JP2006349431A - 画像処理方法および画像処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 まず特徴量を求めるパターン領域を設定し(ステップS101)、次に設定したパターン領域を複数のパターン分割領域に分割し(ステップS102)、またパターン領域に存在する対象物が影響を及ぼしている領域を設定する(ステップS103)。そして対象となっているパターン領域に含まれる画素を抽出し(ステップS1041)、それら画素のうち、対象となっているパターン領域以外のパターン領域に存在する対象物による影響領域が含まれない画素だけで構成されるパターン分割領域内の画素をさらに抽出し(ステップS1042)、その抽出した画素の輝度値を用いて代表値を算出し(ステップS1043)、全てのパターン領域における特徴量を求める。
【選択図】 図1
Description
図15において、1501はテンプレート画像であり、対象画像1502の中からこのテンプレート画像に示された丸い画像パターンを探索するものとする。
前記デジタル画像に対して測定対象物が存在する領域をパターン領域として設定するパターン領域設定工程と、前記パターン領域設定工程において設定されたパターン領域を、複数のパターン分割領域に分割するパターン領域分割工程と、前記パターン領域設定工程において設定されたパターン領域において、対象となっているパターン領域以外のパターン領域に存在する測定対象物が、前記デジタル画像の輝度値に対し影響を及ぼしている領域を影響領域として設定する影響領域設定工程と、前記パターン領域設定工程において設定されたパターン領域に含まれる画素のうち、前記影響領域設定工程において設定された影響領域が含まれない画素だけで構成される、前記パターン領域分割工程において分割されたパターン分割領域内の画素のみを用いてパターン領域における代表値を算出する特徴量算出工程とを備えることを特徴としたものである。
前記デジタル画像に対して測定対象物が存在する領域をパターン領域として設定するパターン領域設定部と、前記パターン領域設定部において設定されたパターン領域を、複数のパターン分割領域に分割するパターン領域分割部と、前記パターン領域設定部において設定されたパターン領域において、対象となっているパターン領域以外のパターン領域に存在する測定対象物が、前記デジタル画像の輝度値に対し影響を及ぼしている領域を影響領域として設定する影響領域設定部と、前記パターン領域設定部において設定されたパターン領域に含まれる画素のうち、前記影響領域設定部において設定された影響領域が含まれない画素だけで構成される、前記パターン領域分割部において分割されたパターン分割領域内の画素のみを用いてパターン領域における代表値を算出する特徴量算出部とを備えることを特徴としたものである。
[実施の形態1]
本発明の実施の形態1として、ある特定の短波長の励起光を照射すると、組成とサイズに応じて異なる波長の光を発光する性質をもつ半導体ナノクリスタルを任意の比率で付着させた直径10μmの球状で半透明なアクリルでできたマイクロビーズ(以下、ビーズと称す)を測定対象物とし、複数のビーズを蛍光顕微鏡で撮影し、撮影したデジタル画像においてビーズを含む画素の輝度値を用いて特徴量を求める場合を例として説明を行う。
(ステップS101/パターン領域設定工程)
まず、測定画像において、ビーズが存在し特徴量を求める領域となるパターン領域を設定する。これは、予め撮影しているビーズ位置を抽出するためのデジタル画像(以下、対象画像と称す)に対してテンプレートマッチング処理行い、ビーズ位置を抽出することで行う。ここで、テンプレートマッチング処理を行うデジタル画像を、測定画像ではなく対象画像としているが、これはビーズの抽出精度を上げるためである。
(ステップS102/パターン領域分割工程)
次に、ステップS101にて設定されたパターン領域画像に示す各パターン領域を、マスクパターンを用いて複数のパターン分割領域に分割する処理を行う。
(ステップS103/影響領域設定工程)
次に、ステップS101にて設定されたパターン領域画像を基に、対象となっているパターン領域以外のパターン領域に存在するビーズが、測定画像の輝度値に対し影響を及ぼしている領域を影響領域として設定する。すなわち、この影響領域を、対象となっているパターン領域以外のパターン領域を含む近傍領域とし、パターン領域を構成する画素をひとまとまりとした連結成分において輪郭となる画素を外側に所定の画素数分増やし、増やした後の連結成分を設定する。
ビーズからの発光は、発光している半導体ナノクリスタルがビーズの表面にほぼ均等に付着しているため、全ての方向に均一に広がると考えられる。従って、ビーズの発光が影響を及ぼしている領域は、ビーズを抽出した各パターン領域において、パターン領域を全ての方向に均一に広げ、広げた領域を求めればよい。
なお、ここでは、パターン領域に対して8近傍膨張処理を行う回数を予め設定していた値とし、全てのパターン領域に対し一律の大きさで膨張させていたが、8近傍膨張処理を行う回数を、パターン領域毎にパターン領域に含まれる画素の輝度値を用いて求めた値の大きさに応じて設定しても良い。ビーズの発光により影響を及ぼしている領域は、発光が強いほど領域が広がり、発光が弱いほど狭くなる。従って、測定画像におけるパターン領域に含まれる画素の平均輝度値を求め、求めた平均輝度値に応じて8近傍膨張処理の回数を設定することで、発光の強さに応じて精度良く影響を及ぼす領域を設定することが可能である。この8近傍膨張処理の回数の設定方法は、ある平均輝度値に対する8近傍膨張処理の回数を1対1で記したテーブルを持っておき、予め複数個の測定対象物を用いて数値を計測しテーブルを作成しておけばよい。
(ステップS104/特徴量算出工程)
次に、ステップS101にて作成されたパターン領域画像、ステップS102にて作成されたパターン分割領域画像、及びステップS103にて作成された影響領域画像を用い、各パターン領域に含まれる画素の輝度値から、各パターン領域の特徴量を算出する。
次に、抜き出したパターン領域に対応するパターン分割領域画像(図6参照)と影響領域画像(図7参照)の各画素値を調べ、対象となっているパターン領域以外のパターン領域に存在するビーズが影響を及ぼしている影響領域が含まれない画素だけで構成されるパターン分割領域内の画素を抽出する。なお、ビーズAにおける影響領域は、影響領域画像中の画素値が0又は2ではない領域を調べることで特定できる。
図8において、この影響領域は、隣接するビーズBからの発光により影響をうける領域である。従って、この影響領域を除いたパターン領域の画素のみを抽出し特徴量を求めれば正確な特徴量を求めることができると言える。ただし、この際、各パターン分割領域において影響領域が含まれないパターン分割領域の画素のみを抽出する。図8においては、5と6の画素値を持つパターン分割領域を除く斜線で示した1、2、3、4、7、8の画素値を持つパターン分割領域の画素を抽出する。
(第2のパターン分割領域の累積値)=(第1のパターン分割領域の累積値)÷(第1のパターン分割領域の画素数)×(第2のパターン分割領域の画素数)
で、求めることができる。
なお、輝度平均値を求める処理と同様に、第1のパターン分割領域がない場合は、このパターン領域の特徴量を求めないようにする。
以上のように、本発明の実施の形態1による画像処理方法によれば、対象画像から測定対象の特徴量を求める領域となるパターン領域を設定し、さらにこのパターン領域を複数のパターン分割領域に分割すると共に対象となっているパターン領域以外のパターン領域に存在する測定対象物が影響を及ぼしている領域を影響領域として設定し、パターン領域に含まれる画素のうち、影響領域が含まれない画素だけで構成されるパターン分割領域内の画素のみを用いて特徴量を求めることで、隣接する測定対象物からの光の影響を受けている測定対象物においても、精度良く測定対象物を含む画素における輝度値を用いた特徴量を求めることができる。
[実施の形態2]
図12は、本発明の実施の形態2における画像処理方法が行う処理を示すフローチャートである。図12のフローチャートはステップS201ないしステップS205からなり、ステップS201はパターン領域設定工程を、ステップS202はパターン領域分割工程を、ステップS203は影響領域設定工程を、ステップS2041ないしステップS2045からなるステップS204は判定工程を、ステップS2051ないしステップS2054からなるステップS205は特徴量算出工程を、それぞれ示す。実施の形態1の処理と異なる点は、判定工程が新しく追加され、対象となっているパターン領域におけるパターン分割領域と影響領域に基づいて、求める特徴量の精度の良し悪しに従って有効か無効かの判定を行い、無効な場合そのパターン領域を除外し、特徴量を求めないようにした点である。
(ステップS201/パターン領域設定工程)
まず、測定画像において、ビーズが存在し特徴量を求める領域となるパターン領域を設定する。なお、パターン領域の設定方法は、図1のステップS101で説明したものと同様であるため、ここでは説明を省略する。
(ステップS202/パターン領域分割工程)
次に、ステップS201にて設定されたパターン領域画像に示す各パターン領域を、マスクパターンを用いて複数のパターン分割領域に分割する処理を行う。
ここで作成されたパターン領域を分割したパターン分割領域を示すパターン分割領域画像は、以下のステップS204、及びステップS205において参照される。
(ステップS203/影響領域設定工程)
次に、ステップS201にて設定されたパターン領域画像を基に、パターン領域に存在するビーズの発光が、測定画像の輝度値に対し影響を及ぼしている領域を求める。
ここで作成された影響領域画像は、以下のステップS204、及びステップS205において参照される。
(ステップS204/判定工程)
次に、ステップS201にて設定されたパターン領域画像、ステップS202にて作成されたパターン分割領域画像、及びステップS203にて作成された影響領域画像に基づいて、特徴量を求める各パターン領域において、そのパターン領域において求める特徴量の精度の良し悪しに従って有効か無効かの判定を行う。そして無効な場合は、そのパターン領域を除去する。
図13は、図2に示すビーズEにおけるビーズE近傍のパターン分割領域と影響領域を示す図である。図中の数値は、パターン分割領域画像の画素値を示している。
(ステップS205/特徴量算出工程)
次に、ステップS204で作成されたパターン領域画像、ステップS202で作成されたパターン分割領域画像、及びステップS203で作成された影響領域画像を用い、各パターン領域に含まれる画素の輝度値から、各パターン領域の特徴量を算出する。
以上のように、本発明の実施の形態2による画像処理方法によれば、特徴量を求める各パターン領域において、対象となるパターン領域で求める特徴量の精度の良し悪しに従って有効か無効かの判定を行い、無効と判定されたパターン領域の特徴量を求めないようにすることで、さらに精度良く求めた特徴量のみを用いて解析を行うことが可能となる。
図14は、本発明の実施の形態2における画像処理方法を実施する画像処理装置200の要部概略構成を示すブロック図である。
101 対象画像
102 測定画像
103 設定データ記憶部
104 パターン領域設定部
105 パターン領域分割部
106 影響領域設定部
107 特徴量算出部
108 特徴量
209 判定部
1501 テンプレート画像
1502 対象画像
1503、1504 検出対象
1505 最初のパターンマッチング位置
1506 パターンマッチングの走査経路
1507 パターンを検出した位置
Claims (30)
- 各画素において多値の輝度値を持つデジタル画像に対して、一つないし複数の特定のパターン領域を設定し、前記デジタル画像において、前記パターン領域に含まれる画素の輝度値を用いて各パターン領域における代表値を算出する画像処理方法であって、
前記デジタル画像に対して測定対象物が存在する領域をパターン領域として設定するパターン領域設定工程と、
前記パターン領域設定工程において設定されたパターン領域を、複数のパターン分割領域に分割するパターン領域分割工程と、
前記パターン領域設定工程において設定されたパターン領域において、対象となっているパターン領域以外のパターン領域に存在する測定対象物が、前記デジタル画像の輝度値に対し影響を及ぼしている領域を影響領域として設定する影響領域設定工程と、
前記パターン領域設定工程において設定されたパターン領域に含まれる画素のうち、前記影響領域設定工程において設定された影響領域が含まれない画素だけで構成される、前記パターン領域分割工程において分割されたパターン分割領域内の画素のみを用いてパターン領域における代表値を算出する特徴量算出工程と
を備えることを特徴とする画像処理方法。 - 前記パターン領域分割工程では、前記パターン領域を、複数の分割領域を示すマスクパターンを用いて分割すること
を特徴とする請求項1記載の画像処理方法。 - 前記マスクパターンは、パターン領域を示す分割領域を持ち、この分割領域に対応する画素をパターン分割領域とすること
を特徴とする請求項2記載の画像処理方法。 - 前記パターン領域分割工程では、前記パターン領域を、分割した領域の面積が均等になるように複数のパターン分割領域に分割すること
を特徴とする請求項1記載の画像処理方法。 - 前記パターン領域分割工程では、前記パターン領域を、前記パターン領域の中心を通る直線で複数のパターン分割領域に分割すること
を特徴とする請求項1記載の画像処理方法。 - 前記パターン領域分割工程では、前記パターン領域の中心を通る直線で、中心角が均等になるように複数のパターン分割領域に分割すること
を特徴とする請求項5記載の画像処理方法。 - 前記パターン領域分割工程では、前記パターン領域を分割した複数のパターン分割領域から、特定の領域を除くこと
を特徴とする請求項1記載の画像処理方法。 - 前記パターン分割領域から除く特定の領域は、分割された各パターン分割領域で面積が等しくなるように設定すること
を特徴とする請求項7記載の画像処理方法。 - 前記影響領域設定工程では、前記影響領域を、対象となっているパターン領域以外のパターン領域を含む近傍領域とし、パターン領域を構成する画素をひとまとまりとした連結成分において輪郭となる画素を外側に所定の画素数分増やし、増やした後の連結成分を設定すること
を特徴とする請求項1記載の画像処理方法。 - 前記輪郭となる画素を外側に増やす画素数は、輪郭を増やそうとしている連結成分の各画素の輝度値を用いて求めた値の大きさに基づいて設定すること
を特徴とする請求項9記載の画像処理方法。 - 前記影響領域設定工程では、前記パターン領域に存在する測定対象物以外のものが影響を及ぼす領域を、パターン領域に存在する測定対象物による影響領域に追加すること
を特徴とする請求項1記載の画像処理方法。 - 前記特徴量算出工程において、前記パターン領域における代表値を、パターン領域に含まれる画素の輝度値を平均した平均輝度値とし、
影響領域に含まれない画素だけで構成されるパターン分割領域内の画素の輝度値を全て足し合わせた累積値を求め、前記代表値を、求めた累積値を足し合わせた画素数で除算することで求めること
を特徴とする請求項1記載の画像処理方法。 - 前記特徴量算出工程において、前記パターン領域における代表値を、パターン領域に含まれる画素の輝度値を総和した輝度総和値とし、
影響領域が含まれない画素だけで構成される第1のパターン分割領域内の画素の輝度値を全て足し合わせた累積値と足し合わせた画素数を求めると共に、影響領域を含む画素で構成される第2のパターン分割領域の画素数を求め、
次いで、前記第2のパターン分割領域の累積値を、前記第1のパターン分割領域の累積値と第1のパターン分割領域の画素数及び第2のパターン分割領域の画素数に基づき類推し、
前記代表値を、前記第1のパターン分割領域の累積値と類推した第2のパターン分割領域の累積値を足し合わせることで求めること
を特徴とする請求項1記載の画像処理方法。 - 前記パターン領域分割工程において分割されたパターン分割領域と前記影響領域設定工程において設定された影響領域の情報を用いて対象となっているパターン領域で求める代表値が有効か無効かの判定を行う判定工程を備え、
この判定工程を前記特徴量算出工程の直前に行い、無効と判定されたパターン領域における代表値は求めないこと
を特徴とする請求項1記載の画像処理方法。 - 前記判定工程では、影響領域を含むまたは含まない画素で構成されるパターン分割領域の個数或いは画素数に基づいて判定を行うこと
を特徴とする請求項14記載の画像処理方法。 - 各画素において多値の輝度値を持つデジタル画像に対して、一つないし複数の特定のパターン領域を設定し、前記デジタル画像において、前記パターン領域に含まれる画素の輝度値を用いて各パターン領域における代表値を算出する画像処理装置であって、
前記デジタル画像に対して測定対象物が存在する領域をパターン領域として設定するパターン領域設定部と、
前記パターン領域設定部において設定されたパターン領域を、複数のパターン分割領域に分割するパターン領域分割部と、
前記パターン領域設定部において設定されたパターン領域において、対象となっているパターン領域以外のパターン領域に存在する測定対象物が、前記デジタル画像の輝度値に対し影響を及ぼしている領域を影響領域として設定する影響領域設定部と、
前記パターン領域設定部において設定されたパターン領域に含まれる画素のうち、前記影響領域設定部において設定された影響領域が含まれない画素だけで構成される、前記パターン領域分割部において分割されたパターン分割領域内の画素のみを用いてパターン領域における代表値を算出する特徴量算出部と
を備えることを特徴とする画像処理装置。 - 前記パターン領域分割部は、前記パターン領域を、複数の分割領域を示すマスクパターンを用いて前記パターン領域を分割すること
を特徴とする請求項16記載の画像処理装置。 - 前記マスクパターンは、パターン領域を示す分割領域を持ち、この分割領域に対応する画素をパターン分割領域とすること
を特徴とする請求項17記載の画像処理装置。 - 前記パターン領域分割部は、前記パターン領域を、分割した領域の面積が均等になるように複数のパターン分割領域に分割すること
を特徴とする請求項16記載の画像処理装置。 - 前記パターン領域分割部は、前記パターン領域を、前記パターン領域の中心を通る直線で複数のパターン分割領域に分割すること
を特徴とする請求項16記載の画像処理装置。 - 前記パターン領域分割部は、前記パターン領域の中心を通る直線で、中心角が均等になるように複数のパターン分割領域に分割すること
を特徴とする請求項20記載の画像処理装置。 - 前記パターン領域分割部は、前記パターン領域を分割した複数のパターン分割領域から、特定の領域を除くこと
を特徴とする請求項16記載の画像処理装置。 - 前記パターン分割領域から除く特定の領域は、分割された各パターン分割領域で面積が等しくなるように設定すること
を特徴とする請求項22記載の画像処理装置。 - 前記影響領域設定部では、前記影響領域を、対象となっているパターン領域以外のパターン領域を含む近傍領域とし、パターン領域を構成する画素をひとまとまりとした連結成分において輪郭となる画素を外側に所定の画素数分増やし、増やした後の連結成分を設定すること
を特徴とする請求項16記載の画像処理装置。 - 前記輪郭となる画素を外側に増やす画素数は、輪郭を増やそうとしている連結成分の各画素の輝度値を用いて求めた値の大きさに基づいて設定すること
を特徴とする請求項24記載の画像処理装置。 - 前記影響領域設定部は、前記パターン領域に存在する測定対象物以外のものが影響を及ぼす領域を、パターン領域に存在する測定対象物による影響領域に追加すること
を特徴とする請求項16記載の画像処理装置。 - 前記特徴量算出部において、前記パターン領域における代表値を、パターン領域に含まれる画素の輝度値を平均した平均輝度値とし、
影響領域に含まれない画素だけで構成されるパターン分割領域内の画素の輝度値を全て足し合わせた累積値を求め、前記代表値を、求めた累積値を足し合わせた画素数で除算することで求めること
を特徴とする請求項16記載の画像処理装置。 - 前記特徴量算出部において、前記パターン領域における代表値を、パターン領域に含まれる画素の輝度値を総和した輝度総和値とし、
影響領域が含まれない画素だけで構成される第1のパターン分割領域内の画素の輝度値を全て足し合わせた累積値と足し合わせた画素数を求めると共に、影響領域を含む画素で構成される第2のパターン分割領域の画素数を求め、
次いで、前記第2のパターン分割領域の累積値を、前記第1のパターン分割領域の累積値と第1のパターン分割領域の画素数及び第2のパターン分割領域の画素数に基づき類推し、
前記代表値を、前記第1のパターン分割領域の累積値と類推した第2のパターン分割領域の累積値を足し合わせることで求めること
を特徴とする請求項16記載の画像処理装置。 - 前記パターン領域分割部において分割されたパターン分割領域と前記影響領域設定部において設定された影響領域の情報を用いて対象となっているパターン領域で求める代表値が有効か無効かの判定を行う判定部を備え、
この判定部において無効と判定されたパターン領域における代表値は求めないこと
を特徴とする請求項16記載の画像処理装置。 - 前記判定部は、影響領域を含むまたは含まない画素で構成されるパターン分割領域の個数或いは画素数に基づいて判定を行うこと
を特徴とする請求項29記載の画像処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2006349431A true JP2006349431A (ja) | 2006-12-28 |
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Family
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2009245201A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Nohmi Bosai Ltd | 煙検出装置 |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101001 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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