JP2006286087A - Substrate tilt controller unit, substrate tilt control method, and substrate tilt control program - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、例えば、光ディスクのような平板状の記録媒体を製造する際に、基板の反りを調整するための基板チルト制御装置、制御方法及び制御プログラムに関する。 The present invention relates to a substrate tilt control device, a control method, and a control program for adjusting warpage of a substrate when a flat recording medium such as an optical disk is manufactured.
光ディスクや光磁気ディスク等の光学読み取り式の円盤状記録媒体は、再生専用のものや、記録された情報の書き換えが可能なものなど、多種多様な規格のものが普及している。かかる記録媒体は、基板に形成された記録面を保護したり、記録面の多層化による高密度記録を実現するために、一対の基板を、接着層を介して貼り合せることによって製造されている場合が多い。 Optical reading type disk-shaped recording media such as an optical disk and a magneto-optical disk are widely used in various standards such as a reproduction-only medium and a medium in which recorded information can be rewritten. Such a recording medium is manufactured by bonding a pair of substrates via an adhesive layer in order to protect the recording surface formed on the substrate or to realize high-density recording by multilayering the recording surface. There are many cases.
このような貼り合わせ型ディスクの製造は、例えば、以下のように行われる。すなわち、2枚のポリカーボネート製の基板を射出成型し、スパッタ室においてスパッタリングによってレーザ反射用の金属膜(記録膜)を形成する。そして、2枚の基板の接合面に、紫外線硬化型の接着剤を塗布し、スピンコートによって接着剤を展延する。スピンコートとは、基板の中心の周囲に接着剤を塗布した後、基板を高速スピンさせることにより、基板上に接着剤による薄い膜(接着層)を形成するものである。 Such a bonded disc is manufactured as follows, for example. That is, two polycarbonate substrates are injection-molded, and a metal film (recording film) for laser reflection is formed by sputtering in a sputtering chamber. Then, an ultraviolet curable adhesive is applied to the bonding surfaces of the two substrates, and the adhesive is spread by spin coating. Spin coating is to form a thin film (adhesive layer) with an adhesive on the substrate by applying an adhesive around the center of the substrate and then spinning the substrate at a high speed.
このように接着層を形成した一対の基板は、真空室に挿入され、真空中で互いの接着層が貼り合わされる。さらに、互いに貼り合わされた基板を真空室から大気圧に出し、全体に紫外線を照射することにより、接着剤を硬化させる。これにより、2枚の基板は強固に接着され、ディスクが完成する。 The pair of substrates having the adhesive layer formed in this manner is inserted into a vacuum chamber, and the adhesive layers are bonded to each other in a vacuum. Further, the adhesive bonded is cured by bringing the substrates bonded together to atmospheric pressure from the vacuum chamber and irradiating the whole with ultraviolet rays. As a result, the two substrates are firmly bonded to complete the disc.
ところで、上記のように貼り合わされた基板は、情報の読み書きに用いられるレーザがディスクに照射されたときに、安定してスポットが形成されるように、反り(チルト)や歪みのない平坦なものとなることが望ましい。例えば、ディスクに許容量を超えるチルトが存在すると、情報の読み書きに用いられるレーザがディスクに照射されたときに、記録面の所定の位置に正確に到達しない可能性がある。従って、かかる光学式のディスクにおいては、チルトを排除することが、製品の安定した品質を確保する上で重要となる。 By the way, the substrate bonded as described above is flat without warping (tilt) or distortion so that a spot is stably formed when a laser used for reading and writing information is irradiated on the disk. It is desirable that For example, if there is a tilt exceeding the allowable amount on the disc, there is a possibility that a predetermined position on the recording surface may not be reached accurately when a laser used for reading and writing information is irradiated on the disc. Therefore, in such an optical disc, it is important to eliminate the tilt in order to ensure stable quality of the product.
このような反りの原因は、種々存在するが、例えば、上記のスピンコート等により塗布される接着剤は、中央側が薄く、外周側が厚くなる傾向にあり、これが原因となってディスクに反りが生じる場合がある。これに対処するために、特許文献1に記載されているように、基板の貼り合せ時に、一対の基板の中央側の間隔が外周側よりも空くように、真空吸着によって強制的に撓ませる方法が提案されている。
There are various causes of such warpage, but for example, the adhesive applied by the above spin coating or the like tends to be thin on the center side and thick on the outer peripheral side, and this causes warping of the disk. There is a case. In order to cope with this, as described in
また、一対の基板のそれぞれに反りがあり、これを反映して貼り合せ後のディスクに反りが生じる場合がある。これに対処するために、特許文献2に記載されているように、貼り合せ時にディスクが載置されるテーブルに、敢えて段差を設けて、反りが所望の方向に矯正されるようにする方法も提案されている。
Further, each of the pair of substrates has a warp, and this may reflect the warp of the disc after bonding. In order to cope with this, as described in
ところで、上記のように貼り合わされる基板単体には成形、色素コーティング、成膜等の工程から与えられる固有の反り量があり、互いに重ね合わされた後も、このチルトは各々違う値となる。このため、単に所定箇所を撓ませたり、固定の段差を設けたりするだけでは、個々の反りの修正を効果的に行うことができない。そこで、貼り合せの際に基板が載置されるサセプタに、取り外し可能な段差を設けることが考えられる。 By the way, there is a specific amount of warpage given from the steps of molding, dye coating, film formation, etc., to the single substrate to be bonded as described above, and this tilt has a different value even after being overlapped with each other. For this reason, it is not possible to effectively correct individual warps simply by bending a predetermined portion or providing a fixed step. In view of this, it is conceivable to provide a removable step on the susceptor on which the substrate is placed at the time of bonding.
例えば、サセプタの中央に取り外し可能なコマ状の当接部を設けることにより、貼り合せによって、ディスクの中央部が盛り上がるように(−チルトを与えて)矯正することができる。そして、種々の高さのコマを用意しておき、前工程の基板の反り量に合わせてコマを交換することにより、矯正の度合いを調節することも可能である。しかし、かかる方法では、前工程の条件が変化したら再度条件出しを必要とし、反り量を変える際には装置を停止して、サセプタのコマを高さの異なるものに交換する必要がある。また、貼り合せの際にチルト補正を行っても、その後、紫外線照射による硬化までの過程でディスクが元に戻ろうとする。その為、装置のタクトが不安点になった場合、反り量も不安定になってしまう。 For example, by providing a detachable frame-like contact portion at the center of the susceptor, it is possible to correct the center portion of the disk so that it rises (by giving a -tilt) by bonding. It is also possible to adjust the degree of correction by preparing frames of various heights and exchanging the frames according to the amount of warpage of the substrate in the previous process. However, in this method, it is necessary to determine the conditions again when the conditions of the previous process change, and when changing the amount of warp, it is necessary to stop the apparatus and replace the susceptor piece with a different height. Further, even when tilt correction is performed at the time of bonding, the disk tends to return to the original state in the process until curing by ultraviolet irradiation. For this reason, when the tact of the device becomes an uneasy point, the amount of warpage becomes unstable.
本発明は、上記のような従来技術の問題点を解決するために提案されたものであり、その目的は、部材を交換等せずに、基板の反り量に応じた矯正を行うことができる基板チルト制御装置、基板チルト制御方法及び基板チルト制御プログラムを提供することにある。 The present invention has been proposed in order to solve the above-described problems of the prior art, and an object of the present invention is to perform correction according to the amount of warpage of the substrate without replacing the member. A substrate tilt control device, a substrate tilt control method, and a substrate tilt control program are provided.
上記のような目的を達成するため、請求項1の発明は、基板を狭持する一対の押圧部を有し、前記押圧部の少なくとも一方が基板を押圧することにより、基板のチルトを制御する基板チルト制御装置において、基板の厚み方向の長さが可変の当接部が、前記押圧部の少なくとも一方における基板の一部に接離可能な位置に設けられていることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the invention of
請求項4の発明は、一対の押圧部の少なくとも一方が基板を押圧し、他方の押圧部との間で挟持することにより、基板のチルトを制御する基板チルト制御方法において、基板が前記押圧部により狭持された場合に、前記押圧部の少なくとも一方に設けられ、基板の厚み方向の長さが可変の当接部が、基板の一部に接することを特徴とする。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a substrate tilt control method in which at least one of the pair of pressing portions presses the substrate and is sandwiched between the other pressing portions, whereby the substrate is controlled by the pressing portion. The contact portion that is provided on at least one of the pressing portions and has a variable length in the thickness direction of the substrate is in contact with a part of the substrate.
以上のような請求項1及び4の発明では、当接部の基板の厚み方向の長さを変更することにより、押圧部によって挟持した際の基板の反りを調整することができる。従って、部材の交換等をせずに、基板の反り量に応じた矯正を行うことが可能となる。
In the inventions of
請求項2の発明は、請求項1の基板チルト制御装置において、前記当接部が圧電素子であり、制御目標となる基準チルト値を記憶する記憶手段と、前記押圧部による押圧前若しくは押圧後の基板のチルト値を測定する測定手段と、前記測定手段によって測定されたチルト値と、前記記憶手段に記憶された基準チルト値に基づいて、前記当接部への通電を調整する調整手段と、を有することを特徴とする。 According to a second aspect of the present invention, in the substrate tilt control device according to the first aspect, the abutting portion is a piezoelectric element, a storage means for storing a reference tilt value as a control target, and before or after pressing by the pressing portion. Measuring means for measuring the tilt value of the substrate, adjusting means for adjusting the energization to the contact portion based on the tilt value measured by the measuring means and the reference tilt value stored in the storage means; It is characterized by having.
請求項5の発明は、前記当接部が、コンピュータによって通電を制御可能な圧電素子であり、前記コンピュータは、入力手段、記憶手段、測定手段、調整手段を備え、前記入力手段が、制御目標となる基準チルト値を入力し、前記記憶手段が、前記入力手段が入力した基準チルト値を記憶し、前記測定手段が、前記押圧部による押圧前若しくは押圧後の基板のチルト値を測定し、前記調整手段が、前記測定手段によって測定されたチルト値と、前記記憶手段に記憶された基準チルト値とに基づいて、前記圧電素子への通電を調整することを特徴とする。 According to a fifth aspect of the present invention, the contact portion is a piezoelectric element whose energization can be controlled by a computer, and the computer includes input means, storage means, measurement means, and adjustment means, and the input means is a control target. The storage means stores the reference tilt value input by the input means, and the measurement means measures the tilt value of the substrate before or after being pressed by the pressing portion, The adjusting unit adjusts the energization to the piezoelectric element based on the tilt value measured by the measuring unit and the reference tilt value stored in the storage unit.
請求項6の発明は、一対の押圧部の少なくとも一方が基板を押圧し、他方の押圧部との間で挟持することにより、基板のチルトを制御する基板チルト制御装置を、コンピュータにより制御する基板チルト制御プログラムにおいて、基板の厚み方向の長さが可変の当接部が、前記押圧部の少なくとも一方における基板の一部に接離可能な位置に設けられ、前記当接部が、前記コンピュータによって通電を制御可能な圧電素子であり、前記コンピュータに、制御目標となる基準チルト値を入力させ、入力された基準チルト値を記憶させ、前記押圧部によって押圧された基板のチルト値を測定させ、測定されたチルト値と、記憶された基準チルト値とに基づいて、前記圧電素子への通電を調整することを特徴とする。 According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a substrate controlled by a computer, wherein the substrate tilt control device that controls the tilt of the substrate is controlled by at least one of the pair of pressing portions pressing the substrate and sandwiching between the other pressing portions. In the tilt control program, a contact portion whose length in the thickness direction of the substrate is variable is provided at a position where at least one of the pressing portions can be brought into contact with or separated from the substrate, and the contact portion is formed by the computer. A piezoelectric element capable of controlling energization, allowing the computer to input a reference tilt value as a control target, store the input reference tilt value, and measure the tilt value of the substrate pressed by the pressing unit, The energization to the piezoelectric element is adjusted based on the measured tilt value and the stored reference tilt value.
以上のような請求項2、5及び6の発明は、圧電素子を用いて、基板の反り量を制御することができるので、少ない所要スペースで、基板のチルト値を自動的に最適な値に調整できる。
In the inventions of
請求項3の発明は、請求項1又は請求項2の基板チルト制御装置において、前記押圧部の少なくとも一方は、光を透過する材料で形成されていることを特徴とする。 According to a third aspect of the present invention, in the substrate tilt control device according to the first or second aspect, at least one of the pressing portions is formed of a material that transmits light.
以上のような請求項3の発明では、押圧部の少なくとも一方が光を透過する材料によって形成されているので、基板の挟持によって反りを矯正しながら、接着剤の硬化用の光線を照射させることができる。従って、貼り合せ後に生じた反りも、硬化時に修正することが可能となる。
In the invention of
以上、説明したように、本発明によれば、部材を交換等せずに、基板の反り量に応じた矯正を行うことが可能な基板チルト制御装置、基板チルト制御方法及び基板チルト制御プログラムを提供することができる。 As described above, according to the present invention, there is provided a substrate tilt control device, a substrate tilt control method, and a substrate tilt control program capable of performing correction according to the amount of warpage of a substrate without replacing members. Can be provided.
[第1の実施形態]
次に、本発明の実施の形態(以下、実施形態と呼ぶ)について、図面を参照して具体的に説明する。
[装置の構成]
まず、本発明を貼合装置(以下、本装置とする)として構成したものの一例を、図1を参照して説明する。なお、本装置は、ディスクの製造装置の一部を構成するものであり、本装置の上流工程に配設される基板の成型装置及び金属膜の形成装置、各装置間で基板を受け渡す機構等については、公知のあらゆる技術を適用可能であるため、説明を省略する。
[First Embodiment]
Next, embodiments of the present invention (hereinafter referred to as embodiments) will be specifically described with reference to the drawings.
[Device configuration]
First, an example of what constituted this invention as a bonding apparatus (henceforth this apparatus) is demonstrated with reference to FIG. The apparatus constitutes a part of a disk manufacturing apparatus. A substrate molding apparatus and a metal film forming apparatus disposed in an upstream process of the apparatus, and a mechanism for transferring a substrate between the apparatuses. Since any known technique can be applied to the above, the description thereof is omitted.
すなわち、本装置は、図1〜7に示すように、ディスク用の基板P1,P2が載置されるターンテーブル1、重ね合わされた基板P1,P2を貼り合せる貼合部2、紫外線を照射する紫外線照射部3、各部を制御する制御装置6とを備えている。ターンテーブル1は、基板P1を投入する第1の投入ポジション11、基板P2を投入する第2の投入ポジション12、貼合部2に対応する貼り合せポジション13、紫外線照射部3に対応する照射ポジション14、完成ディスクDを次工程に搬出する搬出ポジション15を有している。また、ターンテーブル1は、図示しない駆動源によって、上記のような各ポジションに合わせて間欠回転するように構成されている。
That is, as shown in FIGS. 1-7, this apparatus irradiates the
そして、第1の投入ポジション11、第2の投入ポジション12の近傍には、貼り合せ前の基板P1,P2の反り量を測定するチルト測定センサ51,52が設けられている。このチルト測定センサ51,52は、板面の位置に応じた距離の相違によって、反りの程度を検出する光学式のものが一般的であるが、特定のものには限定されない。
In the vicinity of the
貼合部2は、図2に示すように、基板P2を下方に押圧する押圧部である貼り合せプレート21、貼り合せプレート21を昇降させるシリンダ22、貼り合される基板P1,P2の周囲を覆う真空チャンバ(図示せず)を備えている。貼り合せプレート21は、ターンテーブル1の上部に配置された円形のプレートであり、基板P1,P2を載置したサセプタ4とともに、基板P1,P2を上下から挟持して押圧する一対の押圧部を構成している。
As shown in FIG. 2, the
シリンダ22は、垂下された駆動アーム22aの下端が、貼り合せプレート21の上面の中心に取り付けられ、貼り合せプレート21を昇降駆動するように構成されている。真空チャンバは、サセプタ4上の基板P1,P2、貼り合せプレート21を覆う容器形状であり、図示しない昇降機構によって昇降可能に設けられている。また、真空チャンバは、図示しない真空源に接続され、基板P1,P2の周囲の空間を真空引き可能に構成されている。
The
サセプタ4には、図3及び図4に示すように、載置された基板P1,P2の中心穴に対応する位置に、当接部41が設けられている。この当接部41は、通電により伸縮するピエゾ等の圧電素子である。当接部41は、基板P1,P2の中心穴に挿通される円筒部42と、その周囲に設けられ、基板P1の中心穴周囲の下面に当接するリング状の鍔部43とを有している。そして、当接部41に印加される電流値が変化すると、鍔部43の高さ(水平とした基板P1,P2の厚み方向の長さ)が変化して、サセプタ4の載置面と基板P1,P2との距離が変化する構成となっている。
As shown in FIGS. 3 and 4, the
例えば、本実施形態における当接部41は、図3に示すように、初期状態でサセプタ4の載置面と同じ高さであり、印加する電流をONにすると、図4に示すように、鍔部43が伸長してサセプタ4の中心部が持ち上がり、さらにOFFにすると、元の状態に戻ってサセプタ4の上面が水平になるように設計されている。そして、当接部41の伸び量は電流値で制御できるので、基板P1,P2を押圧して貼り合せた場合の反り量を可変とすることが可能となる。なお、当接部41は、後述する制御装置6に接続されており、制御装置6によって電流のON,OFF、電流値が調整される。さらに、紫外線照射部3は、貼り合わせ後の基板P1,P2に対して、紫外線の照射によって接着剤を硬化させる光源(図示せず)を備えている。
For example, as shown in FIG. 3, the
上記のような当接部41及びチルト測定センサ51,52は、当接部41への通電を制御する制御装置6に接続されている。この制御装置6は、図6の機能ブロック図に示すように、入力部61、記憶部62、調整部63を有している。入力部61は、例えば、キーボードやタッチパネル等のように、ユーザが矯正の目標となる基準チルト値を入力する手段である。記憶部62は、入力部61から入力された基準チルト値を記憶するメモリ等の手段である。調整部63は、チルト測定センサ51,52からの測定値と、記憶部62に記憶された基準チルト値とを比較して、当接部41への通電量を調整する手段である。
The
調整部63による調整の手法は、種々のものが考えられる。本実施形態においては、調整部63が、基準チルト値と測定値との差が、あらかじめ記憶部62等に設定されたしきい値を超えたか否かによって、通電のON,OFFを判定する調整判定部63aと、基準チルト値と測定値との差に基づいて、通電量を算出する調整値算出部63bと、算出された通電量による当接部41への通電を指示する調整指示部63cとを有している。調整値算出部63bによる通電量の算出は、基準チルト値と測定値との差に比例させて通電量を変化させてもよいし、他の関数や経験則によって求めてもよい。チルト測定センサ51,52の測定値をどのように利用するかも自由であり、例えば、値の大きい方や小さい方を採用したり、両者に所定の演算をすることによって求めた値(平均値等)を採用するなどが考えられる。
Various methods of adjustment by the
なお、制御装置6は、例えば、専用の電子回路若しくは所定のプログラムで動作するコンピュータ等によって実現できる。従って、以下に説明する手順で本装置の動作を制御するためのコンピュータプログラム及びこれを記録した記録媒体も、本発明の一態様である。さらに、ターンテーブル1の回転及び速度調整、シリンダ22による貼り合せプレート21の昇降、真空チャンバを昇降させる昇降機構及び真空源の動作タイミング、紫外線照射部の発光量及び発光タイミング等も、制御装置6によって制御されるが、そのための構成については、説明を省略する。
The
[作用]
以上のような本装置によって、基板P1,P2を貼り合せる方法を、図1〜6の構成図、図7のフローチャートを参照して説明する。まず、間欠回転するターンテーブル1へ、以下のように基板P1,P2が投入される。すなわち、図1に示すように、前工程において記録膜が形成され、上面に接着剤が塗布された基板P1が、サセプタ4に載置された状態で、第1の投入ポジション11からターンテーブル1上に投入される(ステップ701)。このとき、チルト測定センサ51によって、基板P1の反り量が測定される(ステップ702)。
[Action]
A method of bonding the substrates P1 and P2 using the present apparatus as described above will be described with reference to the configuration diagrams of FIGS. 1 to 6 and the flowchart of FIG. First, the substrates P1 and P2 are loaded into the
また、前工程において記録膜が形成され、接着剤が塗布された基板P2は、接着剤の塗布面を下にして、第2の投入ポジションにおいて、基板P1上に投入される(ステップ703)。このとき、チルト測定センサ52によって、基板P2の反り量が測定される(ステップ704)。 In addition, the substrate P2 on which the recording film is formed and the adhesive is applied in the previous process is loaded onto the substrate P1 at the second loading position with the adhesive coating surface down (step 703). At this time, the amount of warpage of the substrate P2 is measured by the tilt measurement sensor 52 (step 704).
測定された値は、制御装置6に入力され、調整判定部63aが、あらかじめ記憶された基準チルト値と測定値とに基づいて、通電が必要か否かを判定する(ステップ705)。通電が必要な場合には、調整値算出部63bが通電量を算出し(ステップ706)、調整指示部63cが、算出された通電量に基づいて、当接部41への通電を指示する(ステップ707)。この通電によって、図3及び図4に示すように、当接部41の鍔部43の高さが変化する(ステップ708)。一方、通電が不要な場合には(ステップ705)、当接部41の高さを変化させず(通電させず)、そのまま貼り合せに移行する。
The measured value is input to the
サセプタ4上に重ねられた基板P1,P2は、図1及び図2に示すように、ターンテーブル1の回転に従って貼合部2に移動する。そして、真空チャンバが下降して、サセプタ4上の基板P1,P2を覆う(ステップ709)。真空源によって、真空チャンバ内が真空引きされた後(ステップ710)、図5に示すように、シリンダ22が駆動され、貼り合せプレート21が下降して、基板P2を下方に押圧する(ステップ711)。すると、鍔部43の高さに応じて、基板P1,P2が反った状態で貼り合わされる(ステップ712)。当接部41は、基板P1,P2があらかじめ有していた反り量に応じて高さが調節されているので、その反りを矯正するように貼り合わされる。
As shown in FIGS. 1 and 2, the substrates P <b> 1 and P <b> 2 stacked on the
次に、貼り合せプレート21が上昇し(ステップ713)、大気が導入され(ステップ714)、真空チャンバが上昇することにより、貼り合わされた基板P1,P2(以下、ディスクDとする)が大気に解放される(ステップ715)。この状態で、ターンテーブル1が回転すると、紫外線照射部3へディスクDが移動して、光源から紫外線が照射され、接着剤が硬化する(ステップ716)。そして、搬出ポジション15へ移動したディスクDは、サセプタ4とともに他の工程へと搬出される(ステップ717)。
Next, the
[効果]
以上のような本実施形態によれば、基板P1と基板P2とを貼り合せる際に、あらかじめ測定された反り量に応じて、サセプタ4に設けられた当接部41の厚みを変化させることにより、部品の交換等をせずに反りの矯正を行うことができ、チルトを所望の範囲に抑えることが可能となる。特に、当接部41に圧電素子を用いることにより、矯正のための部材の所要スペースを極力抑えて、自動制御を行うことが可能となる。
[effect]
According to the present embodiment as described above, when the substrate P1 and the substrate P2 are bonded together, the thickness of the
[第2の実施形態]
[構成]
本実施形態は、上記の第1の実施形態における紫外線照射部3を、基板チルト制御装置として構成したものの一例である。すなわち、図8に示すように、紫外線照射部3には、貼り合せ後のディスクDを、その上方から押さえ付ける押さえ板31が設けられている。この押さえ板31は、シリンダ32によって昇降可能に設けられており、光源からの紫外線(白矢印)を透過できる材料、例えば、石英ガラスによって形成されている。その他の構成は、上記の第1の実施形態と同様である。
[Second Embodiment]
[Constitution]
The present embodiment is an example in which the
[作用]
以上のような本装置によって、ディスクDを矯正する方法を、図8及び図9を参照して説明する。なお、紫外線照射部3の上流及び下流の工程は、上記の第1の実施形態と同様である。貼り合せ時に矯正を行うこともできるし、行わなくてもよい。すなわち、貼合部2における貼り合せ後のディスクDは、調整判定部63aによって、通電が必要か否かが判定され、必要な場合には、調整値算出部63bが通電量を算出し、調整指示部63cが、算出された通電量に基づいて、当接部41への通電を指示する。この通電によって、当接部41の鍔部43の高さが変化する。一方、通電が不要な場合には、当接部41の高さを変化させない。
[Action]
A method of correcting the disk D by the present apparatus as described above will be described with reference to FIGS. The upstream and downstream processes of the
通電の要否判定、通電量の算出の基準となる測定値は、上記の第1の実施形態と同様に、貼り合せ前の基板P1,P2の反り量としてもよいし、貼合部2等にチルト測定センサを配設しておき、これによって測定されたディスクDの反り量としてもよい。そして、貼り合せ後のディスクDが、ターンテーブル1によって、紫外線照射部3に搬入される。このディスクDに対して、図9に示すように、光源から紫外線が照射されるとともに、シリンダ32が駆動され、押さえ板31が下降して、ディスクDを下方に押圧する。すると、鍔部43の高さに応じて、ディスクDが反った状態で貼り合わされる。当接部41は、高さが調節されているので、ディスクDが有する反りを矯正するように貼り合わされながら、紫外線によって接着剤が硬化する。
As in the first embodiment, the measurement value that is a criterion for determining whether or not energization is necessary may be the amount of warpage of the substrates P1 and P2 before bonding, or the
[効果]
以上のような本実施形態によれば、貼り合せ後にディスクDが、元に戻ろうとして反りが生じても、これを矯正させながら接着剤を硬化させることができるので、ディスクのチルトを所望の範囲に制御できる。特に、押さえ板31は、紫外線を透過する材料によって形成されているので、硬化を阻害することがない。
[effect]
According to the present embodiment as described above, even when the disk D is warped after being bonded, the adhesive can be cured while correcting the disk D, so that the disk can be tilted as desired. Can be controlled to a range. In particular, since the
[他の実施形態]
本発明は、上記のような実施形態に限定されるものではない。上記の実施形態においては、当接部をサセプタ中心部に配設することにより、ディスクの中心側が盛り上がったいわゆる−チルトをかける装置として構成されているが、例えば、図10に示すように、当接部をサセプタ外周部に環状に配設することによって、ディスクDの外周側が上がったいわゆる+チルトをかける装置として構成することもできる。
[Other Embodiments]
The present invention is not limited to the embodiment as described above. In the above embodiment, the contact portion is arranged at the center of the susceptor so that the center side of the disk rises, so-called -tilt device is provided. For example, as shown in FIG. By disposing the contact portion in an annular shape on the outer periphery of the susceptor, a so-called + tilt device in which the outer peripheral side of the disk D is raised can be configured.
また、チルト測定センサの配置位置としては、基板P1,P2の反り量、ディスクDの反り量を測定できればよいので、前工程、後工程若しくは搬送経路に配置されていてもよい。また、貼り合せ後若しくは紫外線硬化後のディスクの反り量を測定し、これが目標とする反り量となるように、当接部の通電量を制御するフィードバック制御を行ってもよい。目標とする基準チルト値は、必ずしも水平若しくはこれに近似した値である必要はなく、接着剤の硬化収縮、貼付されるラベルの収縮等を考慮したものであってもよい。通電量も、その都度算出させるのではなく、測定値に応じて、あらかじめデフォルトで登録された複数段階の通電量が選択される設定でもよい。 Further, as the position of the tilt measurement sensor, it is only necessary to be able to measure the warpage amount of the substrates P1 and P2 and the warpage amount of the disk D. Therefore, the tilt measurement sensor may be arranged in the pre-process, the post-process, or the transport path. Further, feedback control for controlling the energization amount of the contact portion may be performed so that the warpage amount of the disc after bonding or ultraviolet curing is measured and this becomes the target warpage amount. The target reference tilt value does not necessarily have to be a horizontal value or a value close thereto, and may be a value that takes into account the curing shrinkage of the adhesive, the shrinkage of the label to be applied, and the like. The energization amount may not be calculated each time, but may be a setting in which a plurality of energization amounts registered in advance as defaults are selected according to the measured value.
また、当接部の大きさ、種類、数、配置等は、上記の実施形態で例示したものには限定されない。複数配置(例えば、中心部側と外周側の双方)して、それぞれの高さを調節することにより、さらに精密な調整ができるようにしてもよい。当接部を設ける部材は、サセプタには限定されず、基板を載置できるものであれば、固定の台、ターンテーブル、コンベア等、どのようなものでもよい。上側の貼り合せプレートや押さえ板側に、当接部を設けてもよいし、上下に設けてもよい。基板やディスクを挟む押圧部は、いずれか一方が移動する構造であっても、双方が移動する構造であってもよい。 Further, the size, type, number, arrangement, and the like of the contact portion are not limited to those exemplified in the above embodiment. A plurality of arrangements (for example, both on the center portion side and the outer peripheral side) and adjusting the heights of each may be used to enable more precise adjustment. The member for providing the contact portion is not limited to the susceptor, and any member such as a fixed base, a turntable, or a conveyor may be used as long as the substrate can be placed thereon. The contact portion may be provided on the upper bonding plate or pressing plate side, or may be provided vertically. The pressing part that sandwiches the substrate and the disk may have a structure in which either one moves or a structure in which both move.
また、本発明の製造対象となるディスクは、その大きさ、形状、材質、記録層の数等は自由であり、既存のCDやDVD等の規格に限定されず、将来において採用されるあらゆる規格に適用可能である。さらに、本発明は、情報記録用のディスクのみならず、接着剤を用いて貼り合わされるあらゆる基板に適用することができる。つまり、基板の材質や形状、接着剤の種類も、上記の実施形態で例示したものには限定されない。例えば、基板の材質としては一般的なポリカーボネートの他、アクリル、エポキシ等の樹脂が考えられるが、これには限定されない。また、接着剤としても、現在又は将来において利用可能なあらゆる材質のものが適用可能である。放射線硬化型の樹脂のように、外部から広義の電磁波を照射したり、熱硬化型の樹脂のように、温度変化を加えることによって硬化するものも適用可能である。 In addition, the size, shape, material, number of recording layers, and the like of the disk to be manufactured according to the present invention are free, and are not limited to existing standards such as CD and DVD, but any standard that will be adopted in the future. It is applicable to. Furthermore, the present invention can be applied not only to an information recording disk but also to any substrate that is bonded using an adhesive. That is, the material and shape of the substrate and the type of adhesive are not limited to those exemplified in the above embodiment. For example, as a material of the substrate, resins such as acrylic and epoxy can be considered in addition to general polycarbonate, but the material is not limited thereto. Also, any material that can be used at present or in the future can be used as the adhesive. It is also possible to apply a material that is cured by irradiating a broad electromagnetic wave from the outside, such as a radiation curable resin, or by applying a temperature change, such as a thermosetting resin.
1…ターンテーブル
2…貼合部
3…紫外線照射部
4…サセプタ
6…制御装置
11…第1の投入ポジション
12…第2の投入ポジション
13…貼り合わせポジション
14…照射ポジション
15…搬出ポジション
21…貼り合せプレート
22,32…シリンダ
22a…駆動アーム
31…押さえ板
32…シリンダ
41…当接部
42…円筒部
43…鍔部
51,52チルト測定センサ
61…入力部
62…記憶部
63a…調整判定部
63b…調整値算出部
63c…調整指示部
P1,P2…基板
D…ディスク
DESCRIPTION OF
Claims (6)
基板の厚み方向の長さが可変の当接部が、前記押圧部の少なくとも一方における基板の一部に接離可能な位置に設けられていることを特徴とする基板チルト制御装置。 In a substrate tilt control device that has a pair of pressing portions for holding a substrate and controls the tilt of the substrate by pressing at least one of the pressing portions on the substrate,
A substrate tilt control device, wherein a contact portion whose length in the thickness direction of the substrate is variable is provided at a position where at least one of the pressing portions can come into contact with or separate from a part of the substrate.
制御目標となる基準チルト値を記憶する記憶手段と、
前記押圧部による押圧前若しくは押圧後の基板のチルト値を測定する測定手段と、
前記測定手段によって測定されたチルト値と、前記記憶手段に記憶された基準チルト値に基づいて、前記当接部への通電を調整する調整手段と、
を有することを特徴とする請求項1記載の基板チルト制御装置。 The contact portion is a piezoelectric element;
Storage means for storing a reference tilt value as a control target;
Measuring means for measuring the tilt value of the substrate before or after being pressed by the pressing portion;
Adjusting means for adjusting energization to the contact portion based on the tilt value measured by the measuring means and the reference tilt value stored in the storage means;
The substrate tilt control apparatus according to claim 1, further comprising:
基板が前記押圧部により狭持された場合に、前記押圧部の少なくとも一方に設けられ、基板の厚み方向の長さが可変の当接部が、基板の一部に接することを特徴とする基板チルト制御方法。 In the substrate tilt control method for controlling the tilt of the substrate by at least one of the pair of pressing portions pressing the substrate and sandwiching between the other pressing portions,
When the substrate is sandwiched by the pressing portion, a contact portion provided on at least one of the pressing portions and having a variable length in the thickness direction of the substrate is in contact with a part of the substrate. Tilt control method.
前記コンピュータは、入力手段、記憶手段、測定手段、調整手段を備え、
前記入力手段が、制御目標となる基準チルト値を入力し、
前記記憶手段が、前記入力手段が入力した基準チルト値を記憶し、
前記測定手段が、前記押圧部による押圧前若しくは押圧後の基板のチルト値を測定し、
前記調整手段が、前記測定手段によって測定されたチルト値と、前記記憶手段に記憶された基準チルト値とに基づいて、前記圧電素子への通電を調整することを特徴とする請求項4記載の基板チルト制御方法。 The contact portion is a piezoelectric element whose energization can be controlled by a computer,
The computer includes input means, storage means, measurement means, adjustment means,
The input means inputs a reference tilt value as a control target,
The storage means stores a reference tilt value input by the input means,
The measuring means measures the tilt value of the substrate before or after being pressed by the pressing portion;
5. The adjustment unit according to claim 4, wherein the adjustment unit adjusts energization to the piezoelectric element based on a tilt value measured by the measurement unit and a reference tilt value stored in the storage unit. Substrate tilt control method.
基板の厚み方向の長さが可変の当接部が、前記押圧部の少なくとも一方における基板の一部に接離可能な位置に設けられ、
前記当接部が、前記コンピュータによって通電を制御可能な圧電素子であり、
前記コンピュータに、
制御目標となる基準チルト値を入力させ、
入力された基準チルト値を記憶させ、
前記押圧部によって押圧された基板のチルト値を測定させ、
測定されたチルト値と、記憶された基準チルト値とに基づいて、前記圧電素子への通電を調整することを特徴とする基板チルト制御プログラム。 In a substrate tilt control program in which a substrate tilt control device that controls the tilt of a substrate by at least one of a pair of pressing portions pressing the substrate and sandwiching between the other pressing portions is controlled by a computer.
A contact portion having a variable length in the thickness direction of the substrate is provided at a position that can be contacted and separated from a part of the substrate in at least one of the pressing portions,
The contact portion is a piezoelectric element whose energization can be controlled by the computer,
In the computer,
Enter the reference tilt value that is the control target,
Store the input reference tilt value,
The tilt value of the substrate pressed by the pressing unit is measured,
A substrate tilt control program for adjusting energization to the piezoelectric element based on a measured tilt value and a stored reference tilt value.
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JP2005104263A JP2006286087A (en) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | Substrate tilt controller unit, substrate tilt control method, and substrate tilt control program |
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