JP2007009116A - Optical resin composition, optical resin sheet produced by using the same, optical filter for plasma display and plasma display obtained by using the composition, etc. - Google Patents

Optical resin composition, optical resin sheet produced by using the same, optical filter for plasma display and plasma display obtained by using the composition, etc. Download PDF

Info

Publication number
JP2007009116A
JP2007009116A JP2005194020A JP2005194020A JP2007009116A JP 2007009116 A JP2007009116 A JP 2007009116A JP 2005194020 A JP2005194020 A JP 2005194020A JP 2005194020 A JP2005194020 A JP 2005194020A JP 2007009116 A JP2007009116 A JP 2007009116A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
monomer
acrylate
weight
resin composition
optical resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005194020A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4743494B2 (en
Inventor
Toru Takahashi
亨 高橋
Yukihisa Ishida
恭久 石田
Toshishige Uehara
寿茂 上原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2005194020A priority Critical patent/JP4743494B2/en
Publication of JP2007009116A publication Critical patent/JP2007009116A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4743494B2 publication Critical patent/JP4743494B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin material having transparency, moderate adhesiveness, excellent moisture-resistant reliability and sufficient shock-absorbing property contributing to the protection of a display such as a plasma display. <P>SOLUTION: The optical resin composition comprises 15-60 pts.wt. of a copolymer of a 4-18C alkyl acrylate and a hydroxyalkyl acrylate, 39-84 pts.wt. of a monomer mixture having a composition similar to that of the copolymer, 0.5-10 pts.wt. of a monomer having ≥2 acryloyl groups, and 0.3-3 pts.wt. of a photopolymerization initiator. The invention further provides a resin sheet for optical use composed of the resin composition. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶ディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネル(PDP)等のディスプレイ装置の割れ防止、応力及び衝撃の緩和に有用な光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂シート並びにこれらを用いたプラズマディスプレイ用光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネルに関する。   The present invention relates to an optical resin composition useful for prevention of cracking of a display device such as a liquid crystal display panel and a plasma display panel (PDP), relaxation of stress and impact, an optical resin sheet using the same, and a plasma using the same. The present invention relates to an optical filter for display and a plasma display panel.

ガラス製ブラウン管(CRT)はテレビ用、ディスプレイ用としてUL規格や電波取締法等で鋼球落下による耐衝撃試験により飛散防止性や貫通しないことが決められている。
そのため、この規格を満たすためCRTのガラスを厚く設計する必要がありCRTの重量を重くしていた。そこで、ガラスを厚くすること無く飛散防止性を持たせる手段として自己修復性を有する合成樹脂保護フィルムをガラスに積層する方法が提案されている(特許文献1、特許文献2参照)。しかし、この提案は、飛散防止性を特徴としているが、ガラスの割れ防止機能は兼ね備えていない。
一方、フラットパネルディスプレイ(FPD)の一つであるPDP)は、PDPの割れを防止するため、PDPから1〜5mm程度の空間を設け、厚さ3mm程度のガラス等の前面板を前面(視認面側)に設けている。そのため、PDPの大型化に伴い、前面板の面積も大きくなるため、PDPの重量が重くなってしまう。
Glass cathode ray tubes (CRTs) are determined to be anti-scattering and not penetrated by an impact resistance test by dropping a steel ball in accordance with UL standards or radio wave control methods for televisions and displays.
Therefore, in order to satisfy this standard, it is necessary to design the CRT glass to be thick, and the weight of the CRT is increased. Then, the method of laminating | stacking the synthetic resin protective film which has a self-restoration property on glass as a means to give scattering prevention property without making glass thick is proposed (refer patent document 1 and patent document 2). However, although this proposal is characterized by anti-scattering properties, it does not have a function of preventing glass from breaking.
On the other hand, in order to prevent cracking of the PDP, a flat panel display (FPD) is provided with a space of about 1 to 5 mm from the PDP, and a front plate made of glass or the like having a thickness of about 3 mm on the front (viewing). On the surface side). For this reason, as the PDP is increased in size, the area of the front plate is also increased, which increases the weight of the PDP.

そこで、ディスプレイの割れ防止のために、特定の樹脂をディスプレイ表面に積層すること、又は特定の樹脂を積層した光学フィルタをディスプレイ表面に積層することが提案されている(特許文献3,4,5参照)   Therefore, in order to prevent cracking of the display, it has been proposed to laminate a specific resin on the display surface or to laminate an optical filter on which the specific resin is laminated (Patent Documents 3, 4, and 5). reference)

特開平06−333515号公報Japanese Patent Laid-Open No. 06-333515 特開平06−333517号公報Japanese Patent Laid-Open No. 06-333517 特開2004−58376号公報JP 2004-58376 A 特開2005−107199号公報JP 2005-107199 A 特開2004−263084号公報JP 2004-263084 A

前記特許文献3,4では、使用する樹脂材料の組成に関する考察が特になく、接着性や透明性を発現させる手段が不明瞭である。特に、特許文献3では、樹脂の耐湿信頼性に関する考察がなく、実施例に具体的に示される組成の樹脂材料ではディスプレイに適用後、短時間の耐湿試験において白濁してしまう。また、特許文献4でも、実施例で具体的に示される樹脂の一部にアクリル酸を使用しており、長時間の耐湿試験において、樹脂が白濁してしまい、耐湿試験時に接触している金属を腐食させてしまうという問題が発生する。さらに、特許文献3,4では、より優れた衝撃吸収性を得るという観点からは、検討が不十分であると考えられる。特許文献4では、樹脂を用いた耐衝撃層の厚みが0.2〜1mmとされるが、厚さを大きくしてより衝撃吸収性を向上させるという観点での開示はない。特許文献5では耐湿熱性に関する考察がなされているが、本特許文献に記載の樹脂原料組成では、耐衝撃性の大幅な向上は望めない。また、実施例おける樹脂層の厚みは1mmであり、より優れた衝撃吸収性を得るという観点からは、検討が不十分であると考えられる。また、特許文献5の実施例に記載されるような、どちらかというと硬化後に柔らかい樹脂は、厚く使用した場合、前面フィルタの表面硬度が低下し、耐擦傷性に問題が出てくることが考えられる。
そこで、本発明は、透明で、適度な粘着力、耐湿信頼性に優れ、ディスプレイの保護に寄与する衝撃吸収性を有する光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂シート並びにこれらを用いたプラズマディスプ−レイ用光学フィルタを提供することを目的とする。また、本発明は、さらに、特に優れた耐衝撃性を有する光学用樹脂組成物及びそれを用いた光学用樹脂シート並びにこれらを用いたプラズマディスプレイ用光学フィルタ及びプラズマディスプレイを提供することを目的とする。
In Patent Documents 3 and 4, there is no particular consideration regarding the composition of the resin material to be used, and the means for expressing adhesiveness and transparency is unclear. In particular, in Patent Document 3, there is no consideration regarding the moisture resistance reliability of the resin, and the resin material having the composition specifically shown in the examples becomes cloudy in a short time moisture resistance test after being applied to a display. Also in Patent Document 4, acrylic acid is used as a part of the resin specifically shown in the examples, and the resin becomes cloudy in a long-time moisture resistance test, and is in contact with the metal during the moisture resistance test. This causes the problem of corroding. Further, in Patent Documents 3 and 4, it is considered that the examination is insufficient from the viewpoint of obtaining better shock absorption. In Patent Document 4, the thickness of the impact-resistant layer using a resin is set to 0.2 to 1 mm, but there is no disclosure from the viewpoint of increasing the thickness to further improve the shock absorption. Patent Document 5 discusses heat and humidity resistance, but the resin material composition described in this patent document cannot be expected to significantly improve impact resistance. Moreover, the thickness of the resin layer in an Example is 1 mm, and it is thought that examination is inadequate from a viewpoint of obtaining the more outstanding impact absorbability. In addition, as described in the example of Patent Document 5, if a soft resin after curing is used thickly, the surface hardness of the front filter is lowered, which may cause a problem in scratch resistance. Conceivable.
Therefore, the present invention is an optical resin composition that is transparent, has excellent moderate adhesive strength and moisture resistance reliability, has an impact absorption property that contributes to protection of a display, an optical resin sheet using the same, and these. An object is to provide an optical filter for plasma display. Another object of the present invention is to provide an optical resin composition having particularly excellent impact resistance, an optical resin sheet using the same, an optical filter for plasma display using the same, and a plasma display. To do.

本発明は、次のものに関する。
1. コポリマー 15〜60重量部
アクリロイル基を1個有するモノマー 39〜84重量部
アクリロイル基を2個以上有するモノマー 0.5〜10重量部
及び
光重合開始剤 0.3〜3重量部
を含有し、
上記のコポリマーが、アルキル基の炭素数が4〜18であるアルキルアクリレート(以下、AAモノマーという。)50〜87重量%と下記一般式(I)
The present invention relates to the following.
1. 15 to 60 parts by weight of copolymer 39 to 84 parts by weight of monomer having one acryloyl group 0.5 to 10 parts by weight of monomer having two or more acryloyl groups and 0.3 to 3 parts by weight of a photopolymerization initiator,
The above copolymer is an alkyl acrylate having 4 to 18 carbon atoms in an alkyl group (hereinafter referred to as AA monomer) of 50 to 87% by weight and the following general formula (I)

Figure 2007009116
(ただし、式中、mは2、3又は4、nは1〜10の整数をしめす。)
で表されるヒドロキシル基含有アクリレート(以下、HAモノマーという。)13〜50重量%を重合させて得られるものであり、
上記のアクリロイル基を1個有するモノマーとして、AAモノマーを50〜87重量%及びHAモノマーを13〜50重量%の割合になるように使用し、
上記コポリマー中のHAモノマーの割合(P重量%)と、アクリロイル基を1個有するモノマーにおけるHAモノマーの割合(M重量%)との間に、
Figure 2007009116
(In the formula, m represents 2, 3 or 4, and n represents an integer of 1 to 10.)
It is obtained by polymerizing 13 to 50% by weight of a hydroxyl group-containing acrylate represented by the following (hereinafter referred to as HA monomer),
As a monomer having one acryloyl group as described above, an AA monomer is used in a proportion of 50 to 87% by weight and an HA monomer in a proportion of 13 to 50% by weight,
Between the proportion of HA monomer in the copolymer (P wt%) and the proportion of HA monomer in the monomer having one acryloyl group (M wt%),

Figure 2007009116
の関係があるように配合されてなる光学用樹脂組成物。
2. 重合開始剤がα−ヒドロキシアルキルフェノン系化合物あるいはアシルフォスフィンオキサイド系化合物あるいはオリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)である項1記載の光学用樹脂組成物。
3. AAモノマーが2−エチルヘキシルアクリレートまたはイソオクチルアクリレートまたはn−オクチルアクリレートであり、HAモノマーが2−ヒドロキシエチルアクリレートまたは1−ヒドロキシエチルアクリレートまたは2−ヒドロキシプロピルアクリレートまたは3−ヒドロキシプロピルアクリレートまたは1−ヒドロキシプロピルアクリレートまたは4−ヒドロキシブチルアクリレートまたは3−ヒドロキシブチルアクリレートまたは2−ヒドロキシブチルアクリレートまたは1−ヒドロキシブチルアクリレートである項1又は2記載の 樹脂組成物。
4. コポリマーの重量平均分子量が200,000〜350,000である項1〜3のいずれかに記載の光学用樹脂組成物。
5. コポリマ 40〜60重量部、
アクリロイル基を1個有するモノマー 39〜59 重量部、
アクリロイル基を2個以上有するモノマー 1〜5重量部、
及び
光重合開始剤 0.5〜2.0重量部
を含有する請求項1〜4のいずれかに記載の光学用樹脂組成物。
6. 項1〜5のいずれかに記載の樹脂組成物からなる光学用樹脂シート。
7. 項1〜5のいずれかに記載の樹脂組成物又は請求項6記載の光学用樹脂シートを使用して得られるプラズマディスプレイパネル用衝撃吸収層を備えたプラズマディスプレイ用光学フィルタ。
8. 項1〜5のいずれかに記載の樹脂組成物又は請求項6記載の光学用樹脂シートを使用して得られるプラズマディスプレイ。
Figure 2007009116
An optical resin composition formulated so as to have the following relationship.
2. Item 2. The polymerization initiator according to Item 1, wherein the polymerization initiator is an α-hydroxyalkylphenone compound, an acyl phosphine oxide compound, or oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone). Optical resin composition.
3. AA monomer is 2-ethylhexyl acrylate or isooctyl acrylate or n-octyl acrylate, and HA monomer is 2-hydroxyethyl acrylate or 1-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxypropyl acrylate or 3-hydroxypropyl acrylate or 1-hydroxypropyl Item 3. The resin composition according to Item 1 or 2, which is acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, or 1-hydroxybutyl acrylate.
4). Item 4. The optical resin composition according to any one of Items 1 to 3, wherein the copolymer has a weight average molecular weight of 200,000 to 350,000.
5. 40-60 parts by weight of copolymer,
39 to 59 parts by weight of a monomer having one acryloyl group,
1 to 5 parts by weight of a monomer having two or more acryloyl groups,
And the optical polymerization composition in any one of Claims 1-4 containing 0.5-2.0 weight part of photoinitiators.
6). The optical resin sheet which consists of a resin composition in any one of claim | item 1 -5.
7). The optical filter for plasma displays provided with the impact absorption layer for plasma display panels obtained using the resin composition in any one of claim | item 1 -5, or the optical resin sheet of Claim 6.
8). The plasma display obtained using the resin composition in any one of Claims 1-5, or the optical resin sheet of Claim 6.

本発明に係る光学用樹脂組成物は、衝撃吸収性を有し、耐湿信頼性に優れ、特に多湿条件下でも白濁しない。
また、本発明に係る光学用樹脂組成物及び光学用樹脂シートはポリマーとモノマーの組成がほぼ同じであるためポリマーの溶解性が高く、高分子量のポリマーを使用しても透明な樹脂組成物や硬化物を作製できる。さらにモノマーで希釈されているため無溶剤で成形が可能であり、気泡の無い厚いフィルムを作製できる。
また、高分子量のポリマを比較的高濃度で含有しているため薄い膜厚でも衝撃吸収性に優れる。また、そのために硬さがあり、耐擦傷性の低下を抑制できる。この硬さのため塑性変形しにくく、厚い膜厚でより優れた衝撃吸収性を発揮することができる。さらに、凝集力が高く伸縮性もあるためフィルムがたわんだときやロールに巻きつけたときに亀裂が入ったり、筋が入ったりすることが少ない。
また、本発明に係る光学用樹脂組成物は、一般にディスプレイに使用される材料を侵すことが無い。
本発明に係る光学用樹脂組成物は、光学用樹脂シートの作製が可能であり、この樹脂シートも、上記した光学用樹脂組成物と同様の作用効果を示す。
以上の光学用樹脂組成物又は光学用樹脂シートを使用して得られる衝撃吸収層を備えたプラズマディスプレイ用光学フィルタ及びプラズマディスプレイは上記した光学用樹脂組成物と同様の作用効果を継承する。
The optical resin composition according to the present invention has impact absorption, is excellent in moisture resistance reliability, and does not become cloudy even under humid conditions.
In addition, the optical resin composition and the optical resin sheet according to the present invention have high polymer solubility because the compositions of the polymer and the monomer are almost the same, and even if a high molecular weight polymer is used, a transparent resin composition or A cured product can be produced. Furthermore, since it is diluted with a monomer, it can be molded without a solvent, and a thick film without bubbles can be produced.
In addition, since it contains a high molecular weight polymer at a relatively high concentration, it has excellent shock absorption even at a thin film thickness. Moreover, it has hardness and can suppress a decrease in scratch resistance. Due to this hardness, it is difficult to plastically deform, and it is possible to exhibit better shock absorption with a thick film thickness. Furthermore, since it has high cohesive force and is stretchable, it is less likely to crack or streak when the film is bent or wound around a roll.
Moreover, the optical resin composition according to the present invention generally does not attack materials used for displays.
The optical resin composition according to the present invention can produce an optical resin sheet, and this resin sheet also exhibits the same effects as the optical resin composition described above.
The optical filter for plasma display and the plasma display provided with the impact absorbing layer obtained by using the above optical resin composition or optical resin sheet inherit the same functions and effects as those of the optical resin composition described above.

本発明におけるAAモノマーとしてはn−ブチルアクリレート、n−ペンチルアクリレート、n−ヘキシルアクリレート、n−オクチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、ステアリルアクリレート等が挙げられるが、n−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、n−オクチルアクリレートが好ましく、2−エチルヘキシルアクリレートが特に好ましい。またこれらのアクリレートは2種類以上を組み合わせて使用しても良い。   Examples of the AA monomer in the present invention include n-butyl acrylate, n-pentyl acrylate, n-hexyl acrylate, n-octyl acrylate, isooctyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, dodecyl acrylate, stearyl acrylate, and the like. Acrylate, isooctyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate and n-octyl acrylate are preferred, and 2-ethylhexyl acrylate is particularly preferred. These acrylates may be used in combination of two or more.

本発明におけるHAモノマーとしては、2−ヒドロキシエチルアクリレート、1−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、1−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、3−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、1−ヒドロキシブチルアクリレート等の水酸基含有アクリレート、ジエチレングリコールやトリエチレングリコール等のポリエチレングリコールモノアクリレート、ジプロピレングリコールやトリプロピレングリコール等のポリプロピレングリコールモノアクリレート、ジブチレングリコールやトリブチレングリコール等のポリブチレングリコールモノアクリレートなどが挙げられるが、2−ヒドロキシエチルアクリレート、1−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、1−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、3−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、1−ヒドロキシブチルアクリレートが好ましく、2−ヒドロキシエチルアクリレートが特に好ましい。また、これらのアクリレートは2種類以上を組み合わせて使用しても良い。   As the HA monomer in the present invention, 2-hydroxyethyl acrylate, 1-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 1-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, Hydroxyl-containing acrylates such as 2-hydroxybutyl acrylate and 1-hydroxybutyl acrylate, polyethylene glycol monoacrylates such as diethylene glycol and triethylene glycol, polypropylene glycol monoacrylates such as dipropylene glycol and tripropylene glycol, dibutylene glycol and tributylene glycol And polybutylene glycol monoacrylate such as 2- Droxyethyl acrylate, 1-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 1-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 1-hydroxy Butyl acrylate is preferred, and 2-hydroxyethyl acrylate is particularly preferred. These acrylates may be used in combination of two or more.

本発明おけるAAモノマーとHAモノマー重合させて得られるコポリマーはその重量平均分子量(ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより標準ポリスチレンの検量線を用いて測定したもの、以下同様)が、100,000〜600,000であるものが好ましく、150,000〜400,000がより好ましく、200,000〜350,000がより好ましい。
コポリマーの合成方法としては、溶液重合、懸濁重合、乳化重合及び塊状重合等の既知の重合方法を用いることができるが、溶液重合あるいは塊状重合が好ましい。重合開始剤としては、熱によりラジカルを発生する化合物を用いることができ、具体的には、過酸化ベンゾイル、t−ブチルパーベンゾエイト、クメンヒドロパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ(2−エトキシエチル)パーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシビバレート、(3,5,5−トリメチルヘキサノイル)パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、ジアセチルパーオキシド、ジドデシルパーオキシドの様な有機過酸化物や、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニル)。2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチル−4−メトキシバレロニトリル)、ジメチル2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)、4,4’−アゾビス(4−シアノバレリック酸)、2,2’−アゾビス(2−ヒドロキシメチルプロピオニトリル)、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]のようなアゾ系化合物が挙げられる。
The copolymer obtained by polymerizing AA monomer and HA monomer in the present invention has a weight average molecular weight (measured using a standard polystyrene calibration curve by gel permeation chromatography, the same shall apply hereinafter) of 100,000 to 600,000. Are preferred, 150,000 to 400,000 are more preferred, and 200,000 to 350,000 are more preferred.
As a method for synthesizing the copolymer, known polymerization methods such as solution polymerization, suspension polymerization, emulsion polymerization and bulk polymerization can be used, but solution polymerization or bulk polymerization is preferable. As the polymerization initiator, a compound capable of generating radicals by heat can be used. Specifically, benzoyl peroxide, t-butyl perbenzoate, cumene hydroperoxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-n- Propyl peroxydicarbonate, di (2-ethoxyethyl) peroxydicarbonate, t-butylperoxyneodecanoate, t-butylperoxybivalate, (3,5,5-trimethylhexanoyl) peroxide, di Organic peroxides such as propionyl peroxide, diacetyl peroxide, didodecyl peroxide, 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), 1, 1'-azobis (cyclohexane-1-carbonyl). 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (2,4-dimethyl-4-methoxyvaleronitrile), dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) ), 4,4′-azobis (4-cyanovaleric acid), 2,2′-azobis (2-hydroxymethylpropionitrile), 2,2′-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) ) Propane].

本発明おいて、アクリロイル基を2個以上有するモノマーとしては、ビスフェノールAジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、1,3−ブチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリブチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等のアクリレートモノマ、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、アクリルアクリレート等のアクリルオリゴマが挙げられるが、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート等のジアクリレートが好ましい。   In the present invention, monomers having two or more acryloyl groups include bisphenol A diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, 1, 3-butylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, glycerol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, polybutylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, penta Erythritol triacrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tetraacryl Acrylate monomers such as acrylate monomers, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and acrylic oligomers such as epoxy acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, and acrylic acrylate. Diacrylates such as diol diacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, and polypropylene glycol diacrylate are preferred.

本発明において光重合開始剤としては、紫外線等の光線に感度を有するものが使用される。例えば、ベンゾフェノン、N,N′−テトラメチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、2,2−ジメトキシ―1,2−ジフェニルエタン―1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1―ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)等が挙げられるが、樹脂組成物を着色させないものとしては1―ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン等のα−ヒドロキシアルキルフェノン系化合物、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド系化合物、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)及びこれらを組み合わせたものが好ましい。また特に厚いシートを作製するためにはビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド系化合物を含む光重合開始剤が好ましい。また、シートの臭気を減らすためにはオリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)が好ましい。これらの光重合開始剤は複数を組み合わせて使用しても良い。   In the present invention, those having sensitivity to light such as ultraviolet rays are used as the photopolymerization initiator. For example, benzophenone, N, N′-tetramethyl-4,4′-diaminobenzophenone (Michler's ketone), 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1- Phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methyl Vinyl) phenyl) propanone) and the like, but those that do not color the resin composition are 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1- [4 -(2-Hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propyl Α-hydroxyalkylphenone compounds such as pan-1-one, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl- Acylphosphine oxide compounds such as pentylphosphine oxide and 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) Propanone) and combinations thereof are preferred. In order to produce a particularly thick sheet, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, A photopolymerization initiator containing an acylphosphine oxide compound such as 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide is preferred. In order to reduce the odor of the sheet, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone) is preferable. These photopolymerization initiators may be used in combination.

本発明の光学用樹脂組成物は、
コポリマー 15〜60重量部、好ましくは、30〜60重竜部、より好ましくは40〜60重量部
アクリロイル基を1個有するモノマー 39〜84重量部、好ましくは、39〜69重量部、より好ましくは39〜59重量部、
アクリロイル基を2個以上有するモノマー 0.5〜10重量部、好ましくは、1〜10重量部、
及び
光重合開始剤 0.3〜3重量部、好ましくは、0.5〜2重量部
を含有するものである。
コポリマーが少なすぎると機械的特性に問題が生じ、PDP用衝撃吸収層に使用した場合に衝撃吸収性が低下する。また硬化収縮が大きくなり膜の平坦性に問題が生じやすくなる。逆に多すぎると組成物の粘度が高くなりすぎシート作製が困難になる。
アクリロイル基を1個有するモノマーが、少なすぎると組成物の粘度が高くなりすぎシート作製が困難になり、多すぎると機械的特性に問題が生じる。
アクリロイル基を2個以上有するモノマーが少なすぎると、樹脂組成物の硬化物が形状を保つことが困難であり、逆に多すぎると樹脂組成物の硬化物が脆くなり機械的特性に問題が生じる。
光重合開始剤が少なすぎると反応が十分に進行せず、逆に多すぎると光重合開始剤が大量に残存し、光学的な特性や機械的特性に問題が生じる。なお、上記の光学用樹脂組成物を電子線の照射で硬化させる場合には、光重合開始剤を使用しなくてもよい。
The optical resin composition of the present invention comprises:
Copolymer 15-60 parts by weight, preferably 30-60 parts by weight, more preferably 40-60 parts by weight Monomer having one acryloyl group 39-84 parts by weight, preferably 39-69 parts by weight, more preferably 39 to 59 parts by weight,
Monomer having 2 or more acryloyl groups 0.5 to 10 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight,
And a photoinitiator 0.3-3 weight part, Preferably, it contains 0.5-2 weight part.
If the amount of the copolymer is too small, there will be a problem in mechanical properties, and the impact absorbability will be lowered when used in a shock absorbing layer for PDP. Further, curing shrinkage becomes large, and a problem is likely to occur in the flatness of the film. On the other hand, if the amount is too large, the viscosity of the composition becomes too high, making it difficult to produce a sheet.
When the amount of the monomer having one acryloyl group is too small, the viscosity of the composition becomes too high, making it difficult to produce a sheet. When the amount is too large, there is a problem in mechanical properties.
If the amount of the monomer having two or more acryloyl groups is too small, it is difficult to maintain the shape of the cured product of the resin composition. Conversely, if the amount of the monomer is too large, the cured product of the resin composition becomes brittle and causes problems in mechanical properties. .
When the amount of the photopolymerization initiator is too small, the reaction does not proceed sufficiently. On the other hand, when the amount is too large, a large amount of the photopolymerization initiator remains, resulting in problems in optical properties and mechanical properties. In addition, when hardening said resin composition for optics by irradiation of an electron beam, it is not necessary to use a photoinitiator.

前記コポリマーは、AAモノマー50〜87重量%、好ましくは60〜70重量%とHAモノマー13〜50重量%、好ましくは30〜40重量%を重合させて得られたものである。
また、前記したアクリロイル基を1個有するモノマーとしては、AAモノマー50〜87重量%、好ましくは60〜70重量%とHAモノマー13〜50重量%、好ましくは30〜40重量%を使用するものである。
これらにおいて、AAモノマーが多すぎると、従って、HAモノマーが少なすぎると吸湿時に本発明に係る樹脂組成物の硬化物が白濁しやすくなり、逆に、HAモノマーが多すぎると、従って、AAモノマーが少なすぎると吸湿時に本発明に係る樹脂組成物の硬化物が変形しやすくなる。
The copolymer is obtained by polymerizing 50 to 87% by weight of AA monomer, preferably 60 to 70% by weight, and 13 to 50% by weight, preferably 30 to 40% by weight of HA monomer.
As the monomer having one acryloyl group, AA monomer is 50 to 87% by weight, preferably 60 to 70% by weight, and HA monomer is 13 to 50% by weight, preferably 30 to 40% by weight. is there.
In these, if there are too many AA monomers, therefore, if there are too few HA monomers, the hardened | cured material of the resin composition concerning this invention will become easy to become cloudy at the time of moisture absorption, conversely, if there are too many HA monomers, therefore, AA monomer When there is too little, the hardened | cured material of the resin composition which concerns on this invention will deform | transform easily at the time of moisture absorption.

また、本発明おいて、上記コポリマー中のHAモノマーの割合(P重量%)と、アクリロイル基を1個有するモノマーにおけるHAモノマーの割合(M重量%)との間に、   In the present invention, between the ratio of HA monomer in the copolymer (P wt%) and the ratio of HA monomer in the monomer having one acryloyl group (M wt%),

Figure 2007009116
の関係があるようにそれぞれの配合が調整される。(P−M)が上記の式を満足しない場合、硬化時に本発明に係る樹脂組成物が白濁しやすくなる。前記コポリマー及びアクリロイル基を1個有するモノマーにおいて、AAモノマー(及びHAモノマー)が、前記した好ましい割合にあるときは、常にこの条件を満足する。
Figure 2007009116
Each formulation is adjusted so that When (P-M) does not satisfy the above formula, the resin composition according to the present invention tends to become cloudy during curing. In the copolymer and the monomer having one acryloyl group, this condition is always satisfied when the AA monomer (and the HA monomer) are in the preferred ratio as described above.

本発明における光学用樹脂組成物は、ディスプレイ表面に膜厚が0.1mm〜3mmになるように製膜又は積層することが好ましい。衝撃吸収性を考慮すると0.2mm以上の厚さがより好ましい。特に、衝撃吸収性を大きくしたいときは、厚さを1.3mm以上にすることが好ましい。ディスプレイ表面、又は光学フィルタの基材等に塗布して製膜した後、紫外線等の光線、電子線などの放射線を照射して硬化させる。光学フィルタを作製する場合、光学フィルタの基材又は機能層の上に本発明における光学用樹脂組成物を製膜した後、さらに、光学フィルタの基材、機能層又は保護層を積層してから、放射線を照射して硬化させてもよい。
本発明における光学用樹脂シートは、膜厚が0.1mm〜3mmのものであることが好ましい。衝撃吸収性を考慮すると0.2mm以上の厚さがより好ましい。特に、衝撃吸収性を大きくしたいときは、厚さを1.3mm以上にすることが好ましい。これは、前記したモノマー原料と重合開始剤の混合物を注形成形することにより製造することができる。また、汎用の塗工機を用い所望の厚みを塗工し、紫外線等の光線、電子線などの放射線を照射して硬化させることにより製造することができる。
本発明における光学用樹脂組成物に紫外線等で酸素が存在すると重合が阻害される場合には、樹脂表面を酸素を遮断するための透明フィルム又は透明ガラスで覆うことが好ましい。紫外線照射装置としては、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が使用できる。
本発明の光学用樹脂組成物は厚く製膜しても、また、本発明の光学用樹脂シートは厚いものであっても、高分子量のコポリマーを含むので、その硬化樹脂は、硬さがあり、衝撃に対して、塑性変形しにくく、従って、厚くして衝撃吸収性を向上させやすい。
The optical resin composition in the present invention is preferably formed or laminated on the display surface so that the film thickness is 0.1 mm to 3 mm. In consideration of impact absorption, a thickness of 0.2 mm or more is more preferable. In particular, when it is desired to increase shock absorption, the thickness is preferably 1.3 mm or more. After coating on the display surface or the substrate of the optical filter to form a film, the film is cured by irradiation with light such as ultraviolet rays or radiation such as an electron beam. When producing an optical filter, after forming the optical resin composition in the present invention on the base material or functional layer of the optical filter, further laminating the base material, functional layer or protective layer of the optical filter. It may be cured by irradiation with radiation.
The optical resin sheet in the present invention preferably has a film thickness of 0.1 mm to 3 mm. In consideration of impact absorption, a thickness of 0.2 mm or more is more preferable. In particular, when it is desired to increase shock absorption, the thickness is preferably 1.3 mm or more. This can be produced by casting a mixture of the monomer raw material and the polymerization initiator. Moreover, it can manufacture by apply | coating desired thickness using a general purpose coating machine, and irradiating radiation, such as light rays, such as an ultraviolet-ray, and an electron beam.
In the case where oxygen is present in the optical resin composition in the present invention due to ultraviolet rays or the like, it is preferable to cover the resin surface with a transparent film or transparent glass for blocking oxygen. As the ultraviolet irradiation device, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like can be used.
Even if the optical resin composition of the present invention is thickly formed and the optical resin sheet of the present invention is thick, it contains a high molecular weight copolymer, so that the cured resin has hardness. It is hard to be plastically deformed with respect to an impact. Therefore, it is easy to improve the shock absorption by increasing the thickness.

本発明における光学用樹脂組成物又は上記光学用樹脂シートは、反射防止層、電磁波遮蔽層、近赤外線遮蔽層などの機能性を有する層、ポリエチレンフィルム等の基材フィルムなどに製膜又は積層され、多層物として、また、このような多層物からなる光学用フィルタとして使用することができる。
電磁波遮蔽層としては可視光透過率60%以上で電磁波遮蔽性を有していれば既知の電磁波遮蔽層を用いることができる。透明導電膜、導電性繊維メッシュ、導電性インキにより作製されたメッシュ等を使用することができるが、高透明、高電磁波遮蔽性の観点から、金属メッシュが最も好ましい。金属メッシュの作製は、ポリエステルフィルム等の透明基材と銅箔、アルミ箔等の導電性金属箔のどちらか一方又は両方に接着剤を塗布し両者を貼り合わせ、次いで金属箔をケミカルエッチングプロセスによりエッチング加工して得られる。この時、導電性金属箔としては、密着性の確保から表面が粗面であるものを使用することが好ましい。導電性金属箔の粗面が上記の接着剤層に面するように積層される。上記のエッチングにより金属製メッシュが作製されたなら、その上に、樹脂を塗布し、特に好ましくは紫外線、電子線等の放射線の照射で硬化可能な樹脂を塗布し、紫外線、電子線等の放射線を照射し硬化することによって、粗面が転写された接着剤層を透明化することが好ましい。透明化に用いる樹脂としてあるいは透明化と衝撃吸収層を兼ねた樹脂として本発明の樹脂組成物を用いることが可能である。
また、反射防止層は、可視光反射率が5%以下となる反射防止性を有している層であればよく、透明なプラスチックフィルム等の透明基材に既知の反射防止方法で処理された層を用いることができる。
さらに、近赤外線遮蔽層は、イモニウム塩等の近赤外線吸収材や近赤外線遮蔽材を分散させた樹脂層からなり、透明なプラスチックフィルム等の透明基材に積層させておくことができる。本発明における光学用樹脂組成物又は上記光学用樹脂シートにイモニウム塩等の近赤外線吸収材や近赤外線遮蔽材を分散させて近赤外線遮蔽能を付与することができる。
The optical resin composition or the optical resin sheet in the present invention is formed or laminated on a functional layer such as an antireflection layer, an electromagnetic wave shielding layer, a near infrared shielding layer, or a base film such as a polyethylene film. It can be used as a multilayer product or as an optical filter comprising such a multilayer product.
As the electromagnetic wave shielding layer, a known electromagnetic wave shielding layer can be used as long as it has an electromagnetic wave shielding property with a visible light transmittance of 60% or more. A transparent conductive film, a conductive fiber mesh, a mesh made of a conductive ink, or the like can be used, but a metal mesh is most preferable from the viewpoint of high transparency and high electromagnetic shielding properties. The metal mesh is produced by applying an adhesive to one or both of a transparent base material such as a polyester film and a conductive metal foil such as copper foil and aluminum foil, and then bonding the two together, and then the metal foil is subjected to a chemical etching process. Obtained by etching. At this time, it is preferable to use a conductive metal foil having a rough surface in order to ensure adhesion. The conductive metal foil is laminated so that the rough surface faces the adhesive layer. If a metal mesh is produced by the etching described above, a resin is applied thereon, particularly preferably a resin curable by irradiation with radiation such as ultraviolet rays or electron beams, and radiation such as ultraviolet rays or electron beams. The adhesive layer to which the rough surface has been transferred is preferably made transparent by irradiating and curing. The resin composition of the present invention can be used as a resin used for transparency or as a resin that serves as both a transparency and an impact absorbing layer.
Further, the antireflection layer may be a layer having antireflection properties such that the visible light reflectance is 5% or less, and is processed by a known antireflection method on a transparent substrate such as a transparent plastic film. Layers can be used.
Furthermore, the near-infrared shielding layer is made of a resin layer in which a near-infrared absorbing material such as an imonium salt or a near-infrared shielding material is dispersed, and can be laminated on a transparent substrate such as a transparent plastic film. Near-infrared shielding ability can be imparted by dispersing a near-infrared absorbing material such as an immonium salt or a near-infrared shielding material in the optical resin composition or the optical resin sheet of the present invention.

本発明における光学用樹脂組成物又は上記光学用樹脂シート、電磁波遮蔽層、反射防止層、近赤外線遮蔽層等の機能性を有する層は、適宜必要なものを積層して使用することができる。この場合、機能性を有する層は、透明基材の一方に積層されていてもよく、透明基材の両側に機能の異なる層が別々に、その両側に機能の同じ層が積層されていても良い。機能性を有する層の積層順序は任意である。
このような多層物とする場合、本発明における光学用樹脂組成物又は上記光学用樹脂シートが最外層となるようにすることが好ましい。
これらの層は、各層の間に粘着層を介しロールラミネートや枚葉貼合機で積層することができる。さらに、ロールラミネートや枚葉貼合機で積層した多層材は、ロールラミネータ又は枚葉貼合機を用いてディスプレイ前面又はディスプレイ用前面板に貼合することができる。この場合、本発明の保護部材からなる層が、ディスプレイ前面又はディスプレイ用前面板(多くの場合、光学フィルタとして機能する)に面して貼り合わされることが好ましい。ディスプレイとしては、PDP、液晶表示(LCD)パネル、陰極線管(CRT)等がある。
The optical resin composition in the present invention or the above-mentioned optical resin sheet, electromagnetic wave shielding layer, antireflection layer, near infrared shielding layer, and other functional layers can be used by appropriately stacking necessary ones. In this case, the functional layer may be laminated on one side of the transparent substrate, or layers having different functions may be separately provided on both sides of the transparent substrate, and layers having the same function may be laminated on both sides. good. The order of stacking the functional layers is arbitrary.
In the case of such a multilayer product, it is preferable that the optical resin composition or the optical resin sheet in the present invention is the outermost layer.
These layers can be laminated | stacked with a roll lamination or a single wafer bonding machine through the adhesion layer between each layer. Furthermore, the multilayer material laminated | stacked with the roll lamination and the sheet | seat bonding machine can be bonded to the display front surface or the display front board using a roll laminator or a sheet bonding machine. In this case, the layer made of the protective member of the present invention is preferably bonded so as to face the front surface of the display or the display front plate (in many cases, functions as an optical filter). Examples of the display include a PDP, a liquid crystal display (LCD) panel, and a cathode ray tube (CRT).

冷却管、温度計、撹拌装置、滴下漏斗及び窒素注入管の付いた反応容器に初期モノマーとして、2−エチルヘキシルアクリレート84.0gと2−ヒドロキシエチルアクリレート36.0g並びにメチルイソブチルケトン150.0gをとり100ml/minの風量で窒素置換しながら、15分間で常温から70℃まで加熱した。その後、この温度に保ちながら、追加モノマーとして、2−エチルヘキシルアクリレート21.0gと2−ヒドロキシエチルアクリレート9.0gを使用し、これらに並びにラウリルパーオキシド0.6gを溶解した溶液を準備し、この溶液を60分間かけて滴下し滴下終了後さらに2時間反応させた。続いて、メチルイソブチルケトンを溜去することにより2−エチルヘキシルアクリレートと2−ヒドロキシエチルアクリレートのコポリマー(重量平均分子量250,000)を得た。
次に、このコポリマー 44.50g、
2−エチルヘキシルアクリレート 38.25g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート 16.25g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン 0.50g
を加え、攪拌混合した後、幅100mm、奥行き100mm、深さ0.5mmの枠に流し込み、上部を紫外線透過ガラスで覆った状態で、紫外線照射装置を用いて紫外線を2,000mJ照射したところ透明なシートを得た。このシートは吸湿試験後も透明であった。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、1.1Jの衝撃でガラスが破損せず、1.2Jの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
Into a reaction vessel equipped with a condenser, thermometer, stirrer, dropping funnel and nitrogen injection tube, 84.0 g of 2-ethylhexyl acrylate, 36.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate and 150.0 g of methyl isobutyl ketone are taken as initial monomers. While substituting with nitrogen at an air volume of 100 ml / min, the mixture was heated from room temperature to 70 ° C. for 15 minutes. Thereafter, while maintaining this temperature, 21.0 g of 2-ethylhexyl acrylate and 9.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate were used as additional monomers, and a solution in which 0.6 g of lauryl peroxide was dissolved was prepared. The solution was added dropwise over 60 minutes and allowed to react for an additional 2 hours after completion of the addition. Subsequently, methyl isobutyl ketone was distilled off to obtain a copolymer of 2-ethylhexyl acrylate and 2-hydroxyethyl acrylate (weight average molecular weight 250,000).
Next, 44.50 g of this copolymer,
38.25 g of 2-ethylhexyl acrylate,
16.25 g of 2-hydroxyethyl acrylate,
1.00 g of 1,6-hexanediol diacrylate,
1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone 0.50 g
After stirring and mixing, the mixture was poured into a frame having a width of 100 mm, a depth of 100 mm, and a depth of 0.5 mm, and the upper part was covered with an ultraviolet transmissive glass and irradiated with 2,000 mJ of ultraviolet rays using a UV irradiation device to be transparent. A good sheet was obtained. This sheet was transparent even after the moisture absorption test. Next, this sheet was bonded onto an electromagnetic wave shielding layer of an electromagnetic wave shielding film U (TT42-01) A manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. and subjected to an impact resistance test. The glass was broken by an impact of 1.2 J. Moreover, the damage of the resin sheet was not seen.

実施例1で得られたコポリマー 19.75g、
2−エチルヘキシルアクリレート 55.50g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート 23.75g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
及び
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン 0.50g
を用いて、実施例1と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、1.1Jの衝撃でガラスが破損せず、1.2Jの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
19.75 g of the copolymer obtained in Example 1
2-ethylhexyl acrylate 55.50 g,
2-hydroxyethyl acrylate 23.75 g,
1.00 g of 1,6-hexanediol diacrylate,
as well as
1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone 0.50 g
A sheet was prepared in the same manner as in Example 1. This sheet was transparent and maintained transparency after the moisture absorption test. Next, this sheet was bonded onto an electromagnetic wave shielding layer of an electromagnetic wave shielding film U (TT42-01) A manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. and subjected to an impact resistance test. The glass was broken by an impact of 1.2 J. Moreover, the damage of the resin sheet was not seen.

実施例1で得られたコポリマー 54.50g、
2−エチルヘキシルアクリレート 31.25g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート 13.25g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
及び
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン 0.50g
を用いて、実施例1と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、1.1Jの衝撃でガラスが破損せず、1.2Jの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
54.50 g of the copolymer obtained in Example 1;
31.25 g of 2-ethylhexyl acrylate,
13.25 g of 2-hydroxyethyl acrylate,
1.00 g of 1,6-hexanediol diacrylate,
as well as
1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone 0.50 g
A sheet was prepared in the same manner as in Example 1. This sheet was transparent and maintained transparency after the moisture absorption test. Next, this sheet was bonded onto an electromagnetic wave shielding layer of an electromagnetic wave shielding film U (TT42-01) A manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. and subjected to an impact resistance test. The glass was broken by an impact of 1.2 J. Moreover, the damage of the resin sheet was not seen.

初期モノマーとして、2−エチルヘキシルアクリレート102.0gと2−ヒドロキシエチルアクリレート18.0g、追加モノマーとして2−エチルヘキシルアクリレート25.5gと2−ヒドロキシエチルアクリレート4.5gを使用したこと以外は、実施例1と同様にして2−エチルヘキシルアクリレートと2−ヒドロキシエチルアクリレートのコポリマー(重量平均分子量200,000)を得た。
次に、このコポリマー 44.50g、
2−エチルヘキシルアクリレート 46.25g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート 8.25g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン 0.50g
を用いて、実施例1と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、1.3Jの衝撃でガラスが破損せず、1.4Jの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
Example 1 except that 102.0 g of 2-ethylhexyl acrylate and 18.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate were used as initial monomers and 25.5 g of 2-ethylhexyl acrylate and 4.5 g of 2-hydroxyethyl acrylate were used as additional monomers. In the same manner, a copolymer of 2-ethylhexyl acrylate and 2-hydroxyethyl acrylate (weight average molecular weight 200,000) was obtained.
Next, 44.50 g of this copolymer,
46.25 g of 2-ethylhexyl acrylate,
8.25 g of 2-hydroxyethyl acrylate,
1.00 g of 1,6-hexanediol diacrylate,
1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone 0.50 g
A sheet was prepared in the same manner as in Example 1. This sheet was transparent and maintained transparency after the moisture absorption test. Next, this sheet was laminated on an electromagnetic wave shielding layer of an electromagnetic wave shielding film U (TT42-01) A manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. and subjected to an impact resistance test. The glass was broken by an impact of 1.4 J. Moreover, the damage of the resin sheet was not seen.

初期モノマーとして、2−エチルヘキシルアクリレート60.0gと2−ヒドロキシエチルアクリレート60.0g、追加モノマーとして2−エチルヘキシルアクリレート15.0gと2−ヒドロキシエチルアクリレート15.0gを使用したこと以外は、実施例1と同様にして2−エチルヘキシルアクリレートと2−ヒドロキシエチルアクリレートのコポリマー(重量平均分子量350,000)を得た。
次に、このコポリマー 44.50g、
2−エチルヘキシルアクリレート 27.25g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート 27.25g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン 0.50g
を加えること以外は実施例1と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、1.1Jの衝撃でガラスが破損せず、1.2Jの衝撃でガラスが破損した。
また樹脂シートの破損は見られなかった。
Example 1 except that 60.0 g of 2-ethylhexyl acrylate and 60.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate were used as initial monomers and 15.0 g of 2-ethylhexyl acrylate and 15.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate were used as additional monomers. In the same manner as described above, a copolymer of 2-ethylhexyl acrylate and 2-hydroxyethyl acrylate (weight average molecular weight 350,000) was obtained.
Next, 44.50 g of this copolymer,
27.25 g of 2-ethylhexyl acrylate,
2-hydroxyethyl acrylate 27.25 g,
1.00 g of 1,6-hexanediol diacrylate,
1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone 0.50 g
A sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except for adding. This sheet was transparent and maintained transparency after the moisture absorption test. Next, this sheet was bonded onto an electromagnetic wave shielding layer of an electromagnetic wave shielding film U (TT42-01) A manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. and subjected to an impact resistance test. The glass was broken by an impact of 1.2 J.
Moreover, the damage of the resin sheet was not seen.

光重合開始剤として、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンの代わりにビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイドを使用し、幅100mm、奥行き100mm、深さ3.0mmの枠を使用し、紫外線の露光量を4,500mJとしたこと以外は実施例1と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、2.0Jの衝撃でもガラスが破損しなかった。また樹脂シートの破損は見られなかった。   As a photopolymerization initiator, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide is used instead of 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, and has a width of 100 mm, a depth of 100 mm, and a depth of 3.0 mm. A sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that a frame was used and the exposure amount of ultraviolet rays was changed to 4,500 mJ. This sheet was transparent and maintained transparency after the moisture absorption test. Next, this sheet was laminated on an electromagnetic wave shielding layer of an electromagnetic wave shielding film U (TT42-01) A manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. and subjected to an impact resistance test. Did not break. Moreover, the damage of the resin sheet was not seen.

光重合開始剤として、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンの代わりにオリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)を2.00g使用し、紫外線の露光量を2,500mJとしたこと以外は実施例1と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。またこのシートは特に低臭気であった。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、1.1Jの衝撃でガラスが破損せず、1.2Jの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。   As a photopolymerization initiator, 2.00 g of oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone) was used instead of 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, A sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of ultraviolet light exposure was 2,500 mJ. This sheet was transparent and maintained transparency after the moisture absorption test. This sheet had a particularly low odor. Next, this sheet was bonded onto an electromagnetic wave shielding layer of an electromagnetic wave shielding film U (TT42-01) A manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. and subjected to an impact resistance test. The glass was broken by an impact of 1.2 J. Moreover, the damage of the resin sheet was not seen.

幅100mm、奥行き100mm、深さ1.5mmの枠を使用し、紫外線の露光量を3,500mJとしたこと以外は実施例1と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、2.0Jの衝撃でもガラスが破損しなかった。また樹脂シートの破損は見られなかった。   A sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that a frame having a width of 100 mm, a depth of 100 mm, and a depth of 1.5 mm was used, and the exposure amount of ultraviolet rays was set to 3,500 mJ. This sheet was transparent and maintained transparency after the moisture absorption test. Next, this sheet was laminated on an electromagnetic wave shielding layer of an electromagnetic wave shielding film U (TT42-01) A manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. and subjected to an impact resistance test. Did not break. Moreover, the damage of the resin sheet was not seen.

幅100mm、奥行き100mm、深さ2.0mmの枠を使用し、紫外線の露光量を4,000mJとしたこと以外は実施例1と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、2.0Jの衝撃でもガラスが破損しなかった。また樹脂シートの破損は見られなかった。   A sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that a frame having a width of 100 mm, a depth of 100 mm, and a depth of 2.0 mm was used, and the exposure amount of ultraviolet rays was set to 4,000 mJ. This sheet was transparent and maintained transparency after the moisture absorption test. Next, this sheet was laminated on an electromagnetic wave shielding layer of an electromagnetic wave shielding film U (TT42-01) A manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. and subjected to an impact resistance test. Did not break. Moreover, the damage of the resin sheet was not seen.

実施例1で得られたコポリマー 40.20g、
2−エチルヘキシルアクリレート 44.10g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート 14.70g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
及び
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン 0.50g
を用いて、実施例1と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、1.1Jの衝撃でガラスが破損せず、1.2Jの衝撃でガラスが破損した。また樹脂シートの破損は見られなかった。
40.20 g of the copolymer obtained in Example 1
44.10 g of 2-ethylhexyl acrylate,
14.70 g of 2-hydroxyethyl acrylate,
1.00 g of 1,6-hexanediol diacrylate,
as well as
1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone 0.50 g
A sheet was prepared in the same manner as in Example 1. This sheet was transparent and maintained transparency after the moisture absorption test. Next, this sheet was bonded onto an electromagnetic wave shielding layer of an electromagnetic wave shielding film U (TT42-01) A manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. and subjected to an impact resistance test. The glass was broken by an impact of 1.2 J. Moreover, the damage of the resin sheet was not seen.

比較例1
実施例1で得られたコポリマー 44.50g、
2−エチルヘキシルアクリレート 54.50g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート 13.25g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
及び
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン 0.50g
を用いて、実施例1と同様にしてシートを作製した。得られたシートは白濁していた。
Comparative Example 1
44.50 g of the copolymer obtained in Example 1
54.50 g of 2-ethylhexyl acrylate,
13.25 g of 2-hydroxyethyl acrylate,
1.00 g of 1,6-hexanediol diacrylate,
as well as
1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone 0.50 g
A sheet was prepared in the same manner as in Example 1. The obtained sheet was cloudy.

比較例2
実施例1で得られたコポリマー 44.50g、
2−エチルヘキシルアクリレート 54.50g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
及び
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン 0.50g
を用いて、実施例1と同様にしてシートを作製した。得られたシートは白濁していた。
Comparative Example 2
44.50 g of the copolymer obtained in Example 1
54.50 g of 2-ethylhexyl acrylate,
1.00 g of 1,6-hexanediol diacrylate,
as well as
1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone 0.50 g
A sheet was prepared in the same manner as in Example 1. The obtained sheet was cloudy.

比較例3
初期モノマーとして、2−エチルヘキシルアクリレート108.0gと2−ヒドロキシエチルアクリレート12.0g、追加モノマーとして2−エチルヘキシルアクリレート27.0gと2−ヒドロキシエチルアクリレート3.0gを使用したこと以外は実施例1と同様にしてコポリマー(重量平均分子量220,000)を得た。
上記で得られたコポリマー 49.50g、
2−エチルヘキシルアクリレート 44.50g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート 5.00g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
及び
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン 0.50g
を用いて、実施例1と同様にしてシートを作製した。得られたシートは透明であったが、吸湿試験後は白濁した。
Comparative Example 3
Example 1 except that 108.0 g of 2-ethylhexyl acrylate and 12.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate were used as initial monomers, and 27.0 g of 2-ethylhexyl acrylate and 3.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate were used as additional monomers. Similarly, a copolymer (weight average molecular weight 220,000) was obtained.
49.50 g of the copolymer obtained above,
44.50 g of 2-ethylhexyl acrylate,
5.00 g of 2-hydroxyethyl acrylate,
1.00 g of 1,6-hexanediol diacrylate,
as well as
1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone 0.50 g
A sheet was prepared in the same manner as in Example 1. The obtained sheet was transparent, but became cloudy after the moisture absorption test.

比較例4
初期モノマーとして、2−エチルヘキシルアクリレート12.0gと2−ヒドロキシエチルアクリレート108.0g、追加モノマーとして2−エチルヘキシルアクリレート3.0gと2−ヒドロキシエチルアクリレート27.0gを使用したこと以外は実施例1と同様にしてコポリマーを得た。
上記で得られたコポリマー 49.50g、
2−エチルヘキシルアクリレート 5.00g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート 44.50g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
及び
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン 0.50g
を用いて、実施例1と同様にしてシートを作製した。得られたシートは透明であったが、吸湿試験後は外形寸法が5%以上拡大し、外周部にうねりが発生した。
Comparative Example 4
Example 1 except that 12.0 g of 2-ethylhexyl acrylate and 108.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate were used as initial monomers, and 3.0 g of 2-ethylhexyl acrylate and 27.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate were used as additional monomers. A copolymer was obtained in the same manner.
49.50 g of the copolymer obtained above,
5.00 g of 2-ethylhexyl acrylate,
44.50 g of 2-hydroxyethyl acrylate,
1.00 g of 1,6-hexanediol diacrylate,
as well as
1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone 0.50 g
A sheet was prepared in the same manner as in Example 1. The obtained sheet was transparent, but after the moisture absorption test, the outer dimensions were enlarged by 5% or more, and undulation was generated in the outer peripheral portion.

比較例5
光重合開始剤として2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1を使用する以外は実施例1と同様にしてシートを作製した。作製したシートは黄色に着色していた。
Comparative Example 5
A sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 was used as a photopolymerization initiator. The produced sheet was colored yellow.

比較例6
2−エチルヘキシルアクリレート 84.15g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート 14.85g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン 0.50g
を用いて、実施例1と同様にしてシートを作製した。このシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、0.5Jの衝撃で樹脂シートが破損した。
Comparative Example 6
84.15 g of 2-ethylhexyl acrylate,
14.85 g of 2-hydroxyethyl acrylate,
1.00 g of 1,6-hexanediol diacrylate,
1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone 0.50 g
A sheet was prepared in the same manner as in Example 1. This sheet was transparent and maintained transparency after the moisture absorption test. Next, this sheet was laminated on an electromagnetic wave shielding layer of an electromagnetic wave shielding film U (TT42-01) A manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. and subjected to an impact resistance test. The sheet was damaged.

比較例7
電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aをその電磁波遮蔽層が接するように直接ガラスに貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、0.5Jの衝撃でガラスが破損した。
比較例8
実施例1で得られたコポリマー 10.00g、
2−エチルヘキシルアクリレート 62.30g、
2−ヒドロキシエチルアクリレート 26.70g、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 1.00g、
及び
1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン 0.50g
を用いて、実施例1と同様にしてシートを作製した。得られたシートは透明であり、吸湿試験後も透明性を維持した。次にこのシートを日立化成工業株式会社製の電磁波シールドフィルムU(TT42−01)Aの電磁波遮蔽層の上に貼合し、耐衝撃性の試験を行ったところ、0.7Jの衝撃でガラスが破損せず、0.8Jの衝撃でガラスが破損した。
Comparative Example 7
When the electromagnetic wave shielding film U (TT42-01) A was directly bonded to the glass so that the electromagnetic wave shielding layer was in contact therewith and subjected to an impact resistance test, the glass was broken by an impact of 0.5 J.
Comparative Example 8
10.00 g of the copolymer obtained in Example 1
62.30 g of 2-ethylhexyl acrylate,
2-hydroxyethyl acrylate 26.70 g,
1.00 g of 1,6-hexanediol diacrylate,
as well as
1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone 0.50 g
A sheet was prepared in the same manner as in Example 1. The obtained sheet was transparent and maintained transparency after the moisture absorption test. Next, this sheet was bonded onto an electromagnetic wave shielding layer of an electromagnetic wave shielding film U (TT42-01) A manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. and subjected to an impact resistance test. The glass was broken with an impact of 0.8 J.

実施例及ぶ比較例での試験方法を次に示す。また、これらの試験結果を表1又は表2に示す。
(吸湿試験)
吸湿試験は、樹脂シートを60℃、90%RHの高温高湿試験槽に50時間入れることで行い、評価方法は目視観察を行った。また試験後の全光線透過率を測定した。
(分子量測定)
分子量の測定はTHFを溶媒としたゲルパーミエーションクロマトグラフィーを使用して行い、ポリスチレンを標準物質として使用して分子量を決定した。
(耐衝撃性試験)
耐衝撃性試験は、電磁波シールドフィルムに前記の樹脂シートを貼合したものをさらに厚さ2.8mmのソーダガラスに貼合し、鋼球を落下させて評価した。0.1J単位で衝撃を大きくし、ガラスあるいは樹脂シートが破損した1つ手前の値を耐衝撃性とした。
(全光線透過率)
全光線透過率の測定は色差・濁度測定器COH−300A(日本電色工業(株)製)を使用して行った。


Test methods in Examples and Comparative Examples are shown below. The test results are shown in Table 1 or Table 2.
(Hygroscopic test)
The moisture absorption test was performed by placing the resin sheet in a high temperature and high humidity test tank of 60 ° C. and 90% RH for 50 hours, and the evaluation method was visually observed. Moreover, the total light transmittance after a test was measured.
(Molecular weight measurement)
The molecular weight was measured using gel permeation chromatography using THF as a solvent, and the molecular weight was determined using polystyrene as a standard substance.
(Impact resistance test)
The impact resistance test was evaluated by further bonding the resin sheet to the electromagnetic wave shielding film to a soda glass having a thickness of 2.8 mm and dropping a steel ball. The impact was increased in units of 0.1 J, and the value just before the glass or resin sheet was damaged was defined as impact resistance.
(Total light transmittance)
The total light transmittance was measured using a color difference / turbidity measuring device COH-300A (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).


Figure 2007009116
Figure 2007009116

Figure 2007009116
Figure 2007009116


Claims (8)

コポリマー 15〜60重量部
アクリロイル基を1個有するモノマー 39〜84重量部
アクリロイル基を2個以上有するモノマー 0.5〜10重量部
及び
光重合開始剤 0.3〜3重量部
を含有し、
上記のコポリマーが、アルキル基の炭素数が4〜18であるアルキルアクリレート(以下、AAモノマーという。)50〜87重量%と下記一般式(I)
Figure 2007009116
(ただし、式中、mは2、3又は4、nは1〜10の整数をしめす。)
で表されるヒドロキシル基含有アクリレート(以下、HAモノマーという。)13〜50重量%を重合させて得られるものであり、
上記のアクリロイル基を1個有するモノマーとして、AAモノマーを50〜87重量%及びHAモノマーを13〜50重量%の割合になるように使用し、
上記コポリマー中のHAモノマーの割合(P重量%)と、アクリロイル基を1個有するモノマーにおけるHAモノマーの割合(M重量%)との間に、
Figure 2007009116
の関係があるように配合されてなる光学用樹脂組成物。
15 to 60 parts by weight of copolymer 39 to 84 parts by weight of monomer having one acryloyl group 0.5 to 10 parts by weight of monomer having two or more acryloyl groups and 0.3 to 3 parts by weight of a photopolymerization initiator,
The above copolymer is an alkyl acrylate having 4 to 18 carbon atoms in an alkyl group (hereinafter referred to as AA monomer) of 50 to 87% by weight and the following general formula (I)
Figure 2007009116
(In the formula, m represents 2, 3 or 4, and n represents an integer of 1 to 10.)
It is obtained by polymerizing 13 to 50% by weight of a hydroxyl group-containing acrylate represented by the following (hereinafter referred to as HA monomer),
As a monomer having one acryloyl group as described above, an AA monomer is used in a proportion of 50 to 87% by weight and an HA monomer in a proportion of 13 to 50% by weight,
Between the proportion of HA monomer in the copolymer (P wt%) and the proportion of HA monomer in the monomer having one acryloyl group (M wt%),
Figure 2007009116
An optical resin composition formulated so as to have the following relationship.
重合開始剤がα−ヒドロキシアルキルフェノン系化合物あるいはアシルフォスフィンオキサイド系化合物あるいはオリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)である請求項1記載の光学用樹脂組成物。   The polymerization initiator is an α-hydroxyalkylphenone compound, an acyl phosphine oxide compound, or an oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone). An optical resin composition. AAモノマーが2−エチルヘキシルアクリレートまたはイソオクチルアクリレートまたはn−オクチルアクリレートであり、HAモノマーが2−ヒドロキシエチルアクリレートまたは1−ヒドロキシエチルアクリレートまたは2−ヒドロキシプロピルアクリレートまたは3−ヒドロキシプロピルアクリレートまたは1−ヒドロキシプロピルアクリレートまたは4−ヒドロキシブチルアクリレートまたは3−ヒドロキシブチルアクリレートまたは2−ヒドロキシブチルアクリレートまたは1−ヒドロキシブチルアクリレートである請求項1又は2記載の光学用樹脂組成物。   AA monomer is 2-ethylhexyl acrylate or isooctyl acrylate or n-octyl acrylate, and HA monomer is 2-hydroxyethyl acrylate or 1-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxypropyl acrylate or 3-hydroxypropyl acrylate or 1-hydroxypropyl The optical resin composition according to claim 1 or 2, which is acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, or 1-hydroxybutyl acrylate. コポリマーの重量平均分子量が200,000〜350,000である請求項1〜3のいずれかに記載の光学用用樹脂組成物。   The optical resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the copolymer has a weight average molecular weight of 200,000 to 350,000. コポリマ 40〜60重量部、
アクリロイル基を1個有するモノマー 39〜59重量部、
アクリロイル基を2個以上有するモノマー 1〜5重量部、
及び
光重合開始剤を0.5〜2.0重量部
含有する請求項1〜4のいずれかに記載の光学用樹脂組成物。
40-60 parts by weight of copolymer,
39 to 59 parts by weight of a monomer having one acryloyl group,
1 to 5 parts by weight of a monomer having two or more acryloyl groups,
And the optical resin composition in any one of Claims 1-4 which contains 0.5-2.0 weight part of photoinitiators.
請求項1〜5のいずれかに記載の樹脂組成物からなる光学用樹脂シート。   The optical resin sheet which consists of a resin composition in any one of Claims 1-5. 請求項1〜5のいずれかに記載の樹脂組成物又は請求項6記載の光学用樹脂シートを使用して得られるプラズマディスプレイパネル用衝撃吸収層を備えたプラズマディスプレイ用光学フィルタ。   The optical filter for plasma displays provided with the impact absorption layer for plasma display panels obtained using the resin composition in any one of Claims 1-5, or the optical resin sheet of Claim 6. 項1〜5のいずれかに記載の樹脂組成物又は請求項6記載の光学用樹脂シートを使用して得られるプラズマディスプレイパネル。


A plasma display panel obtained by using the resin composition according to any one of Items 1 to 5 or the optical resin sheet according to claim 6.


JP2005194020A 2005-07-01 2005-07-01 Optical resin composition, optical resin sheet using the same, and optical filter for plasma display and plasma display using the same Expired - Fee Related JP4743494B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005194020A JP4743494B2 (en) 2005-07-01 2005-07-01 Optical resin composition, optical resin sheet using the same, and optical filter for plasma display and plasma display using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005194020A JP4743494B2 (en) 2005-07-01 2005-07-01 Optical resin composition, optical resin sheet using the same, and optical filter for plasma display and plasma display using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007009116A true JP2007009116A (en) 2007-01-18
JP4743494B2 JP4743494B2 (en) 2011-08-10

Family

ID=37748022

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005194020A Expired - Fee Related JP4743494B2 (en) 2005-07-01 2005-07-01 Optical resin composition, optical resin sheet using the same, and optical filter for plasma display and plasma display using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4743494B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008053931A1 (en) * 2006-10-31 2008-05-08 Hitachi Chemical Co., Ltd. Resin composition for optical use, resin material for optical use using the same, optical filter for image display device, and image display device

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03288153A (en) * 1990-04-05 1991-12-18 Nippon Oil & Fats Co Ltd Photopolymerizable resin composition and synthetic resin
JP2004198994A (en) * 2002-12-20 2004-07-15 Hitachi Chem Co Ltd Energy-sensitive negative resin composition and photosensitive element used for organic layer having roughened surface of substrate for liquid crystal display device
JP2006091699A (en) * 2004-09-27 2006-04-06 Hitachi Chem Co Ltd Protecting member, protecting member laminate employing the same and display device

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03288153A (en) * 1990-04-05 1991-12-18 Nippon Oil & Fats Co Ltd Photopolymerizable resin composition and synthetic resin
JP2004198994A (en) * 2002-12-20 2004-07-15 Hitachi Chem Co Ltd Energy-sensitive negative resin composition and photosensitive element used for organic layer having roughened surface of substrate for liquid crystal display device
JP2006091699A (en) * 2004-09-27 2006-04-06 Hitachi Chem Co Ltd Protecting member, protecting member laminate employing the same and display device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008053931A1 (en) * 2006-10-31 2008-05-08 Hitachi Chemical Co., Ltd. Resin composition for optical use, resin material for optical use using the same, optical filter for image display device, and image display device
JP5176149B2 (en) * 2006-10-31 2013-04-03 日立化成株式会社 OPTICAL RESIN COMPOSITION AND OPTICAL RESIN MATERIAL USING THE SAME, OPTICAL FILTER FOR IMAGE DISPLAY DEVICE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE
US8653200B2 (en) 2006-10-31 2014-02-18 Hitachi Chemical Co., Ltd. Optical resin composition, optical resin material using the same, optical filter for image display device, and image display device
US8859683B2 (en) 2006-10-31 2014-10-14 Hitachi Chemical Company, Ltd. Optical resin composition, optical resin material using the same, optical filter for image display device, and image display device
US9012028B2 (en) 2006-10-31 2015-04-21 Hitachi Chemical Company, Ltd. Optical resin composition, optical resin material using the same, optical

Also Published As

Publication number Publication date
JP4743494B2 (en) 2011-08-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6178775B2 (en) Optical resin composition and optical resin material using the same
JP5765398B2 (en) Optical resin composition and optical resin material using the same
JP5870933B2 (en) Adhesive sheet for image display device, image display device and adhesive resin composition
JP4743493B2 (en) Shock absorbing resin composition for liquid crystal display, shock absorbing material for liquid crystal display using the same, optical filter for liquid crystal display using the same, and liquid crystal display
JP5417776B2 (en) Optical resin composition and optical resin material using the same
TWI534233B (en) Optical adhesive resin composition, optical adhesive sheet using the composition and image display device
JP2008129159A (en) Method for manufacturing image display device with protective plate attached thereto
TWI535813B (en) Adhesive resin composition for image display device, adhesive sheet for image display device, image display device and fabricating method thereof
JP5382403B2 (en) Optical resin composition, optical resin material using this composition, and image display device
JP2014094976A (en) Method for manufacturing pressure-sensitive adhesive sheet for image display device
KR20160080549A (en) Photo-curing composition and shatterproof film there of
EP2612756A1 (en) Hard coat film and front surface protective plate
JP4743494B2 (en) Optical resin composition, optical resin sheet using the same, and optical filter for plasma display and plasma display using the same
JP5069398B2 (en) Protective member, protective member laminate using the same, and display device
JP2008233774A (en) Electrophoretic display device and electronic equipment
JP2018115084A (en) Photocurable resin composition for interlayer for laminated glass, cover film-attached interlayer for laminated glass, laminated glass, and method for producing laminated glass
JPWO2015132876A1 (en) Adhesive sheet for image display device, method for manufacturing image display device using the same, and image display device
JP2011180612A (en) Protecting member, protecting member layered body using the same and display device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080625

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110107

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110113

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110310

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110414

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110427

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140520

Year of fee payment: 3

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4743494

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140520

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140520

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees