JP2006328270A - Metal foil for coating and method for producing the same - Google Patents

Metal foil for coating and method for producing the same Download PDF

Info

Publication number
JP2006328270A
JP2006328270A JP2005155649A JP2005155649A JP2006328270A JP 2006328270 A JP2006328270 A JP 2006328270A JP 2005155649 A JP2005155649 A JP 2005155649A JP 2005155649 A JP2005155649 A JP 2005155649A JP 2006328270 A JP2006328270 A JP 2006328270A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
electroless plating
substrate
film
release agent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005155649A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takahiro Hattori
孝博 服部
Fumiaki Ishida
史明 石田
Naoaki Kitagawa
直明 北川
Hiroshi Okada
浩 岡田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority to JP2005155649A priority Critical patent/JP2006328270A/en
Publication of JP2006328270A publication Critical patent/JP2006328270A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain pigment that is more inexpensive pigment such as flaky aluminum powder, etc., and chemically more stable. <P>SOLUTION: The flaky metal powder for pigment is produced by a method comprising a process for forming a releasing agent layer on the surface of a substrate, a process for applying a catalyst to the surface of the releasing agent layer so as to activate the surface, a process for bringing the activated surface into contact with a desired electroless plating liquid to form an electroless plating coating film having 0.01-0.5μm thickness, a process for bringing the substrate with the electroless plating coating film into contact with a solvent, dissolving and removing the releasing agent and separating the electroless plating coating film from the substrate and a process for grinding the separated electroless plating coating film to give flaky metal powder for pigment having 1-300μm diameter. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、自動車部品や家電部品などの基材に金属光沢調の装飾を行う際に用いる顔料に関し、具体的には顔料として使用されるフレーク状金属粉に関する。   TECHNICAL FIELD The present invention relates to a pigment used when decorating a metallic luster tone on a base material such as an automobile part or a home appliance part, and specifically relates to a flaky metal powder used as a pigment.

基材を光輝化する手段として、直接基材に湿式メッキや真空蒸着を行う方法やメタリック塗装がある。特に、メタリック塗装は、手法が簡便であり、広く用いられている。このメタリック塗装は、基材を光輝化するために、まず基材の上に第1塗膜層(アンダーコート層)を形成し、その上にフレーク状のアルミニウム粉末やガラス、雲母、樹脂などのフレーク状粉末表面にアルミニウム等の金属層を設けたもの(以下、「フレーク状アルミニウム粉末等」という。)を顔料として混入させた塗料を用いて第2塗膜層(金属調光沢塗膜層)を形成し、その上に第3層としてクリアコート層(トップコート層)を設けてフレーク状アルミニウム粉末等のアルミニウム部分を保護する塗装方法である。   As means for brightening the substrate, there are a method in which wet plating or vacuum deposition is directly performed on the substrate, and metallic coating. In particular, metallic coating has a simple method and is widely used. In this metallic coating, in order to brighten the substrate, first, a first coating layer (undercoat layer) is formed on the substrate, and a flaky aluminum powder, glass, mica, resin, or the like is formed thereon. Second coating layer (metallic glossy coating layer) using paint in which a metal layer such as aluminum is provided on the surface of the flaky powder (hereinafter referred to as “flaky aluminum powder”) as a pigment Is formed, and a clear coat layer (top coat layer) is provided thereon as a third layer to protect an aluminum portion such as flaky aluminum powder.

一般にこうしたフレーク状アルミニウム粉末等は、蒸着法等の乾式成膜法で得られたアルミニウム箔や、薄いガラスや雲母片や樹脂片の表面に無電解めっきや真空蒸着法でアルミニウム層等を設けることによって作製する方法や、スタンプミル、乾式ボールミル、湿式ボールミルなどを用いて機械的に粉砕することにより得る。   In general, such flaky aluminum powder is formed by providing an aluminum layer or the like on the surface of an aluminum foil obtained by a dry film-forming method such as a vapor deposition method, a thin glass, a mica piece or a resin piece by electroless plating or a vacuum vapor deposition method. It is obtained by mechanically pulverizing using a method using a stamp mill, a dry ball mill, a wet ball mill or the like.

ところで、フレーク状アルミニウム粉末等を顔料として用いた場合、アルミニウムの表面反射率が可視光で80%以上と高く、外観が白っぽくなり高級感に欠けるという外観上の欠点がある。また、アルミニウムは酸素と反応し、酸化物被膜を形成して光輝感が失われるという問題がある。更に、酸化物被膜の成長に伴って、基材と塗膜との密着性(塗膜密着性)が低下する。   By the way, when flaky aluminum powder or the like is used as a pigment, the surface reflectance of aluminum is as high as 80% or more in visible light, and there is a defect in appearance that the appearance becomes whitish and lacks a high-class feeling. In addition, aluminum reacts with oxygen to form an oxide film, resulting in a loss of glitter. Furthermore, with the growth of the oxide film, the adhesion between the base material and the coating film (coating film adhesion) decreases.

水分を含む環境下では、前記酸化物被膜ではなく水酸化物被膜が形成される。その表面に水酸化物被膜が形成されたフレーク状アルミニウム粉末等を顔料として用いて得られた塗膜を乾燥・加熱すると、水酸化物被膜は容易に酸化物被膜になる。このようにして得られた乾燥塗膜には透水性がある。そのため、塗膜を通過してきた水分とアルミニウムが塗膜内で反応し、塗膜の腐食・剥離に到る可能性がある。   In an environment containing moisture, a hydroxide film is formed instead of the oxide film. When a coating film obtained by using, as a pigment, flaky aluminum powder having a hydroxide film formed on its surface is dried and heated, the hydroxide film easily becomes an oxide film. The dry coating film thus obtained has water permeability. Therefore, moisture and aluminum that have passed through the coating film may react in the coating film, leading to corrosion and peeling of the coating film.

例えば、特許文献1の段落0007の記載によれば、膜厚0.05〜1.0μmのアルミニウム薄膜は、トップコート層なしで40〜60℃の温水に浸すと、水和反応により、24〜100時間で溶解する。また、キャス試験(JIS H 8502)では、トップコート層を設けていても、トップコート層を通じて試験液が浸透し、60時間以上でアルミニウム薄膜が溶解するとされている。   For example, according to the description in paragraph 0007 of Patent Document 1, when an aluminum thin film having a film thickness of 0.05 to 1.0 μm is immersed in warm water of 40 to 60 ° C. without a top coat layer, it takes 24 to 100 hours by hydration reaction. Dissolve. Further, in the cast test (JIS H 8502), even if a top coat layer is provided, the test solution penetrates through the top coat layer and the aluminum thin film dissolves in 60 hours or more.

このような性質のアルミニウムを用いた顔料を使用していても、トップコート層の厚みを厚くし、かつ傷つきにくくすれば、大きな問題は発生しないといえるが、基材の構造上、全ての部位のトップコート層を十分な厚さとすることは難しい。また、基材がタイヤホイールのようなものである場合、当該タイヤホイールを用いたタイヤを装着して悪路地帯、海岸地帯、凍結防止のため塩を散布する地帯、高温多湿地帯などを走行した場合に、タイヤホイール表面に損傷を受け、タイヤホイールのトップコート層に傷が入った場合、顔料のアルミニウムが外部環境に触れ、その傷からアルミニウムの腐食が始まる。この腐食が進行していくと、顔料であるフレーク状アルミニウム粉末等のアルミニウム部分が溶解消失し、アンダーコート層が露出する。すると、本来の光輝面が損なわれるだけでなく、アンダーコートとトップコートとの密着がなくなり、膨れが発生する。さらに、そこを基点として基材の腐食へと進展する可能性がある。   Even if a pigment using aluminum with such properties is used, it can be said that if the thickness of the topcoat layer is increased and it is difficult to be damaged, no major problem will occur. It is difficult to make the top coat layer sufficiently thick. Also, when the base material is like a tire wheel, a tire using the tire wheel was mounted and the vehicle ran in a rough road area, a coastal area, a zone where salt was sprayed to prevent freezing, a hot and humid area, etc. In some cases, when the tire wheel surface is damaged and the top coat layer of the tire wheel is scratched, the aluminum of the pigment comes into contact with the external environment, and corrosion of the aluminum starts from the scratch. As this corrosion progresses, the aluminum portion such as the flaky aluminum powder that is the pigment dissolves and disappears, and the undercoat layer is exposed. Then, not only the original brilliant surface is damaged, but the adhesion between the undercoat and the topcoat is lost, and swelling occurs. Furthermore, there is a possibility of progressing to corrosion of the base material from that point.

こうしたことから、従来、アルミニウムの箔や薄膜の耐食性・耐薬品性を向上させようとする処理方法が種々提案されている(特許文献2〜7参照)。しかしながら、アルミニウム自体の耐食性・耐薬品性が低いので、あまり大きな効果が得られていないのが実状である。   For these reasons, various treatment methods for improving the corrosion resistance and chemical resistance of aluminum foils and thin films have been proposed (see Patent Documents 2 to 7). However, since the corrosion resistance and chemical resistance of aluminum itself is low, the actual situation is that a great effect is not obtained.

こうした欠点にもかかわらず、フレーク状アルミニウム粉末等をメタリック塗装用の顔料として多用しているのは、一重にアルミニウムという素材自体が安価な点にある。
特開2003‐292823号公報 特開平2000−354828号公報 特開平9−311561号公報 特開平9−122575号公報 特開平6−200932号公報 特開平7−133440号公報 特開平6−57171号公報
Despite these shortcomings, the reason why flaky aluminum powder or the like is frequently used as a pigment for metallic coating is that the material itself of aluminum is inexpensive.
JP 2003-292823 A JP 2000-354828 A JP-A-9-311561 Japanese Patent Laid-Open No. 9-122575 Japanese Patent Laid-Open No. 6-200932 JP-A-7-133440 JP-A-6-57171

ところで、昨今のコストダウンの要請は、各種産業製品全般にわたり強く望まれている。前記した顔料も例外でなく、より安価なものが求められるようになってきている。顔料として用いられるフレーク状アルミニウム粉末等についてみてみると、原材料として用いるアルミニウム金属自体の価格は確かに安価であるが、フレーク状アルミニウム粉末等自体は安価なものとは言えない。   By the way, the recent demand for cost reduction is strongly desired for all types of industrial products. The above-mentioned pigments are no exception, and cheaper ones have been demanded. Looking at the flaky aluminum powder used as a pigment, the price of the aluminum metal itself used as a raw material is certainly cheap, but it cannot be said that the flaky aluminum powder itself is inexpensive.

これは、フレーク状アルミニウム粉末等が、前記したように蒸着法等の乾式成膜法で得られたアルミニウム箔や、薄いガラスや雲母片や樹脂片の表面に無電解めっきや真空蒸着法等の乾式成膜法でアルミニウム層等を設けることによって作製する方法や、スタンプミル、乾式ボールミル、湿式ボールミルなどを用いて機械的に粉砕することにより得ることによる。   This is because the flaky aluminum powder or the like is obtained by the electroless plating or vacuum deposition method on the surface of the aluminum foil, thin glass, mica piece or resin piece obtained by the dry film forming method such as the vapor deposition method as described above. It is based on a method of manufacturing by providing an aluminum layer or the like by a dry film forming method, or by mechanically pulverizing using a stamp mill, a dry ball mill, a wet ball mill or the like.

まず、乾式成膜法では、真空チャンバー内にターゲットと被成膜対象物とを配置し、真空チャンバー内を減圧して成膜するため、装置が非常に大型になる。従って、製造原価を引き下げるべく量産化を図ろうとすれば、さらに大型の装置を使用することになる。こうした結果、高額な設備投資が必要となり、実質的に顔料であるフレーク状アルミニウム粉末等の製造価格の低減が困難となる。   First, in the dry film forming method, a target and an object to be deposited are placed in a vacuum chamber and the inside of the vacuum chamber is depressurized to form a film, so that the apparatus becomes very large. Therefore, if mass production is attempted to reduce the manufacturing cost, a larger apparatus will be used. As a result, expensive capital investment is required, and it is difficult to reduce the manufacturing price of flaky aluminum powder or the like that is substantially a pigment.

また、特に融点の高い金属の成膜を行う場合は顕著になるが、成膜対象金属、ここではアルミニウムであるが、の融点に従って高いエネルギーコストを必要とする。更に、ターゲットや被成膜対象物を真空チャンバー内に入れ変えるごとに、常圧から真空状態にしなければならず、煩雑な操作を含む操業が余儀なくされている。これらの結果、ランニングコストの低減化が困難である。   Further, this is particularly noticeable when a metal film having a high melting point is formed, but a metal to be formed, which is aluminum here, requires a high energy cost in accordance with the melting point. Furthermore, each time the target or film formation target is changed into the vacuum chamber, the vacuum state must be changed from normal pressure, which necessitates operations including complicated operations. As a result, it is difficult to reduce the running cost.

従って、フレーク状アルミニウム粉末等より安価で化学的により安定している顔料の提供が待たれている。   Accordingly, there is a need to provide a pigment that is cheaper and chemically more stable than flaky aluminum powder or the like.

本発明は、上記状況に鑑みてなされたものであり、フレーク状アルミニウム粉末等の顔料より安価で、化学的により安定な新規顔料の提案を目的とする。   The present invention has been made in view of the above situation, and an object of the present invention is to propose a novel pigment that is cheaper and more chemically stable than pigments such as flaky aluminum powder.

本発明者らは、上記課題を解決しうる金属箔について多くの検討を重ねた結果、無電解めっき被膜としては不良となるような薄い皮膜を粉砕すると前記顔料に適した金属粉が得られること、特定の無電解めっき方法を選定することにより同金属粉を安価、かつ安定的に製造できることを見出して本発明に至った。   As a result of many studies on the metal foil that can solve the above-mentioned problems, the inventors of the present invention can obtain a metal powder suitable for the pigment when pulverizing a thin film that becomes a poor electroless plating film. The inventors have found that the metal powder can be produced inexpensively and stably by selecting a specific electroless plating method, and have reached the present invention.

即ち、請求項1記載の本発明は、無電解めっき法で製造された金属箔を粉砕して得た顔料用フレーク状金属粉であり、厚さが0.01〜0.5μm、径が1〜300μmのフレーク状金属粉である。   That is, the present invention according to claim 1 is a flaky metal powder for pigment obtained by pulverizing a metal foil produced by an electroless plating method, having a thickness of 0.01 to 0.5 μm and a diameter of 1 to 300 μm. It is a flaky metal powder.

そして、請求項2記載の本発明は請求項1記載の顔料用フレーク状金属粉であり、その材質がAu、Ag、Pd、Ni、Cu、Coの少なくともいずれか1種又はこれら金属を主要金属成分とする合金であるものである。   The present invention according to claim 2 is the flaky metal powder for pigment according to claim 1, and the material thereof is at least one of Au, Ag, Pd, Ni, Cu, Co, or these metals as main metals. It is an alloy as a component.

そして、請求項3記載の本発明は、請求項1〜2記載のいずれかの顔料用フレーク状金属粉の製造方法であり、以下の工程を主要工程とするものである。   And this invention of Claim 3 is a manufacturing method of the flaky metal powder for pigments in any one of Claims 1-2, and makes the following processes the main processes.

(1)基板表面に離型剤層を設ける工程
(2)離型剤層表面に触媒を付与し活性化する工程
(3)所望の無電解めっき液と接触させて厚さ0.01〜0.5μmの無電解めっき被膜を生成 させる工程
(4)無電解めっき皮膜付きの基板を溶媒と接触させて離型剤を溶解除去して前記無電解 めっき被膜と基板とを分離する工程
(5)分離した無電解めっき被膜を粉砕して径が1〜300μmの顔料用フレーク状金属粉 を得る工程
そして、請求項4記載の本発明は、請求項3記載の発明に加えて、用いる基板が金属製、樹脂フィルム製、ガラス製の内のいずれかを用いるものである。
(1) Step of providing a release agent layer on the substrate surface
(2) A step of applying and activating a catalyst on the surface of the release agent layer
(3) A process for producing an electroless plating film having a thickness of 0.01 to 0.5 μm by contacting with a desired electroless plating solution
(4) A process of separating the electroless plating film from the substrate by contacting the substrate with the electroless plating film with a solvent to dissolve and remove the release agent.
(5) A step of pulverizing the separated electroless plating film to obtain a flaky metal powder for a pigment having a diameter of 1 to 300 μm. The invention according to claim 4 is used in addition to the invention according to claim 3. The substrate is made of metal, resin film, or glass.

そして、請求項5記載の本発明は、前記に加えて離型剤として、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、シリコン樹脂、パラフィン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、水系アクリル樹脂、アルキド樹脂、紫外線硬化樹脂、水性ウレタン樹脂の内の少なくとも1種を用いるものである。   In addition to the above, the present invention according to claim 5 is a urethane resin, a polyester resin, a polystyrene resin, an acrylic resin, a silicon resin, a paraffin resin, an epoxy resin, a melamine resin, a polyurethane resin, and a water-based acrylic resin as a release agent. At least one of alkyd resin, ultraviolet curable resin, and aqueous urethane resin is used.

そして、請求項6記載の本発明は、前記に加えて無電解めっき被膜を粉砕する方法として物理的な方法を採るものである。   In addition to the above, the present invention described in claim 6 employs a physical method as a method of pulverizing the electroless plating film.

そして、請求項7記載の本発明は、前記(4)の工程で、無電解めっき皮膜付きの基板を溶媒中に浸漬して離型剤を溶解し、該溶液中より基板を除去し、無電解めっき皮膜を溶媒中で、超音波またはホモジナイザーを使用内のいずれかを使用して粉砕することを特徴とするものである。   In the seventh aspect of the present invention, in the step (4), the substrate with the electroless plating film is immersed in a solvent to dissolve the release agent, and the substrate is removed from the solution. The electrolytic plating film is pulverized in a solvent using either ultrasonic waves or a homogenizer.

従来の顔料用フレーク状金属粉を得る際には、まず乾式成膜法により薄膜を得なければならない。前記したように乾式成膜技術で薄膜を得るには、例えば、スパッタリング法では、真空槽を10-3Pa程度以下の圧力に十分排気した後、アルゴンなどの不活性ガスを1〜10Paになるように入れ、金属の陰極と陽極との間に1〜2kVの直流電圧を加えて基板上に金属薄膜を作成し、これを剥離して粉砕している。そのため大型の装置が必要とされ、多額の投資が必要となる。加えてランニングコストも高いものとなり、顔料用フレーク状金属粉の製造コスト低減は困難である。 In order to obtain a conventional flaky metal powder for pigment, a thin film must first be obtained by a dry film forming method. As described above, in order to obtain a thin film by the dry film forming technique, for example, in the sputtering method, after the vacuum chamber is sufficiently evacuated to a pressure of about 10 −3 Pa or less, an inert gas such as argon becomes 1 to 10 Pa. A metal thin film is formed on the substrate by applying a DC voltage of 1 to 2 kV between the metal cathode and the anode, and this is peeled and pulverized. Therefore, a large-sized apparatus is required, and a large investment is required. In addition, the running cost is high, and it is difficult to reduce the production cost of the flaky metal powder for pigment.

これに対して、本発明の顔料用フレーク状金属粉は安価な無電解めっき法を用いて製造されるため製造コストの低減が可能となる。というのは、無電解めっきでは、各操作等を常圧下で行うことができる。また、連続化も可能である。この結果、設備投資額が小さくできる。めっき浴温度も、高くても90℃以下の状態で操業することが可能であるため、ランニングコストの低減が可能となるからである。   On the other hand, since the flaky metal powder for a pigment of the present invention is produced using an inexpensive electroless plating method, the production cost can be reduced. This is because, in electroless plating, each operation can be performed under normal pressure. It can also be continuous. As a result, the amount of capital investment can be reduced. This is because it is possible to operate at a plating bath temperature of 90 ° C. or less at the highest, so that the running cost can be reduced.

また、本発明の方法は、無電解めっきが可能な金属に対して適用可能である。従って、材料とする金属を選定することによりアルミニウムより耐食性が高く、かつ所望の色彩の金属光沢を得ることが可能な新規な顔料用フレーク状金属粉を得ることができる。   In addition, the method of the present invention is applicable to metals that can be electrolessly plated. Therefore, by selecting a metal as a material, a novel flake-like metal powder for pigments which has higher corrosion resistance than aluminum and can obtain a desired metallic luster can be obtained.

本発明において、顔料用フレーク状金属粉大きさを、厚さが0.01〜0.5μm、径を1〜300μmとしたのは、厚さが0.01μmより薄いと、第1塗膜層が透けて見え、表面反射率が下がりすぎる。一方0.5μmを超えると、フレーク状金属粉の応力が高くなり、フレークがカールする可能性が高い。また、厚さが0.5μmを超えても表面反射率に変化はなく、厚さ0.5μmを超える成膜を行う場合、生産時間がかかり、かえってコストが上昇する。また、フレーク状金属粉の大きさが1μm未満では、反射率が小さくなり光沢性が損なわれる。一方、フレーク状金属粉の大きさが300μmを超えると、フレーク状金属粉とフレーク状金属粉とのすき間が大きくなりなって第1塗膜層が見える可能性があるという理由からである。   In the present invention, the size of the flake metal powder for pigment is 0.01 to 0.5 μm and the diameter is 1 to 300 μm. When the thickness is less than 0.01 μm, the first coating layer can be seen through. The surface reflectance is too low. On the other hand, if it exceeds 0.5 μm, the stress of the flaky metal powder becomes high, and the possibility that the flake will curl is high. Further, even when the thickness exceeds 0.5 μm, the surface reflectance does not change, and when a film having a thickness exceeding 0.5 μm is formed, production time is required, and the cost increases. On the other hand, when the size of the flaky metal powder is less than 1 μm, the reflectivity is reduced and the glossiness is impaired. On the other hand, when the size of the flaky metal powder exceeds 300 μm, the gap between the flaky metal powder and the flaky metal powder becomes large and the first coating layer may be visible.

また、本発明において、顔料用フレーク状金属粉の種類は、無電解めっきができる金属であれば特に制限をしない。こうした観点よりAu、Ag、Pd、Ni、Cu、Coの少なくともいずれか1種又はこれら金属を主要金属成分とする合金とすることが好ましい。   In the present invention, the type of flaky metal powder for pigment is not particularly limited as long as it is a metal that can be electrolessly plated. From such a viewpoint, it is preferable to use at least one of Au, Ag, Pd, Ni, Cu, and Co or an alloy containing these metals as a main metal component.

本発明の方法は、その概略を図1に例示したが、以下の工程を主要工程とするものである。   The outline of the method of the present invention is illustrated in FIG. 1, but the following steps are the main steps.

(1)基板表面に離型剤層を設ける工程
(2)離型剤表面に触媒を付与し活性化する工程
(3)所望の無電解めっき液と接触させて厚さ 0.01〜0.5μmの無電解めっき被膜を生 成させる工程
(4)無電解めっき被膜付きの基板を溶媒と接触させて離型剤を溶解除去して前記無電解 めっき被膜と基板とを分離する工程
(5)回収した無電解めっき被膜を粉砕して径が1〜300μmの顔料用フレーク状金属粉 を得る工程
さて、本発明の工程(1)で用いる基板としてはめっき液や離型剤に溶解に用いる溶剤に犯されがたいものであれば良く、特に限定しないが、金属板、金属条等金属製基板や、シート状あるいはフィルム状の樹脂基板またはガラス板等のガラス基板がこうした条件から好ましい。これらの中で、長尺のフィルム状樹脂基板を用いれば、リール トウ リール 方式で製造でき、製造コスト低減のためにより好ましい。
(1) Step of providing a release agent layer on the substrate surface
(2) A step of applying a catalyst to the surface of the release agent and activating it
(3) A process for producing an electroless plating film having a thickness of 0.01 to 0.5 μm by contacting with a desired electroless plating solution
(4) A step of contacting the substrate with the electroless plating film with a solvent to dissolve and remove the release agent to separate the electroless plating film from the substrate
(5) A step of pulverizing the collected electroless plating film to obtain a flaky metal powder for pigment having a diameter of 1 to 300 μm. The substrate used in step (1) of the present invention is dissolved in a plating solution or a release agent. Although it does not specifically limit if it is hard to be violated by the solvent used for (1), Glass substrates, such as metal substrates, such as a metal plate and a metal strip, a sheet-like or film-like resin substrate, or a glass plate, are preferable from such conditions. Among these, the use of a long film-like resin substrate is preferable because it can be manufactured by a reel-to-reel method and the manufacturing cost is reduced.

本発明では、無電解めっき被膜を作成し、これを剥離する。この剥離を容易にならしめるために工程(1)で基板に離型剤層を設ける。この目的で用いうる離型剤としては、無電解めっき液に犯されることなく、かつ工程(4)で簡単に基板表面から除去できるものであることが好ましい。例えばウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、シリコン樹脂、パラフィン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、水系アクリル樹脂、アルキド樹脂、紫外線硬化樹脂、水性ウレタン樹脂等が好ましい。   In the present invention, an electroless plating film is prepared and peeled off. In order to facilitate this peeling, a release agent layer is provided on the substrate in step (1). The release agent that can be used for this purpose is preferably one that can be easily removed from the substrate surface in step (4) without being violated by the electroless plating solution. For example, urethane resin, polyester resin, polystyrene resin, acrylic resin, silicon resin, paraffin resin, epoxy resin, melamine resin, polyurethane resin, water-based acrylic resin, alkyd resin, ultraviolet curable resin, aqueous urethane resin and the like are preferable.

離型剤層は、前記した離型剤の適当量を溶媒に溶解し、得た溶液を基材に塗布し、乾燥しても良く、その溶液中に基材を浸漬させ、その後乾燥させてもよい。無論、市販されているスプレー方式等の離型剤をそのまま用いて基板表面に離型剤層を形成して、工程(4)で剥離できるのならば、支障はない。   The release agent layer may be prepared by dissolving an appropriate amount of the above-described release agent in a solvent, applying the obtained solution to a substrate, and drying the substrate, immersing the substrate in the solution, and then drying the solution. Also good. Of course, there is no problem as long as a release agent layer such as a spray method that is commercially available is used as it is and a release agent layer is formed on the substrate surface and can be peeled off in the step (4).

例えば、離型剤としてウレタン樹脂を用いた場合、0.5〜10重量%の溶液として用い、自然乾燥又は送風又は温風によって乾燥する。   For example, when a urethane resin is used as a mold release agent, it is used as a 0.5 to 10% by weight solution and dried by natural drying, air blowing or hot air.

本発明の方法において、工程(2)〜(3)では成膜方法として無電解めっき法を適用する。   In the method of the present invention, an electroless plating method is applied as a film forming method in steps (2) to (3).

工程(3)では、無電解めっき液と工程(2)を終えた基板とを接触させて離型剤層表面に無電解めっき被膜を析出させる。析出する無電解めっき被膜の厚さは、浸漬時間、無電解めっき液の温度、めっき液中の目的金属成分の濃度等により変化し、かつ基板と無電解めっき液との接触方法により変化する。そのため。各条件を、得られる無電解めっき被膜の厚さが0.01〜0.5μmになるように選定する。   In step (3), the electroless plating solution and the substrate after step (2) are contacted to deposit an electroless plating film on the surface of the release agent layer. The thickness of the electroless plating film to be deposited varies depending on the immersion time, the temperature of the electroless plating solution, the concentration of the target metal component in the plating solution, and the like, and also varies depending on the contact method between the substrate and the electroless plating solution. for that reason. Each condition is selected so that the thickness of the obtained electroless plating film is 0.01 to 0.5 μm.

工程(4)では、基板表面と無電解めっき被膜との間に存在する離型剤を溶媒で溶解除去し、無電解めっき被膜と基板とを分離し、無電解めっき被膜を得る。通常のめっきでは、基材との密着性の良いめっき被膜を作製することを目的にしているが、ここではめっき被膜を剥離することを目的としているため、密着性不良によるクッラク等の発生を利用して、又は基材を曲げるなどしてクッラク等を発生させることにより、溶媒は容易に無電解めっき被膜の下部の離型剤層まで浸透させて、離型剤を溶解する。用いる溶媒は、原則として工程(1)で離型剤を溶解した溶媒でよい。   In step (4), the release agent existing between the substrate surface and the electroless plating film is dissolved and removed with a solvent, and the electroless plating film and the substrate are separated to obtain an electroless plating film. In normal plating, the purpose is to produce a plating film with good adhesion to the substrate, but here the purpose is to peel off the plating film, so the use of cracks due to poor adhesion is utilized. In addition, by generating cracks or the like by bending the base material, the solvent easily penetrates to the release agent layer below the electroless plating film to dissolve the release agent. In principle, the solvent used may be a solvent in which the release agent is dissolved in step (1).

工程(5)では、工程(4)で得られた無電解めっき被膜を粉砕し、径が1〜300μmの顔料用フレーク状金属粉を得る。工程(4)で得られる無電解めっき膜は、通常めっき被膜で使用する膜厚よりも薄い被膜であるため、物理的な方法により簡単に所望の粒径まで粉砕することができる。回収したフレーク状金属粉は溶媒とともに回収され、最終的には溶媒中に分散させた状態で塗料として用いられるため、溶媒中で超音波振動、あるいはホモジナイザー等を用いて粉砕することが好ましい。   In the step (5), the electroless plating film obtained in the step (4) is pulverized to obtain a flaky metal powder for pigment having a diameter of 1 to 300 μm. Since the electroless plating film obtained in the step (4) is a film thinner than the film thickness usually used for the plating film, it can be easily pulverized to a desired particle size by a physical method. The recovered flaky metal powder is recovered together with the solvent, and is finally used as a paint in a state of being dispersed in the solvent. Therefore, it is preferable to grind in the solvent using ultrasonic vibration, a homogenizer, or the like.

以下、検討例と実施例とにより本発明をさらに説明する。
(検討例1)
めっき時間を変化させてNi-P合金被膜の膜厚を評価した。無電解めっき方法の各工程は、後述する実施例1に係る工程と同じとし、めっき処理時間を変化させて試験を実施した。
図2はめっき時間とめっき被膜の膜厚の関係を示す図である。図2からも明らかなように、めっき時間によってめっき厚が高くなる結果となった。このことから、必要な膜厚はめっき時間を制御することによりコントロールすることが可能である。
Hereinafter, the present invention will be further described with reference to study examples and examples.
(Examination example 1)
The film thickness of the Ni-P alloy coating was evaluated by changing the plating time. Each step of the electroless plating method was the same as the step according to Example 1 described later, and the test was performed while changing the plating treatment time.
FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the plating time and the thickness of the plating film. As is apparent from FIG. 2, the plating thickness increased with the plating time. From this, the necessary film thickness can be controlled by controlling the plating time.

(検討例2)
離型剤を剥離後、回収したフレーク状金属粉を超音波処理によって粉砕する評価を行った。
無電解めっき方法の各工程は、後述する実施例1に係る工程と同じであるが、超音波による粉砕時間を変化させて試験を実施した。超音波は周波数50kHz、出力70Wの条件で試験を行った。
図3は超音波による粉砕時間と粉砕によってできたフレーク状Ni-P合金粉の平均の大きさの関係を示す図である。図3からも明らかなように、超音波粉砕により、フレーク状Ni-P合金は粉砕可能であり、しかも時間によってその大きさがより細かくなることがわかった。このことから、必要な大きさに粉砕するためには、超音波粉砕の時間を制御することにより、コントロール可能である。
(Examination example 2)
After the release agent was peeled off, the recovered flaky metal powder was evaluated to be pulverized by ultrasonic treatment.
Each step of the electroless plating method is the same as the step according to Example 1 to be described later, but the test was performed by changing the pulverization time by ultrasonic waves. The ultrasonic test was performed under the conditions of a frequency of 50 kHz and an output of 70 W.
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the pulverization time by ultrasonic waves and the average size of the flaky Ni—P alloy powder made by pulverization. As is clear from FIG. 3, it was found that the flaky Ni—P alloy can be pulverized by ultrasonic pulverization, and the size becomes finer with time. Therefore, in order to pulverize to a necessary size, it can be controlled by controlling the ultrasonic pulverization time.

(検討例3)
離型剤の種類を変えてフレーク状Ni-P合金粉が回収できるか評価を行った。
無電解めっき方法の各工程は、後述する実施例1に係る工程と同じであるが、離型剤の種類をポリエステル樹脂に変えて試験を実施した。基材として使用した10cm角、厚さ0.125mmのPETフィルムにポリエステル樹脂をメチルエチルケトンで2重量%、5重量%溶解し、前記基材を浸漬し、引き上げて自然乾燥させた。その基材を用いて実施例1と同じ条件で無電解Niめっきを行い、メチルエチルケトンで離型剤を溶解した結果、いずれの場合もフレーク状Ni-P合金粉の回収を行うことができた。
(Examination example 3)
It was evaluated whether flaky Ni-P alloy powder could be recovered by changing the type of release agent.
Each process of the electroless plating method is the same as the process according to Example 1 described later, but the test was performed by changing the type of the release agent to a polyester resin. A polyester resin was dissolved in 2% by weight and 5% by weight of methyl ethyl ketone in a 10 cm square PET film having a thickness of 0.125 mm used as a base material, the base material was dipped, pulled up and naturally dried. Using the base material, electroless Ni plating was performed under the same conditions as in Example 1, and the release agent was dissolved with methyl ethyl ketone. As a result, flaky Ni—P alloy powder could be recovered in any case.

(実施例1)
無電解Niめっき法で作製したNi-P合金製顔料用フレーク状金属粉の例について示す。
基材として10cm角、厚さ0.125mmのPETフィルムを使用した。基材に塗布する離型剤としてはウレタン樹脂を用いた。ウレタン樹脂をメチルエチルケトンで溶解し、2重量%のウレタン樹脂溶液に前記基材を浸漬し、引き上げて自然乾燥させた。
得られた離型剤付き基板を、一般的な前処理である、シランカップリング溶液による処理と、塩化パラジウム溶液による触媒処理を行った(非特許文献1参照)。そして、無電解Niめっきを行った。無電解Niめっき条件は、硫酸ニッケル30g/リットル、次亜リン酸ナトリウム20g/リットル、クエン酸ナトリウム50g/リットル、pH8.5のめっき液を使用し、厚さ約0.05μmのNi-P合金被膜を作製。それをメチルエチルケトンによって離型剤を溶解してNi-P合金被膜を剥離した。回収したNi-P合金被膜をメチルエチルケトン中で超音波を付与して粉砕し、約50μmの大きさのフレーク状Ni-P合金粉を得た。
Example 1
An example of a flaky metal powder for Ni-P alloy pigment produced by electroless Ni plating will be described.
A 10 cm square PET film having a thickness of 0.125 mm was used as the substrate. A urethane resin was used as a release agent applied to the substrate. The urethane resin was dissolved in methyl ethyl ketone, the substrate was immersed in a 2% by weight urethane resin solution, pulled up and dried naturally.
The obtained substrate with a release agent was subjected to a general pretreatment, a treatment with a silane coupling solution and a catalyst treatment with a palladium chloride solution (see Non-Patent Document 1). And electroless Ni plating was performed. Electroless Ni plating conditions are nickel sulfate 30 g / liter, sodium hypophosphite 20 g / liter, sodium citrate 50 g / liter, pH 8.5 plating solution, and a Ni-P alloy coating with a thickness of about 0.05 μm. Made. The release agent was dissolved with methyl ethyl ketone, and the Ni-P alloy film was peeled off. The collected Ni—P alloy coating was pulverized by applying ultrasonic waves in methyl ethyl ketone to obtain a flaky Ni—P alloy powder having a size of about 50 μm.

(実施例2)
無電解Cuめっき法で作製した顔料用フレーク状金属粉の例について示す。
基材として使用したPETフィルム、及び離型剤の種類と塗布方法は、実施例1と同様のものを使用した。また、前処理方法も同様にシランカップリング処理と、触媒処理を行い、無電解Cuめっきを行った。無電解Cuめっき条件は、硫酸銅5g/リットル、ロッセル塩25g/リットル、ホルムアルデヒド(37%)10ミリリットル /リットル、水酸化ナトリウム7g/リットル、pH12のめっき液を使用し、厚さ約0.07μmのCuめっき被膜を作製した。離型剤はメチルエチルケトンを用いて溶解し、回収したCu被膜をメチルエチルケトン中で超音波を付与して粉砕し、約80μmの大きさのフレーク状Cu粉を得た。
(Example 2)
An example of a flaky metal powder for pigment produced by an electroless Cu plating method will be described.
The PET film used as the substrate and the kind and application method of the release agent were the same as in Example 1. Moreover, the pre-processing method similarly performed the silane coupling process and the catalyst process, and performed electroless Cu plating. Electroless Cu plating conditions are: copper sulfate 5g / liter, Rossell salt 25g / liter, formaldehyde (37%) 10ml / liter, sodium hydroxide 7g / liter, pH12 plating solution, thickness 0.07μm A Cu plating film was prepared. The release agent was dissolved using methyl ethyl ketone, and the recovered Cu coating was pulverized by applying ultrasonic waves in methyl ethyl ketone to obtain a flaky Cu powder having a size of about 80 μm.

(実施例3)
無電解Auめっき法で作製した顔料用フレーク状Au粉の例について示す。
基材として使用したPETフィルム、及び離型剤の種類と塗布方法は、実施例1と同様のものを使用した。また、前処理方法も同様にシランカップリング処理と、触媒処理を行い、無電解Auめっきを行った。無電解Auめっき条件は、シアン化金カリウム2g/リットル、塩化アンモニウム75g/リットル、クエン酸ナトリウム50g/リットル、次亜リン酸ナトリウム10g/リットル、pH7.0のめっき液を使用し、厚さ約0.03μmのAuめっき被膜を作製した。離型剤はメチルエチルケトンを用いて溶解し、回収したAu被膜をメチルエチルケトン中で超音波を付与して粉砕し、約40μmの大きさのフレーク状Au粉が得られた。
(Example 3)
An example of a flaky Au powder for pigment produced by an electroless Au plating method will be described.
The PET film used as the substrate and the kind and application method of the release agent were the same as in Example 1. In the pretreatment method, silane coupling treatment and catalyst treatment were similarly performed, and electroless Au plating was performed. The electroless Au plating conditions were 2g / l potassium gold cyanide, 75g / l ammonium chloride, 50g / l sodium citrate, 10g / l sodium hypophosphite, pH 7.0, and a thickness of approx. A 0.03 μm Au plating film was prepared. The release agent was dissolved using methyl ethyl ketone, and the collected Au coating was pulverized by applying ultrasonic waves in methyl ethyl ketone, and a flaky Au powder having a size of about 40 μm was obtained.

(実施例4)
無電解Agめっき法で作製した顔料用フレーク状金属粉の例について示す。
基材として使用したPETフィルム、及び離型剤の種類と塗布方法は、実施例1と同様のものを使用した。また、前処理方法も同様にシランカップリング処理と、触媒処理を行い、無電解Agめっきを行った。無電解Agめっき条件は、硝酸銀60g/リットル、アンモニア(28%)60ミリリットル/リットル、ホルムアルデヒド(37%)40ミリリットル/リットル
のめっき液を使用し、厚さ約0.09μmのAgめっき被膜を作製した。離型剤はメチルエチルケトンを用いて溶解し、回収したAg被膜をメチルエチルケトン中で超音波を付与して粉砕し、約100μmの大きさのフレーク状Ag粉を得た。
Example 4
An example of a flaky metal powder for pigment produced by an electroless Ag plating method will be described.
The PET film used as the substrate and the kind and application method of the release agent were the same as in Example 1. In the pretreatment method, silane coupling treatment and catalyst treatment were similarly performed, and electroless Ag plating was performed. The electroless Ag plating conditions used silver nitrate 60g / l, ammonia (28%) 60ml / l, and formaldehyde (37%) 40ml / l, and produced an Ag plating film with a thickness of about 0.09μm. . The release agent was dissolved using methyl ethyl ketone, and the collected Ag coating was pulverized by applying ultrasonic waves in methyl ethyl ketone to obtain a flaky Ag powder having a size of about 100 μm.

(実施例5)
無電解Coめっき法で作製した顔料用フレーク状金属粉の例について示す。
基材として使用したPETフィルム、及び離型剤の種類と塗布方法は、実施例1と同様のものを使用した。また、前処理方法も同様にシランカップリング処理と、触媒処理を行い、無電解Coめっきを行った。無電解Coめっき条件は、塩化コバルト30g/リットル、クエン酸ナトリウム35g/リットル、塩化アンモニウム50g/リットル、次亜リン酸ナトリウム20g/リットルの浴にアンモニア水でpH9.0に調整しためっき液を使用し、厚さ約0.04μmのCoめっき被膜を作製した。離型剤はメチルエチルケトンを用いて溶解し、回収したCo被膜をメチルエチルケトン中で超音波を付与して粉砕し、約100μmの大きさのフレーク状Co粉を得た。
(Example 5)
An example of a flaky metal powder for pigment produced by an electroless Co plating method will be described.
The PET film used as the substrate and the kind and application method of the release agent were the same as in Example 1. In the pretreatment method, silane coupling treatment and catalyst treatment were similarly performed, and electroless Co plating was performed. Electroless Co plating conditions use cobalt chloride 30g / liter, sodium citrate 35g / liter, ammonium chloride 50g / liter, sodium hypophosphite 20g / liter bath adjusted to pH 9.0 with ammonia water. Then, a Co plating film having a thickness of about 0.04 μm was produced. The release agent was dissolved using methyl ethyl ketone, and the recovered Co film was pulverized by applying ultrasonic waves in methyl ethyl ketone to obtain flaky Co powder having a size of about 100 μm.

(実施例6)
無電解Pdめっき法で作製した顔料用フレーク状金属粉の例について示す。
基材として使用したPETフィルム、及び離型剤の種類と塗布方法は、実施例1と同様のものを使用した。また、前処理方法も同様にシランカップリング処理と、触媒処理を行い、無電解Pdめっきを行った。無電解Pdめっき条件は、テトラミンパラジウムクロライド5.4g/リットル、EDTA33g/リットル、アンモニア350g/リットル、ヒドラジン0.3g/リットルのめっき液を使用し、厚さ約0.1μmのPdめっき被膜を作製した。離型剤はメチルエチルケトンを用いて溶解し、回収したPd被膜をメチルエチルケトン中で超音波を付与して粉砕し、約120μmの大きさのフレーク状Pd粉を得た。
(Example 6)
An example of a flaky metal powder for pigment produced by an electroless Pd plating method will be described.
The PET film used as the substrate and the kind and application method of the release agent were the same as in Example 1. In the pretreatment method, silane coupling treatment and catalyst treatment were similarly performed, and electroless Pd plating was performed. As electroless Pd plating conditions, a plating solution of tetramine palladium chloride 5.4 g / liter, EDTA 3 g / liter, ammonia 350 g / liter, hydrazine 0.3 g / liter was used, and a Pd plating film having a thickness of about 0.1 μm was prepared. The release agent was dissolved using methyl ethyl ketone, and the recovered Pd film was pulverized by applying ultrasonic waves in methyl ethyl ketone to obtain a flaky Pd powder having a size of about 120 μm.

(実施例7)
実施例1で得られたフレーク状Ni-P合金粉を次の方法で塗布を行った。塗布する基材を次のように作製した。アルミニウム合金鋳物AC4C(Al-Si-Mg系)製の板材にクロメート処理で化成被膜をクロム量で80〜150g/m2に形成した。次に表面を平滑にするためにアクリル粉体塗料を100μm塗布し、150℃で1時間乾燥した。その上にアンダーコートとしてポリエステル・メラニン樹脂をエアーガンで30μm形成し、140℃で30分乾燥した。
実施例1で得られたフレーク状Ni-P合金粉を溶剤(MEK)に調合し、上記方法で作製した基材上にエアースプレーで塗布した。その上にアクリル・メラニン樹脂のトップコートをエアースプレーガンで25μm形成し、140℃で3時間乾燥した。
以上の方法で作製した基材は、クラックや割れはなく、高い光輝感のメタリック塗装の外観で、表面反射率を分光光度計(日立製作所製)で550nmの波長の光で測定した結果60%の良好な光沢性を有する塗装面を作製することができた。
(Example 7)
The flaky Ni—P alloy powder obtained in Example 1 was applied by the following method. The base material to apply | coat was produced as follows. Was formed in 80 to 150 g / m 2 of chromium amount conversion coating with chromate treatment to the aluminum alloy casting AC4C (Al-Si-Mg based) plate material. Next, in order to smooth the surface, 100 μm of acrylic powder paint was applied and dried at 150 ° C. for 1 hour. A 30 μm thick polyester / melanin resin was formed thereon with an air gun as an undercoat, and dried at 140 ° C. for 30 minutes.
The flaky Ni-P alloy powder obtained in Example 1 was prepared in a solvent (MEK) and applied by air spray on the substrate prepared by the above method. A 25 μm thick acrylic / melanin resin topcoat was formed on it with an air spray gun and dried at 140 ° C. for 3 hours.
The substrate produced by the above method has no cracks or cracks, and has a metallic coating appearance with high radiance, and the surface reflectance measured with a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd.) with light at a wavelength of 550 nm is 60%. A coated surface having good glossiness can be produced.

以上示したように、本発明に従えば、顔料用フレーク状金属粉を安価な無電解めっき法を用いて製造でき、かつ リール トウ リール 方式が採用でき、乾式成膜法を使用するより製造コストの大幅低減が可能となることが明らかである。このため、アルミニウムより価格の高い、より耐食性の高い金属を原材料として用いても、顔料としてはより安価な顔料を製造することが可能である。
As described above, according to the present invention, the flaky metal powder for pigment can be produced using an inexpensive electroless plating method, and the reel-to-reel method can be adopted, which is more cost effective than using the dry film forming method. It is clear that a significant reduction in the above becomes possible. For this reason, it is possible to manufacture a cheaper pigment as a pigment even if a metal having higher corrosion resistance than aluminum is used as a raw material.

フレーク状金属粉作製方法の工程例を示した図である。It is the figure which showed the process example of the flaky metal powder preparation method. 検討例1によるめっき時間とめっき被膜の膜厚の関係を示した図である。It is the figure which showed the relationship between the plating time by the examination example 1, and the film thickness of a plating film. 検討例2による超音波による粉砕時間と粉砕によってできたフレーク状Ni-P合金粉の平均の大きさの関係を示した図である。It is the figure which showed the relationship between the grinding | pulverization time by the ultrasonic wave by examination example 2, and the average magnitude | size of the flaky Ni-P alloy powder made by grinding | pulverization.

Claims (7)

無電解めっき法で製造された金属箔を粉砕して得られた顔料用フレーク状金属粉であり、厚さが0.01〜0.5μm、径が1〜300μmであることを特徴とする顔料用フレーク状金属粉。 A flaky metal powder for pigment obtained by pulverizing a metal foil produced by an electroless plating method, having a thickness of 0.01 to 0.5 μm and a diameter of 1 to 300 μm. Metal powder. その材質がAu、Ag、Pd、Ni、Cu、Coの内の少なくともいずれか1種又はこれら金属を主要金属成分とする合金である請求項1記載の顔料用フレーク状金属粉。 2. The flaky metal powder for pigment according to claim 1, wherein the material is at least one of Au, Ag, Pd, Ni, Cu and Co or an alloy containing these metals as a main metal component. 以下の工程を主要工程とすることを特徴とする前記顔料用フレーク状金属粉の製造方法。
(1)基板表面に離型剤層を設ける工程
(2)離型剤層表面に触媒を付与し活性化する工程
(3)所望の無電解めっき液と接触させて厚さ0.01〜0.5μmの無電解めっき被膜 を生成させる工程
(4)無電解めっき被膜付きの基板を溶媒と接触させて離型剤を溶解除去して前記無電解 めっき被膜と基板とを分離する工程
(5)分離した無電解めっき被膜を粉砕して径が1〜300μmの顔料用フレーク状金属 粉を得る工程
The manufacturing method of the said flake-like metal powder for pigments which makes the following processes the main processes.
(1) Step of providing a release agent layer on the substrate surface
(2) A step of applying and activating a catalyst on the surface of the release agent layer
(3) A step of producing an electroless plating film having a thickness of 0.01 to 0.5 μm by contacting with a desired electroless plating solution
(4) A step of contacting the substrate with the electroless plating film with a solvent to dissolve and remove the release agent to separate the electroless plating film from the substrate
(5) A step of pulverizing the separated electroless plating film to obtain a flaky metal powder for pigment having a diameter of 1 to 300 μm
用いる基板が金属製、樹脂フィルム製、ガラス製の内のいずれかであることを特徴とする請求項3記載の製造方法。 4. The method according to claim 3, wherein the substrate to be used is any one of a metal, a resin film, and a glass. 離型剤として、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、シリコン樹脂、パラフィン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、水系アクリル樹脂、アルキド樹脂、紫外線硬化樹脂、水性ウレタン樹脂の内の少なくとも1種を用いることを特徴とする請求項4記載の製造方法。 As a release agent, at least of urethane resin, polyester resin, polystyrene resin, acrylic resin, silicon resin, paraffin resin, epoxy resin, melamine resin, polyurethane resin, water-based acrylic resin, alkyd resin, ultraviolet curable resin, and aqueous urethane resin The manufacturing method according to claim 4, wherein one kind is used. 無電解めっき被膜を粉砕する方法が、物理的な方法であることを特徴とする請求項5記載の製造方法。 6. The production method according to claim 5, wherein the method of pulverizing the electroless plating film is a physical method. 前記(4)の工程で、無電解めっき皮膜付きの基板を溶媒中に浸漬して離型剤を溶解し、該溶液中より基板を除去し、無電解めっき皮膜を溶媒中で、超音波またはホモジナイザーを使用内のいずれかを使用して粉砕することを特徴とする請求項5記載の製造方法。

In the step (4), the substrate with the electroless plating film is immersed in a solvent to dissolve the release agent, the substrate is removed from the solution, and the electroless plating film is ultrasonicated or dissolved in the solvent. 6. The method according to claim 5, wherein the homogenizer is pulverized by using any one of the in-use.

JP2005155649A 2005-05-27 2005-05-27 Metal foil for coating and method for producing the same Pending JP2006328270A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005155649A JP2006328270A (en) 2005-05-27 2005-05-27 Metal foil for coating and method for producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005155649A JP2006328270A (en) 2005-05-27 2005-05-27 Metal foil for coating and method for producing the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006328270A true JP2006328270A (en) 2006-12-07

Family

ID=37550299

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005155649A Pending JP2006328270A (en) 2005-05-27 2005-05-27 Metal foil for coating and method for producing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006328270A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013011015A (en) * 2011-05-27 2013-01-17 Kotobuki Sangyo Kk Powder for preventing microorganism growth, method for producing the same, and fiber and sheet for preventing microorganism growth
US8411410B2 (en) 2009-10-05 2013-04-02 Murata Manufacturing Co., Ltd. Flat Ni particle, laminated ceramic electronic component using flat Ni particle, and production method flat Ni particle

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8411410B2 (en) 2009-10-05 2013-04-02 Murata Manufacturing Co., Ltd. Flat Ni particle, laminated ceramic electronic component using flat Ni particle, and production method flat Ni particle
JP5429299B2 (en) * 2009-10-05 2014-02-26 株式会社村田製作所 Method for producing flat Ni particles
JP2013011015A (en) * 2011-05-27 2013-01-17 Kotobuki Sangyo Kk Powder for preventing microorganism growth, method for producing the same, and fiber and sheet for preventing microorganism growth

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103339288B (en) The magnesium alloy of surface structure densification and surface treatment method thereof
US20090255824A1 (en) Method for surface treating a substrate
Ma et al. Study of a pre-treatment process for electroless copper plating on ceramics
CA2686000A1 (en) Method for producing polymer-coated metal foils and use thereof
JP2006328270A (en) Metal foil for coating and method for producing the same
JP2006523544A (en) Article
JP2003239083A (en) Surface treatment method for ornament, ornament and watch
Wang et al. Preparation and characterization of nanodiamond cores coated with a thin Ni–Zn–P alloy film
Chen et al. Microwave-assisted activation for electroless nickel plating on PMMA microspheres
CN113106439A (en) Anti-corrosion composite coating on surface of magnesium alloy and preparation method and application thereof
JP3934810B2 (en) Magnesium-based member plating product and manufacturing method thereof
JP6671583B2 (en) Metal plating method
JP2006523772A (en) Use of articles as decorative structural parts
CN104651892A (en) Technological process for electroplating red bronze imitations on ABS plastics
JP3601784B2 (en) Surface treatment method and decoration
JP3458121B2 (en) High corrosion resistance Mg alloy and method for producing the same
JPH02104680A (en) Surface decoration treatment
KR102055682B1 (en) High Corrosion Resistant Surface Treatment Coating Method of Magnesium Die-Casting Alloy
KR20130126233A (en) Plating method using a intaglio process of multilayer nickel
JP2666404B2 (en) Method of manufacturing decorative body
Chen et al. A facial microwave-assisted polyol activation process for fabrication of Ni@ PMMA microspheres
JP2005298906A (en) Method for producing scale-like metal flake free of curling and scale-like metal flake free of curling
JP3994434B2 (en) Metallic appearance multilayer coating film and method for forming the same
JP2003328112A (en) Gold-colored lustrous material and manufacturing method
JP2007077192A (en) Corrosion-resistant glittering pigment, method for producing the same and corrosion-resistant glittering coating material