JP2006272097A - ノズル洗浄装置、これを備えた液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】 機能液吐出口付近ではノズル面に機能液が増粘するだけでなく、機能液吐出口の内部に機能液が固着することがある。
【解決手段】 機能液を吐出する機能液滴吐出ヘッドの機能液吐出口を洗浄するノズル洗浄装置であって、機能液吐出口に付着した固着物を溶解するための洗浄液を満たす洗浄液槽と、機能液滴吐出ヘッドのノズル面を洗浄液に浸漬させる洗浄液槽昇降手段と、機能液吐出口の固着物を除去する払拭部材と、を備えることを特徴とする。
【選択図】 図６

Description

本発明は、洗浄液に浸された払拭部材により、機能液を吐出する機能液滴吐出ヘッドのノズル面を洗浄するノズル洗浄装置、これを備えた液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器に関するものである。

近年、液晶パネルのカラーフィルタや半導体分野で液滴吐出の技術を応用し、直接基板にカラーフィルタの顔料や半導体用のレジストでパターンを描画するいわゆる直接描画技術が広まっている。

このような直接描画技術を用いる液滴吐出装置では、機能液滴吐出ヘッドの機能液吐出口から増粘した機能液を除去するクリーニング装置を備えている。
クリーニング装置は吸引装置とワイピング装置とからなり、吸引装置は吐出ヘッドのノズル面に密着させるキャップと、キャップを介して吸引できる吸引ポンプを有し、ノズル面にキャップを押し付けて、機能液吐出口から機能液を吸引するようになっている。また、ワイピング装置はノズル面を払拭するワイピングシートと、ワイピングシートに洗浄液を噴霧する洗浄液噴霧器を有し、ワイピングシートに洗浄液を吹き付けて、ワイピングシートでノズル面を払拭するようになっている。
特開２００３−１２７４０５号公報

ところで、ノズル吐出付近ではノズル面に機能液が増粘するだけでなく、機能液吐出口の内部に機能液が固着することがある。このため、従来のクリーニング装置では増粘した機能液は除去可能であるが、機能液が強力に固着している場合には、通常のワイピング手段や予備吐出手段あるいは吸引手段などの回復処理では、機能液吐出からの液体の吐出状態を適正にすることが困難である問題があった。このため、ドット抜け、飛行曲り、吐出量不安定などをおこし描画に影響を与えていた。

そこで本発明は、機能液吐出口付近の強固な固着物を確実に除去することができるノズル洗浄装置、これを備えた液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供することを課題としている。

本発明のノズル洗浄装置は、機能液を吐出する機能液滴吐出ヘッドのノズル面に形成された機能液吐出口を洗浄するノズル洗浄装置であって、機能液吐出口に付着した固着物を溶解するための洗浄液を満たす洗浄液槽と、機能液滴吐出ヘッドと洗浄液槽の少なくとも一方を昇降させて機能液滴吐出ヘッドのノズル面を洗浄液に浸漬させる洗浄液槽昇降手段と、洗浄液槽の洗浄液に浸漬された機能液吐出口に接触し、機能液吐出口の固着物を除去する払拭部材と、を備えることを特徴とする。

この構成によれば、機能液吐出口が洗浄液に浸漬されることにより、機能液滴吐出ヘッドの機能液吐出口付近の固着物が洗浄液槽の洗浄液により溶解され、さらに払拭部材の繊維が吐出口の内部の固着物に接触することで、機能液吐出口付近に固くこびりついた固着物を確実に除去することができる。したがって、機能液吐出口が常に良好な状態に保たれ、ドット抜け、飛行曲がり、吐出量不安定などを防ぐことができる。なお、本装置は、機能液を吐出する機能液滴吐出ヘッドが非描画時に待機するメンテナンスエリアに設けることが、好ましい。

この場合、ノズル面に対し払拭部材を水平方向に振動させる払拭部材振動手段を、更に備えることが好ましい。

この構成によれば、機能液滴吐出ヘッドの機能液吐出口付近の固着物が洗浄液槽の洗浄液により溶解され、さらに洗浄液に浸漬された払拭部材が振動して、その繊維が固着物をブラッシングするように作用する。このため機能液の固着物をさらに確実に洗浄し、機能液吐出口からの機能液の吐出状態が適正に回復される。

この場合、払拭部材は洗浄液槽に固定されており、払拭部振動手段は洗浄液槽を介して払拭部材を振動させることが好ましい。

この構成によれば、固着物を確実に除去できると共に、払拭部材振動手段を、洗浄液槽の外部に設置することができる。

この場合、洗浄液槽を支持する支持部材を、更に備え、支持部材は弾性部材で構成されていることが好ましい。

この構成によれば、洗浄液槽を支持しつつ払拭部材振動手段による振動を許容することができる。

この場合、洗浄液は機能液または機能液の溶剤であることが好ましい。

この構成によれば、機能液あるいは、機能液の溶剤で機能液吐出口付近の固着物を溶解することができる。

この場合、機能液の着弾精度を測定する着弾精度測定手段と、着弾制度測定手段が生成した着弾精度情報から機能液吐出口の汚れ量を求め機能液吐出口の浸漬時間情報を生成する浸漬時間生成手段と、浸漬時間情報に基づいて、洗浄液槽昇降手段を制御して洗浄液槽を昇降させる制御手段と、を更に備えることが好ましい。

この構成によれば、機能液の着弾制度を測定し、機能液吐出口付近の固着物の汚れ量を求め、機能液吐出口の洗浄液への浸漬時間を制御することができる。したがって、汚れに状態に応じて洗浄作業を効率良く行うことができ、機能液吐出口を常に良好な状態に効率的に保つことができる。

本発明の液滴吐出装置は、上記のいずれかに記載のノズル洗浄装置と、機能液滴吐出ヘッドを有しワークに対して機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら当該機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動することによりワークに機能液による描画を行うことを特徴とする。

この構成によれば、機能液滴吐出ヘッドを適切に保守することができるため、高画質の描画を行い、装置の信頼性を高めることができる。

本発明の電気工学装置の製造方法は、上記に記載の液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液による生成膜を形成することを特徴とする。また、本発明の電気光学装置は、上記に記載の液滴吐出装置を用い、ワークに機能液による生成膜を形成することを特徴とする。

これらの構成によれば、洗浄液の飛散を防止可能であると共に、機能液滴吐出ヘッドを適切に保守できる描画装置を用いて電気光学装置の製造が行われるため、効率的な製造が可能となる。なお、電気光学装置（デバイス）としては、液晶表示装置、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）装置、電子放出装置、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）装置および電気泳動表示装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）装置またはＳＥＤ（Surface-Conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。

本発明の電子機器は、上記に記載した電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置、または上記に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする。

この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータのほか、各種電気製品がこれに該当する。

以下、添付の図面を参照して、本発明を適用した描画装置について説明する。この描画装置は、いわゆるフラットパネルディスプレイの製造ラインに組み込まれるものであり、機能液滴吐出ヘッドを用いた液滴吐出法により、液晶表示装置のカラーフィルタや有機ＥＬ装置の各画素となる発光素子等を形成するものである。

図１および図２に示すように、描画装置１は、機台２と、機能液滴吐出ヘッド３１を有し、機台２上の全域に広く載置された液滴吐出装置３と、液滴吐出装置３に接続した機能液供給装置４と、液滴吐出装置３に添設するように機台２上に載置したヘッド保守装置５と、を備えている。また、描画装置１には、図外の制御装置６が設けられており、描画装置１では、機能液供給装置４により液滴吐出装置３が機能液の供給を受けながら、制御装置６による制御に基づいて、液滴吐出装置３がワークＷに対する描画動作を行うと共に、機能液滴吐出ヘッド３１に対して、ヘッド保守装置５が適宜保守動作（メンテナンス）を行うようになっている。

両図に示すように、液滴吐出装置３は、ワークＷを主走査（Ｘ軸方向に移動）させるＸ軸テーブル１２およびＸ軸テーブル１２に直交するＹ軸テーブル１３から成るＸ・Ｙ移動機構１１と、Ｙ軸テーブル１３に移動自在に取り付けられたメインキャリッジ１４と、メインキャリッジ１４に垂設され、機能液滴吐出ヘッド３１を搭載したヘッドユニット１５と、を有している。

Ｘ軸テーブル１２は、Ｘ軸方向の駆動系を構成するＸ軸モータ（図示省略）駆動のＸ軸スライダ２１を有し、これに吸着テーブル２２およびθテーブル２３等から成るセットテーブル２４を移動自在に搭載して構成されている。同様に、Ｙ軸テーブル１３は、Ｙ軸方向の駆動系を構成するＹ軸モータ（図示省略）駆動のＹ軸スライダ２５を有し、これにヘッドユニット１５を支持する上記のメインキャリッジ１４をＹ軸方向に移動自在に搭載して構成されている。なお、Ｘ軸テーブル１２は、Ｘ軸方向に平行に配設されており、機台２上に直接支持されている。一方、Ｙ軸テーブル１３は、機台２上に立設した左右の支柱２６に支持されており、Ｘ軸テーブル１２およびヘッド保守装置５を跨ぐようにＹ軸方向に延在している（図１参照）。

本実施形態における描画装置１では、Ｘ軸テーブル１２およびＹ軸テーブル１３が交わるエリアがワークＷの描画を行う描画エリア２７、Ｙ軸テーブル１３およびヘッド保守装置５が交わるエリアが機能液滴吐出ヘッド３１に対する機能回復処理を行う保守エリア２８となっており、ワークＷに描画を行う場合には描画エリア２７に、機能回復処理を行う場合には保守エリア２８に、ヘッドユニット１５を臨ませるようになっている。

ヘッドユニット１５は、複数（１２個）の機能液滴吐出ヘッド３１と、ヘッド保持部材（図示省略）を介して機能液滴吐出ヘッド３１を搭載するヘッドプレート３２と、を備えている。ヘッドプレート３２は、支持フレーム３３に着脱自在に支持されており、ヘッドユニット１５は、支持フレーム３３を介してメインキャリッジ１４に位置決め状態で搭載される。なお、詳細は後述するが、支持フレーム３３には、ヘッドユニット１５に並んで、機能液供給装置４のバルブユニット３４およびタンクユニット３５が支持されている（図２および図３参照）。

図４に示すように、機能液滴吐出ヘッド３１は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針４１を有する機能液導入部４２と、機能液導入部４２に連なる２連のヘッド基板４３と、機能液導入部４２の下方に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体４４と、を備えている。接続針４１は、図外の機能液供給装置４に接続され、機能液滴吐出ヘッド３１のヘッド内流路に機能液を供給する。ヘッド本体４４の下面（図示では上面）には、吐出ノズル４６が開口したノズル面４７を有するノズルプレート４８が設けられている。ノズル面４７には、多数（１８０個）の吐出ノズル４６から成るノズル列が２列形成されている。図示省略したが、ノズル面４７には、ノズル列を囲繞するように、浅い溝が形成されており、この浅溝にノズルが開口している。

ヘッドプレート３２は、機能液耐食性を有するステンレス等からなる方形の厚板で構成されている。ヘッドプレート３２には、１２個の機能液滴吐出ヘッド３１を位置決めし、これを、裏面側からヘッド保持部材を介して固定するための１２個の装着開口（図示省略）が形成されている。１２個の装着開口（図示省略）は、２個ずつ６組に分けられており、各組の装着開口（図示省略）は、一部が重複するように、機能液滴吐出ヘッド３１のノズル列と直交する方向に（ヘッドプレート３２の長手方向）に位置ずれして形成されている。すなわち、１２個の機能液滴吐出ヘッド３１は、２個ずつ６組に分けられ、ノズル列と直交する方向において、各組の機能液滴吐出ヘッド３１のノズル列が１の描画ラインを構成すべく（一部重複）、階段状に配置されている（図３参照）。

なお、各機能液滴吐出ヘッド３１に形成された２列のノズル列は、４ドット分のピッチを有して配設された多数（１８０個）の吐出ノズル４６によってそれぞれ構成されており、両ノズル列は、列方向に２ドット分位置ずれして配設されている。すなわち、各機能液滴吐出ヘッド３１には、２列のノズル列により、２ドットピッチの描画ラインが形成されている。一方、同１組の隣接する２個の機能液滴吐出ヘッド３１は、それぞれの（２ドットピッチの）描画ラインが列方向に１ドット分位置ずれするように配設され、１組の機能液滴吐出ヘッド３１により、１ドットピッチの描画ラインが形成される。すなわち、同１組２個の機能液滴吐出ヘッド３１は、１／４解像度の各ノズル列が相互位置ずれするように配置され、他の５組１０個の機能液滴吐出ヘッド３１と合わせて、１描画ラインの高解像度のノズル列が構成されるようになっている。

メインキャリッジ１４は、Ｙ軸テーブル１３に下側から固定される外観「Ｉ」形の吊設部材５１と、吊設部材５１の下面に取り付けられ、（ヘッドユニット１５の）θ方向に対する位置補正を行うためのθ回転機構５２と、θ回転機構５２の下方に吊設するよう取り付けたキャリッジ本体５３と、で構成されており、キャリッジ本体５３が、支持フレーム３３を介してヘッドユニット１５を支持するようになっている（図２参照）。図示省略したが、キャリッジ本体５３には、支持フレーム３３を遊嵌するための方形の開口が形成されていると共に、支持フレーム３３を位置決めするための位置決め機構が設けられており、ヘッドユニット１５を位置決めした状態で固定できるようになっている。

図１ないし図３に示すように、機能液供給装置４は、上記の支持フレーム３３にヘッドユニット１５と共に搭載されており、機能液を貯留する複数（１２個）の機能液タンク６１から成るタンクユニット３５と、各機能液タンク６１および各機能液滴吐出ヘッド３１を接続する複数（１２本）の機能液供給チューブ６２と、複数の機能液供給チューブ６２に介設した複数（１２個）の圧力調整弁６３から成るバルブユニット３４と、を有している。

図３に示すように、支持フレーム３３は、略方形の枠状に形成されており、その長手方向に対し、ヘッドユニット１５、バルブユニット３４、タンクユニット３５の順でこれらを搭載している。なお、図２および図３に示すように、支持フレーム３３には、その長辺部分に、一対のハンドル６４が取り付けられており、この一対のハンドル６４を手持ち部位として、支持フレーム３３をメインキャリッジ１４に着脱可能に交換できるようになっている。

図３に示すように、タンクユニット３５は、１２個の機能液タンク６１を有し、各機能液タンク６１は、樹脂製のカートリッジケース７４に、機能液を真空パックした機能液パック７５を収容して、構成されている。

圧力調整弁６３は機能液タンク６１からの機能液を大気圧と略同圧に減圧し、機能液滴吐出ヘッド３１に供給する。このため、機能液タンク６１の水頭に影響されることなく、機能液滴吐出ヘッド３１に機能液を安定して供給することが可能となる。

図１に示すように、ヘッド保守装置５は、機台２上に載置され、Ｘ軸方向に延在する移動テーブル１０１と、移動テーブル１０１上に載置した吸引ユニット１０２と、ワイピングユニット１０３（ワイピング装置）と、ワイピングユニット１０３に並んで移動テーブル１０１上に配設されたノズル洗浄ユニットと、を備えている。移動テーブル１０１は、Ｘ軸方向に移動可能に構成されており、機能液滴吐出ヘッド３１の保守時には、吸引ユニット１０２とワイピングユニット１０３ならびにノズル洗浄ユニットを適宜、保守エリア２８に移動させる構成となっている。なお、上記の各ユニットに加え、機能液滴吐出ヘッド３１から吐出された機能液滴の飛行状態を検査する吐出検査ユニットや、機能液滴吐出ヘッド３１から吐出された機能液滴の重量を測定する重量測定ユニット等を、ヘッド保守装置５に搭載することが好ましい。

図１に示すように、吸引ユニット１０２は、キャップスタンド１０４と、キャップスタンド１０４に支持され、機能液滴吐出ヘッド３１のノズル面４７に密着させる（機能液滴吐出ヘッド３１の配置に対応した１２個の）キャップ１０５と、各キャップ１０５を介して（１２個の）機能液滴吐出ヘッド３１を吸引可能な単一の吸引ポンプ（図示省略）と、各キャップ１０５と吸引ポンプ（図示省略）とを接続する吸引チューブ（図示省略）と、を有している。

吸引ユニット１０２は機能液の吸引を行い、機能液滴吐出ヘッド３１の目詰まりを解消／防止するために行われる他、描画装置１を新設した場合や、機能液滴吐出ヘッド３１のヘッド交換場合などに、機能液タンク６１から機能液滴吐出ヘッド３１に至る機能液流路（図示省略）に機能液を充填するために行われる。
また、吸引ユニット１０２は、描画装置１の非稼動時に、機能液滴吐出ヘッド３１を保管するためにも用いられる。この場合、保守エリア２８にヘッドユニット１５を臨ませ、機能液滴吐出ヘッド３１のノズル面４７にキャップ１０５を密着させる。これにより、ノズル面４７が封止され、機能液滴吐出ヘッド３１（吐出ノズル４６）の乾燥を防いで、吐出ノズル４６のノズル詰まりを防止できるようになっている。

ワイピングユニット１０３は、装置ベース１１２と、装置ベース１１２上に立設され、主構成装置を支持するテーブル様の装置フレーム（図示省略）と、装置フレーム（図示省略）と左右（Ｙ軸方向）に並んで装置ベース１１２上に立設され、後述する洗浄液噴霧ユニット（図示省略）を支持するユニットスタンド１１４と、を備えている。装置フレーム（図示省略）には、その内側に位置して、ワイピングシート１１１を供給するシート供給ユニット（図示省略）が支持され、その上側に位置してワイピングシート１１１を介して機能液滴吐出ヘッド３１のノズル面４７を払拭する拭取りユニット（図示省略）が支持されている。ユニットスタンド１１４には、洗浄液の噴霧ヘッド（図示省略）を有し、ノズル面４７を払拭する前のワイピングシート１１１に洗浄液を噴霧・塗着させる洗浄液噴霧ユニット（図示省略）が支持されている。

ワイピングユニット１０３は、機能液滴吐出ヘッド３１の吸引（クリーニング）等により機能液が付着して汚れた各機能液滴吐出ヘッド３１のノズル面４７を、洗浄液を含浸させたワイピングシート１１１により、拭き取る（ワイピングする）ようになっている。

一方、詳細は後述するが、ノズル洗浄ユニット２０１は、機能液滴吐出ヘッド３１のノズル面４７に付着した機能液の固着物を、洗浄液槽２０２の洗浄液で溶解し、払拭部材２０３で擦りながら、クリーニングするものである。このノズル洗浄ユニット２０１によるノズル洗浄動作は、主として上記の吸引ユニット１０２による吸引動作の後、ワイピングユニット１０３によるワイピング動作の前に行われる（図５および図６参照）。

次に、図７を参照しながら描画装置１の主制御系について説明する。描画装置１は、液滴吐出装置３を有する液滴吐出部３０１と、ヘッド保守装置５を有するヘッド保守部３０２と、液滴吐出装置３やヘッド保守装置５の各種センサを有し、各種検出を行う検出部３０３と、各部を駆動する駆動部３０４と、各部に接続され、描画装置１全体の制御を行う制御部３０５（制御装置６）と、を備えている。

制御部３０５には、液滴吐出装置３およびヘッド保守装置５を接続するためのインタフェース３１１、一時的に記憶可能な記憶領域を有し、制御処理のための作業領域として使用されるＲＡＭ３１２、各種記憶領域を有し、制御プログラムや制御データを記憶するＲＯＭ３１３、ワークＷに描画を行うための描画データや、液滴吐出装置３およびヘッド保守装置５からの各種データ等を記憶すると共に、各種データを処理するためのプログラム等を記憶するハードディスク３１４、ＲＯＭ３１３やハードディスク３１４に記憶されたプログラム等に従い、各種データを演算処理するＣＰＵ３１５、これらを互いに接続するバス３１６、が備えられている。

そして、制御部３０５は、液滴吐出装置３、ヘッド保守装置５等からの各種データを、インタフェース３１１を介して入力すると共に、ハードディスク３１４に記憶された（または、ＣＤ−ＲＯＭドライブ等により順次読み出される）プログラムに従ってＣＰＵ３１５に演算処理させ、その処理結果を、インタフェースを介して液滴吐出装置３やヘッド保守装置５等に出力することにより、各手段を制御している。

ここで、図５および図６を参照しながら、ノズル洗浄ユニット（ノズル洗浄装置）について詳細に説明する。図５は、ノズル洗浄ユニットの待機状態を示す構造図であり、図６はノズル洗浄状態の洗浄状態を示す構造図である。両図に示すように、ノズル洗浄ユニット２０１は、機能液滴吐出ヘッド３１のヘッド本体４４が浸漬される洗浄液槽２０２と、洗浄液槽２０２を支持する洗浄液槽支持フレーム２０４と、洗浄液槽２０２を水平方向に振動させる横動アクチュエータ２０５と、洗浄液槽支持フレーム２０４を介して洗浄液槽を上下動（昇降）させる上下動アクチュエータ２０６と、洗浄液槽支持フレーム２０４の上下動をガイドすると共に、上下動アクチュエータ２０６を支持する装置フレーム２０７と、を備えている。

装置フレーム２０７は、方形に形成された装置ベース２１１と、装置ベース２１１の四隅に立設した４本のベースガイド２１２と、を有している。４本のベースガイド２１２は、上下動アクチュエータ２０６により昇降する洗浄液槽支持フレーム２０４をガイドしており、その上端部には、上下動アクチュエータ２０６による洗浄液槽支持フレーム２０４の上動端位置、ひいては洗浄液槽２０２の上動端位置を度当り規制するストッパが、それぞれ設けられている。すなわち、洗浄液槽支持フレーム２０４の上昇に伴って洗浄液槽２０２も上昇し、洗浄液槽支持フレーム２０４が上動端位置に達した状態で、洗浄液槽２０２にヘッド本体４４が浸漬されるようになっている。

上下動アクチュエータ２０６は、縦置きのエアシリンダで構成されており、そのピストンロッド２１７の先端は洗浄液槽支持フレーム２０４に固定されている。上下動アクチュエータ２０６が駆動すると、洗浄液槽支持フレーム２０４を介して、洗浄液槽２０２が上記の上動端位置と下動端位置との間で昇降する。この場合、洗浄液槽２０２が下動端位置にある状態で、機能液滴吐出ヘッド３１の洗浄液槽２０２の直上部への移動が許容され、且つ直上部から他への移動が許容される。また、上動端位置では、上記のように機能液滴吐出ヘッド３１が洗浄液槽２０２に浸漬される。そして、上下動アクチュエータ２０６は制御部３０５により制御される（詳細は後述する）。

支持フレーム２０４は、方形に形成されたフレーム本体と、フレーム本体の中央部に設けられ洗浄液槽２０２を支持する左右一対の支持ばね２１４と、両支持ばね２１４に抗して洗浄液槽２０２を上側から抑える上動端規制枠２１８と、フレーム本体から側方に延設され横動アクチュエータ２０５を支持するサブフレーム部２１５と、を有している。フレームの四隅に上記の４本のベースガイド２１２がスライド自在に係合する４つのガイド孔が形成され、またその中央部に、後述する洗浄液供給チューブ用の円形開口が形成されている。

一対の支持ばね２１４は、それぞれ圧縮コイルばねで構成され、下端部をフレーム本体に立設した一対の保持ピンに案内されるようにして保持されている。各支持ばね２１４の上端部は、洗浄液槽２０２の下面に形成した係止溝に係止され、洗浄液槽２０２を上方に付勢するようにしてこれを直接支持している。上動端規制枠２１８は、内向き屈曲した押え片部２１８ａにより、洗浄液槽を水平面内で位置規制すると共に、両支持ばね２１４に抗して、洗浄液槽２０２の洗浄液槽支持フレーム２０４に対する上動位置を位置規制している。詳細は後述するが、横動アクチュエータ２０５により洗浄液槽２０２を水平方向に振動させると、両支持ばね２１４および上動端規制枠２１８は、洗浄液槽２０２の動きを許容する。また上下動アクチュエータ２０６による洗浄液槽２０２の上昇時に機能液滴吐出ヘッド３１が後述する払拭部材２０３に相対的に突き当たると、その衝撃を両支持ばね２１４が吸収する。

横動アクチュエータ２０５は、複動のエアシリンダで構成されており、そのピストンロッド２１６の先端は洗浄液槽２０２に連結されている。機能液滴吐出ヘッド３１を洗浄液槽２０２に浸漬した状態で、横動アクチュエータ２０５が駆動すると、洗浄液槽２０２が左右方向に振動し、洗浄液槽２０２に敷設した払拭部材２０３が機能液滴吐出ヘッド３１のノズル面に対し、払拭動作する。この場合も、横動アクチュエータ２０５は、上下動アクチュエータ２０６と同様に上記の制御部３０５により制御される（詳細は後述する）。

洗浄液槽２０２は、洗浄液を貯蓄する槽本体２０８と、槽本体２０８の上縁部を外方に延長したフランジ部２０９と、槽本体の底面に敷設した払拭部材２０３と、槽本体２０８に接続した洗浄液供給チューブ２１３と、を有している。フランジ部２０９には上記上動端規制枠２１８の押え片部２１８ａが上側から当接しており、この押え片部２１８ａと両支持ばね２１４とが拮抗することで、洗浄液槽２０２が保持されている。一方、洗浄液供給チューブ２１３の一方の端部は、槽本体２０８の底面に開口した洗浄液供給口（図示省略）に継手を介して接続され、他方の端部は、図外の洗浄液供給装置（図示省略）に接続されており、洗浄液の目減りの際し適宜、洗浄液を補給できるようになっている。なお、払拭部材２０３は、不織布等で構成され、また洗浄液は、機能液あるいはその溶剤で構成されている。溶剤の一例として、ジエチレングリコールモノ-ｎ-ブチルエーテルアセテートがある。

次に、ノズル洗浄ユニット２０１を用いた機能液滴吐出ヘッド３１の洗浄方法について説明する。
図８は機能液滴の着弾位置の精度を測定した結果から機能液吐出口４９を洗浄するための浸漬時間と、払拭部材２０３の振動時間を求める動作手順を示すフローチャートであり、図９は着弾位置測定用パターン（以下、テストパターンともいう）が着弾位置ずれのない目標着弾位置と、実際の機能液滴の着弾位置を比較して説明するための図である。また、図１０は、着弾位置と目標着弾位置とのずれ量を示した図である。

図８のステップＳ１において、図９（ａ）に示すような、機能液吐出口４５１が千鳥状に配列された機能液滴吐出ヘッド４５２を用い、図９（ｃ）のような直線状の目標着弾位置をテストパターンとして、機能液吐出口４５１から機能液滴を吐出する。
尚、テスト用のワークを用いることもできるが、ここでは着弾精度を正確に求めるため求めるためにテストパターンの吐出場所は製造に利用するワークの縁部に設けられた未使用領域を利用している。

次に、ステップＳ２において、図９（ｂ）のような、機能液滴を着弾させて作成したテストパターンをＣＣＤカメラ３２１で読み取り、各ノズルから吐出されたそれぞれの機能液滴の着弾位置を測定する。
ここでは読み取りセンサとしてＣＣＤカメラ３２１で着弾位置を測定したが、ＣＣＤカメラ３２１に限定されず、読み取った光学情報を電子情報に変えるものであれば良い。

次に、ステップＳ３において、図１０に示すように目標着弾位置からのずれ量を各ドット（吐出インク）毎に求める。本実施形態では、ＣＣＤカメラ３２１による取り込みでそれぞれの着弾ドットの重心を求めた結果は、目標着弾位置と各ドット（ドットＮｏ１〜Ｎｏ８）とのずれ量は、夫々、ｘ１，ｘ２，ｘ３，ｘ４，ｘ５，ｘ６，ｘ７，ｘ８となる。ここではｘ２、ｘ６は共に０である。

次に、ステップＳ４において、ステップＳ４で求めたずれ量に応じて機能液吐出口４９の洗浄液へ浸漬時間と払拭部材２０３を振動させるためのモータ駆動時間を求める。本実施例ではずれ量の一番多いｘ１をノズルの汚れ量を示すドットのずれ量とし、図１１はずれ量から浸漬時間を決めるグラフである。また、図１２はずれ量から払拭部材２０３の振動時間を決めるグラフである。それぞれのグラフ情報を関数としてＲＯＭ３１３あるいはハードディスク３１４に保存しておき、制御部３０５がずれ量から浸漬時間を求めている。グラフ情報はずれ量と浸漬時間、ずれ量と振動時間を、それぞれデータベース化してＲＯＭ３１３またはハードディスク３１４に保存してもよい。
また、ここではずれ量の一番多いドットを代表値として採用したが、各ドットのずれ量の平均値を採用してもよい。

ここで一連の機能液吐出口４９の洗浄動作について説明する。図１３はノズル洗浄動作の動作手順を示したフローチャートである。

図１３のステップＳ１１において、ノズルの汚れ状態を検出するために、着弾位置の精度測定を行い、浸漬時間と振動時間を生成する。ここで、具体的数値を使い、浸漬時間を１０秒、振動時間を５秒として説明する。
次に、ステップＳ１２において、制御部３０５からの指示により、上下動アクチュエータ２０６が上方向に動作して機能液吐出口４９を洗浄液に浸漬させ、さらに払拭部材２０３を機能液吐出口４９に接触させる。
次に、ステップＳ１３において、機能液吐出口４９の固着物を溶解させるために１０秒間、洗浄液に機能液吐出口４９を浸漬させる。
次に、ステップＳ１４において、浸漬時間が終了すると、洗浄液槽２０２に機能液吐出口４９を浸漬した状態で、機能液吐出口４９と払拭部材２０３を擦り固着物を取り除くため、横動アクチュエータ２０５が洗浄液槽を横方向に振動させる。振動開始から５秒後に横動アクチュエータ２０５の動作が終了する。
次に、ステップＳ１５において、上下動アクチュエータ２０６を下方向に動作させて機能液吐出口４９の洗浄を終了する。

以上のように、本実施形態のノズル洗浄ユニット２０１では、機能液吐出口４９が洗浄液に浸漬されることにより、機能液滴吐出ヘッド３１の機能液吐出口４９付近の固着物が洗浄液槽２０２の洗浄液により溶解され、洗浄液に浸漬された払拭部材２０３が振動し、ブラッシング作用で払拭部材２０３の繊維が吐出口の内部の固着物を掻き出し洗浄できるので、機能液吐出口４９付近に固くこびりついた固着物を確実に除去できる。
さらに、機能液の着弾制度を測定し、機能液吐出口４９付近の固着物の汚れ量を求め、機能液吐出口４９の洗浄液への浸漬時間を制御することができので、汚れの状態に応じた洗浄作業を効率良く行うことができ、ノズルを常に良好な状態に保つことができる。

次にノズル洗浄ユニットの第２実施形態について説明する。この実施形態のノズル洗浄装置は、第１実施形態のノズル洗浄ユニットの構成と略同様であるため、ここでは異なる部分のみ説明する。図１４はノズル洗浄装置の待機状態を示す構成図であり、図１５はノズル洗浄装置の洗浄状態を示す構成図である。

両図に示すように、ノズル洗浄ユニット２０１は、機能液滴吐出ヘッド３１のヘッド本体４４が浸漬される洗浄液槽４０２と、洗浄液槽４０２を支持する洗浄液槽支持フレーム４０４と、洗浄液槽４０２を水平方向に振動させる横動アクチュエータ４０５と、洗浄液槽支持フレーム４０４を介して洗浄液槽４０２を上下動（昇降）させる上下動アクチュエータ４０６と、洗浄液槽支持フレーム４０４の上下動をガイドすると共に、上下動アクチュエータ４０６を支持する装置フレーム４０７と、を備えている。

洗浄液槽４０２は、洗浄液を貯蓄する槽本体４０８と、槽本体４０８の上縁部を外方に延長したフランジ部４０９と、槽本体４０８の洗浄液の中に填る払拭部材フレーム４１５と、払拭部材４０３を洗浄液に浸すために払拭部材支持フレーム４１７の底面に敷設した払拭部材４０３と、槽本体４０８に接続した洗浄液供給チューブ４１３と、を有している。払拭部材支持フレーム４１７は上縁部を外方に延長した横動フランジ部４１８があり、横動アクチュエータ４０５のピストンロッド４１６の先端に連結されている。

次に、第２実施形態の一連のノズル洗浄ユニット４０１を用いた機能液滴吐出ヘッド３１の洗浄方法について説明する。図１６はノズル洗浄動作の動作手順を示したフローチャートである。

図１６のステップＳ２１において、ノズルの汚れ状態を検出するために、着弾位置の精度測定を行い、浸漬時間と振動時間を生成する。ここで、具体的数値を使い、浸漬時間を１０秒、振動時間を５秒として説明する。
次に、ステップＳ２２において、制御部３０５からの指示により、上下動アクチュエータ４０６が上方向に動作して機能液吐出口４９を洗浄液に浸漬させ、さらに払拭部材４０３を機能液吐出口４９に接触させる。
次に、ステップＳ２３において、機能液吐出口４９の固着物を溶解させるために１０秒間、洗浄液に機能液吐出口４９を浸漬させる。
次に、ステップＳ２４において、浸漬時間が終了すると、洗浄液槽４０２に機能液吐出口４９を浸漬した状態で、機能液吐出口４９と払拭部材４０３を擦り固着物を取り除くため、横動アクチュエータ４０５が払拭部材支持フレーム４１７を横方向に振動させる。振動開始から５秒後に横動アクチュエータ４０５の動作が終了する。
次に、ステップＳ２５において、上下動アクチュエータ４０６を下方向に動作させて機能液吐出口４９の洗浄を終了する。

以上のように、本第２実施形態のノズル洗浄装置では、払拭部材２０３と洗浄液槽４０２は独立し固定されていないため、洗浄液槽４０２を振動させるのではなく払拭部材支持フレーム４１７を振動させて、機能液吐出口４９と払拭部材４０３を擦り固着物を取り除くことができる。

次に、本実施形態の描画装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、更にこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板を言う。

先ず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図１７は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図１８は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ６００（フィルタ基体６００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図１８（ａ）に示すように、基板（Ｗ）６０１上にブラックマトリクス６０２を形成する。ブラックマトリクス６０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。

続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス６０２上に重畳する状態でバンク６０３を形成する。即ち、まず図１８（ｂ）に示すように、基板６０１及びブラックマトリクス６０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層６０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム６０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図１８（ｃ）に示すように、レジスト層６０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層６０４をパターニングして、バンク６０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク６０３とその下のブラックマトリクス６０２は、各画素領域６０７ａを区画する区画壁部６０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド３１により着色層（成膜部）６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。

以上のブラックマトリクス形成工程及びバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体６００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク６０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）６０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク６０３（区画壁部６０７ｂ）に囲まれた各画素領域６０７ａ内への液滴の着弾位置精度が向上する。

次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図１８（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド３１によって機能液滴を吐出して区画壁部６０７ｂで囲まれた各画素領域６０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド３１を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。

その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する。着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図１８（ｅ）に示すように、基板６０１、区画壁部６０７ｂ、および着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂの上面を覆うように保護膜６０９を形成する。
即ち、基板６０１の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜６０９が形成される。
そして、保護膜６０９を形成した後、カラーフィルタ６００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。

図１９は、上記のカラーフィルタ６００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置６２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ６００は図１８に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。

この液晶装置６２０は、カラーフィルタ６００、ガラス基板等からなる対向基板６２１、及び、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層６２２により概略構成されており、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板６２１およびカラーフィルタ６００の外面（液晶層６２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板６２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。

カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層側）には、図１９において左右方向に長尺な短冊状の第１電極６２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６２３のカラーフィルタ６００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜６２４が形成されている。
一方、対向基板６２１におけるカラーフィルタ６００と対向する面には、カラーフィルタ６００の第１電極６２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極６２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極６２６の液晶層６２２側の面を覆うように第２配向膜６２７が形成されている。これらの第１電極６２３および第２電極６２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。

液晶層６２２内に設けられたスペーサ６２８は、液晶層６２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材６２９は液晶層６２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極６２３の一端部は引き回し配線６２３ａとしてシール材６２９の外側まで延在している。そして、第１電極６２３と第２電極６２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。

通常の製造工程では、カラーフィルタ６００に、第１電極６２３のパターニングおよび第１配向膜６２４の塗布を行ってカラーフィルタ６００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板６２１に、第２電極６２６のパターニングおよび第２配向膜６２７の塗布を行って対向基板６２１側の部分を作成する。その後、対向基板６２１側の部分にスペーサ６２８およびシール材６２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材６２９の注入口から液晶層６２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。

実施形態の描画装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板６２１側の部分にカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる前に、シール材６２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材６２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド３１で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜６２４，６２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド３１で行うことも可能である。

図２０は、本実施形態において製造したカラーフィルタ６００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置６３０が上記液晶装置６２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ６００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置６３０は、カラーフィルタ６００とガラス基板等からなる対向基板６３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層６３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板６３１およびカラーフィルタ６００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。

カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層６３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極６３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６３３の液晶層６３２側の面を覆うように第１配向膜６３４が形成されている。
対向基板６３１のカラーフィルタ６００と対向する面上には、カラーフィルタ６００側の第１電極６３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極６３６が所定の間隔で形成され、この第２電極６３６の液晶層６３２側の面を覆うように第２配向膜６３７が形成されている。

液晶層６３２には、この液晶層６３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ６３８と、液晶層６３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材６３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置６２０と同様に、第１電極６３３と第２電極６３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。

図２１は、本発明を適用したカラーフィルタ６００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置したものである。

この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００と、これに対向するように配置された対向基板６５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ６００の上面側（観測者側）に配置された偏光板６５５と、対向基板６５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ６００の保護膜６０９の表面（対向基板６５１側の面）には液晶駆動用の電極６５６が形成されている。この電極６５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極６６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極６５６の画素電極６６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜６５７が設けられている。

対向基板６５１のカラーフィルタ６００と対向する面には絶縁層６５８が形成されており、この絶縁層６５８上には、走査線６６１及び信号線６６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた領域内には画素電極６６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極６６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。

また、画素電極６６０の切欠部と走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ６６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線６６１と信号線６６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ６６３をオン・オフして画素電極６６０への通電制御を行うことができるように構成されている。

なお、上記の各例の液晶装置６２０，６３０，６５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。

次に、図２２は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置７００と称する）の要部断面図である。

この表示装置７００は、基板（Ｗ）７０１上に、回路素子部７０２、発光素子部７０３及び陰極７０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置７００においては、発光素子部７０３から基板７０１側に発した光が、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部７０３から基板７０１の反対側に発した光が陰極７０４により反射された後、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。

回路素子部７０２と基板７０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜７０６が形成され、この下地保護膜７０６上（発光素子部７０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜７０７が形成されている。この半導体膜７０７の左右の領域には、ソース領域７０７ａ及びドレイン領域７０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域７０７ｃとなっている。

また、回路素子部７０２には、下地保護膜７０６及び半導体膜７０７を覆う透明なゲート絶縁膜７０８が形成され、このゲート絶縁膜７０８上の半導体膜７０７のチャネル領域７０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極７０９が形成されている。このゲート電極７０９及びゲート絶縁膜７０８上には、透明な第１層間絶縁膜７１１ａと第２層間絶縁膜７１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜７１１ａ、７１１ｂを貫通して、半導体膜７０７のソース領域７０７ａ、ドレイン領域７０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール７１２ａ，７１２ｂが形成されている。

そして、第２層間絶縁膜７１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極７１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極７１３は、コンタクトホール７１２ａを通じてソース領域７０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜７１１ａ上には電源線７１４が配設されており、この電源線７１４は、コンタクトホール７１２ｂを通じてドレイン領域７０７ｂに接続されている。

このように、回路素子部７０２には、各画素電極７１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ７１５がそれぞれ形成されている。

上記発光素子部７０３は、複数の画素電極７１３上の各々に積層された機能層７１７と、各画素電極７１３及び機能層７１７の間に備えられて各機能層７１７を区画するバンク部７１８とにより概略構成されている。
これら画素電極７１３、機能層７１７、及び、機能層７１７上に配設された陰極７０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極７１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極７１３の間にバンク部７１８が形成されている。

バンク部７１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層７１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層７１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層７１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部７１８の一部は、画素電極７１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部７１８の間には、画素電極７１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部７１９が形成されている。

上記機能層７１７は、開口部７１９内において画素電極７１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層７１７ａと、この正孔注入／輸送層７１７ａ上に形成された発光層７１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層７１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。
正孔注入／輸送層７１７ａは、画素電極７１３側から正孔を輸送して発光層７１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層７１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。

発光層７１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、又は青色（Ｂ）の何れかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層７１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層７１７ａを再溶解させることなく発光層７１７ｂを形成することができる。

そして、発光層７１７ｂでは、正孔注入／輸送層７１７ａから注入された正孔と、陰極７０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。

陰極７０４は、発光素子部７０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極７１３と対になって機能層７１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極７０４の上部には図示しない封止部材が配置される。

次に、上記の表示装置７００の製造工程を図２３〜図３１を参照して説明する。
この表示装置７００は、図２３に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、及び対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。

まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図２４に示すように、第２層間絶縁膜７１１ｂ上に無機物バンク層７１８ａを形成する。この無機物バンク層７１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層７１８ａの一部は画素電極７１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層７１８ａを形成したならば、図２５に示すように、無機物バンク層７１８ａ上に有機物バンク層７１８ｂを形成する。この有機物バンク層７１８ｂも無機物バンク層７１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部７１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部７１８間には、画素電極７１３に対して上方に開口した開口部７１９が形成される。この開口部７１９は、画素領域を規定する。

表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層７１８ａの第１積層部７１８ａａ及び画素電極７１３の電極面７１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極７１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層７１８ｂの壁面７１８ｓ及び有機物バンク層７１８ｂの上面７１８ｔに施され、例えば４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド３１を用いて機能層７１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部７１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。

そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体７００Ａが得られる。この表示装置基体７００Ａは、図１に示した描画装置１のセットテーブル２４に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）及び発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。

図２６に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド３１から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部７１９内に吐出する。その後、図２７に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面７１３ａ）７１３上に正孔注入／輸送層７１７ａを形成する。

次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層７１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層７１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層７１７ａと発光層７１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層７１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層７１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層７１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層７１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａに均一に塗布することができる。
そして次に、図２８に示すように、各色のうちの何れか（図２８の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部７１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層７１７ａ上に広がって開口部７１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部７１８の上面７１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面７１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部７１９内に転がり込み易くなっている。

その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図２９に示すように、正孔注入／輸送層７１７ａ上に発光層７１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂが形成されている。

同様に、機能液滴吐出ヘッド３１を用い、図３０に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ））に対応する発光層７１７ｂを形成する。なお、発光層７１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。

以上のようにして、画素電極７１３上に機能層７１７、即ち、正孔注入／輸送層７１７ａ及び発光層７１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。

対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図３１に示すように、発光層７１７ｂ及び有機物バンク層７１８ｂの全面に陰極７０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極７０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極７０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。

このようにして陰極７０４を形成した後、この陰極７０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置７００が得られる。

次に、図３２は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置８００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、及びこれらの間に形成される放電表示部８０３を含んで概略構成される。放電表示部８０３は、複数の放電室８０５により構成されている。これらの複数の放電室８０５のうち、赤色放電室８０５Ｒ、緑色放電室８０５Ｇ、青色放電室８０５Ｂの３つの放電室８０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。

第１基板８０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極８０６が形成され、このアドレス電極８０６と第１基板８０１の上面とを覆うように誘電体層８０７が形成されている。誘電体層８０７上には、各アドレス電極８０６の間に位置し、且つ各アドレス電極８０６に沿うように隔壁８０８が立設されている。この隔壁８０８は、図示するようにアドレス電極８０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極８０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁８０８によって仕切られた領域が放電室８０５となっている。

放電室８０５内には蛍光体８０９が配置されている。蛍光体８０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室８０５Ｒの底部には赤色蛍光体８０９Ｒが、緑色放電室８０５Ｇの底部には緑色蛍光体８０９Ｇが、青色放電室８０５Ｂの底部には青色蛍光体８０９Ｂが各々配置されている。

第２基板８０２の図中下側の面には、上記アドレス電極８０６と直交する方向に複数の表示電極８１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層８１２、及びＭｇＯなどからなる保護膜８１３が形成されている。
第１基板８０１と第２基板８０２とは、アドレス電極８０６と表示電極８１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極８０６と表示電極８１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極８０６，８１１に通電することにより、放電表示部８０３において蛍光体８０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。

本実施形態においては、上記アドレス電極８０６、表示電極８１１、及び蛍光体８０９を、図１に示した描画装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板８０１におけるアドレス電極８０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板８０１を描画装置１のセットテーブル２４に載置された状態で以下の工程が行われる。

まず、機能液滴吐出ヘッド３１により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。

補充対象となる全てのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極８０６が形成される。

ところで、上記においてはアドレス電極８０６の形成を例示したが、上記表示電極８１１及び蛍光体８０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極８１１の形成の場合、アドレス電極８０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体８０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド３１から液滴として吐出し、対応する色の放電室８０５内に着弾させる。

次に、図３３は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置９００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置９００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置９００は、互いに対向して配置された第１基板９０１、第２基板９０２、及びこれらの間に形成される電界放出表示部９０３を含んで概略構成される。電界放出表示部９０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部９０５により構成されている。

第１基板９０１の上面には、カソード電極９０６を構成する第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ９０８を形成した導電性膜９０７が形成されている。すなわち、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７により複数の電子放出部９０５が構成されている。導電性膜９０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ９０８は、導電性膜９０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。

第２基板９０２の下面には、カソード電極９０６に対峙するアノード電極９０９が形成されている。アノード電極９０９の下面には、格子状のバンク部９１１が形成され、このバンク部９１１で囲まれた下向きの各開口部９１２に、電子放出部９０５に対応するように蛍光体９１３が配置されている。蛍光体９１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、各開口部９１２には、赤色蛍光体９１３Ｒ、緑色蛍光体９１３Ｇおよび青色蛍光体９１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。

そして、このように構成した第１基板９０１と第２基板９０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置９００では、導電性膜（ギャップ９０８）９０７を介して、陰極である第１素子電極９０６ａまたは第２素子電極９０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極９０９に形成した蛍光体９１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。

この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂ、導電性膜９０７およびアノード電極９０９を、描画装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体９１３Ｒ，９１３Ｇ，９１３Ｂを、描画装置１を用いて形成することができる。

第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７は、図３４（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図３４（ｂ）に示すように、予め第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂを形成（描画装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜９０７を形成（描画装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜９０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板９０１および第２基板９０２に対する親液化処理や、バンク部９１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。

また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した描画装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。

本発明の実施形態に係る描画装置の平面模式図である。 本発明の実施形態に係る描画装置の正面模式図である。 支持フレーム廻りの平面模式図である。 機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。 ノズル洗浄ユニットの待機状態の構造図である。 ノズル洗浄ユニットの洗浄状態の構造図である。 描画装置の主制御系について説明したブロック図である。 浸漬時間と振動時間を求める動作手順を説明するフローチャートである。 着弾位置測定用パターンの説明図であり、（ａ）は、機能液吐出ヘッドを示した図であり、（ｂ）は、機能液の着弾位置を示した図であり、（ｃ）は、目標着弾位置を示した図である。 着弾位置と目標着弾位置とのずれ量を示した図である。 ずれ量から浸漬時間を決めるグラフ図である。 ずれ量から払拭部材の振動時間を決めるグラフ図である。 ノズル洗浄動作の動作手順を説明するフローチャートである。 第２実施形態のノズル洗浄ユニットの待機状態の構造図である。 第２実施形態のノズル洗浄ユニットの洗浄状態の構造図である。 第２実施形態のノズル洗浄動作の動作手順を説明するフローチャートである。 カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。 （ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。 本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。 本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。 本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。 有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。 有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。 無機物バンク層の形成を説明する工程図である。 有機物バンク層の形成を説明する工程図である。 正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。 正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。 青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。 青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。 各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。 陰極の形成を説明する工程図である。 プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。 電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。 表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。

符号の説明

１…描画装置 ３…液滴吐出装置 ６…制御装置 ２８…保守エリア ３１…機能液滴吐出ヘッド ４７…ノズル面 ２０１…ノズル洗浄ユニット ２０２…洗浄液槽 ２０３…払拭部材 ２０５…横動アクチュエータ ２０６…上下動アクチュエータ ２１４…支持ばね ４０１…ノズル洗浄ユニット ４０２…洗浄液槽 ４０３…払拭部材 ４０５…横動アクチュエータ ４０６…上下動アクチュエータ ４１４…支持ばね ３１５…ＣＰＵ ３２１…ＣＣＤカメラ

Claims (10)

1. 機能液を吐出する機能液滴吐出ヘッドのノズル面に形成された機能液吐出口を洗浄するノズル洗浄装置であって、
   前記機能液吐出口に付着した固着物を溶解するための洗浄液を満たす洗浄液槽と、
   前記機能液滴吐出ヘッドと前記洗浄液槽の少なくとも一方を昇降させて前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面を前記洗浄液に浸漬させる洗浄液槽昇降手段と、
   前記洗浄液槽の洗浄液に浸漬された前記機能液吐出口に接触し、前記機能液吐出口の固着物を除去する払拭部材と、を備えたことを特徴とするノズル洗浄装置。
2. 前記ノズル面に対し前記払拭部材を水平方向に振動させる払拭部材振動手段を、更に備えたことを特徴とする請求項１に記載のノズル洗浄装置。
3. 前記払拭部材は前記洗浄液槽に固定されており、
   前記払拭部振動手段は、前記洗浄液槽を介して前記払拭部材を振動させることを特徴とする請求項２に記載のノズル洗浄装置。
4. 前記洗浄液槽を支持する支持部材を、更に備え、
   前記支持部材は弾性部材で構成されていることを特徴とする請求項３に記載のノズル洗浄装置。
5. 前記洗浄液は、機能液または機能液の溶剤であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載のノズル洗浄装置。
6. 機能液の着弾精度を測定する着弾精度測定手段と、
   前記着弾制度測定手段が生成した着弾精度情報から前記機能液吐出口の汚れ量を求め機能液吐出口の浸漬時間情報を生成する浸漬時間生成手段と、
   前記浸漬時間情報に基づいて、前記洗浄液槽昇降手段を制御して洗浄液槽を昇降させる制御手段と、を更に備えたことを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載のノズル洗浄装置。
7. 請求項１ないし６のいずれかに記載のノズル洗浄装置と、
   前記機能液滴吐出ヘッドを有し、ワークに対して機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら当該機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動することにより前記ワークに機能液による描画を行う描画手段と、を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
8. 請求項７に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液による生成膜を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
9. 請求項７に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワークに機能液による生成膜を形成することを特徴とする電気光学装置。
10. 請求項８に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置、または請求項９に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。

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