JP2006338815A - Manufacturing method of glass substrate for magnetic disk and manufacturing method of magnetic disk - Google Patents

Manufacturing method of glass substrate for magnetic disk and manufacturing method of magnetic disk Download PDF

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博則 吉川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass substrate for a magnetic disk having satisfactory shape uniformity such as uniformity of an outside diameter at a low cost and to provide the inexpensive glass substrate for the magnetic disk and the magnetic disk in large amounts. <P>SOLUTION: In a manufacturing method of the glass substrate for the magnetic disk including a step for forming glass disks by cutting a cylindrical glass base material 3 vertically to the center axis thereof, the difference between outside diameters of the thickest part and the thinnest part of the cylindrical glass base material 3 is specified to be ≤0.5 mm. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、ハードディスクドライブ(HDD)などの情報記録装置における記録媒体となる磁気ディスクに使用される磁気ディスク用ガラス基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk used for a magnetic disk that is a recording medium in an information recording apparatus such as a hard disk drive (HDD).

また、本発明は、ハードディスクドライブ(HDD)などの情報記録装置における記録媒体となる磁気ディスクの製造方法に関する。   The present invention also relates to a method of manufacturing a magnetic disk that is a recording medium in an information recording apparatus such as a hard disk drive (HDD).

近年、情報化社会の高度化に伴って種々の情報処理装置が提案されており、これら情報処理装置において使用される情報記録装置として、ハードディスクドライブ(HDD)が提案されている。このハードディスクドライブにおいては、情報処理装置の小型化、高性能化のために、情報記録容量の大量化、記録密度の高密度化が求められるとともに、製造コストの低廉化も求められている。   In recent years, various information processing apparatuses have been proposed with the advancement of the information society, and a hard disk drive (HDD) has been proposed as an information recording apparatus used in these information processing apparatuses. In the hard disk drive, in order to reduce the size and performance of the information processing apparatus, it is required to increase the information recording capacity and increase the recording density, and to reduce the manufacturing cost.

ハードディスクドライブにおいて、情報記録密度を高密度化するためには、いわゆるスペーシングロスを低減させる必要があり、記録媒体となる磁気ディスクに対して記録再生を行なう磁気ヘッドの浮上量(グライド・ハイト)を少なくする必要がある。ところが、記録再生時には、磁気ディスクが高速回転するため、磁気ヘッドの浮上量を少なくすると、磁気ヘッドが磁気ディスクの表面に接触してしまう虞れが大きくなる。そこで、このような磁気ヘッドとの接触を防止するためには、磁気ディスク表面を、極めて平滑な面として仕上げておく必要がある。   In a hard disk drive, in order to increase the information recording density, it is necessary to reduce so-called spacing loss, and the flying height (glide height) of the magnetic head that performs recording and reproduction on the magnetic disk as the recording medium Need to be reduced. However, since the magnetic disk rotates at high speed during recording and reproduction, if the flying height of the magnetic head is reduced, there is a high possibility that the magnetic head will come into contact with the surface of the magnetic disk. Therefore, in order to prevent such contact with the magnetic head, it is necessary to finish the surface of the magnetic disk as a very smooth surface.

このような磁気ディスク表面の平滑性を実現するため、磁気ディスク用基板としては、従来広く用いられていたアルミニウム基板に代えて、「2.5インチディスク」に代表されるように、ガラス基板が用いられるようになっている。ガラス基板は、アルミニウム基板に比較して、表面の平坦性及び基板強度において優れているからである。このようなガラス基板としては、化学強化により強度を向上させたガラス基板や、結晶化によって基板強度を向上させた結晶化ガラス基板などが挙げられる。   In order to realize such smoothness of the surface of the magnetic disk, a glass substrate is used as a magnetic disk substrate, as represented by a “2.5 inch disk”, instead of the conventionally widely used aluminum substrate. It has come to be used. This is because a glass substrate is superior in surface flatness and substrate strength compared to an aluminum substrate. Examples of such a glass substrate include a glass substrate whose strength is improved by chemical strengthening and a crystallized glass substrate whose strength is improved by crystallization.

ところで、一般に磁気ディスク用ガラス基板は、ガラス原料を加熱融解させて溶融ガラスを準備する工程、この溶融ガラスを板状のガラスディスクに成形する工程、及び、板状に成形されたガラスディスクを加工し研磨してガラス基板を作成する工程が順次実行されることにより作成される。   By the way, generally a glass substrate for a magnetic disk is a process of preparing a molten glass by heating and melting a glass raw material, a process of forming the molten glass into a plate-shaped glass disk, and processing a glass disk formed into a plate shape. Then, the glass substrate is prepared by sequentially executing a step of producing a glass substrate by polishing.

溶融ガラスを板状のガラスディスクに成形するにあたっては、プレス法、フロー卜法、フュージョン法等の成形方法が採用されている。プレス法を用いる場合には、溶融ガラスから直接的に板状のガラスディスクを成形する。フロート法、フュージョン法を用いる場合には、溶融ガラスを矩形状の板ガラスに成形し、この板ガラスからガラスディスクを切り出す。これらのうち、現在、最も普及している方法は、プレス法によりガラスディスクを作成する方法である。   In forming the molten glass into a plate-like glass disk, a forming method such as a press method, a flow method, or a fusion method is employed. When the pressing method is used, a plate-shaped glass disk is formed directly from molten glass. When the float method or the fusion method is used, the molten glass is formed into a rectangular plate glass, and a glass disk is cut out from the plate glass. Among these, the most widely used method is a method of producing a glass disk by a pressing method.

また、他の方法としては、特許文献1に記載されているように、円柱状ガラス母材から、ガラスディスクを切り出す方法も提案されている。   As another method, as described in Patent Document 1, a method of cutting out a glass disk from a cylindrical glass base material has been proposed.

また、特許文献2及び特許文献3には、円柱状ガラス母材をマルチワイヤソーによって切断して、ガラスディスクを作成する方法が提案されている。   Patent Documents 2 and 3 propose a method of making a glass disk by cutting a cylindrical glass base material with a multi-wire saw.

以上のようにして作成されたガラスディスクの端面及び主表面を研磨し、化学強化等の強化処理を行って、磁気ディスク用ガラス基板が製造されている。   The glass disk substrate for a magnetic disk is manufactured by polishing the end face and the main surface of the glass disk produced as described above and performing a strengthening process such as chemical strengthening.

特開平4−168629号公報JP-A-4-168629 特開平8−007272号公報JP-A-8-007272 特許第2639270号公報Japanese Patent No. 2639270

ところで、前述のような高い情報記録面密度が実現可能となったガラス基板を用いたハードディスクドライブは、小型の磁気ディスクを用いたものでも十分な情報量を格納できるようになってきた。したがって、このようなハードディスクドライブは、いわゆる据置型のコンピュータ装置などに搭載されるもののみならず、いわゆる「カーナビゲーションシステム(Car Navigation System)」や「PDA(Personal Digital Assistance)」、「携帯電話」などのように、車載用、あるいは、携帯用といった筐体スペースの小さなモバイル機器の情報ストレージ用として使用されるものにも用途が広がっている。   By the way, a hard disk drive using a glass substrate capable of realizing a high information recording surface density as described above has been able to store a sufficient amount of information even with a small magnetic disk. Accordingly, such hard disk drives are not only installed in so-called stationary computer devices, but also so-called “Car Navigation System”, “PDA (Personal Digital Assistance)”, “mobile phone”. As described above, the application has been extended to those used for information storage of mobile devices with a small housing space such as in-vehicle or portable.

このような小型のハードディスクドライブに搭載される小型磁気ディスクのサイズとしては、例えば、外径が30mm以下、内径が10mm以下、ディスク厚が0.5mm以下となされており、代表的には、外径27.4mm、内径7mm、ディスク厚0.381mmの「1インチ型ディスク」や、外径21.6mm、内径6mm、ディスク厚0.381mmの「0.85インチ型ディスク」等が挙げられる。   The size of a small magnetic disk mounted on such a small hard disk drive is, for example, an outer diameter of 30 mm or less, an inner diameter of 10 mm or less, and a disk thickness of 0.5 mm or less. Examples thereof include a “1 inch type disc” having a diameter of 27.4 mm, an inner diameter of 7 mm, and a disc thickness of 0.381 mm, and a “0.85 inch type disc” having an outer diameter of 21.6 mm, an inner diameter of 6 mm, and a disc thickness of 0.381 mm.

このような「モバイル用途」の小型ハードディスクドライブは、常に、落下、振動、急激な移動加速などによる撃力に曝される虞れがあるので、このようなハードディスクドライブにおける磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクは、従来の「2.5インチ型ディスク」(外径65mm、内径20mm、ディスク厚0.635mm)等の相対的に大きな磁気ディスクに比較して、十分に高い耐衝撃性が要求されるに至っている。   Since such a small hard disk drive for “mobile use” is always exposed to the impact of dropping, vibration, sudden movement acceleration, etc., the glass substrate for magnetic disk and magnetic The disk is required to have sufficiently high impact resistance compared to a relatively large magnetic disk such as a conventional “2.5 inch type disk” (outer diameter 65 mm, inner diameter 20 mm, disk thickness 0.635 mm). Has reached.

一方、最近のハードディスクドライブでは、「LUL(ロードアンロード)方式」により起動停止動作を行うものが提案されている。「LUL方式」のハードディスクドライブに搭載される磁気ディスクにおいては、従来の磁気ディスクに比較して、その表面はより平滑、かつ、清浄であることが求められる。すなわち、「LUL方式」のハードディスクドライブにおける磁気ヘッドの浮上量は、10nm、あるいは、それ以下とされ、従来の「CSS(コンタクトスタートストップ)方式」のハードディスクドライブに比較してクラッシュ障害を生じやすい。したがって、「LUL方式」のハードディスクドライブに用いる磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクの表面は、従来に比較して十分に清浄でなければならないのである。   On the other hand, a recent hard disk drive has been proposed that performs a start / stop operation by the “LUL (load / unload) method”. A magnetic disk mounted on a “LUL type” hard disk drive is required to have a smoother and cleaner surface than a conventional magnetic disk. That is, the flying height of the magnetic head in the “LUL type” hard disk drive is set to 10 nm or less, and a crash failure is likely to occur as compared with the conventional “CSS (contact start stop) type” hard disk drive. Accordingly, the glass substrate for magnetic disk used in the “LUL type” hard disk drive and the surface of the magnetic disk must be sufficiently cleaned as compared with the conventional case.

また、最近のハードディスクドライブにおいては、磁気ヘッドとして、磁気抵抗効果型素子や大型磁気抵抗効果型素子が搭載されたものが使用されるようになっている。このことによっても、磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクの表面は、従来に比較して、より平滑、かつ、清浄であることが求められる。すなわち、磁気抵抗効果型素子や大型磁気抵抗効果型素子を搭載した磁気ヘッドは、磁気ディスク表面の平滑性や清浄度が不十分であると、サーマルアスペリティ障害を発生させる場合があるからである。したがって、磁気抵抗効果型素子によって情報が再生される磁気ディスクにおいては、従来の薄膜型素子により情報が再生される磁気ディスクに比較して、表面が十分に平滑、かつ、清浄でなければならない。   In recent hard disk drives, a magnetic head mounted with a magnetoresistive element or a large magnetoresistive element is used. This also requires that the magnetic disk glass substrate and the surface of the magnetic disk be smoother and cleaner than before. That is, a magnetic head equipped with a magnetoresistive element or a large magnetoresistive element may cause a thermal asperity failure if the magnetic disk surface has insufficient smoothness and cleanliness. Therefore, in a magnetic disk from which information is reproduced by a magnetoresistive element, the surface must be sufficiently smooth and clean compared to a magnetic disk from which information is reproduced by a conventional thin film element.

従来、磁気ディスク用ガラス基板の製造においては、上述したように、プレス法を利用して、溶融ガラスからガラスディスクを作成する方法が主流であった。また、フロート法等で溶融ガラスからシートガラスを作成し、このシートガラスからガラスディスクを切り出す方法も行われてきた。   Conventionally, in the production of a glass substrate for a magnetic disk, as described above, a method of producing a glass disk from molten glass using a pressing method has been the mainstream. In addition, a method of creating a sheet glass from molten glass by a float method or the like and cutting a glass disk from the sheet glass has been performed.

しかし、このような方法でガラスディスクを作成すると、多くのガラス屑やガラスの切れ端が排出されてしまうという問題が生じている。すなわち、原料となる溶融ガラスのうち、最終的にガラスディスクに加工されずに廃棄されるガラスが多く、言い換えれば、材料利用率を向上させることが困難であるという問題が生じている。また、単位時間当たりに作成可能なガラスディスクの数、すなわち、ガラスディスクの量産性を向上させることが困難であるという問題が生じている。   However, when a glass disk is produced by such a method, there is a problem that a lot of glass debris and pieces of glass are discharged. That is, among the molten glass used as a raw material, there is a lot of glass that is finally discarded without being processed into a glass disk. In other words, it is difficult to improve the material utilization rate. Further, there is a problem that it is difficult to improve the number of glass disks that can be produced per unit time, that is, the mass productivity of glass disks.

したがって、ガラスディスクの作成においては、従来より主流として用いられている方法を援用しているのみでは、十分に製造の容易化及び製造原価の低減を図ることが困難である。   Therefore, in the production of a glass disk, it is difficult to sufficiently facilitate manufacturing and reduce manufacturing costs only by using a method that has been used as a mainstream from the past.

このような課題を解決する方法の―つとして、上述した特許文献1乃至特許文献3に記載されているようなガラスディスクの製造方法も考えられる。しかし、このような製造方法においては、円柱状ガラス母材を切断して得られたガラスディスクの端面部分の付近においてバリや欠けが生じたり、ガラスディスクの板厚が不均一になるという問題が生じる。また、このような製造方法においては、表裏の両主表面が互いに高精度に平行となされたガラスディスクを得ることが困難であるという課題が生じる。   As a method for solving such a problem, a method of manufacturing a glass disk as described in Patent Documents 1 to 3 described above is also conceivable. However, in such a manufacturing method, there is a problem that burrs or chips are generated in the vicinity of the end surface portion of the glass disk obtained by cutting the cylindrical glass base material, or the thickness of the glass disk is not uniform. Arise. Moreover, in such a manufacturing method, the subject that it is difficult to obtain the glass disc by which both the main surfaces of the front and back were mutually made parallel with high precision arises.

そこで、本発明は、上述の実情に鑑みて提案されるものであって、本発明の第1の目的は、端面部分の形状、両主表面の平行度及び板厚の均一性が良好な磁気ディスク用ガラス基板を低廉なコストにより提供し、廉価な磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを大量に提供することにある。   Therefore, the present invention is proposed in view of the above-mentioned circumstances, and the first object of the present invention is to provide a magnetic material having good end face shape, parallelism of both main surfaces, and uniformity of plate thickness. The object is to provide a glass substrate for a disk at a low cost, and to provide a large number of inexpensive glass substrates and magnetic disks for a magnetic disk.

また、本発明の第2の目的は、耐衝撃牲に優れた磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することにある。   A second object of the present invention is to provide a large amount of a magnetic disk glass substrate and a magnetic disk excellent in impact resistance at low cost.

また、本発明の第3の目的は、例えば、外径が30mm以下のような小型の磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することにある。   A third object of the present invention is to provide a large amount of small-sized glass substrates for magnetic disks and magnetic disks having an outer diameter of 30 mm or less, for example.

さらに、本発明の第4の目的は、「LUL方式」のハードディスクドライブに搭載される磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することにある。   Furthermore, a fourth object of the present invention is to provide a large amount of a glass substrate and a magnetic disk for a magnetic disk mounted on a “LUL type” hard disk drive at low cost.

前述の課題を解決し、上記目的を達成するため、本発明は、以下の構成のいずれか一を備えるものである。   In order to solve the above-described problems and achieve the above object, the present invention comprises any one of the following configurations.

〔構成1〕
円柱状または円筒状ガラス母材をその中心軸に対して垂直に切断処理してガラスディスクを作製する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、円柱状または円筒状ガラス母材は、最も太い部位における外径と、最も細い部位における外径との差が、0.5mm以下とされていることを特徴とするものである。
[Configuration 1]
A method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk including a step of cutting a columnar or cylindrical glass base material perpendicularly to its central axis to produce a glass disk, wherein the columnar or cylindrical glass base material is The difference between the outer diameter at the thickest part and the outer diameter at the thinnest part is 0.5 mm or less.

〔構成2〕
構成1を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、円柱状または円筒状ガラス母材は、最も太い部位における外径と最も細い部位における外径との差が、0.3mm以下とされていることを特徴とするものである。
[Configuration 2]
A method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk having Configuration 1, wherein a columnar or cylindrical glass base material has a difference between an outer diameter of the thickest part and an outer diameter of the thinnest part of 0.3 mm or less. It is characterized by that.

〔構成3〕
構成1、または、構成2を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、円柱状または円筒状ガラス母材は、外径の平均値が、30mm以下であることを特徴とするものである。
[Configuration 3]
A method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk having Configuration 1 or Configuration 2, wherein the columnar or cylindrical glass base material has an average outer diameter of 30 mm or less. .

〔構成4〕
円柱状または円筒状ガラス母材をその中心軸に対して垂直に切断処理してガラスディスクを作製する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、円柱状または円筒状ガラス母材の側面部を、研削、または、研磨加工することにより、この円柱状または円筒状ガラス母材の最も太い部位における外径と最も細い部位における外径との差を0.5mm以下とした後に、切断処理を行うことを特徴とするものである。
[Configuration 4]
A method for producing a glass substrate for a magnetic disk, comprising a step of cutting a columnar or cylindrical glass base material perpendicularly to its central axis to produce a glass disk, wherein the columnar or cylindrical glass base material After the side surface portion is ground or polished, the difference between the outer diameter at the thickest part and the outer diameter at the thinnest part of the columnar or cylindrical glass base material is reduced to 0.5 mm or less, and then cut. Processing is performed.

〔構成5〕
構成1乃至構成4のいずれか一を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、円柱状または円筒状ガラス母材の側面部とワイヤソーとを当接させ、該側面部と該ワイヤソーとを相対的に移動させて該円柱状または円筒状ガラス母材を切断処理して、ガラスディスクを作成することを特徴とするものである。
[Configuration 5]
A method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk having any one of configurations 1 to 4, wherein a side surface portion of a columnar or cylindrical glass base material and a wire saw are brought into contact with each other, and the side surface portion and the wire saw are The glass disk is produced by cutting the columnar or cylindrical glass base material by relative movement.

〔構成6〕
構成1乃至構成4のいずれか一を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、円柱状または円筒状ガラス母材の側面部とプレードソーとを当接させ、該側面部と該ブレードソーとを相対的に移動させて該円柱状または円筒状ガラス母材を切断処理して、ガラスディスクを作成することを特徴とするものである。
[Configuration 6]
A method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk having any one of Configurations 1 to 4, wherein a side surface portion of a columnar or cylindrical glass base material is brought into contact with a blade saw, the side surface portion and the blade saw Are moved relative to each other to cut the columnar or cylindrical glass base material to produce a glass disk.

〔構成7〕
構成1乃至構成6のいずれか一を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、円柱状または円筒状ガラス母材をアニール処理して内部応力を緩和した後に、該円柱状または円筒状ガラス母材を切断処理してガラスディスクを作成することを特徴とするものである。
[Configuration 7]
A method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk having any one of Configurations 1 to 6, wherein after annealing a columnar or cylindrical glass base material to relieve internal stress, the columnar or cylindrical glass A glass disk is produced by cutting a base material.

〔構成8〕
構成1乃至構成7のいずれか一を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造されたガラス基板上に、少なくとも記録層を形成することを特徴とするものである。
[Configuration 8]
At least a recording layer is formed on a glass substrate manufactured by the method for manufacturing a magnetic disk glass substrate having any one of Configurations 1 to 7.

本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、円柱状または円筒状ガラス母材をその中心軸に対して垂直に切断処理してガラスディスクを作製する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、円柱状または円筒状ガラス母材は、最も太い部位における外径と、最も細い部位における外径との差が、0.5mm以下とされているので、外径の均一性の良好なガラスディスクを得ることができる。   In the method for manufacturing a magnetic disk glass substrate according to the present invention, a magnetic disk glass substrate including a step of cutting a columnar or cylindrical glass base material perpendicularly to its central axis to produce a glass disk. In the manufacturing method, since the difference between the outer diameter at the thickest part and the outer diameter at the thinnest part of the columnar or cylindrical glass base material is 0.5 mm or less, the outer diameter has good uniformity. Glass disk can be obtained.

さらに、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、円柱状または円筒状ガラス母材の最も太い部位における外径と最も細い部位における外径との差を0.3mm以下とすることにより、外径の均一性がさらに良好なガラスディスクを得ることができる。   Furthermore, in the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to the present invention, the difference between the outer diameter at the thickest part and the outer diameter at the thinnest part of the columnar or cylindrical glass base material is 0.3 mm or less. Further, it is possible to obtain a glass disk having a better outer diameter uniformity.

また、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、円柱状または円筒状ガラス母材の外径の平均値を30mm以下とすることにより、小径のガラスディスクを良好に作成することができる。   In the method for producing a glass substrate for a magnetic disk according to the present invention, a small-diameter glass disk can be satisfactorily prepared by setting the average value of the outer diameter of the columnar or cylindrical glass base material to 30 mm or less. .

そして、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、円柱状または円筒状ガラス母材をその中心軸に対して垂直に切断処理してガラスディスクを作製する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、円柱状または円筒状ガラス母材の側面部を研削、または、研磨加工することにより、この円柱状または円筒状ガラス母材の最も太い部位における外径と最も細い部位における外径との差を0.5mm以下にするので、外径の均一性の良好なガラスディスクを得ることができる。   And in the manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs which concerns on this invention, the glass for magnetic discs which includes the process of cutting a column-shaped or cylindrical glass base material perpendicularly | vertically with respect to the central axis, and producing a glass disc In the substrate manufacturing method, by grinding or polishing the side surface of the columnar or cylindrical glass base material, the outer diameter at the thickest part and the outermost part at the thinnest part of the columnar or cylindrical glass base material are obtained. Since the difference from the diameter is 0.5 mm or less, it is possible to obtain a glass disk with good outer diameter uniformity.

さらに、上述の各磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、円柱状ガラス母材の側面部とワイヤソーとを当接させ、側面部とワイヤソーとを相対的に移動させて円柱状ガラス母材を切断処理してガラスディスクを作成することにより、円柱状ガラス母材の切断処理を容易、かつ、迅速に行うことができる。   Further, in the above-described method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, the cylindrical glass base material is cut by bringing the side surface portion of the cylindrical glass base material into contact with the wire saw and relatively moving the side surface portion and the wire saw. By processing to produce a glass disk, the cylindrical glass base material can be easily and quickly cut.

また、上述の各磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、円柱状ガラス母材の側面部とプレードソーとを当接させ、側面部とブレードソーとを相対的に移動させて円柱状ガラス母材を切断処理してガラスディスクを作成することにより、円柱状ガラス母材の切断処理を容易、かつ、迅速に行うことができる。   Further, in each of the above-described methods for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, the cylindrical glass base material is obtained by bringing the side surface portion of the cylindrical glass base material into contact with the blade saw and relatively moving the side surface portion and the blade saw. By producing a glass disk by cutting, the cylindrical glass base material can be easily and quickly cut.

また、上述の各磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、円柱状ガラス母材を切断処理する前に、円柱状ガラス母材をアニール処理して内部応力を緩和することにより、円柱状ガラス母材の切断処理を良好に行うことができる。   Further, in the above-described method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, before the cylindrical glass base material is cut, the cylindrical glass base material is annealed to relieve internal stress, thereby reducing the cylindrical glass base material. The cutting process can be performed satisfactorily.

そして、本発明に係る磁気ディスクの製造方法においては、上述した本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造されたガラス基板を用いるので、端面部分の形状、両主表面の平行度及び板厚の均一性が良好な状態に作成される。   And in the manufacturing method of the magnetic disk which concerns on this invention, since the glass substrate manufactured by the manufacturing method of the glass substrate for magnetic disks which concerns on this invention mentioned above is used, the shape of an end surface part, the parallelism of both main surfaces, and It is created in a state where the thickness uniformity is good.

すなわち、本発明は、外径の均一性等、形状の均一性が良好な磁気ディスク用ガラス基板を低廉なコストにより提供し、廉価な磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを大量に提供することができるものである。   That is, the present invention can provide a magnetic disk glass substrate having good shape uniformity, such as uniformity of outer diameter, at a low cost, and can provide a large number of inexpensive glass substrates and magnetic disks. It can be done.

また、本発明は、耐衝撃牲に優れた磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することができるものである。   In addition, the present invention can provide a large number of glass substrates and magnetic disks for magnetic disks that are excellent in impact resistance at low cost.

このような磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクは、小型の磁気ディスクに適用するにも好適である。すなわち、本発明は、例えば、外径が30mm以下のような小型の磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することができるものである。   Such a glass substrate for a magnetic disk and a magnetic disk are also suitable for application to a small magnetic disk. That is, the present invention can provide a large amount of a small glass substrate and magnetic disk for a magnetic disk having an outer diameter of 30 mm or less, for example, at low cost.

また、このような磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクは、「LUL方式」のハードディスクドライブに搭載される磁気ディスクに適用するにも好適である。すなわち、本発明は、「LUL方式」のハードディスクドライブに搭載される磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することができるものである。   Such a magnetic disk glass substrate and magnetic disk are also suitable for application to a magnetic disk mounted in a “LUL system” hard disk drive. That is, the present invention can provide a large amount of a glass substrate and a magnetic disk for a magnetic disk mounted on a “LUL system” hard disk drive at low cost.

以下、本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照しながら説明する。   The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.

本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、例えば、ハードディスクドライブ(HDD)等に搭載される磁気ディスクのガラス基板として使用される磁気ディスク用ガラス基板を製造するものである。この磁気ディスクは、例えば、垂直磁気記録方式によって高密度の情報信号記録及び再生を行うことができる記録媒体である。   The method for producing a glass substrate for a magnetic disk according to the present invention is for producing a glass substrate for a magnetic disk used as a glass substrate of a magnetic disk mounted on a hard disk drive (HDD) or the like, for example. This magnetic disk is a recording medium capable of performing high-density information signal recording and reproduction by, for example, a perpendicular magnetic recording method.

この磁気ディスク用ガラス基板は、外径15mm乃至30mm、内径5mm乃至12mm、板厚0.2mm乃至0.5mmであり、例えば、「0.8インチ(inch)型磁気ディスク」(内径6mm、外径21.6mm、板厚0.381mm)、「1.0インチ型磁気ディスク」(内径7mm、外径27.4mm、板厚0.381mm)などの所定の直径を有する磁気ディスクとして作製される。また、「2.5インチ型磁気ディスク」、「3.5インチ型磁気ディスク」など磁気ディスクとして作製されるものとしてもよい。なお、ここで、「内径」とは、ガラス基板の中心部の円孔の内径である。   This glass substrate for magnetic disk has an outer diameter of 15 to 30 mm, an inner diameter of 5 to 12 mm, and a plate thickness of 0.2 to 0.5 mm. For example, “0.8 inch type magnetic disk” (inner diameter of 6 mm, outer 21.6 mm diameter, plate thickness 0.381 mm), “1.0 inch type magnetic disk” (inner diameter 7 mm, outer diameter 27.4 mm, plate thickness 0.381 mm), etc. . Further, it may be manufactured as a magnetic disk such as a “2.5 inch magnetic disk” or a “3.5 inch magnetic disk”. Here, the “inner diameter” is the inner diameter of the circular hole at the center of the glass substrate.

図1は、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造される磁気ディスク用ガラス基板の構成を示す斜視図である。   FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a glass substrate for magnetic disk manufactured by the method for manufacturing a glass substrate for magnetic disk according to the present invention.

本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、図1に示すように、中心部に円孔1を有する磁気ディスク用ガラス基板2を製造する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。この磁気ディスク用ガラス基板は、ガラスからなることにより、鏡面研磨によって優れた平滑性を実現することができ、硬度が高く、また、剛性が高いので、耐衝撃性に優れている。特に、携帯(持運び)用、あるいは、車載用の情報器機に搭載されるハードディスクドライブに使用される磁気ディスクには、高い耐衝撃性が要求されるので、このような磁気ディスクにおいてガラス基板を用いることには有用性が高い。   The method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to the present invention is a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk for manufacturing a glass substrate 2 for a magnetic disk having a circular hole 1 at the center as shown in FIG. Since the glass substrate for magnetic disk is made of glass, it can achieve excellent smoothness by mirror polishing, has high hardness, and high rigidity, and thus has excellent impact resistance. In particular, since a magnetic disk used for a hard disk drive mounted on a portable (carried) or in-vehicle information device is required to have high impact resistance, a glass substrate is used in such a magnetic disk. Usefulness is high.

ガラスは脆性材料であるが、化学強化や風冷強化などの強化処理、あるいは、結晶化の手段により、破壊強度を向上させることができる。このようなガラス基板の材料として好ましいガラスとしては、アルミノシリケートガラスを挙げることができる。アルミノシリケートガラスは、優れた平滑鏡面を実現することができるとともに、例えば、化学強化を行なうことによって、破壊強度を高めることができるからである。   Although glass is a brittle material, the fracture strength can be improved by a strengthening treatment such as chemical strengthening or air cooling strengthening or by means of crystallization. A preferable glass as a material for such a glass substrate is aluminosilicate glass. This is because the aluminosilicate glass can realize an excellent smooth mirror surface and can increase the breaking strength by, for example, chemical strengthening.

アルミノシリケートガラスとしては、SiO:62乃至75重量%、Al:5乃至15重量%、LiO:4乃至10重量%、NaO:4乃至12重量%、ZrO:5.5乃至15重量%を主成分として含有するとともに、NaOとZrOとの重量比が0.5乃至2.0、AlとZrOとの重量比が0.4乃至2.5である化学強化用ガラスが好ましい。 The aluminosilicate glass, SiO 2: 62 to 75 wt%, Al 2 O 3: 5 to 15 wt%, Li 2 O: 4 to 10 wt%, Na 2 O: 4 to 12 wt%, ZrO 2: 5 0.5 to 15 wt% as a main component, the weight ratio of Na 2 O to ZrO 2 is 0.5 to 2.0, and the weight ratio of Al 2 O 3 to ZrO 2 is 0.4 to 2 A glass for chemical strengthening of .5 is preferred.

また、このようなガラス基板において、ZrOの未溶解物が原因で生じるガラス基板表面の突起をなくすためには、SiOを57乃至74mol%、ZrOを0乃至2.8mol%、Alを3乃至15mol%、LiOを7乃至16mol%、NaOを4乃至14mol%含有する化学強化用ガラスを使用することが好ましい。このような組成のアルミノシリケートガラスは、化学強化することによって、抗折強度が増加し、圧縮応力層の深さも深く、ヌープ硬度にも優れている。 Further, in such a glass substrate, in order to eliminate the protrusion of the glass substrate surface undissolved product of ZrO 2 occurs causes a SiO 2 57 to 74 mol%, a ZrO 2 0 to 2.8 mol%, Al 2 It is preferable to use a chemically strengthening glass containing 3 to 15 mol% of O 3 , 7 to 16 mol% of LiO 2 and 4 to 14 mol% of Na 2 O. The aluminosilicate glass having such a composition has an increased bending strength, a deep compressive stress layer, and an excellent Knoop hardness when chemically strengthened.

なお、本発明において製造する磁気ディスク用ガラス基板をなす材料は、前述したものに限定されるわけではない。すなわち、ガラスディスクの材質としては、前述したアルミノシリケートガラスの他に、例えば、ソーダライムガラス、ソーダアルミノケイ酸ガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシリケートガラス、石英ガラス、チェーンシリケートガラス、または、結晶化ガラス等のガラスセラミックなどを挙げることができる。   In addition, the material which comprises the glass substrate for magnetic discs manufactured in this invention is not necessarily limited to what was mentioned above. That is, as the material of the glass disk, in addition to the aluminosilicate glass described above, for example, soda lime glass, soda aluminosilicate glass, aluminoborosilicate glass, borosilicate glass, quartz glass, chain silicate glass, or crystallized glass Examples thereof include glass ceramics.

図2は、前記磁気ディスク用ガラス基板2の円孔1の内周側端面の形状を示す断面図である。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing the shape of the inner peripheral end face of the circular hole 1 of the magnetic disk glass substrate 2.

本発明により製造される磁気ディスク用ガラス基板は、端面部分の両側の稜部が面取りされたものであることが好ましい。すなわち、この磁気ディスク用ガラス基板2の外周側端面部分及び円孔1の内周側端面部分は、図2に示すように、この内周側端面部分から両側の主平面に向けて、面取り部(C面)1b,1bが形成された状態となっており、また、この磁気ディスク用ガラス基板2の外周側端面部分は、この外周側端面部分から両側の主平面に向けて、面取り部(C面)が形成された状態となっている。   The glass substrate for a magnetic disk produced according to the present invention is preferably one in which the ridges on both sides of the end face portion are chamfered. That is, the outer peripheral side end surface portion of the magnetic disk glass substrate 2 and the inner peripheral side end surface portion of the circular hole 1 are chamfered from the inner peripheral end surface portion toward the main planes on both sides as shown in FIG. (C surface) 1b, 1b is formed, and the outer peripheral side end surface portion of the glass substrate for magnetic disk 2 is chamfered from the outer peripheral side end surface portion toward the main planes on both sides ( C surface) is formed.

この磁気ディスク用ガラス基板2の内周側端面部分において、面取り部1b,1bの間の部分は、磁気ディスク用ガラス基板2の主平面に対して垂直面からなる円筒状の側面(T面)1aとなっている。前述の円孔1の内径とは、この側面1aの内径のことである。また、この磁気ディスク用ガラス基板2の外周側端面部分において、面取り部の間の部分は、磁気ディスク用ガラス基板2の主平面に対して垂直面からなる円筒状の側面(T面)となっている。前述の磁気ディスク用ガラス基板の直径とは、この側面の直径のことである。この磁気ディスク用ガラス基板は、端面部分の稜部が面取りされていることにより、破壊強度が高まる。なお、本発明についての説明においては、側面と面取り面とを合わせて、端面部分と言うこととする。   A portion between the chamfered portions 1b and 1b in the inner peripheral side end surface portion of the magnetic disk glass substrate 2 is a cylindrical side surface (T surface) formed of a plane perpendicular to the main plane of the magnetic disk glass substrate 2. 1a. The aforementioned inner diameter of the circular hole 1 is the inner diameter of the side surface 1a. Further, in the outer peripheral side end surface portion of the magnetic disk glass substrate 2, the portion between the chamfered portions is a cylindrical side surface (T surface) formed of a plane perpendicular to the main plane of the magnetic disk glass substrate 2. ing. The above-mentioned diameter of the glass substrate for a magnetic disk is the diameter of this side surface. In this glass substrate for magnetic disk, the crushing of the edge portion of the end face portion increases the breaking strength. In the description of the present invention, the side surface and the chamfered surface are collectively referred to as an end surface portion.

図3は、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の各工程を示す工程図である。   FIG. 3 is a process diagram showing each process of the method for manufacturing a magnetic disk glass substrate according to the present invention.

以下、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について、工程順に説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the glass substrate for magnetic disks which concerns on this invention is demonstrated in order of a process.

(1)円柱状ガラス母材を得る工程
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、図3に示すように、まず、円柱状ガラス母材3を所定の形状に成型して用意する。この円柱状ガラス母材3は、前述したように、アルミノシリケートガラスからなることが好ましい。この円柱状ガラス母材3は、製造する磁気ディスク用ガラス基板2の直径よりもやや大きな直径を有し、この磁気ディスク用ガラス基板2が多数枚積層された状態における厚さに相当する長さ、例えば、300mm乃至600mm程度の長さを有している。
(1) Step of obtaining cylindrical glass base material In the method for manufacturing a magnetic disk glass substrate according to the present invention, as shown in FIG. 3, first, a cylindrical glass base material 3 is formed into a predetermined shape and prepared. To do. As described above, the columnar glass base material 3 is preferably made of aluminosilicate glass. The cylindrical glass base material 3 has a diameter slightly larger than the diameter of the magnetic disk glass substrate 2 to be manufactured, and has a length corresponding to the thickness in a state where a large number of the magnetic disk glass substrates 2 are laminated. For example, it has a length of about 300 mm to 600 mm.

すなわち、「0.8インチ(inch)型磁気ディスク」(外径21.6mm)や「1.0インチ型磁気ディスク」(外径27.4mm)用の磁気ディスク用ガラス基板を作成する場合においては、この円柱状ガラス母材3の外形の平均値が30mm以下であることが望ましい。また、この場合には、この円柱状ガラス母材3の最大径は、30mm以下であることが望ましい。   That is, when a glass substrate for a magnetic disk for “0.8 inch type magnetic disk” (outer diameter 21.6 mm) or “1.0 inch type magnetic disk” (outer diameter 27.4 mm) is prepared. The average value of the outer shape of the cylindrical glass base material 3 is desirably 30 mm or less. In this case, the maximum diameter of the columnar glass base material 3 is desirably 30 mm or less.

そして、この円柱状ガラス母材3は、アニール処理により、内部応力を緩和しておくことが好ましい。   And it is preferable that this cylindrical glass preform | base_material 3 eases an internal stress by annealing treatment.

なお、この円柱状ガラス母材3には、後述する切断処理の前に、中心軸に沿って中心孔を穿設しておいてもよい。   The cylindrical glass base material 3 may be provided with a central hole along the central axis before a cutting process described later.

(2)円柱状ガラス母材の側面部を表面処理する工程
円柱状ガラス母材3の形状は、その中心軸に対して略垂直に切断処理したときに現れる円形状の切断面が、その最大径と最小径との差で表される真円度が200μm以下となるものであることが好ましい。さらに、この円形状の切断面の真円度が、50μm以下となるものであることがより好ましい。
(2) The step of surface-treating the side surface portion of the cylindrical glass base material The cylindrical glass base material 3 has a circular cut surface that appears when it is cut substantially perpendicularly to its central axis. The roundness represented by the difference between the diameter and the minimum diameter is preferably 200 μm or less. Furthermore, it is more preferable that the roundness of the circular cut surface is 50 μm or less.

真円度は、日本工業規格(JISB0021)においては、最大径部の半径と最小径部の半径との差で表すこととなっているが、本発明においては、便宜上、最大径(直径)と最小径(直径)との差を真円度としている。   In the Japanese Industrial Standard (JISB0021), the roundness is expressed by the difference between the radius of the maximum diameter portion and the radius of the minimum diameter portion. The difference from the minimum diameter (diameter) is the roundness.

なお、この円柱状ガラス母材3の形状は、側面部を研削、または、研磨加工することによって、切断処理したときに現れる円形状の切断面の真円度が200μm以下、または、50μm以下となるようにしておくことができる。   The cylindrical glass base material 3 has a roundness of 200 μm or less, or 50 μm or less when the circular cut surface appears when the side surface portion is cut or ground by grinding. Can be kept.

さらに、円柱状ガラス母材3は、最も太い部位における外径と、最も細い部位における外径との差、すなわち、円筒度が、0.5mm以下、さらに好ましくは0.3mm以下とされていることが望ましい。   Further, the columnar glass base material 3 has a difference between the outer diameter at the thickest part and the outer diameter at the thinnest part, that is, the cylindricity is 0.5 mm or less, more preferably 0.3 mm or less. It is desirable.

円筒度は、日本工業規格(JISB0021)においては、円筒における最大径部の半径と最小径部の半径との差で表すこととなっているが、本発明においては、便宜上、円筒における最も太い部位における外径(直径)と最も細い部位における外径(直径)との差を円筒度としている。   In the Japanese Industrial Standard (JISB0021), the cylindricity is expressed by the difference between the radius of the largest diameter portion and the radius of the smallest diameter portion in the cylinder. The difference between the outer diameter (diameter) and the outer diameter (diameter) at the narrowest part is defined as cylindricity.

この円柱状ガラス母材3の形状は、側面部を研削、または、研磨加工することによって、最も太い部位における外径と最も細い部位における外径との差を、0.5mm以下、あるいは、0.3mm以下とすることができる。   The cylindrical glass base material 3 has a shape in which the difference between the outer diameter at the thickest part and the outer diameter at the thinnest part is 0.5 mm or less, or 0 by grinding or polishing the side surface part. 3 mm or less.

この工程における外周の側面部の研削、または、研磨加工は、研磨剤を用いて、ブラシ等により研磨を行ってもよいが、円筒研削を行うことが望ましい。また、心無し研削加工(センタレス研磨法(Center-less Finishing))を行うようにしてもよい。この心無し研削加工は、図4に示すように、円柱状の被研磨物である円柱状ガラス母材3をセンタ穴で支持することなく、この円柱状ガラス母材3をその外周を基準としてブレード(支持刃)6及び調整ロール(調整車)7によって支持して、この円柱状ガラス母材3の外周面を円柱形の砥石8によって研磨する方法である。   In this step, grinding of the outer peripheral side surface or polishing may be performed with a brush or the like using an abrasive, but it is desirable to perform cylindrical grinding. Further, a centerless grinding process (center-less finishing method) may be performed. As shown in FIG. 4, the centerless grinding process is performed by using the cylindrical glass base material 3 as a reference on the outer periphery without supporting the cylindrical glass base material 3, which is a cylindrical workpiece, with a center hole. In this method, the cylindrical glass base material 3 is supported by a blade (supporting blade) 6 and an adjusting roll (adjusting wheel) 7 and the outer peripheral surface of the cylindrical glass base material 3 is polished by a cylindrical grindstone 8.

さらに、エッチング処理を行うことによって、円柱状ガラス母材3を上述した所定の形状に加工してもよい。   Furthermore, you may process the cylindrical glass preform | base_material 3 in the predetermined shape mentioned above by performing an etching process.

次に、円柱状ガラス母材3の外周の側面部(周面)を、表面処理して、砂目、または、梨地面とする。あるいは、この円柱状ガラス母材3の外周の側面部は、研削加工、または、研磨加工により、所定の面粗さの粗面としてもよい。また、この円柱状ガラス母材3の外周の側面部に対する表面処理としては、ブラスト処理を用いてもよい。   Next, the side surface part (circumferential surface) of the outer periphery of the columnar glass base material 3 is subjected to surface treatment to obtain a grained surface or a pear surface. Alternatively, the outer peripheral side surface of the columnar glass base material 3 may be a rough surface having a predetermined surface roughness by grinding or polishing. Moreover, as a surface treatment for the outer peripheral side surface portion of the cylindrical glass base material 3, a blast treatment may be used.

このブラスト処理は、円柱状ガラス母材3の外周の側面部に対して、珪砂等のような非金属粒や金属粒の如き各種粉体を高速度で噴きつけ、表面を粗化し、砂目加工、梨地加工やシボ加工を行う処理である。   This blast treatment is performed by spraying various powders such as non-metallic particles such as silica sand and metal particles at a high speed on the side surface of the outer periphery of the cylindrical glass base material 3 to roughen the surface, It is processing that performs processing, satin processing, and embossing.

これらの表面処理は、後述する切断処理が正確に行われるようにするためのものである。   These surface treatments are for the purpose of accurately performing a cutting process described later.

なお、この工程において、円柱状ガラス母材3に中心孔が穿設されている場合には、この中心孔の内周の側面部(周面)を研磨して鏡面加工する。   In this step, when the central hole is formed in the columnar glass base material 3, the inner peripheral side surface (circumferential surface) of the central hole is polished and mirror-finished.

また、この工程において、円柱状ガラス母材3の外周の側面部には、図5に示すように、磁気ディスク用ガラス基板となったときに外周の面取面となるV字状の溝4を周方向に沿って円環状に設けておいてもよい。   Further, in this step, as shown in FIG. 5, a V-shaped groove 4 which becomes a chamfered surface of the outer periphery when the glass substrate for a magnetic disk is formed on the side surface portion of the outer periphery of the cylindrical glass base material 3. May be provided in an annular shape along the circumferential direction.

(3)ガラス母材を切断処理(スライス)する工程
次に、円柱状ガラス母材3を、中心軸に対して垂直に切断処理することにより、磁気ディスク用ガラス基板の厚さよりもやや厚い厚さのガラスディスクを得る。このとき、1本の円柱状ガラス母材3から、多数のガラスディスクが得られる。
(3) Step of cutting (slicing) the glass base material Next, by cutting the cylindrical glass base material 3 perpendicularly to the central axis, the thickness is slightly thicker than the thickness of the magnetic disk glass substrate. Get a glass disk. At this time, a large number of glass disks are obtained from one cylindrical glass base material 3.

この工程における円柱状ガラス母材3の切断処理は、例えば、マルチワイヤソーを用いることによって行うことができる。マルチワイヤソーは、図6に示すように、複数個の多溝ローラを所定間隔で配置しこれら多溝ローラの各溝に無端ワイヤを多数巻き付けて走行させ、この無端ワイヤをガラス母材の側面に押し当てることにより、この円柱状ガラス母材3を切断する装置である。すなわち、円柱状ガラス母材3の側面部とワイヤソーとを当接させ、側面部とワイヤソーとを相対的に移動させることによって、円柱状ガラス母材3が切断処理される。   The cutting process of the columnar glass base material 3 in this step can be performed by using, for example, a multi-wire saw. As shown in FIG. 6, the multi-wire saw has a plurality of multi-groove rollers arranged at predetermined intervals, and a plurality of endless wires are wound around the grooves of the multi-groove rollers, and the endless wires are placed on the side surfaces of the glass base material. It is an apparatus which cut | disconnects this columnar glass base material 3 by pressing. That is, the cylindrical glass base material 3 is cut by bringing the side surface part of the cylindrical glass base material 3 into contact with the wire saw and relatively moving the side surface part and the wire saw.

この切断処理により、多数のガラスディスクが得られる。ここで、円柱状ガラス母材3の外周の側面部が砂目、または、梨地面、あるいは、所定の面粗さの粗面となされていることにより、ワイヤソーが円柱状ガラス母材3の側面部に対して横方向(円柱状ガラス母材3の軸方向)に滑ることが防止されるので、所定の厚さを有し、かつ、厚さの均一性が良好な多数のガラスディスクが得られる。また、円柱状ガラス母材3の形状が所定形状とされていることにより、主表面の真円度が良好であり、また、所定の外径を有し、かつ、外径の均一性が良好な多数のガラスディスクが得られる。   By this cutting process, a large number of glass disks are obtained. Here, the side surface of the outer periphery of the columnar glass base material 3 is made of grain, pear ground, or a rough surface with a predetermined surface roughness, so that the wire saw is a side surface of the columnar glass base material 3. Slipping in the lateral direction (the axial direction of the cylindrical glass base material 3) with respect to the portion is prevented, so that a large number of glass disks having a predetermined thickness and good thickness uniformity can be obtained. It is done. In addition, since the cylindrical glass base material 3 has a predetermined shape, the main surface has good roundness, has a predetermined outer diameter, and has good outer diameter uniformity. A large number of glass discs can be obtained.

また、ワイヤソーに代えて、円柱状ガラス母材3の側面部とマルチプレードソーとを当接させ、側面部とマルチブレードソーとを相対的に移動させることによって、円柱状ガラス母材3を切断処理するようにしてもよい。マルチプレードソーとは、互いに平行に設置された多数のプレードソーであって、これらプレードソーを円柱状ガラス母材3の側面に押し当てることにより、この円柱状ガラス母材3を切断する装置である。   Further, instead of the wire saw, the cylindrical glass base material 3 is cut by bringing the side surface portion of the cylindrical glass base material 3 into contact with the multi-plated saw and relatively moving the side surface portion and the multi-blade saw. You may make it process. The multi-ply saw is a large number of plaid saws installed in parallel to each other, and is a device that cuts the cylindrical glass base material 3 by pressing the plaid saw against the side surface of the cylindrical glass base material 3.

(4)ガラスディスクに中心孔を形成する工程
次に、このガラスディスクの中心軸にそって、所定の大きさの中心孔を形成する。この中心孔は、磁気ディスク用ガラス基板2における中心孔1となるものであり、磁気ディスク用ガラス基板2における中心孔1の内径よりもやや小径の内径の孔として形成する。
(4) Step of forming center hole in glass disk Next, a center hole having a predetermined size is formed along the center axis of the glass disk. This central hole is the central hole 1 in the magnetic disk glass substrate 2 and is formed as a hole having an inner diameter slightly smaller than the inner diameter of the central hole 1 in the magnetic disk glass substrate 2.

なお、上述したように、中心孔は、円柱状ガラス母材3を切断処理する前に形成しておいてもよい。この場合には、上述の切断処理は、中心孔が形成されて円筒状となされた円筒状ガラス母材に対して行われることとなる。   As described above, the center hole may be formed before the cylindrical glass base material 3 is cut. In this case, the above-described cutting process is performed on the cylindrical glass base material in which the center hole is formed to be cylindrical.

(5)形状加工工程、ラッピング工程
この工程では、円柱状ガラス母材3を切断処理することにより得られたガラスディスクの形状を整えるとともに、主表面をラッピング加工する。ラッピング加工では、両面ラッピング装置とアルミナ砥粒を用いて加工を行い、ガラスディスクの寸法精度と形状精度を所定のものとする。
(5) Shape processing step, lapping step In this step, the glass disk obtained by cutting the columnar glass base material 3 is trimmed and the main surface is lapped. In the lapping process, processing is performed using a double-sided lapping apparatus and alumina abrasive grains, and the dimensional accuracy and shape accuracy of the glass disk are set to predetermined values.

また、切断処理前の円柱状ガラス母材3の側面部にV字状の溝を設けない場合には、この工程において、ガラスディスクの外周側端面部分及ぴ内周側端面部分に面取り加工を施す。   Further, in the case where the V-shaped groove is not provided in the side surface portion of the columnar glass base material 3 before the cutting process, in this step, chamfering is performed on the outer peripheral side end surface portion and the inner peripheral side end surface portion of the glass disk. Apply.

(6)第1研磨工程
次に、主表面研磨工程として、第1研磨工程を施す。この第1研磨工程は、前述のラッピング工程で主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とする。この工程は、両面研磨装置と硬質樹脂ポリッシャとを用い、遊星歯車機構を用いて行うことができる。研磨剤としては酸化セリウム砥粒を用いることが好ましい。
(6) 1st grinding | polishing process Next, a 1st grinding | polishing process is given as a main surface grinding | polishing process. The first polishing process is mainly intended to remove scratches and distortions remaining on the main surface in the lapping process described above. This process can be performed using a planetary gear mechanism using a double-side polishing apparatus and a hard resin polisher. As the abrasive, cerium oxide abrasive grains are preferably used.

(7)第2研磨工程
次に、主表面の鏡面研磨工程として、第2研磨工程を施す。この第2研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。この工程は、両面研磨装置と軟質発泡樹脂ポリッシャを用い、遊星歯車機構を用いて行うことができる。研磨剤としては、第1研磨工程で用いる酸化セリウム砥粒に比ぺて微細な酸化セリウム砥粒を用いることが好ましい。
(7) Second Polishing Step Next, a second polishing step is performed as a mirror polishing step for the main surface. The purpose of this second polishing step is to finish the main surface into a mirror surface. This step can be performed using a planetary gear mechanism using a double-side polishing apparatus and a soft foam resin polisher. As the abrasive, it is preferable to use fine cerium oxide abrasive grains as compared with the cerium oxide abrasive grains used in the first polishing step.

(8)化学強化工程
次に、前述の研磨工程を終えたガラスディスクに化学強化を施す。化学強化は、例えば、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を380°C程度に加熱し、300°Cに予熱された洗浄済みのガラスディスクを所定時間浸漬して行う。
(8) Chemical strengthening process Next, the glass disk which finished the above-mentioned polishing process is chemically strengthened. For chemical strengthening, for example, a chemical strengthening solution prepared by mixing potassium nitrate (60%) and sodium nitrate (40%) is prepared, and this chemically strengthened solution is heated to about 380 ° C. and preheated to 300 ° C. The glass disk is immersed for a predetermined time.

このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラスディスクの表層のリチウムイオン、ナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオン、カリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラスディスクが強化される。   Thus, by immersing in the chemical strengthening solution, the lithium ions and sodium ions in the surface layer of the glass disk are replaced with sodium ions and potassium ions in the chemical strengthening solution, respectively, and the glass disk is strengthened.

(9)第1洗浄工程
化学強化処理を終えたガラスディスクを、40°C程度に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行い、さらに、硫酸洗浄を終えたガラスディスクを、純水、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄する。なお、各洗浄槽には、超音波を印加することが好ましい。
(9) 1st washing | cleaning process The glass disk which finished the chemical strengthening process is immersed in the concentrated sulfuric acid heated to about 40 degreeC, and is wash | cleaned, Furthermore, the glass disk which finished the sulfuric acid washing | cleaning is made into a pure water and a pure water. , IPA (isopropyl alcohol) and IPA (steam-dried) are sequentially immersed in each cleaning tank for cleaning. In addition, it is preferable to apply an ultrasonic wave to each washing tank.

(10)第2洗浄工程
第1洗浄工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、中性洗剤、純水、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄する。なお、各洗浄槽には、超音波を印加することが好ましい。このようにして、磁気ディスク用ガラス基板が得られる。
(10) Second cleaning step The glass substrate after the first cleaning step is sequentially immersed in each cleaning bath of neutral detergent, neutral detergent, pure water, pure water, IPA (isopropyl alcohol), and IPA (steam drying). And wash. In addition, it is preferable to apply an ultrasonic wave to each washing tank. In this way, a magnetic disk glass substrate is obtained.

(11)最終検査工程
最終検査工程として、前述の工程を経て得られた磁気ディスク用ガラス基板について、主表面及び内外周端面部分の表面粗さや、清浄度等の測定を行う。
(11) Final inspection step As the final inspection step, the surface roughness and cleanliness of the main surface and inner and outer peripheral end surfaces of the magnetic disk glass substrate obtained through the aforementioned steps are measured.

(12)磁気ディスクの製造工程
このようにして作製された磁気ディスク用ガラス基板を用いて、この磁気ディスク用ガラス基板の主表面部上に少なくとも磁性層を形成することにより、ヘッドクラッシュやサーマルアスペリティー障害の防止が図られた磁気ディスクを構成することができる。
(12) Magnetic Disk Manufacturing Process Using the magnetic disk glass substrate thus manufactured, at least a magnetic layer is formed on the main surface portion of the magnetic disk glass substrate, so that head crashes and thermal asperities are formed. It is possible to configure a magnetic disk in which the parity failure is prevented.

磁性層としては、高い異方性磁場(Hk)を備えるCo−Pt系合金磁性層が好ましい。また、磁気ディスク用ガラス基板と磁性層との間には、磁性層の結晶配向性やグレインの均一化、微細化を図る観点から、適宜下地層を形成するようにしてもよい。これら下地層及び磁性層の成膜方法としては、例えば、DCマグネトロンスパッタリング法を用いることができる。   As the magnetic layer, a Co—Pt alloy magnetic layer having a high anisotropic magnetic field (Hk) is preferable. In addition, an underlayer may be appropriately formed between the magnetic disk glass substrate and the magnetic layer from the viewpoint of achieving crystal orientation of the magnetic layer and making the grains uniform and fine. As a method for forming these underlayer and magnetic layer, for example, a DC magnetron sputtering method can be used.

また、磁性層上には、磁性層を保護するための保護層を設けることが好ましい。保護層の材料としては、炭素系保護層を挙げることができる。炭素系保護層としては水素化炭素、窒素化炭素を用いることができる。この保護層の形成には、プラズマCVD法、または、DCマグネトロンスパッタリング法を用いることができる。   Moreover, it is preferable to provide a protective layer for protecting the magnetic layer on the magnetic layer. Examples of the material for the protective layer include a carbon-based protective layer. As the carbon-based protective layer, hydrogenated carbon or nitrogenated carbon can be used. For the formation of this protective layer, plasma CVD or DC magnetron sputtering can be used.

さらに、保護層上には、磁気ヘッドからの衝撃を緩和するための潤滑層を形成することが好ましい。潤滑層としては、パーフルオロポリエーテル系潤滑層を挙げることができる。特に、保護層との親和性に優れる水酸基を具備するアルコール変性パーフルオロポリエーテル潤滑層が好ましい。この潤滑層は、ディップ法を用いて形成することができる。   Furthermore, it is preferable to form a lubricating layer for reducing the impact from the magnetic head on the protective layer. An example of the lubricating layer is a perfluoropolyether lubricating layer. In particular, an alcohol-modified perfluoropolyether lubricating layer having a hydroxyl group having excellent affinity with the protective layer is preferable. This lubricating layer can be formed using a dip method.

以下、本発明の実施例について、詳細に説明する。   Examples of the present invention will be described in detail below.

〔実施例1〕
この実施例1においては、以下の工程を経て磁気ディスク用ガラス基板を製造した。
[Example 1]
In Example 1, a magnetic disk glass substrate was manufactured through the following steps.

(1)円柱状ガラス母材を得る工程
この実施例においては、アルミノシリケートガラスからなる円柱状ガラス母材を用意した。
(1) Step of obtaining a columnar glass base material In this example, a columnar glass base material made of aluminosilicate glass was prepared.

この円柱状ガラス母材の大きさは、直径が28.7mm、長さが600mmであった。   The cylindrical glass base material had a diameter of 28.7 mm and a length of 600 mm.

(2)ガラス母材の内外周の側面を表面処理する工程
円柱状ガラス母材の側面部を円筒研削することによって、切断処理したときに現れる円形状の切断面の真円度が50μm以下となるようにした。また、円柱状ガラス母材3の最も太い部位における外径と最も細い部位における外径との差を、0.3mm以下とした。
(2) The step of surface-treating the inner and outer peripheral side surfaces of the glass base material By rounding the side surfaces of the cylindrical glass base material, the roundness of the circular cut surface that appears when the cut processing is performed is 50 μm or less. It was made to become. Further, the difference between the outer diameter at the thickest part and the outer diameter at the thinnest part of the cylindrical glass base material 3 was set to 0.3 mm or less.

そして、円柱状ガラス母材の外周の側面部を、表面処理して、梨地面とした。側面部の表面粗さは、Raで0.1μm乃至5μm及び/又はRmaxで1μm乃至50μmであることが確認された。   And the side part of the outer periphery of a columnar glass base material was surface-treated, and it was set as the pear ground. The surface roughness of the side surface portion was confirmed to be 0.1 μm to 5 μm in Ra and / or 1 μm to 50 μm in Rmax.

その後、円柱状ガラス母材の側面部の寸法測定を行ったところ、直径(外径)が27.4mmであった。   Then, when the dimension measurement of the side part of a cylindrical glass preform was performed, the diameter (outer diameter) was 27.4 mm.

(3)円柱状ガラス母材を切断処理(スライス)する工程
次に、円柱状ガラス母材を、中心軸に対して垂直に切断処理することにより、磁気ディスク用ガラス基板の厚さよりもやや厚い厚さ0.6mmのガラスディスクを得た。このとき、1本の円柱状ガラス母材から、多数のガラスディスクが得られた。
(3) Step of cutting (slicing) the cylindrical glass base material Next, the cylindrical glass base material is cut to be perpendicular to the central axis so that it is slightly thicker than the thickness of the magnetic disk glass substrate. A glass disk having a thickness of 0.6 mm was obtained. At this time, many glass disks were obtained from one cylindrical glass base material.

この工程における円柱状ガラス母材の切断処理は、マルチワイヤソーを用いることによって行った。このとき、得られた各ガラスディスクの板厚のばらつきは、30μm以下であった。   The cylindrical glass base material was cut in this step by using a multi-wire saw. At this time, the variation in the thickness of each glass disk obtained was 30 μm or less.

なお、この切断処理によって、ガラスディスクの主面部の表面粗さが十分に良好な面粗度とできる場合には、後述するラッピング工程を省略することができる。この場合には、切断処理により、磁気ディスク用ガラス基板の厚さに近い厚さ0.45mmのガラスディスクを得るようにする。   In addition, when the surface roughness of the main surface portion of the glass disk can be sufficiently good by this cutting treatment, a lapping step to be described later can be omitted. In this case, a glass disk having a thickness of 0.45 mm close to the thickness of the magnetic disk glass substrate is obtained by a cutting process.

(4)ガラス母材に中心孔を形成する工程
次に、ガラスディスクの中心軸に沿って、中心孔を形成した。この中心孔の内径は、5.9mmであった。
(4) Step of forming center hole in glass base material Next, a center hole was formed along the center axis of the glass disk. The inner diameter of this central hole was 5.9 mm.

(5)ラッピング工程
ここで、切断処理によって得られたガラスディスクの内径は5.9mm、外径は27.4mm、板厚は0.6mmであり、主表面部のラッピング加工及び研磨加工により、「1.0インチ型」磁気ディスク用ガラス基板の所定寸法となるガラスディスクとした。また、主表面の平坦度は10μm以下であることを確認した。
(5) Lapping step Here, the inner diameter of the glass disk obtained by the cutting process is 5.9 mm, the outer diameter is 27.4 mm, and the plate thickness is 0.6 mm. By lapping and polishing of the main surface portion, A glass disk having a predetermined dimension of a “1.0 inch type” magnetic disk glass substrate was used. Further, it was confirmed that the flatness of the main surface was 10 μm or less.

さらに、面取加工を行い、面取面の幅が0.21mm、面取面の主表面部に対する角度が45°であることを確認した。   Further, chamfering was performed, and it was confirmed that the width of the chamfered surface was 0.21 mm and the angle of the chamfered surface with respect to the main surface portion was 45 °.

そして、このガラスディスクの主表面をラッピング加工した。ラッピング加工では両面ラッピング装置とアルミナ砥粒を用いて加工を行い、ガラス基板の寸法精度と形状精度を所定とする。得られたガラスディスクの内径は7mm、外径は27.4mm、板厚は0.45mmであり、主表面部の研磨加工後に、「1.0インチ型」磁気ディスク用ガラス基板の所定寸法となるガラスディスクであることを確認した。   And the main surface of this glass disk was lapped. In the lapping process, processing is performed using a double-sided lapping apparatus and alumina abrasive grains, and the dimensional accuracy and shape accuracy of the glass substrate are set to be predetermined. The obtained glass disk has an inner diameter of 7 mm, an outer diameter of 27.4 mm, and a plate thickness of 0.45 mm. After polishing the main surface portion, the predetermined dimensions of the “1.0 inch type” magnetic disk glass substrate It was confirmed that this was a glass disk.

ガラスディスクの表面の面形状を観察したところ、主表面の平坦度は3μm以下であることを確認した。主表面の表面粗さはRmaxで2μm、Raで0.3μm程度であった。   When the surface shape of the surface of the glass disk was observed, it was confirmed that the flatness of the main surface was 3 μm or less. The surface roughness of the main surface was about 2 μm for Rmax and about 0.3 μm for Ra.

(6)第1研磨工程
次に、主表面研磨工程として、第1研磨工程を施した。この第1研磨工程は、前述のラッピング工程で主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とする。両面研磨装置と硬質樹脂ポリッシャとを用い、遊星歯車機構を用いて主表面研磨を行った。研磨剤としては酸化セリウム砥粒を用いた。
(6) 1st grinding | polishing process Next, the 1st grinding | polishing process was performed as a main surface grinding | polishing process. The first polishing process is mainly intended to remove scratches and distortions remaining on the main surface in the lapping process described above. Main surface polishing was performed using a planetary gear mechanism using a double-side polishing machine and a hard resin polisher. A cerium oxide abrasive was used as the abrasive.

(7)第2研磨工程
次に、主表面の鏡面研磨工程として、第2研磨工程を施した。この第2研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。両面研磨装置と軟質発泡樹脂ポリッシャを用い、遊星歯車機構を用いて主表面の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第1研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒に比ぺて微細な酸化セリウム砥粒を用いた。
(7) Second Polishing Step Next, a second polishing step was performed as a mirror polishing step for the main surface. The purpose of this second polishing step is to finish the main surface into a mirror surface. Mirror polishing of the main surface was performed using a planetary gear mechanism using a double-side polishing machine and a soft foam resin polisher. As the polishing agent, fine cerium oxide abrasive grains were used as compared with the cerium oxide abrasive grains used in the first polishing step.

得られたガラスディスクの板厚は0.381mmであった。   The plate thickness of the obtained glass disk was 0.381 mm.

(8)化学強化工程
次に、前述の研磨工程を終えたガラスディスクに化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を380°Cに加熱し、300°Cに予熱された洗浄済みのガラスディスクを所定時間浸漬して行った。ここで、化学強化条件については、処理温度を380°Cの一定温度とし、所定の処理時間に亘って処理した。
(8) Chemical strengthening process Next, the glass disk which finished the above-mentioned grinding | polishing process was chemically strengthened. For chemical strengthening, a chemically strengthened solution prepared by mixing potassium nitrate (60%) and sodium nitrate (40%) is prepared, and this chemically strengthened solution is heated to 380 ° C. and preheated to 300 ° C. Was immersed for a predetermined time. Here, regarding the chemical strengthening conditions, the treatment temperature was set to a constant temperature of 380 ° C., and the treatment was performed for a predetermined treatment time.

このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラスディスクの表層のリチウムイオン、ナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオン、カリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラスディスクが強化される。なお、ガラスディスクの表層に形成された圧縮応力層の厚さは、処理時間が長いほど厚くなる。   Thus, by immersing in the chemical strengthening solution, the lithium ions and sodium ions in the surface layer of the glass disk are replaced with sodium ions and potassium ions in the chemical strengthening solution, respectively, and the glass disk is strengthened. Note that the thickness of the compressive stress layer formed on the surface layer of the glass disk increases as the processing time increases.

化学強化を終えたガラス母材を、20°Cの水槽に浸漬して急冷し、約10分間維持した。   The glass base material that had been subjected to chemical strengthening was immersed in a 20 ° C. water bath for rapid cooling and maintained for about 10 minutes.

(9)第1洗浄工程
急冷を終えたガラスディスクを、約40°Cに加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラスディスクを、純水、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。
(9) 1st washing | cleaning process It wash | cleaned by immersing the glass disk which finished quenching in the concentrated sulfuric acid heated to about 40 degreeC. Furthermore, the glass disk which finished the sulfuric acid cleaning was immersed in each cleaning tank of pure water, pure water, IPA (isopropyl alcohol), and IPA (steam drying) in order and cleaned. In addition, ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.

(10)第2洗浄工程
第1洗浄工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、中性洗剤、純水、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。
(10) Second cleaning step The glass substrate after the first cleaning step is sequentially immersed in each cleaning bath of neutral detergent, neutral detergent, pure water, pure water, IPA (isopropyl alcohol), and IPA (steam drying). And washed. In addition, ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.

(11)最終検査工程
前述の工程を経て得られた磁気ディスク用ガラス基板の内周側端面部分の表面粗さは、面取面(C面)、円筒面(T面)ともに、Rmaxで0.4μm、Raで0.02μmであった。
(11) Final Inspection Step The surface roughness of the inner peripheral side end face portion of the magnetic disk glass substrate obtained through the above-described steps is 0 at Rmax for both the chamfered surface (C surface) and the cylindrical surface (T surface). 0.4 μm and Ra was 0.02 μm.

外周側端面部分の表面粗さも、面取面(C面)、円筒面(T面)ともに、Rmaxで0.4μm、Raで0.02μmであった。各端面部分は、鏡面状に仕上がっていた。   The surface roughness of the outer peripheral side end face portion was 0.4 μm in Rmax and 0.02 μm in Ra for both the chamfered surface (C surface) and the cylindrical surface (T surface). Each end face portion was finished in a mirror shape.

表面粗さの測定は、原子間力顕微鏡によって行い、数値の算出は、日本工業規格(JIS)B0601に拠った。また、鏡面状態の確認は、電子顕微鏡による観察、光学顕微鏡による観察の双方で行った。   The surface roughness was measured with an atomic force microscope, and the numerical values were calculated in accordance with Japanese Industrial Standard (JIS) B0601. Also, the mirror surface state was confirmed by both observation with an electron microscope and observation with an optical microscope.

また、得られた磁気ディスク用ガラス基板について、エアブラウン社製「AVEX-SM-110-MP」を用いた「Dana衝撃試験法」を行った。この衝撃試験は、磁気ディスク用ガラス基板を専用の衝撃試験用冶具に組み付け、正弦半波パルスの衝撃を、1000G乃至5000Gまで主表面に対する垂直方向に順次与え、この磁気ディスク用ガラス基板の破損状況を見ることによって行った。この結果、得られた磁気ディスク用ガラス基板は、3000Gの衝撃に耐えることが確認された。   The obtained glass substrate for magnetic disk was subjected to “Dana impact test method” using “AVEX-SM-110-MP” manufactured by Air Brown. In this impact test, a magnetic disk glass substrate is assembled into a dedicated impact test jig, and a sine half-wave pulse impact is sequentially applied in a direction perpendicular to the main surface from 1000 G to 5000 G. Went by seeing. As a result, it was confirmed that the obtained glass substrate for magnetic disk withstands an impact of 3000 G.

なお、3000Gの衝撃に耐える条件で作製したガラス基板を用いた磁気ディスクを装着したハードディスクドライブ(HDD)においては、落下テスト(2000G)を行っても、磁気ディスクに全く割れが発生しないことが確認されている。   In addition, in a hard disk drive (HDD) equipped with a magnetic disk using a glass substrate manufactured under conditions that can withstand an impact of 3000 G, it was confirmed that no cracks would occur in the magnetic disk even after a drop test (2000 G). Has been.

〔実施例2〕
この実施例2では、前述の実施例1において作製された磁気ディスク用ガラス基板を用いて、以下の工程により、磁気ディスクを製造した。
[Example 2]
In Example 2, a magnetic disk was manufactured by the following process using the glass substrate for magnetic disk prepared in Example 1 described above.

前述の磁気ディスク用ガラス基板の両主表面に、静止対向型のDCマグネトロンスパッタリング装置を用いて、Ni−Ta合金第1下地層、Ru第2下地層、Co−Cr−Pt−B合金磁性層、水素化炭素保護層を順次成膜した。次に、アルコール変性パーフロロポリエーテル潤滑層をディップ法で成膜した。このようにして、垂直磁気記録方式用の磁気ディスクを得た。   A Ni-Ta alloy first underlayer, a Ru second underlayer, and a Co-Cr-Pt-B alloy magnetic layer are formed on both main surfaces of the above-described magnetic disk glass substrate by using a stationary opposed DC magnetron sputtering apparatus. Then, a hydrogenated carbon protective layer was sequentially formed. Next, an alcohol-modified perfluoropolyether lubricating layer was formed by a dip method. In this way, a magnetic disk for the perpendicular magnetic recording system was obtained.

得られた磁気ディスクについて、異物により磁性層等の膜に欠陥が発生していないことを確認した。また、グライドテストを実施したところ、ヒット(ヘッドが磁気ディスク表面の突起にかすること)やクラッシュ(ヘッドが磁気ディスク表面の突起に衝突すること)は認められなかった。さらに、磁気抵抗型ヘッドで再生試験を行ったところ、サーマルアスペリティ障害による再生の誤動作は認められなかった。   About the obtained magnetic disk, it confirmed that the defect did not generate | occur | produce in films | membranes, such as a magnetic layer, by the foreign material. In addition, when the glide test was performed, no hit (the head bited against the protrusion on the surface of the magnetic disk) or crash (the head collided with the protrusion on the surface of the magnetic disk) was not recognized. Furthermore, when a reproduction test was conducted with a magnetoresistive head, no malfunction of reproduction due to thermal asperity failure was found.

なお、以上の試験は1平方インチ当たりの情報記録密度が40ギガビット相当の磁気ディスク用の試験方法として行った。具体的には磁気ヘッドの浮上量は10nmとし、記録再生試験では情報線記録密度を700fciとした。   The above test was performed as a test method for a magnetic disk having an information recording density per square inch equivalent to 40 gigabits. Specifically, the flying height of the magnetic head was 10 nm, and in the recording / reproducing test, the information line recording density was 700 fci.

すなわち、本発明による磁気ディスクにおいては、ガラス基板表面の異物による問題が回避できており、磁気抵抗型ヘッドにとって良好な磁気ディスクとして作製されていることがわかった。   That is, it was found that the magnetic disk according to the present invention was able to avoid the problem due to foreign matter on the surface of the glass substrate and was produced as a good magnetic disk for the magnetoresistive head.

本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造される磁気ディスク用ガラス基板の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the glass substrate for magnetic discs manufactured by the manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs which concerns on this invention. 前記磁気ディスク用ガラス基板の円孔の内周側端面の形状を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the shape of the inner peripheral side end surface of the circular hole of the said glass substrate for magnetic discs. 本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の各工程を示す工程図である。It is process drawing which shows each process of the manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs which concerns on this invention. 本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、円柱状ガラス母材の側面部に対して心無し研削加工を行っている状態を示す斜視図である。In the manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs which concerns on this invention, it is a perspective view which shows the state which is performing the centerless grinding process with respect to the side part of a cylindrical glass base material. 本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、円柱状ガラス母材の側面部に設けられた溝の形状を示す断面図である。In the manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs concerning this invention, it is sectional drawing which shows the shape of the groove | channel provided in the side part of the columnar glass base material. 本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、マルチワイヤソーによって円柱状ガラス母材を切断処理している状態を示す斜視図である。In the manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs which concerns on this invention, it is a perspective view which shows the state which has cut | disconnected the cylindrical glass base material with the multi-wire saw.

符号の説明Explanation of symbols

1 円孔
2 磁気ディスク用ガラス基板
3 ガラス母材
1 circular hole 2 glass substrate for magnetic disk 3 glass base material

Claims (8)

円柱状または円筒状ガラス母材を、その中心軸に対して垂直に切断処理してガラスディスクを作製する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記円柱状または円筒状ガラス母材は、最も太い部位における外径と、最も細い部位における外径との差が、0.5mm以下とされている
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
A method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, including a step of cutting a columnar or cylindrical glass base material perpendicularly to its central axis to produce a glass disk,
The columnar or cylindrical glass base material has a difference between the outer diameter of the thickest part and the outer diameter of the thinnest part of 0.5 mm or less. Method.
請求項1に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記円柱状または円筒状ガラス母材は、最も太い部位における外径と、最も細い部位における外径との差が、0.3mm以下とされている
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
It is a manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs of Claim 1, Comprising:
The columnar or cylindrical glass base material has a difference between an outer diameter of the thickest part and an outer diameter of the thinnest part of 0.3 mm or less. Method.
請求項1、または、請求項2記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記円柱状または円筒状ガラス母材は、外径の平均値が、30mm以下である
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
A method for producing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 1 or claim 2,
The columnar or cylindrical glass base material has an average outer diameter of 30 mm or less. A method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, wherein:
円柱状または円筒状ガラス母材を、その中心軸に対して垂直に切断処理してガラスディスクを作製する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記円柱状または円筒状ガラス母材の側面部を、研削、または、研磨加工することにより、この円柱状または円筒状ガラス母材の最も太い部位における外径と最も細い部位における外径との差を0.5mm以下とした後に、前記切断処理を行う
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
A method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, including a step of cutting a columnar or cylindrical glass base material perpendicularly to its central axis to produce a glass disk,
By grinding or polishing the side surface of the columnar or cylindrical glass base material, the difference between the outer diameter at the thickest part and the outer diameter at the thinnest part of the columnar or cylindrical glass base material The method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk is characterized in that the cutting process is performed after setting the thickness to 0.5 mm or less.
請求項1乃至請求項4のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記円柱状または円筒状ガラス母材の側面部とワイヤソーとを当接させ、該側面部と該ワイヤソーとを相対的に移動させて該円柱状または円筒状ガラス母材を切断処理して、前記ガラスディスクを作成する
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
It is a manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs as described in any one of Claims 1 thru | or 4, Comprising:
The side surface portion of the columnar or cylindrical glass base material is brought into contact with the wire saw, the side surface portion and the wire saw are moved relative to each other to cut the columnar or cylindrical glass base material, A method for producing a glass substrate for a magnetic disk, comprising producing a glass disk.
請求項1乃至請求項4のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記円柱状または円筒状ガラス母材の側面部とプレードソーとを当接させ、該側面部と該ブレードソーとを相対的に移動させて該円柱状または円筒状ガラス母材を切断処理して、前記ガラスディスクを作成する
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
It is a manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs as described in any one of Claims 1 thru | or 4, Comprising:
The side surface portion of the columnar or cylindrical glass base material and a blade saw are brought into contact with each other, and the side surface portion and the blade saw are relatively moved to cut the columnar or cylindrical glass base material, A method for producing a glass substrate for a magnetic disk, comprising producing the glass disk.
請求項1乃至請求項6のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記円柱状または円筒状ガラス母材をアニール処理して内部応力を緩和した後に、該円柱状または円筒状ガラス母材を切断処理してガラスディスクを作成する
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
It is a manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs as described in any one of Claims 1 thru | or 6, Comprising:
A glass substrate for a magnetic disk, wherein the columnar or cylindrical glass base material is annealed to relieve internal stress, and then the cylindrical or cylindrical glass base material is cut to form a glass disk. Manufacturing method.
請求項1乃至請求項7のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造されたガラス基板上に、少なくとも記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。   A method for manufacturing a magnetic disk, comprising forming at least a recording layer on a glass substrate manufactured by the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 1.
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