JP2006278214A - Manufacturing method of functional board, functional board and electronic equipment - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a functional board capable of flattening the top surfaces on the functional layers of all sizes even if the functional layers of different sizes are dried under the same condition, and to provide the functional board and electronic equipment. <P>SOLUTION: This invention relates to the manufacturing method of a functional board comprising a substrate and many functional layers of different sizes which are formed at each position corresponding to the multiple color elements on the substrate. This method includes the process wherein the substrate, on which many zones served as the color elements are formed, and the droplet discharge means having a nozzle for discharging liquid droplets are moved relatively, and liquid materials including solvents used for forming the predefined functional layers (spacer Ps, electron hole transport layer Ot, and light emitting layer Or) are discharged as liquid droplets from the nozzle to be selectively applied to those multiple zones; and the process wherein the functional layers are formed by drying the liquid materials applied to the zones for forming the functional layers. Depending on the size of the functional layers, the solvents with different vapor pressure at normal temperature are selectively used as those liquid materials for forming the functional layers. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、機能板の製造方法、機能板および電子機器に関するものである。   The present invention relates to a function plate manufacturing method, a function plate, and an electronic apparatus.

従来、有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置(有機ELディスプレイ)は、表示モジュールとして、例えば、携帯電話やPDA等の携帯用の電子機器に搭載されている。
このような有機EL表示装置の発光層は、いわゆるインクジェット法により形成される(例えば、特許文献1参照)。すなわち、発光層形成用の液状材料をノズルから液滴として吐出して付与し、乾燥させることにより形成される。これにより、フォトリソグラフィ工程によって形成する場合に比べ、製造工程数が減少し、生産性を向上させることができる等の利点がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, an organic EL (electroluminescence) display device (organic EL display) is mounted as a display module on a portable electronic device such as a mobile phone or a PDA.
The light emitting layer of such an organic EL display device is formed by a so-called ink jet method (see, for example, Patent Document 1). That is, it is formed by discharging and applying a liquid material for forming a light emitting layer as droplets from a nozzle and drying. Thereby, compared with the case where it forms by a photolithographic process, there exists an advantage that the number of manufacturing processes reduces and productivity can be improved.

また、輝度の低い色の発光層や、寿命の短い色の発光層については、他の色の発光層に比べて、その画素サイズを大きくすることにより、輝度の向上や、寿命の向上を図ることができることが知られている。
そして、インクジェット法による発光層の形成においては、製造時間の短縮を図るため、複数の異なる大きさ(画素サイズ)の発光層を同時に、同一の条件で乾燥させる。
In addition, for a light emitting layer with a low luminance or a light emitting layer with a short lifetime, the luminance and the lifetime are improved by increasing the pixel size as compared with the light emitting layers of other colors. It is known that it can be.
In the formation of the light emitting layer by the ink jet method, a plurality of light emitting layers having different sizes (pixel sizes) are simultaneously dried under the same conditions in order to shorten the manufacturing time.

ところで、発光層は、その厚さが均一であり、発光層の上側の表面(上面)は、平面であるのが好ましいが、発光層の大きさ(画素サイズ)が異なると、乾燥速度(乾燥し易さ)が異なる(発光層の大きさが大きいほど、乾燥速度が遅い)ので、複数の異なる大きさの発光層が存在する場合、これらの発光層の上面をすべて平面とすることは困難である。
すなわち、例えば、大小、2つの大きさの発光層が存在する場合、小さい発光層に最適な乾燥条件で乾燥を行なうと、大きい発光層にとっては、乾燥速度が遅過ぎてしまい、その大きい発光層は、上面が、平面にはならず、湾曲凸面となってしまう。逆に、大きい発光層に最適な乾燥条件で乾燥を行なうと、小さい発光層にとっては、乾燥速度が速過ぎてしまい、その小さい発光層は、上面が、平面にはならず、湾曲凹面となってしまう。
したがって、小さい発光層に最適な乾燥条件と大きい発光層に最適な乾燥条件の略中間の乾燥条件で乾燥を行なうのが一般的であるが、この場合も、大きい発光層の上面は、湾曲凸面、小さい発光層の上面は、湾曲凹面となる。
By the way, it is preferable that the light emitting layer has a uniform thickness, and the upper surface (upper surface) of the light emitting layer is preferably a flat surface. However, if the size of the light emitting layer (pixel size) is different, the drying speed (drying) Easiness) is different (the larger the size of the light emitting layer, the slower the drying speed), so when there are multiple light emitting layers of different sizes, it is difficult to make all the upper surfaces of these light emitting layers flat. It is.
That is, for example, when there are large and small light emitting layers, if drying is performed under optimum drying conditions for the small light emitting layer, the drying speed is too slow for the large light emitting layer, and the large light emitting layer The upper surface does not become a flat surface but becomes a curved convex surface. On the other hand, when drying is performed under optimum drying conditions for a large light emitting layer, the drying speed is too high for a small light emitting layer, and the upper surface of the small light emitting layer is not a flat surface but a curved concave surface. End up.
Therefore, it is common to perform drying under a drying condition that is approximately intermediate between the optimal drying condition for the small light emitting layer and the optimal drying condition for the large light emitting layer. The upper surface of the small light emitting layer is a curved concave surface.

特開平11−54270号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-54270

本発明の目的は、異なる大きさの機能層を同一条件で乾燥させる場合でも、すべての大きさの機能層の上側の表面(上面)を平面とすることができる機能板の製造方法、機能板および電子機器を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a functional plate manufacturing method and a functional plate capable of making the upper surface (upper surface) of functional layers of all sizes flat even when functional layers of different sizes are dried under the same conditions. And providing electronic equipment.

このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の機能板の製造方法は、基体と、前記基体上の複数の色要素に対応する部分にそれぞれ形成され、複数の異なる大きさの機能層とを備える機能板の製造方法であって、
色要素となるべき複数の区画が形成された基体と、液滴を吐出するノズルを有する液滴吐出手段とを相対的に移動させ、溶媒を含み、所定の機能層形成用の液状材料を前記ノズルから液滴として吐出して前記複数の区画に選択的に付与する工程と、
前記区画に付与された機能層形成用の液状材料を乾燥して、機能層を形成する工程とを有し、
前記機能層の大きさに応じて、前記機能層形成用の液状材料の溶媒として、常温において異なる蒸気圧のものを選択して用いることを特徴とする。
これにより、異なる大きさの機能層を同一条件で乾燥させる場合でも、すべての大きさの機能層の上側の表面(上面)を平面とすること、すなわち、膜厚(層厚)にバラツキが生じるのを防止することができる。
Such an object is achieved by the present invention described below.
The method for producing a functional plate of the present invention is a method for producing a functional plate comprising a base and a plurality of functional layers having different sizes, each formed on a portion corresponding to a plurality of color elements on the base.
A liquid material for forming a predetermined functional layer containing a solvent is relatively moved by moving a substrate on which a plurality of sections to be color elements are formed and a droplet discharge means having a nozzle for discharging droplets, Selectively ejecting the plurality of compartments by discharging them as droplets from a nozzle;
Drying the liquid material for forming a functional layer applied to the section to form a functional layer,
Depending on the size of the functional layer, the solvent for the liquid material for forming the functional layer may be selected from those having different vapor pressures at room temperature.
As a result, even when functional layers of different sizes are dried under the same conditions, the upper surface (upper surface) of functional layers of all sizes is made flat, that is, the film thickness (layer thickness) varies. Can be prevented.

本発明の機能板の製造方法では、前記機能層の大きさが大きいほど、その機能層形成用の液状材料に用いる溶媒として、常温において蒸気圧が大きいものを選択して用いることが好ましい。
これにより、より確実に、すべての大きさの機能層の上側の表面(上面)を平面とすることができる。
In the method for producing a functional plate of the present invention, it is preferable to select and use a solvent having a higher vapor pressure at room temperature as the solvent used for the liquid material for forming the functional layer as the size of the functional layer is larger.
Thereby, the upper surface (upper surface) of the functional layers of all sizes can be made flat more reliably.

本発明の機能板の製造方法では、前記区画に付与された機能層形成用の液状材料の乾燥は、減圧下で行なわれることが好ましい。
これにより、液状材料の乾燥速度を高めることができ、膜厚のバラツキを防止する効果がより顕著に発揮される。
本発明の機能板の製造方法では、前記機能層形成用の液状材料には、前記溶媒として2種以上のものが含まれることが好ましい。
例えば、沸点の異なる2種以上のもの、特に、比較的高沸点のものと中程度のものとを含むことにより、ノズルからの液滴の安定した吐出を可能とすることができるとともに、液滴(液体材料)の円滑な乾燥を図ることができる。
In the method for producing a functional plate of the present invention, it is preferable that the liquid material for forming the functional layer provided to the section is dried under reduced pressure.
Thereby, the drying rate of a liquid material can be raised and the effect which prevents the variation in film thickness is exhibited more notably.
In the method for producing a functional plate of the present invention, the liquid material for forming the functional layer preferably contains two or more kinds of solvents as the solvent.
For example, by including two or more types having different boiling points, particularly those having a relatively high boiling point and those having a relatively high boiling point, it is possible to stably discharge droplets from the nozzle, Smooth drying of the (liquid material) can be achieved.

本発明の機能板の製造方法では、前記機能層は、発光層であり、
前記機能層形成用の液状材料は、発光層形成用の液状材料であり、
当該機能板は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置であることが好ましい。
本発明は、各種機能板の製造への適用に適するが、特に、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造への適用に適する。
In the method for producing a functional plate of the present invention, the functional layer is a light emitting layer,
The liquid material for forming the functional layer is a liquid material for forming the light emitting layer,
The functional plate is preferably an organic electroluminescence display device.
The present invention is suitable for application to the production of various functional plates, but is particularly suitable for application to the production of an organic electroluminescence display device.

本発明の機能板の製造方法では、赤色、緑色および青色の前記発光層を有し、
前記青色の発光層が最も大きく、該青色の発光層の発光層形成用の液状材料の溶媒として、常温において蒸気圧が最も大きいものを選択して用いることが好ましい。
青色の発光層の構成材料、すなわち、青色の発光材料は、比較的寿命(耐久性)の短い材料が多いため、本発明は、特に、青色の発光層を他の色の発光層より大きく形成する有機エレクトロルミネッセンス表示装置への適用に適している。
In the method for producing a functional plate of the present invention, the light emitting layers of red, green and blue are included,
It is preferable to select and use the solvent having the largest vapor pressure at room temperature as the solvent of the liquid material for forming the light emitting layer of the blue light emitting layer, which has the largest blue light emitting layer.
Since many constituent materials of the blue light-emitting layer, that is, the blue light-emitting material have a relatively short lifetime (durability), the present invention particularly forms the blue light-emitting layer larger than the light-emitting layers of other colors. It is suitable for application to an organic electroluminescence display device.

本発明の機能板の製造方法では、赤色、緑色および青色の前記発光層を有し、
前記赤色の発光層が最も大きく、該赤色の発光層の発光層形成用の液状材料の溶媒として、常温において蒸気圧が最も大きいものを選択して用いることが好ましい。
本発明は、特定の色の発光層を他の色の発光層より大きく形成する有機エレクトロルミネッセンス表示装置への適用に適している。
In the method for producing a functional plate of the present invention, the light emitting layers of red, green and blue are included,
It is preferable to select and use the solvent of the liquid material for forming the light emitting layer of the red light emitting layer having the largest vapor pressure at room temperature.
The present invention is suitable for application to an organic electroluminescence display device in which a light emitting layer of a specific color is formed larger than light emitting layers of other colors.

本発明の機能板の製造方法では、赤色、緑色および青色の前記発光層を有し、
前記緑色の発光層が最も大きく、該緑色の発光層の発光層形成用の液状材料の溶媒として、常温において蒸気圧が最も大きいものを選択して用いることが好ましい。
本発明は、特定の色の発光層を他の色の発光層より大きく形成する有機エレクトロルミネッセンス表示装置への適用に適している。
本発明の機能板の製造方法では、複数色の前記発光層を有し、該発光層の大きさが色毎に異なり、
最も大きな発光層の発光層形成用の液状材料の溶媒として、常温において蒸気圧が最も大きいものを選択して用いることが好ましい。
本発明は、特定の色の発光層を他の色の発光層より大きく形成する有機エレクトロルミネッセンス表示装置への適用に適している。
In the method for producing a functional plate of the present invention, the light emitting layers of red, green and blue are included,
It is preferable to select and use the solvent having the largest vapor pressure at room temperature as the solvent of the liquid material for forming the light emitting layer of the green light emitting layer, which has the largest green light emitting layer.
The present invention is suitable for application to an organic electroluminescence display device in which a light emitting layer of a specific color is formed larger than light emitting layers of other colors.
In the method for producing a functional plate of the present invention, the light emitting layer has a plurality of colors, and the size of the light emitting layer is different for each color.
As the solvent for the liquid material for forming the light emitting layer of the largest light emitting layer, it is preferable to select and use a solvent having the highest vapor pressure at room temperature.
The present invention is suitable for application to an organic electroluminescence display device in which a light emitting layer of a specific color is formed larger than light emitting layers of other colors.

本発明の機能板の製造方法では、前記機能層は、カラーフィルタであり、
前記機能層形成用の液状材料は、カラーフィルタ形成用の液状材料であり、
当該機能板は、カラーフィルタ付基板であることが好ましい。
本発明は、各種機能板の製造への適用に適するが、特に、カラーフィルタ付基板の製造への適用に適する。
In the method for producing a functional plate of the present invention, the functional layer is a color filter,
The liquid material for forming the functional layer is a liquid material for forming a color filter,
The functional plate is preferably a substrate with a color filter.
The present invention is suitable for application to the production of various functional boards, but is particularly suitable for application to the production of a substrate with a color filter.

本発明の機能板は、基体と、前記基体上の複数の色要素に対応する部分にそれぞれ形成され、複数の異なる大きさの機能層とを備える機能板であって、
前記機能層は、該機能層の大きさに応じて選択された蒸気圧の溶媒を含む所定の機能層形成用の液状材料を、ノズルから液滴として吐出して付与し、乾燥させて形成されたものであることを特徴とする。
これにより、各機能層の膜厚のバラツキを防止して、信頼性の高い機能板が得られる。
本発明の電子機器は、本発明の機能板の製造方法により製造された機能板を備えることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い電子機器が得られる。
The functional plate of the present invention is a functional plate comprising a base and a plurality of functional layers of different sizes, each formed on a portion corresponding to a plurality of color elements on the base,
The functional layer is formed by discharging a liquid material for forming a predetermined functional layer containing a solvent having a vapor pressure selected according to the size of the functional layer as droplets from a nozzle and drying the liquid material. It is characterized by that.
Thereby, the variation in the film thickness of each functional layer is prevented, and a highly reliable functional board is obtained.
The electronic device of the present invention includes a functional plate manufactured by the method for manufacturing a functional plate of the present invention.
As a result, a highly reliable electronic device can be obtained.

以下、本発明の機能板の製造方法、機能板および電子機器を添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
<第1実施形態>
図1は、本発明の機能板を適用した有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置(有機ELディスプレイ)を有する有機EL表示モジュールの実施形態を示す平面図、図2は、有機EL表示装置の第1実施形態におけるガラス基板上に形成された赤色、緑色、青色の各色に対応するサブピクセルのうち、赤色に対応したサブピクセルを示す断面図、図3は、有機EL表示装置の第1実施形態における有機EL素子を示す断面図、図4は、有機EL表示装置の第1実施形態における各色に対応する画素回路(各色に対応するサブピクセル)からの光の出射を説明するための図、図5は、有機EL表示装置の第1実施形態におけるスペーサの形成方法を説明するための図、図6は、有機EL表示装置の第1実施形態における発光層の形成方法を説明するための図である。
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, a method for manufacturing a functional plate, a functional plate, and an electronic device according to the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
<First Embodiment>
FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of an organic EL display module having an organic EL (electroluminescence) display device (organic EL display) to which the functional plate of the present invention is applied, and FIG. 2 is a first view of the organic EL display device. Sectional drawing which shows the sub pixel corresponding to red among the sub pixels corresponding to each color of red, green, and blue formed on the glass substrate in embodiment, FIG. 3 is in 1st Embodiment of an organic electroluminescence display. FIG. 4 is a cross-sectional view showing an organic EL element, and FIG. 4 is a diagram for explaining light emission from a pixel circuit (subpixel corresponding to each color) corresponding to each color in the first embodiment of the organic EL display device. FIG. 6 is a diagram for explaining a method for forming a spacer in the first embodiment of the organic EL display device, and FIG. 6 is a method for forming a light emitting layer in the first embodiment of the organic EL display device. Description is a diagram for.

なお、以下の説明では、説明の便宜上、図1および図2中の上側を「上」、下側を「下」、右側を「右」、左側を「左」と言う。図3〜図6中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
図1に示すように、有機EL表示モジュール10は、有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置(有機ELディスプレイ)11を有しており、その有機EL表示装置11の図中下側にはフレキシブル基板12が接続されている。
In the following description, for convenience of explanation, the upper side in FIGS. 1 and 2 is referred to as “upper”, the lower side as “lower”, the right side as “right”, and the left side as “left”. The upper side in FIGS. 3 to 6 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”.
As shown in FIG. 1, the organic EL display module 10 includes an organic EL (electroluminescence) display device (organic EL display) 11, and a flexible substrate 12 is disposed below the organic EL display device 11 in the figure. Is connected.

有機EL表示装置11は、本実施形態ではトップエミッション型(トップエミッション構造)の表示装置(ディスプレイ)であって、平面板状の基板としてのガラス基板(基板)13を備えている。そのガラス基板13の表面(画素形成面13a)の略中央位置には、四角形状の表示領域14が形成されている。
その表示領域14内には、図1において上下方向(列方向)に延びる複数のデータ線Ldと、各データ線Ldに併設される電源線Lvとが所定の間隔をおいて配列されている。また、データ線Ldと直交する方向(行方向)に延びる複数の走査線Lsが所定の間隔をおいて配列されている。これらデータ線Ldと走査線Lsの交差する位置には、それぞれ赤色(R)、緑色(G)、青色(B)にそれぞれ対応したサブピクセル15R、15G、15Bが形成されている。すなわち、サブピクセル15R、15G、15Bが、それぞれ対応するデータ線Ld、電源線Lvおよび走査線Lsに接続されることによってマトリックス状に、繰り返し配列されている。そして、走査線Ls上の、順番に繰り返し配設される赤色、緑色、青色に対応したサブピクセル15R、15G、15Bをそれぞれ一つの組として、画素回路15を構成している。
In the present embodiment, the organic EL display device 11 is a top emission type (top emission structure) display device (display), and includes a glass substrate (substrate) 13 as a flat plate-like substrate. A rectangular display region 14 is formed at a substantially central position on the surface of the glass substrate 13 (pixel formation surface 13a).
In the display area 14, a plurality of data lines Ld extending in the vertical direction (column direction) in FIG. 1 and power supply lines Lv provided alongside the data lines Ld are arranged at a predetermined interval. A plurality of scanning lines Ls extending in a direction (row direction) orthogonal to the data line Ld are arranged at a predetermined interval. Sub-pixels 15R, 15G, and 15B respectively corresponding to red (R), green (G), and blue (B) are formed at positions where the data lines Ld and the scanning lines Ls intersect. That is, the subpixels 15R, 15G, and 15B are repeatedly arranged in a matrix by being connected to the corresponding data line Ld, power supply line Lv, and scanning line Ls, respectively. Then, the pixel circuit 15 is configured with the sub-pixels 15R, 15G, and 15B corresponding to red, green, and blue arranged repeatedly in order on the scanning line Ls as one set.

画素回路15は、駆動電流が供給されることによって発光する電気光学素子としての有機EL素子(有機エレクロトルミネッセンス素子)16、その有機EL素子16の発光を制御する薄膜トランジスタ(TFT)17、さらには図示しない容量素子等を有している。
なお、本実施形態では、赤色用の有機EL素子16と緑色用の有機EL素子16とが略等しい大きさ(画素サイズ)で設けられ、これらより青色用の有機EL素子16が大きい大きさ(画素サイズ)で設けられている。
The pixel circuit 15 includes an organic EL element (organic electroluminescence element) 16 as an electro-optical element that emits light when supplied with a drive current, a thin film transistor (TFT) 17 that controls light emission of the organic EL element 16, and It has a capacitor element (not shown).
In this embodiment, the organic EL element 16 for red and the organic EL element 16 for green are provided with substantially the same size (pixel size), and the organic EL element 16 for blue is larger than these (pixel size). (Pixel size).

画素形成面13aの一側端であって表示領域14の左側には、COG(Chip on glass )方式で実装される走査線駆動回路18が形成されている。走査線駆動回路18は、前記各走査線Lsに対して、走査線Ls上のサブピクセル15R、15G、15Bを選択するための走査信号を出力するようになっている。また、走査線駆動回路18は、図示しないプリント基板に接続されて、そのプリント基板の制御用IC等から出力される制御信号に基づいて、前記走査信号を所定の走査線Lsに所定のタイミングで出力するようになっている。そして、画素形成面13aの略全面を四角形状の保護ガラス基板13b(図1における2点鎖線)で覆うことによって、これら走査線駆動回路18および表示領域14が保護されるようになっている。   A scanning line driving circuit 18 mounted by a COG (Chip on glass) method is formed on one side end of the pixel formation surface 13 a and on the left side of the display region 14. The scanning line driving circuit 18 outputs a scanning signal for selecting the sub-pixels 15R, 15G, and 15B on the scanning line Ls with respect to each scanning line Ls. The scanning line driving circuit 18 is connected to a printed circuit board (not shown), and sends the scanning signal to a predetermined scanning line Ls at a predetermined timing based on a control signal output from a control IC or the like of the printed circuit board. It is designed to output. The scanning line driving circuit 18 and the display area 14 are protected by covering substantially the entire surface of the pixel formation surface 13a with a rectangular protective glass substrate 13b (two-dot chain line in FIG. 1).

画素形成面13aの一側端であって表示領域14の下側には、データ線端子形成部19が形成されている。そのデータ線端子形成部19には、各データ線Ldに対応する複数のデータ線端子(図示しない)が形成されている。各データ線端子は、例えば、銅箔等で形成される端子であって、ガラス基板13の下側辺13cに沿って等ピッチで配列されてそれぞれ対応するデータ線Ldに電気的に接続されている。そして、各データ線端子が前記保護ガラス基板13bから露出することによって、各データ線Ldが、外部との電気的な接続を可能にする。   A data line terminal forming portion 19 is formed on one side end of the pixel forming surface 13a and below the display area. In the data line terminal forming portion 19, a plurality of data line terminals (not shown) corresponding to the respective data lines Ld are formed. Each data line terminal is, for example, a terminal formed of copper foil or the like, arranged at an equal pitch along the lower side 13c of the glass substrate 13, and electrically connected to the corresponding data line Ld. Yes. Each data line Ld can be electrically connected to the outside by exposing each data line terminal from the protective glass substrate 13b.

図1に示すように、画素形成面13aの一側端であってデータ線端子形成部19の表側には、フレキシブル基板12が接続されている。そのフレキシブル基板12には、基板本体20が備えられている。基板本体20は、上下方向に長い長尺状に形成された可撓性基板であって電気的絶縁性を有するポリイミド樹脂等で形成されている。そして、フレキシブル基板12は、その基板本体20の表面(図1における裏側の面)を画素形成面13aと向かい合わせるように配設されている。基板本体20の表面であって、前記データ線端子形成部19と対向する位置には、外部端子形成部23が設けられている。その外部端子形成部23には、複数の接続端子(図示しない)が前記データ線端子と相対するピッチ幅で形成されている。そして、フレキシブル基板12は、いわゆる異方性導電膜(ACF)方式によって各接続端子と対応するデータ線端子とを電気的に接続して有機EL表示装置11(有機EL表示モジュール10)に実装される。   As shown in FIG. 1, the flexible substrate 12 is connected to one side end of the pixel forming surface 13 a and the front side of the data line terminal forming portion 19. The flexible substrate 12 is provided with a substrate body 20. The substrate body 20 is a flexible substrate formed in a long shape in the vertical direction, and is formed of a polyimide resin or the like having electrical insulation. The flexible substrate 12 is arranged so that the surface (the back surface in FIG. 1) of the substrate body 20 faces the pixel forming surface 13a. An external terminal forming portion 23 is provided on the surface of the substrate body 20 at a position facing the data line terminal forming portion 19. In the external terminal forming portion 23, a plurality of connection terminals (not shown) are formed with a pitch width opposite to the data line terminals. The flexible substrate 12 is mounted on the organic EL display device 11 (organic EL display module 10) by electrically connecting each connection terminal and the corresponding data line terminal by a so-called anisotropic conductive film (ACF) method. The

外部端子形成部23の下側には、駆動用ICチップ27が配設されている。駆動用ICチップ27は、有機EL素子16を発光させるための駆動信号および駆動電圧を生成し供給する。駆動用ICチップ27は、前記異方性導電膜(ACF)方式によって基板本体20(フレキシブル基板12)に実装されている。
そして、その駆動用ICチップ27の出力側(有機EL表示装置11側)に形成された図示しない接続端子と前記外部端子形成部23に形成された接続端子とが出力配線30によって接続されることによって、駆動用ICチップ27が、各データ線Ldおよび電源線Lvと電気的に接続される。また、駆動用ICチップ27の入力側(図1中下側)に形成された図示しない接続端子と図示しないプリント基板の制御用ICが入力配線31によって接続されることによって、駆動用ICチップ27が、その制御用ICと電気的に接続される。
A driving IC chip 27 is disposed below the external terminal forming portion 23. The driving IC chip 27 generates and supplies a driving signal and a driving voltage for causing the organic EL element 16 to emit light. The driving IC chip 27 is mounted on the substrate body 20 (flexible substrate 12) by the anisotropic conductive film (ACF) method.
Then, a connection terminal (not shown) formed on the output side (the organic EL display device 11 side) of the driving IC chip 27 and a connection terminal formed on the external terminal forming portion 23 are connected by the output wiring 30. Thus, the driving IC chip 27 is electrically connected to each data line Ld and the power supply line Lv. Further, a connection terminal (not shown) formed on the input side (lower side in FIG. 1) of the driving IC chip 27 and a control IC of a printed board (not shown) are connected by the input wiring 31, whereby the driving IC chip 27. Are electrically connected to the control IC.

そして、駆動用ICチップ27は、制御用ICから出力される制御信号に基づいて、駆動電圧を電源線Lvに供給するとともに、データ信号を所定のデータ線Ldに所定のタイミングで出力する。すなわち、駆動用ICチップ27が前記走査信号によって選択された画素回路15(サブピクセル15R、15G、15B)に前記データ信号を出力すると、画素回路15(サブピクセル15R、15G、15B)の有機EL素子16がそのデータ信号に基づいて発光する。
このように、本実施形態では、赤色、緑色、青色にそれぞれ対応したサブピクセル15R、15G、15Bを設けることにより、フルカラー表示を行うように構成されている。
The driving IC chip 27 supplies a driving voltage to the power supply line Lv and outputs a data signal to a predetermined data line Ld at a predetermined timing based on a control signal output from the control IC. That is, when the driving IC chip 27 outputs the data signal to the pixel circuit 15 (subpixels 15R, 15G, 15B) selected by the scanning signal, the organic EL of the pixel circuit 15 (subpixels 15R, 15G, 15B). The element 16 emits light based on the data signal.
As described above, the present embodiment is configured to perform full-color display by providing the subpixels 15R, 15G, and 15B corresponding to red, green, and blue, respectively.

次に、前記サブピクセル15R、15G、15Bについて説明するが、これらは、後述する陽極Pc、すなわち、スペーサPsの膜厚(厚さ)が互いに異なり、発光層Orの構成材料が異なる以外は同様であるので、以下、代表的に、サブピクセル15Rについて説明する(サブピクセル15G、15Bの図示および説明は省略する)。
図2に示すように、TFT17は、その最下層にチャンネル膜B1を備えている。チャンネル膜B1は、画素形成面13a上に形成される島状のp型ポリシリコン膜であって、図2における左右両側には、活性化した図示しないn型領域(ソース領域およびドレイン領域)を備えている。すなわち、TFT17は、いわゆるポリシリコン形TFTである。
Next, the sub-pixels 15R, 15G, and 15B will be described. These are the same except that the film thickness (thickness) of the anode Pc described later, that is, the spacer Ps, is different from each other and the constituent material of the light emitting layer Or is different. Therefore, the subpixel 15R will be typically described below (illustration and description of the subpixels 15G and 15B are omitted).
As shown in FIG. 2, the TFT 17 includes a channel film B1 in its lowermost layer. The channel film B1 is an island-shaped p-type polysilicon film formed on the pixel formation surface 13a, and activated n-type regions (source region and drain region) (not shown) are formed on the left and right sides in FIG. I have. That is, the TFT 17 is a so-called polysilicon type TFT.

チャンネル膜B1の上側中央位置には、画素形成面13a側から順に、ゲート絶縁膜D0、ゲート電極Pgおよびゲート配線M1が形成されている。ゲート絶縁膜D0は、例えば、シリコン酸化膜等の光透過性を有する絶縁膜であって、画素形成面13aの略全面に堆積されている。ゲート電極Pgは、例えば、タンタル等の低抵抗金属膜であって、チャンネル膜B1の略中央位置に形成されている。ゲート配線M1は、例えば、ITO等の光透過性を有する透明導電膜であって、ゲート電極Pgと駆動用ICチップ27(図1参照)とを電気的に接続している。そして、駆動用ICチップ27がゲート配線M1を介してゲート電極Pgにデータ信号を入力すると、TFT17は、そのデータ信号に基づいてオン状態となる。   A gate insulating film D0, a gate electrode Pg, and a gate wiring M1 are formed in order from the pixel formation surface 13a side at the upper center position of the channel film B1. The gate insulating film D0 is a light-transmitting insulating film such as a silicon oxide film, for example, and is deposited on substantially the entire pixel formation surface 13a. The gate electrode Pg is, for example, a low-resistance metal film such as tantalum, and is formed at a substantially central position of the channel film B1. The gate wiring M1 is, for example, a transparent conductive film having optical transparency such as ITO, and electrically connects the gate electrode Pg and the driving IC chip 27 (see FIG. 1). When the driving IC chip 27 inputs a data signal to the gate electrode Pg via the gate wiring M1, the TFT 17 is turned on based on the data signal.

チャンネル膜B1であって前記ソース領域およびドレイン領域の上側には、図2において上側に延びるソースコンタクトScおよびドレインコンタクトDcが形成されている。各コンタクトSc、Dcは、例えば、チャンネル膜B1とのコンタクト抵抗を低くする金属シリサイド等の金属膜で形成されている。そして、これら各コンタクトSc、Dcおよびゲート電極Pg(ゲート配線M1)は、例えば、シリコン酸化膜等からなる第1層間絶縁膜D1によってそれぞれ電気的に絶縁されている。   A source contact Sc and a drain contact Dc extending upward in FIG. 2 are formed on the channel film B1 above the source region and the drain region. Each contact Sc, Dc is formed of, for example, a metal film such as a metal silicide that lowers the contact resistance with the channel film B1. The contacts Sc and Dc and the gate electrode Pg (gate wiring M1) are electrically insulated by a first interlayer insulating film D1 made of, for example, a silicon oxide film.

各コンタクトSc、コンタクトDcの上側には、それぞれ、例えば、アルミニウム等の低抵抗金属膜からなる電源線M2sおよび陽極線M2dが形成されている。電源線M2sは、ソースコンタクトScと図示しない駆動電源とを電気的に接続している。陽極線M2dは、ドレインコンタクトDcと有機EL素子16とを電気的に接続している。これら電源線M2sおよび陽極線M2dは、例えば、シリコン酸化膜等の絶縁性材料からなる平坦化膜D2によってそれぞれ電気的に絶縁されている。また、この平坦化膜D2を形成することで、その平坦化膜D2上に形成される有機EL素子16を平坦化することができる。そして、TFT17がデータ信号に基づいてオン状態となると、そのデータ信号に応じた駆動電流が、電源線M2s(駆動電源)から陽極線M2d(有機EL素子16)に供給される。   On the upper side of each contact Sc and contact Dc, for example, a power supply line M2s and an anode line M2d made of a low-resistance metal film such as aluminum are formed. The power line M2s electrically connects the source contact Sc and a driving power source (not shown). The anode line M2d electrically connects the drain contact Dc and the organic EL element 16. The power supply line M2s and the anode line M2d are electrically insulated from each other by, for example, a planarizing film D2 made of an insulating material such as a silicon oxide film. Further, by forming the planarizing film D2, the organic EL element 16 formed on the planarizing film D2 can be planarized. When the TFT 17 is turned on based on the data signal, a drive current corresponding to the data signal is supplied from the power supply line M2s (drive power supply) to the anode line M2d (organic EL element 16).

図2に示すように、平坦化膜D2の上側には、有機EL素子16が形成されている。その有機EL素子16の最下層には、陽極(電極)Pcが形成されている。
陽極Pcは、図3に示すように、反射層(光反射層)Prと、この上部に積層された光透過性の導電性スペーサとしてのスペーサPsとの積層構造で構成されている。
ここで、光反射層は、平坦化膜D2の上側で、かつ隔壁D3aの内側であって、陽極Pc側(光の出射側と反対側に位置する電極側)に配置されるのが好ましい。本実施形態では、陽極Pc(光の出射側と反対側に位置する電極)の一部(下層の一部)が、光反射層を兼ねる。すなわち、反射層Prの一部が、光反射層を構成する。なお、本発明では、光反射層が、陽極Pcとは、別の部材で構成されていてもよい。
As shown in FIG. 2, the organic EL element 16 is formed above the planarizing film D2. An anode (electrode) Pc is formed in the lowermost layer of the organic EL element 16.
As shown in FIG. 3, the anode Pc has a laminated structure of a reflective layer (light reflective layer) Pr and a spacer Ps as a light-transmitting conductive spacer laminated on the upper side.
Here, it is preferable that the light reflecting layer is arranged on the upper side of the planarizing film D2 and on the inner side of the partition wall D3a, on the anode Pc side (the electrode side located on the side opposite to the light emitting side). In the present embodiment, a part (a part of the lower layer) of the anode Pc (an electrode located on the side opposite to the light emission side) also serves as a light reflection layer. That is, a part of the reflective layer Pr constitutes a light reflective layer. In the present invention, the light reflecting layer may be composed of a member different from the anode Pc.

反射層Prは、本実施形態では、例えば、Cr等の金属材料で形成されている。反射層Prの膜厚(厚さ)は、諸条件に応じて適宜設定されるが、例えば、20〜500nm程度とするのが好ましく、50〜200nm程度とするのがより好ましい。
導電性スペーサは、反射層Prの上側で、かつ隔壁D3aの内側であって、陽極Pc側(光の出射側と反対側に位置する電極側)に配置されるのが好ましい。本実施形態では、陽極Pc(光の出射側と反対側に位置する電極)の一部(上層)が、導電性スペーサを兼ねる。すなわち、スペーサPsが、導電性スペーサを構成する。なお、本発明では、導電性スペーサが、陽極Pcと、別部材で構成されていてもよい。
In the present embodiment, the reflective layer Pr is formed of a metal material such as Cr, for example. Although the film thickness (thickness) of the reflective layer Pr is appropriately set according to various conditions, for example, it is preferably about 20 to 500 nm, and more preferably about 50 to 200 nm.
The conductive spacer is preferably disposed on the upper side of the reflective layer Pr and on the inner side of the partition wall D3a and on the anode Pc side (the electrode side positioned opposite to the light emission side). In this embodiment, a part (upper layer) of the anode Pc (an electrode located on the side opposite to the light emission side) also serves as a conductive spacer. That is, the spacer Ps constitutes a conductive spacer. In the present invention, the conductive spacer may be composed of the anode Pc and a separate member.

スペーサPsは、本実施形態では、例えば、ITO等の光透過性を有する透明導電膜であって、例えば、10nm以上の膜厚で形成されているのが好ましい。このスペーサPsは、本実施形態では、各色に応じてその膜厚を異ならせており、図4に示すように、青色に対応するサブピクセル15BのスペーサPsb、緑色に対応するサブピクセル15GのスペーサPsg、赤色に対応するサブピクセル15RのスペーサPsrの順で厚くなるように形成されている。   In the present embodiment, the spacer Ps is a transparent conductive film having optical transparency such as ITO, and is preferably formed with a film thickness of 10 nm or more, for example. In the present embodiment, the spacer Ps has a different thickness depending on each color. As shown in FIG. 4, the spacer Psb of the subpixel 15B corresponding to blue, and the spacer of the subpixel 15G corresponding to green. Psg is formed to be thicker in the order of the spacer Psr of the sub-pixel 15R corresponding to red.

図2に示すように、陽極Pcは、その一端が陽極線M2dに接続されている。陽極Pcの上側外周には、その陽極Pcを囲むように第3層間絶縁膜D3が堆積されている。第3層間絶縁膜D3は、例えば、感光性ポリイミドやアクリル等の樹脂膜で形成され、各有機EL素子16の陽極Pcを電気的に絶縁している。また、第3層間絶縁膜D3は、陽極Pcの上側を開放して、その内周面からなる隔壁D3aを形成している。   As shown in FIG. 2, one end of the anode Pc is connected to the anode line M2d. A third interlayer insulating film D3 is deposited on the upper outer periphery of the anode Pc so as to surround the anode Pc. The third interlayer insulating film D3 is formed of, for example, a resin film such as photosensitive polyimide or acrylic, and electrically insulates the anode Pc of each organic EL element 16. Further, the third interlayer insulating film D3 opens the upper side of the anode Pc to form a partition D3a composed of the inner peripheral surface thereof.

陽極Pcの上側であって隔壁D3aの内側には、有機材料を主材料とする有機エレクトロルミネッセンス層(有機EL層)Oeが形成されている。有機EL層Oeは、図3に示すように、正孔輸送層Otと発光層Orの2層からなる有機化合物層である。
正孔輸送層Otの膜厚は、諸条件に応じて適宜設定されるが、例えば、20〜200nm程度とするのが好ましく、50〜100nm程度とするのがより好ましい。
An organic electroluminescence layer (organic EL layer) Oe mainly made of an organic material is formed on the upper side of the anode Pc and inside the partition wall D3a. As shown in FIG. 3, the organic EL layer Oe is an organic compound layer composed of two layers of a hole transport layer Ot and a light emitting layer Or.
Although the film thickness of the positive hole transport layer Ot is suitably set according to various conditions, for example, it is preferably about 20 to 200 nm, and more preferably about 50 to 100 nm.

また、発光層Orは、赤色の光を発光する発光層である。発光層Orの膜厚は、諸条件に応じて適宜設定されるが、例えば、20〜200nm程度とするのが好ましく、50〜100nm程度とするのがより好ましい。
なお、サブピクセル15G、15Bの発光層Orは、それぞれ、緑色の光、青色の光を発光する発光層である。
このような発光層Orの構成材料(発光材料)としては、例えば、下記化号物1〜化合物5に示すような化合物が挙げられ、用いる化合物の種類や、複数種用いる場合の配合比等を設定することにより、発光色の異なるものとすること、すなわち、赤色、緑色、青色の発光材料とすることができる。
The light emitting layer Or is a light emitting layer that emits red light. Although the film thickness of the light emitting layer Or is suitably set according to various conditions, it is preferable to set it as about 20-200 nm, for example, and it is more preferable to set it as about 50-100 nm.
The light emitting layer Or of the subpixels 15G and 15B is a light emitting layer that emits green light and blue light, respectively.
Examples of the constituent material (light emitting material) of the light emitting layer Or include compounds as shown in the following chemical compounds 1 to 5, and the types of compounds to be used, the blending ratio when plural types are used, and the like. By setting, it is possible to have different emission colors, that is, red, green, and blue light emitting materials.

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本実施形態では、赤色用の発光層Orと緑色用の発光層Orとが略等しい大きさ(平面積)とされ、これらより青色用の発光層Orが大きい大きさ(平面積)とされている。これにより、前述したように、赤色用の有機EL素子16と緑色用の有機EL素子16とが略等しい大きさとされ、これらより青色用の有機EL素子16が大きい大きさとなっている。
換言すれば、赤色用のD3aの内側の空間と緑色用のD3aの内側の空間とがほぼ等しい大きさに設定とされ、こられより青色用のD3aの内側の空間が大きく設定されている。
In the present embodiment, the red light emitting layer Or and the green light emitting layer Or have substantially the same size (planar area), and the blue light emitting layer Or has a larger size (planar area). Yes. Thereby, as described above, the organic EL element 16 for red and the organic EL element 16 for green are approximately equal in size, and the organic EL element 16 for blue is larger than these.
In other words, the space inside the red D3a and the space inside the green D3a are set to be approximately equal in size, and the space inside the blue D3a is set larger than this.

このような構成により、青色用の発光層Orの構成材料として、比較的寿命(耐久性)の低い材料を用いた場合でも、青色用の有機EL素子16の発光輝度が、他の色の有機EL素子16の発光輝度より早期に低下することを防止することができる。その結果、有機EL表示装置11の表示色が経時的に変化するのを好適に防止することができる。
なお、本実施形態では、隔壁D3aの内側に、陽極PcのスペーサPsおよび正孔輸送層Otもそれぞれ設けられるため、これらも、各色の有機EL素子16(サブピクセル15R、15G、15B)に対応して大きさが異なっている。
With such a configuration, even when a material having a relatively low life (durability) is used as a constituent material of the blue light emitting layer Or, the light emission luminance of the blue organic EL element 16 is different from that of other colors. It is possible to prevent the EL element 16 from decreasing earlier than the light emission luminance. As a result, it is possible to suitably prevent the display color of the organic EL display device 11 from changing over time.
In this embodiment, since the spacer Ps of the anode Pc and the hole transport layer Ot are also provided inside the partition wall D3a, these also correspond to the organic EL elements 16 (subpixels 15R, 15G, and 15B) of each color. And the size is different.

前記有機EL層Oeの上側には、陰極(電極)Paが形成されている。陰極Paの膜厚は、諸条件に応じて適宜設定されるが、例えば、2〜200nm程度とするのが好ましく、5〜50nm程度とするのがより好ましい。
また、陰極Paの構成材料は、導電性および光透過性を有するものであれば、特に限定されない。この陰極Paは、本実施形態では、例えば、下層にMgとAgの合金等の金属膜、上層にITO等の光透過性を有する透明導電膜の積層構造で構成されている。
この場合、下層の膜厚は、諸条件に応じて適宜設定されるが、例えば、2〜200nm程度とするのが好ましく、5〜50nm程度とするのがより好ましい。また、上層の膜厚は、諸条件に応じて適宜設定されるが、例えば、2〜200nm程度とするのが好ましく、5〜50nm程度とするのがより好ましい。
On the upper side of the organic EL layer Oe, a cathode (electrode) Pa is formed. The film thickness of the cathode Pa is appropriately set according to various conditions. For example, the thickness is preferably about 2 to 200 nm, and more preferably about 5 to 50 nm.
Moreover, the constituent material of cathode Pa will not be specifically limited if it has electroconductivity and light transmittance. In the present embodiment, the cathode Pa is configured, for example, by a laminated structure of a metal film such as an alloy of Mg and Ag in the lower layer and a transparent conductive film having light transmittance such as ITO in the upper layer.
In this case, the film thickness of the lower layer is appropriately set according to various conditions. For example, it is preferably about 2 to 200 nm, and more preferably about 5 to 50 nm. Moreover, although the film thickness of an upper layer is suitably set according to various conditions, it is preferable to set it as about 2-200 nm, for example, and it is more preferable to set it as about 5-50 nm.

図2に示すように、陰極Paは、画素形成面13a側全面を覆うように形成され、各画素回路15が共有することによって各有機EL素子16に共通する電位を供給するようになっている。
以上のように、有機EL素子16は、前記陽極Pc(反射層Pr、スペーサPs)、有機EL層Oeおよび陰極Paによって構成される。この有機EL素子16のうちの隔壁D3aの内側に位置する部分により、色要素の主要部が構成される。また、本実施形態では、隔壁D3aの内側に位置するスペーサPs、正孔輸送層Otおよび発光層Orが、それぞれ機能層を構成する。
As shown in FIG. 2, the cathode Pa is formed so as to cover the entire surface of the pixel formation surface 13 a and is shared by each pixel circuit 15 to supply a common potential to each organic EL element 16. .
As described above, the organic EL element 16 includes the anode Pc (the reflective layer Pr and the spacer Ps), the organic EL layer Oe, and the cathode Pa. A main portion of the color element is configured by a portion of the organic EL element 16 located inside the partition wall D3a. In the present embodiment, the spacer Ps, the hole transport layer Ot, and the light emitting layer Or located inside the partition wall D3a each constitute a functional layer.

図2に示すように、陰極Paの上側には、例えば、樹脂等のコーティング材で形成され、各種金属膜や有機EL層Oeの酸化等を防止するための封止部P1が形成されている。
そして、データ信号に応じた駆動電流が陽極線M2dに供給されると、有機EL層Oeは、その駆動電流に応じた輝度で発光する。この際、有機EL層Oeから陰極Pa側(図2における上側)に向かって発光された光は、陰極Paおよび封止部P1を透過(通過)する(以下、透過光という)。また、有機EL層Oeから陽極Pc側(図2における下側)に向かって発光された光は、陽極Pcの反射層Prによって反射され(以下、反射光という)、スペーサPs、有機EL層Oe、陰極Paおよび封止部P1を透過する。そして、前記透過光と反射光とが干渉した光が保護ガラス基板13b側に向かって出射される。
As shown in FIG. 2, on the upper side of the cathode Pa, for example, a sealing part P1 is formed which is formed of a coating material such as resin and prevents oxidation of various metal films and the organic EL layer Oe. .
When a driving current corresponding to the data signal is supplied to the anode line M2d, the organic EL layer Oe emits light with a luminance corresponding to the driving current. At this time, the light emitted from the organic EL layer Oe toward the cathode Pa (upper side in FIG. 2) is transmitted (passed) through the cathode Pa and the sealing portion P1 (hereinafter referred to as transmitted light). In addition, light emitted from the organic EL layer Oe toward the anode Pc side (the lower side in FIG. 2) is reflected by the reflection layer Pr of the anode Pc (hereinafter referred to as reflected light), and the spacer Ps and the organic EL layer Oe. It passes through the cathode Pa and the sealing part P1. And the light which the said transmitted light and reflected light interfered is radiate | emitted toward the protective glass substrate 13b side.

この出射された光のスペクトルの波長λは、反射層Prと陰極Paとの距離である光学的距離Lr、Lg、Lb(図4参照)に依存するので、各色(赤色、緑色、青色)に応じてこの光学的距離Lr、Lg、Lbを異ならせる(変化させる)ことによって、各色に対応した光の波長λを得ることができる。本実施形態では、各色に応じて異なる厚さのスペーサPs(Psr、Psg、Psb)を形成することによって光学的距離Lr、Lg、Lbを変化させ、各色に対応した光の波長λを得ている。   Since the wavelength λ of the spectrum of the emitted light depends on the optical distances Lr, Lg, and Lb (see FIG. 4) that are the distances between the reflective layer Pr and the cathode Pa, it depends on each color (red, green, and blue). Accordingly, by changing (changing) the optical distances Lr, Lg, and Lb, the wavelength λ of light corresponding to each color can be obtained. In this embodiment, the optical distances Lr, Lg, and Lb are changed by forming spacers Ps (Psr, Psg, Psb) having different thicknesses according to the respective colors, and the wavelength λ of light corresponding to each color is obtained. Yes.

この結果として、図4に示すように、光の波長が最も長い赤色に対応したサブピクセル15Rにおいては、光学的距離Lrが最も長くなるように、スペーサPsrの膜厚を最も厚くする。一方、光の波長が最も短い青色に対応したサブピクセル15Bにおいては、光学的距離Lbが最も短くなるように、スペーサPsbの膜厚を最も薄くする。そして、光の波長が両者の間である緑色に対応したサブピクセル15Gにおいては、光学的距離Lgが両者の間となるように、スペーサPsgの膜厚を両者の間となるようにする。   As a result, as shown in FIG. 4, in the subpixel 15R corresponding to red having the longest light wavelength, the spacer Psr is made thickest so that the optical distance Lr becomes the longest. On the other hand, in the subpixel 15B corresponding to blue having the shortest light wavelength, the film thickness of the spacer Psb is made the thinnest so that the optical distance Lb is the shortest. Then, in the subpixel 15G corresponding to green whose light wavelength is between them, the film thickness of the spacer Psg is between the two so that the optical distance Lg is between them.

次に、有機EL表示装置11の製造方法(本発明の機能版の製造方法)について説明する。
まず、ガラス基板13を用意する。そして、そのガラス基板13上の画素形成面13a全面にジシラン等を原料ガスにするCVD法等によってアモルファスシリコン膜を堆積する。次に、エキシマレーザ等によってそのアモルファスシリコン膜に紫外光を照射し、画素形成面13a全面に結晶化したポリシリコン膜を形成する。続いて、フォトリソグラフィ法およびエッチング法等によってそのポリシリコン膜をパターニングし、チャンネル膜B1を形成する。
Next, a method for manufacturing the organic EL display device 11 (method for manufacturing a functional plate of the present invention) will be described.
First, the glass substrate 13 is prepared. Then, an amorphous silicon film is deposited on the entire surface of the pixel formation surface 13a on the glass substrate 13 by a CVD method using disilane or the like as a source gas. Next, the amorphous silicon film is irradiated with ultraviolet light by an excimer laser or the like to form a crystallized polysilicon film over the entire pixel formation surface 13a. Subsequently, the polysilicon film is patterned by a photolithography method, an etching method, or the like to form a channel film B1.

チャンネル膜B1を形成すると、シラン等を原料ガスにするCVD法等によってチャンネル膜B1および画素形成面13aの上側全面にシリコン酸化膜等を堆積してゲート絶縁膜D0を形成する。ゲート絶縁膜D0を形成すると、スパッタ法等によってゲート絶縁膜D0の上側全面にタンタル等の低抵抗金属膜を堆積し、その低抵抗金属膜をパターニングすることによって、ゲート絶縁膜D0の上側にゲート電極Pgを形成する。ゲート電極Pgを形成すると、そのゲート電極Pgをマスクにしたイオンドーピング法によって、チャンネル膜B1にn型領域(ソース領域およびドレイン領域)を形成する。続いて、スパッタ法等によってゲート電極Pgおよびゲート絶縁膜D0の上側全面にITO等の光透過性を有する透明導電膜を堆積し、その透明導電膜をパターニングすることによって、ゲート電極Pgの上側にゲート配線M1を形成する。   When the channel film B1 is formed, a gate insulating film D0 is formed by depositing a silicon oxide film or the like on the channel film B1 and the entire upper surface of the pixel formation surface 13a by a CVD method using silane or the like as a source gas. When the gate insulating film D0 is formed, a low-resistance metal film such as tantalum is deposited on the entire upper surface of the gate insulating film D0 by sputtering or the like, and the low-resistance metal film is patterned to form a gate on the upper side of the gate insulating film D0. An electrode Pg is formed. When the gate electrode Pg is formed, an n-type region (source region and drain region) is formed in the channel film B1 by an ion doping method using the gate electrode Pg as a mask. Subsequently, a light-transmitting transparent conductive film such as ITO is deposited on the entire upper surface of the gate electrode Pg and the gate insulating film D0 by sputtering or the like, and the transparent conductive film is patterned to form an upper surface of the gate electrode Pg. A gate wiring M1 is formed.

ゲート配線M1を形成すると、TEOS(テトラエトキシシラン)等を原料にするCVD法によってゲート配線M1およびゲート絶縁膜D0の上側全面にシリコン酸化膜等を堆積して第1層間絶縁膜D1を形成する。第1層間絶縁膜D1を形成すると、フォトリソグラフィ法やエッチング法等によって、ソース領域およびドレイン領域から図2における上側に第1層間絶縁膜D1の上側までを開放する一対の円形孔(コンタクトホールHd、Hs)を形成する。コンタクトホールHd、Hsを形成すると、スパッタ法等によってそのコンタクトホールHd、Hs内を金属シリサイド等で埋め込みながら第1層間絶縁膜D1の上側全面に金属膜を堆積する。そして、エッチング法等によってコンタクトホールHd、Hs内以外の金属膜を除去し、ソースコンタクトScおよびドレインコンタクトDcを形成する。   When the gate wiring M1 is formed, a silicon oxide film or the like is deposited on the entire upper surface of the gate wiring M1 and the gate insulating film D0 by a CVD method using TEOS (tetraethoxysilane) or the like as a raw material to form a first interlayer insulating film D1. . When the first interlayer insulating film D1 is formed, a pair of circular holes (contact holes Hd) that open from the source region and the drain region to the upper side of the first interlayer insulating film D1 in FIG. , Hs). When the contact holes Hd and Hs are formed, a metal film is deposited on the entire upper surface of the first interlayer insulating film D1 while filling the contact holes Hd and Hs with metal silicide or the like by sputtering or the like. Then, the metal film other than those in the contact holes Hd and Hs is removed by an etching method or the like to form the source contact Sc and the drain contact Dc.

各コンタクトSc、Dcを形成すると、スパッタ法等によって各コンタクトSc、Dcおよび第1層間絶縁膜D1の上側全面にアルミニウム等の金属膜を堆積し、その金属膜をパターニングして各コンタクトSc、Dcに接続する電源線M2sおよび陽極線M2dを形成する。次に、TEOS(テトラエトキシシラン)等を原料にするCVD法によって、これら電源線M2s、陽極線M2dおよび第1層間絶縁膜D1の上側全面にシリコン酸化膜等を堆積して平坦化膜D2を形成する。続いて、フォトリソグラフィ法やエッチング法等によって、陽極線M2dの一部から図2における上側に平坦化膜D2の上側まで開放する円形孔(ビアホールHv)を形成する。ビアホールHvを形成すると、スパッタ法等によって、そのビアホールHv内を埋め込みながら平坦化膜D2の上側全面にクロム等の金属膜を堆積する。そして、この金属膜をパターニングして、ビアホールHvを介して陽極線M2dと接続する陽極Pc(反射層Pr)を形成する。   When each contact Sc, Dc is formed, a metal film such as aluminum is deposited on the entire upper surface of each contact Sc, Dc and first interlayer insulating film D1 by sputtering or the like, and the metal film is patterned to form each contact Sc, Dc. A power supply line M2s and an anode line M2d connected to are formed. Next, a planarizing film D2 is formed by depositing a silicon oxide film or the like on the entire upper surface of the power supply line M2s, the anode line M2d, and the first interlayer insulating film D1 by a CVD method using TEOS (tetraethoxysilane) or the like as a raw material. Form. Subsequently, a circular hole (via hole Hv) that opens from a part of the anode line M2d to the upper side in FIG. 2 to the upper side of the planarizing film D2 is formed by a photolithography method, an etching method, or the like. When the via hole Hv is formed, a metal film such as chromium is deposited on the entire upper surface of the planarizing film D2 while filling the via hole Hv by sputtering or the like. Then, the metal film is patterned to form an anode Pc (reflection layer Pr) connected to the anode line M2d through the via hole Hv.

反射層Prを形成すると、その反射層Pr上にレジスト等のマスクを形成して、反射層Prおよび平坦化膜D2の上側全面に感光性ポリイミドやアクリル等の樹脂膜を堆積する。そして、前記レジスト等を剥離して、隔壁D3aを備えた第3層間絶縁膜D3を形成する。
なお、ガラス基板13と、ここまでの各工程でそのガラス基板13上に形成された各構成要素により、色要素となるべき複数の区画が形成された基体の主要部が構成される。また、隔壁D3aの内部、すなわち、隔壁D3aで規定(画成)される凹部は、前記区画に対応する。
When the reflective layer Pr is formed, a mask such as a resist is formed on the reflective layer Pr, and a resin film such as photosensitive polyimide or acrylic is deposited on the entire upper surface of the reflective layer Pr and the planarizing film D2. Then, the resist and the like are removed to form a third interlayer insulating film D3 having a partition wall D3a.
Note that the glass substrate 13 and each component formed on the glass substrate 13 in each of the steps so far constitute a main part of the base on which a plurality of sections to be color elements are formed. Further, the inside of the partition wall D3a, that is, the recess defined (defined) by the partition wall D3a corresponds to the partition.

隔壁D3aを形成すると、続いて、その隔壁D3a内に陽極Pc(スペーサPs)を形成する。
ここで、本実施形態では、いわゆるインクジェット法(液滴吐出法)により、スペーサPsおよび有機EL層Oe(正孔輸送層Ot、発光層Or)を形成する。
すなわち、スペーサPsの形成は、ガラス基板13(基体)と、後述する液滴吐出ヘッド44とを相対的に移動させ、スペーサPsの構成材料として導電性材料(例えばITO)を含んだスペーサ形成用の液状材料(機能層形成用の液状材料)51をノズルNから液滴として吐出して複数の隔壁D3a内(区画)に選択的に付与し、前記隔壁D3a内に付与されたスペーサ形成用の液状材料51を乾燥し、必要に応じて加熱することにより行う。
When the partition D3a is formed, the anode Pc (spacer Ps) is subsequently formed in the partition D3a.
Here, in this embodiment, the spacer Ps and the organic EL layer Oe (hole transport layer Ot, light emitting layer Or) are formed by a so-called inkjet method (droplet discharge method).
That is, the spacer Ps is formed by relatively moving the glass substrate 13 (base) and a droplet discharge head 44 described later, and for forming a spacer including a conductive material (for example, ITO) as a constituent material of the spacer Ps. The liquid material (liquid material for forming the functional layer) 51 is ejected as droplets from the nozzle N and selectively applied to the plurality of partitions D3a (partitions), and the spacers formed in the partitions D3a are formed. The liquid material 51 is dried and heated as necessary.

同様に、正孔輸送層Otの形成は、ガラス基板13(基体)と、液滴吐出ヘッド44とを相対的に移動させ、正孔輸送層Otの構成材料として有機材料を含んだ正孔輸送層形成用の液状材料(機能層形成用の液状材料)をノズルNから液滴として吐出して複数の隔壁D3a内(区画)に選択的に付与し、前記隔壁D3a内に付与された正孔輸送層形成用の液状材料を乾燥し、必要に応じて加熱することにより行う。   Similarly, the hole transport layer Ot is formed by relatively moving the glass substrate 13 (base) and the droplet discharge head 44 to transport holes including an organic material as a constituent material of the hole transport layer Ot. A liquid material for forming a layer (a liquid material for forming a functional layer) is ejected as droplets from the nozzle N and selectively applied to the plurality of partition walls D3a (partitions), and holes are provided to the partition walls D3a. The liquid material for forming the transport layer is dried and heated as necessary.

同様に、発光層Orの形成は、ガラス基板13(基体)と、液滴吐出ヘッド44とを相対的に移動させ、発光層Orの構成材料として有機発光材料を含んだ発光層形成用の液状材料(機能層形成用の液状材料)52をノズルNから液滴として吐出して複数の隔壁D3a内(区画)に選択的に付与し、前記隔壁D3a内に付与された発光層形成用の液状材料52を乾燥し、必要に応じて加熱することにより行う。   Similarly, the light emitting layer Or is formed by relatively moving the glass substrate 13 (base) and the droplet discharge head 44 to form a light emitting layer forming liquid containing an organic light emitting material as a constituent material of the light emitting layer Or. A material (liquid material for forming a functional layer) 52 is ejected as droplets from the nozzle N and selectively applied to the inside (partition) of the plurality of partition walls D3a. The liquid for forming the light emitting layer provided in the partition walls D3a. The material 52 is dried and heated as necessary.

まず、スペーサPsを形成するための液滴吐出装置の構成について説明する。なお、有機EL層Oe(正孔輸送層Ot、発光層Or)を形成するための液滴吐出装置については、スペーサPsを形成するための液滴吐出装置と同様であるので、その説明は、省略する。
図5に示すように、ガラス基板13(基体)の上側には、液滴吐出装置の液滴吐出手段の主要部を構成する液滴吐出ヘッド44が配置されている。その液滴吐出ヘッド44には、ノズルプレート45が備えられている。そのノズルプレート45の一側面であってガラス基板13側の面(ノズル形成面45a)には、導電性材料を含んだスペーサ形成用の液状材料51を吐出する多数のノズルNが、その中心線が鉛直方向Zと略並行になるように形成されている。また、ガラス基板13は、その画素形成面13aがノズル形成面45aと平行になるように、液滴吐出装置の図示しないステージ上に載置されている。そして、ステージ(ガラス基板13)と液滴吐出ヘッド44とを相対的に移動させ、ガラス基板13上の各隔壁D3aの中心位置がそれぞれノズルNの中心位置と相対向するように位置決めされる。
First, the configuration of the droplet discharge device for forming the spacer Ps will be described. In addition, since the droplet discharge device for forming the organic EL layer Oe (hole transport layer Ot, light emitting layer Or) is the same as the droplet discharge device for forming the spacer Ps, the description thereof is as follows. Omitted.
As shown in FIG. 5, a droplet discharge head 44 constituting the main part of the droplet discharge means of the droplet discharge device is disposed above the glass substrate 13 (base). The droplet discharge head 44 is provided with a nozzle plate 45. A large number of nozzles N that discharge a liquid material 51 for forming a spacer containing a conductive material are provided on one side of the nozzle plate 45 on the side of the glass substrate 13 (nozzle formation surface 45a). Are formed so as to be substantially parallel to the vertical direction Z. The glass substrate 13 is placed on a stage (not shown) of the droplet discharge device so that the pixel formation surface 13a is parallel to the nozzle formation surface 45a. Then, the stage (glass substrate 13) and the droplet discharge head 44 are relatively moved so that the center positions of the partition walls D3a on the glass substrate 13 are opposed to the center positions of the nozzles N, respectively.

各ノズルNの上側には、図示しない収容タンクに連通してスペーサ形成用の液状材料51をノズルN内に供給可能にする供給室46R、46G、46Bがそれぞれ赤色、緑色、青色の各色に対応して形成されている。各供給室46R、46G、46Bの上側には、鉛直方向Zに沿って往復振動して各供給室46R、46G、46B内の容積を拡大縮小する振動板47が配設されている。その振動板47の上側であって各供給室46R、46G、46Bと相対向する位置には、それぞれ鉛直方向Zに沿って伸縮動して振動板47を振動させる圧電素子48R、48G、48Bがそれぞれ赤色、緑色、青色の各色に対応して配設されている。   On the upper side of each nozzle N, supply chambers 46R, 46G, and 46B that communicate with a storage tank (not shown) and can supply the liquid material 51 for forming spacers into the nozzle N correspond to red, green, and blue colors, respectively. Is formed. Above each of the supply chambers 46R, 46G, and 46B, a vibration plate 47 that reciprocally vibrates along the vertical direction Z to expand and reduce the volume in each of the supply chambers 46R, 46G, and 46B is disposed. Piezoelectric elements 48R, 48G, and 48B that expand and contract along the vertical direction Z to vibrate the diaphragm 47 are positioned above the diaphragm 47 and facing the supply chambers 46R, 46G, and 46B. They are arranged corresponding to the respective colors of red, green and blue.

次に、上記した液滴吐出装置によるスペーサPsの形成方法について説明する。
まず、液滴吐出ヘッド44にスペーサPsを形成するため駆動信号を入力する。すると、その駆動信号に基づいて各圧電素子48R、48G、48Bがそれぞれ伸縮動し、各供給室46R、46G、46Bの容積がそれぞれ拡大縮小する。この時、各供給室46R、46G、46Bの容積が縮小すると、縮小した容積分のスペーサ形成用の液状材料51が、各ノズルNから液滴Dsとして対応する隔壁D3a内に吐出、付与される。続いて、各供給室46R、46G、46Bの容積が拡大すると、拡大した容積分のスペーサ形成用の液状材料51が、図示しない収容タンクから供給室46R、46G、46B内にそれぞれ供給される。
Next, a method for forming the spacer Ps by the above-described droplet discharge device will be described.
First, a drive signal is input to form the spacer Ps in the droplet discharge head 44. Then, the piezoelectric elements 48R, 48G, and 48B are expanded and contracted based on the drive signal, and the volumes of the supply chambers 46R, 46G, and 46B are enlarged and reduced, respectively. At this time, when the volume of each of the supply chambers 46R, 46G, and 46B is reduced, the liquid material 51 for spacer formation corresponding to the reduced volume is discharged and applied as a droplet Ds from each nozzle N to the corresponding partition D3a. . Subsequently, when the volumes of the supply chambers 46R, 46G, and 46B are enlarged, the liquid material 51 for forming spacers corresponding to the enlarged volumes is supplied from supply tanks (not shown) into the supply chambers 46R, 46G, and 46B, respectively.

すなわち、液滴吐出ヘッド44は、こうした各供給室46R、46G、46Bをそれぞれ拡大縮小させることによって、各色について、それぞれ、スペーサPs(Psr、Psg、Psb)の目標の膜厚に対応した所定量のスペーサ形成用の液状材料51を隔壁D3a内に吐出、付与する。そして、隔壁D3a内に付与されたスペーサ形成用の液状材料51を所定時間だけ放置してそのスペーサ形成用の液状材料51を乾燥させた後、ガラス基板13を図示しない焼成室に搬送して焼成(加熱)することにより、導電性を有するスペーサPs(Psr、Psg、Psb)が、色毎にそれぞれ異なる目標の膜厚で形成される。   In other words, the droplet discharge head 44 enlarges or reduces each of the supply chambers 46R, 46G, and 46B, thereby for each color, a predetermined amount corresponding to the target film thickness of the spacer Ps (Psr, Psg, Psb). The spacer forming liquid material 51 is discharged and applied into the partition wall D3a. The spacer forming liquid material 51 provided in the partition wall D3a is allowed to stand for a predetermined time to dry the spacer forming liquid material 51, and then the glass substrate 13 is conveyed to a baking chamber (not shown) and baked. By conducting (heating), conductive spacers Ps (Psr, Psg, Psb) are formed with different target film thicknesses for each color.

このように、インクジェット法を用いることにより、例えば、フォトリソグラフィ法によってスペーサPs(Psr、Psg、Psb)を形成するときのように、色毎に膜厚を変えるための複数回のフォトリソグラフィ工程が不要となるため、製造工程を低減することができ、生産性を向上させることができる。さらに、所望の位置へ、所望の量のスペーサ形成用の液状材料51を付与することができるので、フォトリソグラフィ工程によってスペーサPsを形成する場合に比べ、使用するスペーサ形成用の液状材料51の量を低減することができ(例えば、エッチング等により不要な部分を除去する必要がない)、所望の位置へ、所望の膜厚のスペーサPsを、迅速かつ確実に形成することができる。   As described above, by using the inkjet method, for example, a plurality of photolithography steps for changing the film thickness for each color can be performed as in the case of forming the spacers Ps (Psr, Psg, Psb) by the photolithography method. Since it becomes unnecessary, a manufacturing process can be reduced and productivity can be improved. Further, since a desired amount of the liquid material 51 for spacer formation can be applied to a desired position, the amount of the liquid material 51 for spacer formation to be used is larger than when the spacer Ps is formed by a photolithography process. (For example, it is not necessary to remove unnecessary portions by etching or the like), and the spacer Ps having a desired film thickness can be quickly and reliably formed at a desired position.

スペーサPsを形成すると、前記インクジェット法によって、隔壁D3aに囲まれたスペーサPs上に、正孔輸送層Otの構成材料として有機材料を含んだ正孔輸送層形成用の液状材料を液滴として吐出、付与し、その液状材料を乾燥および固化(加熱)することによって正孔輸送層Otを形成する。
さらに、前記インクジェット法によって、隔壁D3aに囲まれた正孔輸送層Ot上に、図6に示すように、発光層Orの構成材料として有機発光材料を含んだ発光層形成用の液状材料52を液滴Dsとして吐出、付与し、その液状材料を乾燥および固化(加熱)することによって発光層Orを形成する。これによって、正孔輸送層Otと発光層Orとを備えた有機EL層Oeを形成する。
When the spacer Ps is formed, a liquid material for forming a hole transport layer containing an organic material as a constituent material of the hole transport layer Ot is ejected as droplets onto the spacer Ps surrounded by the partition wall D3a by the inkjet method. The hole transport layer Ot is formed by applying and drying and solidifying (heating) the liquid material.
Further, by the ink jet method, a light emitting layer forming liquid material 52 containing an organic light emitting material as a constituent material of the light emitting layer Or is formed on the hole transport layer Ot surrounded by the partition wall D3a as shown in FIG. The light emitting layer Or is formed by discharging and applying the droplet Ds and drying and solidifying (heating) the liquid material. Thereby, the organic EL layer Oe including the hole transport layer Ot and the light emitting layer Or is formed.

このように、インクジェット法を用いることにより、前記スペーサPsの形成において述べた効果と同様の効果が得られる。
ここで、一般に、これらの機能層(スペーサPs、正孔輸送層Ot、有機EL層Oe)の形成に用いられる機能層形成用の液状材料(以下、単に「液状材料」と言う。)には、その大きさ(画素サイズ)に関わらず、同一の溶媒(または分散媒)が用いられる。
As described above, by using the ink jet method, the same effect as described in the formation of the spacer Ps can be obtained.
Here, in general, a liquid material for forming a functional layer (hereinafter simply referred to as “liquid material”) used for forming these functional layers (spacer Ps, hole transport layer Ot, organic EL layer Oe). The same solvent (or dispersion medium) is used regardless of the size (pixel size).

ところが、機能層の大きさが異なる場合、機能層毎に、液状材料の乾燥速度が異なるため、同一の条件で乾燥を行うと(同時に乾燥させると)、大きさの大きい機能層において上面が平面とならない傾向が高く、機能層の特性が低下する傾向を示す。
そこで、本発明では、機能層の大きさに応じて、液状材料の溶媒として、常温において異なる蒸気圧のものを選択して用いることとした。なお、ここで言う溶媒には、分散媒も含まれる。また、以下では、「常温における蒸気圧」を「蒸気圧(常温)」、または、単に「蒸気圧」と記載する。
However, when the size of the functional layer is different, the drying speed of the liquid material is different for each functional layer. Therefore, when drying is performed under the same conditions (when dried simultaneously), the upper surface of the functional layer having a large size is flat. The tendency to not become high, and the characteristics of the functional layer tend to be lowered.
Therefore, in the present invention, depending on the size of the functional layer, the liquid material solvent is selected with a different vapor pressure at room temperature. In addition, a dispersion medium is also contained in the solvent said here. Hereinafter, “vapor pressure at normal temperature” is referred to as “vapor pressure (normal temperature)” or simply “vapor pressure”.

そして、本実施形態では、最も大きい青色用の有機EL素子16の形成に用いる液状材料の溶媒として、蒸気圧が最も大きいものを選択して用いる。また、大きさのほぼ等しい赤色および緑色用の有機EL素子16の形成に用いる液状材料の溶媒としては、互いに同一またはほぼ等しい蒸気圧のものを選択して用いる。
これにより、異なる大きさの機能層を形成するのに際し、これらを同時に乾燥させても、各機能層に対応する液状材料の乾燥速度に差が生じるのを抑制することができる。このため、大きさの異なるいずれの機能層においても、上面をより平面に近づけること、すなわち、膜厚(層厚)にバラツキが生じるのを防止することができる。その結果、膜厚のバラツキに起因して生じる特性の低下を好適に防止することができる。
In this embodiment, the solvent having the highest vapor pressure is selected and used as the solvent for the liquid material used for forming the largest blue organic EL element 16. In addition, as the solvent of the liquid material used for forming the organic EL elements 16 for red and green having substantially the same size, those having the same or substantially the same vapor pressure are selected and used.
Thereby, even when these functional layers having different sizes are formed, it is possible to suppress a difference in the drying speed of the liquid material corresponding to each functional layer even if they are simultaneously dried. For this reason, in any functional layer having a different size, it is possible to prevent the upper surface from being closer to a plane, that is, to prevent variations in film thickness (layer thickness). As a result, it is possible to suitably prevent the deterioration of characteristics caused by the variation in film thickness.

なお、青色の発光層Orの構成材料、すなわち、青色の発光材料は、比較的寿命(耐久性)の短い材料が多いため、本発明は、特に、青色の発光層Orを他の色の発光層Orより大きく形成する有機EL表示装置11への適用に適している。
また、赤色用、緑色用および赤色用の有機EL素子16(機能層)の大きさがいずれも異なる場合には、機能層の大きさが大きいほど、その液状材料に用いる溶媒として、蒸気圧(常温)が大きいものを選択して用いるようにすればよい。これにより、前記と同様の効果が得られる。
In addition, since many constituent materials of the blue light-emitting layer Or, that is, the blue light-emitting material have a relatively short life (durability), the present invention is particularly suitable for the blue light-emitting layer Or to emit light of other colors. It is suitable for application to the organic EL display device 11 formed larger than the layer Or.
When the sizes of the red, green, and red organic EL elements 16 (functional layers) are all different, the larger the functional layer size, the more the vapor pressure ( What has a large (normal temperature) may be selected and used. Thereby, the same effect as described above can be obtained.

溶媒には、例えば、水、二硫化炭素、四塩化炭素等の無機溶媒や、メチルエチルケトン(MEK)、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、メチルイソプロピルケトン(MIPK)、シクロヘキサノン、3−ヘプタノン、4−ヘプタノン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、i−ブタノール、t−ブタノール、3−メチル−1−ブタノール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、n−ヘキサノール、シクロヘキサノール、1−ヘプタノール、1−オクタノール、2−オクタノール、2−メトキシエタノール、アリルアルコール、フルフリルアルコール、フェノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール(DEG)、グリセリン等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン(DME)、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF)、テトラヒドロピラン(THP)、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグリム)、ジエチレングリコールエチルエーテル(カルビトール)、2−メトキシエタノール等のエーテル系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、フェニルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、オクタン、ジデカン、メチルシクロヘキサン、イソプレン等の脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン(1,3,5−トリメチルベンゼン)、1,2,3,4ーテトラメチルベンゼン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、ドデシルベンゼン、ナフタレン等の芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、2−メチルピリジン、3−メチルピリジン、4−メチルピリジン、メチルピロリドン、フルフリルアルコール等の芳香族複素環化合物系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMA)等のアミド系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、トリクロロエチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化合物系溶媒、アセチルアセトン、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸イソペンチル、クロロ酢酸エチル、クロロ酢酸ブチル、クロロ酢酸イソブチル、ギ酸エチル、ギ酸イソブチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、安息香酸エチル等のエステル系溶媒、トリメチルアミン、ヘキシルアミン、トリエチルアミン、アニリン等のアミン系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル系溶媒、ニトロメタン、ニトロエタン等のニトロ系溶媒、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、ペンタナール、アクリルアルデヒド等のアルデヒド系溶媒等の有機溶媒等が挙げられ、これらを単独またはこれらを含む混合溶媒として用いることができる。   Examples of the solvent include inorganic solvents such as water, carbon disulfide, and carbon tetrachloride, methyl ethyl ketone (MEK), acetone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone (MIBK), methyl isopropyl ketone (MIPK), cyclohexanone, and 3-heptanone. , Ketone solvents such as 4-heptanone, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, i-butanol, t-butanol, 3-methyl-1-butanol, 1-pentanol, 2-pentanol, Al such as n-hexanol, cyclohexanol, 1-heptanol, 1-octanol, 2-octanol, 2-methoxyethanol, allyl alcohol, furfuryl alcohol, phenol, ethylene glycol, diethylene glycol (DEG), glycerin, etc. Solvent, diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, 1,2-dimethoxyethane (DME), 1,4-dioxane, tetrahydrofuran (THF), tetrahydropyran (THP), anisole, diethylene glycol dimethyl ether ( Diglyme), ether solvents such as diethylene glycol ethyl ether (carbitol), 2-methoxyethanol, cellosolv solvents such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, phenyl cellosolve, hexane, pentane, heptane, cyclohexane, methylcyclohexane, octane, didecane, Aliphatic hydrocarbon solvents such as methylcyclohexane and isoprene, benzene, toluene, xylene, mesitylene (1,3,5-trimethylbenzene), 1 Aromatic hydrocarbon solvents such as 2,3,4-tetramethylbenzene, ethylbenzene, diethylbenzene, cyclohexylbenzene, dodecylbenzene, naphthalene, pyridine, pyrazine, furan, pyrrole, thiophene, 2-methylpyridine, 3-methylpyridine, Aromatic heterocyclic compound solvents such as 4-methylpyridine, methylpyrrolidone, furfuryl alcohol, amide solvents such as N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMA), dichloromethane, chloroform, Halogenated solvents such as 1,2-dichloroethane, trichloroethylene, chlorobenzene, acetylacetone, ethyl acetate, methyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, isopentyl acetate, ethyl chloroacetate, butyl chloroacetate, Ester solvents such as isobutyl chloroacetate, ethyl formate, isobutyl formate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, ethyl benzoate, amine solvents such as trimethylamine, hexylamine, triethylamine, aniline, acetonitrile, propionitrile, acrylonitrile, etc. Examples include nitrile solvents, nitro solvents such as nitromethane and nitroethane, and organic solvents such as aldehyde solvents such as acetaldehyde, propionaldehyde, butyraldehyde, pentanal, and acrylic aldehyde. These are used alone or as a mixed solvent containing them. be able to.

そして、これらの中から、機能層の大きさに応じて、用いる溶媒を適宜選択すればよい。
なお、混合溶媒の場合、その蒸気圧(mmHg)は、ラ・ウールの法則、すなわち、それぞれの純粋溶媒の蒸気圧と混合溶媒中のモル分率の積の和で表される。
また、1つの液状材料には、溶媒として2種以上のものが含まれること、すなわち、溶媒として混合溶媒を用いることが好ましい。これにより、大きさの異なる機能層における液状材料の乾燥速度の差を小さく設定するのが容易となる。また、各機能層において、その膜厚がバラツクのを防止し得るように溶媒を調製するのが容易となる。
From these, the solvent to be used may be appropriately selected according to the size of the functional layer.
In the case of a mixed solvent, the vapor pressure (mmHg) is represented by La Wool's law, that is, the sum of the products of the vapor pressure of each pure solvent and the molar fraction in the mixed solvent.
Further, it is preferable that one liquid material contains two or more kinds of solvents, that is, a mixed solvent is used as the solvent. Thereby, it becomes easy to set the difference in the drying speed of the liquid material in the functional layers having different sizes small. Further, in each functional layer, it is easy to prepare a solvent so that the film thickness can be prevented from varying.

また、溶媒として混合溶媒を用いる場合には、特に、沸点の異なる2種以上の溶媒を混合して用いるのが好ましい。例えば、溶媒として比較的高沸点(例えば180℃以上)のものを用いることにより、ノズルNの目詰りを防止することができる。また、中程度(例えば、140〜170℃程度)の沸点のものを用いることにより、液状材料の乾燥速度を上昇(向上)させることができる。そして、これらの2種のものを混合して用いることにより、それらの相乗効果により、ノズルNからの液滴の安定した吐出を可能とすることができるとともに、液滴(液体材料)の円滑な乾燥を図ることができる。
また、付与した液体材料の乾燥は、常圧下で行われてもよいが、減圧下で行われるのが好ましい。これにより、液状材料の乾燥速度を高めることができ、膜厚のバラツキを防止する効果がより顕著に発揮される。
When a mixed solvent is used as the solvent, it is particularly preferable to use a mixture of two or more solvents having different boiling points. For example, clogging of the nozzle N can be prevented by using a solvent having a relatively high boiling point (for example, 180 ° C. or higher). Further, by using a medium boiling point (for example, about 140 to 170 ° C.), the drying speed of the liquid material can be increased (improved). By mixing and using these two types, it is possible to stably discharge the droplets from the nozzle N due to their synergistic effect, and to smoothly discharge the droplets (liquid material). Drying can be achieved.
The applied liquid material may be dried under normal pressure, but is preferably performed under reduced pressure. Thereby, the drying rate of a liquid material can be raised and the effect which prevents the variation in film thickness is exhibited more notably.

有機EL層Oeを形成すると、スパッタ法等によって、その有機EL層Oeおよび第3層間絶縁膜D3の上側全面にアルミニウム等の金属膜を堆積して陰極Paを形成する。陰極Paを形成すると、CVD法等によって、陰極Paの上側全面に樹脂等のコーティング材を堆積して封止部P1を形成して封止する。これにより、画素形成面13a上に有機EL素子16を備えた画素回路15(サブピクセル15R、15G、15B)が形成される。   When the organic EL layer Oe is formed, a metal film such as aluminum is deposited on the entire upper surface of the organic EL layer Oe and the third interlayer insulating film D3 by sputtering or the like to form the cathode Pa. When the cathode Pa is formed, a sealing material P1 is formed and sealed by depositing a coating material such as resin on the entire upper surface of the cathode Pa by a CVD method or the like. As a result, the pixel circuit 15 (subpixels 15R, 15G, and 15B) including the organic EL element 16 is formed on the pixel formation surface 13a.

以上説明したように、本発明によれば、スペーサPs、正孔輸送層Ot、有機EL層Oeのような機能層が発光色によって大きさが異なっている場合でも、それらの上面を平面とすること、すなわち、膜厚にバラツキが生じるのを防止することができ、この膜厚のバラツキに起因して生じる特性(発光効率や耐久性)の低下を防止することができる。
なお、上記実施形態では、ガラス基板(基板)13は、光透過性を有しているが(透明であるが)、これに限らず、基板は、例えば、ステンレス鋼等で構成された光透過性を有さない(透明でない)基板であってもよい。また、基板の構成材料は、ガラス以外の光透過性を有するものであってもよい。
As described above, according to the present invention, even when functional layers such as the spacer Ps, the hole transport layer Ot, and the organic EL layer Oe have different sizes depending on the emission color, their upper surfaces are made flat. That is, it is possible to prevent variation in the film thickness, and to prevent deterioration in characteristics (light emission efficiency and durability) caused by the variation in film thickness.
In the above-described embodiment, the glass substrate (substrate) 13 has light transmission properties (although it is transparent), but the substrate is not limited thereto, and the substrate is made of, for example, light transmission made of stainless steel or the like. It may be a non-transparent (not transparent) substrate. Moreover, the constituent material of the substrate may have light transmissivity other than glass.

また、本実施形態では、青色用の有機EL素子16(発光層)が最も大きい場合について説明したが、本発明は、赤色用の有機EL素子16(発光層)、緑色の有機EL素子16(発光層)が最も大きい場合にも、それぞれ、同様に適用することができる。
さらに、本発明は、白色等の他の色の有機EL素子16(発光層)が設けられる構成において、各有機EL素子16の大きさが異なる場合にも適用することができる。
Further, in the present embodiment, the case where the blue organic EL element 16 (light emitting layer) is the largest has been described, but the present invention relates to a red organic EL element 16 (light emitting layer), a green organic EL element 16 ( The same applies to the case where the light emitting layer is the largest.
Furthermore, the present invention can also be applied to a case where the organic EL elements 16 (light emitting layers) of other colors such as white are provided and the sizes of the organic EL elements 16 are different.

<第2実施形態>
次に、有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置および有機EL表示装置の製造方法の第2実施形態について説明する。
図7は、有機EL表示装置の第2実施形態における赤色に対応したサブピクセル(有機EL素子)を示す断面図である。
<Second Embodiment>
Next, a second embodiment of an organic EL (electroluminescence) display device and a method for manufacturing the organic EL display device will be described.
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a sub-pixel (organic EL element) corresponding to red in the second embodiment of the organic EL display device.

なお、以下の説明では、説明の便宜上、図7中の上側を「上」、下側を「下」、右側を「右」、左側を「左」と言う。
以下、第2実施形態の有機EL表示装置11について、前述した第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
図7に示すように、第2実施形態の有機EL表示装置11は、ボトムエミッション型(ボトムエミッション構造)の表示装置である。
In the following description, for convenience of explanation, the upper side in FIG. 7 is referred to as “upper”, the lower side as “lower”, the right side as “right”, and the left side as “left”.
Hereinafter, the organic EL display device 11 of the second embodiment will be described with a focus on the differences from the first embodiment described above, and description of similar matters will be omitted.
As shown in FIG. 7, the organic EL display device 11 of the second embodiment is a bottom emission type (bottom emission structure) display device.

また、陽極Pcは、例えば、ITO等で形成され、例えば、10nm以上の膜厚で形成されているのが好ましい。その陽極Pcの膜厚は、液滴吐出装置のノズルNから吐出される機能液の吐出量を調整することによって、各色に対応する画素回路15(サブピクセル15R、15G、15B)毎に、それぞれ異なる目標の膜厚にする。
そして、陰極Paと陽極Pcとの距離である光学的距離Lr、Lg、Lbを異ならせる(変化させる)ことによって、各色に対応した光の波長λを得ることができる。
Further, the anode Pc is formed of, for example, ITO or the like, and is preferably formed with a film thickness of 10 nm or more, for example. The film thickness of the anode Pc is adjusted for each pixel circuit 15 (subpixel 15R, 15G, 15B) corresponding to each color by adjusting the discharge amount of the functional liquid discharged from the nozzle N of the droplet discharge device. Use different target film thicknesses.
Then, by varying (changing) the optical distances Lr, Lg, and Lb that are the distances between the cathode Pa and the anode Pc, the wavelength λ of light corresponding to each color can be obtained.

陰極Paの膜厚は、諸条件に応じて適宜設定されるが、例えば、5〜500nm程度とするのが好ましく、100〜200nm程度とするのがより好ましい。
また、陰極Paの構成材料は、導電性および光反射性を有するものであれば、特に限定されない。この陰極Paは、本実施形態では、例えば、下層にMgとAgの合金等の金属膜、上層にAl等の金属膜の積層構造で構成されている。
The film thickness of the cathode Pa is appropriately set according to various conditions. For example, it is preferably about 5 to 500 nm, and more preferably about 100 to 200 nm.
Moreover, the constituent material of cathode Pa will not be specifically limited if it has electroconductivity and light reflectivity. In the present embodiment, for example, the cathode Pa has a laminated structure of a metal film such as an alloy of Mg and Ag in the lower layer and a metal film such as Al in the upper layer.

この場合、下層の膜厚は、諸条件に応じて適宜設定されるが、例えば、2〜50nm程度とするのが好ましく、5〜30nm程度とするのがより好ましい。また、上層の膜厚は、諸条件に応じて適宜設定されるが、例えば、5〜500nm程度とするのが好ましく、50〜200nm程度とするのがより好ましい。
ここで、陰極Pa(光の出射側と反対側に位置する電極)の一部が、光反射層を兼ねる。すなわち、陰極Paの一部が、光反射層を構成する。
In this case, although the film thickness of a lower layer is suitably set according to various conditions, for example, it is preferably about 2 to 50 nm, and more preferably about 5 to 30 nm. Moreover, although the film thickness of an upper layer is suitably set according to various conditions, it is preferable to set it as about 5-500 nm, for example, and it is more preferable to set it as about 50-200 nm.
Here, a part of the cathode Pa (electrode located on the side opposite to the light emitting side) also serves as the light reflecting layer. That is, a part of the cathode Pa constitutes a light reflection layer.

なお、本発明では、光反射層が、陽極Pcとは、別の部材で構成されていてもよい。すなわち、このボトムエミッション構造において、陰極Paを光透過性を有する電極で構成し、陰極Paの発光層Orと反対側にCr等の金属材料からなる反射層(光反射層)を形成する構成としてもよい。
この第2実施形態によれば、前述した第1実施形態と同様の効果が得られる。
In the present invention, the light reflecting layer may be composed of a member different from the anode Pc. That is, in this bottom emission structure, the cathode Pa is composed of a light-transmitting electrode, and a reflection layer (light reflection layer) made of a metal material such as Cr is formed on the opposite side of the cathode Pa from the light emitting layer Or. Also good.
According to the second embodiment, the same effects as those of the first embodiment described above can be obtained.

<第3実施形態>
次に、有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置および有機EL表示装置の製造方法の第3実施形態について説明する。
図8は、本発明の有機EL表示装置の第3実施形態における有機EL素子を示す断面図である。
<Third Embodiment>
Next, a third embodiment of an organic EL (electroluminescence) display device and a method for manufacturing the organic EL display device will be described.
FIG. 8 is a cross-sectional view showing an organic EL element in the third embodiment of the organic EL display device of the present invention.

なお、以下の説明では、説明の便宜上、図8中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
以下、第3実施形態の有機EL表示装置11について、前述した第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
図8に示すように、第3実施形態の有機EL表示装置11は、トップエミッション構造の有機EL素子16を積層したマルチフォトン構造の表示装置である。
In the following description, for convenience of explanation, the upper side in FIG. 8 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”.
Hereinafter, the organic EL display device 11 of the third embodiment will be described focusing on the differences from the first embodiment described above, and the description of the same matters will be omitted.
As shown in FIG. 8, the organic EL display device 11 of the third embodiment is a multiphoton structure display device in which organic EL elements 16 having a top emission structure are stacked.

スペーサPsの膜厚は、液滴吐出装置のノズルNから吐出される機能液の吐出量を調整することによって、各色に対応する画素回路15(サブピクセル15R、15G、15B)毎に、それぞれ異なる目標の膜厚にする。
そして、陰極Paと陽極Pcとの距離である光学的距離Lr、Lg、Lbを異ならせる(変化させる)ことによって、各色に対応した光の波長λを得ることができる。
The film thickness of the spacer Ps is different for each pixel circuit 15 (subpixel 15R, 15G, 15B) corresponding to each color by adjusting the discharge amount of the functional liquid discharged from the nozzle N of the droplet discharge device. Target film thickness.
Then, by varying (changing) the optical distances Lr, Lg, and Lb that are the distances between the cathode Pa and the anode Pc, the wavelength λ of light corresponding to each color can be obtained.

また、マルチフォトン構造、すなわち有機EL層Oe(発光層Or)を重ねることによって発生するフォトンの量が増加し、100%超相当の内部量子効率が可能となる。この結果、色再現性を向上しながらも、輝度が高く(明るく)、長寿命の有機EL表示装置11(有機EL素子16)を少ない製造工程数で製造することができる。
この第3実施形態によれば、前述した第1実施形態と同様の効果が得られる。
Further, the amount of photons generated by overlapping the multi-photon structure, that is, the organic EL layer Oe (light emitting layer Or) is increased, and an internal quantum efficiency equivalent to more than 100% is possible. As a result, while improving the color reproducibility, the organic EL display device 11 (organic EL element 16) having high luminance (bright) and long life can be manufactured with a small number of manufacturing steps.
According to the third embodiment, the same effects as those of the first embodiment described above can be obtained.

<本発明の電子機器の実施形態>
前述したようなエレクトロルミネッセンス表示装置等の画像表示装置(電気光学装置)1000は、各種電子機器の表示部に用いることができる。
図9は、本発明の電子機器を適用したモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
<Embodiment of Electronic Device of the Present Invention>
An image display device (electro-optical device) 1000 such as an electroluminescence display device as described above can be used for display portions of various electronic devices.
FIG. 9 is a perspective view showing a configuration of a mobile (or notebook) personal computer to which the electronic apparatus of the present invention is applied.

この図において、パーソナルコンピュータ1100は、キーボード1102を備えた本体部1104と、表示ユニット1106とにより構成され、表示ユニット1106は、本体部1104に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
このパーソナルコンピュータ1100においては、表示ユニット1106が画像表示装置1000を備えている。
In this figure, a personal computer 1100 includes a main body 1104 having a keyboard 1102 and a display unit 1106. The display unit 1106 is supported by the main body 1104 via a hinge structure so as to be rotatable. Yes.
In the personal computer 1100, the display unit 1106 includes an image display device 1000.

図10は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機(PHSも含む)の構成を示す斜視図である。
この図において、携帯電話機1200は、複数の操作ボタン1202、受話口1204および送話口1206とともに、画像表示装置1000を表示部に備えている。
図11は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
FIG. 10 is a perspective view showing a configuration of a mobile phone (including PHS) to which the electronic apparatus of the invention is applied.
In this figure, a cellular phone 1200 is provided with an image display device 1000 in a display unit, together with a plurality of operation buttons 1202, an earpiece 1204, and a mouthpiece 1206.
FIG. 11 is a perspective view showing the configuration of a digital still camera to which the electronic apparatus of the present invention is applied. In this figure, connection with an external device is also simply shown.

ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ1300は、被写体の光像をCCD(Charge Coupled Device)などの撮像素子により光電変換して撮像信号(画像信号)を生成する。
ディジタルスチルカメラ1300におけるケース(ボディー)1302の背面には、画像表示装置1000が表示部に設けられ、CCDによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
Here, an ordinary camera sensitizes a silver halide photographic film with a light image of a subject, whereas a digital still camera 1300 photoelectrically converts a light image of a subject with an imaging device such as a CCD (Charge Coupled Device). An imaging signal (image signal) is generated.
On the back of a case (body) 1302 in the digital still camera 1300, an image display device 1000 is provided in the display unit, and is configured to display based on an imaging signal from the CCD, and a finder that displays a subject as an electronic image. Function as.

ケースの内部には、回路基板1308が設置されている。この回路基板1308は、撮像信号を格納(記憶)し得るメモリが設置されている。
また、ケース1302の正面側(図示の構成では裏面側)には、光学レンズ(撮像光学系)やCCDなどを含む受光ユニット1304が設けられている。
撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッタボタン1306を押下すると、その時点におけるCCDの撮像信号が、回路基板1308のメモリに転送・格納される。
A circuit board 1308 is installed inside the case. The circuit board 1308 is provided with a memory that can store (store) an imaging signal.
A light receiving unit 1304 including an optical lens (imaging optical system), a CCD, and the like is provided on the front side of the case 1302 (on the back side in the illustrated configuration).
When the photographer confirms the subject image displayed on the display unit and presses the shutter button 1306, the CCD image pickup signal at that time is transferred and stored in the memory of the circuit board 1308.

また、このディジタルスチルカメラ1300においては、ケース1302の側面に、ビデオ信号出力端子1312と、データ通信用の入出力端子1314とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子1312にはテレビモニタ1430が、デ−タ通信用の入出力端子1314にはパーソナルコンピュータ1440が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板1308のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ1430や、パーソナルコンピュータ1440に出力される構成になっている。   In the digital still camera 1300, a video signal output terminal 1312 and an input / output terminal 1314 for data communication are provided on the side surface of the case 1302. As shown in the figure, a television monitor 1430 is connected to the video signal output terminal 1312 and a personal computer 1440 is connected to the input / output terminal 1314 for data communication as necessary. Further, the imaging signal stored in the memory of the circuit board 1308 is output to the television monitor 1430 or the personal computer 1440 by a predetermined operation.

なお、本発明の電子機器は、上述したパーソナルコンピュータ(モバイル型パーソナルコンピュータ)、携帯電話機、ディジタルスチルカメラの他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、ラップトップ型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳(通信機能付も含む)、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、POS端末、タッチパネルを備えた機器(例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機)、医療機器(例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置)、魚群探知機、各種測定機器、計器類(例えば、車両、航空機、船舶の計器類)、フライトシュミレータ、その他各種モニタ類等に適用することができる。   The electronic apparatus according to the present invention includes, for example, a television, a video camera, a viewfinder type, and a monitor direct-view type video tape recorder, in addition to the above-described personal computer (mobile personal computer), mobile phone, and digital still camera. , Laptop personal computers, car navigation systems, pagers, electronic notebooks (including those with communication functions), electronic dictionaries, calculators, electronic game machines, word processors, workstations, video phones, security TV monitors, electronic binoculars, POS terminals , Devices equipped with touch panels (for example, cash dispensers of financial institutions, automatic ticket vending machines), medical devices (for example, electronic thermometers, sphygmomanometers, blood glucose meters, electrocardiographic display devices, ultrasonic diagnostic devices, endoscope display devices), Fish finder, various measuring instruments, instruments (eg If, gages for vehicles, aircraft, and ships), a flight simulator, can be applied to various monitors, and the like.

以上、本発明の本発明の機能板の製造方法、機能板および電子機器を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、本発明に、他の任意の構成物や、工程が付加されていてもよい。
また、本発明は、有機EL表示装置の製造への適用に限定されず、例えば、液晶表示装置等が備えるカラーフィルタ付基板の製造に適用することもできる。この場合、前記機能層がカラーフィルタに、前記機能層形成用の液状材料がカラーフィルタ形成用の液状材料に、また、機能板がカラーフィルタ付基板に、それぞれ対応する。
また、本発明は、前記各実施形態のうちの、任意の2以上の構成(特徴)を組み合わせたものであってもよい。
As mentioned above, although the manufacturing method of the functional plate of the present invention, the functional plate, and the electronic device of the present invention were explained based on the illustrated embodiment, the present invention is not limited to this, and the configuration of each part is the same. It can be replaced with any configuration having the above function. Moreover, other arbitrary structures and processes may be added to the present invention.
Further, the present invention is not limited to application to the manufacture of an organic EL display device, and can be applied to manufacture of a substrate with a color filter provided in a liquid crystal display device or the like, for example. In this case, the functional layer corresponds to a color filter, the liquid material for forming the functional layer corresponds to a liquid material for forming a color filter, and the functional plate corresponds to a substrate with a color filter.
Further, the present invention may be a combination of any two or more configurations (features) of the above embodiments.

以下、本発明の具体的な実施例について説明する。
なお、以下で用いた溶媒の蒸気圧(室温)と沸点(常圧)とは、それぞれ、次の通りである。
・メシチレン
蒸気圧:1.73mmHg、沸点:165℃
・ジエチルベンゼン
蒸気圧:0.70mmHg、沸点:184℃
・1,2,3,4−テトラメチルベンゼン
蒸気圧:0.23mmHg、沸点:197℃
Hereinafter, specific examples of the present invention will be described.
In addition, the vapor pressure (room temperature) and boiling point (normal pressure) of the solvent used below are as follows, respectively.
-Mesitylene Vapor pressure: 1.73 mmHg, Boiling point: 165 ° C
Diethylbenzene vapor pressure: 0.70 mmHg, boiling point: 184 ° C
・ 1,2,3,4-tetramethylbenzene Vapor pressure: 0.23 mmHg, Boiling point: 197 ° C

(実施例1)
図12に示すように、ガラス基板100上に、バンク200を形成した試験用基板を用意した。
なお、バンク200の内側の空間(領域)の大きさは、赤色用>緑色用=青色用とした。
<サンプルNo.1A>
まず、発光材料として、前述したような化合物1、2、5を用いて、各色の発光層形成用の液状材料を準備した。なお、各色の発光層形成用の液状材料の組成は、以下の表1に示す通りである。
Example 1
As shown in FIG. 12, a test substrate having a bank 200 formed on a glass substrate 100 was prepared.
Note that the size of the space (area) inside the bank 200 is set to red for> green for = blue.
<Sample No. 1A>
First, liquid materials for forming the light emitting layer of each color were prepared using the compounds 1, 2, and 5 as described above as the light emitting material. The composition of the liquid material for forming the light emitting layer of each color is as shown in Table 1 below.

Figure 2006278214
Figure 2006278214

次に、各発光層形成用の液状材料を、それぞれ所定の領域に、インクジェット法により3色同時に供給した。
次に、3色の発光層形成用の液状材料を、同時に乾燥させた。
<サンプルNo.1B>
各色の発光層形成用の液状材料として、以下の表2に示すものを用いた以外は、サンプルNo.1Aと同様にして発光層を形成した。
Next, the liquid materials for forming each light emitting layer were simultaneously supplied to predetermined regions by three colors by an inkjet method.
Next, the liquid materials for forming the three color light emitting layers were simultaneously dried.
<Sample No. 1B>
As the liquid material for forming the light emitting layer of each color, sample nos. A light emitting layer was formed in the same manner as in 1A.

Figure 2006278214
Figure 2006278214

得られた各発光層の膜厚を、触針式段差計(KLA−Tencor社製、「P−15」)を用いて測定を行った。
そして、各発光層において、中央部と端部との最大膜厚差を求めた。
この結果を、表3に示す。
The film thickness of each of the obtained light emitting layers was measured using a stylus type step gauge (manufactured by KLA-Tencor, “P-15”).
And in each light emitting layer, the maximum film thickness difference of a center part and an edge part was calculated | required.
The results are shown in Table 3.

Figure 2006278214
Figure 2006278214

サンプルNo.1A(本発明)では、各色の発光層において膜厚のバラツキは認められなかった。これに対して、サンプルNo.1B(比較例)では、赤色の発光層において明らかな膜厚のバラツキが確認された。   Sample No. In 1A (the present invention), no variation in film thickness was observed in the light emitting layers of the respective colors. In contrast, sample no. In 1B (comparative example), a clear variation in film thickness was confirmed in the red light emitting layer.

(実施例2)
図12に示すような試験用基板と同様の試験用基板を用意した。
なお、バンク200の内側の空間(領域)の大きさは、緑色用=青色用>赤色用とした。
<サンプルNo.2A>
まず、発光材料として、前述したような化合物1、2、5を用いて、各色の発光層形成用の液状材料を準備した。なお、各色の発光層形成用の液状材料の組成は、以下の表4に示す通りである。
(Example 2)
A test substrate similar to the test substrate shown in FIG. 12 was prepared.
Note that the size of the space (region) inside the bank 200 is set for green = for blue> red.
<Sample No. 2A>
First, liquid materials for forming the light emitting layer of each color were prepared using the compounds 1, 2, and 5 as described above as the light emitting material. The composition of the liquid material for forming the light emitting layer of each color is as shown in Table 4 below.

Figure 2006278214
Figure 2006278214

次に、各発光層形成用の液状材料を、それぞれ所定の領域に、インクジェット法により3色同時に供給した。
次に、3色の発光層形成用の液状材料を、同時に乾燥させた。
<サンプルNo.2B>
各色の発光層形成用の液状材料として、以下の表5に示すものを用いた以外は、サンプルNo.2Aと同様にして発光層を形成した。
Next, the liquid materials for forming each light emitting layer were simultaneously supplied to predetermined regions by three colors by an inkjet method.
Next, the liquid materials for forming the three color light emitting layers were simultaneously dried.
<Sample No. 2B>
As the liquid material for forming the light emitting layer of each color, sample nos. A light emitting layer was formed in the same manner as 2A.

Figure 2006278214
Figure 2006278214

得られた各発光層の膜厚を、前記と同様の触針式段差計を用いて測定を行った。
そして、各発光層において、中央部と端部との最大膜厚差を求めた。
この結果を、表6に示す。
The film thickness of each light emitting layer obtained was measured using the same stylus type step gauge as described above.
And in each light emitting layer, the maximum film thickness difference of a center part and an edge part was calculated | required.
The results are shown in Table 6.

Figure 2006278214
Figure 2006278214

サンプルNo.2A(本発明)では、各色の発光層において膜厚のバラツキは認められなかった。これに対して、サンプルNo.2B(比較例)では、緑色および青色の発光層において明らかな膜厚のバラツキが確認された。   Sample No. In 2A (the present invention), no variation in film thickness was observed in the light emitting layers of the respective colors. In contrast, sample no. In 2B (comparative example), clear film thickness variations were confirmed in the green and blue light-emitting layers.

(実施例3)
図12に示すような試験用基板と同様の試験用基板を用意した。
なお、バンク200の内側の空間(領域)の大きさは、赤色用=緑色用>青色用とした。
<サンプルNo.3A>
まず、発光材料として、前述したような化合物1、2、5を用いて、各色の発光層形成用の液状材料を準備した。なお、各色の発光層形成用の液状材料の組成は、以下の表7に示す通りである。
(Example 3)
A test substrate similar to the test substrate shown in FIG. 12 was prepared.
Note that the size of the space (area) inside the bank 200 was set to red color = green color> blue color.
<Sample No. 3A>
First, liquid materials for forming the light emitting layer of each color were prepared using the compounds 1, 2, and 5 as described above as the light emitting material. The composition of the liquid material for forming the light emitting layer of each color is as shown in Table 7 below.

Figure 2006278214
Figure 2006278214

次に、各発光層形成用の液状材料を、それぞれ所定の領域に、インクジェット法により3色同時に供給した。
次に、3色の発光層形成用の液状材料を、同時に乾燥させた。
<サンプルNo.3B>
各色の発光層形成用の液状材料として、以下の表8に示すものを用いた以外は、サンプルNo.3Aと同様にして発光層を形成した。
Next, the liquid materials for forming each light emitting layer were simultaneously supplied to predetermined regions by three colors by an inkjet method.
Next, the liquid materials for forming the three color light emitting layers were simultaneously dried.
<Sample No. 3B>
As the liquid material for forming the light emitting layer of each color, sample nos. A light emitting layer was formed in the same manner as 3A.

Figure 2006278214
Figure 2006278214

得られた各発光層の膜厚を、前記と同様の触針式段差計を用いて測定を行った。
そして、各発光層において、中央部と端部との最大膜厚差を求めた。
この結果を、表9に示す。
The film thickness of each light emitting layer obtained was measured using the same stylus type step gauge as described above.
And in each light emitting layer, the maximum film thickness difference of a center part and an edge part was calculated | required.
The results are shown in Table 9.

Figure 2006278214
Figure 2006278214

サンプルNo.3A(本発明)では、各色の発光層において膜厚のバラツキは認められなかった。これに対して、サンプルNo.3B(比較例)では、赤色および緑色の発光層において明らかな膜厚のバラツキが確認された。   Sample No. In 3A (the present invention), no variation in film thickness was observed in the light emitting layers of the respective colors. In contrast, sample no. In 3B (comparative example), clear variations in film thickness were confirmed in the red and green light emitting layers.

(実施例4)
図12に示すような試験用基板と同様の試験用基板を用意した。
なお、バンク200の内側の空間(領域)の大きさは、赤色用=青色用>緑色用とした。
<サンプルNo.4A>
まず、発光材料として、前述したような化合物1、2、5を用いて、各色の発光層形成用の液状材料を準備した。なお、各色の発光層形成用の液状材料の組成は、以下の表10に示す通りである。
Example 4
A test substrate similar to the test substrate shown in FIG. 12 was prepared.
Note that the size of the space (region) inside the bank 200 was set to red color = blue color> green color.
<Sample No. 4A>
First, liquid materials for forming the light emitting layer of each color were prepared using the compounds 1, 2, and 5 as described above as the light emitting material. The composition of the liquid material for forming the light emitting layer of each color is as shown in Table 10 below.

Figure 2006278214
Figure 2006278214

次に、各発光層形成用の液状材料を、それぞれ所定の領域に、インクジェット法により3色同時に供給した。
次に、3色の発光層形成用の液状材料を、同時に乾燥させた。
<サンプルNo.4B>
各色の発光層形成用の液状材料として、以下の表11に示すものを用いた以外は、サンプルNo.4Aと同様にして発光層を形成した。
Next, the liquid materials for forming each light emitting layer were simultaneously supplied to predetermined regions by three colors by an inkjet method.
Next, the liquid materials for forming the three color light emitting layers were simultaneously dried.
<Sample No. 4B>
As the liquid material for forming the light emitting layer of each color, sample nos. A light emitting layer was formed in the same manner as 4A.

Figure 2006278214
Figure 2006278214

得られた各発光層の膜厚を、前記と同様の触針式段差計を用いて測定を行った。
そして、各発光層において、中央部と端部との最大膜厚差を求めた。
この結果を、表12に示す。
The film thickness of each light emitting layer obtained was measured using the same stylus type step gauge as described above.
And in each light emitting layer, the maximum film thickness difference of a center part and an edge part was calculated | required.
The results are shown in Table 12.

Figure 2006278214
Figure 2006278214

サンプルNo.4A(本発明)では、各色の発光層において膜厚のバラツキは認められなかった。これに対して、サンプルNo.4B(比較例)では、赤色および青色の発光層において明らかな膜厚のバラツキが確認された。   Sample No. In 4A (the present invention), no variation in film thickness was observed in the light emitting layers of the respective colors. In contrast, sample no. In 4B (comparative example), a clear variation in film thickness was confirmed in the red and blue light-emitting layers.

(実施例5)
図2および図3に示すように、ガラス基板13上に、各層を順次積層し、第3層間絶縁膜D3の隔壁D3aの内側に正孔輸送層Otまで形成した積層体を用意した。
なお、隔壁D3aの内側の空間の大きさは、赤色用>緑色用=青色用とした。
そして、この積層体を用いて、前記実施例1(サンプルNo.1Aおよび2A)と同様にして、発光層Orを形成し、その後、陰極Paおよび封止部P1を形成して、有機EL表示装置を完成させた。
(Example 5)
As shown in FIG. 2 and FIG. 3, a laminate was prepared in which each layer was sequentially laminated on the glass substrate 13 and formed up to the hole transport layer Ot inside the partition wall D3a of the third interlayer insulating film D3.
In addition, the size of the space inside the partition D3a was set for red> green = blue.
Then, using this laminate, a light emitting layer Or is formed in the same manner as in Example 1 (Sample Nos. 1A and 2A), and then a cathode Pa and a sealing portion P1 are formed, and an organic EL display is formed. The device was completed.

製造された2つの有機EL表示装置に、初期輝度が400cd/mとなる電流値で定電流駆動を行ったところ、サンプルNo.2Aと同様にして製造した有機EL表示装置(比較例)の方が早く表示色の変化(赤色の発光輝度の低下)が確認された。
この結果は、前述したような赤色の発光層における膜厚のバラツキが大きな要因であると推察される。
When the two organic EL display devices manufactured were subjected to constant current driving at a current value with an initial luminance of 400 cd / m 2 , sample No. 1 was obtained. It was confirmed that the organic EL display device (comparative example) produced in the same manner as 2A had a faster change in display color (decrease in red emission luminance).
This result is presumed to be caused by the variation in film thickness in the red light emitting layer as described above.

本発明の機能版を適用した有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置(有機ELディスプレイ)を有する有機EL表示モジュールの実施形態を示す平面図。The top view which shows embodiment of the organic electroluminescent display module which has the organic electroluminescent (electroluminescence) display apparatus (organic electroluminescent display) to which the functional version of this invention is applied. 有機EL表示装置の第1実施形態におけるサブピクセルを示す断面図。Sectional drawing which shows the sub pixel in 1st Embodiment of an organic electroluminescence display. 有機EL表示装置の第1実施形態における有機EL素子を示す断面図。Sectional drawing which shows the organic EL element in 1st Embodiment of an organic EL display apparatus. 有機EL表示装置の第1実施形態における画素回路(サブピクセル)からの光の出射を説明するための図。The figure for demonstrating emission of the light from the pixel circuit (subpixel) in 1st Embodiment of an organic electroluminescent display apparatus. 有機EL表示装置の第1実施形態におけるスペーサの形成方法を説明するための図。The figure for demonstrating the formation method of the spacer in 1st Embodiment of an organic electroluminescence display. 有機EL表示装置の第1実施形態における発光層の形成方法を説明するための図。The figure for demonstrating the formation method of the light emitting layer in 1st Embodiment of an organic electroluminescence display. 有機EL表示装置の第2実施形態における赤色に対応したサブピクセル(有機EL素子)を示す断面図。Sectional drawing which shows the sub pixel (organic EL element) corresponding to red in 2nd Embodiment of an organic electroluminescence display. 有機EL表示装置の第3実施形態における有機EL素子を示す断面図。Sectional drawing which shows the organic EL element in 3rd Embodiment of an organic EL display apparatus. 本発明の電子機器を適用したモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図。FIG. 14 is a perspective view illustrating a configuration of a mobile (or notebook) personal computer to which the electronic apparatus of the invention is applied. 本発明の電子機器を適用した携帯電話機(PHSも含む)の構成を示す斜視図。The perspective view which shows the structure of the mobile telephone (PHS is also included) to which the electronic device of this invention is applied. 本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図。FIG. 14 is a perspective view illustrating a configuration of a digital still camera to which the electronic apparatus of the invention is applied. 試験用基板の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the board | substrate for a test.

符号の説明Explanation of symbols

10…有機EL表示モジュール 11…有機EL表示装置 13…ガラス基板 15…画素回路 15R、15G、15B…サブピクセル 16…有機EL素子 44…液滴吐出ヘッド Ds…液滴 Lr、Lg、Lb…光学的距離 Oe…有機EL層 Or…発光層 Ot…正孔輸送層 Pa…陰極 Pc…陽極 Pr…反射層 Ps、Psr、Psg、Psb…スペーサ 51…スペーサ形成用の液状材料 52…発光層形成用の液状材料 N…ノズル 100…ガラス基板 200…バンク
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Organic EL display module 11 ... Organic EL display apparatus 13 ... Glass substrate 15 ... Pixel circuit 15R, 15G, 15B ... Subpixel 16 ... Organic EL element 44 ... Droplet discharge head Ds ... Droplet Lr, Lg, Lb ... Optical Distance Oe ... Organic EL layer Or ... Light emitting layer Ot ... Hole transport layer Pa ... Cathode Pc ... Anode Pr ... Reflective layer Ps, Psr, Psg, Psb ... Spacer 51 ... Liquid material for spacer formation 52 ... For light emitting layer formation Liquid material N ... Nozzle 100 ... Glass substrate 200 ... Bank

Claims (12)

基体と、前記基体上の複数の色要素に対応する部分にそれぞれ形成され、複数の異なる大きさの機能層とを備える機能板の製造方法であって、
色要素となるべき複数の区画が形成された基体と、液滴を吐出するノズルを有する液滴吐出手段とを相対的に移動させ、溶媒を含み、所定の機能層形成用の液状材料を前記ノズルから液滴として吐出して前記複数の区画に選択的に付与する工程と、
前記区画に付与された機能層形成用の液状材料を乾燥して、機能層を形成する工程とを有し、
前記機能層の大きさに応じて、前記機能層形成用の液状材料の溶媒として、常温において異なる蒸気圧のものを選択して用いることを特徴とする機能板の製造方法。
A method for producing a functional plate, comprising: a base body; and a plurality of functional layers having different sizes, each formed on a portion corresponding to a plurality of color elements on the base body,
A liquid material for forming a predetermined functional layer containing a solvent is relatively moved by moving a substrate on which a plurality of sections to be color elements are formed and a droplet discharge means having a nozzle for discharging droplets, and containing a solvent. Selectively ejecting the plurality of compartments by discharging them as droplets from a nozzle;
Drying the liquid material for forming a functional layer applied to the compartment to form a functional layer,
According to the size of the functional layer, as a solvent for the liquid material for forming the functional layer, a solvent having a different vapor pressure at room temperature is selected and used.
前記機能層の大きさが大きいほど、その機能層形成用の液状材料に用いる溶媒として、常温において蒸気圧が大きいものを選択して用いる請求項1に記載の機能板の製造方法。   The method for producing a functional plate according to claim 1, wherein the larger the size of the functional layer, the more the solvent used in the liquid material for forming the functional layer is selected and used with a higher vapor pressure at room temperature. 前記区画に付与された機能層形成用の液状材料の乾燥は、減圧下で行なわれる請求項1または2に記載の機能板の製造方法。   The method for producing a functional plate according to claim 1 or 2, wherein drying of the liquid material for forming a functional layer applied to the section is performed under reduced pressure. 前記機能層形成用の液状材料には、前記溶媒として2種以上のものが含まれる請求項1ないし3のいずれかに記載の機能板の製造方法。   The method for producing a functional plate according to any one of claims 1 to 3, wherein the liquid material for forming the functional layer includes two or more kinds as the solvent. 前記機能層は、発光層であり、
前記機能層形成用の液状材料は、発光層形成用の液状材料であり、
当該機能板は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置である請求項1ないし4のいずれかに記載の機能板の製造方法。
The functional layer is a light emitting layer,
The liquid material for forming the functional layer is a liquid material for forming the light emitting layer,
The method for producing a functional plate according to claim 1, wherein the functional plate is an organic electroluminescence display device.
赤色、緑色および青色の前記発光層を有し、
前記青色の発光層が最も大きく、該青色の発光層の発光層形成用の液状材料の溶媒として、常温において蒸気圧が最も大きいものを選択して用いる請求項5に記載の機能板の製造方法。
Having the light emitting layer of red, green and blue,
6. The method for producing a functional plate according to claim 5, wherein the blue light emitting layer is the largest, and the liquid material for forming the light emitting layer of the blue light emitting layer is selected and used as the solvent having the highest vapor pressure at room temperature. .
赤色、緑色および青色の前記発光層を有し、
前記赤色の発光層が最も大きく、該赤色の発光層の発光層形成用の液状材料の溶媒として、常温において蒸気圧が最も大きいものを選択して用いる請求項5に記載の機能板の製造方法。
Having the light emitting layer of red, green and blue,
6. The method for producing a functional plate according to claim 5, wherein the red light emitting layer is the largest, and the liquid material for forming the light emitting layer of the red light emitting layer is selected and used with the highest vapor pressure at room temperature. .
赤色、緑色および青色の前記発光層を有し、
前記緑色の発光層が最も大きく、該緑色の発光層の発光層形成用の液状材料の溶媒として、常温において蒸気圧が最も大きいものを選択して用いる請求項5に記載の機能板の製造方法。
Having the light emitting layer of red, green and blue,
6. The method for producing a functional plate according to claim 5, wherein the green light emitting layer is the largest, and the liquid material for forming the light emitting layer of the green light emitting layer is selected and used with the highest vapor pressure at room temperature. .
複数色の前記発光層を有し、該発光層の大きさが色毎に異なり、
最も大きな発光層の発光層形成用の液状材料の溶媒として、常温において蒸気圧が最も大きいものを選択して用いる請求項5に記載の機能板の製造方法。
Having the light emitting layer of a plurality of colors, the size of the light emitting layer is different for each color,
The method for producing a functional plate according to claim 5, wherein a solvent having a maximum vapor pressure at room temperature is selected and used as a solvent for a liquid material for forming a light emitting layer of the largest light emitting layer.
前記機能層は、カラーフィルタであり、
前記機能層形成用の液状材料は、カラーフィルタ形成用の液状材料であり、
当該機能板は、カラーフィルタ付基板である請求項1ないし4のいずれかに記載の機能板の製造方法。
The functional layer is a color filter,
The liquid material for forming the functional layer is a liquid material for forming a color filter,
The method for producing a functional plate according to claim 1, wherein the functional plate is a substrate with a color filter.
基体と、前記基体上の複数の色要素に対応する部分にそれぞれ形成され、複数の異なる大きさの機能層とを備える機能板であって、
前記機能層は、該機能層の大きさに応じて選択された蒸気圧の溶媒を含む所定の機能層形成用の液状材料を、ノズルから液滴として吐出して付与し、乾燥させて形成されたものであることを特徴とする機能板。
A functional plate formed on a portion corresponding to a plurality of color elements on the substrate, and having a plurality of functional layers of different sizes,
The functional layer is formed by discharging a liquid material for forming a predetermined functional layer containing a solvent having a vapor pressure selected according to the size of the functional layer as droplets from a nozzle and drying the liquid material. Functional board, characterized by being
請求項1ないし10のいずれかに記載の機能板の製造方法により製造された機能板を備えることを特徴とする電子機器。
An electronic apparatus comprising a functional plate manufactured by the method for manufacturing a functional plate according to claim 1.
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