JP2007000755A - Film forming method, functional film, electro-optical device and electronic equipment - Google Patents

Film forming method, functional film, electro-optical device and electronic equipment Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film forming method by which a high-precision pattern can be formed while shortening a processing time and to provide a functional film formed by the film forming method and an electro-optical device and electronic equipment each of which has the functional film. <P>SOLUTION: An optional dot matrix pattern (a stipple pattern) is divided into groups, namely, a first group to a sixth group to form divided patterns. A functional liquid is arranged in each group and solidified. The divided pattern of each group contains dots 10 as cyclic components dispersed suitably by a 3×3 matrix cycle and dots 11 as complementary components for complementing the cyclic components. When an electrically conductive dispersion is arranged on the basis of the divided pattern, there are some local spots where the electrically conductive dispersion arranged at one of the adjacent dots is superimposed integrally on that arranged at the other of the adjacent dots but a remarkably different pattern is not formed. The pattern having satisfactory precision can be formed as a whole. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、液滴吐出法を用いた成膜方法、およびパターン形成された機能性膜、並びに電気光学装置、電子機器に関する。   The present invention relates to a film formation method using a droplet discharge method, a patterned functional film, an electro-optical device, and an electronic apparatus.

近年、微細な導電配線や機能性素子などを、いわゆる液滴吐出法を用いて形成する技術が注目されている。この技術は、機能性材料(導電性材料など)を含む液状体(機能液)を液滴化して基板上に配置し、その後基板上の機能液を固形化させて機能性膜を形成するものである。機能液の配置は、より具体的には、図14(a)に示すようなドットマトリクスパターン(以下、点描パターンとする)に基づいて行われる。   In recent years, attention has been paid to a technique for forming fine conductive wirings, functional elements, and the like by using a so-called droplet discharge method. In this technology, a liquid (functional liquid) containing a functional material (such as a conductive material) is formed into droplets and placed on a substrate, and then the functional liquid on the substrate is solidified to form a functional film. It is. More specifically, the functional liquid is arranged based on a dot matrix pattern (hereinafter referred to as a stipple pattern) as shown in FIG.

ところが、上述の点描パターンに基づいて配置される液滴は、初期的には個々が独立したものであっても、隣接する液滴間の相互作用によってやがて個体性を失い、いわゆる再パターン化と呼ばれる現象を引き起こすことがある。例えば、線状のパターンや複雑な形状のパターンで機能液を配置すると、表面張力の作用によって機能液が流動し、力学的に安定する円形状のパターンを再形成することがあり、このため、機能液を思いどおりにパターニングすることが困難であった。   However, even if the droplets arranged based on the above-described stipple pattern are initially independent, they eventually lose their individuality due to the interaction between adjacent droplets, so-called repatterning. It may cause a phenomenon that is called. For example, when the functional liquid is arranged in a linear pattern or a pattern with a complicated shape, the functional liquid may flow due to the action of the surface tension and re-form a mechanically stable circular pattern. It was difficult to pattern the functional liquid as desired.

そこで、上述の課題に鑑みて、点描パターンを複数のグループに分割し、分割された各グループのパターン(以下、分割パターンとする)ごとに機能液の配置、固形化の工程を繰り返して機能性膜を形成する方法が提案されている(例えば、特許文献1)。各グループの分割パターンは、液滴の一体化が起こらないように適度に分散されたドット配列で、且つ、それぞれが相補的に点描パターンを構成するようになっており、かくして、再パターン化が確実に防止され、精度のよいパターニングが可能となっている。   Therefore, in view of the above-described problems, the stippling pattern is divided into a plurality of groups, and the functional liquid is arranged and solidified repeatedly for each divided group pattern (hereinafter referred to as a divided pattern). A method of forming a film has been proposed (for example, Patent Document 1). The division pattern of each group is a dot array moderately dispersed so that the integration of droplets does not occur, and each of them forms a stipple pattern in a complementary manner. It is reliably prevented and accurate patterning is possible.

分割パターンは、具体的には、図14(b)に示すような、m×nのマトリクス周期で配列されたマスクパターン(図中、同一の番号が付されているマトリクスが一のグループを構成する)を用いて、点描パターンのマスク処理により生成される。この方法により、任意の点描パターンに対して一様な処理で、ドットが好適に分散された分割パターンを生成することが可能である。   Specifically, the division pattern is a mask pattern arranged in an m × n matrix cycle as shown in FIG. 14B (a matrix with the same number in the figure forms one group). To generate a stipple pattern mask process. By this method, it is possible to generate a divided pattern in which dots are suitably dispersed by a uniform process for an arbitrary stipple pattern.

特開平2004−306015号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-306015

上述のような機能液の配置、固形化を分割して行う方法においては、マスクパターンの配列周期を大きくすることで再パターン化の防止を確実なものとすることができる反面、工程時間を大幅に長大化させてしまうことにもなる。しかしながら、工程時間の短縮を図るために安易にマスクパターンの配列周期を小さくしてしまうと、分割パターンにおけるドットの分散性が悪化して、再パターン化を招いてしまうことになる。このように、特許文献1に係る方法では、パターニングの精度と工程時間のバランスを好適に図ることができなかった。   In the method of performing functional liquid arrangement and solidification as described above, it is possible to ensure prevention of re-patterning by increasing the mask pattern array period, but greatly increases the process time. It will also make it longer. However, if the arrangement period of the mask pattern is easily reduced in order to shorten the process time, the dispersibility of the dots in the divided pattern is deteriorated and re-patterning is caused. As described above, in the method according to Patent Document 1, the balance between patterning accuracy and process time cannot be suitably achieved.

本発明は、上述の課題を解決するためになされたもので、工程時間の短縮を図りながらも高精度なパターニングが可能な成膜方法、およびこのような成膜方法により形成された機能性膜、並びに当該機能性膜を備える電気光学装置、電子機器を提供することを目的としている。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and a film forming method capable of performing high-precision patterning while reducing the process time, and a functional film formed by such a film forming method. In addition, an object is to provide an electro-optical device and an electronic apparatus including the functional film.

本発明は、液滴吐出法により、任意のドットマトリクスパターンに基づいて基板上に機能液を配置し、配置した当該機能液を固形化して機能性膜をパターン形成する成膜方法であって、前記ドットマトリクスパターンをグループ分割して、複数の分割パターンを生成する分割パターン生成工程と、各グループの前記分割パターン毎に、前記機能液の配置および固形化を行う定着工程と、を有し、各グループの前記分割パターンは、それぞれ、実質的にm×n(m,nは2以上の自然数)のマトリクス周期で分散された周期成分を含み、少なくとも一のグループの前記分割パターンは、前記周期成分を補完する補完成分を含むことを特徴とする。   The present invention is a film forming method in which a functional liquid is disposed on a substrate based on an arbitrary dot matrix pattern by a droplet discharge method, and the functional liquid is solidified to form a functional film. Dividing the dot matrix pattern into groups and generating a plurality of divided patterns; and a fixing step of arranging and solidifying the functional liquid for each of the divided patterns of each group, Each of the division patterns of each group includes periodic components distributed in a matrix period of substantially m × n (m and n are natural numbers of 2 or more), and the division pattern of at least one group includes the period It includes a complementary component that complements the component.

この発明の成膜方法によれば、ドットマトリクスパターンをグループ分割してなる複数の分割パターンにより、グループ単位で機能液の配置、固形化が行われ、分割パターンは、m×nのマトリクス周期で好適に分散されたドットである周期成分と、周期成分を補完するドットである補完成分を含んでいる。かくして、分割パターンにおけるドットの分散性が、グループ数(分割数)に直接的に拘束されないので、工程時間の短縮を図りながらも高精度なパターニングを行うことができる。   According to the film forming method of the present invention, the functional liquid is arranged and solidified in units of groups by a plurality of divided patterns obtained by dividing the dot matrix pattern into groups, and the divided patterns are in a matrix cycle of m × n. It includes a periodic component that is preferably dispersed dots and a complementary component that is a dot that complements the periodic component. Thus, since the dispersibility of dots in the divided pattern is not directly constrained by the number of groups (number of divisions), highly accurate patterning can be performed while shortening the process time.

また好ましくは、前記成膜方法において、各グループの前記分割パターンが、それぞれ前記補完成分を含んでいることを特徴とする。
この発明の成膜方法によれば、補完成分が各グループの分割パターンに含まれるようになっているので、特定のグループの分割パターンに補完成分が集中することがなく、好適にドットが分散された分割パターンを生成することができる。
Preferably, in the film formation method, the division pattern of each group includes the complementary component.
According to the film forming method of the present invention, since the complementary component is included in the divided pattern of each group, the complementary component is not concentrated in the divided pattern of the specific group, and the dots are preferably dispersed. Split patterns can be generated.

また好ましくは、前記成膜方法において、前記補完成分の平均的な配列密度が、各グループについて実質的に等しいことを特徴とする。
この発明の成膜方法によれば、補完成分の平均的な配列密度が各グループについて実質的に等しくなっているので、特定のグループの分割パターンに補完成分が集中することがなく、好適にドットが分散された分割パターンを生成することができる。
Preferably, in the film forming method, an average arrangement density of the complementary components is substantially equal for each group.
According to the film forming method of the present invention, since the average arrangement density of the complementary components is substantially equal for each group, the complementary components do not concentrate on the division pattern of the specific group, and the dot is preferably used. Can be generated.

本発明は、所定のドットマトリクスパターンがグループ分割されてなる分割パターン毎に、液滴吐出法により基板上に機能液が配置され、配置された当該機能液が固形化されてパターン形成された機能性膜であって、各グループの前記分割パターンは、それぞれ、実質的にm×n(m,nは2以上の自然数)のマトリクス周期で分散された周期成分を含み、少なくとも一のグループの前記マスクパターンは、前記周期成分を補完する補完成分を含むことを特徴とする。   The present invention provides a function in which a functional liquid is arranged on a substrate by a droplet discharge method for each divided pattern obtained by dividing a predetermined dot matrix pattern into groups, and the arranged functional liquid is solidified to form a pattern. The division pattern of each group includes a periodic component substantially dispersed in a matrix period of m × n (m and n are natural numbers of 2 or more), and at least one group of the division pattern. The mask pattern includes a complementary component that complements the periodic component.

この発明の機能性膜は、周期成分および補完成分を含む分割パターンにより、グループ単位で機能液の配置、固形化が行われて形成され、分割パターンは、m×nのマトリクス周期で好適に分散されたドットである周期成分と、周期成分を補完するドットである補完成分を含んでいる。かくして、分割パターンにおけるドットの分散性が、グループ数(分割数)に直接的に拘束されないので、この機能性膜は、比較的短い工程時間で且つ高精度にパターニングされており、低コスト且つ高品質である。   The functional film of the present invention is formed by arranging and solidifying the functional liquid in groups by a division pattern including a periodic component and a complementary component, and the division pattern is preferably dispersed in a matrix period of m × n. A periodic component that is a dot and a complementary component that is a dot that complements the periodic component. Thus, since the dispersibility of the dots in the division pattern is not directly constrained by the number of groups (division number), this functional film is patterned with a relatively short process time and with high accuracy, and is low in cost and high in cost. Quality.

本発明の電気光学装置は、前記機能性膜を備えることを特徴とする。
この発明の電気光学装置は、前記機能性膜を備えているので、低コスト且つ高品質である。
The electro-optical device of the present invention includes the functional film.
Since the electro-optical device according to the present invention includes the functional film, it is low in cost and high in quality.

本発明の電気機器は、前記機能性膜ないし前記電気光学装置を備えることを特徴とする。
この発明の電気光学装置は、前記機能性膜ないし前記電気光学装置を備えているので、低コスト且つ高品質である。
The electric apparatus according to the present invention includes the functional film or the electro-optical device.
Since the electro-optical device according to the present invention includes the functional film or the electro-optical device, the cost is low and the quality is high.

以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。
なお、以下に述べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
The embodiment described below is a preferred specific example of the present invention, and thus various technically preferable limitations are given. However, the scope of the present invention is particularly limited in the following description. Unless otherwise stated, the present invention is not limited to these forms.

(液滴吐出装置)
まずは、図1を参照して、液滴吐出法に用いる液滴吐出装置について説明する。図1は、液滴吐出装置の構成の一例を示す構成図である。
(Droplet discharge device)
First, with reference to FIG. 1, a droplet discharge apparatus used for a droplet discharge method will be described. FIG. 1 is a configuration diagram illustrating an example of a configuration of a droplet discharge device.

図1において、液滴吐出装置200は、一面に複数のノズル212を配した吐出ヘッド201と、吐出ヘッド201と対向する位置に基板202を載置するための載置台203とを備えている。また、吐出ヘッド201を基板202との距離を保ったまま縦横に移動(走査)させる走査手段204と、吐出ヘッド201に機能液を供給する機能液供給手段205と、吐出ヘッド201の吐出制御を行う吐出制御手段206と、装置全体の統括制御を行う制御用コンピュータ220と、を備えている。   In FIG. 1, the droplet discharge device 200 includes a discharge head 201 having a plurality of nozzles 212 arranged on one surface, and a mounting table 203 for mounting a substrate 202 at a position facing the discharge head 201. Further, a scanning unit 204 that moves (scans) the discharge head 201 vertically and horizontally while maintaining a distance from the substrate 202, a functional liquid supply unit 205 that supplies a functional liquid to the discharge head 201, and discharge control of the discharge head 201. A discharge control means 206 for performing the control and a control computer 220 for performing overall control of the entire apparatus are provided.

吐出ヘッド201には、複数に枝分かれした微細な流路が形成されており、当該流路の端部は、圧力室(キャビティ)211、ノズル212となっている。圧力室211の外郭の一面は、圧電素子210によって変形可能となっており、吐出制御手段206からの駆動信号によって圧力室211内に圧力を発生させることで、ノズル212から液滴213が吐出される。尚、吐出技術としては、この例のような電気機械方式の他に、電気信号を熱に変換して圧力を発生させるいわゆるサーマル方式などもある。   The discharge head 201 is formed with a plurality of minute flow paths that branch into a pressure chamber (cavity) 211 and a nozzle 212. One surface of the outer wall of the pressure chamber 211 can be deformed by the piezoelectric element 210, and a droplet 213 is discharged from the nozzle 212 by generating pressure in the pressure chamber 211 by a drive signal from the discharge control means 206. The In addition to the electromechanical system as in this example, the discharge technique includes a so-called thermal system in which an electric signal is converted into heat to generate pressure.

制御用コンピュータ220は、装置全体の統括制御のほか、作業者とのインターフェースとしての役割も果たしており、キーボード、マウス等の入力装置221と、モニタ222とを備えている。作業者は、装置の動作条件に係る情報を入力装置221によって入力し、また入力情報や装置ステータスをモニタ222によって確認することができる。   The control computer 220 serves as an interface with the operator in addition to the overall control of the entire apparatus, and includes an input device 221 such as a keyboard and a mouse, and a monitor 222. The operator can input information related to the operating conditions of the apparatus with the input device 221 and can check the input information and the apparatus status with the monitor 222.

上述の構成において、吐出ヘッド201の走査制御と同期したノズル212毎の吐出制御を行うことにより、基板202上に所望のパターンで機能液を配置することができる。尚、この液滴吐出装置200は、一走査中において複数種の機能液を吐出可能なように構成することもできる。   In the above configuration, by performing ejection control for each nozzle 212 in synchronization with scanning control of the ejection head 201, the functional liquid can be arranged on the substrate 202 in a desired pattern. The droplet discharge device 200 can also be configured to discharge a plurality of types of functional liquids during one scan.

(成膜方法)
次に、図1〜図6を参照して、本発明に係る成膜方法について、導電配線の形成を例に説明する。図2は、導電配線の形成に係るフローを示すフローチャートである。図3は、導電配線に対応する点描パターンを一部拡大して示す図である。図4は、マスクパターンの一例を示す図である。図5(a)〜(f)は、それぞれ第1〜第6グループの分割パターンを一部拡大して示す図である。図6は、基板上に形成された導電配線を一部拡大して示す平面図である。
(Film formation method)
Next, the film forming method according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is a flowchart showing a flow relating to the formation of the conductive wiring. FIG. 3 is a partially enlarged view showing the stipple pattern corresponding to the conductive wiring. FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a mask pattern. FIG. 5A to FIG. 5F are diagrams showing the division patterns of the first to sixth groups partially enlarged. FIG. 6 is a partially enlarged plan view showing the conductive wiring formed on the substrate.

まず、機能性膜としての導電配線の形成に先立って、導電性材料を微粒子化して液体に分散させた機能液としての導電分散液が用意される。導電性材料としては、例えば、金、銀、銅、パラジウム等の金属や、これらの合金、あるいは金属化合物、導電性ポリマーなどが用いられる。微粒子化された導電性材料は、分散性を向上させるためさらにその表面に有機物(クエン酸など)をコーティングして用いることもできる。   First, prior to the formation of the conductive wiring as the functional film, a conductive dispersion liquid is prepared as a functional liquid in which a conductive material is made into fine particles and dispersed in a liquid. Examples of the conductive material include metals such as gold, silver, copper, and palladium, alloys thereof, metal compounds, and conductive polymers. In order to improve the dispersibility, the finely divided conductive material can also be used by coating the surface thereof with an organic substance (such as citric acid).

導電性材料を分散させるための液体(分散媒)は、上述の微粒子を分散できるもので、凝集を起こさないものであれば特に限定されない。具体的には、水の他に、メタノール、エタノールなどのアルコール類、n−ヘプタン、トルエンなどの炭化水素系化合物、またエチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル系化合物、更にプロピレンカーボネート、N−メチル−2−ピロリドンなどの極性化合物などを挙げることができる。これらは、単独でも、あるいは2種以上の混合物としても使用することができる。   The liquid (dispersion medium) for dispersing the conductive material is not particularly limited as long as it can disperse the above-described fine particles and does not cause aggregation. Specifically, in addition to water, alcohols such as methanol and ethanol, hydrocarbon compounds such as n-heptane and toluene, ether compounds such as ethylene glycol dimethyl ether, propylene carbonate, N-methyl-2- Examples include polar compounds such as pyrrolidone. These can be used alone or as a mixture of two or more.

また、導電分散液は、液滴吐出装置200での吐出特性やメンテナンス性、さらには保存安定性、基板上における動力学的特性や乾燥速度などに鑑みて、分散媒の蒸気圧や固形分濃度、表面張力、粘度、比重などについて適切な調整がされている。このため、導電分散液には、界面活性剤や保湿剤、粘度調整剤などを添加することができる。また、成膜後の定着性を良くするために、バインダーを添加することもできる。   In addition, the conductive dispersion liquid has a vapor pressure and a solid content concentration of the dispersion medium in view of ejection characteristics and maintenance performance of the droplet ejection apparatus 200, storage stability, kinetic characteristics on the substrate, drying speed, and the like. The surface tension, viscosity, specific gravity, etc. are appropriately adjusted. For this reason, a surfactant, a humectant, a viscosity modifier or the like can be added to the conductive dispersion. In addition, a binder may be added in order to improve the fixability after film formation.

次に、導電配線を形成するための基板202が用意され、洗浄や表面の改質処理など(前処理)がなされる(図2の工程S1)。基板としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、金属等の薄板や、プラスチックフィルムなどを用いることができ、また、あらかじめこれらの表面に半導体、金属、絶縁体、樹脂等で形成された機能性素子(トランジスタ等)や構造体が形成されたものを用いることもできる。   Next, a substrate 202 for forming conductive wiring is prepared, and cleaning, surface modification processing, etc. (pretreatment) are performed (step S1 in FIG. 2). As the substrate, for example, a thin plate such as glass, quartz, silicon, or metal, a plastic film, or the like can be used, and a functional element that is previously formed of a semiconductor, metal, insulator, resin, or the like on the surface thereof. (A transistor or the like) or a structure formed thereon can also be used.

改質処理とは、基板202の表面の濡れ性を改変させる処理のことを指しており、例えば、プラズマ処理法や、親液性/撥液性の官能基を有する直鎖分子を基板表面層に直接結合(自己組織化)させる方法などが挙げられる。この処理により、基板上における導電分散液の挙動(静的な広がりや動的特性など)を制御することができる。例えば、本実施形態では、ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2テトラヒドロデシルトリエトキシシランの分子を自己組織化させて、基板202の表面が適度に撥液化されるようにしている。これにより、吐出ヘッド201から吐出される導電分散液は、基板202上で濡れ広がることなく点状に配置される。   The modification treatment refers to a treatment for modifying the wettability of the surface of the substrate 202. For example, a plasma treatment method or a linear molecule having a lyophilic / liquid repellent functional group is used as a substrate surface layer. And a method of directly bonding (self-organizing) to the substrate. By this treatment, the behavior (static spread, dynamic characteristics, etc.) of the conductive dispersion on the substrate can be controlled. For example, in this embodiment, the molecules of heptadecafluoro-1,1,2,2 tetrahydrodecyltriethoxysilane are self-assembled so that the surface of the substrate 202 is appropriately lyophobic. As a result, the conductive dispersion discharged from the discharge head 201 is arranged in a dot shape without getting wet on the substrate 202.

次に、作業者は、入力装置221により、モニタ222上に表される線図で導電配線のパターンデータを入力する(図2の工程S2)。そして、制御用コンピュータ220は、入力されたパターンデータに中間データ処理を施して、点描パターン(図3)のデータを生成する(図2の工程S3)。   Next, the operator inputs the pattern data of the conductive wiring by the input device 221 using the diagram shown on the monitor 222 (step S2 in FIG. 2). Then, the control computer 220 performs intermediate data processing on the input pattern data to generate data for the stipple pattern (FIG. 3) (step S3 in FIG. 2).

点描パターン(図3)は、マトリクス平面上のセルにドット(図面では網掛けで表現)を配したいわゆるドットマトリクスパターンである。これは、基板202上に形成する導電配線のパターン領域を、吐出ヘッド201の走査方向に対応するマトリクス平面上にドットの配列で再現したものである。   The pointillistic pattern (FIG. 3) is a so-called dot matrix pattern in which dots (represented by shading in the drawing) are arranged in cells on the matrix plane. This is a reproduction of the pattern area of the conductive wiring formed on the substrate 202 in a dot arrangement on a matrix plane corresponding to the scanning direction of the ejection head 201.

次に、制御用コンピュータ220は、生成された点描パターンをグループ分割して、第1〜第6グループの分割パターン(図5)のデータを生成する(図2の分割パターン生成工程S4)。より具体的には、分割パターン(図5)は、点描パターン(図3)を所定のマスクパターン(図4)でマスク処理することで生成される。この分割パターンは、液滴吐出装置200によって基板202上に導電分散液を配置する際の直接の設計図となるものである。   Next, the control computer 220 divides the generated stipple pattern into groups, and generates data of division patterns (FIG. 5) of the first to sixth groups (division pattern generation step S4 of FIG. 2). More specifically, the division pattern (FIG. 5) is generated by masking the stipple pattern (FIG. 3) with a predetermined mask pattern (FIG. 4). This division pattern is a direct design diagram when the conductive dispersion liquid is disposed on the substrate 202 by the droplet discharge device 200.

次に、液滴吐出装置200を用いて、第1グループの分割パターン(図5(a))に基づいて基板202上に導電分散液を配置し、さらに基板202ごと中間乾燥処理を施す(図2の定着工程S5)。これにより、配置された導電分散液に含まれる導電性材料が、基板202上に定着される。   Next, using the droplet discharge device 200, the conductive dispersion liquid is disposed on the substrate 202 based on the first group division pattern (FIG. 5A), and the substrate 202 is subjected to an intermediate drying process (FIG. 5). 2 fixing step S5). Thereby, the conductive material contained in the disposed conductive dispersion is fixed on the substrate 202.

中間乾燥処理は、基板202上の導電分散液を乾燥させて固形化する処理のことであり、例えば、ホットプレート、電気炉等による熱処理、赤外線ランプ等による光処理、真空装置による減圧処理などで行うことができる。また、これらの処理は、窒素などの不活性ガス中で行うこともできる。尚、この段階では、分散媒の全てを除去する必要はなく、導電分散液が流動性を失う程度に固形化されていれば十分である。   The intermediate drying process is a process for drying and solidifying the conductive dispersion on the substrate 202. For example, the intermediate drying process is a heat treatment using a hot plate or an electric furnace, a light treatment using an infrared lamp, a decompression process using a vacuum apparatus, or the like. It can be carried out. These treatments can also be performed in an inert gas such as nitrogen. At this stage, it is not necessary to remove all of the dispersion medium, and it is sufficient that the conductive dispersion is solidified to such an extent that it loses fluidity.

この後、第2〜第6グループの分割パターン(図5(b)〜(f))それぞれについて、定着工程S5と同様の方法で導電分散液の配置および中間乾燥処理を行い(図2の定着工程S6〜S10)、図6に示すようなパターニングされた導電配線1が形成される。   Thereafter, for each of the divided patterns of the second to sixth groups (FIGS. 5B to 5F), the conductive dispersion is disposed and the intermediate drying process is performed in the same manner as in the fixing step S5 (fixing in FIG. 2). Steps S6 to S10), a patterned conductive wiring 1 as shown in FIG. 6 is formed.

最後に、導電配線1における導電性材料の微粒子間の電気的接触を向上させるため、基板202全体を焼成して、導電配線1に残留する分散媒等を完全に除去する(図2の工程S11)。尚、この工程S11の焼成は、定着工程S10の中間乾燥処理と共通化させて行うことも可能である。   Finally, in order to improve electrical contact between the fine particles of the conductive material in the conductive wiring 1, the entire substrate 202 is baked to completely remove the dispersion medium and the like remaining on the conductive wiring 1 (step S11 in FIG. 2). ). Note that the firing in this step S11 can be performed in common with the intermediate drying process in the fixing step S10.

(分割パターン生成工程についての詳細)
図4に示すマスクパターンは、マトリクス平面を6つのグループに分割したものであって、図では、対応するグループの番号をセル内に付して表している。例えば、図中網掛けで表しているのは第1グループに対応するマスクパターンであり、このマスクパターンで点描パターン(図3)をマスク処理したものが第1グループの分割パターン(図5(a))となる。各グループに対応するマスクパターンは、3×3のマトリクス周期で配列された周期マスク(通常の番号で表示)と、周期マスクを補完する補完マスク(下線付きの番号で表示)とを有している。
(Details about division pattern generation process)
The mask pattern shown in FIG. 4 is obtained by dividing the matrix plane into six groups. In the figure, the numbers of the corresponding groups are shown in the cells. For example, a mask pattern corresponding to the first group is represented by shading in the figure, and a stipple pattern (FIG. 3) masked with this mask pattern is a divided pattern (FIG. 5 (a)). )). The mask pattern corresponding to each group has a periodic mask (displayed with a normal number) arranged in a 3 × 3 matrix period and a complementary mask (displayed with an underlined number) that complements the periodic mask. Yes.

周期マスクは、その周期性により、分割パターンのドットを好適に分散させる役割を果たすものである。周期マスクは、実質的にm×nのマトリクス周期(m,nは2以上の自然数)の配列となっていればよく、例えば、局所的にごく一部の配列が欠けていても、問題はない。   The periodic mask plays a role of suitably dispersing the dots of the divided pattern due to its periodicity. The periodic mask may be an array having a matrix period of substantially m × n (m and n are natural numbers of 2 or more). For example, even if a partial array is locally missing, the problem is Absent.

周期マスクは3×3のマトリクス周期の配列で構成されていることから、この実施形態のように6グループでマトリクス平面の分割を行う場合には、周期マスクだけではマトリクス平面全体の3分の2のセルしかカバーできないことになる。補完マスクは、このような周期マスクではカバーできないセルを補完して、点描パターン(図3)のドットを漏れなく分割するための役割を果たすものである。   Since the periodic mask is composed of an array of 3 × 3 matrix periods, when the matrix plane is divided into 6 groups as in this embodiment, the periodic mask alone is 2/3 of the entire matrix plane. Only the cell of can be covered. The complement mask plays a role in complementing cells that cannot be covered by such a periodic mask and dividing the dots of the stipple pattern (FIG. 3) without omission.

マスクパターンにおける周期マスクの配列密度は、各グループについて2セル/18セル(1セル/9セル)であり、これに対して補完マスクは、その配列密度が各グループについて1セル/18セルとなるように規則的に配列されている。すなわち、周期マスクでカバーできない3分の1のセル(6セル/18セル)が、補完マスクとして各グループに均等に割り当てられているわけである。これにより、特定のグループの分割パターンにドットが集中するのを防ぎ、ドットの好適な分散を図っている。   The arrangement density of the periodic mask in the mask pattern is 2 cells / 18 cells (1 cell / 9 cells) for each group, whereas the complementary mask has an arrangement density of 1 cell / 18 cells for each group. Are regularly arranged. That is, one third of the cells (6 cells / 18 cells) that cannot be covered by the periodic mask are equally allocated to each group as a complementary mask. This prevents the dots from concentrating on a specific group of divided patterns, thereby achieving a suitable distribution of the dots.

かくして、上述のマスクパターン(図4)を用いたマスク処理により、点描パターン(図3)から、周期マスクに対応する周期成分としてのドット10と、補完マスクに対応する補完成分としてのドット11とをそれぞれ含んだ第1〜第6のグループの分割パターン(図5(a)〜(f))が生成される。尚、図5(a)〜(f)において仮想線で示される円は、分割パターンを基板202上に実スケールで再現した場合において、対応する導電分散液の配置状態がどのようになるかを表している。   Thus, by the mask processing using the above-described mask pattern (FIG. 4), the dot 10 as the periodic component corresponding to the periodic mask and the dot 11 as the complementary component corresponding to the complementary mask are obtained from the stipple pattern (FIG. 3). 1 to 6 group division patterns (FIGS. 5A to 5F) are generated. 5A to 5F, the circles indicated by phantom lines indicate what the arrangement state of the corresponding conductive dispersion liquid will be when the divided pattern is reproduced on the substrate 202 in actual scale. Represents.

図5(a)〜(f)において、周期成分としてのドット10は、互いに十分な距離を保って分散されている。このため、この分割パターンに基づいて導電分散液を配置するにあたり、ドット10に対応する導電分散液同士が互いに重なり合うことはない。一方、補完成分としてのドット11については、他のドットとの距離が必ずしも確保されているわけではなく、導電分散液の一体化を生じる程度に他のドットと近接する場合がある。とはいえ、定着工程S5〜S10のそれぞれにおいて生じるこのような導電分散液の一体化はごく局所的なものであり、著しい再パターン化を招くものではないため、全体としては十分なパターニング精度が確保されることになる。   5A to 5F, the dots 10 as the periodic components are dispersed with a sufficient distance from each other. For this reason, in disposing the conductive dispersion liquid based on this division pattern, the conductive dispersion liquids corresponding to the dots 10 do not overlap each other. On the other hand, the dot 11 as a complementary component is not necessarily secured with respect to the other dots, and may be close to other dots to such an extent that the conductive dispersion liquid is integrated. Nevertheless, such integration of the conductive dispersion that occurs in each of the fixing steps S5 to S10 is very local and does not lead to significant repatterning. Will be secured.

(比較例)
図7は、上述の実施形態の効果を説明するための参照図であって、従来技術におけるマスクパターンの一例を示す図である。図8は、上述の実施形態の効果を説明するための参照図であって、従来技術における分割パターンを示す図である。
(Comparative example)
FIG. 7 is a reference diagram for explaining the effect of the above-described embodiment, and is a diagram illustrating an example of a mask pattern in the related art. FIG. 8 is a reference diagram for explaining the effect of the above-described embodiment, and is a diagram illustrating a division pattern in the related art.

従来技術では、点描パターン(図3)を6グループにグループ分割する場合、図7に示すような2×3のマトリクス周期で配列されたマスクパターンを用いることになる。例えば、図7において網掛けで表しているのは第1のグループに対応するマスクパターンであり、このマスクパターンで点描パターン(図3)をマスク処理すると、図8に示す第1グループの分割パターンが得られる。   In the prior art, when the stipple pattern (FIG. 3) is divided into six groups, a mask pattern arranged with a 2 × 3 matrix period as shown in FIG. 7 is used. For example, a mask pattern corresponding to the first group is represented by shading in FIG. 7, and when the stipple pattern (FIG. 3) is masked with this mask pattern, the divided pattern of the first group shown in FIG. Is obtained.

第1グループの分割パターン(図8)に基づいて導電分散液の配置を行う場合、ドット12a〜12e…に対応する基板202上の箇所では、導電分散液が連続的に一体化し、線状に延びたパターンを形成することになる。そして、このように広範囲にわたって一体化され、基板面内において著しく異方的(非円形的と言い換えてもよい)な形状となった導電分散液は、力学的に非常に不安定なため、いわゆる再パターン化により、分割パターンとは著しく異なったパターンで固形化されることになる。このことは、第2〜第6グループの分割パターンについても同様である。   When the conductive dispersion liquid is arranged based on the first group division pattern (FIG. 8), the conductive dispersion liquid is continuously integrated and linearly formed at locations on the substrate 202 corresponding to the dots 12a to 12e. An extended pattern is formed. The conductive dispersion liquid integrated in such a wide range and having a remarkably anisotropic shape (which may be referred to as non-circular shape) in the substrate surface is so unstable in terms of dynamics that it is so-called By re-patterning, solidification is performed in a pattern significantly different from the divided pattern. The same applies to the division patterns of the second to sixth groups.

このように、m×nのマトリクス配列のみからなるマスクパターンを用いた場合には、グループ数(分割数)が分割パターンにおけるドットの分散性に直接的に影響するため、分割数を減らすと再パターン化によりパターニングの精度を悪化させてしまうという問題があった。これに引き換え、先に説明した実施形態では、分割パターンを周期成分と補完成分とで構成するようにしたため、周期成分の分散性が分割数に直接的に拘束されることはない。これにより、工程時間の短縮を図りながらも高精度なパターニングが可能となっている。   As described above, when a mask pattern consisting only of an m × n matrix array is used, the number of groups (number of divisions) directly affects the dispersibility of dots in the division pattern. There is a problem that patterning deteriorates the accuracy of patterning. In exchange for this, in the embodiment described above, the division pattern is composed of a periodic component and a complementary component, so the dispersibility of the periodic component is not directly constrained by the number of divisions. As a result, highly accurate patterning is possible while shortening the process time.

(電気光学装置)
図9は本発明に係る電気光学装置の一例としてのプラズマ型表示装置の分解斜視図である。
(Electro-optical device)
FIG. 9 is an exploded perspective view of a plasma display device as an example of an electro-optical device according to the present invention.

プラズマ型表示装置500は、互いに対向して配置された基板501、502、及びこれらの間に形成される放電表示部510を含んで構成される。放電表示部510は、複数の放電室516が集合されたものである。   The plasma display device 500 includes substrates 501 and 502 disposed opposite to each other, and a discharge display unit 510 formed therebetween. The discharge display unit 510 is a collection of a plurality of discharge chambers 516.

基板501の上面には所定の間隔でストライプ状にアドレス配線511が形成され、アドレス配線511と基板501の上面とを覆うように誘電体層519が形成されている。誘電体層519上には、アドレス配線511、511間に位置し、且つ各アドレス配線511に沿うように隔壁515が形成されている。隔壁515は、アドレス配線511の幅方向左右両側に隣接する隔壁と、アドレス配線511と直交する方向に延設された隔壁とを含む。   Address lines 511 are formed in stripes at predetermined intervals on the upper surface of the substrate 501, and a dielectric layer 519 is formed so as to cover the address lines 511 and the upper surface of the substrate 501. On the dielectric layer 519, a partition wall 515 is formed so as to be positioned between the address lines 511 and 511 and along the address lines 511. The partition wall 515 includes a partition wall that is adjacent to both the left and right sides of the address line 511 in the width direction, and a partition wall that extends in a direction orthogonal to the address line 511.

隔壁515で仕切られた複数の放電室516のうち、赤色放電室516(R)、緑色放電室516(G)、青色放電室516(B)の3つの放電室516が対になって1つの画素を構成している。放電室516には蛍光体517が配置されている。蛍光体517は、赤、緑、青の何れかの蛍光を発光するもので、赤色放電室516(R)の底部には赤色蛍光体517(R)が、緑色放電室516(G)の底部には緑色蛍光体517(G)が、青色放電室516(B)の底部には青色蛍光体517(B)が各々配置されている。   Among the plurality of discharge chambers 516 divided by the partition 515, three discharge chambers 516, which are a red discharge chamber 516 (R), a green discharge chamber 516 (G), and a blue discharge chamber 516 (B), are paired to form one discharge chamber 516. Constitutes a pixel. A phosphor 517 is disposed in the discharge chamber 516. The phosphor 517 emits red, green, or blue fluorescence. The red phosphor 517 (R) is located at the bottom of the red discharge chamber 516 (R), and the bottom of the green discharge chamber 516 (G). Are arranged with a green phosphor 517 (G) and a blue phosphor 517 (B) at the bottom of the blue discharge chamber 516 (B).

基板502には、先のアドレス配線511と直交する方向に複数の表示配線512がストライプ状に所定の間隔で形成されている。さらに、これらを覆うように誘電体層513、及びMgOなどからなる保護膜514が形成されている。   On the substrate 502, a plurality of display wirings 512 are formed in stripes at predetermined intervals in a direction orthogonal to the previous address wirings 511. Further, a dielectric layer 513 and a protective film 514 made of MgO or the like are formed so as to cover them.

基板501と基板502とは、アドレス配線511…と表示配線512…を互いに直交させるように対向させて相互に貼り合わされている。アドレス配線511と表示配線512とは、図示しない駆動回路に接続されており、両配線511,512に電気信号を適切なタイミングで印加することにより、放電表示部510において蛍光体517が励起発光し、カラー表示が可能となる。   The substrate 501 and the substrate 502 are bonded to each other with the address lines 511... And the display lines 512. The address wiring 511 and the display wiring 512 are connected to a driving circuit (not shown), and the phosphor 517 emits excitation light in the discharge display portion 510 by applying an electric signal to both the wirings 511 and 512 at an appropriate timing. Color display is possible.

このプラズマ型表示装置500は、アドレス配線511、表示配線512などが上述した成膜方法により形成されているため、低コスト且つ高品質である。   In the plasma display device 500, the address wiring 511, the display wiring 512, and the like are formed by the above-described film forming method, and thus are low cost and high quality.

(電子機器)
次に、図10を参照して、電子機器の具体例を説明する。図10は、電子機器の一例を示す概略斜視図である。
(Electronics)
Next, a specific example of the electronic device will be described with reference to FIG. FIG. 10 is a schematic perspective view illustrating an example of an electronic apparatus.

図10に示す電子機器としての携帯型情報処理装置700は、キーボード701と、本体部703と、表示部702と、を備えている。このような携帯型情報処理装置700のより具体的な例は、ワープロ、パソコンである。この携帯型情報処理装置700は、上述した成膜方法により形成された導電配線を有する制御回路基板を備え、また、表示部702として上述のプラズマ型表示装置500を備えているため、低コスト且つ高品質である。   A portable information processing device 700 as an electronic apparatus illustrated in FIG. 10 includes a keyboard 701, a main body 703, and a display 702. More specific examples of such a portable information processing apparatus 700 are a word processor and a personal computer. The portable information processing device 700 includes a control circuit substrate having conductive wiring formed by the above-described film formation method, and includes the above-described plasma display device 500 as the display unit 702. High quality.

(変形例1)
次に、図11、図12を参照して、本発明に係る成膜方法の変形例1について説明する。図11は、変形例1に係るマスクパターンを示す図である。図12は、変形例1に係る第1グループの分割パターンを一部拡大して示す図である。尚、以下では、先の実施形態と重複する内容については説明を省略し、相違点を中心に説明する。
(Modification 1)
Next, with reference to FIG. 11 and FIG. 12, the modification 1 of the film-forming method which concerns on this invention is demonstrated. FIG. 11 is a diagram illustrating a mask pattern according to the first modification. FIG. 12 is a partially enlarged view showing the division pattern of the first group according to the first modification. In addition, below, description is abbreviate | omitted about the content which overlaps with previous embodiment, and it demonstrates centering around difference.

この変形例1では、分割パターン生成工程(図2のS4)において、図11に示すマスクパターンを用いて点描パターン(図3)のグループ分割を行う。ここで、図11において網掛けで示すのは、第1および第4グループに対応するマスクパターンである。この図が示すように、第1グループのマスクパターンは、3×3のマトリクス周期で配列された補完マスク(下線付きの番号で表現)を有し、第4グループのマスクパターンは、補完成分を全く有しない構成となっている。   In the first modification, in the divided pattern generation step (S4 in FIG. 2), grouping of the stipple pattern (FIG. 3) is performed using the mask pattern shown in FIG. Here, in FIG. 11, the mask patterns corresponding to the first and fourth groups are shaded. As shown in this figure, the mask pattern of the first group has complementary masks (represented by underlined numbers) arranged in a 3 × 3 matrix period, and the mask pattern of the fourth group includes complementary components. It has a configuration that does not have at all.

図12において、第1グループの分割パターンは、周期成分としてのドット13と補完成分としてのドット14とがそれぞれ3×3のマトリクス周期で分散され、互いに対をなすように近接した構成となっている。この分割パターンで定着工程S5(図2参照)を行う場合であっても、導電分散液の一体化が局所的に生じるものの、著しい再パターン化を引き起こすことはない。   In FIG. 12, the division pattern of the first group has a configuration in which the dots 13 as the periodic components and the dots 14 as the complementary components are dispersed in a 3 × 3 matrix period and are close to each other so as to form a pair. Yes. Even in the case where the fixing step S5 (see FIG. 2) is performed with this divided pattern, the conductive dispersion liquid is locally integrated, but does not cause significant repatterning.

このように、分割パターンにおける補完成分は、周期成分のようなマトリクス周期での分散性を有していてもよいし、また、全くランダムな疎密を有していてもよい。著しい再パターン化を引き起こすような広範囲でのドットの密集が生じない限り、補完成分の分散性(マスクパターンにおける補完マスクの配列)は自由に選ぶことができる。また、補完成分は、全てのグループの分割パターンに含まれていなければならないという制約もなく、この変形例1の第4グループのように、全く補完成分を含まない分割パターンとすることも可能である。   Thus, the complementary component in the division pattern may have a dispersibility in a matrix cycle such as a periodic component, or may have a completely random density. The dispersion of complementary components (arrangement of complementary masks in the mask pattern) can be freely selected as long as there is no dot density over a wide range that causes significant repatterning. Further, there is no restriction that the complementary component must be included in the divided patterns of all groups, and a divided pattern that does not include any complementary components as in the fourth group of Modification 1 can be used. is there.

(変形例2)
次に、図13を参照して、本発明に係る成膜方法の変形例2について説明する。図13は、変形例2に係るマスクパターンを示す図である。尚、以下では、先の実施形態と重複する内容については説明を省略し、相違点を中心に説明する。
(Modification 2)
Next, with reference to FIG. 13, the modification 2 of the film-forming method which concerns on this invention is demonstrated. FIG. 13 is a diagram illustrating a mask pattern according to the second modification. In addition, below, description is abbreviate | omitted about the content which overlaps with previous embodiment, and it demonstrates centering around difference.

この変形例2では、分割パターン生成工程(図2のS4)において、2×2のマトリクス周期で配列された周期マスクを有するマスクパターン(図13)を用いて、第1〜第3グループの分割パターンを生成する。このように、分割パターンの生成における分割数や周期マスク(周期成分)の周期は、点描パターンにおける解像度や、導電分散液の1液滴あたりの吐出量、濡れ性、表面張力などに応じて適宜変更することが可能である。   In the second modification, in the divided pattern generation step (S4 in FIG. 2), the division of the first to third groups is performed using a mask pattern (FIG. 13) having a periodic mask arranged in a 2 × 2 matrix period. Generate a pattern. As described above, the number of divisions and the period of the periodic mask (periodic component) in the generation of the division pattern are appropriately determined according to the resolution in the stipple pattern, the discharge amount per droplet of the conductive dispersion, wettability, surface tension, and the like. It is possible to change.

本発明は上述の実施形態に限定されない。
例えば、本発明に係る成膜方法を適用可能な機能性膜の例として、上述の導電配線の他、電気回路素子を構成する抵抗膜や誘電体膜、カラーフィルタの着色膜、有機EL表示装置における発光膜、プラズマディスプレイ装置における蛍光膜、基板の表面に形成するバンク、レジスト膜などを挙げることができる。
また、本発明に係る電気光学装置の例として、上述のプラズマ型表示装置の他、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、電界放出型表示装置(表面電界型を含む)、などを挙げることができる。これらの電気光学装置においては、画素駆動用配線やTFT素子などを上述の成膜方法を用いて形成することができる。
また、各実施形態の各構成はこれらを適宜組み合わせたり、省略したり、図示しない他の構成と組み合わせたりすることができる。
The present invention is not limited to the above-described embodiment.
For example, as an example of a functional film to which the film forming method according to the present invention can be applied, in addition to the above-described conductive wiring, a resistance film or a dielectric film constituting an electric circuit element, a colored film for a color filter, an organic EL display device And the like, and the phosphor film in the plasma display device, the bank formed on the surface of the substrate, the resist film, and the like.
Examples of the electro-optical device according to the present invention include a liquid crystal display device, an organic electroluminescence display device, a field emission display device (including a surface electric field type), and the like in addition to the plasma display device described above. it can. In these electro-optical devices, pixel driving wirings, TFT elements, and the like can be formed using the above-described film forming method.
Moreover, each structure of each embodiment can combine these suitably, can be abbreviate | omitted, or can combine with the other structure which is not shown in figure.

液滴吐出装置の構成の一例を示す構成図。The block diagram which shows an example of a structure of a droplet discharge apparatus. 導電配線の形成に係るフローを示すフローチャート。The flowchart which shows the flow which concerns on formation of conductive wiring. 導電配線に対応する点描パターンを一部拡大して示す図。The figure which expands and shows a stipple pattern corresponding to a conductive wiring partially. マスクパターンの一例を示す図。The figure which shows an example of a mask pattern. (a)は、第1グループの分割パターンを一部拡大して示す図。(b)は、第2グループの分割パターンを一部拡大して示す図。(c)は、第3グループの分割パターンを一部拡大して示す図。(d)は、第4グループの分割パターンを一部拡大して示す図。(e)は、第5グループの分割パターンを一部拡大して示す図。(f)は、第6グループの分割パターンを一部拡大して示す図。(A) is a figure which expands and shows the division pattern of the 1st group partially. (B) is a figure which expands and shows the division pattern of the 2nd group partially. FIG. 10C is a partially enlarged view showing the division pattern of the third group. FIG. 6D is a diagram showing a partially enlarged view of the fourth group division pattern. (E) is a figure which expands and shows the division | segmentation pattern of a 5th group partially. FIG. 10F is a partially enlarged view showing the sixth group division pattern. 基板上に形成された導電配線を一部拡大して示す平面図。The top view which expands and shows a part of conductive wiring formed on the board | substrate. 実施形態の効果を説明するための参照図。The reference diagram for demonstrating the effect of embodiment. 実施形態の効果を説明するための参照図。The reference diagram for demonstrating the effect of embodiment. プラズマ型表示装置の分解斜視図。The exploded perspective view of a plasma type display. 電子機器の一例を示す概略斜視図。The schematic perspective view which shows an example of an electronic device. 変形例1に係るマスクパターンを示す図。The figure which shows the mask pattern which concerns on the modification 1. FIG. 変形例1に係る第1グループの分割パターンを一部拡大して示す図。The figure which expands and shows the division pattern of the 1st group which concerns on the modification 1 partially. 変形例2に係るマスクパターンを示す図。The figure which shows the mask pattern which concerns on the modification 2. As shown in FIG. (a)は、点描パターンの従来例を示す参照図。(b)は、マスクパターンの従来例を示す参照図。(A) is a reference figure which shows the prior art example of a stipple pattern. (B) is a reference figure which shows the prior art example of a mask pattern.

符号の説明Explanation of symbols

1…機能性膜としての導電配線、10…周期成分としてのドット、11…補完成分としてのドット、13…周期成分としてのドット、14…補完成分としてのドット、500…電気光学装置としてのプラズマ型表示装置、511…本発明に係る成膜方法で形成されたアドレス配線、512…本発明に係る成膜方法で形成された表示配線、700…電子機器としての携帯型情報処理装置。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Conductive wiring as a functional film, 10 ... Dot as periodic component, 11 ... Dot as complementary component, 13 ... Dot as periodic component, 14 ... Dot as complementary component, 500 ... Plasma as electro-optical device Type display device, 511... Address wiring formed by the film forming method according to the present invention, 512. Display wiring formed by the film forming method according to the present invention, 700... Portable information processing apparatus as an electronic device.

Claims (6)

液滴吐出法により、任意のドットマトリクスパターンに基づいて基板上に機能液を配置し、配置した当該機能液を固形化して機能性膜をパターン形成する成膜方法であって、
前記ドットマトリクスパターンをグループ分割して、複数の分割パターンを生成する分割パターン生成工程と、
各グループの前記分割パターン毎に、前記機能液の配置および固形化を行う定着工程と、を有し、
各グループの前記分割パターンは、それぞれ、実質的にm×n(m,nは2以上の自然数)のマトリクス周期で分散された周期成分を含み、
少なくとも一のグループの前記分割パターンは、前記周期成分を補完する補完成分を含むことを特徴とする成膜方法。
A film forming method for forming a functional film by placing a functional liquid on a substrate based on an arbitrary dot matrix pattern by a droplet discharge method, and solidifying the arranged functional liquid,
A divided pattern generation step of dividing the dot matrix pattern into groups to generate a plurality of divided patterns;
A fixing step of arranging and solidifying the functional liquid for each of the divided patterns of each group, and
Each of the division patterns of each group includes periodic components distributed in a matrix period of substantially m × n (m and n are natural numbers of 2 or more),
The film forming method according to claim 1, wherein the division pattern of at least one group includes a complementary component that complements the periodic component.
各グループの前記分割パターンが、それぞれ前記補完成分を含んでいることを特徴とする請求項1に記載の成膜方法。   The film forming method according to claim 1, wherein the division pattern of each group includes the complementary component. 前記補完成分の平均的な配列密度が、各グループについて実質的に等しいことを特徴とする請求項2に記載の成膜方法。   The film forming method according to claim 2, wherein an average arrangement density of the complementary components is substantially equal for each group. 所定のドットマトリクスパターンがグループ分割されてなる分割パターン毎に、液滴吐出法により基板上に機能液が配置され、配置された当該機能液が固形化されてパターン形成された機能性膜であって、
各グループの前記分割パターンは、それぞれ、実質的にm×n(m,nは2以上の自然数)のマトリクス周期で分散された周期成分を含み、
少なくとも一のグループの前記マスクパターンは、前記周期成分を補完する補完成分を含むことを特徴とする機能性膜。
A functional film in which a functional liquid is arranged on a substrate by a droplet discharge method for each divided pattern obtained by grouping a predetermined dot matrix pattern, and the arranged functional liquid is solidified to form a pattern. And
Each of the division patterns of each group includes periodic components distributed in a matrix period of substantially m × n (m and n are natural numbers of 2 or more),
The functional film according to claim 1, wherein the mask pattern of at least one group includes a complementary component that complements the periodic component.
請求項4に記載の機能性膜を備える電気光学装置。   An electro-optical device comprising the functional film according to claim 4. 請求項4に記載の機能性膜ないし、請求項5に記載の電気光学装置を備える電子機器。
An electronic apparatus comprising the functional film according to claim 4 or the electro-optical device according to claim 5.
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