JP2006324261A - Organic electroluminescent display device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL display device wherein thickness in depth can be made thin as much as possible, and to provide an organic EL display with excellent moisture resistance. <P>SOLUTION: This organic electroluminescent display device is provided with a first substrate wherein at least an organic luminous element layer is formed in one surface and a second substrate disposed facing the surface wherein the organic luminous element layer of the first substrate is formed. The first substrate and the second substrate are fixed through a wall. The second substrate has a spacer extended along a first side of the second substrate in a surface facing the organic luminous element layer. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は有機エレクトロルミネセンス表示装置に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescence display device.

有機エレクトロルミネセンス表示装置(以下、有機EL((Electro Luminescence))表示装置と称す)は、観察する側の透明基板の裏面の各画素毎に独立して発光がなされる有機EL積層体からなる有機発光体層が形成されている。
そして、前記透明基板は、その裏面の前記有機EL積層体を囲むようにして取り付けられた封止キャップとともに該有機EL表示装置の外囲器を構成している。
An organic electroluminescence display device (hereinafter referred to as an organic EL ((Electro Luminescence)) display device) is composed of an organic EL laminated body that emits light independently for each pixel on the back surface of the transparent substrate on the observation side. An organic light emitter layer is formed.
And the said transparent substrate comprises the envelope of this organic EL display apparatus with the sealing cap attached so that the said organic EL laminated body of the back surface might be enclosed.

該封止キャップは、有機EL積層体が周囲に存在する水分によって影響を受けやすいことから、前記透明基板とともに該有機EL積層体の周囲を密閉空間とすることによって、耐湿性の向上を図っている。   The sealing cap is easily affected by moisture present in the surroundings of the organic EL laminated body. Therefore, the sealing cap and the surrounding area of the organic EL laminated body together with the transparent substrate are used to improve moisture resistance. Yes.

しかしながら、このような構成からなる有機EL表示装置は、その封止キャップが平板状の透明基板と組み合わせて前記密閉空間を形成させるため、うつわ(器)状に成型された形状をなしたものであった。
このため、該有機EL表示装置の奥行きの厚さが比較的大きくなってしまうという不都合が生じていた。
However, the organic EL display device having such a configuration has a shape formed into a container shape because the sealing cap is combined with a flat transparent substrate to form the sealed space. there were.
For this reason, there has been a disadvantage that the depth of the organic EL display device becomes relatively large.

また、封止キャップの内側面に乾燥剤含有層を塗布して、耐湿効果を図っているのが通常であるが、この乾燥剤含有層の形成が比較的困難であるという不都合が生じていた。   In addition, it is usual to apply a desiccant-containing layer on the inner surface of the sealing cap to achieve a moisture resistance effect, but there has been a disadvantage that it is relatively difficult to form this desiccant-containing layer. .

本発明は、このような事情に基づいてなされたもので、その目的は、奥行きの厚さを極力薄くできる有機EL表示装置を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、耐湿性に優れた有機EL表示装置を提供することにある。
The present invention has been made based on such circumstances, and an object thereof is to provide an organic EL display device capable of reducing the depth as much as possible.
Another object of the present invention is to provide an organic EL display device excellent in moisture resistance.

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下のとおりである。   Of the inventions disclosed in this application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.

手段1.
本発明による有機EL表示装置は、たとえば、一方の面に少なくとも有機発光体層が形成された透明基板と、この透明基板の前記有機発光体層が形成された面に対向して配置される平板状の基板とを備え、
前記基板の前記透明基板との固着は壁体を介してなされていることを特徴とするものである。
Means 1.
An organic EL display device according to the present invention includes, for example, a transparent substrate having at least an organic light emitter layer formed on one surface thereof, and a flat plate disposed to face the surface of the transparent substrate on which the organic light emitter layer is formed. Shaped substrate and
The substrate is fixed to the transparent substrate through a wall.

手段2
本発明による有機EL表示装置は、たとえば、手段1の構成を前提とし、前記平板状の基板の前記有機発光体層と対向する面には乾燥剤が配置されていることを特徴とするものである。
Mean 2
The organic EL display device according to the present invention is characterized in that, for example, on the premise of the configuration of the means 1, a desiccant is disposed on the surface of the flat substrate facing the organic light emitting layer. is there.

手段3.
本発明による有機EL表示装置は、たとえば、手段2の構成を前提とし、前記乾燥剤は壁体の近傍にて他の部分よりも量が多くなっていることを特徴とするものである。
Means 3.
The organic EL display device according to the present invention is characterized in that, for example, the configuration of the means 2 is premised, and the amount of the desiccant is larger in the vicinity of the wall than in other portions.

手段4.
本発明による有機EL表示装置は、たとえば、手段1の構成を前提とし、前記壁体は透明基板側に形成されたものと平板状の基板側に形成されたものを有し、それらは位置がずれて形成されていることを特徴とするものである。
Means 4.
The organic EL display device according to the present invention is based on, for example, the configuration of the means 1, and the wall body has one formed on the transparent substrate side and one formed on the flat substrate side, and the positions thereof are It is characterized by being formed out of alignment.

手段5.
本発明による有機EL表示装置は、たとえば、一方の面に少なくとも有機発光体層が形成された透明基板と、この透明基板の前記有機発光体層が形成された面に対向して配置される平板状の基板とを備え、
前記基板の前記透明基板との固着は壁体を介してなされているとともに、前記壁体に囲まれた前記基板の前記透明基板との間にスペーサが配置されていることを特徴とするものである。
Means 5.
An organic EL display device according to the present invention includes, for example, a transparent substrate having at least an organic light emitter layer formed on one surface thereof, and a flat plate disposed to face the surface of the transparent substrate on which the organic light emitter layer is formed. Shaped substrate and
The substrate is fixed to the transparent substrate through a wall body, and a spacer is disposed between the substrate surrounded by the wall body and the transparent substrate. is there.

手段6.
本発明による有機EL表示装置は、たとえば、手段5の構成を前提とし、前記スペーサは前記壁体の形成の際に同時に形成されていることを特徴とするものである。
なお、本発明は以上の構成に限定されず、本発明の技術思想を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
Means 6.
The organic EL display device according to the present invention is characterized in that, for example, the configuration of the means 5 is premised, and the spacer is formed simultaneously with the formation of the wall body.
In addition, this invention is not limited to the above structure, A various change is possible in the range which does not deviate from the technical idea of this invention.

以上説明したことから明らかなように、本発明による有機EL表示装置によれば、奥行きの厚さを極力薄くできるようになる。また、耐湿性に優れたものを得ることができる。   As is apparent from the above description, according to the organic EL display device of the present invention, the depth thickness can be reduced as much as possible. Moreover, the thing excellent in moisture resistance can be obtained.

以下、本発明による有機EL表示装置の実施例を図面を用いて説明をする。   Embodiments of an organic EL display device according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

実施例1.
《全体の構成》
図2は、本発明による有機EL表示装置の一実施例を示す全体の平面図である。同図は等価回路で示しているが、実際の幾何学的配置にほぼ対応させて描いている。
同図において、透明基板SUB1がある。この透明基板SUB1は観察者側に配置され、観察者は該透明基板SUB1を通して表示を観察するようになっている。
透明基板SUB1の裏面には、そのx方向に延在しy方向に並設されたゲート信号線GLとy方向に延在しx方向に並設されたドレイン信号線DLとが形成されている。
各ゲート信号線GLと各ドレイン信号線DLとで囲まれた領域は画素領域を構成するとともに、これら各画素領域のマトリクス状の集合体は画像表示部ARを構成するようになっている。
Example 1.
<Overall configuration>
FIG. 2 is an overall plan view showing an embodiment of the organic EL display device according to the present invention. Although the figure shows an equivalent circuit, it is drawn so as to substantially correspond to the actual geometric arrangement.
In the figure, there is a transparent substrate SUB1. The transparent substrate SUB1 is arranged on the viewer side, and the viewer observes the display through the transparent substrate SUB1.
On the back surface of the transparent substrate SUB1, gate signal lines GL extending in the x direction and arranged in parallel in the y direction and drain signal lines DL extending in the y direction and arranged in parallel in the x direction are formed. .
A region surrounded by each gate signal line GL and each drain signal line DL constitutes a pixel region, and a matrix-like aggregate of these pixel regions constitutes an image display unit AR.

また、図中x方向に配置される各画素に共通に対向電極信号線CLが形成され、この対向電極信号線CLは他の対向電極信号線CLと共通に接続されている。
各画素領域には、その片側のゲート信号線GLからの走査信号によって作動される薄膜トランジスタTFTと、この薄膜トランジスタTFTを介して片側のドレイン信号線DLからの映像信号が供給される画素電極PXが形成されている。
この画素電極PXは、前記対向電極信号線CLと接続される対向電極CTとで有機ELからなる発光材料層FLRを挟持するように構成され、該発光材料層FLRはそれに流れる電流によって発光するようになっている。
Further, a common electrode signal line CL is formed in common for each pixel arranged in the x direction in the figure, and this common electrode signal line CL is connected in common with other common electrode signal lines CL.
In each pixel region, a thin film transistor TFT operated by a scanning signal from one side gate signal line GL and a pixel electrode PX to which a video signal from one side drain signal line DL is supplied via the thin film transistor TFT are formed. Has been.
The pixel electrode PX is configured to sandwich a light emitting material layer FLR made of organic EL with the counter electrode CT connected to the counter electrode signal line CL, and the light emitting material layer FLR emits light by a current flowing therethrough. It has become.

前記ゲート信号線GLのそれぞれの一端は透明基板SUB1の周辺にまで延在され、その延在端は走査信号駆動回路Vの出力端子が接続される端子を構成するようになっている。また、前記走査信号駆動回路Vの入力端子は該透明基板SUB1の周辺に配置されるプリント基板(図示せず)からの信号が入力されるようになっている。
走査信号駆動回路Vはたとえばテープキャリア方式で形成された複数個の半導体装置からなり、互いに隣接する複数のゲート信号線GL毎にグループ化され、これら各グループ毎に一個の半導体装置があてがわれるようになっている。
One end of each of the gate signal lines GL extends to the periphery of the transparent substrate SUB1, and the extended end constitutes a terminal to which the output terminal of the scanning signal driving circuit V is connected. A signal from a printed circuit board (not shown) disposed around the transparent substrate SUB1 is input to the input terminal of the scanning signal drive circuit V.
The scanning signal drive circuit V is composed of, for example, a plurality of semiconductor devices formed by a tape carrier method, and is grouped for each of a plurality of adjacent gate signal lines GL, and one semiconductor device is assigned to each of these groups. It is like that.

同様に、前記ドレイン信号線DLのそれぞれの一端も透明基板SUB1の周辺にまで延在され、その延在端は映像信号駆動回路Heの出力端子が接続される端子を構成するようになっている。また、前記映像信号駆動回路Heの入力端子は透明基板SUB1の周辺に配置されるプリント基板(図示せず)からの信号が入力されるようになっている。
この映像信号駆動回路Heもテープキャリア方式で形成された複数個の半導体装置からなり、互いに隣接する複数のドレイン信号線DL毎にグループ化され、これら各グループ毎に一個の半導体装置があてがわれるようになっている。
Similarly, one end of each of the drain signal lines DL extends to the periphery of the transparent substrate SUB1, and the extended end constitutes a terminal to which the output terminal of the video signal driving circuit He is connected. . The input terminal of the video signal driving circuit He receives a signal from a printed circuit board (not shown) arranged around the transparent substrate SUB1.
This video signal drive circuit He is also composed of a plurality of semiconductor devices formed by a tape carrier system, and is grouped for each of a plurality of drain signal lines DL adjacent to each other, and one semiconductor device is assigned to each of these groups. It is like that.

前記各ゲート信号線GLは、走査信号駆動回路Vからの走査信号によって、その一つが順次選択されるようになっている。
また、前記各ドレイン信号線DLのそれぞれには、映像信号駆動回路Heによって、前記ゲート信号線GLの選択のタイミングに合わせて映像信号が供給されるようになっている。
One of the gate signal lines GL is sequentially selected by a scanning signal from a scanning signal driving circuit V.
In addition, a video signal is supplied to each of the drain signal lines DL by the video signal driving circuit He in accordance with the selection timing of the gate signal line GL.

さらに、透明基板SUB1の前記ゲート信号線GL、ドレイン信号線DLおよび薄膜トランジスタTFT等が形成された側の面に、その画像表示部ARを充分に被うようにして封止基板SUB2が対向配置され、この封止基板の周辺に形成された封止壁体SWによって前記透明基板SUB1と固定されている。   Further, a sealing substrate SUB2 is disposed opposite to the surface of the transparent substrate SUB1 on which the gate signal line GL, the drain signal line DL, the thin film transistor TFT, etc. are formed so as to sufficiently cover the image display portion AR. The transparent substrate SUB1 is fixed by a sealing wall SW formed around the sealing substrate.

ここで、該封止基板SUB2は透明基板SUB1と同様に平板状をなしその材料としてはたとえばステンレス、透明基板から構成されている。この場合、前記封止基板SUB2は特に上述した材料のものに限定はされず、他の材料であってもよい。
透明基板SUB1と封止基板SUB2との間の空間にはたとえば窒素(N)等の不活性ガスが充填されているとともに、該封止基板SUB2の透明基板SUB1と対向する面には乾燥剤が塗布されている。
Here, like the transparent substrate SUB1, the sealing substrate SUB2 has a flat plate shape, and is made of, for example, stainless steel or a transparent substrate. In this case, the sealing substrate SUB2 is not particularly limited to the above-described material, and may be another material.
The space between the transparent substrate SUB1 and the sealing substrate SUB2 is filled with an inert gas such as nitrogen (N), for example, and a desiccant is applied to the surface of the sealing substrate SUB2 facing the transparent substrate SUB1. It has been applied.

なお、上述した実施例では、走査信号駆動回路Vおよび映像信号駆動回路Heは透明基板SUB1とプリント基板との間を跨って接続されるいわゆるテープキャリア方式の半導体装置を示したものであるが、たとえば透明基板SUB1に搭載されたチップ状の半導体装置であってもよく、さらに、前記薄膜トランジスタTFTの半導体層が多結晶シリコン(p−Si)から構成される場合、透明基板SUB1面に前記多結晶シリコンからなる半導体素子を配線層とともに形成されたものであってもよい。   In the above-described embodiment, the scanning signal driving circuit V and the video signal driving circuit He are so-called tape carrier type semiconductor devices connected across the transparent substrate SUB1 and the printed circuit board. For example, it may be a chip-like semiconductor device mounted on the transparent substrate SUB1, and when the semiconductor layer of the thin film transistor TFT is composed of polycrystalline silicon (p-Si), the polycrystalline substrate is formed on the transparent substrate SUB1 surface. A semiconductor element made of silicon may be formed together with a wiring layer.

《画素の構成》
図3は、前記透明基板SUB1の面に形成された一画素の構成を示す平面図で、該透明基板SUB1の観察側と反対側から観た図を示している。また、図4は図3のIV−IV線における断面図を示している。
図3において、まず透明基板SUB1の表面にSiOあるいはSiNからなる下地層GWが形成されている。この下地層GWは透明基板SUB1に含まれるイオン性不純物が後述の薄膜トランジスタTFTに影響を及ぼすのを回避するために形成されている。
この下地層GWの各画素領域のたとえば左下の個所にx方向に延在するポリシリコン層からなる半導体層PSが形成されている。この半導体層PSは薄膜トランジスタTFTの半導体層となるものである。
<Pixel configuration>
FIG. 3 is a plan view showing a configuration of one pixel formed on the surface of the transparent substrate SUB1, and is a view seen from the opposite side of the transparent substrate SUB1. FIG. 4 shows a cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG.
In FIG. 3, first, a base layer GW made of SiO or SiN is formed on the surface of the transparent substrate SUB1. The underlayer GW is formed in order to avoid that ionic impurities contained in the transparent substrate SUB1 affect the thin film transistor TFT described later.
A semiconductor layer PS made of a polysilicon layer extending in the x direction is formed at, for example, the lower left portion of each pixel region of the base layer GW. The semiconductor layer PS becomes a semiconductor layer of the thin film transistor TFT.

そして、この半導体層PSをも被って該基板SUBの表面には絶縁膜GIが形成されている。この絶縁膜GIは薄膜トランジスタTFTの形成領域においてゲート絶縁膜として機能するものである。
この絶縁膜GIの表面にはそのx方向に延在しy方向に並設されるゲート信号線GLが形成されている。このゲート信号線GLは後述のドレイン信号線DLとで前記画素領域を画するようにして形成される。
An insulating film GI is formed on the surface of the substrate SUB, covering the semiconductor layer PS. This insulating film GI functions as a gate insulating film in the formation region of the thin film transistor TFT.
A gate signal line GL extending in the x direction and arranged in parallel in the y direction is formed on the surface of the insulating film GI. The gate signal line GL is formed so as to define the pixel region with a drain signal line DL described later.

また、このゲート信号線GLは、その一部において前記半導体層PSのほぼ中央部を横切るようにして延在される延在部が形成され、この延在部は薄膜トランジスタTFTのゲート電極GTとして機能するようになっている。
なお、このゲート電極GTの形成後にはそれをマスクとして不純物イオンが打ち込まれ、該ゲート電極GTの直下以外の領域の前記半導体層PSの部分は低抵抗化されるようになっている。
In addition, the gate signal line GL is formed with an extension part extending so as to cross almost the central part of the semiconductor layer PS, and this extension part functions as the gate electrode GT of the thin film transistor TFT. It is supposed to be.
After the formation of the gate electrode GT, impurity ions are implanted using the gate electrode GT as a mask so that the resistance of the semiconductor layer PS in the region other than directly below the gate electrode GT is reduced.

ゲート信号線GL(ゲート電極GT)をも被って前記基板SUBの表面には絶縁膜INが形成されている。この絶縁膜INは後述のドレイン信号線DLの形成領域において前記絶縁膜GIとともにゲート信号線GLに対する層間絶縁膜としての機能を有する。
絶縁膜INの表面にはそのy方向に延在されx方向に並設されるドレイン信号線DLが形成されている。このドレイン信号線DLの一部は前記半導体層PSの一端部にまで延在され、絶縁膜INおよび絶縁膜GIを貫通して予め形成されたスルーホールTH1を通して該半導体層PSと接続されている。すなわち、ドレイン信号線DLの前記延在部は薄膜トランジスタTFTのドレイン電極SD1として機能する。
An insulating film IN is formed on the surface of the substrate SUB, covering the gate signal line GL (gate electrode GT). This insulating film IN has a function as an interlayer insulating film for the gate signal line GL together with the insulating film GI in the drain signal line DL formation region described later.
A drain signal line DL extending in the y direction and arranged in parallel in the x direction is formed on the surface of the insulating film IN. A part of the drain signal line DL extends to one end of the semiconductor layer PS and is connected to the semiconductor layer PS through a through hole TH1 formed in advance through the insulating film IN and the insulating film GI. . That is, the extending portion of the drain signal line DL functions as the drain electrode SD1 of the thin film transistor TFT.

また、前記半導体層PSの他端部には絶縁膜INおよび絶縁膜GIを貫通して予め形成されたスルーホールTH2を通して接続されたソース電極SD2が形成され、このソース電極SD2は後述の画素電極PXと接続させるための延在部が形成されている。
そして、このようにドレイン信号線DL(ドレイン電極SD1)、ソース電極SD2が形成された基板SUBの表面には絶縁膜ILが形成され、その上面にはさらに積層されて絶縁膜INLが形成されている。
The other end of the semiconductor layer PS is formed with a source electrode SD2 that penetrates the insulating film IN and the insulating film GI and is connected through a previously formed through hole TH2. The source electrode SD2 is a pixel electrode that will be described later. An extension for connecting to PX is formed.
Then, the insulating film IL is formed on the surface of the substrate SUB on which the drain signal line DL (drain electrode SD1) and the source electrode SD2 are formed in this way, and the insulating film INL is further stacked on the upper surface thereof. Yes.

この絶縁膜INLの上面には、各画素領域の僅かな周辺を除く中央にたとえばITO(Indium Tin Oxide)等の透光性の導電膜からなる画素電極PXが形成され、この画素電極PXは該絶縁膜INLおよび絶縁膜ILに形成したスルーホールTH3を通して前記薄膜トランジスタTFTのソース電極SD2と接続されている。
画素電極PXが形成された透明基板SUB1の表面にはたとえば有機材料層からなるバンク膜BNKが形成され、このバンク膜BNK膜はその一部が孔開けされて前記画素電極PXの周辺を除く中央部が露出されるようになっている。
On the upper surface of the insulating film INL, a pixel electrode PX made of a light-transmitting conductive film such as ITO (Indium Tin Oxide) is formed in the center except for a slight periphery of each pixel region. The thin film transistor TFT is connected to the source electrode SD2 through a through hole TH3 formed in the insulating film INL and the insulating film IL.
A bank film BNK made of, for example, an organic material layer is formed on the surface of the transparent substrate SUB1 on which the pixel electrode PX is formed. A part of the bank film BNK film is perforated to remove the periphery of the pixel electrode PX. The part is exposed.

さらに、このバンク膜BNKおよびこのバンク膜BNKから露出された画素電極PXの表面には有機ELからなる発光材料層FLRが形成されている。
そして、この発光材料層FLRの表面の全域にはたとえばアルミニゥムからなる対向電極CTが形成されている。この場合、前記アルミニゥムは発光材料層FLRを介して画素電極PXと対向する部分において対向電極CTとして機能し、それ以外の部分は図2に示した対向電極信号線CLとして機能することになる。
Further, a light emitting material layer FLR made of organic EL is formed on the surface of the bank film BNK and the pixel electrode PX exposed from the bank film BNK.
A counter electrode CT made of, for example, aluminum is formed over the entire surface of the light emitting material layer FLR. In this case, the aluminum functions as the counter electrode CT in a portion facing the pixel electrode PX through the light emitting material layer FLR, and the other portion functions as the counter electrode signal line CL shown in FIG.

なお、この発明では前記画素構成を有するものに限定されることはなく、他の構成、すなわち、正孔注入層、電子注入層、あるいは電子輸送層と称される層が追加された構成、あるいは前記バンク層BNKが存在しない構成のものにあっても適用されるものである。   The present invention is not limited to the pixel configuration described above, and other configurations, that is, a configuration in which a layer called a hole injection layer, an electron injection layer, or an electron transport layer is added, or The present invention is also applicable to a configuration in which the bank layer BNK does not exist.

《封止壁体》
図1は、図2のI−I線における断面を示した図である。同図において、透明基板SUB1のゲート信号線GL、ドレイン信号線DL、および薄膜トランジスタTFTが形成された面に対向するようにして封止基板SUB2が配置されている。
この封止基板SUB2の周辺には封止壁体SWが形成され、この封止壁体SWは透明基板SUB1と接着剤ADを介して固着されることによって、該透明基板SUB1の画像表示部ARの面側には密閉空間を構成するようになっている。
この密閉空間には例えば窒素(N)等の不活性ガスが充填され、前記発光材料層FLRを化学的に安定させるように図っている。
<Sealing wall body>
FIG. 1 is a view showing a cross section taken along the line II of FIG. In the figure, a sealing substrate SUB2 is disposed so as to face the surface of the transparent substrate SUB1 on which the gate signal line GL, the drain signal line DL, and the thin film transistor TFT are formed.
A sealing wall body SW is formed around the sealing substrate SUB2, and the sealing wall body SW is fixed to the transparent substrate SUB1 via an adhesive AD, whereby the image display portion AR of the transparent substrate SUB1 is formed. A sealed space is configured on the surface side of the.
This sealed space is filled with an inert gas such as nitrogen (N), for example, so as to chemically stabilize the light emitting material layer FLR.

なお、この不活性ガスが充填された密閉空間は、該不活性ガス中において、透明基板SUB1に対する封止基板SUB2の組み立てを行なうことによって形成することができる。
このように構成した場合、封止基板SUB2は透明基板SUB1と同様に平板状の基板を用いることができるため、有機EL表示装置の奥行きの長さWを小さくできる効果を奏する。
そして、前記封止基板SUB2の前記封止壁体SWに囲まれる表面において乾燥剤DRがたとえば塗布によって形成されている。この乾燥剤DRは前記封止壁体SWに囲まれる表面のほぼ全域にわたって形成され、これにより前記密閉空間における乾燥効率の拡大を図っている。
The sealed space filled with the inert gas can be formed by assembling the sealing substrate SUB2 with the transparent substrate SUB1 in the inert gas.
When configured in this manner, the sealing substrate SUB2 can use a flat substrate similarly to the transparent substrate SUB1, so that the depth length W of the organic EL display device can be reduced.
A desiccant DR is formed on the surface of the sealing substrate SUB2 surrounded by the sealing wall body SW by, for example, coating. The desiccant DR is formed over almost the entire surface surrounded by the sealing wall SW, thereby increasing the drying efficiency in the sealed space.

封止基板SUB2は平板状の基板からなることから、その表面のほぼ全域に該乾燥剤DRを塗布することは容易な作業として行なうことができる。
なお、この乾燥剤DRは前記発光材料層FLRの湿気による劣化を防止せんために設けられるものである。
Since the sealing substrate SUB2 is made of a flat substrate, it is possible to apply the desiccant DR over almost the entire surface of the sealing substrate SUB2 as an easy operation.
The desiccant DR is provided to prevent deterioration of the light emitting material layer FLR due to moisture.

また、前記封止壁体SWの外側の壁面には、その上下の透明基板SUB1および封止基板SUB2の一部をも含んでたとえばエポキシ樹脂EOが塗布され、このエポキシ樹脂EOによって該透明基板SUB1および封止基板SUB2内の密閉空間への湿気の侵入を防止するようになっている。   Further, on the outer wall surface of the sealing wall SW, for example, an epoxy resin EO is applied including a part of the upper and lower transparent substrates SUB1 and SUB2, and the transparent substrate SUB1 is applied by the epoxy resin EO. In addition, moisture is prevented from entering the sealed space in the sealing substrate SUB2.

実施例2.
図5は、本発明による有機EL表示装置の他の実施例を示す構成図で、図1に対応した図となっている。
図1と比較して異なる構成は乾燥剤DRにある。すなわち、封止基板SUB2の面に形成される乾燥剤DRのうち、特に、封止壁体SWの近傍にある乾燥剤DR1の単位面積当たりの量が、それ以外の領域にある乾燥剤DRの単位面積当たりの量よりも多く形成されていることにある。
Example 2
FIG. 5 is a block diagram showing another embodiment of the organic EL display device according to the present invention and corresponds to FIG.
A different configuration compared to FIG. 1 is the desiccant DR. That is, among the desiccant DR formed on the surface of the sealing substrate SUB2, in particular, the amount per unit area of the desiccant DR1 in the vicinity of the sealing wall body SW is the amount of the desiccant DR in the other region. That is, it is formed more than the amount per unit area.

この実施例では、前記乾燥剤DR1の形成領域をたとえば多層構造とすることにより他の領域の乾燥剤DRよりも量の増大化を図っている。
外部からの湿気の侵入は封止壁体SWの形成部からなされることに鑑み、この封止壁体SWの近傍で湿気吸収能力を増大させようとするものである。
有機EL表示装置が大型化されるに従って発光材料層FLRの湿気による劣化の不都合を無視することができなくなることから、上述した構成が有効となる。
In this embodiment, the area where the desiccant DR1 is formed has a multilayer structure, for example, so that the amount of desiccant DR in other areas is increased.
In view of the intrusion of moisture from the outside from the forming portion of the sealing wall body SW, it is intended to increase the moisture absorption capacity in the vicinity of the sealing wall body SW.
Since the inconvenience of deterioration due to moisture of the light emitting material layer FLR cannot be ignored as the size of the organic EL display device is increased, the above-described configuration is effective.

実施例3.
図6は、本発明による有機EL表示装置の他の実施例を示す構成図で、図1に対応した図となっている。
図1と比較して異なる構成は封止壁体にある。すなわち、透明基板SUB1および封止基板SUB2のそれぞれに封止壁体SW1およびSW2が形成され、一方の封止壁体に対して他方の封止壁体は該一方の封止壁体の外側あるいは内側に位置をずらして形成している。
このようにした場合、湿気の侵入経路はラビリンス状の経路となり、該湿気の防止効果の向上が図れる。
Example 3
FIG. 6 is a block diagram showing another embodiment of the organic EL display device according to the present invention and corresponds to FIG.
A different configuration compared to FIG. 1 is the sealing wall. That is, sealing wall bodies SW1 and SW2 are formed on the transparent substrate SUB1 and the sealing substrate SUB2, respectively, and the other sealing wall body is outside the one sealing wall body or the other sealing wall body. The position is shifted inside.
In this case, the moisture intrusion route becomes a labyrinth-like route, and the moisture prevention effect can be improved.

また、図6に示すように、たとえば透明基板SUB1に形成された封止壁体SW1は封止基板SUB2に形成された封止壁体SW2に対して外側および内側に形成され、3つの前記各封止壁体が一組として形成される封止壁体の幅wを一定にして形成できる効果を奏する。
透明基板SUB1に形成された一対の封止壁体SW1はその間に充填される接着剤ADの封止壁となり、該封止壁を乗り越えて画像表示部AR側へ侵入するのを防ぐことができるからである。
また、前記接着剤ADは光硬化性のものを用いることにより、図6に示すように、UV光の照射によって容易に該接着剤ADを硬化させることができる。
Further, as shown in FIG. 6, for example, the sealing wall body SW1 formed on the transparent substrate SUB1 is formed on the outer side and the inner side with respect to the sealing wall body SW2 formed on the sealing substrate SUB2. There is an effect that the sealing wall body can be formed with a constant width w.
The pair of sealing wall bodies SW1 formed on the transparent substrate SUB1 becomes a sealing wall of the adhesive AD filled between them, and can be prevented from getting over the sealing wall and entering the image display unit AR side. Because.
In addition, by using a photo-curable adhesive AD, as shown in FIG. 6, the adhesive AD can be easily cured by irradiation with UV light.

実施例4.
図7は本発明による有機EL表示装置の他の実施例を示した平面図で、たとえば封止基板SUB2の封止壁体の内部においてスペーサSPを散在させて形成したことにある。
図7(a)は、該スペーサSPの形状を丸型にし、封止壁体SWの内部にほぼ均等に散在させて配置させている。
Example 4
FIG. 7 is a plan view showing another embodiment of the organic EL display device according to the present invention. For example, the spacers SP are scattered in the sealing wall of the sealing substrate SUB2.
In FIG. 7A, the shape of the spacer SP is round, and the spacers SP are arranged almost uniformly in the sealing wall SW.

このスペーサSPは透明基板SUB1と封止基板SUB2との間のギャップを均一化させるためのもので、有機EL表示装置が大型化した場合、あるいは透明基板SUB1あるいは封止基板SUB2のうち少なくとも一方において剛性が充分でない場合に有効となる。   This spacer SP is for making the gap between the transparent substrate SUB1 and the sealing substrate SUB2 uniform, and when the organic EL display device is enlarged or at least one of the transparent substrate SUB1 and the sealing substrate SUB2. This is effective when the rigidity is not sufficient.

このスペーサSPは封止壁体SWとほぼ同じ高さに形成することから、該封止壁体SWの形成と同時に形成でき、このようにした場合製造工数の増大を回避することができる。
なお、これら各スペーサSPは封止基板SUB2上に乾燥剤DRを介して形成してもよく、また、該乾燥剤DRの選択的除去部に形成してもよいことはもちろんである。
Since the spacer SP is formed at substantially the same height as the sealing wall body SW, it can be formed simultaneously with the formation of the sealing wall body SW, and in this case, an increase in the number of manufacturing steps can be avoided.
Of course, each of these spacers SP may be formed on the sealing substrate SUB2 via the desiccant DR, or may be formed in a selective removal portion of the desiccant DR.

図7(b)は前記スペーサSPの形状を変化させたもので、図中y方向に延在させx方向に並設させた矩形状のスペーサSPを設けている。同様にx方向に延在させy方向に並設させたスペーサSPを設けるようにしてもよいことはもちろんである。   FIG. 7B shows a change in the shape of the spacer SP, and a rectangular spacer SP extending in the y direction and arranged in parallel in the x direction is provided. Similarly, it goes without saying that spacers SP extending in the x direction and arranged in parallel in the y direction may be provided.

さらに、この実施例では、前記スペーサSPを封止基板SUB2側に形成したものであるが、透明基板SUB1側に形成するようにしてもよいことはいうまでもない。
上述した各実施例はそれぞれ単独に、あるいは組み合わせて用いても良い。それぞれの実施例での効果を単独であるいは相乗して奏することができるからである。
Furthermore, in this embodiment, the spacer SP is formed on the sealing substrate SUB2 side, but it goes without saying that it may be formed on the transparent substrate SUB1 side.
Each of the embodiments described above may be used alone or in combination. This is because the effects of the respective embodiments can be achieved independently or synergistically.

本発明による有機EL表示装置の一実施例を示す構成図で、図2のI−I線における断面図である。It is a block diagram which shows one Example of the organic electroluminescence display by this invention, and is sectional drawing in the II line | wire of FIG. 本発明による有機EL表示装置の一実施例を示す全体構成図である。1 is an overall configuration diagram showing an embodiment of an organic EL display device according to the present invention. 本発明による有機EL表示装置の画素の一実施例を示す平面図である。It is a top view which shows one Example of the pixel of the organic electroluminescent display apparatus by this invention. 図3のIV−IV線における断面図である。It is sectional drawing in the IV-IV line of FIG. 本発明による有機EL表示装置の他の実施例を示す構成図である。It is a block diagram which shows the other Example of the organic electroluminescent display apparatus by this invention. 本発明による有機EL表示装置の他の実施例を示す構成図である。It is a block diagram which shows the other Example of the organic electroluminescent display apparatus by this invention. 本発明による有機EL表示装置の他の実施例を示す平面図である。It is a top view which shows the other Example of the organic electroluminescent display apparatus by this invention.

符号の説明Explanation of symbols

SUB1……透明基板、SUB2……封止基板、SW……封止壁体、AD……接着剤、DR……乾燥剤、GL……ゲート信号線、DL……ドレイン信号線、TFT……薄膜トランジスタ、PX……画素電極、CT……対向電極、FLR……発光材料層。
SUB1 ... Transparent substrate, SUB2 ... Sealing substrate, SW ... Sealing wall, AD ... Adhesive, DR ... Drying agent, GL ... Gate signal line, DL ... Drain signal line, TFT ... Thin film transistor, PX ... pixel electrode, CT ... counter electrode, FLR ... light emitting material layer.

Claims (5)

一方の面に少なくとも有機発光体層が形成された第1基板と、
前記第1基板の前記有機発光体層が形成された面に対向して配置される第2基板とを備え、
前記第1基板と前記第2基板との固着は壁体を介してなされ、
前記第2基板は、前記有機発光体層と対向する面に、前記第2基板の第1の辺に沿って延在したスペーサを有することを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示装置。
A first substrate having at least an organic light emitter layer formed on one surface;
A second substrate disposed opposite to a surface of the first substrate on which the organic light emitting layer is formed,
The first substrate and the second substrate are fixed to each other through a wall body,
The organic electroluminescence display device, wherein the second substrate has a spacer extending along a first side of the second substrate on a surface facing the organic light emitting layer.
請求項1において、
前記スペーサは、前記第1の辺に隣接する第2の辺に併設されていることを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示装置。
In claim 1,
The organic electroluminescence display device, wherein the spacer is provided on a second side adjacent to the first side.
請求項1又は2において、
前記スペーサの形状は、矩形状であることを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示装置。
In claim 1 or 2,
An organic electroluminescence display device, wherein the spacer has a rectangular shape.
請求項1乃至3において、
前記スペーサは、前記隔壁とほぼ同じ高さであることを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示装置。
In claims 1 to 3,
The organic electroluminescence display device, wherein the spacer has substantially the same height as the partition wall.
一方の面に少なくとも有機発光体層が形成された第1基板と、
前記第1基板の前記有機発光体層が形成された面に対向して配置される第2基板とを備え、
前記第1基板の一方の面に、隔壁と、隔壁と前記第1の基板との間に形成された配線とを備え、
前記隔壁と前記第2基板とが接着剤を介して固着され、
前記第1基板と前記第2基板との間に封止空間が設けられ、該封止空間側の第2の基板面に乾燥剤を有することを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示装置。
A first substrate having at least an organic light emitter layer formed on one surface;
A second substrate disposed opposite to a surface of the first substrate on which the organic light emitting layer is formed,
On one surface of the first substrate, provided with a partition, and a wiring formed between the partition and the first substrate,
The partition and the second substrate are fixed via an adhesive,
An organic electroluminescence display device, wherein a sealing space is provided between the first substrate and the second substrate, and a desiccant is provided on a second substrate surface on the sealing space side.
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