JP2006330059A - Liquid crystal device, manufacturing method for liquid crystal device, and electronic equipment - Google Patents

Liquid crystal device, manufacturing method for liquid crystal device, and electronic equipment Download PDF

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惠萍 張
Ryuichi Kurosawa
龍一 黒沢
Hidenobu Ota
英伸 太田
Tomoko Sasabayashi
朋子 笹林
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device capable of preventing moisture absorption and water entry. <P>SOLUTION: The liquid crystal device 100 according to the present invention is constituted by holding liquid crystal 50 between a pair of mutually opposite substrates 10 and 20, and has a plurality of films, including conductive films 9 and 21 and alignment layers 40 and 60, formed on an internal surface side of at least one substrate and a water-repellent film 90, covering a flank of at least one of the substrates 10 and 20 and flanks of the plurality of films 9, 21, 40, and 60 continuously, formed on the flank of the substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器に関する。   The present invention relates to a liquid crystal device, a method for manufacturing a liquid crystal device, and an electronic apparatus.

液晶プロジェクタ等に搭載される光変調手段や、携帯電話等に搭載される直視型表示装置として用いられる液晶装置は、液晶層に電圧を印加するための電極を具備する一対の基板を主体として構成されている。液晶装置を構成する一対の基板の各内面側には、導電膜(画素電極、対向電極等)や、液晶分子の初期配向状態を制御するための配向膜が形成されている。   A liquid crystal device used as a light modulation means mounted on a liquid crystal projector or the like or a direct-view display device mounted on a mobile phone or the like mainly includes a pair of substrates having electrodes for applying a voltage to a liquid crystal layer. Has been. A conductive film (pixel electrode, counter electrode, etc.) and an alignment film for controlling the initial alignment state of liquid crystal molecules are formed on each inner surface side of the pair of substrates constituting the liquid crystal device.

液晶装置では、吸湿及び水分の浸入は、品質低下の原因となることから、配向膜の表面に撥水処理を施したり、配向膜の表面に撥水性を有する膜を形成する技術がある。
特開2002−202509号公報
In a liquid crystal device, moisture absorption and moisture intrusion cause deterioration in quality. Therefore, there are techniques for performing a water repellent treatment on the surface of the alignment film or forming a film having water repellency on the surface of the alignment film.
JP 2002-202509 A

配向膜の表面に撥水膜を形成する技術では、撥水膜の膜厚不均一性に伴って液晶素子のプレチルトに乱れが生じたり、撥水膜との接触によって液晶層内で気泡の発生などの不具合をまねく場合がある。   In the technology of forming a water repellent film on the surface of the alignment film, the pretilt of the liquid crystal element is disturbed due to the non-uniformity of the water repellent film, or bubbles are generated in the liquid crystal layer due to contact with the water repellent film. May lead to problems such as.

また、一対の基板を貼り合わせるためのシール材の硬化に用いられる光や熱によって配向膜の撥水性が低下する場合がある。   In addition, the water repellency of the alignment film may be reduced by light or heat used for curing the sealing material for bonding the pair of substrates.

さらに、一対の基板には通常、複数の膜が形成されることから、配向膜の表面に撥水処理を施しても、配向膜の側面や他の膜の側面から吸湿が生じたり、それら複数の膜同士の接合部分から内部に水が侵入する場合がある。   Further, since a plurality of films are usually formed on a pair of substrates, even if the surface of the alignment film is subjected to water repellent treatment, moisture absorption occurs from the side surfaces of the alignment film and other film surfaces. Water may intrude into the inside from the joint between the two films.

本発明は、吸湿や水分浸入を防止することができる液晶装置を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a liquid crystal device capable of preventing moisture absorption and moisture intrusion.

本発明の液晶装置は、互いに対向する一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶装置であって、前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板の内面側には、導電膜と配向膜とを含む複数の膜が形成されており、前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板の側面には、該基板の側面と前記複数の膜の側面とを連続的に覆う撥水膜が形成されていることを特徴とする。   The liquid crystal device of the present invention is a liquid crystal device in which liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates facing each other, and a conductive film and an alignment film are disposed on the inner surface side of at least one of the pair of substrates. And a water repellent film that continuously covers a side surface of the substrate and a side surface of the plurality of films is formed on a side surface of at least one of the pair of substrates. It is characterized by.

上記の本発明の液晶装置によれば、撥水膜によって基板上の複数の膜の側面からの吸湿が防止され、さらに、基板と複数の膜のいずれかとの接合部分、及び複数の膜同士の接合部分が撥水膜に覆われることから、それらの接合部分から内部への水分の浸入が防止される。
また、この液晶装置によれば、配向膜の表面に対する撥水処理を省くことが可能となり、配向膜の表面に撥水膜を形成することによって生じる液晶素子への影響(例えばプレチルトの乱れ、気泡の発生など)が回避される。
さらに、一対の基板を貼り合わせた後に、撥水膜が形成されることから、シール材の硬化時の光や熱によってその膜の撥水性が低下することが回避される。
According to the above-described liquid crystal device of the present invention, moisture absorption from the side surfaces of the plurality of films on the substrate is prevented by the water repellent film, and further, the bonding portion between the substrate and any of the plurality of films, and the plurality of films Since the joint portion is covered with the water-repellent film, moisture can be prevented from entering the inside from the joint portion.
Further, according to this liquid crystal device, it is possible to omit the water repellent treatment on the surface of the alignment film, and the influence on the liquid crystal element caused by forming the water repellent film on the surface of the alignment film (for example, disorder of pretilt, bubble Etc.) is avoided.
Furthermore, since the water-repellent film is formed after the pair of substrates are bonded together, it is possible to prevent the water repellency of the film from being lowered by light or heat when the sealing material is cured.

先に記載の本発明の液晶装置において、前記一対の基板間にはシール材が配設されており、前記撥水膜はさらに、前記シール材の側面を覆っている構成とすることができる。
この構成によれば、シール材の吸湿、並びにシール材と他の膜との接合部分からの水分の侵入が防止される。
In the liquid crystal device of the present invention described above, a sealing material may be provided between the pair of substrates, and the water-repellent film may further cover a side surface of the sealing material.
According to this configuration, moisture absorption of the sealing material and intrusion of moisture from the joint portion between the sealing material and another film are prevented.

また、先に記載の本発明の液晶装置において、前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板の外面側には、偏光板と防塵板とが配設されており、前記撥水膜はさらに、前記偏光板及び前記防塵板の各側面を覆っている構成とすることができる。
この構成によれば、基板と偏光板又は防塵板との接合部分、及び偏光板と防塵板との接合部分からの水分の浸入が防止される。
Further, in the liquid crystal device of the present invention described above, a polarizing plate and a dustproof plate are disposed on the outer surface side of at least one of the pair of substrates, and the water repellent film further includes: It can be set as the structure which covers each side surface of the said polarizing plate and the said dustproof board.
According to this configuration, moisture can be prevented from entering from the bonding portion between the substrate and the polarizing plate or the dustproof plate, and the bonding portion between the polarizing plate and the dustproof plate.

本発明の液晶装置の製造方法は、複数の膜がそれぞれ形成された一対の基板を貼り合わせる工程と、前記一対の基板間に液晶を配置する工程と、前記液晶を挟持した一対の基板の側面に、該基板の側面と前記複数の膜の側面とを連続的に覆う撥水膜を形成する工程とを含むことを特徴とする。   The method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention includes a step of bonding a pair of substrates each having a plurality of films formed thereon, a step of disposing a liquid crystal between the pair of substrates, and a side surface of the pair of substrates sandwiching the liquid crystal And a step of forming a water repellent film continuously covering the side surface of the substrate and the side surfaces of the plurality of films.

上記の本発明の製造方法によれば、一対の基板を貼り合わせた後に、それらの基板の側面全体を撥水膜で覆うことから、撥水性に優れた先に記載の本発明の液晶装置を製造することができる。   According to the manufacturing method of the present invention described above, the liquid crystal device of the present invention having excellent water repellency is provided since the entire side surface of the substrates is covered with the water repellent film after the pair of substrates are bonded together. Can be manufactured.

先に記載の本発明の液晶装置の製造方法において、前記撥水膜の形成材料が、有機撥水材料及び/又は無機撥水材料である方法を採用することができる。   In the liquid crystal device manufacturing method of the present invention described above, a method in which the water repellent film forming material is an organic water repellent material and / or an inorganic water repellent material can be employed.

また、液相法及び/又は気相法を用いて前記撥水膜を形成する方法を採用することができる。   Moreover, the method of forming the said water-repellent film using a liquid phase method and / or a gaseous-phase method is employable.

また、先に記載の本発明の液晶装置の製造方法において、前記撥水膜の形成工程における前記液晶装置に加わる熱を用いて前記液晶の等方処理を行う方法を採用することができる。   Moreover, in the manufacturing method of the liquid crystal device of the present invention described above, a method of performing an isotropic treatment of the liquid crystal using heat applied to the liquid crystal device in the water-repellent film forming step can be employed.

本発明の電子機器は、先に記載の本発明の液晶装置を備えることを特徴とする。
この本発明の電子機器によれば、表示品質の向上が図られる。
An electronic apparatus of the present invention includes the liquid crystal device of the present invention described above.
According to the electronic apparatus of the present invention, display quality can be improved.

(液晶装置)
図1は、本発明の液晶装置の一例としての液晶セルを示す模式断面図である。
図1に示すように、液晶セル100は、互いに対向する一対の基板10,20間に、液晶50(液晶層)を挟持した構成を有している。基板10の内面側(対向面側)には、透光性導電膜9(画素電極)と、配向膜40とが順次配設されている。一方、基板20の内面側(対向面側)には、透光性導電膜21(共通電極、対向電極)と、配向膜60とが順次形成されている。
(Liquid crystal device)
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a liquid crystal cell as an example of the liquid crystal device of the present invention.
As shown in FIG. 1, the liquid crystal cell 100 has a configuration in which a liquid crystal 50 (liquid crystal layer) is sandwiched between a pair of substrates 10 and 20 facing each other. A translucent conductive film 9 (pixel electrode) and an alignment film 40 are sequentially disposed on the inner surface side (opposing surface side) of the substrate 10. On the other hand, a translucent conductive film 21 (common electrode, counter electrode) and an alignment film 60 are sequentially formed on the inner surface side (opposing surface side) of the substrate 20.

基板10と基板20とはシール材52によって貼り合わされ、このシール材52によって区画された領域内に液晶50が封入・保持されている。例えば、シール材52には、基板10と基板20とを貼り合わせた後に液晶を注入するための液晶注入口が形成されている。   The substrate 10 and the substrate 20 are bonded together by a sealing material 52, and the liquid crystal 50 is sealed and held in a region partitioned by the sealing material 52. For example, the sealing material 52 is provided with a liquid crystal injection port for injecting liquid crystal after the substrate 10 and the substrate 20 are bonded together.

導電膜9,21としては、例えば、錫をドープした酸化インジウム膜(ITO膜)が用いられる。この他、IZO膜、FTO膜等の透光性と導電性を有する公知の様々な導電膜が適用可能である。また、透光性を必要としない場合には、優れた導電性を有する公知の様々な導電膜が適用可能である。ITO膜は、蒸着法やスパッタ法、焼成法(塗布熱分解法とも言う)等により形成することができる。   As the conductive films 9 and 21, for example, an indium oxide film (ITO film) doped with tin is used. In addition, various known conductive films having translucency and conductivity, such as an IZO film and an FTO film, can be applied. In the case where translucency is not required, various known conductive films having excellent conductivity can be applied. The ITO film can be formed by an evaporation method, a sputtering method, a baking method (also referred to as a coating pyrolysis method), or the like.

スパッタ法を用いてITO膜を形成するには、基板表面温度を所定温度(例えば、200℃)に設定して酸化インジウムと酸化スズからなるITO透明導電膜を所定の膜厚(例えば、0.05μm〜10μm)に成膜し、所定の温度(例えば、200℃〜250℃)に一定時間(例えば、60分)保持して熱処理を行う。その後、必要に応じて、フォトリソグラフィ法により所望の平面形状にパターニングする。   In order to form an ITO film by using the sputtering method, an ITO transparent conductive film made of indium oxide and tin oxide is set to a predetermined film thickness (for example, 0.8 mm) by setting the substrate surface temperature to a predetermined temperature (for example, 200 ° C.). A film is formed to a thickness of 05 μm to 10 μm, and heat treatment is performed while maintaining a predetermined temperature (for example, 200 ° C. to 250 ° C.) for a certain time (for example, 60 minutes). Thereafter, patterning is performed in a desired planar shape by photolithography as necessary.

焼成法を用いてITO膜を形成するには、ITO膜の液体材料を基板上に配置し、その膜を熱処理する。液相法を用いた導電膜の形成は、製造コスト低減に有利である。液体材料の配置技術としては、インクジェット法、Capコート法、スピンコート法等を用いることができる。上記液体材料として、インジウムの有機化合物及び錫の有機化合物を有機アミンの存在下に溶解した有機溶媒を用いることにより、比較的低温(例えば250℃以下)での焼成が可能となる。また、透光性の導電性微粒子を含む微粒子膜を基板上に形成した後に、その微粒子膜上に透光性の導電性微粒子を溶解した有機溶媒を染み込ませ、その後にその膜を熱処理(焼成)することにより、焼成温度が比較的低温(例えば250℃以下)であっても導電性に優れた透光性導電膜を得ることができる。   In order to form the ITO film using the firing method, a liquid material of the ITO film is placed on the substrate, and the film is heat-treated. Formation of a conductive film using a liquid phase method is advantageous in reducing manufacturing costs. As an arrangement technique of the liquid material, an inkjet method, a Cap coating method, a spin coating method, or the like can be used. By using an organic solvent in which an organic compound of indium and an organic compound of tin are dissolved in the presence of an organic amine as the liquid material, firing at a relatively low temperature (for example, 250 ° C. or less) becomes possible. Further, after a fine particle film containing light-transmitting conductive fine particles is formed on a substrate, an organic solvent in which the light-transmitting conductive fine particles are dissolved is infiltrated into the fine particle film, and then the film is subjected to heat treatment (firing). ), A light-transmitting conductive film having excellent conductivity can be obtained even when the firing temperature is relatively low (for example, 250 ° C. or lower).

配向膜40,60としては、有機配向膜、及び無機配向膜のいずれも適用可能である。有機配向膜は、例えば、ポリイミドなどの高分子膜の表面にラビング等の配向処理を施すことにより形成することができる。無機配向膜は、有機配向膜に比べて耐光性や耐熱性が高く、SiO2のような無機膜を蒸着法あるいはスパッタ法を用いて形成した後にイオンビームや粒子ビームを無機膜表面に照射して配向処理を施すことにより形成することができる。あるいは、無機配向膜は、基板に対して斜めに無機材料を入射させて斜方柱状構造を有する膜を形成する、いわゆる斜方蒸着法によっても形成することができる。   As the alignment films 40 and 60, either an organic alignment film or an inorganic alignment film can be applied. The organic alignment film can be formed, for example, by performing an alignment process such as rubbing on the surface of a polymer film such as polyimide. The inorganic alignment film has higher light resistance and heat resistance than the organic alignment film. After forming an inorganic film such as SiO2 by vapor deposition or sputtering, the surface of the inorganic film is irradiated with an ion beam or particle beam. It can be formed by performing an alignment treatment. Alternatively, the inorganic alignment film can be formed by a so-called oblique vapor deposition method in which an inorganic material is incident on the substrate obliquely to form a film having an oblique columnar structure.

ここで、本例の液晶セル100の側面には、撥水膜90が形成されている。すなわち、撥水膜90は、基板10,20、導電膜9,21、配向膜40,60、及びシール材52の各側面(端面)を連続的にかつ全周にわたって覆うように配設されている。撥水膜90は、水に対して非親和性を示す機能と、水の通過を遮蔽する機能とを有する。そして、本例の液晶セル100では、撥水膜90によって導電膜9,21、配向膜40,60、及びシール材52の各側面からの吸湿が防止され、さらに、基板10,20と導電膜9,21との接合部分、導電膜9,21と配向膜40,60との接合部分、及び配向膜40,60とシール材52との接合部分がそれぞれ、撥水膜90に覆われることから、それらの接合部分から装置内部への水分の浸入が防止される。   Here, a water repellent film 90 is formed on the side surface of the liquid crystal cell 100 of this example. That is, the water-repellent film 90 is disposed so as to cover each side surface (end surface) of the substrates 10 and 20, the conductive films 9 and 21, the alignment films 40 and 60, and the sealing material 52 continuously and over the entire circumference. Yes. The water repellent film 90 has a function of showing incompatibility with water and a function of shielding the passage of water. In the liquid crystal cell 100 of this example, the water repellent film 90 prevents moisture absorption from the respective side surfaces of the conductive films 9 and 21, the alignment films 40 and 60, and the sealing material 52. 9 and 21, the junction between the conductive films 9 and 21 and the alignment films 40 and 60, and the junction between the alignment films 40 and 60 and the sealing material 52 are covered with the water repellent film 90. Intrusion of moisture into the inside of the apparatus from these joint portions is prevented.

また、本例の液晶セル100によれば、配向膜40,60の表面に対する撥水処理を省くことが可能となり、配向膜40,60の表面に撥水膜90を形成することによって生じる液晶素子への影響(例えば撥水膜90の不均一性に伴うプレチルトの乱れ、撥水膜90との接触による液晶層50内での気泡の発生など)が回避される。さらに、一対の基板10,20を貼り合わせた後に、撥水膜90が形成されることから、シール材52の硬化時の光や熱によってその膜90の撥水性が低下することが回避される。   Further, according to the liquid crystal cell 100 of the present example, it is possible to omit the water repellent treatment on the surfaces of the alignment films 40 and 60, and the liquid crystal element generated by forming the water repellent film 90 on the surfaces of the alignment films 40 and 60. (For example, pretilt disturbance due to non-uniformity of the water-repellent film 90, generation of bubbles in the liquid crystal layer 50 due to contact with the water-repellent film 90) can be avoided. Furthermore, since the water-repellent film 90 is formed after the pair of substrates 10 and 20 are bonded together, it is possible to prevent the water repellency of the film 90 from being lowered by light and heat when the sealing material 52 is cured. .

撥水膜90の形成材料としては、有機撥水材料、無機撥水材料などが用いられる。撥水膜90の形成方法としては、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、蒸着法、分子線蒸着法(MB)、スパッタリング法、PVD法等の各種気相成膜法、浸漬法(ディップコート)、スピンコート法、スプレーコート法、ロールコート法等の塗布法、各種印刷法、転写法、インクジェット法等、公知の様々な成膜方法を採用できる。これらのうち2種以上の方法を組み合わせてもよい。   As a material for forming the water repellent film 90, an organic water repellent material, an inorganic water repellent material, or the like is used. As a method for forming the water repellent film 90, various vapor phase film forming methods such as CVD (Chemical Vapor Deposition) method, vapor deposition method, molecular beam vapor deposition method (MB), sputtering method, PVD method, immersion method (dip coating), Various known film forming methods such as a coating method such as a spin coating method, a spray coating method, and a roll coating method, various printing methods, a transfer method, and an ink jet method can be employed. Of these, two or more methods may be combined.

撥水膜90の形成方法の一例として、有機薄膜の形成方法について説明する。
有機薄膜を形成する方法では、基材表面に、シラン化合物や界面活性剤等の有機分子から有機薄膜を形成する。基材表面を処理するための有機分子は、例えば、基材に物理的または化学的に結合可能な官能基と、その反対側に親液基あるいは撥液基といった基材の表面性を改質する(表面エネルギーを制御する)官能基とを備えており、基材に結合して有機薄膜を形成し、理想的には単分子膜となる。中でも、基材との結合可能な官能基と、その反対側の基材の表面を改質する官能基とを結ぶ有機構造が炭素の直鎖あるいは一部分岐した炭素鎖である有機分子は、基材に結合して自己組織化して緻密な自己組織化膜を形成する。
As an example of a method for forming the water repellent film 90, a method for forming an organic thin film will be described.
In the method of forming an organic thin film, an organic thin film is formed on a substrate surface from organic molecules such as a silane compound and a surfactant. Organic molecules for treating the surface of the substrate modify the surface properties of the substrate, for example, functional groups that can be physically or chemically bonded to the substrate, and lyophilic or lyophobic groups on the opposite side. Functional group (controlling the surface energy), and is bonded to the substrate to form an organic thin film, ideally a monomolecular film. Among them, an organic molecule in which an organic structure that connects a functional group that can bind to a base material and a functional group that modifies the surface of the opposite base material is a linear or partially branched carbon chain of carbon is a group. Bond to the material and self-assemble to form a dense self-assembled film.

上記の自己組織化膜とは、基材の構成原子と反応可能な結合性官能基とそれ以外の直鎖とからなり、直鎖部位間におけるファンデルワールスの相互作用や芳香環間におけるπ−πスタッキングにより極めて高い配向性を有する化合物を、配向させて形成された膜である。この有機薄膜は、単分子を配向させて形成されているので、極めて膜厚を薄くすることができ、しかも、分子レベルで均一な膜となる。すなわち、膜の表面に同じ分子が位置するため、膜の表面に均一でしかも優れた撥水性を付与することができる。   The self-assembled film is composed of a binding functional group capable of reacting with the constituent atoms of the base material and other straight chain, and van der Waals interaction between the straight chain sites and π− between the aromatic rings. It is a film formed by orienting a compound having extremely high orientation by π stacking. Since the organic thin film is formed by aligning single molecules, the film thickness can be extremely reduced, and the film is uniform at the molecular level. That is, since the same molecule is located on the surface of the film, it is possible to impart uniform and excellent water repellency to the surface of the film.

上記の高い配向性を有する化合物として、例えば下記一般式(1)に示すようなシラン化合物を用いることができる。式(1)中、Rは有機基を表し、X及びXは−OR、−R、−Clを示し、X及びXに含まれるRは、炭素数1〜4のアルキル基を示し、aは1〜3の整数である。 As the compound having high orientation, for example, a silane compound represented by the following general formula (1) can be used. In Formula (1), R 1 represents an organic group, X 1 and X 2 represent —OR 2 , —R 2 , —Cl, and R 2 contained in X 1 and X 2 has 1 to 4 carbon atoms. And a is an integer of 1 to 3.

SiX (3−a) …(1) R 1 SiX 1 a X 2 (3-a) (1)

一般式(1)で表されるシラン化合物は、シラン原子に有機基が置換し、残りの結合基にアルコキシ基またはアルキル基または塩素基が置換したものである。有機基Rの例としては、例えば、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、ヒドロキシフェニル基、クロロフェニル基、アミノフェニル基、ナフチル基、アンスレニル基、ピレニル基、チエニル基、ピロリル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、シクロペンチル基、シクロペンテニル基、ピリジニル基、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、オクタデシル基、n−オクチル基、クロロメチル基、メトキシエチル基、ヒドロキシエチル基、アミノエチル基、シアノ基、メルカプトプロピル基、ビニル基、アリル基、アクリロキシエチル基、メタクリロキシエチル基、グリシドキシプロピル基、アセトキシ基等を例示できる。
のアルコキシ基や塩素基、Si−O−Si結合等を形成するための官能基であり、水により加水分解されてアルコールや酸として脱離する。アルコキシ基としては例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基等を挙げることができる。
の炭素数は脱離するアルコールの分子量が比較的小さく、除去が容易であり形成される膜の緻密性の低下を抑制できるという観点から、1〜4の範囲であることが好ましい。
In the silane compound represented by the general formula (1), an organic group is substituted on the silane atom, and an alkoxy group, an alkyl group, or a chlorine group is substituted on the remaining bonding group. Examples of the organic group R 1 include, for example, phenyl group, benzyl group, phenethyl group, hydroxyphenyl group, chlorophenyl group, aminophenyl group, naphthyl group, anthrenyl group, pyrenyl group, thienyl group, pyrrolyl group, cyclohexyl group, cyclohexane Hexenyl, cyclopentyl, cyclopentenyl, pyridinyl, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, octadecyl, n- Octyl group, chloromethyl group, methoxyethyl group, hydroxyethyl group, aminoethyl group, cyano group, mercaptopropyl group, vinyl group, allyl group, acryloxyethyl group, methacryloxyethyl group, glycidoxypropyl group, acetoxy group Etc. can be illustrated.
X 1 is a functional group for forming an alkoxy group, a chlorine group, a Si—O—Si bond, or the like, and is hydrolyzed by water to be removed as an alcohol or an acid. Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, and a tert-butoxy group.
The number of carbon atoms of R 2 is preferably in the range of 1 to 4 from the viewpoint that the molecular weight of the alcohol to be desorbed is relatively small, can be easily removed, and the deterioration of the denseness of the formed film can be suppressed.

一般式(1)で表される代表的な撥水性シラン化合物としては、含フッ素アルキルシラン化合物が挙げられる。特にRがパ−フルオロアルキル構造C2n+1で表される構造を有するものであり、一般式(2)で表される化合物を例示することができる。式(2)中、nは1から18の整数を、mは2から6までの整数をそれぞれ表し、XおよびXおよびaは、上記式(1)と同じ意味を表す。
含フッ素アルキルシラン化合物を用いることにより、膜の表面にフルオロアルキル基が位置するように各化合物が配向して自己組織化膜が形成されるので、膜の表面に均一な撥水性を付与することができる。
A typical water-repellent silane compound represented by the general formula (1) includes a fluorine-containing alkylsilane compound. In particular, R 1 has a structure represented by the perfluoroalkyl structure C n F 2n + 1 , and examples thereof include compounds represented by the general formula (2). In formula (2), n represents an integer from 1 to 18, m represents an integer from 2 to 6, and X 1, X 2 and a represent the same meaning as in the above formula (1).
By using a fluorine-containing alkylsilane compound, each compound is oriented so that the fluoroalkyl group is located on the surface of the film, and a self-assembled film is formed, so that uniform water repellency is imparted to the surface of the film Can do.

2n+1(CHSiX (3−a) …(2) C n F 2n + 1 (CH 2) m SiX 1 a X 2 (3-a) ... (2)

より具体的には、CF−CHCH−Si(OCH、CF(CF−CHCH−Si(OCH、CF(CF−CHCH−Si(OCH、CF(CF−CHCH−Si(OC、CF(CF−CHCH−Si(OCH、CF(CF11−CHCH−Si(OC、CF(CF−CHCH−Si(CH)(OCH、CF(CF−CHCH−Si(CH)(OCH、CF(CF−CHCH−Si(CH)(OC、CF(CF−CHCH−Si(C)(OC等が挙げられる。 More specifically, CF 3 —CH 2 CH 2 —Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 3 —CH 2 CH 2 —Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 5 —CH 2 CH 2 —Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 5 —CH 2 CH 2 —Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 7 —CH 2 CH 2 —Si (OCH 3) ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 11 —CH 2 CH 2 —Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 (CF 2 ) 3 —CH 2 CH 2 —Si (CH 3 ) (OCH 3 ) 2 , CF 3 (CF 2) 7 -CH 2 CH 2 -Si (CH 3) (OCH 3) 2, CF 3 (CF 2) 8 -CH 2 CH 2 -Si (CH 3) (OC 2 H 5) 2, CF 3 (CF 2 ) 8 —CH 2 CH 2 —Si (C 2 H 5 ) (OC 2 H 5 ) 2 and the like.

また、Rがパ−フルオロアルキルエーテル構造C2n+12pで表される構造を有するものも挙げることができる。その具体例としては例えば、下記一般式(3)で表される化合物を例示することができる。 Further, R 1 Gapa - also may be mentioned those having a fluoroalkyl ether structure C n F 2n + 1 O p F 2p O r represented by the structure. Specific examples thereof include a compound represented by the following general formula (3).

2p+1O(C2pO)(CHSiX (3−a) …(3) C p F 2p + 1 O ( C p F 2p O) r (CH 2) m SiX 1 a X 2 (3-a) ... (3)

式(3)中、mは2から6の整数を,pは1から4の整数を、rは1から10の整数をそれぞれ表し、XおよびXおよびaは、前出と同じ意味を表す。
具体的な化合物の例としては、CFO(CFO)−CHCH−Si(OC、CFO(CO)−CHCH−Si(OCH、CFO(CO)(CFO)−CHCH−Si(OCH、CFO(CO)−CHCH−Si(OCH、CFO(CO)−CHCH−Si(OCH、CFO(CO)−CHCH−Si(CH)(OC、CFO(CO)−CHCH−Si(C)(OCH等が挙げられる。
In the formula (3), m represents an integer of 2 to 6, p represents an integer of 1 to 4, r represents an integer of 1 to 10, and X 1, X 2 and a have the same meaning as described above. To express.
Specific examples of the compound include CF 3 O (CF 2 O) 6 —CH 2 CH 2 —Si (OC 2 H 5 ) 3 , CF 3 O (C 3 F 6 O) 4 —CH 2 CH 2 —. Si (OCH 3) 3, CF 3 O (C 3 F 6 O) 2 (CF 2 O) 3 -CH 2 CH 2 -Si (OCH 3) 3, CF 3 O (C 3 F 6 O) 8 -CH 2 CH 2 —Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 O (C 4 F 9 O) 5 —CH 2 CH 2 —Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 O (C 4 F 9 O) 5 —CH 2 CH 2 -Si (CH 3) (OC 2 H 5) 2, CF 3 O (C 3 F 6 O) 4 -CH 2 CH 2 -Si (C 2 H 5) (OCH 3) 2 , and the like.

フルオロアルキル基やパ−フルオロアルキルエーテル構造を有するシラン化合物は「FAS」と総称される。これらの化合物は、単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、FASを用いることにより、基材との密着性と良好な撥水性とを得ることができる。   Silane compounds having a fluoroalkyl group or a perfluoroalkyl ether structure are collectively referred to as “FAS”. These compounds may be used alone or in combination of two or more. In addition, by using FAS, adhesiveness with a base material and favorable water repellency can be obtained.

上記の高い配向性を有する化合物として、下記一般式(4)で表される界面活性剤を用いることもできる。式(4)中、Rは疎水性の有機基を表し、Yは親水性の極性基、−OH、−(CH2CH2O)nH、−COOH、−COOA、−CONH2、−SO3H、−SO3A、−OSO3H、−OSO3A、−PO3H2、−PO3A、−NO2、−NH2、−NH3B(アンモニウム塩)、≡NHB(ピリジニウム塩)、−NX B(アルキルアンモニウム塩)等である。ただし、Aは1個以上の陽イオンを表し、Bは1個以上の陰イオンを表すものとする。また、Xは前出と同じ炭素数1〜4のアルキル基を意味を表すものとする。 As the compound having high orientation, a surfactant represented by the following general formula (4) can also be used. In Formula (4), R 1 represents a hydrophobic organic group, Y 1 represents a hydrophilic polar group, —OH, — (CH 2 CH 2 O) nH, —COOH, —COOA, —CONH 2, —SO 3 H, —SO 3 A, -OSO3H, -OSO3A, -PO3H2, -PO3A, -NO2, -NH2, -NH3B ( ammonium salt), ≡NHB (pyridinium salt), - a NX 1 3 B (alkylammonium salts) and the like. However, A represents one or more cations, and B represents one or more anions. X 1 represents the same alkyl group having 1 to 4 carbon atoms as described above.

…(4) R 1 Y 1 (4)

一般式(4)で表される界面活性剤は両親媒性化合物であり、親油性の有機基Rに親水性の官能基が結合した化合物である。Yは親水性の極性基を表し、基材との結合あるいは吸着するための官能基であり、有機基Rは親油性を有し、親水面の反対側に並ぶことにより親水面上に親油面が形成される。有機基Rの例としては、例えば、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基、ヒドロキシフェニル基、クロロフェニル基、アミノフェニル基、ナフチル基、アンスレニル基、ピレニル基、チエニル基、ピロリル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、シクロペンチル基、シクロペンテニル基、ピリジニル基、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、オクタデシル基、n−オクチル基、クロロメチル基、メトキシエチル基、ヒドロキシエチル基、アミノエチル基、シアノ基、メルカプトプロピル基、ビニル基、アリル基、アクリロキシエチル基、メタクリロキシエチル基、グリシドキシプロピル基、アセトキシ基等を例示できる。 The surfactant represented by the general formula (4) is an amphiphilic compound, and is a compound in which a hydrophilic functional group is bonded to an oleophilic organic group R 1 . Y 1 represents a hydrophilic polar group, which is a functional group for bonding or adsorbing to the base material, and the organic group R 1 has lipophilicity and is arranged on the opposite side of the hydrophilic surface so as to be on the hydrophilic surface. A lipophilic surface is formed. Examples of the organic group R 1 include, for example, phenyl group, benzyl group, phenethyl group, hydroxyphenyl group, chlorophenyl group, aminophenyl group, naphthyl group, anthrenyl group, pyrenyl group, thienyl group, pyrrolyl group, cyclohexyl group, cyclohexane Hexenyl, cyclopentyl, cyclopentenyl, pyridinyl, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, octadecyl, n- Octyl group, chloromethyl group, methoxyethyl group, hydroxyethyl group, aminoethyl group, cyano group, mercaptopropyl group, vinyl group, allyl group, acryloxyethyl group, methacryloxyethyl group, glycidoxypropyl group, acetoxy group Etc. can be illustrated.

一般式(4)で表される代表的な撥水性の界面活性剤としては、含フッ素アルキル構造を有する化合物が挙げられる。特にRがパ−フルオロアルキル構造C2n+1で表される構造を有するものが有用である。より具体的には、F(CFCF1−7−CHCH−N(CHCl、C17SONHC−N(CH)、F(CFCF1−7−CHCHSCHCH−CO Li、C17SON(C)−CO 、(F(CFCF1−7)CHCHO)1,2PO(ONH 1,2、C1021SO NH 、C13CHCHSOH、C13CHCHSO NH 、C17SON(C)−(CHCHO)0−25H、C17SON(C)−(CHCHO)0−25CH、F(CFCF1−7−CHCHO−(CHCHO)0−25Hが挙げられる。 A typical water-repellent surfactant represented by the general formula (4) includes a compound having a fluorine-containing alkyl structure. In particular, those having a structure in which R 1 is represented by the perfluoroalkyl structure C n F 2n + 1 are useful. More specifically, F (CF 2 CF 2) 1-7 -CH 2 CH 2 -N + (CH 3) 3 Cl -, C 8 F 17 SO 2 NHC 3 H 6 -N + (CH 3), F (CF 2 CF 2) 1-7 -CH 2 CH 2 SCH 2 CH 2 -CO 2 - Li +, C 8 F 17 SO 2 N (C 2 H 5) -CO 2 - K +, (F (CF 2 CF 2) 1-7) CH 2 CH 2 O) 1,2 PO (O - NH 4 +) 1,2, C 10 F 21 SO 3 - NH 4 +, C 6 F 13 CH 2 CH 2 SO 3 H, C 6 F 13 CH 2 CH 2 SO 3 - NH 4 +, C 8 F 17 SO 2 N (C 2 H 5) - (CH 2 CH 2 O) 0-25 H, C 8 F 17 SO 2 N (C 2 H 5) - ( CH 2 CH 2 O) 0-25 CH 3, F (CF 2 C 2) 1-7 -CH 2 CH 2 O- (CH 2 CH 2 O) 0-25 H and the like.

フルオロアルキル基を有する界面活性剤は、単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、フルオロアルキル基を有する界面活性剤を用いることにより、基材との密着性と良好な撥水性とを得ることができる。   The surfactant having a fluoroalkyl group may be used alone or in combination of two or more. In addition, adhesiveness with a base material and favorable water repellency can be obtained by using the surfactant which has a fluoroalkyl group.

さらに、フッ素を含有しないアルキル構造であってもよく、一般的な界面活性剤にも緻密な膜を形成させることで、撥水性を得ることができる。具体的な界面活性剤としては、n−デシルトリメチルアンモニウムクロライド、n−デシルトリメチルアンモニウムブロマイド、n−ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、n−ドデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、n−ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライド、n−ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、n−オクタデシルトリメチルアンモニウムクロライド、n−オクタデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、ジ−n−ドデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジ−n−ドデシルジメチルアンモニウムブロマイド、n−デシルピリジニウムクロライド、n−デシルピリジニウムブロマイド、n−ドデシルピリジニウムクロライド、n−ドデシルピリジニウムブロマイド、n−ドデシルピリジニウムアイオダイド、n−テトラデシルピリジニウムクロライド、n−テトラデシルピリジニウムブロマイド、n−ヘキサデシルピリジニウムクロライド、n−ヘキサデシルピリジニウムブロマイド、n−ヘキサデシルピリジニウムアイオダイド、n−オクタデシルピリジニウムクロライド、n−オクタデシルピリジニウムブロマイド、n−ドデシルピコリニウムクロライド、n−ドデシルピコリニウムブロマイド、n−オクタデシルピコリニウムクロライド、n−オクタデシルピコリニウムブロマイド、n−オクタデシルピコリニウムアイオダイド、N,N’−ジメチル−4,4’−ビピリジニウムジクロライド、N,N’−ジメチル−4,4’−ビピリジニウム ジブロマイド、N,N’−ジメチル−4,4’−ビピリジニウムビス(メチルサルフェイト)、N,N’−ジメチル−4,4’−ビピリジニウムビス(р−トルエンスルホネート)、N,N’−ジ(n−プロピル)−4,4’−ビピリジニウムジクロライド、N,N’−ジ(n−プロピル)−4,4’−ビピリジニウム ジブロマイド、N,N’−ジ(n−プロピル)−4,4’−ビピリジニウムビス(р−トルエンスルホネート)、N,N’−ジベンジル−4,4’−ビピリジニウム ジクロライド、N,N’−ジベンジル−4,4’−ビピリジニウムジブロマイド、N,N’−ジベンジル−4,4’−ビピリジニウムジアイオダイド、N,N’−ジベンジル−4,4’−ビピリジニウムビス(р−トルエンスルホネート)、N,N’−ジフェニル−4,4’−ビピリジニウム ジクロライド、N,N’−ジフェニル−4,4’−ビピリジニウムジブロマイド、N,N’−ビス(3−スルホネートプロピル)−4,4’−ビピリジニウム、1,3−ビスプロパンテトラクロライド、1,3−ビスプロパンテトラブロマイド、1,3−ビスプロパンテトラクロライド、1,3−ビスプロパンテトラブロマイド、1,4−ビスブタンテトラクロライド、1,4−ビスブタンテトラブロマイド、1,4−ビスブタンテトラクロライド、1,4−ビスブタンテトラブロマイド、α,α’−ビス−o−キシレンテトラクロライド、α,α’−ビス−o−キシレンテトラブロマイド、α,α’−ビス−o−キシレンテトラクロライド、α,α’−ビス−o−キシレンテトラブロマイド、α,α’−ビス−m−キシレンテトラクロライド、α,α’−ビス−m−キシレンテトラブロマイド、α,α’−ビス−m−キシレンテトラクロライド、α,α’−ビス−m−キシレンテトラブロマイド、α,α’−ビス−p−キシレンテトラクロライド、α,α’−ビス−p−キシレンテトラブロマイド、α,α’−ビス−p−キシレンテトラクロライド、α,α’−ビス−p−キシレンテトラブロマイド、N−n−ドデシル−N’−メチル−4,4’−ビピリジニウム ジクロライド、N−n−ドデシル−N’−メチル−4,4’−ビピリジニウムブロマイドアイオダイド、N−n−ドデシル−N’−メチル−4,4’−ビピリジニウムブロマイドメチルサルフェイト、N−n−ドデシル−N’−ベンジル−4,4’−ビピリジニウムジクロライド、N−n−ドデシル−N’−ベンジル−4,4’−ビピリジニウムジブロマイド、N−n−ドデシル−N’−ベンジル−4,4’−ビピリジニウム クロライドブロマイド、N−n−ヘキサデシル−N’−メチル−4,4’−ビピリジニウムジクロライド、N−n−ヘキサデシル−N’−メチル−4,4’−ビピリジニウム ブロマイドアイオダイド、N−n−ヘキサデシル−N’−メチル−4,4’−ビピリジニウムブロマイドメチルサルフェイト、N−n−ヘキサデシル−N’−ベンジル−4,4’−ビピリジニウムジクロライド、N−n−ヘキサデシル−N’−ベンジル−4,4’−ビピリジニウムジブロマイド、N−n−オクタデシル−N’−メチル−4,4’−ビピリジニウムジクロライド、N−n−オクタデシル−N’−メチル−4,4’−ビピリジニウムブロマイドアイオダイド、N−n−オクタデシル−N’−メチル−4,4’−ビピリジニウムブロマイドメチルサルフェイト、N−n−オクタデシル−N’−ベンジル−4、4’−ビピリジニウム ジブロマイド、N,N’−ジ−n−ドデシル−4,4’−ビピリジニウムジクロライド、N,N’−ジ−n−ドデシル−4,4’−ビピリジニウム ジブロマイド、N,N’−ジ−n−ヘキサデシル−4,4’−ビピリジニウムジクロライド、N,N’−ジ−n−ヘキサデシル−4,4’−ビピリジニウム ジブロマイド、1,3−ビスプロパンテトラクロライド、1 ,3−ビスプロパン テトラブロマイド、1,4−ビスブタン テトラブロマイド、1,6−ビスヘキサンテトラブロマイド、1,3−ビスプロパン テトラブロマイド、1,4−ビスブタン テトラブロマイド、1,6−ビスヘキサンテトラブロマイド、α,α’−ビス−o−キシレンテトラクロライド、α,α’−ビス−o−キシレンテトラブロマイド、α,α’−ビス−m−キシレンテトラクロライド、α,α’−ビス−m−キシレンテトラブロマイド、α,α’−ビス−p−キシレンテトラクロライド、α,α’−ビス−p−キシレンテトラブロマイド、α,α’−ビス−o−キシレンテトラクロライド、α,α’−ビス−o−キシレンテトラブロマイド、α,α’−ビス−m−キシレンテトラクロライド、α,α’−ビス−m−キシレンテトラブロマイド、α,α’−ビス−p−キシレンテトラクロライド、α,α’−ビス−p−キシレン
テトラブロマイド、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルアクリルアミド、シクロヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシル−N−メチルアクリルアミド、N−シクロヘキシル−N−メチルメタクリルアミド、シクロヘキシルメチルアクリレート、シクロヘキシルメチルメタクリレート、シクロヘキシルメチルアクリルアミド、シクロヘキシルメチルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルメチル−N−メチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルメチル−N−メチルメタクリルアミド、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、フェニルアクリルアミド、フェニルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルアクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメタクリルアミド、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、ベンジルアクリルアミド、ベンジルメタクリルアミド、N−ベンジル−N−メチルアクリルアミド、N−ベンジル−N−メチルメタクリルアミド、1−ノルボルニルアクリレート、1−ノルボルニルメタクリレート、1−ノルボルニルアクリルアミド、1−ノルボルニルメタクリルアミド、N−メチル−N−(1−ノルボルニル)アクリルアミド、N−メチル−N−(1−ノルボルニル)メタクリルアミド、シクロオクチルアクリレート、シクロオクチルメタクリレート、シクロオクチルアクリルアミド、シクロオクチルメタクリルアミド、N−シクロオクチル−N−メチルアクリルアミド、N−シクロオクチル−N−メチルメタクリルアミド、アダマンチルアクリレート、アダマンチルメタクリレート、アダマンチルアクリルアミド、アダマンチルメタクリルアミド、N−アダマンチル−N−メチルアクリルアミド、N−アダマンチル−N−メチルメタクリルアミド、1−ナフチルアクリレート、1−ナフチルメタクリレート、1−ナフチルアクリルアミド、1−ナフチルメタクリルアミド、N−メチル−N−(1−ナフチル)アクリルアミド、N−メチル−N−(1−ナフチル)メタクリルアミド、2−ナフチルアクリレート、2−ナフチルメタクリレート、2−ナフチルアクリルアミド、2−ナフチルメタクリルアミド、N−メチル−N−(2−ナフチル)アクリルアミド、N−メチル−N−(2−ナフチル)メタクリルアミド、n−ドデシルアクリレート、n−ドデシルメタクリレート、n−ドデシルアクリルアミド、n−ドデシルメタクリルアミド、N−n−ドデシル−N−メチルアクリルアミド、N−n−ドデシル−N−メチルメタクリルアミド、シクロドデシルアクリレート、シクロドデシルメタクリレート、シクロドデシルアクリルアミド、シクロドデシルメタクリルアミド、N−シクロドデシル−N−メチルアクリルアミド、N−シクロドデシル−N−メチルメタクリルアミド、n−ヘキサデシルアクリレート、n−ヘキサデシルメタクリレート、n−ヘキサデシルアクリルアミド、n−ヘキサデシルメタクリルアミド、N−n−ヘキサデシル−N−メチルアクリルアミド、N−n−ヘキサデシル−N−メチルメタクリルアミド、n−オクタデシルアクリレート、n−オクタデシルメタクリレート、n−オクタデシルアクリルアミド、n−オクタデシルメタクリルアミド、N−n−オクタデシル−N−メチルアクリルアミド、N−n−オクタデシル−N−メチルメタクリルアミド、ジ−n−オクチルアクリルアミド、ジ−n−オクチルメタクリルアミド、ジ−n−デシルアクリルアミド、ジ−n−デシルメタクリルアミド、ジ−n−ドデシルアクリルアミド、ジ−n−ドデシルメタクリルアミド、9−アントラセンメチルアクリレート、9−アントラセンメチルメタクリレート、9−アントラセンメチルアクリルアミド、9−アントラセンメチルメタクリルアミド、9−フェナントレンメチルアクリレート、9−フェナントレンメチルメタクリレート、9−フェナントレンメチルアクリルアミド、9−フェナントレンメチルメタクリルアミド、N−メチル−N−(9−フェナントレンメチル)アクリルアミド、N−メチル−N−(9−フェナントレンメチル)メタクリルアミド、1−ピレンメチルアクリレート、1−ピレンメチルメタクリレート、1−ピレンメチルアクリルアミド、1−ピレンメチルメタクリルアミド、N−メチル−N−(1−ピレンメチル)アクリルアミド、N−メチル−N−(1−ピレンメチル)メタクリルアミド、4−アクリロイルオキシメチルフタロシアニン等が挙げられる。
Furthermore, the alkyl structure which does not contain a fluorine may be sufficient, and water repellency can be obtained by forming a precise | minute film | membrane also in general surfactant. Specific surfactants include n-decyltrimethylammonium chloride, n-decyltrimethylammonium bromide, n-dodecyltrimethylammonium chloride, n-dodecyltrimethylammonium bromide, n-hexadecyltrimethylammonium chloride, n-hexadecyltrimethyl. Ammonium bromide, n-octadecyltrimethylammonium chloride, n-octadecyltrimethylammonium bromide, di-n-dodecyldimethylammonium chloride, di-n-dodecyldimethylammonium bromide, n-decylpyridinium chloride, n-decylpyridinium bromide, n-dodecyl Pyridinium chloride, n-dodecylpyridinium bromide, n-dodecylpyridinium Iodide, n-tetradecylpyridinium chloride, n-tetradecylpyridinium bromide, n-hexadecylpyridinium chloride, n-hexadecylpyridinium bromide, n-hexadecylpyridinium iodide, n-octadecylpyridinium chloride, n-octadecylpyridinium bromide, n-dodecylpicolinium chloride, n-dodecylpicolinium bromide, n-octadecylpicolinium chloride, n-octadecylpicolinium bromide, n-octadecylpicolinium iodide, N, N'-dimethyl-4,4'-bipyridinium dichloride N, N′-dimethyl-4,4′-bipyridinium dibromide, N, N′-dimethyl-4,4′-bipyridinium bis (methylsulfay ), N, N′-dimethyl-4,4′-bipyridinium bis (р-toluenesulfonate), N, N′-di (n-propyl) -4,4′-bipyridinium dichloride, N, N′-di ( n-propyl) -4,4′-bipyridinium dibromide, N, N′-di (n-propyl) -4,4′-bipyridinium bis (р-toluenesulfonate), N, N′-dibenzyl-4,4 '-Bipyridinium dichloride, N, N'-dibenzyl-4,4'-bipyridinium dibromide, N, N'-dibenzyl-4,4'-bipyridinium diiodide, N, N'-dibenzyl-4,4'- Bipyridinium bis (р-toluenesulfonate), N, N′-diphenyl-4,4′-bipyridinium dichloride, N, N′-diphenyl-4,4′-bipyridinium dibromide, N, N′-bis (3-sulfonatepropyl) -4,4′-bipyridinium, 1,3-bispropanetetrachloride, 1,3-bispropanetetrabromide, 1,3-bispropanetetrachloride, 1,3-bis Propane tetrabromide, 1,4-bisbutanetetrachloride, 1,4-bisbutanetetrabromide, 1,4-bisbutanetetrachloride, 1,4-bisbutanetetrabromide, α, α'-bis-o-xylene Tetrachloride, α, α'-bis-o-xylene tetrabromide, α, α'-bis-o-xylene tetrachloride, α, α'-bis-o-xylene tetrabromide, α, α'-bis-m -Xylene tetrachloride, α, α'-bis-m-xylene tetrabromide, α, α'-bis-m-xylene tetrachloride, α, '-Bis-m-xylene tetrabromide, α, α'-bis-p-xylene tetrachloride, α, α'-bis-p-xylene tetrabromide, α, α'-bis-p-xylene tetrachloride, α , Α′-bis-p-xylenetetrabromide, Nn-dodecyl-N′-methyl-4,4′-bipyridinium dichloride, Nn-dodecyl-N′-methyl-4,4′-bipyridinium bromide ion Dido, Nn-dodecyl-N′-methyl-4,4′-bipyridinium bromide methyl sulfate, Nn-dodecyl-N′-benzyl-4,4′-bipyridinium dichloride, Nn-dodecyl-N '-Benzyl-4,4'-bipyridinium dibromide, Nn-dodecyl-N'-benzyl-4,4'-bipyridinium chloride bromide, Nn- Xadecyl-N′-methyl-4,4′-bipyridinium dichloride, Nn-hexadecyl-N′-methyl-4,4′-bipyridinium bromide iodide, Nn-hexadecyl-N′-methyl-4,4 '-Bipyridinium bromide methyl sulfate, Nn-hexadecyl-N'-benzyl-4,4'-bipyridinium dichloride, Nn-hexadecyl-N'-benzyl-4,4'-bipyridinium dibromide, Nn -Octadecyl-N'-methyl-4,4'-bipyridinium dichloride, Nn-octadecyl-N'-methyl-4,4'-bipyridinium bromide iodide, Nn-octadecyl-N'-methyl-4, 4′-bipyridinium bromide methyl sulfate, Nn-octadecyl-N′-benzyl-4, 4′-bi Lidinium dibromide, N, N′-di-n-dodecyl-4,4′-bipyridinium dichloride, N, N′-di-n-dodecyl-4,4′-bipyridinium dibromide, N, N′-di- n-hexadecyl-4,4′-bipyridinium dichloride, N, N′-di-n-hexadecyl-4,4′-bipyridinium dibromide, 1,3-bispropanetetrachloride, 1,3-bispropane tetrabromide, 1,4-bisbutane tetrabromide, 1,6-bishexanetetrabromide, 1,3-bispropane tetrabromide, 1,4-bisbutane tetrabromide, 1,6-bishexanetetrabromide, α, α'-bis- o-xylene tetrachloride, α, α'-bis-o-xylene tetrabromide, α, α'-bis-m-xylene tetrac Ride, α, α′-bis-m-xylene tetrabromide, α, α′-bis-p-xylene tetrachloride, α, α′-bis-p-xylene tetrabromide, α, α′-bis-o- Xylene tetrachloride, α, α'-bis-o-xylene tetrabromide, α, α'-bis-m-xylene tetrachloride, α, α'-bis-m-xylene tetrabromide, α, α'-bis- p-xylene tetrachloride, α, α'-bis-p-xylene tetrabromide, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, cyclohexyl acrylamide, cyclohexyl methacrylamide, N-cyclohexyl-N-methyl acrylamide, N-cyclohexyl-N-methyl methacrylamide , Cyclohexylmethyl acrylate, cyclohexylmethyl Methacrylate, cyclohexylmethylacrylamide, cyclohexylmethylmethacrylamide, N-cyclohexylmethyl-N-methylacrylamide, N-cyclohexylmethyl-N-methylmethacrylamide, phenylacrylate, phenylmethacrylate, phenylacrylamide, phenylmethacrylamide, N-methyl-N -Phenylacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, benzylacrylamide, benzylmethacrylamide, N-benzyl-N-methylacrylamide, N-benzyl-N-methylmethacrylamide, 1-norbol Nyl acrylate, 1-norbornyl methacrylate, 1-norbornyl acrylamide, 1-norbornyl meta Kurylamide, N-methyl-N- (1-norbornyl) acrylamide, N-methyl-N- (1-norbornyl) methacrylamide, cyclooctyl acrylate, cyclooctyl methacrylate, cyclooctylacrylamide, cyclooctylmethacrylamide, N-cyclooctyl -N-methyl acrylamide, N-cyclooctyl-N-methyl methacrylamide, adamantyl acrylate, adamantyl methacrylate, adamantyl acrylamide, adamantyl methacrylamide, N-adamantyl-N-methyl acrylamide, N-adamantyl-N-methyl methacrylamide, 1 -Naphtyl acrylate, 1-naphthyl methacrylate, 1-naphthyl acrylamide, 1-naphthyl methacrylamide, N-methyl-N- ( -Naphthyl) acrylamide, N-methyl-N- (1-naphthyl) methacrylamide, 2-naphthyl acrylate, 2-naphthyl methacrylate, 2-naphthylacrylamide, 2-naphthylmethacrylamide, N-methyl-N- (2-naphthyl) ) Acrylamide, N-methyl-N- (2-naphthyl) methacrylamide, n-dodecyl acrylate, n-dodecyl methacrylate, n-dodecyl acrylamide, n-dodecyl methacrylamide, Nn-dodecyl-N-methyl acrylamide, N -N-dodecyl-N-methyl methacrylamide, cyclododecyl acrylate, cyclododecyl methacrylate, cyclododecyl acrylamide, cyclododecyl methacrylamide, N-cyclododecyl-N-methyl acrylamide, N-cycl Dodecyl-N-methylmethacrylamide, n-hexadecyl acrylate, n-hexadecyl methacrylate, n-hexadecylacrylamide, n-hexadecylmethacrylamide, Nn-hexadecyl-N-methylacrylamide, Nn-hexadecyl- N-methyl methacrylamide, n-octadecyl acrylate, n-octadecyl methacrylate, n-octadecyl acrylamide, n-octadecyl methacrylamide, Nn-octadecyl-N-methyl acrylamide, Nn-octadecyl-N-methyl methacrylamide, Di-n-octylacrylamide, di-n-octylmethacrylamide, di-n-decylacrylamide, di-n-decylmethacrylamide, di-n-dodecylacrylamide, di-n-dodecyl Methacrylamide, 9-anthracene methyl acrylate, 9-anthracene methyl methacrylate, 9-anthracene methyl acrylamide, 9-anthracene methyl methacrylamide, 9-phenanthrene methyl acrylate, 9-phenanthrene methyl methacrylate, 9-phenanthrene methyl acrylamide, 9-phenanthrene methyl acrylamide Methacrylamide, N-methyl-N- (9-phenanthrenemethyl) acrylamide, N-methyl-N- (9-phenanthrenemethyl) methacrylamide, 1-pyrenemethyl acrylate, 1-pyrenemethyl methacrylate, 1-pyrenemethylacrylamide, 1-pyrenemethylmethacrylamide, N-methyl-N- (1-pyrenemethyl) acrylamide, N-methyl-N- (1-pyrenemethyl Methacrylamide, 4-acryloyloxymethyl phthalocyanine, and the like.

シラン化合物や界面活性剤等の有機分子などからなる有機薄膜は、図2に示すように、上記の原料化合物101と基材100(液晶セル)とを同一の容器102中に密封し、容器内温度に応じて静置しておくことで、基材100上に形成される。上記の容器全体を加熱することにより、基材上に有機薄膜が形成するのに要する時間を短縮することができる。気相からの形成法に限らず、液相からも自己組織化膜を形成できる。例えば、原料化合物を含む溶液中に基材を浸積し、洗浄、乾燥することで、基材上に自己組織化膜を形成することができる。   As shown in FIG. 2, the organic thin film composed of organic molecules such as a silane compound and a surfactant is sealed in the same container 102 by sealing the raw material compound 101 and the substrate 100 (liquid crystal cell). It is formed on the base material 100 by leaving it still according to temperature. By heating the entire container, the time required for forming the organic thin film on the substrate can be shortened. The self-assembled film can be formed not only from the gas phase but also from the liquid phase. For example, the self-assembled film can be formed on the base material by immersing the base material in a solution containing the raw material compound, washing and drying.

なお、基材の側面など、基材に対して部分的に有機薄膜を形成する場合には、不要な部分にマスキングを施したり、基材の全面に薄膜を形成した後に、不要な部分を除去するとよい。有機薄膜はある程度厚みをもってもよく、その厚さは好ましくは有機分子1〜10層である。また、自己組織化膜を形成する前に、基材表面には、紫外光を照射したり、あるいはプラズマ処理、酸やアルカリ液により洗浄することで前処理を施しておくことが望ましい。   In addition, when organic thin film is partially formed on the substrate, such as the side of the substrate, the unnecessary portion is masked or the thin film is formed on the entire surface of the substrate, and then the unnecessary portion is removed. Good. The organic thin film may have a certain thickness, and the thickness is preferably 1 to 10 layers of organic molecules. In addition, before forming the self-assembled film, it is desirable that the base material surface is pretreated by irradiating with ultraviolet light or cleaning with plasma treatment, acid or alkali solution.

次に、撥水膜90の形成方法の他の例として、CVD法(プラズマCVD)について説明する。
プラズマCVDは、ガス状原料を放電によってプラズマ状態とし、活性なラジカルやイオンを生成させ、低温で基材上に成膜する方法である。放電には、電磁波が使用され、高周波放電及びマイクロ波放電が多用される。プラズマ処理に用いるガス種は、基材の表面材質等を考慮して種々選択できる。処理ガスとしては、フルオロカーボン系化合物を好適に用いることができ、例えば、4フッ化メタン、パーフルオロヘキサン、パーフルオロデカン等を例示できる。
Next, a CVD method (plasma CVD) will be described as another example of the method for forming the water repellent film 90.
Plasma CVD is a method in which a gaseous raw material is brought into a plasma state by discharge, active radicals and ions are generated, and a film is formed on a substrate at a low temperature. Electromagnetic waves are used for discharge, and high frequency discharge and microwave discharge are frequently used. Various types of gas used for the plasma treatment can be selected in consideration of the surface material of the substrate. As the processing gas, a fluorocarbon-based compound can be preferably used, and examples thereof include tetrafluoromethane, perfluorohexane, and perfluorodecane.

図3は、プラズマCVD装置の一例を示している。このCVD装置は、誘導結合型であり、放電により活性化されたガス状原料を放出するガス放出部105と、基材100(液晶セル)が載置される載置部106とを有している。そして、撥水系のガス状原料が基材100に到達することで、基材100の表面に撥水膜が形成される。なお、この図3に示すように、駆動部107によって基材100の回転角度を連続的あるいは間欠的に変化させ、ガス放出部105に対向する基材100の箇所を変化させることにより、基材100の側面すべてにわたって均一かつ確実に撥水膜を形成することができる。なお、必要に応じて、成膜不要な部分にマスキングを施したり、基材の全面に薄膜を形成した後に、不要な部分を除去するとよい。   FIG. 3 shows an example of a plasma CVD apparatus. This CVD apparatus is of an inductive coupling type, and has a gas discharge unit 105 that discharges a gaseous raw material activated by discharge, and a mounting unit 106 on which a substrate 100 (liquid crystal cell) is mounted. Yes. Then, when the water-repellent gaseous raw material reaches the substrate 100, a water-repellent film is formed on the surface of the substrate 100. As shown in FIG. 3, the rotation angle of the substrate 100 is changed continuously or intermittently by the drive unit 107, and the location of the substrate 100 facing the gas discharge unit 105 is changed, thereby changing the substrate A water repellent film can be uniformly and reliably formed on all the 100 side surfaces. Note that, if necessary, it is preferable to mask a portion that does not require film formation or to remove an unnecessary portion after forming a thin film on the entire surface of the base material.

次に、撥水膜90の形成方法の別の例として、撥水性の高分子化合物を基材表面に塗布する方法について説明する。
図4は、浸漬装置の一例を示している。この浸漬装置は、原料液の貯溜槽108と、基材100(液晶セル)を搬送する搬送部109とを有している。そして、搬送部109によって基材100を貯溜槽108内の原料液に浸漬した後に引き上げることで基材100の表面に撥水膜を形成することができる。なお、必要に応じて、成膜不要な部分にマスキングを施したり、基材の全面に薄膜を形成した後に、不要な部分を除去するとよい。
Next, as another example of the method for forming the water repellent film 90, a method for applying a water repellent polymer compound to the substrate surface will be described.
FIG. 4 shows an example of an immersion apparatus. This dipping apparatus includes a raw material liquid storage tank 108 and a transport unit 109 that transports the base material 100 (liquid crystal cell). A water repellent film can be formed on the surface of the substrate 100 by pulling up the substrate 100 after immersing the substrate 100 in the raw material liquid in the storage tank 108 by the transport unit 109. Note that, if necessary, it is preferable to mask a portion that does not require film formation or to remove an unnecessary portion after forming a thin film on the entire surface of the base material.

例えば、含フッ素ポリイミド樹脂等を基材上に塗布することで撥水膜を形成することができる。撥水性高分子化合物としては、上記ポリイミド樹脂に限らず、分子内にフッ素原子を含有するモノマー、オリゴマー又はポリマーを用いることができ、具体的には、ポリ4フッ化エチレン(PTFE)、エチレン−4フッ化エチレン共重合体、6フッ化プロピレン−4フッ化エチレン共重合体、ポリフッ化ビニリデン(PVdF)、ポリ(ペンタデカフルオロヘプチルエチルメタクリレート)(PPFMA)、ポリ(パーフルオロオクチルエチルアクリレート)等の長鎖パーフルオロアルキル構造を有するエチレン、アクリレート、メタクリレート、ビニル、ウレタン、シリコーン系ポリマーを例示できる。   For example, a water-repellent film can be formed by applying a fluorine-containing polyimide resin or the like on a substrate. The water-repellent polymer compound is not limited to the polyimide resin, and a monomer, oligomer or polymer containing a fluorine atom in the molecule can be used. Specifically, polytetrafluoroethylene (PTFE), ethylene- Tetrafluoroethylene copolymer, hexafluoropropylene-4-fluoroethylene copolymer, polyvinylidene fluoride (PVdF), poly (pentadecafluoroheptylethyl methacrylate) (PPFMA), poly (perfluorooctylethyl acrylate), etc. Examples thereof include ethylene, acrylate, methacrylate, vinyl, urethane and silicone polymers having a long-chain perfluoroalkyl structure.

なお、基材の表面に撥水膜を形成する処理は、所望の撥水性を有するフィルム、例えば4フッ化エチレン加工されたポリイミドフィルム等を基材の表面に貼着することによって行ってもよい。   The treatment for forming the water repellent film on the surface of the substrate may be performed by sticking a film having a desired water repellency, such as a polyimide film processed with tetrafluoroethylene, to the surface of the substrate. .

上記の撥水膜90の形成方法では、必要に応じて、基材100(液晶セル)が加熱される。例えば、撥水膜90の乾燥及び/又は硬化のための加熱、あるいはCVDに伴う温度上昇があげられる。こうした撥水膜90の形成工程における液晶セル100に加わる熱を用いて、液晶の等方処理を行うことにより、液晶セル100の製造工程の簡素化が図られる。すなわち、液晶セル100の組立後かつ撥水膜90の形成前に液晶の等方処理を行うことに代えて、液晶セル100の組立後に、撥水膜90の形成に伴う液晶セル100の温度上昇を利用して液晶の等方処理を行う。熱処理温度は液晶セル100の特性を劣化させない範囲内であるのが好ましく、例えば80℃〜150℃である。   In the method of forming the water repellent film 90 described above, the substrate 100 (liquid crystal cell) is heated as necessary. For example, heating for drying and / or curing of the water-repellent film 90, or a temperature increase associated with CVD can be given. By using the heat applied to the liquid crystal cell 100 in the process of forming the water repellent film 90, the liquid crystal cell 100 is simplified by performing an isotropic treatment of the liquid crystal. That is, the temperature rise of the liquid crystal cell 100 due to the formation of the water repellent film 90 after the assembly of the liquid crystal cell 100 instead of performing the isotropic treatment of the liquid crystal after the assembly of the liquid crystal cell 100 and before the formation of the water repellent film 90. The liquid crystal isotropically processed using The heat treatment temperature is preferably within a range that does not deteriorate the characteristics of the liquid crystal cell 100, and is, for example, 80 ° C to 150 ° C.

図5、図6及び図7は、図1の変形例を示している。
図5の液晶装置(液晶セル120)は、図1と同様に、互いに対向する一対の基板10,20間に、液晶50(液晶層)を挟持した構成を有しており、一方の基板10の内面側(対向面側)には、透光性導電膜9(画素電極)と、配向膜40とが順次配設され、他方の基板20の内面側(対向面側)には、透光性導電膜21(共通電極、対向電極)と、配向膜60とが順次形成されている。また、図5の液晶セル100は、図1と異なり、液晶セル120の外面すべてに、撥水膜90が形成されている。
5, 6 and 7 show a modification of FIG.
The liquid crystal device (liquid crystal cell 120) of FIG. 5 has a configuration in which a liquid crystal 50 (liquid crystal layer) is sandwiched between a pair of substrates 10 and 20 facing each other, as in FIG. A light-transmitting conductive film 9 (pixel electrode) and an alignment film 40 are sequentially disposed on the inner surface side (opposing surface side) of the other substrate 20. The conductive film 21 (common electrode, counter electrode) and the alignment film 60 are sequentially formed. Further, unlike the liquid crystal cell 100 in FIG. 5, a water repellent film 90 is formed on the entire outer surface of the liquid crystal cell 120.

すなわち、図5の液晶セル120では、撥水膜90は、基板10,20、導電膜9,21、配向膜40,60、及びシール材52の各側面に加え、基板10,20の外面を連続的にかつ全域にわたって覆うように配設されている。そして、本例の液晶セル120では、図1と同様に、撥水膜90によって導電膜9,21、配向膜40,60、及びシール材52の各側面からの吸湿が防止され、さらに、基板10,20と導電膜9,21との接合部分、導電膜9,21と配向膜40,60との接合部分、及び配向膜40,60とシール材52との接合部分がそれぞれ、撥水膜90に覆われることから、それらの接合部分から装置内部への水分の浸入が防止される。さらに本例の液晶セル120では、部分的な膜形成が不要であることから、撥水膜90の形成が容易である。   That is, in the liquid crystal cell 120 of FIG. 5, the water repellent film 90 covers the outer surfaces of the substrates 10 and 20 in addition to the side surfaces of the substrates 10 and 20, the conductive films 9 and 21, the alignment films 40 and 60, and the sealing material 52. It arrange | positions so that it may cover continuously and the whole region. In the liquid crystal cell 120 of this example, as in FIG. 1, the water repellent film 90 prevents moisture absorption from the side surfaces of the conductive films 9, 21, the alignment films 40, 60, and the sealing material 52, and the substrate 10, 20 and the conductive films 9, 21, the conductive films 9, 21 and the alignment films 40, 60, and the alignment films 40, 60 and the sealing material 52 are bonded to the water repellent film, respectively. Since it is covered with 90, the intrusion of moisture into the inside of the apparatus from those joint portions is prevented. Further, in the liquid crystal cell 120 of the present example, the formation of the water repellent film 90 is easy because partial film formation is unnecessary.

次に、図6の液晶装置(液晶パネル130)は、図1と異なり、基板10,20の外面側に、偏光板45,65と、防塵板46,66とが配設されており、偏光板45,65の側面と防塵板46,66の側面とをさらに覆って撥水膜90が形成されている。すなわち、撥水膜90は、基板10,20、導電膜9,21、配向膜40,60、及びシール材52の各側面に加え、偏光板45,65,及び防塵板46,66の各側面を連続的にかつ全周にわたって覆うように配設されている。そして、本例の液晶パネル130では、基板10,20と導電膜9,21との接合部分、導電膜9,21と配向膜40,60との接合部分、及び配向膜40,60とシール材52との接合部分に加え、基板10,20と偏光板45,65との接合部分、偏光板45,65と防塵板46,66との接合部分がそれぞれ、撥水膜90に覆われることから、それらの接合部分から装置内部への水分の浸入が防止される。   Next, unlike the liquid crystal device (liquid crystal panel 130) of FIG. 6, polarizing plates 45 and 65 and dustproof plates 46 and 66 are disposed on the outer surface side of the substrates 10 and 20, and polarized light is polarized. A water repellent film 90 is formed to further cover the side surfaces of the plates 45 and 65 and the side surfaces of the dustproof plates 46 and 66. That is, the water repellent film 90 is formed on the side surfaces of the polarizing plates 45 and 65 and the dustproof plates 46 and 66 in addition to the side surfaces of the substrates 10 and 20, the conductive films 9 and 21, the alignment films 40 and 60, and the sealing material 52. Are arranged continuously and over the entire circumference. And in the liquid crystal panel 130 of this example, the junction part of the board | substrates 10 and 20 and the electrically conductive films 9 and 21, the junction part of the electrically conductive films 9 and 21 and the orientation films 40 and 60, and the orientation films 40 and 60, and a sealing material In addition to the bonding portion with 52, the bonding portion between the substrates 10 and 20 and the polarizing plates 45 and 65 and the bonding portion between the polarizing plates 45 and 65 and the dustproof plates 46 and 66 are covered with the water repellent film 90, respectively. Intrusion of moisture into the inside of the apparatus from these joint portions is prevented.

次に、図7の液晶装置(液晶パネル140)は、図1と異なり、偏光板45,65、及び防塵板46,66を含めた液晶パネル140の外面すべてに、撥水膜90が形成されている。   Next, unlike the liquid crystal device (liquid crystal panel 140) in FIG. 7, the water repellent film 90 is formed on all the outer surfaces of the liquid crystal panel 140 including the polarizing plates 45 and 65 and the dustproof plates 46 and 66. ing.

すなわち、図7の液晶パネル140では、撥水膜90は、基板10,20、導電膜9,21、配向膜40,60、シール材52、偏光板45,65、及び防塵板46,66の各側面に加え、防塵板46,66の外面を連続的にかつ全域にわたって覆うように配設されている。そして、本例の液晶パネル140では、基板10,20と導電膜9,21との接合部分、導電膜9,21と配向膜40,60との接合部分、及び配向膜40,60とシール材52との接合部分に加え、基板10,20と偏光板45,65との接合部分、偏光板45,65と防塵板46,66との接合部分がそれぞれ、撥水膜90に覆われることから、それらの接合部分から装置内部への水分の浸入が防止され、さらに、部分的な膜形成が不要であることから、撥水膜90の形成が容易である。   That is, in the liquid crystal panel 140 of FIG. 7, the water repellent film 90 includes the substrates 10 and 20, the conductive films 9 and 21, the alignment films 40 and 60, the sealing material 52, the polarizing plates 45 and 65, and the dustproof plates 46 and 66. In addition to the side surfaces, the outer surfaces of the dustproof plates 46 and 66 are disposed continuously and over the entire area. In the liquid crystal panel 140 of this example, the junction between the substrates 10 and 20 and the conductive films 9 and 21, the junction between the conductive films 9 and 21 and the alignment films 40 and 60, and the alignment films 40 and 60 and the sealing material are used. In addition to the bonding portion with 52, the bonding portion between the substrates 10 and 20 and the polarizing plates 45 and 65 and the bonding portion between the polarizing plates 45 and 65 and the dustproof plates 46 and 66 are covered with the water repellent film 90, respectively. In addition, the infiltration of moisture into the inside of the apparatus from these joint portions is prevented, and the formation of the water-repellent film 90 is easy because partial film formation is unnecessary.

次に、図8の液晶装置(液晶セル150)は、図1と同様に、撥水膜90が、基板10,20、導電膜9,21、配向膜40,60、及びシール材52の各側面を連続的にかつ全域にわたって覆うように配設されている。また、図8の液晶セル150は、図1と異なり、基板10,20の側面に比べてシール材52の側面が内方に位置し、その段差に沿って連続的に撥水膜90が形成されている。   Next, in the liquid crystal device (liquid crystal cell 150) of FIG. 8, each of the water repellent film 90 includes the substrates 10 and 20, the conductive films 9 and 21, the alignment films 40 and 60, and the sealing material 52, as in FIG. It is arrange | positioned so that a side surface may be covered continuously and over the whole region. 8 is different from FIG. 1 in that the side surface of the sealing material 52 is located inward compared to the side surfaces of the substrates 10 and 20, and the water repellent film 90 is continuously formed along the step. Has been.

すなわち、図8の液晶セル150では、シール材52の側面が基板10,20の側面に比べて凹んでおり、基板10,20、導電膜9,21、及び配向膜40,60の側面に加え、その凹部に撥水膜90が充填されている。そして、撥水膜90の膜厚に関して、基板10,20、導電膜9,21、及び配向膜40,60の各側面位置に比べて、シール材52の側面位置が厚くなっている。本例の液晶セル150では、厚膜の撥水膜90に覆われた部分、すなわち、配向膜40.60の側面、及び導電膜9,21と配向膜40,60との接合部分、の吸湿あるいは水分の浸入がより確実に防止される。さらに、本例の液晶セル150では、撥水膜90の一面に段差が形成され、その段差部分が液晶セル150の側面に係合した状態となることから、撥水膜90の密着性の向上が図られる。   That is, in the liquid crystal cell 150 of FIG. 8, the side surface of the sealing material 52 is recessed compared to the side surfaces of the substrates 10 and 20, and in addition to the side surfaces of the substrates 10 and 20, the conductive films 9 and 21, and the alignment films 40 and 60. The concave portion is filled with a water repellent film 90. Further, with respect to the film thickness of the water repellent film 90, the side surface position of the sealing material 52 is thicker than the side surface positions of the substrates 10 and 20, the conductive films 9 and 21, and the alignment films 40 and 60. In the liquid crystal cell 150 of this example, moisture absorption of the portion covered with the thick water-repellent film 90, that is, the side surface of the alignment film 40.60 and the bonding portion between the conductive films 9, 21 and the alignment films 40, 60 is performed. Alternatively, the intrusion of moisture is more reliably prevented. Further, in the liquid crystal cell 150 of this example, a step is formed on one surface of the water repellent film 90, and the step portion is engaged with the side surface of the liquid crystal cell 150, so that the adhesion of the water repellent film 90 is improved. Is planned.

次に、本発明の液晶装置の具体的な構成例について説明する。
図9は本実施形態の液晶装置の全体構造を示す平面図である。図10は図9の液晶装置の縦断面図である。図11は本実施形態の液晶装置の画像表示領域を構成するマトリックス状に配置された複数の画素におけるスイッチング素子、信号線等を示す等価回路図である。
Next, a specific configuration example of the liquid crystal device of the present invention will be described.
FIG. 9 is a plan view showing the overall structure of the liquid crystal device of this embodiment. FIG. 10 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal device of FIG. FIG. 11 is an equivalent circuit diagram showing switching elements, signal lines, and the like in a plurality of pixels arranged in a matrix constituting the image display area of the liquid crystal device of this embodiment.

図9及び図10に示すように、この液晶装置(透過型液晶セル150)は、TFTアレイ基板10と対向基板20とがシール材52によって貼り合わされ、このシール材52によって区画された領域内に液晶50が封入、保持されている。シール材52には、製造時においてTFTアレイ基板10と対向基板20とを貼り合わせた後に液晶を注入するための液晶注入口55が形成されており、該液晶注入口55は液晶注入後に封止材54により封止されている。   As shown in FIGS. 9 and 10, in this liquid crystal device (transmission type liquid crystal cell 150), the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded together by a sealing material 52, and the region separated by the sealing material 52 is included. Liquid crystal 50 is enclosed and held. The sealing material 52 is formed with a liquid crystal injection port 55 for injecting liquid crystal after the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded together at the time of manufacturing. The liquid crystal injection port 55 is sealed after the liquid crystal injection. It is sealed with a material 54.

シール材52の内側の領域には、遮光性材料からなる周辺見切り(図示略)が形成される一方、シール材52の外側の領域には、データ線駆動回路201及び実装端子202がTFTアレイ基板10の一辺に沿って形成されており、この一辺に隣接する2辺に沿って走査線駆動回路204が形成されている。TFTアレイ基板10の残る一辺には、画像表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路204の間を接続するための複数の配線205が設けられている。   A peripheral part (not shown) made of a light-shielding material is formed in a region inside the sealing material 52, while a data line driving circuit 201 and a mounting terminal 202 are provided in the TFT array substrate in a region outside the sealing material 52. The scanning line driving circuit 204 is formed along two sides adjacent to the one side. On the remaining side of the TFT array substrate 10, a plurality of wirings 205 are provided for connecting between the scanning line driving circuits 204 provided on both sides of the image display area.

図11に示すように、画像表示領域を構成するマトリックス状に配置された複数の画素に、画素電極9と、この画素電極9を制御するためのスイッチング素子であるTFT素子30とがそれぞれ形成されており、画像信号が供給されるデータ線6aが当該TFT素子30のソースに電気的に接続されている。データ線6aに供給される画像信号S1、S2、…、Snは、この順に線順次に供給されるか、あるいは相隣接する複数のデータ線6aに対してグループ毎に供給される。   As shown in FIG. 11, a pixel electrode 9 and a TFT element 30 that is a switching element for controlling the pixel electrode 9 are formed on a plurality of pixels arranged in a matrix that forms an image display area. The data line 6 a to which the image signal is supplied is electrically connected to the source of the TFT element 30. The image signals S1, S2,..., Sn supplied to the data line 6a are supplied line-sequentially in this order, or are supplied for each group to a plurality of adjacent data lines 6a.

また、走査線3aがTFT素子30のゲートに電気的に接続されており、複数の走査線3aに対して走査信号G1、G2、…、Gmが所定のタイミングでパルス的に線順次で印加される。また、画素電極9はTFT素子30のドレインに電気的に接続されており、このTFT素子30を一定期間だけオン状態とすることにより、データ線6aから供給される画像信号S1、S2、…、Snを所定のタイミングで書き込むようになっている。   In addition, the scanning line 3a is electrically connected to the gate of the TFT element 30, and scanning signals G1, G2,..., Gm are applied to the plurality of scanning lines 3a in a pulse-sequential manner at predetermined timing. The The pixel electrode 9 is electrically connected to the drain of the TFT element 30. By turning on the TFT element 30 for a certain period, the image signals S1, S2,. Sn is written at a predetermined timing.

画素電極9を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号S1、S2、…、Snは、後述する共通電極との間で一定期間保持される。この液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能にする。保持された画像信号がリークすることを防止するために、画素電極9と共通電極との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量17が付加されている。   A predetermined level of image signals S1, S2,..., Sn written to the liquid crystal via the pixel electrode 9 is held for a certain period with the common electrode described later. This liquid crystal modulates light by changing the orientation and order of the molecular assembly according to the applied voltage level, thereby enabling gradation display. In order to prevent the held image signal from leaking, a storage capacitor 17 is added in parallel with the liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 9 and the common electrode.

図9及び図10に戻り、TFTアレイ基板10の液晶層50側の表面には、画素電極9と、電圧無印加時における液晶層50内の液晶分子の配向を制御するための配向膜40が形成されている。なお、TFTアレイ基板10の液晶層50側と反対側の表面には、所定の偏光のみを透過する偏光板、及び必要に応じて防塵板が配設される。   Returning to FIGS. 9 and 10, the pixel electrode 9 and the alignment film 40 for controlling the alignment of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 50 when no voltage is applied are formed on the surface of the TFT array substrate 10 on the liquid crystal layer 50 side. Is formed. A polarizing plate that transmits only predetermined polarized light and, if necessary, a dustproof plate are disposed on the surface of the TFT array substrate 10 opposite to the liquid crystal layer 50 side.

他方、対向基板20の液晶層50側の表面には、ITO等の透明電極材料からなる共通電極21と、電圧無印加時における液晶層50内の液晶分子の配向を制御するための配向膜60とが形成されている。なお、TFTアレイ基板10の液晶層50側と反対側の表面には、所定の偏光のみを透過する偏光板、及び必要に応じて防塵板が配設される。   On the other hand, on the surface of the counter substrate 20 on the liquid crystal layer 50 side, a common electrode 21 made of a transparent electrode material such as ITO and an alignment film 60 for controlling the alignment of liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 50 when no voltage is applied. And are formed. A polarizing plate that transmits only predetermined polarized light and, if necessary, a dustproof plate are disposed on the surface of the TFT array substrate 10 opposite to the liquid crystal layer 50 side.

そして、本例の液晶セル150では、基板10、導電膜9,21、配向膜40,60、及びシール材52の各側面(端面)を連続的にかつ全周にわたって覆うように撥水膜90が配設されている。なお、電極や配線(データ線駆動回路201、実装端子202、配線205など)などの撥水膜の不要な部分は、予めマスキングした後に成膜を行ったり、成膜後に撥水膜を除去するなどにより、露出している。   In the liquid crystal cell 150 of this example, the water repellent film 90 is formed so as to continuously cover the entire side surface (end surface) of the substrate 10, the conductive films 9 and 21, the alignment films 40 and 60, and the sealing material 52. Is arranged. Note that unnecessary portions of the water-repellent film such as electrodes and wiring (data line driving circuit 201, mounting terminal 202, wiring 205, etc.) are masked in advance and then formed or removed after film formation. It is exposed by such as.

その結果、本例の液晶セル150では、撥水膜90によって導電膜9,21、配向膜40,60、及びシール材52の各側面からの吸湿が防止され、さらに、基板10,20と導電膜9,21との接合部分、導電膜9,21と配向膜40,60との接合部分、及び配向膜40,60とシール材52との接合部分がそれぞれ、撥水膜90に覆われることから、それらの接合部分から装置内部への水分の浸入が防止される。   As a result, in the liquid crystal cell 150 of this example, the water-repellent film 90 prevents moisture absorption from the side surfaces of the conductive films 9 and 21, the alignment films 40 and 60, and the sealing material 52. The junction between the films 9 and 21, the junction between the conductive films 9 and 21 and the alignment films 40 and 60, and the junction between the alignment films 40 and 60 and the sealing material 52 are covered with the water repellent film 90. Thus, moisture can be prevented from entering the inside of the apparatus from these joint portions.

なお、本実施形態においては、TNモードの液晶装置についてのみ説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、本発明は、垂直配向モード、STN(Super Twisted Nematic)モードなど、電圧無印加時の液晶分子の配向状態がいかなる液晶装置にも適用することができる。本発明を、垂直配向モードの液晶装置に適用する場合には、液晶層を、液晶分子の長短軸方向が短長軸方向に比較して分極しやすい、正負の誘電率異方性を有する液晶により構成すれば良い。この場合には、電圧無印加時に、液晶層内の液晶分子が配向膜によって制御され、所定の方向に配列するのに対し、電圧印加時には、液晶層内の液晶分子が、その長軸方向を一対の基板間に発生する縦電界の方向に対して略垂直平行方向に向けて配列するため、電圧無印加時、電圧印加時における液晶分子の配列を光学的に識別し、表示を行うことができる。   In the present embodiment, only the TN mode liquid crystal device has been described. However, the present invention is not limited to this, and the present invention is not limited to the vertical alignment mode, the STN (Super Twisted Nematic) mode, and the like. The alignment state of the liquid crystal molecules during heating can be applied to any liquid crystal device. When the present invention is applied to a vertical alignment mode liquid crystal device, the liquid crystal layer has a positive and negative dielectric anisotropy in which the major and minor axis directions of the liquid crystal molecules are more easily polarized than the minor and major axis directions. May be configured. In this case, when no voltage is applied, the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer are controlled by the alignment film and are aligned in a predetermined direction, whereas when a voltage is applied, the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer have their major axis direction changed. Since it is arranged in a direction substantially perpendicular to the direction of the vertical electric field generated between the pair of substrates, the arrangement of liquid crystal molecules when no voltage is applied and when the voltage is applied can be optically identified and displayed. it can.

図12は、パッシブマトリックス型の透過型液晶装置の全体構成を示す斜視図である。
この透過型液晶装置は、液晶層(図示略)を挟持して対向配置された一対の基板70,80を具備して概略構成されている。
FIG. 12 is a perspective view showing the overall configuration of a passive matrix transmissive liquid crystal device.
This transmissive liquid crystal device is schematically configured to include a pair of substrates 70 and 80 arranged to face each other with a liquid crystal layer (not shown) interposed therebetween.

より詳細には、基板70は、基板本体71の液晶層側表面に、ストライプ状に形成された多数の透明電極72と、イオン吸着性微粒子を含有してなる保護膜(図示略)と配向膜(図示略)とを順次具備して構成されている。また、基板80は、基板本体81の液晶層側表面に、ストライプ状に形成された多数の透明電極82と、イオン吸着性微粒子を含有してなる保護膜(図示略)と配向膜(図示略)とを順次具備して構成されている。   More specifically, the substrate 70 includes a plurality of transparent electrodes 72 formed in a stripe shape on the surface of the substrate body 71 on the liquid crystal layer side, a protective film (not shown) and an alignment film containing ion-adsorbing fine particles. (Not shown) are sequentially provided. The substrate 80 includes a large number of transparent electrodes 82 formed in a stripe pattern on the surface of the substrate body 81 on the liquid crystal layer side, a protective film (not shown) containing ion-adsorbing fine particles, and an alignment film (not shown). ) In order.

なお、図示するように、基板70の透明電極72と基板80の透明電極82とは互いに交差する方向に形成されている。また、一対の基板70,80の側面には、全周に不図示の撥水膜が連続的に形成されている。   As shown in the figure, the transparent electrode 72 of the substrate 70 and the transparent electrode 82 of the substrate 80 are formed in a direction crossing each other. A water repellent film (not shown) is continuously formed on the entire sides of the side surfaces of the pair of substrates 70 and 80.

このように、本発明は、パッシブマトリックス型の透過型液晶装置にも適用することができ、アクティブマトリックス型の透過型液晶装置と同様の効果を得ることができる。   As described above, the present invention can also be applied to a passive matrix transmissive liquid crystal device, and the same effect as that of an active matrix transmissive liquid crystal device can be obtained.

上記の各実施形態においては、TFT素子を用いたアクティブマトリックス型の透過型液晶装置、パッシブマトリックス型の透過型液晶装置についてのみ説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、TFD(Thin-Film Diode)素子に代表される2端子型素子を用いたアクティブマトリックス型液晶装置等にも適用可能である。   In each of the above-described embodiments, only the active matrix type transmissive liquid crystal device and the passive matrix type transmissive liquid crystal device using TFT elements have been described. However, the present invention is not limited to these, and TFD ( The present invention can also be applied to an active matrix liquid crystal device using a two-terminal element typified by a thin-film diode element.

また、上記の各実施形態においては、透過型液晶装置を取り上げて説明したが、本発明は、一対の基板を貼り合わせた後にそれらの基板の外面に撥水膜を形成した構成であればよく、上記の各実施形態に限定されるものではない。例えば、透過型液晶装置以外の反射型液晶装置、半透過反射型液晶装置にも適用可能であり、いかなる構造の液晶装置にも適用することができる。   In each of the above embodiments, the transmissive liquid crystal device has been taken up and described. However, the present invention only needs to have a structure in which a water-repellent film is formed on the outer surfaces of a pair of substrates after the substrates are bonded together. The invention is not limited to the above embodiments. For example, the present invention can be applied to a reflective liquid crystal device other than a transmissive liquid crystal device and a transflective liquid crystal device, and can be applied to a liquid crystal device having any structure.

(電子機器)
次に、本発明の電子機器の一例としてプロジェクタについて説明する。
図13は、プロジェクタを概略的に示す図である。
このプロジェクタPJ1は、本発明の液晶装置を光変調手段(液晶ライトバルブ)として用いており、R(赤)、G(緑)、B(青)の異なる色毎に透過型液晶ライトバルブを備えた3板式の間欠表示型カラー液晶プロジェクタである。
(Electronics)
Next, a projector will be described as an example of the electronic apparatus of the invention.
FIG. 13 schematically shows the projector.
This projector PJ1 uses the liquid crystal device of the present invention as a light modulation means (liquid crystal light valve), and includes a transmissive liquid crystal light valve for each of different colors of R (red), G (green), and B (blue). 3 plate type intermittent display type color liquid crystal projector.

図13に示すように、プロジェクタPJ1は、光源810と、ダイクロイックミラー813,814と、反射ミラー815,816,817と、入射レンズ818と、リレーレンズ819と、射出レンズ820と、液晶ライトバルブ822,823,824と、クロスダイクロイックプリズム825と、投射レンズ826とを備えて構成されている。   As shown in FIG. 13, the projector PJ1 includes a light source 810, dichroic mirrors 813, 814, reflection mirrors 815, 816, 817, an incident lens 818, a relay lens 819, an exit lens 820, and a liquid crystal light valve 822. , 823, 824, a cross dichroic prism 825, and a projection lens 826.

光源810は、メタルハライド等のランプ811とランプの光を反射するリフレクタ812とを含む。
ダイクロイックミラー813は、光源810からの白色光に含まれる赤色光を透過させるとともに、青色光と緑色光とを反射する。透過した赤色光は反射ミラー817で反射されて、赤色光用液晶ライトバルブ822に入射する。また、ダイクロイックミラー813で反射された緑色光は、ダイクロイックミラー814によって反射され、緑色光用液晶ライトバルブ822に入射する。さらに、ダイクロイックミラー813で反射された青色光は、ダイクロイックミラー814を透過する。青色光に対しては、長い光路による光損失を防ぐため、入射レンズ818、リレーレンズ819および射出レンズ820を含むリレーレンズ系からなる導光手段821が設けられている。この導光手段821を介して、青色光が青色光用液晶ライトバルブ824に入射する。
The light source 810 includes a lamp 811 such as a metal halide and a reflector 812 that reflects the light of the lamp.
The dichroic mirror 813 transmits red light contained in white light from the light source 810 and reflects blue light and green light. The transmitted red light is reflected by the reflection mirror 817 and enters the red light liquid crystal light valve 822. The green light reflected by the dichroic mirror 813 is reflected by the dichroic mirror 814 and enters the liquid crystal light valve 822 for green light. Further, the blue light reflected by the dichroic mirror 813 passes through the dichroic mirror 814. For blue light, in order to prevent light loss due to a long optical path, a light guide means 821 including a relay lens system including an incident lens 818, a relay lens 819, and an exit lens 820 is provided. Blue light is incident on the blue light liquid crystal light valve 824 via the light guiding means 821.

各液晶ライトバルブ822,823,824により変調された3つの色光は、クロスダイクロイックプリズム825に入射する。このクロスダイクロイックプリズム825は4つの直角プリズムを貼り合わせたものであり、その界面には赤光を反射する誘電体多層膜と青光を反射する誘電体多層膜とがX字状に形成されている。これらの誘電体多層膜により3つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が形成される。合成された光は、投射光学系である投射レンズ826によってスクリーン827上に投影され、画像が拡大されて表示される。   The three color lights modulated by the liquid crystal light valves 822, 823, and 824 are incident on the cross dichroic prism 825. The cross dichroic prism 825 is formed by bonding four right-angle prisms. A dielectric multilayer film that reflects red light and a dielectric multilayer film that reflects blue light are formed in an X shape at the interface. Yes. These dielectric multilayer films combine the three color lights to form light representing a color image. The synthesized light is projected onto the screen 827 by the projection lens 826 which is a projection optical system, and the image is enlarged and displayed.

上述したプロジェクタPJ1によれば、液晶ライトバルブ822,823,824における吸湿や水の侵入による表示品質の低下が防止されるから、表示品質の向上が図られる。   According to the projector PJ1 described above, the display quality is prevented from deteriorating due to moisture absorption or water intrusion in the liquid crystal light valves 822, 823, and 824, so that the display quality can be improved.

なお、本例では赤色光用,緑色光用,青色光用の各液晶ライトバルブに本発明の液晶装置を採用したが、係る液晶装置は必ずしも全ての液晶ライトバルブに適用される必要はなく、少なくともR,G,Bのうちのいずれかの液晶ライトバルブに適用すれば、その効果を得ることができる。光のエネルギーが高い青色光(B)用の液晶ライトバルブに本発明の液晶装置を適用すると特に効果的である。
また、3板式の投射型表示装置(プロジェクタ)を例にして説明したが、単板式の投射型表示装置や直視型表示装置に本発明を適用することも可能である。
In this example, the liquid crystal device of the present invention is adopted for each of the liquid crystal light valves for red light, green light, and blue light. However, the liquid crystal device is not necessarily applied to all liquid crystal light valves. When applied to at least one of the liquid crystal light valves of R, G, and B, the effect can be obtained. The liquid crystal device of the present invention is particularly effective when applied to a liquid crystal light valve for blue light (B) having high light energy.
Further, although the description has been given by taking a three-plate projection display device (projector) as an example, the present invention can also be applied to a single-plate projection display device or a direct-view display device.

また、本発明の液晶装置を、プロジェクタ以外の電子機器に適用することも可能である。その具体例として、本発明の液晶装置を表示部に備えた携帯電話を挙げることができる。また、その他の電子機器としては、例えば、ビデオカメラ、パーソナルコンピュータ、ヘッドマウントディスプレイ、さらに表示機能付きファックス装置、デジタルカメラのファインダ、携帯型TV、PDA(Personal Digital Assistant)、電子手帳、電光掲示盤、宣伝公告用ディスプレイ等が挙げられる。   The liquid crystal device of the present invention can also be applied to electronic devices other than projectors. As a specific example, a mobile phone including the liquid crystal device of the present invention in a display portion can be given. Other electronic devices include, for example, a video camera, a personal computer, a head mounted display, a fax machine with a display function, a digital camera finder, a portable TV, a PDA (Personal Digital Assistant), an electronic notebook, and an electric bulletin board. And advertising announcement displays.

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   As described above, the preferred embodiments according to the present invention have been described with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to the examples. It is obvious for those skilled in the art that various changes or modifications can be conceived within the scope of the technical idea described in the claims. It is understood that it belongs to.

本発明の液晶装置の一例としての液晶セルを示す模式断面図。1 is a schematic cross-sectional view showing a liquid crystal cell as an example of a liquid crystal device of the present invention. 撥水膜の形成方法の一例を説明するための図。The figure for demonstrating an example of the formation method of a water repellent film. 撥水膜の他の形成方法を説明するための図。The figure for demonstrating the other formation method of a water repellent film. 撥水膜の別の形成方法を説明するための図。The figure for demonstrating another formation method of a water repellent film. 図1の液晶装置の変形例を示す図。FIG. 6 is a diagram showing a modification of the liquid crystal device in FIG. 1. 図1の液晶装置の変形例を示す図。FIG. 6 is a diagram showing a modification of the liquid crystal device in FIG. 1. 図1の液晶装置の変形例を示す図。FIG. 6 is a diagram showing a modification of the liquid crystal device in FIG. 1. 図1の液晶装置の変形例を示す図。FIG. 6 is a diagram showing a modification of the liquid crystal device in FIG. 1. 液晶装置の全体構造を示す平面図。The top view which shows the whole structure of a liquid crystal device. 図9の液晶装置の縦断面図。FIG. 10 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal device of FIG. 9. 透過型液晶装置の画像表示領域を示す等価回路図。FIG. 6 is an equivalent circuit diagram illustrating an image display area of the transmissive liquid crystal device. パッシブマトリックス型の透過型液晶装置を示す斜視図。FIG. 6 is a perspective view illustrating a passive matrix transmissive liquid crystal device. プロジェクタの一例を概略的に示す図。FIG. 2 schematically shows an example of a projector.

符号の説明Explanation of symbols

10…TFTアレイ基板、20…対向基板、9…画素電極(導電膜)、21…共通電極(導電膜)、50…液晶層、52…シール材、40,60…配向膜、70…下側基板、80…上側基板、90…撥水膜、100,120,150…液晶セル(液晶装置)、130,140…液晶パネル(液晶装置)、PJ1…プロジェクタ。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... TFT array substrate, 20 ... Counter substrate, 9 ... Pixel electrode (conductive film), 21 ... Common electrode (conductive film), 50 ... Liquid crystal layer, 52 ... Sealing material, 40, 60 ... Alignment film, 70 ... Lower side Substrate, 80 ... upper substrate, 90 ... water repellent film, 100, 120, 150 ... liquid crystal cell (liquid crystal device), 130, 140 ... liquid crystal panel (liquid crystal device), PJ1 ... projector.

Claims (8)

互いに対向する一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶装置であって、
前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板の内面側には、導電膜と配向膜とを含む複数の膜が形成されており、
前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板の側面には、該基板の側面と前記複数の膜の側面とを連続的に覆う撥水膜が形成されていることを特徴とする液晶装置。
A liquid crystal device having a liquid crystal sandwiched between a pair of substrates facing each other,
A plurality of films including a conductive film and an alignment film are formed on the inner surface side of at least one of the pair of substrates,
A liquid crystal device, wherein a water repellent film that continuously covers a side surface of the substrate and side surfaces of the plurality of films is formed on a side surface of at least one of the pair of substrates.
前記一対の基板間にはシール材が配設されており、
前記撥水膜はさらに、前記シール材の側面を覆っていることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
A sealing material is disposed between the pair of substrates,
The liquid crystal device according to claim 1, wherein the water repellent film further covers a side surface of the sealing material.
前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板の外面側には、偏光板と防塵板とが配設されており、
前記撥水膜はさらに、前記偏光板及び前記防塵板の各側面を覆っていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の液晶装置。
On the outer surface side of at least one of the pair of substrates, a polarizing plate and a dustproof plate are disposed,
The liquid crystal device according to claim 1, wherein the water repellent film further covers each side surface of the polarizing plate and the dustproof plate.
複数の膜がそれぞれ形成された一対の基板を貼り合わせる工程と、
前記一対の基板間に液晶を配置する工程と、
前記液晶を挟持した一対の基板の側面に、該基板の側面と前記複数の膜の側面とを連続的に覆う撥水膜を形成する工程とを含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
Bonding a pair of substrates each having a plurality of films formed thereon;
Placing a liquid crystal between the pair of substrates;
And a step of forming a water repellent film continuously covering the side surfaces of the substrate and the side surfaces of the plurality of films on the side surfaces of the pair of substrates sandwiching the liquid crystal.
前記撥水膜の形成材料が、有機撥水材料及び/又は無機撥水材料であることを特徴とする請求項4に記載の液晶装置の製造方法。   The method for producing a liquid crystal device according to claim 4, wherein the water repellent film forming material is an organic water repellent material and / or an inorganic water repellent material. 液相法及び/又は気相法を用いて前記撥水膜を形成することを特徴とする請求項4または請求項5に記載の液晶装置の製造方法。   6. The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 4, wherein the water-repellent film is formed using a liquid phase method and / or a gas phase method. 前記撥水膜の形成工程における前記液晶装置に加わる熱を用いて前記液晶の等方処理を行うことを特徴とする請求項4から請求項6のいずれかに記載の液晶装置の製造方法。   The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 4, wherein isotropic treatment of the liquid crystal is performed using heat applied to the liquid crystal device in the step of forming the water repellent film. 請求項1から請求項3のいずれかに記載の液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。
An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2010211647A (en) * 2009-03-11 2010-09-24 Seiko Epson Corp Touch panel device, electrooptical device and electronic apparatus
JP2011170256A (en) * 2010-02-22 2011-09-01 Stanley Electric Co Ltd Planar member with coating film, liquid crystal display device, and method for manufacturing the same
WO2012042787A1 (en) * 2010-09-27 2012-04-05 シャープ株式会社 Liquid crystal module and electronic device
JP2015031905A (en) * 2013-08-06 2015-02-16 セイコーエプソン株式会社 Method for manufacturing electro-optic device, electro-optic device, and electronic equipment
JP2020510871A (en) * 2017-08-21 2020-04-09 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Boe Technology Group Co.,Ltd. Display substrate, display device, and method of manufacturing display substrate
JP2020532764A (en) * 2017-09-04 2020-11-12 深▲セン▼市華星光電技術有限公司 Liquid crystal display unit

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1930983A2 (en) 2006-12-07 2008-06-11 Hirose Electric Co., Ltd. Electrical connector
JP2010211647A (en) * 2009-03-11 2010-09-24 Seiko Epson Corp Touch panel device, electrooptical device and electronic apparatus
JP2011170256A (en) * 2010-02-22 2011-09-01 Stanley Electric Co Ltd Planar member with coating film, liquid crystal display device, and method for manufacturing the same
WO2012042787A1 (en) * 2010-09-27 2012-04-05 シャープ株式会社 Liquid crystal module and electronic device
CN103119505A (en) * 2010-09-27 2013-05-22 夏普株式会社 Liquid crystal module and electronic device
JP2015031905A (en) * 2013-08-06 2015-02-16 セイコーエプソン株式会社 Method for manufacturing electro-optic device, electro-optic device, and electronic equipment
JP2020510871A (en) * 2017-08-21 2020-04-09 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Boe Technology Group Co.,Ltd. Display substrate, display device, and method of manufacturing display substrate
US11177456B2 (en) 2017-08-21 2021-11-16 Boe Technology Group Co., Ltd. Display substrate, display apparatus, and method of fabricating display substrate
JP2020532764A (en) * 2017-09-04 2020-11-12 深▲セン▼市華星光電技術有限公司 Liquid crystal display unit

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