JP2007003672A - Antireflection film - Google Patents
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Description
本発明は水蒸気バリア性を示す反射防止フィルムに関するものである。 The present invention relates to an antireflection film exhibiting water vapor barrier properties.
偏光板は、互いに直交する直線偏光成分のうち一方の直線偏光成分を吸収して他方の直線偏光成分透過させる色素（二色性色素）を一軸延伸フィルムに吸着させたものが主流である。一般的に、色素としてヨウ素系物質、一軸延伸フィルムとしてポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系を用いることが多い。 The mainstream of the polarizing plate is one in which a dye (dichroic dye) that absorbs one of the linearly polarized light components orthogonal to each other and transmits the other linearly polarized light component is adsorbed to a uniaxially stretched film. In general, iodine-based substances are often used as pigments, and polyvinyl alcohol (PVA) -based materials are often used as uniaxially stretched films.
ディスプレイ用途の偏光板としては、前述のヨウ素系物質を吸着させたＰＶＡ系フィルムをトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）系フィルムで挟んだ構造で用いる場合が多い。 In many cases, a polarizing plate for display is used in a structure in which a PVA-based film adsorbing the iodine-based material is sandwiched between triacetylcellulose (TAC) -based films.
液晶ディスプレイの前面には外光からの反射による映り込みを防ぐために、前面の表面に反射防止又は減反射層などを設けることが多い。具体的には、液晶ディスプレイに用いられる２枚の偏光板のうち、最表面側の偏光板上に反射防止又は減反射層が設けられる。
また、偏光板上と反射防止又は減反射層の間にハードコート層を設けることもある。
In order to prevent reflection due to reflection from outside light on the front surface of the liquid crystal display, an antireflection or antireflection layer is often provided on the front surface. Specifically, an antireflection or antireflection layer is provided on the polarizing plate on the outermost surface of the two polarizing plates used for the liquid crystal display.
Further, a hard coat layer may be provided between the polarizing plate and the antireflection or antireflection layer.
しかし、トリアセチルセルロースなどの酢酸セルロース系のフィルムは吸水率が大きいため、温度や湿度の変化に応じて、水分を吸収したり、放出したりし、寸法変化、脱色、変色などの劣化を起こすことがある。 However, cellulose acetate-based films such as triacetyl cellulose have a large water absorption rate, so that moisture is absorbed and released according to changes in temperature and humidity, causing deterioration such as dimensional changes, decolorization, and discoloration. Sometimes.
本発明では、反射防止性能を保ちつつ、十分なガスバリア性を有する反射防止フィルムとすることで、基材の寸法変化、劣化のない反射防止フィルムとすることを目的とする。 In this invention, it aims at setting it as the antireflection film without a dimensional change of a base material and deterioration by setting it as the antireflection film which has sufficient gas-barrier property, maintaining antireflection performance.
請求項１記載の発明は、基材上に、屈折率が１．３５〜２．０である水蒸気遮断性金属化合物層、屈折率１．３〜１．６の低屈折率層を有することを特徴とする反射防止フィルムである。
The invention according to
請求項２記載の発明は、水蒸気遮断性が２０℃、６０％の条件下で５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることを特徴とする請求項１記載の反射防止フィルムである。
The invention according to claim 2 is the antireflection film according to
請求項３記載の発明は、前記水蒸気遮断性金属酸化物層が、ＳｉＯｘ（ｘ＝１．３〜１．９９）であることを特徴とする請求項１又は２に記載の反射防止フィルムである。
The invention according to claim 3 is the antireflection film according to
請求項４記載の発明は、低屈折率層がＳｉＯｘ（ｘ＝１．９〜２．２）であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルムである。
The invention according to claim 4 is the antireflection film according to any one of
請求項５記載の発明は、最上層に易滑層を設けてなることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルムである。 A fifth aspect of the present invention is the antireflection film according to any one of the first to fourth aspects, wherein an easy-slip layer is provided on the uppermost layer.
請求項６記載の発明は、前記基材がトリアセチルセルロースフィルムであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルムである。 A sixth aspect of the present invention is the antireflection film according to any one of the first to fifth aspects, wherein the substrate is a triacetyl cellulose film.
請求項７記載の発明は、前記基材が偏光板であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルムである。
The invention according to claim 7 is the antireflection film according to any one of
本発明によれば十分な反射防止性能を有し、かつ水蒸気等の影響による基材の寸法変化、劣化のない反射防止フィルムとすることができる。 According to the present invention, an antireflection film having sufficient antireflection performance and free from dimensional change and deterioration of the substrate due to the influence of water vapor or the like can be obtained.
本発明に用いる基材は、特に限定するものではなく、公知のプラスチックフィルムを用いることができる。特に水分による加水分解、脱色変色などの劣化度合いの大きいトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ）を用いた時に効果を発揮する。また、基材としては偏光板を用いても良い。偏光板としては、ヨウ素系物質を吸着させたＰＶＡ系フィルムをトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）系フィルムで挟んだものなどが挙げられる。 The substrate used in the present invention is not particularly limited, and a known plastic film can be used. In particular, the effect is exhibited when a triacetyl cellulose film (TAC) having a large degree of deterioration such as hydrolysis and decoloring due to moisture is used. Moreover, you may use a polarizing plate as a base material. Examples of the polarizing plate include a film obtained by sandwiching a PVA film on which an iodine-based substance is adsorbed between triacetyl cellulose (TAC) films.
本発明の水蒸気遮断性金属酸化物層は、最終的に積層体としたときに反射率の上昇のないもので、十分な水蒸気遮断性があればよい。
具体的には屈折率が１．３５〜２．０である金属化合物が好ましく、例えば、酸化ケイ素（屈折率＝１．４６）、酸化アルミニウム（屈折率＝１．６７）、フッ化マグネシウム（屈折率＝１．３８）などが好ましい。特に屈折率と水蒸気遮断性の点から酸化ケイ素が好ましく、中でもＳｉＯｘ（ｘ＝１．３〜１．９９）であると良い。ＳｉＯｘ（ｘ＝１．３〜１．９９）であれば、反射防止フィルムとしたときに低い反射率と十分な水蒸気遮断性を両立するものである。
また、水蒸気遮断層の膜厚は１０〜２００ｎｍの範囲内、光学膜厚（ｎｄ）は、１５〜３５０nｍの範囲内であることが好ましい。この範囲内であれば、水蒸気遮断性を有しかつ上の低屈折率層と合わせて反射防止性能を発揮することができる。
The water vapor barrier metal oxide layer of the present invention does not increase the reflectance when it is finally formed into a laminate, and it is sufficient that it has a sufficient water vapor barrier property.
Specifically, a metal compound having a refractive index of 1.35 to 2.0 is preferable. For example, silicon oxide (refractive index = 1.46), aluminum oxide (refractive index = 1.67), magnesium fluoride (refractive (Rate = 1.38) is preferable. In particular, silicon oxide is preferable from the viewpoint of refractive index and water vapor blocking property, and SiOx (x = 1.3 to 1.99) is particularly preferable. If it is SiOx (x = 1.3-1.99), when it is set as an antireflection film, low reflectance and sufficient water vapor | steam barrier | blocking property are made compatible.
Moreover, it is preferable that the film thickness of a water vapor | steam barrier layer is in the range of 10-200 nm, and the optical film thickness (nd) is in the range of 15-350 nm. If it is in this range, it has water vapor barrier properties and can exhibit antireflection performance together with the upper low refractive index layer.
本発明の低屈折率層は、屈折率１．３〜１．６の金属化合物を用いる。中でも屈折率の点からＳｉＯｘ（ｘ＝１．９〜２．２）（屈折率＝１．３〜１．６）であることが好ましい。
また低屈折率層の光学膜厚は１０〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましい。この範囲内であれば十分な反射防止性能を発揮することができる。
The low refractive index layer of the present invention uses a metal compound having a refractive index of 1.3 to 1.6. Of these, SiOx (x = 1.9 to 2.2) (refractive index = 1.3 to 1.6) is preferable from the viewpoint of refractive index.
The optical film thickness of the low refractive index layer is preferably in the range of 10 to 200 nm. If it is within this range, sufficient antireflection performance can be exhibited.
また、本発明の反射防止フィルムの水蒸気透過率は、水蒸気遮断性が２０℃、６０％の条件下で５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが好ましい。
この範囲内であれば、水分による基材の寸法変化、脱色変色などの劣化を防ぐことができる。
Moreover, it is preferable that the water-vapor-permeation rate of the antireflection film of this invention is 50 g / m < 2 > / day or less on the conditions that water-vapor barrier property is 20 degreeC and 60%.
Within this range, it is possible to prevent deterioration of the substrate due to moisture, such as dimensional change and decoloration discoloration.
また、前記低屈折率層上には、易滑層を設けることができる。
易滑層としては、フッ素系の材料あるいはフッ素を含まない材料であっても、機能を満足できれば構わない。すなわち接触角で８０度以上であれば構わない。
An easy-sliding layer can be provided on the low refractive index layer.
Even if it is a fluorine-type material or the material which does not contain a fluorine as an easy-slip layer, it is sufficient if the function is satisfied. That is, the contact angle may be 80 degrees or more.
また、基材と水蒸気遮断性金属化合物層の間には、硬質層を設けてもよい。硬質層としては公知のハードコート、防眩性ハードコート、帯電防止性ハードコートなどが挙げられる。 Moreover, you may provide a hard layer between a base material and a water vapor | steam barrier metal compound layer. Examples of the hard layer include known hard coats, antiglare hard coats, and antistatic hard coats.
ハードコートとしては、例えばアクリル樹脂系又は酸化ケイ素系の硬質皮膜が挙げられる。また、厚みとしては、透明性、ハードコート性、などを考慮すると、１〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。 Examples of the hard coat include acrylic resin-based or silicon oxide-based hard coatings. The thickness is preferably in the range of 1 to 20 μm in consideration of transparency, hard coat properties, and the like.
防眩性ハードコートとしては、アクリル樹脂系又は酸化ケイ素系のマトリックスに、粒径０．１〜１０μｍの酸化ケイ素などの金属酸化物微粒子又は有機微粒子を加えたものが挙げられる。また、厚みとしては、透明性、ハードコート性、などを考慮すると、１〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。 Examples of the antiglare hard coat include those obtained by adding metal oxide fine particles or organic fine particles such as silicon oxide having a particle size of 0.1 to 10 μm to an acrylic resin-based or silicon oxide-based matrix. The thickness is preferably in the range of 1 to 20 μm in consideration of transparency, hard coat properties, and the like.
帯電防止性ハードコートとしては、アクリル樹脂系又は酸化ケイ素系のマトリックスに、導電性の微粒子を加えたものが挙げられる。導電性の微粒子としては、酸化アンチモン系、酸化スズ系、酸化亜鉛系、酸化インジウム系などが挙げられる。また、厚みとしては、透明性、ハードコート性、などを考慮すると、１〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。 Examples of the antistatic hard coat include those obtained by adding conductive fine particles to an acrylic resin-based or silicon oxide-based matrix. Examples of the conductive fine particles include antimony oxide, tin oxide, zinc oxide, and indium oxide. The thickness is preferably in the range of 1 to 20 μm in consideration of transparency, hard coat properties, and the like.
基材として、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを用いた。この上に、ハードコート層として、アクリル樹脂をダイコート法により設け（乾燥膜厚５μｍ）、さらに水蒸気遮断性金属化合物層として、屈折率１．６、膜厚の２０ｎｍのＳｉＯ１．７を真空蒸着法により設け、その上に低屈折率層として、屈折率１．４５、膜厚２０ｎｍのＳｉＯ２を真空蒸着法により設け、さらに易滑層としてポリシリコーンを設け（膜厚２nｍ）本発明の反射防止フィルムを得た。 As a substrate, a triacetyl cellulose film having a thickness of 80 μm was used. On top of this, an acrylic resin is provided as a hard coat layer by a die coating method (dry film thickness 5 μm), and further a SiO1.7 with a refractive index of 1.6 and a film thickness of 20 nm is vacuum deposited as a water vapor blocking metal compound layer. The antireflection film of the present invention is provided with SiO 2 having a refractive index of 1.45 and a film thickness of 20 nm as a low refractive index layer by a vacuum deposition method, and further provided with polysilicon as a slippery layer (film thickness 2 nm). Got.
＜比較例１＞
基材として、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルムを用いた。この上に、ハードコート層として、アクリル樹脂をダイコート法により設け（乾燥膜厚５μｍ）、さらに低屈折率層として、屈折率１．４５、膜厚４０ｎｍのＳｉＯ２を真空蒸着法により設け、比較例の反射防止フィルムを得た。
<Comparative Example 1>
As a substrate, a triacetyl cellulose film having a thickness of 80 μm was used. On this, an acrylic resin is provided as a hard coat layer by a die coating method (dry film thickness 5 μm), and SiO 2 having a refractive index of 1.45 and a thickness of 40 nm is provided as a low refractive index layer by a vacuum deposition method. An antireflection film was obtained.
＜評価＞
実施例、比較例の反射防止フィルムについて、以下の評価を行った。結果を表１に示す。
（光線透過率）
紫外・可視分光光度計による５５０ｎｍでの透過率を測定した。
（水蒸気透過率）
ＭＯＣＯＮ社製ＰＥＲＭＡＴＲＡＮにより測定した。
（反射率）
<Evaluation>
The following evaluation was performed about the antireflection film of an Example and a comparative example. The results are shown in Table 1.
(Light transmittance)
The transmittance at 550 nm was measured with an ultraviolet / visible spectrophotometer.
(Water vapor transmission rate)
It was measured by PERMATRAN manufactured by MOCON.
(Reflectance)
実施例の反射防止フィルムは反射率が低く、水蒸気透過率も低いものとなった。それに対し、比較例の反射防止フィルムは、反射率は低いものの、水蒸気透過率は高いものとなった。 The antireflection film of the example had a low reflectance and a low water vapor transmission rate. On the other hand, although the antireflection film of the comparative example had a low reflectance, the water vapor transmission rate was high.
１ 基材
２ ハードコート
３ 水蒸気遮断層
４ 低屈折率層
５ 易滑層
DESCRIPTION OF
Claims (7)
The said base material is a polarizing plate, The antireflection film in any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned.
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|---|---|---|---|
| JP2005181803A JP2007003672A (en) | 2005-06-22 | 2005-06-22 | Antireflection film |
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