JP2006326604A - レーザ加工装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 小さい径を有する穴部をより確実に形成できるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】 レーザ加工装置は、レーザ光Lを照射して被加工物3に穴部Hを形成するものである。このレーザ加工装置1は、被加工物3に照射するレーザ光Lを出力するレーザ発振器5と、レーザ光を集光して被加工物に照射する集光光学系11と、被加工物に照射され反射されたレーザ光としての反射光を受ける光検出器27と、光検出器による反射光の検出結果に穴部に起因する干渉成分が含まれるように集光光学系と被加工物との相対位置を調整する制御手段29と、を備える。
【選択図】 図1

Description

本発明は、レーザ加工装置に関するものである。
従来からレーザ光により物質を加工する技術が知られている。この物質の加工をより的確に行う装置として、例えば、特許文献1に記載のパルスレーザ加工装置が知られている。
特許文献1に記載のパルスレーザ加工装置では、レーザ発振器から出力されたパルスレーザ光は、分岐手段によって参照光と照射光とに分岐される。そして、照射光が集光手段によって被加工物の所定部位に集光されて所定部位に照射されることで被加工物が加工されることになる。この所定部位に照射されて反射された照射光は分岐手段によって参照光と干渉し、分光手段により分光され、分光スペクトルが得られることになる。
被加工物が加工されることによって分光スペクトルに変化が生じるので、分光スペクトルの変化に応じて被加工物の加工状態をモニタできることになる。そして、被加工物の加工状態をモニタするために反射光が利用されているので、加工部位とモニタ部位とを確実に一致させることができており、より的確なモニタが可能となっている。
特開2004―306100号公報
ところで、近年では微細化が求められており、レーザ加工において形成する穴部においても、より細い直径を有するものが求められてきている。しかしながら、小さい径の穴部を形成するために集光条件などを制御することは困難である。
そこで、本発明は、小さい径を有する穴部をより確実に形成できるレーザ加工装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明に係るレーザ加工装置は、レーザ光を照射して被加工物に穴部を形成するレーザ加工装置であって、被加工物に照射するレーザ光を出力するレーザ発振器と、レーザ光を集光して被加工物に照射する集光光学系と、被加工物に照射され反射されたレーザ光としての反射光を受ける光検出器と、光検出器による反射光の検出結果に穴部に起因する干渉成分が含まれるように集光光学系と被加工物との相対位置を調整する制御手段と、を備えることを特徴とする。
上記構成では、レーザ発振器から出力されたレーザ光は、集光光学系によって集光され、被加工物に照射される。この被加工物によって反射されたレーザ光としての反射光は、光検出器によって検出される。レーザ光の照射によって被加工物に穴部が形成されている場合、被加工物の表面であって穴部の周囲にもレーザ光が照射されている状態では、反射光には孔部の周囲から反射された光と穴部内から反射された光とが含まれる。従って、検出器による反射光の検出結果に穴部に起因する干渉成分が含まれることになる。
そのため、制御手段によって、光検出器による反射光の検出結果に干渉成分が含まれるように被加工物と集光光学系との相対位置を調整することによって、穴部の周囲にもレーザ光が照射されるような小さい径の穴部を形成することができる。
また、本発明に係るレーザ加工装置では、集光光学系の光軸方向に被加工物を移動させる被加工物移動手段を更に備え、制御手段は、被加工物移動手段を制御して集光光学系と被加工物との間の距離を調整することが好ましい。通常、被加工物に照射されるレーザ光の強度は、集光光学系の光軸に直交する面内において、中心で一番高く周縁部に向かって強度が低下する。そして、レーザ光が被加工物に照射された際に、光軸に直交する面内ににおいて被加工物を加工できる強度以上の強度を含む領域の大きさは、集光光学系の光軸方向に応じて変化する。従って、上記のように、被加工物移動手段を利用して被加工物を光軸方向に移動させることによって集光光学系との間の距離を調整することで、穴部の周囲にレーザ光が照射されるような小さい径の穴部を形成することが可能である。
更にまた、本発明に係るレーザ加工装置は、レーザ発振器と集光光学系との間に設けられており、レーザ発振器から出力されたレーザ光を参照光と照射光とに分岐する分岐光学系と、参照光を反射させて反射光とともに光検出器に入射させる反射光学系と、制御手段によって制御されると共に、参照光の光路上に設けられており参照光を遮断する光遮断手段と、を更に備え、集光光学系は照射光を被加工物に集光して照射し、制御手段は、光検出器による反射光と参照光との干渉光の検出結果に穴部に起因する干渉成分が含まれるように集光光学系と被加工物との相対位置を調整してから光遮断手段によって参照光を遮断し、光検出器による反射光の検出結果に穴部に起因する干渉成分が含まれるように集光光学系と被加工物との相対位置を調整することが好適である。
この場合、分岐光学系によって分岐された参照光であって反射光学系によって反射された参照光は、被加工物に照射され反射された照射光としての反射光と一緒に光検出器に入射される。従って、光検出器は、参照光と反射光との干渉光を検出することになる。制御手段が、光検出器による干渉光の検出結果に穴部に起因する干渉成分が含まれるように集光光学系と被加工物との相対位置を調整することで、被加工物に確実に穴部が形成されることになる。
そして、干渉光の検出結果に干渉成分が含まれた後に、制御手段が光遮断手段を制御して参照光をカットすることで、光検出器には参照光が入射されずに反射光が入射されることになる。この状態で制御手段が光検出器による反射光の検出結果に穴部に干渉成分が含まれるように集光光学系と被加工物との相対位置を調整することによって、前述したように穴部の外側にも照射光としてのレーザ光が照射されるような小さい径の穴部を形成できる。この場合、例えば、集光光学系の光軸方向において段差のある穴部を形成することが可能である。
更に、本発明に係るレーザ加工装置の制御手段が、光検出器の検出結果に基づいて穴部の深さを算出する解析部を有することも好ましい。光検出器の検出結果に干渉成分が含まれている場合、干渉成分の繰り返し周波数は穴の深さに依存している。したがって、干渉成分に基づいて穴の深さを算出することができる。このように穴の深さを算出することで、所望の深さの穴を形成することが可能である。
更に、本発明に係るレーザ加工装置が有する検出器は分光器であり、受けた光を分光して分光スペクトルを検出結果として出力することが好適である。これにより、干渉信号をより容易に得ることができる。また、分光スペクトルによって被加工物の加工に伴う物性変化を検出することができる。
本発明のレーザ加工装置によれば、小さい径を有する穴部をより確実に形成することができる。
以下、図面と共に本発明に係るレーザ加工装置の好適な実施形態について説明する。以下の説明では、同一の要素には同一の符号を用いることとし重複する説明は省略する。
図1は、本発明に係るレーザ加工装置の一実施形態の構成を示すブロック図である。レーザ加工装置1は、レーザ光によって被加工物3に穴部Hを形成するためのものであり、図1に示すように干渉計を構成している。
レーザ加工装置1は、被加工物3に照射するためのパルスレーザ光Lを出力するレーザ発振器5を備えている。ここで、レーザ発振器5は、10ps以下、好ましくは1ps以下のパルス幅を有するパルスレーザ光Lを出力可能であることが好ましい。このようにパルス幅を短くすることで、レーザ発振器5から出力されるパルスレーザ光Lの波長幅を十分に広くすることができる。また、レーザ発振器5は、好ましくは1パルスあたり1μJ以上のパルスレーザ光Lを出力可能であることが好ましい。このようなレーザ発振器5としては、例えばチタンサファイアレーザ装置を利用することができる。
レーザ発振器5と被加工物3との間のレーザ発振器5の光軸C上には、レーザ発振器5から出力されたレーザ光Lを参照光と照射光とに分岐する分岐光学系としてのハーフミラー7が設けられている。このハーフミラー7と被加工物3との間には、ハーフミラー7側から順にハーフミラー9及びアクロマートレンズ11が更に配設されている。
アクロマートレンズ(以下、単に「レンズ」とも称す)11は、その光軸がレーザ発振器5の光軸Cと一致するように配置されており、ハーフミラー7,9を透過したレーザ光Lとしての照射光を集光して被加工物3の被加工面(レンズ11側の面)3aの所定部位に照射する。照射光を集光する集光光学系としてアクロマートレンズ11を利用することにより、パルスレーザ光Lの波長分散による集光スポットの広がりを十分に防止して被加工物3に対する加工精度を向上させることができる。レンズ11は、被加工物3に照射され反射した照射光(レーザ光L)としての反射光を集光する機能も有する。
被加工物3は、レンズ11によるレーザ光Lの焦点位置近傍に配置されている。被加工物3は、移動ステージ13上に設けられており、レンズ11に対して光軸Cに直交する方向及び光軸C方向の位置が調整される。移動ステージ13は、レーザ加工装置1の一部を構成するコントローラ15に接続されており、コントローラ15によって制御される。
ハーフミラー9は、レンズ11を通過した反射光の一部を分岐する。このハーフミラー9で分岐された反射光の光路上であって、レンズ11による被加工物3の結像位置には、CCDカメラ17が設けられている。CCDカメラ17は、被加工物3の被加工面3aを撮像し、その画像情報をディスプレイ19に入力する。これにより、加工中に被加工物3の加工状態をモニタできることになる。また、ディスプレイ19に映されるエリアは、被加工面3aにレーザ光Lが照射されているエリアであるため、被加工物3の位置合わせをすることができる。
また、レーザ加工装置1は、ハーフミラー7で反射により分岐された参照光を反射する反射ミラー(反射光学系)21を備える。反射ミラー21は、ハーフミラー7からの参照光の光軸と、反射ミラー21で更に反射された参照光の光軸とが同軸になるように配置されている。これにより、反射ミラー21で反射された参照光は、ハーフミラー7に入射されてハーフミラー7を透過し、後述するように反射光と一緒に分光器27に入射する。
反射ミラー21は、反射ミラー21を参照光の光軸と平行に移動させる移動ステージ23上に設けられている。移動ステージ23は、コントローラ15に接続されており、コントローラ15によって制御される。この移動ステージ23により参照光の光路長を調整することができる。ハーフミラー7と反射ミラー21との間には、参照光を遮断する光遮断手段としての電磁シャッタ25が配置されている。電磁シャッタ25は、コントローラ15に接続されており、コントローラ15からの信号に応じて開閉される。
また、ハーフミラー7は、ハーフミラー9を透過してきた反射光の一部を、反射ミラー21で反射された参照光の進行方向側に反射させて分岐する。この反射光の光路上には、反射光を受ける検出器としてのマルチチャネル分光器(以下、単に「分光器」とも称す)27が設けられている。
分光器27は、電磁シャッタ25が開いている状態では、反射ミラー21で反射されハーフミラー7を透過した参照光と反射光との干渉光を検出して分光する。従って、分光器27は、干渉光の分光スペクトル(干渉スペクトル)を算出し、検出結果として出力することになる。
また、分光器27は、電磁シャッタ25が閉じた状態では、反射光のみを検出して分光する。従って、電磁シャッタ25が閉じた状態では、分光器27は、反射光の分光スペクトルを算出し検出結果として出力することになる。
更に、レーザ加工装置1は、分光器27の検出結果を解析し、その解析結果を利用してレーザ加工装置1における各種加工条件を制御する制御手段29を有する。制御手段29は、コントローラ15を介して移動ステージ13,23を制御すると共に、レーザ発振器5を制御する。制御手段29には、解析結果を表示する表示手段としてのディスプレイ31が接続されていることが好ましい。
上記構成では、レーザ加工装置1は干渉計を構成しており、電磁シャッタ25を開いた状態では、分光器27には、参照光と反射光との干渉光が入射されることになる。
反射光は、被加工物3で反射された照射光であり、被加工物3に穴部Hが形成されていない状態で分光器27に入射される照射光と参照光との光路長とが一致する(又は波長の整数倍の差を有する)場合、分光器27から出力される分光スペクトルには、干渉成分は含まれないことになる。一方、被加工物3に光軸C方向に延びる穴部Hが形成されると、光路長が変化するため、検出結果に穴部Hの形成に起因する干渉成分が含まれることになる。
従って、上記構成のレーザ加工装置1では、参照光と反射光との干渉光の分光スペクトルにおける穴部Hに起因する干渉成分の有無によって穴部Hが形成されているか否かを判断できる。なお、以下の説明では、特に断らない限り、干渉成分とは、穴部Hに起因する干渉成分を意味すものとする。
また、前述したように干渉成分は、穴部Hが形成されることによる光路長変化を表しているため、干渉成分は穴部Hの深さdの情報を含んでいる。そのため、干渉成分を解析することにより穴部Hの深さdをリアルタイムでモニタリングできる。
干渉成分を有する分光スペクトルから穴部Hの深さdを算出する方法について説明する。ここでは、被加工物3に深さ100μmの穴部Hが形成されているとし、分光器27に反射光と参照光との干渉光が入射されているという条件でのシミュレーション結果に基づいて説明する。
図2(a)は、分光器の出力結果としての分光スペクトルを示している。図2(a)の横軸は波長(nm)を示し、縦軸は信号強度を示している。図2(a)に示すように、干渉光の分光スペクトルには干渉成分(干渉縞)が含まれる。分光器27からの出力結果としての分光スペクトルは、波長λの関数であるため、分光スペクトルをI(λ)とする。
深さdを算出する場合、先ず、分光スペクトルI(λ)を、周波数νの関数に変換する。図2(b)に、分光スペクトルI(λ)を光周波数νの関数に変換して得られるI(ν)のグラフを示す。図2(b)の横軸は光周波数ν(THz)を示し、縦軸は信号強度を示している。
図2(b)に示したI(ν)における繰り返し周波数は、穴部Hの深さdに比例する。そこで、I(ν)をフーリエ変換したF(ω)を算出し、F(ω)を更に深さ(距離)dの関数に変換する。このF(ω)を深さdの関数に変換して得られる関数を干渉信号F(d)と称す。
図2(c)は、干渉信号F(d)のグラフを示す図である。I(ν)がフーリエ変換されたF(ω)は、繰り返し周波数に対応する部分でピークを有するので、図2(c)に示すように、干渉信号F(d)でも穴部Hの深さである100μmでピークを有することになる。従って、干渉信号F(d)における最大値を示す位置が、被加工物3に形成されている穴部Hの深さdになる。
ところで、電磁シャッタ25によって参照光をカットした場合、分光器27に入射される光は反射光のみになるので、通常、分光スペクトルに干渉成分は含まれないと考えられる。
これに対して、本発明者らは、被加工物3に小さい径の穴部Hが形成されている場合には、反射光の検出結果としての分光スペクトルに起因する干渉成分が含まれること、及び、分光スペクトルに干渉成分が含まれるように加工条件を制御することによって、細径の穴部Hを形成できることを見出した。
図3を参照して、反射光の分光スペクトルに干渉成分が含まれる理由をより具体的に説明する。図3(a)は、レーザ光が照射されている被加工物の加工面の平面図である。図3(b)は、図3(a)の断面図である。図3(c)は、照射されるレーザ光の強度分布を示す図である。図3では、穴部Hが形成されている状態の図を示している。
図3(a)に示すように、被加工物3の被加工面3aにおいて、光軸Cを中心として半径rの円内に照射光が照射されているとする。照射光(レーザ光L)が照射されている照射領域Aにおいて、照射光の強度は、図3(c)に示すように、レンズ11の光軸(すなわち、レーザ発振器5の光軸C)近傍で最大強度Imaxであって周縁部に向かって強度が低下するガウシアン分布を有する。光軸Cから半径rの位置で被加工物3に対して加工が可能な閾値強度Iを有するとすると、図3(a),(b)に示すように、光軸Cを中心とした直径D(すなわち半径r)の円内よりも内側に穴部Hが形成されることになる。
このような、照射領域Aの直径D1(2r)よりも小さい直径D2(2r)を有する穴部Hが形成されている場合、照射光は、図3(b)に示すように、照射領域A内であって穴部Hの外側(周囲)と、穴部H(より具体的には、穴部Hの底から)とからそれぞれ反射されることになる。従って、反射光には、穴部Hとその周囲から反射された光、言い換えれば、照射領域Aにおける中心部とその周縁部とから反射された光がそれぞれ含まれることになる。
そして、穴部Hが形成されるまでは、中心部から反射した光とその周縁部とから反射した光との間に光路長差は生じないが、穴部Hが生じるで光路長差が生じる。その結果として、分光スペクトルに穴部Hに起因する干渉成分が含まれることになる。
被加工物3に照射される照射光は、レンズ11によって集光されているので、被加工面3aでの半径r(閾値強度Iを示す光軸Cからの距離)は、レーザ光Lの強度を変化させたり、光軸C方向の位置に応じて変化することになる。
したがって、例えば、被加工物3とレンズ11との間の距離を調整したり、レーザ光Lの強度を調整することで、干渉成分が含まれるようにすることで照射領域Aの直径D1よりも小さい直径D2の穴部Hを形成することができる。また、この場合も、分光スペクトルに干渉成分が含まれるので、前述した方法と同様の方法により、穴部Hの深さdも算出できることになる。
次に、上記のように照射領域Aの半径rよりも小さい半径rを有する穴部Hを形成するようにレーザ加工装置1の各構成要素を制御する制御手段29についてより詳細に説明する。
制御手段29は、例えば、パーソナルコンピュータであり、解析部29A、判断部29B及び制御部29Cを有する。解析部29Aは、分光器27による光の検出結果から穴部Hの深さdを算出する。深さdの算出方法は前述の通りである。すなわち、分光器27の検出結果であって波長λの関数としての分光スペクトルI(λ)を周波数νの関数としてのI(ν)に変換してからフーリエ変換した後、干渉信号F(d)を算出する。
解析部29Aは、この干渉信号F(d)を判断部29B及び制御部29Cに入力する。また、解析部29Aは、干渉信号F(d)をディスプレイ31に入力する。これにより、ディスプレイ31によって穴部Hの形成過程を観察できることになる。
判断部29Bは、分光器27の出力結果に干渉成分(穴部Hに起因する干渉成分)が含まれているか否かを判断する。判断部29Bは、解析部29Aが算出した干渉信号F(d)の最大値(ピーク強度)が予め設定している設定値より大きいか否かを判断し、設定値以上の場合に「干渉成分あり」と判断し、設定値より小さい場合に「干渉成分なし」と判断する。被加工物3の表面などに凹凸などがあると、その凹凸による干渉成分が含まれることになるが、前述したように干渉信号F(d)での最大値と設定値とを比較することで穴部Hの形成に伴う干渉成分の有無を確実に判断できることになる。
また、判断部29Bは、干渉信号F(d)の最大値を示す深さが所望の深さか否かを判断する。判断部29Bは、上記判断結果を制御部29Cに出力する。
制御部29Cは、所望の深さ及び所望の半径の穴部Hが形成されるように、コントローラ15を介して移動ステージ13,23及び電磁シャッタ25を制御する。より具体的には、制御部29Cは、電磁シャッタ25を開いた状態で、判断部29Bが「干渉成分あり」と判断するように移動ステージ13の位置を調整する。また、制御部29Cは、判断部29Bが「干渉成分あり」と判断した後に、電磁シャッタ25を閉じた状態で、更に、判断部29Bが「干渉成分あり」と判断するように移動ステージ13の位置を調整する。制御部29Cは、移動ステージ13の位置の調整と一緒に、又は移動ステージ13の位置の調整に代えてレーザ光Lの強度を調整してもよい。
次に、図1及び図4を参照して、レーザ加工装置1を利用して被加工物3に穴部Hを形成する方法を説明する。図4は、被加工物に穴部を形成する方法を示すフローチャートである。ここでは、被加工物3をレーザ加工装置1にセットした状態で、参照光と照射光との光路長は一致しているもの、すなわち、分光スペクトルに干渉成分が含まれないものとする。
先ず、制御部29Cが、コントローラ15を介して電磁シャッタ25を開き、レーザ発振器5を制御してレーザ光Lを出力させる。レーザ発振器5から出力されたレーザ光Lは、ハーフミラー7により参照光と照射光とに分岐される。照射光は、ハーフミラー9を更に透過してレンズ11により集光されて被加工物3の所定部位に照射される(S11)。また、参照光は、電磁シャッタ25を通過し、反射ミラー21で反射される。そして、反射ミラー21で反射された参照光は更に電磁シャッタ25を通過してハーフミラー7に入射される。
被加工物3から反射された照射光としての反射光は、レンズ11を通過した後に、ハーフミラー9によって分岐されCCDカメラ17に入射される。これにより、ディスプレイ19で被加工物3の加工状態が観察できることになる。
また、ハーフミラー9を透過した反射光は、ハーフミラー7によって更に分岐される。そして、反射ミラー21で反射してハーフミラー7を透過した参照光と反射光の干渉光が分光器27に入射される。
分光器27の検出結果は、制御手段29に入力され、解析部29Aは、分光器27による上記干渉光の検出結果としての分光スペクトルから干渉信号F(d)を算出し、判断部29Bに入力する。判断部29Bは、干渉信号F(d)に基づいて干渉成分の有無を判断し、その判断結果を制御部29Cに入力する。
制御部29Cは、判断部29Bが「干渉成分なし」と判断した場合は(S12で「N」)、判断部29Bが「干渉成分有り」と判断するように移動ステージ13を制御して被加工物3の光軸C方向における位置を調整する(S15)。この際、制御部29Cは、レーザ発振器5から出力される強度を調整することも好適である。レーザ光Lの強度を調整することで、被加工物3の表面に例えば酸化膜などが形成されていても、確実に酸化膜に穴部を形成することができるからである。
そして、判断部29Bが、「干渉成分有り」、すなわち、穴部Hが形成されていると判断すると(S12で「Y」)、制御部29Cは、コントローラ15を介して電磁シャッタ25を閉じる。これにより、参照光が遮断され、分光器27には反射光のみが入射されることになる(S14)。
この状態では、解析部29Aは、分光器27による反射光の分光スペクトルに基づいて干渉信号F(d)を算出する。そして、制御部29Cは、判断部29Bが「干渉成分なし」と判断した場合は(S16で「N」)、判断部29Bが「干渉成分有り」と判断するように移動ステージ13を制御して被加工物3の光軸C方向における位置を調整する(S17)。この場合も、制御部29Cは、レーザ発振器5から出力される強度を調整することも好適である。
判断部29Bが「干渉成分有り」と判断した状態では、穴部Hの周囲にも照射光が照射された状態、すなわち、被加工面3aの位置での照射光の照射領域Aの半径rよりも小さい半径rを有する穴部Hが形成されることになる。
このように穴部Hが形成されているときには、干渉信号F(d)の最大値を示す深さは、穴部Hの形成に伴って移動するため、その深さが所望の深さに位置したとき(S18で「Y」)に、レーザ光Lの照射を停止して加工を終了する。所望の深さか否かの判断は、判断部29Bが解析部29Aの解析結果に基づいて判断してもよいし、例えば、操作者がディスプレイ31に表示された干渉信号F(d)に基づいて判断してもよい。
なお、所望の深さになっていない場合には(S18で「N」)、S18の工程を繰り返せばよい。これにより、より小さい半径を有する穴部Hを所望の深さまで形成できる。
上記レーザ加工装置1を利用して穴部Hを形成する場合、分光スペクトルにおける干渉成分の有無によって穴部Hが形成されているか否かを判断して、レーザ加工を行っているため、確実に穴部Hを形成することができる。これは、分光スペクトルが参照光と反射光との干渉光の検出結果の場合でも、反射光の検出結果の場合でも同様である。
被加工物3が透明なものでない場合、例えば、被加工物3を側方(横側)から穴部Hの深さを計測することはできない。
これに対して、上記レーザ加工装置1の構成では、分光スペクトルの干渉成分の繰り返し周波数が穴部Hの深さdに依存していることから、分光器27で検出される分光スペクトルを利用して制御手段29が穴部Hの深さdを算出している。この場合、分光器27と制御手段29とは、深度モニタとして機能している。そのため、加工中の穴部Hの深さ(深度)dをリアルタイムでモニタできることになり、その結果として、所望の深さの穴部Hを確実に形成することができる。以上説明したように深さdをより確実に制御できることは、分光スペクトルが参照光と反射光との干渉光の検出結果の場合でも、反射光の検出結果の場合でも同様である。
更に、レーザ加工装置1を利用した穴部Hの形成方法では、参照光をカットした状態で反射光の分光スペクトルに穴部Hに起因する干渉成分が含まれるように穴部Hを形成している。これにより、穴部Hの周囲にも照射光が照射されているような穴部H、言い換えれば、被加工面3aでの照射光の照射領域Aの半径rよりも小さい半径rを有する穴部Hを形成できる。従って、所望の深さを有した細い穴部Hをより確実に形成できることになる。そのため、微細加工により好適に利用できる。
穴部Hの形成条件は、被加工面3aに照射されるレーザ光Lの強度分布などにも依存するため、従来では、細い穴部Hを形成することは困難であった。これに対して、レーザ加工装置1では、前述したように、反射光の分光スペクトルに基づいて各種加工条件(レンズ11と被加工物3との位置関係や、レーザ強度)を制御することで、より確実に小さい径を有する穴部Hを形成できる。
また、上記のように、参照光と反射光との干渉光の分光スペクトルに基づいて穴部Hの形成の有無を判断する工程を含めることによって、例えば、光軸C方向において半径の異なる(換言すれば、段差を有する)穴部Hを形成することも可能である。更に、仮に大きくぼけている(デフォーカス)状態でレーザ光Lが被加工物3に照射された場合、穴部Hの中心部分から反射した光が主に分光器27に入力されることになる。この場合、反射光による分光では、干渉信号とその変化が得にくいため、上記のように参照光を利用することで穴部Hが形成されていることをより確実に確認できることになる。
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されない。例えば、図5に示すレーザ加工装置2のように、反射ミラーを備えなくてもよい。
レーザ加工装置2では、制御手段29の制御部29Cは、被加工物3にレーザ光Lが照射されている時に判断部29Bが「干渉成分有り」と判断するように移動ステージ13を調整すればよい。この「干渉成分有り」と判断された場合には、被加工物3に細径の穴部Hが形成されていることになるので、「干渉成分有り」の状態が維持されるように移動ステージ13を調整することによって、確実に細径の穴部Hを形成できる。
また、上記レーザ加工装置1は、穴部Hの半径の大きさに関係なく所望の深さを有する穴部Hを形成するためにも利用することができる。この場合には、電磁シャッタ25は設けなくても良い。
従来、レーザ加工で形成される穴部はアスペクト比が比較的大きいため、照射光の照射側から加工面を観察しても穴部の深さを測ることが困難である。そのため、所望の深さの穴部を形成しにくかった。
しかしながら、上記のように分光器27を深度モニタリングに利用することによってリアルタイムで深さdを観測しながら穴部Hを形成するので、所望の深さの穴部Hを確実に形成することができる。
また、レーザ加工装置1,2では、被加工面3aをCCDカメラ17で観察するようにしているが、CCDカメラ17は利用しなくてもよい。また、上記レーザ加工装置1を利用した穴部Hの形成方法では、反射光のみの検出結果に干渉成分が含まれている場合、穴部Hの深さdをその干渉成分を含む検出結果に基づいて算出するようにしているが、例えば、適当な時間間隔で電磁シャッタ25を開き参照光と反射光との合波光に基づいて深さdを算出してもよい。
更にまた、レーザ加工装置1,2では、光検出器としてマルチチャネル分光器27を使用しているが、光検出器は、干渉成分を検出できれば特に限定されず、例えば、スクリーンなども利用することが可能である。また、分岐光学系としてハーフミラー7を利用しているが、例えば、レーザ発振器5からのレーザ光を分岐できると共に、反射ミラーで反射されてきた参照光と反射光とを結合できるものであればよく、プリズムなども利用できる。
また、これまでの説明では、説明の簡単化のために、穴部Hが形成される前には、分光スペクトルには干渉成分が含まれていないとして説明した。しかしながら、被加工物3と反射ミラーの配置関係によっては干渉成分が含まれる場合もある。この場合は、照射光を照射することによって生じる干渉成分の変化分を穴部Hに起因する干渉成分とすればよい。
以下、本発明の内容を実施例を用いてより具体的に説明する。
(実施例1)
図1のレーザ加工装置1を利用し、被加工物3として半透明黄緑アクリル板に開口径φ18μm×深さ100μmの微小穴部Hを形成した。アクロマートレンズ11としては焦点距離60mmのものを利用した。被加工物3は、その被加工面3aをレンズ11の焦点位置近傍に配置した。レーザ発振器5としては、チタンサファイアレーザ装置を利用し、マルチチャネル分光器27としては、オーシャンオプティクス社製HR2000を利用した。
実施例1では、電磁シャッタ25を閉じ、最初から参照光を遮断した状態で深さdを測定しながらレーザ発振器5から20μJ/puls、1Hzのフェムト秒レーザパルスを被加工物3に照射した。そして、反射光のみの分光スペクトルに干渉成分が含まれるようにしてレーザ加工装置1を制御して穴部Hを形成し、解析部29Aで算出された深さdが100μmを示した直後に照射を止めた。
図6(a)は、加工後の被加工物3の顕微鏡写真である。図6(a)における上側の写真は被加工物3の被加工面3aの平面図である。また、図6(a)における下側の写真は、被加工物3を側方から写した顕微鏡写真である。また、図6(b)は、制御手段29で算出された干渉信号F(d)を示すグラフである。
図6(a)に示すように、反射光のみの分光スペクトルを利用することで直径18μmの穴部Hを形成することができた。また、図6(b)に示すように、解析部29Aで算出された深さdが100μmで照射を止めることによって、確かに、解析結果とほぼ一致する深さ102μmの穴部Hが形成されていた。
以上の実験結果から分かるように、反射光の分光スペクトルに干渉成分が含まれるようにレーザ加工装置1を制御することで、より小さい径の穴部Hを形成することが可能である。また、干渉成分を利用して深さdを算出することで所望の深さdの穴部Hを形成することもできる。
(実施例2)
また、図1のレーザ加工装置1を利用し、電磁シャッタ25を開いて分光器27には参照光と反射光との干渉光が入射するようにして、被加工物3に所望の深さdの穴部Hを形成した。レーザ発振器5、マルチチャネル分光器27、アクロマートレンズ11及び被加工物3は、実施例1と同様のものを利用した。
まず、被加工物3の被加工面3aをレンズ11の焦点位置よりレーザ発振器5側へ1mmの位置に配置して
、出力されるエネルギが300μJ/pulseで、繰り返し周波数が1Hzのフェムト秒レーザーパルスを被加工物3に600shots連続して照射した。
そして、分光器27からの検出結果としての分光スペクトルから算出された深さdが約1050μmとなったときにレーザ光の照射を止めた。
図7(a)は、加工後の被加工物3の顕微鏡写真であり、被加工物3の側方から写したものである。図7(b)は、加工終了直前の解析部29Cで算出された干渉信号F(d)をモニタ結果である。図7(b)に示すように、算出された深さdが約1050μmで照射を止めることによって、図7(a)に示すように、所望の深さである1050μmの
穴部Hが確かに形成できた。
本発明に係るレーザ加工装置の一実施形態の構成を示すブロック図である。 深さを算出する工程を示す図である。 (a)は、穴部が形成されている被加工物の平面図である。(b)は、(a)のIIIb―IIIbの断面図である。(c)は、レーザ照射領域における強度分布を示す図である。 レーザ加工装置を利用した穴部の形成方法を示すフローチャートである。 本発明に係るレーザ加工装置の他の実施形態の構成を示すブロック図である。 (a)は、被加工物に形成した穴部の顕微鏡写真である。(b)は、(a)で示した穴部を形成したときの深さの算出結果である。 (a)加工後の被加工物の顕微鏡写真である。(b)は、加工終了直前の解析部で算出された干渉信号F(d)を示すグラフである。
符号の説明
1,2…レーザ加工装置、3…被加工物、5…レーザ発振器、7…ハーフミラー(分岐光学系)、11…アクロマートレンズ(集光光学系)、13…移動ステージ(被加工物移動手段)、21…反射ミラー(反射光学系)、25…電磁シャッタ(光遮断手段)、27…分光器(検出手段)、29…制御手段。

Claims (5)

  1. レーザ光を照射して被加工物に穴部を形成するレーザ加工装置であって、
    前記被加工物に照射するレーザ光を出力するレーザ発振器と、
    前記レーザ光を集光して前記被加工物に照射する集光光学系と、
    前記被加工物に照射され反射されたレーザ光としての反射光を受ける光検出器と、
    前記光検出器による前記反射光の検出結果に前記穴部に起因する干渉成分が含まれるように前記集光光学系と前記被加工物との相対位置を調整する制御手段と、
    を備えることを特徴とするレーザ加工装置。
  2. 前記集光光学系の光軸方向に前記被加工物を移動させる被加工物移動手段を更に備え、
    前記制御手段は、前記被加工物移動手段を制御して前記集光光学系と前記被加工物との間の距離を調整することを特徴とする請求項1に記載のレーザ加工装置。
  3. 前記レーザ発振器と前記集光光学系との間に設けられており、前記レーザ発振器から出力された前記レーザ光を参照光と照射光とに分岐する分岐光学系と、
    前記参照光を反射させて前記反射光とともに前記光検出器に入射させる反射光学系と、
    前記制御手段によって制御されると共に、参照光の光路上に設けられており前記参照光を遮断する光遮断手段と、
    を更に備え、
    前記集光光学系は前記照射光を前記被加工物に集光して照射し、
    前記制御手段は、
    前記光検出器による前記反射光と前記参照光との干渉光の検出結果に前記穴部に起因する干渉成分が含まれるように前記集光光学系と前記被加工物との相対位置を調整してから前記光遮断手段によって前記参照光を遮断し、前記光検出器による前記反射光の検出結果に前記穴部に起因する干渉成分が含まれるように前記集光光学系と前記被加工物との相対位置を調整することを特徴とする請求項1又は2に記載のレーザ加工装置。
  4. 前記制御手段は、前記光検出器の検出結果に基づいて前記穴部の深さを算出する解析部を有することを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載のレーザ加工装置。
  5. 前記光検出器は分光器であり、受けた光を分光して分光スペクトルを検出結果として出力することを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載のレーザ加工装置。












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