JP2006276696A - Drawing shift measuring method, exposure method, graduated pattern, graduated pattern drawing method, and graduated pattern drawing device - Google Patents

Drawing shift measuring method, exposure method, graduated pattern, graduated pattern drawing method, and graduated pattern drawing device Download PDF

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一輝 古和田
Kazumasa Suzuki
一誠 鈴木
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To measure an amount of drawing shift of an image to be drawn by a drawing head in a drawing slippage measuring method with higher accuracy. <P>SOLUTION: In the drawing shift measuring method, each of different graduated patterns U1, U2 is drawn on a recording medium 1 by each of the drawing heads 10a-10d so that each of the graduated patterns U1, U2 having predetermined different pitches is drawn on one recording medium 1 in parallel by the different exposure heads 10a-10d and the amount of drawing shift is measured by comparing the graduated patterns U1, U2 drawn on the recording medium 1 with each other. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、描画ずれ測定方法、露光方法、目盛パターン、目盛パターン描画方法、および目盛パターン描画装置に関し、詳しくは、複数の描画ヘッドのそれぞれで描画する各画像間の描画ずれ量を測定する描画ずれ測定方法および上記描画ずれ測定方法を適用して露光を行う露光方法、ならびに目盛パターン、目盛パターン描画方法、目盛パターン描画装置に関するものである。   The present invention relates to a drawing deviation measuring method, an exposure method, a scale pattern, a scale pattern drawing method, and a scale pattern drawing apparatus, and more particularly, drawing for measuring a drawing deviation amount between images drawn by each of a plurality of drawing heads. The present invention relates to a deviation measuring method and an exposure method in which exposure is performed by applying the drawing deviation measuring method, a scale pattern, a scale pattern drawing method, and a scale pattern drawing apparatus.

従来より、記録媒体上に画像を描画する描画装置の1例として、DMD(デジタル・マイクロミラー・ディバイス)を搭載した複数の露光用の描画ヘッドを備えた描画装置が知られている(特許文献1参照)。また、このような描画装置には、記録媒体である感光材料が載置された描画用テーブルを描画ヘッドの下に1方向に搬送して上記感光材料上に画像を描画するものが知られている。上記描画装置では、各描画ヘッドによるそれぞれの描画領域は上記描画用テーブルが搬送される方向へ延びる長方形(ストライプ)状の領域となる。   2. Description of the Related Art Conventionally, as an example of a drawing apparatus that draws an image on a recording medium, a drawing apparatus having a plurality of exposure drawing heads equipped with a DMD (digital micromirror device) is known (Patent Literature). 1). Also, such a drawing apparatus is known that draws an image on the photosensitive material by conveying a drawing table on which a photosensitive material as a recording medium is placed in one direction under a drawing head. Yes. In the drawing apparatus, each drawing area by each drawing head is a rectangular (stripe) area extending in the direction in which the drawing table is conveyed.

上記描画装置では、複数の描画ヘッドを用いて同一感光材料上に画像を描画するため、各描画ヘッドで描画する各画像間の位置ずれの調節、あるいは、各画像間の倍率ずれの調節が必要となる。そのような場合には、各描画ヘッドにより描画される各画像に亘るテストパターンを感光材料上に描画し、このテストパターンの描画された感光材料を現像し顕微鏡で観察することにより、上記各画像間の位置ずれ量や倍率ずれ量(以後、描画ずれ量ともいう)を求め、その描画ずれ量に基づいて上記画像間の描画ずれを補正している。
特開2004−001244号公報
In the above drawing apparatus, since images are drawn on the same photosensitive material using a plurality of drawing heads, it is necessary to adjust the positional deviation between the images drawn by each drawing head or the magnification deviation between the images. It becomes. In such a case, a test pattern over each image drawn by each drawing head is drawn on the photosensitive material, and the photosensitive material on which the test pattern is drawn is developed and observed with a microscope. A positional shift amount and a magnification shift amount (hereinafter also referred to as a drawing shift amount) are obtained, and the drawing shift between the images is corrected based on the drawing shift amount.
JP 2004-001244 A

ところで、上記描画装置を使用し、より高画質の画像を描画したいという要求がある。それにともない、上記各画像間の位置ずれ量や倍率ずれ量、すなわち描画ずれ量を小さく、例えば数ミクロン以下に抑えたいという要請がある。しかしながら、顕微鏡の観察によって数ミクロンの描画誤差を測定することは難しく、より高い精度で且つ効率的に上記描画ずれ量を測定したいという要請がある。   By the way, there is a demand for drawing a higher quality image using the drawing apparatus. Accordingly, there is a demand for reducing the positional deviation amount and magnification deviation amount between the images, that is, the drawing deviation amount, for example, to be several microns or less. However, it is difficult to measure a drawing error of several microns by observation with a microscope, and there is a demand for measuring the drawing deviation amount with higher accuracy and efficiency.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、描画ヘッドで描画する画像の描画ずれ量をより高い精度で測定することができる描画ずれ測定方法および上記描画ずれ測定方法を適用して露光を行う露光方法、ならびに目盛パターン、目盛パターン描画方法、および目盛パターン描画装置を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and exposure is performed by applying a drawing deviation measuring method capable of measuring a drawing deviation amount of an image drawn by a drawing head with higher accuracy and the drawing deviation measuring method. It is an object of the present invention to provide an exposure method, a scale pattern, a scale pattern drawing method, and a scale pattern drawing apparatus.

本発明の描画ずれ測定方法は、複数の描画ヘッドのそれぞれで描画する各画像間の描画ずれ量を測定する描画ずれ測定方法であって、予め定められた互いに異なるピッチを有する目盛パターンのそれぞれが、互いに異なる描画ヘッドによって同一記録媒体上に並んで描画されるように、各描画ヘッドにより、前記目盛パターンのそれぞれを前記記録媒体上へ描画し、前記記録媒体上に描画された前記目盛パターンのそれぞれを比較して前記描画ずれ量を測定することを特徴とするものである。   The drawing deviation measuring method of the present invention is a drawing deviation measuring method for measuring a drawing deviation amount between images drawn by each of a plurality of drawing heads, and each of graduation patterns having mutually different predetermined pitches. Each of the scale patterns is drawn on the recording medium by each drawing head so that the drawing heads are drawn side by side by different drawing heads, and the scale pattern drawn on the recording medium is drawn. The drawing deviation amount is measured by comparing each of them.

本発明の露光方法は、入射した光を変調する変調素子を2次元状に多数配列してなる空間光変調器を有する複数の露光ヘッドのそれぞれで、光源から発せられた光を空間光変調させて得られた画像のそれぞれを、感光材料上に結像させて該感光材料を露光する露光方法であって、前記描画ずれ測定方法を、前記複数の露光ヘッドで感光材料を露光する際の描画ずれ量の測定に適用して前記露光ヘッドのそれぞれで結像させる各画像間の描画ずれ量を測定し、該描画ずれ量に基づいて各露光ヘッドにより感光材料上に結像させる各画像間の描画ずれを補正してこの露光ヘッドによる感光材料の露光を実行することを特徴とするものである。   The exposure method of the present invention spatially modulates light emitted from a light source by each of a plurality of exposure heads each having a spatial light modulator in which a large number of modulation elements that modulate incident light are two-dimensionally arranged. Each of the obtained images is formed on a photosensitive material and exposed to the photosensitive material, and the drawing misalignment measuring method is used when the photosensitive material is exposed by the plurality of exposure heads. The amount of drawing deviation between each image formed by each of the exposure heads is measured by applying to the measurement of the amount of deviation, and between each image formed on the photosensitive material by each exposure head based on the amount of drawing deviation. This is characterized in that exposure of the photosensitive material by the exposure head is executed after correcting the drawing deviation.

本発明の目盛パターンは、記録媒体上の基準となる位置に描画された第1目盛パターンと、測定対象となる描画ヘッドによって、第1目盛パターンと並ぶように、かつ、この第1目盛パターンとは目盛りのピッチが異なるように前記記録媒体上に描画された第2目盛パターンとで構成されたものであることを特徴とするものである。なお、前記第2目盛パターンは第1目盛パターンと比較可能となるように描画されたものである。   The graduation pattern of the present invention includes a first graduation pattern drawn at a reference position on the recording medium and a first graduation pattern aligned with the first graduation pattern by a drawing head to be measured. Is constituted by a second scale pattern drawn on the recording medium so that the scale pitches are different. The second scale pattern is drawn so that it can be compared with the first scale pattern.

前記第1目盛パターンは、前記描画ヘッドに隣接する他の描画ヘッドによって描画されたものとすることができる。   The first scale pattern may be drawn by another drawing head adjacent to the drawing head.

前記第1目盛パターンおよび前記第2の目盛パターンは、ノギスの本尺および副尺のそれぞれに対応する態様で前記記録媒体上に描画されたものすることができる。   The first scale pattern and the second scale pattern may be drawn on the recording medium in a manner corresponding to each of a caliper main scale and a vernier scale.

本発明の目盛パターン描画方法は、測定対象となる描画ヘッドにより、記録媒体上の基準となる位置に描画された第1目盛パターンと並ぶように、かつ、前記第1目盛パターンとは目盛りのピッチが異なるように前記記録媒体上に第2目盛パターンを描画する工程を有することを特徴とするものである。なお、前記第2目盛パターンは第1目盛パターンと比較可能となるように描画されるものである。   The scale pattern drawing method of the present invention is arranged so that the first scale pattern is aligned with the first scale pattern drawn at the reference position on the recording medium by the drawing head to be measured, and the first scale pattern is the pitch of the scale. Is characterized in that it includes a step of drawing a second scale pattern on the recording medium so as to be different from each other. The second scale pattern is drawn so that it can be compared with the first scale pattern.

前記目盛パターン描画方法は、前記第1目盛パターンを前記描画ヘッドに隣接する他の描画ヘッドによって描画する工程をさらに有するものとすることができる。   The scale pattern drawing method may further include a step of drawing the first scale pattern by another drawing head adjacent to the drawing head.

前記第1目盛パターンおよび前記第2の目盛パターンは、ノギスの本尺および副尺のそれぞれに対応する態様で前記記録媒体上に描画されるものとすることができる。   The first scale pattern and the second scale pattern may be drawn on the recording medium in a manner corresponding to each of a caliper main scale and a vernier scale.

本発明の目盛パターン描画装置は、測定対象となる描画ヘッドにより、記録媒体上の基準となる位置に描画された第1目盛パターンと並ぶように、かつ、この第1目盛パターンとは目盛りのピッチが異なるように前記記録媒体上に第2目盛パターンを描画する第2目盛描画手段を備えたことを特徴とするものである。なお、前記第2目盛パターンは第1目盛パターンと比較可能となるように描画されたものである。   The scale pattern drawing apparatus of the present invention is arranged so that it is aligned with the first scale pattern drawn at the reference position on the recording medium by the drawing head to be measured, and the first scale pattern is the pitch of the scale. Is provided with a second scale drawing means for drawing a second scale pattern on the recording medium so that they are different from each other. The second scale pattern is drawn so that it can be compared with the first scale pattern.

前記目盛パターン描画装置は、前記第1目盛パターンを前記描画ヘッドに隣接する他の描画ヘッドによって描画する第1目盛描画手段をさらに備えたものとすることができる。   The scale pattern drawing device may further include first scale drawing means for drawing the first scale pattern by another drawing head adjacent to the drawing head.

前記第1目盛パターンおよび前記第2の目盛パターンは、ノギスの本尺および副尺のそれぞれに対応する態様で前記記録媒体上に描画されたものとすることができる。   The first scale pattern and the second scale pattern may be drawn on the recording medium in a manner corresponding to each of a caliper main scale and a vernier scale.

前記「並んで描画される」とは、各目盛パターンの目盛りの並ぶ方向が互いに一致した状態で描画されることを意味するものである。言い換えれば各目盛パターンのピッチを示す方向が互いに一致した状態で描画されることを意味するものである。なお、各目盛パターンは互いの目盛が近接して描画されることが望ましい。   The “drawing side by side” means that drawing is performed in a state in which the scales of the scale patterns are aligned. In other words, it means that the drawing is performed in a state in which the directions indicating the pitches of the scale patterns coincide with each other. Each scale pattern is desirably drawn with the scales close to each other.

前記描画ずれ量は、複数の描画ヘッドのそれぞれで描画する各画像間の位置ずれ量、および倍率ずれ量を意味するものである。   The drawing deviation amount means a positional deviation amount and a magnification deviation amount between images drawn by a plurality of drawing heads.

本発明の描画ずれ測定方法によれば、予め定められた互いに異なるピッチを有する目盛パターンのそれぞれが、互いに異なる露光ヘッドにより同一記録媒体上へ並んで描画されるように、各描画ヘッドにより、各目盛パターンのそれぞれを記録媒体上へ描画し、記録媒体上に描画された上記目盛パターンのそれぞれを比較して描画ずれ量を測定するようにしたので、複数の描画ヘッドのそれぞれで描画する各画像間における描画ずれ量をより高い精度で測定することができる。しかも容易に測定することができ且つ工数を削減できる。   According to the drawing misalignment measuring method of the present invention, each drawing head allows each of the scale patterns having different predetermined pitches to be drawn side by side on the same recording medium by different exposure heads. Since each of the scale patterns is drawn on the recording medium, and each of the scale patterns drawn on the recording medium is compared to measure the amount of drawing deviation, each image drawn by each of a plurality of drawing heads It is possible to measure the amount of drawing deviation between them with higher accuracy. In addition, measurement can be easily performed and man-hours can be reduced.

すなわち、描画ずれ量の1例である位置ずれ量を測定するときには、例えば、描画ずれを生じることなく描画が実施されたときに互いの目盛り位置が一致するように、上記並んで描画される各目盛パターン中に零目盛りを設定しておくことができ、これにより、ノギスの本尺と副尺を用いた測定と同様の原理で上記位置ずれ量の測定を行うことができる。ここで、一方の描画ヘッドで描画した第1の目盛パターンがノギスの本尺目盛に相当するものであり、他方の描画ヘッドで描画した第2の目盛パターンがノギスの副尺目盛に相当するものである。それにより、第1の目盛パターン中の零目盛りに対する第2の目盛パターン中の零目盛りのずれ量を測定することができる。   That is, when measuring the amount of misalignment, which is an example of the amount of misalignment, for example, each of the lines drawn side by side so that the scale positions match when rendering is performed without causing any misalignment. A zero scale can be set in the scale pattern, so that the amount of misalignment can be measured on the same principle as the measurement using the caliper main scale and the vernier scale. Here, the first scale pattern drawn by one drawing head corresponds to the caliper main scale, and the second scale pattern drawn by the other drawing head corresponds to the caliper minor scale. It is. Thereby, it is possible to measure the amount of deviation of the zero scale in the second scale pattern relative to the zero scale in the first scale pattern.

また、描画ずれ量の1例である倍率ずれ量を測定するときには、例えば、上記のように、ノギスの本尺と副尺を用いた測定と同様の原理を利用した測定によって得られた位置ずれ量を換算して倍率ずれ量を得ることができる。   Further, when measuring the magnification displacement amount which is an example of the drawing displacement amount, for example, as described above, the positional displacement obtained by the measurement using the same principle as the measurement using the caliper main scale and the vernier scale. The amount of magnification shift can be obtained by converting the amount.

なお、上記位置ずれ量、および倍率ずれ量の測定の詳細については後述する。   Details of the measurement of the positional deviation amount and the magnification deviation amount will be described later.

本発明の目盛パターンは、記録媒体上の基準となる位置に描画された第1目盛パターンと、測定対象となる描画ヘッドによって、第1目盛パターンと並ぶように、かつ、第1目盛パターンとは目盛りのピッチが異なるように記録媒体上に描画された第2目盛パターンとで構成するようにしたので、描画ヘッドで描画する画像の描画ずれ量をより高い精度で測定することができる。しかも容易に測定することができ且つ工数を削減できる。   The scale pattern of the present invention includes a first scale pattern drawn at a reference position on the recording medium and a first scale pattern aligned with the first scale pattern by a drawing head to be measured. Since the second scale pattern is drawn on the recording medium so that the scale pitches are different, the drawing deviation amount of the image drawn by the drawing head can be measured with higher accuracy. In addition, measurement can be easily performed and man-hours can be reduced.

本発明の目盛パターン描画方法は、測定対象となる描画ヘッドにより、記録媒体上の基準となる位置に描画された第1目盛パターンと並ぶように、かつ、第1目盛パターンとは目盛りのピッチが異なるように記録媒体上に第2目盛パターンを描画する工程を有するので、描画ヘッドで描画する画像の描画ずれ量をより高い精度で測定することができる。しかも容易に測定することができ且つ工数を削減できる。   The graduation pattern drawing method of the present invention is arranged so that it is aligned with the first graduation pattern drawn at the reference position on the recording medium by the drawing head to be measured, and the pitch of the graduation is different from the first graduation pattern. Since the second scale pattern is drawn on the recording medium differently, the drawing deviation amount of the image drawn by the drawing head can be measured with higher accuracy. In addition, measurement can be easily performed and man-hours can be reduced.

本発明の目盛パターン描画装置は、測定対象となる描画ヘッドにより、記録媒体上の基準となる位置に描画された第1目盛パターンと並ぶように、かつ、第1目盛パターンとは目盛りのピッチが異なるように記録媒体上に第2目盛パターンを描画する第2目盛描画手段を備えるようにしたので、描画ヘッドで描画する画像の描画ずれ量をより高い精度で測定することができる。しかも容易に測定することができ且つ工数を削減できる。   The scale pattern drawing apparatus of the present invention is arranged so that it is aligned with the first scale pattern drawn at the reference position on the recording medium by the drawing head to be measured, and the first scale pattern has a scale pitch. Since the second scale drawing means for drawing the second scale pattern on the recording medium is provided differently, the drawing deviation amount of the image drawn by the drawing head can be measured with higher accuracy. In addition, measurement can be easily performed and man-hours can be reduced.

以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。図1は本発明の実施の形態による描画ずれ測定方法を示す概念図、図2は各描画ヘッドにより記録媒体上に描画する各画像の領域の1例を示す図、図3は各画像間の位置ずれを測定する様子を示す図、図4および図5は各画像間の倍率ずれを測定する様子を示す図である。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a conceptual diagram showing a drawing misalignment measuring method according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing an example of an area of each image drawn on a recording medium by each drawing head, and FIG. FIG. 4 and FIG. 5 are diagrams showing a state of measuring a positional deviation, and FIGS. 4 and 5 are diagrams showing a state of measuring a magnification deviation between images.

図示の本発明の実施の形態による描画ずれ測定方法は、複数の描画ヘッド10a、10b、10c・・・のそれぞれで描画する各画像Ga、Gb、Gc・・・間の描画ずれ量を測定するものである。   In the illustrated drawing misalignment measuring method according to the embodiment of the present invention, a drawing misalignment amount between the images Ga, Gb, Gc... Drawn by each of the plurality of drawing heads 10a, 10b, 10c. Is.

上記描画ずれ測定方法は、予め定められた互いに異なるピッチを有する目盛パターンU1、U2のそれぞれが、互いに異なる描画ヘッド10a、10b、10c・・・により同一記録媒体1上へ並んで描画されるように、各描画ヘッド10a、10b、10c・・・により、各目盛パターンU1、U2のそれぞれを記録媒体1上へ描画し、記録媒体1上に描画された目盛パターンU1、U2のそれぞれを比較して描画ずれ量を測定するものである。   In the drawing misalignment measuring method, the scale patterns U1, U2 having different predetermined pitches are drawn side by side on the same recording medium 1 by different drawing heads 10a, 10b, 10c,. In addition, each of the scale patterns U1, U2 is drawn on the recording medium 1 by each of the drawing heads 10a, 10b, 10c,..., And each of the scale patterns U1, U2 drawn on the recording medium 1 is compared. The amount of drawing deviation is measured.

なお、並んで描画される目盛パターンU1、U2は、目盛パターンU1の目盛りの並ぶ方向と、目盛パターンU2の目盛りの並ぶ方向とが互いに一致するように描画される。すなわち、目盛パターンU1の目盛りのピッチを示す方向と、目盛パターンU2の目盛りのピッチを示す方向とが互いに一致するように描画される。   Note that the scale patterns U1 and U2 drawn side by side are drawn so that the direction in which the scale pattern U1 is aligned and the direction in which the scale pattern U2 is aligned coincide with each other. That is, the drawing is performed so that the direction indicating the scale pitch of the scale pattern U1 and the direction indicating the scale pitch of the scale pattern U2 coincide with each other.

上記描画ヘッド10aで描画する画像Gaと描画ヘッド10bで描画する画像Gbとは描画領域Rab(図中斜線で示す)において互いに重複している。描画領域Rab中の2つの目盛パターンU1が描画ヘッド10aで描画されたものであり、描画領域Rab中の2つの目盛パターンU2が描画ヘッド10bで描画されたものである。ここでは、目盛パターンU1は画像Ga中に描画されたものであり、目盛パターンU2は画像Gb中に描画されたものである。   The image Ga drawn by the drawing head 10a and the image Gb drawn by the drawing head 10b overlap each other in the drawing region Rab (shown by hatching in the drawing). Two scale patterns U1 in the drawing area Rab are drawn by the drawing head 10a, and two scale patterns U2 in the drawing area Rab are drawn by the drawing head 10b. Here, the scale pattern U1 is drawn in the image Ga, and the scale pattern U2 is drawn in the image Gb.

また、上記描画ヘッド10bで描画する画像Gbと描画ヘッド10cで描画する画像Gcとは描画領域Rbc(図中斜線で示す)において互いに重複している。描画領域Rbcから外れた、この描画領域Rbcに隣接する画像Gb中の2つの目盛パターンU2が描画ヘッド10bで描画されたものであり、画像Gb中に描画された描画領域Rbc中の2つの目盛パターンU1が描画ヘッド10cで描画されたものである。   Further, the image Gb drawn by the drawing head 10b and the image Gc drawn by the drawing head 10c overlap each other in the drawing region Rbc (shown by diagonal lines). Two scale patterns U2 in the image Gb adjacent to the drawing area Rbc that are out of the drawing area Rbc are drawn by the drawing head 10b, and the two scales in the drawing area Rbc drawn in the image Gb are drawn. The pattern U1 is drawn by the drawing head 10c.

上記描画ずれ測定方法は、上記のように互いに異なる描画ヘッドで画像を描画する際に各画像の一部分を重複させて描画する方式に適用してもよいし、あるいは、互いに異なる描画ヘッドで、各画像を、互いに隣接する領域のそれぞれに、互いに重複させることなく描画する方式に適用してもよい。   The drawing deviation measuring method may be applied to a method of drawing a part of each image overlappingly when drawing an image with different drawing heads as described above, or with each drawing head different from each other. You may apply to the system which draws an image in the area | region which mutually adjoins, without mutually overlapping.

すなわち、例えば、図2に示すように、互いに異なる描画ヘッドで記録媒体1上に描画した画像Ja,Jb、Jc、Jdは互いに重複することなく隣接するものである。そして、画像Ja中の各目盛パターンU1のそれぞれと、画像Jbおよび画像Jc中の目盛パターンU2のそれぞれが並ぶように描画するとともに、画像Jd中の各目盛パターンU1のそれぞれと、画像Jbおよび画像Jc中の目盛パターンU2のそれぞれが並ぶように描画し、上記目盛パターンU1、U2のそれぞれを比較して描画ずれ量の測定を行うこともできる。なお、隣接して並ぶように描画する目盛パターンU1、U2は、上記と同様に、目盛パターンU1の目盛の並ぶ方向と、目盛パターンU2の目盛の並ぶ方向とが互いに一致するように描画する。   That is, for example, as shown in FIG. 2, images Ja, Jb, Jc, and Jd drawn on the recording medium 1 by different drawing heads are adjacent to each other without overlapping each other. Then, each of the scale patterns U1 in the image Ja is drawn so that each of the scale patterns U2 in the image Jb and the image Jc is aligned, and each of the scale patterns U1 in the image Jd, the image Jb, and the image Jb. It is also possible to draw the scale patterns U2 in Jc so that they are arranged, and compare the scale patterns U1 and U2 to measure the drawing deviation amount. Note that the scale patterns U1 and U2 drawn so as to be arranged adjacent to each other are drawn so that the direction in which the scale pattern U1 is aligned and the direction in which the scale pattern U2 is aligned coincide with each other.

以下に上記描画ずれ量の測定について詳しく説明する。   The measurement of the drawing deviation amount will be described in detail below.

上記いずれの態様で描画された目盛パターンU1、U2についても、描画ずれ量の測定原理は同じであるので、1例として、上記描画領域Rabに描画された目盛パターンU1、U2について説明する。   Since the measurement principle of the drawing deviation amount is the same for the scale patterns U1 and U2 drawn in any of the above modes, the scale patterns U1 and U2 drawn in the drawing region Rab will be described as an example.

まず始めに位置ずれ量の測定について説明する。なお、以下の説明においては、描画ヘッド10aで描画した画像Ga、および描画ヘッド10bで描画した画像Gbは共に倍率ずれを生じることなく描画されたものとして説明する。   First, the measurement of the positional deviation amount will be described. In the following description, it is assumed that the image Ga drawn by the drawing head 10a and the image Gb drawn by the drawing head 10b are both drawn without causing a magnification shift.

図3に示すように、記録媒体1上の描画領域Rabに、描画ヘッド10aで描画した画像Ga中の、図中矢印Y方向のピッチを示す目盛パターンU1(以後、目盛パターンU1yという)と、描画ヘッド10bで描画された画像Gb中の、図中矢印Y方向のピッチを示す目盛パターンU2(以後、目盛パターンU2yという)とが並んでいる。目盛パターンU1yは、幅20μmのライン、幅25μmのスペースで構成されるピッチ45μmの目盛を示すものである。一方、目盛パターンU2yは、幅20μmのライン、幅26μmのスペースで構成されるピッチ46μmの目盛を示すものである。   As shown in FIG. 3, a scale pattern U1 (hereinafter referred to as a scale pattern U1y) indicating the pitch in the direction of arrow Y in the image Ga drawn by the drawing head 10a in the drawing area Rab on the recording medium 1, A scale pattern U2 (hereinafter referred to as a scale pattern U2y) indicating the pitch in the arrow Y direction in the drawing in the image Gb drawn by the drawing head 10b is arranged. The scale pattern U1y indicates a scale with a pitch of 45 μm composed of a line with a width of 20 μm and a space with a width of 25 μm. On the other hand, the scale pattern U2y indicates a scale with a pitch of 46 μm constituted by a line having a width of 20 μm and a space having a width of 26 μm.

また、目盛パターンU1y中の零目盛Y1(0)、および目盛パターンU2y中の零目盛Y2(0)は、上記画像Ga,Gbが共に描画ずれを生じることなく描画されたときに、互いの位置が一致するように設定されたものである。   Also, the zero scale Y1 (0) in the scale pattern U1y and the zero scale Y2 (0) in the scale pattern U2y are positioned relative to each other when the images Ga and Gb are drawn without any drawing displacement. Are set to match.

ここで、ノギスの本尺と副尺を用いた測定と同様の原理により、例えば、目盛パターンU1y中の零目盛Y1(0)の最も近くにおいて、目盛パターンU1y中の目盛と合致する目盛パターンU2y中の目盛りは目盛Y2(7)である。すなわち、上記目盛Y2(7)は、目盛パターンU2y中の零目盛Y2(0)から7目盛りずれた7番目の目盛であり、これにより、画像Gaに対して画像Gbは図中−Y方向に7μmずれていることがわかる。   Here, according to the same principle as the measurement using the caliper main scale and the vernier scale, for example, the scale pattern U2y that coincides with the scale in the scale pattern U1y closest to the zero scale Y1 (0) in the scale pattern U1y. The middle scale is the scale Y2 (7). That is, the scale Y2 (7) is the seventh scale shifted by 7 scales from the zero scale Y2 (0) in the scale pattern U2y, whereby the image Gb is in the −Y direction with respect to the image Ga. It can be seen that the deviation is 7 μm.

上記手法により互いに異なる描画ヘッドで描画された画像間の相対的な位置ずれ量を測定することができる。なお、予め記録媒体1上に例えば本尺を描画しておき、この本尺の位置に対応させて、測定対象とする描画ヘッド10によって副尺を描画することにより、測定対象の描画ヘッド10の位置ずれを測定するようにしてもよい。   By the above method, it is possible to measure a relative positional deviation amount between images drawn by different drawing heads. For example, a main scale is drawn on the recording medium 1 in advance, and a vernier is drawn by the drawing head 10 to be measured in correspondence with the position of the main scale, so that the drawing head 10 to be measured is drawn. You may make it measure position shift.

次に、倍率ずれ量の測定の1実施例について説明する。   Next, an example of measuring the magnification deviation will be described.

ここでは、描画ヘッド10aによって記録媒体1上に描画する画像Gaの左側(図1中の−X方向側)の縁Fgaの位置と、描画ヘッド10bによって記録媒体1上に描画する画像Gbの左側(図1中の−X方向側)の縁Fgbの位置との位置関係は常に一定である。すなわち、上記縁Fgaと縁Fgbとは、画像Ga、Gbそれぞれの描画を行なう際の基準位置であり、互いに平行に、かつ、両者の間隔が65mmとなるように記録媒体1上に描画されるものとする。また、画像Ga中に描画された目盛パターンU1は画像Ga中の右端(図1中の+X方向側)に位置し、上記縁Fgaから離れている。一方、画像Gb中に描画された目盛パターンU2は画像Gb中の左端(図1中の−X方向側)に位置し、縁Fgbの近傍に位置している。上記条件下において画像Gaの倍率ずれ量の測定を行なう。   Here, the position of the edge Fga on the left side (the −X direction side in FIG. 1) of the image Ga drawn on the recording medium 1 by the drawing head 10a and the left side of the image Gb drawn on the recording medium 1 by the drawing head 10b. The positional relationship with the position of the edge Fgb on the −X direction side in FIG. 1 is always constant. That is, the edge Fga and the edge Fgb are reference positions when the images Ga and Gb are drawn, and are drawn on the recording medium 1 in parallel with each other so that the distance between them is 65 mm. Shall. Further, the scale pattern U1 drawn in the image Ga is located at the right end (+ X direction side in FIG. 1) in the image Ga and is away from the edge Fga. On the other hand, the scale pattern U2 drawn in the image Gb is located at the left end (−X direction side in FIG. 1) in the image Gb, and is located in the vicinity of the edge Fgb. The magnification shift amount of the image Ga is measured under the above conditions.

図1、および図1の一部分を拡大して示した図4に示すように、記録媒体1上の描画領域Rabに、描画ヘッド10aで描画した画像Ga中の上記Y方向と直交する図中矢印X方向のピッチを示す目盛パターンU1(以後、目盛パターンU1xという)と、描画ヘッド10bで描画した画像Gb中の図中矢印X方向のピッチを示す目盛パターンU2(以後、目盛パターンU2xという)とが並んでいる。目盛パターンU1xは、倍率ずれなく描画されたときに、幅20μmのライン、幅25μmのスペースで構成されるピッチ45μmの目盛を示すものである。一方、目盛パターンU2xは、倍率ずれなく描画されたときに、幅20μmのライン、幅26μmのスペースで構成されるピッチ46μmの目盛を示すものである。   As shown in FIG. 1 and FIG. 4 showing an enlarged part of FIG. 1, an arrow in the figure orthogonal to the Y direction in the image Ga drawn by the drawing head 10a in the drawing region Rab on the recording medium 1 A scale pattern U1 (hereinafter referred to as a scale pattern U1x) indicating the pitch in the X direction, and a scale pattern U2 (hereinafter referred to as a scale pattern U2x) indicating a pitch in the arrow X direction in the image Gb drawn by the drawing head 10b. Are lined up. The scale pattern U1x indicates a scale with a pitch of 45 μm composed of a line with a width of 20 μm and a space with a width of 25 μm when drawn without a magnification shift. On the other hand, the scale pattern U2x indicates a scale with a pitch of 46 μm composed of a line with a width of 20 μm and a space with a width of 26 μm when drawn without a magnification shift.

また、目盛パターンU1x中の零目盛X1(0)、および目盛パターンU2x中の零目盛X2(0)は、画像Ga,Gbが共に描画ずれを生じることなく描画されたときに、互いの位置が一致するように設定されたものである。描画ずれを生じることなく描画されたときの、画像Gaの縁Fgaから零目盛X1(0)までの距離は70mmであり、画像Gbの縁Fgbから零目盛X2(0)までの距離は5mmである。   Also, the zero scale X1 (0) in the scale pattern U1x and the zero scale X2 (0) in the scale pattern U2x are positioned relative to each other when the images Ga and Gb are drawn without any drawing deviation. It was set to match. The distance from the edge Fga of the image Ga to the zero scale X1 (0) when drawn without causing a drawing shift is 70 mm, and the distance from the edge Fgb of the image Gb to the zero scale X2 (0) is 5 mm. is there.

ここで、上記ノギスの本尺と副尺を用いた測定と同様の原理により、例えば、目盛パターンU1x中の零目盛X1(0)の最も近くにおいて、目盛パターンU1x中の目盛と合致する目盛パターンU2x中の目盛りは目盛X2(2)である。すなわち、上記目盛X2(2)は、目盛パターンU2x中の上記零目盛Y2(0)から2目盛りずれた2番目の目盛である。これにより、画像Gb中の目盛パターンU2xの位置に対して画像Ga中の目盛パターンU1xの位置が図中+X方向に2μmずれていることが読み取れる。   Here, according to the same principle as the measurement using the caliper main scale and the vernier scale, for example, a scale pattern that coincides with the scale in the scale pattern U1x closest to the zero scale X1 (0) in the scale pattern U1x. The scale in U2x is the scale X2 (2). That is, the scale X2 (2) is a second scale that is shifted by 2 scales from the zero scale Y2 (0) in the scale pattern U2x. Thereby, it can be read that the position of the scale pattern U1x in the image Ga is shifted by 2 μm in the + X direction in the figure with respect to the position of the scale pattern U2x in the image Gb.

次に、上記画像Gbに対する画像Gaの+X方向への位置ずれ量を倍率ずれ量に換算する。   Next, the positional deviation amount of the image Ga with respect to the image Gb in the + X direction is converted into a magnification deviation amount.

位置ずれ量を倍率ずれ量に換算する場合には、目盛パターンU1xの目盛のピッチ、および目盛パターンU2xの目盛りのピッチの倍率ずれによる誤差は微小なので無視する。また、画像Gb中の目盛パターンU2xの位置はこの画像Gbの縁Fgbの近傍に位置し、この画像Gbの倍率ずれによって生じる縁Fgbに対する目盛パターンU2x位置の位置ずれ量が微小となるので、この位置ずれを無視する
図5に示すように、上記条件下において、画像Gaの縁Fgaから画像Ga中に描画された零目盛X1(0)までの距離La1は、画像Gaの縁Fgaから画像Gb中に描画された零目盛X2(0)までの距離La2より2μm大きいことがわかる。すなわち、La1=La2+2μmである。
When the positional deviation amount is converted into the magnification deviation amount, errors due to the magnification deviation of the scale pitch of the scale pattern U1x and the scale pitch of the scale pattern U2x are negligible. Further, the position of the scale pattern U2x in the image Gb is located in the vicinity of the edge Fgb of the image Gb, and the amount of displacement of the position of the scale pattern U2x relative to the edge Fgb caused by the magnification shift of the image Gb is very small. As shown in FIG. 5, under the above conditions, the distance La1 from the edge Fga of the image Ga to the zero scale X1 (0) drawn in the image Ga under the above conditions is from the edge Fga of the image Ga to the image Gb. It can be seen that the distance La2 to the zero scale X2 (0) drawn inside is 2 μm larger. That is, La1 = La2 + 2 μm.

また、上記縁Fgaから零目盛X2(0)までの距離La2は、縁Fgaから縁Fgbまでの距離Lab(65mm)と、縁Fgbから零目盛X2(0)までの距離Lb2(5mm)とを加算することにより求めることができる。すなわち、La2=Lab+Lb2=70mmであり、上記画像Gaの縁Fgaから零目盛X1(0)までの距離La1は、La1=La2+2μm=70.002mmと求めることができる。   The distance La2 from the edge Fga to the zero scale X2 (0) is a distance Lab (65 mm) from the edge Fga to the edge Fgb and a distance Lb2 (5 mm) from the edge Fgb to the zero scale X2 (0). It can be obtained by adding. That is, La2 = Lab + Lb2 = 70 mm, and the distance La1 from the edge Fga of the image Ga to the zero scale X1 (0) can be obtained as La1 = La2 + 2 μm = 70.002 mm.

したがって、倍率ずれ量Mgの値を、Mg=La1/La2=70.002/70として求めることができる。   Therefore, the value of the magnification deviation amount Mg can be obtained as Mg = La1 / La2 = 70.002 / 70.

上記手法により互いに異なる描画ヘッドで描画された画像間の倍率ずれ量を測定することができる。 The magnification shift amount between images drawn by different drawing heads can be measured by the above method.

なお、上記各画像Ga,Gb・・・は、描画ヘッド10a、10b・・・により一括描画されたものであってもよいし、あるいは、上記各画像Ga,Gb・・・は、描画ヘッド10a、10b・・・により、記録媒体1上の図中矢印X方向に延びる線状の領域を描画しつつ、記録媒体1を描画ヘッド10a、10b・・・に対して図中矢印Y方向に相対的に搬送して描画されたもの等であってもよい。   In addition, each said image Ga, Gb ... may be drawn collectively by drawing head 10a, 10b ..., or each said image Ga, Gb ... is drawing head 10a. 10b... Draws a linear region extending in the direction of arrow X in the figure on the recording medium 1 while drawing the recording medium 1 relative to the drawing heads 10a, 10b. It may be one that has been transported and drawn.

また、描画ヘッドは記録媒体1上にインク等を射出してこの記録媒体1上に画像を描画するものであってもよい。あるいは、描画ヘッドとして露光ヘッドを採用し、記録媒体1として感光材料を採用するようにしてもよい。   Further, the drawing head may be one that draws an image on the recording medium 1 by ejecting ink or the like onto the recording medium 1. Alternatively, an exposure head may be employed as the drawing head, and a photosensitive material may be employed as the recording medium 1.

上記のように、本発明によれば、複数の描画ヘッドのそれぞれで描画する各画像間における描画ずれ量をより高い精度で測定することができる。   As described above, according to the present invention, it is possible to measure a drawing deviation amount between images drawn by each of a plurality of drawing heads with higher accuracy.

次に、上記描画ずれ測定方法を適用して露光を行う露光方法を実施する露光装置について説明する。   Next, an exposure apparatus that implements an exposure method that performs exposure by applying the drawing deviation measuring method will be described.

図6は露光装置の光学系の概略構成を示す図、図7は露光装置全体の概略構成を示す斜視図、図8は露光ユニットに収容された露光ヘッドが感光材料を露光する様子示す斜視図、図9は後述するDMDの構成を拡大して示す斜視図、図10は微小ミラーの動作を示す斜視図であり、図10(A)はDMDをオフ状態とした場合の画素光ビームの軌跡を示す平面図、図10(B)はDMDをオン状態とした場合の画素光ビームの軌跡を示す平面図である。図11(A)はDMDを傾斜させない場合の各微小ミラーで反射させて形成された画素光ビームの感光材料上での軌跡を示す図、図11(B)はDMDを傾斜させた場合の画素光ビームの感光材料上での軌跡を示す図である。   FIG. 6 is a diagram showing a schematic configuration of the optical system of the exposure apparatus, FIG. 7 is a perspective view showing the schematic configuration of the entire exposure apparatus, and FIG. 8 is a perspective view showing how the exposure head accommodated in the exposure unit exposes the photosensitive material. 9 is an enlarged perspective view showing the configuration of the DMD described later, FIG. 10 is a perspective view showing the operation of the micromirror, and FIG. 10A is a locus of the pixel light beam when the DMD is turned off. FIG. 10B is a plan view showing the trajectory of the pixel light beam when the DMD is turned on. FIG. 11A is a diagram showing a locus on a photosensitive material of a pixel light beam formed by reflecting each micromirror when the DMD is not tilted, and FIG. 11B is a pixel when the DMD is tilted. It is a figure which shows the locus | trajectory on the photosensitive material of a light beam.

上記描画ずれ測定方法を適用して露光を行う露光方法を実施する露光装置は、入射した光を変調する変調素子を2次元状に多数配列してなる空間光変調器であるDMDを有する複数の露光ヘッドのそれぞれで、光源から発せられた光を空間光変調させ、空間光変調させて得られた画像パターンを感光材料上に結像させてこの感光材料を露光する露光方法であって、上記描画ずれ測定方法を複数の露光ヘッドで感光材料を露光する際の描画ずれ量の測定に適用して、露光ヘッドのそれぞれで結像させる各画像パターン間の描画ずれ量を測定し、その描画ずれ量に基づいて各露光ヘッドにより感光材料上に結像させる各画像パターン間の描画ずれを補正して上記露光ヘッドによる感光材料の露光を実行するものである。   An exposure apparatus that performs an exposure method that performs exposure by applying the drawing deviation measuring method includes a plurality of DMDs that are spatial light modulators in which a large number of modulation elements that modulate incident light are two-dimensionally arranged. Each of the exposure heads is an exposure method in which light emitted from a light source is subjected to spatial light modulation, and an image pattern obtained by spatial light modulation is imaged on the photosensitive material to expose the photosensitive material. The drawing deviation measurement method is applied to the measurement of the drawing deviation amount when exposing a photosensitive material with multiple exposure heads, and the drawing deviation amount between each image pattern formed by each of the exposure heads is measured, and the drawing deviation is measured. Based on the amount, the exposure deviation between the image patterns formed on the photosensitive material by each exposure head is corrected, and the exposure of the photosensitive material by the exposure head is executed.

なお、上記描画ヘッド10a、10b・・・が、後述する露光ヘッド230A, 230B・・・に対応するものである。また、記録媒体1が、後述する光材料201に対応するものである。また、各描画ヘッド10a、10b・・・により各画像Ga、Gb・・・を描画した記録媒体1上の描画領域が、後述する帯状の露光済み領域234A,234B・・・に対応するものである。   The drawing heads 10a, 10b,... Correspond to exposure heads 230A, 230B,. The recording medium 1 corresponds to an optical material 201 described later. Further, the drawing areas on the recording medium 1 on which the images Ga, Gb,... Are drawn by the drawing heads 10a, 10b,... Correspond to the strip-shaped exposed areas 234A, 234B,. is there.

図示のように露光装置200は、光源238から発せられ光ファイバ240を通って射出された光を、微小光変調素子である微小ミラーMを2次元状に多数配列してなる空間光変調器であるDMD(デジタル・マイクロミラー・ディバイス)236により空間光変調させ、上記微小ミラーMそれぞれの光変調状態に応じて形成される各微小ミラーMに対応する画素光ビームLを感光材料201上に結像させ、この感光材料201上に画像、例えば配線パターンを露光するものである。   As shown in the figure, the exposure apparatus 200 is a spatial light modulator formed by arranging a plurality of micromirrors M, which are microscopic light modulation elements, two-dimensionally, the light emitted from the light source 238 and emitted through the optical fiber 240. Spatial light modulation is performed by a certain DMD (digital micromirror device) 236, and a pixel light beam L corresponding to each micromirror M formed according to the light modulation state of each micromirror M is coupled onto the photosensitive material 201. An image, for example, a wiring pattern is exposed on the photosensitive material 201.

上記露光装置200は、いわゆるフラットベッド型に構成したものであり、露光対象となる被露光部材である感光材料201を表面に吸着して保持する平板状のステージ214を備えている。4本の脚部216に支持された肉厚板状の設置台218の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた2本のガイド220が設置されている。ステージ214は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド220によって往復移動可能に支持されている。なお、この露光装置200には、ステージ214をガイド220に沿って駆動するための図示しない駆動装置が設けられている。   The exposure apparatus 200 is configured in a so-called flatbed type, and includes a flat stage 214 that holds a photosensitive material 201 that is an exposure target to be exposed to the surface. Two guides 220 extending along the stage moving direction are installed on the upper surface of the thick plate-shaped installation base 218 supported by the four legs 216. The stage 214 is arranged so that the longitudinal direction thereof faces the stage moving direction, and is supported by the guide 220 so as to be reciprocally movable. The exposure apparatus 200 is provided with a driving device (not shown) for driving the stage 214 along the guide 220.

設置台218の中央部には、ステージ214の移動経路を跨ぐようにコ字状のゲート222が設けられている。ゲート222の端部の各々は、設置台218の両側面に固定されている。このゲート222を挟んで一方の側には露光ユニット224が設けられ、他方の側には感光材料201の先端及び後端を検知する複数(例えば、2個)の検知センサ226が設けられている。露光ユニット224及び検知センサ226はゲート222に各々取り付けられて、ステージ214の移動経路の上方に固定配置されている。なお、露光ユニット224及び検知センサ226は、この露光装置200の各部の同期やタイミングを制御する露光装置コントローラ228に接続されている。   A U-shaped gate 222 is provided at the center of the installation table 218 so as to straddle the moving path of the stage 214. Each of the end portions of the gate 222 is fixed to both side surfaces of the installation table 218. An exposure unit 224 is provided on one side of the gate 222, and a plurality of (for example, two) detection sensors 226 for detecting the front and rear ends of the photosensitive material 201 are provided on the other side. . The exposure unit 224 and the detection sensor 226 are respectively attached to the gate 222 and fixedly arranged above the moving path of the stage 214. The exposure unit 224 and the detection sensor 226 are connected to an exposure apparatus controller 228 that controls the synchronization and timing of each part of the exposure apparatus 200.

この露光ユニット224の内部には、図7に示すように、i行j列(例えば、2行4列)の略マトリックス状に配列された複数(例えば、8個)の露光ヘッド230A,230B・・・(以後、これらをまとめて露光ヘッド230ともいう)が設置されている。   In the exposure unit 224, as shown in FIG. 7, a plurality of (for example, eight) exposure heads 230A, 230B,... Arranged in a substantially matrix of i rows and j columns (for example, 2 rows and 4 columns). (Hereinafter, these are collectively referred to as exposure head 230).

図8に示すように、露光ヘッド230A, 230B・・・による各露光エリア232は、例えば、搬送方向(図中の矢印Y方向)を長辺とする矩形状に構成する。この場合、感光材料201には、その露光の動作に伴って露光ヘッド230毎に帯状の露光済み領域234A,234B・・・(以後、これらをまとめて露光済み領域234ともいう)が形成される。   As shown in FIG. 8, each exposure area 232 by the exposure heads 230A, 230B,... Is configured in a rectangular shape having a long side in the transport direction (arrow Y direction in the figure), for example. In this case, in the photosensitive material 201, strip-shaped exposed regions 234A, 234B (hereinafter collectively referred to as exposed regions 234) are formed for each exposure head 230 in accordance with the exposure operation. .

また、帯状の露光済み領域234が上記搬送方向と直交する直交方向(図中の矢印X方向)に隙間無く並ぶように、配列された各行の露光ヘッド230の各々は、列方向に所定間隔(露光エリアの長辺の自然数倍)ずらして配置されている。すなわち、例えば、露光ヘッド230Aによる露光エリア232Aと露光ヘッド230Bによる露光エリア232Bとの間の露光できない部分は、露光ヘッド230Fによる露光エリア232Fとすることができる。   In addition, each of the exposure heads 230 in each row arranged so that the strip-shaped exposed regions 234 are arranged without gaps in an orthogonal direction (arrow X direction in the drawing) orthogonal to the transport direction is a predetermined interval ( The exposure area is shifted by a natural number times the long side). That is, for example, a portion that cannot be exposed between the exposure area 232A by the exposure head 230A and the exposure area 232B by the exposure head 230B can be an exposure area 232F by the exposure head 230F.

図6に示すように、各露光ヘッド230は、光源238から発せられ光ファイバ240を通って射出された光ビームを、空間光変調させる空間光変調器として、デジタル・マイクロミラー・デバイス(DMD)236を備えている。このDMD236は、画像データ処理部とミラー駆動制御部等を備えた上記露光装置コントローラ228に接続されている。   As shown in FIG. 6, each exposure head 230 uses a digital micromirror device (DMD) as a spatial light modulator that spatially modulates a light beam emitted from a light source 238 and emitted through an optical fiber 240. 236. The DMD 236 is connected to the exposure apparatus controller 228 provided with an image data processing unit, a mirror drive control unit, and the like.

この露光装置コントローラ228の画像データ処理部では、入力された画像データに基づいて、各露光ヘッド230毎にDMD236の制御すべき微小ミラーを駆動制御する制御信号を生成する。また、DMDコントローラとしてのミラー駆動制御部では、画像データ処理部で生成した制御信号に基づいて、各露光ヘッド230毎にDMD236における各微小ミラーの反射面の角度を制御する。   The image data processing unit of the exposure apparatus controller 228 generates a control signal for driving and controlling the micromirrors to be controlled by the DMD 236 for each exposure head 230 based on the input image data. Further, the mirror drive control unit as the DMD controller controls the angle of the reflection surface of each micromirror in the DMD 236 for each exposure head 230 based on the control signal generated by the image data processing unit.

各露光ヘッド230に配されたDMD236の光の入射側には、図7に示すように、光源238からそれぞれ引き出されたバンドル状の光ファイバ240が配置されている。なお、光源238は、一般の光源として利用可能な紫外線ランプ(UVランプ)、キセノンランプ等で構成しても良い。   As shown in FIG. 7, bundle-shaped optical fibers 240 respectively drawn from the light sources 238 are disposed on the light incident side of the DMD 236 disposed in each exposure head 230. The light source 238 may be constituted by an ultraviolet lamp (UV lamp), a xenon lamp, or the like that can be used as a general light source.

光源238は、図示しないがその内部に、複数の半導体レーザチップから射出されたレーザ光を合波して光ファイバに入力する合波モジュールが複数個設置されている。各合波モジュールから延びる光ファイバは、合波したレーザ光を伝搬する合波光ファイバであって、複数の光ファイバが1つに束ねられてバンドル状の光ファイバ240を構成している。   Although not shown, the light source 238 is provided with a plurality of multiplexing modules that multiplex laser beams emitted from a plurality of semiconductor laser chips and input them to the optical fiber. The optical fiber extending from each multiplexing module is a multiplexing optical fiber that propagates the combined laser beam, and a plurality of optical fibers are bundled into one to form a bundle-shaped optical fiber 240.

また各露光ヘッド230のDMD236における光の入射側には、図6に示すように、バンドル状光ファイバ240から出射された光をDMD236に向けて反射するミラー242が配置されている。   Further, as shown in FIG. 6, a mirror 242 that reflects the light emitted from the bundle optical fiber 240 toward the DMD 236 is disposed on the light incident side of each exposure head 230 in the DMD 236.

DMD236は、図9に示すように、SRAMセル(メモリセル)244上に、縦横2次元状に配列された多数の微小ミラーMが図示しない支柱により支持されて配置された長方形状のものであり、画素(ピクセル)を構成する多数の(例えば、600個×800個)の微小ミラーMを格子状に配列したミラーデバイスとして構成されている。各ピクセルの最上部に支柱に支えられた微小ミラーMが設けられており、微小ミラーMの表面にはアルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。   As shown in FIG. 9, the DMD 236 has a rectangular shape in which a large number of micromirrors M arranged in a two-dimensional manner are supported on a SRAM cell (memory cell) 244 and supported by pillars (not shown). The mirror device is configured by arranging a large number (for example, 600 × 800) of micromirrors M constituting a pixel (pixel) in a grid pattern. A micromirror M supported by a support column is provided at the top of each pixel, and a material having high reflectance such as aluminum is deposited on the surface of the micromirror M.

また、微小ミラーMの直下には、図示しないヒンジ及びヨークを含む支柱を介して通常の半導体メモリの製造ラインで製造されるシリコンゲートのCMOSの上記SRAMセル244が配置されており、全体はモノリシック(一体型)に構成されている。   Directly below the micromirror M is a silicon gate CMOS SRAM cell 244 manufactured on a normal semiconductor memory manufacturing line via a post including a hinge and a yoke (not shown), and the whole is monolithic. (Integrated type).

DMD236のSRAMセル244にデジタル信号が書き込まれると、支柱に支えられた微小ミラーMが、対角線を中心としてDMD236が配置された基板側に対して±α度(例えば±10度)の範囲で傾けられる。図10(A)は、微小ミラーMがオン状態である+α度に傾いた状態を示し、図10(B)は、微小ミラーMがオフ状態である−α度に傾いた状態を示す。従って、画像信号に応じて、DMD236の各ピクセルにおける微小ミラーMの傾きを、上記のように制御することによって、DMD236に入射された光はそれぞれの微小ミラーMの傾きに応じた方向へ反射せしめられる。   When a digital signal is written to the SRAM cell 244 of the DMD 236, the micromirror M supported by the support is tilted within a range of ± α degrees (for example, ± 10 degrees) with respect to the substrate side on which the DMD 236 is disposed with the diagonal line as the center. It is done. FIG. 10A shows a state where the micromirror M is tilted to + α degrees when the micromirror M is in the on state, and FIG. 10B shows a state where the micromirror M is tilted to −α degrees when the micromirror M is in the off state. Therefore, by controlling the inclination of the micromirror M in each pixel of the DMD 236 as described above according to the image signal, the light incident on the DMD 236 is reflected in a direction corresponding to the inclination of the micromirror M. It is done.

なお、図9には、DMD236の一部を拡大し、微小ミラーMが+α度又は−α度に制御されている状態の一例を示す。それぞれの微小ミラーMのオンオフ(on/off)制御は、DMD236に接続された露光装置コントローラ228によって行われるもので、例えばオン状態の微小ミラーMで反射させた光は、DMD236における光の出射側に設けられた後述する結像光学系259(図6参照)を通して結像され感光材料201を露光する。またオフ状態の微小ミラーMで反射させた光は光吸収体(図示省略)に入射し吸収され感光材料201を露光しない。   FIG. 9 shows an example of a state in which a part of the DMD 236 is enlarged and the micromirror M is controlled to + α degrees or −α degrees. The on / off control of each micromirror M is performed by the exposure apparatus controller 228 connected to the DMD 236. For example, the light reflected by the micromirror M in the on state is the light emission side of the DMD 236. The photosensitive material 201 is exposed by being imaged through an imaging optical system 259 (see FIG. 6) provided later. Further, the light reflected by the off-state micromirror M enters a light absorber (not shown) and is absorbed and does not expose the photosensitive material 201.

また、DMD236は、その長方形状の長辺方向が搬送方向(図中の矢印Y方向)と所定角度θ(例えば、0.1°〜0.5°)を成すように僅かに傾斜させて配置するのが好ましい。図11(A)はDMD236を傾斜させない場合の各微小ミラーで反射させて形成された画素光ビームLの上記搬送による感光材料201上での軌跡(以後、搬送軌跡という)を示し、図11(B)はDMD236を傾斜させた場合の画素光ビームLの搬送軌跡を示している。   Further, the DMD 236 is arranged slightly inclined so that the long side direction of the rectangular shape forms a predetermined angle θ (for example, 0.1 ° to 0.5 °) with the transport direction (the arrow Y direction in the figure). It is preferable to do this. FIG. 11A shows a trajectory (hereinafter referred to as a transport trajectory) on the photosensitive material 201 by the above-described transport of the pixel light beam L formed by being reflected by each micromirror when the DMD 236 is not tilted. B) shows the transport locus of the pixel light beam L when the DMD 236 is tilted.

上記のように、DMD236を傾斜させることにより、各微小ミラーMを通った画素光ビームLの搬送軌跡が示す搬送線のピッチP2を(図11(B)参照)、DMD236を傾斜させない場合の搬送線のピッチPl(図11(A)参照)より狭くすることができ、感光材料201上に露光する画像の解像度を大幅に向上させることができる。一方、DMD236の傾斜角は微小であるので、DMD236を傾斜させた場合の搬送幅W2と、DMD236を傾斜させない場合の搬送輻W1とは略同一である。   As described above, by tilting the DMD 236, the transport line pitch P2 indicated by the transport trajectory of the pixel light beam L that has passed through each micromirror M (see FIG. 11B) is transported when the DMD 236 is not tilted. It can be made narrower than the line pitch Pl (see FIG. 11A), and the resolution of the image exposed on the photosensitive material 201 can be greatly improved. On the other hand, since the tilt angle of the DMD 236 is very small, the transport width W2 when the DMD 236 is tilted and the transport radiation W1 when the DMD 236 is not tilted are substantially the same.

また、異なる微小ミラー列により同じ搬送線上における略同一の位置(ドット)を重ねて露光(多重露光)するように配置することもできる。このような場合には、感光材料上の同一領域が多重露光され、より高い分解能で露光をコントロールすることができ、高精細な露光を実現することができる。また、このような高分解能での露光により、各露光ヘッド間のつなぎ自を、目立たないようにすることができる。   Moreover, it can also arrange | position so that the substantially same position (dot) on the same conveyance line may be accumulated and exposed (multiple exposure) by a different micro mirror row | line | column. In such a case, the same region on the photosensitive material is subjected to multiple exposure, exposure can be controlled with higher resolution, and high-definition exposure can be realized. In addition, such high-resolution exposure can make the connection between the exposure heads inconspicuous.

次に、露光ヘッド230のDMD236における光の射出側に設けられた結像光学系259について説明する。図6に示すように、上記結像光学系259は、感光材料201上に、光源の像を結像させるため、DMD236の側から感光材料201の側へ向かう光路に沿って順に、レンズ系250,252、マイクロレンズアレイ254、対物レンズ系256,258の各光学要素が配置されて構成されている。   Next, the imaging optical system 259 provided on the light emission side of the DMD 236 of the exposure head 230 will be described. As shown in FIG. 6, the imaging optical system 259 sequentially forms a lens system 250 along an optical path from the DMD 236 side to the photosensitive material 201 side in order to form an image of the light source on the photosensitive material 201. 252, microlens array 254, and objective lens systems 256 and 258 are arranged.

ここで、レンズ系250,252は拡大光学系として構成されており、DMD236で反射させてなる画素光ビームによって露光される感光材料201上の露光エリア232の面積を所要の大きさに拡大している。   Here, the lens systems 250 and 252 are configured as an enlargement optical system, and the area of the exposure area 232 on the photosensitive material 201 exposed by the pixel light beam reflected by the DMD 236 is enlarged to a required size. Yes.

図6に示すように、マイクロレンズアレイ254は、DMD236の各微小ミラーMに1対1で対応する複数のマイクロレンズ260が一体的に成形されたものであり、各マイクロレンズ260は、レンズ系250,252を通った各画素光ビームのそれぞれを通すように配置されている。   As shown in FIG. 6, the microlens array 254 is formed by integrally forming a plurality of microlenses 260 corresponding to the micromirrors M of the DMD 236 on a one-to-one basis. The pixel light beams that have passed through 250 and 252 are arranged to pass through.

このマイクロレンズアレイ254の全体は、矩形平板状に形成され、各マイクロレンズ260を形成した部分には、それぞれアパーチャ262(図6に図示)が一体的に配置されている。このアパーチャ262は、各マイクロレンズ260に1対1で対応して配置された開口絞りを成す。   The entire microlens array 254 is formed in a rectangular flat plate shape, and apertures 262 (shown in FIG. 6) are integrally disposed in the portions where the microlenses 260 are formed. The aperture 262 forms an aperture stop that is arranged in one-to-one correspondence with each microlens 260.

対物レンズ系256,258は、例えば、等倍光学系として構成されている。また感光材料201は、対物レンズ系256,258を通して画素光ビームLが結像される位置に配置される。なお、結像光学系259における各レンズ系250,252,対物レンズ系256,258は、図6においてそれぞれ1枚のレンズとして示されているが、複数枚のレンズ(例えば、凸レンズと凹レンズ)を組み合せたものであっても良い。   The objective lens systems 256 and 258 are configured as, for example, an equal magnification optical system. The photosensitive material 201 is disposed at a position where the pixel light beam L is imaged through the objective lens systems 256 and 258. The lens systems 250 and 252 and the objective lens systems 256 and 258 in the imaging optical system 259 are shown as one lens in FIG. 6, but a plurality of lenses (for example, a convex lens and a concave lens) are used. It may be a combination.

上述のように構成された露光ヘッド230で、光源238から発せられた光を感光材料201の表面上に結像させて画像を形成することができる。   With the exposure head 230 configured as described above, the light emitted from the light source 238 can be imaged on the surface of the photosensitive material 201 to form an image.

次に、上記露光装置200により感光材料201上に画像を露光する動作について説明する。   Next, an operation for exposing an image on the photosensitive material 201 by the exposure apparatus 200 will be described.

始めに、上記各露光ヘッド230A,230B・・・のそれぞれに対して、上記描画ずれ測定方法を適用して各露光ヘッド230A,230B・・・により感光材料201上に画像を結像させる際の各画像間の描画ずれ量を測定する。その後、上記測定された描画ずれ量に基づいて各露光ヘッド230A,230B・・・により感光材料上に結像させる各画像間の描画ずれを補正する。   First, the above-described drawing deviation measurement method is applied to each of the exposure heads 230A, 230B,... To form an image on the photosensitive material 201 by the exposure heads 230A, 230B,. The amount of drawing deviation between images is measured. Then, based on the measured drawing deviation amount, the drawing deviation between the images formed on the photosensitive material is corrected by the exposure heads 230A, 230B,.

光源238は、図示しないが、レーザ発光素子の各々から発散光状態で出射された紫外線等のレーザビームを、コリメータレンズによって平行光化して集光レンズで集光させ、マルチモード光ファイバのコアの入射端面へ入射させ上記光ファイバ中に合波させて、その光ファイバの出射端部に結合させた光ファイバ240に入射させる。   Although not shown, the light source 238 collimates a laser beam such as ultraviolet light emitted from each of the laser light emitting elements in a divergent light state with a collimator lens and condenses it with a condenser lens. The light is incident on the incident end face, is combined in the optical fiber, and is incident on the optical fiber 240 coupled to the output end of the optical fiber.

露光する画像に応じた画像データが、DMD236に接続された露光装置コントローラ228に入力され、露光装置コントローラ228内のメモリに一旦記憶される。この画像データは、画像を構成する各画素の濃度を2値(ドットの記録の有無)で表したデータである。   Image data corresponding to an image to be exposed is input to an exposure apparatus controller 228 connected to the DMD 236 and temporarily stored in a memory in the exposure apparatus controller 228. This image data is data representing the density of each pixel constituting the image by binary values (whether or not dots are recorded).

感光材料201を表面に吸着したステージ214は、図示しない駆動装置により、ガイド220に沿って搬送方向上流側から下流側に一定速度で移送される。ステージ214がゲート222の下を通過する際に、ゲート222に取り付けられた検知センサ226により感光材料201の先端が検出されると、メモリに記憶された画像データが複数ライン分ずつ順次読み出され、画像データ処理部で読み出された画像データに基づいて各露光ヘッド230毎に微小ミラーMを制御するための制御信号が生成される。   The stage 214 having the photosensitive material 201 adsorbed on the surface thereof is transferred at a constant speed from the upstream side to the downstream side in the transport direction along the guide 220 by a driving device (not shown). When the leading end of the photosensitive material 201 is detected by the detection sensor 226 attached to the gate 222 when the stage 214 passes under the gate 222, the image data stored in the memory is sequentially read out for each of a plurality of lines. A control signal for controlling the micromirror M is generated for each exposure head 230 based on the image data read by the image data processing unit.

そして、露光装置コントローラ228のミラー駆動制御部により、光量分布を均一化するシェーディング調整と露光量の調整がなされた制御信号に基づいて各露光ヘッド230毎にDMD236の微小ミラーの各々がオンオフ制御される。   Then, the mirror drive control unit of the exposure apparatus controller 228 performs on / off control of each micro mirror of the DMD 236 for each exposure head 230 based on a control signal in which the shading adjustment for uniformizing the light amount distribution and the adjustment of the exposure amount are performed. The

光ファイバ240から射出されミラー242で反射させた光ビームがDMD236に照射されると、DMD236の微小ミラーがオン状態のときに反射されたレーザ光は、マイクロレンズアレイ254の各対応するマイクロレンズ260を含むレンズ系を通して感光材料201の露光面上に結像される。このように、DMD236から出射された画素光ビームLが微小ミラー毎にオンオフされて、感光材料201がDMD236の使用画素数と略同数の画素単位(露光エリア)で露光が行なわれる。   When the light beam emitted from the optical fiber 240 and reflected by the mirror 242 is irradiated to the DMD 236, the laser light reflected when the micromirror of the DMD 236 is in the on state is reflected by the corresponding microlens 260 of the microlens array 254. An image is formed on the exposure surface of the photosensitive material 201 through a lens system including In this manner, the pixel light beam L emitted from the DMD 236 is turned on / off for each micromirror, and the photosensitive material 201 is exposed in pixel units (exposure areas) of approximately the same number as the number of used pixels of the DMD 236.

また、感光材料201をステージ214と共に一定速度で移動させることにより、相対的に、感光材料201が 露光ユニット224によりステージ移動方向と反対の方向に移動し、各露光ヘッド230毎に帯状の露光済み領域234が形成され、感光材料201上に画像が露光される。   Further, by moving the photosensitive material 201 together with the stage 214 at a constant speed, the photosensitive material 201 is relatively moved in the direction opposite to the stage moving direction by the exposure unit 224, and a strip-shaped exposure is completed for each exposure head 230. A region 234 is formed, and an image is exposed on the photosensitive material 201.

すなわち、DMD236により、露光形成する画像に対応した変調を施して生成した画素光ビームLを感光材料201上に照射することによって、この感光材料201上に上記画像が形成される。   That is, the image is formed on the photosensitive material 201 by irradiating the photosensitive material 201 with the pixel light beam L generated by performing the modulation corresponding to the image to be exposed and formed by the DMD 236.

露光ユニット224による感光材料201の露光が終了し、検知センサ226で感光材料201の後端が検出されると、ステージ214を、図示しない駆動装置により、ガイド220に沿って搬送方向最上流側にある原点に復帰させ、再度、ガイド220に沿って搬送方向上流側から下流側に一定速度で移動させる。   When exposure of the photosensitive material 201 by the exposure unit 224 is completed and the rear end of the photosensitive material 201 is detected by the detection sensor 226, the stage 214 is moved to the most upstream side in the transport direction along the guide 220 by a driving device (not shown). It is returned to a certain origin, and again moved along the guide 220 from the upstream side in the transport direction to the downstream side at a constant speed.

なお、本実施の形態に係る露光装置200では、露光ヘッド230に用いる空間光変調器としてDMDを用いたが、例えば、MEMS(Micro E1ectro Mechanica1Systems)タイプの空間光変調器(SLM;Speial Light Modulator )、グレーティングを一方向に複数配列して構成された、反射回折格子型のグレーティング・ライト・バルブ素子(GLV素子、シリコン・ライトマシーン社製、なお、GLV素子の詳細については米国特許第5311360号に記載されているので説明は省略する)、電気光学効果により透過光を変調する光学素子(PLZT素子)、又は液晶光シャッタ(FLC)等の透過型の空間光変調器等、MEMSタイプ以外の空間光変調器をDMDに代えて用いることができる。   In the exposure apparatus 200 according to the present embodiment, a DMD is used as a spatial light modulator used in the exposure head 230. For example, a spatial light modulator (SLM) of a MEMS (Micro E1ectro Mechanica 1 Systems) type is used. Reflective diffraction grating type grating light valve element (GLV element, manufactured by Silicon Light Machine Co., Ltd., for details of the GLV element, see US Pat. No. 5,311,360). Spaces other than MEMS types, such as optical elements (PLZT elements) that modulate transmitted light by the electro-optic effect, or transmissive spatial light modulators such as liquid crystal light shutters (FLC), etc. An optical modulator can be used in place of the DMD.

なお、MEMSとは、IC製造プロセスを基盤としたマイクロマシニング技術によるマイクロサイズのセンサ、アクチュエータ、そして制御回路を集積化した微細システムの総称であり、MEMSタイプの空間光変調器とは、静電気力を利用した電気機械動作により駆動される空間光変調器を意味している。   Note that MEMS is a general term for a micro system that integrates micro-sized sensors, actuators, and control circuits based on a micro-machining technology based on an IC manufacturing process. A MEMS-type spatial light modulator is an electrostatic force. It means a spatial light modulator driven by electromechanical operation using

次に、倍率ずれ量の測定の他の実施例について説明する。   Next, another embodiment for measuring the magnification deviation will be described.

図12に示すように、DMDを備えた描画ヘッド110a、110b・・・には、ある幅の、描画可能な描画範囲GGa、GGb・・・がある。そして、実際に描画を行なう際には、描画可能な範囲のうちの一部を用いて描画を行います。この場合、各描画ヘッド110a、110b・・・が所定の幅Wx(例えば65mm)を有する実際描画範囲GGa′、GGb′・・・を描画して、これらの実際描画範囲GGa′、GGb′・・・が、各描画ヘッド110a、110b・・・間で連続的に繋がっている必要がある。   As shown in FIG. 12, the drawing heads 110a, 110b,... Equipped with the DMD have drawing ranges GGa, GGb,. And when drawing actually, it draws using a part of the drawable range. In this case, each drawing head 110a, 110b... Draws an actual drawing range GGa ′, GGb ′... Having a predetermined width Wx (for example, 65 mm), and these actual drawing ranges GGa ′, GGb ′. .. Need to be connected continuously between the drawing heads 110a, 110b.

ところで、図13に示すように、描画ヘッド110a、110b・・・によって画像が描画される記録媒体1を載置するステージ面である描画面120を基準にして、描画範囲の設定を行なう。まず、上記描画面120における実際の描画範囲とすべき各実際描画範囲GGa′、GGb′・・・の左端を基準位置X1(0)、X2(0)・・・と定める。このとき、上記基準位置X1(0)、X2(0)・・・に対応する、DMD中に配列された微小光変調素子である各微小ミラー、すなわち描画ヘッド110a、110b・・・によって各実際描画範囲GGa′、GGb′・・・を描画する際に使用すべき実際描画範囲毎の左端の微小ミラーも決める。   13, the drawing range is set with reference to the drawing surface 120, which is a stage surface on which the recording medium 1 on which an image is drawn by the drawing heads 110a, 110b,. First, the left end of each actual drawing range GGa ′, GGb ′... To be the actual drawing range on the drawing surface 120 is defined as the reference position X1 (0), X2 (0). At this time, each micro mirror which is a micro light modulation element arranged in the DMD corresponding to the reference positions X1 (0), X2 (0). .. Are also determined for each actual drawing range to be used when drawing the drawing ranges GGa ′, GGb ′.

次に、各実際描画範囲GGa′、GGb′・・・の右端である、各描画ヘッド110a、110b・・・で描画される画像の右端の接続位置X2′(0)、X3′(0)・・・を、右隣の描画ヘッドの基準位置X2(0)、X3(0)・・・に合わせる作業を行なう。すなわち、各実際描画範囲GGa′、GGb′・・・の右端に対応する微小ミラーを決める作業を行なう。このときに、上記すでに説明済みの本発明のノギスの本尺と副尺を用いた測定方式を用いて、各実際描画範囲のそれぞれを正確に接続する。   Next, connection positions X2 ′ (0), X3 ′ (0) at the right ends of the images drawn by the drawing heads 110a, 110b,..., Which are the right ends of the actual drawing ranges GGa ′, GGb ′,. Are adjusted to the reference positions X2 (0), X3 (0),... Of the drawing head on the right side. That is, an operation of determining a minute mirror corresponding to the right end of each actual drawing range GGa ′, GGb ′. At this time, each of the actual drawing ranges is accurately connected using the measurement method using the caliper main scale and the vernier scale of the present invention already described above.

図14に示すように、この実施例では、例えば、各描画ヘッド110a、110b・・・において基準位置X1(0)、X2(0)・・・近傍に本尺Hjを、接続位置X2′(0)、X3′(0)・・・近傍に副尺Fjをそれぞれ描画することによって、全ての描画ヘッド110a、110b・・・間において、描画範囲の接続状態を測定することができる。そして、実際描画範囲GGa′、GGb′・・・が正しく繋がったときには、基準位置X2(0)、X3(0)・・・のそれぞれと接続位置X2′(0)、X3′(0)・・・それぞれの図中矢印X方向における位置が互いに一致した状態となる。   As shown in FIG. 14, in this embodiment, for example, in each of the drawing heads 110a, 110b,..., The main scale Hj is located near the reference positions X1 (0), X2 (0). 0), X3 ′ (0)..., And by drawing the vernier Fj in the vicinity, the connection state of the drawing range can be measured between all the drawing heads 110a, 110b. When the actual drawing ranges GGa ′, GGb ′,... Are correctly connected, the reference positions X2 (0), X3 (0),... And the connection positions X2 ′ (0), X3 ′ (0),. .. The positions in the direction of arrow X in each figure are in agreement with each other.

本発明の実施の形態による描画ずれ測定方法を示す概念図The conceptual diagram which shows the drawing misalignment measuring method by embodiment of this invention 各描画ヘッドにより記録媒体上に描画する各画像の領域の1例を示す図The figure which shows an example of the area | region of each image drawn on a recording medium by each drawing head 各画像間の位置ずれを測定する様子を示す図The figure which shows a mode that the position shift between each image is measured 画像間の倍率ずれを測定する様子を示す図Diagram showing how magnification deviation between images is measured 画像間の倍率ずれを測定する様子を示す図Diagram showing how magnification deviation between images is measured 露光装置の光学系の概略構成を示す図The figure which shows schematic structure of the optical system of exposure apparatus 露光装置全体の概略構成を示す斜視図The perspective view which shows schematic structure of the whole exposure apparatus 露光ユニットに収容された露光ヘッドが感光材料を露光する様子示す斜視図The perspective view which shows a mode that the exposure head accommodated in the exposure unit exposes a photosensitive material DMDの構成を拡大して示す斜視図The perspective view which expands and shows the structure of DMD 微小ミラーの動作を示す斜視図Perspective view showing operation of micromirror (A)はDMDを傾斜させない場合の画素光ビームの搬送軌跡を示す平面図、(B)はDMDを傾斜させた場合の画素光ビームの搬送軌跡を示す平面図(A) is a plan view showing the transport locus of the pixel light beam when the DMD is not tilted, and (B) is a plan view showing the transport locus of the pixel light beam when the DMD is tilted. 画像間の倍率ずれを測定する他の例を示す図The figure which shows the other example which measures the magnification gap between images 画像間の倍率ずれが生じている状態を示す図The figure which shows the state where the magnification gap between images has arisen 画像間の倍率ずれが生じていない状態を示す図The figure which shows the state where the magnification gap between images has not arisen

符号の説明Explanation of symbols

1 記録媒体
10a、10b・・・ 描画ヘッド
Ga、Gb2・・・ 画像
U1、U2 目盛パターン
Rab 描画領域
Rbc 描画領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Recording medium 10a, 10b ... Drawing head Ga, Gb2 ... Image U1, U2 Scale pattern Rab Drawing area Rbc Drawing area

Claims (11)

複数の描画ヘッドのそれぞれで描画する各画像間の描画ずれ量を測定する描画ずれ測定方法であって、
予め定められた互いに異なるピッチを有する目盛パターンのそれぞれが、互いに異なる描画ヘッドによって同一記録媒体上に並んで描画されるように、各描画ヘッドにより、前記目盛パターンのそれぞれを前記記録媒体上へ描画し、
前記記録媒体上に描画された前記目盛パターンのそれぞれを比較して前記描画ずれ量を測定することを特徴とする描画ずれ測定方法。
A drawing deviation measuring method for measuring a drawing deviation amount between each image drawn by each of a plurality of drawing heads,
Each of the scale patterns is drawn on the recording medium by each drawing head so that each of the scale patterns having different predetermined pitches is drawn side by side on the same recording medium by different drawing heads. And
A drawing deviation measuring method comprising: comparing the scale patterns drawn on the recording medium to measure the drawing deviation amount.
入射した光を変調する変調素子を2次元状に多数配列してなる空間光変調器を有する複数の露光ヘッドのそれぞれで、光源から発せられた光を空間光変調させて得られた画像のそれぞれを、同一感光材料上に結像させて該感光材料を露光する露光方法であって、
前記請求項1記載の描画ずれ測定方法を、前記複数の露光ヘッドで前記感光材料を露光する際の描画ずれ量の測定に適用して前記露光ヘッドのそれぞれで結像させる各画像間の描画ずれ量を測定し、該描画ずれ量に基づいて各露光ヘッドにより前記感光材料上に結像させる各画像間の描画ずれを補正して前記露光ヘッドによる前記感光材料の露光を実行することを特徴とする露光方法。
Each of the images obtained by spatially modulating the light emitted from the light source by each of a plurality of exposure heads each having a spatial light modulator in which a large number of modulation elements that modulate incident light are two-dimensionally arranged. An exposure method for exposing the photosensitive material by forming an image on the same photosensitive material,
The drawing displacement measuring method according to claim 1 is applied to measurement of a drawing displacement amount when the photosensitive material is exposed by the plurality of exposure heads, and the drawing displacement between each image formed by each of the exposure heads. Measuring the amount, correcting the drawing deviation between each image formed on the photosensitive material by each exposure head based on the drawing deviation amount, and performing exposure of the photosensitive material by the exposure head, Exposure method.
記録媒体上の基準となる位置に描画された第1目盛パターンと、
測定対象となる描画ヘッドによって、前記第1目盛パターンと並ぶように、かつ、前記第1目盛パターンとは目盛りのピッチが異なるように前記記録媒体上に描画された第2目盛パターンとで構成されたものであることを特徴とする目盛パターン。
A first scale pattern drawn at a reference position on the recording medium;
It is composed of a second scale pattern drawn on the recording medium so as to be aligned with the first scale pattern by the drawing head to be measured and so that the scale pitch is different from the first scale pattern. A scale pattern characterized by
前記第1目盛パターンが、前記描画ヘッドに隣接する他の描画ヘッドによって描画されたものであることを特徴とする請求項3記載の目盛パターン。   The scale pattern according to claim 3, wherein the first scale pattern is drawn by another drawing head adjacent to the drawing head. 前記第1目盛パターンおよび前記第2の目盛パターンが、ノギスの本尺および副尺のそれぞれに対応する態様で前記記録媒体上に描画されたものであることを特徴とする請求項3または4記載の目盛パターン。   The said 1st scale pattern and the said 2nd scale pattern are drawn on the said recording medium in the aspect corresponding to each of a caliper's main scale and a vernier scale, The Claim 3 or 4 characterized by the above-mentioned. Tick pattern. 測定対象となる描画ヘッドにより、記録媒体上の基準となる位置に描画された第1目盛パターンと並ぶように、かつ、前記第1目盛パターンとは目盛りのピッチが異なるように前記記録媒体上に第2目盛パターンを描画する工程を有することを特徴とする目盛パターン描画方法。   The drawing head to be measured is arranged on the recording medium so as to be aligned with the first scale pattern drawn at a reference position on the recording medium and so that the scale pitch is different from that of the first scale pattern. A scale pattern drawing method comprising a step of drawing a second scale pattern. 前記第1目盛パターンを、前記描画ヘッドに隣接する他の描画ヘッドによって描画する工程をさらに有することを特徴とする請求項6記載の目盛パターン描画方法。   The scale pattern drawing method according to claim 6, further comprising a step of drawing the first scale pattern by another drawing head adjacent to the drawing head. 前記第1目盛パターンおよび前記第2の目盛パターンが、ノギスの本尺および副尺のそれぞれに対応する態様で前記記録媒体上に描画されることを特徴とする請求項6または7記載の目盛パターン描画方法。   8. The scale pattern according to claim 6, wherein the first scale pattern and the second scale pattern are drawn on the recording medium in a manner corresponding to each of a caliper main scale and a vernier scale. Drawing method. 測定対象となる描画ヘッドにより、記録媒体上の基準となる位置に描画された第1目盛パターンと並ぶように、かつ、前記第1目盛パターンとは目盛りのピッチが異なるように前記記録媒体上に第2目盛パターンを描画する第2目盛描画手段を備えたものであることを特徴とする目盛パターン描画装置。   The drawing head to be measured is arranged on the recording medium so as to be aligned with the first scale pattern drawn at a reference position on the recording medium and so that the scale pitch is different from that of the first scale pattern. A scale pattern drawing apparatus comprising a second scale drawing means for drawing a second scale pattern. 前記第1目盛パターンを前記描画ヘッドに隣接する他の描画ヘッドによって描画する第1目盛描画手段をさらに備えたものであることを特徴とする請求項9記載の目盛パターン描画装置。   10. The scale pattern drawing apparatus according to claim 9, further comprising first scale drawing means for drawing the first scale pattern by another drawing head adjacent to the drawing head. 前記第1目盛パターンおよび前記第2の目盛パターンが、ノギスの本尺および副尺のそれぞれに対応する態様で前記記録媒体上に描画されたものであることを特徴とする請求項9または10記載の目盛パターン描画装置。   The said 1st scale pattern and the said 2nd scale pattern are drawn on the said recording medium in the aspect corresponding to each of a caliper's main scale and a vernier scale, The Claim 9 or 10 characterized by the above-mentioned. Scale pattern drawing device.
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