JP2006245065A - Method of manufacturing thermistor - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a thermistor which can fully reduce a variation in an initial room temperature resistance value between the thermistors to be obtained. <P>SOLUTION: The method of manufacturing the thermistor includes a step of applying a paste containing a resin and conductive particle, forming resin composite layers 14 and 15 on each of a pair of metal foils 12 and 13, and obtaining a pair of laminates 16 and 17; a step of laminating the pair of the laminates 16 and 17 in the state where the resin composite layers 14 and 15 are faced to each other to obtain a laminate 18; a step of heat treating the laminate 18, and obtaining a thermistor element assembly 1 among the pair of the metal foils 12 and 13; and a step of obtaining the thermistor 10 in which the thermistor element assembly 1 is arranged between the pair of the electrodes 2 and 3 from the laminate after the heat treatment. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、サーミスタの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a thermistor.

ポリマー層及びこれに分散した導電性粒子で構成される材料をサーミスタ素体として用いたサーミスタは、一般に、有機質サーミスタ等と称されるものであり、特に、温度上昇とともに抵抗値が急激に増大するPTC(Positive Temperature Coefficient:正の温度係数)特性を有するものは、有機質正特性サーミスタと称される場合がある。このようなサーミスタは、過電流・加熱保護素子、自己制御型発熱体、温度センサー等のデバイスに用いられる。   A thermistor using a material composed of a polymer layer and conductive particles dispersed therein as a thermistor body is generally referred to as an organic thermistor, and its resistance value increases rapidly as the temperature rises. Those having a PTC (Positive Temperature Coefficient) characteristic may be referred to as an organic positive temperature coefficient thermistor. Such thermistors are used in devices such as overcurrent / heat protection elements, self-control heating elements, temperature sensors and the like.

有機質サーミスタとしては、例えば、熱硬化性樹脂であるエポキシ樹脂に導電性粒子を分散させた材料をサーミスタ素体として用いたものが提案されており(特許文献1)、同文献には、一方の電極上に、エポキシ樹脂及び導電性粒子を含有するペーストを塗布し、他方の電極を上記ペーストに貼り合わせた後、ペースト中のエポキシ樹脂を熱硬化させて一対の電極間にサーミスタ素体が配置されたサーミスタを得る方法が開示されている。
国際公開第2004/086421号パンフレット
As the organic thermistor, for example, a material in which a conductive particle is dispersed in an epoxy resin, which is a thermosetting resin, is used as a thermistor element (Patent Document 1). After applying a paste containing epoxy resin and conductive particles on the electrode and pasting the other electrode to the above paste, the epoxy resin in the paste is thermally cured to place the thermistor element between the pair of electrodes. A method for obtaining an improved thermistor is disclosed.
International Publication No. 2004/086421 Pamphlet

ところで、有機質サーミスタは、同一の製造条件の下で、室温抵抗値が一定であることが望まれる。   By the way, the organic thermistor is desired to have a constant room temperature resistance value under the same manufacturing conditions.

しかしながら、上記従来の方法では、得られる有機質サーミスタ間で初期室温抵抗値のばらつきが大きかった。そのため、初期室温抵抗値のばらつきを低減することが求められていた。   However, in the conventional method, the initial room temperature resistance value varies greatly among the obtained organic thermistors. Therefore, it has been required to reduce the variation in the initial room temperature resistance value.

そこで、本発明は、得られるサーミスタ間で初期室温抵抗値のばらつきを十分に低減できるサーミスタの製造方法を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a thermistor manufacturing method capable of sufficiently reducing variations in initial room temperature resistance values among the thermistors obtained.

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、以下の発明により上記課題を解決し得ることを見出した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the above problems can be solved by the following invention.

即ち本発明のサーミスタの製造方法は、第1金属箔上に、樹脂及び導電性粒子を含有する第1ペーストを塗布して第1樹脂組成物層を形成して第1積層体を得る第1塗布工程と、第2金属箔上に、樹脂及び導電性粒子を含有する第2ペーストを塗布して第2樹脂組成物層を形成して第2積層体を得る第2塗布工程と、第1積層体及び第2積層体を、第1樹脂組成物層及び第2樹脂組成物層を向かい合わせた状態で貼り合わせて貼り合せ体を得る貼合せ工程と、貼り合せ体を熱処理し、第1金属箔及び第2金属箔の間にサーミスタ素体を得る熱処理工程と、熱処理工程後の前記貼り合せ体から、第1電極と第2電極との間にサーミスタ素体が配置されたサーミスタを得る工程とを含むことを特徴とする。   That is, in the method for producing the thermistor of the present invention, a first laminate is obtained by applying a first paste containing a resin and conductive particles on a first metal foil to form a first resin composition layer. An application step, a second application step of applying a second paste containing a resin and conductive particles on the second metal foil to form a second resin composition layer to obtain a second laminate; A laminating step in which the laminated body and the second laminated body are bonded together in a state where the first resin composition layer and the second resin composition layer face each other to obtain a bonded body; A thermistor in which the thermistor body is disposed between the first electrode and the second electrode is obtained from the heat treatment step for obtaining the thermistor body between the metal foil and the second metal foil and the bonded body after the heat treatment step. And a process.

この製造方法によれば、得られるサーミスタ間で初期室温抵抗値のばらつきを十分に低減することができる。この理由は明らかではないが、ペーストの塗布後、導電性粒子の沈降により、金属箔の塗布面と導電性粒子とのコンタクトが向上すること、及び、従来のように一対の金属箔の片面にのみペーストを塗布する片面塗布では一方の電極を形成するときに金属箔とサーミスタ素体との間に空気が取り込まれてしまい、その空気が外部に放出されずサーミスタの完成後も残ってしまう可能性があるが、本発明の製造方法では、金属箔とサーミスタ素体との間に空気が取り込まれず、サーミスタの完成後も残らないことが原因ではないかと考えれられる。   According to this manufacturing method, it is possible to sufficiently reduce the variation in the initial room temperature resistance value between the thermistors obtained. The reason for this is not clear, but after applying the paste, the contact between the coated surface of the metal foil and the conductive particles is improved by the sedimentation of the conductive particles, and on one side of the pair of metal foils as in the past. In single-sided coating, where only the paste is applied, when one electrode is formed, air is taken in between the metal foil and the thermistor body, and the air is not released to the outside and may remain after the thermistor is completed. However, in the manufacturing method of the present invention, it is considered that air is not taken in between the metal foil and the thermistor body and does not remain after the thermistor is completed.

第1塗布工程及び第2塗布工程においては、樹脂が熱硬化性樹脂であることが好ましい。この場合、初期室温抵抗値のばらつきが特に十分に低減されることに加え、初期室温抵抗値をも十分に低下させることができる。   In the first application step and the second application step, the resin is preferably a thermosetting resin. In this case, the variation in the initial room temperature resistance value is particularly sufficiently reduced, and the initial room temperature resistance value can be sufficiently reduced.

本発明のサーミスタの製造方法によれば、得られるサーミスタ間で初期室温抵抗値のばらつきを十分に低減することができ、一定品質のサーミスタを安定して提供することができる。   According to the thermistor manufacturing method of the present invention, the variation in initial room temperature resistance value among the obtained thermistors can be sufficiently reduced, and a thermistor having a constant quality can be stably provided.

以下に、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.

(サーミスタ)
図1は、本発明によるサーミスタの好適な一実施形態を模式的に示す斜視図である。図1に示すサーミスタ10は、互いに対向するように配置された一対の電極2及び電極3と、電極2及び電極3の間においてそれぞれの電極に密着して設けられ正の抵抗−温度特性を有するサーミスタ素体1と、から構成され、全体として略直方体状をなしている。サーミスタ10には、必要に応じて、電極2に電気的に接続されたリード(図示せず)と、電極3に電気的に接続されたリード(図示せず)とが更に設けられてもよい。このサーミスタ10は、過電流・加熱保護素子、自己制御型発熱体、温度センサ等として好適に用いることができる。
(Thermistor)
FIG. 1 is a perspective view schematically showing a preferred embodiment of a thermistor according to the present invention. The thermistor 10 shown in FIG. 1 is provided in close contact with each electrode between a pair of electrodes 2 and 3 disposed so as to face each other, and has positive resistance-temperature characteristics. The thermistor body 1 is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape as a whole. The thermistor 10 may be further provided with a lead (not shown) electrically connected to the electrode 2 and a lead (not shown) electrically connected to the electrode 3 as necessary. . The thermistor 10 can be suitably used as an overcurrent / heat protection element, a self-control heating element, a temperature sensor, or the like.

電極2及び電極3は、サーミスタの電極として機能する金属材料で形成されている。電極2及び電極3を構成する材料としては、ニッケル、銀、金、銅、アルミニウム等の金属、又はそれらの合金からなることが好ましい。更には、素子の低抵抗化と比較的低コストという点でNiが好ましい。また、その厚さは1〜100μmであることが好ましく、サーミスタの軽量化の点からは、1〜50μmであることがより好ましい。また、リードは、それぞれ電極2及び電極3から外部に電荷を放出又は注入することが可能な電気伝導性を有していれば、その形状や材質について特に限定されない。   The electrodes 2 and 3 are formed of a metal material that functions as an electrode of the thermistor. The material constituting the electrodes 2 and 3 is preferably made of a metal such as nickel, silver, gold, copper, or aluminum, or an alloy thereof. Furthermore, Ni is preferable from the viewpoint of low resistance of the element and relatively low cost. The thickness is preferably 1 to 100 μm, and more preferably 1 to 50 μm from the viewpoint of weight reduction of the thermistor. Further, the shape and the material of the lead are not particularly limited as long as they have electrical conductivity capable of discharging or injecting charges from the electrode 2 and the electrode 3 to the outside.

サーミスタ素体1は、熱硬化性樹脂及びこれに分散している導電性粒子を含有するペーストの硬化物で形成されている。サーミスタ素体1の厚さは、0.2〜1.0mmであることが好ましい。サーミスタ素体1の厚さが1.0mmを超えると、厚さが上記範囲内にある場合に比べて初期室温抵抗値のばらつきが大きくなる傾向にある。また、サーミスタ素体1の厚さが0.2mm未満であると、厚さが上記範囲内にある場合に比べてショートが発生して正常な室温抵抗値が得られなくなる傾向にある。   The thermistor body 1 is formed of a cured product of a paste containing a thermosetting resin and conductive particles dispersed therein. The thermistor body 1 preferably has a thickness of 0.2 to 1.0 mm. When the thickness of the thermistor body 1 exceeds 1.0 mm, the initial room temperature resistance value tends to vary more than the thickness within the above range. Further, if the thermistor body 1 has a thickness of less than 0.2 mm, a short circuit occurs and a normal room temperature resistance value cannot be obtained as compared with the case where the thickness is within the above range.

上記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フラン樹脂、ポリウレタン樹脂等の架橋性の樹脂と、これらの硬化剤とを含有するものである。なお、この硬化剤は、架橋性の樹脂等と反応して硬化物中の架橋構造の一部を構成するものであってもよいし、硬化反応の触媒として作用するものであってもよい。あるいは、触媒として作用するとともに架橋構造の一部を構成するものであってもよい。   The thermosetting resin contains a crosslinkable resin such as an epoxy resin, a phenol resin, an unsaturated polyester resin, a urea resin, a melamine resin, a furan resin, and a polyurethane resin, and these curing agents. In addition, this hardening | curing agent may react with a crosslinkable resin etc., may comprise a part of crosslinked structure in hardened | cured material, and may act as a catalyst of hardening reaction. Alternatively, it may act as a catalyst and constitute a part of the crosslinked structure.

熱硬化性樹脂としては、硬化前の樹脂の取り扱いが良好であることだけでなく、完成したサーミスタ素体1が耐熱性に優れるという理由から、特に、エポキシ樹脂及びこれの硬化剤を含有するエポキシ樹脂組成物が好ましい。   As the thermosetting resin, not only the handling of the resin before curing is good, but also because the completed thermistor body 1 is excellent in heat resistance, particularly an epoxy resin and an epoxy containing the curing agent thereof. A resin composition is preferred.

本発明においては、エポキシ樹脂は、複数のエポキシ基を有する単一又は複数種のポリエポキシ化合物からなる樹脂のことを意味する。このポリエポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、カテコール、レゾルシノール及びテトラメチルビフェニル等の多価フェノールのポリグリシジルエーテル、ビスフェノール化合物のアルキレンオキシド付加物、グリセリン及びポリアルキレングリコール等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、フタル酸及びテレフタル酸等のポリカルボン酸のポリグリシジルエステルが挙げられる。   In the present invention, the epoxy resin means a resin composed of a single or plural kinds of polyepoxy compounds having a plurality of epoxy groups. Examples of the polyepoxy compound include polyglycidyl ethers of polyhydric phenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, catechol, resorcinol, and tetramethylbiphenyl, alkylene oxide adducts of bisphenol compounds, glycerin, and polyalkylene glycols. Examples thereof include polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols, polyglycidyl esters of polycarboxylic acids such as phthalic acid and terephthalic acid.

エポキシ樹脂と組み合わせて用いる硬化剤としては、酸無水物、脂肪族ポリアミン、芳香族ポリアミン、ポリアミド、ポリフェノール、ポリメルカプタン、第三アミン及びルイス酸錯体等が挙げられる。これらの中でも、酸無水物が好ましい。酸無水物を用いると、脂肪族ポリアミン等のアミン系の硬化剤を用いる場合よりも、サーミスタの初期の室温抵抗値を低くしたり、抵抗変化率を大きくしたりすることができる傾向にある。   Examples of the curing agent used in combination with the epoxy resin include acid anhydrides, aliphatic polyamines, aromatic polyamines, polyamides, polyphenols, polymercaptans, tertiary amines, and Lewis acid complexes. Of these, acid anhydrides are preferred. When an acid anhydride is used, the initial room temperature resistance value of the thermistor tends to be lowered and the rate of change in resistance tends to be higher than when an amine-based curing agent such as an aliphatic polyamine is used.

酸無水物としては、ドデセニル無水コハク酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ポリアジピン酸無水物、ポリアゼライン酸無水物、ポリセバシン酸無水物、ポリ(エチルオクタデカン二酸)無水物、ポリ(フェニルヘキサデカン二酸)無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセロールトリスアンヒドロトリメリテート等が挙げられる。   Acid anhydrides include dodecenyl succinic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, polyadipic acid anhydride, polyazeline acid anhydride, polysebacic acid anhydride, poly (ethyloctadecanedioic acid) anhydride, poly (phenylhexadecanedioic acid) Anhydrides, ethylene glycol bisanhydro trimellitate, glycerol tris anhydro trimellitate and the like.

酸無水物の好適な他の具体例としては、上記の他、2,4−ジエチルグルタル酸無水物、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル酸、無水コハク酸、無水トリメット酸、無水ピロメリット酸、無水メチルナジック酸、無水マレイン酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルブテニルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物アルキルスチレン−無水マレイン酸共重合体、エチレングリコールビストリメリテート、クロレンド酸無水物及びテトラブロム無水フタル酸等が挙げられる。   Other suitable specific examples of the acid anhydride include, in addition to the above, 2,4-diethylglutaric anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, phthalic anhydride, succinic anhydride Acid, trimetic anhydride, pyromellitic anhydride, methyl nadic anhydride, maleic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylbutenyltetrahydrophthalic anhydride, methyl Examples include cyclohexene dicarboxylic acid anhydride alkylstyrene-maleic anhydride copolymer, ethylene glycol bistrimellitate, chlorendic anhydride, and tetrabromophthalic anhydride.

エポキシ樹脂組成物においては、以上のような酸無水物を、単独で又は複数組み合わせて用いることができる。   In an epoxy resin composition, the above acid anhydrides can be used alone or in combination.

熱硬化性樹脂中の硬化剤の含有割合は、架橋性化合物や硬化剤の種類等に応じて適宜決定すればよい。例えば、エポキシ樹脂に硬化剤として酸無水物を組み合わせる場合、エポキシ樹脂中のエポキシ基に対して当量比で、0.5〜1.5、より好ましくは0.8〜1.2となるような含有割合で硬化剤を含有させることがより好ましい。硬化剤の当量比がエポキシ基に対して0.5未満、あるいは1.5を超えると、未反応のエポキシ基及び酸無水物基が増加することにより、サーミスタ素体の機械的強度が低下したり、サーミスタの抵抗変化率が低下したりする傾向にある。   What is necessary is just to determine suitably the content rate of the hardening | curing agent in a thermosetting resin according to the kind etc. of a crosslinkable compound or a hardening | curing agent. For example, when an acid anhydride is combined with the epoxy resin as a curing agent, the equivalent ratio to the epoxy group in the epoxy resin is 0.5 to 1.5, more preferably 0.8 to 1.2. It is more preferable to contain a curing agent in a content ratio. When the equivalent ratio of the curing agent is less than 0.5 or more than 1.5 with respect to the epoxy group, the unreacted epoxy group and acid anhydride group increase, and the mechanical strength of the thermistor body decreases. Or the resistance change rate of the thermistor tends to decrease.

熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂及びこれの硬化剤を含有するエポキシ樹脂組成物である場
合、エポキシ樹脂及び硬化剤の全体の平均分子量は300〜1000であることが好ましく、300〜650であることがより好ましい。これにより、硬化物が適度な可とう性を有するものとなって、熱履歴に対する耐久性がさらに改善される。
When the thermosetting resin is an epoxy resin composition containing an epoxy resin and a curing agent thereof, the total average molecular weight of the epoxy resin and the curing agent is preferably 300 to 1000, and preferably 300 to 650. More preferred. Thereby, hardened | cured material becomes what has moderate flexibility and the durability with respect to a heat history is further improved.

熱硬化性樹脂中には、反応性希釈剤、可塑剤等の添加剤を含有させてもよい。反応性希釈剤としては、特にエポキシ樹脂と組み合わせる場合、モノエポキシ化合物が好ましい。モノエポキシ化合物としては、n−ブチルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、スチレンオキサイド、フェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、p−sec−ブチルフェニルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレート、3級カルボン酸グリシジルエステル等が挙げられる。また、可塑剤としては、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール等の多価アルコールが好ましい。   The thermosetting resin may contain additives such as a reactive diluent and a plasticizer. As the reactive diluent, a monoepoxy compound is preferred particularly when combined with an epoxy resin. As monoepoxy compounds, n-butyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, styrene oxide, phenyl glycidyl ether, cresyl glycidyl ether, p-sec-butylphenyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate, tertiary carboxylic acid A glycidyl ester etc. are mentioned. The plasticizer is preferably a polyhydric alcohol such as polyethylene glycol or propylene glycol.

熱硬化性樹脂には、更に他の成分、例えば、熱可塑性樹脂や、ワックス、油脂、脂肪酸、高級アルコール等の低分子有機化合物等を、必要に応じてさらに加えてもよい。熱可塑性樹脂は熱硬化性樹脂中に溶解させてもよいし、粒子状の状態で分散させてもよい。   The thermosetting resin may further contain other components, for example, thermoplastic resins, low molecular organic compounds such as waxes, fats and oils, fatty acids, and higher alcohols, if necessary. The thermoplastic resin may be dissolved in the thermosetting resin or may be dispersed in a particulate state.

導電性粒子は、電気伝導性を有する粒子であれば特に限定されず、例えば、カーボンブラック、グラファイト、各形状の金属粒子若しくはセラミック系導電性粒子を用いることができる。金属粒子の金属材料としては、銅、アルミニウム、ニッケル、タングステン、モリブデン、銀、亜鉛、コバルト、及び銅紛にニッケルめっきを施したもの等が挙げられる。セラミック系導電性粒子の材料としては、TiC及びWC等が挙げられる。これら導電性粒子は、1種類を単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。   The conductive particles are not particularly limited as long as they are electrically conductive particles. For example, carbon black, graphite, metal particles of various shapes, or ceramic conductive particles can be used. Examples of the metal material of the metal particles include copper, aluminum, nickel, tungsten, molybdenum, silver, zinc, cobalt, and copper powder subjected to nickel plating. Examples of the material for the ceramic conductive particles include TiC and WC. These conductive particles can be used alone or in combination of two or more.

導電性粒子としては、特に、金属粒子が好ましい。導電性粒子として金属粒子を用いると、サーミスタの抵抗変化率を十分に大きく維持しつつ、室温抵抗値をより低下させることができ、例えば、本発明のサーミスタを過電流保護素子として用いる場合に好適である。さらに、金属粒子の中でも、酸化され難い等、化学的安定性の観点から、ニッケル粒子が特に好ましい。   As the conductive particles, metal particles are particularly preferable. When metal particles are used as the conductive particles, the resistance change rate of the thermistor can be maintained sufficiently large, and the room temperature resistance value can be further reduced. For example, it is suitable when the thermistor of the present invention is used as an overcurrent protection element. It is. Further, among the metal particles, nickel particles are particularly preferable from the viewpoint of chemical stability such as being hardly oxidized.

導電性粒子の形状は特に限定されず、球状、フレーク状、繊維状及び棒状等が挙げられるが、粒子の表面にスパイク状の突起を有するものが好ましい。スパイク状の突起を有する導電性粒子を用いることにより、隣接する粒子間におけるトンネル電流が流れやすくなるため、サーミスタの抵抗変化率を十分に確保したまま、室温抵抗値をより低くすることができる。また、真球状の粒子に比べて、粒子同士の中心間距離を大きくすることができるため、さらに大きな抵抗変化率を得ることができる。さらに、繊維状の粒子を用いた場合に比べて、サーミスタの室温抵抗値のばらつきを低減することができる。   The shape of the conductive particles is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, a flake shape, a fiber shape, and a rod shape, and those having spike-like protrusions on the surface of the particles are preferable. By using conductive particles having spike-like protrusions, a tunnel current easily flows between adjacent particles, so that the room temperature resistance value can be further lowered while sufficiently ensuring the resistance change rate of the thermistor. Further, since the distance between the centers of the particles can be increased as compared with the spherical particles, a larger resistance change rate can be obtained. Furthermore, the variation in the room temperature resistance value of the thermistor can be reduced compared to the case where fibrous particles are used.

スパイク状の突起を有する導電性粒子は、一次粒子が個別に分散した粉体であってもよいが、10〜1000個程度の一次粒子が鎖状に連なりフィラメント状の二次粒子を形成しているものが好ましい。また、その材質は金属が好ましく、ニッケルを主成分とするものがより好ましい。さらに、導電性粒子は、比表面積が0.3〜3.0m/gであって、見かけ密度が3.0g/cm以下であることが好ましい。ここで、「比表面積」とは、BET一点法に基づく窒素ガス吸着法により求められる比表面積のことを意味する。 The conductive particles having spike-shaped protrusions may be powders in which primary particles are individually dispersed, but about 10 to 1000 primary particles are connected in a chain to form filament-shaped secondary particles. Is preferred. Further, the material is preferably a metal, and more preferably a material mainly composed of nickel. Furthermore, the conductive particles preferably have a specific surface area of 0.3 to 3.0 m 2 / g and an apparent density of 3.0 g / cm 3 or less. Here, the “specific surface area” means a specific surface area determined by a nitrogen gas adsorption method based on the BET single point method.

また、導電性粒子の一次粒子の平均粒径は、0.1〜7.0μmであることが好ましく、0.5〜5.0μmであることがより好ましい。ここで、一次粒子の平均粒径はフィッシャー・サブシーブ法で測定される値とする。   The average particle size of the primary particles of the conductive particles is preferably 0.1 to 7.0 μm, and more preferably 0.5 to 5.0 μm. Here, the average particle size of the primary particles is a value measured by the Fischer sub-sieving method.

商業的に入手可能なスパイク状の突起を有する導電性粒子としては、例えば、「INC
O Type210」、「INCO Type255」、「INCO Type270」、「INCO Type287」(いずれもINCO社製、商品名)等が挙げられる。
Examples of commercially available conductive particles having spike-like protrusions include “INC”.
O Type 210 "," INCO Type 255 "," INCO Type 270 "," INCO Type 287 "(all are trade names, manufactured by INCO), and the like.

サーミスタ素体における導電性粒子の含有割合は、サーミスタ素体全体を基準として5〜90質量%であることが好ましく、60〜80質量%であることがより好ましい。導電性粒子の含有割合が50質量%未満であると、低い室温抵抗値が得られ難くなる傾向にあり、90質量%を超えると、大きな抵抗変化率を得ることが困難になる傾向にある。   The content ratio of the conductive particles in the thermistor body is preferably 5 to 90% by mass, and more preferably 60 to 80% by mass based on the whole thermistor body. When the content ratio of the conductive particles is less than 50% by mass, it tends to be difficult to obtain a low room temperature resistance value, and when it exceeds 90% by mass, it tends to be difficult to obtain a large resistance change rate.

(サーミスタの製造方法)
次に、サーミスタ10の製造方法の一実施形態について説明する。図2〜図6は、サーミスタ10の一連の製造工程を示す図である。
(Thermistor manufacturing method)
Next, an embodiment of a method for manufacturing the thermistor 10 will be described. 2-6 is a figure which shows a series of manufacturing processes of the thermistor 10. FIG.

サーミスタ10は、一対の金属箔12,13上にそれぞれ、熱硬化性樹脂及び導電性粒子を含有するペーストを塗布して樹脂組成物層14,15を形成し、一対の積層体16,17を得る塗布工程と、一対の積層体16,17を、樹脂組成物層14,15同士を向かい合せた状態で貼り合せて貼り合せ体18を得る貼合せ工程と、貼り合せ体18を熱処理し、一対の金属箔12,13の間にサーミスタ素体1を得る熱処理工程と、熱処理後の貼り合せ体18を所定形状及び大きさに裁断してサーミスタ10を得る裁断工程とを含む製造方法によって、得ることができる。すなわち、本実施形態の製造方法では、第1ペースト及び第2ペーストが共通のペーストで構成され、第1樹脂組成物層及び第2樹脂組成物層が共通の樹脂組成物で構成されている。また積層体16が第1積層体に対応し、積層体17が第2積層体に対応している。   The thermistor 10 applies a paste containing a thermosetting resin and conductive particles on a pair of metal foils 12 and 13 to form resin composition layers 14 and 15, respectively. A coating step to obtain, a laminating step of laminating the pair of laminates 16 and 17 in a state where the resin composition layers 14 and 15 face each other to obtain a laminating body 18, and a heat treatment of the laminating body 18; By a manufacturing method including a heat treatment step for obtaining the thermistor body 1 between the pair of metal foils 12 and 13 and a cutting step for obtaining the thermistor 10 by cutting the bonded body 18 after the heat treatment into a predetermined shape and size, Obtainable. That is, in the manufacturing method of the present embodiment, the first paste and the second paste are constituted by a common paste, and the first resin composition layer and the second resin composition layer are constituted by a common resin composition. In addition, the stacked body 16 corresponds to the first stacked body, and the stacked body 17 corresponds to the second stacked body.

上記製造方法によれば、得られるサーミスタ10間で初期室温抵抗値のばらつきを十分に低減することができ、一定品質のサーミスタ10を安定して得ることができる。この理由は明らかではないが、ペーストの塗布後、導電性粒子の沈降により、金属箔の塗布面と導電性粒子とのコンタクトが向上すること、及び、従来のように一対の金属箔の片面にのみペーストを塗布する片面塗布では一方の電極を形成するときに金属箔とサーミスタ素体との間に空気が取り込まれてしまい、その空気が外部に放出されずサーミスタの完成後も残ってしまう可能性があるが、本発明の製造方法では、金属箔とサーミスタ素体との間に空気が取り込まれず、サーミスタの完成後も残らないことに起因するのではないかと考えれられる。また、ペースト中に含まれる樹脂として熱硬化性樹脂を用いることで、初期室温抵抗値のばらつきが特に十分に低減されることに加え、初期室温抵抗値をも十分に低下させることができる。   According to the above manufacturing method, the variation in initial room temperature resistance value among the obtained thermistors 10 can be sufficiently reduced, and a thermistor 10 having a constant quality can be obtained stably. The reason for this is not clear, but after applying the paste, the contact between the coated surface of the metal foil and the conductive particles is improved by the sedimentation of the conductive particles, and on one side of the pair of metal foils as in the past. In single-sided coating, where only the paste is applied, when one electrode is formed, air is taken in between the metal foil and the thermistor body, and the air is not released to the outside and may remain after the thermistor is completed. However, in the manufacturing method of the present invention, it is considered that air is not taken in between the metal foil and the thermistor body and does not remain after the thermistor is completed. In addition, by using a thermosetting resin as the resin contained in the paste, the initial room temperature resistance value can be sufficiently lowered in addition to the variation of the initial room temperature resistance value being sufficiently sufficiently reduced.

上記ペーストは、各種撹拌機、分散機、ミル等の装置を用いて、上述した構成成分、即ち熱硬化性樹脂及び導電性粒子を混合することにより得られる。このとき、低粘度化のために、熱硬化性樹脂及び導電性粒子からなる樹脂組成物に対し、アルコールやアセトンに代表されるような各種有機溶剤や、反応性希釈剤等の溶媒を加えてもよい。混合時間は、特に限定されないが、通常、10〜30分間混合することで、各成分を均一に溶解又は分散させることができる。また、混合温度は、特に限定されないが、例えば25〜80℃とすればよい。なお、混合温度が100℃以上であると混合中に樹脂が硬化してしまうおそれがある。混合後の樹脂組成物は、混合中に混入した気泡を除去するため、真空下で脱泡することが好ましい。   The paste is obtained by mixing the above-described components, that is, a thermosetting resin and conductive particles, using various types of stirrers, dispersers, mills, and the like. At this time, in order to lower the viscosity, various organic solvents such as alcohol and acetone, and a solvent such as a reactive diluent are added to the resin composition composed of the thermosetting resin and the conductive particles. Also good. Although mixing time is not specifically limited, Usually, each component can be uniformly dissolved or dispersed by mixing for 10 to 30 minutes. Moreover, although mixing temperature is not specifically limited, What is necessary is just to be 25-80 degreeC, for example. In addition, there exists a possibility that resin may harden during mixing that mixing temperature is 100 degreeC or more. The mixed resin composition is preferably defoamed under vacuum in order to remove bubbles mixed in during mixing.

この樹脂組成物を含有するペーストをそれぞれ金属箔12,13上に塗布して、金属箔12,13の片面に樹脂組成物層14,15が形成された積層体16,17を得る。このとき、樹脂組成物層14,15の厚さは同一であることが、抵抗値のばらつきをより低減する観点からは好ましい。また金属箔12,13の表面は予め粗面化されていることが好ましい。この場合、樹脂組成物層14中の導電性粒子と金属箔12との密着性、及び樹脂組成物層15中の導電性粒子と金属箔13との密着性を十分に確保でき、初期室温抵抗値のばらつきをより低減することができる。   The paste containing the resin composition is applied onto the metal foils 12 and 13, respectively, to obtain laminates 16 and 17 in which the resin composition layers 14 and 15 are formed on one side of the metal foils 12 and 13, respectively. At this time, the thicknesses of the resin composition layers 14 and 15 are preferably the same from the viewpoint of further reducing variation in resistance value. The surfaces of the metal foils 12 and 13 are preferably roughened in advance. In this case, the adhesiveness between the conductive particles in the resin composition layer 14 and the metal foil 12 and the adhesiveness between the conductive particles in the resin composition layer 15 and the metal foil 13 can be sufficiently secured, and the initial room temperature resistance. Variation in values can be further reduced.

続いて、貼合せ工程において、一対の積層体16,17を、各々の樹脂組成物層14,15を向かい合わせた状態で貼り合せて貼り合せ体18を得る。このとき、金属箔12,13と樹脂組成物層14,15とが密着するように全体を加圧することが好ましい。   Subsequently, in the bonding step, the pair of laminated bodies 16 and 17 are bonded together with the resin composition layers 14 and 15 facing each other to obtain a bonded body 18. At this time, it is preferable to pressurize the whole so that the metal foils 12 and 13 and the resin composition layers 14 and 15 are in close contact with each other.

熱処理工程においては、樹脂組成物層14,15を構成している樹脂組成物が十分に硬化するように、貼り合せ体18を所定の温度で所定時間加熱する。このときの加熱の条件は、硬化剤の種類等に応じて、硬化が十分に進行するように適宜設定すればよい。例えば、硬化剤として酸無水物を用いる場合、80〜200℃で、30〜600分加熱することにより、通常、硬化を十分進行させることができる。なお、この熱処理工程は加圧しながら行ってもよく、この場合、上記貼合せ工程と熱処理工程とを同時に又は連続的に行ってもよい。   In the heat treatment step, the bonded body 18 is heated at a predetermined temperature for a predetermined time so that the resin compositions constituting the resin composition layers 14 and 15 are sufficiently cured. What is necessary is just to set suitably the conditions of the heating at this time so that hardening may fully advance according to the kind etc. of hardening | curing agent. For example, when an acid anhydride is used as a curing agent, curing can usually proceed sufficiently by heating at 80 to 200 ° C. for 30 to 600 minutes. In addition, you may perform this heat processing process, pressing, and in this case, you may perform the said bonding process and heat processing process simultaneously or continuously.

そして、裁断工程において、樹脂組成物が硬化した貼り合せ体18を、打ち抜き等により所望の形状(例えば、3.6mm×9mm)に裁断することにより、サーミスタ10を得ることができる。打ち抜きは、ネコプレス等、サーミスタを得るために通常用いられる方法で行うことができる。   In the cutting step, the thermistor 10 can be obtained by cutting the bonded body 18 having the cured resin composition into a desired shape (for example, 3.6 mm × 9 mm) by punching or the like. The punching can be performed by a method usually used for obtaining a thermistor, such as a cat press.

さらに、必要に応じて、金属箔からなる電極2及び電極3の表面に、それぞれリードを接合することにより、リードを有するサーミスタを作製できる。   Furthermore, if necessary, a thermistor having a lead can be produced by bonding the lead to the surfaces of the electrode 2 and the electrode 3 made of metal foil.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば上記実施形態では、ペースト中の樹脂として熱硬化性樹脂を用いているが、熱硬化性樹脂に代えて熱可塑性樹脂を用いてもよい。また、金属箔12上に塗布するペースト中の樹脂は熱硬化性樹脂であり、金属箔13上に塗布するペースト中の樹脂は熱可塑性樹脂であってもよく、逆に、金属箔12上に塗布するペースト中の樹脂は熱可塑性樹脂であり、金属箔13上に塗布するペースト中の樹脂は熱硬化性樹脂であってもよい。   The present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the above-described embodiment, a thermosetting resin is used as the resin in the paste, but a thermoplastic resin may be used instead of the thermosetting resin. Further, the resin in the paste applied on the metal foil 12 may be a thermosetting resin, and the resin in the paste applied on the metal foil 13 may be a thermoplastic resin. The resin in the paste to be applied may be a thermoplastic resin, and the resin in the paste to be applied on the metal foil 13 may be a thermosetting resin.

また上記実施形態では、第1ペースト及び第2ペーストが共通のペーストで構成され、第1樹脂組成物層及び第2樹脂組成物層が共通の樹脂組成物で構成されている。また積層体16が第1積層体に対応し、積層体17が第2積層体に対応しているが、第1ペースト及び第2ペーストは異なる組成のペーストで構成されてもよい。即ち、金属箔12上に塗布されるペーストと金属箔13上に塗布されるペーストとで、樹脂および導電性粒子の少なくとも1つが異なっていてもよい。また金属箔12上に塗布されるペーストと金属箔13上に塗布されるペーストとで、樹脂および導電性粒子は共通であってもよく、その場合、樹脂に対する導電性粒子の含有率が異なっていてもよい。   Moreover, in the said embodiment, the 1st paste and the 2nd paste are comprised with the common paste, and the 1st resin composition layer and the 2nd resin composition layer are comprised with the common resin composition. Moreover, although the laminated body 16 respond | corresponds to a 1st laminated body and the laminated body 17 respond | corresponds to a 2nd laminated body, a 1st paste and a 2nd paste may be comprised with the paste of a different composition. That is, at least one of the resin and the conductive particles may be different between the paste applied onto the metal foil 12 and the paste applied onto the metal foil 13. In addition, the paste applied on the metal foil 12 and the paste applied on the metal foil 13 may have the same resin and conductive particles, in which case the content of the conductive particles relative to the resin is different. May be.

更に上記実施形態の製造方法は、貼り合せ体18を裁断する裁断工程を含んでいるが、金属箔12,13がそのままサーミスタ10の電極2,3となる場合には、裁断工程は不要である。この場合、貼り合せ体18がサーミスタ10となる。
更に上記実施形態では、貼り合せ体18が裁断されてサーミスタ10が得られているが、貼り合せ体18の一部がくり抜かれることによってサーミスタ10が得られてもよい。
Furthermore, although the manufacturing method of the said embodiment includes the cutting process which cuts the bonding body 18, when the metal foils 12 and 13 become the electrodes 2 and 3 of the thermistor 10 as they are, a cutting process is unnecessary. . In this case, the bonded body 18 becomes the thermistor 10.
Furthermore, in the said embodiment, the bonded body 18 is cut | judged and the thermistor 10 is obtained, However, The thermistor 10 may be obtained by a part of the bonded body 18 being hollowed out.

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

(実施例1)
ポリエポキシ化合物(メチルテトラヒドロ無水フタル酸)の混合物からなるエポキシ樹脂(商品名、旭電化社製「EP−4005」)と、エポキシ樹脂(商品名、旭電化社製「EP−4080S」)と、酸無水物からなる硬化剤(商品名、大日本インキ化学工業社製「B570」)と、硬化促進剤である(商品名、味の素社製「PN−40J」)と、導電性粒子であるフィラメント状ニッケルパウダ(商品名「Type255ニッケルパウダ」、INCO社製、平均粒径2.2〜2.8μm、見かけ密度0.5〜0.65g/cm、比表面積0.68m/g)とを混合して、樹脂組成物を調製した。
Example 1
An epoxy resin (trade name, “EP-4005” manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.) composed of a mixture of polyepoxy compounds (methyltetrahydrophthalic anhydride), an epoxy resin (trade name, “EP-4080S” manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.), Curing agent made of acid anhydride (trade name, “B570” manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), curing accelerator (trade name, “PN-40J” manufactured by Ajinomoto Co., Inc.), and filaments that are conductive particles Nickel powder (trade name “Type 255 nickel powder”, manufactured by INCO, average particle size 2.2 to 2.8 μm, apparent density 0.5 to 0.65 g / cm 3 , specific surface area 0.68 m 2 / g) Were mixed to prepare a resin composition.

樹脂組成物の調製においては、まず、エポキシ樹脂である「EP−4005」と「EP4080S」との混合比(重量比)が70:30となるよう混合するとともに、これらエポキシ樹脂全体に対して、硬化剤(B570)を53質量%、硬化促進剤(PN−40J)を1質量%添加した混合物を、ホモジナイザ(セルマスター)を用いて攪拌した。そして、この混合物に、導電性粒子を、導電性粒子を含む樹脂組成物全体に対して75質量%となるような量だけ添加してから更に攪拌して、樹脂組成物を得た。   In the preparation of the resin composition, first, mixing is performed such that the mixing ratio (weight ratio) of the epoxy resins “EP-4005” and “EP4080S” is 70:30, and for the entire epoxy resin, A mixture containing 53% by mass of the curing agent (B570) and 1% by mass of the curing accelerator (PN-40J) was stirred using a homogenizer (Cell Master). Then, the conductive particles were added to this mixture by an amount that would be 75% by mass with respect to the entire resin composition containing the conductive particles, and then further stirred to obtain a resin composition.

上記で得られた樹脂組成物をニッケル箔上に厚さ0.25mmとなるように塗布して樹脂組成物層を形成し、積層体を準備した。そして、同様の構成の積層体をもう一つ準備した。そして、樹脂組成物層が互いに向き合うように積層体を貼り合わせて貼り合せ体を作製し、この貼り合せ体をシート状にプレス成形し、130℃で10時間加熱して硬化を行った。こうして得られた熱処理後の貼り合わせ体を、ネコプレスによって3.6×9.0mmの形状に打ち抜いて、サーミスタを得た。   The resin composition obtained above was applied on a nickel foil to a thickness of 0.25 mm to form a resin composition layer, and a laminate was prepared. Then, another laminate having the same configuration was prepared. And a laminated body was bonded together so that a resin composition layer might face each other, the bonded body was produced, this bonded body was press-molded into a sheet form, and it hardened by heating at 130 ° C for 10 hours. The bonded body after heat treatment thus obtained was punched into a 3.6 × 9.0 mm shape with a cat press to obtain a thermistor.

(実施例2)
一方のニッケル箔上に塗布する硬化性樹脂組成物の厚さを0.05mmとし、他方のニッケル箔上に塗布する硬化性樹脂組成物の厚さを0.45mmとしたこと以外は、実施例1と同様にしてサーミスタを得た。
(Example 2)
Example, except that the thickness of the curable resin composition applied on one nickel foil was 0.05 mm and the thickness of the curable resin composition applied on the other nickel foil was 0.45 mm The thermistor was obtained in the same manner as in 1.

(比較例1)
一方のニッケル箔上に塗布する硬化性樹脂組成物の厚さを0.50mmとし、他方のニッケル箔上に塗布する硬化性樹脂組成物の厚さを0mmとしたこと以外は、実施例1と同様にしてサーミスタを得た。
(Comparative Example 1)
Example 1 except that the thickness of the curable resin composition applied on one nickel foil was 0.50 mm and the thickness of the curable resin composition applied on the other nickel foil was 0 mm. A thermistor was obtained in the same manner.

上記のようにして実施例1,2及び比較例1のサーミスタをそれぞれ25個準備し、これらのサーミスタについて、4端子法で抵抗値を測定して温度―抵抗曲線を得た。得られた温度−抵抗曲線から、サーミスタの初期室温抵抗値を算出した。そして、25個のサーミスタにおいて、初期室温抵抗値の最小値(MIN室温抵抗値)、最大値(MAX室温抵抗値)、最大値と最小値との差、平均初期室温抵抗値、抵抗値ばらつき率を算出した。結果を表1に示す。なお、抵抗値ばらつき率は、平均初期室温抵抗値を差で除した値である。

Figure 2006245065

Twenty-five thermistors of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 were prepared as described above, and the resistance values of these thermistors were measured by a four-terminal method to obtain temperature-resistance curves. The initial room temperature resistance value of the thermistor was calculated from the obtained temperature-resistance curve. In 25 thermistors, the minimum initial room temperature resistance value (MIN room temperature resistance value), the maximum value (MAX room temperature resistance value), the difference between the maximum value and the minimum value, the average initial room temperature resistance value, and the resistance value variation rate Was calculated. The results are shown in Table 1. The resistance value variation rate is a value obtained by dividing the average initial room temperature resistance value by the difference.

Figure 2006245065

表1に示す結果より、実施例1及び実施例2の製造方法によれば、比較例1の製造方法に比べて、抵抗値ばらつき率が格段に小さくなることが分かった。また実施例1及び実施例2の結果より、サーミスタ素体の厚さが同じであれば、一対のニッケル箔上にそれぞれ形成する樹脂組成物層の厚さの割合に関係なく、同様の抵抗値ばらつき率が得られることが確認された。   From the results shown in Table 1, it was found that according to the manufacturing methods of Example 1 and Example 2, the resistance value variation rate was remarkably reduced as compared with the manufacturing method of Comparative Example 1. In addition, from the results of Example 1 and Example 2, if the thermistor body has the same thickness, the resistance value is the same regardless of the ratio of the thickness of the resin composition layer formed on the pair of nickel foils. It was confirmed that the variation rate was obtained.

この結果より、本発明の製造方法によれば、得られるサーミスタ間で初期室温抵抗値のばらつきを十分に低減できることが確認された。   From this result, according to the manufacturing method of this invention, it was confirmed that the dispersion | variation in an initial room temperature resistance value can fully be reduced between the obtained thermistors.

なお、実施例1及び2によれば、平均室温抵抗値も十分に低減されることが確認された。   In addition, according to Examples 1 and 2, it was confirmed that an average room temperature resistance value is also sufficiently reduced.

本発明に係るサーミスタの製造方法により得られるサーミスタの一例を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view showing typically an example of the thermistor obtained by the thermistor manufacturing method concerning the present invention. 本発明のサーミスタの製造方法の一実施形態における一工程を示す図である。It is a figure which shows 1 process in one Embodiment of the manufacturing method of the thermistor of this invention. 本発明のサーミスタの製造方法の一実施形態における一工程を示す図である。It is a figure which shows 1 process in one Embodiment of the manufacturing method of the thermistor of this invention. 本発明のサーミスタの製造方法の一実施形態における一工程を示す図である。It is a figure which shows 1 process in one Embodiment of the manufacturing method of the thermistor of this invention. 本発明のサーミスタの製造方法の一実施形態における一工程を示す図である。It is a figure which shows 1 process in one Embodiment of the manufacturing method of the thermistor of this invention. 本発明のサーミスタの製造方法の一実施形態における一工程を示す図である。It is a figure which shows 1 process in one Embodiment of the manufacturing method of the thermistor of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…サーミスタ素体、2,3…電極、10…サーミスタ、12…金属箔(第1金属箔)、13…金属箔(第2金属箔)、14…樹脂組成物層(第1樹脂組成物層)、15…樹脂組成物層(第2樹脂組成物層)、16…積層体(第1積層体)、17…積層体(第2積層体)、18…貼り合せ体。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Thermistor body, 2, 3 ... Electrode, 10 ... Thermistor, 12 ... Metal foil (first metal foil), 13 ... Metal foil (second metal foil), 14 ... Resin composition layer (first resin composition) Layer), 15 ... resin composition layer (second resin composition layer), 16 ... laminate (first laminate), 17 ... laminate (second laminate), 18 ... bonded body.

Claims (2)

第1金属箔上に、樹脂及び導電性粒子を含有する第1ペーストを塗布して第1樹脂組成物層を形成して第1積層体を得る第1塗布工程と、
第2金属箔上に、樹脂及び導電性粒子を含有する第2ペーストを塗布して第2樹脂組成物層を形成して第2積層体を得る第2塗布工程と、
前記第1積層体及び前記第2積層体を、前記第1樹脂組成物層及び前記第2樹脂組成物層を向かい合わせた状態で貼り合わせて貼り合せ体を得る貼合せ工程と、
前記貼り合せ体を熱処理し、前記第1金属箔及び前記第2金属箔の間にサーミスタ素体を得る熱処理工程と、
前記熱処理工程後の前記貼り合せ体から、第1電極と第2電極との間に前記サーミスタ素体が配置されたサーミスタを得る工程と、
を含むことを特徴とするサーミスタの製造方法。
A first application step of applying a first paste containing a resin and conductive particles on the first metal foil to form a first resin composition layer to obtain a first laminate;
A second coating step of applying a second paste containing a resin and conductive particles on the second metal foil to form a second resin composition layer to obtain a second laminate;
A laminating step of laminating the first laminated body and the second laminated body with the first resin composition layer and the second resin composition layer facing each other to obtain a laminated body;
Heat-treating the bonded body to obtain a thermistor body between the first metal foil and the second metal foil; and
Obtaining a thermistor in which the thermistor body is disposed between the first electrode and the second electrode from the bonded body after the heat treatment step;
A thermistor manufacturing method characterized by comprising:
前記第1塗布工程及び前記第2塗布工程において、前記樹脂が熱硬化性樹脂である、請求項1に記載のサーミスタの製造方法。
The thermistor manufacturing method according to claim 1, wherein the resin is a thermosetting resin in the first application step and the second application step.
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