JP2006317799A - Display apparatus and method for manufacturing the display apparatus - Google Patents

Display apparatus and method for manufacturing the display apparatus Download PDF

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Masumi Manabe
ますみ 真鍋
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the number of manufacture steps of a display apparatus, and to enhance the yield on the manufacturing. <P>SOLUTION: The display apparatus is equipped with a first substrate 11, having a plurality of transmission electrodes 2a and a plurality of reflection electrodes 2b; a second substrate 21, having counter electrodes 4 facing the respective transmission electrodes 2a and reflection electrodes 2b; a display layer 7 disposed between the first substrate 11 and the second substrate 21; a plurality of first color layers 23a, disposed on the second substrate 21 (or the first substrate 11) corresponding to the respective transmission electrodes 2a; barrier walls 24 separating each color layer of the first color layers 23a; and a step part 24a as a part of the barrier wall 24, rendering the distance between the reflection electrode 2b and the counter electrode 4 to be smaller than the distance between the transmission electrode 2a and the counter electrode 4. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、表示装置及び表示装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a display device and a method for manufacturing the display device.

表示装置としては、液晶を用いる液晶表示装置が様々な分野で使用されている。液晶表示装置は、薄型で軽量及び低消費電力であるため、携帯情報端末、コンピュータ及びテレビ等に用いられている。   As a display device, a liquid crystal display device using a liquid crystal is used in various fields. Liquid crystal display devices are thin, lightweight, and have low power consumption, and thus are used in portable information terminals, computers, televisions, and the like.

この液晶表示装置は、複数の画素電極を有するアレイ基板、各画素電極に対向する対向電極を有する対向基板、及びアレイ基板と対向基板との間に保持された液晶層等を備えている。このような構成に加え、カラー液晶表示装置は、R(赤)、G(緑)及びB(青)の各色の複数の着色層を有するカラーフィルタを備えている。   The liquid crystal display device includes an array substrate having a plurality of pixel electrodes, a counter substrate having a counter electrode facing each pixel electrode, and a liquid crystal layer held between the array substrate and the counter substrate. In addition to such a configuration, the color liquid crystal display device includes a color filter having a plurality of colored layers of each color of R (red), G (green), and B (blue).

カラー液晶表示装置の中には、室内外での良好な表示を得るため、半透過型のカラー液晶表示装置が提案されている(例えば特許文献1参照)。この半透過型のカラー液晶表示装置は、同一画素内において、光を透過させる画素電極である透過電極を有する透過部、及び光を反射する画素電極である反射電極を有する反射部を備えている。   Among color liquid crystal display devices, a transflective color liquid crystal display device has been proposed in order to obtain a good display indoors and outdoors (see, for example, Patent Document 1). This transflective color liquid crystal display device includes a transmissive portion having a transmissive electrode that is a pixel electrode that transmits light and a reflective portion having a reflective electrode that is a pixel electrode that reflects light in the same pixel. .

このような半透過型のカラー液晶表示装置は、室内等の暗い場所において、透過部によりバックライトからの光を表示に使用する透過型の液晶表示装置として機能し、室外等の明るい場所において、反射部により外光を反射させて表示に使用する反射型の液晶表示装置として機能する。これにより、明るい場所では、バックライトを用いずに画像を表示することが可能になるため、消費電力を大幅に削減することができる。   Such a transflective color liquid crystal display device functions as a transmissive liquid crystal display device that uses light from a backlight for display by a transmissive portion in a dark place such as indoors, and in a bright place such as outdoors. It functions as a reflective liquid crystal display device that is used for display by reflecting external light by the reflecting portion. Thereby, in a bright place, an image can be displayed without using a backlight, so that power consumption can be greatly reduced.

また、半透過型のカラー液晶表示装置では、透過部及び反射部のどちらでも良好な表示特性を得るため、反射部の液晶層を透過部の液晶層より薄くする場合がある。このとき、反射部には、反射部の液晶層の厚さを制御する段差部(バンプ)が形成される。この段差部は、カラーフィルタ上に設けられたり、あるいは、カラーフィルタに対向させてアレイ基板上又は対向基板上に設けられたりする。   Further, in a transflective color liquid crystal display device, in order to obtain good display characteristics in both the transmissive part and the reflective part, the liquid crystal layer in the reflective part may be made thinner than the liquid crystal layer in the transmissive part. At this time, a step portion (bump) that controls the thickness of the liquid crystal layer of the reflection portion is formed in the reflection portion. The stepped portion is provided on the color filter, or is provided on the array substrate or the counter substrate so as to face the color filter.

ここで、インクを吐出するインクジェット装置等によりカラーフィルタを製造する場合には、各色の着色層を着色層毎に隔てる隔離壁を基板上に形成し、隔離壁を形成した基板上に着色層形成用のインクを滴下し、滴下したインクを乾燥硬化させてカラーフィルタを製造する。
特開2002−341128号公報
Here, when a color filter is manufactured by an ink jet apparatus or the like that ejects ink, an isolation wall that separates the colored layers of each color is formed on the substrate, and the colored layer is formed on the substrate on which the isolation wall is formed. A color filter is manufactured by dripping ink for use and drying and curing the dropped ink.
JP 2002-341128 A

ところが、前述したようなカラーフィルタ製造工程を用いて、段差部を有する半透過型のカラー液晶表示装置を製造する場合には、隔離壁を形成する工程と段差部を形成する工程とが別々に行われるため、製造工程数が増えてしまい、その結果として、製造上の歩留まりは低下してしまう。   However, when a semi-transmissive color liquid crystal display device having a step portion is manufactured using the color filter manufacturing step as described above, the step of forming the isolation wall and the step of forming the step portion are separately performed. As a result, the number of manufacturing steps increases, and as a result, the manufacturing yield decreases.

本発明は上記に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、表示装置の製造工程数を削減し、製造上の歩留まりの向上を実現することである。   The present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to reduce the number of manufacturing steps of the display device and to improve the manufacturing yield.

本発明の実施の形態に係る第1の特徴は、表示装置において、光を透過させる複数の透過電極及び光を反射する複数の反射電極を有する第1の基板と、前記複数の透過電極及び前記複数の反射電極に対向する対向電極を有する第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に設けられた表示層と、前記第1の基板上又は前記第2の基板上に、前記複数の透過電極にそれぞれ対応させて設けられた複数の第1の着色層と、前記複数の第1の着色層を着色層毎に隔てる隔離壁と、前記隔離壁の一部であって、前記反射電極と前記対向電極との間の距離を前記透過電極と前記対向電極との間の距離に比べ短くする段差部とを備えることである。   According to an embodiment of the present invention, in the display device, a first substrate having a plurality of transmissive electrodes that transmit light and a plurality of reflective electrodes that reflect light, the plurality of transmissive electrodes, A second substrate having a counter electrode opposed to the plurality of reflective electrodes; a display layer provided between the first substrate and the second substrate; and the second substrate or the second substrate. A plurality of first colored layers provided on the substrate in correspondence with the plurality of transmissive electrodes, an isolation wall separating the plurality of first colored layers for each colored layer, and a part of the isolation wall And it is providing the level | step-difference part which shortens the distance between the said reflective electrode and the said counter electrode compared with the distance between the said transmissive electrode and the said counter electrode.

本発明の第1の特徴では、隔離壁の一部として段差部を設けることによって、隔離壁と段差部とを同じ製造工程で形成することが可能になるので、表示装置の製造工程数は削減される。   In the first feature of the present invention, by providing the step portion as a part of the isolation wall, it becomes possible to form the isolation wall and the step portion in the same manufacturing process, so the number of manufacturing steps of the display device is reduced. Is done.

本発明の実施の形態に係る第2の特徴は、表示装置の製造方法において、光を透過させる複数の透過電極及び光を反射する複数の反射電極を有する第1の基板上、又は前記複数の透過電極及び前記複数の反射電極に対向する対向電極を有する第2の基板上に、前記複数の透過電極にそれぞれ対応する複数の第1の着色層を着色層毎に隔てる隔離壁と、前記反射電極と前記対向電極との間の距離を前記透過電極と前記対向電極との間の距離に比べ短くする段差部とを一体に形成する工程と、前記隔離壁と前記段差部とを一体に形成した前記第1の基板上又は前記第2の基板上に、前記複数の第1の着色層を形成する工程とを有することである。   According to a second feature of the present invention, in the method for manufacturing a display device, a plurality of transmissive electrodes that transmit light and a first substrate that includes a plurality of reflective electrodes that reflect light, or the plurality of the plurality of transmissive electrodes. On the second substrate having a transmissive electrode and a counter electrode facing the plurality of reflective electrodes, a plurality of first colored layers respectively corresponding to the plurality of transmissive electrodes are separated for each colored layer, and the reflective A step of integrally forming a step portion that shortens a distance between the electrode and the counter electrode compared to a distance between the transmission electrode and the counter electrode; and a step of integrally forming the isolation wall and the step portion. Forming the plurality of first colored layers on the first substrate or the second substrate.

本発明の第2の特徴では、隔離壁と段差部とを一体に形成することによって、それらを同じ製造工程で形成することが可能になるので、表示装置の製造工程数は削減される。   In the second feature of the present invention, since the isolation wall and the stepped portion are integrally formed, they can be formed in the same manufacturing process, so that the number of manufacturing processes of the display device is reduced.

本発明によれば、表示装置の製造工程数を削減し、製造上の歩留まりの向上を実現することができる。   According to the present invention, it is possible to reduce the number of manufacturing steps of the display device and improve the manufacturing yield.

(第1の実施の形態)
本発明の第1の実施の形態について図1乃至図7を参照して説明する。
(First embodiment)
A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

[表示装置の構成]
まず、第1の実施の形態に係る表示装置1の構成について説明する。
[Configuration of display device]
First, the configuration of the display device 1 according to the first embodiment will be described.

第1の実施の形態に係る表示装置1は、図1に示すように、複数の画素電極2を有するアレイ基板3、各画素電極2に対向する対向電極4を有する対向基板5、及びアレイ基板3と対向基板5との間にシール材6により設けられた表示層7等を備えている。   As shown in FIG. 1, the display device 1 according to the first embodiment includes an array substrate 3 having a plurality of pixel electrodes 2, a counter substrate 5 having a counter electrode 4 facing each pixel electrode 2, and an array substrate. 3 and a counter substrate 5 are provided with a display layer 7 provided by a sealing material 6.

表示層7は液晶材料により形成されている。この表示層7は液晶層として機能する。各画素電極2上及び対向電極4上には、液晶分子の配向方向を規定する配向膜8a,8bが設けられている。また、アレイ基板3の下方には、光を照射するバックライト等の光源9が設けられている。   The display layer 7 is made of a liquid crystal material. The display layer 7 functions as a liquid crystal layer. On each pixel electrode 2 and the counter electrode 4, alignment films 8a and 8b for defining the alignment direction of liquid crystal molecules are provided. A light source 9 such as a backlight for irradiating light is provided below the array substrate 3.

表示装置1は、図2に示すように、画像を表示する表示領域内に半透過領域R1及び透過領域R2を有している。半透過領域R1は、光源9からの光及び外光(例えば太陽光等)の両方を表示に利用する領域である。また、透過領域R2は、光源9からの光だけを表示に利用する領域である。なお、表示領域は、液晶の配向状態の変化により画像を表示する領域である。   As shown in FIG. 2, the display device 1 includes a semi-transmissive region R1 and a transmissive region R2 in a display region for displaying an image. The semi-transmissive region R1 is a region that uses both light from the light source 9 and external light (for example, sunlight) for display. The transmissive region R2 is a region that uses only light from the light source 9 for display. The display area is an area where an image is displayed by a change in the alignment state of the liquid crystal.

半透過領域R1では、図3に示すように、表示装置1は、同一画素S内において、光を透過させる画素電極2である透過電極2aを有する透過部T、及び光を反射する画素電極2である反射電極2bを有する反射部Hを備えている。すなわち、半透過領域R1では、表示装置1は、画素S毎に透過部T及び反射部Hを備えている。ここで、透過部Tは、光源9からの光を透過させて表示に用いる部分である。また、反射部Hは、外光を反射して表示に用いる部分である。一方、透過領域R2では、表示装置1は、画素S内に透過部Tだけを備えている。   In the semi-transmissive region R1, as shown in FIG. 3, in the same pixel S, the display device 1 includes a transmissive portion T having a transmissive electrode 2a that is a pixel electrode 2 that transmits light, and a pixel electrode 2 that reflects light. The reflection part H which has the reflective electrode 2b which is is provided. That is, in the semi-transmissive region R1, the display device 1 includes a transmissive portion T and a reflective portion H for each pixel S. Here, the transmissive portion T is a portion that transmits light from the light source 9 and is used for display. The reflective portion H is a portion that reflects external light and uses it for display. On the other hand, in the transmissive region R2, the display device 1 includes only the transmissive portion T in the pixel S.

アレイ基板3は、ガラス基板等の光透過性及び絶縁性を有する第1の基板11、その第1の基板11上の内面(表示層7側の表面)に設けられた複数の透過電極2a、第1の基板11上の内面に絶縁層12を介して設けられた反射電極2b、それらを覆うように設けられた配向膜8a、第1の基板11上の外面に設けられたλ/4波長板13、及びそのλ/4波長板13上に設けられた偏光板14から構成されている。   The array substrate 3 includes a first substrate 11 having optical transparency and insulating properties such as a glass substrate, and a plurality of transmission electrodes 2a provided on the inner surface (the surface on the display layer 7 side) on the first substrate 11. The reflective electrode 2b provided on the inner surface of the first substrate 11 via the insulating layer 12, the alignment film 8a provided so as to cover them, and the λ / 4 wavelength provided on the outer surface of the first substrate 11 It comprises a plate 13 and a polarizing plate 14 provided on the λ / 4 wavelength plate 13.

透過電極2aは、例えばインジウムスズ酸化物(ITO)等の透明導電性材料により形成されている。また、反射電極2bは、アルミニウム等の光反射可能な導電性材料により形成されている。   The transmissive electrode 2a is formed of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO). The reflective electrode 2b is made of a light-reflective conductive material such as aluminum.

なお、第1の基板11上には、複数の信号線及び複数の走査線(いずれも図示せず)が格子状(マトリクス状)に交差させて設けられている。信号線及び走査線には、透過電極2a及び反射電極2bがスイッチ素子(図示せず)を介して接続されている。このスイッチ素子としては、例えば薄膜トランジスタを用いる。   Note that a plurality of signal lines and a plurality of scanning lines (both not shown) are provided on the first substrate 11 so as to intersect with each other in a lattice shape (matrix shape). The transmission electrode 2a and the reflection electrode 2b are connected to the signal line and the scanning line via a switch element (not shown). As the switch element, for example, a thin film transistor is used.

対向基板5は、ガラス基板等の光透過性及び絶縁性を有する第2の基板21、その第2の基板21上の内面(表示層7側の表面)に設けられたブラックマトリクス(BM)22、そのブラックマトリクス22に対応させて設けられたR(赤)、G(緑)及びB(青)の各色の複数の着色層23a、それらの着色層23aを着色層23a毎に隔てる隔離壁24、各着色層23a及び隔離壁24上に設けられた対向電極4、その対向電極4上に設けられた配向膜8b、第2の基板21上の外面に設けられた拡散板25、その拡散板25上に設けられたλ/4波長板26、及びそのλ/4波長板26上に設けられた偏光板27から構成されている。   The counter substrate 5 includes a second substrate 21 having optical transparency and insulating properties such as a glass substrate, and a black matrix (BM) 22 provided on the inner surface (the surface on the display layer 7 side) on the second substrate 21. A plurality of colored layers 23a of R (red), G (green), and B (blue) colors provided corresponding to the black matrix 22, and a separating wall 24 that separates the colored layers 23a for each colored layer 23a. The counter electrode 4 provided on each colored layer 23a and the isolation wall 24, the alignment film 8b provided on the counter electrode 4, the diffusion plate 25 provided on the outer surface of the second substrate 21, and the diffusion plate Λ / 4 wavelength plate 26 provided on 25 and a polarizing plate 27 provided on the λ / 4 wavelength plate 26.

ブラックマトリクス22は、画素S毎に透過電極2a及び反射電極2bの周縁部に対向させて格子状に設けられている。このブラックマトリクス22は、例えば多重クロム等により形成されている。また、各着色層23aは、各透過電極2aにそれぞれ対向させて設けられている。各色の着色層23aは、それぞれ対応する色の顔料を有するインクにより形成されている。   The black matrix 22 is provided for each pixel S in a lattice shape so as to face the peripheral portions of the transmission electrode 2a and the reflection electrode 2b. The black matrix 22 is made of, for example, multiple chrome. Each colored layer 23a is provided to face each transmissive electrode 2a. The colored layers 23a for the respective colors are formed of ink having a corresponding color pigment.

隔離壁24は、その一部として、反射部Hの表示層7の厚さを制御する段差部24a等を有している。この隔離壁24は、例えば透明樹脂等により形成されている。   The isolation wall 24 has, as part thereof, a stepped portion 24a for controlling the thickness of the display layer 7 of the reflective portion H. The isolation wall 24 is formed of, for example, a transparent resin.

段差部24aは、反射電極2bと対向電極4との間の距離を透過電極2aと対向電極4との間の距離に比べ短くするバンプである。段差部24aは、例えば、反射電極2bに対向させて設けられている。この段差部24aによって、反射部Hの表示層7の厚さは透過部Tの表示層7の厚さより薄くなる。これにより、反射部Hの表示層7を往復して透過する外光の位相差(リタデーション)と、光源9から透過部Tの表示層7を一方向に通過する光の位相差との差が小さくなるので、表示装置1の表示特性は向上する。   The step portion 24 a is a bump that shortens the distance between the reflective electrode 2 b and the counter electrode 4 compared to the distance between the transmissive electrode 2 a and the counter electrode 4. The stepped portion 24a is provided, for example, facing the reflective electrode 2b. Due to the stepped portion 24a, the thickness of the display layer 7 in the reflective portion H becomes thinner than the thickness of the display layer 7 in the transmissive portion T. Thereby, there is a difference between the phase difference (retardation) of the external light transmitted back and forth through the display layer 7 of the reflection portion H and the phase difference of the light passing through the display layer 7 of the transmission portion T from the light source 9 in one direction. Since it becomes small, the display characteristic of the display apparatus 1 improves.

アレイ基板3と対向基板5との間には、その距離を規定する複数のスペーサ27が設けられている。スペーサ27は対向電極4上に透明樹脂等により形成されている。なお、スペーサ27の高さは、アレイ基板3と段差部24aとの間の距離が例えば2.5μm程度になるように設定されている。   A plurality of spacers 27 that define the distance are provided between the array substrate 3 and the counter substrate 5. The spacer 27 is formed on the counter electrode 4 with a transparent resin or the like. The height of the spacer 27 is set so that the distance between the array substrate 3 and the stepped portion 24a is, for example, about 2.5 μm.

ここで、第1の実施の形態では、反射部Hの表示層7の厚さはスペーサ27により略2.5μmに規定されている。これに対して、透過部Tの表示層7の厚さは略5μmに規定されている。このため、透過部Tでは、光源9からの光は、アレイ基板3側から表示層7に入射して表示層7の対向基板5側に到達するまでにλ/2の位相差を生じる。一方、反射部Hでは、外光は、表示層7に対向基板5側から入射して表示層7の反射電極2b側に到達するまでの往路でλ/4の位相差を生じ、反射電極2bで反射され表示層7の対向基板5側に到達するまでの復路でλ/4の位相差を生じるため、往復でλ/2の位相差を生じる。   Here, in the first embodiment, the thickness of the display layer 7 of the reflection portion H is defined by the spacer 27 to approximately 2.5 μm. On the other hand, the thickness of the display layer 7 of the transmissive portion T is defined to be approximately 5 μm. For this reason, in the transmission part T, the light from the light source 9 enters the display layer 7 from the array substrate 3 side and causes a phase difference of λ / 2 before reaching the counter substrate 5 side of the display layer 7. On the other hand, in the reflection portion H, the external light enters the display layer 7 from the counter substrate 5 side and generates a phase difference of λ / 4 in the forward path from the display layer 7 to the reflection electrode 2b side. The phase difference of λ / 4 is generated in the return path from the reflection layer until it reaches the counter substrate 5 side of the display layer 7, so that the phase difference of λ / 2 is generated in the reciprocation.

したがって、反射部Hの表示層7の厚さを透過部の表示層7の厚さの略1/2に設定することによって、反射部Hの表示層7を往復して透過する光の位相差(リタデーション)と、透過部Tの表示層7を一方向に通過する光の位相差とが等しくなるので、光変調率は同じになり、表示装置1の表示特性は向上する。   Therefore, by setting the thickness of the display layer 7 of the reflective portion H to approximately ½ of the thickness of the display layer 7 of the transmissive portion, the phase difference of light transmitted back and forth through the display layer 7 of the reflective portion H Since (retardation) and the phase difference of light passing through the display layer 7 of the transmission part T in one direction are equal, the light modulation rate is the same, and the display characteristics of the display device 1 are improved.

次いで、隔離壁24について詳しく説明する。   Next, the isolation wall 24 will be described in detail.

隔離壁24は、図4、図5及び図6に示すように、各着色層23a間に設けられ列方向に伸びる列隔離壁として機能する複数の段差部24a、及び各着色層23a間に設けられ行方向に伸びる複数の行隔離壁24bから構成されている。各段差部24a及び各行隔離壁24bは格子状(マトリクス状)に第2の基板21上に設けられている(図4参照)。これらの段差部24a及び行隔離壁24bは一体に形成されている。   As shown in FIGS. 4, 5, and 6, the isolation wall 24 is provided between the colored layers 23 a and a plurality of step portions 24 a that function as column isolation walls provided between the colored layers 23 a and extending in the column direction. And a plurality of row isolation walls 24b extending in the row direction. Each step portion 24a and each row separation wall 24b are provided on the second substrate 21 in a lattice shape (matrix shape) (see FIG. 4). These step portion 24a and row separation wall 24b are integrally formed.

このような隔離壁24は、各段差部24a及び各行隔離壁24bにより、各着色層23aを個別に隔てており、各色の着色層23aにおける混色の発生を防止する。なお、各段差部24a間及び各行隔離壁24b間に設けられた着色層23aが第1の着色層として機能する。   In such a separation wall 24, each colored layer 23a is individually separated by each stepped portion 24a and each row separating wall 24b, thereby preventing color mixing in the colored layer 23a of each color. In addition, the colored layer 23a provided between each level | step-difference part 24a and between each row separation wall 24b functions as a 1st colored layer.

隔離壁24、すなわち段差部24a及び行隔離壁24bは、着色層23aの厚さより高く形成されている(図5及び図6参照)。これにより、着色層23aを形成する際に使用するインク等の液体が段差部24aや行隔離壁24bから漏れ出すことを防止することができ、特に、各色の着色層23aにおける混色の発生を防止することができる。   The isolation wall 24, that is, the stepped portion 24a and the row isolation wall 24b are formed higher than the thickness of the colored layer 23a (see FIGS. 5 and 6). Thereby, it is possible to prevent liquid such as ink used when forming the colored layer 23a from leaking from the stepped portion 24a and the row separation wall 24b, and in particular, to prevent color mixing in the colored layer 23a of each color. can do.

ここで、反射部Hには、着色層23aが存在していない。このため、半透過領域R1では、反射部Hによる反射表示はモノクロ表示になる。例えば、表示装置1を携帯電話等に用いて、反射表示によりアンテナや電池残量等を表示する場合には、モノクロ表示でも十分に良好な画像を表示することができる。   Here, the colored layer 23 a does not exist in the reflective portion H. For this reason, in the semi-transmissive region R1, the reflective display by the reflective portion H is a monochrome display. For example, when the display device 1 is used for a mobile phone or the like and the antenna, the remaining battery level, and the like are displayed by reflection display, a sufficiently good image can be displayed even by monochrome display.

このような構成の表示装置1は、室内等の暗い場所において、各透過部Tにより光源9からの光を選択的に透過させることによって画像を表示する透過型の表示装置として機能する。また、表示装置1は、室外等の明るい場所において、各反射部Hにより外光を選択的に反射することによって画像を表示する反射型の表示装置として機能する。このとき、表示装置1は、透過電極2aと対向電極4との間への電圧印加により、透過部Tの表示層7の透過光量を変化させ、また、反射電極2bと対向電極4との間への電圧印加により、反射部Hの表示層7の透過光量を変化させる。   The display device 1 having such a configuration functions as a transmissive display device that displays an image by selectively transmitting light from the light source 9 through each transmissive portion T in a dark place such as a room. In addition, the display device 1 functions as a reflective display device that displays an image by selectively reflecting outside light by the respective reflecting portions H in a bright place such as outdoors. At this time, the display device 1 changes the amount of light transmitted through the display layer 7 of the transmissive portion T by applying a voltage between the transmissive electrode 2 a and the counter electrode 4, and between the reflective electrode 2 b and the counter electrode 4. The amount of light transmitted through the display layer 7 of the reflective portion H is changed by applying a voltage to the reflective portion H.

このように第1の実施の形態の表示装置1によれば、隔離壁24の一部として段差部24aを設けることによって、隔離壁24と段差部24aとを同じ製造工程で形成することが可能になるので、表示装置1の製造工程数を削減し、製造上の歩留まりの向上を実現することができる。   Thus, according to the display device 1 of the first embodiment, by providing the step portion 24a as a part of the isolation wall 24, the isolation wall 24 and the step portion 24a can be formed in the same manufacturing process. Therefore, it is possible to reduce the number of manufacturing steps of the display device 1 and improve the manufacturing yield.

また、隔離壁24が着色層23aの厚さより高いことよって、着色層23aを形成する際にインク等の液体が段差部24aや行隔離壁24bから漏れ出すことを防止することが可能になるので、製造上の歩留まりの向上を実現することができる。   Further, since the separation wall 24 is higher than the thickness of the colored layer 23a, it is possible to prevent liquid such as ink from leaking from the stepped portion 24a and the row separation wall 24b when the colored layer 23a is formed. Thus, an improvement in manufacturing yield can be realized.

[表示装置の製造方法]
次に、表示装置1の製造方法、特に対向基板5の製造方法について説明する。
[Manufacturing method of display device]
Next, a manufacturing method of the display device 1, particularly a manufacturing method of the counter substrate 5 will be described.

まず、図7(A)に示すように、第2の基板21を準備する。第2の基板21としては、ガラス基板等の透明性及び絶縁性を有する基板を用いる。   First, as shown in FIG. 7A, a second substrate 21 is prepared. As the 2nd board | substrate 21, the board | substrate which has transparency and insulation, such as a glass substrate, is used.

準備した第2の基板21上に、図7(A)に示すように、画素S毎に開口部を有するブラックマトリクス22を形成する。ブラックマトリクス22としては、多層クロム等を用いる。   On the prepared second substrate 21, as shown in FIG. 7A, a black matrix 22 having an opening for each pixel S is formed. As the black matrix 22, multilayer chrome or the like is used.

ブラックマトリクス22を形成した第2の基板21上に、図7(A)に示すように、隔離壁24形成用の感光性透明樹脂層51を形成する。この感光性透明樹脂層51としては、アクリル感光性樹脂等を用いる。また、第2の基板21上に感光性透明樹脂層51を形成する方法としては、スピン塗布、スリット塗布及びロールコータ塗布等を用いる。なお、感光性透明樹脂層51としては、インク反発性を有する樹脂を用いることが好ましい。   A photosensitive transparent resin layer 51 for forming the isolation wall 24 is formed on the second substrate 21 on which the black matrix 22 is formed, as shown in FIG. As the photosensitive transparent resin layer 51, an acrylic photosensitive resin or the like is used. As a method for forming the photosensitive transparent resin layer 51 on the second substrate 21, spin coating, slit coating, roll coater coating, or the like is used. As the photosensitive transparent resin layer 51, it is preferable to use a resin having ink resilience.

その後、図7(A)に示すように、パターニング用のフォトマスク52を介して第2の基板21上の感光性透明樹脂層51を露光する。このフォトマスク52は、隔離壁24形成用のパターンマスク、すなわち段差部24a及び行隔離壁24bを形成するためのマスクである。フォトマスク52は、各透過電極2aにそれぞれ対応する複数の開口部を有している。   Thereafter, as shown in FIG. 7A, the photosensitive transparent resin layer 51 on the second substrate 21 is exposed through a photomask 52 for patterning. The photomask 52 is a pattern mask for forming the isolation wall 24, that is, a mask for forming the stepped portion 24a and the row isolation wall 24b. The photomask 52 has a plurality of openings corresponding to the respective transmissive electrodes 2a.

次いで、露光後の第2の基板21上の感光性透明樹脂層51を現像し、加熱して硬化させる。これにより、図7(B)に示すように、隔離壁24が第2の基板21上に形成される。すなわち、段差部24a及び行隔離壁24bが同一工程で第2の基板21上に一体に形成される。   Next, the photosensitive transparent resin layer 51 on the second substrate 21 after the exposure is developed and cured by heating. Thereby, the isolation wall 24 is formed on the second substrate 21 as shown in FIG. That is, the step portion 24a and the row separation wall 24b are integrally formed on the second substrate 21 in the same process.

次に、インクを吐出するインクジェット装置等のインク吐出装置(図示せず)によって、隔離壁24が形成された第2の基板21上に、図7(C)に示すように、赤色顔料を有する赤インクを滴下する。すなわち、第2の基板21上の各段差部24a間及び各行隔離壁24b間に滴下する。この赤インクは乾燥後に硬化して着色層23aとなる。このとき、赤インクは、着色層23aの厚さが段差部24aより例えば1〜4μm薄くなる量だけ滴下される。   Next, as shown in FIG. 7C, a red pigment is provided on the second substrate 21 on which the isolation wall 24 is formed by an ink discharge device (not shown) such as an ink jet device that discharges ink. Drip red ink. That is, it is dropped between the step portions 24a on the second substrate 21 and between the row separation walls 24b. This red ink is cured after drying to form a colored layer 23a. At this time, the red ink is dropped by an amount such that the thickness of the colored layer 23a is 1 to 4 μm thinner than the stepped portion 24a.

ここで、インク吐出装置は、副走査方向に記録媒体を搬送する搬送部及び主走査方向に移動自在に設けられインクを吐出する吐出ヘッド等を備えている。このインク吐出装置は、隔離壁24が形成された第2の基板21を記録媒体として搬送部により搬送し、吐出ヘッドにより隔離壁24に各色のインクを滴下する。なお、インクの滴下量は、インクの滴下径、インクの滴下数、第2の基板21の搬送速度及び吐出ヘッドの移動速度等により調節される。   Here, the ink discharge apparatus includes a transport unit that transports the recording medium in the sub-scanning direction, a discharge head that is movably provided in the main scanning direction, and the like. In this ink ejection apparatus, the second substrate 21 on which the separation wall 24 is formed is transported by the transport unit as a recording medium, and ink of each color is dropped onto the separation wall 24 by the ejection head. The ink drop amount is adjusted by the ink drop diameter, the number of ink drops, the transport speed of the second substrate 21, the movement speed of the ejection head, and the like.

その後、混色を避けるために赤インクを乾燥させ、同様に、隔離壁24が形成された第2の基板21上に対し、緑インクを滴下して乾燥させ、青インクを滴下して乾燥させる。次いで、R、G及びBの各色のインクを熱又は紫外線等により硬化させる。これにより、図7(C)に示すように、各色の着色層23aが第2の基板21上に形成される。   Thereafter, in order to avoid color mixing, the red ink is dried. Similarly, the green ink is dropped on the second substrate 21 on which the isolation wall 24 is formed and dried, and the blue ink is dropped and dried. Next, the inks of R, G, and B colors are cured by heat or ultraviolet rays. As a result, as shown in FIG. 7C, colored layers 23a of the respective colors are formed on the second substrate 21.

ここで、各色のインクの基材としては、熱又は紫外線等により硬化する基材を用いる。この基材としては、硬化後に耐熱性及び耐薬品性に優れた基材が好ましく、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂及びメラミン樹脂等を用いる。   Here, as the base material of each color ink, a base material that is cured by heat or ultraviolet rays is used. As this base material, a base material excellent in heat resistance and chemical resistance after curing is preferable. For example, an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, or the like is used.

このようにして、各色の着色層23a及び隔離壁24を形成した第2の基板21上に、対向電極4、スペーサ27及び配向膜8bをその順番で積層し、対向基板5を形成する。また、複数の画素電極2を有する第1の基板11上に配向膜8aを積層し、アレイ基板3を形成する。次いで、対向電極4と画素電極2とを対向させて対向基板5とアレイ基板3とを配置し、それらの対向基板5とアレイ基板3との間にシール材6により液晶材料を封止して、表示層7を形成する。その後、第1の基板11の外面にλ/4波長板13及び偏光板14をその順番で積層する。さらに、第2の基板21の外面に拡散板25、λ/4波長板26及び偏光板27をその順番で積層する。これにより、表示装置1が完成する。   In this manner, the counter electrode 4, the spacer 27, and the alignment film 8 b are stacked in that order on the second substrate 21 on which the colored layers 23 a and the isolation walls 24 of the respective colors are formed, thereby forming the counter substrate 5. In addition, the alignment film 8 a is stacked on the first substrate 11 having the plurality of pixel electrodes 2 to form the array substrate 3. Next, the counter substrate 4 and the array substrate 3 are arranged with the counter electrode 4 and the pixel electrode 2 facing each other, and a liquid crystal material is sealed between the counter substrate 5 and the array substrate 3 by a sealing material 6. The display layer 7 is formed. Thereafter, a λ / 4 wavelength plate 13 and a polarizing plate 14 are laminated in that order on the outer surface of the first substrate 11. Further, a diffusion plate 25, a λ / 4 wavelength plate 26, and a polarizing plate 27 are laminated on the outer surface of the second substrate 21 in that order. Thereby, the display device 1 is completed.

このように第1の実施の形態の製造方法によれば、隔離壁24と段差部24aとを一体に形成することによって、それらを同じ製造工程で形成することが可能になるので、表示装置1の製造工程数を削減し、製造上の歩留まりの向上を実現することができる。   Thus, according to the manufacturing method of 1st Embodiment, since it becomes possible to form them in the same manufacturing process by forming the isolation wall 24 and the level | step-difference part 24a integrally, the display apparatus 1 can be formed. The number of manufacturing steps can be reduced, and the manufacturing yield can be improved.

また、隔離壁24の高さより着色層23aの厚さを薄くして着色層23aを形成することよって、着色層23aを形成する際にインク等の液体が段差部24aや行隔離壁24bから漏れ出すことを防止することが可能になるので、製造上の歩留まりの向上を実現することができる。   Further, by forming the colored layer 23a by making the thickness of the colored layer 23a thinner than the height of the separating wall 24, liquid such as ink leaks from the stepped portion 24a and the row separating wall 24b when the colored layer 23a is formed. Therefore, the production yield can be improved.

(第2の実施の形態)
本発明の第2の実施の形態について図8乃至図11を参照して説明する。
(Second Embodiment)
A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

本発明の第2の実施の形態は、基本的に第1の実施の形態と同様である。第2の実施の形態では、第1の実施の形態との相違点について説明する。なお、第1の実施の形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明は省略する。   The second embodiment of the present invention is basically the same as the first embodiment. In the second embodiment, differences from the first embodiment will be described. In addition, the same part as the part demonstrated in 1st Embodiment is shown with the same code | symbol, and the description is abbreviate | omitted.

[表示装置の構成]
まず、第2の実施の形態に係る表示装置1の構成について説明する。
[Configuration of display device]
First, the configuration of the display device 1 according to the second embodiment will be described.

第2の実施の形態では、図8に示すように、表示装置1は表示領域の全面に半透過領域R1を有しており、図9、図10及び図11に示すように、段差部24aは、着色層23bを収容する凹部61を有している。この凹部61は着色層23bより満たされている。なお、この凹部61に収容された着色層23bが第2の着色層として機能する。   In the second embodiment, as shown in FIG. 8, the display device 1 has a semi-transmissive region R1 on the entire surface of the display region, and as shown in FIGS. Has a recess 61 for accommodating the colored layer 23b. The recess 61 is filled with the colored layer 23b. In addition, the colored layer 23b accommodated in this recessed part 61 functions as a 2nd colored layer.

凹部61は、段差部24aの表示層7側の表面に形成されている。この凹部61の深さは、透過部Tの着色層23aの厚さの略1/2に設定されている。これにより、反射部Hの着色層23bの厚さは、透過部Tの着色層23aの厚さの略1/2になる。したがって、反射部Hの着色層23bの色濃度は、透過部Tの着色層23aの色濃度の略1/2になる。なお、反射部Hの着色層23bは、透過部Tの着色層23aと同じ材料で形成されている。   The recess 61 is formed on the surface of the stepped portion 24a on the display layer 7 side. The depth of the concave portion 61 is set to approximately ½ of the thickness of the colored layer 23a of the transmission portion T. Thereby, the thickness of the colored layer 23b of the reflective portion H is approximately ½ of the thickness of the colored layer 23a of the transmissive portion T. Therefore, the color density of the colored layer 23b of the reflective portion H is approximately ½ of the color density of the colored layer 23a of the transmissive portion T. The colored layer 23b of the reflective part H is formed of the same material as the colored layer 23a of the transmissive part T.

このように第2の実施の形態の表示装置1によれば、第1の実施の形態と同様な効果を奏し、さらに、段差部24aが凹部61により着色層23bを有することによって、着色層23bが反射部Hに存在することになるので、反射部Hによる反射表示をカラー表示にすることができる。また、段差部24aは、凹部61という簡単な構成により着色層23bを有することができる。   As described above, according to the display device 1 of the second embodiment, the same effect as that of the first embodiment is obtained, and the stepped portion 24a has the colored layer 23b by the concave portion 61, whereby the colored layer 23b. Is present in the reflective portion H, the reflective display by the reflective portion H can be changed to a color display. Further, the stepped portion 24a can have the colored layer 23b with a simple configuration of the recessed portion 61.

さらに、凹部61の深さを透過部Tの着色層23aの厚さの略1/2にすることによって、反射部Hの着色層23bの厚さが透過部Tの着色層23aの厚さの略1/2になり、反射部Hの着色層23bの色濃度は透過部Tの着色層23aの色濃度の略1/2になるので、反射部Hの光学濃度と透過部Tの光学濃度とが略同じになる。すなわち、外光が反射部Hの着色層23bを往復して透過した場合の光学濃度(以下、単に反射部Hの光学濃度という)と、光源9からの光が透過部Tの着色層23aを一方向に透過した場合の光学濃度(以下、単に透過部Tの光学濃度という)とが略同じになる。これにより、反射表示においても透過表示と同レベルの輝度が得られ、良好な色再現を実現することができる。   Further, the depth of the concave portion 61 is set to approximately ½ of the thickness of the colored layer 23a of the transmissive portion T, so that the thickness of the colored layer 23b of the reflective portion H is equal to the thickness of the colored layer 23a of the transmissive portion T. Since the color density of the colored layer 23b of the reflective part H is substantially ½ of the color density of the colored layer 23a of the transmissive part T, the optical density of the reflective part H and the optical density of the transmissive part T Are almost the same. That is, the optical density when external light passes back and forth through the colored layer 23b of the reflective portion H (hereinafter simply referred to as the optical density of the reflective portion H) and the light from the light source 9 passes through the colored layer 23a of the transmissive portion T. The optical density when transmitted in one direction (hereinafter simply referred to as the optical density of the transmission part T) is substantially the same. As a result, the same level of luminance as that of the transmissive display can be obtained in the reflective display, and good color reproduction can be realized.

[表示装置の製造方法]
次に、第2の実施の形態に係る表示装置1の製造方法、特に対向基板5の製造方法について説明する。
[Manufacturing method of display device]
Next, a manufacturing method of the display device 1 according to the second embodiment, particularly a manufacturing method of the counter substrate 5 will be described.

まず、第1の実施の形態と同様に、第2の基板21を準備する。準備した第2の基板21上に、画素S毎に開口部を有するブラックマトリクス22を形成する(図7(A)参照)。ブラックマトリクス22を形成した第2の基板21上に、隔離壁24形成用の感光性透明樹脂層51を形成する(図7(A)参照)。   First, as in the first embodiment, the second substrate 21 is prepared. A black matrix 22 having an opening for each pixel S is formed over the prepared second substrate 21 (see FIG. 7A). A photosensitive transparent resin layer 51 for forming the isolation wall 24 is formed on the second substrate 21 on which the black matrix 22 is formed (see FIG. 7A).

その後、パターニング用のフォトマスク52を介して第2の基板21上の感光性透明樹脂層51を露光する(図7(A)参照)。このフォトマスク52は、隔離壁24形成用のパターンマスク、すなわち凹部61を有する段差部24a及び行隔離壁24bを形成するためのマスクである。フォトマスク52は、各透過電極2aにそれぞれ対応する複数の開口部を有している。さらに、このフォトマスク52は階調マスクである。すなわち、各反射電極2bにそれぞれ対応する複数の凹部61を形成するマスク部分の濃度は他のマスク部分に比べ高く設定されている。これにより、段差部24a、行隔離壁24b及び凹部61を同じ工程で同時に形成することが可能になる。   Thereafter, the photosensitive transparent resin layer 51 on the second substrate 21 is exposed through a photomask 52 for patterning (see FIG. 7A). The photomask 52 is a pattern mask for forming the isolation wall 24, that is, a mask for forming the stepped portion 24a having the recess 61 and the row isolation wall 24b. The photomask 52 has a plurality of openings corresponding to the respective transmissive electrodes 2a. Further, the photomask 52 is a gradation mask. That is, the density of the mask portion that forms the plurality of recesses 61 corresponding to each reflective electrode 2b is set higher than that of the other mask portions. Thereby, the stepped portion 24a, the row separating wall 24b, and the recessed portion 61 can be simultaneously formed in the same process.

次いで、露光後の第2の基板21上の感光性透明樹脂層51を現像し、加熱して硬化させる。これにより、図11に示すように、隔離壁24が第2の基板21上に形成される。すなわち、凹部61を有する段差部24a及び行隔離壁24bが同一工程で第2の基板21上に一体に形成される。   Next, the photosensitive transparent resin layer 51 on the second substrate 21 after the exposure is developed and cured by heating. Thereby, as shown in FIG. 11, the isolation wall 24 is formed on the second substrate 21. That is, the stepped portion 24a having the recess 61 and the row isolation wall 24b are integrally formed on the second substrate 21 in the same process.

次に、隔離壁24が形成された第2の基板21上に、インク吐出装置によって、図11に示すように、赤インクを滴下する。すなわち、第2の基板21上の各段差部24a間及び各行隔離壁24b間に赤インクを滴下し、さらに、段差部24aの凹部61内に赤インクを滴下する。この赤インクは乾燥後に硬化して着色層23a,23bとなる。このとき、赤インクは、赤インクは、凹部61を満たす量だけ凹部61内に滴下される。   Next, as shown in FIG. 11, red ink is dropped onto the second substrate 21 on which the isolation wall 24 is formed by an ink ejection device. That is, red ink is dropped between the step portions 24a on the second substrate 21 and between the row separation walls 24b, and further, red ink is dropped into the recess 61 of the step portion 24a. This red ink is cured after drying to form colored layers 23a and 23b. At this time, the red ink is dropped into the recess 61 by an amount that fills the recess 61.

その後、混色を避けるために赤インクを乾燥させ、同様に、隔離壁24が形成された第2の基板21上に対し、緑インクを滴下して乾燥させ、青インクを滴下して乾燥させる。次いで、R、G及びBの各色のインクを熱又は紫外線等により硬化させる。これにより、図11に示すように、各色の着色層23a,23bが第2の基板21上に形成される。その後の製造工程は第1の実施の形態と同じである。   Thereafter, in order to avoid color mixing, the red ink is dried. Similarly, the green ink is dropped on the second substrate 21 on which the isolation wall 24 is formed and dried, and the blue ink is dropped and dried. Next, the inks of R, G, and B colors are cured by heat or ultraviolet rays. Thereby, as shown in FIG. 11, colored layers 23 a and 23 b of the respective colors are formed on the second substrate 21. Subsequent manufacturing steps are the same as those in the first embodiment.

このように第2の実施の形態の製造方法によれば、第1の実施の形態と同様な効果を奏し、さらに、段差部24aに凹部61を形成し、その凹部61内に着色層23bを形成することによって、着色層23bが反射部Hに存在することになるので、反射部Hによる反射表示をカラー表示にすることができる。   As described above, according to the manufacturing method of the second embodiment, the same effects as those of the first embodiment can be obtained. Further, the concave portion 61 is formed in the stepped portion 24a, and the colored layer 23b is formed in the concave portion 61. By forming, the colored layer 23b is present in the reflective portion H, so that the reflective display by the reflective portion H can be changed to a color display.

また、段差部24aに凹部61を形成することによって、容易に段差部24aに着色層23bを設けることが可能になるので、製造工程の複雑化を防止することができる。さらに、段差部24a及び行隔離壁24bを形成する工程と同じ工程で段差部24aに凹部61を形成することによって、製造工程の増加を抑え、製造上の歩留まりの向上を実現することができる。   Moreover, since the colored layer 23b can be easily provided on the stepped portion 24a by forming the concave portion 61 in the stepped portion 24a, the manufacturing process can be prevented from becoming complicated. Furthermore, by forming the recess 61 in the stepped portion 24a in the same step as the step of forming the stepped portion 24a and the row separating wall 24b, it is possible to suppress an increase in the manufacturing process and improve the manufacturing yield.

また、凹部61の深さを透過部Tの着色層23aの厚さの略1/2にして凹部61を形成することによって、反射部Hの着色層23bの厚さが透過部Tの着色層23aの厚さの略1/2になり、反射部Hの着色層23bの色濃度は透過部Tの着色層23aの色濃度の略1/2になるので、反射部Hの光学濃度と透過部Tの光学濃度とが略同じになる。これにより、反射表示においても透過表示と同レベルの輝度が得られ、良好な色再現を実現することができる。   Further, by forming the concave portion 61 by setting the depth of the concave portion 61 to be approximately ½ of the thickness of the colored layer 23a of the transmissive portion T, the thickness of the colored layer 23b of the reflective portion H is the colored layer of the transmissive portion T. Since the color density of the colored layer 23b of the reflective part H is substantially ½ of the color density of the colored layer 23a of the transmissive part T, the optical density of the reflective part H and the transmission The optical density of the portion T is substantially the same. As a result, the same level of luminance as that of the transmissive display can be obtained in the reflective display, and good color reproduction can be realized.

また、反射部Hの着色層23bの厚さを透過部Tの着色層23aの厚さの略1/2にすることによって、反射部Hの着色層23bを形成するインク及び透過部Tの着色層23aを形成するインクとして同じインクを用いることが可能になるので、製造工程の複雑化を防止し、製造上の歩留まりの向上を実現することができる。   In addition, the thickness of the colored layer 23b of the reflective portion H is set to approximately ½ of the thickness of the colored layer 23a of the transmissive portion T, whereby the ink that forms the colored layer 23b of the reflective portion H and the color of the transmissive portion T. Since the same ink can be used as the ink for forming the layer 23a, the manufacturing process can be prevented from becoming complicated, and the manufacturing yield can be improved.

なお、第2の実施の形態においては、凹部61の深さを透過部Tの着色層23aの厚さの略1/2にして凹部61を形成しているが、これに限るものではなく、例えば凹部61の深さを透過部Tの着色層23aの厚さと略同じにして凹部61を形成してもよい。このとき、凹部61内に滴下するインクとしては、透過部Tの着色層23aを形成するインクの略1/2の色濃度を有するインクを用いる。これにより、反射部Hの着色層23bの色濃度は透過部Tの着色層23aの色濃度の略1/2になるので、反射部Hの光学濃度と透過部Tの光学濃度とが略同じになる。   In the second embodiment, the recess 61 is formed with the depth of the recess 61 being approximately ½ of the thickness of the colored layer 23a of the transmission portion T. However, the present invention is not limited to this. For example, the recess 61 may be formed with the depth of the recess 61 being substantially the same as the thickness of the colored layer 23a of the transmission portion T. At this time, as the ink dropped into the recess 61, an ink having a color density that is approximately ½ of the ink that forms the colored layer 23a of the transmission part T is used. As a result, the color density of the colored layer 23b of the reflective part H is approximately ½ of the color density of the colored layer 23a of the transmissive part T, so that the optical density of the reflective part H and the optical density of the transmissive part T are substantially the same. become.

(第3の実施の形態)
本発明の第3の実施の形態について図12及び図13を参照して説明する。
(Third embodiment)
A third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

本発明の第3の実施の形態は、基本的に第1の実施の形態と同様である。第3の実施の形態では、第1の実施の形態との相違点について説明する。なお、第1の実施の形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明は省略する。   The third embodiment of the present invention is basically the same as the first embodiment. In the third embodiment, differences from the first embodiment will be described. In addition, the same part as the part demonstrated in 1st Embodiment is shown with the same code | symbol, and the description is abbreviate | omitted.

[表示装置の構成]
まず、第3の実施の形態に係る表示装置1の構成について説明する。
[Configuration of display device]
First, the configuration of the display device 1 according to the third embodiment will be described.

第3の実施の形態では、図12に示すように、段差部24aは、着色層23bを収容する貫通孔71及びその貫通孔71を埋める充填部材72を有している。なお、この貫通孔71に収容された着色層23bが第2の着色層として機能する。   In the third embodiment, as shown in FIG. 12, the stepped portion 24 a includes a through hole 71 that accommodates the colored layer 23 b and a filling member 72 that fills the through hole 71. The colored layer 23b accommodated in the through hole 71 functions as a second colored layer.

貫通孔71は、段差部24aの略中央部分に形成されている。充填部材72は、透明材料により形成されている。この充填部材72は、貫通孔71に収容された着色層23b上に積層されて貫通孔71内に設けられている。反射部Hの着色層23bの厚さは、透過部Tの着色層23aの厚さの略1/2に設定されている。これにより、反射部Hの着色層23bの色濃度は、透過部Tの着色層23aの色濃度の略1/2になる。なお、反射部Hの着色層23bと透過部Tの着色層23aとは同じ材料で形成されている。   The through hole 71 is formed at a substantially central portion of the step portion 24a. The filling member 72 is made of a transparent material. The filling member 72 is stacked on the colored layer 23 b accommodated in the through hole 71 and provided in the through hole 71. The thickness of the colored layer 23b of the reflective portion H is set to approximately ½ of the thickness of the colored layer 23a of the transmissive portion T. Thereby, the color density of the colored layer 23b of the reflective portion H is approximately ½ of the color density of the colored layer 23a of the transmissive portion T. The colored layer 23b of the reflective portion H and the colored layer 23a of the transmissive portion T are formed of the same material.

このように第3の実施の形態の表示装置1によれば、第1の実施の形態と同様な効果を奏し、さらに、段差部24aが貫通孔71により着色層23bを有することによって、着色層23bが反射部Hに存在することになるので、反射部Hによる反射表示をカラー表示にすることができる。また、段差部24aは、貫通孔71という簡単な構成により着色層23bを有することができる。   As described above, according to the display device 1 of the third embodiment, the same effect as that of the first embodiment is obtained, and the stepped portion 24a has the colored layer 23b by the through hole 71, whereby the colored layer Since 23b exists in the reflection part H, the reflective display by the reflection part H can be made into a color display. Further, the stepped portion 24 a can have the colored layer 23 b with a simple configuration of the through hole 71.

さらに、反射部Hの着色層23bの厚さを透過部Tの着色層23aの厚さの略1/2にすることによって、反射部Hの着色層23bの色濃度は透過部Tの着色層23aの色濃度の略1/2になり、反射部Hの光学濃度と透過部Tの光学濃度とが略同じになるので、反射表示においても透過表示と同レベルの輝度が得られ、良好な色再現を実現することができる。   Furthermore, the color density of the colored layer 23b of the reflective part H is set to be approximately ½ of the thickness of the colored layer 23a of the transmissive part T by setting the thickness of the colored layer 23b of the reflective part H to be approximately ½ of the thickness of the colored layer 23a of the transmissive part T. Since the optical density of the reflective portion H and the optical density of the transmissive portion T are substantially the same, the luminance of the same level as that of the transmissive display can be obtained in the reflective display. Color reproduction can be realized.

[表示装置の製造方法]
次に、第3の実施の形態に係る表示装置1の製造方法、特に対向基板5の製造方法について説明する。
[Manufacturing method of display device]
Next, a manufacturing method of the display device 1 according to the third embodiment, particularly a manufacturing method of the counter substrate 5 will be described.

まず、図13(A)に示すように、第2の基板21を準備する。第2の基板21としては、ガラス基板等の透明性及び絶縁性を有する基板を用いる。   First, as shown in FIG. 13A, a second substrate 21 is prepared. As the 2nd board | substrate 21, the board | substrate which has transparency and insulation, such as a glass substrate, is used.

準備した第2の基板21上に、図13(A)に示すように、画素S毎に開口部を有するブラックマトリクス22を形成する。ブラックマトリクス22としては、多層クロム等を用いる。   A black matrix 22 having an opening for each pixel S is formed on the prepared second substrate 21 as shown in FIG. As the black matrix 22, multilayer chrome or the like is used.

ブラックマトリクス22を形成した第2の基板21上に、図13(A)に示すように、隔離壁24形成用の感光性透明樹脂層81を形成する。この感光性透明樹脂層81としては、アクリル感光性樹脂等を用いる。また、第2の基板21上に感光性透明樹脂層81を形成する方法としては、スピン塗布、スリット塗布及びロールコータ塗布等を用いる。なお、感光性透明樹脂層81としては、インク反発性を有する樹脂を用いることが好ましい。   As shown in FIG. 13A, a photosensitive transparent resin layer 81 for forming the isolation wall 24 is formed on the second substrate 21 on which the black matrix 22 is formed. As the photosensitive transparent resin layer 81, an acrylic photosensitive resin or the like is used. As a method for forming the photosensitive transparent resin layer 81 on the second substrate 21, spin coating, slit coating, roll coater coating, or the like is used. As the photosensitive transparent resin layer 81, it is preferable to use a resin having ink resilience.

その後、図13(A)に示すように、パターニング用のフォトマスク82を介して第2の基板21上の感光性透明樹脂層81を露光する。このフォトマスク82は、隔離壁24形成用のパターンマスク、すなわち貫通孔71を有する段差部24a及び行隔離壁24bを形成するためのマスクである。フォトマスク82は、各透過電極2a及び各反射電極2bにそれぞれ対応する複数の開口部を有している。   Thereafter, as shown in FIG. 13A, the photosensitive transparent resin layer 81 on the second substrate 21 is exposed through a photomask 82 for patterning. The photomask 82 is a pattern mask for forming the isolation wall 24, that is, a mask for forming the stepped portion 24a having the through hole 71 and the row isolation wall 24b. The photomask 82 has a plurality of openings corresponding to the transmissive electrodes 2a and the reflective electrodes 2b, respectively.

次いで、露光後の第2の基板21上の感光性透明樹脂層81を現像し、加熱して硬化させる。これにより、図13(B)に示すように、隔離壁24が第2の基板21上に形成される。すなわち、貫通孔71を有する段差部24a及び行隔離壁24bが同一工程で第2の基板21上に一体に形成される。   Next, the photosensitive transparent resin layer 81 on the exposed second substrate 21 is developed and heated to be cured. Thereby, the isolation wall 24 is formed on the second substrate 21 as shown in FIG. That is, the step portion 24 a having the through hole 71 and the row isolation wall 24 b are integrally formed on the second substrate 21 in the same process.

次に、隔離壁24が形成された第2の基板21上に、インク吐出装置によって、図13(C)に示すように、赤インクを滴下する。すなわち、第2の基板21上の各段差部24a間及び各行隔離壁24b間に赤インクを滴下し、さらに、段差部24aの貫通孔71内に赤インクを滴下する。この赤インクは乾燥後に硬化して着色層23a,23bとなる。このとき、赤インクは、反射部Hの着色層23bの厚さが透過部Tの着色層23aの厚さの略1/2程度になるように貫通孔71内に滴下される。   Next, red ink is dropped onto the second substrate 21 on which the isolation wall 24 is formed, as shown in FIG. That is, red ink is dropped between the step portions 24a on the second substrate 21 and between the row separation walls 24b, and further, red ink is dropped into the through holes 71 of the step portions 24a. This red ink is cured after drying to form colored layers 23a and 23b. At this time, the red ink is dropped into the through-hole 71 so that the thickness of the colored layer 23b of the reflective portion H is about ½ of the thickness of the colored layer 23a of the transmissive portion T.

その後、混色を避けるために赤インクを乾燥させ、同様に、隔離壁24が形成された第2の基板21上に対し、緑インクを滴下して乾燥させ、青インクを滴下して乾燥させる。次いで、R、G及びBの各色のインクを熱又は紫外線等により硬化させる。   Thereafter, in order to avoid color mixing, the red ink is dried. Similarly, the green ink is dropped on the second substrate 21 on which the isolation wall 24 is formed and dried, and the blue ink is dropped and dried. Next, the inks of R, G, and B colors are cured by heat or ultraviolet rays.

次に、インク吐出装置によって、着色層23bが滴下された貫通孔71内に透明インクを滴下する。これにより、図13(D)に示すように、透明インクが充填部材72として着色層23b上に積層される。その後、透明インクを熱又は紫外線等により硬化させる。これにより、図13(D)に示すように、各色の着色層23a,23bが第2の基板21上に形成される。その後の製造工程は第1の実施の形態と同じである。   Next, transparent ink is dropped into the through-hole 71 where the colored layer 23b is dropped by an ink discharge device. Accordingly, as shown in FIG. 13D, the transparent ink is laminated on the colored layer 23b as the filling member 72. Thereafter, the transparent ink is cured by heat or ultraviolet rays. As a result, as shown in FIG. 13D, colored layers 23 a and 23 b of the respective colors are formed on the second substrate 21. Subsequent manufacturing steps are the same as those in the first embodiment.

このように第3の実施の形態の製造方法によれば、第1の実施の形態と同様な効果を奏し、さらに、段差部24aに貫通孔71を形成し、その貫通孔71内に着色層23bを形成することによって、着色層23bが反射部Hに存在することになるので、反射部Hによる反射表示をカラー表示にすることができる。   As described above, according to the manufacturing method of the third embodiment, the same effects as those of the first embodiment can be obtained. Further, the through hole 71 is formed in the stepped portion 24a, and the colored layer is formed in the through hole 71. By forming 23b, the colored layer 23b is present in the reflective portion H, so that the reflective display by the reflective portion H can be changed to a color display.

また、段差部24aに貫通孔71を形成することによって、容易に段差部24aに着色層23bを設けることが可能になるので、製造工程の複雑化を防止することができる。さらに、段差部24a及び行隔離壁24bを形成する工程と同じ工程で段差部24aに貫通孔71を形成することによって、製造工程の増加を抑え、製造上の歩留まりの向上を実現することができる。   Further, by forming the through hole 71 in the stepped portion 24a, the colored layer 23b can be easily provided in the stepped portion 24a, so that the manufacturing process can be prevented from becoming complicated. Furthermore, by forming the through hole 71 in the stepped portion 24a in the same step as the step of forming the stepped portion 24a and the row isolation wall 24b, it is possible to suppress an increase in manufacturing steps and improve manufacturing yield. .

また、反射部Hの着色層23bの厚さを透過部Tの着色層23aの厚さの略1/2にすることによって、反射部Hの着色層23bの色濃度は透過部Tの着色層23aの色濃度の略1/2になり、反射部Hの光学濃度と透過部Tの光学濃度とが略同じになるので、反射表示においても透過表示と同レベルの輝度が得られ、良好な色再現を実現することができる。   Further, the color density of the colored layer 23b of the reflective portion H is set to be approximately ½ of the thickness of the colored layer 23a of the transmissive portion T by setting the thickness of the colored layer 23b of the reflective portion H to be approximately ½ of the thickness of the colored layer 23a of the transmissive portion T. Since the optical density of the reflective portion H and the optical density of the transmissive portion T are substantially the same, the luminance of the same level as that of the transmissive display can be obtained in the reflective display. Color reproduction can be realized.

さらに、反射部Hの着色層23bの厚さを透過部Tの着色層23aの厚さの略1/2にすることによって、反射部Hの着色層23bを形成するインク及び透過部Tの着色層23aを形成するインクとして同じインクを用いることが可能になるので、製造工程の複雑化を防止し、製造上の歩留まりの向上を実現することができる。   Further, by making the thickness of the colored layer 23b of the reflective portion H approximately half of the thickness of the colored layer 23a of the transmissive portion T, the ink that forms the colored layer 23b of the reflective portion H and the coloring of the transmissive portion T. Since the same ink can be used as the ink for forming the layer 23a, the manufacturing process can be prevented from becoming complicated, and the manufacturing yield can be improved.

なお、第3の実施の形態においては、反射部Hの着色層23bの厚さを透過部Tの着色層23aの厚さの略1/2にしているが、これに限るものではなく、例えば反射部Hの着色層23bの厚さを透過部Tの着色層23aの厚さと略同じにしてもよい。このとき、貫通孔71内に滴下するインクとしては、透過部Tの着色層23aを形成するインクの略1/2の色濃度を有するインクを用いる。これにより、反射部Hの着色層23bの色濃度は透過部Tの着色層23aの色濃度の略1/2になるので、反射部Hの光学濃度と透過部Tの光学濃度とが略同じになる。   In the third embodiment, the thickness of the colored layer 23b of the reflective portion H is set to approximately ½ of the thickness of the colored layer 23a of the transmissive portion T. However, the present invention is not limited to this. The thickness of the colored layer 23b of the reflective portion H may be substantially the same as the thickness of the colored layer 23a of the transmissive portion T. At this time, as the ink dropped into the through-hole 71, an ink having a color density approximately half that of the ink forming the colored layer 23a of the transmission part T is used. As a result, the color density of the colored layer 23b of the reflective part H is approximately ½ of the color density of the colored layer 23a of the transmissive part T, so that the optical density of the reflective part H and the optical density of the transmissive part T are substantially the same. become.

(第4の実施の形態)
本発明の第4の実施の形態について図14を参照して説明する。
(Fourth embodiment)
A fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

本発明の第4の実施の形態は、基本的に第3の実施の形態と同様である。第4の実施の形態では、第3の実施の形態との相違点について説明する。なお、第3の実施の形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明は省略する。   The fourth embodiment of the present invention is basically the same as the third embodiment. In the fourth embodiment, differences from the third embodiment will be described. Note that the same parts as those described in the third embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

[表示装置の構成]
まず、第4の実施の形態に係る表示装置1の構成について説明する。
[Configuration of display device]
First, the configuration of the display device 1 according to the fourth embodiment will be described.

第4の実施の形態では、図14に示すように、段差部24aは、着色層23bを収容する貫通孔71を有している。この貫通孔71は着色層23bより満たされている。なお、この貫通孔71に収容された着色層23bが第2の着色層として機能する。   In the fourth embodiment, as shown in FIG. 14, the stepped portion 24a has a through hole 71 that accommodates the colored layer 23b. The through hole 71 is filled with the colored layer 23b. The colored layer 23b accommodated in the through hole 71 functions as a second colored layer.

貫通孔71は、段差部24aの略中央部分に形成されている。なお、段差部24aは、透過部Tの着色層23aより厚く形成されているため、貫通孔71内の着色層23b、すなわち反射部Hの着色層23bは、透過部Tの着色層23aに比べ厚くなる。このとき、反射部Hの着色層23bの色濃度と透過部Tの着色層23aの色濃度とが同じであると、反射部Hの光学濃度と透過部Tの光学濃度との差が大きくなるため、反射部Hの着色層23bの色濃度は、透過部Tの着色層23aの色濃度に比べ小さく設定されている。   The through hole 71 is formed at a substantially central portion of the step portion 24a. Since the stepped portion 24a is formed thicker than the colored layer 23a of the transmissive portion T, the colored layer 23b in the through-hole 71, that is, the colored layer 23b of the reflective portion H is compared with the colored layer 23a of the transmissive portion T. Become thicker. At this time, if the color density of the colored layer 23b of the reflective part H and the color density of the colored layer 23a of the transmissive part T are the same, the difference between the optical density of the reflective part H and the optical density of the transmissive part T increases. Therefore, the color density of the colored layer 23b of the reflective part H is set to be smaller than the color density of the colored layer 23a of the transmissive part T.

このように第4の実施の形態の表示装置1によれば、第3の実施の形態と同様な効果を奏する。さらに、反射部Hの着色層23bの色濃度を透過部Tの着色層23aの色濃度に比べ小さくすることによって、反射部Hの光学濃度と透過部Tの光学濃度との差が小さくなるので、反射表示においても透過表示と近いレベルの輝度が得られ、良好な色再現を実現することができる。   Thus, according to the display device 1 of the fourth embodiment, the same effects as those of the third embodiment can be obtained. Further, by making the color density of the colored layer 23b of the reflective part H smaller than the color density of the colored layer 23a of the transmissive part T, the difference between the optical density of the reflective part H and the optical density of the transmissive part T is reduced. Also in the reflective display, a luminance level close to that of the transmissive display can be obtained, and good color reproduction can be realized.

[表示装置の製造方法]
次に、第4の実施の形態に係る表示装置1の製造方法、特に対向基板5の製造方法について説明する。
[Manufacturing method of display device]
Next, a manufacturing method of the display device 1 according to the fourth embodiment, particularly a manufacturing method of the counter substrate 5 will be described.

第3の実施の形態と同様に、第2の基板21上に隔離壁24を形成する(図13(B)参照)。隔離壁24が形成された第2の基板21上に、インク吐出装置によって赤インクを滴下する。すなわち、第2の基板21上の各段差部24aと各行隔離壁24bとの間に滴下し、さらに、赤インクを段差部24aの貫通孔71内に滴下する。この赤インクは乾燥後に硬化して着色層23a,23bとなる。このとき、赤インクは、貫通孔71を満たす量だけ貫通孔71内に滴下される。   Similar to the third embodiment, an isolation wall 24 is formed on the second substrate 21 (see FIG. 13B). Red ink is dropped on the second substrate 21 on which the isolation wall 24 is formed by an ink ejection device. That is, it is dropped between each stepped portion 24a on the second substrate 21 and each row separating wall 24b, and further, red ink is dropped into the through hole 71 of the stepped portion 24a. This red ink is cured after drying to form colored layers 23a and 23b. At this time, the red ink is dropped into the through hole 71 in an amount that satisfies the through hole 71.

その後、混色を避けるために赤インクを乾燥させ、隔離壁24が形成された第2の基板21上に対し、同様に緑インクを滴下して乾燥させ、青インクを滴下して乾燥させる。次いで、それらの各色のインクを熱又は紫外線等により硬化させる。これにより、図14に示すように、各色の着色層23a,23bが第2の基板21上に形成される。その後の製造工程は第3の実施の形態と同じである。   Thereafter, in order to avoid color mixing, the red ink is dried, the green ink is similarly dropped on the second substrate 21 on which the isolation wall 24 is formed, and the blue ink is dropped and dried. Next, the ink of each color is cured by heat or ultraviolet rays. Thereby, as shown in FIG. 14, colored layers 23 a and 23 b of the respective colors are formed on the second substrate 21. The subsequent manufacturing process is the same as that of the third embodiment.

このように第4の実施の形態の製造方法によれば、第3の実施の形態と同様な効果を奏し、さらに、反射部Hの着色層23bの色濃度が透過部Tの着色層23aの色濃度に比べ小さいインクを用いることによって、透過部Tの光学濃度と反射部Hの光学濃度との差が小さくなるので、反射表示においても透過表示と近いレベルの輝度が得られ、良好な色再現を実現することができる。   Thus, according to the manufacturing method of 4th Embodiment, there exists an effect similar to 3rd Embodiment, and also the color density of the colored layer 23b of the reflection part H is the color layer 23a of the transmission part T. By using ink that is smaller than the color density, the difference between the optical density of the transmissive part T and the optical density of the reflective part H is reduced, so that a brightness close to that of the transmissive display can be obtained in the reflective display. Reproducibility can be realized.

(第5の実施の形態)
本発明の第5の実施の形態について図15を参照して説明する。
(Fifth embodiment)
A fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

本発明の第5の実施の形態は、基本的に第1の実施の形態と同様である。第5の実施の形態では、第1の実施の形態との相違点について説明する。なお、第1の実施の形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明は省略する。   The fifth embodiment of the present invention is basically the same as the first embodiment. In the fifth embodiment, differences from the first embodiment will be described. In addition, the same part as the part demonstrated in 1st Embodiment is shown with the same code | symbol, and the description is abbreviate | omitted.

[表示装置の構成]
第5の実施の形態に係る表示装置1の構成について説明する。
[Configuration of display device]
A configuration of the display device 1 according to the fifth embodiment will be described.

第5の実施の形態では、図15に示すように、各色の着色層23aは、色毎にストライプ状に設けられている。同色の着色層23aは所定数毎に連続して一列に並んでいる。なお、段差部24aは、ストライプ状の各色の着色層23aの間に設けられている。   In the fifth embodiment, as shown in FIG. 15, the colored layers 23a of the respective colors are provided in a stripe shape for each color. The colored layers 23a of the same color are continuously arranged in a line every predetermined number. Note that the step portion 24a is provided between the colored layers 23a of each color in a stripe shape.

このように第5の実施の形態の表示装置1によれば、第1の実施の形態と同様な効果を奏し、さらに、複数の着色層23aを連続してストライプ状に設けることによって、隔離壁24が形成された第2の基板21上にインクを滴下する場合、インクは広い範囲でレべリング化(平滑化)され、塗布厚が均一になるので、第2の基板21上の各段差部24aと各行隔離壁24bとの間にムラなくインクを充填することができる。   As described above, according to the display device 1 of the fifth embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained, and further, the plurality of colored layers 23a can be continuously provided in a stripe shape, thereby separating walls. When the ink is dropped onto the second substrate 21 on which 24 is formed, the ink is leveled (smoothed) over a wide range and the coating thickness becomes uniform. The ink can be filled evenly between the portion 24a and each row separation wall 24b.

(他の実施の形態)
なお、第1乃至第5の各実施の形態においては、表示層7として液晶層を用いているが、これに限るものではない。
(Other embodiments)
In each of the first to fifth embodiments, a liquid crystal layer is used as the display layer 7, but the present invention is not limited to this.

また、第1乃至第5の各実施の形態においては、感光性透明樹脂層51,81を加熱して硬化させているが、これに限るものではなく、例えば現像後にUV(紫外線)照射により硬化するようにしてもよい。この場合には、感光性透明樹脂層51,81として、紫外線硬化樹脂を用いる。   In each of the first to fifth embodiments, the photosensitive transparent resin layers 51 and 81 are heated and cured. However, the present invention is not limited to this. For example, after development, the photosensitive transparent resin layers 51 and 81 are cured by UV (ultraviolet) irradiation. You may make it do. In this case, an ultraviolet curable resin is used as the photosensitive transparent resin layers 51 and 81.

また、第1乃至第5の各実施の形態においては、第2の基板21上に感光性透明樹脂層51,81を形成する方法として、スピン塗布、スリット塗布及びロールコータ塗布等を用いているが、これらに限るものではない。   In each of the first to fifth embodiments, spin coating, slit coating, roll coater coating, or the like is used as a method for forming the photosensitive transparent resin layers 51 and 81 on the second substrate 21. However, it is not limited to these.

また、第1乃至第5の各実施の形態においては、隔離壁24にインク反発性を付与するため、隔離壁24となる感光性透明樹脂層51,81を形成する材料としてインク反発性を有する樹脂を用いているが、これらに限るものではなく、例えば、隔離壁24の表面にフッ素系ガスによるプラズマ処理等を行って、隔離壁24にインク反発性を付与するようにしてもよい。   In each of the first to fifth embodiments, the ink repellent property is provided as a material for forming the photosensitive transparent resin layers 51 and 81 to be the separating wall 24 in order to impart the ink repelling property to the separating wall 24. Although resin is used, the present invention is not limited to this. For example, the surface of the isolation wall 24 may be subjected to plasma treatment with a fluorine-based gas to impart ink repellency to the isolation wall 24.

また、第1乃至第5の各実施の形態においては、対向基板5として第2の基板21上に隔離壁24を設けているが、これに限るものではなく、例えばアレイ基板3として第1の基板11上に隔離壁24を設けるようにしてもよい。   In each of the first to fifth embodiments, the separation wall 24 is provided on the second substrate 21 as the counter substrate 5. However, the present invention is not limited to this, and for example, the first as the array substrate 3. An isolation wall 24 may be provided on the substrate 11.

本発明の第1の実施の形態に係る表示装置の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the display apparatus which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 図1に示す表示装置の表示領域を示す平面図である。It is a top view which shows the display area of the display apparatus shown in FIG. 図1に示す表示装置の半透過領域の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the semi-transmissive area | region of the display apparatus shown in FIG. 図1に示す表示装置が備える対向基板の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the opposing board | substrate with which the display apparatus shown in FIG. 1 is provided. 図4に示す対向基板のX1−X1線の断面図である。It is sectional drawing of the X1-X1 line | wire of the opposing board | substrate shown in FIG. 図4に示す対向基板のY1−Y1線の断面図である。It is sectional drawing of the Y1-Y1 line | wire of the opposing board | substrate shown in FIG. 図4に示す対向基板の製造工程を示し、(A)は第1工程の断面図、(B)は第2工程の断面図、(C)は第3工程の断面図である。4A and 4B show a manufacturing process of the counter substrate, wherein FIG. 4A is a cross-sectional view of the first process, FIG. 4B is a cross-sectional view of the second process, and FIG. 4C is a cross-sectional view of the third process. 本発明の第2の実施の形態に係る表示装置の表示領域を示す平面図である。It is a top view which shows the display area of the display apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 図8に示す表示装置の半透過領域の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the semi-transmissive area | region of the display apparatus shown in FIG. 図8に示す表示装置が備える対向基板の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the opposing board | substrate with which the display apparatus shown in FIG. 8 is provided. 図8に示す表示装置のX2−X2線の断面図である。It is sectional drawing of the X2-X2 line of the display apparatus shown in FIG. 本発明の第3の実施の形態に係る表示装置が備える対向基板の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the opposing board | substrate with which the display apparatus which concerns on the 3rd Embodiment of this invention is provided. 図12に示す対向基板の製造工程を示し、(A)は第1工程の断面図、(B)は第2工程の断面図、(C)は第3工程の断面図、(D)は第4工程の断面図である。12A and 12B show a manufacturing process of the counter substrate, wherein FIG. 12A is a sectional view of the first process, FIG. 12B is a sectional view of the second process, FIG. 12C is a sectional view of the third process, and FIG. It is sectional drawing of 4 processes. 本発明の第4の実施の形態に係る表示装置が備える対向基板の概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the opposing board | substrate with which the display apparatus which concerns on the 4th Embodiment of this invention is provided. 本発明の第5の実施の形態に係る表示装置が備える対向基板の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the opposing board | substrate with which the display apparatus which concerns on the 5th Embodiment of this invention is provided.

符号の説明Explanation of symbols

1 表示装置
2a 透過電極
2b 反射電極
4 対向電極
7 表示層
11 第1の基板
21 第2の基板
23a 第1の着色層
23b 第2の着色層
24 隔離壁
24a 段差部
61 凹部
71 貫通孔

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Display apparatus 2a Transmission electrode 2b Reflective electrode 4 Counter electrode 7 Display layer 11 1st board | substrate 21 2nd board | substrate 23a 1st colored layer 23b 2nd colored layer 24 Isolation wall 24a Step part 61 Recessed part 71 Through-hole

Claims (14)

光を透過させる複数の透過電極及び光を反射する複数の反射電極を有する第1の基板と、
前記複数の透過電極及び前記複数の反射電極に対向する対向電極を有する第2の基板と、
前記第1の基板と前記第2の基板との間に設けられた表示層と、
前記第1の基板上又は前記第2の基板上に、前記複数の透過電極にそれぞれ対応させて設けられた複数の第1の着色層と、
前記複数の第1の着色層を着色層毎に隔てる隔離壁と、
前記隔離壁の一部であって、前記反射電極と前記対向電極との間の距離を前記透過電極と前記対向電極との間の距離に比べ短くする段差部と、
を備えることを特徴とする表示装置。
A first substrate having a plurality of transmissive electrodes that transmit light and a plurality of reflective electrodes that reflect light;
A second substrate having a counter electrode facing the plurality of transmissive electrodes and the plurality of reflective electrodes;
A display layer provided between the first substrate and the second substrate;
A plurality of first colored layers provided on the first substrate or the second substrate so as to correspond to the plurality of transmission electrodes, respectively;
An isolation wall separating the plurality of first colored layers for each colored layer;
A step portion that is a part of the isolation wall and shortens the distance between the reflective electrode and the counter electrode compared to the distance between the transmissive electrode and the counter electrode;
A display device comprising:
前記隔離壁は、前記第1の着色層の厚さより高いことを特徴とする請求項1記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the isolation wall is higher than a thickness of the first colored layer. 前記段差部は、前記反射電極に対応する第2の着色層を有していることを特徴とする請求項1記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the step portion includes a second colored layer corresponding to the reflective electrode. 前記段差部は、前記第2の着色層を収容する凹部を有していることを特徴とする請求項3記載の表示装置。   The display device according to claim 3, wherein the stepped portion has a recess that accommodates the second colored layer. 前記凹部の深さは、前記第1の着色層の厚さの略1/2であることを特徴とする請求項4記載の表示装置。   The display device according to claim 4, wherein a depth of the concave portion is approximately ½ of a thickness of the first colored layer. 前記段差部は、前記第2の着色層を収容する貫通孔を有していることを特徴とする請求項3記載の表示装置。   The display device according to claim 3, wherein the step portion has a through hole that accommodates the second colored layer. 前記第2の着色層の厚さは、前記第1の着色層の厚さの略1/2であることを特徴とする請求項3記載の表示装置。   The display device according to claim 3, wherein a thickness of the second colored layer is approximately ½ of a thickness of the first colored layer. 光を透過させる複数の透過電極及び光を反射する複数の反射電極を有する第1の基板上、又は前記複数の透過電極及び前記複数の反射電極に対向する対向電極を有する第2の基板上に、前記複数の透過電極にそれぞれ対応する複数の第1の着色層を着色層毎に隔てる隔離壁と、前記反射電極と前記対向電極との間の距離を前記透過電極と前記対向電極との間の距離に比べ短くする段差部とを一体に形成する工程と、
前記隔離壁と前記段差部とを一体に形成した前記第1の基板上又は前記第2の基板上に、前記複数の第1の着色層を形成する工程と、
を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
On a first substrate having a plurality of transmissive electrodes that transmit light and a plurality of reflective electrodes that reflect light, or on a second substrate having a counter electrode facing the plurality of transmissive electrodes and the plurality of reflective electrodes A distance between the reflective electrode and the counter electrode between the isolation wall separating the plurality of first colored layers corresponding to the plurality of transmissive electrodes for each colored layer, and the reflective electrode and the counter electrode. A step of integrally forming a stepped portion that is shorter than the distance of
Forming the plurality of first colored layers on the first substrate or the second substrate in which the isolation wall and the stepped portion are integrally formed; and
A method for manufacturing a display device, comprising:
前記複数の第1の着色層を形成する工程では、前記隔離壁の高さより前記第1の着色層の厚さを薄く前記第1の着色層を形成することを特徴とする請求項8記載の表示装置の製造方法。   9. The step of forming the plurality of first colored layers includes forming the first colored layer by making the thickness of the first colored layer thinner than the height of the isolation wall. Manufacturing method of display device. 前記複数の第1の着色層を形成する工程では、インクを吐出するインク吐出装置により前記第1の着色層を形成することを特徴とする請求項8記載の表示装置の製造方法。   9. The method for manufacturing a display device according to claim 8, wherein, in the step of forming the plurality of first colored layers, the first colored layer is formed by an ink ejection device that ejects ink. 前記隔離壁と前記段差部とを一体に形成する工程では、前記段差部に、前記反射電極に対応する第2の着色層を収容する凹部を形成し、
前記複数の第1の着色層を形成する工程では、前記凹部に前記第2の着色層を形成することを特徴とする請求項8記載の表示装置の製造方法。
In the step of integrally forming the isolation wall and the stepped portion, a recess for accommodating a second colored layer corresponding to the reflective electrode is formed in the stepped portion,
The method of manufacturing a display device according to claim 8, wherein in the step of forming the plurality of first colored layers, the second colored layer is formed in the concave portion.
前記凹部の深さは、前記第1の着色層の厚さの略1/2であることを特徴とする請求項11記載の表示装置の製造方法。   12. The method of manufacturing a display device according to claim 11, wherein the depth of the concave portion is approximately ½ of the thickness of the first colored layer. 前記隔離壁と前記段差部とを一体に形成する工程では、前記段差部に、前記反射電極に対応する第2の着色層を収容する貫通孔を形成し、
前記複数の第1の着色層を形成する工程では、前記貫通孔に前記第2の着色層を形成することを特徴とする請求項8記載の表示装置の製造方法。
In the step of integrally forming the isolation wall and the stepped portion, a through hole that accommodates a second colored layer corresponding to the reflective electrode is formed in the stepped portion,
9. The method for manufacturing a display device according to claim 8, wherein in the step of forming the plurality of first colored layers, the second colored layer is formed in the through hole.
前記第2の着色層の厚さは、前記第1の着色層の厚さの略1/2であることを特徴とする請求項11乃至13のいずれかに記載の表示装置の製造方法。


14. The method for manufacturing a display device according to claim 11, wherein the thickness of the second colored layer is approximately ½ of the thickness of the first colored layer.


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