JP2006282747A - 拭取り溶剤 - Google Patents

拭取り溶剤 Download PDF

Info

Publication number
JP2006282747A
JP2006282747A JP2005101838A JP2005101838A JP2006282747A JP 2006282747 A JP2006282747 A JP 2006282747A JP 2005101838 A JP2005101838 A JP 2005101838A JP 2005101838 A JP2005101838 A JP 2005101838A JP 2006282747 A JP2006282747 A JP 2006282747A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiping
solvent
cyclohexane
ethanol
metal mirror
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005101838A
Other languages
English (en)
Inventor
Tatsuya Kojima
龍也 小嶋
Shinsuke Motomiya
慎介 本宮
Takashi Takahashi
崇 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Topcon Corp
Original Assignee
Topcon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Topcon Corp filed Critical Topcon Corp
Priority to JP2005101838A priority Critical patent/JP2006282747A/ja
Publication of JP2006282747A publication Critical patent/JP2006282747A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)

Abstract

【課題】 半導体製造装置等の電気部品の接点不良を起こしてしまう危険がなく、また有機則や環境法令を遵守することができ、とくに金属鏡面を手拭き掃除する場合に汚れ残りがなく、乾きやすく、環境にやさしい手拭き溶剤を提供する。
【解決手段】 金属鏡面を拭き取るための拭取り溶剤が、エタノールとシクロヘキサンの混合液からなる。とくにエタノールとシクロヘキサンの混合比を重量モル比で4.5:5.5と5.5:4.5との間の割合にする。
【選択図】 なし

Description

本発明は、金属鏡面を拭き取るための拭取り溶剤に関する。
従来から、ガラス、プラスチック等の表面の手拭き溶剤として、様々なものが知られている(例えば特許文献1)。
また、古くからアルコール類とシロキサンを混合した手拭き用仕上げ液が知られている(例えば特許文献2)。
さらに、金属鏡面の手拭き溶剤としてメタノールが用いられていた。
特開平10−287899号公報 特開平5−331494号公報
しかしながら、金属鏡面の手拭き溶剤としてシロキサンを用いた場合、半導体製造装置等の電気部品の接点不良を起こしてしまう危険性がある。
また、メタノールを用いた場合、有機則や環境法令に違反してしまう。
このため、従来の手拭き溶剤に代替する溶剤が求められていた。
そこで、本発明は、電気部品の接点不良を起こしてしまう危険がなく、また有機則や環境法令を遵守することができ、とくに金属鏡面を手拭き掃除する場合に汚れ残りがなく、乾きやすく、環境にやさしい手拭き溶剤を提供することを目的とする。
そこで、上記課題を解決するため、本発明は、金属鏡面を拭き取るための拭取り溶剤において、エタノールとシクロヘキサン、イソヘキサンまたはシクロペンタンの混合液からなることを特徴とする拭取り溶剤である。
また、本発明は、エタノールとシクロヘキサン、イソヘキサンまたはシクロペンタンの混合比を重量モル比で4.5:5.5と5.5:4.5との間の割合にしたことを特徴とする拭取り溶剤である。
本発明によれば、エタノールとシクロヘキサン、イソヘキサンまたはシクロペンタンの混合液からなる拭取り溶剤であることから、電気部品の接点不良を起こすこともなく、また有機則や環境法令を遵守することができ、メタノールの代替溶剤として用いることができ、とくに金属鏡面を手拭き掃除する場合に汚れ残りがなく、乾きやすく、環境にやさしい溶剤を提供することができる。
発明を実施する最良の形態
本発明の手拭き溶剤は、シクロヘキサンとエタノールの混合液からなり、好ましい溶剤の混合比、およびその溶剤での作業結果は、以下の表1に示すとおりである。なお、混合比は、重量モル(%)による。
Figure 2006282747
表1に示す実験結果からも理解されるように、シクロヘキサンとエタノールの混合比を所定の割合、たとえば5:5の割合にすると、優れた手拭き効果を得られることがわかる。なお、混合比は5:5の割合に限定されず、シクロヘキサンとエタノールの混合比を4.5:5.5〜5.5:4.5の間の任意の割合にしても同様の効果を奏する。
この溶剤を、実際に金属表面の手拭き剤として用いたところ、鏡面の拭き取りシミの発生がなかった。
比較例として、従来のシロキサンからなる手拭き剤を実際に同じ金属鏡面に用いたところ、例えばシリコーンに対しては、汚れが残りやすく、汚れが残ったときには、特に電気部品の接点不良の問題を起こしてしまった。
また、紫外線域を使用する光学系にシロキサンからなる手拭き剤を用いたところ、表面にシリカが堆積して透過率が低下し、位相差特性が変わる問題が生じてしまった。
しかしながら、本発明によるエタノールとシクロヘキサンの混合液からなる拭取り溶剤を用いると、上記のような問題が発生せず、優れた手拭き溶剤の効果を奏することができた。
なお、上記実施例に限定されず、シクロヘキサンの代りにイソヘキサンやシクロペンタンであってもよい。

Claims (2)

  1. 金属鏡面を拭き取るための拭取り溶剤において、
    エタノールとシクロヘキサン、イソヘキサンまたはシクロペンタンとの混合液からなることを特徴とする拭取り溶剤。
  2. 請求項1に記載の拭取り溶剤において、
    エタノールとシクロヘキサン、イソヘキサンまたはシクロペンタンとの混合比を重量モル比で4.5:5.5と5.5:4.5との間の割合にしたことを特徴とする拭取り溶剤。

JP2005101838A 2005-03-31 2005-03-31 拭取り溶剤 Pending JP2006282747A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005101838A JP2006282747A (ja) 2005-03-31 2005-03-31 拭取り溶剤

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005101838A JP2006282747A (ja) 2005-03-31 2005-03-31 拭取り溶剤

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006282747A true JP2006282747A (ja) 2006-10-19

Family

ID=37404998

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005101838A Pending JP2006282747A (ja) 2005-03-31 2005-03-31 拭取り溶剤

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006282747A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4304154B2 (ja) 酸化剤および有機溶媒を含有するマイクロエレクトロニクス洗浄組成物
JP4188232B2 (ja) 選択的フォトレジストストリッピングおよびプラズマ灰化残渣洗浄のための、アンモニア不含フッ化物塩含有マイクロエレクトロニクス洗浄組成物
US7767636B2 (en) Nanoelectronic and microelectronic cleaning compositions
KR101080657B1 (ko) 세정 헹굼 방법
EP2215203B1 (en) High negative zeta potential polyhedral silsesquioxane composition and method for damage free semiconductor wet clean
KR101999641B1 (ko) 구리/아졸 중합체 억제를 갖는 마이크로일렉트로닉 기판 세정 조성물
JP4903242B2 (ja) 多金属デバイス処理のためのグルコン酸含有フォトレジスト洗浄組成物
JP4177758B2 (ja) 基板適合性が改善されたアンモニア不含アルカリ性マイクロエレクトロニクス洗浄組成物
JP2009114268A (ja) ポリイミド用剥離剤
JP2015232708A (ja) レジスト塗布性改善用及び除去用シンナー組成物
JP2006282747A (ja) 拭取り溶剤
JP5603948B2 (ja) 平板表示装置のガラス基板用洗浄剤組成物
JP2003082390A (ja) レンズ及びプリズム製造工程用洗浄剤組成物
JP6100669B2 (ja) 洗浄液組成物
JP2006342247A (ja) 洗浄剤組成物
JP5143379B2 (ja) アルカリ洗浄液
JP2007099796A (ja) 手拭用溶剤
JPH08224740A (ja) ガラスモールド用洗浄剤
JP2005028213A (ja) 洗浄方法
JP2006176700A (ja) 洗浄剤組成物
JP2003027268A (ja) 混合溶剤組成物
JP2001335979A (ja) 水切り溶剤組成物および水切り方法
JP2002220598A (ja) 1−ヒドロペルフルオロシクロアルカノール系洗浄剤
JP2002129067A (ja) 剥離液
KR20120015567A (ko) 저기포성 세정제 조성물