される。   According to the present invention, when the graphite is fixed to the metal plating by rubbing the bar with the graphite hardened on the surface of the metal plating, for example, if the strength and the number of times the bar is rubbed are changed, the amount of graphite corresponding to the metal plating is changed. It will be attached to the surface. Therefore, if a method of rubbing a bar material in which graphite is hardened against metal plating, an appropriate amount of graphite can be fixed to the metal plating by a simple operation. Therefore, since the wear resistance of the metal plating is determined by the amount of graphite on the plating surface, if the amount of graphite on the plating surface is an appropriate amount, the wear resistance of the metal body (electrical contact material) is set to a suitable value. .

請求項7に記載の発明では、支軸回りに回転可能な感光体ドラムを帯電し、前記感光体ドラムに露光する光量によって当該感光体ドラムの表面に静電潜像を形成し、前記静電潜像を形成した前記感光体に、電荷を付与したグラファイト粒子を現像し、前記グラファイト粒子の転写先である金属体を搬送する際に、当該金属体の裏側から逆電荷をかけることによって、前記感光体ドラムに現像された前記グラファイト粒子を前記金属体に転写し、前記金属体に転写された前記グラファイト粒子を当該金属体の表面に定着することで製造した電気接点材料であることを要旨とする。この発明によれば、請求項1と同様の作用が得られる。   According to a seventh aspect of the present invention, a photosensitive drum rotatable around a support shaft is charged, an electrostatic latent image is formed on the surface of the photosensitive drum by the amount of light exposed to the photosensitive drum, and the electrostatic By developing the charged graphite particles on the photoconductor on which the latent image has been formed and transferring the metal body to which the graphite particles are transferred, by applying a reverse charge from the back side of the metal body, It is an electrical contact material produced by transferring the graphite particles developed on a photosensitive drum to the metal body, and fixing the graphite particles transferred to the metal body on the surface of the metal body. To do. According to the present invention, an effect similar to that of the first aspect can be obtained.

請求項8に記載の発明では、母材の表面の一部又は全体に金属メッキを形成し、グラファイトを固めた棒材を、前記金属メッキの表面の粗い部分に擦り付けることで、前記グラファイトを前記金属メッキの表面に定着させることで製造した電気接点材料であることを要旨とする。この発明によれば、請求項2と同様の作用が得られる。   In the invention according to claim 8, the metal is formed on a part or the whole of the surface of the base material, and the graphite is solidified and rubbed against a rough portion of the surface of the metal plating, thereby the graphite is The gist is that the electrical contact material is manufactured by fixing on the surface of the metal plating. According to the present invention, an effect similar to that of the second aspect can be obtained.

本発明によれば、金属体表面上のグラファイト量を適量に設定することができる。   According to the present invention, the amount of graphite on the surface of the metal body can be set to an appropriate amount.

(第1実施形態)
以下、本発明を具体化した電気接点材料製造方法及び電気接点材料の第1実施形態を図1〜図13に従って説明する。
(First embodiment)
Hereinafter, a first embodiment of an electrical contact material manufacturing method and an electrical contact material embodying the present invention will be described with reference to FIGS.

(メッキ処理)
図1は、電気メッキ装置1の概略構成を示す模式構成図である。電気メッキ装置1は、メッキしたい母材2をメッキ漕3内のメッキ液4に浸した状態で、同じくメッキ液4に浸した電極(図示略)と母材2との間に直流電圧を印加して母材2に直流電流を流し、母材2の表面に金属メッキの層を形成する装置である。このとき、母材2が陰極(マイナス)、電極が陽極(プラス)となり、メッキ液4中の金属イオンが母材2に引き寄せられることによって、母材2に金属メッキが形成される。本例は、メッキ液4としてシアン化銀の溶融した溶液を用い、銅等の母材2の表面に金属メッキとして銀メッキ8(図2参照)を形成する。
(Plating treatment)
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a schematic configuration of the electroplating apparatus 1. The electroplating apparatus 1 applies a DC voltage between the base material 2 and an electrode (not shown) immersed in the plating solution 4 while the base material 2 to be plated is immersed in the plating solution 4 in the plating basket 3. In this apparatus, a direct current is passed through the base material 2 to form a metal plating layer on the surface of the base material 2. At this time, the base material 2 becomes a cathode (minus), the electrode becomes an anode (plus), and metal ions in the plating solution 4 are attracted to the base material 2, thereby forming metal plating on the base material 2. In this example, a solution in which silver cyanide is melted is used as the plating solution 4, and silver plating 8 (see FIG. 2) is formed as metal plating on the surface of the base material 2 such as copper.

母材2は、ロール状に巻かれてメッキ漕3の外部に設置されている。メッキ漕3の一対の側壁5にはその下部に通し孔5a,5bが各々貫設され、母材2はメッキに際して一方の通し孔5aからメッキ漕3内に導入され、搬送されながらメッキが施されて他方の通し孔5bからメッキ漕3の外部へ連続的に導出される。また、通し孔5a,5bから漏れ出たメッキ液4はメッキ漕3の下方にある貯留部6に溜められ、そのメッキ液4はポンプ装置7によってメッキ漕3へ汲み上げられる。なお、銀メッキ8が金属メッキに相当する。   The base material 2 is wound around a roll and installed outside the plating basket 3. Through holes 5a and 5b are respectively formed in the lower portions of the pair of side walls 5 of the plating basket 3, and the base material 2 is introduced into the plating bowl 3 from one through hole 5a during plating and plated while being conveyed. Then, it is continuously led out from the other through hole 5b to the outside of the plating rod 3. Further, the plating solution 4 leaking from the through holes 5 a and 5 b is stored in a storage portion 6 below the plating basket 3, and the plating solution 4 is pumped up to the plating basket 3 by the pump device 7. The silver plating 8 corresponds to metal plating.

(グラファイト散布処理)
図3は、電気接点材料製造装置9の概略構成を示す模式構成図である。電気接点材料製造装置9は、光を利用して感光体にグラファイトの粒子(以下、グラファイト粒子10と記す)を付着させ、銀メッキ8を形成した母材2(以下、試料11と言う)にグラファイト粒子を転写して電気接点材料12(図8(b)参照))を製造する電子写真方式の製造装置である。また、電気接点材料製造装置9は、中心点O回りに回転可能な感光ドラム13にグラファイト粒子10を付着させるドラム式を採用している。なお、感光ドラム13が感光体に相当する。
(Graphite dispersion treatment)
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a schematic configuration of the electrical contact material manufacturing apparatus 9. The electrical contact material manufacturing apparatus 9 uses light to attach graphite particles (hereinafter referred to as graphite particles 10) to a photoreceptor and forms a silver plating 8 on a base material 2 (hereinafter referred to as a sample 11). It is an electrophotographic manufacturing apparatus that manufactures the electrical contact material 12 (see FIG. 8B) by transferring graphite particles. In addition, the electrical contact material manufacturing apparatus 9 employs a drum type in which the graphite particles 10 are attached to the photosensitive drum 13 that can rotate around the center point O. The photosensitive drum 13 corresponds to a photosensitive member.

電気接点材料製造装置9は、感光ドラム13を帯電する帯電機構14と、帯電後の感光ドラム13を露光する露光機構15と、露光後の感光ドラム13にグラファイト粒子10を現像する現像機構16とを備えている。また、電気接点材料製造装置9は、感光ドラム13上のグラファイト粒子10を試料11に転写する転写機構17と、試料11に付着したグラファイト粒子10を試料11に定着させる定着機構18と、転写されなかったグラファイト粒子10を感光ドラム13から除去するクリーニング機構19とを備えている。   The electrical contact material manufacturing apparatus 9 includes a charging mechanism 14 for charging the photosensitive drum 13, an exposure mechanism 15 for exposing the charged photosensitive drum 13, and a developing mechanism 16 for developing the graphite particles 10 on the exposed photosensitive drum 13. It has. The electrical contact material manufacturing apparatus 9 is also transferred with a transfer mechanism 17 that transfers the graphite particles 10 on the photosensitive drum 13 to the sample 11, and a fixing mechanism 18 that fixes the graphite particles 10 attached to the sample 11 to the sample 11. A cleaning mechanism 19 is provided for removing the graphite particles 10 that have not been removed from the photosensitive drum 13.

帯電機構14は、例えば帯電ローラ等のチャージユニットによって感光ドラム13の表面全体を均一に帯電させる機構であり、機種によって感光ドラム13を正極又は負極に帯電させる。帯電機構14は感光ドラム13が回転する際に感光ドラム13の帯電を行い、例えば帯電機構14が負極チャージ式の場合、図4に示すように感光ドラム13の表面が負極に帯電された状態となる。   The charging mechanism 14 is a mechanism that uniformly charges the entire surface of the photosensitive drum 13 by a charging unit such as a charging roller, and charges the photosensitive drum 13 to the positive electrode or the negative electrode depending on the model. The charging mechanism 14 charges the photosensitive drum 13 when the photosensitive drum 13 rotates. For example, when the charging mechanism 14 is a negative charge type, the surface of the photosensitive drum 13 is charged to the negative electrode as shown in FIG. Become.

露光機構15は、図5に示すようにLED(Light Emitting Diode)やレーザ等の光で帯電後の感光ドラム13にグラファイト転写パターンを照射して、感光ドラム13の表面上に静電潜像20を形成する機構である。静電潜像20は、光の照射された部分の電荷がグランドに落ちることで、光の照射されていない部分に対して逆の電荷が生じた部位のことを言い、この部位にグラファイト粒子10が付着する。また、グラファイト転写パターンは試料11に転写されるグラファイト粒子の散布範囲(散布面積)に相当し、電気接点材料製造装置9の入力装置21を用いて適宜設定変更可能である。   As shown in FIG. 5, the exposure mechanism 15 irradiates a photosensitive drum 13 that has been charged with light such as an LED (Light Emitting Diode) or a laser, with a graphite transfer pattern, so that an electrostatic latent image 20 is formed on the surface of the photosensitive drum 13. It is a mechanism that forms. The electrostatic latent image 20 is a portion where a charge opposite to the portion not irradiated with light is generated due to the charge of the portion irradiated with light falling to the ground. Adheres. Further, the graphite transfer pattern corresponds to a spraying range (spreading area) of the graphite particles transferred to the sample 11 and can be appropriately changed using the input device 21 of the electrical contact material manufacturing apparatus 9.

また、露光の光量に応じて静電潜像20の帯電の強弱が変わるため、それに応じて次段の現像工程で感光ドラム13(静電潜像20)に取り付くグラファイト量が変わる。従って、入力装置21を用いて露光の光量を調整することによって、静電潜像20の帯電の強弱を変えてグラファイト粒子10の転写量、つまり転写したグラファイト粒子10の濃さを調整することが可能である。即ち、静電潜像20の帯電が強い場合にはグラファイト粒子10の転写量が多くなり、一方で静電潜像20の帯電が弱い場合にはグラファイト粒子10の転写量が少なくなる。   In addition, since the strength of the electrostatic latent image 20 changes depending on the amount of exposure light, the amount of graphite attached to the photosensitive drum 13 (electrostatic latent image 20) changes accordingly in the subsequent development process. Accordingly, by adjusting the amount of exposure light using the input device 21, the transfer amount of the graphite particles 10, that is, the density of the transferred graphite particles 10 can be adjusted by changing the strength of the electrostatic latent image 20. Is possible. That is, when the electrostatic latent image 20 is strongly charged, the transfer amount of the graphite particles 10 increases. On the other hand, when the electrostatic latent image 20 is weakly charged, the transfer amount of the graphite particles 10 decreases.

現像機構16は、例えばディベロッパーユニット等でグラファイト粒子10を攪拌しつつ、グラファイト粒子10を静電潜像20に対して逆側の極に帯電し、その帯電したグラファイト粒子10を感光ドラム13に付着させる機構である。帯電したグラファイト粒子10は静電潜像20と逆側の極(本例は負極)に帯電されているため、感光ドラム13が現像機構16を通り過ぎる際、図6に示すように感光ドラム13の静電潜像20に付着する。   The developing mechanism 16 agitates the graphite particles 10 with a developer unit or the like, for example, and charges the graphite particles 10 to the opposite side of the electrostatic latent image 20, and attaches the charged graphite particles 10 to the photosensitive drum 13. It is a mechanism to make. Since the charged graphite particles 10 are charged to the opposite side of the electrostatic latent image 20 (in this example, the negative electrode), when the photosensitive drum 13 passes through the developing mechanism 16, the photosensitive drum 13 has a structure as shown in FIG. It adheres to the electrostatic latent image 20.

現像機構16は、グラファイト粒子10の帯電の強弱を調整する帯電調整機能を有している。ここで、グラファイト粒子10にかかる帯電の強弱が変われば、現像時に感光ドラム13に取り付くグラファイト量が変化する。従って、入力装置21を用いてグラファイト粒子10の帯電の強弱を調整することによっても、グラファイト粒子10の転写量を調整することが可能である。ここでは、グラファイト粒子10の帯電が強い場合にはグラファイト粒子10の転写量が多くなり、一方でグラファイト粒子10の帯電が弱い場合にはグラファイト粒子10の転写量が少なくなる。   The developing mechanism 16 has a charge adjusting function for adjusting the strength of charging of the graphite particles 10. Here, if the charge intensity applied to the graphite particles 10 changes, the amount of graphite attached to the photosensitive drum 13 during development changes. Accordingly, it is possible to adjust the transfer amount of the graphite particles 10 by adjusting the charging strength of the graphite particles 10 using the input device 21. Here, when the charge of the graphite particles 10 is strong, the transfer amount of the graphite particles 10 increases. On the other hand, when the charge of the graphite particles 10 is weak, the transfer amount of the graphite particles 10 decreases.

転写機構17は、図7に示すようにグラファイト粒子10が付着した感光ドラム13が試料11の対向位置を通過する際、その試料11を搬送しながら試料11の裏面から逆電荷(本例は正極)をかけることによって、銀メッキ8の表面8aにグラファイト粒子10を転写する機構である。これによって、銀メッキ8の表面8aには、図8(a)に示すようにグラファイト粒子10がグラファイト転写パターンに応じた散布範囲で銀メッキ8上に散布された状態となる。なお、感光ドラム13上のグラファイト粒子10は、全てが試料11に転写されるわけではなく、一部(例えば80%程度)が試料11に転写され、残りは感光ドラム13上に残留グラファイトとして取り付いた状態となる。   As shown in FIG. 7, when the photosensitive drum 13 having the graphite particles 10 attached passes through the position opposite to the sample 11, the transfer mechanism 17 transports the sample 11 and reverse charges from the back surface of the sample 11 (in this example, the positive electrode). ) To transfer the graphite particles 10 to the surface 8a of the silver plating 8. As a result, on the surface 8a of the silver plating 8, as shown in FIG. 8A, the graphite particles 10 are dispersed on the silver plating 8 in a distribution range corresponding to the graphite transfer pattern. Note that not all of the graphite particles 10 on the photosensitive drum 13 are transferred to the sample 11, but a part (for example, about 80%) is transferred to the sample 11, and the rest is attached as residual graphite on the photosensitive drum 13. It becomes a state.

定着機構18は、試料11に転写したグラファイト粒子10を、例えば融着、融接、圧接等によって試料11(銀メッキ8)に定着させる機構である。この定着処理としては、例えば銀メッキ8の表面8aを溶融することでメッキ表面上の凹凸を埋めてグラファイトを定着する高温化処理と、銀メッキ8の表面8aに圧力を加えることで表面8aを塑性変形させてグラファイトを定着する加圧処理とがある。この種の定着処理を施せば、図8(b)に示すようにグラファイト粒子10が銀メッキ8に強く固定された状態となり、製造物である電気接点材料12からグラファイトが脱落し難くなって、耐摩耗性確保に効果がある。   The fixing mechanism 18 is a mechanism for fixing the graphite particles 10 transferred to the sample 11 to the sample 11 (silver plating 8) by, for example, fusion, fusion welding, pressure welding, or the like. As the fixing process, for example, the surface 8a of the silver plating 8 is melted to fill the unevenness on the plating surface to fix the graphite, and the surface 8a is applied to the surface 8a of the silver plating 8 by applying pressure. There is a pressure treatment in which graphite is fixed by plastic deformation. When this type of fixing treatment is performed, the graphite particles 10 are strongly fixed to the silver plating 8 as shown in FIG. 8B, and the graphite is less likely to fall off from the electrical contact material 12 as a product. Effective for ensuring wear resistance.

クリーニング機構19は、試料11に転写せずに感光ドラム13上に残留したグラファイト粒子10を除去し、次の転写準備を行う機構である。グラファイト粒子10は電気的に感光ドラム13に付着しているため、クリーニング機構19は感光ドラム13に取り付いたグラファイト粒子10の付着電荷をチャージャーや光で除去することで、そのグラファイト粒子10を感光ドラム13から離脱し易くする。残留したグラファイト粒子10の付着電荷を除去した後、クリーニング機構19はクリーナーブラシを用いて感光ドラム13に残留したグラファイト粒子10を取り除く。   The cleaning mechanism 19 is a mechanism for removing the graphite particles 10 remaining on the photosensitive drum 13 without being transferred to the sample 11 and preparing for the next transfer. Since the graphite particles 10 are electrically attached to the photosensitive drum 13, the cleaning mechanism 19 removes the attached charges of the graphite particles 10 attached to the photosensitive drum 13 with a charger or light, so that the graphite particles 10 are removed. It is easy to detach from 13. After removing the adhered charge of the remaining graphite particles 10, the cleaning mechanism 19 removes the graphite particles 10 remaining on the photosensitive drum 13 using a cleaner brush.

ところで、感光ドラム13を帯電させてそれを露光し、その感光ドラム13にグラファイト粒子10を現像して試料11に転写して定着する処理は、レーザプリンタ等に用いられていることからも分るように、グラファイト粒子10を試料11に対して均一に散布することが可能な技術である。従って、この処理を用いてグラファイト粒子10を試料11に散布すれば、試料11の表面にはグラファイト粒子10がほぼ均一に散布されることになる。このため、試料11の表面上に分散したグラファイト量にバラツキが生じ難くなり、試料11の表面上のグラファイト量を適量とすることが可能となる。また、電気接点材料12の耐摩耗性は表面上のグラファイト量によって決まることから、表面上のグラファイト量が適量であれば、電気接点材料12の耐摩耗性が摺動性と金属接触との間でバランスのとれた好適な値となる。   By the way, the process of charging the photosensitive drum 13, exposing it, developing the graphite particles 10 on the photosensitive drum 13, transferring it to the sample 11 and fixing it is also understood from the fact that it is used in a laser printer or the like. Thus, this is a technique capable of uniformly dispersing the graphite particles 10 on the sample 11. Therefore, if the graphite particles 10 are dispersed on the sample 11 using this process, the graphite particles 10 are almost uniformly dispersed on the surface of the sample 11. For this reason, it is difficult for the amount of graphite dispersed on the surface of the sample 11 to vary, and the amount of graphite on the surface of the sample 11 can be made appropriate. Further, since the wear resistance of the electrical contact material 12 is determined by the amount of graphite on the surface, if the amount of graphite on the surface is an appropriate amount, the wear resistance of the electrical contact material 12 is between the sliding property and the metal contact. It becomes a suitable value balanced.

さらに、露光工程で感光ドラム13の帯電の強弱を変更したり、現像工程でグラファイト粒子10の帯電の強弱を変更したりすれば、試料11に転写されるグラファイト量が変わることから、グラファイト粒子10の帯電強弱を設定変更することによって、試料11に散布されるグラファイト量を任意に設定することが可能である。従って、試料11に散布するグラファイト量をユーザが任意(自由)にコントロールすることが可能となり、しかもその設定量のグラファイトを均一に試料11に散布することが可能となる。   Furthermore, if the charge intensity of the photosensitive drum 13 is changed in the exposure process or the charge intensity of the graphite particles 10 is changed in the development process, the amount of graphite transferred to the sample 11 changes. It is possible to arbitrarily set the amount of graphite sprayed on the sample 11 by changing the setting of the charging intensity. Therefore, the user can arbitrarily (freely) control the amount of graphite sprayed on the sample 11, and the set amount of graphite can be evenly sprayed on the sample 11.

ここで、メッキ表面表のグラファイト量によって表面グラファイト面積比Sは適宜決まるが、図9に表面グラファイト面積比Sとその耐久回数Nとの関係をグラフで示すと、表面グラファイト面積比Sによってその電気接点材料12の耐久回数Nが決まってくる。従って、耐久回数Nはターゲットとする製品仕様に異なってくるが、充分な耐摩耗性を確保するためには、図9のグラフからも分るように耐久回数Nが100万回確保された0.45以上に表面グラファイト面積比Sを設定することが望ましい。   Here, the surface graphite area ratio S is appropriately determined depending on the amount of graphite on the plating surface table. FIG. 9 is a graph showing the relationship between the surface graphite area ratio S and the number of times of durability N. The endurance number N of the contact material 12 is determined. Accordingly, the durability number N differs depending on the target product specifications. However, in order to ensure sufficient wear resistance, the durability number N is secured 1 million times as can be seen from the graph of FIG. It is desirable to set the surface graphite area ratio S to .45 or more.

(レーザ処理)
図10は、レーザ装置22の概略構成を示す模式構成図である。定着機構18としてのレーザ装置22は、高温化処理(リフロー処理)として加工物にレーザを照射することで加工物を溶融する装置である。レーザ装置22は、電気接点材料12を密閉状態で収容する処理室23と、処理室23内に取り付けられたレーザ照射部24と、処理室23を真空(非酸化雰囲気)に減圧する真空ポンプ25とを備えている。レーザ装置22は、レーザ照射部24を所定方向に往復動させる駆動機構26と、レーザ照射部24の往復動方向と直交する方向に加工物を搬送する搬送機構27とを備えている。
(Laser processing)
FIG. 10 is a schematic configuration diagram showing a schematic configuration of the laser device 22. The laser device 22 as the fixing mechanism 18 is a device that melts a workpiece by irradiating the workpiece with a laser as a high temperature treatment (reflow treatment). The laser device 22 includes a processing chamber 23 for containing the electrical contact material 12 in a sealed state, a laser irradiation unit 24 attached in the processing chamber 23, and a vacuum pump 25 for reducing the processing chamber 23 to a vacuum (non-oxidizing atmosphere). And. The laser device 22 includes a drive mechanism 26 that reciprocates the laser irradiation unit 24 in a predetermined direction, and a conveyance mechanism 27 that conveys the workpiece in a direction orthogonal to the reciprocation direction of the laser irradiation unit 24.

続いて、レーザ装置22で電気接点材料12を溶融する手順を説明すると、レーザ処理を行う際には、メッキ処理後に所定面積の平板に切断された電気接点材料12がレーザ装置22の処理室23にセットされ、続けて処理室23の内部が真空ポンプ25によって真空状態に減圧される。なお、処理室23は必ずしも真空状態とされることに限らず、非酸化雰囲気であれば足りる。   Next, the procedure for melting the electrical contact material 12 with the laser device 22 will be described. When performing the laser processing, the electrical contact material 12 cut into a flat plate of a predetermined area after the plating processing is processed in the processing chamber 23 of the laser device 22. Then, the inside of the processing chamber 23 is depressurized to a vacuum state by the vacuum pump 25. Note that the processing chamber 23 is not necessarily in a vacuum state, and a non-oxidizing atmosphere is sufficient.

処理室23内が真空状態となった後、レーザ照射部24は駆動機構26によって往動を開始し、その往動の過程で、処理室23内にセットされた電気接点材料12にレーザを照射し、銀メッキ8の表面8aにおいて1ライン目を溶融する。ここで、銀の融点が約962℃、グラファイト粒子10の融点が約3550℃であるため、レーザ照射部24による溶融温度は、母材2の融点よりも低く、しかも銀メッキ8のみを溶融すべく約1000℃〜1500℃に設定されている。   After the inside of the processing chamber 23 is in a vacuum state, the laser irradiation unit 24 starts the forward movement by the drive mechanism 26, and in the course of the forward movement, irradiates the electric contact material 12 set in the processing chamber 23 with the laser. Then, the first line is melted on the surface 8 a of the silver plating 8. Here, since the melting point of silver is about 962 ° C. and the melting point of the graphite particles 10 is about 3550 ° C., the melting temperature by the laser irradiation unit 24 is lower than the melting point of the base material 2 and only the silver plating 8 is melted. Therefore, it is set to about 1000 ° C to 1500 ° C.

レーザ照射部24が1往動を終えると、搬送機構27が電気接点材料12を所定量搬送する。続いて、今度はレーザ照射部24が復動を開始し、その復動の過程で銀メッキ8にレーザを照射して銀メッキ8の表面8aにおいて2ライン目を溶融する。そして、レーザ照射部24が1復動を終えると、搬送機構27が電気接点材料12を所定量だけ再度搬送し、これ以降も上記と同様にレーザ照射部24によるレーザ照射と電気接点材料12の搬送とが、銀メッキ8の全ラインにレーザ照射が行われるまで繰り返し行われる。   When the laser irradiation unit 24 finishes one forward movement, the transport mechanism 27 transports the electrical contact material 12 by a predetermined amount. Subsequently, the laser irradiation unit 24 starts to move backward, and in the process of moving backward, the silver plating 8 is irradiated with laser to melt the second line on the surface 8a of the silver plating 8. When the laser irradiation unit 24 completes one backward movement, the transport mechanism 27 transports the electrical contact material 12 again by a predetermined amount, and thereafter, the laser irradiation by the laser irradiation unit 24 and the electrical contact material 12 are performed in the same manner as described above. The conveyance is repeated until laser irradiation is performed on all the lines of the silver plating 8.

従って、銀メッキ8の表面8aが溶融されるので、その溶融した銀成分がグラファイト粒子10の間にある隙間に流れ込み、図8(b)に示すように溶融した銀成分が銀メッキ8の凹凸を埋め、グラファイト粒子10の周囲が銀成分で満たされる。よって、溶融した銀成分が銀メッキ8内のグラファイト粒子10を周囲で強く固定し、グラファイト粒子10の定着性が高まる。これにより、グラファイト粒子10が銀メッキ8から脱落し難くなり、銀メッキ8(電気接点材料12)の耐摩耗性が向上する。   Therefore, since the surface 8a of the silver plating 8 is melted, the melted silver component flows into the gaps between the graphite particles 10, and the melted silver component is uneven in the silver plating 8 as shown in FIG. The graphite particles 10 are filled with a silver component. Therefore, the molten silver component strongly fixes the graphite particles 10 in the silver plating 8 around the periphery, and the fixability of the graphite particles 10 is enhanced. This makes it difficult for the graphite particles 10 to fall off the silver plating 8 and improves the wear resistance of the silver plating 8 (electrical contact material 12).

(炉による加熱処理)
図11は、炉装置28の概略構成を示す模式構成図である。銀メッキ8の表面8aを溶融する方法は、上記したレーザ処理に限らず、例えば定着機構18としての炉装置28による加熱処理でもよい。炉装置28は、加工物を炉29の中に入れて炉29の内部を高温化して加工物を溶融する装置である。炉装置28は、電気接点材料12を密封状態で収容する処理室30と、処理室30内の温度を高温化する熱源31と、処理室30を真空(非酸化雰囲気)状態とする真空ポンプ32とを備えている。
(Heat treatment by furnace)
FIG. 11 is a schematic configuration diagram showing a schematic configuration of the furnace device 28. The method of melting the surface 8a of the silver plating 8 is not limited to the laser processing described above, and may be, for example, a heat treatment using a furnace device 28 as the fixing mechanism 18. The furnace apparatus 28 is an apparatus that puts a workpiece into a furnace 29 and heats the inside of the furnace 29 to melt the workpiece. The furnace device 28 includes a processing chamber 30 that houses the electrical contact material 12 in a sealed state, a heat source 31 that raises the temperature in the processing chamber 30, and a vacuum pump 32 that places the processing chamber 30 in a vacuum (non-oxidizing atmosphere) state. And.

続いて、炉装置28で電気接点材料12を溶融する手順を説明すると、炉29による加熱処理を行う際には、メッキ処理後に所定面積の平板に切断された電気接点材料12が炉29の処理室30にセットされ、続けて処理室30の内部が真空ポンプ32によって真空状態に減圧される。なお、処理室30はレーザ処理の場合と同様に、必ずしも真空状態とされることに限らず、非酸化雰囲気であれば足りる。また、熱源31は例えば高周波加熱用熱源等の種々のものが採用される。   Next, the procedure for melting the electrical contact material 12 in the furnace device 28 will be described. When the heat treatment by the furnace 29 is performed, the electrical contact material 12 cut into a flat plate having a predetermined area after the plating process is processed in the furnace 29. Then, the inside of the processing chamber 30 is decompressed to a vacuum state by the vacuum pump 32. Note that the processing chamber 30 is not necessarily in a vacuum state as in the case of the laser processing, and a non-oxidizing atmosphere is sufficient. Various heat sources 31 such as a high-frequency heating heat source are employed.

処理室30内が真空状態となった後、熱源31に電源が投入されて処理室30の温度が高温化すると、銀メッキ8の表面8aが溶融する。ここで、炉29による加熱処理の溶融温度は、レーザ処理の場合の同様の理由から約1000℃〜1500℃に設定されている。従って、炉29を用いた場合も銀メッキ8の表面8aが溶融するため、それによってグラファイト粒子10の定着性が高まり、レーザ処理の場合と同様に銀メッキ8の耐摩耗性が向上する。   After the inside of the processing chamber 30 is in a vacuum state, when the power source is turned on to the heat source 31 and the temperature of the processing chamber 30 is increased, the surface 8a of the silver plating 8 is melted. Here, the melting temperature of the heat treatment in the furnace 29 is set to about 1000 ° C. to 1500 ° C. for the same reason in the case of the laser treatment. Accordingly, even when the furnace 29 is used, the surface 8a of the silver plating 8 is melted, whereby the fixability of the graphite particles 10 is increased, and the wear resistance of the silver plating 8 is improved as in the case of laser processing.

(加圧処理)
図12は、加圧処理装置33の概略構成を示す模式構成図である。定着機構18としての加圧処理装置33は、ローラ等で加工物を加圧することによって加工物の表面を塑性変形させる装置である。加圧処理装置33は、電気接点材料12を載置する支持台34と、回転動作が可能なローラ35と、ローラ35を所定圧で電気接点材料12に押しつけた状態でそのローラ35を所定方向(図3の矢印A方向)に移動させる駆動機構36とを備えている。
(Pressure treatment)
FIG. 12 is a schematic configuration diagram showing a schematic configuration of the pressure treatment device 33. The pressure processing device 33 as the fixing mechanism 18 is a device that plastically deforms the surface of the workpiece by pressing the workpiece with a roller or the like. The pressurizing apparatus 33 includes a support base 34 on which the electrical contact material 12 is placed, a roller 35 capable of rotating, and a roller 35 that is pressed against the electrical contact material 12 with a predetermined pressure in a predetermined direction. And a drive mechanism 36 that moves in the direction of arrow A in FIG.

続いて、加圧処理装置33で電気接点材料12を加圧して電気接点材料12の表面を塑性変形させる手順を説明すると、加圧処理を行う際には、メッキ処理後に所定面積の平板に切断された電気接点材料12が支持台34にセットされる。そして、駆動機構36がローラ35を電気接点材料12に所定圧で押しつけ、その状態で駆動機構36がローラ35を図12の矢印A1方向に移動させて、ローラ35によって銀メッキ8の表面8a全域に圧を加える。この際にローラ35が銀メッキ8の表面8aにかける圧力値(所定圧)は、銀メッキ8の表面8aが塑性変形する程度の値に設定されている。   Next, the procedure of pressurizing the electrical contact material 12 with the pressurizing apparatus 33 to plastically deform the surface of the electrical contact material 12 will be described. When performing the pressurizing process, the plate is cut into a predetermined area after plating. The made electrical contact material 12 is set on the support base 34. Then, the drive mechanism 36 presses the roller 35 against the electrical contact material 12 with a predetermined pressure, and in this state, the drive mechanism 36 moves the roller 35 in the direction of arrow A1 in FIG. Apply pressure to. At this time, the pressure value (predetermined pressure) applied to the surface 8a of the silver plating 8 by the roller 35 is set to a value such that the surface 8a of the silver plating 8 is plastically deformed.

従って、加圧処理によって銀メッキ8の表面8aを塑性変形させるので、図8(b)に示すように塑性変形した銀成分がグラファイト粒子10の周りに埋まった状態となる。よって、塑性変形した銀成分が銀メッキ8内のグラファイト粒子10を周囲で強く固定し、グラファイト粒子10の定着性が高まる。これにより、グラファイト粒子10が銀メッキ8から脱落し難くなり、銀メッキ8(電気接点材料12)の耐摩耗性が向上する。また、加圧処理で銀メッキ8内のグラファイト粒子10を定着する場合、その加圧処理によって銀メッキ8の表面硬度が高まるため、グラファイト粒子10が強固な状態で銀メッキ8に定着することになり、銀メッキ8の耐摩耗性が一層高いものとなる。   Accordingly, since the surface 8a of the silver plating 8 is plastically deformed by the pressurizing process, the plastically deformed silver component is buried around the graphite particles 10 as shown in FIG. Accordingly, the plastically deformed silver component strongly fixes the graphite particles 10 in the silver plating 8 around the periphery, and the fixability of the graphite particles 10 is enhanced. This makes it difficult for the graphite particles 10 to fall off the silver plating 8 and improves the wear resistance of the silver plating 8 (electrical contact material 12). Further, when the graphite particles 10 in the silver plating 8 are fixed by the pressure treatment, the surface hardness of the silver plating 8 is increased by the pressure treatment, so that the graphite particles 10 are firmly fixed to the silver plating 8. Thus, the wear resistance of the silver plating 8 is further increased.

(絶縁被膜コーティング処理)
図13は、グラファイト粒子10の縦断面図である。グラファイト粒子10は、その周囲に例えば絶縁皮膜37がコーティングされていてもよい。この絶縁皮膜37は例えば樹脂材等を材質とし、帯電し易い性質がある。従って、絶縁皮膜37がコーティングされたグラファイト粒子10は、現像工程の際に絶縁皮膜37が作用して帯電し易くなるため、例えば帯電せずに感光ドラム13に取り付かないグラファイト量が減り、グラファイトの均一分散に効果がある。また、定着工程で高温化処理を施せば、絶縁皮膜37が溶けて銀メッキ8に凝着するため、グラファイト粒子10の定着性が高まる。
(Insulation coating treatment)
FIG. 13 is a longitudinal sectional view of the graphite particle 10. The graphite particles 10 may be coated with, for example, an insulating film 37 around the graphite particles 10. The insulating film 37 is made of, for example, a resin material and has a property of being easily charged. Accordingly, the graphite particles 10 coated with the insulating film 37 are easily charged due to the action of the insulating film 37 during the development process. For example, the amount of graphite that is not charged and cannot be attached to the photosensitive drum 13 is reduced. Effective for uniform dispersion. Further, if the heat treatment is performed in the fixing step, the insulating film 37 melts and adheres to the silver plating 8, so that the fixability of the graphite particles 10 is improved.

第1実施形態の構成によれば、以下に記載の効果を得ることができる。
(1)転写物を均一に転写することが可能な電子写真方式を用いてグラファイト粒子10を試料11に散布するので、試料11の銀メッキ8上にはグラファイト粒子10が均一に散布する状態となることから、銀メッキ8上にバラツキのない適量のグラファイト粒子10を分布させることができる。また、電気接点材料12の耐摩耗性は表面上のグラファイト量によって決まることから、表面上のグラファイト量が適量であれば、電気接点材料12の耐摩耗性を摺動性と金属接触との間でバランスのとれた好適な値に設定することができる。
According to the configuration of the first embodiment, the following effects can be obtained.
(1) Since the graphite particles 10 are dispersed on the sample 11 using an electrophotographic system capable of uniformly transferring the transferred material, the graphite particles 10 are uniformly dispersed on the silver plating 8 of the sample 11 Therefore, an appropriate amount of graphite particles 10 without variation can be distributed on the silver plating 8. In addition, since the wear resistance of the electrical contact material 12 is determined by the amount of graphite on the surface, if the amount of graphite on the surface is an appropriate amount, the wear resistance of the electrical contact material 12 can be reduced between slidability and metal contact. Can be set to a suitable value balanced.

(2)露光工程で光量を変更したり、現像工程でグラファイト粒子10の帯電の強弱を変更したりすれば、試料11に転写されるグラファイト量が変わることから、グラファイト粒子10の帯電強弱を設定変更することによって、試料11に散布されるグラファイト量を任意に設定することができる。従って、電気接点材料12が持つ耐摩耗性の値をユーザが自由にコントロールすることができ、ターゲットとする製品仕様に合わせた様々な種類の電気接点材料12を製造することができる。   (2) The amount of graphite transferred to the sample 11 changes if the amount of light is changed in the exposure process or the charge level of the graphite particles 10 is changed in the development process. Therefore, the charge level of the graphite particles 10 is set. By changing, the amount of graphite sprayed on the sample 11 can be arbitrarily set. Therefore, the user can freely control the wear resistance value of the electrical contact material 12, and various types of electrical contact materials 12 can be manufactured according to the target product specifications.

(3)定着工程で高温化処理を用いた場合、銀メッキ8の表面8aが高温化処理によって溶融するが、その溶融した銀成分が銀メッキ8の表面8a上の凹凸を埋め、メッキ内のグラファイト粒子10が表面8a上に強く固定される。従って、多くのグラファイト粒子10が銀メッキ8に強く取り付いた状態となるため、グラファイト粒子10の銀メッキ8に対する定着性を向上することができる。よって、グラファイト粒子10の定着性が高まれば、銀メッキ8(電気接点材料12)の耐摩耗性を向上することができる。   (3) When a high temperature treatment is used in the fixing step, the surface 8a of the silver plating 8 is melted by the high temperature treatment, but the melted silver component fills the unevenness on the surface 8a of the silver plating 8 and The graphite particles 10 are strongly fixed on the surface 8a. Accordingly, since many graphite particles 10 are strongly attached to the silver plating 8, the fixability of the graphite particles 10 to the silver plating 8 can be improved. Therefore, if the fixability of the graphite particles 10 increases, the wear resistance of the silver plating 8 (electrical contact material 12) can be improved.

(4)定着工程で加圧処理を用いた場合、銀メッキ8の表面8aが加圧処理によって塑性変形するが、その際に塑性変形した銀成分がグラファイト粒子10の周りに埋まった状態となり、塑性変形した銀成分が銀メッキ8内のグラファイト粒子10を周囲で強く固定する。従って、多くのグラファイト粒子10が銀メッキ8に強く取り付いた状態となるため、グラファイト粒子10の銀メッキ8に対する定着性を向上することができる。よって、グラファイト粒子10の定着性が高まれば、銀メッキ8(電気接点材料12)の耐摩耗性を向上することができる。更に、加圧処理で銀メッキ8内のグラファイト粒子10を定着する場合、その加圧処理によって銀メッキ8の表面硬度が高まるため、グラファイト粒子10が強固な状態で銀メッキ8に定着することになり、銀メッキ8の耐摩耗性を一層高いものとすることができる。   (4) When pressure treatment is used in the fixing step, the surface 8a of the silver plating 8 is plastically deformed by the pressure treatment, but the plastically deformed silver component is buried around the graphite particles 10 at that time, The plastically deformed silver component strongly fixes the graphite particles 10 in the silver plating 8 around. Accordingly, since many graphite particles 10 are strongly attached to the silver plating 8, the fixability of the graphite particles 10 to the silver plating 8 can be improved. Therefore, if the fixability of the graphite particles 10 increases, the wear resistance of the silver plating 8 (electrical contact material 12) can be improved. Further, when the graphite particles 10 in the silver plating 8 are fixed by the pressure treatment, the surface hardness of the silver plating 8 is increased by the pressure treatment, so that the graphite particles 10 are firmly fixed on the silver plating 8. Thus, the wear resistance of the silver plating 8 can be further increased.

(5)絶縁皮膜37がコーティングされたグラファイト粒子10を用いた場合、現像工程の際に絶縁皮膜37が作用してグラファイト粒子10が帯電し易くなるため、例えば帯電せずに感光ドラム13に取り付かないグラファイト量が減り、グラファイトの均一分散に効果がある。また、定着工程で高温化処理を施せば、絶縁皮膜37が溶けて銀メッキ8に凝着するため、グラファイト粒子10の定着性を一層高めることができる。   (5) When the graphite particles 10 coated with the insulating film 37 are used, since the insulating film 37 acts and the graphite particles 10 are easily charged during the development process, for example, the graphite particles 10 are attached to the photosensitive drum 13 without being charged. This reduces the amount of graphite and has an effect on uniform dispersion of graphite. Further, if the heat treatment is performed in the fixing step, the insulating film 37 melts and adheres to the silver plating 8, so that the fixability of the graphite particles 10 can be further enhanced.

(6)母材2の表面に銀メッキ8を形成し、そのメッキにグラファイト粒子10を散布及び定着してメッキ表面にグラファイト粒子10を分布させる。従って、グラファイト粒子10を増量する処理を施したとしても、グラファイト粒子10は銀メッキ8上でその量が増えることになるため、母材2の材質成分はそのままである。従って、グラファイト粒子10を増量したとしても、母材2が予め持つ強度はそのままであるため、その母材2を基材とする電気接点材料12の強度はグラファイト増量に影響されず、電気接点材料12の強度を充分に確保することができる。   (6) The silver plating 8 is formed on the surface of the base material 2, and the graphite particles 10 are dispersed and fixed on the plating to distribute the graphite particles 10 on the plating surface. Therefore, even if the process of increasing the amount of graphite particles 10 is performed, the amount of graphite particles 10 increases on the silver plating 8, so that the material component of the base material 2 remains as it is. Therefore, even if the graphite particles 10 are increased, the strength of the base material 2 remains the same. Therefore, the strength of the electrical contact material 12 based on the base material 2 is not affected by the graphite increase, and the electrical contact material. The strength of 12 can be sufficiently secured.

(7)銀メッキ8にはそのメッキ特性として高い電気導線性があることから、電気接点材料12に施す金属メッキを銀メッキ8とすることによって、電気導電性の高い電気接点材料12を提供することができる。
(第2実施形態)
次に、本発明を具体化した電気接点材料製造方法及び電気接点材料の第2実施形態を図14及び図15に従って説明する。本例は、第1実施形態と比較してグラファイト粒子10を試料11(銀メッキ8)に適量散布する方法が異なっているのみであり、第1実施形態と同一部分には同一符号を付して詳しい説明を省略し、異なる部分についてのみ説明する。
(7) Since the silver plating 8 has high electrical conductivity as its plating characteristic, the metal plating applied to the electrical contact material 12 is the silver plating 8 to provide the electrical contact material 12 having high electrical conductivity. be able to.
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the electrical contact material manufacturing method and electrical contact material embodying the present invention will be described with reference to FIGS. This example is different from the first embodiment only in the method of applying an appropriate amount of graphite particles 10 to the sample 11 (silver plating 8), and the same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals. Detailed description will be omitted, and only different parts will be described.

(グラファイト棒の擦り付け)
図14は、グラファイト棒38を用いたグラファイト固定方法の説明図である。ところで、グラファイト棒38を銀メッキ8に擦り付けるためには、銀メッキ8の表面8aが粗い必要があるが、無光沢メッキにはその表面凹凸形状が粗い性質があるため、本例の銀メッキ8には無光沢メッキを採用している。このように、銀メッキ8に無光沢メッキを用いれば、図14に示すように銀メッキ8の表面8aの凹凸形状が粗くなり、グラファイト粒子10が引っ掛かり易くなる。なお、グラファイト棒38が棒材に相当する。
(Rubbing of graphite rod)
FIG. 14 is an explanatory diagram of a graphite fixing method using the graphite rod 38. By the way, in order to rub the graphite rod 38 against the silver plating 8, the surface 8a of the silver plating 8 needs to be rough. However, since the matte plating has a rough surface, the silver plating 8 of the present example. The matte plating is adopted. Thus, if matte plating is used for the silver plating 8, the uneven shape of the surface 8a of the silver plating 8 becomes rough as shown in FIG. 14, and the graphite particles 10 are easily caught. The graphite rod 38 corresponds to a bar material.

ところで、無光沢メッキの表面の凹凸形状が粗い理由は、電気メッキで例えば光沢メッキを形成する場合にはメッキ表面凹凸を滑らかにする添加物が混入されるが、無光沢メッキの場合にはこの種の添加物が入らないため、メッキに際してメッキ液4中の金属イオンが不均一に母材2に積み上がることが要因とされる。よって、無光沢メッキの場合には、母材2の表面において銀の積み上がりにバラツキができ、これが銀メッキ8の表面凹凸を形成することになる。   By the way, the reason why the uneven shape on the surface of the matte plating is rough is that, for example, when forming a glossy plating by electroplating, an additive for smoothing the unevenness of the plated surface is mixed. Since seed additives do not enter, it is considered that metal ions in the plating solution 4 are unevenly accumulated on the base material 2 during plating. Therefore, in the case of matte plating, the surface of the base material 2 has a variation in the accumulation of silver, which forms the surface irregularities of the silver plating 8.

グラファイト棒38はグラファイト粒子(黒鉛)10を接着剤等で固めた棒であり、本例においては円柱形状をなしている。このグラファイト棒38が銀メッキ8の表面8aに擦り付けられると、図15に示すようにグラファイト粒子10が銀メッキ8の表面凹凸に引っ掛かり、銀メッキ8の表面8aに固定された状態となる。従って、簡単な方法でグラファイト粒子10を銀メッキ8に固定することが可能となり、グラファイト粒子10を銀メッキ8に分散させる際の作業の簡素化や、作業時間の短時間化等に効果がある。   The graphite rod 38 is a rod obtained by hardening graphite particles (graphite) 10 with an adhesive or the like, and has a cylindrical shape in this example. When this graphite rod 38 is rubbed against the surface 8 a of the silver plating 8, the graphite particles 10 are caught on the surface irregularities of the silver plating 8 and are fixed to the surface 8 a of the silver plating 8 as shown in FIG. 15. Therefore, it becomes possible to fix the graphite particles 10 to the silver plating 8 by a simple method, which is effective in simplifying the work when dispersing the graphite particles 10 in the silver plating 8 and shortening the work time. .

ところで、粉状のグラファイト粒子を銀メッキ8の表面8aに散布して定着する方法は、グラファイト粒子が粉末状であるため、例えば風等で表面8aから飛び立ってしまう可能性も否定できない。しかし、固形のグラファイト棒38を銀メッキ8に擦り付けてグラファイト粒子10を銀メッキ8に固定する方法は、固形のグラファイトの固まりを銀メッキ8に固定するため、グラファイト粒子が風等で飛び立ってしまうような状況にはなり難い利点もある。なお、銀メッキ8にグラファイト粒子10を擦り付けた後に、銀メッキ8に高温化処理や加熱処理を施してグラファイト粒子10の定着性を高めてもよい。   By the way, in the method of dispersing and fixing powdery graphite particles on the surface 8a of the silver plating 8, since the graphite particles are powdery, the possibility of flying off the surface 8a due to wind or the like cannot be denied. However, the method in which the solid graphite rod 38 is rubbed against the silver plating 8 to fix the graphite particles 10 to the silver plating 8 fixes the solid graphite mass to the silver plating 8, so that the graphite particles fly away by wind or the like. There is also an advantage that is unlikely to be such a situation. Note that after the graphite particles 10 are rubbed against the silver plating 8, the fixing property of the graphite particles 10 may be improved by subjecting the silver plating 8 to a high temperature treatment or a heat treatment.

(過電流印加処理)
図16は、別構成の電気メッキ装置1の概略構成を示す模式構成図である。銀メッキ8の表面8aを粗くする方法は、銀メッキ8を無光沢メッキとすることに限らず、電気メッキの初期段階において過電流を流す方法を用いてもよい。これを以下に説明すると、本例の電気メッキ装置1はメッキ漕3が中間の区画壁39によって2領域に区画され、電気メッキ時には母材2が第1メッキ漕3a、第2メッキ漕3bの順に各漕内のメッキ液4にそれぞれ浸される。本例の電気メッキ装置1は、母材2を先に潜らす第1メッキ漕3aで母材2に過電流を流し、母材2を後で潜らす第2メッキ漕3bで母材2に通常の電流を流して、母材2の表面に金属メッキを形成する処理を行う。
(Overcurrent application processing)
FIG. 16 is a schematic configuration diagram showing a schematic configuration of the electroplating apparatus 1 having another configuration. The method of roughening the surface 8a of the silver plating 8 is not limited to the matte plating of the silver plating 8, and a method of flowing an overcurrent in the initial stage of electroplating may be used. This will be described below. In the electroplating apparatus 1 of this example, the plating rod 3 is divided into two regions by an intermediate partition wall 39, and the base material 2 is composed of the first plating rod 3a and the second plating rod 3b at the time of electroplating. It is immersed in the plating solution 4 in each basket in order. In the electroplating apparatus 1 of this example, an overcurrent is passed through the base material 2 by the first plating rod 3a in which the base material 2 is first hidden, and the base material 2 is applied by the second plating rod 3b in which the base material 2 is subsequently hidden. A process of forming a metal plating on the surface of the base material 2 is performed by passing a normal current.

メッキ漕3の区画壁39にはその下部に通し孔39aが貫設され、母材2はメッキに際して一方(図16に示す右側)の通し孔5aから第1メッキ漕3a内に導入され、区画壁39の通し孔39aを経由して、他方(図16に示す左側)の通し孔5bから第2メッキ漕3bの外部へ導出される。   A through hole 39a is provided in the lower portion of the partition wall 39 of the plating basket 3, and the base material 2 is introduced into the first plating bowl 3a from one through hole 5a (the right side shown in FIG. 16) during plating. It is led out to the outside of the second plating rod 3b from the other through hole 5b (left side shown in FIG. 16) through the through hole 39a of the wall 39.

電気メッキ装置1で母材2上に銀メッキ8を形成する際、電気メッキの初期段階で過電流を流して銀メッキ8を形成する。この処理として、まずメッキに必要な量の母材2が順に巻き取られながら通し孔5aを介して第1メッキ漕3a内に導入される。第1メッキ漕3aに必要量の母材2がセットされるとその状態が保持され、第1メッキ漕3aに浸された電極(図示略)と母材2との間に過電流が流される。このとき、母材2に流される過電流の電流値は、通常の電流値(即ち、第2メッキ漕3bで母材2に流される電流値)に対して例えば3〜5倍の値に設定されている。電気メッキで母材2に過電流を流した場合、過電流印加期間はメッキ速度が速くなるため、銀成分が母材2に付着する際には偏った状態で母材2に付着することから、銀メッキ8は表面8aに大きな凹凸形状を有した状態で母材2に形成される。   When the silver plating 8 is formed on the base material 2 by the electroplating apparatus 1, an overcurrent is passed at the initial stage of the electroplating to form the silver plating 8. In this process, first, the base material 2 in an amount necessary for plating is introduced into the first plating rod 3a through the through hole 5a while being wound up in order. When a necessary amount of the base material 2 is set on the first plating rod 3a, the state is maintained, and an overcurrent flows between an electrode (not shown) immersed in the first plating rod 3a and the base material 2. . At this time, the current value of the overcurrent that flows through the base material 2 is set to a value that is, for example, 3 to 5 times the normal current value (that is, the current value that flows through the base material 2 by the second plating rod 3b). Has been. When an overcurrent is applied to the base material 2 by electroplating, the plating speed increases during the overcurrent application period, so that when the silver component adheres to the base material 2, it adheres to the base material 2 in a biased state. The silver plating 8 is formed on the base material 2 with a large uneven shape on the surface 8a.

過電流を所定時間流した後、母材2に過電流を流す処理が停止され、続いて第1メッキ漕3aでメッキ処理を施した部分が通し孔39aを介して第2メッキ漕3bに導入される。第1メッキ漕3aでメッキ処理を施した部分が第2メッキ漕3bにセットされるとその状態が保持され、第2メッキ漕3bに浸された電極(図示略)と母材2との間に通常値の電流が流される。通常値の電流が母材2に所定時間流されると、過電流を流してできた銀メッキ8の層上に新たに銀成分が積み重なって積層し、最終的には必要とする層厚の銀メッキ8が母材2に形成される。   After passing the overcurrent for a predetermined time, the process of flowing the overcurrent to the base material 2 is stopped, and the portion plated with the first plating rod 3a is subsequently introduced into the second plating rod 3b through the through hole 39a. Is done. When the portion plated with the first plating rod 3a is set on the second plating rod 3b, the state is maintained, and between the electrode (not shown) immersed in the second plating rod 3b and the base material 2 A normal value current is passed through. When a current of normal value is passed through the base material 2 for a predetermined time, a silver component is newly stacked on the layer of silver plating 8 formed by passing an overcurrent, and finally the silver having the required layer thickness is stacked. A plating 8 is formed on the base material 2.

必要とする層厚の銀メッキ8が形成されると、母材2に通常値の電流を流す処理が停止され、続いて第2メッキ漕3bでメッキ処理を施した部分が通し孔5bから第2メッキ漕3bの外部に導出される。そして、初期段階で過電流を流してから通常値の電流を流す電気メッキが、ロール状に巻かれた母材2の全箇所に銀メッキ8が形成されるまで繰り返し行われ、以上の処理によって製造された母材2が試料11として取り扱われる。   When the silver plating 8 having the required layer thickness is formed, the process of supplying a normal current to the base material 2 is stopped, and the portion plated with the second plating rod 3b is subsequently passed through the through hole 5b. It leads out to the exterior of 2 plating cage | basket 3b. Then, the electroplating in which an overcurrent is passed in an initial stage and then a normal current is passed is repeatedly performed until the silver plating 8 is formed in all the portions of the base material 2 wound in a roll shape. The manufactured base material 2 is handled as the sample 11.

ところで、電気メッキに際して通常の電流値で銀メッキ8を形成すると、表面凹凸がそれほど大きくない銀メッキ8が形成される。しかし、本例は電気メッキの初期段階で過電流を流して、表面凹凸の大きい銀メッキ8を母材2に予め形成してそこに通常値の電流で銀成分を付着させることから、通常の低い電流値で電気メッキを施す場合であっても、予め凹凸の大きい銀メッキ8に銀成分が積み重なっていくため、最終的にできる銀メッキ8の表面は大きな凹凸形状を有した状態となる。   By the way, when the silver plating 8 is formed at a normal current value in the electroplating, the silver plating 8 with the surface unevenness not so large is formed. However, in this example, an overcurrent is passed in the initial stage of electroplating, and the silver plating 8 having large surface irregularities is formed on the base material 2 in advance, and the silver component is attached thereto at a normal current value. Even when electroplating is performed at a low current value, since the silver component is previously stacked on the silver plating 8 having large unevenness, the surface of the finally formed silver plating 8 has a large uneven shape.

(母材表面加工処理)
図17は、母材2の表面2aを粗くする際の作業状態を示す斜視図である。銀メッキ8の表面凹凸を大きくする方法は電気メッキの初期段階で過電流を流す方法に代えて、母材2の表面2aを予め粗くする加工処理を施しておき、表面2aを粗くした母材2に電気メッキを施して、銀メッキ8の表面凹凸を大きくする方法もある。母材2の表面2aを予め粗くするには、例えばヤスリやショットブラスト等で粗くする例が挙げられるが、母材2の表面凹凸を粗くできるのであれば、その方法は特に限定されない。
(Base material surface treatment)
FIG. 17 is a perspective view showing a working state when the surface 2a of the base material 2 is roughened. The method of enlarging the surface unevenness of the silver plating 8 is replaced with a method of flowing an overcurrent at the initial stage of electroplating, and a base material in which the surface 2a of the base material 2 is roughened in advance and the surface 2a is roughened. There is also a method of enlarging the surface unevenness of the silver plating 8 by electroplating 2. In order to roughen the surface 2a of the base material 2 in advance, for example, a file or shot blasting may be used. However, the method is not particularly limited as long as the surface unevenness of the base material 2 can be roughened.

表面2aの粗い母材2に電気メッキを施すと、メッキ液4中の銀成分が母材2の表面2aに順次積み重なって銀メッキ8の層となるため、銀メッキ8は母材2の表面形状に沿った形状で形成される。従って、母材2の表面2aの凹凸が大きければ、母材2の表面2aにできる銀メッキ8も表面凹凸が大きい状態で形成される。   When electroplating is performed on the base material 2 having a rough surface 2a, the silver component in the plating solution 4 is sequentially stacked on the surface 2a of the base material 2 to form a layer of silver plating 8. Therefore, the silver plating 8 is the surface of the base material 2. It is formed in a shape along the shape. Therefore, if the unevenness of the surface 2a of the base material 2 is large, the silver plating 8 formed on the surface 2a of the base material 2 is also formed with a large surface unevenness.

(エッチング−再メッキ処理)
図18は、銀メッキ8を施した試料11をエッチングする際の説明図である。銀メッキ8の表面凹凸を大きくする方法は電気メッキの初期段階で過電流を流す方法や、母材2の表面2aを予め粗くしておく方法に限らず、銀メッキ8の施された試料11をエッチングし、それを再メッキする方法でもよい。この処理では、まず最初に上記した処理内容の電気メッキによって母材2に銀メッキ8を形成し、表層に銀メッキ8を有する試料11を用意する。
(Etching-re-plating process)
FIG. 18 is an explanatory diagram when the sample 11 subjected to the silver plating 8 is etched. The method of enlarging the surface irregularities of the silver plating 8 is not limited to the method of flowing an overcurrent in the initial stage of electroplating or the method of roughening the surface 2a of the base material 2 in advance, but the sample 11 on which the silver plating 8 has been applied. It is also possible to etch the film and re-plat it. In this process, first, the silver plating 8 is formed on the base material 2 by electroplating with the above-described processing contents, and a sample 11 having the silver plating 8 on the surface layer is prepared.

そして、図18に示すようにその試料11をエッチング漕40内のエッチング溶液41に浸し、試料11にエッチング処理を施す。このとき、銀メッキ8の表面8aがエッチング溶液41によって溶け出して粗い状態となるため、銀メッキ8の表面8aは表面凹凸がそれほど大きくない状態から、表面凹凸が大きくなった状態となる。   Then, as shown in FIG. 18, the sample 11 is immersed in an etching solution 41 in the etching trough 40, and the sample 11 is subjected to an etching process. At this time, since the surface 8a of the silver plating 8 is melted by the etching solution 41 and becomes rough, the surface 8a of the silver plating 8 changes from a state where the surface unevenness is not so large to a state where the surface unevenness becomes large.

エッチング処理後、その試料11に電気メッキを再度施す。即ち、エッチング処理の施された試料11を電気メッキ装置1に再度セットし、この試料11とメッキ液4内の電極との間に直流電圧を印加して、試料11の表面に銀成分を積層させて銀メッキ8を再形成する。なお、この再メッキのメッキ条件(例えばメッキ時に付与する電流値)は、最初に行う電気メッキと同条件でもよいし、或いは異なっていてもよい。   After the etching process, the sample 11 is again electroplated. That is, the etched sample 11 is set again in the electroplating apparatus 1, a direct current voltage is applied between the sample 11 and the electrode in the plating solution 4, and a silver component is laminated on the surface of the sample 11. To re-form the silver plating 8. The re-plating plating conditions (for example, the current value applied during plating) may be the same as or different from the initial electroplating.

表面凹凸の大きい銀メッキ8に電気メッキを再度施すと、メッキ液4中の銀成分が銀メッキ8の表面8aに順次積み重なって積層状態となっていくため、再メッキ時の銀メッキ8はエッチング後の銀メッキ8の表面形状に沿った形状で形成される。従って、本例はエッチングで表面凹凸を粗くした銀メッキ8の表面に銀メッキ8を再メッキすることから、最終的な銀メッキ8の表層は表面凹凸が大きくなった状態となる。   When the electroplating is again applied to the silver plating 8 having a large surface irregularity, the silver component in the plating solution 4 is sequentially stacked on the surface 8a of the silver plating 8 to form a laminated state. It is formed in a shape along the surface shape of the later silver plating 8. Therefore, in this example, since the silver plating 8 is re-plated on the surface of the silver plating 8 whose surface unevenness is roughened by etching, the surface layer of the final silver plating 8 is in a state where the surface unevenness is large.

第2実施形態の構成によれば、第1実施形態に記載の(3),(4),(7)の効果に加え、以下に記載の効果を得ることができる。
(8)グラファイト粒子10を固めたグラファイト棒38を用意し、そのグラファイト棒38を銀メッキ8に擦り付けることで銀メッキ8にグラファイト粒子10を付着させるので、適量のグラファイト粒子10を簡単な作業で銀メッキ8に固定することができる。
According to the configuration of the second embodiment, in addition to the effects (3), (4), and (7) described in the first embodiment, the following effects can be obtained.
(8) A graphite rod 38 in which the graphite particles 10 are hardened is prepared, and the graphite particles 10 are adhered to the silver plating 8 by rubbing the graphite rod 38 against the silver plating 8, so that an appropriate amount of the graphite particles 10 can be easily applied. It can be fixed to the silver plating 8.

なお、実施形態は上記構成に限定されず、例えば以下の態様に変更してもよい。
・ 試料11は、母材2に銀メッキ8を施したのみの材料に限らず、例えば図19に示すようにグラファイト粒子10が含有した銀メッキ8を母材2に形成した材料でもよい。この試料11を製造するには、まずメッキ液4に例えば粒径が1〜20μm程度のグラファイト粒子10の粉末を混入する。グラファイト混入後、母材2及び電極の間に直流電圧を加えると、母材2に銀メッキ8が付着するが、この際に銀とともに粉末のグラファイト粒子10も取り込まれ、図19に示すように銀メッキ8にはグラファイト粒子10が分散状態で含有した状態となる。この場合、表面グラファイト面積比Sが一層向上し、銀メッキ8の耐摩耗性が一層向上する。
In addition, embodiment is not limited to the said structure, For example, you may change to the following aspects.
The sample 11 is not limited to a material obtained by simply applying the silver plating 8 to the base material 2, but may be a material in which the silver plating 8 containing the graphite particles 10 is formed on the base material 2 as shown in FIG. 19, for example. In order to manufacture the sample 11, first, graphite powder 10 having a particle diameter of, for example, about 1 to 20 μm is mixed in the plating solution 4. When a DC voltage is applied between the base material 2 and the electrode after the graphite is mixed, the silver plating 8 adheres to the base material 2. At this time, powdered graphite particles 10 are also taken in together with silver, as shown in FIG. The silver plating 8 contains graphite particles 10 in a dispersed state. In this case, the surface graphite area ratio S is further improved, and the wear resistance of the silver plating 8 is further improved.

・ 試料11は、銀メッキ8やグラファイト含有の銀メッキを母材2に形成した材料に限らず、例えば単に銅やニッケルでもよい。
・ 定着処理は、高温化処理や加圧処理に限定されない。例えば、熱と圧力とでグラファイト粒子10を試料11(銀メッキ8)に融着する熱ロール式や、化学溶液を私用して化学変化によってグラファイト粒子10を試料11(銀メッキ8)に定着する化学式などを採用してもよい。
The sample 11 is not limited to a material in which the silver plating 8 or graphite-containing silver plating is formed on the base material 2, but may be simply copper or nickel, for example.
-Fixing processing is not limited to high temperature processing or pressure processing. For example, a heat roll type in which the graphite particles 10 are fused to the sample 11 (silver plating 8) by heat and pressure, or the graphite particles 10 are fixed to the sample 11 (silver plating 8) by chemical change using a chemical solution. A chemical formula or the like may be adopted.

・ 金属メッキを電気メッキで形成する際、その金属メッキは銀メッキ8に限らず、例えば金メッキ、無電解ニッケルメッキ、クロムメッキ、ニッケルメッキ、はんだメッキ、錫メッキ、亜鉛メッキ等を採用してもよい。   -When metal plating is formed by electroplating, the metal plating is not limited to silver plating 8, but for example, gold plating, electroless nickel plating, chrome plating, nickel plating, solder plating, tin plating, zinc plating, etc. may be adopted. Good.

・ 母材2のメッキ方法は電気メッキに限らず、例えば化学メッキ、溶融メッキ、物理蒸着、化学蒸着、浸透メッキ等を採用してもよい。
・ 電気接点材料製造装置9は、感光ドラム13が中心点O回りに回転するドラム式に限定されず、例えば一つに繋がった帯状の感光ベルト部材が回るベルト式でもよい。
The plating method of the base material 2 is not limited to electroplating, and for example, chemical plating, hot dipping, physical vapor deposition, chemical vapor deposition, permeation plating, etc. may be employed.
The electric contact material manufacturing apparatus 9 is not limited to the drum type in which the photosensitive drum 13 rotates around the center point O, and may be, for example, a belt type in which a belt-shaped photosensitive belt member connected to one rotates.

次に、上記実施形態及び別例から把握できる技術的思想について以下に追記する。
(1)中心点回りに回転可能な感光体と、前記感光体を帯電させる帯電機構と、前記感光体に露光する光量によって当該感光体の表面に静電潜像を形成する露光機構と、電荷を付与したグラファイト粒子を前記感光体に現像する現像機構と、前記グラファイト粒子の転写先である金属体を搬送する際に当該金属体の裏側から逆電荷をかけることによって、前記感光体に現像された前記グラファイト粒子を前記金属体に転写する転写機構と、前記金属体に転写された前記グラファイト粒子を当該金属体の表面に定着する定着機構とを備えたことを特徴とする電気接点材料製造装置。
Next, the technical idea that can be grasped from the above embodiment and other examples will be described below.
(1) A photoreceptor that can rotate around a center point, a charging mechanism that charges the photoreceptor, an exposure mechanism that forms an electrostatic latent image on the surface of the photoreceptor by the amount of light that is exposed to the photoreceptor, and an electric charge A developing mechanism that develops the graphite particles imparted to the photoconductor, and a reverse charge applied from the back side of the metal body when the metal body that is the transfer destination of the graphite particles is transported. An electrical contact material manufacturing apparatus comprising: a transfer mechanism for transferring the graphite particles to the metal body; and a fixing mechanism for fixing the graphite particles transferred to the metal body to the surface of the metal body. .

第1実施形態における電気メッキ装置の概略構成を示す模式構成図。The schematic block diagram which shows schematic structure of the electroplating apparatus in 1st Embodiment. 表面に銀メッキが形成された試料の断面図。Sectional drawing of the sample by which silver plating was formed on the surface. 電気接点材料製造装置の概略構成を示す模式構成図。The schematic block diagram which shows schematic structure of an electrical contact material manufacturing apparatus. 感光ドラムを帯電する際の説明図。Explanatory drawing when charging a photosensitive drum. 帯電後の感光ドラムを露光する際の説明図。Explanatory drawing at the time of exposing the photosensitive drum after charging. 露光後の感光ドラムにグラファイト粒子を現像する際の説明図。Explanatory drawing at the time of developing a graphite particle on the photosensitive drum after exposure. 感光ドラムに現像したグラファイト粒子を試料に転写する際の説明図。Explanatory drawing at the time of transferring the graphite particle developed on the photosensitive drum to a sample. (a)はグラファイト粉末を銀メッキにまぶした際の試料の断面図であり、(b)はグラファイト粒子を銀メッキに定着した後の試料の断面図。(A) is sectional drawing of the sample at the time of covering graphite powder to silver plating, (b) is sectional drawing of the sample after fixing graphite particle | grains to silver plating. 表面グラファイト面積比とその耐久回数との関係を示すグラフ。The graph which shows the relationship between the surface graphite area ratio and its durability. レーザ装置の概略構成を示す模式構成図。The schematic block diagram which shows schematic structure of a laser apparatus. 炉装置の概略構成を示す模式構成図。The schematic block diagram which shows schematic structure of a furnace apparatus. 加圧処理装置の概略構成を示す模式構成図。The schematic block diagram which shows schematic structure of a pressure processing apparatus. 表面に樹脂皮膜がコーティングされたグラファイト粒子の断面図。Sectional drawing of the graphite particle by which the resin film was coated on the surface. 第2実施形態におけるグラファイト粒子固定方法の説明図。Explanatory drawing of the graphite particle fixing method in 2nd Embodiment. 銀メッキにグラファイトを固定した後の電気接点材料の断面図。Sectional drawing of the electrical contact material after fixing graphite to silver plating. 別構成の電気メッキ装置の概略構成を示す模式構成図。The schematic block diagram which shows schematic structure of the electroplating apparatus of another structure. 母材の表面を粗くする際の作業状態を示す斜視図。The perspective view which shows the working state at the time of roughening the surface of a base material. 銀メッキを施した試料をエッチングする際の説明図。Explanatory drawing at the time of etching the sample which gave silver plating. グラファイト含有の銀メッキが施された試料の断面図。Sectional drawing of the sample to which the silver plating containing graphite was given.

符号の説明Explanation of symbols

2…母材、8…金属メッキとしての銀メッキ、10…グラファイト粒子、11…金属体としての試料、12…電気接点材料、13…感光体としての感光ドラム、20…静電潜像、37…絶縁皮膜、38…棒材としてのグラファイト棒、O…中心点。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 2 ... Base material, 8 ... Silver plating as metal plating, 10 ... Graphite particle, 11 ... Sample as metal body, 12 ... Electrical contact material, 13 ... Photosensitive drum as photoconductor, 20 ... Electrostatic latent image, 37 ... insulating film, 38 ... graphite rod as bar, O ... center.

Claims (8)

中心点回りに回転可能な感光体を帯電する手順と、
前記感光体に露光する光量によって当該感光体の表面に静電潜像を形成する手順と、
前記静電潜像を形成した前記感光体に、電荷を付与したグラファイト粒子を現像する手順と、
前記グラファイト粒子の転写先である金属体を搬送する際に、当該金属体の裏側から逆電荷をかけることによって、前記感光体に現像された前記グラファイト粒子を前記金属体に転写する手順と、
前記金属体に転写された前記グラファイト粒子を当該金属体の表面に定着する手順と
を備えたことを特徴とする電気接点材料製造方法。
Charging the rotatable photoreceptor around the center point; and
A procedure of forming an electrostatic latent image on the surface of the photoconductor by the amount of light exposed to the photoconductor;
A procedure for developing graphite particles imparted with electric charge to the photoreceptor on which the electrostatic latent image has been formed;
A procedure of transferring the graphite particles developed on the photoconductor to the metal body by applying a reverse charge from the back side of the metal body when transporting the metal body as a transfer destination of the graphite particles;
And a method of fixing the graphite particles transferred to the metal body on the surface of the metal body.
前記グラファイト粒子を前記金属体に定着する手順は、当該金属体に高温化処理を施して当該金属体の表面を溶融する手順であることを特徴とする請求項1に記載の電気接点材料製造方法。   The method for producing an electrical contact material according to claim 1, wherein the procedure for fixing the graphite particles to the metal body is a procedure for subjecting the metal body to a high temperature treatment to melt the surface of the metal body. . 前記グラファイト粒子を前記金属体に定着する手順は、前記金属体の表面に加圧処理を施すことで当該金属体の表面を塑性変形させる手順であることを特徴とする請求項1に記載の電気接点材料製造方法。   2. The electricity according to claim 1, wherein the procedure of fixing the graphite particles to the metal body is a procedure of plastically deforming the surface of the metal body by applying a pressure treatment to the surface of the metal body. Contact material manufacturing method. 前記グラファイト粒子には、樹脂を材質とする絶縁皮膜がコーティングされていることを特徴とする請求項1〜3のうちいずれか一項に記載の電気接点材料製造方法。   The electrical contact material manufacturing method according to claim 1, wherein the graphite particles are coated with an insulating film made of a resin. 母材の表面の一部又は全体にグラファイト含有の金属メッキを形成することで前記金属体を形成し、当該金属メッキの表面に前記グラファイトが転写されることを特徴とする請求項1〜4のうちいずれか一項に記載の電気接点材料製造方法。   5. The metal body is formed by forming a graphite-containing metal plating on a part of or the entire surface of a base material, and the graphite is transferred to the surface of the metal plating. The electrical contact material manufacturing method as described in any one of them. 母材の表面の一部又は全体に金属メッキを形成し、グラファイトを固めた棒材を、前記金属メッキの表面の粗い部分に擦り付けることで、前記グラファイトを前記金属メッキの表面に定着させることを特徴とする電気接点材料製造方法。   Forming metal plating on a part or the entire surface of the base material, and rubbing a bar material in which graphite is hardened to a rough portion of the surface of the metal plating, thereby fixing the graphite to the surface of the metal plating. A method for producing an electrical contact material characterized by the above. 支軸回りに回転可能な感光体ドラムを帯電し、前記感光体ドラムに露光する光量によって当該感光体ドラムの表面に静電潜像を形成し、前記静電潜像を形成した前記感光体に、電荷を付与したグラファイト粒子を現像し、前記グラファイト粒子の転写先である金属体を搬送する際に、当該金属体の裏側から逆電荷をかけることによって、前記感光体ドラムに現像された前記グラファイト粒子を前記金属体に転写し、前記金属体に転写された前記グラファイト粒子を当該金属体の表面に定着することで製造した電気接点材料。   An electrostatic latent image is formed on the surface of the photoconductive drum by charging the photoconductive drum rotatable around the support shaft, and the photoconductive drum is formed on the surface of the photoconductive drum. The graphite particles developed on the photosensitive drum are developed by developing a charged graphite particle and applying a reverse charge from the back side of the metal body when transporting the metal body to which the graphite particles are transferred. An electrical contact material produced by transferring particles to the metal body and fixing the graphite particles transferred to the metal body on the surface of the metal body. 母材の表面の一部又は全体に金属メッキを形成し、グラファイトを固めた棒材を、前記金属メッキの表面の粗い部分に擦り付けることで、前記グラファイトを前記金属メッキの表面に定着させることで製造した電気接点材料。   By forming a metal plating on a part of or the entire surface of the base material and rubbing a bar material in which graphite is hardened against a rough portion of the surface of the metal plating, the graphite is fixed on the surface of the metal plating. Manufactured electrical contact material.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012108371A1 (en) * 2011-02-09 2012-08-16 株式会社インキュベーション・アライアンス Method for producing multilayer graphene coated substrate
JP2017011101A (en) * 2015-06-22 2017-01-12 Shマテリアル株式会社 Led package, lead frame for multi-column led, and manufacturing method thereof

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5747898A (en) * 1980-09-06 1982-03-18 Matsushita Electric Works Ltd Manufacture of contact material
JPS59232297A (en) * 1983-06-13 1984-12-27 Furukawa Electric Co Ltd:The Production of particle dispersed metal coated material
JPH06202404A (en) * 1992-12-28 1994-07-22 Canon Inc Image forming device having protecting mechanism for electrode
JPH11338254A (en) * 1998-05-22 1999-12-10 Canon Inc Developing device, process cartridge and electric contact parts
JP2004118158A (en) * 2002-09-30 2004-04-15 Canon Inc Feed contact member, process cartridge and image forming apparatus
JP2004139846A (en) * 2002-10-17 2004-05-13 Toyota Motor Corp Manufacturing method and manufacturing device of fuel cell electrode

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5747898A (en) * 1980-09-06 1982-03-18 Matsushita Electric Works Ltd Manufacture of contact material
JPS59232297A (en) * 1983-06-13 1984-12-27 Furukawa Electric Co Ltd:The Production of particle dispersed metal coated material
JPH06202404A (en) * 1992-12-28 1994-07-22 Canon Inc Image forming device having protecting mechanism for electrode
JPH11338254A (en) * 1998-05-22 1999-12-10 Canon Inc Developing device, process cartridge and electric contact parts
JP2004118158A (en) * 2002-09-30 2004-04-15 Canon Inc Feed contact member, process cartridge and image forming apparatus
JP2004139846A (en) * 2002-10-17 2004-05-13 Toyota Motor Corp Manufacturing method and manufacturing device of fuel cell electrode

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012108371A1 (en) * 2011-02-09 2012-08-16 株式会社インキュベーション・アライアンス Method for producing multilayer graphene coated substrate
US9208928B2 (en) 2011-02-09 2015-12-08 Incubation Alliance, Inc. Method for producing multilayer graphene-coated substrate
JP2017011101A (en) * 2015-06-22 2017-01-12 Shマテリアル株式会社 Led package, lead frame for multi-column led, and manufacturing method thereof

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