JP2007028509A - Scan line pitch interval adjusting method and multi-beam scanning optical device using the same - Google Patents

Scan line pitch interval adjusting method and multi-beam scanning optical device using the same Download PDF

Info

Publication number
JP2007028509A
JP2007028509A JP2005211309A JP2005211309A JP2007028509A JP 2007028509 A JP2007028509 A JP 2007028509A JP 2005211309 A JP2005211309 A JP 2005211309A JP 2005211309 A JP2005211309 A JP 2005211309A JP 2007028509 A JP2007028509 A JP 2007028509A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
scanning
scanned
scanning line
pitch interval
light beams
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005211309A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2007028509A5 (en
JP5127122B2 (en
Inventor
Jun Igarashi
潤 五十嵐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2005211309A priority Critical patent/JP5127122B2/en
Publication of JP2007028509A publication Critical patent/JP2007028509A/en
Publication of JP2007028509A5 publication Critical patent/JP2007028509A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5127122B2 publication Critical patent/JP5127122B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/435Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
    • B41J2/47Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
    • B41J2/471Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
    • B41J2/473Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror using multiple light beams, wavelengths or colours

Landscapes

  • Laser Beam Printer (AREA)
  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Facsimile Scanning Arrangements (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a scan line pitch interval adjusting method and multi-beam scanning optical device using the same, wherein a scan line pitch interval is unified to a predetermined value, the occurrence of pitch non-uniformity or color slippage is suppressed and a high-quality image can be formed. <P>SOLUTION: A deflection means 5 deflects a plurality of light flux emitted from light emitting points of a light source means 1 including three or more light emitting points disposed linearly separately at predetermined intervals, an optical image forming system 6 guides the plurality of light flux deflected by the deflection means onto a plane 8 to be scanned and when scanning the plane to be scanned in a main scan direction using the plurality of light flux through the deflecting operation of the deflection means, a measuring means 9 measures an interval of two scan lines which are separated most in a sub scan direction, among a plurality of scan lines scanning the plane to be scanned. Based on a result of the measurement, scan line pitch intervals in the sub scan direction are adjusted. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は走査線ピッチ間隔調整方法及びそれを用いたマルチビーム走査光学装置に関し、例えばレーザービームプリンタやデジタル複写機、デジタルFAX等の電子写真装置に好適なものである。   The present invention relates to a scanning line pitch interval adjusting method and a multi-beam scanning optical apparatus using the same, and is suitable for an electrophotographic apparatus such as a laser beam printer, a digital copying machine, and a digital FAX.

近年、レーザービームプリンタ等の電子写真装置において、高速化や高精細化に対応するために複数のレーザービーム(光束)を用いて複数のラインを同時に書き込むマルチビーム走査光学装置が開発されている。   In recent years, in an electrophotographic apparatus such as a laser beam printer, a multi-beam scanning optical apparatus for simultaneously writing a plurality of lines using a plurality of laser beams (light beams) has been developed in order to cope with high speed and high definition.

このようなレーザービームプリンタに用いられる走査光学装置は,該レーザービームプリンタの高速化、高精細化によってより高速走査の可能なものが求められており、走査手段であるモーターの回転数、偏向手段であるポリゴンミラーの面数や大きさ等の限界から、特に複数の光束を同時に走査できるマルチビーム走査光学装置の要求が高まっている。   A scanning optical device used in such a laser beam printer is required to be capable of high-speed scanning by increasing the speed and definition of the laser beam printer. In particular, there is a growing demand for a multi-beam scanning optical apparatus capable of simultaneously scanning a plurality of light beams due to limitations on the number and size of polygon mirrors.

またレーザービームプリンタの高速化、高精細化の要求から、解像度600DPIでは約42μmだった副走査方向の走査線ピッチ間隔が、1200DPIで約21μm、2400DPIで約10.5μmと狭くなっていて、これにより要求される精度も厳しくなっている。   Also, due to the demand for higher speed and higher definition of laser beam printers, the scanning line pitch interval in the sub-scanning direction, which was about 42 μm at 600 DPI resolution, is narrowed to about 21 μm at 1200 DPI and about 10.5 μm at 2400 DPI. The accuracy required by the is becoming stricter.

図9は従来のマルチビーム走査光学装置の要部概略図である。   FIG. 9 is a schematic view of a main part of a conventional multi-beam scanning optical apparatus.

同図において光源手段としてのマルチビーム半導体レーザー91から独立変調され出射した複数(2本)の発散光束はコリメーターレンズ92により平行光束に変換され、絞り93によって該光束(光量)を制限してシリンドリカルレンズ94に入射する。シリンドリカルレンズ94に入射した平行光束のうち主走査面内においてはそのまま平行光束の状態で射出する。また副走査面内においては集束して回転多面鏡(ポリゴンミラー)から成る光偏向器95の偏向面(反射面)95aにほぼ線像として結像する。そして光偏向器95の偏向面95aで偏向反射された複数の光束をfθ特性を有する結像光学系(fθレンズ系)96を介して被走査面としての感光ドラム面98上の互いに異なる領域に導光し、該光偏向器95を矢印A方向に回転させることによって、該感光ドラム面98上を複数の光束で矢印B方向(主走査方向)に同時に光走査して画像情報の記録を行っている。   In the figure, a plurality (two) of divergent light beams emitted independently modulated from a multi-beam semiconductor laser 91 as a light source means are converted into parallel light beams by a collimator lens 92, and the light beam (light quantity) is limited by a diaphragm 93. The light enters the cylindrical lens 94. Of the parallel light beams incident on the cylindrical lens 94, the light beams are emitted as they are in the main scanning plane. In the sub-scanning plane, the light beam is focused and formed as a substantially linear image on a deflection surface (reflection surface) 95a of an optical deflector 95 composed of a rotating polygon mirror (polygon mirror). A plurality of light beams deflected and reflected by the deflecting surface 95a of the optical deflector 95 are passed through imaging optical systems (fθ lens systems) 96 having fθ characteristics to different regions on the photosensitive drum surface 98 as a scanning surface. By guiding the light and rotating the optical deflector 95 in the direction of arrow A, the photosensitive drum surface 98 is simultaneously scanned with a plurality of light beams in the direction of arrow B (main scanning direction) to record image information. ing.

図10は従来のマルチビーム半導体レーザーユニット900の要部概略図である。   FIG. 10 is a schematic diagram of a main part of a conventional multi-beam semiconductor laser unit 900.

同図においてマルチビーム半導体レーザーユニット900は半導体レーザー光源902とホルダ903とコリメーターレンズ904が内蔵された鏡筒905とから構成されている。半導体レーザー光源902は圧入や接着によってホルダ903に固定され、ホルダ903はコリメーターレンズ904が内蔵された鏡筒905に接着固定されている。マルチビーム半導体レーザーユニット900は光学箱906の圧入孔907に圧入によって仮固定される。その後に、副走査方向の走査線ピッチ間隔の調整をマルチビーム半導体レーザーユニット900をB−B´方向に回転することで行う。B−B´方向への回転調整は、ホルダ903に設けられた回転調整用孔909に回転調整用治具910に設けられた回転調整用ピン911を嵌合させて、回転調整用治具を回転させて行い、所定の解像度に対応したピッチ間隔になったところで回転調整を完了する。   In the figure, a multi-beam semiconductor laser unit 900 includes a semiconductor laser light source 902, a holder 903, and a lens barrel 905 in which a collimator lens 904 is built. The semiconductor laser light source 902 is fixed to a holder 903 by press-fitting or bonding, and the holder 903 is bonded and fixed to a lens barrel 905 in which a collimator lens 904 is built. The multi-beam semiconductor laser unit 900 is temporarily fixed to the press-fitting hole 907 of the optical box 906 by press-fitting. Thereafter, adjustment of the scanning line pitch interval in the sub-scanning direction is performed by rotating the multi-beam semiconductor laser unit 900 in the BB ′ direction. The rotation adjustment in the BB ′ direction is performed by fitting the rotation adjustment pin 911 provided in the rotation adjustment jig 910 into the rotation adjustment hole 909 provided in the holder 903, so that the rotation adjustment jig is used. The rotation adjustment is completed, and the rotation adjustment is completed when a pitch interval corresponding to a predetermined resolution is reached.

図11は図10に示した従来のマルチビーム半導体レーザーユニット900が有する発光点の配置図である。同図において図10に示した要素と同一要素には同符番を付している。同図において801、802は各々発光点である。   FIG. 11 is a layout diagram of light emitting points of the conventional multi-beam semiconductor laser unit 900 shown in FIG. In the figure, the same elements as those shown in FIG. In the figure, 801 and 802 are light emission points.

図12は図9における被走査面としての感光ドラム面98を拡大し、従来の副走査方向の走査線ピッチ間隔測定箇所を説明した図である。同図において図9に示した要素と同一要素には同符番を付している。   FIG. 12 is an enlarged view of the photosensitive drum surface 98 as the surface to be scanned in FIG. 9, and illustrates a conventional measurement position of the scanning line pitch interval in the sub-scanning direction. In the figure, the same elements as those shown in FIG.

同図において811、812は各々図11の発光点801、802から発せられた光束によって被走査面98上を走査(形成)したときの走査線である。   In the same figure, reference numerals 811 and 812 denote scanning lines when the surface to be scanned 98 is scanned (formed) by light beams emitted from the light emitting points 801 and 802 in FIG.

この副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整するマルチビーム走査光学装置は従来より種々と提案されている(特許文献1参照)。   Various multi-beam scanning optical devices for adjusting the scanning line pitch interval in the sub-scanning direction have been proposed (see Patent Document 1).

走査線ピッチ間隔測定におけるピッチ間隔の検出には、図13に示されているようにレーザービーム(光束)の走査方向と直交する方向の通過位置変化に対して、その出力が連続的かつ広範囲に変化するセンサパターンS1を用い、最初にセンサパターンS1を通過する第1のビームの出力値をメモリに記憶しておき、第2のビームがセンサパターンS1を通過しその出力が出力されたときに、前記メモリに記憶させておいた第1のビームの出力値との差分をとり、所定の値と比較することで走査間隔の相対距離を検出する方法等が用いられている。同図において811,812,813は各々対応する発光点から発せられた光束によって被走査面上を走査したときの走査線である。   In detecting the pitch interval in the scanning line pitch interval measurement, as shown in FIG. 13, the output is continuous and wide in range with respect to the passing position change in the direction orthogonal to the scanning direction of the laser beam (light beam). When the changing sensor pattern S1 is used, the output value of the first beam passing through the sensor pattern S1 is first stored in the memory, and when the second beam passes through the sensor pattern S1 and the output is output. A method of detecting the relative distance of the scanning interval by taking a difference from the output value of the first beam stored in the memory and comparing it with a predetermined value is used. In the figure, reference numerals 811, 812, and 813 denote scanning lines when the surface to be scanned is scanned with light beams emitted from the corresponding light emitting points.

従来では、解像度を600dpiにしたい場合、走査線のピッチ間隔が約42μmになるように図12の黒矢印で示す1組の隣接する走査線の間隔Lを上記の如く検出、測定し、その結果に基づきマルチビーム半導体レーザーユニット900を図11のB−B´方向に回転し調整している。走査線のピッチ間隔が42μmより広い場合はマルチビーム半導体レーザーユニット900を図11のB方向に回転し、走査線のピッチ間隔が42μmより狭い場合はマルチビーム半導体レーザーユニット900を図11のB´方向に回転することにより所望の走査線ピッチ間隔を得ることが出来る。
特開2000−180745号公報
Conventionally, when a resolution of 600 dpi is desired, the interval L between a pair of adjacent scanning lines indicated by the black arrows in FIG. 12 is detected and measured as described above so that the scanning line pitch interval is about 42 μm. The multi-beam semiconductor laser unit 900 is rotated and adjusted in the BB ′ direction of FIG. When the scanning line pitch interval is larger than 42 μm, the multi-beam semiconductor laser unit 900 is rotated in the direction B in FIG. 11, and when the scanning line pitch interval is smaller than 42 μm, the multi-beam semiconductor laser unit 900 is moved to B ′ of FIG. By rotating in the direction, a desired scanning line pitch interval can be obtained.
JP 2000-180745 A

しかしながら、上記従来例のようにマルチビーム半導体レーザーユニット900の回転によるピッチ間隔調整を行うと、走査線のピッチ間隔測定の測定精度には限度があるため、更なるレーザービームプリンタの高速化、高精細化の要求に応えられなくなってしまうという問題点がある。   However, when the pitch interval adjustment is performed by rotating the multi-beam semiconductor laser unit 900 as in the above-described conventional example, there is a limit to the measurement accuracy of the scanning line pitch interval measurement. There is a problem that it becomes impossible to meet the demand for refinement.

本発明は走査線ピッチ間隔を所定の値に統一し、ピッチむらや色ずれの発生を抑え高品質な画像を形成することができる走査線ピッチ間隔調整方法及びそれを用いたマルチビーム走査光学装置の提供を目的とする。   The present invention unifies scanning line pitch intervals to a predetermined value, and suppresses the occurrence of pitch unevenness and color misregistration and can form a high-quality image, and a multi-beam scanning optical apparatus using the same The purpose is to provide.

請求項1の発明の走査線ピッチ間隔調整方法は、
直線状に所定の間隔で離間して配置した3つ以上の発光点を有する光源手段の各発光点から発せられた複数の光束を偏向手段で偏向し、該偏向手段で偏向された複数の光束を結像光学系で被走査面上に導光し、該偏向手段の偏向動作により該被走査面を複数の光束で主走査方向に走査するとき、
該被走査面を走査する複数の走査線の中で、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔を測定手段で測定し、その結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整することを特徴としている。
The scanning line pitch interval adjusting method according to the invention of claim 1 comprises:
A plurality of light beams emitted from each light emitting point of a light source unit having three or more light emitting points arranged linearly at a predetermined interval are deflected by the deflecting unit, and the plurality of light beams deflected by the deflecting unit Is guided onto the surface to be scanned by the imaging optical system, and the surface to be scanned is scanned in the main scanning direction with a plurality of light beams by the deflection operation of the deflecting means.
Among the plurality of scanning lines that scan the surface to be scanned, the distance between two scanning lines that are the farthest in the sub-scanning direction is measured by the measuring means, and the scanning line pitch interval in the sub-scanning direction is adjusted based on the result. It is characterized by doing.

請求項2の発明の走査線ピッチ間隔調整方法は、
n(nは3以上の整数)個の発光点が直線状に所定間隔で離間して配置した発光点列が該直線と直交する方向に所定間隔でm(mは2以上の整数)列配置した光源手段から発せられた複数の光束を偏向手段で偏向し、該偏向手段で偏向された複数の光束を結像光学系で被走査面上に導光し、該偏向手段の偏向動作により該被走査面を複数の光束で主走査方向に走査するとき、
該被走査面を走査する複数の走査線の中で、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔を測定手段で測定し、その結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整することを特徴としている。
The scanning line pitch interval adjusting method of the invention of claim 2
A sequence of light emitting points in which n (n is an integer of 3 or more) light emitting points are linearly arranged at a predetermined interval, and m (m is an integer of 2 or more) is arranged in a direction orthogonal to the straight line. The plurality of light beams emitted from the light source means are deflected by the deflecting means, the plurality of light beams deflected by the deflecting means are guided onto the surface to be scanned by the imaging optical system, and the deflecting operation of the deflecting means When scanning the surface to be scanned in the main scanning direction with a plurality of light beams,
Among the plurality of scanning lines that scan the surface to be scanned, the distance between two scanning lines that are the farthest in the sub-scanning direction is measured by the measuring means, and the scanning line pitch interval in the sub-scanning direction is adjusted based on the result. It is characterized by doing.

請求項3の発明の走査線ピッチ間隔調整方法は、
n(nは3以上の整数)個の発光点が直線状に所定間隔で離間して配置した発光点列が該直線と直交する方向に所定間隔でm(mは2以上の整数)列配置した光源手段から発せられた複数の光束を偏向手段で偏向し、該偏向手段で偏向された複数の光束を結像光学系で被走査面上に導光し、該偏向手段の偏向動作により該被走査面を複数の光束で主走査方向に走査するとき、
該被走査面上を走査する複数の走査線の中で、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔を測定手段で測定する第1工程と、
i列目(i=1,2,・・・,m−1)のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線の中で、i+1列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線に最も近い走査線と、i+1列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線の中で、i列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線に最も近い走査線との間隔を測定手段で測定する第2工程とを有し、
該第1、第2工程での測定結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整することを特徴としている。
The scanning line pitch interval adjusting method according to the invention of claim 3 comprises:
A sequence of light emitting points in which n (n is an integer of 3 or more) light emitting points are linearly arranged at a predetermined interval, and m (m is an integer of 2 or more) is arranged in a direction orthogonal to the straight line. The plurality of light beams emitted from the light source means are deflected by the deflecting means, the plurality of light beams deflected by the deflecting means are guided onto the surface to be scanned by the imaging optical system, and the deflecting operation of the deflecting means When scanning the surface to be scanned in the main scanning direction with a plurality of light beams,
A first step of measuring a distance between two scanning lines farthest in the sub-scanning direction among a plurality of scanning lines scanning the surface to be scanned by a measuring unit;
Among the n scanning lines when the surface to be scanned is scanned with n light beams emitted from n light emitting points in the i-th column (i = 1, 2,..., m−1). Thus, the scanning line closest to the n scanning lines when the surface to be scanned is scanned with the n light beams emitted from the n light emitting points in the i + 1 column and the n light emission in the i + 1 column. Of the n scanning lines when scanning the surface to be scanned with n light beams emitted from a point, the n light beams emitted from n light emitting points in the i-th column are scanned with the light beam. A second step of measuring the distance from the scanning line closest to the n scanning lines when scanning on the surface with the measuring means,
The scanning line pitch interval in the sub-scanning direction is adjusted based on the measurement results in the first and second steps.

請求項4の発明は請求項1、2又は3の発明において、
前記最も離間した2本の走査線の間隔の測定を、走査有効幅内の少なくとも2ヶ所で測定し、その結果に基づき走査線ピッチ間隔を調整することを特徴としている。
The invention of claim 4 is the invention of claim 1, 2 or 3,
The interval between the two most distant scanning lines is measured at at least two points within the effective scanning width, and the scanning line pitch interval is adjusted based on the result.

請求項5の発明は請求項1乃至4の何れか1項の発明において、
前記被走査面上において、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔をL(mm)、走査線の数をPn、該被走査面上の副走査方向における画素密度をA(dot/inch)とするとき、走査有効幅内全域で、
2/3×(Pn−1)×25.4/A<L<4/3×(Pn−1)×25.4/A
但し、Pn=n×m
を満足するように走査線ピッチ間隔を調整することを特徴としている。
The invention of claim 5 is the invention of any one of claims 1 to 4,
On the surface to be scanned, the distance between two scanning lines that are most separated in the sub-scanning direction is L (mm), the number of scanning lines is Pn, and the pixel density in the sub-scanning direction on the surface to be scanned is A (dot / inch) over the entire scanning effective width,
2/3 × (Pn−1) × 25.4 / A <L <4/3 × (Pn−1) × 25.4 / A
However, Pn = n × m
The scanning line pitch interval is adjusted so as to satisfy the above.

請求項6の発明は請求項5の発明において、
前記画素密度Aは1200dpi以上であることを特徴としている。
The invention of claim 6 is the invention of claim 5,
The pixel density A is 1200 dpi or more.

請求項7の発明は請求項2又は3の発明において、
前記被走査面上において、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔をL(mm)、同時刻における第1の走査線を描く結像点と第1の走査線と隣り合う第2の走査線を描く結像点とを結んだ直線と第2の走査線の成す角度をθ、同時刻における第1の走査線を描く結像点と第1の走査線と隣り合う第2の走査線を描く結像点とを結んだ直線の長さをaとするとき、
0.9L/(mn−1)<(L−am(n−1)sinθ)/(m−1)<1.1L/(mn−1)
を満足するように前記走査線ピッチ間隔を調整することを特徴としている。
The invention of claim 7 is the invention of claim 2 or 3,
On the surface to be scanned, an interval between two scanning lines that are most separated in the sub-scanning direction is L (mm), and an imaging point that draws the first scanning line at the same time is adjacent to the first scanning line. The angle formed between the second scanning line and the straight line connecting the two scanning lines and the imaging point is θ, and the imaging point drawing the first scanning line at the same time is adjacent to the first scanning line. When the length of the straight line connecting the image forming point that draws the scanning line is a,
0.9L / (mn-1) <(L-am (n-1) sin θ) / (m-1) <1.1L / (mn-1)
The scanning line pitch interval is adjusted to satisfy the above.

請求項8の発明は請求項1乃至7の何れか1項の発明において、
前記光源手段を、最も離間した2つの発光点を結ぶ線分の中心を回転中心として光軸回りに回転させて走査線ピッチ間隔調整を行うことを特徴としている。
The invention of claim 8 is the invention of any one of claims 1 to 7,
A scanning line pitch interval adjustment is performed by rotating the light source means around the optical axis with the center of a line segment connecting two light emitting points farthest apart as a rotation center.

請求項9の発明のマルチビーム走査光学装置は、
n(nは3以上の整数)個の発光点が直線状に所定間隔で離間して配置した発光点列が該直線と直交する方向に所定間隔でm(mは2以上の整数)列配置した面発光型の光源手段と、該光源手段から発せられた複数の光束を偏向する偏向手段と、該偏向手段で偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる結像光学系とを有し、該偏向手段の偏向動作により該被走査面を複数の光束で主走査方向に走査するマルチビーム走査光学装置において、
該被走査面上を走査する複数の走査線の中で、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔と、
i列目(i=1,2,・・・,m−1)のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線の中で、i+1列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線に最も近い走査線と、i+1列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線の中で、i列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線に最も近い走査線との間隔と、を測定する測定手段を有し、
該測定手段の測定結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整する調整手段を有することを特徴としている。
The multi-beam scanning optical device according to claim 9 is provided.
A sequence of light emitting points in which n (n is an integer of 3 or more) light emitting points are linearly arranged at a predetermined interval, and m (m is an integer of 2 or more) is arranged in a direction orthogonal to the straight line. A surface-emitting light source means, a deflecting means for deflecting a plurality of light beams emitted from the light source means, and an imaging optical system for imaging the plurality of light beams deflected by the deflecting means on the surface to be scanned; A multi-beam scanning optical apparatus that scans the scanned surface with a plurality of light beams in the main scanning direction by a deflection operation of the deflecting unit.
Among the plurality of scanning lines that scan on the surface to be scanned, an interval between two scanning lines that are most separated in the sub-scanning direction;
Among the n scanning lines when the surface to be scanned is scanned with n light beams emitted from n light emitting points in the i-th column (i = 1, 2,..., m−1). Thus, the scanning line closest to the n scanning lines when the surface to be scanned is scanned with the n light beams emitted from the n light emitting points in the i + 1 column and the n light emission in the i + 1 column. Of the n scanning lines when scanning the surface to be scanned with n light beams emitted from a point, the n light beams emitted from n light emitting points in the i-th column are scanned with the light beam. Measuring means for measuring the distance from the scanning line closest to the n scanning lines when scanning on the surface;
It has an adjusting means for adjusting the scanning line pitch interval in the sub-scanning direction based on the measurement result of the measuring means.

請求項10の発明は請求項9の発明において、
前記調整手段は、前記被走査面上において、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔をL(mm)、同時刻における第1の走査線を描く結像点と第1の走査線と隣り合う第2の走査線を描く結像点とを結んだ直線と第2の走査線の成す角度をθ、同時刻における第1の走査線を描く結像点と第1の走査線と隣り合う第2の走査線を描く結像点とを結んだ直線の長さをaとするとき、
0.9L/(mn−1)<(L−am(n−1)sinθ)/(m−1)<1.1L/(mn−1)
を満足するように走査線ピッチ間隔を調整することを特徴としている。
The invention of claim 10 is the invention of claim 9,
The adjustment means sets the interval between the two scanning lines that are most separated in the sub-scanning direction to L (mm) on the surface to be scanned, the imaging point that draws the first scanning line at the same time, and the first scanning The angle formed by the second scanning line and the straight line connecting the second scanning line adjacent to the line and the second scanning line is θ, and the imaging point and the first scanning line depicting the first scanning line at the same time And the length of the straight line connecting the image forming point that draws the second scanning line adjacent to the second scanning line,
0.9L / (mn-1) <(L-am (n-1) sin θ) / (m-1) <1.1L / (mn-1)
The scanning line pitch interval is adjusted so as to satisfy the above.

請求項11の発明の画像形成装置は、
請求項9又は10に記載のマルチビーム走査光学装置と、前記被走査面に配置された感光体と、前記マルチビーム走査光学装置で走査された光ビームによって前記感光体上に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像されたトナー像を被転写材に転写する転写器と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着器とを有することを特徴としている。
An image forming apparatus according to an eleventh aspect of the present invention comprises:
11. The multi-beam scanning optical device according to claim 9 or 10, a photoconductor disposed on the surface to be scanned, and electrostatic formed on the photoconductor by a light beam scanned by the multi-beam scanning optical device. The image forming apparatus includes a developing device that develops a latent image as a toner image, a transfer device that transfers the developed toner image onto a transfer material, and a fixing device that fixes the transferred toner image onto the transfer material. .

請求項12の発明の画像形成装置は、
請求項9又は10に記載のマルチビーム走査光学装置と、外部機器から入力したコードデータを画像信号に変換して前記マルチビーム走査光学装置に入力せしめるプリンタコントローラとを有していることを特徴としている。
An image forming apparatus according to the invention of claim 12
A multi-beam scanning optical apparatus according to claim 9 or 10, and a printer controller that converts code data input from an external device into an image signal and inputs the image signal to the multi-beam scanning optical apparatus. Yes.

請求項13の発明のカラー画像形成装置は、
各々が請求項9又は10に記載のマルチビーム走査光学装置の被走査面に配置され、互いに異なった色の画像を形成する複数の像担持体とを有することを特徴としている。
The color image forming apparatus of the invention of claim 13
Each of the plurality of image carriers is arranged on a surface to be scanned of the multi-beam scanning optical apparatus according to claim 9 or 10 and forms a plurality of different color images.

請求項14の発明は請求項13の発明において、
外部機器から入力した色信号を異なった色の画像データに変換して各々のマルチビーム走査光学装置に入力せしめるプリンタコントローラを有していることを特徴としている。
The invention of claim 14 is the invention of claim 13,
It has a printer controller that converts color signals input from an external device into image data of different colors and inputs them to each multi-beam scanning optical device.

本発明によれば光源手段が有する複数の発光点から発せられた複数の光束によって被走査面上を走査するときの複数の走査線の中で、最も離間した2本の走査線の間隔を測定し、その結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整することにより、走査線ピッチ間隔を所定の値に統一し、ピッチむらや色ずれの発生を抑え高品質な画像を形成することができる走査線ピッチ間隔調整方法及びそれを用いたマルチビーム走査光学装置を達成することができる。   According to the present invention, the distance between two scanning lines that are the farthest apart among a plurality of scanning lines when scanning the surface to be scanned with a plurality of light beams emitted from a plurality of light emitting points of the light source means is measured. By adjusting the scanning line pitch interval in the sub-scanning direction based on the result, the scanning line pitch interval can be unified to a predetermined value, and the occurrence of pitch unevenness and color misregistration can be suppressed to form a high quality image. A scanning line pitch interval adjusting method and a multi-beam scanning optical apparatus using the same can be achieved.

以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1は本発明の実施例1におけるマルチビーム走査光学装置の要部概略図である。   FIG. 1 is a schematic diagram of a main part of a multi-beam scanning optical apparatus according to Embodiment 1 of the present invention.

尚、以下の説明において、主走査方向とは回転多面鏡の回転軸及び結像光学系の光軸に垂直な方向(回転多面鏡で光束が反射偏向(偏向走査)される方向)である。副走査方向とは回転多面鏡の回転軸と平行な方向である。また主走査断面とは主走査方向と結像光学系の光軸を含む平面である。また副走査断面とは主走査断面と垂直な断面である。   In the following description, the main scanning direction is a direction perpendicular to the rotation axis of the rotating polygon mirror and the optical axis of the imaging optical system (the direction in which the light beam is reflected and deflected (deflected and scanned) by the rotating polygon mirror). The sub-scanning direction is a direction parallel to the rotation axis of the rotary polygon mirror. The main scanning section is a plane including the main scanning direction and the optical axis of the imaging optical system. The sub-scanning section is a section perpendicular to the main scanning section.

同図において1は直線状に所定の間隔(例えば等間隔)で離間して配置した独立に光変調が可能な3個の発光点(発光部)を有する光源手段であり、端面発光型のマルチビーム半導体レーザーより成っている。尚、発光点の数は3個以上であれば良い。   In the figure, reference numeral 1 denotes a light source means having three light emitting points (light emitting portions) that can be independently modulated and arranged linearly at predetermined intervals (for example, equal intervals). It consists of a beam semiconductor laser. Note that the number of light emitting points may be three or more.

2は光束変換素子(コリメータレンズ)であり、光源手段1から放射された光束を平行光束(もしくは発散光束もしくは収束光束)に変換している。3は開口絞りであり、通過光束を制限してビーム形状を整形している。4は光学系(シリンドリカルレンズ)であり、副走査方向にのみ所定のパワー(屈折力)を有しており、開口絞り3を通過した光束を副走査断面内で後述する光偏向器5の偏向面(反射面)5aにほぼ線像として結像させている。   A light beam conversion element (collimator lens) 2 converts a light beam emitted from the light source means 1 into a parallel light beam (or a divergent light beam or a convergent light beam). Reference numeral 3 denotes an aperture stop which shapes the beam shape by limiting the passing light flux. An optical system (cylindrical lens) 4 has a predetermined power (refractive power) only in the sub-scanning direction, and deflects a light beam that has passed through the aperture stop 3 by an optical deflector 5 to be described later in the sub-scan section. A substantially linear image is formed on the surface (reflection surface) 5a.

尚、コリメーターレンズ2、開口絞り3、そしてシリンドリカルレンズ4等の各要素は入射光学手段LAの一要素を構成している。またシリンドリカルレンズ4、コリメータレンズ2を1つの光学素子(アナモフィックレンズ)で構成しても良い。   Each element such as the collimator lens 2, the aperture stop 3, and the cylindrical lens 4 constitutes one element of the incident optical means LA. Further, the cylindrical lens 4 and the collimator lens 2 may be constituted by one optical element (anamorphic lens).

5は偏向手段としての光偏向器であり、例えば6面構成のポリゴンミラー(回転多面鏡)より成っており、モーター等の駆動手段(不図示)により図中矢印A方向に一定速度で回転している。   An optical deflector 5 as a deflecting means is composed of, for example, a six-sided polygon mirror (rotating polygon mirror), and is rotated at a constant speed in the direction of arrow A in the figure by a driving means (not shown) such as a motor. ing.

6は集光機能とfθ特性とを有する結像光学系(fθレンズ系)であり、単一のプラスチック材料で形成された非球面トーリックレンズ(結像レンズ)より成り、光偏向器5によって反射偏向された画像情報に基づく光束を被走査面としての感光ドラム面8上に結像させ、かつ副走査断面内において光偏向器5の偏向面5aと感光ドラム面7との間を共役関係にすることにより、面倒れ補償を行っている。   Reference numeral 6 denotes an imaging optical system (fθ lens system) having a condensing function and an fθ characteristic. The imaging optical system 6 includes an aspheric toric lens (imaging lens) formed of a single plastic material, and is reflected by the optical deflector 5. A light beam based on the deflected image information is imaged on the photosensitive drum surface 8 as a surface to be scanned, and the deflection surface 5a of the optical deflector 5 and the photosensitive drum surface 7 are in a conjugate relationship in the sub-scan section. By doing so, compensation for falling down is performed.

8は被走査面としての感光ドラム面である。   Reference numeral 8 denotes a photosensitive drum surface as a surface to be scanned.

9は測定手段としての測定器(センサー)であり、光偏向器5の偏向動作により被走査面8を複数の光束で主走査方向に走査するとき、該被走査面8を走査する複数の走査線の中で、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔を測定している。10は調整手段であり、測定手段9で測定された結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整している。   Reference numeral 9 denotes a measuring device (sensor) as a measuring means. When the surface to be scanned 8 is scanned in the main scanning direction with a plurality of light beams by the deflection operation of the optical deflector 5, a plurality of scans for scanning the surface to be scanned 8 are performed. Among the lines, the distance between two scanning lines that are the most spaced apart in the sub-scanning direction is measured. Reference numeral 10 denotes an adjusting unit which adjusts the scanning line pitch interval in the sub-scanning direction based on the result measured by the measuring unit 9.

本実施例における結像レンズ6の屈折面の面形状は以下の形状表現式により表されている。光学面と光軸との交点を原点とし、光軸方向をX軸、主走査断面内において光軸と直交する軸をY軸、副走査断面内において光軸と直交する軸をZ軸としたとき、主走査方向と対応する母線方向が、   The surface shape of the refractive surface of the imaging lens 6 in the present embodiment is expressed by the following shape expression. The intersection of the optical surface and the optical axis is the origin, the optical axis direction is the X axis, the axis orthogonal to the optical axis in the main scanning section is the Y axis, and the axis orthogonal to the optical axis in the sub-scanning section is the Z axis. When the bus direction corresponding to the main scanning direction is

(但し、Rは曲率半径、K、B4、B6、B8、B10は非球面係数)と表され
副走査方向(光軸を含み主走査方向に対して直交する方向)と対応する子線方向が、
(Where R is the radius of curvature, and K, B 4 , B 6 , B 8 , and B 10 are aspheric coefficients) and corresponds to the sub-scanning direction (including the optical axis and perpendicular to the main scanning direction). Child line direction is

と表せる。ここで r'=r0(1+D2Y2+D4Y4+D6Y6+D8Y8+D10Y10
(但し、r0は光軸上の子線曲率半径、D2、D4、D6、D8、D10は係数)
Sは母線方向の各々の位置における母線の法線を含み主走査断面と垂直な面内に定義される子線形状である。
It can be expressed. Where r ′ = r0 (1 + D 2 Y 2 + D 4 Y 4 + D 6 Y 6 + D 8 Y 8 + D 10 Y 10 )
(However, r0 is the sagittal curvature radius on the optical axis, D 2, D 4, D 6, D 8, D 10 are coefficients)
S is a child line shape defined in a plane perpendicular to the main scanning section including the normal line of the bus bar at each position in the bus bar direction.

尚、本表現式では面形状表現式における次数を制限して記してあるが、本実施例の範囲はこれを制限するものではなく、次数を上げるほど設計自由度が増し、収差が少なくなることは言うまでも無い。また面形状表現式自体も同等の面表現自由度を有した表現式であれば、問題無く本実施例の効果を得ることが可能である。   In this expression, the order in the surface shape expression is limited. However, the scope of the present embodiment does not limit this, and the higher the order, the greater the degree of design freedom and the smaller the aberration. Needless to say. If the surface shape expression itself is an expression having the same degree of freedom of surface expression, the effect of this embodiment can be obtained without any problem.

本実施例における結像レンズ6は、両面にアナモフィック面を有する単レンズにより構成され、主走査面内において第1面(入射面)が偏向器側に凸面を向けた非球面、第2面(出射面)は被走査面側に凸面を向けた円弧よりなり、副走査面内においては、第1面は平面、第2面は被走査面側に凸面を向けた円弧で、その曲率はレンズの有効部内において軸上から軸外に向かい連続的に変化させている。   The imaging lens 6 in this embodiment is composed of a single lens having anamorphic surfaces on both sides, and the first surface (incident surface) is an aspherical surface and a second surface (with the convex surface facing the deflector side) in the main scanning surface ( The exit surface is a circular arc with a convex surface facing the surface to be scanned. Within the sub-scanning surface, the first surface is a flat surface, the second surface is a circular arc with the convex surface facing the surface to be scanned, and its curvature is a lens. In the effective part of the head, it is continuously changed from on-axis to off-axis.

本実施例において光源手段1より出射した3つの光束はコリメーターレンズ2により平行光束に変換され、絞り3によって該光束(光量)を制限してシリンドリカルレンズ4に入射する。シリンドリカルレンズ4に入射した2つの平行光束のうち主走査断面内においてはそのまま平行光束の状態で射出する。また副走査断面内においては集束して光偏向器5の偏向面5aにほぼ線像(主走査方向に長手の線像)として結像する。そして光偏向器5の偏向面で偏向反射された3つの光束は主走査方向と副走査方向とで互いに異なる屈折力を有する結像レンズ6を介して感光ドラム面8上の互いに異なる領域に導光され、該光偏向器5を矢印A方向に回転させることによって、該感光ドラム面8上を3つの光束で矢印B方向(主走査方向)に同時に光走査している。これにより記録媒体である感光ドラム面上18に画像記録を行っている。   In this embodiment, the three light beams emitted from the light source means 1 are converted into parallel light beams by the collimator lens 2, and the light beam (light amount) is limited by the diaphragm 3 and is incident on the cylindrical lens 4. Of the two parallel light beams incident on the cylindrical lens 4, the parallel light beams are emitted as they are in the main scanning section. In the sub-scan section, the light beam is converged and formed on the deflection surface 5a of the optical deflector 5 as a substantially line image (a line image that is long in the main scanning direction). The three light beams deflected and reflected by the deflecting surface of the optical deflector 5 are guided to different regions on the photosensitive drum surface 8 via the imaging lens 6 having different refractive powers in the main scanning direction and the sub-scanning direction. By rotating the light deflector 5 in the direction of arrow A, the photosensitive drum surface 8 is simultaneously scanned in the direction of arrow B (main scanning direction) with three light beams. As a result, an image is recorded on the photosensitive drum surface 18 as a recording medium.

図2は本実施例における光源手段としてのマルチビーム半導体レーザーユニット200の要部概略図である。   FIG. 2 is a schematic view of the main part of a multi-beam semiconductor laser unit 200 as light source means in the present embodiment.

同図におけるマルチビーム半導体レーザーユニット200は半導体レーザー光源202とホルダ203とコリメーターレンズ204が内蔵された鏡筒205とから構成されている。半導体レーザー光源202は圧入や接着によってホルダ203に固定され、ホルダ203はコリメーターレンズ204が内蔵された鏡筒205に接着固定されている。マルチビーム半導体レーザーユニット200は光学箱206の圧入孔207に圧入によって仮固定される。その後に、副走査方向の走査線ピッチ間隔の調整をマルチビーム半導体レーザーユニット200をB−B’方向に回転することで行う。B−B’方向への回転調整は、ホルダ203に設けられた回転調整用孔209に回転調整用治具210に設けられた回転調整用ピン211を嵌合させて、回転調整用治具を回転させて行い、所定の解像度に対応したピッチ間隔になったところで回転調整を完了する。   A multi-beam semiconductor laser unit 200 shown in FIG. 1 includes a semiconductor laser light source 202, a holder 203, and a lens barrel 205 in which a collimator lens 204 is built. The semiconductor laser light source 202 is fixed to a holder 203 by press-fitting or bonding, and the holder 203 is bonded and fixed to a lens barrel 205 in which a collimator lens 204 is built. The multi-beam semiconductor laser unit 200 is temporarily fixed to the press-fitting hole 207 of the optical box 206 by press-fitting. Thereafter, the scanning line pitch interval in the sub-scanning direction is adjusted by rotating the multi-beam semiconductor laser unit 200 in the B-B ′ direction. The rotation adjustment in the BB ′ direction is performed by fitting the rotation adjustment pin 211 provided in the rotation adjustment jig 210 into the rotation adjustment hole 209 provided in the holder 203, and The rotation adjustment is completed, and the rotation adjustment is completed when a pitch interval corresponding to a predetermined resolution is reached.

次に本実施例の特徴とする、3個の発光点を有するマルチビーム半導体レーザーユニット200から出射された3つの光束によって走査される走査線ピッチ間隔を調整し、調整誤差を小さく抑える方法について説明する。   Next, a method of adjusting the scanning line pitch interval scanned by three light beams emitted from the multi-beam semiconductor laser unit 200 having three light emitting points, which is a feature of the present embodiment, to suppress the adjustment error to be small will be described. To do.

図3は本実施例におけるマルチビーム半導体レーザーユニット200が有する3個の発光点301,302,303の配置を示した図である。同図において図2に示した要素と同一要素には同符番を付している。   FIG. 3 is a diagram showing the arrangement of the three light emitting points 301, 302, and 303 included in the multi-beam semiconductor laser unit 200 in this embodiment. In the figure, the same elements as those shown in FIG.

同図に示すように本実施例におけるマルチビーム半導体レーザーユニット200は3個の発光点301,302,303を有し、該3個の発光点301,302,303が主走査方向及び副走査方向に対して各々所定の間隔、例えば等間隔に離間して配置されている。   As shown in the figure, the multi-beam semiconductor laser unit 200 in this embodiment has three light emitting points 301, 302, and 303, and the three light emitting points 301, 302, and 303 are respectively set at predetermined intervals in the main scanning direction and the sub-scanning direction. For example, they are arranged at regular intervals.

走査線ピッチ間隔測定におけるピッチ間隔の検出には、前述した図13に示す既知の手法であるレーザービームの走査方向と直交する方向の通過位置変化に対して、その出力が連続的かつ広範囲に変化するセンサパターンS1を用い、最初にセンサパターンS1を通過する第1のビームの出力値をメモリに記憶しておき、第2のビームがセンサパターンS1を通過しその出力が出力されたときに、前記メモリに記憶させておいた第1のビームの出力値との差分をとり、所定の値と比較することで走査間隔の相対距離を検出する方法等が用いられている。尚、走査線ピッチ間隔検出方法に関しては上記の方法に限定されるものではなく、その要旨の範囲内であれば他の方法でも良い。   In the detection of the pitch interval in the scanning line pitch interval measurement, the output changes continuously and over a wide range with respect to the passing position change in the direction orthogonal to the scanning direction of the laser beam, which is the known method shown in FIG. When the sensor pattern S1 is used, the output value of the first beam passing through the sensor pattern S1 is first stored in the memory, and when the second beam passes through the sensor pattern S1 and the output is output, A method of detecting the relative distance of the scanning interval by taking a difference from the output value of the first beam stored in the memory and comparing it with a predetermined value is used. The scanning line pitch interval detection method is not limited to the above method, and other methods may be used within the scope of the gist.

図4は本実施例における走査線ピッチ間隔測定箇所の説明図である。   FIG. 4 is an explanatory diagram of the scanning line pitch interval measurement location in this embodiment.

同図において311,312,313は各々発光点301,302,303から発せられた光束によって被走査面8上を走査(形成)したときの走査線である。   In the figure, reference numerals 311, 312, and 313 denote scanning lines when the surface to be scanned 8 is scanned (formed) by light beams emitted from the light emitting points 301, 302, and 303, respectively.

光源手段に用いたマルチビーム半導体レーザーユニット200が有する3個の発光点301,302,303から発せられた3つの光束によって被走査面8上を走査するときの3本の走査線の走査線ピッチ間隔を、例えば1200dpiの画素密度(解像度)に相当する21μmに調整するために3本の走査線の間隔を測定器で測定する。   For example, the scanning line pitch interval of the three scanning lines when the scanning surface 8 is scanned with the three light beams emitted from the three light emitting points 301, 302, and 303 included in the multi-beam semiconductor laser unit 200 used as the light source means is, for example, In order to adjust to 21 μm corresponding to a pixel density (resolution) of 1200 dpi, the interval between the three scanning lines is measured with a measuring instrument.

測定方法は走査有効域の中心付近及び両端で行い、その結果に基づき走査線ピッチ間隔を調整する。   The measurement method is performed near the center and both ends of the effective scanning area, and the scanning line pitch interval is adjusted based on the result.

従来では、マルチビーム半導体レーザーユニットの回転によるピッチ間隔調整を行う場合、複数の発光点から発せられた複数の光束によって走査される走査線の中で隣接する走査線の間隔を測定し、その結果に基づき調整を行っていた。   Conventionally, when adjusting the pitch interval by rotating the multi-beam semiconductor laser unit, the interval between adjacent scanning lines among the scanning lines scanned by a plurality of light beams emitted from a plurality of light emitting points is measured. Adjustments were made based on

しかしながら走査線のピッチ間隔測定器の測定精度には限度があるため、上記のような調整を行っても、更なるレーザービームプリンタの高速化、高精細化の要求に応えられなくなってしまう。   However, since there is a limit to the measurement accuracy of the scanning line pitch interval measuring device, even if the adjustment as described above is performed, it becomes impossible to meet the demand for higher speed and higher definition of the laser beam printer.

そこで本実施例では図4の黒矢印で示すように3個の発光点301,302,303から発せられた3つの光束によって被走査面8上を走査したときの3本の走査線311,312,313の中で、最も離間した2本の走査線311、313の間隔Lを測定手段9により走査有効幅内の少なくとも2ヶ所で測定し、その結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整手段10で調整している。   Therefore, in this embodiment, as shown by the black arrows in FIG. 4, the three scanning lines 311, 312 and 313 are the most separated when the scanning surface 8 is scanned with the three light beams emitted from the three light emitting points 301, 302 and 303. The distance L between the two scanning lines 311 and 313 is measured by the measuring means 9 at at least two places within the effective scanning width, and the scanning line pitch interval in the sub-scanning direction is adjusted by the adjusting means 10 based on the result. .

ここで走査線ピッチ間隔測定器の測定精度が±2μmであると、最も離間した走査線ピッチ間隔の調整誤差は±2μmとなり、走査線数をPnとすると近接した走査線の各々のピッチ間隔調整誤差は±2μm/(Pn−1)となり、従来に比べて誤差の低減が可能となる。本実施例においては走査線数が3本であるので、従来では走査線のピッチ間隔調整誤差は±4μm程度になるのに対し、本実施例では±1μm程度に抑えることが出来る。このことより本実施例は走査線数が多くなるほど有効であることが判る。   Here, if the measurement accuracy of the scanning line pitch interval measuring device is ± 2 μm, the adjustment error of the most separated scanning line pitch interval is ± 2 μm. If the number of scanning lines is Pn, the pitch interval adjustment of each adjacent scanning line is adjusted. The error is ± 2 μm / (Pn−1), and the error can be reduced as compared with the conventional case. In this embodiment, since the number of scanning lines is three, the scanning line pitch interval adjustment error is conventionally about ± 4 μm, whereas in this embodiment, it can be suppressed to about ± 1 μm. From this, it can be seen that the present embodiment is more effective as the number of scanning lines increases.

本実施例では被走査面上において、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔をL(mm)、走査線の数をPn、該被走査面上の副走査方向における画素密度をA(dot/inch)とするとき、走査有効幅内全域で、
2/3×(Pn−1)×25.4/A<L<4/3×(Pn−1)×25.4/A
・・・(3)
を満足するように走査線ピッチ間隔を調整している。 但し、Pn=n×m
尚、本実施例における被走査面上の副走査方向における画素密度(解像度)Aは1200dpi以上である。
In this embodiment, on the surface to be scanned, the distance between the two scanning lines that are most separated in the sub-scanning direction is L (mm), the number of scanning lines is Pn, and the pixel density in the sub-scanning direction on the surface to be scanned is When A (dot / inch) is assumed,
2/3 × (Pn−1) × 25.4 / A <L <4/3 × (Pn−1) × 25.4 / A
... (3)
The scanning line pitch interval is adjusted to satisfy the above. However, Pn = n × m
In this embodiment, the pixel density (resolution) A in the sub-scanning direction on the surface to be scanned is 1200 dpi or more.

更に望ましくは上記条件式(3)を次の如く設定するのが良い。   More preferably, the conditional expression (3) should be set as follows.

5/6×(Pn−1)×25.4/A<L<7/6×(Pn−1)×25.4/A
・・・(3a)
本実施例では副走査方向において1200dpiの画素密度とするため、所望の走査線ピッチ間隔を約21μmとし、最も離間した2本の走査線の間隔が42±14μm以内、つまりは走査線ピッチ間隔が21±7μmであれば実用上問題のない走査線間隔になる。
5/6 × (Pn−1) × 25.4 / A <L <7/6 × (Pn−1) × 25.4 / A
... (3a)
In this embodiment, in order to obtain a pixel density of 1200 dpi in the sub-scanning direction, the desired scanning line pitch interval is about 21 μm, and the interval between the two most separated scanning lines is within 42 ± 14 μm, that is, the scanning line pitch interval is If it is 21 ± 7 μm, the scanning line spacing is practically acceptable.

各々の発光点301,302,303から発せられた3つの光束によって被走査面8上を走査したときの3本の走査線311,312,313の各々の間隔が21μmよりも大きい場合は、図3において矢印のB方向にマルチビーム半導体レーザーユニット200を回転させ、発光点301,302,303から発せられた3つの光束によって被走査面8上を走査したときの3本の走査線311,312,313の各々の間隔が21μmよりも小さい場合は、矢印のB´方向にマルチビーム半導体レーザーユニット200を回転させて間隔を調整する。   When the interval between the three scanning lines 311, 312 and 313 when the surface 8 is scanned with the three light beams emitted from the respective light emitting points 301, 302 and 303 is larger than 21 μm, multiple lines are formed in the direction indicated by the arrow B in FIG. When the distance between the three scanning lines 311, 312 and 313 when the beam semiconductor laser unit 200 is rotated and the surface 8 to be scanned is scanned with three light beams emitted from the light emitting points 301, 302 and 303 is smaller than 21 μm, The multi-beam semiconductor laser unit 200 is rotated in the B ′ direction to adjust the interval.

尚、マルチビーム半導体レーザーユニット200の回転中心は最も離間した2つの発光点301、303を結ぶ線分の中心としている。この線分の中心を回転中心として光軸回りに回転させることにより副走査方向の走査線ピッチ間隔調整を行っている。   Note that the rotation center of the multi-beam semiconductor laser unit 200 is the center of a line segment that connects two light emitting points 301 and 303 that are the farthest apart. The scanning line pitch interval in the sub-scanning direction is adjusted by rotating around the optical axis with the center of this line segment as the rotation center.

尚、本実施例においてはマルチビーム半導体レーザーユニット200により出射された3つの光束によって走査される走査線の中で最も離間した2本の走査線間隔を走査有効域の中心付近及び両端で測定し、その結果に基づき走査線ピッチ間隔を調整したが、これに限らず、例えば走査有効幅内の少なくとも2ヶ所で測定し、測定値の平均化を行うように調整しても良い。これにより測定精度がさらに向上するので走査有効幅内での走査線ピッチ間隔をより均等に保つことが可能になる。   In this embodiment, the distance between two scanning lines that are the farthest among the scanning lines scanned by the three light beams emitted from the multi-beam semiconductor laser unit 200 is measured near the center of the effective scanning area and at both ends. The scanning line pitch interval is adjusted based on the result. However, the present invention is not limited to this. For example, the scanning line pitch interval may be measured at at least two points within the effective scanning width, and the measurement values may be averaged. As a result, the measurement accuracy is further improved, so that the scanning line pitch interval within the effective scanning width can be kept more uniform.

本実施例では上記の如く3本の走査線のピッチ間隔を所望の値に調整する際、図4に示すように最も離間した2個の発光点301、303から発せられた2つの光束によって被走査面8上を走査したときの2本の走査線311、313のピッチ間隔Lを測定し、その結果に基づきマルチビーム半導体レーザーユニット200の回転による調整を行っている。このような走査線のピッチ間隔の測定法により、本実施例ではピッチ間隔調整時の調整誤差を低減することを可能としている。これにより走査線間隔を所定の値に統一し、ピッチむらや色ずれの発生を抑え高品質な画像を形成することが実現できる。   In this embodiment, as described above, when the pitch interval of the three scanning lines is adjusted to a desired value, as shown in FIG. 4, the two light beams emitted from the two light emitting points 301 and 303 farthest away from each other are used. The pitch interval L between the two scanning lines 311 and 313 when the scanning surface 8 is scanned is measured, and the adjustment by the rotation of the multi-beam semiconductor laser unit 200 is performed based on the result. With this method of measuring the pitch interval of the scanning lines, in this embodiment, it is possible to reduce the adjustment error when adjusting the pitch interval. As a result, it is possible to unify the scanning line interval to a predetermined value and suppress the occurrence of pitch unevenness and color misregistration to form a high-quality image.

尚、本実施例では光源手段として端面発光型のマルチビーム半導体レーザーを用いたが、これに限らず、例えば面発光型のマルチビーム半導体レーザーを用いても良い。面発光型のマルチビーム半導体レーザーを用いると、光軸に対しすべての発光点を近接させることが出来るため光学的収差を低減出来る。   In this embodiment, the edge-emitting multi-beam semiconductor laser is used as the light source means. However, the present invention is not limited to this. For example, a surface-emitting multi-beam semiconductor laser may be used. When a surface-emitting type multi-beam semiconductor laser is used, all light emitting points can be brought close to the optical axis, so that optical aberration can be reduced.

また本実施例では結像光学系を単一のプラスチック材料で形成された非球面トーリックレンズより構成したが、レンズ枚数や材料に限定させるものではなく、枚数は2枚以上でも良く、モールドプロセスで成形されたガラスレンズでも良い。また本実施例においては特にプラスチックレンズで顕著な環境変動時のピント移動を補償する為に結像光学系のうち少なくとも一方の面に回折格子面を設けて形成しても良い。本実施例の調整方法に従えば、同様にピッチ間隔の調整誤差を低減出来ることは言うまでもない。   In this embodiment, the imaging optical system is composed of an aspheric toric lens formed of a single plastic material. However, the number of lenses is not limited to the number of materials, and the number of lenses may be two or more. A molded glass lens may be used. In this embodiment, in particular, a plastic lens may be formed by providing a diffraction grating surface on at least one surface of the imaging optical system in order to compensate for the focus movement at the time of remarkable environmental fluctuation. It goes without saying that the adjustment error of the pitch interval can be similarly reduced according to the adjustment method of this embodiment.

このように本実施例では上述の如く光源手段としてマルチビーム半導体レーザーユニット200を用い、該マルチビーム半導体レーザーユニット200が有する発光点から発せられた複数の光束によって被走査面8上を走査するときの複数の走査線の中で、最も離間した2本の走査線の間隔を測定し、その結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整することにより、従来よりもピッチ間隔の調整誤差を低減することを可能としている。これにより本実施例ではピッチむらや色ずれの発生を抑え高品質な画像を形成することを実現している。   As described above, in this embodiment, when the multi-beam semiconductor laser unit 200 is used as the light source means as described above, and the surface to be scanned 8 is scanned with a plurality of light beams emitted from the light emitting points of the multi-beam semiconductor laser unit 200. By measuring the distance between the two scanning lines that are the farthest among the plurality of scanning lines, and adjusting the scanning line pitch interval in the sub-scanning direction based on the result, the pitch interval adjustment error can be reduced more than in the conventional case. It is possible to reduce. Thus, in this embodiment, it is possible to suppress the occurrence of pitch unevenness and color misregistration and form a high quality image.

図5は本発明の実施例2における複数の発光点を有する光源手段が有する発光点の配置図、図6は本発明の実施例2における走査線ピッチ間隔測定箇所の説明図である。   FIG. 5 is an arrangement diagram of the light emitting points of the light source means having a plurality of light emitting points according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 6 is an explanatory diagram of the scanning line pitch interval measurement points in the second embodiment of the present invention.

本実施例において前述の実施例1と異なる点は光源手段11をm×nのマトリックスで構成されたm×nの発光点を有する面発光型のマルチビーム半導体レーザーユニットより構成したことである。その他の構成及び光学的作用は実施例1と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。   The present embodiment is different from the above-described first embodiment in that the light source means 11 is composed of a surface-emitting type multi-beam semiconductor laser unit having m × n light emitting points constituted by an m × n matrix. Other configurations and optical actions are substantially the same as those in the first embodiment, and the same effects are obtained.

即ち、図5において11は光源手段であり、n(nは3以上の整数で本実施例ではn=3)個の発光点が直線状に所定間隔で離間して配置した発光点列が該直線と直交する方向に所定間隔でm(mは2以上の整数で本実施例ではm=2)列配置した、面発光型のマルチビーム半導体レーザーユニットより成っている。   That is, in FIG. 5, 11 is a light source means, and a light emitting point sequence in which n (n is an integer of 3 or more and n = 3 in this embodiment) light emitting points are linearly arranged at predetermined intervals. It consists of a surface emitting type multi-beam semiconductor laser unit arranged in m (m is an integer of 2 or more and m = 2 in this embodiment) rows at a predetermined interval in a direction orthogonal to the straight line.

このマルチビーム半導体レーザーユニット11は3個の発光点が直線状に等間隔に離間して並んだ発光点列が2列あり、3×2のマトリックスで構成された6個の発光点401、402、403、404、405、406を有している。図6において411、412、413、414、415、416は各々発光点401、402、403、404、405、406から発せられた光束によって被走査面8上を走査(形成)したときの走査線である。   This multi-beam semiconductor laser unit 11 has two light emitting point rows in which three light emitting points are arranged in a straight line at equal intervals, and has six light emitting points 401 and 402 configured in a 3 × 2 matrix. , 403, 404, 405, and 406. In FIG. 6, reference numerals 411, 412, 413, 414, 415, and 416 denote scanning lines when the surface to be scanned 8 is scanned (formed) by light beams emitted from the light emitting points 401, 402, 403, 404, 405, and 406, respectively. It is.

本実施例では前述の実施例1と同様に光源手段11が有する6個の発光点401、402、403、404、405、406から発せられた6つの光束によって被走査面8上を走査したときの6本の走査線411、412、413、414、415、416の中で、図6の黒矢印で示すように最も離間した2本の走査線411、416の間隔Lを測定手段で測定し、その結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整手段で調整している(第1工程)。   In the present embodiment, when the surface to be scanned 8 is scanned with six light beams emitted from the six light emitting points 401, 402, 403, 404, 405, and 406 included in the light source means 11 as in the first embodiment. Among the six scanning lines 411, 412, 413, 414, 415, and 416, the distance L between the two scanning lines 411 and 416 that are the farthest apart as shown by the black arrows in FIG. Based on the result, the scanning line pitch interval in the sub-scanning direction is adjusted by the adjusting means (first step).

更に本実施例では最も離間した2本の走査線411、416の間隔のみを測定するのではなく、図6の白矢印で示したように1列目の発光点列から発せられた3つの光束によって被走査面8上を走査したときの3本の走査線411,412,413の中で最も2列目の発光点列から発せられた3つの光束によって被走査面8上を走査したときの3本の走査線414,415,416に近い走査線413と、2列目の発光点列から発せられた3つの光束によって被走査面8上を走査したときの3本の走査線414,415,416の中で最も1列目の発光点列から発せられた3つの光束によって被走査面8上を走査したときの3本の走査線411,412,413に近い走査線414との間隔Hを測定手段で測定し、その結果に基づき調整している(第2工程)。これによりすべてのピッチ間隔を低誤差且つ均等に調整することが可能となる。   Further, in this embodiment, not only the distance between the two most separated scanning lines 411 and 416 is measured, but three light beams emitted from the first light emitting point row as shown by the white arrows in FIG. Of the three scanning lines 411, 412, and 413 when the scanning surface 8 is scanned by the three scanning lines when the scanning surface 8 is scanned by the three light beams emitted from the second light emitting point sequence. The scanning line 413 close to the lines 414, 415, and 416 and the light emitting point in the first row among the three scanning lines 414, 415, and 416 when the surface to be scanned 8 is scanned by three light beams emitted from the second light emitting point row The distance H between the scanning lines 414 close to the three scanning lines 411, 412, and 413 when the surface 8 is scanned with the three light beams emitted from the columns is measured by the measuring means, and is adjusted based on the result ( Second step). As a result, all pitch intervals can be adjusted with low error and evenness.

ここで、θとは、有効走査域内に存在する隣り合う走査線411と走査線412内で定義される。同時刻における走査線411を描く結像点401と走査線412を描く結像点402とを結んだ直線と走査線412の成す角度をθと定義する。   Here, θ is defined in the adjacent scanning line 411 and the scanning line 412 existing in the effective scanning area. The angle formed by the scanning line 412 and the straight line connecting the imaging point 401 that draws the scanning line 411 and the imaging point 402 that draws the scanning line 412 at the same time is defined as θ.

図6では、走査線412を描く結像点402の方が走査線411を描く結像点401よりも先を走っている(図6で言うと、左から右に向い、走査線が描かれていく)。その理由は、光源手段11において、図5の如く、発光点401と発光点402は、主走査方向に離間しているためである。   In FIG. 6, the imaging point 402 that draws the scanning line 412 runs ahead of the imaging point 401 that draws the scanning line 411 (in FIG. 6, the scanning line is drawn from left to right. To go). The reason is that in the light source means 11, as shown in FIG. 5, the light emitting point 401 and the light emitting point 402 are separated in the main scanning direction.

時間と共に、ポリゴンミラー(回転多面鏡)が回転することで、図6で言うと、結像点401が左側から右側に走査され、走査線411が描かれる。   As the polygon mirror (rotating polygonal mirror) rotates with time, the imaging point 401 is scanned from the left side to the right side as shown in FIG. 6, and the scanning line 411 is drawn.

同時刻における走査線411を描く結像点401と走査線412を描く結像点402とは、任意の時刻におけるポリゴンミラー(回転多面鏡)の任意の回転角における走査線411を描く結像点401と走査線412を描く結像点402を意味する。つまり、結像点401と結像点402は、同一回転角で定義される点である。   An imaging point 401 for drawing the scanning line 411 at the same time and an imaging point 402 for drawing the scanning line 412 are the imaging points for drawing the scanning line 411 at an arbitrary rotation angle of the polygon mirror (rotating polygonal mirror) at an arbitrary time. This means an imaging point 402 where 401 and a scanning line 412 are drawn. That is, the image formation point 401 and the image formation point 402 are defined at the same rotation angle.

aは、同時刻における走査線411を描く結像点401と走査線412を描く結像点402を結んだ直線の長さと定義される。   a is defined as the length of a straight line connecting the imaging point 401 for drawing the scanning line 411 and the imaging point 402 for drawing the scanning line 412 at the same time.

同様に、θとは、有効走査域内に存在する隣り合う走査線412と走査線413内で定義される。同時刻における走査線412を描く結像点402と走査線413を描く結像点403とを結んだ直線と走査線413の成す角度をθと定義する。   Similarly, θ is defined in the adjacent scanning line 412 and scanning line 413 existing in the effective scanning area. The angle formed by the straight line connecting the imaging point 402 that draws the scanning line 412 and the imaging point 403 that draws the scanning line 413 and the scanning line 413 at the same time is defined as θ.

同様に、同時刻における走査線412を描く結像点402と走査線413を描く結像点403とを結んだ直線の長さと定義される。   Similarly, it is defined as the length of a straight line connecting the imaging point 402 that draws the scanning line 412 and the imaging point 403 that draws the scanning line 413 at the same time.

また本実施例の測定方法は前述の実施例1と同様に走査有効域の中心付近及び両端で行い、その結果に基づき走査線ピッチ間隔を調整する。   The measurement method of this embodiment is performed near the center and both ends of the effective scanning area in the same manner as in the first embodiment, and the scanning line pitch interval is adjusted based on the result.

本実施例における副走査方向のピッチ間隔調整とは、複数の発光点を有するマルチビーム半導体レーザーユニット200を光軸周りに回転させることにより調整するもので、該マルチビーム半導体レーザーユニット200の回転中心は最も離間した2つの発光点を結ぶ線分の中心としている。この線分の中心を回転中心として光軸回りに回転させることにより副走査方向の走査線ピッチ間隔調整を行っている。   In this embodiment, the pitch interval adjustment in the sub-scanning direction is performed by rotating the multi-beam semiconductor laser unit 200 having a plurality of light emitting points around the optical axis, and the rotation center of the multi-beam semiconductor laser unit 200 is adjusted. Is the center of the line segment connecting the two most spaced light emitting points. The scanning line pitch interval in the sub-scanning direction is adjusted by rotating around the optical axis with the center of this line segment as the rotation center.

n個の発光点が直線状で等間隔に離間して並んだ発光点列がm列存在するm×nのマトリックスで構成されている光源手段において、有効走査域内で同時刻における第1の走査線を描く結像点と第1の走査線と隣り合う第2の走査線を描く結像点とを結んだ直線と第2の走査線の成す角度をθ、同時刻における第1の走査線を描く結像点と第1の走査線と隣り合う第2の走査線を描く結像点とを結んだ直線の長さをa、該発光点から発せられた複数の光束によって被走査面上を走査するときの複数の走査線の中で、最も離間した2本の走査線のピッチ間隔をLとすると、1列あたりのピッチ間隔数はn−1、それがm列あり、列同士の間隔数がm−1となるのでピッチ間隔の理想値は、   The first scanning at the same time within the effective scanning area in the light source means comprising an m × n matrix in which there are m light emitting point arrays in which n light emitting points are arranged in a straight line at equal intervals. The angle formed by the second scanning line and the straight line connecting the imaging point that draws the line and the imaging point that draws the second scanning line adjacent to the first scanning line is θ, and the first scanning line at the same time The length of the straight line connecting the image forming point for drawing the image forming point for drawing the second scanning line adjacent to the first scanning line is a on the surface to be scanned by a plurality of light beams emitted from the light emitting point. Of the plurality of scanning lines when scanning, if the pitch interval between the two most distant scanning lines is L, the number of pitch intervals per column is n−1, and there are m columns. Since the number of intervals is m−1, the ideal value of the pitch interval is

となる。また1列あたりの副走査方向の距離a(n−1)sinθ、列同士の間隔数がm−1となるので調整前のピッチ間隔は It becomes. Further, since the distance a (n−1) sin θ in the sub-scanning direction per column and the number of intervals between the columns are m−1, the pitch interval before adjustment is

となる。よってピッチ間隔を所望の値にするためには
0.9L/(mn−1)<(L−am(n−1)sinθ)/(m−1)<1.1L/(mn−1) ・・・(6)
を満足する必要がある。
It becomes. Therefore, 0.9 L / (mn−1) <(L−am (n−1) sin θ) / (m−1) <1.1 L / (mn−1) in order to set the pitch interval to a desired value. (6)
Need to be satisfied.

条件式(6)において、調整前のピッチ間隔P(L−am(n−1)sinθ)/(m−1)がピッチ間隔の理想値L/(mn−1)であれば完全に走査線間隔を理想値と同様の値にすることが可能となる。またこの調整前のピッチ間隔P(L−am(n−1)sinθ)/(m−1)がL/(mn−1)より大きいと走査線間隔は理想値より広く、小さいと理想値より狭いが、条件式(6)の範囲内であれば実用上問題のない走査線間隔になっている。   In conditional expression (6), if the pitch interval P (L-am (n−1) sin θ) / (m−1) before adjustment is an ideal value L / (mn−1) of the pitch interval, the scanning line is completely obtained. The interval can be set to a value similar to the ideal value. If the pitch interval P (L-am (n-1) sin θ) / (m-1) before adjustment is larger than L / (mn-1), the scanning line interval is wider than the ideal value, and if it is smaller, it is larger than the ideal value. Although narrow, within the range of conditional expression (6), the scanning line spacing is practically acceptable.

更に望ましくは上記条件式(6)を次の如く設定するのが良い。   More preferably, the conditional expression (6) should be set as follows.

5/6・L/(mn−1)<(L−am(n−1)sinθ)/(m−1)<7/6・L/(mn−1) ・・・(6a)
また本実施例においてマルチビーム光走査装置の光源手段として6個の発光点を有するマルチビーム半導体レーザーユニットにより出射された6つの光束によって走査される走査線の中で最も離間した2本の走査線間隔を、走査有効域の中心付近及び両端で測定し、その結果に基づき走査線ピッチ間隔を調整したが、これに限らず、例えば走査有効幅内の少なくとも2ヶ所で測定し、測定値の平均化を行うようにしても良い。これにより測定精度が向上するので走査有効幅内での走査線ピッチ間隔をより均等に保つことが可能になる。
5/6 · L / (mn−1) <(L-am (n−1) sin θ) / (m−1) <7/6 · L / (mn−1) (6a)
In this embodiment, the two scanning lines that are the farthest apart among the scanning lines scanned by the six light beams emitted from the multi-beam semiconductor laser unit having six light emitting points as the light source means of the multi-beam optical scanning device. The interval was measured near the center and both ends of the effective scanning area, and the scanning line pitch interval was adjusted based on the results. However, the measurement is not limited to this. You may make it perform. As a result, the measurement accuracy is improved, so that the scanning line pitch interval within the scanning effective width can be kept more uniform.

尚、本実施例では光源手段として面発光型のマルチビーム半導体レーザーを用いたが、これに限らず、端面発光型のマルチビーム半導体レーザーを用いても良い。   In this embodiment, a surface-emitting multi-beam semiconductor laser is used as the light source means. However, the present invention is not limited to this, and an edge-emitting multi-beam semiconductor laser may be used.

このように本実施例では上述の如く光源手段として面発光型のマルチビーム半導体レーザーを用い、最も離間した2つの発光点から発せられた2つの光束によって走査される走査線の副走査方向の間隔を測定し、走査線ピッチ間隔の調整を行うことにより、ピッチ間隔調整時の調整誤差を低減することを可能としている。また、m列目(i=1,2,・・・,m−1)のn個の発光点から発せられたn本の光束によって被走査面上を走査するときのn本の走査線と、m+1列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって被走査面上を走査するときのn本の走査線の中で、互いに最も近接している2本の走査線の間隔とを測定し、その結果に基づき走査線のピッチ間隔調整も行うことにより、n個の発光点が直線状で等間隔に離間して並んだ発光点列がm列ありn×mのマトリックスで構成される発光点を有するマルチビーム半導体レーザーユニットを有する光走査装置でも、すべてのピッチ間隔を低誤差且つ均等に調整可能となる。これらより本実施例では副走査方向の走査線間隔を所定の間隔に統一し、ピッチムラや色ずれの発生を抑え高品質な画像を形成することを実現している。 As described above, in this embodiment, the surface-emitting multi-beam semiconductor laser is used as the light source means as described above, and the scanning line interval in the sub-scanning direction scanned by the two light beams emitted from the two most spaced light emitting points is used. And adjusting the scanning line pitch interval, it is possible to reduce the adjustment error at the time of adjusting the pitch interval. Also, m i-th column (i = 1,2, ···, m -1) n of scanning lines when scanning a surface to be scanned by the n n optical flux emitted from the light emitting point of when, among the n scan lines when scanning a surface to be scanned by the n optical beam emitted from the n light emitting points m i +1 row, two scan that is closest to each other The distance between the lines is measured, and the pitch interval of the scanning lines is also adjusted based on the measurement result, so that there are m light emitting point arrays in which n light emitting points are arranged in a straight line at equal intervals. Even in an optical scanning apparatus having a multi-beam semiconductor laser unit having a light emitting point composed of a matrix of the above, all pitch intervals can be adjusted with low error and evenly. Accordingly, in the present embodiment, the scanning line interval in the sub-scanning direction is unified to a predetermined interval, and the occurrence of pitch unevenness and color misregistration is suppressed and a high quality image is formed.

[画像形成装置]
図7は本発明の画像形成装置の実施例を示す副走査方向の要部断面図である。図において、符号104は画像形成装置を示す。この画像形成装置104には、パーソナルコンピュータ等の外部機器117からコードデータDcが入力する。このコードデータDcは、装置内のプリンタコントローラ111によって、画像データ(ドットデータ)Diに変換される。この画像データDiは、実施例1又は2のいずれかに示した構成を有する光走査ユニット(マルチビーム走査光学装置)100に入力される。そして、この光走査ユニット100からは、画像データDiに応じて変調された光ビーム103が出射され、この光ビーム103によって感光ドラム101の感光面が主走査方向に走査される。
[Image forming apparatus]
FIG. 7 is a cross-sectional view of the main part in the sub-scanning direction showing an embodiment of the image forming apparatus of the present invention. In the figure, reference numeral 104 denotes an image forming apparatus. Code data Dc is input to the image forming apparatus 104 from an external device 117 such as a personal computer. The code data Dc is converted into image data (dot data) Di by a printer controller 111 in the apparatus. This image data Di is input to an optical scanning unit (multi-beam scanning optical apparatus) 100 having the configuration shown in either the first or second embodiment. The light scanning unit 100 emits a light beam 103 modulated in accordance with the image data Di, and the light beam 103 scans the photosensitive surface of the photosensitive drum 101 in the main scanning direction.

静電潜像担持体(感光体)たる感光ドラム101は、モータ115によって時計廻りに回転させられる。そして、この回転に伴って、感光ドラム101の感光面が光ビーム103に対して、主走査方向と直交する副走査方向に移動する。感光ドラム101の上方には、感光ドラム101の表面を一様に帯電せしめる帯電ローラ102が表面に当接するように設けられている。そして、帯電ローラ102によって帯電された感光ドラム101の表面に、前記光走査ユニット100によって走査される光ビーム103が照射されるようになっている。   The photosensitive drum 101 serving as an electrostatic latent image carrier (photoconductor) is rotated clockwise by a motor 115. With this rotation, the photosensitive surface of the photosensitive drum 101 moves in the sub-scanning direction perpendicular to the main scanning direction with respect to the light beam 103. Above the photosensitive drum 101, a charging roller 102 for uniformly charging the surface of the photosensitive drum 101 is provided so as to contact the surface. The surface of the photosensitive drum 101 charged by the charging roller 102 is irradiated with the light beam 103 scanned by the optical scanning unit 100.

先に説明したように、光ビーム103は、画像データDiに基づいて変調されており、この光ビーム103を照射することによって感光ドラム101の表面に静電潜像を形成せしめる。この静電潜像は、上記光ビーム103の照射位置よりもさらに感光ドラム101の回転方向の下流側で感光ドラム101に当接するように配設された現像器107によってトナー像として現像される。   As described above, the light beam 103 is modulated based on the image data Di, and by irradiating the light beam 103, an electrostatic latent image is formed on the surface of the photosensitive drum 101. The electrostatic latent image is developed as a toner image by a developing unit 107 disposed so as to contact the photosensitive drum 101 further downstream in the rotation direction of the photosensitive drum 101 than the irradiation position of the light beam 103.

現像器107によって現像されたトナー像は、感光ドラム101の下方で、感光ドラム101に対向するように配設された転写ローラ108によって被転写材たる用紙112上に転写される。用紙112は感光ドラム101の前方(図7において右側)の用紙カセット109内に収納されているが、手差しでも給紙が可能である。用紙カセット109端部には、給紙ローラ110が配設されており、用紙カセット109内の用紙112を搬送路へ送り込む。   The toner image developed by the developing unit 107 is transferred onto a sheet 112 as a transfer material by a transfer roller 108 disposed below the photosensitive drum 101 so as to face the photosensitive drum 101. The paper 112 is stored in a paper cassette 109 in front of the photosensitive drum 101 (on the right side in FIG. 7), but can be fed manually. A paper feed roller 110 is provided at the end of the paper cassette 109, and feeds the paper 112 in the paper cassette 109 into the transport path.

以上のようにして、未定着トナー像を転写された用紙112はさらに感光ドラム101後方(図7において左側)の定着器へと搬送される。定着器は内部に定着ヒータ(図示せず)を有する定着ローラ113とこの定着ローラ113に圧接するように配設された加圧ローラ114とで構成されており、転写部から搬送されてきた用紙112を定着ローラ113と加圧ローラ114の圧接部にて加圧しながら加熱することにより用紙112上の未定着トナー像を定着せしめる。更に定着ローラ113の後方には排紙ローラ116が配設されており、定着された用紙112を画像形成装置の外に排出せしめる。   As described above, the sheet 112 on which the unfixed toner image has been transferred is further conveyed to a fixing device behind the photosensitive drum 101 (left side in FIG. 7). The fixing device includes a fixing roller 113 having a fixing heater (not shown) therein, and a pressure roller 114 disposed so as to be in pressure contact with the fixing roller 113, and the sheet conveyed from the transfer unit. The unfixed toner image on the paper 112 is fixed by heating 112 while applying pressure at the pressure contact portion between the fixing roller 113 and the pressure roller 114. Further, a paper discharge roller 116 is disposed behind the fixing roller 113, and the fixed paper 112 is discharged out of the image forming apparatus.

図7においては図示していないが、プリントコントローラ111は、先に説明したデータの変換だけでなく、モータ115を始め画像形成装置内の各部や、後述する光走査ユニット内のポリゴンモータなどの制御を行う。   Although not shown in FIG. 7, the print controller 111 controls not only the data conversion described above, but also controls each part in the image forming apparatus including the motor 115 and a polygon motor in the optical scanning unit described later. I do.

本発明で使用される画像形成装置の記録密度は、1200dpi以上において本発明の実施例1または2の構成はより効果を発揮する。   The recording density of the image forming apparatus used in the present invention is 1200 dpi or more, and the configuration of Example 1 or 2 of the present invention is more effective.

[カラー画像形成装置]
図8は本発明の実施例のカラー画像形成装置の要部概略図である。本実施例は、光走査装置を4個並べ各々並行して像担持体である感光ドラム面上に画像情報を記録するタンデムタイプのカラー画像形成装置である。図8において、60はカラー画像形成装置、61,62,63,64は各々実施例1または2に示したいずれかの構成を有する光走査装置(マルチビーム走査光学装置)、21,22,23,24は各々像担持体としての感光ドラム、31,32,33,34は各々現像器、51は搬送ベルトである。
[Color image forming apparatus]
FIG. 8 is a schematic view of a main part of a color image forming apparatus according to an embodiment of the present invention. This embodiment is a tandem type color image forming apparatus in which four optical scanning devices are arranged in parallel and image information is recorded on a photosensitive drum surface as an image carrier. In FIG. 8, 60 is a color image forming apparatus, 61, 62, 63, and 64 are optical scanning devices (multi-beam scanning optical devices), 21, 22, and 23 each having one of the configurations shown in the first or second embodiment. , 24 are photosensitive drums as image carriers, 31, 32, 33, and 34 are developing units, and 51 is a conveyor belt.

図8において、カラー画像形成装置60には、パーソナルコンピュータ等の外部機器52からR(レッド)、G(グリーン)、B(ブルー)の各色信号が入力する。これらの色信号は、装置内のプリンタコントローラ53によって、C(シアン),M(マゼンタ),Y(イエロー)、B(ブラック)の各画像データ(ドットデータ)に変換される。これらの画像データは、それぞれ光走査装置61,62,63,64に入力される。そして、これらの光走査装置からは、各画像データに応じて変調された光ビーム41,42,43,44が出射され、これらの光ビームによって感光ドラム21,22,23,24の感光面が主走査方向に走査される。   In FIG. 8, the color image forming apparatus 60 receives R (red), G (green), and B (blue) color signals from an external device 52 such as a personal computer. These color signals are converted into C (cyan), M (magenta), Y (yellow), and B (black) image data (dot data) by a printer controller 53 in the apparatus. These image data are input to the optical scanning devices 61, 62, 63 and 64, respectively. From these optical scanning devices, light beams 41, 42, 43, and 44 modulated according to each image data are emitted, and the photosensitive surfaces of the photosensitive drums 21, 22, 23, and 24 are caused by these light beams. Scanned in the main scanning direction.

本実施例におけるカラー画像形成装置は光走査装置(61,62,63,64)を4個並べ、各々がC(シアン),M(マゼンタ),Y(イエロー)、B(ブラック)の各色に対応し、各々平行して感光ドラム21,22,23,24面上に画像信号(画像情報)を記録し、カラー画像を高速に印字するものである。   The color image forming apparatus in this embodiment has four optical scanning devices (61, 62, 63, 64) arranged in each color of C (cyan), M (magenta), Y (yellow), and B (black). Correspondingly, image signals (image information) are recorded on the photosensitive drums 21, 22, 23, and 24 in parallel, and a color image is printed at high speed.

本実施例におけるカラー画像形成装置は上述の如く4つの光走査装置61,62,63,64により各々の画像データに基づいた光ビームを用いて各色の潜像を各々対応する感光ドラム21,22,23,24面上に形成している。その後、記録材に多重転写して1枚のフルカラー画像を形成している。   As described above, the color image forming apparatus in this embodiment uses the light beams based on the respective image data by the four optical scanning devices 61, 62, 63 and 64, and the photosensitive drums 21 and 22 respectively corresponding the latent images of the respective colors. , 23, 24 on the surface. Thereafter, a single full color image is formed by multiple transfer onto a recording material.

前記外部機器52としては、例えばCCDセンサを備えたカラー画像読取装置が用いられても良い。この場合には、このカラー画像読取装置と、カラー画像形成装置60とで、カラーデジタル複写機が構成される。   As the external device 52, for example, a color image reading device including a CCD sensor may be used. In this case, the color image reading apparatus and the color image forming apparatus 60 constitute a color digital copying machine.

このように本実施例では上記の如く結像光学系をトーリック面からなる単レンズより構成し、副走査方向の走査線間隔を、最も離間した2つの発光点から発せられた2本の光束によって走査される走査線の副走査方向の間隔を測定して調整することにより、走査線間隔調整の誤差の少ないマルチビーム走査光学装置を実現することが可能となる。さらに本装置を画像形成装置やカラー画像形成装置へ搭載することにより、走査線むらの少ない高品位な装置の実現が可能となる。   As described above, in this embodiment, the imaging optical system is constituted by a single lens having a toric surface as described above, and the scanning line interval in the sub-scanning direction is set by two light beams emitted from the two most spaced light emitting points. By measuring and adjusting the scanning line spacing in the sub-scanning direction, it is possible to realize a multi-beam scanning optical apparatus with little scanning line spacing adjustment error. Further, by mounting this apparatus on an image forming apparatus or a color image forming apparatus, it is possible to realize a high-quality apparatus with little scanning line unevenness.

以上、本発明の好ましい実施例について説明したが、本発明はこれらの実施例に限定されないことは言うまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。   As mentioned above, although the preferable Example of this invention was described, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to these Examples, A various deformation | transformation and change are possible within the range of the summary.

本発明の実施例1のマルチビーム走査光学装置の要部概略図1 is a schematic view of the main part of a multi-beam scanning optical apparatus according to a first embodiment of the present invention. 本発明の実施例1のマルチビーム半導体レーザーユニットの要部概略図1 is a schematic view of the main part of a multi-beam semiconductor laser unit according to Embodiment 1 of the present invention. 本発明の実施例1のマルチビーム半導体レーザーユニットが有する発光点の配置図Arrangement of light emitting points of the multi-beam semiconductor laser unit of Example 1 of the present invention 本発明の実施例1の走査線ピッチ間隔測定箇所の説明図Explanatory drawing of the scanning line pitch space | interval measurement location of Example 1 of this invention. 本発明の実施例2のマルチビーム半導体レーザーユニットが有する発光点の配置図Arrangement of light emitting points of the multi-beam semiconductor laser unit of Example 2 of the present invention 本発明の実施例2の走査線ピッチ間隔測定箇所の説明図Explanatory drawing of the scanning line pitch space | interval measurement location of Example 2 of this invention. 本発明の画像形成装置の実施例を示す副走査断面図FIG. 3 is a sub-scan sectional view showing an embodiment of the image forming apparatus of the present invention. 本発明のカラー画像形成装置の実施例を示す副走査断面図FIG. 3 is a sub-scan sectional view showing an embodiment of a color image forming apparatus according to the present invention. 従来のマルチビーム走査光学装置の要部概略図Schematic diagram of main parts of a conventional multi-beam scanning optical device 従来のマルチビーム半導体レーザーユニットの要部概略図Schematic diagram of the main parts of a conventional multi-beam semiconductor laser unit 従来のマルチビーム半導体レーザーユニットが有する発光点の配置図Arrangement of emission points of conventional multi-beam semiconductor laser unit 従来の走査線ピッチ間隔測定箇所の説明図Explanatory drawing of conventional scanning line pitch interval measurement points 副走査方向の走査線ピッチ間隔の測定方法を示した図The figure which showed the measuring method of the scanning line pitch space | interval of a subscanning direction

符号の説明Explanation of symbols

1 光源手段(面発光型の半導体レーザ)
2 光束変換素子(コリメータレンズ)
3 開口絞り
4 光学系(シリンドリカルレンズ)
5 偏向手段(光偏向器)
LA 入射光学系
6 結像光学系(結像レンズ)
8 被走査面(感光ドラム面)
61、62、63、64 マルチビーム走査光学装置
21、22、23、24 像担持体(感光ドラム)
31、32、33、34 現像器
41、42、43、44 光束
51 搬送ベルト
52 外部機器
53 プリンタコントローラ
60 カラー画像形成装置
100 走査光学装置
101 感光ドラム
102 帯電ローラ
103 光ビーム
104 画像形成装置
107 現像装置
108 転写ローラ
109 用紙カセット
110 給紙ローラ
111 プリンタコントローラ
112 転写材(用紙)
113 定着ローラ
114 加圧ローラ
115 モータ
116 排紙ローラ
117 外部機器
1 Light source means (surface emitting semiconductor laser)
2 Light flux conversion element (collimator lens)
3 Aperture stop 4 Optical system (cylindrical lens)
5 Deflection means (optical deflector)
LA Incident optical system 6 Imaging optical system (imaging lens)
8 Scanned surface (photosensitive drum surface)
61, 62, 63, 64 Multi-beam scanning optical device 21, 22, 23, 24 Image carrier (photosensitive drum)
31, 32, 33, 34 Developer 41, 42, 43, 44 Light beam 51 Conveying belt 52 External device 53 Printer controller 60 Color image forming device 100 Scanning optical device 101 Photosensitive drum 102 Charging roller 103 Light beam 104 Image forming device 107 Development Device 108 Transfer roller 109 Paper cassette 110 Paper feed roller 111 Printer controller 112 Transfer material (paper)
113 Fixing Roller 114 Pressure Roller 115 Motor 116 Paper Discharge Roller 117 External Equipment

Claims (14)

直線状に所定の間隔で離間して配置した3つ以上の発光点を有する光源手段の各発光点から発せられた複数の光束を偏向手段で偏向し、該偏向手段で偏向された複数の光束を結像光学系で被走査面上に導光し、該偏向手段の偏向動作により該被走査面を複数の光束で主走査方向に走査するとき、
該被走査面を走査する複数の走査線の中で、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔を測定手段で測定し、その結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整することを特徴とする走査線ピッチ間隔調整方法。
A plurality of light beams emitted from each light emitting point of a light source unit having three or more light emitting points arranged linearly at a predetermined interval are deflected by the deflecting unit, and the plurality of light beams deflected by the deflecting unit Is guided onto the surface to be scanned by the imaging optical system, and the surface to be scanned is scanned in the main scanning direction with a plurality of light beams by the deflection operation of the deflecting means.
Among the plurality of scanning lines that scan the surface to be scanned, the distance between two scanning lines that are the farthest in the sub-scanning direction is measured by the measuring means, and the scanning line pitch interval in the sub-scanning direction is adjusted based on the result. A method for adjusting a scanning line pitch interval.
n(nは3以上の整数)個の発光点が直線状に所定間隔で離間して配置した発光点列が該直線と直交する方向に所定間隔でm(mは2以上の整数)列配置した光源手段から発せられた複数の光束を偏向手段で偏向し、該偏向手段で偏向された複数の光束を結像光学系で被走査面上に導光し、該偏向手段の偏向動作により該被走査面を複数の光束で主走査方向に走査するとき、
該被走査面を走査する複数の走査線の中で、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔を測定手段で測定し、その結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整することを特徴とする走査線ピッチ間隔調整方法。
A sequence of light emitting points in which n (n is an integer of 3 or more) light emitting points are linearly arranged at a predetermined interval, and m (m is an integer of 2 or more) is arranged in a direction orthogonal to the straight line. The plurality of light beams emitted from the light source means are deflected by the deflecting means, the plurality of light beams deflected by the deflecting means are guided onto the surface to be scanned by the imaging optical system, and the deflecting operation of the deflecting means When scanning the surface to be scanned in the main scanning direction with a plurality of light beams,
Among the plurality of scanning lines that scan the surface to be scanned, the distance between two scanning lines that are the farthest in the sub-scanning direction is measured by the measuring means, and the scanning line pitch interval in the sub-scanning direction is adjusted based on the result. A method for adjusting a scanning line pitch interval.
n(nは3以上の整数)個の発光点が直線状に所定間隔で離間して配置した発光点列が該直線と直交する方向に所定間隔でm(mは2以上の整数)列配置した光源手段から発せられた複数の光束を偏向手段で偏向し、該偏向手段で偏向された複数の光束を結像光学系で被走査面上に導光し、該偏向手段の偏向動作により該被走査面を複数の光束で主走査方向に走査するとき、
該被走査面上を走査する複数の走査線の中で、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔を測定手段で測定する第1工程と、
i列目(i=1,2,・・・,m−1)のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線の中で、i+1列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線に最も近い走査線と、i+1列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線の中で、i列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線に最も近い走査線との間隔を測定手段で測定する第2工程とを有し、
該第1、第2工程での測定結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整することを特徴とする走査線ピッチ間隔調整方法。
A sequence of light emitting points in which n (n is an integer of 3 or more) light emitting points are linearly arranged at a predetermined interval, and m (m is an integer of 2 or more) is arranged in a direction orthogonal to the straight line. The plurality of light beams emitted from the light source means are deflected by the deflecting means, the plurality of light beams deflected by the deflecting means are guided onto the surface to be scanned by the imaging optical system, and the deflecting operation of the deflecting means When scanning the surface to be scanned in the main scanning direction with a plurality of light beams,
A first step of measuring a distance between two scanning lines farthest in the sub-scanning direction among a plurality of scanning lines scanning the surface to be scanned by a measuring unit;
Among the n scanning lines when the surface to be scanned is scanned with n light beams emitted from n light emitting points in the i-th column (i = 1, 2,..., m−1). Thus, the scanning line closest to the n scanning lines when the surface to be scanned is scanned with the n light beams emitted from the n light emitting points in the i + 1 column and the n light emission in the i + 1 column. Of the n scanning lines when scanning the surface to be scanned with n light beams emitted from a point, the n light beams emitted from n light emitting points in the i-th column are scanned with the light beam. A second step of measuring the distance from the scanning line closest to the n scanning lines when scanning on the surface with the measuring means,
A scanning line pitch interval adjusting method, wherein the scanning line pitch interval in the sub-scanning direction is adjusted based on the measurement results in the first and second steps.
前記最も離間した2本の走査線の間隔の測定を、走査有効幅内の少なくとも2ヶ所で測定し、その結果に基づき走査線ピッチ間隔を調整することを特徴とする請求項1、2又は3に記載の走査線ピッチ間隔調整方法。   4. The distance between the two most distant scanning lines is measured at at least two points within a scanning effective width, and the scanning line pitch interval is adjusted based on the result. 2. A method for adjusting a scanning line pitch interval according to 1. 前記被走査面上において、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔をL(mm)、走査線の数をPn、該被走査面上の副走査方向における画素密度をA(dot/inch)とするとき、走査有効幅内全域で、
2/3×(Pn−1)×25.4/A<L<4/3×(Pn−1)×25.4/A
但し、Pn=n×m
を満足するように走査線ピッチ間隔を調整することを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の走査線ピッチ間隔調整方法。
On the surface to be scanned, the distance between two scanning lines that are most separated in the sub-scanning direction is L (mm), the number of scanning lines is Pn, and the pixel density in the sub-scanning direction on the surface to be scanned is A (dot / inch) over the entire scanning effective width,
2/3 × (Pn−1) × 25.4 / A <L <4/3 × (Pn−1) × 25.4 / A
However, Pn = n × m
5. The scanning line pitch interval adjusting method according to claim 1, wherein the scanning line pitch interval is adjusted so as to satisfy the above.
前記画素密度Aは1200dpi以上であることを特徴とする請求項5に記載の走査線ピッチ間隔調整方法。   6. The scanning line pitch interval adjusting method according to claim 5, wherein the pixel density A is 1200 dpi or more. 前記被走査面上において、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔をL(mm)、同時刻における第1の走査線を描く結像点と第1の走査線と隣り合う第2の走査線を描く結像点とを結んだ直線と第2の走査線の成す角度をθ、同時刻における第1の走査線を描く結像点と第1の走査線と隣り合う第2の走査線を描く結像点とを結んだ直線の長さをaとするとき、
0.9L/(mn−1)<(L−am(n−1)sinθ)/(m−1)<1.1L/(mn−1)
を満足するように前記走査線ピッチ間隔を調整することを特徴とする請求項2又は3に記載の走査線ピッチ間隔調整方法。
On the surface to be scanned, an interval between two scanning lines that are most separated in the sub-scanning direction is L (mm), and an imaging point that draws the first scanning line at the same time is adjacent to the first scanning line. The angle formed between the second scanning line and the straight line connecting the two scanning lines and the imaging point is θ, and the imaging point drawing the first scanning line at the same time is adjacent to the first scanning line. When the length of the straight line connecting the image forming point that draws the scanning line is a,
0.9L / (mn-1) <(L-am (n-1) sin θ) / (m-1) <1.1L / (mn-1)
4. The scanning line pitch interval adjusting method according to claim 2, wherein the scanning line pitch interval is adjusted so as to satisfy the above.
前記光源手段を、最も離間した2つの発光点を結ぶ線分の中心を回転中心として光軸回りに回転させて走査線ピッチ間隔調整を行うことを特徴とする請求項1乃至7の何れか1項に記載の走査線ピッチ間隔調整方法。   8. The scanning line pitch interval adjustment is performed by rotating the light source means around the optical axis with the center of a line segment connecting two light emitting points farthest apart as a rotation center. The scanning line pitch interval adjusting method according to Item. n(nは3以上の整数)個の発光点が直線状に所定間隔で離間して配置した発光点列が該直線と直交する方向に所定間隔でm(mは2以上の整数)列配置した面発光型の光源手段と、該光源手段から発せられた複数の光束を偏向する偏向手段と、該偏向手段で偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる結像光学系とを有し、該偏向手段の偏向動作により該被走査面を複数の光束で主走査方向に走査するマルチビーム走査光学装置において、
該被走査面上を走査する複数の走査線の中で、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔と、
i列目(i=1,2,・・・,m−1)のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線の中で、i+1列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線に最も近い走査線と、i+1列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線の中で、i列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線に最も近い走査線との間隔と、を測定する測定手段を有し、
該測定手段の測定結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整する調整手段を有することを特徴とするマルチビーム走査光学装置。
A sequence of light emitting points in which n (n is an integer of 3 or more) light emitting points are linearly arranged at a predetermined interval, and m (m is an integer of 2 or more) is arranged in a direction orthogonal to the straight line. A surface-emitting light source means, a deflecting means for deflecting a plurality of light beams emitted from the light source means, and an imaging optical system for imaging the plurality of light beams deflected by the deflecting means on the surface to be scanned; A multi-beam scanning optical apparatus that scans the scanned surface with a plurality of light beams in the main scanning direction by a deflection operation of the deflecting unit.
Among the plurality of scanning lines that scan on the surface to be scanned, an interval between two scanning lines that are most separated in the sub-scanning direction;
Among the n scanning lines when the surface to be scanned is scanned with n light beams emitted from n light emitting points in the i-th column (i = 1, 2,..., m−1). Thus, the scanning line closest to the n scanning lines when the surface to be scanned is scanned with the n light beams emitted from the n light emitting points in the i + 1 column and the n light emission in the i + 1 column. Of the n scanning lines when scanning the surface to be scanned with n light beams emitted from a point, the n light beams emitted from n light emitting points in the i-th column are scanned with the light beam. Measuring means for measuring the distance from the scanning line closest to the n scanning lines when scanning on the surface;
A multi-beam scanning optical apparatus comprising adjusting means for adjusting a scanning line pitch interval in the sub-scanning direction based on a measurement result of the measuring means.
前記調整手段は、前記被走査面上において、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔をL(mm)、同時刻における第1の走査線を描く結像点と第1の走査線と隣り合う第2の走査線を描く結像点とを結んだ直線と第2の走査線の成す角度をθ、同時刻における第1の走査線を描く結像点と第1の走査線と隣り合う第2の走査線を描く結像点とを結んだ直線の長さをaとするとき、
0.9L/(mn−1)<(L−am(n−1)sinθ)/(m−1)<1.1L/(mn−1)
を満足するように走査線ピッチ間隔を調整することを特徴とする請求項9に記載のマルチビーム走査光学装置。
The adjustment means sets the interval between the two scanning lines that are most separated in the sub-scanning direction to L (mm) on the surface to be scanned, the imaging point that draws the first scanning line at the same time, and the first scanning The angle formed by the second scanning line and the straight line connecting the second scanning line adjacent to the line and the second scanning line is θ, and the imaging point and the first scanning line depicting the first scanning line at the same time And the length of the straight line connecting the image forming point that draws the second scanning line adjacent to the second scanning line,
0.9L / (mn-1) <(L-am (n-1) sin θ) / (m-1) <1.1L / (mn-1)
The multi-beam scanning optical apparatus according to claim 9, wherein the scanning line pitch interval is adjusted so as to satisfy the above.
請求項9又は10に記載のマルチビーム走査光学装置と、前記被走査面に配置された感光体と、前記マルチビーム走査光学装置で走査された光ビームによって前記感光体上に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像されたトナー像を被転写材に転写する転写器と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着器とを有することを特徴とする画像形成装置。   11. The multi-beam scanning optical device according to claim 9 or 10, a photoconductor disposed on the surface to be scanned, and electrostatic formed on the photoconductor by a light beam scanned by the multi-beam scanning optical device. A developing device that develops a latent image as a toner image, a transfer device that transfers the developed toner image onto a transfer material, and a fixing device that fixes the transferred toner image onto the transfer material. Image forming apparatus. 請求項9又は10に記載のマルチビーム走査光学装置と、外部機器から入力したコードデータを画像信号に変換して前記マルチビーム走査光学装置に入力せしめるプリンタコントローラとを有していることを特徴とする画像形成装置。   11. A multi-beam scanning optical apparatus according to claim 9 or 10, and a printer controller that converts code data input from an external device into an image signal and inputs the image signal to the multi-beam scanning optical apparatus. Image forming apparatus. 各々が請求項9又は10に記載のマルチビーム走査光学装置の被走査面に配置され、互いに異なった色の画像を形成する複数の像担持体とを有することを特徴とするカラー画像形成装置。   A color image forming apparatus, comprising: a plurality of image carriers, each of which is disposed on a surface to be scanned of the multi-beam scanning optical apparatus according to claim 9 or 10 and forms images of different colors. 外部機器から入力した色信号を異なった色の画像データに変換して各々のマルチビーム走査光学装置に入力せしめるプリンタコントローラを有していることを特徴とする請求項13記載のカラー画像形成装置。   14. The color image forming apparatus according to claim 13, further comprising a printer controller that converts color signals input from an external device into image data of different colors and inputs the converted image data to each multi-beam scanning optical apparatus.
JP2005211309A 2005-07-21 2005-07-21 Method for adjusting scanning line pitch interval of scanning optical device Expired - Fee Related JP5127122B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005211309A JP5127122B2 (en) 2005-07-21 2005-07-21 Method for adjusting scanning line pitch interval of scanning optical device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005211309A JP5127122B2 (en) 2005-07-21 2005-07-21 Method for adjusting scanning line pitch interval of scanning optical device

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2007028509A true JP2007028509A (en) 2007-02-01
JP2007028509A5 JP2007028509A5 (en) 2008-09-04
JP5127122B2 JP5127122B2 (en) 2013-01-23

Family

ID=37788632

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005211309A Expired - Fee Related JP5127122B2 (en) 2005-07-21 2005-07-21 Method for adjusting scanning line pitch interval of scanning optical device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5127122B2 (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008096794A1 (en) 2007-02-07 2008-08-14 Nec Corporation Thin acoustic component mounting structure, portable acoustic apparatus, cellular phone and thin acoustic component mounting method
JP2008225160A (en) * 2007-03-14 2008-09-25 Ricoh Co Ltd Optical scanner and image forming apparatus
JP2008262125A (en) * 2007-04-13 2008-10-30 Ricoh Co Ltd Light source apparatus, optical scanner and image forming apparatus
JP2008281663A (en) * 2007-05-09 2008-11-20 Ricoh Co Ltd Optical scanner and image forming apparatus
JP2013174722A (en) * 2012-02-24 2013-09-05 Sharp Corp Adjustment method of optical scanner, and adjustment device of optical scanner
US8717656B2 (en) 2008-09-17 2014-05-06 Ricoh Company, Ltd. Optical scanning device

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09251137A (en) * 1996-03-15 1997-09-22 Konica Corp Laser recorder
JPH1148520A (en) * 1997-08-05 1999-02-23 Fuji Xerox Co Ltd Apparatus for forming multispot image
JPH11174353A (en) * 1997-12-08 1999-07-02 Canon Inc Multibeam scanning optical device
JP2001281572A (en) * 2000-03-31 2001-10-10 Ricoh Co Ltd Optical scanner
JP2002189182A (en) * 1999-11-30 2002-07-05 Ricoh Co Ltd Multi-beam light source device
JP2002277776A (en) * 2001-03-16 2002-09-25 Ricoh Co Ltd Image forming device
JP2004126482A (en) * 2002-08-01 2004-04-22 Ricoh Co Ltd Multiple-beam light source device and multiple-beam scanning device

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09251137A (en) * 1996-03-15 1997-09-22 Konica Corp Laser recorder
JPH1148520A (en) * 1997-08-05 1999-02-23 Fuji Xerox Co Ltd Apparatus for forming multispot image
JPH11174353A (en) * 1997-12-08 1999-07-02 Canon Inc Multibeam scanning optical device
JP2002189182A (en) * 1999-11-30 2002-07-05 Ricoh Co Ltd Multi-beam light source device
JP2001281572A (en) * 2000-03-31 2001-10-10 Ricoh Co Ltd Optical scanner
JP2002277776A (en) * 2001-03-16 2002-09-25 Ricoh Co Ltd Image forming device
JP2004126482A (en) * 2002-08-01 2004-04-22 Ricoh Co Ltd Multiple-beam light source device and multiple-beam scanning device

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008096794A1 (en) 2007-02-07 2008-08-14 Nec Corporation Thin acoustic component mounting structure, portable acoustic apparatus, cellular phone and thin acoustic component mounting method
JP2008225160A (en) * 2007-03-14 2008-09-25 Ricoh Co Ltd Optical scanner and image forming apparatus
JP2008262125A (en) * 2007-04-13 2008-10-30 Ricoh Co Ltd Light source apparatus, optical scanner and image forming apparatus
JP2008281663A (en) * 2007-05-09 2008-11-20 Ricoh Co Ltd Optical scanner and image forming apparatus
US8717656B2 (en) 2008-09-17 2014-05-06 Ricoh Company, Ltd. Optical scanning device
JP2013174722A (en) * 2012-02-24 2013-09-05 Sharp Corp Adjustment method of optical scanner, and adjustment device of optical scanner

Also Published As

Publication number Publication date
JP5127122B2 (en) 2013-01-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4819392B2 (en) Scanning optical device and image forming apparatus using the same
JP4883795B2 (en) Multi-beam optical scanning device and image forming apparatus using the same
JP4970864B2 (en) Optical scanning device, optical writing device including the optical scanning device, and image forming device including the optical scanning device or the optical writing device
JP2007114484A (en) Optical scanner and image forming device using it
JP2009145569A (en) Optical scanning apparatus and image forming apparatus using same
JP5896651B2 (en) Optical scanning device and image forming apparatus using the same
JP5127122B2 (en) Method for adjusting scanning line pitch interval of scanning optical device
JP2009122329A (en) Optical scanning device and image forming apparatus using the same
JP2006330581A (en) Multibeam optical scanner and image forming apparatus using the same
JP4474143B2 (en) Method for adjusting image plane position on scanned surface of optical scanning device
US7548252B2 (en) Optical scanning apparatus and color image forming apparatus using the same
JP2005099673A (en) Multi-beam optical scanning apparatus, and image forming apparatus using same
JP2006330364A (en) Optical scanner and image forming apparatus using the same
JP2006330688A (en) Optical scanner and image forming apparatus using the same
JP4434547B2 (en) Scanning optical device and image forming apparatus using the same
JP2008052197A (en) Optical scanner and image forming apparatus using the same
JP4593886B2 (en) Optical scanning device and image forming apparatus using the same
US7526145B2 (en) Optical scanning device and image forming apparatus using the same
JP5094221B2 (en) Optical scanning device and image forming apparatus using the same
JP2005070125A (en) Optical scanner and image forming apparatus using same
JP4612839B2 (en) Method for adjusting color image forming apparatus
JP4401950B2 (en) Optical scanning device and image forming apparatus using the same
JP2009204939A (en) Optical scanner and image forming apparatus using the same
JP5441938B2 (en) Scanning optical device and image forming apparatus using the same
JP6234085B2 (en) Optical scanning device and image forming apparatus using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080716

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080716

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110425

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110510

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110708

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111206

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120206

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121023

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121030

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5127122

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151109

Year of fee payment: 3

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D03

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees