JP2007021974A - Metallized film - Google Patents

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Nobuhiro Kanai
信宏 金井
Kiyohiko Ito
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a metallized film which has an excellent metal surface whose surface resistance changes very little and whose water contact angle hardly changes and is excellent for use in an immobilized enzyme electrode for an invitro diagnosis cell for an examination kit. <P>SOLUTION: The metallized film has one or more metal layers laminated on a polymer film substrate. The outermost layer is a metal layer composed of gold and/or platinum. The center line average roughness (Ra) of the metal layer surface of the outermost layer is 5-150 nm. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、表面抵抗値の変化が極めて少なく、かつ、水接触角の変化が起こりにくい優れた金属表面を有する金属化フィルムに関するものである。   The present invention relates to a metallized film having an excellent metal surface in which a change in surface resistance value is extremely small and a change in water contact angle hardly occurs.

生体情報を簡易に得るために種々の検査キットが開発されている。その一例として、電極上にグルコースオキシダーゼとフェリシアン化カリウムを含む物質をコーティングした検査キットが提案されている。血液中のグルコースはグルコースオキシダーゼによって分解されると同時にフェリシアン化カリウムは酸化されフェロシアン化カリウムになる。フェロシアン化カリウムは一定電圧をかけられた電極上で酸化還元反応によりフェリシアン化カリウムに戻る。電極にはこの酸化還元反応による電流が流れ、その電流量より血液中のグルコース量を測定することができ、固定化酵素電極法(特許文献1、2)として知られている。   Various test kits have been developed to easily obtain biological information. As an example, a test kit in which an electrode is coated with a substance containing glucose oxidase and potassium ferricyanide has been proposed. Glucose in the blood is broken down by glucose oxidase, and at the same time, potassium ferricyanide is oxidized to potassium ferrocyanide. Potassium ferrocyanide returns to potassium ferricyanide by an oxidation-reduction reaction on an electrode applied with a constant voltage. A current due to this oxidation-reduction reaction flows through the electrode, and the amount of glucose in the blood can be measured from the amount of current, which is known as an immobilized enzyme electrode method (Patent Documents 1 and 2).

高価な金属を電極とする場合、金属を積層したフィルムを用いれば、薄膜からなる少量の金属で電極としての役割を果たすことができ、かつ検査キットを連続的に生産できる利点がある。そこで金属からなる薄膜電極の開発を進めたが、大気中において該薄膜電極の表面における水接触角が経時的に増加するため、グルコースオキシダーゼとフェリシアン化カリウムを含む物質を均一にコーティングすることができず、酸化還元反応に伴って生じる電流を正確に測定することができなくなるという問題があった。そこで、本問題を解決する手段として、防湿性の袋により金属化フィルムを梱包し、グルコースオキシダーゼを含む物質をコーティングする直前に開封する方法(特許文献3)が提案された。しかしながら、該防湿梱包方法を用いても、外気の流入を完全に遮断することができなかった。
欧州特許第359831号公報(第3頁第3欄第33行目〜第4欄48行目) 特開平5−196595号公報(第2頁第1欄第20行〜第2欄第2行) 特開2004−325294号公報([0008]段落〜[0018]段落)
When an expensive metal is used as an electrode, if a metal laminated film is used, there is an advantage that a small amount of a thin metal can serve as an electrode, and an inspection kit can be continuously produced. Therefore, the development of a thin film electrode made of metal was advanced, but since the water contact angle on the surface of the thin film electrode increased with time in the atmosphere, a substance containing glucose oxidase and potassium ferricyanide could not be uniformly coated. However, there is a problem in that it is impossible to accurately measure the current generated with the redox reaction. Therefore, as a means for solving this problem, there has been proposed a method (Patent Document 3) in which a metallized film is packed in a moisture-proof bag and opened immediately before coating with a substance containing glucose oxidase. However, even if the moisture-proof packaging method is used, the inflow of outside air cannot be completely blocked.
European Patent No. 359831 (page 3, column 3, line 33 to column 4, line 48) Japanese Patent Laid-Open No. 5-196595 (page 2, column 1, line 20 to column 2, line 2) JP-A-2004-325294 (paragraphs [0008] to [0018])

本発明は、かかる従来技術の背景に鑑み、表面抵抗値の変化が極めて少なく、かつ、水接触角の変化が起こりにくい優れた金属表面を有する電極用として優れた金属化フィルムを提供せんとするものである。   In view of the background of such a conventional technique, the present invention provides an excellent metallized film for an electrode having an excellent metal surface in which the change in surface resistance value is extremely small and the change in water contact angle hardly occurs. Is.

本発明は、かかる課題を解決するために、次のような手段を採用するものである。すなわち、本発明の金属化フィルムは、高分子フィルム基材上に一層以上の金属層を積層した金属化フィルムであって、最外層が金および/または白金で構成された金属層であり、かつ、該最外層の金属層表面の中心線平均粗さ(Ra)が5〜150nmである金属化フィルムである。   The present invention employs the following means in order to solve such problems. That is, the metallized film of the present invention is a metallized film in which one or more metal layers are laminated on a polymer film substrate, and the outermost layer is a metal layer composed of gold and / or platinum, and The metallized film having a center line average roughness (Ra) of 5 to 150 nm on the outermost metal layer surface.

本発明によれば、金属表面の表面抵抗値の変化が極めて少なく、かつ該金属表面の水接触角の変化が起こりにくい金属化フィルムを提供することができるので、検査キット用体外診断用セルの固定化酵素電極のように、酸化還元反応による酸化還元電位、または酸化還元電流を捉えるための電極として優れた素材を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a metallized film in which the change in the surface resistance value on the metal surface is extremely small and the change in the water contact angle on the metal surface is unlikely to occur. As an immobilized enzyme electrode, an excellent material can be provided as an electrode for capturing a redox potential or redox current due to a redox reaction.

本発明は、前記課題、つまり表面抵抗値の変化が極めて少なく、かつ、水接触角の変化が起こりにくい優れた金属表面を有する金属化フィルムについて、鋭意検討し、一層以上の金属層を有する金属化フィルムの最外層を、特定な貴金属で構成し、かつ、その最外層表面の中心線平均粗さ(Ra)を特定な範囲内に制御したところ、かかる課題を一挙に解決することを究明したものである。   The present invention has been intensively studied on the metallized film having an excellent metal surface in which the above problem, that is, the change in the surface resistance value is extremely small and the change in the water contact angle hardly occurs, and a metal having one or more metal layers. When the outermost layer of the modified film is made of a specific noble metal and the center line average roughness (Ra) of the outermost layer surface is controlled within a specific range, it has been found that such problems can be solved at once. Is.

すなわち、本発明の金属化フィルムは、最外層を金および/または白金で構成し、かつ該最外層表面の中心線平均粗さ(Ra)が5〜150nmの範囲内に制御したものである。   That is, in the metallized film of the present invention, the outermost layer is composed of gold and / or platinum, and the center line average roughness (Ra) of the outermost layer surface is controlled within a range of 5 to 150 nm.

本発明において金属化フィルムとは、高分子フィルム基材の表面に金属層を積層したフィルムを意味する。   In the present invention, the metallized film means a film in which a metal layer is laminated on the surface of a polymer film substrate.

本発明における高分子フィルム基材を構成する素材は、特に限定されるものではなく、公知のプラスチックフィルム基材の素材の中から適宜選択して用いることができる。このようなプラスチックフィルム基材の素材として、例えば、ポリエステル系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系、ジアセテート系、トリアセテート系、ポリスチレン系、ポリカーボネート系、ポリメチルペンテン系、ポリスルフォン系、ポリエーテルエチルケトン系、ポリイミド系、フッ素系、ナイロン系およびポリメタクリル系等の樹脂から選ばれた樹脂を使用することができる。これらの樹脂の中で、強靱性および均一性等の観点から、ポリエステル樹脂からなるポリエステルフィルムを用いることが好ましい。   The material which comprises the polymer film base material in this invention is not specifically limited, It can select suitably from the raw materials of a well-known plastic film base material, and can use it. As a material of such a plastic film substrate, for example, polyester, polyethylene, polypropylene, diacetate, triacetate, polystyrene, polycarbonate, polymethylpentene, polysulfone, polyether ethyl ketone, Resins selected from polyimide, fluorine, nylon and polymethacrylic resins can be used. Among these resins, it is preferable to use a polyester film made of a polyester resin from the viewpoint of toughness and uniformity.

かかるポリエステルフィルムのポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等を使用することができる。また、これらのポリエステルには、さらに他のジカルボン酸成分やジオール成分を20モル%以下の範囲で共重合したものも使用することができる。これらの構成成分は一種のみ用いても、二種以上併用してもいずれでも良いが、中でも品質、経済性等を総合的に判断すると、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましく使用される。   As the polyester of the polyester film, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, or the like can be used. In addition, those polyesters obtained by copolymerizing other dicarboxylic acid components and diol components in a range of 20 mol% or less can also be used. These constituent components may be used alone or in combination of two or more. Among them, polyethylene terephthalate is particularly preferably used in view of quality, economy and the like.

また、かかる高分子フィルム基材の厚みは特に限定されるものではないが、機械的強度と熱伝導性の点から、好ましくは5〜800μm、より好ましくは10〜250μmであるのが良い。   The thickness of the polymer film substrate is not particularly limited, but is preferably 5 to 800 μm, more preferably 10 to 250 μm, from the viewpoint of mechanical strength and thermal conductivity.

また、本発明の金属化フィルムは、金属層を設ける前に、フィルム基材表面に表面処理、すなわち、例えば、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、エッチング処理、あるいは粗面化処理等を施すことができ、しかも、かかる表面処理により中心線平均粗さ(Ra)を調整することができる。また、同様に、金属層を設ける前に、表面コーティング、すなわち、例えば、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリエステルアクリレート系、ポリウレタンアクリレート系、ポリエポキシアクリレート系等の樹脂やチタネート系化合物等を塗布することにより、該金属化フィルム表面の中心線平均粗さ(Ra)を調整することができ、かつ該金属層の密着性を高めることができる。   In addition, the metallized film of the present invention is subjected to surface treatment on the surface of the film substrate, that is, for example, corona discharge treatment, glow discharge treatment, flame treatment, etching treatment, or roughening treatment before the metal layer is provided. Moreover, the center line average roughness (Ra) can be adjusted by such surface treatment. Similarly, before providing the metal layer, surface coating, that is, by applying a polyurethane-based, polyester-based, polyester acrylate-based, polyurethane acrylate-based, polyepoxy acrylate-based resin, titanate-based compound, or the like. The center line average roughness (Ra) of the metallized film surface can be adjusted, and the adhesion of the metal layer can be enhanced.

かかる金属層を構成する金属素材としては、酸化されにくく、かつ導電性があれば、いずれの金属でも用いることができるが、特に、化学的な安定性から、金、銀、白金族(ルテニウム、ロジウム、オスミウム、パラジウム、イリジウム、白金)等の貴金属を用いることが、化学反応による変化を電気的に捉えるための電極用途、たとえば検査キット用電極等に好適に使用できるので好ましい。かかる金属層を構成する金属は、一種であっても二種以上併用しても良い。複数種の金属が積層されたものであっても良く、合金であっても良い。   As the metal material constituting the metal layer, any metal can be used as long as it is difficult to oxidize and has electrical conductivity. In particular, from the viewpoint of chemical stability, gold, silver, platinum group (ruthenium, Use of a noble metal such as rhodium, osmium, palladium, iridium, or platinum is preferable because it can be suitably used for electrode applications for electrically capturing changes due to chemical reactions, for example, electrodes for inspection kits. The metal which comprises this metal layer may be 1 type, or may use 2 or more types together. A plurality of types of metals may be laminated, or an alloy.

ただし、本発明の課題を解決するためには、
・図1に示したように、高分子フィルム基材1上に、金および/または白金で構成された金属層2を一層積層するか、あるいは、
・図2に示したように、高分子フィルム基材1上に複数の金属層を積層し、最外層の金属層を金および/または白金で構成された金属層2とする
ことが必要である。
However, in order to solve the problem of the present invention,
As shown in FIG. 1, a metal layer 2 made of gold and / or platinum is laminated on the polymer film substrate 1, or
-As shown in FIG. 2, it is necessary to laminate | stack a several metal layer on the polymer film base material 1, and to make the outermost metal layer into the metal layer 2 comprised with gold | metal | money and / or platinum. .

すなわち、最外層の金属層を、金、白金以外の貴金属で構成しても、金属化フィルムの最表面の化学的な安定性を向上させることができず、かつ該金属化フィルムの該最表面の水接触角の変化を抑制することができない。   That is, even if the outermost metal layer is composed of a noble metal other than gold or platinum, the chemical stability of the outermost surface of the metallized film cannot be improved, and the outermost surface of the metallized film The change in water contact angle cannot be suppressed.

本発明の金属化フィルムにおいて、高分子フィルム基材上に金属層を積層する方法は、抵抗加熱方式、誘導加熱方式、電子ビーム法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が挙げられる。中でも、膜均一性、密着性等の観点から、スパッタリング法が特に好ましい。   In the metallized film of the present invention, the method of laminating the metal layer on the polymer film substrate includes a resistance heating method, an induction heating method, an electron beam method, a sputtering method, an ion plating method and the like. Among these, the sputtering method is particularly preferable from the viewpoints of film uniformity and adhesion.

本発明の金属化フィルムは、さらに、最外層の金属層表面に、グルコースオキシターゼ、乳酸オキシターゼ、コレステロールオキシターゼ等の酵素を主成分とする物質をコーティングすることにより、血液検査等の検査キットに用いる体外診断用セルとして用いることができる。コーティングに用いる物質は、反応させる物質に対応して適宜選択される。   The metallized film of the present invention is further coated on the outermost metal layer surface with a substance mainly composed of enzymes such as glucose oxidase, lactate oxidase, cholesterol oxidase, etc. It can be used as a diagnostic cell. The substance used for coating is appropriately selected according to the substance to be reacted.

また、前記金属表面にコーティングする物質は、金属化フィルム上に固定化したときの均一性を得る観点から、溶媒に溶解、あるいは分散させた後、金属化フィルムの表面にコーティングすることが好ましい。該溶媒は特に限定されるものではないが、経済性、および安全性から、水を用いることが好ましい。   Further, from the viewpoint of obtaining uniformity when immobilized on the metallized film, the substance to be coated on the metal surface is preferably dissolved or dispersed in a solvent and then coated on the surface of the metallized film. The solvent is not particularly limited, but it is preferable to use water in view of economy and safety.

本発明における金属化フィルムの最外層の金属層表面の中心線平均粗さ(Ra)は、5〜150nmの範囲内にすることが必要である。該中心線平均粗さ(Ra)の値を調整することにより、水滴と該金属表面との接触面積を調整することができるため、該最外層における水接触角を適宜調整することができる。   The center line average roughness (Ra) of the outermost metal layer surface of the metallized film in the present invention needs to be in the range of 5 to 150 nm. By adjusting the value of the center line average roughness (Ra), the contact area between the water droplet and the metal surface can be adjusted, so that the water contact angle in the outermost layer can be appropriately adjusted.

かかる金属化フィルムの最外層の金属層表面の中心線平均粗さ(Ra)は、JIS−B−0601に基づいて、カットオフ値を0.08mmとして測定・算出したときの値である。該金属化フィルムの断面において、カットオフ値以上の長い波長を持つ表面粗さは、遮断されることとなる。   The centerline average roughness (Ra) of the metal layer surface of the outermost layer of the metallized film is a value when measured and calculated based on JIS-B-0601 with a cut-off value of 0.08 mm. In the cross section of the metallized film, surface roughness having a long wavelength equal to or greater than the cutoff value is blocked.

該中心線平均粗さ(Ra)が5nm未満では、該最外層における水接触角が高くなりすぎて、前記コーティング物質を該最外層の金属表面に均一に塗布しにくくなる。   When the center line average roughness (Ra) is less than 5 nm, the water contact angle in the outermost layer becomes too high, and it becomes difficult to uniformly apply the coating substance to the metal surface of the outermost layer.

また、該中心線平均粗さ(Ra)が150nmを超えると、測定位置に対して均一な表面抵抗値が得られにくくなるため、化学反応による変化を電気的に捉える検査キットに用いる体外診断用セルの電極用途として使用できない。   In addition, when the center line average roughness (Ra) exceeds 150 nm, it becomes difficult to obtain a uniform surface resistance value with respect to the measurement position. Therefore, for in-vitro diagnosis used in a test kit that electrically captures a change caused by a chemical reaction. It cannot be used as a cell electrode application.

該金属化フィルムの中心線平均粗さ(Ra)は、目標とする中心線平均粗さ(Ra)に近い値を持った高分子フィルム基材を適宜選択することにより調整することができる。また、フィルム基材へ前記表面処理、または前記表面コーティングを施し、フィルム基材の中心線平均粗さ(Ra)を調整することにより、金属積層後の中心線平均粗さ(Ra)を調整することもできる。   The centerline average roughness (Ra) of the metallized film can be adjusted by appropriately selecting a polymer film substrate having a value close to the target centerline average roughness (Ra). Moreover, the said surface treatment or the said surface coating is given to a film base material, and the centerline average roughness (Ra) after metal lamination | stacking is adjusted by adjusting the centerline average roughness (Ra) of a film base material. You can also.

本発明における金属化フィルムの表面抵抗値は、JIS−C−2318に基づいて、試験電圧を100Vとして測定したときの値である。   The surface resistance value of the metallized film in the present invention is a value when measured with a test voltage of 100 V based on JIS-C-2318.

本発明における金属化フィルムは、酸化等の化学的変化を起こさないことが好ましい。該金属化フィルムは、特に、化学反応による変化を電気的に捉えるための電極用途においては、好ましくは、大気中における表面抵抗値の変化が20Ω/□以内、より好ましくは一定値を示す必要があるが、該金属表面が化学的に不安定な場合、化学変化に伴い該金属表面上に酸化膜等が形成されるため、表面抵抗値が変化し正確な値が得られないことがある。   The metallized film in the present invention preferably does not cause chemical changes such as oxidation. The metallized film should have a change in the surface resistance value in the air within 20Ω / □, more preferably a constant value, particularly in electrode applications for electrically capturing changes due to chemical reactions. However, when the metal surface is chemically unstable, an oxide film or the like is formed on the metal surface due to a chemical change, so that the surface resistance value changes and an accurate value may not be obtained.

〔評価方法〕
各実施例、比較例で作成した金属化フィルムについて、最外層の金属層表面の中心線平均粗さ(Ra)、液体展開性、および表面抵抗値を測定した。これらの測定は、高分子フィルム基材上に金属を積層した直後と、該金属化フィルムを大気中に15分間放置した後に行った。金属化フィルムを放置していた間の大気の温度は20℃、相対湿度は40〜60%であった。
〔Evaluation methods〕
For the metallized films prepared in each of the examples and comparative examples, the center line average roughness (Ra), liquid spreadability, and surface resistance value of the outermost metal layer surface were measured. These measurements were performed immediately after laminating the metal on the polymer film substrate and after leaving the metallized film in the atmosphere for 15 minutes. While the metallized film was allowed to stand, the atmospheric temperature was 20 ° C. and the relative humidity was 40 to 60%.

(1)中心線平均粗さ(Ra)
高精度薄膜段差計((株)小坂研究所製 ET−10)を用いて測定し、JIS−B−0601に基づいて中心線平均粗さ(Ra)を求めた。触針先端半径0.5μm、針圧5mg、測定長1mm、カットオフ値0.08mmとした。
(1) Centerline average roughness (Ra)
Measurement was performed using a high-precision thin film level difference meter (ET-10, manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.), and the center line average roughness (Ra) was determined based on JIS-B-0601. The radius of the stylus tip was 0.5 μm, the needle pressure was 5 mg, the measurement length was 1 mm, and the cutoff value was 0.08 mm.

(2)液体展開性
ブドウ糖注射液「大塚糖液50%」(大塚製薬(株)製)50μlを金属化フィルムの金属表面に滴下し、滴下30秒後のブドウ糖注射液の濡れ拡がり状態から液体展開性を判定した。ここで、ブドウ糖注射液の濡れ拡がり状態とは、液の直径のことであり、液が楕円状の場合は短径のことである。ブドウ糖注射液の濡れ拡がりが10mm以上であれば、液体展開性は良好である。
(3)表面抵抗値
金属化フィルムの表面抵抗値は、表面抵抗率計(日置電機(株)製デジタルハイテスタ 3256)を用いて測定した。35mm×280mmの大きさに金属化フィルムを切り出し、中心部の値を測定した。高分子フィルム基材上に金属を蒸着した直後の表面抵抗値と、大気中に15分放置後の表面抵抗値を測定し、下記式で表す表面抵抗値の変化を求めた。表面抵抗値の変化が20Ω/□未満であれば、大気中における表面抵抗値の安定性は良好である。
・表面抵抗値の変化(Ω/□)=大気中に放置後の表面抵抗値(Ω/□)−金属蒸着直後の表面抵抗値(Ω/□)
また、各実施例、および比較例で作成した金属を蒸着した直後の金属化フィルムにおいて、35mm×280mmの大きさの10枚の金属化フィルムを切り出し、それぞれ中心部の表面抵抗値を測定した。この異なる10ヶ所の測定位置に対する表面抵抗値の最大値と最小値を求め、下記式で表す表面抵抗値の最大値と最小値の差の値から、表面抵抗値の測定位置に対する均一性を評価した。上記測定により得た10ヶ所の表面抵抗値の最大値と最小値の差が20Ω/□未満であれば、表面抵抗値の測定位置に対する均一性が良好である.
・表面抵抗値の差(Ω/□)=表面抵抗値の最大値(Ω/□)−表面抵抗値の最小値(Ω/□)
〔実施例1〕
フィルム基材として100μmのポリエステルフィルム100E20(東レ(株)製)を使用し、マグネトロンスパッタリング装置を用いて、膜厚10nmの金膜をフィルム基材の一方の面上に形成し、金属化フィルムを作成した。ターゲットは、純度99.99%の金(田中貴金属工業(株)製)を用いた。スパッタガスにはアルゴンを用いた。最外層の金属層の中心線平均粗さ(Ra)は100nmであった。液体展開性は、金属積層直後、大気中に15分間放置した後ともに良好であった。表面抵抗値の安定性は、金属積層直後に対する、大気中に15分間放置した後の抵抗値の変化量が5Ω/□未満であり、良好であった。また、表面抵抗値の最大値と最小値の差は20Ω/□未満であり、測定位置に対する表面抵抗値の均一性は、良好であった。
(2) Liquid developability Glucose injection solution “Otsuka sugar solution 50%” (manufactured by Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd.) 50 μl is dropped onto the metal surface of the metallized film, and the liquid from the wet state of glucose injection solution 30 seconds after dropping is liquid. Deployability was judged. Here, the wet spread state of the glucose injection solution is the diameter of the liquid, and when the liquid is elliptical, it is the short diameter. If the wet spread of the glucose injection solution is 10 mm or more, the liquid developability is good.
(3) Surface resistance value The surface resistance value of the metallized film was measured using a surface resistivity meter (Digital Hitester 3256 manufactured by Hioki Electric Co., Ltd.). A metallized film was cut into a size of 35 mm × 280 mm, and the value at the center was measured. The surface resistance value immediately after depositing the metal on the polymer film substrate and the surface resistance value after being left in the air for 15 minutes were measured, and the change in the surface resistance value represented by the following formula was determined. If the change in the surface resistance value is less than 20Ω / □, the stability of the surface resistance value in the atmosphere is good.
・ Change in surface resistance value (Ω / □) = Surface resistance value after standing in air (Ω / □)-Surface resistance value immediately after metal deposition (Ω / □)
Moreover, in the metallized film immediately after vapor-depositing the metal produced by each Example and the comparative example, ten metallized films of a size of 35 mm x 280 mm were cut out, and the surface resistance value of the center part was measured, respectively. The maximum and minimum values of the surface resistance values for these 10 different measurement positions are obtained, and the uniformity of the surface resistance values at the measurement positions is evaluated from the difference between the maximum and minimum surface resistance values expressed by the following formula. did. If the difference between the maximum value and the minimum value of the 10 surface resistance values obtained by the above measurement is less than 20Ω / □, the uniformity of the surface resistance value with respect to the measurement position is good.
・ Surface resistance difference (Ω / □) = Maximum surface resistance (Ω / □)-Minimum surface resistance (Ω / □)
[Example 1]
A 100 μm polyester film 100E20 (manufactured by Toray Industries, Inc.) is used as a film substrate, a 10 nm thick gold film is formed on one surface of the film substrate using a magnetron sputtering apparatus, and a metallized film is formed. Created. The target was gold having a purity of 99.99% (manufactured by Tanaka Kikinzoku Kogyo Co., Ltd.). Argon was used as the sputtering gas. The center line average roughness (Ra) of the outermost metal layer was 100 nm. The liquid spreadability was good both immediately after metal lamination and after being left in the atmosphere for 15 minutes. The stability of the surface resistance value was good, with the amount of change in resistance value after standing for 15 minutes in the air immediately after metal lamination being less than 5Ω / □. Further, the difference between the maximum value and the minimum value of the surface resistance value was less than 20Ω / □, and the uniformity of the surface resistance value with respect to the measurement position was good.

〔実施例2〕
フィルム基材として100μmのポリエステルフィルム100E20(東レ(株)製)を使用し、マグネトロンスパッタリング装置を用いて、膜厚10nmのパラジウム膜をフィルム基材の一方の面上に形成し、さらに、膜厚10nmの金膜を該パラジウム膜の上に形成することにより、金属化フィルムを作成した。ターゲットは、金膜の作成には純度99.99%の金(田中貴金属工業(株)製)を用い、パラジウム膜の作成には純度99.9%のパラジウム(田中貴金属工業(株)製)を用いた。スパッタガスにはアルゴンを用いた。最外層の金属層の中心線平均粗さ(Ra)は100nmであった。液体展開性は、金属積層直後、大気中に15分間放置した後ともに良好であった。表面抵抗値の安定性は、金属積層直後に対する、大気中に15分間放置した後の抵抗値の変化量が5Ω/□未満であり、良好であった。また、表面抵抗値の最大値と最小値の差は20Ω/□未満であり、測定位置に対する表面抵抗値の均一性は、良好であった。
[Example 2]
A 100 μm polyester film 100E20 (manufactured by Toray Industries, Inc.) is used as a film substrate, and a palladium film having a film thickness of 10 nm is formed on one surface of the film substrate using a magnetron sputtering apparatus. A metallized film was prepared by forming a 10 nm gold film on the palladium film. The target is gold of 99.99% purity (manufactured by Tanaka Kikinzoku Kogyo Co., Ltd.) for the production of a gold film, and palladium of 99.9% purity (manufactured by Tanaka Kikinzoku Kogyo Co., Ltd.) for the production of a palladium film. Was used. Argon was used as the sputtering gas. The center line average roughness (Ra) of the outermost metal layer was 100 nm. The liquid spreadability was good both immediately after metal lamination and after being left in the atmosphere for 15 minutes. The stability of the surface resistance value was good, with the amount of change in resistance value after standing for 15 minutes in the air immediately after metal lamination being less than 5Ω / □. Further, the difference between the maximum value and the minimum value of the surface resistance value was less than 20Ω / □, and the uniformity of the surface resistance value with respect to the measurement position was good.

〔実施例3〕
フィルム基材として100μmのポリエステルフィルム100T60(東レ(株)製)を使用し、該フィルム基材表面に空気中でコロナ放電処理を施した後、マグネトロンスパッタリング装置を用いて、膜厚10nmのパラジウム膜をフィルム基材のコロナ処理面上に形成し、さらに、膜厚10nmの金膜を該パラジウム膜の上に形成することにより、金属化フィルムを作成した。ターゲットは、金膜の作成には純度99.99%の金(田中貴金属工業(株)製)を用い、パラジウム膜の作成には純度99.9%のパラジウム(田中貴金属工業(株)製)を用いた。スパッタガスにはアルゴンを用いた。前記コロナ放電の処理時間は、最外層の金属層の中心線平均粗さ(Ra)が100nmとなるよう調整した。液体展開性は、金属積層直後、大気中に15分間放置した後ともに良好であった。表面抵抗値の安定性は、金属積層直後に対する、大気中に15分間放置した後の抵抗値の変化量が5Ω/□未満であり、良好であった。また、表面抵抗値の最大値と最小値の差は20Ω/□未満であり、測定位置に対する表面抵抗値の均一性は、良好であった。
Example 3
A 100 μm polyester film 100T60 (manufactured by Toray Industries, Inc.) was used as a film substrate, and the surface of the film substrate was subjected to corona discharge treatment in the air, and then a palladium film having a film thickness of 10 nm using a magnetron sputtering apparatus. Was formed on the corona-treated surface of the film substrate, and a gold film with a film thickness of 10 nm was further formed on the palladium film to prepare a metallized film. The target is gold of 99.99% purity (manufactured by Tanaka Kikinzoku Kogyo Co., Ltd.) for the production of a gold film, and palladium of 99.9% purity (manufactured by Tanaka Kikinzoku Kogyo Co., Ltd.) for the production of a palladium film. Was used. Argon was used as the sputtering gas. The treatment time of the corona discharge was adjusted so that the center line average roughness (Ra) of the outermost metal layer was 100 nm. The liquid spreadability was good both immediately after metal lamination and after being left in the atmosphere for 15 minutes. The stability of the surface resistance value was good, with the amount of change in resistance value after standing for 15 minutes in the air immediately after metal lamination being less than 5Ω / □. Further, the difference between the maximum value and the minimum value of the surface resistance value was less than 20Ω / □, and the uniformity of the surface resistance value with respect to the measurement position was good.

〔実施例4〕
フィルム基材として100μmのポリエステルフィルム100T60(東レ(株)製)を使用した。テトライソプロピルチタネート(松本製薬工業(株)製、オルガチックスTA−10)、エタノール、および0.1規定塩酸を、質量比5:95:1となるよう分散した溶液を調製し、チタネートの加水分解液を得た。バーコーターを用いて該フィルム基材上に前記加水分解液を塗布し、オーブンを用いて100℃で5秒間乾燥、200℃で10秒間熱処理を行うことにより、チタネートを表面にコーティングしたポリエステルフィルムを得た。マグネトロンスパッタリング装置を用いて、膜厚10nmのパラジウム膜を前記フィルム基材のコーティング面上に形成し、さらに、膜厚10nmの金膜を該パラジウム膜の上に形成することにより、金属化フィルムを作成した。ターゲットは、金膜の作成には純度99.99%の金(田中貴金属工業(株)製)を用い、パラジウム膜の作成には純度99.9%のパラジウム(田中貴金属工業(株)製)を用いた。スパッタガスにはアルゴンを用いた。前記コーティング層の厚さは、最外層の金属層の中心線平均粗さ(Ra)が100nmとなるよう調整した。液体展開性は、金属積層直後、大気中に15分間放置した後ともに良好であった。表面抵抗値の安定性は、金属積層直後に対する、大気中に15分間放置した後の抵抗値の変化量が5Ω/□未満であり、良好であった。また、表面抵抗値の最大値と最小値の差は20Ω/□未満であり、測定位置に対する表面抵抗値の均一性は、良好であった。
Example 4
A 100 μm polyester film 100T60 (manufactured by Toray Industries, Inc.) was used as the film substrate. A solution in which tetraisopropyl titanate (manufactured by Matsumoto Pharmaceutical Co., Ltd., Olgatics TA-10), ethanol, and 0.1 N hydrochloric acid are dispersed so as to have a mass ratio of 5: 95: 1 is prepared to hydrolyze titanate. A liquid was obtained. A polyester film having a titanate coated on the surface is applied by applying the hydrolyzate on the film substrate using a bar coater, drying at 100 ° C. for 5 seconds, and performing heat treatment at 200 ° C. for 10 seconds using an oven. Obtained. Using a magnetron sputtering apparatus, a 10 nm thick palladium film is formed on the coating surface of the film substrate, and further a 10 nm thick gold film is formed on the palladium film, thereby forming a metallized film. Created. The target is gold of 99.99% purity (manufactured by Tanaka Kikinzoku Kogyo Co., Ltd.) for the production of a gold film, and palladium of 99.9% purity (manufactured by Tanaka Kikinzoku Kogyo Co., Ltd.) for the production of a palladium film. Was used. Argon was used as the sputtering gas. The thickness of the coating layer was adjusted so that the center line average roughness (Ra) of the outermost metal layer was 100 nm. The liquid spreadability was good both immediately after metal lamination and after being left in the atmosphere for 15 minutes. The stability of the surface resistance value was good, with the amount of change in resistance value after standing for 15 minutes in the air immediately after metal lamination being less than 5Ω / □. Further, the difference between the maximum value and the minimum value of the surface resistance value was less than 20Ω / □, and the uniformity of the surface resistance value with respect to the measurement position was good.

〔比較例1〕
フィルム基材として100μmのポリエステルフィルム100E20(東レ(株)製)を使用し、マグネトロンスパッタリング装置を用いて、膜厚10nmのパラジウム膜をフィルム基材の一方の面上に形成し、金属化フィルムを作成した。ターゲットは、純度99.9%のパラジウム(田中貴金属工業(株)製)を用いた。スパッタガスにはアルゴンを用いた。最外層の金属層の中心線平均粗さ(Ra)は100nmであった。表面抵抗値は、大気中に15分間放置した後も、金属積層直後と同等の値が維持された。しかし、液体展開性は、金属積層直後は良好であったが、大気中に15分間放置した後は不良となった。表面抵抗値の安定性は、金属積層直後に対する、大気中に15分間放置した後の抵抗値の変化量が5Ω/□未満であり、良好であった。また、表面抵抗値の最大値と最小値の差は20Ω/□未満であり、測定位置に対する表面抵抗値の均一性は、良好であった。
[Comparative Example 1]
Using a 100 μm polyester film 100E20 (manufactured by Toray Industries, Inc.) as a film substrate, a palladium film having a thickness of 10 nm is formed on one surface of the film substrate using a magnetron sputtering apparatus, and a metallized film is formed. Created. As the target, palladium having a purity of 99.9% (manufactured by Tanaka Kikinzoku Kogyo Co., Ltd.) was used. Argon was used as the sputtering gas. The center line average roughness (Ra) of the outermost metal layer was 100 nm. The surface resistance value was maintained at the same value as that immediately after metal lamination even after being left in the air for 15 minutes. However, the liquid spreadability was good immediately after metal lamination, but became poor after being left in the atmosphere for 15 minutes. The stability of the surface resistance value was good, with the amount of change in resistance value after standing for 15 minutes in the air immediately after metal lamination being less than 5Ω / □. Further, the difference between the maximum value and the minimum value of the surface resistance value was less than 20Ω / □, and the uniformity of the surface resistance value with respect to the measurement position was good.

〔比較例2〕
フィルム基材として100μmのポリエステルフィルム100T60(東レ(株)製)を使用し、マグネトロンスパッタリング装置を用いて、膜厚10nmのパラジウム膜をフィルム基材の一方の面上に形成し、さらに、膜厚10nmの金膜を該パラジウム膜の上に形成することにより、金属化フィルムを作成した。ターゲットは、金膜の作成には純度99.99%の金(田中貴金属工業(株)製)を用い、パラジウム膜の作成には純度99.9%のパラジウム(田中貴金属工業(株)製)を用いた。スパッタガスにはアルゴンを用いた。最外層の金属層の中心線平均粗さ(Ra)は3nmであった。表面抵抗値は、大気中に15分間放置した後も、金属積層直後と同等の値が維持された。しかし、液体展開性は、金属積層直後、大気中に15分間放置した後ともに不良であった。表面抵抗値の安定性は、金属積層直後に対する、大気中に15分間放置した後の抵抗値の変化量が5Ω/□未満であり、良好であった。また、表面抵抗値の最大値と最小値の差は20Ω/□未満であり、測定位置に対する表面抵抗値の均一性は、良好であった。
[Comparative Example 2]
A 100 μm polyester film 100T60 (manufactured by Toray Industries, Inc.) is used as a film base, and a palladium film having a thickness of 10 nm is formed on one surface of the film base using a magnetron sputtering apparatus. A metallized film was prepared by forming a 10 nm gold film on the palladium film. The target is gold of 99.99% purity (manufactured by Tanaka Kikinzoku Kogyo Co., Ltd.) for the production of a gold film, and palladium of 99.9% purity (manufactured by Tanaka Kikinzoku Kogyo Co., Ltd.) for the production of a palladium film. Was used. Argon was used as the sputtering gas. The center line average roughness (Ra) of the outermost metal layer was 3 nm. The surface resistance value was maintained at the same value as that immediately after metal lamination even after being left in the air for 15 minutes. However, the liquid developability was poor both after the metal lamination and after being left in the atmosphere for 15 minutes. The stability of the surface resistance value was good, with the amount of change in resistance value after standing for 15 minutes in the air immediately after metal lamination being less than 5Ω / □. Further, the difference between the maximum value and the minimum value of the surface resistance value was less than 20Ω / □, and the uniformity of the surface resistance value with respect to the measurement position was good.

〔比較例3〕
フィルム基材として100μmのポリエステルフィルム100E20(東レ(株)製)を使用し、該フィルム基材に空気中でコロナ放電処理を施した後、マグネトロンスパッタリング装置を用いて、膜厚10nmのパラジウム膜をフィルム基材の一方の面上に形成し、さらに、膜厚10nmの金膜を該パラジウム膜の上に形成することにより、金属化フィルムを作成した。ターゲットは、金膜の作成には純度99.99%の金(田中貴金属工業(株)製)を用い、パラジウム膜の作成には純度99.9%のパラジウム(田中貴金属工業(株)製)を用いた。スパッタガスにはアルゴンを用いた。前記コロナ放電の処理時間は、最外層の金属層の中心線平均粗さ(Ra)が200nmとなるよう調整した。液体展開性は、金属積層直後、大気中に15分間放置した後ともに良好であった。表面抵抗値の安定性は、金属積層直後に対する、大気中に15分間放置した後の抵抗値の変化量が5Ω/□未満であり、良好であった。しかし、表面抵抗値の最大値と最小値の差は30Ω/□であり、測定位置に対する表面抵抗値の均一性は、不良であった。
[Comparative Example 3]
A 100 μm polyester film 100E20 (manufactured by Toray Industries, Inc.) was used as the film substrate, and after corona discharge treatment was performed on the film substrate in the air, a palladium film having a thickness of 10 nm was formed using a magnetron sputtering apparatus. A metallized film was formed by forming on one surface of the film substrate and further forming a 10 nm thick gold film on the palladium film. The target is gold of 99.99% purity (manufactured by Tanaka Kikinzoku Kogyo Co., Ltd.) for the production of a gold film, and palladium of 99.9% purity (manufactured by Tanaka Kikinzoku Kogyo Co., Ltd.) for the production of a palladium film. Was used. Argon was used as the sputtering gas. The treatment time for the corona discharge was adjusted so that the center line average roughness (Ra) of the outermost metal layer was 200 nm. The liquid spreadability was good both immediately after metal lamination and after being left in the atmosphere for 15 minutes. The stability of the surface resistance value was good, with the amount of change in resistance value after standing for 15 minutes in the air immediately after metal lamination being less than 5Ω / □. However, the difference between the maximum value and the minimum value of the surface resistance value was 30Ω / □, and the uniformity of the surface resistance value with respect to the measurement position was poor.

Figure 2007021974
Figure 2007021974

本発明は、金属化フィルム上にコーティングされた物質を介して起こる化学反応によって生じる電位変化、または電流を測定するための電極として用いられる金属化フィルムとして、特に好適に用いられる。   The present invention is particularly preferably used as a metallized film used as an electrode for measuring a potential change caused by a chemical reaction occurring via a substance coated on a metallized film, or a current.

本発明の金属化フィルムの一実施態様を示す側面図である。It is a side view which shows one embodiment of the metallized film of this invention. 本発明の金属化フィルムの一実施態様を示す側面図である。It is a side view which shows one embodiment of the metallized film of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1:高分子フィルム基材
2:金および/または白金で構成された金属層
3:金属層
1: Polymer film substrate 2: Metal layer composed of gold and / or platinum 3: Metal layer

Claims (7)

高分子フィルム基材上に一層以上の金属層を積層した金属化フィルムであって、最外層が金および/または白金で構成された金属層であり、かつ、該最外層の金属層表面の中心線平均粗さ(Ra)が5〜150nmである金属化フィルム。   A metallized film in which one or more metal layers are laminated on a polymer film substrate, the outermost layer being a metal layer composed of gold and / or platinum, and the center of the outermost metal layer surface A metallized film having a line average roughness (Ra) of 5 to 150 nm. 前記高分子フィルムが、ポリエステルフィルムである請求項1に記載の金属化フィルム。   The metallized film according to claim 1, wherein the polymer film is a polyester film. 前記高分子フィルムが、表面処理されたものである請求項1または2に記載の金属化フィルム。   The metallized film according to claim 1 or 2, wherein the polymer film has been surface-treated. 前記表面処理が、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、エッチング処理、あるいは粗面化処理である請求項3に記載の金属化フィルム。   The metallized film according to claim 3, wherein the surface treatment is corona discharge treatment, glow discharge treatment, flame treatment, etching treatment, or roughening treatment. 前記高分子フィルムが、表面コーティングされたものである請求項1〜4のいずれかに記載の金属化フィルム。   The metallized film according to any one of claims 1 to 4, wherein the polymer film is surface-coated. 前記表面コーティングが、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、ポリウレタンアクリレート系樹脂、ポリエポキシアクリレート系樹脂およびチタネート系化合物から選ばれた少なくとも一種を塗布したものである請求項5に記載の金属化フィルム。   6. The surface coating according to claim 5, wherein at least one selected from a polyurethane resin, a polyester resin, a polyester acrylate resin, a polyurethane acrylate resin, a polyepoxy acrylate resin, and a titanate compound is applied. Metallized film. 前記金属化フィルムが、検査キットに用いる体外診断用セルを構成する電極用である請求項1〜6のいずれかに記載の金属化フィルム。   The metallized film according to any one of claims 1 to 6, wherein the metallized film is for an electrode constituting an in vitro diagnostic cell used in a test kit.
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