JP2006268949A - Laminate for hdd suspension - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminate for an HDD suspension which has sufficient low moisture absorption and wherein dimensional change due to humidity environmental change can be prevented and etching work can be efficiently and reliably carried out by an alkali aqueous solution, in the laminate for the HDD suspension holding heat resistance and dimensional stability by thermal treatment which used to be required. <P>SOLUTION: The laminate for the HDD suspension provided with a stainless steel foil, at least one polyimide based resin layer and a conductor layer is characterized in that at least the one polyimide based resin layer contains a polyimide resin as a main component obtained by reacting a diamino compound containing 20 to 80 mol% 4-aminophenyl-4'-aminobenzoate and a tetracarboxylic dianhydride with each other. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、HDDサスペンションに用いられる積層体に関する。   The present invention relates to a laminate used for an HDD suspension.

従来、HDD(ハードディスクドライブ)サスペンションはステンレス箔をエッチング加工して製造されており、そのサスペンションの先端部に薄膜ヘッド等の磁気ヘッドを搭載させた後に金線でワイアボンディングして実装されていた。しかしながら、近年では、HDDサスペンションの小型化、高密度化、高容量化等が活発に検討され、それにつれて磁気ヘッドが直接搭載されるスライダの低浮上化が必須の課題になってきていた。このような課題に対して、従来の金線ワイアボンディング方式のHDDサスペンションにおいては、金線の空気抵抗や剛性等による影響がスライダの低浮上化の障害となっていた。また、このような金線によるワイアボンディング方式のHDDサスペンションの製造方法においては、磁気ヘッドへの金線接続工程の自動化が困難であるという問題もあった。   Conventionally, HDD (hard disk drive) suspensions are manufactured by etching stainless steel foil, and a magnetic head such as a thin film head is mounted on the tip of the suspension and then mounted by wire bonding with a gold wire. However, in recent years, HDD suspensions have been actively studied to reduce the size, increase the density, increase the capacity, and the like, and accordingly, it has become an indispensable problem to lower the flying height of the slider on which the magnetic head is directly mounted. In response to such problems, in the conventional gold wire wire bonding type HDD suspension, the influence of the air resistance, rigidity, etc. of the gold wire has been an obstacle to lowering the slider. In addition, such a wire bonding type HDD suspension manufacturing method using a gold wire has a problem that it is difficult to automate the gold wire connecting process to the magnetic head.

このような金線ワイアボンディング方式による問題の解決方法として、特開昭60−246015号公報(特許文献1)においては、ステンレス箔上に直接絶縁体であるポリイミド樹脂をパターン形成し、更にその上に銅による回路形成を行ってサスペンション上に直接上記金線に替わる信号線を形成する方法が提案されている。このように信号線が直接形成されたいわゆる配線一体型サスペンションでは、信号線の空気抵抗や剛性によるスライダ低浮上化への障害という問題は発生せず、また、磁気ヘッド接続工程の自動化も可能となる。一方、特開平5−131604号公報(特許文献2)においては、薄いシート状金属にポリイミドを積層する方法が開示されている。しかしながら、特許文献2に記載の方法においては、用いるポリイミドの熱膨張に関してなんら関心が払われておらず、具体的に開示されたポリイミドの熱膨張係数も高いことから、得られた積層体の一方の金属をエッチング除去した際に反りが発生し易いという問題があった。また、特許文献2に記載の方法で薄いシート状金属にポリイミドの積層を行うとシート状金属とポリイミド層間の接着力にばらつきが生じ易い上、耐熱性等にも問題が生じるため、得られる積層体をHDDサスペンションに適用することには難点があった。   As a method for solving the problem by such a gold wire wire bonding method, in Japanese Patent Laid-Open No. 60-246015 (Patent Document 1), a polyimide resin which is an insulator is directly formed on a stainless steel foil, and further, A method of forming a signal line instead of the gold wire directly on the suspension by forming a circuit with copper has been proposed. In the so-called wiring-integrated suspension in which the signal lines are directly formed in this way, there is no problem that the slider has a low flying height due to the air resistance and rigidity of the signal lines, and the magnetic head connection process can be automated. Become. On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-131604 (Patent Document 2) discloses a method of laminating polyimide on a thin sheet metal. However, in the method described in Patent Document 2, no attention has been paid to the thermal expansion of the polyimide to be used, and the thermal expansion coefficient of the specifically disclosed polyimide is also high. There is a problem that warpage is likely to occur when the metal is etched away. In addition, when a polyimide is laminated on a thin sheet metal by the method described in Patent Document 2, the adhesive force between the sheet metal and the polyimide layer tends to vary, and problems such as heat resistance also occur. There were difficulties in applying the body to the HDD suspension.

また、このような問題点を解決するために、国際公開第98/08216号パンフレット(特許文献3)においては、ステンレス基体上にポリイミド系樹脂層及び導体層が逐次に形成されてなる積層体において、ポリイミド系樹脂層の線膨張係数が所定の範囲にあるHDDサスペンション用積層体が開示されている。このような特許文献3に記載のHDDサスペンション用積層体は、エッチング処理の際に反りが少ない配線一体型HDDサスペンションであった。しかしながら、このような特許文献3に記載のHDDサスペンション用積層体においては、湿度環境変化に関する寸法安定性に関しては関心が払われておらず、得られたフレキシブルプリント基板のポリイミド系樹脂層の吸湿率が大きい場合には線湿度膨張係数が大きくなるため、熱的変化に対する寸法安定性が優れるとしても湿度環境の変化により寸法安定性が損なわれるという問題があった。   Moreover, in order to solve such a problem, in the international publication 98/08216 pamphlet (patent document 3), in the laminated body by which a polyimide-type resin layer and a conductor layer are sequentially formed on a stainless steel base | substrate. An HDD suspension laminate in which the linear expansion coefficient of the polyimide resin layer is in a predetermined range is disclosed. Such a laminate for an HDD suspension described in Patent Document 3 is a wiring-integrated HDD suspension with less warpage during the etching process. However, in such a laminate for HDD suspension described in Patent Document 3, attention is not paid to the dimensional stability with respect to changes in the humidity environment, and the moisture absorption rate of the polyimide resin layer of the obtained flexible printed circuit board. When the value is large, the coefficient of linear humidity expansion becomes large. Therefore, even if the dimensional stability against a thermal change is excellent, there is a problem that the dimensional stability is impaired due to a change in the humidity environment.

また、国際公開第01/028767号パンフレット(特許文献4)においては、ポリイミド系樹脂層の少なくとも1層が、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニルを20モル%以上含有するジアミノ化合物をテトラカルボン酸化合物と反応させて得られ、線湿度膨張係数が20×10−6/%RH以下である低湿度膨張性ポリイミド系樹脂層を有する積層体が開示されている。しかしながら、このようなポリイミド系樹脂からなる積層体の加工では、紫外線レーザ加工法やプラズマ加工法によるドライエッチング法が用いられ、これら加工装置は高価な上、使用するガス代等ランニングコストが高く、且つ量産性が悪いといった問題があった。 In addition, in International Publication No. 01/028767 pamphlet (Patent Document 4), at least one of the polyimide resin layers contains 20 mol% or more of 4,4′-diamino-2,2′-dimethylbiphenyl. A laminate having a low humidity expansion polyimide resin layer obtained by reacting a compound with a tetracarboxylic acid compound and having a linear humidity expansion coefficient of 20 × 10 −6 /% RH or less is disclosed. However, in the processing of a laminate made of such a polyimide resin, a dry etching method using an ultraviolet laser processing method or a plasma processing method is used, and these processing apparatuses are expensive and have a high running cost such as a gas cost to be used. In addition, there was a problem that the mass productivity was poor.

このような問題を解決する手法として、特開2002−245609号公報(特許文献5)においては、ステンレス基体上に絶縁樹脂層及び金属箔層が順次積層された積層体であって、絶縁樹脂層が複数層のポリイミド系樹脂層からなり、絶縁樹脂層を構成するすべての層が、80℃、50wt%水酸化カリウム水溶液によるエッチング速度の平均値が0.5μm/min以上であり、且つ、絶縁樹脂層のステンレス基体及び金属箔層と接する層がガラス転移温度300℃以下のポリイミド系樹脂層(B)である積層体を加工して得られるHDD用サスペンションが開示されている。しかしながら、このような特許文献5に記載の積層体においても、湿度環境の変化に対する寸法変化という点では未だ十分なものではなく、吸湿率がより低いHDDサスペンション用積層体が望まれている。
特開昭60−246015号公報 特開平5−131604号公報 国際公開第98/08216号パンフレット 国際公開第01/028767号パンフレット 特開2002−245609号公報
As a technique for solving such a problem, Japanese Patent Laid-Open No. 2002-245609 (Patent Document 5) is a laminate in which an insulating resin layer and a metal foil layer are sequentially laminated on a stainless steel base, and the insulating resin layer Consists of a plurality of polyimide resin layers, and all the layers constituting the insulating resin layer have an average etching rate of 0.5 μm / min or more by 80 ° C. and 50 wt% potassium hydroxide aqueous solution, and are insulated. There is disclosed a suspension for HDD obtained by processing a laminate in which a layer in contact with a stainless steel substrate and a metal foil layer of a resin layer is a polyimide resin layer (B) having a glass transition temperature of 300 ° C. or lower. However, even the laminate described in Patent Document 5 is not yet sufficient in terms of dimensional changes with respect to changes in the humidity environment, and a HDD suspension laminate having a lower moisture absorption rate is desired.
JP 60-246015 A JP-A-5-131604 International Publication No. 98/08216 Pamphlet International Publication No. 01/028767 Pamphlet Japanese Patent Laid-Open No. 2002-245609

本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、従来から要求されてきた耐熱性及び熱処理による寸法安定性を保持したHDDサスペンション用積層体であって、吸湿率が十分に低く、湿度環境変化による寸法変化を十分に防止できるとともに、アルカリ水溶液によって効率よく且つ確実にエッチング加工をすることが可能なHDDサスペンション用積層体を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and is a laminate for an HDD suspension that retains heat resistance and dimensional stability by heat treatment, which have been conventionally required, and has a sufficient moisture absorption rate. An object of the present invention is to provide a laminate for an HDD suspension that is low, can sufficiently prevent a dimensional change due to a change in humidity environment, and can be etched efficiently and reliably with an alkaline aqueous solution.

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、ステンレス箔と少なくとも1層のポリイミド系樹脂層と導体層とを備えるHDDサスペンション用積層体において、前記ポリイミド系樹脂層のうちの少なくとも1層に4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエートを20モル%〜80モル%含有するジアミノ化合物をテトラカルボン酸二無水物と反応させて得られるポリイミド樹脂を主成分として含有させることにより、吸湿率を十分に低くすることが可能となり、湿度環境変化による寸法変化を十分に防止できるとともに、アルカリ水溶液によって効率よく且つ確実にエッチング加工をすることが可能となることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the inventors of the present invention, in a laminate for an HDD suspension comprising a stainless steel foil, at least one polyimide resin layer, and a conductor layer, By containing as a main component a polyimide resin obtained by reacting a diamino compound containing 20 mol% to 80 mol% of 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate with tetracarboxylic dianhydride in at least one layer of It has been found that the moisture absorption rate can be sufficiently lowered, the dimensional change due to a change in humidity environment can be sufficiently prevented, and the etching process can be efficiently and reliably performed with an alkaline aqueous solution. It came to be completed.

すなわち、本発明のHDDサスペンション用積層体は、ステンレス箔と少なくとも1層のポリイミド系樹脂層と導体層とを備えるHDDサスペンション用積層体であって、前記ポリイミド系樹脂層のうちの少なくとも1層が、4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエートを20モル%〜80モル%含有するジアミノ化合物とテトラカルボン酸二無水物とを反応させて得られるポリイミド樹脂を主成分として含有することを特徴とするものである。   In other words, the HDD suspension laminate of the present invention is a HDD suspension laminate comprising a stainless steel foil, at least one polyimide resin layer, and a conductor layer, wherein at least one of the polyimide resin layers is at least one layer. The main component is a polyimide resin obtained by reacting a diamino compound containing 20 to 80 mol% of 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate with tetracarboxylic dianhydride. Is.

上記本発明のHDDサスペンション用積層体においては、前記ポリイミド樹脂が、下記一般式(1):   In the laminate for HDD suspension of the present invention, the polyimide resin is represented by the following general formula (1):

Figure 2006268949
Figure 2006268949

(式中、Arは4価の炭化水素基を示す。)
で表される反復単位と、下記一般式(2):
(In the formula, Ar represents a tetravalent hydrocarbon group.)
A repeating unit represented by the following general formula (2):

Figure 2006268949
Figure 2006268949

(式中、Arは4価の炭化水素基を示し、Rは2価の炭化水素基を示す。)
で表される反復単位とを含有することが好ましい。
(In the formula, Ar represents a tetravalent hydrocarbon group, and R represents a divalent hydrocarbon group.)
It is preferable to contain the repeating unit represented by these.

また、上記本発明のHDDサスペンション用積層体においては、前記ジアミノ化合物が4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエートを20モル%〜60モル%含有することが好ましい。   In the laminate for HDD suspension according to the present invention, the diamino compound preferably contains 20 mol% to 60 mol% of 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate.

さらに、上記本発明のHDDサスペンション用積層体においては、前記ポリイミド系樹脂層が、(i)23℃、相対湿度50%の条件下に24時間静置した後の吸湿率が1.2%以下であること、及び/又は(ii)水酸化カリウム33.5wt%、エチレンジアミン11wt%、エチレングリコール22wt%からなる水溶液をエッチング液として用いるエッチング加工において、80℃の前記エッチング液を用いた際に、エッチング速度の平均値が5μm/分以上のものであることが好ましい。   Furthermore, in the laminate for an HDD suspension of the present invention, the polyimide resin layer has a moisture absorption rate of 1.2% or less after being allowed to stand for 24 hours at (i) 23 ° C. and 50% relative humidity. And / or (ii) in an etching process using an aqueous solution of potassium hydroxide 33.5 wt%, ethylene diamine 11 wt%, ethylene glycol 22 wt% as an etchant, when the etching solution at 80 ° C. is used, It is preferable that the average value of the etching rate is 5 μm / min or more.

本発明によれば、従来から要求されてきた耐熱性及び熱処理による寸法安定性を保持したHDDサスペンション用積層体であって、吸湿率が十分に低く、湿度環境変化による寸法変化を十分に防止できるとともに、アルカリ水溶液によって効率よく且つ確実にエッチング加工をすることが可能なHDDサスペンション用積層体を提供することが可能となる。   According to the present invention, a laminate for an HDD suspension that retains heat resistance and dimensional stability caused by heat treatment, which have been conventionally required, has a sufficiently low moisture absorption rate, and can sufficiently prevent dimensional changes due to changes in humidity environment. At the same time, it is possible to provide a laminate for an HDD suspension that can be etched efficiently and reliably with an alkaline aqueous solution.

以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to preferred embodiments thereof.

本発明のHDDサスペンション用積層体は、ステンレス箔と少なくとも1層のポリイミド系樹脂層と導体層とを備えるHDDサスペンション用積層体であって、前記ポリイミド系樹脂層のうちの少なくとも1層が、4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエートを20モル%〜80モル%含有するジアミノ化合物とテトラカルボン酸二無水物とを反応させて得られるポリイミド樹脂を主成分として含有するものである。   The laminate for HDD suspension of the present invention is a laminate for HDD suspension comprising a stainless steel foil, at least one polyimide resin layer, and a conductor layer, and at least one of the polyimide resin layers is 4 -The main component is a polyimide resin obtained by reacting a diamino compound containing 20 mol% to 80 mol% of aminophenyl-4'-aminobenzoate with tetracarboxylic dianhydride.

また、前記ジアミノ化合物に含有される4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエートのモル比は20モル%〜80モル%である。このような4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエートの含有モル比が前記下限未満では、得られるポリイミド樹脂のエッチング速度が低下し、吸湿率が高くなってしまい、他方、前記上限を超えると得られるポリイミド樹脂が脆くなってHDDサスペンション用積層体に用いることが困難となる。また、このような4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエートの含有モル比としては20モル%〜60モル%であることがより好ましい。   The molar ratio of 4-aminophenyl-4'-aminobenzoate contained in the diamino compound is 20 mol% to 80 mol%. When the content molar ratio of 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate is less than the lower limit, the etching rate of the resulting polyimide resin is lowered, and the moisture absorption rate is increased. The resulting polyimide resin becomes brittle, making it difficult to use it in a laminate for an HDD suspension. Further, the content molar ratio of such 4-aminophenyl-4'-aminobenzoate is more preferably 20 mol% to 60 mol%.

本発明では、前記4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエートとそれ以外のジアミノ化合物とを併用して使用する。このようなジアミノ化合物としては特に制限されず、例えば、1,4-ジアミノベンゼン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニル、4,4’−ジアミノ−2’−メトキシベンズアニリド、4,4‘−ジアミノベンズアニリド、3、4’−ジアミノベンズアニリド、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ジアミノベンゼン、1、3−ジアミノベンゼン、2、4−ジアミノトルエン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフォン、3,3’−ジアミノジフェニルスルフォン、4,4’−ジアミノビフェニル、4,4−ジアミノベンゾフェノン、4,4−ジアミノジフェニルスルフィド、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルフォン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルフォン、ビス〔4−(2−アミノフェノキシ)フェニル〕スルフォン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕エーテル、ビス(3−メチル−4−アミノフェニル)メタン、ビス(3−クロロ−4−アミノフェニル)メタン、2,2’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジクロロ−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’,5,5’−テトラクロロ−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノオクタフルオロビフェニル等の芳香族ジアミノ化合物が挙げられる。このようなジアミノ化合物は1種類を単独で、又は2種類以上を混合して用いることができる。   In the present invention, the 4-aminophenyl-4'-aminobenzoate and other diamino compounds are used in combination. Such a diamino compound is not particularly limited, and examples thereof include 1,4-diaminobenzene, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diamino-2,2′-dimethyl. Biphenyl, 4,4′-diamino-2′-methoxybenzanilide, 4,4′-diaminobenzanilide, 3,4′-diaminobenzanilide, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3 -Bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-diaminobenzene, 1,3-diaminobenzene, 2,4-diaminotoluene, 4,4'-diamino Diphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 3,3′-diaminodiphenylsulfone, 4,4′- Aminobiphenyl, 4,4-diaminobenzophenone, 4,4-diaminodiphenyl sulfide, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (2-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-amino Phenoxy) phenyl] ether, bis (3-methyl-4-aminophenyl) methane, bis (3-chloro-4-aminophenyl) methane, 2,2′-dimethoxy-4,4′-diaminobiphenyl, 2,2 '-Dichloro-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2', 5,5'-tetrachloro-4,4'-diamy Nobiphenyl, 2,2'-dicarboxy-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dihydroxy-4,4'-diaminobiphenyl, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenyl ether And aromatic diamino compounds such as 4,4′-diaminooctafluorobiphenyl. Such diamino compounds can be used singly or in combination of two or more.

また、このような4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエート以外のジアミノ化合物の中でも、得られるポリイミド系樹脂層のエッチング速度をより向上させることができ、更には吸湿率をより低くすることができるという観点から、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニル、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ジアミノベンゼンを用いることが好ましい。   Further, among diamino compounds other than such 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate, the etching rate of the resulting polyimide resin layer can be further improved, and the moisture absorption rate can be further reduced. From this viewpoint, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diamino-2,2′-dimethylbiphenyl, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) It is preferable to use benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, or 1,4-diaminobenzene.

また、前記テトラカルボン酸二無水物としては特に制限されず、適宜公知のテトラカルボン酸化合物を用いることができるが、得られるポリイミド系樹脂層の耐熱性の向上という観点からは、芳香族テトラカルボン酸二無水物が好ましい。テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(2,3−又は3,4−ジカルボキシフェニル)−プロパン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3.4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物等が挙げられる。このようなテトラカルボン酸化合物は1種類を単独で、又は2種類以上を混合して用いることができる。   Further, the tetracarboxylic dianhydride is not particularly limited, and a known tetracarboxylic acid compound can be appropriately used. From the viewpoint of improving the heat resistance of the obtained polyimide resin layer, aromatic tetracarboxylic acid dianhydride can be used. Acid dianhydride is preferred. Examples of the tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, and 2,3,3 ′, 4-biphenyltetracarboxylic dianhydride. Anhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic anhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (2,3- or 3,4-di Carboxyphenyl) -propane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3.4-dicarboxyphenyl) Tan dianhydride, bis (2,3-carboxyphenyl) sulfone dianhydride, bis (3,4-carboxyphenyl) sulfone dianhydride, and the like. Such tetracarboxylic acid compounds can be used alone or in combination of two or more.

また、このようなジアミノ化合物と前記テトラカルボン酸二無水物とを反応させて得られる前記ポリイミド樹脂としては、下記一般式(1):   Moreover, as said polyimide resin obtained by making such a diamino compound and the said tetracarboxylic dianhydride react, following General formula (1):

Figure 2006268949
Figure 2006268949

(式中、Arは4価の炭化水素基を示す。)
で表される反復単位と、下記一般式(2):
(In the formula, Ar represents a tetravalent hydrocarbon group.)
A repeating unit represented by the following general formula (2):

Figure 2006268949
Figure 2006268949

(式中、Arは4価の炭化水素基を示し、Rは2価の炭化水素基を示す。)
で表される反復単位とを含有するポリイミド樹脂が好ましい。
(In the formula, Ar represents a tetravalent hydrocarbon group, and R represents a divalent hydrocarbon group.)
The polyimide resin containing the repeating unit represented by these is preferable.

上記式(1)及び式(2)中のArは4価の炭化水素基であり、前述のようなテトラカルボン酸二無水物の主骨格に由来するものである。また、一般式(2)は共重合組成として含まれる反復単位である。式(2)中のRは2価の炭化水素基であり、前述のような4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエート以外のジアミノ化合物の主骨格に由来するものである。   Ar in the above formulas (1) and (2) is a tetravalent hydrocarbon group derived from the main skeleton of tetracarboxylic dianhydride as described above. Moreover, General formula (2) is a repeating unit contained as a copolymer composition. R in the formula (2) is a divalent hydrocarbon group, and is derived from the main skeleton of a diamino compound other than the aforementioned 4-aminophenyl-4'-aminobenzoate.

ここで、前記ポリイミド樹脂中における前記式(1)の反復単位と前記式(2)の反復単位との割合は、ポリイミド樹脂を製造する際のジアミノ化合物中の4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエートと4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエート以外のジアミノ化合物との配合モル比に相当するものである。このようなポリイミド樹脂中における前記式(1)の反復単位と前記式(2)の反復単位との割合としては、前記式(1)の反復単位と前記式(2)の反復単位との比が20/80〜80/20であることが好ましい。このような式(1)の反復単位の割合が前記80%を超えると、ポリイミド系樹脂層(ポリイミドフィルム)が脆弱になりフィルムとして利用することが困難となる傾向にあり、他方、前記20%未満ではエッチング速度が低下し、吸湿率が高くなってしまう傾向にある。   Here, the ratio of the repeating unit of the formula (1) and the repeating unit of the formula (2) in the polyimide resin is the 4-aminophenyl-4′-amino in the diamino compound when the polyimide resin is produced. This corresponds to the compounding molar ratio of benzoate and diamino compounds other than 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate. The ratio of the repeating unit of the formula (1) and the repeating unit of the formula (2) in such a polyimide resin is the ratio of the repeating unit of the formula (1) and the repeating unit of the formula (2). Is preferably 20/80 to 80/20. When the proportion of the repeating unit of the formula (1) exceeds 80%, the polyimide resin layer (polyimide film) tends to be fragile and difficult to be used as a film. If it is less than the range, the etching rate tends to decrease and the moisture absorption rate tends to increase.

また、4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエートを20モル%〜80モル%含有するジアミノ化合物と前記テトラカルボン酸二無水物とを反応させて得られるポリイミド樹脂の重量平均分子量としては特に制限されないが、3万〜30万程度であることが好ましい。   Further, the weight average molecular weight of the polyimide resin obtained by reacting a diamino compound containing 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate with 20 mol% to 80 mol% and the tetracarboxylic dianhydride is not particularly limited. Is preferably about 30,000 to 300,000.

本発明にかかるポリイミド系樹脂層としては、23℃、相対湿度50%の条件下に24時間静置した後の吸湿率が1.2%以下であることが好ましく、1%以下であることがより好ましい。このような吸湿率が前記上限を超えると、湿度環境変化によって寸法変化が起こり、カールや反りが発生する傾向にある。   The polyimide resin layer according to the present invention preferably has a moisture absorption rate of 1.2% or less after standing for 24 hours at 23 ° C. and a relative humidity of 50%, preferably 1% or less. More preferred. When such a moisture absorption rate exceeds the upper limit, a dimensional change occurs due to a change in humidity environment, and there is a tendency for curling and warping to occur.

さらに、本発明にかかるポリイミド系樹脂層としては、水酸化カリウム33.5wt%、エチレンジアミン11wt%、エチレングリコール22wt%からなる水溶液をエッチング液として用いるエッチング加工において、80℃の前記エッチング液を用いた際に、エッチング速度の平均値が5μm/分以上のものであることが好ましい。このようなエッチング速度の平均値が前記5μm/分未満では、アルカリ水溶液によって効率よく且つ確実にエッチング加工をすることが困難となる傾向にある。   Furthermore, as the polyimide resin layer according to the present invention, the etching solution at 80 ° C. was used in an etching process using an aqueous solution of potassium hydroxide 33.5 wt%, ethylenediamine 11 wt%, and ethylene glycol 22 wt% as an etching solution. In this case, it is preferable that the average value of the etching rate is 5 μm / min or more. When the average value of such etching rates is less than 5 μm / min, it tends to be difficult to perform etching processing efficiently and reliably with an alkaline aqueous solution.

また、本発明にかかるポリイミド系樹脂層の厚みの範囲としては特に制限されないが、3μm〜75μmであることが好ましく、8μm〜50μmであることがより好ましい。ポリイミド系樹脂層の厚みの範囲が、前記下限未満ではHDDサスペンションとして利用する際に電気的な絶縁の信頼性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えるとポリイミド系樹脂層を形成させる際に乾燥効率が低下し、さらには熱処理による寸法安定性が低下する傾向にある。   Further, the thickness range of the polyimide resin layer according to the present invention is not particularly limited, but is preferably 3 μm to 75 μm, and more preferably 8 μm to 50 μm. When the thickness range of the polyimide resin layer is less than the lower limit, the reliability of electrical insulation tends to decrease when used as an HDD suspension. On the other hand, when the polyimide resin layer exceeds the upper limit, the polyimide resin layer is formed. In addition, the drying efficiency tends to decrease, and the dimensional stability due to heat treatment tends to decrease.

本発明にかかるステンレス箔としては特に制限されるものではないが、HDDサスペンションとして利用する際に必要なばね特性や寸法安定性という観点から、SUS304であることが好ましく、300℃以上の温度でテンションアニール処理が施されたSUS304であることがより好ましい。また、本発明にかかるステンレス箔の好ましい厚みの範囲としては10μm〜70μmであることが好ましく、15μm〜30μmであることがより好ましい。なお、このようなステンレス箔については積層体中における他の層との接着力等の改良を目的として、化学的あるいは機械的な表面処理を施してもよい。   The stainless steel foil according to the present invention is not particularly limited, but SUS304 is preferable from the viewpoint of spring characteristics and dimensional stability required for use as an HDD suspension, and tension is applied at a temperature of 300 ° C. or higher. More preferably, it is SUS304 that has been annealed. Moreover, as a range of the preferable thickness of the stainless steel foil concerning this invention, it is preferable that they are 10 micrometers-70 micrometers, and it is more preferable that they are 15 micrometers-30 micrometers. In addition, about such a stainless steel foil, you may perform a chemical or mechanical surface treatment for the purpose of improvement, such as the adhesive force with the other layer in a laminated body.

また、本発明にかかる導体層に用いられる導体としては特に制限されないが、厚さ3μm〜20μmの銅箔や銅合金箔等を用いることが好ましい。前記銅合金箔とは、銅とニッケル、シリコン、亜鉛、ベリリウム等の異種の元素からなる合金箔で、銅含有率80%以上のものをいう。なお、このような導体層についても積層体中における他の層との接着力等の改良を目的として、化学的あるいは機械的な表面処理を施してもよい。   Moreover, it does not restrict | limit especially as a conductor used for the conductor layer concerning this invention, However, It is preferable to use copper foil, copper alloy foil, etc. of thickness 3 micrometers-20 micrometers. The copper alloy foil is an alloy foil made of different elements such as copper and nickel, silicon, zinc, beryllium and the like and having a copper content of 80% or more. Such a conductor layer may also be subjected to chemical or mechanical surface treatment for the purpose of improving the adhesive strength with other layers in the laminate.

本発明のHDDサスペンション用積層体は、前記ステンレス箔と少なくとも1層の前記ポリイミド系樹脂層と前記導体層とを備えるものである。このようなHDDサスペンション用積層体によって、吸湿率を十分に低くすることを可能として湿度環境変化による寸法変化を十分に防止できるとともに、アルカリ水溶液によって効率よく且つ確実にエッチング加工をすることが可能となる。   The laminate for an HDD suspension of the present invention includes the stainless steel foil, at least one polyimide resin layer, and the conductor layer. With such a laminate for HDD suspension, it is possible to sufficiently reduce the moisture absorption rate, sufficiently prevent dimensional changes due to changes in the humidity environment, and enable efficient and reliable etching with an alkaline aqueous solution. Become.

また、前記ポリイミド系樹脂層が複数ある場合には、少なくとも1層が4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエートを20モル%〜80モル%含有するジアミノ化合物とテトラカルボン酸二無水物とを反応させて得られるポリイミド樹脂を主成分として含有するポリイミド系樹脂層であればよい。   Further, when there are a plurality of the polyimide resin layers, at least one layer reacts with a diamino compound containing 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate in an amount of 20 mol% to 80 mol% and tetracarboxylic dianhydride. Any polyimide resin layer containing a polyimide resin obtained as a main component may be used.

このように、本発明のHDDサスペンション用積層体においては、少なくとも1層の前記ポリイミド系樹脂層以外の他のポリイミド系樹脂層を備えていてもよい。このような他のポリイミド系樹脂層としては特に制限されないが、HDDサスペンション用積層体のアルカリ水溶液によるエッチング加工の加工適性の観点から、水酸化カリウム33.5wt%、エチレンジアミン11wt%、エチレングリコール22wt%からなる水溶液をエッチング液として用いるエッチング加工において、80℃の前記エッチング液を用いた際に、エッチング速度の平均値が5μm/分以上のポリイミド系樹脂層であることが好ましい。   Thus, the HDD suspension laminate of the present invention may include at least one polyimide resin layer other than the polyimide resin layer. Although it does not restrict | limit especially as such other polyimide-type resin layers, From a viewpoint of the processability of the etching process by the alkaline aqueous solution of the laminated body for HDD suspensions, potassium hydroxide 33.5 wt%, ethylenediamine 11 wt%, ethylene glycol 22 wt% In the etching process using an aqueous solution of the above as an etching solution, when the etching solution at 80 ° C. is used, the polyimide resin layer preferably has an average etching rate of 5 μm / min or more.

以下に、本発明のHDDサスペンション用積層体を製造する方法について説明する。   Below, the method to manufacture the laminated body for HDD suspensions of this invention is demonstrated.

本発明のHDDサスペンション用積層体を製造する方法は特に限定されないが、例えば以下の方法が好適に採用される。すなわち、先ず、前記4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエートを含有するジアミノ化合物と前記テトラカルボン酸二無水物とを反応させてポリアミック酸の樹脂溶液を合成する。次に、前記ポリアミック酸の樹脂溶液をステンレス箔上に塗布した後に熱処理(乾燥、硬化)を施してステンレス箔上にポリイミド系樹脂層を形成せしめた後、前記ポリイミド系樹脂層の表面に導体層を張り合わせる。このようにして本発明のHDDサスペンション用積層体を製造することができる。   The method for producing the laminate for an HDD suspension of the present invention is not particularly limited. For example, the following method is preferably employed. That is, first, a diamino compound containing 4-aminophenyl-4'-aminobenzoate and the tetracarboxylic dianhydride are reacted to synthesize a resin solution of polyamic acid. Next, after applying the resin solution of the polyamic acid on the stainless steel foil, heat treatment (drying and curing) is performed to form a polyimide resin layer on the stainless steel foil, and then a conductor layer is formed on the surface of the polyimide resin layer. Stick together. In this way, the laminate for HDD suspension of the present invention can be manufactured.

先ず、前記4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエートを含有するジアミノ化合物と前記テトラカルボン酸二無水物とを反応させてポリアミック酸の樹脂溶液を合成する方法について説明する。   First, a method of synthesizing a resin solution of polyamic acid by reacting the diamino compound containing 4-aminophenyl-4'-aminobenzoate with the tetracarboxylic dianhydride will be described.

このような4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエートを含有するジアミノ化合物と前記テトラカルボン酸二無水物化合物との反応は、有機溶媒中で行わせることが好ましい。このような有機溶媒としては特に制限されないが、具体的には、ジメチルスルフォキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ヘキサメチルホスホルムアミド、フェノール、クレゾール、γ−ブチロラクトン等が挙げられ、これらは単独で、又は混合して用いることができる。また、このような有機溶剤の使用量としては特に制限されるものではないが、重合反応よって得られるポリアミック酸溶液の濃度が重量部において5〜30重量%程度になるような使用量に調整して用いることが好ましい。   The reaction between the diamino compound containing 4-aminophenyl-4'-aminobenzoate and the tetracarboxylic dianhydride compound is preferably performed in an organic solvent. Although it does not restrict | limit especially as such an organic solvent, Specifically, a dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, hexamethyl phosphoramide, phenol , Cresol, γ-butyrolactone and the like, and these can be used alone or in combination. In addition, the amount of such organic solvent used is not particularly limited, but the amount used is adjusted so that the concentration of the polyamic acid solution obtained by the polymerization reaction is about 5 to 30% by weight. Are preferably used.

また、このような溶媒を用いた反応においては、用いるジアミノ化合物とテトラカルボン酸二無水物との配合割合は、全ジアミノ化合物のモル比100に対してテトラカルボン酸二無水物のモル比が95から105の割合で混合することが好ましい。前記テトラカルボン酸二無水物の割合が95未満であるか、又は105を超える場合、エッチング速度や吸湿率への影響は少ないが、重合物の分子量が十分に上がらず、得られるポリイミド系樹脂層が脆くなるためHDDサスペンション用積層体として用いることが難しくなる傾向にある。   Moreover, in the reaction using such a solvent, the mixing ratio of the diamino compound to be used and the tetracarboxylic dianhydride is such that the molar ratio of the tetracarboxylic dianhydride is 95 with respect to the molar ratio 100 of all the diamino compounds. It is preferable to mix at a ratio of 1 to 105. When the ratio of the tetracarboxylic dianhydride is less than 95 or exceeds 105, the influence of the etching rate and the moisture absorption rate is small, but the molecular weight of the polymer is not sufficiently increased, and the resulting polyimide resin layer Tends to be difficult to use as a laminate for HDD suspensions.

また、前記4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエートを含有するジアミノ化合物と前記テトラカルボン酸二無水物との反応は、0℃から60℃の範囲の温度条件で1〜24時間反応させることが好ましい。このような温度条件が前記下限未満では、反応速度が遅くなって分子量の増加が進まない傾向にあり、他方、前記上限を超えるとイミド化が進行して反応溶液がゲル化し易くなる傾向にある。このような温度条件で反応させることで効率的にポリアミック酸の樹脂溶液を得ることができる。   The reaction between the diamino compound containing 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate and the tetracarboxylic dianhydride may be allowed to react for 1 to 24 hours at a temperature range of 0 ° C. to 60 ° C. preferable. If such a temperature condition is less than the lower limit, the reaction rate tends to be slow and the molecular weight does not increase. On the other hand, if the upper limit is exceeded, imidation proceeds and the reaction solution tends to be easily gelled. . By making it react on such temperature conditions, the resin solution of polyamic acid can be obtained efficiently.

次に、前記ポリアミック酸の樹脂溶液をステンレス箔上に塗布した後に熱処理(乾燥、硬化)を施してステンレス箔上にポリイミド系樹脂層を形成せしめるが、前記ポリアミック酸の樹脂溶液をステンレス箔上に塗布する方法としては特に制限されず、コンマ、ダイ、ナイフ、リップ等のコーターにて塗布することが可能である。   Next, after applying the polyamic acid resin solution on the stainless steel foil, heat treatment (drying and curing) is performed to form a polyimide resin layer on the stainless steel foil. The polyamic acid resin solution is applied on the stainless steel foil. The method of applying is not particularly limited, and it is possible to apply with a coater such as a comma, die, knife, lip or the like.

また、前記熱処理(乾燥、硬化)の方法も特に制限されず、例えば、80℃〜400℃の温度条件で1〜60分間加熱するといった熱処理が好適に採用される。このような熱処理を行うことで、前記ポリアミック酸の脱水閉環が進行するため、前記ステンレス箔上にポリイミド系樹脂層を形成させることができる。   Moreover, the method of the said heat processing (drying and hardening) is not restrict | limited in particular, For example, the heat processing of heating for 1 to 60 minutes on the temperature conditions of 80 to 400 degreeC is employ | adopted suitably. By performing such heat treatment, dehydration and ring closure of the polyamic acid proceeds, so that a polyimide resin layer can be formed on the stainless steel foil.

その後に、前記ポリイミド系樹脂層の表面に導体層を張り合わせるが、その方法は特に制限されず、適宜公知の方法を採用することができる。このような導体層を張り合わせる方法としては、通常のハイドロプレス、真空タイプのハイドロプレス、オートクレーブ加圧式真空プレス、連続式熱ラミネータ等を挙げることができる。このような導体層を張り合わせる方法の中でも、十分なプレス圧力が得られ、残存揮発分の除去も容易に行え、更に導体の酸化を防止することができるという観点から真空ハイドロプレスを用いることが好ましい。また、このようにして導体層を張り合わせる際には、200〜400℃程度に加熱しながら前記導体層をプレスすることが好ましい。また、プレス圧力については、使用するプレス機器の種類にもよるが1〜50MPa程度が適当である。   Thereafter, a conductor layer is bonded to the surface of the polyimide resin layer, but the method is not particularly limited, and a known method can be adopted as appropriate. Examples of the method for laminating such a conductor layer include a normal hydro press, a vacuum type hydro press, an autoclave pressurizing vacuum press, a continuous thermal laminator and the like. Among such methods of laminating the conductor layers, it is possible to use a vacuum hydropress from the viewpoint that a sufficient pressing pressure is obtained, residual volatiles can be easily removed, and oxidation of the conductor can be prevented. preferable. In addition, when the conductor layers are bonded together in this way, it is preferable to press the conductor layer while heating to about 200 to 400 ° C. Moreover, about press pressure, although depending on the kind of press apparatus to be used, about 1-50 MPa is suitable.

このようにして前記ポリイミド系樹脂層の表面に導体層を張り合わせることで、本発明のHDDサスペンション用積層体を製造することができる。   Thus, the laminated body for HDD suspension of this invention can be manufactured by bonding a conductor layer on the surface of the said polyimide-type resin layer.

なお、前記製造方法においては、ステンレス箔上に前記ポリアミック酸の樹脂溶液を塗布、熱処理した後に導体層を張り合わせているが、他の製造方法として導体層上に前記ポリアミック酸の樹脂溶液を塗布し、熱処理(乾燥、硬化)を行ってポリイミド系樹脂層を形成せしめた後に、前記ポリイミド系樹脂層の表面にステンレス箔を張り合わせることによっても本発明のHDDサスペンション用積層体を得ることができる。また、予め前記ポリアミック酸の樹脂溶液によりポリイミドフィルムを作成し、フィルム化したポリイミドフィルムと前記ステンレス又は導体層の一方又は両方と加熱圧着等の手段により本発明のHDDサスペンション用積層体としてもよい。   In the above production method, the polyamic acid resin solution is applied onto a stainless steel foil and the conductor layer is laminated after heat treatment. However, as another production method, the polyamic acid resin solution is applied onto the conductor layer. The HDD suspension laminate of the present invention can also be obtained by performing a heat treatment (drying and curing) to form a polyimide resin layer and then attaching a stainless steel foil to the surface of the polyimide resin layer. Alternatively, a polyimide film may be prepared in advance using the resin solution of the polyamic acid, and the HDD suspension laminate of the present invention may be formed by a means such as thermocompression bonding with one or both of the formed polyimide film and the stainless steel or conductor layer.

また、前記製造方法においては、前記ステンレス箔、前記ポリイミド系樹脂層及び前記導体層からなるHDDサスペンション用積層体を製造しているが、本発明のHDDサスペンション用積層体には必要に応じて他のポリイミド系樹脂層を積層させることも可能である。このような他のポリイミド系樹脂層を積層させる方法としては特に制限されず、例えば以下の方法が好適に採用される。すなわち、このような他のポリイミド系樹脂層を積層させる方法としては、例えば、他のポリイミド系樹脂層を形成させるための樹脂溶液及び前述の4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエートを20モル%〜80モル%含有するジアミノ化合物をテトラカルボン酸二無水物と反応させて得られる樹脂溶液を順次塗布、乾燥後、一括して熱処理することでポリイミド系樹脂を繰り返して積層させる方法や、複数の樹脂溶液の塗布を同時に行った後に熱処理して複数の層を形成させることで積層させる方法等を挙げることができる。   Further, in the manufacturing method, an HDD suspension laminate including the stainless steel foil, the polyimide resin layer, and the conductor layer is manufactured. However, the HDD suspension laminate of the present invention may include other components as needed. It is also possible to laminate the polyimide resin layer. The method for laminating such other polyimide resin layers is not particularly limited, and for example, the following method is suitably employed. That is, as a method of laminating such another polyimide resin layer, for example, a resin solution for forming another polyimide resin layer and the aforementioned 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate are 20 mol%. A resin solution obtained by reacting a diamino compound containing ˜80 mol% with tetracarboxylic dianhydride is sequentially applied, dried, and then heat-treated in a lump to repeatedly laminate a polyimide resin, A method of laminating by simultaneously applying the resin solution and then heat-treating it to form a plurality of layers can be exemplified.

このようにして得られる本発明のHDDサスペンション用積層体に回路を形成する方法も特に制限されず、適宜公知の方法で回路形成を行うことでHDDサスペンションを得ることができる。   A method for forming a circuit in the thus obtained HDD suspension laminate of the present invention is not particularly limited, and an HDD suspension can be obtained by appropriately forming a circuit by a known method.

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、エッチング速度及び吸湿率は、それぞれ以下のようにして測定した。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to a following example. The etching rate and the moisture absorption rate were measured as follows.

<エッチング速度の測定>
実施例1〜4及び比較例1〜4で得られた積層体のエッチング速度の測定を以下の条件で行った。すなわち、水酸化カリウム33.5wt%、エチレンジアミン11wt%、エチレングリコール22wt%からなる水溶液をエッチング液として用い、80℃に加熱した前記エッチング液に、実施例1〜4及び比較例1〜4で得られた積層体を10〜60秒間浸漬した。そして、浸漬前のポリイミド層の厚みと浸漬後のポリイミド層の厚みの差を浸漬時間で除することでエッチング速度を計算した。得られた結果を表1に示す。
<Measurement of etching rate>
The measurement of the etching rate of the laminated body obtained in Examples 1-4 and Comparative Examples 1-4 was performed on condition of the following. That is, an aqueous solution composed of 33.5 wt% potassium hydroxide, 11 wt% ethylenediamine, and 22 wt% ethylene glycol was used as an etching solution, and the etching solutions heated to 80 ° C. were obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4. The obtained laminate was immersed for 10 to 60 seconds. Then, the etching rate was calculated by dividing the difference between the thickness of the polyimide layer before immersion and the thickness of the polyimide layer after immersion by the immersion time. The obtained results are shown in Table 1.

<吸湿率の測定>
実施例1〜4及び比較例1〜4で得られた積層体の吸湿率の測定を以下のようにして行った。すなわち、先ず、実施例1〜4及び比較例1〜4で得られた積層体からエッチングにて銅箔を除去してポリイミド系樹脂フィルムを得た。その後、前記ポリイミド系樹脂フィルムを80℃の温度条件で2時間乾燥させ、乾燥後のポリイミド系樹脂フィルムの質量を測定した。次に、前記乾燥後のポリイミド系樹脂フィルムを23℃、相対湿度50%の恒温恒湿下に24時間放置し、24時間放置後のポリイミド系樹脂フィルムの質量を測定した。そして、このようにして測定された質量の値を利用して下記式:
〔吸湿率(%)〕={(24時間放置後のポリイミド系樹脂フィルムの質量−乾燥後のポリイミド系樹脂フィルムの質量)/乾燥後の重量}×100
にしたがって吸湿率を求めた。得られた結果を表1に示す。
<Measurement of moisture absorption rate>
The moisture absorption rate of the laminates obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 was measured as follows. That is, first, the copper foil was removed by etching from the laminates obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 to obtain a polyimide resin film. Thereafter, the polyimide resin film was dried at 80 ° C. for 2 hours, and the mass of the polyimide resin film after drying was measured. Next, the dried polyimide resin film was allowed to stand under constant temperature and humidity of 23 ° C. and 50% relative humidity for 24 hours, and the mass of the polyimide resin film after being left for 24 hours was measured. And using the mass value thus measured, the following formula:
[Hygroscopic rate (%)] = {(Mass of polyimide resin film after standing for 24 hours−Mass of polyimide resin film after drying) / Weight after drying} × 100
The moisture absorption rate was determined according to The obtained results are shown in Table 1.

(実施例1)
先ず、300mlの三つ口フラスコ中において、窒素を流しながら4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエート2.4g、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル6.4gをN,N−ジメチルアセトアミド82gに溶解させた溶液を得た。そして、前記溶液を攪拌しながら室温にてピロメリット酸二無水物9.2gを加えた後、3時間反応させて樹脂溶液を得た。その後、前記樹脂溶液を銅箔((株)日鉱マテリアルズ社製、商品名;NK−120、厚み12μm)上にアプリケーターを用いて塗布した後、オーブン中で130℃の温度条件下で3分間乾燥を行った。次いで、前記乾燥後の塗布物を130〜220℃の温度条件で7分間加熱し、更に280〜360℃の温度条件で3分間加熱して熱イミド化による硬化処理を行うことで約20μmのポリイミド系樹脂層が銅箔上に積層した積層体を得た。このようにして得られた積層体の一部を用いて、エッチング速度及び吸湿率を測定した。
Example 1
First, in a 300 ml three-necked flask, 2.4 g of 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate and 6.4 g of 4,4′-diaminodiphenyl ether were dissolved in 82 g of N, N-dimethylacetamide while flowing nitrogen. Solution was obtained. Then, 9.2 g of pyromellitic dianhydride was added at room temperature while stirring the solution, and then reacted for 3 hours to obtain a resin solution. Then, after apply | coating the said resin solution on copper foil (Corporation | KK Nikko Materials company make, brand name; NK-120, thickness 12 micrometers) using an applicator, it is 130 degreeC temperature conditions for 3 minutes in oven. Drying was performed. Next, the dried coating material is heated for 7 minutes at a temperature of 130 to 220 ° C., and further heated for 3 minutes at a temperature of 280 to 360 ° C. to perform a curing process by thermal imidization to give a polyimide of about 20 μm. The laminated body which the system resin layer laminated | stacked on copper foil was obtained. An etching rate and a moisture absorption rate were measured using a part of the laminate thus obtained.

次に、前記積層体のポリイミド系樹脂層の表面にステンレス箔(新日本製鐵株式会社製、SUS304、テンションアニール処理品、厚み20μm)を重ね合わせ、真空プレス機を用いてプレス圧13MPa、温度320℃の条件で15分間プレスを行って前記積層体にステンレス箔を積層せしめ、本発明のHDDサスペンション用積層体を得た。   Next, a stainless steel foil (manufactured by Nippon Steel Co., Ltd., SUS304, tension annealed product, thickness 20 μm) is superposed on the surface of the polyimide resin layer of the laminate, and a press pressure of 13 MPa and a temperature are used using a vacuum press machine. A press was performed for 15 minutes at 320 ° C. to laminate a stainless steel foil on the laminate, thereby obtaining a laminate for HDD suspension of the present invention.

(実施例2〜3)
4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエート、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル及びピロメリット酸二無水物の配合量をそれぞれ表1に示した配合量とした以外は実施例1と同様にして積層体及び本発明のHDDサスペンション用積層体を得た。
(Examples 2-3)
A laminate in the same manner as in Example 1, except that the blending amounts of 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate, 4,4′-diaminodiphenyl ether and pyromellitic dianhydride were changed to the blending amounts shown in Table 1, respectively. And the laminated body for HDD suspensions of this invention was obtained.

(実施例4)
4,4’−ジアミノジフェニルエーテルに代えて4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニルを用い、4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエート、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニル及びピロメリット酸二無水物の配合量を表1に示した配合量とした以外は実施例1と同様にして積層体及び本発明のHDDサスペンション用積層体を得た。
Example 4
Instead of 4,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diamino-2,2′-dimethylbiphenyl was used, and 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate, 4,4′-diamino-2,2′- A laminate and a laminate for an HDD suspension of the present invention were obtained in the same manner as in Example 1 except that the amounts of dimethylbiphenyl and pyromellitic dianhydride were changed to the amounts shown in Table 1.

(比較例1)
4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエートに代えて4,4‘−ジアミノ−2’−メトキシベンズアニリドを用い、4,4‘−ジアミノ−2’−メトキシベンズアニリド、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル及びピロメリット酸二無水物の配合量を表1に示した配合量とした以外は実施例1と同様にして積層体及び比較対象としてのHDDサスペンション用積層体を得た。
(Comparative Example 1)
4,4′-diamino-2′-methoxybenzanilide is used instead of 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate, and 4,4′-diamino-2′-methoxybenzanilide, 4,4′-diaminodiphenyl ether And the laminated body and the laminated body for HDD suspension as a comparison object were obtained like Example 1 except having set the compounding quantity of pyromellitic dianhydride to the compounding quantity shown in Table 1.

(比較例2)
4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエートに代えて4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニルを用い、4,4’−ジアミノ−2,2’−ジメチルビフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル及びピロメリット酸二無水物の配合量を表1に示した配合量とした以外は実施例1と同様にして積層体及び比較対象としてのHDDサスペンション用積層体を得た。
(Comparative Example 2)
Instead of 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate, 4,4′-diamino-2,2′-dimethylbiphenyl was used, and 4,4′-diamino-2,2′-dimethylbiphenyl, 4,4′- A laminate and a laminate for an HDD suspension as a comparative object were obtained in the same manner as in Example 1 except that the amounts of diaminodiphenyl ether and pyromellitic dianhydride were changed to the amounts shown in Table 1.

(比較例3)
4,4’−ジアミノジフェニルエーテルを配合せず、4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエート及びピロメリット酸二無水物の配合量を表1に示した配合量とした以外は実施例1と同様にして積層体を得た。なお、得られた積層体は非常に脆いものであったため、吸湿率及びエッチング速度の測定ができず、更にはHDDサスペンション用積層体の製造もできなかった。
(Comparative Example 3)
The same procedure as in Example 1 was conducted except that 4,4′-diaminodiphenyl ether was not blended and the blending amounts of 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate and pyromellitic dianhydride were changed to the blending amounts shown in Table 1. To obtain a laminate. In addition, since the obtained laminated body was very brittle, a moisture absorption rate and an etching rate could not be measured, and furthermore, a laminated body for HDD suspension could not be produced.

(比較例4)
ピロメリット酸二無水物にかえて4,4‘−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を用い、4,4’−ジアミノジフェニルエーテルを配合せず、4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエート及び4,4‘−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物の配合量を表1に示した配合量とした以外は実施例1と同様にして積層体を得た。なお、得られた積層体は非常に脆いものであったため、吸湿率及びエッチング速度の測定ができず、更にはHDDサスペンション用積層体の製造もできなかった。
(Comparative Example 4)
Instead of pyromellitic dianhydride, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride was used, and 4,4′-diaminodiphenyl ether was not blended, and 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate and 4,4 A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of '-biphenyltetracarboxylic dianhydride was changed to the amount shown in Table 1. In addition, since the obtained laminated body was very brittle, a moisture absorption rate and an etching rate could not be measured, and furthermore, a laminated body for HDD suspension could not be produced.

Figure 2006268949
Figure 2006268949

表1に示した結果からも明らかなように各実施例で得られた積層体は吸湿率が十分に低く、更にエッチング速度は速いことが確認された。一方、比較例1で得られた積層体は吸湿率が1.5と高く、また、比較例2で得られた積層体はエッチング速度が4μmと遅いことが確認された。   As is clear from the results shown in Table 1, it was confirmed that the laminates obtained in each Example had a sufficiently low moisture absorption rate and a high etching rate. On the other hand, it was confirmed that the laminate obtained in Comparative Example 1 had a high moisture absorption rate of 1.5, and that the laminate obtained in Comparative Example 2 had a slow etching rate of 4 μm.

したがって、本発明のHDDサスペンション用積層体は、湿度環境変化による安定性に優れており、カールや反りを十分に防止できるものであり、更にエッチング加工時においてアルカリ溶液によって効率よく且つ確実にエッチングすることができるものであることが確認された。   Therefore, the laminate for HDD suspension of the present invention is excellent in stability due to changes in humidity environment, can sufficiently prevent curling and warping, and is etched efficiently and reliably with an alkaline solution during etching processing. It was confirmed that it was possible.

以上説明したように、本発明によれば、従来から要求されてきた耐熱性及び熱処理による寸法安定性を保持したHDDサスペンション用積層体であって、吸湿率が十分に低く、湿度環境変化による寸法変化を十分に防止できるとともに、アルカリ水溶液によって効率よく且つ確実にエッチング加工をすることが可能なHDDサスペンション用積層体を提供することが可能となる。   As described above, according to the present invention, a laminate for an HDD suspension that retains the conventionally required heat resistance and dimensional stability by heat treatment, the moisture absorption rate is sufficiently low, and the dimensions due to changes in the humidity environment. It is possible to provide a laminate for an HDD suspension that can sufficiently prevent changes and that can be etched efficiently and reliably with an alkaline aqueous solution.

したがって、本発明のHDDサスペンション用積層体は、湿度環境変化による安定性に優れカールや反りを十分に防止できるため、配線一体型のHDDサスペンションの素材として有用である。   Therefore, the laminate for an HDD suspension according to the present invention is excellent in stability due to a change in humidity environment and can sufficiently prevent curling and warping, and thus is useful as a material for a wiring-integrated HDD suspension.

Claims (5)

ステンレス箔と少なくとも1層のポリイミド系樹脂層と導体層とを備えるHDDサスペンション用積層体であって、前記ポリイミド系樹脂層のうちの少なくとも1層が、4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエートを20モル%〜80モル%含有するジアミノ化合物とテトラカルボン酸二無水物とを反応させて得られるポリイミド樹脂を主成分として含有することを特徴とするHDDサスペンション用積層体。   A laminate for an HDD suspension comprising a stainless steel foil, at least one polyimide resin layer, and a conductor layer, wherein at least one of the polyimide resin layers comprises 4-aminophenyl-4′-aminobenzoate. A laminate for an HDD suspension comprising, as a main component, a polyimide resin obtained by reacting 20 mol% to 80 mol% of a diamino compound and tetracarboxylic dianhydride. 前記ポリイミド樹脂が、下記一般式(1):
Figure 2006268949
(式中、Arは4価の炭化水素基を示す。)
で表される反復単位と、下記一般式(2):
Figure 2006268949
(式中、Arは4価の炭化水素基を示し、Rは2価の炭化水素基を示す。)
で表される反復単位とを含有することを特徴とする請求項1に記載のHDDサスペンション用積層体。
The polyimide resin has the following general formula (1):
Figure 2006268949
(In the formula, Ar represents a tetravalent hydrocarbon group.)
A repeating unit represented by the following general formula (2):
Figure 2006268949
(In the formula, Ar represents a tetravalent hydrocarbon group, and R represents a divalent hydrocarbon group.)
The HDD suspension laminate according to claim 1, comprising: a repeating unit represented by:
前記ジアミノ化合物が4−アミノフェニル−4’−アミノベンゾエートを20モル%〜60モル%含有することを特徴とする請求項1又は2に記載のHDDサスペンション用積層体。   The laminate for an HDD suspension according to claim 1 or 2, wherein the diamino compound contains 20 to 60 mol% of 4-aminophenyl-4'-aminobenzoate. 前記ポリイミド系樹脂層が、23℃、相対湿度50%の条件下に24時間静置した後の吸湿率が1.2%以下であることを特徴とする請求項1〜3のうちのいずれか一項に記載のHDDサスペンション用積層体。   4. The moisture absorption rate after the polyimide resin layer is allowed to stand for 24 hours under conditions of 23 ° C. and a relative humidity of 50% is 1.2% or less. 5. The laminate for an HDD suspension according to one item. 前記ポリイミド系樹脂層が、水酸化カリウム33.5wt%、エチレンジアミン11wt%、エチレングリコール22wt%からなる水溶液をエッチング液として用いるエッチング加工において、80℃の前記エッチング液を用いた際に、エッチング速度の平均値が5μm/分以上のものであることを特徴とする請求項1〜4のうちのいずれか一項に記載のHDDサスペンション用積層体。   In the etching process in which the polyimide-based resin layer uses an aqueous solution of potassium hydroxide 33.5 wt%, ethylene diamine 11 wt%, and ethylene glycol 22 wt% as an etchant, an etching rate of 80 ° C. is used. The laminate for an HDD suspension according to any one of claims 1 to 4, wherein the average value is 5 µm / min or more.
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