JP2006186268A - Thermistor - Google Patents

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Yukie Mori
由紀江 森
Tomoji Shirai
智士 白井
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermistor in which a sufficiently small room temperature resistance value is maintained even after receiving heating history in a reflow process etc. while using an organic material as a thermistor element body. <P>SOLUTION: The thermistor 10 comprises a pair of facing electrodes 2 and 3, and the thermistor element body 1 which is arranged between the pair of electrodes 2 and 3 and contains a cured material of a cured resin composition comprising a heat-curing resin and conductive particles. A glass transition temperature of the cured material of the thermistor 10 is 110°C or below. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、有機系の材料をサーミスタ素体として用いたサーミスタに関する。   The present invention relates to a thermistor using an organic material as a thermistor body.

ポリマー層及びこれに分散した導電性粒子で構成される材料をサーミスタ素体として用いたサーミスタは、一般に、有機質サーミスタ等と称されるものであり、特に、温度上昇とともに抵抗値が急激に増大するPTC(Positive Temperature Coefficient:正の温度係数)特性を有するものは、有機質正特性サーミスタと称される場合がある。このようなサーミスタは、過電流・加熱保護素子、自己制御型発熱体、温度センサー等のデバイスに用いられる。   A thermistor using a material composed of a polymer layer and conductive particles dispersed therein as a thermistor body is generally referred to as an organic thermistor, and its resistance value increases rapidly as the temperature rises. Those having a PTC (Positive Temperature Coefficient) characteristic may be referred to as an organic positive temperature coefficient thermistor. Such thermistors are used in devices such as overcurrent / heat protection elements, self-control heating elements, temperature sensors and the like.

有機質サーミスタとしては、例えば、熱硬化性樹脂であるエポキシ樹脂に導電性粒子を分散させた材料をサーミスタ素体として用いたものが提案されている(特許文献1)。
国際公開第2004/086421号パンフレット
As the organic thermistor, for example, an organic thermistor using a material in which conductive particles are dispersed in an epoxy resin, which is a thermosetting resin, is used as a thermistor element (Patent Document 1).
International Publication No. 2004/086421 Pamphlet

しかしながら、従来の有機質サーミスタは、基板上に実装するためのリフロー工程の際等に受ける熱履歴によって、熱履歴を受ける前よりも室温抵抗値が大きく上昇してしまうという問題があった。室温抵抗値が大きくなると、サーミスタとして機能させること自体が困難となる。   However, the conventional organic thermistor has a problem that the room temperature resistance value is greatly increased due to the thermal history received during the reflow process for mounting on the substrate than before the thermal history is received. When the room temperature resistance value increases, it becomes difficult to function as a thermistor.

そこで、本発明は、有機系の材料をサーミスタ素体として用いながら、リフロー工程等における熱履歴を受けた後でも十分に低い室温抵抗値を維持することが可能なサーミスタを提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a thermistor capable of maintaining a sufficiently low room temperature resistance value even after receiving a thermal history in a reflow process or the like while using an organic material as a thermistor body. To do.

上記課題を解決するべく鋭意検討し、本発明者らは、熱履歴を受けた後の室温抵抗値の上昇が、サーミスタ素体を構成する硬化物のガラス転移温度の影響を大きく受けていることを見出した。そして、この知見に基づいて更に検討した結果、本発明の完成に至った。   The present inventors have intensively studied to solve the above problems, and the inventors of the present invention are that the increase in the room temperature resistance value after receiving the thermal history is greatly influenced by the glass transition temperature of the cured product constituting the thermistor body. I found. As a result of further investigation based on this finding, the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、対向する1対の電極と、当該1対の電極間に配置され熱硬化性樹脂及び導電性粒子を含有する硬化性樹脂組成物の硬化物を含んだサーミスタ素体と、を備え、上記硬化物のガラス転移温度が110℃以下であるサーミスタである。   That is, the present invention comprises a thermistor body including a pair of opposed electrodes, a cured product of a curable resin composition disposed between the pair of electrodes and containing a thermosetting resin and conductive particles, A thermistor having a glass transition temperature of 110 ° C. or lower.

本発明のサーミスタは、サーミスタ素体中の熱硬化性樹脂の硬化物が、上記特定範囲のガラス転移温度を有していることにより、リフロー工程等における熱履歴を受けた後でも十分に低い室温抵抗値を維持することができる。   The thermistor of the present invention has a sufficiently low room temperature even after receiving a thermal history in a reflow process or the like because the cured product of the thermosetting resin in the thermistor body has a glass transition temperature in the specific range. The resistance value can be maintained.

上記硬化物のガラス転移温度は、20℃以上であることが好ましい。これにより、サーミスタ素体を室温から高温に加熱したときの抵抗値の変化率(抵抗変化率)を特に大きくすることができる。   The glass transition temperature of the cured product is preferably 20 ° C. or higher. Thereby, the rate of change in resistance value (resistance rate of change) when the thermistor body is heated from room temperature to high temperature can be particularly increased.

上記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂及びこれの硬化剤を含有することが好ましい。これにより、熱履歴を受けた後の室温抵抗値をより低く維持することができる。   The thermosetting resin preferably contains an epoxy resin and a curing agent thereof. Thereby, the room temperature resistance value after receiving the thermal history can be kept lower.

更に、エポキシ樹脂及びこれの硬化剤の全体の平均分子量が、300〜1000であることがより好ましい。このような特定の平均分子量とすることで、熱履歴を受けた後の室温抵抗値をより一層低く維持することができる。   Furthermore, it is more preferable that the total average molecular weight of the epoxy resin and the curing agent thereof is 300 to 1000. By setting it as such a specific average molecular weight, the room temperature resistance value after receiving a thermal history can be kept still lower.

また、上記エポキシ樹脂は、複数のグリシジルエーテル基と、下記一般式(11)、(12)、(13)又は(14)で表される2価の基及び2価の脂環基のうち少なくとも一方の部分構造と、を有するポリエポキシ化合物を含むことが好ましい。これにより、硬化物のガラス転移温度を上記特定範囲に調整することが特に容易になる。   The epoxy resin includes at least one of a plurality of glycidyl ether groups, a divalent group represented by the following general formula (11), (12), (13), or (14) and a divalent alicyclic group. It is preferable that the polyepoxy compound which has one partial structure is included. This makes it particularly easy to adjust the glass transition temperature of the cured product to the specific range.

Figure 2006186268
式(11)、(12)、(13)及び(14)中、a、b、c及びdはそれぞれ独立に1〜20の整数を示す。
Figure 2006186268
In formulas (11), (12), (13) and (14), a, b, c and d each independently represent an integer of 1 to 20.

エポキシ樹脂と組み合わせる硬化剤は、酸無水物を含むことが好ましく、下記化学式(21)、(22)、(23)又は(24)で表される酸無水物を含むことがより好ましい。これにより、硬化物のガラス転移温度を上記特定範囲に調整することが特に容易になる。   The curing agent combined with the epoxy resin preferably contains an acid anhydride, and more preferably contains an acid anhydride represented by the following chemical formula (21), (22), (23) or (24). This makes it particularly easy to adjust the glass transition temperature of the cured product to the specific range.

Figure 2006186268
式(21)中、Rは炭素数4〜20の炭化水素基を示す。
Figure 2006186268
In formula (21), R 1 represents a hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms.

Figure 2006186268
式(22)中、Rは炭素数1〜20の炭化水素基を示し、pは1〜3の整数を示し、同一分子中の複数のRは同一でも異なっていてもよい。
Figure 2006186268
In Formula (22), R 2 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, p represents an integer of 1 to 3, and a plurality of R 2 in the same molecule may be the same or different.

Figure 2006186268
式(23)中、Xは炭素数4以上の2価の炭化水素基を示し、qは1〜20の整数を示す。
Figure 2006186268
In the formula (23), X represents a divalent hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms, and q represents an integer of 1 to 20.

Figure 2006186268
式(24)中、Zは炭素数2以上の2価又は3価の有機基を示し、rは2又は3を示す。
Figure 2006186268
In formula (24), Z represents a divalent or trivalent organic group having 2 or more carbon atoms, and r represents 2 or 3.

本発明によれば、有機系の材料をサーミスタ素体として用いながら、リフロー工程等における熱履歴を受けた後でも十分に低い室温抵抗値を維持することが可能なサーミスタが提供される。   According to the present invention, there is provided a thermistor capable of maintaining a sufficiently low room temperature resistance value even after receiving a thermal history in a reflow process or the like while using an organic material as a thermistor body.

以下に、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments.

図1は、本発明によるサーミスタの好適な一実施形態を模式的に示す斜視図である。図1に示すサーミスタ10は、互いに対向するように配置された1対の電極2及び電極3と、電極2及び電極3の間においてそれぞれの電極に密着して設けられ正の抵抗−温度特性を有するサーミスタ素体1と、から構成され、全体として略直方体状をなしている。サーミスタ10には、必要に応じて、電極2に電気的に接続されたリード(図示せず)と、電極3に電気的に接続されたリード(図示せず)とが更に設けられてもよい。このサーミスタ10は、過電流・加熱保護素子、自己制御型発熱体、温度センサ等として好適に用いることができる。   FIG. 1 is a perspective view schematically showing a preferred embodiment of a thermistor according to the present invention. The thermistor 10 shown in FIG. 1 is provided in close contact with each electrode between a pair of electrodes 2 and 3 arranged so as to face each other, and between the electrodes 2 and 3, and has a positive resistance-temperature characteristic. And a thermistor body 1 having a substantially rectangular parallelepiped shape as a whole. The thermistor 10 may be further provided with a lead (not shown) electrically connected to the electrode 2 and a lead (not shown) electrically connected to the electrode 3 as necessary. . The thermistor 10 can be suitably used as an overcurrent / heat protection element, a self-control heating element, a temperature sensor, or the like.

電極2及び電極3は、サーミスタの電極として機能する導電性の材料で形成されている。電極2及び電極3を構成する材料としては、ニッケル、銀、金、アルミニウム等の金属や、炭素からなることが好ましい。また、その厚さは1〜100μmであることが好ましく、サーミスタの軽量化の点からは、1〜50μmであることがより好ましい。また、リードは、それぞれ電極2及び電極3から外部に電荷を放出又は注入することが可能な電気伝導性を有していれば、その形状や材質について特に限定されない。   The electrode 2 and the electrode 3 are formed of a conductive material that functions as an electrode of the thermistor. The material constituting the electrodes 2 and 3 is preferably made of a metal such as nickel, silver, gold, or aluminum, or carbon. The thickness is preferably 1 to 100 μm, and more preferably 1 to 50 μm from the viewpoint of weight reduction of the thermistor. Further, the shape and the material of the lead are not particularly limited as long as they have electrical conductivity capable of discharging or injecting charges from the electrode 2 and the electrode 3 to the outside.

サーミスタ素体1は、熱硬化性樹脂及びこれに分散している導電性粒子を含有する硬化性樹脂組成物の硬化物で形成されており、この硬化物のガラス転移温度は110℃以下である。リフロー工程後の室温抵抗値をより低く維持するため、このガラス転移温度は100℃以下であることがより好ましく、90℃以下であることが更に好ましい。また、上記硬化物のガラス転移温度は20℃以上であることが好ましく、25℃以上であることがより好ましく、30℃以上であることが更に好ましい。このガラス転移温度が20℃未満であると、PTC動作時の抵抗値が小さくなることにより、抵抗変化率が小さくなってしまう傾向にある。抵抗変化率が小さすぎると、サーミスタとしての動作が困難となる。   The thermistor body 1 is formed of a cured product of a curable resin composition containing a thermosetting resin and conductive particles dispersed therein, and the glass transition temperature of the cured product is 110 ° C. or less. . In order to keep the room temperature resistance value after the reflow process lower, the glass transition temperature is more preferably 100 ° C. or less, and further preferably 90 ° C. or less. Moreover, it is preferable that the glass transition temperature of the said hardened | cured material is 20 degreeC or more, It is more preferable that it is 25 degreeC or more, It is still more preferable that it is 30 degreeC or more. If the glass transition temperature is less than 20 ° C., the resistance value during PTC operation tends to be small, and the resistance change rate tends to be small. If the resistance change rate is too small, the operation as a thermistor becomes difficult.

ここで、「ガラス転移温度」は、示唆走査熱量計(DSC)を用いて測定される。例えば、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気下で、室温若しくはこれ以下の温度から200℃までの温度範囲について、昇温速度10℃/分の条件で硬化物の発熱量及び吸熱量を測定したときのDSC曲線(横軸:温度)において、ガラス転移領域の低温側及び高温側それぞれのベースラインを延長した2本の直線から縦軸方向に等距離にある直線と、ガラス転移領域におけるDSC曲線との交点の温度をガラス転移温度とすることができる。なお、サーミスタ素体1を構成する硬化物のガラス転移温度は、通常、硬化物中のポリマー層(導電性粒子以外の部分)のガラス転移に由来する温度である。   Here, the “glass transition temperature” is measured using a suggested scanning calorimeter (DSC). For example, when the calorific value and the endothermic amount of the cured product are measured in a temperature range from room temperature or lower to 200 ° C. under an inert gas atmosphere such as helium at a temperature rising rate of 10 ° C./min. In the DSC curve (horizontal axis: temperature), the straight line equidistant in the vertical axis direction from the two straight lines obtained by extending the baseline on the low temperature side and the high temperature side of the glass transition region, and the DSC curve in the glass transition region The temperature of the intersection can be the glass transition temperature. In addition, the glass transition temperature of the hardened | cured material which comprises the thermistor element | base_body 1 is a temperature derived from the glass transition of the polymer layer (parts other than electroconductive particle) in hardened | cured material normally.

硬化物のガラス転移温度を110℃以下とする方法としては、後述するように、熱硬化性樹脂として特定の構造のものを用いる方法(特定の構造の架橋性化合物(ポリエポキシ化合物等)を含有する架橋性の樹脂を用いる方法、特定の構造の硬化剤を用いる方法等)、熱硬化性樹脂中にガラス転移温度を変化させるような可塑剤を添加する方法、硬化条件を適正化する方法などが挙げられる。   As a method of setting the glass transition temperature of the cured product to 110 ° C. or lower, as described later, a method using a thermosetting resin having a specific structure (including a crosslinkable compound (polyepoxy compound, etc.) having a specific structure) A method using a crosslinkable resin, a method using a curing agent having a specific structure, a method of adding a plasticizer that changes the glass transition temperature in a thermosetting resin, a method of optimizing curing conditions, etc. Is mentioned.

サーミスタ素体1の厚さは、0.2〜1.0mmであることが好ましい。サーミスタ素体層1の厚さが0.2mm未満であるか又は1.0mmを超えると、室温抵抗値のばらつきが大きくなる傾向にある。また、サーミスタ素体層1の厚さが0.2mm未満であると、ショートが発生して正常な室温抵抗値が得られなくなる傾向にある。   The thermistor body 1 preferably has a thickness of 0.2 to 1.0 mm. When the thickness of the thermistor body layer 1 is less than 0.2 mm or more than 1.0 mm, the variation in the room temperature resistance value tends to increase. When the thermistor body layer 1 has a thickness of less than 0.2 mm, a short circuit occurs and a normal room temperature resistance value tends not to be obtained.

上記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、フラン樹脂、ポリウレタン樹脂等の架橋性の樹脂と、これらの硬化剤とを含有するものである。なお、この硬化剤は、架橋性の樹脂等と反応して硬化物中の架橋構造の一部を構成するものであってもよいし、硬化反応の触媒として作用するものであってもよい。あるいは、触媒として作用するとともに架橋構造の一部を構成するものであってもよい。   The thermosetting resin contains a crosslinkable resin such as an epoxy resin, a phenol resin, an unsaturated polyester resin, a urea resin, a melamine resin, a furan resin, and a polyurethane resin, and these curing agents. In addition, this hardening | curing agent may react with a crosslinkable resin etc., may comprise a part of crosslinked structure in hardened | cured material, and may act as a catalyst of hardening reaction. Alternatively, it may act as a catalyst and constitute a part of the crosslinked structure.

熱硬化性樹脂としては、特に、エポキシ樹脂及びこれの硬化剤を含有するエポキシ樹脂組成物が好ましい。   Especially as a thermosetting resin, the epoxy resin composition containing an epoxy resin and its hardening | curing agent is preferable.

本発明においては、エポキシ樹脂は、複数のエポキシ基を有する単一又は複数種のポリエポキシ化合物からなる樹脂のことを意味する。このポリエポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、カテコール、レゾルシノール及びテトラメチルビフェニル等の多価フェノールのポリグリシジルエーテル、ビスフェノール化合物のアルキレンオキシド付加物、グリセリン及びポリアルキレングリコール等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、フタル酸及びテレフタル酸等のポリカルボン酸のポリグリシジルエステルが挙げられる。   In the present invention, the epoxy resin means a resin composed of a single or plural kinds of polyepoxy compounds having a plurality of epoxy groups. Examples of the polyepoxy compound include polyglycidyl ethers of polyhydric phenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, catechol, resorcinol, and tetramethylbiphenyl, alkylene oxide adducts of bisphenol compounds, glycerin, and polyalkylene glycols. Examples thereof include polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols, polyglycidyl esters of polycarboxylic acids such as phthalic acid and terephthalic acid.

エポキシ樹脂中のポリエポキシ化合物としては、上記一般式(11)、(12)、(13)又は(14)で表される直鎖状の2価のポリオキシアルキレン基からなるソフトセグメント及び2価の脂環基からなる脂環構造のうち少なくとも一方を有するものが好ましい。ソフトセグメントや脂環構造を有するポリエポキシ化合物を用いることによって、硬化物のガラス転移温度を上記特定範囲に調整することが特に容易になる。   Examples of the polyepoxy compound in the epoxy resin include a soft segment composed of a linear divalent polyoxyalkylene group represented by the general formula (11), (12), (13) or (14), and a divalent compound. Those having at least one of the alicyclic structures consisting of these alicyclic groups are preferred. By using a polyepoxy compound having a soft segment or an alicyclic structure, it becomes particularly easy to adjust the glass transition temperature of the cured product to the specific range.

上記ソフトセグメントとしては、上記のポリオキシアルキレン基の他、ポリアルキレン、ポリシロキサン、脂肪族酸、ポリブタジエン、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、ポリブチレン、ポリウレタン等から誘導される直鎖状の2価の有機基が挙げられる。   As the soft segment, in addition to the above polyoxyalkylene group, a linear divalent organic compound derived from polyalkylene, polysiloxane, aliphatic acid, polybutadiene, butadiene-acrylonitrile copolymer, polybutylene, polyurethane, etc. Groups.

ポリアルキレンとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられ、ポリシロキサンとしては、ポリジメチルシロキサン等が挙げられる。   Examples of the polyalkylene include polyethylene and polypropylene, and examples of the polysiloxane include polydimethylsiloxane.

ポリオキシアルキレン基を有するポリエポキシ化合物としては、ビスフェノール化合物のアルキレンオキシド付加物のポリグリシジルエーテルが好ましい。このようなポリエポキシ化合物の好適な具体例としては、下記一般式(1)又は(2)で表されるものが挙げられる。式(1)及び(2)中、L及びLは2価の有機基を示し、n、n、n及びnは、それぞれ独立に1以上の整数を示す。n、n、n及びnは、1〜20であることが好ましく、1〜10であることがより好ましい。 The polyepoxy compound having a polyoxyalkylene group is preferably a polyglycidyl ether of an alkylene oxide adduct of a bisphenol compound. Preferable specific examples of such a polyepoxy compound include those represented by the following general formula (1) or (2). In formulas (1) and (2), L 1 and L 2 each represent a divalent organic group, and n 1 , n 2 , n 3, and n 4 each independently represent an integer of 1 or more. n 1 , n 2 , n 3 and n 4 are preferably 1 to 20, and more preferably 1 to 10.

Figure 2006186268
Figure 2006186268

及びLとしては、下記化学式(31)、(32)又は(33)で表される2価の基が好ましい。 L 1 and L 2 are preferably divalent groups represented by the following chemical formula (31), (32) or (33).

Figure 2006186268
Figure 2006186268

ソフトセグメントを有する上記のようなポリエポキシ化合物としては、上記式(1)におけるLが上記式(31)で表される2価の基である、下記一般式(1a)で表される化合物が特に好ましい。 As the above polyepoxy compound having a soft segment, a compound represented by the following general formula (1a), wherein L 1 in the above formula (1) is a divalent group represented by the above formula (31) Is particularly preferred.

Figure 2006186268
Figure 2006186268

その他のソフトセグメントを有するポリエポキシ化合物の好適な例としては、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体(アクリロニトリル−ブタジエンゴム)のカルボキシル基とポリエポキシ化合物のエポキシ基との反応等によって得られるゴム変性エポキシ樹脂、末端にエポキシ基を有するエポキシ変性ポリシリコーン、アミノ変性ポリシリコーンとポリエポキシ化合物との反応によって得られるポリエポキシ化合物、ポリウレタンプレポリマー中のイソシアネート基とポリエポキシ化合物中の水酸基との反応によって得られるポリエポキシ化合物等が挙げられる。   As a suitable example of the polyepoxy compound having other soft segments, a rubber-modified epoxy resin obtained by a reaction of a carboxyl group of a butadiene-acrylonitrile copolymer (acrylonitrile-butadiene rubber) and an epoxy group of a polyepoxy compound, Epoxy-modified poly-silicone having an epoxy group at the end, poly-epoxy compound obtained by reaction of amino-modified poly-silicone and polyepoxy compound, poly-polyester obtained by reaction of isocyanate group in polyurethane prepolymer and hydroxyl group in polyepoxy compound An epoxy compound etc. are mentioned.

脂環構造を有するポリエポキシ化合物において、脂環基は、主として飽和炭化水素で構成される環状の2価の有機基であり、環を構成する原子として酸素原子、窒素原子及び硫黄原子等の異原子を含むものや、部分的に不飽和結合を有するものも含むこととする。また、この脂環基は置換基を有していてもよい。硬化物の可とう性を大きくするために、この脂環基としては、シクロヘキサン環、シクロペンタン環又はジシクロペンタジエン環からなる2価の基が好ましく、シクロヘキサン環又はシクロペンタン環からなる2価の基が特に好ましい。   In the polyepoxy compound having an alicyclic structure, the alicyclic group is a cyclic divalent organic group mainly composed of saturated hydrocarbons, and different atoms such as an oxygen atom, a nitrogen atom and a sulfur atom are included in the ring. Those including atoms and those partially having an unsaturated bond are also included. Moreover, this alicyclic group may have a substituent. In order to increase the flexibility of the cured product, the alicyclic group is preferably a divalent group consisting of a cyclohexane ring, a cyclopentane ring or a dicyclopentadiene ring, and a divalent group consisting of a cyclohexane ring or a cyclopentane ring. The group is particularly preferred.

脂環構造を有するポリエポキシ化合物の好適な具体例としては、例えば、下記化学式(3)、(4)、(5)、(6)、(7)又は(8)で表されるものが挙げられる。これらの中でも、式(3)、(4)又は(5)で表されるポリエポキシ化合物が特に好ましい。   Specific examples of suitable polyepoxy compounds having an alicyclic structure include those represented by the following chemical formula (3), (4), (5), (6), (7) or (8). It is done. Among these, the polyepoxy compound represented by the formula (3), (4) or (5) is particularly preferable.

Figure 2006186268
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エポキシ樹脂は、ソフトセグメント又は脂環構造を有するポリエポキシ化合物を、エポキシ樹脂全体のうち10〜100質量%含有することが好ましく、15〜95質量%含有することがより好ましい。ソフトセグメント又は脂環構造を有するポリエポキシ化合物の含有割合を上記範囲で適正化し、更にこれと組み合わせる硬化剤の種類を適宜選択することによって、通常、硬化物のガラス転移温度を110℃以下とすることができる。   The epoxy resin preferably contains a polyepoxy compound having a soft segment or an alicyclic structure in an amount of 10 to 100% by mass, more preferably 15 to 95% by mass, based on the entire epoxy resin. The content ratio of the polyepoxy compound having a soft segment or an alicyclic structure is optimized within the above range, and further, by appropriately selecting the type of curing agent to be combined therewith, the cured product usually has a glass transition temperature of 110 ° C. or lower. be able to.

エポキシ樹脂と組み合わせて用いる硬化剤としては、酸無水物、脂肪族ポリアミン、芳香族ポリアミン、ポリアミド、ポリフェノール、ポリメルカプタン、第三アミン及びルイス酸錯体等が挙げられる。これらの中でも、酸無水物が好ましい。酸無水物を用いると、脂肪族ポリアミン等のアミン系の硬化剤を用いる場合よりも、サーミスタの初期の室温抵抗値を低くしたり、抵抗変化率を大きくしたりすることができる傾向にある。   Examples of the curing agent used in combination with the epoxy resin include acid anhydrides, aliphatic polyamines, aromatic polyamines, polyamides, polyphenols, polymercaptans, tertiary amines, and Lewis acid complexes. Of these, acid anhydrides are preferred. When an acid anhydride is used, the initial room temperature resistance value of the thermistor tends to be lowered and the rate of change in resistance tends to be higher than when an amine-based curing agent such as an aliphatic polyamine is used.

酸無水物としては、上記一般式(11)、(12)、(13)又は(14)で表される酸無水物が好ましい。これにより、硬化物に適度な可とう性が付与されて、サーミスタ1の耐久性が改善される。   As the acid anhydride, an acid anhydride represented by the general formula (11), (12), (13) or (14) is preferable. Thereby, moderate flexibility is provided to the cured product, and the durability of the thermistor 1 is improved.

一般式(11)で表される酸無水物としては、ドデセニル無水コハク酸等が挙げられ、一般式(12)で表される酸無水物としては、メチルテトラヒドロ無水フタル酸等が挙げられ、一般式(13)で表される酸無水物としては、ポリアジピン酸無水物、ポリアゼライン酸無水物、ポリセバシン酸無水物、ポリ(エチルオクタデカン二酸)無水物及びポリ(フェニルヘキサデカン二酸)無水物等が挙げられ、一般式(14)で表される酸無水物としては、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート及びグリセロールトリスアンヒドロトリメリテート等が挙げられる。   Examples of the acid anhydride represented by the general formula (11) include dodecenyl succinic anhydride, and examples of the acid anhydride represented by the general formula (12) include methyltetrahydrophthalic anhydride. Examples of the acid anhydride represented by the formula (13) include polyadipic acid anhydride, polyazeline acid anhydride, polysebacic acid anhydride, poly (ethyloctadecanedioic acid) anhydride, and poly (phenylhexadecanedioic acid) anhydride. Examples of the acid anhydride represented by the general formula (14) include ethylene glycol bisanhydro trimellitate and glycerol tris anhydro trimellitate.

酸無水物の好適な他の具体例としては、上記の他、2,4−ジエチルグルタル酸無水物、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル酸、無水コハク酸、無水トリメット酸、無水ピロメリット酸、無水メチルナジック酸、無水マレイン酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルブテニルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物アルキルスチレン−無水マレイン酸共重合体、エチレングリコールビストリメリテート、クロレンド酸無水物及びテトラブロム無水フタル酸等が挙げられる。   Other suitable specific examples of the acid anhydride include, in addition to the above, 2,4-diethylglutaric anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, phthalic anhydride, succinic anhydride Acid, trimetic anhydride, pyromellitic anhydride, methyl nadic anhydride, maleic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylbutenyltetrahydrophthalic anhydride, methyl Examples include cyclohexene dicarboxylic acid anhydride alkylstyrene-maleic anhydride copolymer, ethylene glycol bistrimellitate, chlorendic anhydride, and tetrabromophthalic anhydride.

これらの中でも、硬化物のガラス転移温度を110℃以下とすることが容易である点から、酸無水物としては、ドデセニル無水コハク酸、ポリアジピン酸無水物、ポリアゼライン酸無水物、ポリセバシン酸無水物、ポリ(エチルオクタデカン二酸)無水物、ポリ(フェニルヘキサデカン二酸)無水物、2,4−ジエチルグルタル酸無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート及びグリセロールトリスアンヒドロトリメリテートからなる群より選ばれる少なくとも1種の酸無水物が好適に用いられる。更に、これらの中でも、ドデセニル無水コハク酸が好ましい。   Among these, since it is easy to set the glass transition temperature of the cured product to 110 ° C. or less, as the acid anhydride, dodecenyl succinic anhydride, polyadipic acid anhydride, polyazelinic acid anhydride, polysebacic acid anhydride , Poly (ethyloctadecanedioic acid) anhydride, poly (phenylhexadecanedioic acid) anhydride, 2,4-diethylglutaric anhydride, ethylene glycol bisanhydro trimellitate and glycerol tris anhydro trimellitate At least one acid anhydride selected from the above is preferably used. Furthermore, among these, dodecenyl succinic anhydride is preferable.

エポキシ樹脂組成物においては、以上のような酸無水物を、単独で又は複数組み合わせて用いることができる。   In an epoxy resin composition, the above acid anhydrides can be used alone or in combination.

熱硬化性樹脂中の硬化剤の含有割合は、架橋性化合物や硬化剤の種類等に応じて適宜決定すればよい。例えば、エポキシ樹脂に硬化剤として酸無水物を組み合わせる場合、エポキシ樹脂中のエポキシ基に対して当量比で、0.5〜1.5、より好ましくは0.8〜1.2となるような含有割合で硬化剤を含有させることがより好ましい。硬化剤の当量比がエポキシ基に対して0.5未満、あるいは1.5を超えると、未反応のエポキシ基及び酸無水物基が増加することにより、サーミスタ素体の機械的強度が低下したり、サーミスタの抵抗変化率が低下したりする傾向にある。   What is necessary is just to determine suitably the content rate of the hardening | curing agent in a thermosetting resin according to the kind etc. of a crosslinkable compound or a hardening | curing agent. For example, when an acid anhydride is combined with the epoxy resin as a curing agent, the equivalent ratio to the epoxy group in the epoxy resin is 0.5 to 1.5, more preferably 0.8 to 1.2. It is more preferable to contain a curing agent in a content ratio. When the equivalent ratio of the curing agent is less than 0.5 or more than 1.5 with respect to the epoxy group, the unreacted epoxy group and acid anhydride group increase, and the mechanical strength of the thermistor body decreases. Or the resistance change rate of the thermistor tends to decrease.

熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂及びこれの硬化剤を含有するエポキシ樹脂組成物である場合、エポキシ樹脂及び硬化剤の全体の平均分子量は300〜1000であることが好ましく、300〜650であることがより好ましい。これにより、硬化物が適度な可とう性を有するものとなって、熱履歴に対する耐久性がさらに改善される。   When the thermosetting resin is an epoxy resin composition containing an epoxy resin and a curing agent thereof, the total average molecular weight of the epoxy resin and the curing agent is preferably 300 to 1000, and preferably 300 to 650. More preferred. Thereby, hardened | cured material becomes what has moderate flexibility and the durability with respect to a heat history is further improved.

熱硬化性樹脂中に、反応性希釈剤、可塑剤等の添加剤を含有させることにより、硬化物のガラス転移温度を調整することもできる。反応性希釈剤としては、特にエポキシ樹脂と組み合わせる場合、モノエポキシ化合物が好ましい。モノエポキシ化合物としては、n−ブチルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、スチレンオキサイド、フェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、p−sec−ブチルフェニルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレート、3級カルボン酸グリシジルエステル等が挙げられる。また、可塑剤としては、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール等の多価アルコールが好ましい。   The glass transition temperature of the cured product can also be adjusted by adding an additive such as a reactive diluent or a plasticizer in the thermosetting resin. As the reactive diluent, a monoepoxy compound is preferred particularly when combined with an epoxy resin. Monoepoxy compounds include n-butyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, styrene oxide, phenyl glycidyl ether, cresyl glycidyl ether, p-sec-butylphenyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate, tertiary carboxylic acid A glycidyl ester etc. are mentioned. The plasticizer is preferably a polyhydric alcohol such as polyethylene glycol or propylene glycol.

熱硬化性樹脂には、更に他の成分、例えば、熱可塑性樹脂や、ワックス、油脂、脂肪酸、高級アルコール等の低分子有機化合物等を、必要に応じてさらに加えてもよい。熱可塑性樹脂は熱硬化性樹脂中に溶解させてもよいし、粒子状の状態で分散させてもよい。   The thermosetting resin may further contain other components, for example, thermoplastic resins, low molecular organic compounds such as waxes, fats and oils, fatty acids, and higher alcohols, if necessary. The thermoplastic resin may be dissolved in the thermosetting resin or may be dispersed in a particulate state.

導電性粒子は、電気伝導性を有する粒子であれば特に限定されず、例えば、カーボンブラック、グラファイト、各形状の金属粒子若しくはセラミック系導電性粒子を用いることができる。金属粒子の金属材料としては、銅、アルミニウム、ニッケル、タングステン、モリブデン、銀、亜鉛、コバルト、及び銅紛にニッケルめっきを施したもの等が挙げられる。セラミック系導電性粒子の材料としては、TiC及びWC等が挙げられる。これら導電性粒子は、1種類を単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。   The conductive particles are not particularly limited as long as they are electrically conductive particles. For example, carbon black, graphite, metal particles of various shapes, or ceramic conductive particles can be used. Examples of the metal material of the metal particles include copper, aluminum, nickel, tungsten, molybdenum, silver, zinc, cobalt, and copper powder subjected to nickel plating. Examples of the material for the ceramic conductive particles include TiC and WC. These conductive particles can be used alone or in combination of two or more.

導電性粒子としては、特に、金属粒子が好ましい。導電性粒子として金属粒子を用いると、サーミスタの抵抗変化率を十分に大きく維持しつつ、室温抵抗値をより低下させることができ、例えば、本発明のサーミスタを過電流保護素子として用いる場合に好適である。さらに、金属粒子の中でも、酸化され難い等、化学的安定性の観点から、ニッケル粒子が特に好ましい。   As the conductive particles, metal particles are particularly preferable. When metal particles are used as the conductive particles, the resistance change rate of the thermistor can be maintained sufficiently large, and the room temperature resistance value can be further reduced. For example, it is suitable when the thermistor of the present invention is used as an overcurrent protection element. It is. Further, among the metal particles, nickel particles are particularly preferable from the viewpoint of chemical stability such as being hardly oxidized.

導電性粒子の形状は特に限定されず、球状、フレーク状、繊維状及び棒状等が挙げられるが、粒子の表面にスパイク状の突起を有するものが好ましい。スパイク状の突起を有する導電性粒子を用いることにより、隣接する粒子間におけるトンネル電流が流れやすくなるため、サーミスタの抵抗変化率を十分に確保したまま、室温抵抗値をより低くすることができる。また、真球状の粒子に比べて、粒子同士の中心間距離を大きくすることができるため、さらに大きな抵抗変化率を得ることができる。さらに、繊維状の粒子を用いた場合に比べて、サーミスタの室温抵抗値のばらつきを低減することができる。   The shape of the conductive particles is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, a flake shape, a fiber shape, and a rod shape, and those having spike-like protrusions on the surface of the particles are preferable. By using conductive particles having spike-like protrusions, a tunnel current easily flows between adjacent particles, so that the room temperature resistance value can be further lowered while sufficiently ensuring the resistance change rate of the thermistor. Further, since the distance between the centers of the particles can be increased as compared with the spherical particles, a larger resistance change rate can be obtained. Furthermore, the variation in the room temperature resistance value of the thermistor can be reduced compared to the case where fibrous particles are used.

スパイク状の突起を有する導電性粒子は、一次粒子が個別に分散した粉体であってもよいが、10〜1000個程度の一次粒子が鎖状に連なりフィラメント状の二次粒子を形成しているものが好ましい。また、その材質は金属が好ましく、ニッケルを主成分とするものがより好ましい。さらに、導電性粒子は、比表面積が0.3〜3.0m/gであって、見かけ密度が3.0g/cm以下であることが好ましい。ここで、「比表面積」とは、BET一点法に基づく窒素ガス吸着法により求められる比表面積のことを意味する。 The conductive particles having spike-like protrusions may be powders in which primary particles are dispersed individually, but about 10 to 1000 primary particles are connected in a chain to form filamentary secondary particles. Is preferred. Further, the material is preferably a metal, and more preferably a material mainly composed of nickel. Furthermore, the conductive particles preferably have a specific surface area of 0.3 to 3.0 m 2 / g and an apparent density of 3.0 g / cm 3 or less. Here, the “specific surface area” means a specific surface area determined by a nitrogen gas adsorption method based on the BET single point method.

また、導電性粒子の一次粒子の平均粒径は、0.1〜7.0μmであることが好ましく、0.5〜5.0μmであることがより好ましい。ここで、一次粒子の平均粒径はフィッシャー・サブシーブ法で測定される値とする。   The average particle size of the primary particles of the conductive particles is preferably 0.1 to 7.0 μm, and more preferably 0.5 to 5.0 μm. Here, the average particle size of the primary particles is a value measured by the Fischer sub-sieving method.

商業的に入手可能なスパイク状の突起を有する導電性粒子としては、例えば、「INCO Type210」、「INCO Type255」、「INCO Type270」、「INCO Type287」(いずれもINCO社製、商品名)等が挙げられる。   Examples of commercially available conductive particles having spike-shaped protrusions include “INCO Type 210”, “INCO Type 255”, “INCO Type 270”, “INCO Type 287” (all manufactured by INCO, trade name), etc. Is mentioned.

サーミスタ素体における導電性粒子の含有割合は、サーミスタ素体全体を基準として5〜90質量%であることが好ましく、60〜80質量%であることがより好ましい。導電性粒子の含有割合が50質量%未満であると、低い室温抵抗値が得られ難くなる傾向にあり、90質量%を超えると、大きな抵抗変化率を得ることが困難になる傾向にある。   The content ratio of the conductive particles in the thermistor body is preferably 5 to 90% by mass, and more preferably 60 to 80% by mass based on the whole thermistor body. When the content ratio of the conductive particles is less than 50% by mass, it tends to be difficult to obtain a low room temperature resistance value, and when it exceeds 90% by mass, it tends to be difficult to obtain a large resistance change rate.

サーミスタ10は、例えば、第1の導体箔上に熱硬化性樹脂及び導電性粒子を含有する硬化性樹脂組成物からなる樹脂組成物層を形成させて積層体を得る樹脂組成物層形成工程と、対向する1対の導体箔により樹脂組成物層が挟持されるように、積層体上に第2の導体箔又は他の積層体を積層して挟持物を得る積層工程と、挟持物を加熱して硬化性樹脂組成物を硬化する硬化工程と、硬化後の挟持物を所定の形状及び大きさに裁断してサーミスタを得る裁断工程と、を備える製造方法によって、得ることができる。   The thermistor 10 includes, for example, a resin composition layer forming step in which a resin composition layer made of a curable resin composition containing a thermosetting resin and conductive particles is formed on a first conductor foil to obtain a laminate. A laminating step of laminating the second conductor foil or another laminate on the laminate so as to sandwich the resin composition layer by a pair of opposing conductor foils, and heating the sandwich And a curing step of curing the curable resin composition and a cutting step of cutting the cured sandwiched material into a predetermined shape and size to obtain a thermistor.

樹脂組成物層形成工程において用いる硬化性樹脂組成物は、各種撹拌機、分散機、ミル等の装置を用いて、上述した構成成分を混合することにより、得られる。このとき、低粘度化のために、アルコールやアセトンなどの有機溶媒や、反応性希釈剤等の溶媒を硬化性樹脂組成物に加えて混合液とし、これを用いて樹脂組成物層を形成してもよい。混合時間は、特に限定されないが、通常、10〜30分間混合することで、各成分を均一に溶解又は分散させることができる。また、混合温度も特に限定されないが、100〜150℃が好ましい。混合後の硬化性樹脂組成物又は混合液は、混合中に混入した気泡を除去するため、真空下で脱泡することが好ましい。   The curable resin composition used in the resin composition layer forming step can be obtained by mixing the above-described constituent components using devices such as various stirrers, dispersers, and mills. At this time, in order to lower the viscosity, an organic solvent such as alcohol or acetone or a solvent such as a reactive diluent is added to the curable resin composition to form a mixed solution, which is used to form a resin composition layer. May be. Although mixing time is not specifically limited, Usually, each component can be uniformly dissolved or dispersed by mixing for 10 to 30 minutes. Moreover, although mixing temperature is not specifically limited, 100-150 degreeC is preferable. The mixed curable resin composition or mixed solution is preferably defoamed under vacuum in order to remove bubbles mixed in during mixing.

この硬化性樹脂組成物又は混合液を導体箔上に塗布する等して、導体箔の片面に樹脂組成物層が形成された積層体を得る。混合液を用いた場合、樹脂組成物層を加熱する等して溶媒を除去することが好ましい。   By applying the curable resin composition or the mixed solution on the conductor foil, a laminated body in which the resin composition layer is formed on one surface of the conductor foil is obtained. When the mixed solution is used, it is preferable to remove the solvent by heating the resin composition layer.

続いて、積層工程において、対向する1対の導体箔によって樹脂組成物層が挟持されるように、樹脂組成物層上に第2の導体箔又は他の積層体を積層して、挟持物を得る。このとき、導体箔と樹脂組成物層とが密着するように全体を加圧することが好ましい。   Subsequently, in the laminating step, the second conductive foil or other laminate is laminated on the resin composition layer so that the resin composition layer is sandwiched between a pair of opposing conductor foils, and the sandwiched article is obtain. At this time, it is preferable to pressurize the whole so that the conductor foil and the resin composition layer are in close contact with each other.

硬化工程においては、樹脂組成物層を形成している硬化性樹脂組成物が十分に硬化するように、挟持物を所定の温度で所定時間加熱する。このときの加熱の条件は、硬化剤の種類等に応じて、硬化が十分に進行するとともに、硬化物のガラス転移温度が110℃以下となるように適宜設定すればよい。例えば、硬化剤として酸無水物を用いる場合、80〜200℃で、30〜600分加熱することにより、通常、硬化を十分進行させることができる。なお、この硬化工程は加圧しながら行ってもよく、この場合、上記積層工程と硬化工程とを同時に又は連続的に行ってもよい。   In the curing step, the sandwich is heated at a predetermined temperature for a predetermined time so that the curable resin composition forming the resin composition layer is sufficiently cured. The heating conditions at this time may be appropriately set so that curing proceeds sufficiently and the glass transition temperature of the cured product is 110 ° C. or lower, depending on the type of curing agent and the like. For example, when an acid anhydride is used as a curing agent, curing can usually proceed sufficiently by heating at 80 to 200 ° C. for 30 to 600 minutes. In addition, you may perform this hardening process, applying a pressure, and in this case, you may perform the said lamination process and hardening process simultaneously or continuously.

そして、裁断工程において、硬化性樹脂組成物が硬化した挟持物を、打ち抜き等により所望の形状(例えば、3.6mm×9mm)に裁断することにより、サーミスタ10を得ることができる。打ち抜きは、ネコプレス等、サーミスタを得るために通常用いられる方法で行うことができる。   Then, in the cutting step, the thermistor 10 can be obtained by cutting the sandwiched product obtained by curing the curable resin composition into a desired shape (for example, 3.6 mm × 9 mm) by punching or the like. The punching can be performed by a method usually used for obtaining a thermistor, such as a cat press.

さらに、必要に応じて、導体箔からなる電極2及び3の表面に、それぞれリードを接合することにより、リードを有するサーミスタを作製できる。   Furthermore, if necessary, a thermistor having a lead can be produced by bonding the lead to the surfaces of the electrodes 2 and 3 made of a conductive foil.

サーミスタ10は、上述の製造方法に代えて、例えば、シート状のサーミスタ素体を準備し、このシート状のサーミスタ素体の両面に導体層を形成させる方法によっても得ることができる。この場合、シート状のサーミスタ素体は、対向する1対の離型性の支持体シートの間に挟持した状態で硬化性樹脂組成物を硬化してから、支持体シートを剥離する等の方法により作製できる。この方法の場合に導体層を形成させる方法としては、例えば、めっき、金属ペーストの塗布、スパッタリング、蒸着等が挙げられる。   The thermistor 10 can be obtained by, for example, a method of preparing a sheet-like thermistor body and forming a conductor layer on both surfaces of the sheet-like thermistor body instead of the above-described manufacturing method. In this case, the sheet-like thermistor element is cured between the pair of opposing releasable support sheets and the curable resin composition is cured, and then the support sheet is peeled off. Can be produced. Examples of the method for forming the conductor layer in this method include plating, application of a metal paste, sputtering, and vapor deposition.

以上説明したサーミスタは、リフロー工程後にも十分に低い室温抵抗値を維持することができる。また、このサーミスタは、低い初期抵抗値や、大きな抵抗変化率等の、サーミスタとして求められる他の特性についても優れている。   The thermistor described above can maintain a sufficiently low room temperature resistance even after the reflow process. The thermistor is also excellent in other characteristics required for the thermistor, such as a low initial resistance value and a large resistance change rate.

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

(実施例1)
下記化学式(22a)で表されるポリエポキシ化合物(メチルテトラヒドロ無水フタル酸)の混合物からなるエポキシ樹脂「EP−4005」(商品名、旭電化社製、エポキシ当量510g/eq.)と、上記化学式(4)で表されるポリエポキシ化合物からなるエポキシ樹脂「EP−4080S」(商品名、旭電化社製、エポキシ当量205g/eq.)と、下記化学式(9)で表される酸無水物からなる硬化剤「B570」(商品名、大日本インキ化学工業社製、酸無水物当量168g/eq.)と、硬化促進剤である「PN−40J」(商品名、味の素社製)と、導電性粒子であるフィラメント状ニッケルパウダ(「Type255ニッケルパウダ」(商品名)、INCO社製、平均粒径2.2〜2.8μm、見かけ密度0.5〜0.65g/cm、比表面積0.68m/g)とを混合して、硬化性樹脂組成物を調製した。
(Example 1)
An epoxy resin “EP-4005” (trade name, manufactured by Asahi Denka Co., Ltd., epoxy equivalent 510 g / eq.) Composed of a mixture of a polyepoxy compound (methyltetrahydrophthalic anhydride) represented by the following chemical formula (22a), and the above chemical formula From an epoxy resin “EP-4080S” (trade name, manufactured by Asahi Denka Co., Ltd., epoxy equivalent 205 g / eq.) Composed of a polyepoxy compound represented by (4) and an acid anhydride represented by the following chemical formula (9) Curing agent “B570” (trade name, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., acid anhydride equivalent 168 g / eq.), “PN-40J” (trade name, manufactured by Ajinomoto Co., Inc.) as a curing accelerator, Filamentous nickel powder (“Type 255 nickel powder” (trade name), manufactured by INCO, average particle size 2.2 to 2.8 μm, apparent density 0.5 to 0.6) g / cm 3, by mixing the specific surface area 0.68m 2 / g), to prepare a curable resin composition.

Figure 2006186268
Figure 2006186268

硬化性樹脂組成物の調製においては、まず、エポキシ樹脂である「EP−4005」と「EP4080S」との重量比が70:30となるよう混合するとともに、これらエポキシ樹脂全体に対して、硬化剤(B570)を53質量%、硬化促進剤(PN−40J)を1質量%添加した混合物を、攪拌機を用いて攪拌した。そして、この混合物に、導電性粒子を、導電性粒子を含む硬化性樹脂組成物全体に対して75質量%となるような量添加してから更に攪拌して、硬化性樹脂組成物を得た。   In the preparation of the curable resin composition, first, the epoxy resins “EP-4005” and “EP4080S” are mixed so that the weight ratio is 70:30, and the curing agent is added to the entire epoxy resin. A mixture containing 53% by mass of (B570) and 1% by mass of a curing accelerator (PN-40J) was stirred using a stirrer. Then, the conductive particles were added to the mixture in such an amount that it would be 75% by mass with respect to the entire curable resin composition containing the conductive particles, and further stirred to obtain a curable resin composition. .

上記で得られた硬化性樹脂組成物をニッケル箔上に厚さ0.5mmとなるように塗布して樹脂組成物層を形成し、さらにその上にもう1枚のニッケル箔を載せた。そして、130℃に設定されたオーブン中での加熱により硬化を行い、2枚のニッケル箔によってサーミスタ素体が挟持された挟持物を得た。得られた挟持物を3.6×9.0mmの形状に打ち抜いて、サーミスタを得た。   The curable resin composition obtained above was applied on a nickel foil to a thickness of 0.5 mm to form a resin composition layer, and another nickel foil was placed thereon. And it hardened | cured by the heating in oven set to 130 degreeC, and the clamping thing by which the thermistor element body was clamped by two nickel foils was obtained. The obtained sandwich was punched into a 3.6 × 9.0 mm shape to obtain a thermistor.

硬化によって形成されたサーミスタ素体中の硬化物について、測定温度範囲が室温(もしくは0℃)〜200℃、昇温速度が10℃/分、測定雰囲気がHe=50mL/分の条件でDSCを測定したところ、そのガラス転移温度は45℃であった。   The cured product in the thermistor body formed by curing is subjected to DSC under the conditions where the measurement temperature range is room temperature (or 0 ° C.) to 200 ° C., the heating rate is 10 ° C./min, and the measurement atmosphere is He = 50 mL / min. When measured, the glass transition temperature was 45 ° C.

得られたサーミスタに対してリフロー工程を想定した熱履歴を与えるため、サーミスタを、恒温槽内で室温から200℃まで3℃/分の速度で昇温しながら加熱した後、同じ速度で降温しながら冷却した。このとき、4端子法でサーミスタの抵抗値を測定して、温度―抵抗曲線を得た。得られた温度−抵抗曲線から、サーミスタの初期の室温抵抗値は1.0×10−3Ω(抵抗率:6.5×10−3Ωcm)であり、抵抗変化率の値は10桁以上であることが確認された。また、上記の加熱及び冷却による熱履歴後の室温抵抗値は4.0×10−3Ω(低効率:2.6×10−2Ωcm)であり、低いレベルを維持していた。 In order to give a thermal history assuming the reflow process to the obtained thermistor, the thermistor is heated from room temperature to 200 ° C. while being heated at a rate of 3 ° C./min in the thermostat, and then the temperature is lowered at the same rate. While cooling. At this time, the resistance value of the thermistor was measured by a four-terminal method to obtain a temperature-resistance curve. From the obtained temperature-resistance curve, the initial room temperature resistance value of the thermistor is 1.0 × 10 −3 Ω (resistivity: 6.5 × 10 −3 Ωcm), and the resistance change rate value is 10 digits or more. It was confirmed that. Moreover, the room temperature resistance value after the heat history by said heating and cooling was 4.0 * 10 < -3 > (omega | ohm) (low efficiency: 2.6 * 10 <-2 > (omega | ohm) cm), and was maintaining the low level.

(実施例2)
エポキシ樹脂である「EP−4005」と「EP−4080S」との重量比を70:30とし、硬化剤「B570」をエポキシ樹脂全体に対して38質量%とした他は実施例1と同様にして、硬化性樹脂組成物の調製及びこれを用いたサーミスタの作製を行った。
(Example 2)
The same as in Example 1 except that the weight ratio of the epoxy resins “EP-4005” and “EP-4080S” was 70:30 and the curing agent “B570” was 38% by mass with respect to the total epoxy resin. A curable resin composition was prepared and a thermistor using the curable resin composition was prepared.

硬化によって形成されたサーミスタ素体中の硬化物のガラス転移温度を実施例1と同様にして測定したところ、30℃であった。   It was 30 degreeC when the glass transition temperature of the hardened | cured material in the thermistor body formed by hardening was measured like Example 1. FIG.

得られたサーミスタについて、実施例1と同様にして温度−抵抗曲線を得たところ、サーミスタの初期の室温抵抗値は1.0×10−3Ω(抵抗率:6.5×10−3Ωcm)であり、抵抗変化率の値は10桁以上であった。また、熱履歴後の室温抵抗値は3.0×10−3Ω(抵抗率:1.9×10−2Ωcm)であり、低いレベルを維持していた。 About the obtained thermistor, when the temperature-resistance curve was obtained like Example 1, the initial room temperature resistance value of the thermistor was 1.0 * 10 < -3 > (ohm) (resistivity: 6.5 * 10 < -3 > (omega | ohm) cm). The resistance change rate value was 10 digits or more. Moreover, the room temperature resistance value after a thermal history was 3.0 * 10 < -3 > (omega | ohm) (resistivity: 1.9 * 10 <-2 > (omega | ohm) cm), and was maintaining the low level.

(実施例3)
エポキシ樹脂として上記化学式(1)で表されるポリエポキシ化合物からなるエポキシ樹脂「BPO20E」(商品名、新日本理化社製、エポキシ当量315g/eq.)のみを用い、硬化剤「B570」をエポキシ樹脂に対して53質量%とした他は実施例1と同様にして、硬化性樹脂組成物の調製及びこれを用いたサーミスタの作製を行った。
(Example 3)
As the epoxy resin, only the epoxy resin “BPO20E” (trade name, manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd., epoxy equivalent of 315 g / eq.) Composed of the polyepoxy compound represented by the above chemical formula (1) is used, and the curing agent “B570” is epoxy. A curable resin composition and a thermistor using the same were prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount was 53% by mass based on the resin.

硬化によって形成されたサーミスタ素体中の硬化物のガラス転移温度を実施例1と同様にして測定したところ、60℃であった。   When the glass transition temperature of the cured product in the thermistor body formed by curing was measured in the same manner as in Example 1, it was 60 ° C.

得られたサーミスタについて、実施例1と同様にして温度−抵抗曲線を得たところ、サーミスタの初期の室温抵抗値は1.0×10−3Ω(抵抗率:6.5×10−3Ωcm)であり、抵抗変化率の値は10桁以上であった。また、熱履歴後の室温抵抗値は2.0×10−3Ω(抵抗率:1.3×10−2Ωcm)であり、低いレベルを維持していた。 About the obtained thermistor, when the temperature-resistance curve was obtained like Example 1, the initial room temperature resistance value of the thermistor was 1.0 * 10 < -3 > (ohm) (resistivity: 6.5 * 10 < -3 > (omega | ohm) cm). The resistance change rate value was 10 digits or more. Moreover, the room temperature resistance value after the thermal history was 2.0 × 10 −3 Ω (resistivity: 1.3 × 10 −2 Ωcm), and maintained a low level.

(実施例4)
エポキシ樹脂として、「BPO20E」と、ビスフェノールA型エポキシ樹脂である「E850」(商品名、大日本インキ化学工業社製、エポキシ当量190g/eq.)とを70:30の重量比で用い、硬化剤「B570」をエポキシ樹脂全体に対して60質量%とした他は実施例1と同様にして、硬化性樹脂組成物の調製及びこれを用いたサーミスタの作製を行った。
(Example 4)
As epoxy resin, “BPO20E” and “E850” (trade name, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., epoxy equivalent 190 g / eq.) Which is a bisphenol A type epoxy resin were used at a weight ratio of 70:30, and cured. A curable resin composition and a thermistor using the same were prepared in the same manner as in Example 1 except that the agent “B570” was changed to 60% by mass with respect to the entire epoxy resin.

硬化によって形成されたサーミスタ素体中の硬化物のガラス転移温度を実施例1と同様にして測定したところ、80℃であった。   It was 80 degreeC when the glass transition temperature of the hardened | cured material in the thermistor body formed by hardening was measured like Example 1. FIG.

得られたサーミスタについて、実施例1と同様にして温度−抵抗曲線を得たところ、サーミスタの初期の室温抵抗値は1.0×10−3Ω(抵抗率:6.5×10−3Ωcm)であり、抵抗変化率の値は8桁の数値であった。また、熱履歴後の室温抵抗値は9.0×10−3Ω(抵抗率:5.8×10−2Ωcm)であり、低いレベルを維持していた。 About the obtained thermistor, when the temperature-resistance curve was obtained like Example 1, the initial room temperature resistance value of the thermistor was 1.0 * 10 < -3 > (ohm) (resistivity: 6.5 * 10 < -3 > (omega | ohm) cm). The resistance change rate was an 8-digit value. Moreover, the room temperature resistance value after the thermal history was 9.0 × 10 −3 Ω (resistivity: 5.8 × 10 −2 Ωcm), and the low level was maintained.

(実施例5)
エポキシ樹脂として、「BPO20E」と「E850」とを20:80の重量比で用い、硬化剤「B570」をエポキシ樹脂全体に対して80質量%とした他は実施例1と同様にして、硬化性樹脂組成物の調製及びこれを用いたサーミスタの作製を行った。
(Example 5)
Curing was carried out in the same manner as in Example 1 except that “BPO20E” and “E850” were used at a weight ratio of 20:80 as the epoxy resin and the curing agent “B570” was 80% by mass with respect to the entire epoxy resin. Preparation of a functional resin composition and production of a thermistor using the same.

硬化によって形成されたサーミスタ素体中の硬化物のガラス転移温度を実施例1と同様にして測定したところ、110℃であった。   It was 110 degreeC when the glass transition temperature of the hardened | cured material in the thermistor body formed by hardening was measured like Example 1. FIG.

得られたサーミスタについて、実施例1と同様にして温度−抵抗曲線を得たところ、サーミスタの初期の室温抵抗値は1.0×10−3Ω(抵抗率:6.5×10−3Ωcm)、抵抗変化率の値は7の桁の数値であった。また、熱履歴後の室温抵抗値は5.0×10−2Ω(抵抗率:3.3×10−2Ωcm)であり、低いレベルを維持していた。
(実施例6)
エポキシ樹脂として「E850」のみを用い、硬化剤としてドデセニル無水コハク酸「リカシッドDDSA」(商品名、新日本理化社製、酸無水物当量266g/eq.)をエポキシ樹脂全体に対して140質量%とした他は実施例1と同様にして、硬化性樹脂組成物の調製及びこれを用いたサーミスタの作製を行った。
硬化によって形成されたサーミスタ素体中の硬化物のガラス転移温度を実施例1と同様にして測定したところ、40℃であった。
得られたサーミスタについて、実施例1と同様にして温度−抵抗曲線を得たところ、サーミスタの初期の室温抵抗値は1.0×10−3Ω(抵抗率:6.5×10−3Ωcm)、抵抗変化率は7桁の数値であった。また、熱履歴後の室温抵抗値は3.0×10−3Ω(1.9×10−2Ωcm)であり、低いレベルを維持していた。
About the obtained thermistor, when the temperature-resistance curve was obtained like Example 1, the initial room temperature resistance value of the thermistor was 1.0 * 10 < -3 > (ohm) (resistivity: 6.5 * 10 < -3 > (omega | ohm) cm). ) The resistance change rate was a 7-digit value. Moreover, the room temperature resistance value after the thermal history was 5.0 × 10 −2 Ω (resistivity: 3.3 × 10 −2 Ωcm), and the low level was maintained.
(Example 6)
Only "E850" is used as an epoxy resin, and dodecenyl succinic anhydride "Licacid DDSA" (trade name, manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd., acid anhydride equivalent 266 g / eq.) Is used as a curing agent in an amount of 140% by mass. In the same manner as in Example 1, a curable resin composition was prepared and a thermistor was prepared using the same.
It was 40 degreeC when the glass transition temperature of the hardened | cured material in the thermistor body formed by hardening was measured like Example 1. FIG.
About the obtained thermistor, when the temperature-resistance curve was obtained like Example 1, the initial room temperature resistance value of the thermistor was 1.0 * 10 < -3 > (ohm) (resistivity: 6.5 * 10 < -3 > (omega | ohm) cm). ) The resistance change rate was a 7-digit value. Moreover, the room temperature resistance value after the thermal history was 3.0 × 10 −3 Ω (1.9 × 10 −2 Ωcm), and the low level was maintained.

(比較例1)
エポキシ樹脂として、「E850」のみを用い、硬化剤「B570」をエポキシ樹脂に対して88質量%とし、導電性粒子を、導電性粒子を含む硬化性樹脂組成物全体に対して60質量%とした他は実施例1と同様にして、樹脂組成物の調製及びこれを用いたサーミスタの作製を行った。
(Comparative Example 1)
As the epoxy resin, only “E850” is used, the curing agent “B570” is 88% by mass with respect to the epoxy resin, and the conductive particles are 60% by mass with respect to the entire curable resin composition including the conductive particles. In the same manner as in Example 1, a resin composition was prepared and a thermistor using the resin composition was prepared.

硬化によって形成されたサーミスタ素体中の硬化物のガラス転移温度を実施例1と同様にして測定したところ、120℃であった。   It was 120 degreeC when the glass transition temperature of the hardened | cured material in the thermistor body formed by hardening was measured like Example 1. FIG.

得られたサーミスタについて、実施例1と同様にして温度−抵抗曲線を得たところ、サーミスタの初期の室温抵抗値は3.0×10−3Ω(抵抗率:1.9×10−2Ωcm)であり、抵抗変化率は10の桁数を有していた。また、熱履歴後の室温抵抗値は2.4×10−1Ω(抵抗率:1.56Ωcm)であり、著しく大きい値となった。 About the obtained thermistor, when the temperature-resistance curve was obtained like Example 1, the initial room temperature resistance value of the thermistor was 3.0 * 10 < -3 > (ohm) (resistivity: 1.9 * 10 <-2 > (omega | ohm) cm). The resistance change rate had a number of 10 6 digits. Moreover, the room temperature resistance value after the thermal history was 2.4 × 10 −1 Ω (resistivity: 1.56 Ωcm), which was a remarkably large value.

(比較例2)
エポキシ樹脂として、「EP−4080S」のみを用い、硬化剤「B570」をエポキシ樹脂に対して85質量%とした他は実施例1と同様にして、硬化性樹脂組成物の調製及びこれを用いたサーミスタの作製を行った。
(Comparative Example 2)
The preparation and use of the curable resin composition were the same as in Example 1 except that only “EP-4080S” was used as the epoxy resin and the curing agent “B570” was 85% by mass with respect to the epoxy resin. The thermistor was prepared.

硬化によって形成されたサーミスタ素体中の硬化物のガラス転移温度を実施例1と同様にして測定したところ、120℃であった。   It was 120 degreeC when the glass transition temperature of the hardened | cured material in the thermistor body formed by hardening was measured like Example 1. FIG.

得られたサーミスタについて、実施例1と同様にして温度−抵抗曲線を得たところ、サーミスタの初期の室温抵抗値は4.0×10−3Ω(抵抗率:2.6×10−2Ωcm)であり、抵抗変化率の数値は6桁の数値であった。また、熱履歴後の室温抵抗値は1.5×10−1Ω(抵抗率:0.97Ωcm)であり、著しく大きい値となった。 About the obtained thermistor, when the temperature-resistance curve was obtained like Example 1, the initial room temperature resistance value of the thermistor was 4.0 * 10 < -3 > (ohm) (resistivity: 2.6 * 10 <-2 > (omega | ohm) cm). The resistance change rate was a 6-digit value. Moreover, the room temperature resistance value after the thermal history was 1.5 × 10 −1 Ω (resistivity: 0.97 Ωcm), which was a remarkably large value.

(比較例3)
エポキシ樹脂として、「E850」と「EP−4005」とを97:3の重量比で用い、硬化剤「B570」をエポキシ樹脂全体に対して87質量%とした他は実施例1と同様にして、硬化性樹脂組成物の調製及びこれを用いたサーミスタの作製を行った。
(Comparative Example 3)
As epoxy resin, “E850” and “EP-4005” were used at a weight ratio of 97: 3, and the curing agent “B570” was changed to 87% by mass with respect to the total epoxy resin, as in Example 1. Then, preparation of a curable resin composition and production of a thermistor using the same were performed.

硬化によって形成されたサーミスタ素体中の硬化物のガラス転移温度を実施例1と同様にして測定したところ、115℃であった。   When the glass transition temperature of the cured product in the thermistor body formed by curing was measured in the same manner as in Example 1, it was 115 ° C.

得られたサーミスタについて、実施例1と同様にして温度−抵抗曲線を得たところ、サーミスタの初期の室温抵抗値は3.0×10−3Ω(抵抗率:1.9×10−2Ωcm)であり、抵抗変化率の値は7桁の数値であった。また、熱履歴後の室温抵抗値は1.2×10−1Ω(抵抗率:0.78Ωcm)であり、著しく大きい値となった。 About the obtained thermistor, when the temperature-resistance curve was obtained like Example 1, the initial room temperature resistance value of the thermistor was 3.0 * 10 < -3 > (ohm) (resistivity: 1.9 * 10 <-2 > (omega | ohm) cm). The resistance change rate value was a 7-digit value. Moreover, the room temperature resistance value after the thermal history was 1.2 × 10 −1 Ω (resistivity: 0.78 Ωcm), which was a remarkably large value.

Figure 2006186268
Figure 2006186268

Figure 2006186268
Figure 2006186268

表2に示すように、サーミスタ素体中の硬化物のガラス転移温度が110℃を超えている比較例1〜3のサーミスタは、リフロー工程を想定した熱履歴を受けた後に室温抵抗値が著しく上昇して、1×10−1以上の大きな値となった。これに対して、サーミスタ素体中の硬化物のガラス転移温度が110℃以下である実施例1〜6のサーミスタは、熱履歴を受けた後でも室温抵抗値の著しい上昇は認められず、低い室温抵抗値を維持していた。なお、表2中、平均分子量の値は、硬化性樹脂組成物の調製に用いたエポキシ樹脂及び硬化剤の全体の平均分子量の値を示す。 As shown in Table 2, the thermistors of Comparative Examples 1 to 3 in which the glass transition temperature of the cured product in the thermistor body exceeds 110 ° C. have a remarkable room temperature resistance value after receiving a thermal history assuming a reflow process. It increased to a large value of 1 × 10 −1 or more. On the other hand, the thermistors of Examples 1 to 6 in which the glass transition temperature of the cured product in the thermistor body is 110 ° C. or lower are not significantly increased in room temperature resistance even after receiving a thermal history, and are low. The room temperature resistance value was maintained. In Table 2, the value of the average molecular weight indicates the value of the average molecular weight of the entire epoxy resin and curing agent used for preparing the curable resin composition.

本発明によるサーミスタの一実施形態を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically one Embodiment of the thermistor by this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…サーミスタ素体、2,3…電極、10…サーミスタ。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Thermistor body, 2, 3 ... Electrode, 10 ... Thermistor.

Claims (7)

対向する1対の電極と、当該1対の電極間に配置され熱硬化性樹脂及び導電性粒子を含有する硬化性樹脂組成物の硬化物を含んだサーミスタ素体と、を備え、
前記硬化物のガラス転移温度が110℃以下である、サーミスタ。
A pair of opposing electrodes, and a thermistor body including a cured product of a curable resin composition disposed between the pair of electrodes and containing a thermosetting resin and conductive particles,
The thermistor whose glass transition temperature of the said hardened | cured material is 110 degrees C or less.
前記硬化物のガラス転移温度が20℃以上である、請求項1記載のサーミスタ。   The thermistor of Claim 1 whose glass transition temperature of the said hardened | cured material is 20 degreeC or more. 前記熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂及びこれの硬化剤を含有する、請求項1又は2記載のサーミスタ。   The thermistor of Claim 1 or 2 in which the said thermosetting resin contains an epoxy resin and its hardening | curing agent. 前記エポキシ樹脂及び前記硬化剤の全体の平均分子量が300〜1000である、請求項3記載のサーミスタ。   The thermistor of Claim 3 whose average molecular weight of the whole of the said epoxy resin and the said hardening | curing agent is 300-1000. 前記エポキシ樹脂が、複数のグリシジルエーテル基と、下記一般式(11)、(12)、(13)又は(14)で表される2価の基及び2価の脂環基のうち少なくとも一方の部分構造と、を有するポリエポキシ化合物を含む、請求項3又は4記載のサーミスタ。
Figure 2006186268
[式(11)、(12)、(13)及び(14)中、a、b、c及びdはそれぞれ独立に1〜20の整数を示す。]
The epoxy resin is at least one of a plurality of glycidyl ether groups, a divalent group represented by the following general formula (11), (12), (13) or (14) and a divalent alicyclic group. The thermistor of Claim 3 or 4 containing the polyepoxy compound which has a partial structure.
Figure 2006186268
[In the formulas (11), (12), (13) and (14), a, b, c and d each independently represents an integer of 1 to 20. ]
前記硬化剤が酸無水物を含む、請求項3〜5の何れか一項に記載のサーミスタ。   The thermistor as described in any one of Claims 3-5 in which the said hardening | curing agent contains an acid anhydride. 前記硬化剤が、下記化学式(21)、(22)、(23)又は(24)で表される酸無水物を含む、請求項3〜5の何れか一項に記載のサーミスタ。
Figure 2006186268
[式(21)中、Rは炭素数4〜20の炭化水素基を示す。]
Figure 2006186268
[式(22)中、Rは炭素数1〜20の炭化水素基を示し、pは1〜3の整数を示し、同一分子中の複数のRは同一でも異なっていてもよい。]
Figure 2006186268
[式(23)中、Xは炭素数4以上の2価の炭化水素基を示し、qは1〜20の整数を示す。]
Figure 2006186268
[式(24)中、Zは炭素数2以上の2価又は3価の有機基を示し、rは2又は3を示す。]
The thermistor as described in any one of Claims 3-5 in which the said hardening | curing agent contains the acid anhydride represented by following Chemical formula (21), (22), (23) or (24).
Figure 2006186268
[In the formula (21), R 1 represents a hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms. ]
Figure 2006186268
[In Formula (22), R 2 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, p represents an integer of 1 to 3, and a plurality of R 2 in the same molecule may be the same or different. ]
Figure 2006186268
[In formula (23), X shows a C4 or more bivalent hydrocarbon group, q shows the integer of 1-20. ]
Figure 2006186268
[In the formula (24), Z represents a divalent or trivalent organic group having 2 or more carbon atoms, and r represents 2 or 3. ]
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