JP2006269806A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 プラズマ処理装置1において、処理室3内のプラズマ密度が局所的に高い部位にプラズマを失活させる衝立部材11を配設し、被処理基板Gに対するプラズマエッチングレートを均一化したことを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
添付した図1に示すように、本発明のプラズマ処理装置1は、導電性の気密に保持された処理容器2(処理容器の内側寸法で、巾方向:2,890mm、長手方向:3,100mm、高さ600mm)からなり、この処理容器2内に処理室3が形成されている。そして、この処理室3内には、ゲートバルブ14から搬入・搬出されるガラス基板等の平面視矩形形状の被処理基板G(例えば、外形1,870mm×2,200mmのガラス基板)を載置する載置台を兼ねた導電性の下部電極4が配設されている。この下部電極4は、13.56MHz用整合回路7と3.2MHz用整合回路8を介して13.56MHzの高周波電源部と3.2MHzの高周波電源部とにそれぞれ接続されている。さらに、下部電極4の基板載置面に対向する位置には、上部電極5が下部電極4と平行に配設され、インピーダンス調整回路9,10(13.56MHz用のインピーダンス調整回路9と、3.2MHz用のインピーダンス調整回路10)に接続されている。なお、その他の構成は、従来の平行平板型プラズマエッチング装置とほぼ同じ構成である。
そこで、本発明のプラズマ処理装置1では、処理室3内のプラズマ密度(エッチングレート)が高い所にプラズマとの接触面積を出来るだけ大きくした衝立部材11(11a,11b,11c,11d)を配設して(あるいは処理容器2の内壁面2aに凸状部を一体に形成して)処理室3内のプラズマを均一化する。
本発明のプラズマ処理装置では、処理室内のプラズマ密度が局所的に高いために、局所的にエッチングレートが高くなるような部位に、選択的に衝立部材を挿入してプラズマと接触させ失活させプラズマ密度を均一化し、エッチングレートの均一性を向上させることができる。
まず、図4(衝立部材のプラズマ均一化効果)に示すように、本発明のプラズマ処理装置のように、衝立部材を処理室内に被処理基板に近接して設けたものと、従来装置のように衝立部材を設けないものとのプラズマの電子密度の差をPAP(Plasma Absorption Probe)により測定した。
(a)被処理基板長辺に対向する位置に衝立部材を配置した場合
図2に示す被処理基板Gの長辺aに対向する位置に衝立部材11を配置することにより、衝立部材無しの従来のものと、衝立部材によるエッチングレートの減少、すなわちプラズマの均一性を比較した。
次に、図2にハッチングで示す三角形状の衝立部材を処理室の四隅コーナーに配置することにより、衝立部材無しの従来のものと比較してのエッチングデプスの減少すなわち衝立部材によるエッチングレート(プラズマ)の均一性の比較をした。
2 処理容器
3 処理室
4 下部電極
5 上部電極
11(11a〜11d) 衝立部材
13 バッフル板
14 ゲートバルブ
15 プローブ
16 ネットワークアナライザー
17 絶縁管
G 被処理基板(ガラス基板)
Claims (9)
- プラズマ処理装置において、処理室内のプラズマ密度が局所的に高い部位にプラズマを失活させる衝立部材を配設し、被処理基板に対するプラズマあるいはエッチングレートを均一化したことを特徴とするプラズマ処理装置。
- 前記衝立部材が、前記処理室の内壁面と前記被処理基板との間に前記被処理基板に近接して配置されることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記衝立部材が、平面視矩形状であって、箱形中空矩形断面あるいは箱形中実矩形断面を有することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記衝立部材が、直立した板状体であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記衝立部材が、平面視矩形状の板状体であって、前記処理室の内壁面と前記被処理基板に近接してプラズマ照射方向に対して斜めに配置されていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記衝立部材が、平面視矩形状であって、L字状断面を有し、かつ前記処理室の内壁面に取り付けられていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記衝立部材が、平面視三角形状あるいは板状体であって、前記処理室の四隅に配置されていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記衝立部材が、前記処理室内でのプロセス条件に応じて選択的に配置あるいは作動可能に配置されていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記衝立部材が、被処理基板の前記処理室への搬入・搬出時には該基板搬入・搬出に干渉せず、被処理基板の処理時のみに前記処理室内に現出することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
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