JP2006274130A - Polyimide film and its use - Google Patents

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JP2006274130A JP2005097605A JP2005097605A JP2006274130A JP 2006274130 A JP2006274130 A JP 2006274130A JP 2005097605 A JP2005097605 A JP 2005097605A JP 2005097605 A JP2005097605 A JP 2005097605A JP 2006274130 A JP2006274130 A JP 2006274130A
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Nagayasu Kaneshiro
永泰 金城
Takeshi Kikuchi
剛 菊池
Takaaki Matsuwaki
崇晃 松脇
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a polyimide film that has not only improved dimensional stability and processability but also actualizes improvement in yield and productivity even in the case of having ≥1,000 mm width. <P>SOLUTION: The polyimide film has ≥1,000 mm width, ≤±3% dispersion of L value in the width direction (TD direction) and heat shrinkage percentages at 200°C both in the length direction (MD direction) and in the width direction (TD direction) of ≤0.07%. Consequently, since dispersion of anisotropy in the width direction is reduced, not only dimensional stability and processability but also yield and productivity of a polyimide film are improved. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、1000mm以上の幅を有する幅広のポリイミドフィルムとその代表的な利用に関するものであり、特に、幅方向の品質を安定化させ、収率および生産性を従来よりも一層向上させ、各種フレキシブル配線板の製造に好適に用いることができるポリイミドフィルムおよびその利用に関するものである。   The present invention relates to a wide polyimide film having a width of 1000 mm or more and its typical use, in particular, stabilizing the quality in the width direction, further improving the yield and productivity, and various The present invention relates to a polyimide film that can be suitably used for the production of a flexible wiring board and its use.

近年、エレクトロニクス製品の軽量化、小型化、高密度化にともない、各種プリント基板の需要が伸びている。これらのプリント基板の中でも、フレキシブル配線板の需要が特に伸びている。フレキシブル配線板はフレキシブルプリント配線板(FPC)等とも称する。フレキシブル配線板は、絶縁性フィルム上に金属層からなる回路が形成された構造を有している。   In recent years, the demand for various printed circuit boards has increased with the reduction in weight, size and density of electronic products. Among these printed boards, the demand for flexible wiring boards is growing. The flexible wiring board is also referred to as a flexible printed wiring board (FPC). The flexible wiring board has a structure in which a circuit made of a metal layer is formed on an insulating film.

上記フレキシブル配線板は、一般に、各種絶縁材料により形成され、柔軟性を有する絶縁性フィルムを基板とし、この基板の表面に、各種接着材料を介して金属箔を加熱・圧着することにより貼り合わせる方法により製造される。上記絶縁性フィルムとしては、ポリイミドフィルム等が好ましく用いられており、上記接着材料としては、エポキシ系、アクリル系等の熱硬化性接着剤が一般的に用いられている。このような熱硬化性接着剤を用いたフレキシブル配線板は、基板/接着材料/金属箔の三層構造を有しているので、以下、説明の便宜上、「三層FPC」と称する。   The above-mentioned flexible wiring board is generally formed of various insulating materials, a flexible insulating film is used as a substrate, and a metal foil is bonded to the surface of the substrate by heating and pressure bonding via various adhesive materials. Manufactured by. A polyimide film or the like is preferably used as the insulating film, and an epoxy or acrylic thermosetting adhesive is generally used as the adhesive material. A flexible wiring board using such a thermosetting adhesive has a three-layer structure of substrate / adhesive material / metal foil, and is hereinafter referred to as “three-layer FPC” for convenience of explanation.

また、フレキシブル配線板としては、絶縁性フィルムに直接金属層を設けたフレキシブル配線板や、接着層に熱可塑性ポリイミドを使用したものも提案されている。これらフレキシブル配線板は絶縁性の基板に直接金属層を形成している状態にあるため、以下、説明の便宜上、「二層FPC」と称する。この二層FPCは、三層FPCと比較すると、より高い耐熱性、屈曲性、電気的信頼性等が要求される用途に好適に用いられる。   Moreover, as a flexible wiring board, the flexible wiring board which provided the metal layer directly on the insulating film, and the thing using a thermoplastic polyimide for the contact bonding layer are proposed. Since these flexible wiring boards are in a state in which a metal layer is directly formed on an insulating substrate, they are hereinafter referred to as “two-layer FPC” for convenience of explanation. This two-layer FPC is suitably used for applications that require higher heat resistance, flexibility, electrical reliability, and the like compared to a three-layer FPC.

上記二層FPCおよび三層FPCは、用途に応じてそれぞれ利点があるため、何れのフレキシブル配線板においても、近年、その需要はますます大きなものに成長している。それゆえ、このような背景から、上記各種フレキシブル配線板の基板/基材として用いられるポリイミドフィルムについても物性の向上や加工性を改善等の要求がますます高まっているとともに、フレキシブル配線板として用いる場合等には、ポリイミドフィルムの収率や生産性を向上させることにより、製造コストの低減を図ることも重要となっている。なお、ここでいう収率とは、全生産量のうちフレキシブル配線板の用途として使用可能なポリイミドフィルムの率のことを指す。   Since the two-layer FPC and the three-layer FPC have advantages according to their uses, the demand for any flexible wiring board has grown in recent years. For this reason, polyimide films used as substrates / base materials for the above-mentioned various flexible wiring boards are increasingly required to improve physical properties and workability, and are used as flexible wiring boards. In some cases, it is also important to reduce the manufacturing cost by improving the yield and productivity of the polyimide film. In addition, a yield here refers to the rate of the polyimide film which can be used as a use of a flexible wiring board among the total production.

例えば物性の向上について見れば、特にフレキシブル配線板には寸法安定性が要求されるため、基板/基材であるポリイミドフィルムには加熱収縮率が小さいことが要求されることは、当業者に広く知られており、加熱収縮率を改善する技術についてもさまざまな技術が提案されている(例えば、特許文献1および2参照)。これら技術では、特定温度での加熱収縮率を特定の上限以下に規定するとともに、その目的/課題に応じて、L値、引張強度、引張弾性率、線膨張係数、ヤング率、吸水率、熱膨張係数等の諸物性を複数組み合わせて規定している。   For example, in terms of improvement in physical properties, dimensional stability is particularly required for flexible wiring boards, and it is widely known to those skilled in the art that polyimide film as a substrate / base material is required to have a low heat shrinkage rate. Various techniques for improving the heat shrinkage rate are known (see, for example, Patent Documents 1 and 2). In these technologies, the heat shrinkage rate at a specific temperature is specified below a specific upper limit, and the L value, tensile strength, tensile elastic modulus, linear expansion coefficient, Young's modulus, water absorption rate, It is defined by combining multiple physical properties such as expansion coefficient.

また加工性の向上について見れば、ポリイミドフィルムにおいては加工性を向上させるために、上記諸物性のうちL値を特定する技術も知られている(特許文献3参照)。この技術では、厚みに応じてL値の好ましい範囲を特定することで、例えば打ち抜き性を向上させることを図っている。   In terms of improvement in workability, a technique for specifying the L value among the above-mentioned physical properties is also known in order to improve workability in a polyimide film (see Patent Document 3). In this technique, by specifying a preferable range of the L value according to the thickness, for example, the punchability is improved.

さらに、収率や生産性の向上について見れば、品質向上による生産性の改善に関する技術として、フレキシブルプリント配線基板においてフラット性を優れたものとするために、基板となる耐熱性プラスチックフィルム(好ましくはポリイミドフィルム)のたるみ量および長さ方向の片伸びを特定値以下に規定する技術(引用文献4参照)や、あるいは、加工時に発生するしわと蛇行を改良するために、幅が1000mm以上で厚さが29μm以下のポリイミドフィルムにおいて、特定荷重時の最大タルミ値を規定するとともに、熱収縮量の上限を規定する技術(引用文献5参照)等が提案されている。
特開平10−77353号公報(平成10年(1998)3月24日公開) 特開2003−335874号公報(平成15年(2003)11月28日公開) 特開2004−107659号公報(平成16年(2004)12月9日公開) 特開平5−327147号公報(平成5年(1993)12月10日公開) 特開2004−346210号公報(平成16年(2004)4月8日公開)
Furthermore, in terms of yield and productivity improvement, as a technology for improving productivity by improving quality, in order to make flatness excellent in flexible printed wiring boards, a heat-resistant plastic film (preferably a substrate) In order to improve the wrinkle and meandering that occurs during processing (refer to cited document 4), or to regulate the amount of slack in the polyimide film) and the lengthwise unilateral elongation to a specified value or less, or a thickness of 1000 mm or more For a polyimide film having a thickness of 29 μm or less, a technique (see cited reference 5) or the like for defining a maximum tarmi value at a specific load and for defining an upper limit of the amount of heat shrinkage has been proposed.
Japanese Patent Laid-Open No. 10-77353 (published March 24, 1998) JP 2003-335874 A (published November 28, 2003) JP 2004-107659 A (Released on December 9, 2004) Japanese Patent Laid-Open No. 5-327147 (published on December 10, 1993) JP 2004-346210 A (published April 8, 2004)

しかしながら、現状では、寸法安定性や加工性の向上とともに、収率や生産性の改善を検討することについては遅々として進んでいない。   However, at the present time, it has not been progressing slowly to consider improvement in yield and productivity as well as improvement in dimensional stability and workability.

具体的には、上述した寸法安定性や加工性の向上を図る従来技術(特許文献1〜3)では、例えば、特許文献1において品質の安定化やフィルムの薄肉化を実現できることは示されているものの、実質的に、ポリイミドフィルムの収率や生産性をより有効に改善することはほとんど検討されていないに等しい。また、品質向上による生産性の改善に関する技術のうち、特許文献4に開示されている技術では、フラット性を優れたものにすることは開示されているが、寸法安定性の向上については何ら開示も示唆もされていない。   Specifically, in the conventional techniques (Patent Documents 1 to 3) for improving the dimensional stability and workability described above, for example, Patent Document 1 shows that quality stabilization and film thinning can be realized. However, substantially improving the yield and productivity of the polyimide film is substantially not considered. Further, among the techniques related to the improvement of productivity due to the quality improvement, the technique disclosed in Patent Document 4 discloses that the flatness is excellent, but no disclosure is made about the improvement of dimensional stability. There is no suggestion.

さらに、特許文献5に開示されている技術では、延伸操作を行うことにより生産性の改善を図っているため、幅方向での異方性について大きなばらつきが生じてしまうという問題点を有している。最近では、フレキシブル配線板の製造において、加工時の収率および生産性をより一層向上させるために、原材料となるポリイミドフィルムの幅広化が望まれている。上記特許文献5に開示されている技術では、1000mm以上の幅を有する幅広のポリイミドフィルムの製造技術を提案しているものの、上記のように幅方向の各位置において異方性のばらつきという問題を有効に解消できないため、結果的には収率および生産性の向上を十分に達成するまでには至っていない。   Furthermore, in the technique disclosed in Patent Document 5, since productivity is improved by performing a stretching operation, there is a problem that a large variation occurs in anisotropy in the width direction. Yes. Recently, in the production of flexible wiring boards, in order to further improve the yield and productivity during processing, it is desired to widen the polyimide film as a raw material. Although the technique disclosed in Patent Document 5 proposes a technique for producing a wide polyimide film having a width of 1000 mm or more, there is a problem of variation in anisotropy at each position in the width direction as described above. As a result, it cannot be effectively resolved, and as a result, the yield and productivity have not been sufficiently improved.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、1000mm以上の幅を有する場合であっても、寸法安定性や加工性の向上だけでなく、収率や生産性の改善を実現することができるポリイミドフィルムとその代表的な利用技術とを提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and its purpose is not only to improve dimensional stability and workability, but also to improve yield and productivity even when it has a width of 1000 mm or more. It is in providing the polyimide film which can implement | achieve, and its typical utilization technique.

本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、特に1000mm以上の幅を有する場合には、ポリイミドフィルムの加熱収縮率およびL値を制御することで、従来問題となっていた幅方向に安定した異方性を実現できることを独自に見出し、本発明を完成させるに至った。   As a result of intensive investigations in view of the above problems, the present inventors, in particular, when having a width of 1000 mm or more, by controlling the heat shrinkage rate and L value of the polyimide film in the width direction that has been a problem in the past. The inventors have uniquely found that stable anisotropy can be realized, and have completed the present invention.

すなわち、本発明にかかるポリイミドフィルムは、上記の課題を解決するために、1000mm以上の幅を有しているとともに、幅方向のL値のばらつきが±3%以下であり、かつ、200℃での加熱収縮率が長さ方向および幅方向ともに0.07%以下であることを特徴としている。   That is, the polyimide film according to the present invention has a width of 1000 mm or more in order to solve the above problems, and the variation in L value in the width direction is ± 3% or less, and at 200 ° C. The heat shrinkage ratio is 0.07% or less in both the length direction and the width direction.

上記ポリイミドフィルムにおいては、プレッシャークッカー試験前後の引裂き強度保持率が60%以上であることが好ましい。さらに、上記ポリイミドフィルにおいては、平均厚みが5〜25μmであることが好ましい。また、上記ポリイミドフィルムが、ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸および有機溶媒を少なくとも含有し、自己支持性を有するゲルフィルムを焼成することで得られるものであれば、さらに、ゲルフィルムの焼成の最終段階で、400〜550℃の温度範囲で5〜400秒の時間加熱処理されたものであることが好ましい。   In the said polyimide film, it is preferable that the tear strength retention before and behind a pressure cooker test is 60% or more. Furthermore, in the said polyimide fill, it is preferable that average thickness is 5-25 micrometers. Further, if the polyimide film contains at least a polyamic acid that is a polyimide precursor and an organic solvent, and is obtained by firing a gel film having self-supporting property, then the final firing of the gel film It is preferable that the heat treatment is performed at a temperature range of 400 to 550 ° C. for 5 to 400 seconds.

本発明の利用技術は特に限定されるものではないが、例えば、本発明には、上記ポリイミドフィルムを用いて製造される積層体が含まれる。この積層体としては、例えば、ポリイミドフィルムの表面に金属層を積層してなる構造のものを挙げることができるが、もちろんこれに限定されるものではない。   Although the utilization technique of this invention is not specifically limited, For example, the laminated body manufactured using the said polyimide film is contained in this invention. As this laminated body, the thing of the structure formed by laminating | stacking a metal layer on the surface of a polyimide film can be mentioned, for example, Of course, it is not limited to this.

また、本発明には、上記ポリイミドフィルム、あるいは、上記積層体を用いて形成されるフレキシブル配線板も含まれる。   Moreover, the flexible wiring board formed using the said polyimide film or the said laminated body is also contained in this invention.

本発明では、以上のように、1000mm以上の幅広のポリイミドフィルムにおいて、幅方向のL値のばらつきを±3%以下に制御し、かつ、200℃での加熱収縮率が長さ方向(MD)および幅方向(TD)ともに0.07%以下に制御している。これにより、当該ポリイミドフィルムにおける幅方向の異方性のばらつきを十分に低減することができるため、寸法安定性および加工性を向上できるだけでなく、1000mm以上の幅を有していてもフィルム全体を用いることが可能となる。そのため、生産性向上を伴った収率改善を図ることができる。   In the present invention, as described above, in a polyimide film having a width of 1000 mm or more, the variation in the L value in the width direction is controlled to ± 3% or less, and the heat shrinkage rate at 200 ° C. is the length direction (MD). The width direction (TD) is controlled to 0.07% or less. Thereby, since variation in the anisotropy in the width direction in the polyimide film can be sufficiently reduced, not only the dimensional stability and workability can be improved, but the entire film can be obtained even if it has a width of 1000 mm or more. It can be used. Therefore, the yield improvement accompanying productivity improvement can be aimed at.

しかも、このポリイミドフィルムを用いて得られる積層体やフレキシブル配線板においては、基板となるポリイミドフィルムの寸法安定性やそのばらつきを向上させることができるため、例えばフレキシブル配線板が過酷な環境下で使用された場合であっても、これに耐え得る信頼性を得ることができる。   Moreover, in laminates and flexible wiring boards obtained using this polyimide film, it is possible to improve the dimensional stability and variations of the polyimide film used as the substrate, so that, for example, flexible wiring boards are used in harsh environments. Even in such a case, reliability that can withstand this can be obtained.

したがって、本発明では、近年ますます需要が高まっている二層FPCや三層FPCの寸法安定性、信頼性および収率の向上を達成することが可能になるという効果を奏する。   Therefore, the present invention has an effect that it is possible to achieve improvement in dimensional stability, reliability, and yield of the two-layer FPC and the three-layer FPC that have been increasingly demanded in recent years.

本発明の一実施形態について説明すると以下の通りであるが、本発明はこれに限定されるものではなく、記述した範囲内で種々の変形を加えた態様で実施できるものである。   An embodiment of the present invention will be described as follows. However, the present invention is not limited to this, and can be implemented in various modifications within the scope described.

(I)本発明にかかるポリイミドフィルム
本発明にかかるポリイミドフィルムは、1000mm以上の幅を有する幅広のポリイミドフィルムであって、その幅方向におけるL値と、長さ方向および幅方向における加熱収縮率とを制御したものとなっている。
(I) The polyimide film concerning this invention The polyimide film concerning this invention is a wide polyimide film which has a width | variety of 1000 mm or more, Comprising: L value in the width direction, and the heat shrinkage rate in a length direction and the width direction, Is controlled.

なお、本発明にかかるポリイミドフィルムは連続的に製造されるものであることが非常に好ましく、この場合に、連続的な製造(生産)方向が長さ方向(長手方向)となり、この長さ方向に直交する方向が幅方向となる。なお、本発明の属する技術分野で広く用いられているように、長さ方向を適宜MD(Machine Direction)方向とし、幅方向を適宜TD(Transverse Direction)方向と称する。   In addition, it is very preferable that the polyimide film according to the present invention is continuously manufactured. In this case, the continuous manufacturing (production) direction becomes the length direction (longitudinal direction), and this length direction The direction orthogonal to the width direction is the width direction. As widely used in the technical field to which the present invention belongs, the length direction is appropriately referred to as MD (Machine Direction) direction, and the width direction is appropriately referred to as TD (Transverse Direction) direction.

本発明にかかるポリイミドフィルムにおけるL値の制御は、幅方向(TD方向)におけるL値のばらつきにより規定される。具体的には、TD方向のL値のばらつきが少なくとも±3%以下であればよい。L値のばらつきが上記上限を超えると得られるポリイミドフィルムの寸法安定性および加工性が損なわれるだけでなく、幅方向の異方性にもばらつきが生じやすくなる。   The control of the L value in the polyimide film according to the present invention is defined by the variation of the L value in the width direction (TD direction). Specifically, the L value variation in the TD direction may be at least ± 3% or less. When the variation of the L value exceeds the above upper limit, not only the dimensional stability and workability of the resulting polyimide film are impaired, but also the variation in the anisotropy in the width direction is likely to occur.

上記L値のばらつきは、ポリイミドフィルムの幅方向において複数箇所で実測したL値が、当該実測値の平均値を基準として±3%の範囲内に入っているか否かで評価される。このとき、実測されるL値の数は少なくとも10点であることが好ましい。10点以上であればL値のばらつきというパラメーターについて十分な信頼性を確保することができる。もちろん実測値は10点を超えていてもよい。また、L値を測定する位置の間隔は均等であることが好ましいが、不均等であってもよい。   The variation of the L value is evaluated based on whether or not L values measured at a plurality of locations in the width direction of the polyimide film are within a range of ± 3% based on the average value of the measured values. At this time, the number of L values actually measured is preferably at least 10 points. If it is 10 points or more, sufficient reliability can be secured for the parameter of variation in the L value. Of course, the actual measurement value may exceed 10 points. Moreover, although it is preferable that the space | interval of the position which measures L value is equal, it may be uneven.

なお、上記L値とは、前記特許文献3にも開示されているが、JIS Z 8730の色差表示方法に規定されている色調を表す指標であり、具体的には、ハンター色差によるLab系色座標を有しており、JIS Z 8722に規定する三刺激値X、Y、Zから次式(1)〜(3)によってL値が計算される。ただし、次の各式におけるaおよびbはハンターの色差式におけるクロマティクネス指数を表し、X、Y、Zは、XYZ系における三刺激値を表す。   The L value is an index representing the color tone defined in the color difference display method of JIS Z 8730, which is disclosed in the above-mentioned Patent Document 3, and specifically, a Lab color based on Hunter color difference. The L value is calculated by the following equations (1) to (3) from the tristimulus values X, Y, Z defined in JIS Z 8722. However, a and b in each of the following formulas represent the chromaticness index in Hunter's color difference formula, and X, Y, and Z represent tristimulus values in the XYZ system.

L値=10Y(1/2) ・・・(1)
a=17.5(1.02X−Y)/Y(1/2) ・・・(2)
b=7.0(Y−0.847Z)/Y(1/2) ・・・(3)
本発明では、後述する実施例において示すように、市販の色差計を用いて、測定面積10mmφの測定面積で、ポリイミドフィルムの幅方向に10cm間隔でL値を10点測定し、その平均値を基準としてばらつきを評価している。
L value = 10Y (1/2) (1)
a = 17.5 (1.02X−Y) / Y (1/2) (2)
b = 7.0 (Y-0.847Z) / Y (1/2) (3)
In this invention, as shown in the Example mentioned later, using a commercially available color difference meter, the measurement area of 10 mmφ is measured, and the L value is measured at 10 cm intervals in the width direction of the polyimide film, and the average value is calculated. Variation is evaluated as a standard.

本発明にかかるポリイミドフィルムにおける加熱収縮率の制御は、200℃での加熱収縮率がMD方向およびTD方向ともに0.07%以下となっているか否かで評価される。加熱収縮率は、好ましくは、IPC−TM−650 2.2.4 Method Aに準じて、ポリイミドフィルムを200℃で2時間加熱処理する前と加熱処理した後の寸法変化により算出されるが、加熱収縮を十分な信頼性で評価できるのであれば、200℃の温度条件さえ採用されれば公知の他の方法によってもよい。   The control of the heat shrinkage rate in the polyimide film according to the present invention is evaluated based on whether the heat shrinkage rate at 200 ° C. is 0.07% or less in both the MD direction and the TD direction. The heat shrinkage rate is preferably calculated according to IPC-TM-650 2.2.4 Method A, based on dimensional changes before and after heat treatment of the polyimide film at 200 ° C. for 2 hours. If the heat shrinkage can be evaluated with sufficient reliability, another known method may be used as long as the temperature condition of 200 ° C. is adopted.

本発明における加熱収縮率の上限は、上記のように0.07%以下であればよいが、0.04%以下であることが好ましい。加熱収縮率が上記の上限値を超えると、得られるポリイミドフィルムの寸法安定性が低下するため、フレキシブル配線板の収率が低下する傾向にある。   The upper limit of the heat shrinkage rate in the present invention may be 0.07% or less as described above, but is preferably 0.04% or less. When the heat shrinkage rate exceeds the above upper limit, the dimensional stability of the resulting polyimide film is lowered, and thus the yield of the flexible wiring board tends to be lowered.

ここで、本発明にかかるポリイミドフィルムにおいては、上記TD方向のL値のばらつきと、MDおよびTD方向の加熱収縮率を規定することで、TD方向の異方性のばらつきを低減することができるが、このTD方向の異方性を評価する方法は特に限定されるものではなく、公知の手法を用いればよい。本発明では、後述する実施例に示すように、幅方向(TD方向)に所定間隔で所定のサイズに切り出したポリイミドフィルムの試験片を用いて、当該試験片の膜面(表面)をxy平面とし厚み方向をz軸とした場合の複屈折率Δnxyを基準として評価している。なお、上記複屈折率Δnxy=0であれば事実上異方性が全く無いことになる。 Here, in the polyimide film concerning this invention, the dispersion | variation in the anisotropy of TD direction can be reduced by prescribing | regulating the dispersion | distribution of the L value of the said TD direction, and the heat shrinkage rate of MD and TD direction. However, the method for evaluating the anisotropy in the TD direction is not particularly limited, and a known method may be used. In this invention, as shown in the Example mentioned later, the film surface (surface) of the said test piece is made into xy plane using the test piece of the polyimide film cut out to the predetermined size by the predetermined interval in the width direction (TD direction). The birefringence index Δn xy when the thickness direction is the z-axis is used as a reference. If the birefringence Δn xy = 0, there is virtually no anisotropy.

本発明にかかるポリイミドフィルムにおいては、TD方向の各位置での複屈折率Δnxyが0.01以下であり、かつ、各位置での複屈折率Δnxyの最大値および最小値の差が0.01以下であれば好ましいと判断する。言い換えれば、上記複屈折率Δnxyが、上記上限値を超えると得られるポリイミドフィルムにおいて寸法安定性のばらつきが大きくなる傾向にある。 In the polyimide film according to the present invention, the birefringence Δn xy at each position in the TD direction is 0.01 or less, and the difference between the maximum value and the minimum value of the birefringence index Δn xy at each position is 0. .01 or less is preferable. In other words, when the birefringence index Δn xy exceeds the upper limit, there is a tendency that variation in dimensional stability increases in the polyimide film obtained.

本発明にかかるポリイミドフィルムでは、上記のように、TD方向のL値のばらつきと、MDおよびTD方向の加熱収縮率との双方が適切な上限値以下となっていればよいが、好ましくは、プレッシャークッカー試験(PCT試験)前後の引裂き強度保持率が60%以上であることがより好ましい。PCT試験および引裂き強度保持率の具体的な手法は特に限定されるものではなく、公知のPCT処理を行ってその前後において、公知の手法で引裂き強度保持率を測定すればよいが、本発明では、後述する実施例に示すように、ASTM D−1938にしたがってPCT処理を行い、その前後で引裂き強度保持率を測定している。   In the polyimide film according to the present invention, as described above, both the variation in the L value in the TD direction and the heat shrinkage rate in the MD and TD directions may be equal to or less than the appropriate upper limit values. More preferably, the tear strength retention before and after the pressure cooker test (PCT test) is 60% or more. The specific method of the PCT test and the tear strength retention rate is not particularly limited, and the tear strength retention rate may be measured by a known method before and after performing a known PCT treatment. As shown in the examples described later, PCT treatment is performed according to ASTM D-1938, and the tear strength retention is measured before and after that.

本発明においては、上記PCT試験前後の引裂き強度保持率は60%以上であればよいが、70%以上であることがより好ましい。引裂き強度保持率が上記下限未満であると、高温高湿下でのポリイミドフィルムおよびこれにより製造される積層体やフレキシブル配線板の信頼性、特に屈曲性が損なわれる傾向にある。   In the present invention, the tear strength retention before and after the PCT test may be 60% or more, but more preferably 70% or more. If the tear strength retention is less than the above lower limit, the reliability, particularly flexibility, of the polyimide film under high temperature and high humidity and the laminate or flexible wiring board produced thereby tends to be impaired.

本発明にかかるポリイミドフィルムにおいては、他の物性値や形状については特に限定されるものではない。例えば、その厚み(フィルム厚み)については、用途に応じて適切な厚みを設定すればよい。ただし、フィルム厚みとしては、フレキシブル配線板用途で用いる場合には、屈曲性向上という観点から5〜25μmの範囲内であることが特に好ましい。換言すれば、本発明にかかるポリイミドフィルムでは、上述した諸条件を満たすことによって、5〜25μmの範囲内の薄いポリイミドフィルムを好適に製造することが可能となる。   In the polyimide film according to the present invention, other physical property values and shapes are not particularly limited. For example, about the thickness (film thickness), what is necessary is just to set appropriate thickness according to a use. However, the film thickness is particularly preferably in the range of 5 to 25 μm from the viewpoint of improving flexibility when used for flexible wiring board applications. In other words, in the polyimide film concerning this invention, it becomes possible to manufacture suitably the thin polyimide film in the range of 5-25 micrometers by satisfying the various conditions mentioned above.

(II)ポリイミドフィルムの製造方法
本発明にかかるポリイミドフィルムの製造方法は特に限定されるものではなく、公知の製造方法を用いることができる。また、用いるポリイミド樹脂の種類も特に限定されるものではなく、公知のモノマー原料を用いて製造することができるが、フレキシブル配線板用途を考慮すると非熱可塑性ポリイミドが好ましく用いられる。
(II) Manufacturing method of polyimide film The manufacturing method of the polyimide film concerning this invention is not specifically limited, A well-known manufacturing method can be used. Moreover, the kind of polyimide resin to be used is not particularly limited, and it can be produced using a known monomer raw material, but non-thermoplastic polyimide is preferably used in consideration of flexible wiring board applications.

以下の説明では、本発明にかかるポリイミドフィルムとして好ましく用いられる種類のポリイミド樹脂の代表的な例と、このポリイミド樹脂を用いた好ましい製造方法の一例とを挙げて、その詳細を説明する。   In the following description, a representative example of the kind of polyimide resin preferably used as the polyimide film according to the present invention and an example of a preferable production method using this polyimide resin will be described and the details will be described.

本発明にかかるポリイミドフィルムの製造方法の代表的な一例としては、少なくとも、(a)ポリイミド樹脂の前駆体であるポリアミド酸(ポリアミック酸)を重合する工程(ポリアミド酸重合工程)、(b)得られたポリアミド酸を有機溶媒溶液として支持体上に流延し、液膜を形成する工程(液膜形成工程)、(c)液膜をゲルフィルムに転化する工程(ゲルフィルム形成工程)、(d)ゲルフィルムを加熱してイミド化(焼成)する工程(焼成工程)を含んでいる方法を挙げることができる。   As a typical example of the method for producing a polyimide film according to the present invention, at least (a) a step of polymerizing polyamic acid (polyamic acid) which is a precursor of a polyimide resin (polyamic acid polymerization step), (b) obtained The obtained polyamic acid is cast as an organic solvent solution on a support to form a liquid film (liquid film forming process), (c) a process of converting the liquid film into a gel film (gel film forming process), ( d) A method including a step (firing step) of heating and imidizing (firing) the gel film can be mentioned.

<ポリアミド酸重合工程>
上記ポリアミド酸重合工程では、公知のあらゆるポリアミド酸の重合(合成)方法を用いることができ、特に限定されるものではない。通常、酸二無水物成分とジアミン成分とをそれぞれ実質的等モル量となるように重合用溶媒である有機溶媒中に溶解させて、制御された温度条件下で、上記酸二無水物とジアミンの重合が完了するまで攪拌することによって製造される。この製造方法により得られるポリアミド酸は有機溶媒溶液(以下、便宜上、ポリアミド酸溶液と称する)となっており、ポリアミド酸の濃度は通常5〜35重量%の範囲内、好ましくは10〜30重量%の範囲内となっている。この範囲内の濃度であれば本発明に好適な分子量と溶液粘度となる。
<Polyamide acid polymerization step>
In the polyamic acid polymerization step, any known polyamic acid polymerization (synthesis) method can be used and is not particularly limited. Usually, the acid dianhydride component and the diamine component are dissolved in an organic solvent that is a polymerization solvent so as to have substantially equimolar amounts, respectively, and the acid dianhydride and the diamine are controlled under controlled temperature conditions. By stirring until the polymerization of is complete. The polyamic acid obtained by this production method is an organic solvent solution (hereinafter referred to as a polyamic acid solution for convenience), and the concentration of the polyamic acid is usually in the range of 5 to 35% by weight, preferably 10 to 30% by weight. It is within the range. A concentration within this range provides a molecular weight and solution viscosity suitable for the present invention.

ポリアミド酸の重合方法としては、公知のあらゆる方法およびそれらを組み合わせた方法を用いることができる。ポリアミド酸の重合方法の特徴はモノマー成分の添加順序にある。したがって、モノマー成分の添加順序を制御することにより得られるポリイミドの諸物性を制御することができる。それゆえ、本発明では、モノマー成分の添加順序は最終的に得ようとする非熱可塑性ポリイミドに求める諸物性に応じて適宜決定すればよいので、ポリアミド酸の重合方法においてどのような添加順序でモノマー成分を添加してもよい。   As a method for polymerizing the polyamic acid, any known method and a combination thereof can be used. The characteristic of the polyamic acid polymerization method is the order of addition of the monomer components. Therefore, various physical properties of the polyimide obtained can be controlled by controlling the order of addition of the monomer components. Therefore, in the present invention, the addition order of the monomer components may be appropriately determined according to various physical properties required for the non-thermoplastic polyimide to be finally obtained. A monomer component may be added.

このようにポリアミド酸の重合方法は特に限定されるものではないが、代表的な重合方法としては、次の各方法を挙げることができる。なお、これら方法は単独で用いてもよいし、部分的に組み合わせて用いることもできる。
1)ジアミン成分を有機極性溶媒に溶解させた後、ジアミン成分と実質的に等モルの酸二無水物成分を添加して攪拌・反応させて重合する。
2)酸二無水物成分と、これに対し過小モル量となるジアミン成分とを有機極性溶媒に溶解して攪拌・反応させ、両末端に酸無水物基を有するプレポリマーを有機極性溶媒の溶液として得る。続いて、全工程において酸二無水物成分とジアミン成分とが実質的に等モルとなるように、プレポリマーの溶液にジアミン成分を添加して攪拌・重合する。
3)酸二無水物成分と、これに対し過剰モル量となるジアミン成分とを有機極性溶媒に溶解して攪拌・反応させ、両末端にアミノ基を有するプレポリマーを有機極性溶媒の溶液として得る。続いて、全工程において酸二無水物成分とジアミン成分とが実質的に等モルとなるように、プレポリマーの溶液に酸二無水物成分を添加して攪拌・重合する。
4)酸二無水物成分を有機極性溶媒に溶解させた後、酸二無水物成分と実質的に等モルとなるようにジアミン成分を添加して攪拌・反応させる。
5)実質的に等モルの酸二無水物成分およびジアミン成分の混合物を、有機極性溶媒に溶解して攪拌・反応させ重合する。
Thus, the polymerization method of the polyamic acid is not particularly limited, but examples of typical polymerization methods include the following methods. In addition, these methods may be used independently and can also be used combining partially.
1) After dissolving a diamine component in an organic polar solvent, a substantially equimolar acid dianhydride component is added to the diamine component, followed by stirring and reaction to polymerize.
2) An acid dianhydride component and a diamine component in an excessively small molar amount are dissolved in an organic polar solvent, stirred and reacted, and a prepolymer having acid anhydride groups at both ends is dissolved in an organic polar solvent. Get as. Subsequently, the diamine component is added to the prepolymer solution and stirred and polymerized so that the acid dianhydride component and the diamine component are substantially equimolar in all steps.
3) An acid dianhydride component and a diamine component in an excess molar amount are dissolved in an organic polar solvent and stirred and reacted to obtain a prepolymer having amino groups at both ends as a solution of the organic polar solvent. . Subsequently, the acid dianhydride component is added to the prepolymer solution and stirred and polymerized so that the acid dianhydride component and the diamine component are substantially equimolar in all steps.
4) After the acid dianhydride component is dissolved in an organic polar solvent, the diamine component is added so as to be substantially equimolar with the acid dianhydride component, followed by stirring and reaction.
5) A substantially equimolar mixture of an acid dianhydride component and a diamine component is dissolved in an organic polar solvent, and stirred and reacted for polymerization.

なお、上記重合方法において、各モノマー成分(酸二無水物成分および/またはジアミン成分)は、1種類の化合物のみであってもよいし、2種類以上の化合物からなっていてもよい。また、有機極性溶媒に添加しても、同溶媒に対する溶解度の問題からこれら化合物が溶解しない場合もあるが、溶媒全体に均等に分散していれば実質的に溶解している状態と同じと見なしてよい。したがって、上記1)〜5)の方法の説明で「溶解」という用語は「分散」に差し替えることができる。   In the above polymerization method, each monomer component (acid dianhydride component and / or diamine component) may be composed of only one type of compound or may be composed of two or more types of compounds. In addition, even when added to an organic polar solvent, these compounds may not dissolve due to the problem of solubility in the same solvent, but if they are evenly dispersed throughout the solvent, they are regarded as substantially dissolved. It's okay. Therefore, the term “dissolution” can be replaced with “dispersion” in the description of the methods 1) to 5).

ポリアミド酸を重合するために用いられる有機極性溶媒(重合用溶媒)としては、ポリアミド酸を溶解する溶媒であれば特に限定されるものではなく、どのような溶媒でも用いることができるが、中でも、アミド系溶媒すなわちN,N−ジメチルフォルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン等を好ましく用いることができ、N,N−ジメチルフォルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドを特に好ましく用いることができる。   The organic polar solvent (polymerization solvent) used for polymerizing the polyamic acid is not particularly limited as long as it dissolves the polyamic acid, and any solvent can be used. Amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone and the like can be preferably used, and N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide are particularly preferable. It can be preferably used.

本発明において酸二無水物成分として用いることができる化合物は特に限定されるものではないが、芳香族テトラカルボン酸二無水物であることが好ましく、具体的には、例えば、ピロメリット酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、エチレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、ビスフェノールAビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、並びにこれら各化合物の類似物を挙げることができる。これら化合物は単独で用いてもよいし、任意の割合で組み合わせた混合物として用いてもよい。   The compound that can be used as the acid dianhydride component in the present invention is not particularly limited, but is preferably an aromatic tetracarboxylic dianhydride, specifically, for example, pyromellitic dianhydride 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride 2,2 ′, 3,3′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxy) Phenyl) propane dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyl) Nyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ) Ethane dianhydride, oxydiphthalic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, p-phenylene bis (trimellitic acid monoester anhydride), ethylene bis (trimellitic acid monoester) Acid anhydride), bisphenol A bis (trimellitic acid monoester acid anhydride), and analogs of these compounds. These compounds may be used singly or as a mixture in combination at an arbitrary ratio.

本発明においてジアミン成分として用いることができる化合物は特に限定されるものではないが、芳香族ジアミンであることが好ましく、具体的には、例えば、4,4’−オキシジアニリン、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、ベンジジン、3,3’−ジクロロベンジジン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,5−ジアミノナフタレン、4,4’−ジアミノジフェニルジエチルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルエチルホスフィンオキシド、4,4’−ジアミノジフェニルN−メチルアミン、4,4’−ジアミノジフェニルN−フェニルアミン、1,4−ジアミノベンゼン(p−フェニレンジアミン)、1,3−ジアミノベンゼン、1,2−ジアミノベンゼン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、並びにこれら各化合物の類似物を挙げることができる。これら化合物は単独で用いてもよいし、任意の割合で組み合わせた混合物として用いてもよい。   The compound that can be used as the diamine component in the present invention is not particularly limited, but is preferably an aromatic diamine, and specifically, for example, 4,4′-oxydianiline, p-phenylenediamine. 4,4′-diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenylmethane, benzidine, 3,3′-dichlorobenzidine, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, 3,3′-diaminodiphenylsulfone, 4,4 ′ -Diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 1,5-diaminonaphthalene, 4,4'-diaminodiphenyldiethylsilane, 4,4 ' -Diaminodiphenylsilane, 4,4'-diamy Diphenylethylphosphine oxide, 4,4′-diaminodiphenyl N-methylamine, 4,4′-diaminodiphenyl N-phenylamine, 1,4-diaminobenzene (p-phenylenediamine), 1,3-diaminobenzene, 1 , 2-diaminobenzene, 2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) propane, and analogs of these compounds. These compounds may be used singly or as a mixture in combination at an arbitrary ratio.

<液膜形成工程>
液膜形成工程では、上記ポリアミド酸重合工程で得られたポリアミド酸、または既に合成済のポリアミド酸等を用いて、ポリアミド酸の有機溶媒溶液(便宜上、ポリアミド酸溶液と称する)を調製し、このポリアミド酸溶液を支持体上に流延して液膜を形成する。
<Liquid film formation process>
In the liquid film forming step, an organic solvent solution of polyamic acid (referred to as a polyamic acid solution for convenience) is prepared using the polyamic acid obtained in the polyamic acid polymerization step or a polyamic acid that has already been synthesized. A polyamic acid solution is cast on a support to form a liquid film.

このときに形成されるポリアミド酸溶液には、硬化剤が含有されていることが好ましい。したがって、本工程で調製されるポリアミド酸溶液は、予め硬化剤が添加された製膜ドープとなっていてもよい。このように本発明では、ポリアミド酸をイミド化する方法として化学イミド化法を好適に用いることができる。   The polyamic acid solution formed at this time preferably contains a curing agent. Therefore, the polyamic acid solution prepared in this step may be a film-forming dope to which a curing agent is added in advance. Thus, in this invention, a chemical imidation method can be used suitably as a method of imidating a polyamic acid.

一般に、ポリアミド酸をイミド化する方法としては、熱によってのみ行う熱イミド化法(熱キュア法)と、硬化剤を使用する化学イミド化法(化学キュア法)の2法が最も広く知られている。何れの方法を採用してもよいが、より高い生産性を付与する点から見れば、化学イミド化法を採用することが特に好ましい。   In general, the two most widely known methods for imidizing polyamic acid are a thermal imidization method (thermal cure method) performed only by heat and a chemical imidization method (chemical cure method) using a curing agent. Yes. Any method may be employed, but it is particularly preferable to employ the chemical imidization method from the viewpoint of imparting higher productivity.

上記硬化剤には、少なくとも化学脱水剤が含有されており、より好ましくは、化学脱水剤および触媒が含有されている。化学脱水剤とは、ポリアミド酸に対する脱水閉環剤であれば特に限定されるものではないが、その主成分としては、具体的には、例えば、脂肪族酸無水物、芳香族酸無水物、N,N’−ジアルキルカルボジイミド、低級脂肪族ハロゲン化物、ハロゲン化低級脂肪族酸無水物、アリールスルホン酸ジハロゲン化物、チオニルハロゲン化物またはそれら2種以上の混合物を好ましく用いることができる。これら化合物の中でも、特に、脂肪族酸無水物および芳香族酸無水物を特に好ましく用いることができる。   The curing agent contains at least a chemical dehydrating agent, and more preferably contains a chemical dehydrating agent and a catalyst. The chemical dehydrating agent is not particularly limited as long as it is a dehydrating and cyclizing agent for polyamic acid, but specific examples of the main component include, for example, aliphatic acid anhydrides, aromatic acid anhydrides, N , N′-dialkylcarbodiimide, lower aliphatic halide, halogenated lower aliphatic acid anhydride, arylsulfonic acid dihalide, thionyl halide, or a mixture of two or more thereof can be preferably used. Among these compounds, aliphatic acid anhydrides and aromatic acid anhydrides can be particularly preferably used.

また、上記触媒とは、ポリアミド酸に対する化学脱水剤の脱水閉環作用を促進する効果を有する成分であれば得に限定されるものではないが、具体的には、例えば、脂肪族3級アミン、芳香族3級アミン、複素環式3級アミンを用いることができる。これら化合物の中でも、イミダゾール、ベンズイミダゾール、イソキノリン、キノリン、またはβ−ピコリン等の含窒素複素環化合物を特に好ましく用いることができる。   The catalyst is not particularly limited as long as it is a component having an effect of promoting dehydration and ring closure of a chemical dehydrating agent on polyamic acid. Specifically, for example, an aliphatic tertiary amine, Aromatic tertiary amines and heterocyclic tertiary amines can be used. Among these compounds, nitrogen-containing heterocyclic compounds such as imidazole, benzimidazole, isoquinoline, quinoline, and β-picoline can be particularly preferably used.

上記化学脱水剤および触媒の使用量は、所望の程度でイミド化ができる量であれば特に限定されるものではないが、化学脱水剤については、化学脱水剤を添加するポリアミド酸溶液に含有されるポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して、0.5〜5モルの範囲内であることが好ましく、1.0〜4モルの範囲内であることがより好ましい。また、触媒については、化学脱水剤および触媒を添加するポリアミド酸溶液に含有されるポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して、0.05〜3モルの範囲内であることが好ましく、0.2〜2モルの範囲内であることがより好ましい。   The amount of the chemical dehydrating agent and the catalyst used is not particularly limited as long as it can be imidized to a desired degree, but the chemical dehydrating agent is contained in the polyamic acid solution to which the chemical dehydrating agent is added. It is preferably in the range of 0.5 to 5 mol, more preferably in the range of 1.0 to 4 mol, relative to 1 mol of the amic acid unit in the polyamic acid. The catalyst is preferably in the range of 0.05 to 3 mol with respect to 1 mol of the amic acid unit in the polyamic acid contained in the polyamic acid solution to which the chemical dehydrating agent and the catalyst are added. More preferably in the range of 2 to 2 mol.

化学脱水剤および触媒の使用量が上記範囲を下回ると化学的イミド化が不十分となり、イミド化(焼成)の途中で破断したり、機械的強度が低下したりすることがある。また、化学脱水剤および触媒の使用量が上記範囲を上回ると、イミド化の進行が早くなりすぎ、フィルム状にキャストすることが困難となることがある。   If the amount of the chemical dehydrating agent and the catalyst used is less than the above range, chemical imidization may be insufficient, and fracture may occur during imidization (firing) or mechanical strength may decrease. Moreover, when the usage-amount of a chemical dehydrating agent and a catalyst exceeds the said range, progress of imidation will become quick too much and it may become difficult to cast into a film form.

なお、本工程で調製されるポリアミド酸溶液に用いられる有機溶媒は特に限定されるものではなく、ポリアミド酸や得られるポリイミドの物性等に影響を及ぼすことなく、液膜の形成や後段のゲルフィルムの形成、焼成等に好適な有機溶媒を適宜選択して用いればよい。具体的には、前記ポリアミド酸重合工程で例示した重合用溶媒としての有機極性溶媒を挙げることができる。これら有機極性溶媒を用いれば、ポリアミド酸重合工程で得られたポリアミド酸の重合溶媒溶液をそのままポリアミド酸溶液として用いることができる。   The organic solvent used in the polyamic acid solution prepared in this step is not particularly limited, and without affecting the physical properties of the polyamic acid or the resulting polyimide, the formation of a liquid film and the subsequent gel film An organic solvent suitable for forming, firing, etc. may be appropriately selected and used. Specific examples include organic polar solvents as polymerization solvents exemplified in the polyamic acid polymerization step. If these organic polar solvents are used, the polyamic acid polymerization solvent solution obtained in the polyamic acid polymerization step can be used as it is as the polyamic acid solution.

また、ポリアミド酸溶液の諸物性は特に限定されるものではない。例えば、ポリアミド酸溶液中のポリアミド酸の固形分濃度や、粘度については、液膜形成およびゲルフィルム形成等に好適な範囲を適宜設定すればよい。   Various physical properties of the polyamic acid solution are not particularly limited. For example, the solid content concentration and viscosity of the polyamic acid in the polyamic acid solution may be appropriately set within a range suitable for liquid film formation and gel film formation.

上記ポリアミド酸溶液を流延するための支持体としては、ポリアミド酸溶液により溶解したり変質したりすることがなく、かつ、ポリアミド酸溶液から有機溶媒を除去するために行われる加熱処理に耐え得る耐熱性を有しているものであれば、特に限定されるものではない。具体的には、例えば、エンドレスベルトやドラム等のように、表面の回転により連続してゲルフィルムを成形して搬送する自己回転型の支持体を好ましく用いることができる。これらを支持体として用いれば、流延・塗布したポリアミド酸溶液を良好に乾燥できるとともに、連続的にポリイミドフィルムを製造できるため好ましい。   The support for casting the polyamic acid solution is not dissolved or altered by the polyamic acid solution and can withstand heat treatment performed to remove the organic solvent from the polyamic acid solution. There is no particular limitation as long as it has heat resistance. Specifically, for example, a self-rotating support that continuously forms and transports a gel film by rotating the surface, such as an endless belt or a drum, can be preferably used. Use of these as a support is preferable because the cast and applied polyamic acid solution can be dried well and a polyimide film can be continuously produced.

上記支持体の材質および形状は特に限定されるものではなく、ガラス板、アルミ箔等の平板状のものを用いてもよい。また、支持体として上記エンドレスベルトやドラムを用いる場合には、その好ましい材質として、後述する実施例に示すようにステンレスを挙げることができる。   The material and shape of the support are not particularly limited, and a flat plate such as a glass plate or an aluminum foil may be used. Further, when the above-mentioned endless belt or drum is used as the support, a preferable material is stainless steel as shown in Examples described later.

また、支持体上に液膜を形成するための具体的な方法や条件については特に限定されるものではなく、ポリアミド酸溶液の物性や種類、得ようとするポリイミドフィルムの厚さ、支持体の種類、製造効率等に基づいて公知の各種方法を用いればよい。例えば、後述する実施例では、Tダイを用いてポリアミド酸溶液を支持体上にキャストすることにより液膜を形成している。   Further, the specific method and conditions for forming a liquid film on the support are not particularly limited, and the physical properties and types of the polyamic acid solution, the thickness of the polyimide film to be obtained, the support Various known methods may be used based on the type, production efficiency, and the like. For example, in the examples described later, a liquid film is formed by casting a polyamic acid solution on a support using a T die.

<ゲルフィルム形成工程>
ゲルフィルム形成工程では、支持体上に形成された液膜を部分的に硬化および/または乾燥させることで、有機溶媒等を残存しており自己指示性を有するゲル状のフィルム(ゲルフィルム)に転化させる。
<Gel film formation process>
In the gel film forming step, the liquid film formed on the support is partially cured and / or dried to form a gel-like film (gel film) having an organic solvent remaining and having self-indicating properties. Convert.

上記ゲルフィルムに含まれる固形分(樹脂製分)は、ポリアミド酸からポリイミドへ硬化するまでの中間段階にあるため、自己支持性を有している。当該ゲルフィルムには、ポリアミド酸溶液に用いられた有機溶媒や、硬化剤または硬化剤の反応により生ずる生成物等の揮発分が含まれている。揮発分の重量は、次式(4)で算出される。なお、次式においては、WA はゲルフィルムの重量を表し、WB はゲルフィルムを450℃で20分間加熱した後の重量を表す。 Since the solid content (resin content) contained in the gel film is in an intermediate stage until it is cured from polyamic acid to polyimide, it has self-supporting properties. The gel film contains an organic solvent used in the polyamic acid solution and a volatile component such as a curing agent or a product generated by a reaction of the curing agent. The weight of volatile matter is calculated by the following formula (4). In the following equation, W A represents the weight of the gel film, W B represents the weight after heating 20 minutes the gel film at 450 ° C..

(WA −WB )×100/WB ・・・(4)
上記式(4)で算出される揮発分の重量(含有量)は5〜500重量%の範囲内であることが好ましく、5〜200重量%の範囲内であることがより好ましく、5〜150重量%の範囲内であることが特に好ましい。揮発分の含有量がこの範囲内であるゲルフィルムを用いれば、後段の焼成工程でフィルムが破断したり、乾燥ムラによるフィルムの色調ムラが生じたりすることが回避される。逆に、ゲルフィルムの揮発分の含有量が上記範囲から外れると、異方性が生じたり、特性にばらつきが生じたりする等の不具合が起こることがある。
(W A -W B ) × 100 / W B (4)
The weight (content) of the volatile component calculated by the above formula (4) is preferably in the range of 5 to 500% by weight, more preferably in the range of 5 to 200% by weight, and 5 to 150%. It is particularly preferred that it is in the range of wt%. If a gel film having a volatile content within this range is used, it is possible to avoid the film from being broken in the subsequent baking step, and the film from being unevenly colored due to uneven drying. On the other hand, when the content of the volatile matter in the gel film is out of the above range, problems such as anisotropy and variations in characteristics may occur.

液膜をゲルフィルムに転化する際の加熱および/または乾燥条件については特に限定されるものではなく、用いるポリアミド酸の種類、液膜の形成状態、得ようとするポリイミドフィルムの厚み、用いる硬化剤の種類等の諸条件によって適宜好適な条件が設定される。代表的には、支持体上で80〜200℃の温度範囲、好ましくは100〜180℃の温度範囲で加熱することにより硬化剤を活性化させ、部分的な硬化および/または乾燥を生じさせることができる。   There are no particular restrictions on the heating and / or drying conditions when converting the liquid film to a gel film, the type of polyamic acid used, the formation state of the liquid film, the thickness of the polyimide film to be obtained, and the curing agent used. Appropriate conditions are appropriately set according to various conditions such as the type of the above. Typically, the curing agent is activated by heating on the support in the temperature range of 80 to 200 ° C., preferably in the temperature range of 100 to 180 ° C., resulting in partial curing and / or drying. Can do.

<焼成工程>
焼成工程では、得られたゲルフィルムを支持体から剥離して加熱(焼成)することにより、残存するアミド酸を完全にイミド化するとともに、揮発分を除去してポリイミドフィルムを得る。
<Baking process>
In the baking step, the obtained gel film is peeled off from the support and heated (baked) to completely imidize the remaining amic acid and remove volatile components to obtain a polyimide film.

焼成工程では、ゲルフィルムのTD方向の端部を固定化することが非常に好ましい。これにより硬化時の収縮を有効に回避することができる。固定化手段としては特に限定されるものではなく、公知のテンターピンやクリップ等を用いればよい。   In the baking step, it is very preferable to fix the end of the gel film in the TD direction. Thereby, the shrinkage | contraction at the time of hardening can be avoided effectively. The fixing means is not particularly limited, and a known tenter pin or clip may be used.

焼成工程での焼成(加熱)条件は特に限定されるものではなく、アミド酸の完全なイミド化と、揮発分すなわちイミド化反応で生じた水、残留する有機溶媒、残留する硬化剤を除去できる条件であればよい。一般的には、複数の加熱炉(焼成炉)を用いて、段階的に温度を上昇させて加熱することが好ましい。このときの各段階での加熱時間は特に限定されるものではなく、ポリアミド酸/ポリイミドの種類や、得ようとするポリイミドフィルムの厚み、加熱炉の種類等に応じて適切な時間を設定すればよい。一般的には、数十秒から数分の間である。   The firing (heating) conditions in the firing step are not particularly limited, and it is possible to remove complete imidization of amic acid and volatile matter, that is, water generated by the imidization reaction, residual organic solvent, and residual curing agent. Any condition is acceptable. In general, it is preferable to use a plurality of heating furnaces (firing furnaces) and heat them by gradually increasing the temperature. The heating time in each stage at this time is not particularly limited, and an appropriate time may be set according to the type of polyamic acid / polyimide, the thickness of the polyimide film to be obtained, the type of heating furnace, and the like. Good. Generally, it is between several tens of seconds to several minutes.

なお、上記段階的な焼成では、最終的に400〜550℃の温度範囲で5〜400秒加熱することが好ましい。最終段階で上記条件で加熱(焼成)すれば、得られるポリイミドフィルムの物性をより向上させることができる。上記最終段階の加熱温度は、400〜500℃の範囲内であることがより好ましく、400〜480℃の範囲内であることが特に好ましい。最終段階の加熱温度が低すぎるとPCT前後の引裂き強度保持率が小さくなる傾向にあり、高すぎるとL値がばらつく傾向にあるため好ましくない。   In the stepwise firing, it is preferable to finally heat at a temperature range of 400 to 550 ° C. for 5 to 400 seconds. If it is heated (fired) under the above conditions in the final stage, the physical properties of the resulting polyimide film can be further improved. The heating temperature in the final stage is more preferably in the range of 400 to 500 ° C, and particularly preferably in the range of 400 to 480 ° C. If the heating temperature in the final stage is too low, the tear strength retention before and after PCT tends to be small, and if it is too high, the L value tends to vary.

また、上記最終段階の加熱時間は、上記範囲内であればよいが、加熱温度が相対的に低いとき(上記温度範囲でより下限値に近い温度のとき)には長く、加熱温度が相対的に高いとき(上記温度範囲でより上限値に近い温度のとき)には短くすることが好ましい。上記加熱時間が短すぎるとPCT前後の引裂き強度の保持率が小さくなる傾向にあり、長すぎるとL値のばらつきが大きくなる傾向にある。   The heating time in the final stage may be within the above range, but is long when the heating temperature is relatively low (at a temperature closer to the lower limit in the temperature range), and the heating temperature is relatively When the temperature is high (when the temperature is closer to the upper limit in the above temperature range), it is preferable to shorten it. If the heating time is too short, the tear strength retention before and after the PCT tends to decrease, and if it is too long, the variation in L value tends to increase.

なお、本工程では、ゲルフィルム中に残留している内部応力を緩和させるために、加熱(焼成)処理時においてゲルフィルムを搬送するときに必要最低限の張力下においてもよい。この加熱処理は焼成工程と並行して行っても良いが、別途このような工程を設けても良い。このとき加えられる張力は特に限定されるものではないが、1〜100Nの範囲内であることが好ましく、1〜50Nの範囲内であることが好ましい。この範囲内であれば過剰な張力をゲルフィルムに加える必要が無いため、得られるポリイミドフィルムの物性の低下を回避することができる。   In addition, in this process, in order to relieve the internal stress remaining in the gel film, it may be under a minimum necessary tension when the gel film is conveyed during the heating (firing) treatment. This heat treatment may be performed in parallel with the baking process, but such a process may be provided separately. Although the tension | tensile_strength added at this time is not specifically limited, It is preferable to exist in the range of 1-100N, and it is preferable to exist in the range of 1-50N. If it is within this range, it is not necessary to apply excessive tension to the gel film, so that it is possible to avoid a decrease in physical properties of the resulting polyimide film.

また、上記張力を加える場合の加熱条件はゲルフィルム/ポリイミドフィルムの特性や用いる加熱炉等の装置の種類に応じて適宜設定されるものであり、特に限定されないが、加熱温度は、一般的には200℃以上500℃以下の加熱温度であればよく、250℃以上500℃以下の加熱温度であることが好ましく、300℃以上450℃以下の加熱温度であることが好ましい。また加熱時間は、1〜300秒の範囲内であればよく、2〜250秒の範囲内であることが好ましく、5〜200秒の範囲内であることが好ましい。この条件の熱処理により内部応力を緩和することができ、200℃での加熱収縮率を小さくすることができる。   The heating conditions for applying the tension are appropriately set according to the characteristics of the gel film / polyimide film and the type of apparatus such as a heating furnace to be used, and are not particularly limited. The heating temperature may be 200 ° C. or higher and 500 ° C. or lower, preferably 250 ° C. or higher and 500 ° C. or lower, and more preferably 300 ° C. or higher and 450 ° C. or lower. The heating time may be in the range of 1 to 300 seconds, preferably in the range of 2 to 250 seconds, and preferably in the range of 5 to 200 seconds. The internal stress can be relaxed by the heat treatment under these conditions, and the heat shrinkage rate at 200 ° C. can be reduced.

さらに、得られるポリイミドフィルムの異方性を悪化させない程度にゲルフィルムの固定前後で当該ゲルフィルムを延伸してもよい。このとき、ゲルフィルムの揮発分の含有量は100〜500重量%の範囲内であることが好ましく、150〜500重量%の範囲内であることがより好ましい。揮発分の含有量がこの範囲を下回ると延伸しにくくなる傾向にあり、この範囲を上回るとフィルムの自己支持性が悪く、延伸操作そのものが困難になる傾向にある。   Further, the gel film may be stretched before and after fixing the gel film to such an extent that the anisotropy of the obtained polyimide film is not deteriorated. At this time, the volatile content of the gel film is preferably in the range of 100 to 500% by weight, and more preferably in the range of 150 to 500% by weight. If the volatile content is below this range, stretching tends to be difficult, and if it exceeds this range, the self-supporting property of the film is poor and the stretching operation itself tends to be difficult.

上記延伸を行うための具体的な方法は特に限定されるものではなく、差動ロールを用いる方法、テンターの固定間隔を広げていく方法等公知のどのような方法でも用いることができる。   The specific method for performing the stretching is not particularly limited, and any known method such as a method using a differential roll or a method of widening the fixing interval of the tenter can be used.

なお、本発明にかかるポリイミドフィルムの製造方法においては、上述した各工程が全て含まれている必要はなく、必要に応じて一部の工程を省略してもよいし、他の工程を追加してもよいことは言うまでもない。例えば、重合済のポリアミド酸溶液を用いる場合等には、ポリアミド酸重合工程を省略することができる。   In addition, in the manufacturing method of the polyimide film concerning this invention, it is not necessary for each process mentioned above to be included, and one part may be abbreviate | omitted as needed, and another process is added. Needless to say. For example, when a polymerized polyamic acid solution is used, the polyamic acid polymerization step can be omitted.

<フィラーの添加>
本発明にかかるポリイミドフィルムにおいては、上記非熱可塑性ポリイミド以外の成分が含まれていてもよい。このような他の成分としては、非熱可塑性ポリイミドにブレンド可能であり、かつ、ポリイミドフィルムに要求される物性を損なわない各種樹脂や、ポリイミドフィルムの諸特性を改善するための各種添加剤等を挙げることができる。中でも、本発明においては、フィラーを添加することが好ましい。フィラーの添加によって、得られる接着性フィルムの摺動性、熱伝導性、導電性、耐コロナ性、ループスティフネス等の諸特性を改善することができる。
<Addition of filler>
In the polyimide film concerning this invention, components other than the said non-thermoplastic polyimide may be contained. As such other components, various resins that can be blended with non-thermoplastic polyimide and do not impair the physical properties required for polyimide films, various additives for improving various properties of polyimide films, etc. Can be mentioned. Among these, in the present invention, it is preferable to add a filler. By adding the filler, various properties such as slidability, thermal conductivity, conductivity, corona resistance, loop stiffness, and the like of the obtained adhesive film can be improved.

本発明で用いられるフィラーは特に限定されるものではないが、各種無機化合物からなる無機フィラーを挙げることができる。より具体的には、シリカ、雲母、酸化チタン、アルミナ等の酸化物;窒化珪素、窒化ホウ素等の無機窒化物;リン酸水素カルシウム、リン酸カルシウム等のリン酸化合物等が挙げられる。   Although the filler used by this invention is not specifically limited, The inorganic filler which consists of various inorganic compounds can be mentioned. More specifically, oxides such as silica, mica, titanium oxide, and alumina; inorganic nitrides such as silicon nitride and boron nitride; and phosphate compounds such as calcium hydrogen phosphate and calcium phosphate.

フィラーの粒子径は、改質すべきフィルム特性および添加するフィラーの種類等によって決定されるため特に限定されるものではないが、一般的には、平均粒径が0.05〜100μmの範囲内であればよく、0.1〜75μmの範囲内が好ましく、0.1〜50μmの範囲内がより好ましく、0.1〜25μmの範囲内がさらに好ましい。粒子径がこの範囲を下回ると改質効果が現れにくくなり、この範囲を上回ると表面性を大きく損なったり、機械的特性が大きく低下したりする可能性がある。   The particle size of the filler is not particularly limited because it is determined by the film characteristics to be modified and the type of filler to be added, etc., but generally the average particle size is in the range of 0.05 to 100 μm. It is sufficient that it is within the range of 0.1 to 75 μm, more preferably within the range of 0.1 to 50 μm, and further preferably within the range of 0.1 to 25 μm. If the particle size is below this range, the modification effect is less likely to appear. If the particle size is above this range, the surface properties may be greatly impaired or the mechanical properties may be greatly deteriorated.

フィラーの添加量も、改質すべきフィルム特性およびフィラーの粒子径等により決定されるため特に限定されるものではないが、一般的には、ポリイミド100重量部に対して0.01〜100重量部の範囲内であればよく、0.01〜90重量部の範囲内が好ましく、0.02〜80重量部の範囲内がより好ましい。フィラー添加量がこの範囲を下回るとフィラーによる改質効果が現れにくく、この範囲を上回るとフィルムの機械的特性が大きく損なわれる可能性がある。   The amount of filler added is also not particularly limited because it is determined by the film properties to be modified, the particle size of the filler, and the like, but is generally 0.01-100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of polyimide. Within a range of 0.01 to 90 parts by weight, and more preferably within a range of 0.02 to 80 parts by weight. If the amount of filler added is less than this range, the effect of modification by the filler hardly appears, and if it exceeds this range, the mechanical properties of the film may be greatly impaired.

上記フィラーの添加方法は特に限定されるものではないが、具体的には、例えば、(1)ポリアミド酸の重合前または途中に重合反応液に添加する、(2)ポリアミド酸の重合完了後、3本ロールなどを用いてフィラーを混錬する、(3)フィラーを含む分散液を別途調製し、これをポリアミド酸溶液に混合する等の各方法を挙げることができる。   Although the method for adding the filler is not particularly limited, specifically, for example, (1) added to the polymerization reaction solution before or during the polymerization of the polyamic acid, (2) after the completion of the polymerization of the polyamic acid, Examples of the method include kneading the filler using a three-roll or the like, (3) separately preparing a dispersion containing the filler, and mixing this with a polyamic acid solution.

これら方法の中でも、(3)フィラーを含む分散液をポリアミド酸溶液に混合する方法が好ましい。この方法を採用すれば、特に、ゲルフィルムを形成する直前にフィラーを混合することができるため、接着フィルムの製造ラインにおけるフィラーの残存とそれに伴うフィラーの混入の可能性を最も低減することができる。   Among these methods, (3) a method in which a dispersion containing a filler is mixed with a polyamic acid solution is preferable. If this method is adopted, the filler can be mixed immediately before forming the gel film, so that the possibility of the filler remaining in the adhesive film production line and the accompanying filler mixing can be reduced most. .

上記フィラーを含む分散液を調製する方法は特に限定されるものではなく、使用するフィラーを適当な溶媒に添加して分散液として調製すればよいが、溶媒として、ポリアミド酸溶媒と同じ有機極性溶媒を用いることが好ましい。また、フィラーを良好に分散させ、また分散状態を安定化させるために、分散剤、増粘剤等の添加剤をフィルム物性に影響を及ぼさない範囲内で用いることもできる。   The method for preparing the dispersion containing the filler is not particularly limited, and it may be prepared as a dispersion by adding the filler to be used to an appropriate solvent. The solvent is the same organic polar solvent as the polyamic acid solvent. Is preferably used. Further, in order to disperse the filler satisfactorily and stabilize the dispersion state, additives such as a dispersant and a thickener may be used within a range that does not affect the film physical properties.

(III)本発明の利用
本発明にかかるポリイミドフィルムは、ポリイミド層を含む積層体の製造に好適に用いることができる。すなわち、本発明には、上記ポリイミドフィルムを用いて製造される積層体が含まれる。上記積層体の具体的な構成は特に限定されるものではないが、代表的な構成として、ポリイミドフィルムの表面に金属層を積層してなる構造を有する積層体を挙げることができる。この金属層は、必要に応じて接着層を介してポリイミドフィルムの表面に積層されていてもよい。
(III) Use of the present invention The polyimide film according to the present invention can be suitably used for the production of a laminate including a polyimide layer. That is, the present invention includes a laminate produced using the polyimide film. Although the specific structure of the said laminated body is not specifically limited, As a typical structure, the laminated body which has a structure formed by laminating | stacking a metal layer on the surface of a polyimide film can be mentioned. This metal layer may be laminated | stacked on the surface of the polyimide film through the contact bonding layer as needed.

また、本発明にかかる積層体としては、本発明にかかるポリイミドフィルムの少なくとも一方の表面に熱可塑性ポリイミド層を積層した接着フィルムも含まれてよい。このような接着フィルムは、フレキシブルプリント配線板のカバーレイフィルム等として好適に用いることができる。   Moreover, as a laminated body concerning this invention, the adhesive film which laminated | stacked the thermoplastic polyimide layer on the at least one surface of the polyimide film concerning this invention may be contained. Such an adhesive film can be suitably used as a coverlay film of a flexible printed wiring board.

上記接着フィルムに積層される金属層としては、特に限定されるものではないが、本発明にかかる積層体をフレキシブル金属張積層板として、電子機器・電気機器用途に用いる場合には、例えば、銅または銅合金、ステンレス鋼またはその合金、ニッケルまたはニッケル合金(42合金も含む)、アルミニウムまたはアルミニウム合金等からなる金属箔を挙げることができる。また、一般的なフレキシブル金属張積層板では、圧延銅箔、電解銅箔といった銅箔が多用されるが、これら銅箔は本発明においても好ましく用いることができる。なお、これらの金属箔の表面には、防錆層や耐熱層あるいは接着層が塗布されていてもよい。   Although it does not specifically limit as a metal layer laminated | stacked on the said adhesive film, When using the laminated body concerning this invention as a flexible metal-clad laminated board for an electronic device and an electrical equipment use, for example, copper Alternatively, a metal foil made of a copper alloy, stainless steel or an alloy thereof, nickel or a nickel alloy (including 42 alloy), aluminum, an aluminum alloy, or the like can be given. Moreover, in general flexible metal-clad laminates, copper foils such as rolled copper foil and electrolytic copper foil are frequently used, but these copper foils can also be preferably used in the present invention. In addition, the antirust layer, the heat-resistant layer, or the contact bonding layer may be apply | coated to the surface of these metal foil.

また、本発明には、上記ポリイミドフィルム、あるいは、上記積層体を用いて形成されるフレキシブル配線板も含まれる。具体的には、フレキシブルプリント配線板(FPC)を挙げることができる。上FPCの具体的な製造方法は特に限定されるものではないが、具体的には、例えば、ポリイミドフィルムに金属箔を積層し、パターンエッチング処理を行い、金属箔に所望のパターン回路を形成する方法を挙げることができる。   Moreover, the flexible wiring board formed using the said polyimide film or the said laminated body is also contained in this invention. Specifically, a flexible printed wiring board (FPC) can be mentioned. Although the specific manufacturing method of the upper FPC is not particularly limited, specifically, for example, a metal foil is laminated on a polyimide film, a pattern etching process is performed, and a desired pattern circuit is formed on the metal foil. A method can be mentioned.

本発明について、実施例および比較例に基づいてより具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。当業者は本発明の範囲を逸脱することなく、種々の変更、修正、および改変を行うことができる。なお、以下の実施例および比較例における加熱収縮率、L値のばらつき、異方性評価、PCT前後の引裂き強度保持率、並びに、ポリイミドフィルムの加工性は次のようにして評価した。   The present invention will be described more specifically based on examples and comparative examples, but the present invention is not limited to this. Those skilled in the art can make various changes, modifications, and alterations without departing from the scope of the present invention. In the following examples and comparative examples, the heat shrinkage rate, the variation in L value, the anisotropy evaluation, the tear strength retention before and after PCT, and the workability of the polyimide film were evaluated as follows.

〔加熱収縮率〕
IPC−TM−650 2.2.4 Method Aに準じて、ポリイミドフィルムを200℃で2時間加熱処理を行う前後の寸法変化から加熱収縮率を算出した。
[Heating shrinkage]
According to IPC-TM-650 2.2.4 Method A, the heat shrinkage ratio was calculated from the dimensional change before and after the polyimide film was heated at 200 ° C. for 2 hours.

〔L値のばらつき〕
日本電色工業社製の小型携帯用色差計(商品名:NR−3000A)を用いて、測定面積10mmφで、ポリイミドフィルムの幅方向(TD方向)に10cm間隔でL値を10点測定し、10点平均の値を100としたときに、L値の最大値および最小値が97〜103(±3%)の範囲内に入っているか否かによりばらつきを評価した。なお、付属の白色公正板により1ポイント公正でキャリブレーションを行った。
[L variation of L value]
Using a small portable color difference meter (trade name: NR-3000A) manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., measuring the L value at 10 points at 10 cm intervals in the width direction (TD direction) of the polyimide film with a measurement area of 10 mmφ, The variation was evaluated based on whether or not the maximum value and the minimum value of the L value were within the range of 97 to 103 (± 3%) when the average value of 10 points was 100. In addition, it calibrated by 1 point fair with the attached white fair board.

〔異方性評価〕
ポリイミドフィルムの幅方向に、10cm間隔で2×2cmに切り出したフィルム片試験片とし、これをクロスニコル下で偏光顕微鏡(日本光学社製、商品名:OPTIPHOT・POL)により消光角を決定し、直行する膜面内の2方向の屈折率から複屈折率(Δnxy:ただし、試験片の膜面をxy平面、厚み方向をz軸とする)を求め、異方性の尺度とした。複屈折率の測定は偏光板付接眼鏡を備えた屈折計(株式会社アタゴ製、4T型)を用いてNaランプを光源として測定した。
[Anisotropy evaluation]
A film piece test piece cut into 2 × 2 cm at 10 cm intervals in the width direction of the polyimide film, and the extinction angle is determined with a polarizing microscope (manufactured by Nippon Optical Co., Ltd., trade name: OPTIPHOT / POL) under crossed Nicols. The birefringence (Δn xy : where the film surface of the test piece is the xy plane and the thickness direction is the z-axis) was determined from the refractive index in two directions in the orthogonal film surface, and was used as a measure of anisotropy. The birefringence was measured using a refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd., 4T type) equipped with an eyepiece with a polarizing plate and using a Na lamp as a light source.

〔PCT試験前後の引裂き強度保持率〕
ASTM D−1938にしたがってPCT処理の前後で測定した。なお、PCT処理は150℃、100%RHの条件下で12時間行った。
[Tear strength retention before and after PCT test]
Measurements were taken before and after PCT treatment according to ASTM D-1938. The PCT treatment was performed for 12 hours under the conditions of 150 ° C. and 100% RH.

〔ポリイミドフィルムの加工性の評価〕
パンチングマシンにより0.2mmφの穴をあけ、この穴を顕微鏡により観察してバリが発生していないものを○、バリが発生しているものを×として評価した。
[Evaluation of processability of polyimide film]
A hole having a diameter of 0.2 mm was drilled with a punching machine, and this hole was observed with a microscope.

〔ポリアミド酸溶液の合成例1〕
309kgのN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)に6.14kgのパラフェニレンジアミン(PDA)を溶解し、冷却ジャケットにより0℃に冷却した。ここに11.15kgのピロメリット酸二無水物(PMDA)を添加し1時間攪拌した。ここに4,4’−オキシジアニリン(ODA)26.55kgを添加し溶解させた後28.92kgのPMDAを添加し1時間攪拌した。なお、上記処理の間、冷却ジャケットによる冷却は0℃を保持したが、上記処理で得られた反応液においては反応熱による温度上昇があり、最高20℃まで温度が上昇した。
[Synthesis Example 1 of Polyamic Acid Solution]
In 309 kg of N, N-dimethylformamide (DMF), 6.14 kg of paraphenylenediamine (PDA) was dissolved and cooled to 0 ° C. with a cooling jacket. 11.15 kg of pyromellitic dianhydride (PMDA) was added thereto and stirred for 1 hour. To this, 26.55 kg of 4,4′-oxydianiline (ODA) was added and dissolved, and then 28.92 kg of PMDA was added and stirred for 1 hour. During the treatment, the cooling jacket maintained 0 ° C., but the reaction solution obtained by the treatment had a temperature rise due to reaction heat, and the temperature rose to a maximum of 20 ° C.

別途、重量比でDMF:PMDA=16.5:1.24となるようにPMDA溶液を調製しておき、上記反応液に徐々に添加した。23℃で粘度が2800ポイズになったところでPMDA溶液の添加を停止した。これにより、固形分濃度が約18.5%、ジアミン成分であるPDAおよびODAのモル比が30:70のポリアミド酸溶液を得た。   Separately, a PMDA solution was prepared so that the weight ratio was DMF: PMDA = 16.5: 1.24, and gradually added to the reaction solution. When the viscosity reached 2800 poise at 23 ° C., the addition of the PMDA solution was stopped. As a result, a polyamic acid solution having a solid concentration of about 18.5% and a molar ratio of PDA and ODA as the diamine component of 30:70 was obtained.

〔ポリアミド酸溶液の合成例2〕
310kgのDMFに35.42kgODAを溶解し、冷却ジャケットにより0℃に冷却した。ここに37.42kgのPMDAを1時間かけて添加し、さらに1時間攪拌した。なお、この処理の間、冷却ジャケットによる冷却は0℃を保持したが、上記処理で得られた反応液においては反応熱による温度上昇があり、最高29℃まで温度が上昇した。
[Synthesis Example 2 of Polyamic Acid Solution]
35.42 kg ODA was dissolved in 310 kg DMF and cooled to 0 ° C. by a cooling jacket. To this, 37.42 kg of PMDA was added over 1 hour and further stirred for 1 hour. During this treatment, the cooling by the cooling jacket maintained 0 ° C., but the reaction solution obtained by the treatment had a temperature rise due to reaction heat, and the temperature rose to a maximum of 29 ° C.

別途、重量比でDMF:PMDA=15.4:1.16となるようにPMDA溶液を調製しておき、上記反応液に徐々に添加した。23℃で粘度が3000ポイズになったところでPMDA溶液の添加を停止した。これにより、固形分濃度が約18.5%のポリアミド酸溶液を得た。   Separately, a PMDA solution was prepared so that DMF: PMDA = 15.4: 1.16 by weight, and gradually added to the reaction solution. When the viscosity reached 3000 poise at 23 ° C., the addition of the PMDA solution was stopped. As a result, a polyamic acid solution having a solid concentration of about 18.5% was obtained.

〔実施例1〕
イソキノリン/無水酢酸/DMFを重量比で4.81/11.41/28.77の割合で混合することにより硬化剤を調製した。この硬化剤を合成例1で得られたポリアミド酸溶液に添加した。添加量は、ポリアミド酸溶液中のポリアミド酸100重量部に対して硬化剤が45重量部の割合となるように設定した。硬化剤の添加後すばやくミキサーで攪拌してTダイから幅1200mmでポリアミド酸溶液を押し出してステンレス製のエンドレスベルト(支持体)上に流延し、液膜を形成した。なお、エンドレスベルトは、上記Tダイの下15mmの位置で12m/分の速度で走行させた。エンドレスベルト上の液膜を120℃で100秒乾燥させて自己支持性を有するゲルフィルムに転化させ、エンドレスベルトから引き剥がした。得られたゲルフィルムの残存揮発成分量は45重量%であった。
[Example 1]
A curing agent was prepared by mixing isoquinoline / acetic anhydride / DMF at a ratio of 4.81 / 11.41 / 28.77 by weight. This curing agent was added to the polyamic acid solution obtained in Synthesis Example 1. The addition amount was set so that the curing agent was in a ratio of 45 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyamic acid in the polyamic acid solution. After the addition of the curing agent, the mixture was quickly stirred with a mixer, and the polyamic acid solution was extruded from a T die with a width of 1200 mm and cast onto a stainless endless belt (support) to form a liquid film. The endless belt was run at a speed of 12 m / min at a position 15 mm below the T die. The liquid film on the endless belt was dried at 120 ° C. for 100 seconds to be converted into a self-supporting gel film, and peeled off from the endless belt. The amount of residual volatile components in the obtained gel film was 45% by weight.

このゲルフィルムの両端をテンターピンに固定して加熱およびイミド化の処理を行った。加熱条件は、200℃×30秒(第1炉:熱風循環)、250℃×30秒(第2炉:熱風循環)、360℃×30秒(第3炉:熱風循環)、450℃×2分(第4炉:遠赤外線式)の条件とした(表1参照)。これにより、幅1200mm、厚み12.5μmのポリイミドフィルムを得た。   Both ends of this gel film were fixed to a tenter pin and subjected to heating and imidization treatment. The heating conditions are 200 ° C. × 30 seconds (first furnace: hot air circulation), 250 ° C. × 30 seconds (second furnace: hot air circulation), 360 ° C. × 30 seconds (third furnace: hot air circulation), 450 ° C. × 2 Minutes (fourth furnace: far-infrared type) (see Table 1). Thereby, a polyimide film having a width of 1200 mm and a thickness of 12.5 μm was obtained.

得られたポリイミドフィルムを1028mmの幅となるようにスリットし、300℃の加熱炉で3kg/mの張力下で30秒熱処理した。加熱処理した後のポリイミドフィルムについて前述したように諸物性を測定または評価した。その結果を表2に示す。   The obtained polyimide film was slit so as to have a width of 1028 mm, and heat-treated for 30 seconds under a tension of 3 kg / m in a heating furnace at 300 ° C. Various physical properties were measured or evaluated as described above for the polyimide film after the heat treatment. The results are shown in Table 2.

〔実施例2〕
合成例2で得られたポリアミド酸溶液を用いた以外は実施例1と全く同様にしてゲルフィルムを得た。得られたゲルフィルムの残存揮発成分量は45重量%であった。このゲルフィルムの両端をテンターピンに固定して加熱およびイミド化の処理を行った。加熱条件は実施例1と同じ条件とした(表1参照)。これにより、幅1200mm、厚み25μmのポリイミドフィルムを得た。
[Example 2]
A gel film was obtained in exactly the same manner as in Example 1 except that the polyamic acid solution obtained in Synthesis Example 2 was used. The amount of residual volatile components in the obtained gel film was 45% by weight. Both ends of this gel film were fixed to a tenter pin and subjected to heating and imidization treatment. The heating conditions were the same as in Example 1 (see Table 1). Thereby, a polyimide film having a width of 1200 mm and a thickness of 25 μm was obtained.

得られたポリイミドフィルムを1028mmの幅となるようにスリットし、300℃の加熱炉で3kg/mの張力下で30秒熱処理した。加熱処理後のポリイミドフィルムの諸物性を表2に示す。   The obtained polyimide film was slit so as to have a width of 1028 mm, and heat-treated for 30 seconds under a tension of 3 kg / m in a heating furnace at 300 ° C. Table 2 shows the physical properties of the polyimide film after the heat treatment.

〔実施例3〕
得られたゲルフィルムの両端をテンターピンに固定した後、表1に示す加熱条件、すなわち第1〜3炉までの加熱条件は同じで第4炉での加熱条件を420℃×5分としてゲルフィルムを加熱およびイミド化した以外は実施例1と同様にして本発明にかかるポリイミドフィルムを得た。
Example 3
After fixing both ends of the obtained gel film to the tenter pin, the heating conditions shown in Table 1, that is, the heating conditions up to the first to third furnaces are the same, and the heating conditions in the fourth furnace are set to 420 ° C. × 5 minutes. A polyimide film according to the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that was heated and imidized.

得られたポリイミドフィルムを1028mmの幅となるようにスリットし、300℃の加熱炉で3kg/mの張力下で30秒熱処理した。加熱処理後のポリイミドフィルムの諸物性を表2に示す。   The obtained polyimide film was slit so as to have a width of 1028 mm, and heat-treated for 30 seconds under a tension of 3 kg / m in a heating furnace at 300 ° C. Table 2 shows the physical properties of the polyimide film after the heat treatment.

〔実施例4〕
得られたゲルフィルムの両端をテンターピンに固定した後、表1に示す加熱条件、すなわち第1〜3炉までの加熱条件は同じで第4炉での加熱条件を500℃×20秒としてゲルフィルムを加熱およびイミド化した以外は実施例1と同様にして本発明にかかるポリイミドフィルムを得た。
Example 4
After fixing both ends of the obtained gel film to the tenter pin, the heating conditions shown in Table 1, that is, the heating conditions up to the first to third furnaces are the same, and the heating conditions in the fourth furnace are set to 500 ° C. × 20 seconds. A polyimide film according to the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that was heated and imidized.

得られたポリイミドフィルムを1028mmの幅となるようにスリットし、300℃の加熱炉で3kg/mの張力下で30秒熱処理した。加熱処理後のポリイミドフィルムの諸物性を表2に示す。   The obtained polyimide film was slit so as to have a width of 1028 mm, and heat-treated for 30 seconds under a tension of 3 kg / m in a heating furnace at 300 ° C. Table 2 shows the physical properties of the polyimide film after the heat treatment.

〔比較例1〜4〕
得られたゲルフィルムの両端をテンターピンに固定した後、それぞれ表1に示す加熱条件でゲルフィルムを加熱およびイミド化した以外は実施例1と同様にして、比較例としてのポリイミドフィルムを得た。
[Comparative Examples 1-4]
After fixing both ends of the obtained gel film to a tenter pin, a polyimide film as a comparative example was obtained in the same manner as in Example 1 except that the gel film was heated and imidized under the heating conditions shown in Table 1, respectively.

得られた各ポリイミドフィルムを1028mmの幅となるようにスリットし、300℃の加熱炉で3kg/mの張力下で30秒熱処理した。加熱処理後のポリイミドフィルムの諸物性を表2に示す。   Each obtained polyimide film was slit so as to have a width of 1028 mm, and heat-treated for 30 seconds in a 300 ° C. heating furnace under a tension of 3 kg / m. Table 2 shows the physical properties of the polyimide film after the heat treatment.

Figure 2006274130
Figure 2006274130

Figure 2006274130
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表2の結果から明らかなように、ポリイミドフィルムにおいて少なくともL値および加熱収縮率が所定の範囲内にあれば、幅方向の異方性のばらつきが小さく、また、加工性等にも優れていることが分かる。   As is apparent from the results in Table 2, if at least the L value and the heat shrinkage rate are within the predetermined ranges in the polyimide film, the variation in the anisotropy in the width direction is small, and the workability and the like are also excellent. I understand that.

なお本発明は、以上説示した各構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態や実施例にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態や実施例についても本発明の技術的範囲に含まれる。   Note that the present invention is not limited to the configurations described above, and various modifications are possible within the scope of the claims, and technical means disclosed in different embodiments and examples respectively. Embodiments and examples obtained by appropriately combining them are also included in the technical scope of the present invention.

以上のように、本発明では、ポリイミドフィルムの幅方向のL値と、長さ方向および幅方向の加熱収縮率とを適切な範囲に設定しているので、寸法安定性や加工性の向上だけでなく、収率や生産性の改善を実現し、さらにはこれを用いて得られるフレキシブル配線板の信頼性も向上させることが可能となる。そのため、本発明は、ポリイミドフィルムや積層体に代表される各種樹脂成形品を製造する分野に利用することができるだけでなく、さらには、これらを用いたフレキシブル配線板等の電子部品の製造に関わる分野に広くするにも応用することが可能である。   As described above, in the present invention, since the L value in the width direction of the polyimide film and the heat shrinkage rate in the length direction and the width direction are set in appropriate ranges, only dimensional stability and workability are improved. In addition, the yield and productivity can be improved, and further, the reliability of the flexible wiring board obtained by using this can be improved. Therefore, the present invention can be used not only in the field of manufacturing various resin molded products typified by polyimide films and laminates, but also related to the manufacture of electronic components such as flexible wiring boards using these. It can be applied to a wide range of fields.

Claims (7)

1000mm以上の幅を有しているとともに、幅方向のL値のばらつきが±3%以下であり、かつ、200℃での加熱収縮率が長さ方向および幅方向ともに0.07%以下であることを特徴とするポリイミドフィルム。   It has a width of 1000 mm or more, variation in the L value in the width direction is ± 3% or less, and the heat shrinkage at 200 ° C. is 0.07% or less in both the length direction and the width direction. A polyimide film characterized by that. プレッシャークッカー試験前後の引裂き強度保持率が60%以上であることを特徴とする請求項1に記載のポリイミドフィルム。   The polyimide film according to claim 1, wherein the tear strength retention before and after the pressure cooker test is 60% or more. 平均厚みが5〜25μmであることを特徴とする請求項1または2に記載のポリイミドフィルム。   The polyimide film according to claim 1 or 2, wherein an average thickness is 5 to 25 µm. 上記ポリイミドフィルムが、ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸および有機溶媒を少なくとも含有し、自己支持性を有するゲルフィルムを焼成することで得られるものであり、
さらに、ゲルフィルムの焼成の最終段階で、400〜550℃の温度範囲で5〜400秒の時間加熱処理されたものであることを特徴とする請求項1、2または3に記載のポリイミドフィルム。
The polyimide film contains at least a polyamic acid that is a polyimide precursor and an organic solvent, and is obtained by baking a gel film having self-supporting property,
Furthermore, the polyimide film of Claim 1, 2 or 3 which was heat-processed for 5 to 400 seconds in the temperature range of 400-550 degreeC in the final step of baking of a gel film.
請求項1ないし4の何れか1項に記載のポリイミドフィルムを用いて製造される積層体。   The laminated body manufactured using the polyimide film of any one of Claim 1 thru | or 4. ポリイミドフィルムの表面に金属層を積層してなる請求項5に記載の積層体。   The laminated body of Claim 5 formed by laminating | stacking a metal layer on the surface of a polyimide film. 請求項1ないし4の何れか1項に記載のポリイミドフィルム、あるいは、請求項5または6に記載の積層体を用いて形成されるフレキシブル配線板。
The flexible wiring board formed using the polyimide film of any one of Claims 1 thru | or 4, or the laminated body of Claim 5 or 6.
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