JP2006301301A - Conveyance error measuring method, calibration method, drawing method, exposure drawing method, drawing device, and exposure drawing device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an exposure drawing method or the like with which deviation of a drawing position due to meandering, pitching vibration or the like accompanying conveyance of a work is highly accurately measured and is reflected on drawing processing. <P>SOLUTION: An exposure drawing device is equipped with: a first conveying portion 100 to convey a work 36a for measurement relative to an exposure head; a first drawing portion 102 to continuously draw a plurality of test pattern images on the work 36a for measurement with the exposure head; a measuring portion 104 to measure at least a relative conveyance error of the work 36a for measurement on the basis of the drawing condition of the plurality of test pattern images drawn on the work 36a for measurement; a correcting portion 106 to generate information on timing of drawing and deformation of the image on the basis of the conveyance error; a second conveying portion 108 to convey a normal work 36 relative to the exposure head; and a second drawing portion 110 to draw an image to be drawn on the normal work 36 on the basis of the information generated by the correcting portion 106. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば製造工程に投入されるワークへの画像描画に先立って、該ワークの搬送誤差を計測する搬送誤差計測方法と、ワークへの画像描画に関する描画位置を校正する校正方法と、前記ワークへの画像描画を行う描画方法と、前記ワークへの画像描画を露光によって行う露光描画方法と、前記ワークに対して画像描画を行う描画装置と、前記ワークへの画像描画を露光によって行う露光描画装置に関する。   The present invention provides, for example, a transport error measurement method for measuring a transport error of a work prior to image drawing on a work put into a manufacturing process, a calibration method for calibrating a drawing position related to image drawing on a work, A drawing method for drawing an image on a workpiece, an exposure drawing method for drawing an image on the workpiece by exposure, a drawing apparatus for drawing an image on the workpiece, and an exposure for performing image drawing on the workpiece by exposure The present invention relates to a drawing apparatus.

例えば、所望の画像パターンに従ってレーザビームを制御し、シート状の感光材料を露光走査することにより、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等のフィルタやプリント基板を製造する露光装置が開発されている。図26は、このような露光装置200の概略構成を示す(特許文献1参照)。   For example, an exposure apparatus has been developed that manufactures a filter or a printed circuit board such as a liquid crystal display or a plasma display by controlling a laser beam according to a desired image pattern and exposing and scanning a sheet-like photosensitive material. FIG. 26 shows a schematic configuration of such an exposure apparatus 200 (see Patent Document 1).

露光装置200は、例えば6本の脚部202により支持される長方形状の定盤204と、定盤204上に配設された2本のガイドレール206a、206bに沿って移動可能な移動ステージ208と、定盤204上に配設される門型のコラム210と、コラム210に固定され、移動ステージ208に位置決めされた露光対象物212(ワーク)をレーザビームにより照射するスキャナ214とを備える。   The exposure apparatus 200 includes, for example, a rectangular platen 204 supported by six legs 202, and a movable stage 208 movable along two guide rails 206a and 206b disposed on the platen 204. And a columnar column 210 disposed on the surface plate 204, and a scanner 214 that irradiates an exposure object 212 (work) fixed to the column 210 and positioned on the moving stage 208 with a laser beam.

ワーク212は、移動ステージ208と共に矢印方向に移動される一方、スキャナ214から出力されるレーザビームが矢印方向と直交する方向に照射されることで、二次元画像が記録される。   While the workpiece 212 is moved in the direction of the arrow together with the moving stage 208, a two-dimensional image is recorded by irradiating the laser beam output from the scanner 214 in a direction orthogonal to the direction of the arrow.

ここで、スキャナ214は、例えば、デジタル・マイクロミラー・デバイス(DMD)等の空間光変調素子をパターンジェネレータとする複数の露光ヘッドからなり、各露光ヘッドにより二次元画像パターンを高精細且つ高速度に記録するように構成されている。   Here, the scanner 214 is composed of a plurality of exposure heads using a spatial light modulation element such as a digital micromirror device (DMD) as a pattern generator, and each exposure head produces a high-definition and high-speed two-dimensional image pattern. Is configured to record.

DMDは、制御信号に応じて反射面の角度が変化する多数のマイクロミラーをシリコン等の半導体基板上に二次元的に配列したミラーデバイスであり、レーザ光源から出力されたレーザビームをコリメータレンズでコリメートした後、反射面の角度が制御されたDMDによって選択的に反射させ、マイクロレンズアレーを介してワーク212上に集光させることにより、二次元画像パターンの記録が行われる。   The DMD is a mirror device in which a large number of micromirrors whose reflection surfaces change in response to a control signal are two-dimensionally arranged on a semiconductor substrate such as silicon. The laser beam output from a laser light source is collimated by a collimator lens. After the collimation, the two-dimensional image pattern is recorded by selectively reflecting with a DMD whose angle of the reflecting surface is controlled and condensing on the work 212 through the microlens array.

つまり、ワーク212に形成される二次元画像パターン(単に、画像パターンと記す)は、各露光ヘッドから出射されたレーザビームによる複数の画像の配列によって形成される。もちろん、複数の画像を直線上に配列して線状の画像パターンを形成することも可能である。   That is, a two-dimensional image pattern (simply referred to as an image pattern) formed on the workpiece 212 is formed by an array of a plurality of images by laser beams emitted from each exposure head. Of course, it is also possible to form a linear image pattern by arranging a plurality of images on a straight line.

特開2004−62155号公報JP 2004-62155 A

ところで、ワーク212へのパターン描画のために移動ステージ208を移動させると、移動によって移動ステージ208に蛇行が発生して移動ステージ208に位置ずれが生じ、ワーク212に描画されるパターンに歪みが生じるという問題がある。この蛇行とは、移動ステージ208の移動によって発生する移動ステージ208のワーク載置面に対して移動方向と交差する方向へのずれをいい、移動によって移動ステージのワーク載置面が交差する方向にずれるため、露光ヘッドからワーク212上に光ビームが照射される位置のずれとなる。   By the way, when the moving stage 208 is moved for pattern drawing on the workpiece 212, meandering occurs in the moving stage 208 due to the movement, the positional shift occurs in the moving stage 208, and the pattern drawn on the workpiece 212 is distorted. There is a problem. This meandering refers to a shift in the direction intersecting the moving direction with respect to the workpiece mounting surface of the moving stage 208 generated by the movement of the moving stage 208, and in the direction in which the workpiece mounting surface of the moving stage intersects by the movement. Therefore, the position where the light beam is irradiated onto the workpiece 212 from the exposure head is shifted.

また、ワーク212を載置した移動ステージ208をパターン描画のために移動させると、移動によって移動ステージ208にピッチング振動が発生して、移動ステージ208に位置ずれが生じ、ワーク212に描画されるパターンに歪みが生じるという問題がある。このピッチング振動とは、移動ステージ208の垂直方向への円弧状の振り子振動をいい、移動ステージ208のワーク載置面を傾斜させてしまうため、移動ステージ208の上方から照射される光ビームの光路長が変化し、この変化分が移動ステージ208のワーク載置面の走査ピッチのずれとなる。   In addition, when the moving stage 208 on which the work 212 is placed is moved for pattern drawing, pitching vibration is generated in the moving stage 208 due to the movement, so that the moving stage 208 is displaced, and the pattern drawn on the work 212 is drawn. There is a problem that distortion occurs. This pitching vibration refers to an arc-shaped pendulum vibration in the vertical direction of the moving stage 208, which inclines the work placement surface of the moving stage 208. Therefore, the optical path of the light beam irradiated from above the moving stage 208 The length changes, and this change becomes a shift in the scanning pitch of the work placement surface of the moving stage 208.

さらに、移動ステージ208が移動すると、移動ステージ208にはヨーイング動作(移動ステージ208の移動方向への動作)に起因して、各位置に微妙に異なる蛇行動作が発生したり、各位置に微妙に異なるピッチング振動が発生する。   Further, when the moving stage 208 is moved, a slightly different meandering operation occurs at each position due to a yawing operation (an operation in the moving direction of the moving stage 208), or the moving stage 208 slightly changes at each position. Different pitching vibrations occur.

本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、ワークの搬送に伴う蛇行やピッチング振動等による描画位置のずれを高精度に計測することができ、例えばその後のワークへの画像描画や露光を高精度に行わせることができる搬送誤差計測方法及び校正方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of such problems, and can accurately measure a drawing position shift due to meandering, pitching vibration, or the like accompanying the conveyance of the workpiece. For example, image drawing on the workpiece thereafter Another object of the present invention is to provide a transport error measurement method and a calibration method capable of performing exposure with high accuracy.

また、本発明の他の目的は、ワークの搬送に伴う蛇行やピッチング振動等による描画位置のずれを高精度に計測し、その計測結果を描画画像に論理的に反映させて、前記蛇行やピッチング振動等による露光位置のずれを解消することができ、ワークへの画像描画や露光を高精度、且つ、低コストで行うことができる描画方法、露光描画方法、描画装置及び露光描画装置を提供することを目的とする。   Another object of the present invention is to accurately measure a drawing position shift due to meandering or pitching vibration accompanying workpiece conveyance, and logically reflect the measurement result on a drawn image. Provided are a drawing method, an exposure drawing method, a drawing apparatus, and an exposure drawing apparatus that can eliminate a deviation of an exposure position due to vibration or the like and can perform image drawing and exposure on a workpiece with high accuracy and low cost. For the purpose.

本発明に係る搬送誤差計測方法は、ワークが保持されたステージを描画部に対して相対的に搬送する搬送ステップと、前記ワークに対して複数のテストパターン画像を前記描画部によって描画する描画ステップと、前記ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて少なくとも前記ワークの相対的な搬送誤差を計測する計測ステップとを有することを特徴とする。   The conveyance error measuring method according to the present invention includes a conveyance step of conveying a stage holding a workpiece relative to the drawing unit, and a drawing step of drawing a plurality of test pattern images on the workpiece by the drawing unit. And a measuring step for measuring at least a relative conveyance error of the workpiece based on a drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the workpiece.

これにより、ワークの搬送に伴う蛇行やピッチング振動等による描画位置のずれを高精度に計測することができ、例えばその後のワークへの画像描画や露光を高精度に行わせることができる。   Thereby, it is possible to measure the displacement of the drawing position due to meandering or pitching vibration accompanying the conveyance of the workpiece with high accuracy. For example, it is possible to perform subsequent image drawing or exposure on the workpiece with high accuracy.

そして、前記方法において、前記計測ステップは、前記ワークに連続的に描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて計測を行うようにしてもよい。   In the method, the measurement step may perform measurement based on a drawing state of a plurality of test pattern images continuously drawn on the workpiece.

前記描画ステップは、前記描画部による多重描画によって前記複数のテストパターン画像を前記ワークに描画するようにしてもよいし、前記描画部の一部の領域内の画素を使用して前記複数のテストパターン画像を前記ワークに描画するようにしてもよい。   In the drawing step, the plurality of test pattern images may be drawn on the work by multiple drawing by the drawing unit, or the plurality of test patterns may be drawn using pixels in a partial area of the drawing unit. A pattern image may be drawn on the workpiece.

また、前記計測ステップは、前記ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて、前記ワークの相対的な搬送方向と直交する方向における基準位置から前記テストパターン画像の前記方向に沿ったずれ量を計測するようにしてもよい。   Further, the measuring step may be performed along the direction of the test pattern image from a reference position in a direction orthogonal to a relative conveyance direction of the workpiece based on a drawing state of the plurality of test pattern images drawn on the workpiece. The amount of deviation may be measured.

前記計測ステップは、前記ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて、前記ワークの相対的な搬送方向における基準位置から前記テストパターン画像の前記搬送方向に沿ったずれ量を計測するようにしてもよい。   The measuring step measures a shift amount of the test pattern image along the conveyance direction from a reference position in the relative conveyance direction of the workpiece based on a drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the workpiece. You may make it do.

また、前記描画ステップは、前記描画部における前記ワークの相対的な搬送方向と直交する方向に沿って離れた少なくとも2つの領域内の画素をそれぞれ使用して前記ワークに描画するようにしてもよい。   Further, the drawing step may draw on the work using pixels in at least two regions separated along a direction orthogonal to the relative transport direction of the work in the drawing unit. .

前記計測ステップは、前記ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて、前記ワークの相対的な搬送方向又は該搬送方向と直交する方向に対する回転成分を計測するようにしてもよい。   The measuring step may measure a rotation component with respect to a relative conveyance direction of the workpiece or a direction orthogonal to the conveyance direction based on a drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the workpiece. .

次に、本発明に係る校正方法は、上述した本発明に係る搬送誤差計測方法を用いて前記描画部による描画位置を校正することを特徴とする。   Next, a calibration method according to the present invention is characterized in that the drawing position by the drawing unit is calibrated using the above-described transport error measurement method according to the present invention.

これにより、ワークの搬送に伴う蛇行やピッチング振動等による描画位置のずれを高精度に計測することができ、例えばその後のワークへの画像描画や露光を高精度に行わせることができる。   Thereby, it is possible to measure the displacement of the drawing position due to meandering or pitching vibration accompanying the conveyance of the workpiece with high accuracy. For example, it is possible to perform subsequent image drawing or exposure on the workpiece with high accuracy.

次に、本発明に係る描画方法は、計測用ワークが保持されたステージを描画部に対して相対的に搬送する第1の搬送ステップと、前記計測用ワークに対して複数のテストパターン画像を前記描画部によって描画する第1の描画ステップと、前記計測用ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて少なくとも前記計測用ワークの相対的な搬送誤差を計測する計測ステップと、前記計測ステップにて計測された前記搬送誤差に基づいて、前記描画部の描画に関する情報を作成する補正ステップと、前記ステージに正規のワークを保持して前記描画部に対して相対的に搬送する第2の搬送ステップと、前記正規のワークに対して描画すべき画像を前記補正ステップにて作成された前記描画に関する情報に基づいて描画する第2の描画ステップとを有することを特徴とする。   Next, a drawing method according to the present invention includes a first transfer step of transferring a stage on which a measurement work is held relative to a drawing unit, and a plurality of test pattern images for the measurement work. A first drawing step for drawing by the drawing unit; a measurement step for measuring at least a relative conveyance error of the measurement workpiece based on a drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the measurement workpiece; Based on the conveyance error measured in the measurement step, a correction step for creating information related to drawing of the drawing unit, and a normal work is held on the stage and conveyed relative to the drawing unit. A second conveyance step, and a second drawing step for drawing an image to be drawn on the regular workpiece based on the drawing-related information created in the correction step. And having a drawing step.

これにより、ワークの搬送に伴う蛇行やピッチング振動等による描画位置のずれを高精度に計測し、その計測結果を描画画像に論理的に反映させて、前記蛇行やピッチング振動等による露光位置のずれを解消することができ、ワークへの画像描画や露光を高精度、且つ、低コストで行うことができる。   As a result, the displacement of the drawing position due to meandering or pitching vibration accompanying the conveyance of the workpiece is measured with high accuracy, and the measurement result is logically reflected in the drawn image, and the deviation of the exposure position due to the meandering or pitching vibration or the like. Therefore, image drawing and exposure on the workpiece can be performed with high accuracy and at low cost.

そして、前記方法において、前記計測ステップは、前記計測用ワークに連続的に描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて計測を行うようにしてもよい。   In the method, the measurement step may perform measurement based on a drawing state of a plurality of test pattern images continuously drawn on the measurement work.

また、前記第1の描画ステップは、前記描画部による多重描画によって前記複数のテストパターン画像を前記計測用ワークに描画するようにしてもよいし、前記描画部の一部の領域内の画素を使用して前記複数のテストパターン画像を前記計測用ワークに描画するようにしてもよい。   In the first drawing step, the plurality of test pattern images may be drawn on the measurement work by multiple drawing by the drawing unit, or pixels in a partial region of the drawing unit may be drawn. The plurality of test pattern images may be used and drawn on the measurement workpiece.

また、前記計測ステップは、前記計測用ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて、前記計測用ワークの相対的な搬送方向と直交する方向における基準位置から前記テストパターン画像の前記方向に沿ったずれ量を計測するようにしてもよい。   In addition, the measurement step may include the step of measuring the test pattern image from a reference position in a direction orthogonal to the relative conveyance direction of the measurement workpiece based on the drawing state of the plurality of test pattern images drawn on the measurement workpiece. You may make it measure the deviation | shift amount along the said direction.

前記計測ステップは、前記計測用ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて、前記計測用ワークの相対的な搬送方向における基準位置から前記テストパターン画像の前記搬送方向に沿ったずれ量を計測するようにしてもよい。   The measurement step is based on a drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the measurement work, along a conveyance direction of the test pattern image from a reference position in a relative conveyance direction of the measurement work. You may make it measure deviation | shift amount.

また、前記描画部は、1以上の描画ヘッドを有し、前記補正ステップは、前記計測ステップにて計測された前記搬送誤差に基づいて、前記描画すべき画像データを前記描画ヘッド毎に論理的に変形し、その変形に関する情報を情報テーブルとして作成するテーブル作成ステップを有し、前記第2の描画ステップは、前記情報テーブルに格納された前記変形に関する情報に基づいて前記正規のワークに前記描画すべき画像を描画するようにしてもよい。   In addition, the drawing unit includes one or more drawing heads, and the correction step logically determines the image data to be drawn for each drawing head based on the transport error measured in the measurement step. And a table creating step for creating information relating to the deformation as an information table, wherein the second drawing step is configured to draw the drawing on the regular workpiece based on the information relating to the deformation stored in the information table. You may make it draw the image which should be.

また、前記描画部は、1以上の描画ヘッドを有し、前記補正ステップは、前記計測ステップにて計測された前記搬送誤差に基づいて、前記描画すべき画像データにおける前記描画ヘッド毎の読み出し開始アドレスを論理的に変更し、該アドレス変更に関する情報を情報テーブルとして作成するテーブル作成ステップを有し、前記第2の描画ステップは、前記情報テーブルに格納された前記アドレス変更に関する情報に基づいて前記正規のワークに前記描画すべき画像を描画するようにしてもよい。   The drawing unit includes one or more drawing heads, and the correction step starts reading out the image data to be drawn for each drawing head based on the transport error measured in the measurement step. A table creation step of logically changing an address and creating information about the address change as an information table, wherein the second drawing step is based on the information about the address change stored in the information table; The image to be drawn may be drawn on a regular work.

また、前記第1の描画ステップは、前記描画部における前記計測用ワークの相対的な搬送方向と直交する方向に沿って離れた少なくとも2つの領域内の画素をそれぞれ使用して前記計測用ワークに描画するようにしてもよい。   Further, the first drawing step uses the pixels in at least two regions separated along a direction orthogonal to a relative conveyance direction of the measurement work in the drawing unit to each of the measurement work. You may make it draw.

前記計測ステップは、前記計測用ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて、前記計測用ワークの相対的な搬送方向又は該搬送方向と直交する方向に対する回転成分を計測し、前記補正ステップは、前記描画部の描画に関する情報を前記回転成分を反映させて作成するようにしてもよい。   The measurement step measures a rotation component with respect to a relative conveyance direction of the measurement workpiece or a direction orthogonal to the conveyance direction based on a drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the measurement workpiece, In the correcting step, information related to drawing by the drawing unit may be created by reflecting the rotation component.

次に、本発明に係る露光描画方法は、上述した本発明に係る描画方法を用いて少なくとも前記正規のワークに露光を行うことを特徴とする。   Next, an exposure drawing method according to the present invention is characterized in that at least the regular workpiece is exposed using the drawing method according to the present invention described above.

これにより、ワークの搬送に伴う蛇行やピッチング振動等による描画位置のずれを高精度に計測し、その計測結果を描画画像に論理的に反映させて、前記蛇行やピッチング振動等による露光位置のずれを解消することができ、ワークへの画像描画や露光を高精度、且つ、低コストで行うことができる。   As a result, the displacement of the drawing position due to meandering or pitching vibration accompanying the conveyance of the workpiece is measured with high accuracy, and the measurement result is logically reflected in the drawn image, and the deviation of the exposure position due to the meandering or pitching vibration or the like. Therefore, image drawing and exposure on the workpiece can be performed with high accuracy and at low cost.

次に、本発明に係る描画装置は、計測用ワークが保持されたステージを描画部に対して相対的に搬送する第1の搬送手段と、前記計測用ワークに対して複数のテストパターン画像を前記描画部によって描画する第1の描画手段と、前記計測用ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて少なくとも前記計測用ワークの相対的な搬送誤差を計測する計測手段と、前記計測ステップにて計測された前記搬送誤差に基づいて、前記描画部の描画に関する情報を作成する補正手段と、前記ステージに正規のワークを保持して前記描画部に対して相対的に搬送する第2の搬送手段と、前記正規のワークに対して描画すべき画像を前記補正ステップにて作成された前記描画に関する情報に基づいて描画する第2の描画手段とを有することを特徴とする。   Next, a drawing apparatus according to the present invention includes a first transport unit that transports a stage holding a measurement work relative to the drawing unit, and a plurality of test pattern images for the measurement work. A first drawing unit for drawing by the drawing unit; a measuring unit for measuring at least a relative conveyance error of the measurement workpiece based on a drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the measurement workpiece; Based on the conveyance error measured in the measurement step, correction means for creating information related to drawing of the drawing unit, and holding a regular work on the stage, the sample is conveyed relative to the drawing unit. A second conveying unit, and a second drawing unit that draws an image to be drawn on the regular workpiece based on the drawing-related information created in the correction step. It is characterized in.

これにより、ワークの搬送に伴う蛇行やピッチング振動等による描画位置のずれを高精度に計測し、その計測結果を描画画像に論理的に反映させて、前記蛇行やピッチング振動等による露光位置のずれを解消することができ、ワークへの画像描画や露光を高精度、且つ、低コストで行うことができる。   As a result, the displacement of the drawing position due to meandering or pitching vibration accompanying the conveyance of the workpiece is measured with high accuracy, and the measurement result is logically reflected in the drawn image, and the deviation of the exposure position due to the meandering or pitching vibration or the like. Therefore, image drawing and exposure on the workpiece can be performed with high accuracy and at low cost.

そして、前記描画装置において、前記計測手段は、前記計測用ワークに連続的に描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて計測を行うようにしてもよい。   In the drawing apparatus, the measurement unit may perform measurement based on a drawing state of a plurality of test pattern images continuously drawn on the measurement work.

また、前記第1の描画手段は、前記描画部による多重描画によって前記複数のテストパターン画像を前記計測用ワークに描画するようにしてもよいし、前記描画部の一部の領域内の画素を使用して前記複数のテストパターン画像を前記計測用ワークに描画するようにしてもよい。   The first drawing unit may draw the plurality of test pattern images on the measurement work by multiple drawing by the drawing unit, or may select pixels in a partial area of the drawing unit. The plurality of test pattern images may be used and drawn on the measurement workpiece.

また、前記計測手段は、前記計測用ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて、前記計測用ワークの相対的な搬送方向と直交する方向における基準位置から前記テストパターン画像の前記方向に沿ったずれ量を計測するようにしてもよい。   In addition, the measurement unit may determine the test pattern image from a reference position in a direction orthogonal to a relative conveyance direction of the measurement workpiece based on a drawing state of the plurality of test pattern images drawn on the measurement workpiece. You may make it measure the deviation | shift amount along the said direction.

前記計測手段は、前記計測用ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて、前記計測用ワークの相対的な搬送方向における基準位置から前記テストパターン画像の前記搬送方向に沿ったずれ量を計測するようにしてもよい。   The measurement means follows the transport direction of the test pattern image from the reference position in the relative transport direction of the measurement workpiece based on the drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the measurement workpiece. You may make it measure deviation | shift amount.

また、前記描画部は、1以上の描画ヘッドを有し、前記補正手段は、前記計測手段にて計測された前記搬送誤差に基づいて、前記描画すべき画像データを前記描画ヘッド毎に論理的に変形し、その変形に関する情報を情報テーブルとして作成するテーブル作成手段を有し、前記第2の描画手段は、前記情報テーブルに格納された前記変形に関する情報に基づいて前記正規のワークに前記描画すべき画像を描画するようにしてもよい。   Further, the drawing unit includes one or more drawing heads, and the correction unit logically outputs the image data to be drawn for each drawing head based on the transport error measured by the measuring unit. And a table creating means for creating information relating to the deformation as an information table, wherein the second drawing means draws the drawing on the regular workpiece based on the information relating to the deformation stored in the information table. You may make it draw the image which should be.

また、前記描画部は、1以上の描画ヘッドを有し、前記補正手段は、前記計測手段にて計測された前記搬送誤差に基づいて、前記描画すべき画像データにおける前記描画ヘッド毎の読み出し開始アドレスを論理的に変更し、該アドレス変更に関する情報を情報テーブルとして作成するテーブル作成手段を有し、前記第2の描画手段は、前記情報テーブルに格納された前記アドレス変更に関する情報に基づいて前記正規のワークに前記描画すべき画像を描画するようにしてもよい。   The drawing unit includes one or more drawing heads, and the correction unit starts reading out the image data to be drawn for each drawing head based on the transport error measured by the measuring unit. A table creating means for logically changing an address and creating information relating to the address change as an information table, wherein the second drawing means includes the information relating to the address change stored in the information table; The image to be drawn may be drawn on a regular work.

前記第1の描画手段は、前記描画部における前記計測用ワークの相対的な搬送方向と直交する方向に沿って離れた少なくとも2つの領域内の画素をそれぞれ使用して前記計測用ワークに描画するようにしてもよい。   The first drawing means draws on the measurement work using pixels in at least two regions separated along a direction orthogonal to a relative conveyance direction of the measurement work in the drawing unit. You may do it.

前記計測手段は、前記計測用ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて、前記計測用ワークの相対的な搬送方向又は該搬送方向と直交する方向に対する回転成分を計測し、前記補正手段は、前記描画部の描画に関する情報を前記回転成分を反映させて作成するようにしてもよい。   The measuring means measures a rotation component with respect to a relative conveyance direction of the measurement workpiece or a direction orthogonal to the conveyance direction based on a drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the measurement workpiece, The correction unit may create information related to drawing by the drawing unit by reflecting the rotation component.

次に、本発明に係る露光描画装置は、上述した本発明に係る描画装置を有し、少なくとも前記正規のワークに露光によって前記画像の描画を行うことを特徴とする。   Next, an exposure drawing apparatus according to the present invention includes the drawing apparatus according to the present invention described above, and draws the image by exposure on at least the regular workpiece.

これにより、ワークの搬送に伴う蛇行やピッチング振動等による描画位置のずれを高精度に計測し、その計測結果を描画画像に論理的に反映させて、前記蛇行やピッチング振動等による露光位置のずれを解消することができ、ワークへの画像描画や露光を高精度、且つ、低コストで行うことができる。   As a result, the displacement of the drawing position due to meandering or pitching vibration accompanying the conveyance of the workpiece is measured with high accuracy, and the measurement result is logically reflected in the drawn image, and the deviation of the exposure position due to the meandering or pitching vibration or the like. Therefore, image drawing and exposure on the workpiece can be performed with high accuracy and at low cost.

以上説明したように、本発明に係る搬送誤差計測方法及び校正方法によれば、ワークの搬送に伴う蛇行やピッチング振動等による描画位置のずれを高精度に計測することができ、例えばその後のワークへの画像描画や露光を高精度に行わせることができる。   As described above, according to the conveyance error measuring method and the calibration method according to the present invention, it is possible to measure the deviation of the drawing position due to meandering, pitching vibration, etc. accompanying the conveyance of the workpiece with high accuracy, for example, the subsequent workpiece It is possible to perform image drawing and exposure with high accuracy.

また、本発明に係る描画方法、露光描画方法、描画装置及び露光描画装置によれば、ワークの搬送に伴う蛇行やピッチング振動等による描画位置のずれを高精度に計測し、その計測結果を描画画像に論理的に反映させて、前記蛇行やピッチング振動等による露光位置のずれを解消することができ、ワークへの画像描画や露光を高精度、且つ、低コストで行うことができる。   Moreover, according to the drawing method, the exposure drawing method, the drawing apparatus, and the exposure drawing apparatus according to the present invention, the drawing position shift due to meandering or pitching vibration accompanying the conveyance of the workpiece is measured with high accuracy, and the measurement result is drawn. By logically reflecting it on the image, it is possible to eliminate the shift of the exposure position due to the meandering, pitching vibration, etc., and it is possible to perform image drawing and exposure on the work with high accuracy and at low cost.

以下、本発明に係る搬送誤差計測方法、校正方法、描画方法、露光描画方法、描画装置及び露光描画装置を例えばDMDを有するデジタル露光装置に適用した実施の形態例を図1〜図25を参照しながら説明する。   Hereinafter, referring to FIGS. 1 to 25, embodiments of the present invention in which a transport error measuring method, calibration method, drawing method, exposure drawing method, drawing apparatus, and exposure drawing apparatus according to the present invention are applied to a digital exposure apparatus having a DMD, for example. While explaining.

本実施の形態に係る露光装置10は、図1に示すように、例えば6つの脚部12により支持される長方形状の定盤(基台)14と、該定盤14上に配設される2本のガイドレール16a、16bに沿って矢印A、B方向に移動可能な移動ステージ18と、定盤14上に配設されるコラム20a、20bと、コラム20a、20b間に固定されるスキャナ定盤22と、該スキャナ定盤22に位置決め固定される8組の露光ヘッド24a〜24hと、コラム20a、20b間に固定されるカメラ定盤26と、該カメラ定盤26に位置決め固定される2台のアライメントカメラ28a、28b(CCDカメラ等)とから基本的に構成される。少なくとも2つのコラム20a、20bとスキャナ定盤22にて門型のヘッド保持構成体30が構成される。   As shown in FIG. 1, the exposure apparatus 10 according to the present embodiment is arranged on a rectangular surface plate (base) 14 supported by, for example, six legs 12 and the surface plate 14. A movable stage 18 movable in the directions of arrows A and B along the two guide rails 16a and 16b, columns 20a and 20b disposed on the surface plate 14, and a scanner fixed between the columns 20a and 20b. A surface plate 22, eight sets of exposure heads 24a to 24h positioned and fixed to the scanner surface plate 22, a camera surface plate 26 fixed between the columns 20a and 20b, and a position fixed to the camera surface plate 26. It is basically composed of two alignment cameras 28a and 28b (CCD camera or the like). At least two columns 20a and 20b and a scanner surface plate 22 constitute a portal-type head holding structure 30.

移動ステージ18は、定盤14上に配設されたガイドレール16a、16bに沿って移動する移動台座32と、該移動台座32の上面部に昇降機構34を介して配設され、露光対象物であるワーク36を位置決め保持する露光テーブル38とを備える。ワーク36としては、基板、感光材料、プリント基板、表示装置用基板、表示装置用フィルタ等が挙げられる。   The moving stage 18 is provided on a moving pedestal 32 that moves along guide rails 16a and 16b provided on the surface plate 14, and is provided on the upper surface of the moving pedestal 32 via an elevating mechanism 34. And an exposure table 38 for positioning and holding the workpiece 36. Examples of the work 36 include a substrate, a photosensitive material, a printed circuit board, a display device substrate, a display device filter, and the like.

また、図2に示すように、露光装置10を制御する制御ユニット40は、移動ステージ駆動部42を制御して移動ステージ18を移動させると共に、アライメントカメラ28a、28bにより撮影したワーク36のアライメントマークに基づいて画像の記録位置を調整するアライメント部44と、光源ユニット46及び露光ヘッド24a〜24hを制御して、ワーク36に所望の画像パターン(二次元画像の組み合わせ)を露光記録する露光処理部48とを有する。この場合、図3に示すように、2列の千鳥状に配設された各露光ヘッド24a〜24hは、各露光エリア50a〜50hに対して複数の画素からなる二次元画像を同時に記録する。   As shown in FIG. 2, the control unit 40 that controls the exposure apparatus 10 controls the moving stage driving unit 42 to move the moving stage 18, and also aligns the alignment marks of the work 36 photographed by the alignment cameras 28a and 28b. Alignment unit 44 that adjusts the image recording position based on the above, and exposure processing unit that controls light source unit 46 and exposure heads 24a to 24h to expose and record a desired image pattern (a combination of two-dimensional images) on work 36. 48. In this case, as shown in FIG. 3, each of the exposure heads 24a to 24h arranged in a two-row zigzag pattern simultaneously records a two-dimensional image composed of a plurality of pixels in each of the exposure areas 50a to 50h.

図4に示すように、二次元画像の元となる1フレーム分の画像データ52(ワークに描画される1枚の画像データ)は、1つのフレームメモリ54に格納されており、ワーク36への露光描画の際に、制御ユニット40内にある画像分割部56によって、図5に示すように、露光ヘッド24a〜24hの数に合わせて8つに分割されて(8つの画像データ52a〜52h)、それぞれ対応するデータファイル58a〜58hに格納される。そして、各データファイル54a〜54hに格納されている画像データ52a〜52hがそれぞれ対応する露光ヘッド24a〜24hに供給されて、上述したように、ワーク36に二次元画像が描画されることになる。   As shown in FIG. 4, image data 52 (one piece of image data drawn on a work) for one frame that is a source of a two-dimensional image is stored in one frame memory 54, and is sent to the work 36. At the time of exposure drawing, as shown in FIG. 5, the image dividing unit 56 in the control unit 40 divides the image into eight according to the number of exposure heads 24a to 24h (eight image data 52a to 52h). Are stored in the corresponding data files 58a to 58h. Then, the image data 52a to 52h stored in the data files 54a to 54h are respectively supplied to the corresponding exposure heads 24a to 24h, and a two-dimensional image is drawn on the work 36 as described above. .

図2に示すように、移動ステージ18の下部にはリニアエンコーダ60が設けられており、移動ステージ18の移動に伴って、リニアエンコーダ60からパルスPiが出力され、このパルスPiにより移動ステージ18のガイドレール16a、16bに沿った位置情報及び走査速度が検出可能となっている。   As shown in FIG. 2, a linear encoder 60 is provided below the moving stage 18, and a pulse Pi is output from the linear encoder 60 as the moving stage 18 moves. Position information and scanning speed along the guide rails 16a and 16b can be detected.

リニアエンコーダ60は、移動ステージ18が所定量(例えば、0.1μm)移動する毎にパルスPiを出力するようになっている。なお、制御ユニット40での調整分解能を上げるため、図6Aに示すように、0.1μmピッチのパルスを2逓倍し、0.05μmピッチのパルスPiとして出力するようにしてもよい。   The linear encoder 60 outputs a pulse Pi every time the moving stage 18 moves by a predetermined amount (for example, 0.1 μm). In order to increase the adjustment resolution in the control unit 40, as shown in FIG. 6A, a pulse having a pitch of 0.1 μm may be doubled and output as a pulse Pi having a pitch of 0.05 μm.

また、露光処理部48は、移動ステージ18の移動によって検出されるリニアエンコーダ60からのパルスPiを例えば40パルス分ずつカウントしてタイミングパルスPtとする。このタイミングパルスPtは露光ヘッド24a〜24hから光ビームが照射されるタイミングとなっている。つまり、タイミングパルスPtは、光照射タイミングでもある。従って、このタイミングパルスPtは、図6Bに示すように、2.0μm移動する毎に1回出力されこととなる。   Further, the exposure processing unit 48 counts, for example, 40 pulses of the pulse Pi from the linear encoder 60 detected by the movement of the moving stage 18 to obtain a timing pulse Pt. This timing pulse Pt is a timing at which a light beam is irradiated from the exposure heads 24a to 24h. That is, the timing pulse Pt is also a light irradiation timing. Therefore, the timing pulse Pt is output once every 2.0 μm as shown in FIG. 6B.

図7に示すように、露光ヘッド24a〜24hには、例えば光源ユニット46を構成する複数の半導体レーザから出力されたレーザビームLaが合波され、光ファイバ62を介して導入される。レーザビームLaが導入された光ファイバ62の出射端には、ロッドレンズ64、反射ミラー66及びデジタル・マイクロミラー・デバイス(DMD)68が順に配列される。DMD68は、レーザビームLaを反射する多数のマイクロミラーを備えた空間光変調素子であり、制御ユニット40からの駆動信号により各マイクロミラーが画像情報に応じて駆動制御される。   As shown in FIG. 7, for example, laser beams La output from a plurality of semiconductor lasers constituting the light source unit 46 are combined and introduced into the exposure heads 24 a to 24 h via the optical fiber 62. A rod lens 64, a reflection mirror 66, and a digital micromirror device (DMD) 68 are arranged in order at the exit end of the optical fiber 62 into which the laser beam La is introduced. The DMD 68 is a spatial light modulation element including a number of micromirrors that reflect the laser beam La, and each micromirror is driven and controlled in accordance with image information by a drive signal from the control unit 40.

DMD68によるレーザビームLaの反射側には、拡大光学系である第1結像光学レンズ70、72、DMD68の各マイクロミラーに対応して多数のレンズを配設したマイクロレンズアレー74、等倍光学系である第2結像光学レンズ76、78及び焦点微調整機構であるプリズムペア80が順に配列される。なお、マイクロレンズアレー74の前後には、迷光を除去すると共に、レーザビームLaを所定の径に調整するためのマイクロアパーチャアレー82、84が配設される。つまり、露光ヘッド24a〜24hは、ドット単位で制御され、ワーク36に対してドットパターンを露光する。この実施の形態では、複数のドットパターンを用いて1画素の濃度を表現するようになっている。   On the reflection side of the laser beam La by the DMD 68, the first imaging optical lenses 70 and 72 that are the magnifying optical system, the micro lens array 74 in which a large number of lenses are arranged corresponding to each micro mirror of the DMD 68, and 1 × optical The second imaging optical lenses 76 and 78 as a system and the prism pair 80 as a focus fine adjustment mechanism are sequentially arranged. Before and after the microlens array 74, microaperture arrays 82 and 84 are provided for removing stray light and adjusting the laser beam La to a predetermined diameter. That is, the exposure heads 24 a to 24 h are controlled in units of dots and expose the dot pattern to the work 36. In this embodiment, the density of one pixel is expressed using a plurality of dot patterns.

また、図3及び図8Bに示すように、複数の露光ヘッド24a〜24hは、m行n列(例えば、2行4列)の略マトリックス状に配列されており、これら複数の露光ヘッド24a〜24hが移動ステージ18の移動方向(以下、ステージ移動方向という)と直交する方向に配列される。本実施の形態では、ワーク36の幅との関係で、2行で合計8個の露光ヘッドとした。また、移動ステージ18の移動に伴って露光ヘッド24a〜24hが相対的に反対方向に移動することになるが、この方向を走査方向とする。   Further, as shown in FIGS. 3 and 8B, the plurality of exposure heads 24a to 24h are arranged in a substantially matrix form of m rows and n columns (for example, 2 rows and 4 columns), and the plurality of exposure heads 24a to 24h. 24h are arranged in a direction orthogonal to the moving direction of the moving stage 18 (hereinafter referred to as the stage moving direction). In the present embodiment, a total of eight exposure heads are provided in two rows in relation to the width of the work 36. Further, as the moving stage 18 moves, the exposure heads 24a to 24h relatively move in the opposite direction, and this direction is set as the scanning direction.

ここで、1つの露光ヘッド(例えば24h)による露光エリア50hは、ステージ移動方向を短辺とする矩形状で、且つ、走査方向に対して所定の傾斜角で傾斜しており、移動ステージ18の移動に伴い、ワーク36には露光ヘッド24a〜24h毎に帯状の露光済み領域が形成される(図8A参照)。   Here, the exposure area 50h by one exposure head (for example, 24h) has a rectangular shape whose short side is the stage moving direction and is inclined at a predetermined inclination angle with respect to the scanning direction. Along with the movement, a strip-shaped exposed region is formed on the work 36 for each of the exposure heads 24a to 24h (see FIG. 8A).

上述した露光ヘッド24a〜24hは、例えば図9に示すように、二次元配列(例えば4×5)された20個のドットによって形成される。   The exposure heads 24a to 24h described above are formed by 20 dots that are two-dimensionally arranged (for example, 4 × 5) as shown in FIG.

また、二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶ各ドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、実質的なドット間ピッチを狭めることができ、高解像度化を図ることができる。特に、この実施の形態では、フレームメモリ54に記録されている各行の画像データを8個の露光ヘッド24a〜24hに設けられた全てのドットあるいは一部のドットで描画するようになっている。つまり、例えば8個の露光ヘッド24a〜24hの全てのドットで1行ずつ画像データを描画していく形式となっている。   In addition, the two-dimensional dot pattern is inclined with respect to the scanning direction so that each dot arranged in the scanning direction passes between dots arranged in the direction intersecting the scanning direction. The pitch between dots can be narrowed, and high resolution can be achieved. In particular, in this embodiment, the image data of each row recorded in the frame memory 54 is drawn with all or some of the dots provided in the eight exposure heads 24a to 24h. That is, for example, the image data is drawn line by line with all the dots of the eight exposure heads 24a to 24h.

ここで、簡単に、実施の形態に係る露光装置10の動作について図1等を参照しながら説明する。   Here, the operation of the exposure apparatus 10 according to the embodiment will be briefly described with reference to FIG.

先ず、制御ユニット40は、移動ステージ駆動部42(図2参照)を制御し、ワーク36が位置決め固定された移動ステージ18を、定盤14のガイドレール16a、16bに沿って矢印A方向に移動させる。移動ステージ18がコラム20a、20b間を通過する際、カメラ定盤26に固定されたアライメントカメラ28a、28bは、ワーク36の所定位置に予め記録されているアライメントマーク(図示せず)を撮影する。   First, the control unit 40 controls the moving stage drive unit 42 (see FIG. 2) to move the moving stage 18 on which the workpiece 36 is positioned and fixed in the direction of arrow A along the guide rails 16a and 16b of the surface plate 14. Let When the moving stage 18 passes between the columns 20a and 20b, the alignment cameras 28a and 28b fixed to the camera surface plate 26 photograph an alignment mark (not shown) recorded in advance at a predetermined position of the work 36. .

制御ユニット40は、撮影したアライメントマークの画像から、ワーク36の位置ずれや変形等を検出し、ワーク36に記録する画像情報に対する補正データを作成する。また、制御ユニット40は、移動ステージ18を構成する昇降機構34を駆動して露光テーブル38を昇降させると共に、露光ヘッド24a〜24hを構成するプリズムペア80(図7参照)を制御し、露光ヘッド24a〜24hに対するワーク36の焦点調整処理を行う。   The control unit 40 detects a positional deviation or deformation of the workpiece 36 from the photographed alignment mark image, and creates correction data for image information recorded on the workpiece 36. Further, the control unit 40 drives the elevating mechanism 34 that constitutes the moving stage 18 to elevate the exposure table 38 and controls the prism pair 80 (see FIG. 7) that constitutes the exposure heads 24a to 24h. The focus adjustment process of the work 36 is performed for 24a to 24h.

次に、移動ステージ18は、矢印B方向に移動し、露光ヘッド24a〜24hによる二次元画像パターン(単に、画像パターンと記す)の記録処理が行われる。すなわち、光源ユニット46から出力されたレーザビームLaは、光ファイバ62を介して各露光ヘッド24a〜24hに導かれる。レーザビームLaは、ロッドレンズ64から反射ミラー66を介してDMD68に入射する。DMD68に入射したレーザビームLaは、画像データ52の情報に応じて制御された複数のマイクロミラーにより選択的に反射され、第1結像光学レンズ70、72により拡大された後、マイクロアパーチャアレー82を介してマイクロレンズアレー74に導かれる。マイクロレンズアレー74は、各レーザビームLaを第2結像光学レンズ76、78及びプリズムペア80を介してワーク36上に結像する。   Next, the moving stage 18 moves in the direction of arrow B, and recording processing of a two-dimensional image pattern (simply referred to as an image pattern) is performed by the exposure heads 24a to 24h. That is, the laser beam La output from the light source unit 46 is guided to the exposure heads 24 a to 24 h via the optical fiber 62. The laser beam La enters the DMD 68 from the rod lens 64 via the reflection mirror 66. The laser beam La incident on the DMD 68 is selectively reflected by a plurality of micromirrors controlled according to the information of the image data 52, magnified by the first imaging optical lenses 70 and 72, and then the microaperture array 82. Through the microlens array 74. The microlens array 74 forms an image of each laser beam La on the work 36 via the second imaging optical lenses 76 and 78 and the prism pair 80.

ここで、制御ユニット40における露光処理部48での描画タイミングについて簡単に説明する。露光処理部48は、図2に示すように、パルス計数回路86と、レジスタ88と、タイミング発生回路90とを有する。そして、露光処理が開始されると、露光処理部48において、移動ステージ18の移動に伴って検出されるリニアエンコーダ60からのパルスPiに基づいてタイミングパルスPtの出力タイミングが演算される。この演算は、パルス計数回路86において、リニアエンコーダ60からのパルスPiを計数し、レジスタ88に格納されている計数値(例えば40パルス)と一致した時点で、タイミング発生回路90を活性させて該タイミング発生回路90からタイミングパルスPtを出力させる。このタイミングパルスPtの出力タイミングに同期して、DMD68にレーザ光Laが照射され、DMD68のマイクロミラーがオン状態のときに反射されたレーザ光が光学系を介してワーク36へと案内され、このワーク36上に結像される。   Here, the drawing timing in the exposure processing unit 48 in the control unit 40 will be briefly described. As illustrated in FIG. 2, the exposure processing unit 48 includes a pulse counting circuit 86, a register 88, and a timing generation circuit 90. When the exposure process is started, the exposure processing unit 48 calculates the output timing of the timing pulse Pt based on the pulse Pi from the linear encoder 60 detected as the moving stage 18 moves. In this calculation, the pulse counting circuit 86 counts the pulse Pi from the linear encoder 60 and activates the timing generation circuit 90 when the pulse Pi matches the count value (for example, 40 pulses) stored in the register 88. A timing pulse Pt is output from the timing generation circuit 90. In synchronization with the output timing of the timing pulse Pt, the laser beam La is irradiated onto the DMD 68, and the laser beam reflected when the micromirror of the DMD 68 is in the on state is guided to the work 36 through the optical system. An image is formed on the work 36.

ところで、移動ステージ18には、移動に伴って蛇行やピッチング振動等が発生し、移動ステージ18に位置ずれが生じるため、移動ステージ18上のワーク36に露光される画像に歪みが生じるという問題がある。   By the way, meandering, pitching vibration, and the like are generated in the moving stage 18 as the moving stage occurs, and the moving stage 18 is displaced. Therefore, there is a problem that the image exposed to the work 36 on the moving stage 18 is distorted. is there.

そこで、本実施の形態に係る露光装置10における制御ユニット40は、以下に示すソフトウェア及び/又はハードウェアによる機能部を有する。   Therefore, the control unit 40 in the exposure apparatus 10 according to the present embodiment has a functional unit using software and / or hardware described below.

すなわち、図2に示すように、制御ユニット40は、第1の搬送部100、第1の描画部102、計測部104、補正部106、第2の搬送部108、第2の描画部110とを有する。これらの構成並びに機能について図10のフローチャート並びに図11〜図25も参照しながら説明する。   That is, as shown in FIG. 2, the control unit 40 includes a first transport unit 100, a first drawing unit 102, a measurement unit 104, a correction unit 106, a second transport unit 108, and a second drawing unit 110. Have These configurations and functions will be described with reference to the flowchart of FIG. 10 and FIGS.

第1の搬送部100は、アライメント部44を制御して、計測に用いるワーク(以下、計測用ワーク36aと記す)が保持された移動ステージ18を露光ヘッド24a〜24hに対して相対的に搬送させる。計測用ワーク36aは、上述したワーク36(計測用ワークと区別するために正規のワーク36という。)と同様の材料でもよいし、ガラス基板に感光材料が塗布されたものでもよい。   The first transport unit 100 controls the alignment unit 44 to transport the moving stage 18 holding a work used for measurement (hereinafter referred to as a measurement work 36a) relative to the exposure heads 24a to 24h. Let The measurement workpiece 36a may be the same material as the above-described workpiece 36 (referred to as a regular workpiece 36 to distinguish it from the measurement workpiece), or may be a glass substrate coated with a photosensitive material.

第1の描画部102は、露光処理部48を制御して、計測用ワーク36aに対して複数のテストパターン画像112(図11A〜図11D参照)を露光ヘッド24a〜24hによって連続的に描画する。もちろん、複数のテストパターン画像112を複数回に分割して描画するようにしてもよい。   The first drawing unit 102 controls the exposure processing unit 48 to continuously draw a plurality of test pattern images 112 (see FIGS. 11A to 11D) on the measurement workpiece 36a by the exposure heads 24a to 24h. . Of course, a plurality of test pattern images 112 may be divided and rendered a plurality of times.

具体的には、第1の搬送部100は、図10のステップS1において、計測用ワーク36aを保持した移動ステージ18をリニアモータ(図示せず)の駆動力により、定盤14のガイドレール16a、16bに沿って一方向(図1のA方向)に一定速度で移動する(往路移動)。この往路移動の際に、計測用ワーク36aに形成されているアライメントマークが検出される。このアライメントマークは、予め記憶されたマークと照合され、その位置関係に基づいて露光ヘッド24a〜24hによる露光開始時期が補正される。   Specifically, in step S1 of FIG. 10, the first transport unit 100 moves the moving stage 18 holding the measurement workpiece 36a by the driving force of a linear motor (not shown) to guide rails 16a of the surface plate 14. , 16b along one direction (direction A in FIG. 1) at a constant speed (outward movement). During the forward movement, the alignment mark formed on the measurement workpiece 36a is detected. This alignment mark is collated with a mark stored in advance, and the exposure start timing by the exposure heads 24a to 24h is corrected based on the positional relationship.

また、第1の搬送部100は、移動ステージ18が往路端まで至った段階で、移動ステージ18を今度は前記一方向とは逆方向(図1のB方向)に一定速度で移動する(復路移動)。そして、図10のステップS2において、第1の描画部102は、移動ステージ18の復路移動中に、露光処理部48を制御して計測用ワーク36aへのテストパターン画像112の描画処理を開始する。   In addition, the first transport unit 100 moves the moving stage 18 at a constant speed in a direction opposite to the one direction (direction B in FIG. 1) when the moving stage 18 reaches the end of the forward path. Move). In step S2 of FIG. 10, the first drawing unit 102 starts the drawing process of the test pattern image 112 on the measurement workpiece 36a by controlling the exposure processing unit 48 during the backward movement of the moving stage 18. .

テストパターン画像112としては、例えば図11Aに示すように、円形の画像112aや、図11Bに示すように、複数の縦線が配列された画像112bや、図11Cに示すように、複数の横線が配列された画像112cや、図11Dに示すように、複数の縦線と横線が配列された画像112d等がある。この中でも、円形の画像112aは、その重心位置(中心位置)を計測するのが容易であり、基準位置からどの程度ずれているかを例えば三次元測定器やCCDカメラ等を用いて容易に計測できるため、好ましい。これらのテストパターン画像112は、1つの露光ヘッド(24a〜24hのいずれか1つ)で描画するようにしてもよいし、複数の露光ヘッド(24a〜24hのいずれか)で描画するようにしてもよい。また、1つの露光ヘッド(24a〜24hのいずれか1つ)の一部の領域における画素にて描画するようにしてもよい。   Examples of the test pattern image 112 include a circular image 112a as shown in FIG. 11A, an image 112b in which a plurality of vertical lines are arranged as shown in FIG. 11B, and a plurality of horizontal lines as shown in FIG. 11C. And an image 112d in which a plurality of vertical lines and horizontal lines are arranged, as shown in FIG. 11D. Among these, it is easy to measure the center of gravity (center position) of the circular image 112a, and the degree of deviation from the reference position can be easily measured using, for example, a three-dimensional measuring device or a CCD camera. Therefore, it is preferable. These test pattern images 112 may be drawn with one exposure head (any one of 24a to 24h) or drawn with a plurality of exposure heads (any one of 24a to 24h). Also good. Moreover, you may make it draw with the pixel in the one part area | region of one exposure head (any one of 24a-24h).

さらに、本実施の形態で用いられる露光ヘッド24a〜24hは、上述したように、走査方向に対して傾斜させることで、多重露光を実現させることができる。すなわち、図12Aに示すように、露光ヘッド24a〜24hを走査方向に対してある程度の傾斜角をもたせた場合、図12Bに示すように、各ドットは全て異なる位置を描画し、これによって、例えば1つの線分が描画されることになる(いわゆる1重描画)。一方、図13Aに示すように、露光ヘッド24a〜24hを図12Aの場合よりもさらに傾斜させると、図13Bに示すように、多数のドットで同一位置を描画でき、重ね書きが実現できる(いわゆる多重描画)。図13Bの例では、区間114で示す部分が2重描画となっている。   Furthermore, as described above, the exposure heads 24a to 24h used in the present embodiment can realize multiple exposure by being inclined with respect to the scanning direction. That is, as shown in FIG. 12A, when the exposure heads 24a to 24h are provided with a certain inclination angle with respect to the scanning direction, as shown in FIG. 12B, each dot is drawn at a different position. One line segment is drawn (so-called single drawing). On the other hand, as shown in FIG. 13A, when the exposure heads 24a to 24h are further inclined than in the case of FIG. 12A, the same position can be drawn with a large number of dots as shown in FIG. Multiple drawing). In the example of FIG. 13B, the portion indicated by the section 114 is double-drawn.

この多重描画によれば、各ドットの光強度分布にばらつきがあっても(欠陥も含む)、多重に描画することで、光強度分布を平均化することができ、例えば図11Aに示すような円形の画像112aを高精度に描画することができ、その後の計測が容易になる。   According to this multiple drawing, even if there is a variation in the light intensity distribution of each dot (including defects), the light intensity distribution can be averaged by drawing multiple times. For example, as shown in FIG. 11A The circular image 112a can be drawn with high accuracy, and subsequent measurement becomes easy.

そして、このテストパターン画像112の描画に当たっては、移動ステージ18の移動に伴って出力されるリニアエンコーダ60からのパルスPiを計数して、所定計数値となるたびに、テストパターン画像112を描画する。テストパターン画像112の配列ピッチは10mmや50mm等が採用される。これにより、例えば図11Aに示すように、計測用ワーク36aには、複数のテストパターン画像112が走査方向に沿う形で描画されることになる。もちろん、テストパターン画像112の配列ピッチとして1mm等を採用して、帯状のテストパターン画像を形成するようにしてもよい。   When the test pattern image 112 is drawn, the pulse Pi from the linear encoder 60 output as the moving stage 18 is moved is counted, and the test pattern image 112 is drawn every time a predetermined count value is reached. . The arrangement pitch of the test pattern image 112 is 10 mm, 50 mm, or the like. As a result, for example, as shown in FIG. 11A, a plurality of test pattern images 112 are drawn on the measurement work 36a along the scanning direction. Of course, a 1 mm or the like may be adopted as the arrangement pitch of the test pattern images 112 to form a strip-shaped test pattern image.

そして、第1の描画部102によって、計測用ワーク36aに複数のテストパターン画像112を描画していく段階において、移動ステージ18の移動に伴って移動ステージ18に蛇行が発生し、また、移動ステージ18にピッチング振動が発生して、移動ステージ18に位置ずれが生じることとなる。さらに、移動ステージ18にはヨーイング動作(移動ステージ18の移動方向への動作)に起因して、各位置に微妙に異なる蛇行動作が発生したり、各位置に微妙に異なるピッチング振動が発生することとなる。   When the first drawing unit 102 draws a plurality of test pattern images 112 on the measurement workpiece 36a, meandering occurs in the moving stage 18 as the moving stage 18 moves, and the moving stage As a result, pitching vibration is generated in 18 and a displacement occurs in the moving stage 18. Further, due to the yawing operation (movement of the moving stage 18 in the moving direction), a slightly different meandering operation occurs at each position or a slightly different pitching vibration occurs at each position. It becomes.

その結果、図11Aに示すように、第1の基準位置(テストパターン画像112の理想的な配列ピッチを基準にした位置であって、走査方向と直交する方向における基準位置:参照符号116で示す線)から左側あるいは右側にずれ、さらに、第2の基準位置(走査方向における基準位置:参照符号118で示す線)から上側(搬送方向上流側)あるいは下側(搬送方向下流側)にずれることとなる。例えば第1の基準位置116は、任意の位置を選択することができるが、その後の三次元測定器等で容易に計測できる位置が好ましい。また、第2の基準位置118は、第1の基準位置116上であって、かつ、テストパターン画像112の理想的な配列ピッチと同一の配列ピッチに位置されている。そして、テストパターン画像112はこれら第1の基準位置116及び第2の基準位置118の交点(便宜的に絶対基準120と記す)を目標に描画されることとなる。   As a result, as shown in FIG. 11A, the first reference position (the position based on the ideal arrangement pitch of the test pattern image 112, and the reference position in the direction orthogonal to the scanning direction: indicated by reference numeral 116. Line) to the left or right side, and further to the second reference position (reference position in the scanning direction: a line indicated by reference numeral 118) to the upper side (upstream in the transport direction) or the lower side (downstream in the transport direction). It becomes. For example, as the first reference position 116, an arbitrary position can be selected, but a position that can be easily measured by a subsequent three-dimensional measuring instrument or the like is preferable. The second reference position 118 is located on the first reference position 116 and at the same arrangement pitch as the ideal arrangement pitch of the test pattern image 112. Then, the test pattern image 112 is drawn with an intersection point (denoted as an absolute reference 120 for convenience) of the first reference position 116 and the second reference position 118 as a target.

そして、図10のステップS3において、計測部104は、計測用ワーク36aに描画された複数のテストパターン画像112の描画状態に基づいて少なくとも計測用ワーク36aの相対的な搬送誤差を計測する。この計測に当たっては、移動ステージ18上に保持されている計測用ワーク36aを例えばアライメントカメラ28a、28bにて撮影してテストパターン画像112の位置を計測するほか、テストパターン画像112の描画を終えた計測用ワーク36aを移動ステージ18に保持したまま、あるいは、移動ステージ18から取り外して別の計測用設備に運搬し、三次元測定器等を用いて精密にテストパターン画像112の位置を計測すること等がある。アライメントカメラ28a、28bによる撮影結果や三次元測定器による計測結果は、撮像データとしてあるいはオペレータによる数値入力等によって計測部104に供給される。   In step S3 in FIG. 10, the measurement unit 104 measures at least a relative conveyance error of the measurement workpiece 36a based on the drawing state of the plurality of test pattern images 112 drawn on the measurement workpiece 36a. In this measurement, the measurement workpiece 36a held on the moving stage 18 is photographed by, for example, the alignment cameras 28a and 28b to measure the position of the test pattern image 112, and the drawing of the test pattern image 112 is finished. The measurement workpiece 36a is held on the moving stage 18, or removed from the moving stage 18 and transported to another measuring equipment, and the position of the test pattern image 112 is accurately measured using a three-dimensional measuring instrument or the like. Etc. The imaging results obtained by the alignment cameras 28a and 28b and the measurement results obtained by the three-dimensional measuring device are supplied to the measuring unit 104 as imaging data or by numerical input by an operator.

計測部104は、図10のステップS4において、計測結果から各ずれ量を計算して対応するデータファイルに格納する。   In step S4 of FIG. 10, the measurement unit 104 calculates each shift amount from the measurement result and stores it in the corresponding data file.

すなわち、アライメントカメラ28a、28bによる撮影結果(撮像データ)や三次元測定器による計測結果(数値データ)に基づいて、各テストパターン画像112の中心位置の第1の基準位置116からのずれ量(走査方向と直交する方向のずれ量:第1のずれ量124a)を計算して、第1のデータファイル122a(図2参照)に格納し、各テストパターン画像112の中心位置のそれぞれ対応する第2の基準位置118からのずれ量(走査方向のずれ量:第2のずれ量124b)を計算して、第2のデータファイル118bに格納する。   That is, based on the imaging results (imaging data) by the alignment cameras 28a and 28b and the measurement results (numerical data) by the three-dimensional measuring device, the amount of deviation from the first reference position 116 of the center position of each test pattern image 112 ( A deviation amount in a direction orthogonal to the scanning direction: a first deviation amount 124a) is calculated and stored in the first data file 122a (see FIG. 2), and the first position corresponding to the center position of each test pattern image 112 is calculated. 2 is calculated from the reference position 118 (a shift amount in the scanning direction: a second shift amount 124b) and stored in the second data file 118b.

また、計測部104は、これらの計算結果に基づいて、図14に示すように、テストパターン画像112の描画位置を結んだ包絡線126のデータを計算し、この包絡線126と絶対基準120とのずれ量、特に、走査方向と直交する方向に沿ったずれ量(第3のずれ量124c)を計算して、第3のデータファイル122cに格納する。   Further, based on these calculation results, the measurement unit 104 calculates the data of the envelope 126 connecting the drawing positions of the test pattern image 112 as shown in FIG. 14, and the envelope 126 and the absolute reference 120 are calculated. Shift amount, in particular, a shift amount along the direction orthogonal to the scanning direction (third shift amount 124c) is calculated and stored in the third data file 122c.

なお、上述の例では、移動ステージ18の移動に伴ってピッチング振動を生じることを前提にしているが、移動ステージ18の機構によっては、ピッチング振動が生じない場合もある。つまり、光照射のタイミングをずらす必要がない場合がある。その場合には、計測部104は、第3のデータファイル122cを作成しない。   In the above example, it is assumed that pitching vibration is generated as the moving stage 18 is moved. However, depending on the mechanism of the moving stage 18, the pitching vibration may not be generated. That is, it may not be necessary to shift the timing of light irradiation. In that case, the measurement unit 104 does not create the third data file 122c.

図2に示すように、補正部106は、少なくとも光照射補正部128と蛇行補正部130とを有する。   As shown in FIG. 2, the correction unit 106 includes at least a light irradiation correction unit 128 and a meandering correction unit 130.

図10のステップS5において、光照射補正部128は、第2のデータファイル122bに格納されている各テストパターン画像112毎の第2のずれ量124bに基づいて、光照射タイミングをずらすための情報を計算し、その結果を第1の情報テーブル132aに格納する。すなわち、第1の情報テーブル132aを作成する。   In step S5 of FIG. 10, the light irradiation correction unit 128 is configured to shift the light irradiation timing based on the second shift amount 124b for each test pattern image 112 stored in the second data file 122b. And the result is stored in the first information table 132a. That is, the first information table 132a is created.

ここで、例えば、図15に示すように、1つ目のテストパターン画像(50mmの地点)に+4.5μm(「+」は、100mm地点に向けてずれていることを示す。以下、同様である。)の位置ずれが検出された場合、リニアエンコーダ60からは移動ステージ18が例えば0.05μm移動する毎に2逓倍されたパルスPiが出力されるため、発生した+4.5μmのずれを補正するには、4.5μm/0.05μm=90パルス分を減らす補正を行うことにより、0〜50mm区間の間に生じたずれを補正することができる。また、2つ目のテストパターン画像(100mmの地点)に+5.3μmの位置ずれが検出された場合、1つ目のテストパターン画像から2つ目のテストパターン画像との間(50〜100mm区間)に+5.3μm−4.5μm=+0.8μmずれが大きくなっていることになる。従って、発生した0.8μmのずれを補正するには、0.8μm/0.05μm=16パルス分を減らす補正を行うことにより、50〜100mm区間の間に生じたずれを補正することができる。   Here, for example, as shown in Fig. 15, the first test pattern image (point of 50 mm) indicates that +4.5 µm ("+" is shifted toward the point of 100 mm). Is detected), the linear encoder 60 outputs a pulse Pi multiplied by 2 every time the moving stage 18 moves, for example, 0.05 μm, so that the generated deviation of +4.5 μm is corrected. For this purpose, by performing correction to reduce the amount of 4.5 μm / 0.05 μm = 90 pulses, it is possible to correct the deviation generated during the 0-50 mm interval. In addition, when a displacement of +5.3 μm is detected in the second test pattern image (point of 100 mm), the interval between the first test pattern image and the second test pattern image (50 to 100 mm interval) ) Is +5.3 μm−4.5 μm = + 0.8 μm. Therefore, in order to correct the generated deviation of 0.8 μm, it is possible to correct the deviation generated during the 50 to 100 mm section by performing correction to reduce 0.8 μm / 0.05 μm = 16 pulses. .

以下、同様に、3つ目のテストパターン画像(150mmの地点)に−1.2μmの位置ずれ(「−」は、50mm地点に向けてずれていることを示す。)が検出された場合、2つ目のテストパターン画像から3つ目のテストパターン画像との間(100〜150mm区間)に−1.2μm−5.3μm=−6.5μmずれが大きくなっていることになる。従って、発生した−6.5μmのずれを補正するには、−6.5μm/0.05μm=130パルス分を増やす補正を行うことにより、100〜150mm区間の間に生じたずれを補正することができる。   Similarly, in the case where a position shift of −1.2 μm (“−” indicates a shift toward the 50 mm point) is detected in the third test pattern image (a point of 150 mm), The deviation of −1.2 μm−5.3 μm = −6.5 μm increases between the second test pattern image and the third test pattern image (100 to 150 mm section). Therefore, in order to correct the generated deviation of −6.5 μm, the deviation generated during the interval of 100 to 150 mm is corrected by performing an increase of −6.5 μm / 0.05 μm = 130 pulses. Can do.

そして、光照射補正部128は、上述した手順に従って、第2のデータファイル122bから各テストパターン画像122の第2のずれ量124bを読み出して、各間隔(0〜50mm、50〜100mm、100〜150mm・・・)に対応する補正パルス数を計算して、図16に示すように、第1の情報テーブル132aに格納する。   Then, the light irradiation correction unit 128 reads the second shift amount 124b of each test pattern image 122 from the second data file 122b in accordance with the above-described procedure, and each interval (0 to 50 mm, 50 to 100 mm, 100 to 100). The number of correction pulses corresponding to 150 mm... Is calculated and stored in the first information table 132a as shown in FIG.

次に、図10のステップS6において、蛇行補正部130は、第3のデータファイル122cに格納されている各テストパターン画像112毎の第3のずれ量124cに基づいて、1フレーム分の画像データ(正規のワーク36に描画される1枚の画像データ)を変形するための情報(画像データの変形に関する情報)を計算し、その結果を第2の情報テーブル132b及び第3の情報テーブル132cに格納する。すなわち、第2の情報テーブル132b及び第3の情報テーブル132cを作成する。   Next, in step S6 of FIG. 10, the meandering correction unit 130 stores image data for one frame based on the third shift amount 124c for each test pattern image 112 stored in the third data file 122c. Information for deforming (one piece of image data drawn on the regular work 36) (information on deformation of image data) is calculated, and the result is stored in the second information table 132b and the third information table 132c. Store. That is, the second information table 132b and the third information table 132c are created.

もちろん、ピッチング振動による光照射タイミングのずれを考慮しない場合は、第1の情報テーブル132aに格納されている各テストパターン画像112毎の第1のずれ量124aに基づいて、1フレーム分の画像データを変形するための情報を計算する。   Of course, when the shift of the light irradiation timing due to the pitching vibration is not taken into consideration, the image data for one frame is based on the first shift amount 124a for each test pattern image 112 stored in the first information table 132a. Calculate information for transforming.

ここで2つの情報テーブル132b及び132cを作成する意義について説明すると、図8Bに示すように、8個の露光ヘッド24a〜24hは、2行4列の配列で並んでおり、しかも、1行目の4つの露光ヘッド24a〜24dと2行目の4つの露光ヘッド24e〜24h間には無視できないほどの距離Lが存在している。つまり、1行目の露光ヘッド24a〜24dで描画するタイミングでの移動ステージ18の蛇行量と2行目の露光ヘッド24e〜24hで描画するタイミングでの移動ステージ18の蛇行量が大きく異なる場合があるからである。   Here, the significance of creating the two information tables 132b and 132c will be described. As shown in FIG. 8B, the eight exposure heads 24a to 24h are arranged in an array of 2 rows and 4 columns, and the first row. A distance L that cannot be ignored exists between the four exposure heads 24a to 24d and the four exposure heads 24e to 24h in the second row. That is, the meandering amount of the moving stage 18 at the timing of drawing with the exposure heads 24a to 24d in the first row and the meandering amount of the moving stage 18 at the timing of drawing with the exposure heads 24e to 24h of the second row may be greatly different. Because there is.

そこで、この蛇行補正部130では、1行目の露光ヘッド24a〜24dに対応した画像データの変形に関する情報を第2の情報テーブル132bに格納し、2行目の露光ヘッド24e〜24hに対応した画像データの変形に関する情報を第3の情報テーブル132cに格納する。   In view of this, the meandering correction unit 130 stores information related to the deformation of the image data corresponding to the exposure heads 24a to 24d in the first row in the second information table 132b, and corresponds to the exposure heads 24e to 24h in the second row. Information regarding the deformation of the image data is stored in the third information table 132c.

この画像データの変形には、2つの方式が存在し、第1の方式は、フレームメモリ54に格納されている1フレーム分の画像データ52自体を変形する。フレームメモリ54に記録されている画像データ52は、実際に描画される画像パターンに合わせてドットデータが二次元的に展開された構成を有する。画素データは、描画する画像データ52がモノクロデータ(2階調)であれば、論理的に「1」又は「0」の値であり、描画する画像データ52が2階調よりも多い階調のデータ(多階調)であれば、その最大階調に合わせた深度のビット数が割り当てられる。また、フレームメモリ54の記憶容量、特に、二次元的な広がりは、正規のワーク36に描画される画像データ52の記録範囲よりも広いサイズを有する。フレームメモリ54の記録範囲のうち、画像データ52を除く部分は、初期値(0:露光を行わない論理値)が記録されている。従って、フレームメモリ54から画像データ52を行単位に読み出す場合は、開始行アドレスと開始列アドレスを指定する必要がある。この第1の方式では、開始行アドレスは画像データ52を行単位に読み出すたびに自動更新されるが、開始列アドレスは固定となっている。なお、第1の方式を採用する場合は、画像データ52の変形によってフレームメモリ54上で行単位の画像データがシフトされるため、図4及び図17Aに示すように、予め最大シフト量を見込んで開始列アドレスを決定しておくことが好ましい。   There are two methods for modifying the image data. The first method transforms the image data 52 for one frame stored in the frame memory 54. The image data 52 recorded in the frame memory 54 has a configuration in which dot data is two-dimensionally expanded in accordance with an actually drawn image pattern. If the image data 52 to be drawn is monochrome data (2 gradations), the pixel data has a logical value of “1” or “0”, and the gradation of the image data 52 to be drawn is greater than 2 gradations. Data (multi-gradation), the number of bits having a depth corresponding to the maximum gradation is assigned. Further, the storage capacity of the frame memory 54, particularly the two-dimensional expansion, has a size larger than the recording range of the image data 52 drawn on the regular work 36. Of the recording range of the frame memory 54, the initial value (0: logical value for which exposure is not performed) is recorded in a portion excluding the image data 52. Therefore, when reading the image data 52 from the frame memory 54 in units of rows, it is necessary to specify the start row address and the start column address. In this first method, the start row address is automatically updated every time the image data 52 is read out in units of rows, but the start column address is fixed. When the first method is adopted, the image data in units of rows is shifted on the frame memory 54 due to the deformation of the image data 52. Therefore, as shown in FIGS. 4 and 17A, the maximum shift amount is estimated in advance. It is preferable that the starting column address is determined in advance.

そして、この第1の方式は、図18のステップS101において、第3のデータファイル122cに格納されている各テストパターン画像112毎の第3のずれ量124cを読み出す。続いて、ステップS102において、これら第3のずれ量124cに基づいて、近似計算等を用いて、計測部にて計測された包絡線126(図14参照)を復元する。その後、ステップS103において、画像データ52の行単位のずれ量を計算する。このとき、1行目の露光ヘッド24a〜24dによる画像データ52の行単位のずれ量(第4のずれ量)と、1行目の露光ヘッド24a〜24dから距離Lだけ離れた2行目の露光ヘッド24e〜24hによる画像データ52の行単位のずれ量(第5のずれ量)を計算する。さらに、ステップS104において、各第4のずれ量に基づいて対応する行に関する画素データのシフト方向とシフト量を計算し(図17B参照)、同様に、ステップS105において、各第5のずれ量に基づいて対応する行に関する画素データのシフト方向とシフト量を計算する。図17Bでは、画像データ52をシフトした例を示しているが、この補正処理の段階では、画像データ52のシフトは行わず、その情報(シフト方向とシフト量)を計算するだけである。なお、画素データには符号ビットの概念がないため、シフトした後の空いた画素データには0(露光を行わない画素データを示す)が強制的に格納される。   In the first method, the third shift amount 124c for each test pattern image 112 stored in the third data file 122c is read in step S101 of FIG. Subsequently, in step S102, the envelope 126 (see FIG. 14) measured by the measurement unit is restored using approximate calculation or the like based on the third deviation 124c. Thereafter, in step S103, the shift amount of the image data 52 in units of rows is calculated. At this time, the shift amount (fourth shift amount) of the image data 52 by the first row exposure heads 24a to 24d and the second row separated by the distance L from the first row exposure heads 24a to 24d. A shift amount (fifth shift amount) in units of rows of the image data 52 by the exposure heads 24e to 24h is calculated. Further, in step S104, the shift direction and the shift amount of the pixel data related to the corresponding row are calculated based on each fourth shift amount (see FIG. 17B). Similarly, in step S105, each fifth shift amount is calculated. Based on this, the shift direction and shift amount of the pixel data for the corresponding row are calculated. FIG. 17B shows an example in which the image data 52 is shifted. At this correction processing stage, the image data 52 is not shifted, and only the information (shift direction and shift amount) is calculated. Since pixel data has no concept of a sign bit, 0 (indicating pixel data not subjected to exposure) is forcibly stored in vacant pixel data after shifting.

そして、図18のステップS106において、第4のずれ量に基づいて行単位に計算された各画素データのシフト方向とシフト量が、それぞれ行単位に第2の情報テーブルに格納され(図17C参照)、ステップS107において、第5のずれ量に基づいて行単位に計算された各画素データのシフト方向とシフト量は、それぞれ行単位に第3の情報テーブルに格納される(図17C参照)。   Then, in step S106 of FIG. 18, the shift direction and shift amount of each pixel data calculated for each row based on the fourth shift amount are stored in the second information table for each row (see FIG. 17C). In step S107, the shift direction and shift amount of each pixel data calculated in units of rows based on the fifth shift amount are stored in the third information table in units of rows (see FIG. 17C).

次に、第2の方式について図19及び図20A〜図20Cを参照しながら説明する。この第2の方式では、画像データ52を読み出すための開始列アドレスは、第1の方式のような最大シフト量を考慮する必要がない。従って、図20Aに示すように、初期の開始列アドレスは、画像データ52の開始列アドレスと同じである。   Next, the second method will be described with reference to FIGS. 19 and 20A to 20C. In the second method, the start column address for reading the image data 52 does not need to consider the maximum shift amount as in the first method. Therefore, as shown in FIG. 20A, the initial start column address is the same as the start column address of the image data 52.

先ず、図19のステップS201〜ステップS203において、上述したステップS101〜ステップS103と同様に、1行目の露光ヘッド24a〜24dによる画像データ52の行単位のずれ量(第4のずれ量)と、2行目の露光ヘッド24e〜24hによる画像データ52の行単位のずれ量(第5のずれ量)を計算する。その後、ステップS204において、全ての行のうち、第4のずれ量が最も大きく、且つ、例えば図17Bの例で見たときに左方向にずれている行(アドレス計算上の基準行:図17Bではn行)を特定し、ステップS205において、全ての行のうち、第5のずれ量が最も大きく、且つ、左方向にずれている行(アドレス計算上の基準行)を特定する。その後、ステップS206において、各第4のずれ量に基づいて対応する行に関する開始列アドレスを求める。このとき、ステップS204で特定された行の開始列アドレスを基準とし(図20Aにおける画像データ52の初期の開始列アドレスと同じにする)、他の行の開始列アドレスを対応する第4のずれ量に応じて、図20B上、左方の列を指定するようにする。これは、第5のずれ量に基づく開始列アドレスの特定においても同様である(ステップS207)。このように、読み出す開始列アドレスを行単位に変更することで、仮想的に画素データのシフト操作が行われたこととなる。なお、開始行アドレスは、第1の方式と同様に、行単位に画像データを読み出すたびに自動更新される。   First, in step S201 to step S203 in FIG. 19, similarly to the above-described step S101 to step S103, the shift amount (fourth shift amount) in units of rows of the image data 52 by the exposure heads 24a to 24d of the first row. The shift amount (fifth shift amount) in units of rows of the image data 52 by the exposure heads 24e to 24h in the second row is calculated. Thereafter, in step S204, among all the rows, the fourth shift amount is the largest and is shifted to the left when viewed in the example of FIG. 17B (reference row in address calculation: FIG. 17B). In step S205, the fifth shift amount is the largest and the line shifted in the left direction (reference line in address calculation) is specified in step S205. Thereafter, in step S206, a start column address for the corresponding row is obtained based on each fourth shift amount. At this time, the start column address of the row specified in step S204 is used as a reference (the same as the initial start column address of the image data 52 in FIG. 20A), and the start column address of the other row is set to the corresponding fourth shift. Depending on the amount, the left column in FIG. 20B is designated. The same applies to the specification of the start column address based on the fifth shift amount (step S207). As described above, the pixel data shift operation is virtually performed by changing the readout start column address in units of rows. Note that the start row address is automatically updated every time image data is read out in units of rows, as in the first method.

そして、ステップS208において、第4のずれ量に基づいて行単位に計算された開始列アドレスは、それぞれ行単位に第2の情報テーブル132bに格納され(図20C参照)、ステップS209において、第5のずれ量に基づいて行単位に計算された開始列アドレスは、それぞれ行単位に第3の情報テーブル132cに格納される(図20C参照)。   In step S208, the start column address calculated for each row based on the fourth shift amount is stored in the second information table 132b for each row (see FIG. 20C). The start column address calculated for each row based on the shift amount is stored in the third information table 132c for each row (see FIG. 20C).

次に、第2の搬送部108及び第2の描画部110の構成及び処理動作について説明する。   Next, configurations and processing operations of the second transport unit 108 and the second drawing unit 110 will be described.

先ず、第2の搬送部108は、計測用ワーク36aに代えて正規のワーク36が保持された移動ステージ18を露光ヘッド24a〜24hに対して相対的に搬送させる。   First, the second transport unit 108 transports the moving stage 18 holding the regular work 36 in place of the measurement work 36a relative to the exposure heads 24a to 24h.

第2の描画部110は、搬送中の正規のワーク36に対して、描画すべき画像データ52を前記補正部106にて作成された少なくとも第1〜第3の情報テーブル132a〜132cに基づいて描画する。   The second drawing unit 110 generates image data 52 to be drawn on the regular work 36 being conveyed based on at least the first to third information tables 132 a to 132 c created by the correction unit 106. draw.

具体的には、第2の搬送部108は、図10のステップS7において、第1の搬送部100と同様に、正規のワーク36を保持した移動ステージ18をリニアモータ(図示せず)の駆動力により、定盤14のガイドレール16a、16bに沿って一方向(図1のA方向)に一定速度で移動する(往路移動)。この往路移動の際に、正規のワーク36に形成されているアライメントマークが検出される。このアライメントマークは、予め記憶されたマークと照合され、その位置関係に基づいて露光ヘッド24a〜24hによる露光開始時期が補正される。   Specifically, the second transport unit 108 drives a linear motor (not shown) on the moving stage 18 holding the regular work 36 in the same manner as the first transport unit 100 in step S7 of FIG. It moves at a constant speed in one direction (direction A in FIG. 1) along the guide rails 16a and 16b of the surface plate 14 by the force (outward movement). During this forward movement, the alignment mark formed on the regular workpiece 36 is detected. This alignment mark is collated with a mark stored in advance, and the exposure start timing by the exposure heads 24a to 24h is corrected based on the positional relationship.

また、第2の搬送部108は、移動ステージ18が往路端まで至った段階で、移動ステージ18を今度は前記一方向とは逆方向(図1のB方向)に一定速度で移動する(復路移動)。そして、図10のステップS8において、第2の描画部110は、この復路移動中に、正規のワーク36への画像の描画処理を開始する。   In addition, when the moving stage 18 reaches the forward path end, the second transport unit 108 moves the moving stage 18 in a direction opposite to the one direction (direction B in FIG. 1) at a constant speed (return path). Move). Then, in step S8 of FIG. 10, the second drawing unit 110 starts drawing the image on the regular work 36 during the return path movement.

このステップS8での第2の描画部110による描画処理は、画像データの読出し処理(ステップS8a)、描画タイミングの変更処理(ステップS8b)及び描画処理(ステップS8c)が行われる。   In the drawing process by the second drawing unit 110 in step S8, an image data reading process (step S8a), a drawing timing changing process (step S8b), and a drawing process (step S8c) are performed.

ここで、ステップS8aでの画像データ読出し処理について図21を参照しながら説明する。   Here, the image data reading process in step S8a will be described with reference to FIG.

先ず、蛇行補正部130での2つの方式に応じて異なった処理を行う。すなわち、第1の方式を採用する場合は、図21のステップS301において、1行目の露光ヘッド24a〜24dに対する画像データ52のシフト処理を行う。具体的には、第2の情報テーブル132bから行単位に各画素データのシフト方向とシフト量を読み出して、図17Bに示すように、フレームメモリ54に格納されている画像データ52の対応する行の画素データをシフトする。もちろん、画素データのシフトを行わない行も存在する。そして、全ての行についてのシフト操作を行った後、次のステップS302において、第2の描画部110は、画像分割部56に対して初期の開始行アドレスと固定の開始列アドレスを与える。画像分割部56は、フレームメモリ54に格納されている画像データ52を行単位に読み出す。開始行アドレスは上述したように自動更新される。従って、各行単位の画像データ52は、与えられた固定の開始列アドレスから読み出されることになる。行単位に読み出された画像データは、各露光ヘッド24a〜24hに対応して8つの画像データ52a〜52hに分割されて、そのうち、1行目の露光ヘッド24a〜24dに対応する4つの画像データ52a〜52dがそれぞれ対応する4つのデータファイル58a〜58dに格納される。この操作は全ての行について行われる。   First, different processes are performed according to the two methods in the meandering correction unit 130. That is, when the first method is adopted, the image data 52 is shifted with respect to the exposure heads 24a to 24d in the first row in step S301 in FIG. Specifically, the shift direction and shift amount of each pixel data are read out from the second information table 132b in units of rows, and the corresponding rows of the image data 52 stored in the frame memory 54 are read as shown in FIG. 17B. Shift the pixel data. Of course, there are also rows where pixel data is not shifted. Then, after performing the shift operation for all the rows, in the next step S302, the second drawing unit 110 gives an initial start row address and a fixed start column address to the image dividing unit 56. The image dividing unit 56 reads the image data 52 stored in the frame memory 54 in units of rows. The starting row address is automatically updated as described above. Accordingly, the image data 52 for each row is read from the given fixed start column address. The image data read out in units of rows is divided into eight image data 52a to 52h corresponding to the exposure heads 24a to 24h, and four images corresponding to the exposure heads 24a to 24d in the first row are included. Data 52a to 52d are stored in the corresponding four data files 58a to 58d, respectively. This operation is performed for all rows.

その後、ステップS303において、2行目の露光ヘッド24e〜24hに対する画像データ52のシフト処理を行う。この場合は、事前にフレームメモリ54にある変形後の画像データ52を元の状態に戻す、すなわち、ステップS301でのシフト操作による変形の前の状態の画像データ52に戻す。そして、第3の情報テーブル132cから行単位に各画素データのシフト方向とシフト量を読み出し、フレームメモリ54に格納されている画像データ52の対応する行の画素データをシフトする。全ての行についてのシフト操作を行った後、次のステップS304において、上述したステップS302と同様に、画像分割部56は、フレームメモリ54に格納されている画像データ52を行単位に読み出し、各露光ヘッド24a〜24hに対応して8つの画像データ52a〜52hに分割する。そして、8つの画像データ52a〜52hのうち、2行目の露光ヘッド24e〜24hに対応する4つの画像データ52e〜52hがそれぞれ対応する4つのデータファイル58e〜58hに格納される。この操作は全ての行について行われる。   Thereafter, in step S303, the image data 52 is shifted with respect to the exposure heads 24e to 24h in the second row. In this case, the deformed image data 52 in the frame memory 54 is restored to the original state in advance, that is, the image data 52 in the state before the transformation by the shift operation in step S301 is restored. Then, the shift direction and shift amount of each pixel data are read from the third information table 132c in units of rows, and the pixel data in the corresponding rows of the image data 52 stored in the frame memory 54 are shifted. After performing the shift operation for all the rows, in the next step S304, as in step S302 described above, the image dividing unit 56 reads the image data 52 stored in the frame memory 54 in units of rows. The image data is divided into eight image data 52a to 52h corresponding to the exposure heads 24a to 24h. Of the eight image data 52a to 52h, the four image data 52e to 52h corresponding to the exposure heads 24e to 24h in the second row are stored in the corresponding four data files 58e to 58h, respectively. This operation is performed for all rows.

上述の処理によって、各データファイル58a〜58hには、1フレームの期間において、それぞれ対応する露光ヘッド24a〜24hに供給すべき画像データ52が格納されることになる。   As a result of the above-described processing, the data files 58a to 58h store the image data 52 to be supplied to the corresponding exposure heads 24a to 24h in the period of one frame.

一方、蛇行補正部130が第2の方式を採用する場合は、図22のステップS401において、1行目の露光ヘッド24a〜24dに関する画像データの開始列アドレスの変更処理が行われる。具体的には、第2の情報テーブル132bから行単位に開始列アドレスを読み出して、画像分割部56に対して読み出し開始アドレスを与える。この読み出し開始アドレスは、最初は、初期の開始行アドレスと読み出された1行目の画像データの開始列アドレスを与える。その後は、第2の情報テーブルから順次読み出された開始行アドレスを与える。   On the other hand, when the meandering correction unit 130 adopts the second method, in step S401 in FIG. 22, the start column address change processing of the image data related to the exposure heads 24a to 24d in the first row is performed. Specifically, a start column address is read from the second information table 132b in units of rows, and a read start address is given to the image dividing unit 56. This read start address initially gives the initial start row address and the start column address of the read image data of the first row. Thereafter, the start row address sequentially read from the second information table is given.

画像分割部は、ステップS402において、フレームメモリ54に格納されている画像データ52を行単位に読み出す。開始行アドレスは上述したように自動更新される。従って、各行単位の画像データは、図20Bに示すように、与えられた開始列アドレスから読み出されることになる。行単位に読み出された画像データは、各露光ヘッド24a〜24hに対応して8つの画像データ52a〜52hに分割されて、そのうち、1行目の露光ヘッド24a〜24dに対応する4つの画像データ52a〜52dがそれぞれ対応する4つのデータファイル58a〜58dに格納される。この操作は全ての行について行われる。   In step S402, the image dividing unit reads the image data 52 stored in the frame memory 54 in units of rows. The starting row address is automatically updated as described above. Therefore, the image data for each row is read from the given start column address as shown in FIG. 20B. The image data read out in units of rows is divided into eight image data 52a to 52h corresponding to the exposure heads 24a to 24h, and four images corresponding to the exposure heads 24a to 24d in the first row are included. Data 52a to 52d are stored in the corresponding four data files 58a to 58d, respectively. This operation is performed for all rows.

その後、ステップS403において、2行目の露光ヘッド24e〜24hに対する画像データのシフト処理を行う。この場合は、第3の情報テーブル132cから行単位に開始列アドレスを読み出して、画像分割部56に与える。この操作は、上述したステップS401と同様であるため、その詳細は省略する。その後、ステップS404において、画像分割部56は、フレームメモリ54に格納されている画像データ52を行単位に読み出す。行単位に読み出された画像データは、各露光ヘッド24a〜24hに対応して8つの画像データ52a〜52hに分割され、そのうち、2行目の露光ヘッド24e〜24hに対応する4つの画像データ52e〜52hがそれぞれ対応する4つのデータファイル58e〜58hに格納される。この操作は全ての行について行われる。   Thereafter, in step S403, image data shift processing for the exposure heads 24e to 24h in the second row is performed. In this case, the start column address is read from the third information table 132c in units of rows and is given to the image dividing unit 56. Since this operation is the same as step S401 described above, its details are omitted. Thereafter, in step S404, the image dividing unit 56 reads the image data 52 stored in the frame memory 54 in units of rows. The image data read out in units of rows is divided into eight image data 52a to 52h corresponding to the exposure heads 24a to 24h, of which four image data corresponding to the exposure heads 24e to 24h in the second row. 52e to 52h are stored in the corresponding four data files 58e to 58h, respectively. This operation is performed for all rows.

これによって、各データファイル58a〜58hには、1フレームの期間において、それぞれ対応する露光ヘッド24a〜24hに供給すべき画像データ52が格納されることになる。   As a result, the data files 58a to 58h store the image data 52 to be supplied to the corresponding exposure heads 24a to 24h in the period of one frame.

この第2の方式では、単に開始列アドレスを変更するだけであるため、フレームメモリ54内の画像データを変形する必要がなく、演算速度を大幅に向上させることができ、高精細度な画像を描画する際に好適となる。   In this second method, since only the start column address is changed, it is not necessary to transform the image data in the frame memory 54, the calculation speed can be greatly improved, and a high-definition image can be obtained. This is suitable for drawing.

次に、図10のステップS8bでの描画タイミング変更処理について説明する。この描画タイミング処理では、第2の描画部110は、第2の情報テーブル132bから補正パルス数を読み出して、これら補正パルス数に基づいて、それぞれ対応する区間(0〜50mm、50〜100mm、100〜150mm、・・・)での光照射タイミングを補正するという処理を行う。   Next, the drawing timing change process in step S8b of FIG. 10 will be described. In this drawing timing process, the second drawing unit 110 reads the number of correction pulses from the second information table 132b, and based on the number of correction pulses, the corresponding sections (0 to 50 mm, 50 to 100 mm, 100, respectively). ˜150 mm,...)) Is corrected.

具体的には、タイミングパルスPtは、図6B及び図23Aに示すように、2.0μm移動する毎に1回出力されており、理想的なテストパターン画像112の間隔(50mm)毎に25000回出力される。補正により、例えば、50〜100mm区間に16パルス分(0.8μm)を減らす場合は、図23Bに示すように、25000回のうち、16回分のタイミングパルスPtについて、パルスPiの計数を規定の40パルスから39パルスとする、すなわち、レジスタ88(図2参照)に格納されている計数値を40パルスから39パルスにすることにより、16回のタイミングパルスPtについてのパルス周期をそれぞれ0.05μmずつ短くすることができ、結果的に、0.8μm分だけ光照射タイミングを短くすることができる。   Specifically, as shown in FIG. 6B and FIG. 23A, the timing pulse Pt is output once every 2.0 μm movement, and 25,000 times every interval (50 mm) of the ideal test pattern image 112. Is output. For example, when 16 pulses (0.8 μm) are reduced in a 50 to 100 mm section by correction, as shown in FIG. 23B, the count of pulses Pi is defined for 16 timing pulses Pt out of 25000 times. From 40 pulses to 39 pulses, that is, by changing the count value stored in the register 88 (see FIG. 2) from 40 pulses to 39 pulses, the pulse period for 16 timing pulses Pt is 0.05 μm, respectively. The light irradiation timing can be shortened by 0.8 μm as a result.

反対に、例えば、100〜150mm区間に130パルス分(6.5μm)を増やす場合は、図23Cに示すように、25000回のうち、130回分のタイミングパルスPtについて、パルスPiの計数を規定の40パルスから41パルスとする、すなわち、レジスタ88に格納されている計数値を40パルスから41パルスにすることにより、130回のタイミングパルスPtについてのパルス周期をそれぞれ0.05μmずつ長くすることができ、結果的に、6.5μm分だけ光照射タイミングを長くすることができる。   On the other hand, for example, when 130 pulses (6.5 μm) are increased in the 100 to 150 mm section, as shown in FIG. 23C, the count of the pulse Pi is defined for 130 timing pulses Pt out of 25,000 times. By changing the count value stored in the register 88 from 40 pulses to 41 pulses, that is, from 40 pulses to 41 pulses, the pulse period for 130 timing pulses Pt can be increased by 0.05 μm. As a result, the light irradiation timing can be lengthened by 6.5 μm.

なお、パルス数を減らす区間は、25000回中で均等間隔としてもよく、例えば乱数を用いて間隔を適宜変更してもよい。   The interval in which the number of pulses is reduced may be evenly spaced in 25000 times, and the interval may be appropriately changed using, for example, a random number.

そして、図10のステップS8cの描画処理において、第2の描画部110は、各データファイル58a〜58hに格納された変形後の画像データ52をそれぞれ対応する露光ヘッド24a〜24hに供給する。これにより、露光ヘッド24a〜24hは、補正された光出射タイミングで画像データ52を描画していくことになる。   In the drawing process in step S8c of FIG. 10, the second drawing unit 110 supplies the deformed image data 52 stored in the data files 58a to 58h to the corresponding exposure heads 24a to 24h. As a result, the exposure heads 24a to 24h draw the image data 52 at the corrected light emission timing.

このように、本実施の形態に係る露光装置10においては、第1の描画部102において、計測用ワーク36aに対して複数のテストパターン画像112を露光ヘッド24a〜24hによって連続的に描画し、計測部104において、第1のずれ量124a(テストパターン画像112の第1の基準位置116からのずれ量)、第2のずれ量124b(各テストパターン画像112のそれぞれ対応する第2の基準位置118からのずれ量)及び第3のずれ量124c(テストパターン画像112の描画位置を結んだ包絡線126と絶対基準120とのずれ量)とを計算するようにしたので、移動ステージ18の移動に伴う蛇行やピッチング振動等による描画位置のずれを高精度に計測することができる。   As described above, in the exposure apparatus 10 according to the present embodiment, the first drawing unit 102 continuously draws the plurality of test pattern images 112 on the measurement workpiece 36a by the exposure heads 24a to 24h, In the measurement unit 104, a first shift amount 124a (a shift amount of the test pattern image 112 from the first reference position 116) and a second shift amount 124b (a second reference position corresponding to each test pattern image 112). 118) and the third shift amount 124c (the shift amount between the envelope 126 connecting the drawing position of the test pattern image 112 and the absolute reference 120), the movement of the moving stage 18 is calculated. It is possible to measure the displacement of the drawing position due to meandering, pitching vibration, and the like accompanying with high accuracy.

また、本実施の形態に係る露光装置10においては、上述した計測部104において計算された各テストパターン画像112毎の第2のずれ量124bに基づいて、光照射タイミングをずらすための情報を計算して、その結果に基づいて第1の情報テーブル132aを作成し、上述した計測部104において計算された各テストパターン画像112毎の第3のずれ量124c(又は第1のずれ量124a)に基づいて、1フレーム分の画像データ52(正規のワーク36に描画される1枚の画像データ)を変形するための情報を計算して、その結果に基づいて第2及び第3の情報テーブル132b及び132cを作成するようにしたので、その後の第2の描画部110による正規のワーク36に対する画像の描画の際に、第1〜第3の情報テーブル132a〜132cの情報を使用することで高精度に画像を描画することができる。   Further, in the exposure apparatus 10 according to the present embodiment, information for shifting the light irradiation timing is calculated based on the second shift amount 124b for each test pattern image 112 calculated in the measurement unit 104 described above. Then, the first information table 132a is created based on the result, and the third shift amount 124c (or the first shift amount 124a) for each test pattern image 112 calculated by the measurement unit 104 described above is used. Based on this, information for transforming the image data 52 for one frame (one piece of image data drawn on the regular work 36) is calculated, and based on the result, the second and third information tables 132b are calculated. And 132c are created, when the second drawing unit 110 draws an image on the regular work 36 thereafter, the first to third information items are created. It is possible to draw a picture with high precision by using information table 132a to 132c.

つまり、本実施の形態に係る露光装置10は、ワーク36の搬送に伴う蛇行やピッチング振動等による描画位置のずれを高精度に計測し、その計測結果を描画画像に論理的に反映させて、前記蛇行やピッチング振動等による露光位置のずれを解消することができ、ワーク36への画像描画や露光を、高精度、且つ、低コストで行うことができる。   That is, the exposure apparatus 10 according to the present embodiment measures a drawing position shift due to meandering or pitching vibration accompanying the conveyance of the work 36 with high accuracy, and logically reflects the measurement result on the drawing image. The deviation of the exposure position due to the meandering or pitching vibration can be eliminated, and the image drawing and exposure on the workpiece 36 can be performed with high accuracy and at low cost.

上述の例では、計測用ワーク36aの1つの第2の基準位置118に対して、1つのテストパターン画像112を描画した例を示したが、図24に示すように、計測用ワーク36aの1つの第2の基準位置118に対して例えば2つのテストパターン画像112を描画するようにしてもよい。   In the above-described example, one test pattern image 112 is drawn with respect to one second reference position 118 of the measurement work 36a. However, as shown in FIG. For example, two test pattern images 112 may be drawn with respect to two second reference positions 118.

この場合、計測部104において、描画された2つのテストパターン画像112にて特定される線分134と走査方向と直交する方向に対する回転成分(例えば角度θ)を計測することができる。角度θとしては、図25に示すように、走査方向と直交する方向をxy座標系のx軸方向とし、0以上の実数領域のみを考えたとき、線分204Aが第1象限にある場合、+θとし、第4象限にあるとき、−θとする。   In this case, the measurement unit 104 can measure a rotation component (for example, an angle θ) with respect to a direction orthogonal to the line segment 134 and the scanning direction specified by the two drawn test pattern images 112. As the angle θ, as shown in FIG. 25, when the direction orthogonal to the scanning direction is the x-axis direction of the xy coordinate system and only a real number region of 0 or more is considered, when the line segment 204A is in the first quadrant, + Θ, and in the fourth quadrant, −θ.

しかも、テストパターン画像112は、走査方向に沿って例えば50mmピッチで描画されることから、50mm単位の回転成分を計測することができる。そして、図2に示すように、補正部106内に回転成分補正部136を組み込み、該回転成分補正部136にて区間毎の回転成分を第4の情報テーブル132dとして作成することで、第2の描画部110、上述した第1の情報テーブル132aに基づく光照射タイミングの補正や第2及び第3の情報テーブル132b及び132cに基づく画像データ52の変形に容易に反映させることができ、さらなる高精度な画像描画を実現させることができる。   Moreover, since the test pattern image 112 is drawn at a pitch of, for example, 50 mm along the scanning direction, it is possible to measure a rotation component in units of 50 mm. Then, as shown in FIG. 2, the rotation component correction unit 136 is incorporated in the correction unit 106, and the rotation component correction unit 136 creates a rotation component for each section as the fourth information table 132d, thereby generating the second information table 132d. Can be easily reflected in the correction of the light irradiation timing based on the first information table 132a and the deformation of the image data 52 based on the second and third information tables 132b and 132c. Accurate image drawing can be realized.

なお、上述の実施の形態では、露光装置10に適用した例を示したが、その他、アナログ露光装置、インクジェット装置、各種アライメント装置にも適用させることができる。   In the above-described embodiment, the example applied to the exposure apparatus 10 has been described. However, the present invention can also be applied to an analog exposure apparatus, an inkjet apparatus, and various alignment apparatuses.

すなわち、本発明に係る搬送誤差計測方法、校正方法、描画方法、露光描画方法、描画装置及び露光描画装置は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。   That is, the conveyance error measurement method, calibration method, drawing method, exposure drawing method, drawing apparatus, and exposure drawing apparatus according to the present invention are not limited to the above-described embodiments, and various types can be made without departing from the gist of the present invention. Of course, the configuration can be adopted.

本実施の形態に係る露光装置の概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows schematic structure of the exposure apparatus which concerns on this Embodiment. 本実施の形態に係る露光装置の制御系の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the control system of the exposure apparatus which concerns on this Embodiment. 本実施の形態に係る露光装置を構成する露光ヘッドによる二次元画像形成処理の説明図である。It is explanatory drawing of the two-dimensional image formation process by the exposure head which comprises the exposure apparatus which concerns on this Embodiment. フレームメモリに記録された画像データを示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the image data recorded on the frame memory. 画像データの分割を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the division | segmentation of image data. 図6Aはリニアエンコーダから出力されるパルスを示すタイミングチャートであり、図6Bはタイミング発生回路から出力されるタイミングパルスを示すタイミングチャートである。6A is a timing chart showing pulses output from the linear encoder, and FIG. 6B is a timing chart showing timing pulses output from the timing generation circuit. 本実施の形態に係る露光装置を構成する露光ヘッドの構成図である。It is a block diagram of the exposure head which comprises the exposure apparatus which concerns on this Embodiment. 図8Aは露光ヘッドによる露光領域を示す平面図であり、図8Bは露光ヘッドの配列パターンの一例を示す平面図である。FIG. 8A is a plan view showing an exposure area by the exposure head, and FIG. 8B is a plan view showing an example of an array pattern of the exposure head. 露光ヘッドのドットパターンの配列状態の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the arrangement | sequence state of the dot pattern of an exposure head. 本実施の形態に係る露光装置による処理動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the processing operation by the exposure apparatus which concerns on this Embodiment. 図11Aは円形のテストパターン画像を示す平面図であり、図11Bは複数の縦線が配列されたテストパターン画像を示す平面図であり、図11Cは複数の横線が配列されたテストパターン画像を示す平面図であり、図11Dは複数の縦線と横線が配列されたテストパターン画像を示す平面図である。11A is a plan view showing a circular test pattern image, FIG. 11B is a plan view showing a test pattern image in which a plurality of vertical lines are arranged, and FIG. 11C is a test pattern image in which a plurality of horizontal lines are arranged. FIG. 11D is a plan view showing a test pattern image in which a plurality of vertical lines and horizontal lines are arranged. 図12Aは1重描画を行う場合の露光ヘッドの傾き状態の一例を示す説明図であり、図12Bは描画位置に一重描画が行われた状態を示す説明図である。FIG. 12A is an explanatory view showing an example of the tilt state of the exposure head when performing single drawing, and FIG. 12B is an explanatory view showing a state where single drawing is performed at the drawing position. 図13Aは2重描画を行う場合の露光ヘッドの傾き状態の一例を示す説明図であり、図13Bは描画位置に2重描画が行われた状態を示す説明図である。FIG. 13A is an explanatory view showing an example of the tilt state of the exposure head when performing double drawing, and FIG. 13B is an explanatory view showing a state where double drawing is performed at the drawing position. 第1のずれ量〜第3のずれ量を説明するための図11Aの拡大図である。FIG. 11B is an enlarged view of FIG. 11A for explaining the first shift amount to the third shift amount. 移動ステージに発生するピッチング振動による位置ずれ量の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the position shift amount by the pitching vibration which generate | occur | produces in a movement stage. 第1の情報テーブルの内訳を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the breakdown of a 1st information table. 図17Aは蛇行補正部で第1の方式を採用した場合の画像データの開始列アドレス(固定)を説明するための図であり、図17Bは第3のずれ量(又は第1のずれ量)に基づく画像データの行単位のシフト操作を説明するための図であり、図17Cは第2及び第3の情報テーブルの内訳を示す図である。FIG. 17A is a diagram for explaining a start column address (fixed) of image data when the first method is adopted in the meandering correction unit, and FIG. 17B is a third deviation amount (or first deviation amount). FIG. 17C is a diagram illustrating a breakdown of the second and third information tables. FIG. 蛇行補正部の第1の方式による処理動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the processing operation by the 1st system of a meandering correction | amendment part. 蛇行補正部の第2の方式による処理動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the processing operation by the 2nd system of a meandering correction | amendment part. 図20Aは蛇行補正部で第2の方式を採用した場合の画像データの開始列アドレス(初期)を説明するための図であり、図20Bは第3のずれ量(又は第1のずれ量)に基づく画像データの行単位の開始列アドレスの指定を説明するための図であり、図20Cは第2及び第3の情報テーブルの内訳を示す図である。FIG. 20A is a diagram for explaining the start column address (initial) of image data when the second method is adopted in the meandering correction unit, and FIG. 20B is a third deviation amount (or first deviation amount). FIG. 20C is a diagram illustrating a breakdown of the second and third information tables. FIG. 20C is a diagram for explaining the designation of the start column address of the image data based on the row. 蛇行補正部が第1の方式を採用した場合の第2の描画部での処理、特に、画像読出し処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process in the 2nd drawing part when a meandering correction | amendment part employ | adopts a 1st system, especially an image read-out process. 蛇行補正部が第2の方式を採用した場合の第2の描画部での処理、特に、画像読出し処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process in the 2nd drawing part when a meandering correction part employ | adopts a 2nd system, especially an image read-out process. 図23Aは通常のタイミングパルスの出力タイミングを示すタイミングチャートであり、図23Bは16パルス分の減少補正を行う場合のタイミングパルスの出力タイミングを示すタイミングチャートであり、図23Cは130パルス分の増加補正を行う場合のタイミングパルスの出力タイミングを示すタイミングチャートである。FIG. 23A is a timing chart showing the output timing of the normal timing pulse, FIG. 23B is a timing chart showing the output timing of the timing pulse when the decrease correction for 16 pulses is performed, and FIG. 23C is an increase for 130 pulses. It is a timing chart which shows the output timing of the timing pulse in the case of performing correction. 計測用ワークの1つの第2の基準位置に対して2つのテストパターン画像を描画した状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state which drawn two test pattern images with respect to one 2nd reference position of the workpiece | work for measurement. 2つのテストパターン画像で特定された線分に基づく回転成分の関係を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the relationship of the rotation component based on the line segment specified by two test pattern images. 従来例に係るデジタル露光装置の概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows schematic structure of the digital exposure apparatus which concerns on a prior art example.

符号の説明Explanation of symbols

10…露光装置 18…移動ステージ
24a〜24h…露光ヘッド 36…ワーク(正規のワーク)
36a…計測用ワーク 40…制御ユニット
48…露光処理部 52…画像データ
54…フレームメモリ 56…画像分割部
60…リニアエンコーダ 100…第1の搬送部
102…第1の描画部 104…計測部
106…補正部 108…第2の搬送部
110…第2の描画部 112…テストパターン画像
124a…第1のずれ量 124b…第2のずれ量
124c…第3のずれ量 128…光照射補正部
130…蛇行補正部
132a〜132d…第1〜第4の情報テーブル
136…回転成分補正部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Exposure apparatus 18 ... Moving stage 24a-24h ... Exposure head 36 ... Workpiece (regular work)
36a ... Work for measurement 40 ... Control unit 48 ... Exposure processing unit 52 ... Image data 54 ... Frame memory 56 ... Image division unit 60 ... Linear encoder 100 ... First transport unit 102 ... First drawing unit 104 ... Measurement unit 106 ... correction unit 108 ... second transport unit 110 ... second drawing unit 112 ... test pattern image 124a ... first deviation amount 124b ... second deviation amount 124c ... third deviation amount 128 ... light irradiation correction unit 130 ... Meandering correction units 132a to 132d ... First to fourth information tables 136 ... Rotation component correction unit

Claims (31)

ワークが保持されたステージを描画部に対して相対的に搬送する搬送ステップと、
前記ワークに対して複数のテストパターン画像を前記描画部によって描画する描画ステップと、
前記ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて少なくとも前記ワークの相対的な搬送誤差を計測する計測ステップとを有する搬送誤差計測方法。
A transport step for transporting the stage holding the workpiece relative to the drawing unit;
A drawing step of drawing a plurality of test pattern images on the workpiece by the drawing unit;
And a measurement step of measuring at least a relative conveyance error of the workpiece based on a drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the workpiece.
請求項1記載の搬送誤差計測方法において、
前記計測ステップは、前記ワークに連続的に描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて計測を行うことを特徴とする搬送誤差計測方法。
In the conveyance error measuring method according to claim 1,
The transport error measuring method according to claim 1, wherein the measuring step performs measurement based on a drawing state of a plurality of test pattern images continuously drawn on the workpiece.
請求項1又は2記載の搬送誤差計測方法において、
前記描画ステップは、前記描画部による多重描画によって前記複数のテストパターン画像を前記ワークに描画することを特徴とする搬送誤差計測方法。
In the conveyance error measuring method according to claim 1 or 2,
In the drawing step, the plurality of test pattern images are drawn on the work by multiple drawing by the drawing unit.
請求項1〜3のいずれか1項に記載の搬送誤差計測方法において、
前記描画ステップは、前記描画部の一部の領域内の画素を使用して前記複数のテストパターン画像を前記ワークに描画することを特徴とする搬送誤差計測方法。
In the conveyance error measuring method according to any one of claims 1 to 3,
In the drawing step, the plurality of test pattern images are drawn on the work by using pixels in a partial area of the drawing unit.
請求項1〜4のいずれか1項に記載の搬送誤差計測方法において、
前記計測ステップは、前記ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて、前記ワークの相対的な搬送方向と直交する方向における基準位置から前記テストパターン画像の前記方向に沿ったずれ量を計測することを特徴とする搬送誤差計測方法。
In the conveyance error measuring method according to any one of claims 1 to 4,
The measuring step includes a deviation along the direction of the test pattern image from a reference position in a direction orthogonal to a relative conveyance direction of the workpiece based on a drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the workpiece. A conveyance error measuring method characterized by measuring a quantity.
請求項1〜5のいずれか1項に記載の搬送誤差計測方法において、
前記計測ステップは、前記ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて、前記ワークの相対的な搬送方向における基準位置から前記テストパターン画像の前記搬送方向に沿ったずれ量を計測することを特徴とする搬送誤差計測方法。
In the conveyance error measuring method according to any one of claims 1 to 5,
The measuring step measures a shift amount of the test pattern image along the conveyance direction from a reference position in the relative conveyance direction of the workpiece based on a drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the workpiece. A method for measuring a conveyance error.
請求項1〜6のいずれか1項に記載の搬送誤差計測方法において、
前記描画ステップは、前記描画部における前記ワークの相対的な搬送方向と直交する方向に沿って離れた少なくとも2つの領域内の画素をそれぞれ使用して前記ワークに描画することを特徴とする搬送誤差計測方法。
In the conveyance error measuring method according to any one of claims 1 to 6,
In the drawing step, the drawing error is drawn on the work using pixels in at least two regions separated along a direction orthogonal to a relative carrying direction of the work in the drawing unit. Measurement method.
請求項7記載の搬送誤差計測方法において、
前記計測ステップは、前記ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて、前記ワークの相対的な搬送方向又は該搬送方向と直交する方向に対する回転成分を計測することを特徴とする搬送誤差計測方法。
In the conveyance error measuring method according to claim 7,
The measuring step measures a rotation component with respect to a relative conveyance direction of the workpiece or a direction orthogonal to the conveyance direction based on a drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the workpiece. Transport error measurement method.
請求項1〜8のいずれか1項に記載の搬送誤差計測方法を用いて前記描画部による描画位置を校正することを特徴とする校正方法。   A calibration method, wherein the drawing position by the drawing unit is calibrated using the transport error measurement method according to claim 1. 計測用ワークが保持されたステージを描画部に対して相対的に搬送する第1の搬送ステップと、
前記計測用ワークに対して複数のテストパターン画像を前記描画部によって描画する第1の描画ステップと、
前記計測用ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて少なくとも前記計測用ワークの相対的な搬送誤差を計測する計測ステップと、
前記計測ステップにて計測された前記搬送誤差に基づいて、前記描画部の描画に関する情報を作成する補正ステップと、
前記ステージに正規のワークを保持して前記描画部に対して相対的に搬送する第2の搬送ステップと、
前記正規のワークに対して描画すべき画像を前記補正ステップにて作成された前記描画に関する情報に基づいて描画する第2の描画ステップとを有することを特徴とする描画方法。
A first transport step for transporting the stage on which the measurement workpiece is held relative to the drawing unit;
A first drawing step of drawing a plurality of test pattern images on the measurement work by the drawing unit;
A measurement step of measuring at least a relative conveyance error of the measurement workpiece based on a drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the measurement workpiece;
Based on the transport error measured in the measurement step, a correction step for creating information related to drawing of the drawing unit;
A second transfer step of holding a regular workpiece on the stage and transferring the workpiece relative to the drawing unit;
A drawing method comprising: a second drawing step of drawing an image to be drawn on the regular workpiece based on the drawing-related information created in the correction step.
請求項10記載の描画方法において、
前記計測ステップは、前記計測用ワークに連続的に描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて計測を行うことを特徴とする描画方法。
The drawing method according to claim 10.
The drawing method, wherein the measuring step performs measurement based on a drawing state of a plurality of test pattern images continuously drawn on the measurement work.
請求項10又は11記載の描画方法において、
前記第1の描画ステップは、前記描画部による多重描画によって前記複数のテストパターン画像を前記計測用ワークに描画することを特徴とする描画方法。
The drawing method according to claim 10 or 11,
In the drawing method, the first drawing step draws the plurality of test pattern images on the measurement work by multiple drawing by the drawing unit.
請求項10〜12のいずれか1項に記載の描画方法において、
前記第1の描画ステップは、前記描画部の一部の領域内の画素を使用して前記複数のテストパターン画像を前記計測用ワークに描画することを特徴とする描画方法。
The drawing method according to any one of claims 10 to 12,
In the drawing method, the first drawing step draws the plurality of test pattern images on the measurement work by using pixels in a partial area of the drawing unit.
請求項10〜13のいずれか1項に記載の描画方法において、
前記計測ステップは、前記計測用ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて、前記計測用ワークの相対的な搬送方向と直交する方向における基準位置から前記テストパターン画像の前記方向に沿ったずれ量を計測することを特徴とする描画方法。
The drawing method according to any one of claims 10 to 13,
In the measurement step, the direction of the test pattern image from a reference position in a direction orthogonal to a relative conveyance direction of the measurement workpiece based on a drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the measurement workpiece. A drawing method characterized by measuring a deviation amount along the line.
請求項10〜14のいずれか1項に記載の描画方法において、
前記計測ステップは、前記計測用ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて、前記計測用ワークの相対的な搬送方向における基準位置から前記テストパターン画像の前記搬送方向に沿ったずれ量を計測することを特徴とする描画方法。
The drawing method according to any one of claims 10 to 14,
The measurement step is based on a drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the measurement work, along a conveyance direction of the test pattern image from a reference position in a relative conveyance direction of the measurement work. A drawing method characterized by measuring a deviation amount.
請求項10〜15のいずれか1項に記載の描画方法において、
前記描画部は、1以上の描画ヘッドを有し、
前記補正ステップは、前記計測ステップにて計測された前記搬送誤差に基づいて、前記描画すべき画像データを前記描画ヘッド毎に論理的に変形し、その変形に関する情報を情報テーブルとして作成するテーブル作成ステップを有し、
前記第2の描画ステップは、前記情報テーブルに格納された前記変形に関する情報に基づいて前記正規のワークに前記描画すべき画像を描画することを特徴とする描画方法。
The drawing method according to any one of claims 10 to 15,
The drawing unit has one or more drawing heads,
The correction step logically deforms the image data to be drawn for each of the drawing heads based on the transport error measured in the measurement step, and creates a table for creating information on the deformation as an information table Has steps,
The drawing method, wherein the second drawing step draws the image to be drawn on the regular work based on the information on the deformation stored in the information table.
請求項10〜15のいずれか1項に記載の描画方法において、
前記描画部は、1以上の描画ヘッドを有し、
前記補正ステップは、前記計測ステップにて計測された前記搬送誤差に基づいて、前記描画すべき画像データにおける前記描画ヘッド毎の読み出し開始アドレスを論理的に変更し、該アドレス変更に関する情報を情報テーブルとして作成するテーブル作成ステップを有し、
前記第2の描画ステップは、前記情報テーブルに格納された前記アドレス変更に関する情報に基づいて前記正規のワークに前記描画すべき画像を描画することを特徴とする描画方法。
The drawing method according to any one of claims 10 to 15,
The drawing unit has one or more drawing heads,
The correction step logically changes a read start address for each of the drawing heads in the image data to be drawn based on the conveyance error measured in the measurement step, and stores information on the address change in an information table Has a table creation step to create as
The drawing method, wherein the second drawing step draws the image to be drawn on the regular work based on the information on the address change stored in the information table.
請求項10〜17のいずれか1項に記載の描画方法において、
前記第1の描画ステップは、前記描画部における前記計測用ワークの相対的な搬送方向と直交する方向に沿って離れた少なくとも2つの領域内の画素をそれぞれ使用して前記計測用ワークに描画することを特徴とする描画方法。
The drawing method according to any one of claims 10 to 17,
In the first drawing step, drawing is performed on the measurement work using pixels in at least two regions separated along a direction orthogonal to the relative conveyance direction of the measurement work in the drawing unit. A drawing method characterized by that.
請求項18記載の描画方法において、
前記計測ステップは、前記計測用ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて、前記計測用ワークの相対的な搬送方向又は該搬送方向と直交する方向に対する回転成分を計測し、
前記補正ステップは、前記描画部の描画に関する情報を前記回転成分を反映させて作成することを特徴とする描画方法。
The drawing method according to claim 18, wherein
The measurement step measures a rotation component with respect to a relative conveyance direction of the measurement workpiece or a direction orthogonal to the conveyance direction based on a drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the measurement workpiece,
In the drawing method, the correction step includes creating information relating to drawing by the drawing unit by reflecting the rotation component.
請求項10〜19のいずれか1項に記載の描画方法を用いて少なくとも前記正規のワークに露光を行うことを特徴とする露光描画方法。   An exposure drawing method, wherein at least the regular workpiece is exposed using the drawing method according to claim 10. 計測用ワークが保持されたステージを描画部に対して相対的に搬送する第1の搬送手段と、
前記計測用ワークに対して複数のテストパターン画像を前記描画部によって描画する第1の描画手段と、
前記計測用ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて少なくとも前記計測用ワークの相対的な搬送誤差を計測する計測手段と、
前記計測ステップにて計測された前記搬送誤差に基づいて、前記描画部の描画に関する情報を作成する補正手段と、
前記ステージに正規のワークを保持して前記描画部に対して相対的に搬送する第2の搬送手段と、
前記正規のワークに対して描画すべき画像を前記補正ステップにて作成された前記描画に関する情報に基づいて描画する第2の描画手段とを有することを特徴とする描画装置。
A first transport means for transporting the stage holding the measurement workpiece relative to the drawing unit;
First drawing means for drawing a plurality of test pattern images on the measurement work by the drawing unit;
Measuring means for measuring at least a relative conveyance error of the measurement workpiece based on a drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the measurement workpiece;
Based on the transport error measured in the measurement step, correction means for creating information related to drawing of the drawing unit;
Second conveying means for holding a regular workpiece on the stage and conveying the workpiece relative to the drawing unit;
A drawing apparatus comprising: a second drawing unit that draws an image to be drawn on the regular workpiece based on the information relating to the drawing created in the correction step.
請求項21記載の描画装置において、
前記計測手段は、前記計測用ワークに連続的に描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて計測を行うことを特徴とする描画装置。
The drawing apparatus according to claim 21, wherein
The drawing device, wherein the measuring unit performs measurement based on a drawing state of a plurality of test pattern images continuously drawn on the measurement work.
請求項21又は20記載の描画装置において、
前記第1の描画手段は、前記描画部による多重描画によって前記複数のテストパターン画像を前記計測用ワークに描画することを特徴とする描画装置。
The drawing apparatus according to claim 21 or 20,
The drawing apparatus, wherein the first drawing means draws the plurality of test pattern images on the measurement work by multiple drawing by the drawing unit.
請求項21〜23のいずれか1項に記載の描画装置において、
前記第1の描画手段は、前記描画部の一部の領域内の画素を使用して前記複数のテストパターン画像を前記計測用ワークに描画することを特徴とする描画装置。
The drawing apparatus according to any one of claims 21 to 23,
The drawing apparatus, wherein the first drawing means draws the plurality of test pattern images on the measurement work by using pixels in a partial area of the drawing unit.
請求項21〜24のいずれか1項に記載の描画装置において、
前記計測手段は、前記計測用ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて、前記計測用ワークの相対的な搬送方向と直交する方向における基準位置から前記テストパターン画像の前記方向に沿ったずれ量を計測することを特徴とする描画装置。
The drawing apparatus according to any one of claims 21 to 24,
The measurement means is configured to determine the direction of the test pattern image from a reference position in a direction orthogonal to a relative conveyance direction of the measurement workpiece based on a drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the measurement workpiece. A drawing apparatus for measuring a deviation amount along the line.
請求項21〜25のいずれか1項に記載の描画装置において、
前記計測手段は、前記計測用ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて、前記計測用ワークの相対的な搬送方向における基準位置から前記テストパターン画像の前記搬送方向に沿ったずれ量を計測することを特徴とする描画装置。
The drawing apparatus according to any one of claims 21 to 25,
The measurement means follows the transport direction of the test pattern image from the reference position in the relative transport direction of the measurement workpiece based on the drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the measurement workpiece. A drawing apparatus for measuring a deviation amount.
請求項21〜26のいずれか1項に記載の描画装置において、
前記描画部は、1以上の描画ヘッドを有し、
前記補正手段は、前記計測手段にて計測された前記搬送誤差に基づいて、前記描画すべき画像データを前記描画ヘッド毎に論理的に変形し、その変形に関する情報を情報テーブルとして作成するテーブル作成手段を有し、
前記第2の描画手段は、前記情報テーブルに格納された前記変形に関する情報に基づいて前記正規のワークに前記描画すべき画像を描画することを特徴とする描画装置。
The drawing apparatus according to any one of claims 21 to 26,
The drawing unit has one or more drawing heads,
The correction unit logically deforms the image data to be drawn for each of the drawing heads based on the transport error measured by the measuring unit, and creates a table for creating information on the deformation as an information table Having means,
The drawing apparatus, wherein the second drawing means draws the image to be drawn on the regular work based on information on the deformation stored in the information table.
請求項21〜26のいずれか1項に記載の描画装置において、
前記描画部は、1以上の描画ヘッドを有し、
前記補正手段は、前記計測手段にて計測された前記搬送誤差に基づいて、前記描画すべき画像データにおける前記描画ヘッド毎の読み出し開始アドレスを論理的に変更し、該アドレス変更に関する情報を情報テーブルとして作成するテーブル作成手段を有し、
前記第2の描画手段は、前記情報テーブルに格納された前記アドレス変更に関する情報に基づいて前記正規のワークに前記描画すべき画像を描画することを特徴とする描画装置。
The drawing apparatus according to any one of claims 21 to 26,
The drawing unit has one or more drawing heads,
The correction unit logically changes a read start address for each of the drawing heads in the image data to be drawn based on the transport error measured by the measuring unit, and stores information on the address change in an information table As a table creation means to create as
The drawing apparatus, wherein the second drawing means draws the image to be drawn on the regular work based on information on the address change stored in the information table.
請求項21〜28のいずれか1項に記載の描画装置において、
前記第1の描画手段は、前記描画部における前記計測用ワークの相対的な搬送方向と直交する方向に沿って離れた少なくとも2つの領域内の画素をそれぞれ使用して前記計測用ワークに描画することを特徴とする描画装置。
The drawing apparatus according to any one of claims 21 to 28,
The first drawing means draws on the measurement work using pixels in at least two regions separated along a direction orthogonal to a relative conveyance direction of the measurement work in the drawing unit. A drawing apparatus characterized by that.
請求項29記載の描画装置において、
前記計測手段は、前記計測用ワークに描画された複数のテストパターン画像の描画状態に基づいて、前記計測用ワークの相対的な搬送方向又は該搬送方向と直交する方向に対する回転成分を計測し、
前記補正手段は、前記描画部の描画に関する情報を前記回転成分を反映させて作成することを特徴とする描画装置。
The drawing apparatus according to claim 29, wherein
The measuring means measures a rotation component with respect to a relative conveyance direction of the measurement workpiece or a direction orthogonal to the conveyance direction based on a drawing state of a plurality of test pattern images drawn on the measurement workpiece,
The drawing unit, wherein the correction unit creates information related to drawing by the drawing unit by reflecting the rotation component.
請求項21〜30のいずれか1項に記載の描画装置を有し、少なくとも前記正規のワークに露光によって前記画像の描画を行うことを特徴とする露光描画装置。   31. An exposure drawing apparatus comprising the drawing apparatus according to claim 21, wherein the image is drawn on at least the regular work by exposure.
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