JP2006278340A - ディスプレイ装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】駆動電圧を低減することが可能なディスプレイ装置を提供すること。
【解決手段】一定の間隔で互いに離隔されるように配置される第1電極及び第2電極と,第1電極及び第2電極間に設けられ,第1電極と第2電極との間に電圧が印加されることによってその内部で電子を加速させる電子加速層と,電子加速層内部に注入されて密封され,電子加速層内部で加速した電子によって励起されて紫外線を発生させる複数の励起ガス粒子と,紫外線によって励起されて可視光を発生させる蛍光体層と,を備える。本発明では励起ガス粒子を励起させるほどのエネルギーしか必要ないので,放電ガスをイオン化させるほどの高いエネルギーが要求されるPDPに比べて駆動電圧を大きく下げることができ,発光効率も向上させることができる。
【選択図】図3

Description

本発明は,ディスプレイ装置に係り,詳細には,駆動電圧を下げることができ,発光効率を向上させることができる新しいディスプレイ装置に関する。
ディスプレイ装置の一種であるプラズマディスプレイパネル(PDP:Plasma Display Panel)は,電気的放電を利用して画像を形成する装置である。かかるPDPでは,電極に印加される直流または交流電圧によって上記電極間でプラズマ放電が起き,かかる放電によって発生する紫外線(UV:Ultraviolet)によって蛍光体が励起されて可視光を発散する。
上記PDPは,電極の配置構造により,対向放電構造のPDPと,面放電構造のPDPとに分類可能である。対向放電構造のPDPは,対をなす2つの維持電極がそれぞれ上部基板と下部基板とに配置され,放電が基板に垂直方向に起こる。そして,面放電構造のPDPは,対をなす2つの維持電極が同じ基板上に配置されて放電が基板に平行方向に起こる。
図1には,従来の交流型面放電構造のPDPが図示されている。そして,図2Aには,図1に図示されたPDPを横方向(X軸方向に平行に)切断した断面図が図示されている。また,図2Bには図1に図示されたPDPを縦方向(Y軸方向に平行に)に切断した断面が図示されている。
図1,図2A及び図2Bを参照すれば,下部基板10と上部基板20とが一定の間隔をおいて互いに対向に配置され,その間にプラズマ放電の起こる放電空間を形成する。上記下部基板10の上面には,複数のアドレス電極11が形成されており,このアドレス電極11は,第1誘電体層12により埋め込まれる。上記第1誘電体層12の上面には,放電空間を区画して複数の放電セル14を形成し,この放電セル14間の電気的,光学的クロストークを防止する複数の隔壁13が形成されている。上記放電セル14の内壁には,それぞれ赤色,緑色,青色の蛍光体層15が塗布されている。そして,上記放電セル14の内部には,放電ガスが充填される。
上記上部基板20は,可視光が透過できる透明基板であり,隔壁13が形成された下部基板10に結合される。上記上部基板20の下面には,放電セル14ごとに一対の維持電極21a,21bが上記アドレス電極11と直交する方向に形成されている。ここで,上記維持電極21a,21bは,可視光が透過できるように,主にITO(Indium Tin Oxide)のような透明な導電性材料からなる。そして,上記維持電極21a,21bのライン抵抗を減らすために,上記維持電極21a,21bの下面には,金属からなるバス電極22a,22bが上記維持電極21a,21bより狭幅に形成されている。上記維持電極21a,21b及びバス電極22a,22bは,透明な第2誘電体層23により埋め込まれる。そして,上記第2誘電体層23の下面には,酸化マグネシウム(MgO)からなる保護膜24が形成されている。上記保護膜24は,プラズマ粒子のスパッタリングによる第2誘電体層23の損傷を防止し,二次電子を放出して放電電圧を下げる役割を果たす。
しかし,従来のPDPによれば,放電セル14の内部で放電ガスがイオン化されつつプラズマ放電が起き,かかる放電により,放電ガスが励起された状態から安定化されつつUVが発生する。そして,このように発生したUVは,蛍光体層15を励起させて画像を形成する可視光を発生させる。しかし,上記のPDPでは,UVを発生させるために放電ガスをイオン化させることができる程度に高いエネルギーが必要になるので,エネルギーの面で効率が非常に落ちてしまうという短所がある。従って,駆動電圧は高く,発光効率は落ちるという問題点がある。
そこで,本発明は,このような問題に鑑みてなされたもので,その目的は,駆動電圧を下げることが可能な,新規かつ改良されたディスプレイ装置を提供することにある。
上記課題を解決するために,本発明のある観点によれば,一定の間隔で互いに離隔して配置される第1電極及び第2電極と;上記第1電極と上記第2電極との間に設けられ,上記第1電極と上記第2電極との間に電圧が印加されることによってその内部で電子を加速させる電子加速層と;上記電子加速層内部に注入されて密封され,上記電子加速層内部で加速した電子によって励起されて紫外線を発生させる複数の励起ガス粒子と;上記紫外線によって励起されて可視光を発生させる蛍光体層と;を備えることを特徴とするディスプレイ装置が提供される。
また,上記電子加速層は,酸化した多孔性シリコンまたは炭素ナノチューブ(Carbon Nano Tube)からなってもよい。
また,上記酸化した多孔性シリコンは,酸化した多孔性ポリシリコンまたは酸化した多孔性非晶質シリコンであってもよい。
また,上記励起ガス粒子は,キセノン,窒素,重水素及びクリプトンからなる群から選択された少なくとも1つのガス粒子を含んでもよい。
また,上記蛍光体層は,上記第2電極の上面に形成されてもよい。
また,上記励起ガス粒子は,上記第2電極に隣接するように配置されてもよい。
また,上記第2電極は,透明電極からなってもよい。
また,上記第1電極が形成される第1基板及び上記第2電極が形成される第2基板をさらに備えてもよい。
また,上記第1基板及び上記第2基板は,ガラス基板であってもよい。
また,上記第1基板及び上記第2基板は,フレキシブル基板であってもよい。
また,上記蛍光体層は,上記第2基板の外面に形成されてもよい。
また,上記蛍光体層は,上記第2基板の内面に形成されてもよい。
また,上記蛍光体層は,上記電子加速層両側の上記第1基板と上記第2基板との間に形成されてもよい。
上記課題を解決するために,本発明の別の観点によれば,一定の間隔で互いに離隔して配置される第1電極及び第2電極と;上記第1電極と上記第2電極との間に設けられ,上記第1電極と上記第2電極との間に電圧が印加されることによってその内部で電子を加速させる電子加速層と;上記第2電極と上記電子加速層との間に形成され,上記電子加速層から放出された加速した電子によって励起されて紫外線を発生させる複数の励起ガス粒子を含む励起ガス層と;上記紫外線によって励起されて可視光を発生させる蛍光体層と;を備えることを特徴とするディスプレイ装置が提供される。
また,上記電子加速層は,酸化した多孔性シリコンまたは炭素ナノチューブからなってもよい。
また,上記酸化した多孔性シリコンは,酸化した多孔性ポリシリコンまたは酸化した多孔性非晶質シリコンであってもよい。
また,上記励起ガス粒子は,キセノン,窒素,重水素及びクリプトンからなる群から選択された少なくとも1つのガス粒子を含んでもよい。
また,上記第1電極が形成される第1基板及び上記第2電極が形成される第2基板をさらに備えてもよい。
また,上記第1基板及び第2基板は,ガラス基板であってもよい。
また,上記第1基板及び第2基板は,フレキシブル基板であってもよい。
また,上記蛍光体層は,上記第2基板の外面に形成されてもよい。
また,上記蛍光体層は,上記第2基板の内面に形成されてもよい。
また,上記蛍光体層は,上記電子加速層両側の上記第1基板と上記第2基板との間に形成されてもよい。
上記課題を解決するために,本発明の別の観点によれば,一定の間隔で互いに離隔されるように配置される第1電極及び第2電極と;上記第1電極の内面に設けられ,上記第1電極と上記第2電極との間に電圧が印加されることによってその内部で電子を加速させる第1電子加速層と;上記第2電極の内面に設けられ,上記第1電極と上記第2電極との間に電圧が印加されることによってその内部で電子を加速させる第2電子加速層と;上記第1電子加速層と上記第2電子加速層との間に形成され,上記第1電子加速層又は第2電子加速層のうち,いずれか一層から放出された加速した電子によって励起されて紫外線を発生させる複数の励起ガス粒子を含む励起ガス層と;上記紫外線によって励起されて可視光を発生させる蛍光体層と;を備えることを特徴とするディスプレイ装置が提供される。
また,上記第1電極と上記第2電極との間には,交流電圧が印加されてもよい。
また,上記第1電子加速層及び上記第2電子加速層は,酸化した多孔性シリコンまたは炭素ナノチューブからなってもよい。
また,上記酸化した多孔性シリコンは,酸化した多孔性ポリシリコンまたは酸化した多孔性非晶質シリコンであってもよい。
また,上記励起ガス粒子は,キセノン,窒素,重水素及びクリプトンからなる群から選択された少なくとも1つのガス粒子を含んでもよい。
また,上記第1電極が形成される第1基板及び上記第2電極が形成される第2基板をさらに備えてもよい。
また,上記第1基板及び上記第2基板は,ガラス基板であってもよい。
また,上記第1基板及び上記第2基板は,フレキシブル基板であってもよい。
また,上記蛍光体層は,上記第2基板の外面に形成されてもよい。
また,上記蛍光体層は,上記第2基板の内面に形成されてもよい。
また,上記蛍光体層は,上記第1電子加速層及び上記第2電子加速層両側の上記第1基板と上記第2基板との間に形成されてもよい。
以上説明したように,本発明によれば,励起ガス粒子を励起させるほどのエネルギーしか必要ないので,放電ガスをイオン化させるほどの高いエネルギーが要求されるPDPに比べて駆動電圧を大きく下げることができ,発光効率も向上させることができる。
以下に,添付した図面を参照しながら,本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお,本明細書及び図面において,実質的に同一の機能構成を有する発明特定事項については,同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
図3は,本発明の第1実施形態によるディスプレイ装置の一部を概略的に図示した断面図である。
図3を参照すれば,第1電極111と第2電極121とが一定の間隔で配置されている。ここで,上記第2電極121は,透明な導電性物質であるITOからなってもよい。そして,上記第1電極111と第2電極121との間には,電子加速層130が設けられている。上記電子加速層130は,第1電極111と第2電極121との間に所定電圧が印加されることにより,その内部で電子(e)を加速させる役割を果たす。かかる電子加速層130は,酸化した多孔性シリコンまたはCNT(Carbon Nano Tube:炭素ナノチューブ)からなってもよい。ここで,上記酸化した多孔性シリコンは,酸化した多孔性ポリシリコンまたは酸化した多孔性非晶質シリコンであってもよい。図3には,第1電極111と第2電極121との間に直流電圧が印加されて第1電極111及び第2電極121がそれぞれカソード電極及びアノード電極になる場合が図示されているが,その場合,第1電極111から電子加速層130に電子が流れ込み,そのように流れ込んだ電子は,上記電子加速層130を通過しつつ第2電極121側に加速される。一方,上記第1電極111及び第2電極121間には,交流電圧が印加されることもあるが,その場合には,第1電極111と第2電極121とから電子が交互に上記電子加速層130に流れ込んで加速される。
そして,上記電子加速層130の内部には,複数の励起ガス粒子135が注入されて密封される。上記励起ガス粒子135は,上記電子加速層130を介して加速した電子によって励起されてUVを発生させる。ここで,上記励起ガス粒子135は,透過率の高い長波長のUVを発生させるガス粒子を含むことが望ましい。上記励起ガス粒子135は,キセノン,窒素,重水素及びクリプトンからなるグループから選択された少なくとも1つのガス粒子を含むことができる。
上記第2電極121の上面(第1電極と対向する面と反対側の面)には,所定色相を生成する蛍光体層115が形成されている。一方,画像を形成するディスプレイ装置では,蛍光体層115が画素それぞれに対応し,赤色光,緑色光及び青色光を生成する。上記蛍光体層115は,電子加速層130内の励起ガス粒子135から発生したUVによって励起されて所定色相の可視光を出射させる。
上記のような構造を有するディスプレイ装置で,第1電極111と第2電極121との間に所定電圧を印加すれば,電子加速層130に流入された電子は,電子加速層130内で加速される。そして,そのように加速した電子は,電子加速層130内の励起ガス粒子135を励起させ,そのように励起された励起ガス粒子135が安定化されつつUVを発生させる。次に,上記UVは,第2電極121を透過した後で蛍光体層115を励起させ,所定色相の可視光を発生させることによって所望の画像を形成する。
以上のように,本実施形態によるディスプレイ装置では,励起ガス粒子を励起させるほどのエネルギーしか必要ないので,放電ガスをイオン化させるほどのエネルギーが要求されるPDPよりは,はるかに低い駆動電圧によって駆動されうる。例えば,PDPでは,放電ガスとしてキセノンが使われる場合に,上記キセノンをイオン化させるために12.13eV以上のエネルギーが必要であるのに対し,本実施形態によるディスプレイ装置では,励起ガス粒子135としてキセノン粒子が使われる場合に,電子加速層130の内部で加速した電子が8.28eV〜12.13eVのエネルギーだけ有すれば,上記キセノンを励起させることができる。
また,本実施形態のように,電子加速層130内で加速した電子は,表面の仕事関数(surface work function),及び電子と電極との間のスキャッタリングによるエネルギー減少がないために,電子加速層130内で加速されて外部に放出される電子より,ほぼ5eVほど高いエネルギーを有することができ,駆動電圧は,さらに低くすることができる。従って,ほぼ20V以下の電圧でも駆動が可能になる。そして,電子加速層130内で加速した電子が電子加速層130の内部にある励起ガス粒子135を励起させるので,電子と第2電極121との衝突によって第2電極121が劣化される可能性は,低くなる。従って,かかる第2電極121の安定性により,ディスプレイ装置の寿命が延長されうる。
図4は,本発明の第1実施形態によるディスプレイ装置の変形例を概略的に図示した断面図であり,図4を参照すれば,励起ガス粒子135’が第2電極121に隣接するように電子加速層130の上部に位置している。このように,励起ガス粒子135’が電子加速層130の上部に位置すれば,励起ガス粒子135’から発生するUVが電子加速層130による損失なしに蛍光体層115に到達できる。
図5は,本発明の第2実施形態によるディスプレイ装置の一部を概略的に図示した断面図である。
図5を参照すれば,下部基板である第1基板210と上部基板である第2基板220が一定の間隔で互いに対向するように配置されている。ここで,上記第1基板210及び第2基板220は,透明なガラス基板であってもよい。一方,上記第1基板210及び第2基板220は,屈曲性を有するディスプレイ装置の製作のために,プラスチック基板のような,フレキシブル基板になることもある。
上記第1基板210の内面(第2基板側の表面)には,第1電極211が形成されており,上記第2基板220の内面(第1基板側の表面)には,第2電極221が形成されている。ここで,上記第2電極221は,ITOからなってもよい。上記第1電極211と第2電極221との間には,第1電極211と第2電極221との間に所定電圧が印加されることによってその内部に流入された電子を加速させる電子加速層230が設けられている。ここで,第1電極211及び第2電極221間には,直流または交流電圧が印加されうる。上記電子加速層230は,酸化した多孔性シリコンまたはCNTであってもよい。ここで,上記酸化した多孔性シリコンは,酸化した多孔性ポリシリコンまたは酸化した多孔性非晶質シリコンであってもよい。
上記電子加速層230の内部には,上記電子加速層230を介して加速した電子によって励起されてUVを発生させる複数の励起ガス粒子235が注入されて密封される。ここで,上記励起ガス粒子235は,前述のように,高透過率の長波長のUVを発生させるガス粒子を含むことが望ましく,キセノン,窒素,重水素及びクリプトンからなる群から選択された少なくとも1つのガス粒子を含むことができる。
上記第2基板220の上面(外面:第1基板に対向する面と反対側の面)には,蛍光体層215が形成されている。上記電子加速層230内の励起ガス粒子235から発生したUVは,上記第2電極221及び第2基板220を透過して上記蛍光体層215を励起させることにより,所定色相の可視光を発生させる。
図6Aは,励起ガス粒子として窒素ガス粒子を使用した場合,上記窒素ガス粒子の励起シード(excited species)から出てくるUVスペクトルを表したグラフである。そして,図6Bは,上記窒素ガス粒子の励起シードから出てくるUVがガラス基板(厚さ:2.8mm)及び前面パネルを透過する場合における上記UVの透過率を表したグラフである。図6Bでの前面パネルは,ガラス基板と上記ガラス基板に形成されたITO電極とから構成されている。
図6A及び図6Bを参照すれば,窒素ガス粒子の励起シードからは,波長がそれぞれ337nm,358nm及び381nmのUVが発生し,かかるUVが前面パネルを透過する透過率はそれぞれ31%,66%及び73%ほどになるということが分かる。これにより,電子加速層内部で発生するUVは,ガラス基板上に形成された蛍光体層を十分に励起させるほどにITO電極及びガラス基板を透過するということが分かる。
図7は,本発明の第2実施形態の変形例によるディスプレイ装置を図示した断面図であり,図7を参照すれば蛍光体層215’は,上部基板である第2基板220と第2電極221との間に形成されることもある。
図8は,本発明の第3実施形態によるディスプレイ装置の一部を概略的に図示した断面図である。
図8を参照すれば,第1基板310と第2基板320とが一定の間隔で互いに対向するように配置されている。ここで,上記第1基板310及び第2基板320は,ガラス基板またはフレキシブル基板であってもよい。
上記第1基板310及び第2基板320の内面(お互いに対向する面)には,それぞれ第1電極311及び第2電極321が形成されている。そして,上記第1電極311と第2電極321との間には,第1電極311と第2電極321との間に所定電圧が印加されることによってその内部に流入された電子を加速させる電子加速層330が上記第1電極311及び第2電極321と同幅に設けられている。ここで,第1電極311及び第2電極321間には,直流または交流電圧が印加されてもよい。上記電子加速層330は,酸化した多孔性シリコンまたはCNTからなってもよい。ここで,上記酸化した多孔性シリコンは,酸化した多孔性ポリシリコンまたは酸化した多孔性非晶質シリコンであってもよい。上記電子加速層330の内部には,上記電子加速層330を介して加速した電子によって励起されてUVを発生させる複数の励起ガス粒子335が注入されて密封される。一方,蛍光体層315は,上記第1電極311及び第2電極321,電子加速層330両側の第1基板310と第2基板320との間に形成されている。
上記のような構造のディスプレイ装置で,第1電極311と第2電極321との間に所定電圧が印加されることによって上記電子加速層330内部に流入された電子が加速され,そのように加速した電子は,電子加速層330内の励起ガス粒子335を励起させてUVを発生させる。そして,上記UVは,電子加速層330の両側に形成された蛍光体層315を励起させて所定色相の可視光を発生させて,その可視光は,上部基板である第2基板320を介して出射されることにより画像を形成する。
図9は,本発明の第4実施形態によるディスプレイ装置の一部を概略的に図示した断面図である。
図9を参照すれば,下部基板である第1基板410と上部基板である第2基板420とが一定の間隔で互いに対向するように配置されている。ここで,上記第1基板410及び第2基板420は,ガラス基板またはフレキシブル基板であってもよい。上記第1基板410及び第2基板420の内面(お互いに対向する面)には,それぞれ第1電極411及び第2電極421が形成されている。ここで,上記第2電極421は,ITOからなってもよい。そして,上記第1電極411の上面には,第1電極411と第2電極421との間に所定電圧が印加されることによってその内部に流入された電子を加速させる電子加速層430が形成されている。ここで,第1電極411及び第2電極421間には,直流または交流電圧が印加されうる。上記電子加速層430は,酸化した多孔性シリコンまたはCNTからなってもよい。ここで,上記酸化した多孔性シリコンは,酸化した多孔性ポリシリコンまたは酸化した多孔性非晶質シリコンであってもよい。
上記電子加速層430と第2電極421との間には,励起ガス層440が形成されている。上記励起ガス層440は,電子加速層430の内部で加速されて上記電子加速層430外部に放出された電子によって励起されてUVを発生させる複数の励起ガス粒子435を含んでいる。ここで,上記励起ガス粒子435は,前述のように,高透過率の長波長のUVを発生させるガス粒子を含むことが望ましく,キセノン,窒素,重水素及びクリプトンからなるグループから選択された少なくとも1つのガス粒子を含むことができる。そして,上記第2基板420の上面には,励起ガス層440から発生したUVによって励起されて所定色相の可視光を発生させる蛍光体層415が形成されている。
上記のような構造のディスプレイ装置で,第1電極411と第2電極421間に所定電圧が印加されれば,電子が電子加速層430の内部に電子が流入されて加速され,そのように加速した電子は,電子加速層430の外部に放出される。そして,そのように放出された電子は,励起ガス層440の励起ガス粒子435を励起させることによってUVを発生させる。次に,上記励起ガス層440から発生したUVは,第2電極421及び第2基板420を透過して蛍光体層415を励起させ,それによって上記蛍光体層415から可視光が出射されて画像を形成する。
図10は,本発明の第5実施形態によるディスプレイ装置の一部を概略的に図示した断面図である。
図10を参照すれば,第1基板510と第2基板520とが一定の間隔で互いに対向するように配置されている。ここで,上記第1基板510及び第2基板520は,ガラス基板またはフレキシブル基板であってもよい。上記第1基板510及び第2基板520の内面(お互いに対向する面)には,それぞれ第1電極511及び第2電極521が形成されている。そして,上記第1電極511の上面には,第1電極511と第2電極521との間に所定電圧が印加されることによってその内部に流入された電子を加速させる電子加速層530が上記第1電極511及び第2電極521と同幅に形成されている。ここで,第1電極511及び第2電極521間には,直流または交流電圧が印加されてもよい。上記電子加速層530は,酸化した多孔性シリコンまたはCNTからなってもよい。ここで,上記酸化した多孔性シリコンは,酸化した多孔性ポリシリコンまたは酸化した多孔性非晶質シリコンであってもよい。
上記電子加速層530と第2電極521との間には,励起ガス層540が上記電子加速層530と同幅に形成されている。上記励起ガス層540は,上記電子加速層530から放出された電子によって励起されてUVを発生させる複数の励起ガス粒子535を含んでいる。一方,蛍光体層515は,上記第1電極511及び第2電極521,電子加速層530及び励起ガス層540両側の第1基板510と第2基板520との間に形成されている。
上記のような構造のディスプレイ装置で,上記電子加速層530から放出された電子は,励起ガス層540の励起ガス粒子535を励起させてUVを発生させる。次に,上記励起ガス層540から発生したUVは,励起ガス層540の両側に形成された蛍光体層515を励起させて所定色相の可視光を発生させ,その可視光は,上部基板である第2基板520を介して出射されることにより画像を形成する。
図11は,本発明の第6実施形態によるディスプレイ装置の一部を概略的に図示した断面図である。
図11を参照すれば,下部基板である第1基板610と上部基板である第2基板620とが一定の間隔で互いに対向するように配置されている。ここで,上記第1基板610及び第2基板620は,ガラス基板またはフレキシブル基板であってもよい。上記第1基板610及び第2基板620の内面(お互いに対向する面)には,それぞれ第1電極611及び第2電極621が形成されている。ここで,上記第2電極621は,ITOからなってもよい。
上記第1電極611の上面(内面:第2電極側の面)には,上記第1電極611から流入された電子を第2電極621側に加速させる第1電子加速層630aが形成されている。そして,上記第2電極621の下面(内面:第1電極側の面)には,上記第2電極621から流入された電子を第1電極611側に加速させる第2電子加速層630bが形成されている。上記第1電子加速層630a及び第2電子加速層630bは,酸化した多孔性シリコンまたはCNTからなってもよい。ここで,上記酸化した多孔性シリコンは,酸化した多孔性ポリシリコンまたは酸化した多孔性非晶質シリコンであってもよい。そして,上記第1電子加速層630aと第2電子加速層630bとの間には,励起ガス層640が形成されている。上記励起ガス層640は,上記第1電子加速層630a又は第2電子加速層630bから放出された電子によって励起されてUVを発生させる複数の励起ガス粒子635を含んでいる。ここで,上記励起ガス粒子635は,前述のようにキセノン,窒素,重水素及びクリプトンからなるグループから選択された少なくとも1つのガス粒子を含むことができる。
そして,上記第2基板620の上面(第1基板とは反対側の面)には,励起ガス層640から発生したUVによって励起されて所定色相の可視光を発生させる蛍光体層615が形成されている。
上記のような構造のディスプレイ装置で,第1電極611と第2電極621との間に所定の交流電圧が印加されれば,上記第1電子加速層630a内で加速した電子と第2電子加速層630b内で加速した電子とが交互に励起ガス層640の内部に放出される。そして,そのように放出された電子は,励起ガス層640の励起ガス粒子635を励起させることによってUVを発生させる。次に,上記励起ガス層640から発生したUVは,第2電子加速層630b,第2電極621及び第2基板620を透過して蛍光体層615を励起させ,それにより,上記蛍光体層615から可視光が出射されて画像を形成する。
図12は,本発明の第7実施形態によるディスプレイ装置の一部を概略的に図示した断面図である。
図12を参照すれば,第1基板710と第2基板720とが一定の間隔で互いに対向するように配置されている。ここで,上記第1基板710及び第2基板720は,ガラス基板またはフレキシブル基板であってもよい。上記第1基板710及び第2基板720の内面(お互いに対向する面)には,それぞれ第1電極711及び第2電極721が形成されている。
上記第1電極711の上面(内面:第2電極側の面)には,上記第1電極711から流入された電子を第2電極721側に加速させる第1電子加速層730aが第1電極711と同幅に形成されている。そして,上記第2電極721の下面(内面:第1電極側の面)には,上記第2電極721から流入された電子を第1電極711側に加速させる第2電子加速層730bが第2電極721と同幅に形成されている。上記第1電子加速層730a及び第2電子加速層730bは,酸化した多孔性シリコンまたはCNTからなってもよい。ここで,上記酸化した多孔性シリコンは,酸化した多孔性ポリシリコンまたは酸化した多孔性非晶質シリコンであってもよい。そして,上記第1電子加速層730aと第2電子加速層730bとの間には,励起ガス層740が第1電子加速層730a及び第2電子加速層730bと同幅に形成されている。上記励起ガス層740は,上記第1電子加速層730a及び第2電子加速層730bから放出された電子によって励起されてUVを発生させる複数の励起ガス粒子735を含んでいる。一方,蛍光体層715は,上記第1電極711及び第2電極721,第1電子加速層730a及び第2電子加速層730b,励起ガス層740の両側に,第1基板710と第2基板720との間に形成されている。
上記のような構造のディスプレイ装置で,第1電極711と第2電極721との間に交流電圧が印加されれば,上記第1電子加速層730a内で加速した電子と第2電子加速層730b内で加速した電子とが交互に励起ガス層740の内部に放出される。そして,そのように放出された電子は,励起ガス層740の励起ガス粒子735を励起させることによってUVを発生させる。次に,上記励起ガス層740から発生したUVは,励起ガス層740の両側に形成された蛍光体層715を励起させて所定色相の可視光を発生させ,その可視光は,上部基板である第2基板720を介して出射されることにより画像を形成する。
本実施形態は,大型ディスプレイ装置やLCD用のバックライトに適用され,フレキシブル基板を使用する場合には,フレキシブルなディスプレイ装置も製作が可能になる。また,励起ガス粒子を励起させる程度のエネルギーが必要であるため、放電による不要なエネルギー消耗がなくなる。従って、同一な輝度を表示しても消費電力が減るため、発光効率が増加する。
以上,添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが,本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば,特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において,各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり,それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
本発明は,ディスプレイ装置に適用可能である。
従来の一般的なPDPの分解斜視図である。 図1に図示されたPDPの断面図である。(X方向に平行な方向に切った断面図) 図1に図示されたPDPの断面図である。(Y方向に平行な方向に切った断面図) 本発明の第1実施形態にかかるディスプレイ装置の概略的な断面図である。 本発明の第1実施形態にかかるディスプレイ装置の変形例の断面面である。 本発明の第2実施形態にかかるディスプレイ装置の概略的な断面図である。 窒素ガス粒子の励起シードから出てくるUVスペクトルを表したグラフである。 窒素ガス粒子の励起シードから出てくるUVの前面パネルに対する透過度を表したグラフである。 本発明の第2実施形態にかかるディスプレイ装置の変形例の断面面である。 本発明の第3実施形態にかかるディスプレイ装置の概略的な断面図である。 本発明の第4実施形態にかかるディスプレイ装置の概略的な断面図である。 本発明の第5実施形態にかかるディスプレイ装置の概略的な断面図である。 本発明の第6実施形態にかかるディスプレイ装置の概略的な断面図である。 本発明の第7実施形態にかかるディスプレイ装置の概略的な断面図である。
符号の説明
10 上部基板
11 アドレス電極
12 誘電体層
13 隔壁
14 放電セル
15,115,215,215’315,415,515,615,715 蛍光体層
20 下部基板
21a,21b 維持電極
22a,22b バス電極
23 第2誘電体層
24 保護膜
111,211,311,411,511,611,711 第1電極
121,221,321,421,521,621,721 第2電極
130,230,330,430,530 電子加速層
135,135’,235,335,435,535,635,735 励起ガス粒子
210,310,410,510,610,710 第1基板
220,320,420,520,620,720 第2基板
440,540,640,740 励起ガス層
630a,730a 第1電子加速層
630b,730b 第2電子加速層

Claims (34)

  1. 一定の間隔で互いに離隔して配置される第1電極及び第2電極と;
    前記第1電極と前記第2電極との間に設けられ,前記第1電極と前記第2電極との間に電圧が印加されることによってその内部で電子を加速させる電子加速層と;
    前記電子加速層内部に注入されて密封され,前記電子加速層内部で加速した電子によって励起されて紫外線を発生させる複数の励起ガス粒子と;
    前記紫外線によって励起されて可視光を発生させる蛍光体層と;
    を備えることを特徴とするディスプレイ装置。
  2. 前記電子加速層は,酸化した多孔性シリコンまたは炭素ナノチューブからなることを特徴とする,請求項1に記載のディスプレイ装置。
  3. 前記酸化した多孔性シリコンは,酸化した多孔性ポリシリコンまたは酸化した多孔性非晶質シリコンであることを特徴とする,請求項2に記載のディスプレイ装置。
  4. 前記励起ガス粒子は,キセノン,窒素,重水素及びクリプトンからなる群から選択された少なくとも1つのガス粒子を含むことを特徴とする,請求項1に記載のディスプレイ装置。
  5. 前記蛍光体層は,前記第2電極の上面に形成されることを特徴とする,請求項1〜4のいずれかに記載のディスプレイ装置。
  6. 前記励起ガス粒子は,前記第2電極に隣接するように配置されることを特徴とする,請求項5に記載のディスプレイ装置。
  7. 前記第2電極は,透明電極からなることを特徴とする,請求項5または6に記載のディスプレイ装置。
  8. 前記第1電極が形成される第1基板及び前記第2電極が形成される第2基板をさらに備えることを特徴とする,請求項1〜7のいずれかに記載のディスプレイ装置。
  9. 前記第1基板及び前記第2基板は,ガラス基板であることを特徴とする,請求項8に記載のディスプレイ装置。
  10. 前記第1基板及び前記第2基板は,フレキシブル基板であることを特徴とする,請求項8に記載のディスプレイ装置。
  11. 前記蛍光体層は,前記第2基板の外面に形成されることを特徴とする,請求項8〜10のいずれかに記載のディスプレイ装置。
  12. 前記蛍光体層は,前記第2基板の内面に形成されることを特徴とする,請求項8〜10のいずれかに記載のディスプレイ装置。
  13. 前記蛍光体層は,前記電子加速層両側の前記第1基板と前記第2基板との間に形成されることを特徴とする,請求項8〜10のいずれかに記載のディスプレイ装置。
  14. 一定の間隔で互いに離隔して配置される第1電極及び第2電極と;
    前記第1電極と前記第2電極との間に設けられ,前記第1電極と前記第2電極との間に電圧が印加されることによってその内部で電子を加速させる電子加速層と;
    前記第2電極と前記電子加速層との間に形成され,前記電子加速層から放出された加速した電子によって励起されて紫外線を発生させる複数の励起ガス粒子を含む励起ガス層と;
    前記紫外線によって励起されて可視光を発生させる蛍光体層と;
    を備えることを特徴とするディスプレイ装置。
  15. 前記電子加速層は,酸化した多孔性シリコンまたは炭素ナノチューブからなることを特徴とする,請求項14に記載のディスプレイ装置。
  16. 前記酸化した多孔性シリコンは,酸化した多孔性ポリシリコンまたは酸化した多孔性非晶質シリコンであることを特徴とする,請求項15に記載のディスプレイ装置。
  17. 前記励起ガス粒子は,キセノン,窒素,重水素及びクリプトンからなる群から選択された少なくとも1つのガス粒子を含むことを特徴とする,請求項14〜16のいずれかに記載のディスプレイ装置。
  18. 前記第1電極が形成される第1基板及び前記第2電極が形成される第2基板をさらに備えることを特徴とする,請求項14〜17のいずれかに記載のディスプレイ装置。
  19. 前記第1基板及び第2基板は,ガラス基板であることを特徴とする,請求項18に記載のディスプレイ装置。
  20. 前記第1基板及び第2基板は,フレキシブル基板であることを特徴とする,請求項18に記載のディスプレイ装置。
  21. 前記蛍光体層は,前記第2基板の外面に形成されることを特徴とする,請求項18〜20のいずれかに記載のディスプレイ装置。
  22. 前記蛍光体層は,前記第2基板の内面に形成されることを特徴とする,請求項18〜20のいずれかに記載のディスプレイ装置。
  23. 前記蛍光体層は,前記電子加速層両側の前記第1基板と前記第2基板との間に形成されることを特徴とする請求項18〜20のいずれかに記載のディスプレイ装置。
  24. 一定の間隔で互いに離隔されるように配置される第1電極及び第2電極と;
    前記第1電極の内面に設けられ,前記第1電極と前記第2電極との間に電圧が印加されることによってその内部で電子を加速させる第1電子加速層と;
    前記第2電極の内面に設けられ,前記第1電極と前記第2電極との間に電圧が印加されることによってその内部で電子を加速させる第2電子加速層と;
    前記第1電子加速層と前記第2電子加速層との間に形成され,前記第1電子加速層又は第2電子加速層のうち,いずれか一層から放出された加速した電子によって励起されて紫外線を発生させる複数の励起ガス粒子を含む励起ガス層と;
    前記紫外線によって励起されて可視光を発生させる蛍光体層と;
    を備えることを特徴とするディスプレイ装置。
  25. 前記第1電極と前記第2電極との間には,交流電圧が印加されることを特徴とする,請求項24に記載のディスプレイ装置。
  26. 前記第1電子加速層及び前記第2電子加速層は,酸化した多孔性シリコンまたは炭素ナノチューブからなることを特徴とする,請求項24または25に記載のディスプレイ装置。
  27. 前記酸化した多孔性シリコンは,酸化した多孔性ポリシリコンまたは酸化した多孔性非晶質シリコンであることを特徴とする,請求項26に記載のディスプレイ装置。
  28. 前記励起ガス粒子は,キセノン,窒素,重水素及びクリプトンからなる群から選択された少なくとも1つのガス粒子を含むことを特徴とする,請求項24〜27のいずれかに記載のディスプレイ装置。
  29. 前記第1電極が形成される第1基板及び前記第2電極が形成される第2基板をさらに備えることを特徴とする,請求項24〜28のいずれかに記載のディスプレイ装置。
  30. 前記第1基板及び前記第2基板は,ガラス基板であることを特徴とする,請求項29に記載のディスプレイ装置。
  31. 前記第1基板及び前記第2基板は,フレキシブル基板であることを特徴とする,請求項29に記載のディスプレイ装置。
  32. 前記蛍光体層は,前記第2基板の外面に形成されることを特徴とする,請求項29〜31のいずれかに記載のディスプレイ装置。
  33. 前記蛍光体層は,前記第2基板の内面に形成されることを特徴とする請求項29〜31のいずれかに記載のディスプレイ装置。
  34. 前記蛍光体層は,前記第1電子加速層及び前記第2電子加速層両側の前記第1基板と前記第2基板との間に形成されることを特徴とする,請求項29〜31のいずれかに記載のディスプレイ装置。

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