JP2006237442A - Composition for conductive material, conductive material, conductive layer, electronic device and electronic apparatus - Google Patents

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JP2006237442A JP2005052609A JP2005052609A JP2006237442A JP 2006237442 A JP2006237442 A JP 2006237442A JP 2005052609 A JP2005052609 A JP 2005052609A JP 2005052609 A JP2005052609 A JP 2005052609A JP 2006237442 A JP2006237442 A JP 2006237442A
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祐治 篠原
Koichi Terao
幸一 寺尾
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive material excellent in carrier transportability, a conductive layer principally comprising such a conductive material, and a highly reliable electronic device and electronic apparatus. <P>SOLUTION: A composition for the conductive material contains a compound represented by general formula (1), and an acryl based crosslinking agent. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、導電性材料用組成物、導電性材料、導電層、電子デバイスおよび電子機器に関するものである。   The present invention relates to a composition for a conductive material, a conductive material, a conductive layer, an electronic device, and an electronic apparatus.

有機材料を使用したエレクトロルミネッセンス素子(以下、単に「有機EL素子」という。)は、固体発光型の安価な大面積フルカラー表示素子(発光素子)としての用途が有望視され、多くの開発が行われている。
一般に、有機EL素子は、陰極と陽極との間に発光層を有する構成であり、陰極と陽極との間に電界を印加すると、発光層に陰極側から電子が注入され、陽極側から正孔が注入される。
Electroluminescent elements using organic materials (hereinafter simply referred to as “organic EL elements”) are promising for use as solid light-emitting, inexpensive, large-area full-color display elements (light-emitting elements), and many developments have been made. It has been broken.
In general, an organic EL device has a light emitting layer between a cathode and an anode. When an electric field is applied between the cathode and the anode, electrons are injected into the light emitting layer from the cathode side, and holes are formed from the anode side. Is injected.

そして、注入された電子と正孔とが発光層において再結合し、エネルギー準位が伝導帯から価電子帯に戻る際の励起エネルギーを光エネルギーとして放出することにより、発光層が発光する。
このような有機EL素子において、有機EL素子の高効率化、すなわち、高い発光を得るためには、電子または正孔のキャリア輸送性の異なる有機材料で構成される有機層を、発光層と、陰極および/または陽極との間に積層する素子構造が有効であることが判っている。
Then, the injected electrons and holes are recombined in the light emitting layer, and the light emitting layer emits light by releasing the excitation energy when the energy level returns from the conduction band to the valence band as light energy.
In such an organic EL element, in order to increase the efficiency of the organic EL element, that is, to obtain high light emission, an organic layer composed of organic materials having different electron or hole carrier transport properties, and a light emitting layer, It has been found that an element structure laminated between the cathode and / or the anode is effective.

そこで、キャリア輸送特性の異なる発光層と有機層と(以下、これらを併せて「有機層」という。)を電極上に積層する必要があるが、従来の塗布法を用いる製造方法においては、有機層を積層する際に、隣接する有機層との間で相溶解が生じ、その結果として、有機EL素子としての発光効率、発色の色純度またはパターン精度が悪くなる等の特性が低下するという問題があった。   Therefore, it is necessary to laminate a light emitting layer and an organic layer (hereinafter collectively referred to as “organic layer”) having different carrier transport properties on the electrode. In the manufacturing method using the conventional coating method, When laminating layers, phase dissolution occurs between adjacent organic layers, resulting in a decrease in characteristics such as emission efficiency, color purity or color accuracy of the organic EL element. was there.

そのため、有機層を積層する場合には、有機材料として溶解性の異なるものを組み合わせて用いることにより、積層するのに限られていた。
このような問題点を解決する方法として、下層となる有機層を構成する有機材料同士を重合化させることにより、下層の耐久性すなわち耐溶剤性を向上させる方法が開示されている(例えば、特許文献1参照)。
Therefore, in the case of stacking organic layers, the organic material is limited to stacking by using a combination of organic materials having different solubility.
As a method for solving such problems, a method for improving the durability of the lower layer, that is, the solvent resistance by polymerizing organic materials constituting the lower organic layer has been disclosed (for example, patents) Reference 1).

また、下層となる有機層を構成する有機材料に硬化性樹脂を添加し、この硬化性樹脂と一緒に硬化させることによって、下層の耐溶剤性を向上させる方法も開示されている(例えば、特許文献2参照)。
しかしながら、これらのような方法を用いた場合においても、有機EL素子の特性の向上は、期待するほど得られていないのが実情である。
また、このような問題は、有機材料を使用した薄膜トランジスタにおいても同様に生じている。
Also disclosed is a method for improving the solvent resistance of the lower layer by adding a curable resin to the organic material constituting the lower organic layer and curing it together with the curable resin (for example, patents). Reference 2).
However, even when these methods are used, the actual situation is that the improvement of the characteristics of the organic EL element has not been obtained as expected.
Such a problem also occurs in a thin film transistor using an organic material.

特開平9−255774号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-255774 特開2000−208254号公報JP 2000-208254 A

本発明の目的は、キャリア輸送能の優れた導電層を形成することができる導電性材料用組成物、かかる導電性材料用組成物を用いて得られたキャリア輸送能の優れた導電性材料、かかる導電性材料を主材料とする導電層、信頼性の高い電子デバイスおよび電子機器を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a conductive material composition capable of forming a conductive layer having excellent carrier transporting ability, a conductive material having excellent carrier transporting ability obtained by using such a conductive material composition, An object of the present invention is to provide a conductive layer mainly composed of such a conductive material, a highly reliable electronic device, and an electronic apparatus.

このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の導電性材料用組成物は、下記一般式(1)で表される化合物と、アクリル系架橋剤とを含有することを特徴とする。

Figure 2006237442
[式中、2つのRは、それぞれ独立して、炭素数2〜8の直鎖アルキル基を表し、同一であっても、異なっていてもよく、4つのRは、それぞれ独立して、水素原子、メチル基またはエチル基を表し、同一であっても、異なっていてもよく、2つのXは、それぞれ独立して、下記一般式(2)で表される置換基を表し、同一であっても、異なっていてもよく、Yは、置換もしくは無置換の複素環を少なくとも1つ含む基を表す。]
Figure 2006237442
[式中、nは、2〜8の整数を表し、Zは、水素原子またはメチル基を表す。]
これにより、キャリア輸送能の優れた導電層を形成することができる導電性材料用組成物とすることができる。 Such an object is achieved by the present invention described below.
The composition for conductive materials of the present invention contains a compound represented by the following general formula (1) and an acrylic crosslinking agent.
Figure 2006237442
[Wherein, two R 1 s each independently represent a straight-chain alkyl group having 2 to 8 carbon atoms, and may be the same or different, and four R 2 s each independently Represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, which may be the same or different, and two X's each independently represent a substituent represented by the following general formula (2); Or Y may be different, and Y represents a group containing at least one substituted or unsubstituted heterocycle. ]
Figure 2006237442
[Wherein, n represents an integer of 2 to 8, and Z represents a hydrogen atom or a methyl group. ]
Thereby, it can be set as the composition for conductive materials which can form the conductive layer excellent in carrier transport ability.

本発明の導電性材料用組成物では、前記アクリル系架橋剤は、ポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤を主成分とするものであることが好ましい。
これにより、前記一般式(1)で表される化合物同士の置換基Xを、直接、またはポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤を介して、重合反応させて得られた高分子(導電性材料)中において、置換基Xの割合とポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤の割合とが均一なものとなる。その結果、この高分子により形成される導電層を均一な膜特性を有するものにすることができる。
In the composition for conductive material of the present invention, it is preferable that the acrylic crosslinking agent has a polyester (meth) acrylate crosslinking agent as a main component.
Thereby, the polymer (conductive material) obtained by polymerizing the substituent X between the compounds represented by the general formula (1) directly or via a polyester (meth) acrylate-based crosslinking agent. In the inside, the ratio of the substituent X and the ratio of the polyester (meth) acrylate crosslinking agent become uniform. As a result, the conductive layer formed of this polymer can have uniform film characteristics.

本発明の導電性材料用組成物では、前記ポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤は、少なくとも2つの(メタ)アクリロイル基を有するものであることが好ましい。
これにより、2つの置換基Xを、ポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤を介して、より確実に連結させることができるとともに、高分子が形成された際に、前記一般式(1)で表される化合物の置換基X以外の部分である主骨格のうち、隣接するもの同士をより適切な距離に保つことができる。
In the composition for conductive material of the present invention, the polyester (meth) acrylate-based crosslinking agent preferably has at least two (meth) acryloyl groups.
Thus, the two substituents X can be more reliably connected via the polyester (meth) acrylate-based crosslinking agent, and when the polymer is formed, the two substituents X are represented by the general formula (1). Among the main skeletons other than the substituent X of the compound, adjacent ones can be kept at a more appropriate distance.

本発明の導電性材料用組成物では、前記ポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤は、下記一般式(3)で表される化合物を主成分とするものであることが好ましい。

Figure 2006237442
[式中、nは、4500以下の整数を表し、2つのAは、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を表し、同一であっても、異なっていてもよい。]
かかる化合物を用いることにより、置換基Xを、直接、またはポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤を介して、重合反応させて得られた高分子は、キャリア輸送能がより優れたものとなる。 In the composition for conductive material of the present invention, it is preferable that the polyester (meth) acrylate-based cross-linking agent contains a compound represented by the following general formula (3) as a main component.
Figure 2006237442
[Wherein n represents an integer of 4500 or less, and two A's each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and may be the same or different. ]
By using such a compound, the polymer obtained by subjecting the substituent X to a polymerization reaction directly or via a polyester (meth) acrylate-based crosslinking agent has a higher carrier transport ability.

本発明の導電性材料用組成物では、2つの前記置換基Xは、同一であることが好ましい。
これにより、高分子中において、主骨格同士の離間距離を一定以上の大きさにすることができる。その結果、この高分子中において主骨格同士による相互作用が生じるのを好適に防止することができる。これにより、高分子のキャリア輸送能を向上させることができる。
In the composition for conductive material of the present invention, the two substituents X are preferably the same.
Thereby, in polymer | macromolecule, the separation distance of main frame | skeleton can be made into a magnitude | size beyond a fixed level. As a result, it is possible to suitably prevent the interaction between the main skeletons in the polymer. Thereby, the carrier transport ability of the polymer can be improved.

本発明の導電性材料用組成物では、前記置換基Xは、ベンゼン環の3位、4位または5位のうちのいずれかに結合していることが好ましい。
これにより、高分子中において、主骨格同士をより確実に適切な距離に離間させることができる。
本発明の導電性材料用組成物では、2つの前記置換基Rは、同一であることが好ましい。
これにより、形成される導電層において、隣接する高分子同士の距離をほぼ一定の間隔に保つことができる。その結果、導電層中の高分子の密度が一定なものとなる。
In the composition for a conductive material of the present invention, the substituent X is preferably bonded to any of the 3-position, 4-position or 5-position of the benzene ring.
Thereby, in the polymer, the main skeletons can be more reliably separated at an appropriate distance.
In the composition for conductive material of the present invention, the two substituents R 1 are preferably the same.
Thereby, in the conductive layer to be formed, the distance between adjacent polymers can be maintained at a substantially constant interval. As a result, the polymer density in the conductive layer becomes constant.

本発明の導電性材料用組成物では、前記置換基Rは、ベンゼン環の4位に結合していることが好ましい。
これにより、形成される導電層において、隣接する高分子同士が接近しすぎるのをより確実に阻止することができる。
本発明の導電性材料用組成物では、前記複素環は、窒素、酸素、硫黄、セレンおよびテルルのうちの少なくとも1種のヘテロ原子を含有することが好ましい。
これにより、高分子の価電子帯および伝導帯のエネルギー準位やバンドギャップ(禁止帯幅)の大きさ等がより容易に変化して、高分子のキャリア輸送能の特性を確実に変化させることができる。
In the composition for a conductive material of the present invention, the substituent R 1 is preferably bonded to the 4-position of the benzene ring.
Thereby, in the conductive layer to be formed, it is possible to more reliably prevent adjacent polymers from being too close to each other.
In the composition for a conductive material of the present invention, the heterocyclic ring preferably contains at least one heteroatom selected from nitrogen, oxygen, sulfur, selenium and tellurium.
As a result, the energy level of the valence band and the conduction band of the polymer, the size of the band gap (forbidden band width), etc. can be changed more easily, and the characteristics of the carrier transport ability of the polymer can be changed reliably. Can do.

本発明の導電性材料用組成物では、前記複素環は、芳香族系のものであることが好ましい。
これにより、主骨格の共役系の化学構造における電子密度の偏り、すなわち、π電子の局在化を好適に防止して、高分子のキャリア輸送能の低下を防止することができる。
本発明の導電性材料用組成物では、前記基Yは、複素環を1〜5つ含むものであることが好ましい。
基Yにこのような数の複素環が存在すれば、高分子の価電子帯および伝導帯のエネルギー準位やバンドギャップ(禁止帯幅)の大きさ等を十分に変化させることができる。
In the composition for a conductive material of the present invention, the heterocyclic ring is preferably aromatic.
Thereby, it is possible to suitably prevent the deviation of the electron density in the conjugated chemical structure of the main skeleton, that is, the localization of π electrons, and to prevent the carrier transport ability of the polymer from being lowered.
In the composition for conductive material of the present invention, the group Y preferably contains 1 to 5 heterocycles.
If such a number of heterocyclic rings are present in the group Y, the energy level of the valence band and the conduction band of the polymer, the size of the band gap (forbidden band width), and the like can be sufficiently changed.

本発明の導電性材料用組成物では、前記基Yは、前記複素環以外に、置換もしくは無置換の芳香族炭化水素環を少なくとも1つ含むことが好ましい。
基Yとして、複素環と芳香族炭化水素環とを含むものを選択することにより、目的とするキャリア輸送能の特性を高分子により確実に付与することができる。
本発明の導電性材料用組成物では、前記基Yは、前記一般式(1)中の各Nにそれぞれ、直接結合する前記芳香族炭化水素環と、これらの芳香族炭化水素環の間に存在する少なくとも1つの前記複素環とを含むことが好ましい。
これにより、高分子中における電子密度に偏りが生じるのを確実に防止することができ、高分子のキャリア輸送能が均一なものとなる。
In the composition for conductive material of the present invention, it is preferable that the group Y includes at least one substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon ring in addition to the heterocyclic ring.
By selecting a group Y containing a heterocyclic ring and an aromatic hydrocarbon ring, the target carrier transporting property can be reliably imparted to the polymer.
In the composition for conductive material of the present invention, the group Y is between the aromatic hydrocarbon ring directly bonded to each N in the general formula (1) and the aromatic hydrocarbon ring. It is preferable that at least one said heterocyclic ring which exists is included.
Thereby, it is possible to surely prevent the electron density in the polymer from being biased, and the carrier transport ability of the polymer becomes uniform.

本発明の導電性材料用組成物では、前記基Yの総炭素数は、2〜75であることが好ましい。
これにより、前記一般式(1)で表される化合物の溶媒に対する溶解度が高くなり、導電性材料用組成物を調整する際に、溶媒の選択の幅が広がるという利点がある。
本発明の導電性材料は、下記一般式(1)で表される化合物同士の置換基Xを、直接、または前記アクリル系架橋剤を介して、重合反応させて得られることを特徴とする。

Figure 2006237442
[式中、2つのRは、それぞれ独立して、炭素数2〜8の直鎖アルキル基を表し、同一であっても、異なっていてもよく、4つのRは、それぞれ独立して、水素原子、メチル基またはエチル基を表し、同一であっても、異なっていてもよく、2つのXは、それぞれ独立して、下記一般式(2)で表される置換基を表し、同一であっても、異なっていてもよく、Yは、置換もしくは無置換の複素環を少なくとも1つ含む基を表す。]
Figure 2006237442
[式中、nは、2〜8の整数を表し、Zは、水素原子またはメチル基を表す。]
これにより、優れたキャリア輸送能を有する導電性材料(高分子)とすることができる。 In the composition for conductive material of the present invention, the total number of carbon atoms of the group Y is preferably 2 to 75.
Thereby, the solubility with respect to the solvent of the compound represented by the said General formula (1) becomes high, and when adjusting the composition for electroconductive materials, there exists an advantage that the selection range of a solvent spreads.
The conductive material of the present invention is obtained by polymerizing a substituent X between compounds represented by the following general formula (1) directly or via the acrylic crosslinking agent.
Figure 2006237442
[Wherein, two R 1 s each independently represent a straight-chain alkyl group having 2 to 8 carbon atoms, and may be the same or different, and four R 2 s each independently Represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, which may be the same or different, and two X's each independently represent a substituent represented by the following general formula (2); Or Y may be different, and Y represents a group containing at least one substituted or unsubstituted heterocycle. ]
Figure 2006237442
[Wherein, n represents an integer of 2 to 8, and Z represents a hydrogen atom or a methyl group. ]
Thereby, it can be set as the electroconductive material (polymer) which has the outstanding carrier transport ability.

本発明の導電性材料では、前記アクリル系架橋剤は、ポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤を主成分とするものであることが好ましい。
これにより、導電性材料中において、置換基Xの割合とポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤の割合とが均一なものとなる。その結果、この高分子により形成される導電層を均一な膜特性を有するものにすることができる。
In the conductive material of the present invention, it is preferable that the acrylic crosslinking agent is mainly composed of a polyester (meth) acrylate crosslinking agent.
Thereby, in the conductive material, the ratio of the substituent X and the ratio of the polyester (meth) acrylate-based crosslinking agent become uniform. As a result, the conductive layer formed of this polymer can have uniform film characteristics.

本発明の導電性材料では、前記ポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤は、少なくとも2つの(メタ)アクリロイル基を有するものであることが好ましい。
これにより、導電性材料中において、2つの置換基Xを、ポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤を介して、より確実に連結させることができるとともに、隣接する主骨格同士をより適切な距離に保つことができる。
In the conductive material of the present invention, the polyester (meth) acrylate-based crosslinking agent preferably has at least two (meth) acryloyl groups.
Accordingly, in the conductive material, the two substituents X can be more reliably connected via the polyester (meth) acrylate-based crosslinking agent, and the adjacent main skeletons are kept at a more appropriate distance. be able to.

本発明の導電性材料では、前記ポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤は、下記一般式(3)で表される化合物を主成分とするものであることが好ましい。

Figure 2006237442
[式中、nは、4500以下の整数を表し、2つのAは、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を表し、同一であっても、異なっていてもよい。]
かかる化合物を用いて形成された導電性材料は、キャリア輸送能がより優れたものとなる。 In the conductive material of the present invention, it is preferable that the polyester (meth) acrylate-based cross-linking agent contains a compound represented by the following general formula (3) as a main component.
Figure 2006237442
[Wherein n represents an integer of 4500 or less, and two A's each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and may be the same or different. ]
A conductive material formed using such a compound has a better carrier transport capability.

本発明の導電性材料では、2つの前記置換基Xは、同一であることが好ましい。
これにより、導電性材料において、主骨格同士の離間距離を一定以上の大きさにすることができる。その結果、この導電性材料中において主骨格同士による相互作用が生じるのを好適に防止することができる。これにより、導電性材料のキャリア輸送能を向上させることができる。
In the conductive material of the present invention, the two substituents X are preferably the same.
Thereby, in the conductive material, the distance between the main skeletons can be set to a certain level or more. As a result, it is possible to suitably prevent the interaction between the main skeletons in the conductive material. Thereby, the carrier transport capability of the conductive material can be improved.

本発明の導電性材料では、前記置換基Xは、ベンゼン環の3位、4位または5位のうちのいずれかに結合していることが好ましい。
これにより、主骨格同士をより確実に適切な距離に離間させることができる。
本発明の導電性材料では、2つの前記置換基Rは、同一であることが好ましい。
これにより、形成される導電層において、隣接する高分子(導電性材料)同士の距離をほぼ一定の間隔に保つことができる。その結果、導電層中の導電性材料の密度が一定なものとなる。
In the conductive material of the present invention, the substituent X is preferably bonded to any of the 3-position, 4-position or 5-position of the benzene ring.
As a result, the main skeletons can be more reliably separated at an appropriate distance.
In the conductive material of the present invention, the two substituents R 1 are preferably the same.
Thereby, in the conductive layer to be formed, the distance between adjacent polymers (conductive materials) can be maintained at a substantially constant interval. As a result, the density of the conductive material in the conductive layer becomes constant.

本発明の導電性材料では、前記置換基Rは、ベンゼン環の4位に結合していることが好ましい。
これにより、形成される導電層において、隣接する高分子同士が接近しすぎるのをより確実に阻止することができる。
本発明の導電性材料では、前記複素環は、窒素、酸素、硫黄、セレンおよびテルルのうちの少なくとも1種のヘテロ原子を含有することが好ましい。
これにより、導電性材料の価電子帯および伝導帯のエネルギー準位やバンドギャップ(禁止帯幅)の大きさ等がより容易に変化して、導電性材料のキャリア輸送能の特性を確実に変化させることができる。
In the conductive material of the present invention, the substituent R 1 is preferably bonded to the 4-position of the benzene ring.
Thereby, in the conductive layer to be formed, it is possible to more reliably prevent adjacent polymers from being too close to each other.
In the conductive material of the present invention, the heterocyclic ring preferably contains at least one heteroatom selected from nitrogen, oxygen, sulfur, selenium and tellurium.
As a result, the valence band of the conductive material, the energy level of the conductive band, the size of the band gap (forbidden band width), etc. can be changed more easily, and the characteristics of the carrier transport ability of the conductive material can be changed reliably. Can be made.

本発明の導電性材料では、前記複素環は、芳香族系のものであることが好ましい。
これにより、主骨格の共役系の化学構造における電子密度の偏り、すなわち、π電子の局在化を好適に防止して、導電性材料のキャリア輸送能の低下を防止することができる。
本発明の導電性材料では、前記基Yは、複素環を1〜5つ含むものであることが好ましい。
基Yにこのような数の複素環が存在すれば、導電性材料の価電子帯および伝導帯のエネルギー準位やバンドギャップ(禁止帯幅)の大きさ等を十分に変化させることができる。
In the conductive material of the present invention, the heterocyclic ring is preferably aromatic.
Thereby, it is possible to suitably prevent the uneven electron density in the conjugated chemical structure of the main skeleton, that is, the localization of π electrons, and to prevent the carrier transport ability of the conductive material from being lowered.
In the conductive material of the present invention, the group Y preferably contains 1 to 5 heterocycles.
If such a number of heterocyclic rings are present in the group Y, the energy level of the conductive material, the energy level of the conduction band, the size of the band gap (forbidden band width), and the like can be sufficiently changed.

本発明の導電性材料では、前記基Yは、前記複素環以外に、置換もしくは無置換の芳香族炭化水素環を少なくとも1つ含むことが好ましい。
基Yとして、複素環と芳香族炭化水素環とを含むものを選択することにより、目的とするキャリア輸送能の特性を導電性材料により確実に付与することができる。
本発明の導電性材料では、前記基Yは、前記一般式(1)中の各Nにそれぞれ、直接結合する前記芳香族炭化水素環と、これらの芳香族炭化水素環の間に存在する少なくとも1つの前記複素環とを含むことが好ましい。
これにより、導電性材料中における電子密度に偏りが生じるのを確実に防止することができ、導電性材料のキャリア輸送能が均一なものとなる。
In the conductive material of the present invention, the group Y preferably contains at least one substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon ring in addition to the heterocyclic ring.
By selecting the group Y containing a heterocyclic ring and an aromatic hydrocarbon ring, the target carrier transporting property can be reliably imparted to the conductive material.
In the conductive material of the present invention, the group Y is present at least between each of the aromatic hydrocarbon rings directly bonded to each N in the general formula (1) and these aromatic hydrocarbon rings. It is preferable that it contains one said heterocyclic ring.
Thereby, it is possible to surely prevent the electron density in the conductive material from being biased, and the carrier transporting ability of the conductive material becomes uniform.

本発明の導電性材料では、前記基Yの総炭素数は、2〜75であることが好ましい。
これにより、主骨格における平面性が保たれることから、導電性材料中におけるキャリア輸送能が低下するのを確実に防止することができる。
本発明の導電性材料では、前記化合物および前記アクリル系架橋剤は、光照射により重合反応することが好ましい。
光照射によれば、高分子化させる領域および程度を比較的容易に選択することができる。
In the conductive material of the present invention, the total number of carbon atoms of the group Y is preferably 2 to 75.
Thereby, since the planarity in the main skeleton is maintained, it is possible to reliably prevent the carrier transport ability in the conductive material from being lowered.
In the conductive material of the present invention, it is preferable that the compound and the acrylic crosslinking agent undergo a polymerization reaction by light irradiation.
According to the light irradiation, it is possible to relatively easily select a region and a degree to be polymerized.

本発明の導電層は、本発明の導電性材料用組成物を用いて形成されたことを特徴とする。
これにより、キャリア輸送能に優れる導電層を形成することができる。
本発明の導電層は、本発明の導電性材料を主材料とすることを特徴とする。
これにより、キャリア輸送能に優れる導電層を得ることができる。
The conductive layer of the present invention is formed using the composition for conductive material of the present invention.
Thereby, the conductive layer excellent in carrier transport ability can be formed.
The conductive layer of the present invention is characterized in that the conductive material of the present invention is a main material.
Thereby, the electroconductive layer excellent in carrier transport ability can be obtained.

本発明の導電層は、正孔輸送層であることが好ましい。
これにより、正孔輸送能に優れる正孔輸送層を形成することができる。
本発明の導電層では、前記正孔輸送層の平均厚さは、10〜150nmであることが好ましい。
これにより、信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンス素子を形成することができる。
The conductive layer of the present invention is preferably a hole transport layer.
Thereby, the hole transport layer excellent in hole transport ability can be formed.
In the conductive layer of the present invention, the hole transport layer preferably has an average thickness of 10 to 150 nm.
Thereby, a highly reliable organic electroluminescent element can be formed.

本発明の導電層は、電子輸送層であることが好ましい。
これにより、電子輸送能に優れる電子輸送層を形成することができる。
本発明の導電層では、前記電子輸送層の平均厚さは、1〜100nmであることが好ましい。
これにより、信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンス素子を形成することができる。
The conductive layer of the present invention is preferably an electron transport layer.
Thereby, an electron transport layer having excellent electron transport ability can be formed.
In the conductive layer of the present invention, the electron transport layer preferably has an average thickness of 1 to 100 nm.
Thereby, a highly reliable organic electroluminescent element can be formed.

本発明の導電層は、有機半導体層であることが好ましい。
これにより、優れた半導体特性を示す有機半導体層を形成することができる。
本発明の導電層では、前記有機半導体層の平均厚さは、0.1〜1000nmであることが好ましい。
これにより、信頼性の高い有機薄膜トランジスタを形成することができる。
The conductive layer of the present invention is preferably an organic semiconductor layer.
Thereby, the organic-semiconductor layer which shows the outstanding semiconductor characteristic can be formed.
In the conductive layer of the present invention, the average thickness of the organic semiconductor layer is preferably 0.1 to 1000 nm.
Thereby, a highly reliable organic thin film transistor can be formed.

本発明の電子デバイスは、本発明の導電層を備えることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い電子デバイスが得られる。
本発明の電子デバイスは、本発明の導電層を有する積層体を備えることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い電子デバイスが得られる。
本発明の電子デバイスは、発光素子または光電変換素子であることが好ましい。
これにより、信頼性の高い発光素子および光電変換素子が得られる。
The electronic device of the present invention includes the conductive layer of the present invention.
Thereby, an electronic device with high reliability can be obtained.
The electronic device of the present invention is characterized by including a laminate having the conductive layer of the present invention.
Thereby, an electronic device with high reliability can be obtained.
The electronic device of the present invention is preferably a light emitting element or a photoelectric conversion element.
Thereby, a highly reliable light emitting element and photoelectric conversion element are obtained.

本発明の電子デバイスでは、前記発光素子は、有機エレクトロルミネッセンス素子であることが好ましい。
これにより、信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンス素子が得られる。
本発明の電子デバイスは、本発明の導電層を有する積層体を備えることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い電子デバイスが得られる。
In the electronic device of the present invention, the light emitting element is preferably an organic electroluminescence element.
Thereby, a highly reliable organic electroluminescent element is obtained.
The electronic device of the present invention is characterized by including a laminate having the conductive layer of the present invention.
Thereby, an electronic device with high reliability can be obtained.

本発明の電子デバイスは、スイッチング素子であることが好ましい。
これにより、信頼性の高いスイッチング素子が得られる。
本発明の電子デバイスでは、前記スイッチング素子は、有機薄膜トランジスタであることが好ましい。
これにより、信頼性の高い有機薄膜トランジスタが得られる。
本発明の電子機器は、本発明の電子デバイスを備えることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い電子機器が得られる。
The electronic device of the present invention is preferably a switching element.
Thereby, a highly reliable switching element is obtained.
In the electronic device of the present invention, the switching element is preferably an organic thin film transistor.
Thereby, a highly reliable organic thin-film transistor is obtained.
An electronic apparatus according to the present invention includes the electronic device according to the present invention.
As a result, a highly reliable electronic device can be obtained.

以下、本発明の導電性材料用組成物、導電性材料、導電層、電子デバイスおよび電子機器を添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
<導電層>
まず、本発明の導電性材料を主材料として構成される導電層(本発明の導電層)について説明する。
Hereinafter, the composition for conductive material, the conductive material, the conductive layer, the electronic device, and the electronic apparatus of the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
<Conductive layer>
First, the conductive layer (the conductive layer of the present invention) composed of the conductive material of the present invention as a main material will be described.

本発明の導電性材料は、下記一般式(1)で表される化合物(ヘテロアリールアミン誘導体)同士の置換基Xを、直接、またはアクリル系架橋剤を介して、重合反応させて得られた高分子(ポリマー)、すなわち、置換基X以外の主骨格(ヘテロアリールアミン骨格)同士を、置換基Xと置換基Xとが直接反応して生成した化学構造や、アクリル系架橋剤により置換基Xと置換基Xとが架橋して形成された化学構造(以下、これらの化学構造を総称して「連結構造」という。)により連結してなる高分子を主成分とするものである。   The conductive material of the present invention was obtained by subjecting a substituent X between compounds (heteroarylamine derivatives) represented by the following general formula (1) to a polymerization reaction directly or via an acrylic crosslinking agent. Polymer (polymer), that is, a main structure (heteroarylamine skeleton) other than the substituent X, the chemical structure formed by direct reaction of the substituent X and the substituent X, or a substituent by an acrylic crosslinking agent The main component is a polymer formed by linking by a chemical structure formed by crosslinking X and a substituent X (hereinafter, these chemical structures are collectively referred to as “linked structure”).

Figure 2006237442
[式中、2つのRは、それぞれ独立して、炭素数2〜8の直鎖アルキル基を表し、同一であっても、異なっていてもよく、4つのRは、それぞれ独立して、水素原子、メチル基またはエチル基を表し、同一であっても、異なっていてもよく、2つのXは、それぞれ独立して、下記一般式(2)で表される置換基を表し、同一であっても、異なっていてもよく、Yは、置換もしくは無置換の複素環を少なくとも1つ含む基を表す。]
Figure 2006237442
[Wherein, two R 1 s each independently represent a straight-chain alkyl group having 2 to 8 carbon atoms, and may be the same or different, and four R 2 s each independently Represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, which may be the same or different, and two X's each independently represent a substituent represented by the following general formula (2); Or Y may be different, and Y represents a group containing at least one substituted or unsubstituted heterocycle. ]

Figure 2006237442
[式中、nは、2〜8の整数を表し、Zは、水素原子またはメチル基を表す。]
Figure 2006237442
[Wherein, n represents an integer of 2 to 8, and Z represents a hydrogen atom or a methyl group. ]

ここで、このような高分子では、連結構造を介して前記主骨格が繰り返して結合する構成、すなわち、主骨格が所定の距離を離間して繰り返し存在している構成となっていることから、隣接する主骨格同士の相互作用が低減する。
また、前記主骨格は、共役系の化学構造を有し、その特有な電子雲の広がりにより、高分子における円滑なキャリア(正孔または電子)の輸送に寄与する。
このようなことから、この高分子は、優れたキャリア輸送能を発揮し、かかる高分子を主材料とする導電層は、キャリア輸送能に優れたものとなる。
なお、このような高分子において、主骨格同士の離間距離が短くなり過ぎると、隣接する主骨格同士の相互作用が大きくなる傾向を示し、主骨格の離間距離が長くなり過ぎると、主骨格同士間におけるキャリアの受け渡しが困難となり、高分子のキャリア輸送能が低減する傾向を示す。
Here, in such a polymer, the main skeleton is repeatedly bonded through a connecting structure, that is, the main skeleton is repeatedly present at a predetermined distance, Interaction between adjacent main skeletons is reduced.
The main skeleton has a conjugated chemical structure, and contributes to the smooth transport of carriers (holes or electrons) in the polymer due to its unique electron cloud spread.
For this reason, this polymer exhibits an excellent carrier transport ability, and a conductive layer mainly composed of such a polymer has an excellent carrier transport ability.
In such a polymer, if the distance between the main skeletons becomes too short, the interaction between adjacent main skeletons tends to increase, and if the distance between the main skeletons becomes too long, the main skeletons It is difficult to deliver carriers between the two, and the carrier transport ability of the polymer tends to decrease.

これらのことを考慮して、連結構造の構成が選択(決定)される、すなわち、置換基Xおよびアクリル系架橋剤の構造(構成)がそれぞれ設定(決定)される。
なお、連結構造中において、置換基X同士が直接重合反応している場合でも、主骨格同士の相互作用を低減させることができるが、置換基Xと置換基Xとがアクリル系架橋剤を介して重合反応している場合には、主骨格同士の離間距離が適切な大きさに保たれて、主骨格同士の相互作用がより低減される。その結果、このような連結構造を有する高分子は、優れたキャリア輸送能を発揮することとなる。
Taking these into consideration, the configuration of the linking structure is selected (determined), that is, the structure (configuration) of the substituent X and the acrylic crosslinking agent is set (determined).
In the connection structure, even when the substituents X are directly polymerized, the interaction between the main skeletons can be reduced. However, the substituent X and the substituent X are bonded via an acrylic crosslinking agent. When the polymerization reaction occurs, the distance between the main skeletons is maintained at an appropriate size, and the interaction between the main skeletons is further reduced. As a result, the polymer having such a connection structure exhibits an excellent carrier transport ability.

置換基Xは、前記一般式(2)中、nが2〜8、特に2〜6の直鎖状の炭素−炭素結合(アルキレン基)のものが好ましい。これにより、主骨格同士の距離を適度に保つことが可能となり、高分子中において、隣接する主骨格同士の相互作用を確実に低減することができるとともに、主骨格同士間におけるキャリアの受け渡しがより確実に行われることから、高分子のキャリア輸送能が優れたものとなる。   Substituent X is preferably a linear carbon-carbon bond (alkylene group) in which n is 2 to 8, particularly 2 to 6, in general formula (2). This makes it possible to keep the distance between the main skeletons moderately, and in the polymer, the interaction between adjacent main skeletons can be reliably reduced, and more carriers can be transferred between the main skeletons. Since it is reliably performed, the carrier transport ability of the polymer is excellent.

また、2つの置換基Xは、ほぼ同一の炭素数のものであるのが好ましく、同一の炭素数のものであるのがより好ましい。これにより、連結構造が、置換基X同士を直接結合させることにより形成された場合やアクリル系架橋剤を介して結合している場合に係わらず、高分子中における主骨格同士の離間距離を一定以上の大きさにすることができる。その結果、この高分子中において主骨格同士による相互作用が生じるのを好適に防止することができる。これにより、高分子のキャリア輸送能を向上させることができる。   Further, the two substituents X preferably have substantially the same carbon number, and more preferably have the same carbon number. Thus, regardless of whether the linking structure is formed by directly bonding substituents X to each other or bonded via an acrylic crosslinking agent, the separation distance between main skeletons in the polymer is constant. The size can be made larger. As a result, it is possible to suitably prevent the interaction between the main skeletons in the polymer. Thereby, the carrier transport ability of the polymer can be improved.

また、置換基Xは、前記一般式(2)に示すように、その末端に、(メタ)アクリロイル基(前記一般式(2)中、置換基Zが水素原子である場合には、アクリロイル基を表し、置換基Zがメチル基である場合には、メタクリロイル基を表す。)を有している。ここで、(メタ)アクリロイル基は、高い反応性および結合安定性を有することから、比較的容易に置換基X同士を、直接またはアクリル系架橋剤を介して重合反応させて、鎖長の長い高分子を形成することができる。   Further, as shown in the general formula (2), the substituent X has a (meth) acryloyl group (when the substituent Z is a hydrogen atom in the general formula (2), an acryloyl group at the terminal. And when the substituent Z is a methyl group, it represents a methacryloyl group. Here, since the (meth) acryloyl group has high reactivity and bond stability, the substituents X are relatively easily polymerized directly or via an acrylic cross-linking agent, resulting in a long chain length. A polymer can be formed.

さらに、(メタ)アクリロイル基を用いて重合反応させることにより生じた連結構造中には、酸素原子と炭素原子との二重結合(π結合)が存在することとなる。これにより、主骨格同士の距離が比較的長くなった場合においても、このπ結合を介して、主骨格同士間におけるキャリアの受け渡しを確実に行うことができる。
また、π結合と主骨格との間には直鎖状の炭素−炭素結合(アルキレン基)が存在することから、主骨格同士の相互作用の増強を防止することができる。
Furthermore, a double bond (π bond) between an oxygen atom and a carbon atom exists in the linked structure generated by the polymerization reaction using the (meth) acryloyl group. Thus, even when the distance between the main skeletons is relatively long, the carriers can be reliably transferred between the main skeletons via the π bond.
In addition, since a linear carbon-carbon bond (alkylene group) exists between the π bond and the main skeleton, enhancement of the interaction between the main skeletons can be prevented.

なお、例えば、ベンゼン環のように、π結合の中でも共役系の結合が多い構造が連結構造中に存在すると、この構造を介して隣接する主骨格同士が相互作用を及ぼすようになり、主骨格同士を離間することによる効果が相殺されてしまう。
また、置換基Xは、ベンゼン環の2位から6位のいずれの位置に結合してもよいが、特に、3位、4位または5位のうちのいずれかに結合しているのが好ましい。これにより、隣接する主骨格同士の結合を連結構造を介して行うことの効果をより顕著に発揮させることができる。すなわち、隣接する主骨格同士をより確実に適切な距離に離間させることができる。
For example, when a structure having many conjugated bonds among π bonds, such as a benzene ring, is present in a linked structure, adjacent main skeletons interact with each other through this structure, and the main skeleton The effect of separating them will be offset.
The substituent X may be bonded to any position from the 2-position to the 6-position of the benzene ring, but is particularly preferably bonded to any one of the 3-position, 4-position or 5-position. . Thereby, the effect of performing the coupling | bonding of adjacent main frame | skeletons via a connection structure can be exhibited more notably. That is, the adjacent main skeletons can be more reliably separated at an appropriate distance.

また、アクリル系架橋剤としては、特に限定されないが、(メタ)アクリル酸系架橋剤、ポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤、ポリウレタン(メタ)アクリレート系架橋剤、エポキシ(メタ)アクリレート系架橋剤、アミン(メタ)アクリレート系架橋剤、メラミン(メタ)アクリレート系架橋剤のような(メタ)アクリル酸エステル系架橋剤等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、アクリル系架橋剤としては、ポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤を主成分とするものが好ましい。ポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤は、少ないステップで比較的容易に合成できることから、このものをアクリル系架橋剤として用いることにより、コストの削減を図ることができる。また、このものは、高い溶解性を有することから、本発明の導電性材料用組成物を調製する際に用いる溶媒の選択の幅が広がるという利点もある。   In addition, the acrylic crosslinking agent is not particularly limited, but a (meth) acrylic acid crosslinking agent, a polyester (meth) acrylate crosslinking agent, a polyurethane (meth) acrylate crosslinking agent, an epoxy (meth) acrylate crosslinking agent, (Meth) acrylate crosslinkers such as amine (meth) acrylate crosslinkers and melamine (meth) acrylate crosslinkers can be used, and one or more of these can be used in combination. it can. Among these, as an acrylic type crosslinking agent, what has a polyester (meth) acrylate type crosslinking agent as a main component is preferable. Since the polyester (meth) acrylate-based crosslinking agent can be synthesized relatively easily with few steps, the cost can be reduced by using this as an acrylic crosslinking agent. Moreover, since this thing has high solubility, there also exists an advantage that the selection range of the solvent used when preparing the composition for electrically conductive materials of this invention spreads.

また、(メタ)アクリロイル基は、安定した光重合反応特性を持つことから、置換基
Xと効率良く反応して、未反応の置換基Xとポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤とが残存することを好適に防止することができる。その結果、置換基X同士が直接結合している部分と、ポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤を介して結合している部分とが偏って存在(偏在)するような高分子が形成されるのを防止することができ、均一な膜特性を有する導電層を成膜することができる。
さらに、ポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤は、高い透明性を有することから、形成される高分子にも高い透明性を付与することができる。したがって、本発明の導電性材料(高分子)を、透明性が要求される電子デバイス、例えば、後述する有機EL素子が備える正孔輸送層等に適用するのは、特に有効である。
Further, since the (meth) acryloyl group has stable photopolymerization reaction characteristics, it reacts efficiently with the substituent X, and the unreacted substituent X and the polyester (meth) acrylate-based crosslinking agent remain. Can be suitably prevented. As a result, a polymer is formed in which the portion where the substituents X are directly bonded to each other and the portion bonded via the polyester (meth) acrylate-based cross-linking agent are biased (distributed). Thus, a conductive layer having uniform film characteristics can be formed.
Furthermore, since the polyester (meth) acrylate-based crosslinking agent has high transparency, high transparency can be imparted to the formed polymer. Therefore, it is particularly effective to apply the conductive material (polymer) of the present invention to an electronic device that requires transparency, for example, a hole transport layer provided in an organic EL element described later.

ポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤は、これを介して置換基Xと置換基Xとを連結し得るものであればよく、特に限定されないが、少なくとも2つの(メタ)アクリロイル基を有するものであるのが好ましい。これにより、ポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤を介しての置換基Xと置換基Xとの連結をより確実に行うことができるとともに、高分子が形成された際に、隣接する主骨格同士をより適切な距離に保つことができる。
このような少なくとも2つの(メタ)アクリロイル基を有するポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤としては、例えば、下記一般式(3)〜(5)で表される化合物のうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができるが、特に、下記一般式(3)で表される化合物を主成分とするものが好ましい。
The polyester (meth) acrylate-based crosslinking agent is not particularly limited as long as it can link the substituent X and the substituent X through this, and has at least two (meth) acryloyl groups. Is preferred. As a result, the substituent X and the substituent X can be more reliably connected via the polyester (meth) acrylate-based crosslinking agent, and when the polymer is formed, the adjacent main skeletons are bonded to each other. A more appropriate distance can be maintained.
Examples of the polyester (meth) acrylate-based crosslinking agent having at least two (meth) acryloyl groups include one or more of the compounds represented by the following general formulas (3) to (5). Although it can be used in combination, it is particularly preferable to use a compound represented by the following general formula (3) as a main component.

Figure 2006237442
[式中、nは、4500以下の整数を表し、2つのAは、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を表し、同一であっても、異なっていてもよい。]
Figure 2006237442
[Wherein n represents an integer of 4500 or less, and two A's each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and may be the same or different. ]

Figure 2006237442
[式中、nは、1〜3の整数を表し、2つのRは、それぞれ独立して、炭素数が1〜10のアルキレン基を表し、同一であっても、異なっていてもよく、Rは、炭素数が1〜100のアルキレン基を表し、各Aは、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を表し、同一であっても、異なっていてもよい。]
Figure 2006237442
[Wherein, n represents an integer of 1 to 3, and two R 3 s each independently represent an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, which may be the same or different, R 4 represents an alkylene group having 1 to 100 carbon atoms, and each A independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and may be the same or different. ]

Figure 2006237442
[式中、nは、0〜1500の整数を表し、3つのAは、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を表し、同一であっても、異なっていてもよい。]
Figure 2006237442
[Wherein n represents an integer of 0 to 1500, and three A's each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and may be the same or different. ]

前記一般式(3)で表されるものは、その両端に(メタ)アクリロイル基(前記一般式(3)中、置換基Aが水素原子である場合には、アクリロイル基を表し、置換基Aがメチル基である場合には、メタクリロイル基を表す。)を有することから、置換基Xとの重合反応(結合)をその両端において、それぞれ行うことができる。
また、この(メタ)アクリロイル基同士の間には、ポリエステルにより構成される部分が存在することから、このポリエステルにより構成される部分の長さ、すなわち、炭素−炭素結合で構成される部分(アルキレン基)の長さを適宜設定することにより、連結構造の長さ(鎖長)を調節することができる。これにより、主骨格同士を適切な距離に保つことができる。
これらのことから、形成される高分子は、キャリア輸送能がより優れたものとなる。
What is represented by the general formula (3) is a (meth) acryloyl group at both ends thereof (in the general formula (3), when the substituent A is a hydrogen atom, it represents an acryloyl group, and the substituent A When it is a methyl group, it represents a methacryloyl group.), And therefore, a polymerization reaction (bonding) with the substituent X can be carried out at both ends thereof.
In addition, since there is a portion composed of polyester between these (meth) acryloyl groups, the length of the portion composed of this polyester, that is, the portion composed of carbon-carbon bonds (alkylene) The length (chain length) of the linking structure can be adjusted by appropriately setting the length of the group). Thereby, main skeletons can be kept at an appropriate distance.
From these facts, the formed polymer has more excellent carrier transport ability.

また、前記一般式(3)中、特に、nが1300以下の整数であるのが好ましい。nを前記範囲内とすることにより、主骨格同士の距離を、特に適切なものにすることが可能となる。これにより、高分子中において、隣接する主骨格同士の相互作用をより確実に低減することができるとともに、主骨格同士間におけるキャリアの受け渡しがさらに確実に行われるようになる。その結果、形成される高分子は、キャリア輸送能がさらに優れたものとなる。   In the general formula (3), n is preferably an integer of 1300 or less. By setting n within the above range, the distance between the main skeletons can be made particularly appropriate. Thereby, in the polymer, the interaction between the adjacent main skeletons can be more reliably reduced, and the delivery of carriers between the main skeletons can be more reliably performed. As a result, the formed polymer is further improved in carrier transport ability.

次に、高分子において、キャリア輸送に寄与する主骨格について説明をする。
この主骨格において、基(結合基)Yの化学構造を適宜設定することにより、高分子のキャリア輸送能の特性を変化させることができる。
これは、キャリア輸送に寄与する主骨格における電子雲の広がり(電子の分布状態)が変化することに伴って、高分子において、例えば、その価電子帯および伝導帯のエネルギー準位やバンドギャップ(禁止帯幅)の大きさ等が変化することに起因すると考えられる。
Next, the main skeleton that contributes to carrier transport in the polymer will be described.
By appropriately setting the chemical structure of the group (bonding group) Y in this main skeleton, the characteristics of the polymer carrier transport ability can be changed.
This is because, in the polymer, for example, the energy levels and band gaps of the valence band and the conduction band (the band gap (electron distribution state) of the main skeleton that contributes to carrier transport change. This is thought to be due to the change in the size of the forbidden band.

本発明の導電性材料では、基Yに置換もしくは無置換の複素環が少なくとも1つ含まれており、この複素環の種類を選択することにより、高分子におけるキャリア輸送能の特性を比較的容易に調整することができる。
この複素環は、高分子に所望のキャリア輸送能が得られるように選択すればよいが、特に、窒素、酸素、硫黄、セレンおよびテルルのうちの少なくとも1種のヘテロ原子を含有するものを選択するのが好ましい。かかる種類のヘテロ原子を含有する複素環を選択することにより、高分子の価電子帯および伝導帯のエネルギー準位やバンドギャップ(禁止帯幅)の大きさ等を変化させることがより容易となる。
In the conductive material of the present invention, the group Y contains at least one substituted or unsubstituted heterocyclic ring. By selecting the type of the heterocyclic ring, the characteristics of the carrier transport ability in the polymer are relatively easy. Can be adjusted.
The heterocyclic ring may be selected so that the polymer can have a desired carrier transporting ability. In particular, a heterocyclic ring containing at least one heteroatom selected from nitrogen, oxygen, sulfur, selenium and tellurium is selected. It is preferable to do this. By selecting a heterocyclic ring containing this kind of heteroatom, it becomes easier to change the energy level of the valence band and conduction band of the polymer, the size of the band gap (forbidden band width), and the like. .

また、複素環は、芳香族系および非芳香族系のいずれであってもよいが、芳香族系のものであるのが好ましい。これにより、主骨格の共役系の化学構造における電子密度の偏り、すなわち、π電子の局在化を好適に防止して、高分子のキャリア輸送能の低下を防止することができる。
基Yは、同一または異なる複素環を1〜5つ含むものが好ましく、1〜3つ含むものがより好ましい。基Yにこのような数の複素環が存在すれば、高分子の価電子帯および伝導帯のエネルギー準位やバンドギャップ(禁止帯幅)の大きさ等を十分に変化させることができる。
The heterocyclic ring may be either aromatic or non-aromatic, but is preferably aromatic. Thereby, it is possible to suitably prevent the deviation of the electron density in the conjugated chemical structure of the main skeleton, that is, the localization of π electrons, and to prevent the carrier transport ability of the polymer from being lowered.
The group Y preferably contains 1 to 5 heterocycles that are the same or different, and more preferably contains 1 to 3 heterocycles. If such a number of heterocyclic rings are present in the group Y, the energy level of the valence band and the conduction band of the polymer, the size of the band gap (forbidden band width), and the like can be sufficiently changed.

さらに、基Yは、複素環以外に、芳香族炭化水素環を少なくとも1つ含むものを選択することもできる。基Yとして、複素環と芳香族炭化水素環とを含むものを選択することにより、目的とするキャリア輸送能の特性を高分子により確実に付与することができる。
このような基Yは、前記一般式(1)中の各Nにそれぞれ、直接結合する芳香族炭化水素環と、これらの芳香族炭化水素環の間に存在する少なくとも1つの複素環とを含むものであるのが、特に好ましい。これにより、高分子中における電子密度に偏りが生じるのを確実に防止することができる。その結果、高分子のキャリア輸送能が均一なものとなる。
Furthermore, the group Y can also select what contains at least 1 aromatic-hydrocarbon ring other than a heterocyclic ring. By selecting a group Y containing a heterocyclic ring and an aromatic hydrocarbon ring, the target carrier transporting property can be reliably imparted to the polymer.
Such a group Y includes an aromatic hydrocarbon ring directly bonded to each N in the general formula (1) and at least one heterocyclic ring existing between these aromatic hydrocarbon rings. It is particularly preferable that the Thereby, it is possible to reliably prevent the occurrence of bias in the electron density in the polymer. As a result, the carrier transport ability of the polymer becomes uniform.

また、基Yの総炭素数は、2〜75であるのが好ましく、2〜50であるのがより好ましい。基Yの総炭素数が多すぎると、置換基Xの種類によっては、前記一般式(1)で表される化合物の溶媒に対する溶解度が低下する傾向を示し、本発明の導電性材料用組成物を調整する際の溶媒の選択の幅が狭くなるおそれがある。
また、基Yの総炭素数をかかる範囲内とすることにより、主骨格における平面性が保たれることから、高分子におけるキャリア輸送能が低下するのを確実に防止することができる。
これらのことを考慮すると、前記一般式(1)で表される化合物において、基Yとしては、例えば、下記化学式(6)〜(25)で表されるものが特に好ましい構造である。
In addition, the total number of carbon atoms in the group Y is preferably 2 to 75, and more preferably 2 to 50. When the total number of carbon atoms of the group Y is too large, depending on the type of the substituent X, the solubility of the compound represented by the general formula (1) in the solvent tends to be reduced, and the composition for conductive material of the present invention. There is a possibility that the range of selection of the solvent when adjusting is narrowed.
In addition, by setting the total number of carbon atoms of the group Y within such a range, the planarity of the main skeleton is maintained, so that it is possible to reliably prevent the carrier transport ability of the polymer from being lowered.
In consideration of these, in the compound represented by the general formula (1), as the group Y, for example, those represented by the following chemical formulas (6) to (25) are particularly preferable structures.

Figure 2006237442
[式中、2つのQは、それぞれ独立して、N−T、S、O、SeまたはTe(ただし、Tは、H、CHまたはPhを表す。)を表し、同一であっても、異なっていてもよい。]
Figure 2006237442
[Wherein, two Q 1 s each independently represent NT 1 , S, O, Se, or Te (where T 1 represents H, CH 3, or Ph) and are the same. Or different. ]

Figure 2006237442
[式中、2つのQは、それぞれ独立して、N−T、S、O、SeまたはTe(ただし、Tは、H、CHまたはPhを表す。)を表し、同一であっても、異なっていてもよい。]
Figure 2006237442
[Wherein, two Q 1 s each independently represent NT 1 , S, O, Se, or Te (where T 1 represents H, CH 3, or Ph) and are the same. Or different. ]

Figure 2006237442
[式中、2つのQは、それぞれ独立して、N−T、S、O、SeまたはTe(ただし、Tは、H、CHまたはPhを表す。)を表し、同一であっても、異なっていてもよく、4つのQは、それぞれ独立して、SまたはOを表し、同一であっても、異なっていてもよい。]
Figure 2006237442
[Wherein, two Q 1 s each independently represent NT 1 , S, O, Se, or Te (where T 1 represents H, CH 3, or Ph) and are the same. Each of the four Q 2 s independently represents S or O, and may be the same or different. ]

Figure 2006237442
[式中、2つのQは、それぞれ独立して、N−T、S、O、SeまたはTe(ただし、Tは、H、CHまたはPhを表す。)を表し、同一であっても、異なっていてもよく、4つのQは、それぞれ独立して、SまたはOを表し、同一であっても、異なっていてもよい。]
Figure 2006237442
[Wherein, two Q 1 s each independently represent NT 1 , S, O, Se, or Te (where T 1 represents H, CH 3, or Ph) and are the same. Each of the four Q 2 s independently represents S or O, and may be the same or different. ]

Figure 2006237442
[式中、2つのQは、それぞれ独立して、N−T、S、O、SeまたはTe(ただし、Tは、H、CHまたはPhを表す。)を表し、同一であっても、異なっていてもよく、4つのQは、それぞれ独立して、SまたはOを表し、同一であっても、異なっていてもよい。]
Figure 2006237442
[Wherein, two Q 1 s each independently represent NT 1 , S, O, Se, or Te (where T 1 represents H, CH 3, or Ph) and are the same. Each of the four Q 2 s independently represents S or O, and may be the same or different. ]

Figure 2006237442
[式中、Qは、N−T、S、O、SeまたはTe(ただし、Tは、H、CHまたはPhを表す。)を表す。]
Figure 2006237442
[Wherein, Q 1 represents NT 1 , S, O, Se or Te (where T 1 represents H, CH 3 or Ph). ]

Figure 2006237442
[式中、Qは、N−T、S、O、SeまたはTe(ただし、Tは、H、CH、CまたはPhを表す。)を表す。]
Figure 2006237442
[Wherein Q 3 represents NT 3 , S, O, Se or Te (where T 3 represents H, CH 3 , C 2 H 5 or Ph). ]

Figure 2006237442
[式中、Qは、N−T、S、O、SeまたはTe(ただし、Tは、H、CHまたはPhを表す。)を表す。]
Figure 2006237442
[Wherein, Q 1 represents NT 1 , S, O, Se or Te (where T 1 represents H, CH 3 or Ph). ]

Figure 2006237442
[式中、Qは、N−T、S、O、SeまたはTe(ただし、Tは、H、CHまたはPhを表す。)を表す。]
Figure 2006237442
[Wherein, Q 1 represents NT 1 , S, O, Se or Te (where T 1 represents H, CH 3 or Ph). ]

Figure 2006237442
Figure 2006237442

Figure 2006237442
Figure 2006237442

Figure 2006237442
Figure 2006237442

Figure 2006237442
Figure 2006237442

Figure 2006237442
Figure 2006237442

Figure 2006237442
Figure 2006237442

Figure 2006237442
[式中、3つのQは、それぞれ独立して、N−T、S、O、SeまたはTe(ただし、Tは、H、CHまたはPhを表す。)を表し、同一であっても、異なっていてもよい。]
Figure 2006237442
[Wherein, three Q 1 s each independently represent NT 1 , S, O, Se, or Te (where T 1 represents H, CH 3, or Ph), and are the same. Or different. ]

Figure 2006237442
[式中、3つのQは、それぞれ独立して、N−T、S、O、SeまたはTe(ただし、Tは、H、CHまたはPhを表す。)を表し、同一であっても、異なっていてもよい。]
Figure 2006237442
[Wherein, three Q 1 s each independently represent NT 1 , S, O, Se, or Te (where T 1 represents H, CH 3, or Ph), and are the same. Or different. ]

Figure 2006237442
[式中、Qは、N−T、S、O、SeまたはTe(ただし、Tは、H、CHまたはPhを表す。)を表す。]
Figure 2006237442
[Wherein, Q 1 represents NT 1 , S, O, Se or Te (where T 1 represents H, CH 3 or Ph). ]

Figure 2006237442
[式中、Qは、N−T、S、O、SeまたはTe(ただし、Tは、H、CHまたはPhを表す。)を表す。]
Figure 2006237442
[Wherein, Q 1 represents NT 1 , S, O, Se or Te (where T 1 represents H, CH 3 or Ph). ]

Figure 2006237442
[式中、3つのQは、それぞれ独立して、N−T、S、O、SeまたはTe(ただし、Tは、H、CHまたはPhを表す。)を表し、同一であっても、異なっていてもよい。]
Figure 2006237442
[Wherein, three Q 1 s each independently represent NT 1 , S, O, Se, or Te (where T 1 represents H, CH 3, or Ph), and are the same. Or different. ]

また、基Yに含まれる複素環や芳香族炭化水素環には、主骨格における平面性が大きく阻害されないような置換基が導入されていてもよい。このような置換基としては、例えば、比較的炭素数の少ないアルキル基やハロゲン基等が挙げられる。
さて、上記一般式(1)で表される化合物において、置換基Rは、炭素数2〜8の直鎖アルキル基であるが、特に、炭素数3〜6の直鎖アルキル基であるのが好ましい。その結果、この置換基Rによる立体障害により、隣接する高分子同士が接近しすぎるのを阻止して、これらの距離を適度に保つことができる。その結果、形成される導電層において、異なる高分子が有する主骨格同士の間での相互作用を確実に低減することができ、導電層のキャリア輸送能を優れたものにすることができる。
In addition, the heterocyclic ring or aromatic hydrocarbon ring contained in the group Y may be introduced with a substituent that does not significantly impair the planarity of the main skeleton. Examples of such a substituent include an alkyl group and a halogen group having a relatively small number of carbon atoms.
In the compound represented by the general formula (1), the substituent R 1 is a linear alkyl group having 2 to 8 carbon atoms, and particularly a linear alkyl group having 3 to 6 carbon atoms. Is preferred. As a result, the steric hindrance caused by the substituent R 1 can prevent adjacent polymers from being too close to each other, and can keep these distances appropriately. As a result, in the formed conductive layer, the interaction between main skeletons of different polymers can be reliably reduced, and the carrier transport ability of the conductive layer can be improved.

また、2つの置換基Rは、ほぼ同一の炭素数のものであるのが好ましく、同一の炭素数のものであるのがより好ましい。これにより、形成される導電層において、隣接する高分子同士の距離をほぼ一定の間隔に保つことができる。その結果、導電層中の高分子の密度が一定なものとなる。
また、置換基Rは、ベンゼン環の2位から6位のいずれの位置に結合してもよいが、特に、4位に結合しているのが好ましい。これにより、置換基Rを導入することの効果をより顕著に発揮させることができる。すなわち、隣接する高分子同士が接近しすぎるのをより確実に阻止することができる。
The two substituents R 1 preferably have substantially the same carbon number, and more preferably have the same carbon number. Thereby, in the conductive layer to be formed, the distance between adjacent polymers can be maintained at a substantially constant interval. As a result, the polymer density in the conductive layer becomes constant.
The substituent R 1 may be bonded to any position from the 2nd to 6th positions of the benzene ring, but it is particularly preferable to bond to the 4th position. This makes it possible to conspicuously exhibit the effect of introducing a substituent R 1. That is, it is possible to more reliably prevent adjacent polymers from being too close to each other.

置換基Rは、水素原子、メチル基またはエチル基であり、置換基Rは、置換基Rの炭素数に応じて選択するようにすればよい。例えば、置換基Rの炭素数が大きい場合には、置換基Rとしては、水素原子を選択し、置換基Rの炭素数が小さい場合には、置換基Rとしては、メチル基もしくはエチル基を選択するようにすればよい。
このような導電層は、重合反応により得られた高分子を主材料とすることから、耐溶剤性に優れたものとなる。その結果、この導電層上に接触して上層を形成する場合に、この上層を形成するための材料に含まれる溶媒または分散媒により、導電層が膨潤または溶解するのを確実に防止することができる。
The substituent R 2 is a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and the substituent R 2 may be selected according to the number of carbon atoms of the substituent R 1 . For example, if a large number of carbon atoms of the substituents R 1, as the substituent R 2, a hydrogen atom is selected, when the number of carbon atoms of the substituents R 1 is small, the substituent R 2, a methyl group Alternatively, an ethyl group may be selected.
Since such a conductive layer is mainly composed of a polymer obtained by a polymerization reaction, it has excellent solvent resistance. As a result, when the upper layer is formed in contact with the conductive layer, it is possible to reliably prevent the conductive layer from swelling or dissolving by the solvent or dispersion medium contained in the material for forming the upper layer. it can.

また、このような導電層を有する積層体を用いて、後述するような電子デバイスを構築した場合、この導電層が高分子を主材料として構成されていることから、この導電層と接触する層(接触層)の界面付近において、導電層の構成材料と接触層の構成材料とが経時的に混ざり合うのを確実に防止することができる。その結果、電子デバイスの特性が経時的に劣化するのを防止することができる。   In addition, when an electronic device as will be described later is constructed using a laminate having such a conductive layer, the layer that comes into contact with the conductive layer because the conductive layer is composed mainly of a polymer. In the vicinity of the interface of the (contact layer), it is possible to reliably prevent the constituent material of the conductive layer and the constituent material of the contact layer from being mixed with time. As a result, it is possible to prevent the characteristics of the electronic device from deteriorating with time.

<有機エレクトロルミネッセンス素子>
次に、本発明の電子デバイスを、発光素子である有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、単に「有機EL素子」という。)に適用した場合の実施形態について説明する。
図1は、有機EL素子の一例を示した縦断面図である。
図1に示す有機EL素子1は、透明な基板2と、基板2上に設けられた陽極3と、陽極3上に設けられた有機EL層4と、有機EL層4上に設けられた陰極5と、各前記層3、4、5を覆うように設けられた保護層6とを備えている。
<Organic electroluminescence device>
Next, an embodiment in which the electronic device of the present invention is applied to an organic electroluminescence element (hereinafter simply referred to as “organic EL element”) which is a light emitting element will be described.
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing an example of an organic EL element.
An organic EL element 1 shown in FIG. 1 includes a transparent substrate 2, an anode 3 provided on the substrate 2, an organic EL layer 4 provided on the anode 3, and a cathode provided on the organic EL layer 4. 5 and a protective layer 6 provided so as to cover each of the layers 3, 4, and 5.

基板2は、有機EL素子1の支持体となるものであり、この基板2上に各前記層が形成されている。
基板2の構成材料としては、透光性を有し、光学特性が良好な材料を用いることができる。
このような材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリアリレートのような各種樹脂材料や、各種ガラス材料等が挙げられ、これらのうちの少なくとも1種を用いることができる。
The substrate 2 serves as a support for the organic EL element 1, and each of the layers is formed on the substrate 2.
As a constituent material of the substrate 2, a material having translucency and good optical characteristics can be used.
Examples of such materials include various resin materials such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polypropylene, cycloolefin polymer, polyamide, polyethersulfone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, and polyarylate, and various glass materials. And at least one of these can be used.

基板2の厚さ(平均)は、特に限定されないが、0.1〜30mm程度であるのが好ましく、0.1〜10mm程度であるのがより好ましい。
陽極3は、有機EL層4(後述する正孔輸送層41)に正孔を注入する電極である。また、この陽極3は、有機EL層4(後述する発光層42)からの発光を視認し得るように、実質的に透明(無色透明、有色透明、半透明)とされている。
Although the thickness (average) of the board | substrate 2 is not specifically limited, It is preferable that it is about 0.1-30 mm, and it is more preferable that it is about 0.1-10 mm.
The anode 3 is an electrode that injects holes into the organic EL layer 4 (a hole transport layer 41 described later). The anode 3 is substantially transparent (colorless transparent, colored transparent, translucent) so that light emission from the organic EL layer 4 (light emitting layer 42 described later) can be visually recognized.

かかる観点から、陽極3の構成材料(陽極材料)としては、仕事関数が大きく、導電性に優れ、また、透光性を有する材料を用いるのが好ましい。
このような陽極材料としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)、SnO2、Sb含有SnO2、Al含有ZnO等の酸化物、Au、Pt、Ag、Cuまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの少なくとも1種を用いることができる。
From such a viewpoint, as the constituent material (anode material) of the anode 3, it is preferable to use a material having a large work function, excellent conductivity, and translucency.
Examples of such an anode material include ITO (Indium Tin Oxide), SnO 2 , Sb-containing SnO 2 , oxides such as Al-containing ZnO, Au, Pt, Ag, Cu, or alloys containing these, and the like. At least one of these can be used.

陽極3の厚さ(平均)は、特に限定されないが、10〜200nm程度であるのが好ましく、50〜150nm程度であるのがより好ましい。陽極3の厚さが薄すぎると、陽極3としての機能が充分に発揮されなくなるおそれがあり、一方、陽極3が厚過ぎると、陽極材料の種類等によっては、光の透過率が著しく低下し、実用に適さなくなるおそれがある。   The thickness (average) of the anode 3 is not particularly limited, but is preferably about 10 to 200 nm, and more preferably about 50 to 150 nm. If the thickness of the anode 3 is too thin, the function as the anode 3 may not be sufficiently exhibited. On the other hand, if the anode 3 is too thick, the light transmittance may be remarkably lowered depending on the type of anode material. There is a risk that it will not be suitable for practical use.

なお、陽極材料には、例えば、ポリチオフェン、ポリピロール等の導電性樹脂材料を用いることもできる。
一方、陰極5は、有機EL層4(後述する電子輸送層43)に電子を注入する電極である。
陰極5の構成材料(陰極材料)としては、仕事関数の小さい材料を用いるのが好ましい。
As the anode material, for example, a conductive resin material such as polythiophene or polypyrrole can be used.
On the other hand, the cathode 5 is an electrode for injecting electrons into the organic EL layer 4 (an electron transport layer 43 described later).
As a constituent material (cathode material) of the cathode 5, it is preferable to use a material having a small work function.

このような陰極材料としては、Li、Mg、Ca、Sr、La、Ce、Er、Eu、Sc、Y、Yb、Ag、Cu、Al、Cs、Rbまたはこれらを含む合金等が挙げられ、これらのうちの少なくとも1種を用いることができる。
特に、陰極材料として合金を用いる場合には、Ag、Al、Cu等の安定な金属元素を含む合金、具体的には、MgAg、AlLi、CuLi等の合金を用いるのが好ましい。かかる合金を陰極材料として用いることにより、陰極5の電子注入効率および安定性の向上を図ることができる。
Examples of such cathode materials include Li, Mg, Ca, Sr, La, Ce, Er, Eu, Sc, Y, Yb, Ag, Cu, Al, Cs, Rb, and alloys containing these, and the like. At least one of them can be used.
In particular, when an alloy is used as the cathode material, an alloy containing a stable metal element such as Ag, Al, or Cu, specifically, an alloy such as MgAg, AlLi, or CuLi is preferably used. By using such an alloy as the cathode material, the electron injection efficiency and stability of the cathode 5 can be improved.

陰極5の厚さ(平均)は、1nm〜1μm程度であるのが好ましく、100〜400nm程度であるのがより好ましい。陰極5の厚さが薄すぎると、陰極5としての機能が充分に発揮されなくなるおそれがあり、一方、陰極5が厚過ぎると、有機EL素子1の発光効率が低下するおそれがある。
陽極3と陰極5との間には、有機EL層4が設けられている。有機EL層4は、正孔輸送層41と、発光層42と、電子輸送層43とを備え、これらがこの順で陽極3上に形成されている。
The thickness (average) of the cathode 5 is preferably about 1 nm to 1 μm, and more preferably about 100 to 400 nm. If the thickness of the cathode 5 is too thin, the function as the cathode 5 may not be sufficiently exhibited. On the other hand, if the cathode 5 is too thick, the light emission efficiency of the organic EL element 1 may be reduced.
Between the anode 3 and the cathode 5, an organic EL layer 4 is provided. The organic EL layer 4 includes a hole transport layer 41, a light emitting layer 42, and an electron transport layer 43, which are formed on the anode 3 in this order.

正孔輸送層41は、陽極3から注入された正孔を発光層42まで輸送する機能を有するものであり、電子輸送層43は、陰極5から注入された電子を発光層42まで輸送する機能を有するものである。
これら正孔輸送層41および電子輸送層43の構成材料としてそれぞれ、本発明の導電性材料を用いることができる。
The hole transport layer 41 has a function of transporting holes injected from the anode 3 to the light emitting layer 42, and the electron transport layer 43 has a function of transporting electrons injected from the cathode 5 to the light emitting layer 42. It is what has.
As the constituent materials of the hole transport layer 41 and the electron transport layer 43, the conductive material of the present invention can be used.

ここで、正孔輸送層41と電子輸送層43との双方を本発明の導電性材料を主材料として構成する場合、導電性材料の正孔輸送能および電子輸送能を考慮して、これらの構成材料を選択すればよい。
すなわち、正孔輸送層41が電子輸送層43に対して相対的に正孔輸送能が高くかつ電子輸送能が低くなるように、換言すれば、電子輸送層43が正孔輸送層41に対して相対的に電子輸送能が高くかつ正孔輸送能が低くなるように、これらの構成材料を選択すればよい。
Here, in the case where both the hole transport layer 41 and the electron transport layer 43 are formed using the conductive material of the present invention as a main material, the hole transport capability and the electron transport capability of the conductive material are taken into consideration, What is necessary is just to select a constituent material.
That is, the hole transport layer 41 has a relatively high hole transport capability and a low electron transport capability with respect to the electron transport layer 43, in other words, the electron transport layer 43 has a lower capacity than the hole transport layer 41. These constituent materials may be selected so that the electron transport ability is relatively high and the hole transport ability is low.

例えば、正孔輸送層41に用いる導電性材料として、基Yの化学構造が前記化学式(23)または(25)のものを選択した場合には、電子輸送層43を構成する導電性材料として、基Yの化学構造が前記化学式(12)または(24)のものを選択するのが好ましく、前記化学式(22)のものを選択することもできる。また、電子輸送層43を構成する導電性材料として、上記のものを用いた場合には、正孔輸送層41を構成する導電性材料として、基Yの化学構造が前記化学式(7)または(21)のものを選択することもできる。
また、正孔輸送層41は、その体積抵抗率が10Ω・cm以上であるのが好ましく、10Ω・cm以上であるのがより好ましい。これにより、発光効率のより高い有機EL素子1を得ることができる。
For example, as the conductive material used for the hole transport layer 41, when the chemical structure of the group Y is selected from the chemical formula (23) or (25), as the conductive material constituting the electron transport layer 43, The chemical structure of the group Y is preferably selected from the chemical formula (12) or (24), and the chemical structure (22) can also be selected. When the above-described materials are used as the conductive material constituting the electron transport layer 43, the chemical structure of the group Y is represented by the chemical formula (7) or ( 21) can also be selected.
Further, the hole transport layer 41 preferably has a volume resistivity of 10 Ω · cm or more, more preferably 10 2 Ω · cm or more. Thereby, the organic EL element 1 with higher luminous efficiency can be obtained.

正孔輸送層41の厚さ(平均)は、特に限定されないが、10〜150nm程度であるのが好ましく、50〜100nm程度であるのがより好ましい。正孔輸送層41の厚さが薄すぎると、ピンホールが生じるおそれがあり、一方、正孔輸送層41が厚過ぎると、正孔輸送層41の透過率が悪くなる原因となり、有機EL素子1の発光色の色度(色相)が変化してしまうおそれがある。   The thickness (average) of the hole transport layer 41 is not particularly limited, but is preferably about 10 to 150 nm, and more preferably about 50 to 100 nm. If the thickness of the hole transport layer 41 is too thin, pinholes may be generated. On the other hand, if the hole transport layer 41 is too thick, the transmittance of the hole transport layer 41 may be deteriorated, resulting in an organic EL element. There is a possibility that the chromaticity (hue) of the emission color of 1 will change.

さらに、電子輸送層43の厚さ(平均)は、特に限定されないが、1〜100nm程度であるのが好ましく、20〜50nm程度であるのがより好ましい。電子輸送層43の厚さが薄すぎると、ピンホールが生じショートするおそれがあり、一方、電子輸送層43が厚過ぎると、抵抗値が高くなるおそれがある。
また、本発明の導電性材料は、かかる比較的薄い正孔輸送層41および電子輸送層43を形成する場合に、特に有用である。
Furthermore, the thickness (average) of the electron transport layer 43 is not particularly limited, but is preferably about 1 to 100 nm, and more preferably about 20 to 50 nm. If the thickness of the electron transport layer 43 is too thin, pinholes may occur and short circuit may occur, while if the electron transport layer 43 is too thick, the resistance value may increase.
In addition, the conductive material of the present invention is particularly useful when such a relatively thin hole transport layer 41 and electron transport layer 43 are formed.

さて、陽極3と陰極5との間に通電(電圧を印加)すると、正孔輸送層41中を正孔が、また、電子輸送層43中を電子が移動し、発光層42において正孔と電子とが再結合する。そして、発光層42では、この再結合に際して放出されたエネルギーによりエキシトン(励起子)が生成し、このエキシトンが基底状態に戻る際にエネルギー(蛍光やりん光)を放出(発光)する。   When the anode 3 and the cathode 5 are energized (voltage is applied), holes move in the hole transport layer 41 and electrons move in the electron transport layer 43. The electrons recombine. In the light emitting layer 42, excitons (excitons) are generated by the energy released upon this recombination, and energy (fluorescence or phosphorescence) is emitted (emitted) when the excitons return to the ground state.

この発光層42の構成材料(発光材料)としては、電圧印加時に陽極3側から正孔を、また、陰極5側から電子を注入することができ、正孔と電子が再結合する場を提供できるものであれば、いかなるものであってもよい。
このような発光材料には、以下に示すような、各種低分子の発光材料、各種高分子の発光材料があり、これらのうちの少なくとも1種を用いることができる。
As a constituent material (light emitting material) of the light emitting layer 42, holes can be injected from the anode 3 side when electrons are applied, and electrons can be injected from the cathode 5 side, thereby providing a field where holes and electrons recombine. Any thing can be used as long as it is possible.
Such luminescent materials include various low-molecular luminescent materials and various high-molecular luminescent materials as described below, and at least one of them can be used.

なお、低分子の発光材料を用いることにより、緻密な発光層42が得られるため、発光層42の発光効率が向上する。また、高分子の発光材料を用いることにより、比較的容易に溶剤へ溶解させることができるため、インクジェット印刷法等の各種塗布法による発光層42の形成を容易に行うことができる。さらに、低分子の発光材料と高分子の発光材料とを組み合わせて用いることにより、低分子の発光材料および高分子の発光材料を用いる効果を併有すること、すなわち、緻密かつ発光効率に優れる発光層42を、インクジェット印刷法等の各種塗布法により、容易に形成することができるという効果が得られる。   In addition, since the dense light emitting layer 42 is obtained by using a low molecular light emitting material, the light emission efficiency of the light emitting layer 42 is improved. Moreover, since the polymer light-emitting material can be dissolved in a solvent relatively easily, the light-emitting layer 42 can be easily formed by various coating methods such as an ink jet printing method. Furthermore, by using a combination of a low-molecular light-emitting material and a high-molecular light-emitting material, the light-emitting layer has the effect of using a low-molecular light-emitting material and a high-molecular light-emitting material. 42 can be easily formed by various coating methods such as an ink jet printing method.

低分子の発光材料としては、例えば、ジスチリルベンゼン(DSB)、ジアミノジスチリルベンゼン(DADSB)のようなベンゼン系化合物、ナフタレン、ナイルレッドのようなナフタレン系化合物、フェナントレンのようなフェナントレン系化合物、クリセン、6−ニトロクリセンのようなクリセン系化合物、ペリレン、N,N’−ビス(2,5−ジ−t−ブチルフェニル)−3,4,9,10−ペリレン−ジ−カルボキシイミド(BPPC)のようなペリレン系化合物、コロネンのようなコロネン系化合物、アントラセン、ビススチリルアントラセンのようなアントラセン系化合物、ピレンのようなピレン系化合物、4−(ジ−シアノメチレン)−2−メチル−6−(パラ−ジメチルアミノスチリル)−4H−ピラン(DCM)のようなピラン系化合物、アクリジンのようなアクリジン系化合物、スチルベンのようなスチルベン系化合物、2,5−ジベンゾオキサゾールチオフェンのようなチオフェン系化合物、ベンゾオキサゾールのようなベンゾオキサゾール系化合物、ベンゾイミダゾールのようなベンゾイミダゾール系化合物、2,2’−(パラ−フェニレンジビニレン)−ビスベンゾチアゾールのようなベンゾチアゾール系化合物、ビスチリル(1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン)、テトラフェニルブタジエンのようなブタジエン系化合物、ナフタルイミドのようなナフタルイミド系化合物、クマリンのようなクマリン系化合物、ペリノンのようなペリノン系化合物、オキサジアゾールのようなオキサジアゾール系化合物、アルダジン系化合物、1,2,3,4,5−ペンタフェニル−1,3−シクロペンタジエン(PPCP)のようなシクロペンタジエン系化合物、キナクリドン、キナクリドンレッドのようなキナクリドン系化合物、ピロロピリジン、チアジアゾロピリジンのようなピリジン系化合物、2,2’,7,7’−テトラフェニル−9,9’−スピロビフルオレンのようなスピロ化合物、フタロシアニン(HPc)、銅フタロシアニンのような金属または無金属のフタロシアニン系化合物、フローレンのようなフローレン系化合物、(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(Alq)、トリス(4−メチル−8キノリノレート)アルミニウム(III)(Almq)、(8−ヒドロキシキノリン)亜鉛(Znq)、(1,10−フェナントロリン)−トリス−(4,4,4−トリフルオロ−1−(2−チエニル)−ブタン−1,3−ジオネート)ユーロピウム(III)(Eu(TTA)(phen))、ファクトリス(2−フェニルピリジン)イリジウム(Ir(ppy))、(2,3,7,8,12,13,17,18−オクタエチル−21H,23H−ポルフィン)プラチナム(II)のような各種金属錯体等が挙げられる。 Examples of low-molecular light emitting materials include benzene compounds such as distyrylbenzene (DSB) and diaminodistyrylbenzene (DADSB), naphthalene compounds such as naphthalene and nile red, phenanthrene compounds such as phenanthrene, Chrysene, chrysene compounds such as 6-nitrochrysene, perylene, N, N′-bis (2,5-di-t-butylphenyl) -3,4,9,10-perylene-di-carboximide (BPPC) Perylene compounds such as coronene, anthracene compounds such as anthracene and bisstyrylanthracene, pyrene compounds such as pyrene, 4- (di-cyanomethylene) -2-methyl-6 Such as-(para-dimethylaminostyryl) -4H-pyran (DCM) Pyran compounds, acridine compounds such as acridine, stilbene compounds such as stilbene, thiophene compounds such as 2,5-dibenzoxazole thiophene, benzoxazole compounds such as benzoxazole, benzos such as benzimidazole Imidazole compounds, benzothiazole compounds such as 2,2 ′-(para-phenylenedivinylene) -bisbenzothiazole, bistyryl (1,4-diphenyl-1,3-butadiene), butadienes such as tetraphenylbutadiene Compounds, naphthalimide compounds such as naphthalimide, coumarin compounds such as coumarin, perinone compounds such as perinone, oxadiazole compounds such as oxadiazole, aldazine compounds, 1, 2, 3 , 4, Cyclopentadiene compounds such as 5-pentaphenyl-1,3-cyclopentadiene (PPCP), quinacridone compounds such as quinacridone and quinacridone red, pyridine compounds such as pyrrolopyridine and thiadiazolopyridine, 2,2 Spiro compounds such as', 7,7'-tetraphenyl-9,9'-spirobifluorene, phthalocyanine (H 2 Pc), metal or non-metal phthalocyanine compounds such as copper phthalocyanine, florene such as fluorene Compounds, (8-hydroxyquinoline) aluminum (Alq 3 ), tris (4-methyl-8quinolinolate) aluminum (III) (Almq 3 ), (8-hydroxyquinoline) zinc (Znq 2 ), (1,10- Phenanthroline) -tris- (4,4,4-trif Oro-1- (2-thienyl) - butane-1,3-Jioneto) europium (III) (Eu (TTA) 3 (phen)), factory scan (2-phenylpyridine) iridium (Ir (ppy) 3), Various metal complexes such as (2,3,7,8,12,13,17,18-octaethyl-21H, 23H-porphine) platinum (II) can be mentioned.

高分子の発光材料としては、例えば、トランス型ポリアセチレン、シス型ポリアセチレン、ポリ(ジ−フェニルアセチレン)(PDPA)、ポリ(アルキル,フェニルアセチレン)(PAPA)のようなポリアセチレン系化合物、ポリ(パラ−フェンビニレン)(PPV)、ポリ(2,5−ジアルコキシ−パラ−フェニレンビニレン)(RO−PPV)、シアノ−置換−ポリ(パラ−フェンビニレン)(CN−PPV)、ポリ(2−ジメチルオクチルシリル−パラ−フェニレンビニレン)(DMOS−PPV)、ポリ(2−メトキシ,5−(2’−エチルヘキソキシ)−パラ−フェニレンビニレン)(MEH−PPV)のようなポリパラフェニレンビニレン系化合物、ポリ(3−アルキルチオフェン)(PAT)、ポリ(オキシプロピレン)トリオール(POPT)のようなポリチオフェン系化合物、ポリ(9,9−ジアルキルフルオレン)(PDAF)、α,ω−ビス[N,N’−ジ(メチルフェニル)アミノフェニル]−ポリ[9,9−ビス(2−エチルヘキシル)フルオレン−2,7−ジル](PF2/6am4)、ポリ(9,9−ジオクチル−2,7−ジビニレンフルオレニル−オルト−コ(アントラセン−9,10−ジイル)のようなポリフルオレン系化合物、ポリ(パラ−フェニレン)(PPP)、ポリ(1,5−ジアルコキシ−パラ−フェニレン)(RO−PPP)のようなポリパラフェニレン系化合物、ポリ(N−ビニルカルバゾール)(PVK)のようなポリカルバゾール系化合物、ポリ(メチルフェニルシラン)(PMPS)、ポリ(ナフチルフェニルシラン)(PNPS)、ポリ(ビフェニリルフェニルシラン)(PBPS)のようなポリシラン系化合物等が挙げられる。   Examples of the polymer light-emitting material include polyacetylene compounds such as trans-type polyacetylene, cis-type polyacetylene, poly (di-phenylacetylene) (PDPA), poly (alkyl, phenylacetylene) (PAPA), and poly (para-para-). Fenvinylene) (PPV), poly (2,5-dialkoxy-para-phenylenevinylene) (RO-PPV), cyano-substituted-poly (para-phenvinylene) (CN-PPV), poly (2-dimethyloctyl) Polyparaphenylene vinylene compounds such as silyl-para-phenylene vinylene (DMOS-PPV), poly (2-methoxy, 5- (2′-ethylhexoxy) -para-phenylene vinylene) (MEH-PPV), poly ( 3-alkylthiophene) (PAT), poly (oxypropylene) Polythiophene compounds such as riol (POPT), poly (9,9-dialkylfluorene) (PDAF), α, ω-bis [N, N′-di (methylphenyl) aminophenyl] -poly [9,9- Bis (2-ethylhexyl) fluorene-2,7-diyl] (PF2 / 6am4), poly (9,9-dioctyl-2,7-divinylenefluorenyl-ortho-co (anthracene-9,10-diyl) Polyfluorene compounds such as poly (para-phenylene) (PPP), polyparaphenylene compounds such as poly (1,5-dialkoxy-para-phenylene) (RO-PPP), poly (N-vinyl) Polycarbazole compounds such as carbazole (PVK), poly (methylphenylsilane) (PMPS), poly (naphthylphenylsilane) PnPs), polysilane-based compounds such as poly (biphenylyl phenyl silane) (pBPS), and the like.

また、正孔輸送層41と電子輸送層43とに用いる構成材料の組み合わせによっては、発光材料として本発明の導電性材料を用いることもできる。
例えば、正孔輸送層41の構成材料として、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン/スチレンスルホン酸)のようなポリ(チオフェン/スチレンスルホン酸)、N,N’−ビス(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニル−ベンジジン(α−NPD)のようなアリールアミン化合物等を用い、電子輸送層43の構成材料として3,4,5−トリフェニル−1,2,4−トリアゾールのようなトリアゾール系化合物、2−(4−t−ブチルフェニル)−5−(ビフェニル−4−イル)−1,3,5−オキサジアゾール(PBD)のようなオキサジアゾール化合物等を用いた場合には、発光層42を構成する導電性材料として、基Yの化学構造が前記化学式(17)および(19)等のものを用いることができる。
Further, depending on the combination of constituent materials used for the hole transport layer 41 and the electron transport layer 43, the conductive material of the present invention can be used as the light emitting material.
For example, as a constituent material of the hole transport layer 41, poly (thiophene / styrenesulfonic acid) such as poly (3,4-ethylenedioxythiophene / styrenesulfonic acid), N, N′-bis (1-naphthyl) An arylamine compound such as —N, N′-diphenyl-benzidine (α-NPD) is used, and the electron transport layer 43 is made of a material such as 3,4,5-triphenyl-1,2,4-triazole. Triazole compounds, oxadiazole compounds such as 2- (4-t-butylphenyl) -5- (biphenyl-4-yl) -1,3,5-oxadiazole (PBD), etc. For the conductive material constituting the light emitting layer 42, those having the chemical structure of the group Y such as the chemical formulas (17) and (19) can be used.

発光層42の厚さ(平均)は、特に限定されないが、10〜150nm程度であるのが好ましく、50〜100nm程度であるのがより好ましい。発光層の厚さを前記範囲とすることにより、正孔と電子との再結合が効率よくなされ、発光層42の発光効率をより向上させることができる。
なお、有機EL素子1は、正孔輸送層41、発光層42および電子輸送層43のうちのいずれか1つが本発明の導電性材料で構成されるようなものであってもよく、これらの全てが本発明の導電性材料で構成されるようなものであってもよい。
The thickness (average) of the light emitting layer 42 is not particularly limited, but is preferably about 10 to 150 nm, and more preferably about 50 to 100 nm. By setting the thickness of the light emitting layer in the above range, recombination of holes and electrons is efficiently performed, and the light emission efficiency of the light emitting layer 42 can be further improved.
The organic EL element 1 may be such that any one of the hole transport layer 41, the light emitting layer 42, and the electron transport layer 43 is composed of the conductive material of the present invention. All may be composed of the conductive material of the present invention.

また、発光層42は、正孔輸送層41および電子輸送層43と別個に設けられているが、正孔輸送層41と発光層42とを兼ねた正孔輸送性発光層や、電子輸送層43と発光層42とを兼ねた電子輸送性発光層とすることもできる。この場合、正孔輸送性発光層の電子輸送層43との界面付近が、また、電子輸送性発光層の正孔輸送層41との界面付近が、それぞれ、発光層42として機能する。
さらに、正孔輸送性発光層を用いた場合には、陽極から正孔輸送性発光層に注入された正孔が電子輸送層によって閉じこめられ、また、電子輸送性発光層を用いた場合には、陰極から電子輸送性発光層に注入された電子が電子輸送性発光層に閉じこめられるため、いずれも、正孔と電子との再結合効率を向上させることができるという利点がある。
In addition, the light emitting layer 42 is provided separately from the hole transport layer 41 and the electron transport layer 43, but a hole transportable light emitting layer that serves as the hole transport layer 41 and the light emitting layer 42, or an electron transport layer An electron-transporting light-emitting layer that also serves as the light-emitting layer 43 and the light-emitting layer 42 can be used. In this case, the vicinity of the interface between the hole-transporting light-emitting layer and the electron-transporting layer 43 and the vicinity of the interface between the electron-transporting light-emitting layer and the hole-transporting layer 41 function as the light-emitting layer 42, respectively.
Furthermore, when a hole transporting light emitting layer is used, holes injected from the anode into the hole transporting light emitting layer are confined by the electron transport layer, and when an electron transporting light emitting layer is used, Since electrons injected from the cathode into the electron-transporting light-emitting layer are confined in the electron-transporting light-emitting layer, both have the advantage that the recombination efficiency between holes and electrons can be improved.

なお、各層3、4、5同士の間には、任意の目的の層が設けられていてもよい。例えば、正孔輸送層41と陽極3との間には、陽極3からの正孔の注入効率を向上させる正孔注入層を設けることができる。また、電子輸送層43と陰極5との間には、陰極5からの電子の注入効率を向上させる電子注入層等を設けることができる。このように、有機EL素子1に正孔注入層および電子注入層を設ける場合には、この正孔注入層および電子注入層の構成材料として、本発明の導電性材料を用いることができる。   An arbitrary target layer may be provided between the layers 3, 4, and 5. For example, a hole injection layer that improves the efficiency of hole injection from the anode 3 can be provided between the hole transport layer 41 and the anode 3. Further, an electron injection layer or the like for improving the efficiency of electron injection from the cathode 5 can be provided between the electron transport layer 43 and the cathode 5. Thus, when providing a positive hole injection layer and an electron injection layer in the organic EL element 1, the conductive material of this invention can be used as a constituent material of this positive hole injection layer and an electron injection layer.

また、正孔注入層の構成材料としては、本発明の導電性材料の他、例えば、銅フタロシアニンや4,4’,4’’−トリス(N,N−フェニル−3−メチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(M−MTDATA)等を用いることもできる。
保護層6は、有機EL素子1を構成する各層3、4、5を覆うように設けられている。この保護層6は、有機EL素子1を構成する各層3、4、5を気密的に封止し、酸素や水分を遮断する機能を有する。保護層6を設けることにより、有機EL素子1の信頼性の向上や、変質・劣化の防止等の効果が得られる。
As the constituent material of the hole injection layer, in addition to the conductive material of the present invention, for example, copper phthalocyanine or 4,4 ′, 4 ″ -tris (N, N-phenyl-3-methylphenylamino) tris Phenylamine (M-MTDATA) can also be used.
The protective layer 6 is provided so as to cover the layers 3, 4, and 5 constituting the organic EL element 1. The protective layer 6 has a function of hermetically sealing the layers 3, 4, and 5 constituting the organic EL element 1 and blocking oxygen and moisture. By providing the protective layer 6, it is possible to obtain the effects of improving the reliability of the organic EL element 1 and preventing deterioration and deterioration.

保護層6の構成材料としては、例えば、Al、Au、Cr、Nb、Ta、Tiまたはこれらを含む合金、酸化シリコン、各種樹脂材料等を挙げることができる。なお、保護層6の構成材料として導電性を有する材料を用いる場合には、短絡を防止するために、保護層6と各層3、4、5との間には、必要に応じて、絶縁膜を設けるのが好ましい。
この有機EL素子1は、例えばディスプレイ用として用いることができるが、その他にも光源等としても使用可能であり、種々の光学的用途等に用いることが可能である。
また、有機EL素子1をディスプレイに適用する場合、その駆動方式としては、特に限定されず、アクティブマトリックス方式、パッシブマトリックス方式のいずれであってもよい。
このような有機EL素子1は、例えば、次のようにして製造することができる。
Examples of the constituent material of the protective layer 6 include Al, Au, Cr, Nb, Ta, Ti, alloys containing these, silicon oxide, various resin materials, and the like. In addition, when using the material which has electroconductivity as a constituent material of the protective layer 6, in order to prevent a short circuit, between the protective layer 6 and each layer 3, 4, 5 as needed, an insulating film Is preferably provided.
The organic EL element 1 can be used, for example, for a display, but can also be used as a light source or the like, and can be used for various optical applications.
Further, when the organic EL element 1 is applied to a display, the driving method is not particularly limited, and either an active matrix method or a passive matrix method may be used.
Such an organic EL element 1 can be manufactured as follows, for example.

[A1]陽極形成工程
まず、基板2を用意し、この基板2上に陽極3を形成する。
陽極3は、例えば、プラズマCVD、熱CVD、レーザーCVDのような化学蒸着法(CVD)、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の乾式メッキ法、電解メッキ、浸漬メッキ、無電解メッキ等の湿式メッキ法、溶射法、ゾル・ゲル法、MOD法、金属箔の接合等を用いて形成することができる。
[A1] Anode Formation Step First, the substrate 2 is prepared, and the anode 3 is formed on the substrate 2.
The anode 3 is, for example, a chemical vapor deposition method (CVD) such as plasma CVD, thermal CVD, or laser CVD, a dry plating method such as vacuum deposition, sputtering, or ion plating, or a wet method such as electrolytic plating, immersion plating, or electroless plating. It can be formed by using a plating method, a thermal spraying method, a sol-gel method, a MOD method, a metal foil bonding, or the like.

[A2]正孔輸送層形成工程
[A2−1] まず、前記一般式(1)で表される化合物とアクリル系架橋剤とを含有する導電性材料用組成物(正孔輸送材料)を陽極3上に塗布(供給)する。
導電性材料用組成物中における、前記一般式(1)で表される化合物とアクリル系架橋剤との配合比は、モル比で、1:9〜9:1であるのが好ましく、1:4〜4:1であるのがより好ましい。アクリル系架橋剤の配合比が少な過ぎると、生成される高分子中において、主骨格同士をより適切な距離に保てなくなり、主骨格同士の相互作用が生じるおそれがあり、一方、アクリル系架橋剤の配合比が多過ぎると、相対的に前記一般式(1)で表せる化合物の混合比が少なくなる。すなわち、生成される高分子中において、主骨格の存在比率が少なくなるため、正孔輸送能が低下するおそれがある。
[A2] Hole transport layer forming step [A2-1] First, a composition for a conductive material (hole transport material) containing the compound represented by the general formula (1) and an acrylic crosslinking agent is used as an anode. 3 is applied (supplied).
The compounding ratio of the compound represented by the general formula (1) and the acrylic crosslinking agent in the composition for conductive material is preferably 1: 9 to 9: 1 in terms of molar ratio. More preferably, it is 4-4: 1. If the blending ratio of the acrylic crosslinking agent is too small, the main skeletons may not be kept at a more appropriate distance in the polymer to be produced, and there is a possibility that the main skeletons may interact with each other. When there are too many compounding ratios of an agent, the mixing ratio of the compound which can be represented by the said General formula (1) will decrease relatively. That is, in the polymer to be produced, the abundance ratio of the main skeleton is reduced, so that the hole transport ability may be lowered.

この塗布には、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェット印刷法等の各種塗布法を用いることができる。かかる塗布法によれば、正孔輸送材料を比較的容易に陽極3上に供給することができる。   For this coating, spin coating method, casting method, micro gravure coating method, gravure coating method, bar coating method, roll coating method, wire bar coating method, dip coating method, spray coating method, screen printing method, flexographic printing method, Various coating methods such as an offset printing method and an ink jet printing method can be used. According to such a coating method, the hole transport material can be supplied onto the anode 3 relatively easily.

前記一般式(1)で表される化合物を溶媒に溶解または分散媒に分散する場合、用いる溶媒または分散媒としては、例えば、硝酸、硫酸、アンモニア、過酸化水素、水、二硫化炭素、四塩化炭素、エチレンカーボネイト等の無機溶媒や、メチルエチルケトン(MEK)、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、メチルイソプロピルケトン(MIPK)、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール(DEG)、グリセリン等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン(DME)、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF)、テトラヒドロピラン(THP)、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグリム)、ジエチレングリコールエチルエーテル(カルビトール)等のエーテル系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、フェニルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドン等の芳香族複素環化合物系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMA)等のアミド系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化合物系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル、ギ酸エチル等のエステル系溶媒、ジメチルスルホキシド(DMSO)、スルホラン等の硫黄化合物系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル等のニトリル系溶媒、ギ酸、酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸系溶媒のような各種有機溶媒、または、これらを含む混合溶媒等が挙げられる。   When the compound represented by the general formula (1) is dissolved in a solvent or dispersed in a dispersion medium, examples of the solvent or dispersion medium used include nitric acid, sulfuric acid, ammonia, hydrogen peroxide, water, carbon disulfide, and four. Inorganic solvents such as carbon chloride and ethylene carbonate, ketone solvents such as methyl ethyl ketone (MEK), acetone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone (MIBK), methyl isopropyl ketone (MIPK), cyclohexanone, methanol, ethanol, isopropanol, ethylene glycol , Alcohol solvents such as diethylene glycol (DEG) and glycerin, diethyl ether, diisopropyl ether, 1,2-dimethoxyethane (DME), 1,4-dioxane, tetrahydrofuran (THF), tetrahydropyran (THP), aniso , Ether solvents such as diethylene glycol dimethyl ether (diglyme), diethylene glycol ethyl ether (carbitol), cellosolve solvents such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, phenyl cellosolve, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, pentane, heptane, cyclohexane , Aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene and benzene, aromatic heterocyclic compounds solvents such as pyridine, pyrazine, furan, pyrrole, thiophene and methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide (DMF), N, N Amide solvents such as dimethylacetamide (DMA), halogen compound solvents such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, ester solvents such as ethyl acetate, methyl acetate, ethyl formate, dimethylsulfoxide Various organic solvents such as sulfur compound solvents such as DMSO, sulfolane, nitrile solvents such as acetonitrile, propionitrile, acrylonitrile, organic acid solvents such as formic acid, acetic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, or And mixed solvents containing these.

なお、導電性材料用組成物には、重合開始剤を添加するのが好ましい。これにより、次工程[A2−2]において、加熱や光照射のような所定の処理を施す際に、置換基X同士の、またはアクリル系架橋剤を介しての重合反応を促進させることができる。
重合開始剤としては、特に限定されないが、例えば、光ラジカル重合開始剤や光カチオン重合開始剤のような光重合開始剤、熱重合開始剤および嫌気重合開始剤等が挙げられ、これらの中でも、光ラジカル重合開始剤を用いるのが特に好ましい。これにより、次工程[A2−2]において、置換基X同士の、またはアクリル系架橋剤を介しての重合反応を比較的容易に進行させることができる。
In addition, it is preferable to add a polymerization initiator to the composition for conductive materials. Thereby, in the next step [A2-2], when a predetermined treatment such as heating or light irradiation is performed, the polymerization reaction between the substituents X or via the acrylic crosslinking agent can be promoted. .
The polymerization initiator is not particularly limited, and examples thereof include photopolymerization initiators such as photo radical polymerization initiators and photo cationic polymerization initiators, thermal polymerization initiators and anaerobic polymerization initiators, among these, It is particularly preferable to use a photo radical polymerization initiator. Thereby, in the next step [A2-2], the polymerization reaction between the substituents X or via the acrylic crosslinking agent can be made to proceed relatively easily.

光ラジカル重合開始剤としては、各種の光ラジカル重合開始剤を用いることができるが、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾイン系、アセトフェノン系、ベンジケタール系、ミヒラーズケトン系、アシルフォスフィンオキサイド系、ケトクマリン系、キサンテン系およびチオキサントン系等の光ラジカル重合開始剤を用いることができる。
さらに、重合開始剤として光重合開始剤を用いる場合には、光重合開始剤に適した増感剤を導電性材料用組成物に添加してもよい。
As the photoradical polymerization initiator, various photoradical polymerization initiators can be used. In addition, photo radical polymerization initiators such as thioxanthone can be used.
Furthermore, when using a photoinitiator as a polymerization initiator, you may add the sensitizer suitable for a photoinitiator to the composition for electroconductive materials.

[A2−2] 次に、陽極3上に供給された正孔輸送材料に光照射する。
これにより、正孔輸送材料に含まれる前記一般式(1)で表される化合物の置換基X同士を、直接、またはアクリル系架橋剤を介して重合反応させた高分子(本発明の導電性材料)を得ることができる。その結果、本発明の導電性材料を主材料とする正孔輸送層41が陽極3上に形成される。
[A2-2] Next, the hole transport material supplied onto the anode 3 is irradiated with light.
As a result, a polymer obtained by polymerizing the substituents X of the compound represented by the general formula (1) contained in the hole transport material directly or via an acrylic crosslinking agent (conductivity of the present invention). Material) can be obtained. As a result, a hole transport layer 41 mainly composed of the conductive material of the present invention is formed on the anode 3.

正孔輸送層41を本発明の導電性材料を主材料として構成することにより、次工程[A3]において、発光層材料を供給した際に、この発光層材料に含まれる溶媒または分散媒により、正孔輸送層41が膨潤および溶解するのを防止することができる。その結果、正孔輸送層41と発光層42との相溶解を確実に防止することができる。
また、正孔輸送層41を本発明の導電性材料(高分子)を主材料として構成することにより、得られた有機EL素子1において、正孔輸送層41と発光層42との界面付近において、これらの構成材料同士が経時的に混ざり合うのを確実に防止することができる。
By configuring the hole transport layer 41 as the main material of the conductive material of the present invention, when the light emitting layer material is supplied in the next step [A3], the solvent or dispersion medium contained in the light emitting layer material It is possible to prevent the hole transport layer 41 from swelling and dissolving. As a result, phase dissolution of the hole transport layer 41 and the light emitting layer 42 can be reliably prevented.
Moreover, in the organic EL element 1 obtained by constituting the hole transport layer 41 with the conductive material (polymer) of the present invention as a main material, in the vicinity of the interface between the hole transport layer 41 and the light emitting layer 42. These constituent materials can be reliably prevented from being mixed with time.

この高分子の重量平均分子量は、特に限定されないが、1000〜1000000程度であるのが好ましく、10000〜300000程度であるのがより好ましい。これにより、高分子の膨潤および溶解をより確実に抑制または防止することができる。
なお、正孔輸送層41は、この正孔輸送層41と発光層42との相溶解が防止される範囲において、前記一般式(1)で表される化合物やアクリル系架橋剤の低分子(モノマーやオリゴマー)を含んでいてもよい。
The weight average molecular weight of the polymer is not particularly limited, but is preferably about 1,000 to 1,000,000, and more preferably about 10,000 to 300,000. Thereby, swelling and dissolution of the polymer can be suppressed or prevented more reliably.
In addition, the hole transport layer 41 has a low molecular weight (such as a compound represented by the general formula (1) or an acrylic cross-linking agent as long as the phase dissolution of the hole transport layer 41 and the light emitting layer 42 is prevented. Monomer or oligomer).

正孔輸送材料に光照射する光としては、例えば、赤外線、可視光線、紫外線およびX線等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、紫外線を用いるのが特に好ましい。これにより、置換基X同士、またはアクリル系架橋剤を介しての重合反応を容易かつ確実に進行させることができる。
光照射する紫外線の波長は、100〜420nm程度であるのが好ましく、150〜400nm程度であるのがより好ましい。
Examples of the light that irradiates the hole transport material include infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, and X-rays, and one or more of these can be used in combination. Among these, it is particularly preferable to use ultraviolet rays. Thereby, it is possible to easily and reliably advance the polymerization reaction between the substituents X or via the acrylic crosslinking agent.
The wavelength of the ultraviolet rays to be irradiated is preferably about 100 to 420 nm, and more preferably about 150 to 400 nm.

また、紫外線の照射強度は、1〜600mW/cm程度であるのが好ましく、1〜300mW/cm程度であるのがより好ましい。
さらに、紫外線の照射時間は、60〜600秒程度であるのが好ましく、90〜500秒程度であるのがより好ましい。
紫外線の波長、照射強度および照射時間をかかる範囲にすることにより、陽極3上に供給された正孔輸送材料の重合反応の進行を比較的容易に制御することができる。
The irradiation intensity of ultraviolet light is preferably in the range of about 1~600mW / cm 2, more preferably about 1~300mW / cm 2.
Furthermore, the irradiation time of ultraviolet rays is preferably about 60 to 600 seconds, and more preferably about 90 to 500 seconds.
By setting the ultraviolet wavelength, irradiation intensity, and irradiation time within such ranges, the progress of the polymerization reaction of the hole transport material supplied onto the anode 3 can be controlled relatively easily.

なお、得られた正孔輸送層41には、必要に応じて、例えば大気中、不活性雰囲気中、減圧(または真空)下等において熱処理を施すようにしてもよい。これにより、例えば、正孔輸送層41の乾燥(脱溶媒または脱分散媒)、固化等を行うことができる。なお、正孔輸送層41は、熱処理によらず乾燥してもよい。
また、置換基X同士、またはアクリル系架橋剤を介して重合反応させるための所定の処理としては、光照射の他、例えば、加熱および嫌気処理等が挙げられるが、これらの中でも、前述したような光照射を用いるのが好ましい。光照射によれば、高分子化させる領域および程度を比較的容易に選択することができる。
Note that the obtained hole transport layer 41 may be subjected to heat treatment, for example, in the air, in an inert atmosphere, or under reduced pressure (or vacuum), if necessary. Thereby, for example, the hole transport layer 41 can be dried (desolvent or dedispersion medium), solidified, and the like. The hole transport layer 41 may be dried regardless of heat treatment.
In addition to the light irradiation, examples of the predetermined treatment for the polymerization reaction between the substituents X or the acrylic crosslinking agent include heating and anaerobic treatment. Among these, as described above, Preferably, light irradiation is used. According to the light irradiation, it is possible to relatively easily select a region and a degree to be polymerized.

[A3]発光層形成工程
次に、正孔輸送層41上に発光層42を形成する。
発光層42は、例えば、前述したような発光材料を溶媒に溶解または分散媒に分散してなる発光層材料(発光層形成用材料)を、正孔輸送層41上に塗布して形成することができる。
発光材料を溶解または分散させる溶媒または分散媒としては、正孔輸送層41を形成する際に用いた溶媒または分散媒と同様のものを用いることができる。
また、発光層材料を、正孔輸送層41上に塗布する方法としても、正孔輸送層41を形成する際に用いた塗布方法と同様の方法を用いることができる。
[A3] Light-Emitting Layer Formation Step Next, the light-emitting layer 42 is formed on the hole transport layer 41.
The light emitting layer 42 is formed, for example, by applying a light emitting layer material (light emitting layer forming material) obtained by dissolving the above light emitting material in a solvent or dispersing in a dispersion medium on the hole transport layer 41. Can do.
As the solvent or dispersion medium for dissolving or dispersing the light emitting material, the same solvent or dispersion medium used when forming the hole transport layer 41 can be used.
Further, as a method of applying the light emitting layer material on the hole transport layer 41, the same method as that used when forming the hole transport layer 41 can be used.

[A4]電子輸送層形成工程
次に、発光層42上に電子輸送層43を形成する。
電子輸送層43は、前記正孔輸送層形成工程[A2]で説明したのと同様の方法で、本発明の導電性材料用組成物を用いて形成することができる。
なお、発光層42が本発明の導電性材料のような高分子により構成されない場合、電子輸送層43を形成するために用いる導電性材料用組成物を、溶解または分散するための溶媒または分散媒としては、発光層42が膨潤および溶解しないものを選択するようにすればよい。これにより、発光層42と電子輸送層43との相溶解を確実に防止することができる。
[A4] Electron Transport Layer Formation Step Next, the electron transport layer 43 is formed on the light emitting layer 42.
The electron transport layer 43 can be formed using the composition for conductive material of the present invention by the same method as described in the hole transport layer forming step [A2].
In addition, when the light emitting layer 42 is not comprised with polymers like the electroconductive material of this invention, the solvent or dispersion medium for melt | dissolving or disperse | distributing the composition for electroconductive materials used in order to form the electron carrying layer 43 For example, the light emitting layer 42 may be selected so that it does not swell and dissolve. Thereby, phase dissolution of the light emitting layer 42 and the electron transport layer 43 can be reliably prevented.

[A5]陰極形成工程
次に、電子輸送層43上に陰極5を形成する。
陰極5は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、金属箔の接合等を用いて形成することができる。
[A6]保護層形成工程
次に、陽極3、有機EL層4および陰極5を覆うように、保護層6を形成する。
保護層6は、例えば、前述したような材料で構成される箱状の保護カバーを、各種硬化性樹脂(接着剤)で接合すること等により形成する(設ける)ことができる。
硬化性樹脂には、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、反応性硬化樹脂、嫌気性硬化樹脂のいずれも使用可能である。
以上のような工程を経て、有機EL素子1が製造される。
[A5] Cathode Formation Step Next, the cathode 5 is formed on the electron transport layer 43.
The cathode 5 can be formed using, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, a metal foil bonding, or the like.
[A6] Protective Layer Formation Step Next, the protective layer 6 is formed so as to cover the anode 3, the organic EL layer 4, and the cathode 5.
The protective layer 6 can be formed (provided), for example, by bonding a box-shaped protective cover made of the above-described material with various curable resins (adhesives).
As the curable resin, any of a thermosetting resin, a photocurable resin, a reactive curable resin, and an anaerobic curable resin can be used.
The organic EL element 1 is manufactured through the above processes.

<有機薄膜トランジスタ>
次に、本発明の電子デバイスを、スイッチング素子である有機薄膜トランジスタ(以下、単に「有機TFT」という。)に適用した場合の実施形態について説明する。
図2は、有機TFT10を示す図であり、(a)は縦断面図、(b)は平面図である。なお、以下の説明では、図2(a)中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
<Organic thin film transistor>
Next, an embodiment in which the electronic device of the present invention is applied to an organic thin film transistor (hereinafter simply referred to as “organic TFT”) as a switching element will be described.
2A and 2B are diagrams showing the organic TFT 10, in which FIG. 2A is a longitudinal sectional view and FIG. 2B is a plan view. In the following description, the upper side in FIG. 2A is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”.

図2に示す有機TFT10は、基板20上に設けられており、ソース電極30およびドレイン電極40と、有機半導体層(本発明の導電層)50と、ゲート絶縁層60と、ゲート電極70とが、この順で基板20側から積層されて構成されている。
具体的には、有機TFT10は、基板20上に、ソース電極30およびドレイン電極40が分離して設けられ、これら電極30、40を覆うように有機半導体層50が設けられている。さらに有機半導体層50上には、ゲート絶縁層60が設けられ、さらにこの上に、少なくともソース電極30とドレイン電極40の間の領域に重なるようにゲート電極70が設けられている。
The organic TFT 10 shown in FIG. 2 is provided on the substrate 20, and includes a source electrode 30 and a drain electrode 40, an organic semiconductor layer (conductive layer of the present invention) 50, a gate insulating layer 60, and a gate electrode 70. These are stacked in this order from the substrate 20 side.
Specifically, in the organic TFT 10, the source electrode 30 and the drain electrode 40 are separately provided on the substrate 20, and the organic semiconductor layer 50 is provided so as to cover the electrodes 30 and 40. Further, a gate insulating layer 60 is provided on the organic semiconductor layer 50, and a gate electrode 70 is further provided thereon so as to overlap at least a region between the source electrode 30 and the drain electrode 40.

この有機TFT10では、有機半導体層50のうち、ソース電極30とドレイン電極40との間の領域が、キャリアが移動するチャネル領域510となっている。以下、このチャネル領域510において、キャリアの移動方向の長さ、すなわちソース電極30とドレイン電極40との間の距離をチャネル長L、チャネル長L方向と直交する方向の長さをチャネル幅Wと言う。   In the organic TFT 10, a region between the source electrode 30 and the drain electrode 40 in the organic semiconductor layer 50 is a channel region 510 in which carriers move. Hereinafter, in this channel region 510, the length in the direction of carrier movement, that is, the distance between the source electrode 30 and the drain electrode 40 is the channel length L, and the length perpendicular to the channel length L direction is the channel width W. To tell.

このような有機TFT10は、ソース電極30およびドレイン電極40が、ゲート絶縁層60を介してゲート電極70よりも基板20側に設けられた構成の有機TFT、すなわち、トップゲート構造の有機TFTである。
以下、有機TFT10を構成する各部について、順次説明する。
基板20は、有機TFT10を構成する各層(各部)を支持するものである。基板20には、例えば、前述した有機EL素子1で説明した基板2と同様のものを用いることができる他、シリコン基板、ガリウム砒素基板等を用いることができる。
Such an organic TFT 10 is an organic TFT having a configuration in which the source electrode 30 and the drain electrode 40 are provided on the substrate 20 side with respect to the gate electrode 70 via the gate insulating layer 60, that is, an organic TFT having a top gate structure. .
Hereinafter, each part which comprises organic TFT10 is demonstrated sequentially.
The substrate 20 supports each layer (each part) constituting the organic TFT 10. As the substrate 20, for example, a substrate similar to the substrate 2 described in the organic EL element 1 described above can be used, and a silicon substrate, a gallium arsenide substrate, or the like can be used.

基板20上には、ソース電極30およびドレイン電極40が、チャネル長L方向に沿って、所定距離離間して並設されている。
これらのソース電極30およびドレイン電極40の構成材料としては、導電性を有するものであればいかなるものであってもよく、例えば、Pd、Pt、Au、W、Ta、Mo、Al、Cr、Ti、Cuまたはこれらを含む合金等の金属材料、ITO、FTO、ATO、SnO等の導電性酸化物材料、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、フラーレン等の炭素材料、ポリアセチレン、ポリピロール、PEDOT(poly−ethylenedioxythiophene)のようなポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ(p−フェニレン)、ポリ(p−フェニレンビニレン)、ポリフルオレン、ポリカルバゾール、ポリシランまたはこれらの誘導体等の導電性高分子材料等が挙げられ、これらのうち導電性高分子材料は、通常塩化鉄、ヨウ素、強酸、有機酸、ポリスチレンサルフォニック酸などの高分子でドープされ導電性を付与された状態で用いられる。さらに、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
On the substrate 20, a source electrode 30 and a drain electrode 40 are juxtaposed at a predetermined distance along the channel length L direction.
The constituent material of the source electrode 30 and the drain electrode 40 may be any material as long as it has conductivity. For example, Pd, Pt, Au, W, Ta, Mo, Al, Cr, Ti , Cu or metal materials such as alloys containing them, conductive oxide materials such as ITO, FTO, ATO, SnO 2 , carbon materials such as carbon black, carbon nanotubes, fullerene, polyacetylene, polypyrrole, PEDOT (poly-ethylenedioxythiophene) And conductive polymer materials such as polythiophene, polyaniline, poly (p-phenylene), poly (p-phenylene vinylene), polyfluorene, polycarbazole, polysilane, or derivatives thereof. Polymer materials are usually chlorinated It is used in a state where it is doped with a polymer such as iron, iodine, strong acid, organic acid, polystyrene sulphonic acid, and imparted with conductivity. Further, one or more of these can be used in combination.

ソース電極30およびドレイン電極40の厚さ(平均)は、特に限定されないが、それぞれ、30〜300nm程度であるのが好ましく、50〜200nm程度であるのがより好ましい。
ソース電極30とドレイン電極40との間の距離(離間距離)、すなわち、チャネル長Lは、2〜30μm程度であるのが好ましく、2〜20μm程度であるのがより好ましい。
The thickness (average) of the source electrode 30 and the drain electrode 40 is not particularly limited, but is preferably about 30 to 300 nm, and more preferably about 50 to 200 nm.
The distance (separation distance) between the source electrode 30 and the drain electrode 40, that is, the channel length L is preferably about 2 to 30 μm, and more preferably about 2 to 20 μm.

チャネル幅Wは、0.1〜5mm程度であるのが好ましく、0.3〜3mm程度であるのがより好ましい。
また、基板20上には、ソース電極30およびドレイン電極40を覆うように、有機半導体層50が設けられている。
この有機半導体層50の構成材料として、本発明の導電性材料を用いることができる。
The channel width W is preferably about 0.1 to 5 mm, and more preferably about 0.3 to 3 mm.
An organic semiconductor layer 50 is provided on the substrate 20 so as to cover the source electrode 30 and the drain electrode 40.
As the constituent material of the organic semiconductor layer 50, the conductive material of the present invention can be used.

前述したように、本発明の導電性材料は、基Yの化学構造を適宜設定することにより、形成される高分子に、目的とするキャリア輸送能の特性を付与することができるものである。
そこで、基Yの化学構造を適宜設定することにより、高分子に優れた半導体特性を付与することができることから、本発明の導電性材料を有機半導体層50に用いるのは、特に有効である。
As described above, the conductive material of the present invention can impart desired carrier transportability characteristics to the formed polymer by appropriately setting the chemical structure of the group Y.
Therefore, by appropriately setting the chemical structure of the group Y, it is possible to impart excellent semiconductor characteristics to the polymer. Therefore, it is particularly effective to use the conductive material of the present invention for the organic semiconductor layer 50.

このような有機半導体層50を構成する導電性材料としては、例えば、基Yの化学構造が前記化学式(7)、(8)、(21)、(22)および(25)のものが好適に選択される。
有機半導体層50の厚さ(平均)は、0.1〜1000nm程度であるのが好ましく、1〜500nm程度であるのがより好ましく、10〜100nm程度であるのがさらに好ましい。これにより、優れたキャリア輸送能を維持しつつ、有機TFT10が大型化すること(特に、厚さが増大すること)を防止することができる。
As the conductive material constituting such an organic semiconductor layer 50, for example, those in which the chemical structure of the group Y has the chemical formulas (7), (8), (21), (22) and (25) are suitable. Selected.
The thickness (average) of the organic semiconductor layer 50 is preferably about 0.1 to 1000 nm, more preferably about 1 to 500 nm, and further preferably about 10 to 100 nm. Thereby, it can prevent that organic TFT10 enlarges (especially that thickness increases), maintaining the outstanding carrier transport capability.

なお、有機半導体層50として、本発明の導電性材料のような高分子を主材料として構成されるものを用いることにより、得られる有機TFT10は、薄型化・軽量化が可能であるとともに、可撓性にも優れたものとなる。このような有機TFT10は、前述した有機EL素子を備えるフレキシブルディスプレイのスイッチング素子への適用に適している。   In addition, by using the organic semiconductor layer 50 that is composed mainly of a polymer such as the conductive material of the present invention, the resulting organic TFT 10 can be reduced in thickness and weight, and can be reduced. Excellent flexibility. Such an organic TFT 10 is suitable for application to a switching element of a flexible display including the above-described organic EL element.

なお、有機半導体層50は、ソース電極30およびドレイン電極40を覆うように設けられる構成のものに限定されず、少なくともソース電極30とドレイン電極40との間の領域(チャネル領域510)に設けられていればよい。
有機半導体層50上には、ゲート絶縁層60が設けられている。
このゲート絶縁層60は、ソース電極30およびドレイン電極40に対してゲート電極70を絶縁するものである。
ゲート絶縁層60は、主として有機材料(特に有機高分子材料)で構成されているのが好ましい。有機高分子材料を主材料とするゲート絶縁層60は、その形成が容易であるとともに、有機半導体層50との密着性の向上を図ることもできる。
Note that the organic semiconductor layer 50 is not limited to a structure provided so as to cover the source electrode 30 and the drain electrode 40, and is provided at least in a region (channel region 510) between the source electrode 30 and the drain electrode 40. It only has to be.
A gate insulating layer 60 is provided on the organic semiconductor layer 50.
The gate insulating layer 60 insulates the gate electrode 70 from the source electrode 30 and the drain electrode 40.
The gate insulating layer 60 is preferably mainly composed of an organic material (particularly an organic polymer material). The gate insulating layer 60 containing an organic polymer material as a main material can be easily formed and can improve the adhesion to the organic semiconductor layer 50.

このような有機高分子材料としては、例えば、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリビニルフェニレン、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)のようなアクリル系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)のようなフッ素系樹脂、ポリビニルフェノールあるいはノボラック樹脂のようなフェノール系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテンなどのオレフィン系樹脂等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of such organic polymer materials include polystyrene, polyimide, polyamideimide, polyvinylphenylene, polycarbonate (PC), acrylic resin such as polymethyl methacrylate (PMMA), and polytetrafluoroethylene (PTFE). Fluorine resin, phenolic resin such as polyvinylphenol or novolac resin, and olefinic resins such as polyethylene, polypropylene, polyisobutylene, polybutene, etc. are used, and one or more of these may be used in combination. it can.

ゲート絶縁層60の厚さ(平均)は、特に限定されないが、10〜5000nm程度であるのが好ましく、100〜1000nm程度であるのがより好ましい。ゲート絶縁層60の厚さを前記範囲とすることにより、ソース電極30およびドレイン電極40とゲート電極70とを確実に絶縁しつつ、有機TFT10が大型化すること(特に、厚さが増大すること)を防止することができる。   The thickness (average) of the gate insulating layer 60 is not particularly limited, but is preferably about 10 to 5000 nm, and more preferably about 100 to 1000 nm. By setting the thickness of the gate insulating layer 60 within the above range, the organic TFT 10 is increased in size while the source electrode 30 and the drain electrode 40 are reliably insulated from the gate electrode 70 (in particular, the thickness is increased). ) Can be prevented.

なお、ゲート絶縁層60は、単層構成のものに限定されず、複数層の積層構成のものであってもよい。
ゲート絶縁層60上には、ゲート電極70が設けられている。
ゲート電極70の構成材料としては、前述したソース電極30およびドレイン電極40の構成材料と同様のものを用いることができる。
Note that the gate insulating layer 60 is not limited to a single-layer structure, and may have a multilayer structure.
A gate electrode 70 is provided on the gate insulating layer 60.
As the constituent material of the gate electrode 70, the same constituent materials as those of the source electrode 30 and the drain electrode 40 described above can be used.

ゲート電極70の厚さ(平均)は、特に限定されないが、0.1〜5000nm程度であるのが好ましく、1〜5000nm程度であるのがより好ましく、10〜5000nm程度であるのがさらに好ましい。
以上のような有機TFT10は、ゲート電極70に印加する電圧を変化させることにより、ソース電極30とドレイン電極40との間に流れる電流量が制御される。
The thickness (average) of the gate electrode 70 is not particularly limited, but is preferably about 0.1 to 5000 nm, more preferably about 1 to 5000 nm, and still more preferably about 10 to 5000 nm.
In the organic TFT 10 as described above, the amount of current flowing between the source electrode 30 and the drain electrode 40 is controlled by changing the voltage applied to the gate electrode 70.

すなわち、ゲート電極70に電圧が印加されていないOFF状態では、ソース電極30とドレイン電極40との間に電圧を印加しても、有機半導体層50中にほとんどキャリアが存在しないため、微少な電流しか流れない。一方、ゲート電極70に電圧が印加されているON状態では、有機半導体層50のゲート絶縁層60に面した部分に電荷が誘起され、チャネル領域510にキャリアの流路が形成される。この状態でソース電極30とドレイン電極40との間に電圧を印加すると、チャネル領域510を通ってキャリア(正孔または電子)が流れる。
このような有機TFT10は、例えば、次のようにして製造することができる。
図3〜図4は、それぞれ、図2に示す有機TFT10の製造方法を説明するための図(縦断面図)である。なお、以下の説明では、図3〜図4中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
That is, in the OFF state in which no voltage is applied to the gate electrode 70, even if a voltage is applied between the source electrode 30 and the drain electrode 40, almost no carriers are present in the organic semiconductor layer 50, so that a very small current Only flows. On the other hand, in the ON state in which a voltage is applied to the gate electrode 70, charges are induced in the portion of the organic semiconductor layer 50 facing the gate insulating layer 60, and a carrier flow path is formed in the channel region 510. When a voltage is applied between the source electrode 30 and the drain electrode 40 in this state, carriers (holes or electrons) flow through the channel region 510.
Such an organic TFT 10 can be manufactured as follows, for example.
3 to 4 are views (longitudinal sectional views) for explaining a method of manufacturing the organic TFT 10 shown in FIG. In the following description, the upper side in FIGS. 3 to 4 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”.

[B1]ソース電極およびドレイン電極形成工程
[B1−1] まず、図3(a)に示すような基板20を用意し、この基板20を、例えば、水(純水等)、有機溶媒等を単独または適宜組み合わせて洗浄する。
次に、基板20上に、フォトレジストを供給し、被膜80’を形成する(図3(b)参照。)。
[B1] Source and drain electrode formation step [B1-1] First, a substrate 20 as shown in FIG. 3A is prepared, and this substrate 20 is made of, for example, water (pure water or the like), an organic solvent, or the like. Washing alone or in combination.
Next, a photoresist is supplied onto the substrate 20 to form a film 80 ′ (see FIG. 3B).

基板20上に供給するフォトレジストとしては、光が照射(露光)された領域が硬化し、この露光された領域以外の領域が現像によって溶解し、除去されるネガ型フォトレジスト、および、露光された領域が現像によって溶解し、除去されるポジ型フォトレジストのいずれを用いてもよい。
ネガ型フォトレジストとしては、ロジン−重クロム酸塩、ポリビニルアルコール(PVA)−重クロム酸塩、セラック−重クロム酸塩、カゼイン−重クロム酸塩、PVA−ジアゾ、アクリル系フォトレジスト等のような水溶性フォトレジスト、ポリケイ皮酸ビニル、環化ゴム−アジド、ポリビニルシンナミリデンアセタート、ポリケイ皮酸β−ビニロキシエチルエステル等のような油溶性フォトレジスト等が挙げられる。
The photoresist supplied onto the substrate 20 is a negative photoresist that is exposed to light (exposure) is cured, and a region other than the exposed region is dissolved and removed by development, and exposed. Any positive type photoresist in which the region is dissolved and removed by development may be used.
Negative photoresists include rosin-dichromate, polyvinyl alcohol (PVA) -bichromate, shellac-bichromate, casein-dichromate, PVA-diazo, acrylic photoresist, etc. And water-soluble photoresists such as oil-soluble photoresists such as polyvinyl cinnamate, cyclized rubber-azide, polyvinyl cinnamylidene acetate, and polycinnamic acid β-vinyloxyethyl ester.

また、ポジ型フォトレジストとしては、o−ナフトキノンジアジド等のような油溶性フォトレジスト等が挙げられる。
フォトレジストを、基板20上に、供給する方法としては、いかなる方法であってもよいが、塗布法が好適に用いられる。
塗布法としては有機EL素子1の製造方法の正孔輸送層形成工程[A2]で説明したものと同様の方法を用いることができる。
次に、被膜80’を、フォトマスクを介して露光および現像し、ソース電極30およびドレイン電極40を形成する領域に開口部820を有するレジスト層80を形成する(図3(c)参照。)。
Examples of positive photoresists include oil-soluble photoresists such as o-naphthoquinonediazide.
As a method for supplying the photoresist onto the substrate 20, any method may be used, but a coating method is preferably used.
As a coating method, the same method as described in the hole transport layer forming step [A2] of the method for producing the organic EL element 1 can be used.
Next, the film 80 ′ is exposed and developed through a photomask to form a resist layer 80 having an opening 820 in a region where the source electrode 30 and the drain electrode 40 are to be formed (see FIG. 3C). .

[B1−2] 次に、図3(d)に示すように、前述したような処理が施された基板20の開口部820内に、形成すべきソース電極30およびドレイン電極40に応じて、これら電極の構成材料またはその前駆体を含有する所定量の液状材料90を供給する。
この液状材料90において、ソース電極30およびドレイン電極40の構成材料またはその前駆体を、溶解または分散する溶液または分散媒としては、前記正孔輸送層形成工程[A2]で説明したものと同様のものを用いることができる。
[B1-2] Next, as shown in FIG. 3D, in the opening 820 of the substrate 20 that has been subjected to the processing described above, depending on the source electrode 30 and the drain electrode 40 to be formed, A predetermined amount of the liquid material 90 containing these electrode constituent materials or precursors thereof is supplied.
In this liquid material 90, the solution or dispersion medium for dissolving or dispersing the constituent material of the source electrode 30 and the drain electrode 40 or the precursor thereof is the same as that described in the hole transport layer forming step [A2]. Things can be used.

また、この液状材料90を開口部820内に供給する方法には、前述したものと同様の塗布法を用いることができるが、これらの中でも、インクジェット法(液滴吐出法)を用いるのが好ましい。インクジェット法によれば、液状材料90を、液滴吐出ヘッドのノズルから液滴として吐出して、開口部820内に確実に供給することができる。その結果、レジスト層80に液状材料90が付着するのを確実に阻止することができる。   In addition, as a method for supplying the liquid material 90 into the opening 820, a coating method similar to that described above can be used, but among these, an inkjet method (droplet discharge method) is preferably used. . According to the ink jet method, the liquid material 90 can be discharged as a droplet from the nozzle of the droplet discharge head and reliably supplied into the opening 820. As a result, it is possible to reliably prevent the liquid material 90 from adhering to the resist layer 80.

[B1−3] 次に、開口部820に供給された液状材料90から溶媒または分散媒を除去して、ソース電極30およびドレイン電極40を形成する。
前記溶媒または分散媒を除去する際の温度(除去温度)は、特に限定されず、溶媒または分散媒の種類によって若干異なるが、20〜200℃程度であるのが好ましく、50〜100℃程度であるのがより好ましい。これにより、液状材料90中に含まれる溶媒または分散媒を、確実に除去することができる。
なお、この溶媒または分散媒の除去を、減圧下で加熱するようにしてもよい。これにより、液状材料90中に含まれる溶媒または分散媒を、より確実に除去することができる。
[B1-3] Next, the solvent or the dispersion medium is removed from the liquid material 90 supplied to the opening 820 to form the source electrode 30 and the drain electrode 40.
The temperature at the time of removing the solvent or the dispersion medium (removal temperature) is not particularly limited and is slightly different depending on the type of the solvent or the dispersion medium, but is preferably about 20 to 200 ° C, and about 50 to 100 ° C. More preferably. Thereby, the solvent or dispersion medium contained in the liquid material 90 can be reliably removed.
In addition, you may make it heat the removal of this solvent or a dispersion medium under reduced pressure. Thereby, the solvent or the dispersion medium contained in the liquid material 90 can be removed more reliably.

[B1−4] 次に、基板20からレジスト層80を除去して、基板20上に形成されたソース電極30およびドレイン電極40を得る(図4(f)参照。)。
レジスト層80の除去方法は、レジスト層80の種類に応じて適宜選択すればよく、例えば、プラズマ処理やオゾン処理のようなアッシング、紫外線の照射、Ne−Heレーザー、Arレーザー、COレーザー、ルビーレーザー、半導体レーザー、YAGレーザー、ガラスレーザー、YVOレーザー、エキシマレーザー等の各種レーザーの照射、レジスト層80を溶解または分解し得る溶剤との接触(例えば浸漬)等により行うことができる。
[B1-4] Next, the resist layer 80 is removed from the substrate 20 to obtain the source electrode 30 and the drain electrode 40 formed on the substrate 20 (see FIG. 4F).
The removal method of the resist layer 80 may be appropriately selected according to the type of the resist layer 80. For example, ashing such as plasma treatment or ozone treatment, ultraviolet irradiation, Ne-He laser, Ar laser, CO 2 laser, It can be carried out by irradiation with various lasers such as ruby laser, semiconductor laser, YAG laser, glass laser, YVO 4 laser, excimer laser, contact with a solvent capable of dissolving or decomposing the resist layer 80 (for example, immersion).

[B2]有機半導体層形成工程
次に、図4(h)に示すように、ソース電極30およびドレイン電極40が形成された基板20上に、ソース電極30およびドレイン電極40を覆うように、有機半導体層50を形成する。
このとき、ソース電極30とドレイン電極40との間(ゲート電極70に対応する領域)には、チャネル領域510が形成される。
この有機半導体層50は、有機EL素子1の製造方法の正孔輸送層形成工程[A2]で説明したのと同様の方法により、本発明の導電性材料用組成物を用いて形成することができる。
[B2] Organic Semiconductor Layer Formation Step Next, as shown in FIG. 4 (h), the organic layer is formed on the substrate 20 on which the source electrode 30 and the drain electrode 40 are formed so as to cover the source electrode 30 and the drain electrode 40. A semiconductor layer 50 is formed.
At this time, a channel region 510 is formed between the source electrode 30 and the drain electrode 40 (region corresponding to the gate electrode 70).
This organic semiconductor layer 50 can be formed using the composition for conductive material of the present invention by the same method as described in the hole transport layer forming step [A2] of the method for producing the organic EL element 1. it can.

ここで、有機半導体層50は、本発明の導電性材料(高分子)を主材料として構成されるものである。これにより、次工程[B3]において、ゲート絶縁層材料を有機半導体層50上に供給した際に、このゲート絶縁層材料に含まれる溶媒または分散媒により、高分子が膨潤および溶解することを好適に抑制または防止することができる。その結果、有機半導体層50とゲート絶縁層60との相溶解を確実に防止することができる。
また、有機半導体層50を本発明の導電性材料のように高分子を主材料として構成することにより、得られた有機TFT10において、有機半導体層50とゲート絶縁層60との界面付近において、これらの構成材料同士が経時的に混ざり合うのを確実に防止することができる。
Here, the organic semiconductor layer 50 is composed mainly of the conductive material (polymer) of the present invention. Accordingly, in the next step [B3], when the gate insulating layer material is supplied onto the organic semiconductor layer 50, the polymer is preferably swollen and dissolved by the solvent or the dispersion medium contained in the gate insulating layer material. Can be suppressed or prevented. As a result, phase dissolution between the organic semiconductor layer 50 and the gate insulating layer 60 can be reliably prevented.
Moreover, in the organic TFT 10 obtained by configuring the organic semiconductor layer 50 using a polymer as a main material like the conductive material of the present invention, in the vicinity of the interface between the organic semiconductor layer 50 and the gate insulating layer 60, It is possible to reliably prevent the constituent materials from being mixed with each other over time.

[B3]ゲート絶縁層形成工程
次に、図4(i)に示すように、有機半導体層50上に、ゲート絶縁層60を塗布法を用いて形成する。
具体的には、ゲート絶縁層60は、絶縁材料またはその前駆体を含む溶液を、前述した塗布法を用いて、有機半導体層50上に塗布(供給)した後、必要に応じて、この塗膜に対して後処理(例えば加熱、赤外線の照射、超音波の付与等)を施すことにより形成することができる。
[B3] Gate Insulating Layer Formation Step Next, as shown in FIG. 4I, a gate insulating layer 60 is formed on the organic semiconductor layer 50 by a coating method.
Specifically, the gate insulating layer 60 is formed by applying (supplying) a solution containing an insulating material or a precursor thereof onto the organic semiconductor layer 50 using the application method described above, and then applying the coating as necessary. The film can be formed by post-treatment (for example, heating, infrared irradiation, application of ultrasonic waves, etc.).

[B4]ゲート電極形成工程
次に、図4(j)に示すように、ゲート絶縁層60上に、ゲート電極70を塗布法を用いて形成する。
具体的には、ゲート電極70は、電極材料またはその前駆体を含む溶液を、塗布法を用いて、ゲート絶縁層60上に塗布(供給)した後、必要に応じて、この塗膜に対して後処理(例えば加熱、赤外線の照射、超音波の付与等)を施すことにより形成することができる。
[B4] Gate Electrode Formation Step Next, as shown in FIG. 4J, the gate electrode 70 is formed on the gate insulating layer 60 by a coating method.
Specifically, the gate electrode 70 is applied (supplied) on the gate insulating layer 60 using a coating method with a solution containing an electrode material or a precursor thereof, and then applied to the coating film as necessary. The film can be formed by post-treatment (for example, heating, infrared irradiation, application of ultrasonic waves, etc.).

また、塗布法には、前述したのと同様の方法を用いることができるが、特に、インクジェット法を用いるのが好ましい。インクジェット法によれば、電極材料またはその前駆体を含む溶液を、液滴吐出ヘッドのノズルから液滴を吐出してパターニングすることができる。その結果、ゲート絶縁層60上に、所定形状のゲート電極70を、容易かつ確実に形成することができる。
以上のような工程を経て、有機TFT10が製造される。
As the coating method, the same method as described above can be used, but it is particularly preferable to use the ink jet method. According to the inkjet method, a solution containing an electrode material or a precursor thereof can be patterned by discharging droplets from a nozzle of a droplet discharge head. As a result, the gate electrode 70 having a predetermined shape can be easily and reliably formed on the gate insulating layer 60.
Through the steps as described above, the organic TFT 10 is manufactured.

<電子機器>
また、前述したような、有機EL素子(発光素子)1や有機TFT(スイッチング素子)10のような本発明の電子デバイスは、各種電子機器に用いることができる。
図5は、本発明の電子機器を適用したモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
<Electronic equipment>
Moreover, the electronic devices of the present invention such as the organic EL element (light emitting element) 1 and the organic TFT (switching element) 10 as described above can be used in various electronic devices.
FIG. 5 is a perspective view showing a configuration of a mobile (or notebook) personal computer to which the electronic apparatus of the present invention is applied.

この図において、パーソナルコンピュータ1100は、キーボード1102を備えた本体部1104と、表示部を備える表示ユニット1106とにより構成され、表示ユニット1106は、本体部1104に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
このパーソナルコンピュータ1100においては、例えば、表示ユニット1106が前述の有機EL素子(発光素子)1と有機TFT(スイッチング素子)10とを備えている。
In this figure, a personal computer 1100 includes a main body 1104 provided with a keyboard 1102 and a display unit 1106 provided with a display. The display unit 1106 is rotatable with respect to the main body 1104 via a hinge structure. It is supported by.
In the personal computer 1100, for example, the display unit 1106 includes the organic EL element (light emitting element) 1 and the organic TFT (switching element) 10 described above.

図6は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機(PHSも含む)の構成を示す斜視図である。
この図において、携帯電話機1200は、複数の操作ボタン1202、受話口1204および送話口1206とともに、表示部を備えている。
携帯電話機1200において、例えば、この表示部が前述の有機EL素子(発光素子)1と有機TFT(スイッチング素子)10とを備えている。
FIG. 6 is a perspective view showing a configuration of a mobile phone (including PHS) to which the electronic apparatus of the present invention is applied.
In this figure, a cellular phone 1200 includes a plurality of operation buttons 1202, an earpiece 1204 and a mouthpiece 1206, and a display unit.
In the mobile phone 1200, for example, the display unit includes the organic EL element (light emitting element) 1 and the organic TFT (switching element) 10 described above.

図7は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ1300は、被写体の光像をCCD(Charge Coupled Device)などの撮像素子により光電変換して撮像信号(画像信号)を生成する。
FIG. 7 is a perspective view showing the configuration of a digital still camera to which the electronic apparatus of the present invention is applied. In this figure, connection with an external device is also simply shown.
Here, an ordinary camera sensitizes a silver halide photographic film with a light image of a subject, whereas a digital still camera 1300 photoelectrically converts a light image of a subject with an imaging device such as a CCD (Charge Coupled Device). An imaging signal (image signal) is generated.

ディジタルスチルカメラ1300におけるケース(ボディー)1302の背面には、表示部が設けられ、CCDによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
ディジタルスチルカメラ1300において、例えば、この表示部が前述の有機EL素子(発光素子)1と有機TFT(スイッチング素子)10とを備えている。
A display unit is provided on the back of a case (body) 1302 in the digital still camera 1300, and is configured to display based on an imaging signal from the CCD, and functions as a finder that displays an object as an electronic image.
In the digital still camera 1300, for example, the display unit includes the organic EL element (light emitting element) 1 and the organic TFT (switching element) 10 described above.

ケースの内部には、回路基板1308が設置されている。この回路基板1308は、撮像信号を格納(記憶)し得るメモリが設置されている。
また、ケース1302の正面側(図示の構成では裏面側)には、光学レンズ(撮像光学系)やCCDなどを含む受光ユニット1304が設けられている。
撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッタボタン1306を押下すると、その時点におけるCCDの撮像信号が、回路基板1308のメモリに転送・格納される。
A circuit board 1308 is installed inside the case. The circuit board 1308 is provided with a memory that can store (store) an imaging signal.
A light receiving unit 1304 including an optical lens (imaging optical system), a CCD, and the like is provided on the front side of the case 1302 (on the back side in the illustrated configuration).
When the photographer confirms the subject image displayed on the display unit and presses the shutter button 1306, the CCD image pickup signal at that time is transferred and stored in the memory of the circuit board 1308.

また、このディジタルスチルカメラ1300においては、ケース1302の側面に、ビデオ信号出力端子1312と、データ通信用の入出力端子1314とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子1312にはテレビモニタ1430が、デ−タ通信用の入出力端子1314にはパーソナルコンピュータ1440が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板1308のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ1430や、パーソナルコンピュータ1440に出力される構成になっている。   In the digital still camera 1300, a video signal output terminal 1312 and an input / output terminal 1314 for data communication are provided on the side surface of the case 1302. As shown in the figure, a television monitor 1430 is connected to the video signal output terminal 1312 and a personal computer 1440 is connected to the input / output terminal 1314 for data communication as necessary. Further, the imaging signal stored in the memory of the circuit board 1308 is output to the television monitor 1430 or the personal computer 1440 by a predetermined operation.

なお、本発明の電子機器は、図5のパーソナルコンピュータ(モバイル型パーソナルコンピュータ)、図6の携帯電話機、図7のディジタルスチルカメラの他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、ラップトップ型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳(通信機能付も含む)、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、POS端末、タッチパネルを備えた機器(例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機)、医療機器(例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置)、魚群探知機、各種測定機器、計器類(例えば、車両、航空機、船舶の計器類)、フライトシュミレータ、その他各種モニタ類、プロジェクター等の投射型表示装置等に適用することができる。   In addition to the personal computer (mobile personal computer) of FIG. 5, the mobile phone of FIG. 6, and the digital still camera of FIG. 7, the electronic apparatus of the present invention includes, for example, a television, a video camera, a viewfinder type, Monitor direct-view video tape recorder, laptop personal computer, car navigation system, pager, electronic notebook (including communication function), electronic dictionary, calculator, electronic game device, word processor, workstation, video phone, security TV Monitors, electronic binoculars, POS terminals, devices equipped with touch panels (for example, cash dispensers and automatic ticket vending machines for financial institutions), medical devices (for example, electronic thermometers, blood pressure monitors, blood glucose meters, electrocardiographs, ultrasound diagnostic devices, internal Endoscope display device), fish finder, various measuring instruments, Vessels such (e.g., gages for vehicles, aircraft, and ships), a flight simulator, various monitors, and a projection display such as a projector.

以上、本発明の導電性材料用組成物、導電性材料、導電層、電子デバイスおよび電子機器を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものでない。
例えば、本発明の電子デバイスは、導電層を正孔輸送層として用いる場合、前述した表示素子(発光素子)の一例である有機EL素子に適用することができる他、例えば、受光素子(光電変換素子)の一例である太陽電池等に適用することができる。
As mentioned above, although the composition for electroconductive materials of this invention, an electroconductive material, a conductive layer, an electronic device, and an electronic device were demonstrated based on embodiment of illustration, this invention is not limited to these.
For example, when the conductive layer is used as a hole transport layer, the electronic device of the present invention can be applied to an organic EL element which is an example of the above-described display element (light emitting element), for example, a light receiving element (photoelectric conversion). The present invention can be applied to a solar cell which is an example of an element.

また、本発明の電子デバイスは、導電層を有機半導体層として用いる場合、前述したスイッチング素子の一例である有機TFTに適用することができる他、例えば、半導体素子等に適用することができる。
さらに、本発明の導電層は、上述した正孔輸送層として用いる他、例えば、配線および電極等に適用することができる。そして、この場合、本発明の電子デバイスは、例えば、配線基板等に適用することができる。
Moreover, when using an electroconductive layer as an organic-semiconductor layer, the electronic device of this invention can be applied to the organic TFT which is an example of the switching element mentioned above, for example, can be applied to a semiconductor element etc.
Furthermore, the conductive layer of the present invention can be applied to, for example, wirings and electrodes in addition to being used as the above-described hole transport layer. In this case, the electronic device of the present invention can be applied to, for example, a wiring board.

次に、本発明の具体的実施例について説明する。
1.化合物の合成
まず、以下に示すような化合物(A)〜(S)を用意した。
<化合物(A)>
6−(p−アミノフェニル)ヘキサノールを無水ジメチルホルムアミド中で、ベンジルブロミドと水素化ナトリウムで処理し、ヒドロキシル基をベンジルエーテル基に変換し保護した。
Next, specific examples of the present invention will be described.
1. Synthesis of compounds First, compounds (A) to (S) as shown below were prepared.
<Compound (A)>
6- (p-aminophenyl) hexanol was treated with benzyl bromide and sodium hydride in anhydrous dimethylformamide to convert and protect the hydroxyl group to a benzyl ether group.

次に、その得られた化合物1molを酢酸150mLに溶解し、室温で無水酢酸を滴下後、撹拌した。反応終了後、析出した固体をろ過し、水洗後、乾燥した。
次に、その得られた物質0.37mol、1−ブロモ−4−ヘキシルベンゼン0.66mol、炭酸カリウム1.1mol、銅粉、ヨウ素を混合し、200℃で加熱した。放冷後、イソアミルアルコール130mL、純水50mL、水酸化カリウム0.73molを加え撹拌後、乾燥した。
Next, 1 mol of the obtained compound was dissolved in 150 mL of acetic acid, and acetic anhydride was added dropwise at room temperature, followed by stirring. After completion of the reaction, the precipitated solid was filtered, washed with water and dried.
Next, 0.37 mol of the obtained substance, 0.66 mol of 1-bromo-4-hexylbenzene, 1.1 mol of potassium carbonate, copper powder and iodine were mixed and heated at 200 ° C. After allowing to cool, 130 mL of isoamyl alcohol, 50 mL of pure water, and 0.73 mol of potassium hydroxide were added and the mixture was stirred and dried.

さらに、そこで得られた化合物130mmol、2,5−ビス(4−ヨードフェニル)−チオフェン62mmol、酢酸パラジウム1.3mmol、t−ブチルホスフィン5.2mmol、t−ブトキシナトリム260mmol、キシレン700mLを混合して、120℃で撹拌した。
その後、放冷し、結晶化した。
Further, 130 mmol of the compound obtained there, 62 mmol of 2,5-bis (4-iodophenyl) -thiophene, 1.3 mmol of palladium acetate, 5.2 mmol of t-butylphosphine, 260 mmol of t-butoxynatrim, and 700 mL of xylene were mixed. , And stirred at 120 ° C.
Then, it stood to cool and crystallized.

その得られた化合物を、Pd−C触媒下水素ガスで還元し、ベンジルエーテル基からヒドロキシル基へ変換し脱保護した。
次に、その化合物100mmolとアクリロイルクロライド200mmolをキシレン溶液中に加え加熱しながら撹拌後、放冷し結晶化して化合物を得た。
そして、質量スペクトル(MS)法、1H−核磁気共鳴(1H−NMR)スペクトル法、13C−核磁気共鳴(13C−NMR)スペクトル法、およびフーリエ変換赤外吸収(FT−IR)スペクトル法により、得られた化合物が下記化合物(A)であることを確認した。
The obtained compound was reduced with hydrogen gas under a Pd—C catalyst, converted from a benzyl ether group to a hydroxyl group, and deprotected.
Next, 100 mmol of the compound and 200 mmol of acryloyl chloride were added to the xylene solution, stirred while heating, then allowed to cool and crystallized to obtain a compound.
And mass spectrum (MS) method, 1 H-nuclear magnetic resonance ( 1 H-NMR) spectrum method, 13 C-nuclear magnetic resonance ( 13 C-NMR) spectrum method, and Fourier transform infrared absorption (FT-IR) It was confirmed by a spectral method that the obtained compound was the following compound (A).

Figure 2006237442
Figure 2006237442

<化合物(B)>
1−ブロモ−4−ヘキシルベンゼンに代えて1−ブロモ−3,5−ジメチル−4−ヘキシルベンゼンを用いた以外は、前記化合物(A)と同様にして、化合物(B)を得た。
<Compound (B)>
Compound (B) was obtained in the same manner as Compound (A) except that 1-bromo-3,5-dimethyl-4-hexylbenzene was used instead of 1-bromo-4-hexylbenzene.

Figure 2006237442
Figure 2006237442

<化合物(C)>
6−(p−アミノフェニル)ヘキサノールに代えて2−(p−アミノフェニル)エタノールを用い、1−ブロモ−4−ヘキシルベンゼンに代えて1−ブロモ−4−エチルベンゼンを用いた以外は、前記化合物(A)と同様にして、化合物(C)を得た。
<Compound (C)>
The above compound except that 2- (p-aminophenyl) ethanol was used instead of 6- (p-aminophenyl) hexanol and 1-bromo-4-ethylbenzene was used instead of 1-bromo-4-hexylbenzene. Compound (C) was obtained in the same manner as (A).

Figure 2006237442
Figure 2006237442

<化合物(D)>
2,5−ビス(4−ヨードフェニル)−チオフェンに代えて2,5−ビス(2−メチル−4−ヨードフェニル)−チオフェンを用いた以外は、前記化合物(C)と同様にして、化合物(D)を得た。
<Compound (D)>
Compound similar to the above compound (C) except that 2,5-bis (2-methyl-4-iodophenyl) -thiophene was used instead of 2,5-bis (4-iodophenyl) -thiophene (D) was obtained.

Figure 2006237442
Figure 2006237442

<化合物(E)>
6−(p−アミノフェニル)ヘキサノールに代えて8−(p−アミノフェニル)オクタノールを用い、1−ブロモ−4−ヘキシルベンゼンに代えて1−ブロモ−4−オクチルベンゼンを用いた以外は、前記化合物(A)と同様にして、化合物(E)を得た。
<Compound (E)>
Except that 8- (p-aminophenyl) octanol was used instead of 6- (p-aminophenyl) hexanol and 1-bromo-4-octylbenzene was used instead of 1-bromo-4-hexylbenzene. Compound (E) was obtained in the same manner as Compound (A).

Figure 2006237442
Figure 2006237442

<化合物(F)>
6−(p−アミノフェニル)ヘキサノールに代えて1−(p−アミノフェニル)メタノールを用い、1−ブロモ−4−ヘキシルベンゼンに代えて4−ブロモトルエンを用いた以外は、前記化合物(A)と同様にして、化合物(F)を得た。
<Compound (F)>
The compound (A) except that 1- (p-aminophenyl) methanol was used instead of 6- (p-aminophenyl) hexanol and 4-bromotoluene was used instead of 1-bromo-4-hexylbenzene. In the same manner as above, compound (F) was obtained.

Figure 2006237442
Figure 2006237442

<化合物(G)>
2,5−ビス(4−ヨードフェニル)−チオフェンに代えて5,5’’−ビス(4−ヨードフェニル)−2,2’:5’,2’’−ターチオフェンを用いた以外は、前記化合物(A)と同様にして、化合物(G)を得た。
<Compound (G)>
Except for using 5,5 ″ -bis (4-iodophenyl) -2,2 ′: 5 ′, 2 ″ -terthiophene instead of 2,5-bis (4-iodophenyl) -thiophene Compound (G) was obtained in the same manner as Compound (A).

Figure 2006237442
Figure 2006237442

<化合物(H)>
2,5−ビス(4−ヨードフェニル)−チオフェンに代えて3,5−ジヨード−1,2,4−トリアゾールを用いた以外は、前記化合物(A)と同様にして、化合物(H)を得た。
<Compound (H)>
Compound (H) was prepared in the same manner as Compound (A) except that 3,5-diiodo-1,2,4-triazole was used instead of 2,5-bis (4-iodophenyl) -thiophene. Obtained.

Figure 2006237442
Figure 2006237442

<化合物(I)>
2,5−ビス(4−ヨードフェニル)−チオフェンに代えて2,5−(4−ヨードフェニル)−1,3,4−オキサジアゾールを用いた以外は、前記化合物(A)と同様にして、化合物(I)を得た。
<Compound (I)>
The same as the compound (A) except that 2,5- (4-iodophenyl) -1,3,4-oxadiazole was used instead of 2,5-bis (4-iodophenyl) -thiophene. Thus, compound (I) was obtained.

Figure 2006237442
Figure 2006237442

<化合物(J)>
2,5−ビス(4−ヨードフェニル)−チオフェンに代えて3,3’−ジヨード−1,1’−ビイソベンゾチオフェンを用いた以外は、前記化合物(A)と同様にして、化合物(J)を得た。
<Compound (J)>
Compound (A) is the same as compound (A) except that 3,3′-diiodo-1,1′-biisobenzothiophene is used instead of 2,5-bis (4-iodophenyl) -thiophene. J) was obtained.

Figure 2006237442
Figure 2006237442

<化合物(K)>
6−(p−アミノフェニル)ヘキサノールに代えて2−(p−アミノフェニル)エタノールを用い、1−ブロモ−4−ヘキシルベンゼンに代えて1−ブロモ−4−エチルベンゼンを用いた以外は、前記化合物(J)と同様にして、化合物(K)を得た。
<Compound (K)>
The above compound except that 2- (p-aminophenyl) ethanol was used instead of 6- (p-aminophenyl) hexanol and 1-bromo-4-ethylbenzene was used instead of 1-bromo-4-hexylbenzene. Compound (K) was obtained in the same manner as (J).

Figure 2006237442
Figure 2006237442

<化合物(L)>
6−(p−アミノフェニル)ヘキサノールに代えて8−(p−アミノフェニル)オクタノールを用い、1−ブロモ−4−ヘキシルベンゼンに代えて1−ブロモ−4−オクチルベンゼンを用いた以外は、前記化合物(J)と同様にして、化合物(L)を得た。
<Compound (L)>
Except that 8- (p-aminophenyl) octanol was used instead of 6- (p-aminophenyl) hexanol and 1-bromo-4-octylbenzene was used instead of 1-bromo-4-hexylbenzene. Compound (L) was obtained in the same manner as Compound (J).

Figure 2006237442
Figure 2006237442

<化合物(M)>
6−(p−アミノフェニル)ヘキサノールに代えて1−(p−アミノフェニル)メタノールを用い、1−ブロモ−4−ヘキシルベンゼンに代えて4−ブロモトルエンを用いた以外は、前記化合物(J)と同様にして、化合物(M)を得た。
<Compound (M)>
The compound (J) except that 1- (p-aminophenyl) methanol was used instead of 6- (p-aminophenyl) hexanol and 4-bromotoluene was used instead of 1-bromo-4-hexylbenzene. In the same manner as above, compound (M) was obtained.

Figure 2006237442
Figure 2006237442

<化合物(N)>
2,5−ビス(4−ヨードフェニル)−チオフェンに代えて5,5’−ジヨード−2,2’−ビ(3,4−ジオキシエチレンセレノフェン)を用いた以外は、前記化合物(A)と同様にして、化合物(N)を得た。
<Compound (N)>
The above compound (A) was used except that 5,5′-diiodo-2,2′-bi (3,4-dioxyethyleneselenophene) was used in place of 2,5-bis (4-iodophenyl) -thiophene. ) To give compound (N).

Figure 2006237442
Figure 2006237442

<化合物(O)>
2,5−ビス(4−ヨードフェニル)−チオフェンに代えて5,5’’−ジヨード−2,2’:5’,2’’−ターセレノフェンを用いた以外は、前記化合物(A)と同様にして、化合物(O)を得た。
<Compound (O)>
The above compound (A) except that 5,5 ″ -diiodo-2,2 ′: 5 ′, 2 ″ -terselenophene was used instead of 2,5-bis (4-iodophenyl) -thiophene In the same manner as above, compound (O) was obtained.

Figure 2006237442
Figure 2006237442

<化合物(P)>
2,5−ビス(4−ヨードフェニル)−チオフェンに代えて5,5’’−ジヨード−3,3’:5’,3’’−ター(4−フェニル−1,2,4−トリアゾール)を用いた以外は、前記化合物(A)と同様にして、化合物(P)を得た。
<Compound (P)>
5,5 ″ -diiodo-3,3 ′: 5 ′, 3 ″ -ter (4-phenyl-1,2,4-triazole) instead of 2,5-bis (4-iodophenyl) -thiophene Compound (P) was obtained in the same manner as Compound (A) except that was used.

Figure 2006237442
Figure 2006237442

<化合物(Q)>
1−アミノ−4−メチルベンゼン1molを酢酸150mLに溶解し、室温で無水酢酸を滴下後、撹拌した。反応終了後、析出した固体をろ過し、水洗後、乾燥した。
次に、その得られた物質0.37mol、1−ブロモ−4−メチルベンゼン0.66mol、炭酸カリウム1.1mol、銅粉、ヨウ素を混合し、200℃で加熱した。放冷後、イソアミルアルコール130mL、純水50mL、水酸化カリウム0.73molを加え撹拌後、乾燥した。
<Compound (Q)>
1 mol of 1-amino-4-methylbenzene was dissolved in 150 mL of acetic acid, and acetic anhydride was added dropwise at room temperature, followed by stirring. After completion of the reaction, the precipitated solid was filtered, washed with water and dried.
Next, 0.37 mol of the obtained substance, 0.66 mol of 1-bromo-4-methylbenzene, 1.1 mol of potassium carbonate, copper powder and iodine were mixed and heated at 200 ° C. After allowing to cool, 130 mL of isoamyl alcohol, 50 mL of pure water, and 0.73 mol of potassium hydroxide were added and the mixture was stirred and dried.

さらに、そこで得られた化合物130mmol、2,5−ビス(4−ヨードフェニル)−チオフェン62mmol、酢酸パラジウム1.3mmol、t−ブチルホスフィン5.2mmol、t−ブトキシナトリム260mmol、キシレン700mLを混合して、120℃で撹拌した。
その後、放冷し、結晶化して化合物を得た。
そして、質量スペクトル(MS)法、1H-核磁気共鳴(1H-NMR)スペクトル法、13C-核磁気共鳴(13C-NMR)スペクトル法、およびフーリエ変換赤外吸収(FT−IR)スペクトル法により、得られた化合物が下記化合物(Q)であることを確認した。
Further, 130 mmol of the compound obtained there, 62 mmol of 2,5-bis (4-iodophenyl) -thiophene, 1.3 mmol of palladium acetate, 5.2 mmol of t-butylphosphine, 260 mmol of t-butoxynatrim, and 700 mL of xylene were mixed. , And stirred at 120 ° C.
Thereafter, the mixture was allowed to cool and crystallized to obtain a compound.
And mass spectrum (MS) method, 1 H-nuclear magnetic resonance ( 1 H-NMR) spectrum method, 13 C-nuclear magnetic resonance ( 13 C-NMR) spectrum method, and Fourier transform infrared absorption (FT-IR) It was confirmed by a spectral method that the obtained compound was the following compound (Q).

Figure 2006237442
Figure 2006237442

<化合物(R)>
下記化合物(R)として、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン/スチレンスルホン酸)(バイエル社製、「バイトロンP」)を用意した。
<Compound (R)>
As the following compound (R), poly (3,4-ethylenedioxythiophene / styrene sulfonic acid) (manufactured by Bayer, “Vitron P”) was prepared.

Figure 2006237442
Figure 2006237442

<化合物(S)>
2,5−ビス(4−ヨードフェニル)−チオフェンに代えて3,5−ジヨード−1,2,4−トリアゾールを用いた以外は、前記化合物(Q)と同様にして、化合物(S)を得た。
<Compound (S)>
Compound (S) was prepared in the same manner as Compound (Q) except that 3,5-diiodo-1,2,4-triazole was used in place of 2,5-bis (4-iodophenyl) -thiophene. Obtained.

Figure 2006237442
Figure 2006237442

2.有機EL素子の製造
以下の各実施例、各参考例および各比較例において、有機EL素子を5個ずつ製造した。
(実施例1A)
[正孔輸送材料の調製]
ヘテロアリールアミン誘導体として化合物(A)を、アクリル系架橋剤として前記一般式(3)で表されるポリエステルアクリレート化合物(n=10〜15、2つのAは、水素原子。)を、光重合開始剤としてラジカル重合開始剤(長瀬産業社製、「イルガキュア 651」)をそれぞれ用い、これらのものをジクロロエタンに溶解させて正孔輸送材料(導電性材料用組成物)を調製した。
なお、化合物(A)とポリエステルアクリレート化合物(架橋剤)との混合比をモル比で17:2とし、化合物(A)とポリエステルアクリレート化合物との合計重量とラジカル重合開始剤の重量との比(重量比)を19:1とした。
[電子輸送材料の調製]
ヘテロアリールアミン誘導体として化合物(H)を用いた以外は、前記正孔輸送材料と同様にして、電子輸送材料(導電性材料用組成物)を得た。
2. Manufacture of Organic EL Element Five organic EL elements were manufactured in each of the following Examples, Reference Examples and Comparative Examples.
Example 1A
[Preparation of hole transport material]
Photopolymerization of the compound (A) as a heteroarylamine derivative and the polyester acrylate compound (n = 10-15, two A are hydrogen atoms) represented by the general formula (3) as an acrylic crosslinking agent are started. A radical polymerization initiator (“Irgacure 651” manufactured by Nagase Sangyo Co., Ltd.) was used as an agent, and these were dissolved in dichloroethane to prepare a hole transport material (composition for conductive material).
In addition, the mixing ratio of the compound (A) and the polyester acrylate compound (crosslinking agent) was 17: 2, and the ratio of the total weight of the compound (A) and the polyester acrylate compound to the weight of the radical polymerization initiator ( The weight ratio was 19: 1.
[Preparation of electron transport material]
An electron transport material (composition for conductive material) was obtained in the same manner as the hole transport material except that the compound (H) was used as the heteroarylamine derivative.

[有機EL素子の作製]
−1A− まず、平均厚さ0.5mmの透明なガラス基板上に、真空蒸着法により、平均厚さ100nmのITO電極(陽極)を形成した。
−2A− 次に、ITO電極上に、前記正孔輸送材料を、スピンコート法により塗布し、乾燥した。
その後、水銀ランプ(ウシオ電機社製、「UM−452型式」)にフィルターを用いて、大気中で波長185nm、照射強度2mW/cmの紫外線を300秒間照射することにより、化合物(A)とポリエステルアクリレート化合物とを重合反応させて、平均厚さ50nmの正孔輸送層を形成した。
[Production of organic EL element]
-1A- First, an ITO electrode (anode) having an average thickness of 100 nm was formed on a transparent glass substrate having an average thickness of 0.5 mm by vacuum deposition.
-2A- Next, the hole transport material was applied onto the ITO electrode by a spin coating method and dried.
Thereafter, the compound (A) and the compound (A) were irradiated by irradiating ultraviolet rays having a wavelength of 185 nm and an irradiation intensity of 2 mW / cm 2 in the atmosphere using a filter for a mercury lamp (USHIO, “UM-452 model”) in the atmosphere. A hole transport layer having an average thickness of 50 nm was formed by a polymerization reaction with the polyester acrylate compound.

−3A− 次に、正孔輸送層上に、ポリ(9,9−ジオクチル−2,7−ジビニレンフルオレニル−オルト−コ(アントラセン−9,10−ジイル)(重量平均分子量200000)の1.7wt%キシレン溶液を、スピンコート法により塗布した後、乾燥して、平均厚さ50nmの発光層を形成した。
−4A− 次に、発光層上に、前記正孔輸送材料に代えて前記電子輸送材料を用いた以外は、前記工程−2A−と同様にすることにより、化合物(H)とポリエステルアクリレート化合物とを重合反応させて、平均厚さ20nmの電子輸送層を形成した。
−5A− 次に、電子輸送層上に、真空蒸着法により、平均厚さ300nmのAlLi電極(陰極)を形成した。
−6A− 次に、形成した各層を覆うように、ポリカーボネート製の保護カバーを被せ、紫外線硬化性樹脂により固定、封止して、有機EL素子を完成した。
-3A- Next, on the hole transport layer, poly (9,9-dioctyl-2,7-divinylenefluorenyl-ortho-co (anthracene-9,10-diyl) (weight average molecular weight 200000) A 1.7 wt% xylene solution was applied by spin coating and then dried to form a light emitting layer having an average thickness of 50 nm.
-4A- Next, except that the electron transport material was used instead of the hole transport material on the light emitting layer, the same procedure as in Step 2A- Was subjected to a polymerization reaction to form an electron transport layer having an average thickness of 20 nm.
-5A- Next, an AlLi electrode (cathode) having an average thickness of 300 nm was formed on the electron transport layer by vacuum deposition.
-6A- Next, a protective cover made of polycarbonate was placed so as to cover each formed layer, and fixed and sealed with an ultraviolet curable resin to complete an organic EL element.

(実施例2A〜17A)
正孔輸送材料および電子輸送材料に用いるヘテロアリールアミン誘導体、および、これらのヘテロアリールアミン誘導体とポリエステルアクリレート化合物との混合比(モル比)をそれぞれ表1(A表)に示すように変更した以外は、前記実施例1Aと同様にして、正孔輸送材料および電子輸送材料の調製を行った後、有機EL素子を製造した。
(Examples 2A to 17A)
Other than changing the heteroarylamine derivatives used for the hole transport material and the electron transport material, and the mixing ratio (molar ratio) of these heteroarylamine derivatives and the polyester acrylate compounds as shown in Table 1 (Table A). In the same manner as in Example 1A, after preparing the hole transport material and the electron transport material, an organic EL device was produced.

(参考例1A)
ポリエステルアクリレート化合物の添加を省略した以外は、前記実施例1Aと同様にして、正孔輸送材料および電子輸送材料の調製を行った後、有機EL素子を製造した。
(参考例2A〜13A)
正孔輸送材料および電子輸送材料に用いるヘテロアリールアミン誘導体として表1(B表)に示すものをそれぞれ用いた以外は、前記参考例1Aと同様にして、正孔輸送材料および電子輸送材料の調製を行った後、有機EL素子を製造した。
(Reference Example 1A)
An organic EL device was manufactured after preparing the hole transport material and the electron transport material in the same manner as in Example 1A except that the addition of the polyester acrylate compound was omitted.
(Reference Examples 2A to 13A)
Preparation of the hole transport material and the electron transport material in the same manner as in Reference Example 1A, except that the heteroarylamine derivatives used in the hole transport material and the electron transport material are those shown in Table 1 (Table B). Then, an organic EL element was manufactured.

(比較例1A)
[正孔輸送材料の調製]
化合物(Q)をジクロロエタンに溶解させて、正孔輸送材料を得た。
[有機EL素子の作製]
前記工程−2A−において、水銀ランプによる紫外線の照射を省略して、前記正孔輸送材料を用いて正孔輸送層を形成し、前記工程−4A−において、化合物(S)を真空蒸着して電子輸送層を形成した以外は、前記実施例1Aと同様にして、有機EL素子を製造した。
(Comparative Example 1A)
[Preparation of hole transport material]
Compound (Q) was dissolved in dichloroethane to obtain a hole transport material.
[Production of organic EL element]
In the step-2A-, irradiation with ultraviolet rays from a mercury lamp is omitted, a hole transport layer is formed using the hole transport material, and in the step-4A-, the compound (S) is vacuum-deposited. An organic EL device was produced in the same manner as in Example 1A except that the electron transport layer was formed.

(比較例2A)
[正孔輸送材料の調製]
化合物(R)を水に分散させることにより、2.0wt%水分散液を調製して、正孔輸送材料を得た。
なお、化合物(R)としては、3,4−エチレンジオキシチオフェンとスチレンスルホン酸との比率が、重量比で1:20のものを用いた。
[有機EL素子の作製]
正孔輸送材料として、前記正孔輸送材料を用いた以外は、前記比較例1Aと同様にして、有機EL素子を製造した。
(比較例3A、4A)
正孔輸送材料および電子輸送材料に用いるヘテロアリールアミン誘導体として表1(B表)に示すものをそれぞれ用いた以外は、前記実施例2Aと同様にして、正孔輸送材料および電子輸送材料の調製を行った後、有機EL素子を製造した。
(Comparative Example 2A)
[Preparation of hole transport material]
A 2.0 wt% aqueous dispersion was prepared by dispersing the compound (R) in water to obtain a hole transport material.
In addition, as a compound (R), the thing with the ratio of 3, 4- ethylenedioxythiophene and styrenesulfonic acid 1:20 by weight ratio was used.
[Production of organic EL element]
An organic EL device was produced in the same manner as in Comparative Example 1A except that the hole transport material was used as the hole transport material.
(Comparative Examples 3A, 4A)
Preparation of the hole transport material and the electron transport material in the same manner as in Example 2A, except that the heteroarylamine derivatives used in the hole transport material and the electron transport material are those shown in Table 1 (Table B). Then, an organic EL element was manufactured.

3.有機EL素子の評価
各実施例、各参考例および各比較例の有機EL素子について、それぞれ、発光輝度(cd/m)、最大発光効率(lm/W)を測定すると共に、発光輝度が初期値の半分になる時間(半減期)を測定した。
また、各測定値は、いずれも、5個の有機EL素子の平均値を求めた。
3. Evaluation of organic EL device For each of the organic EL devices of each example, each reference example, and each comparative example, the light emission luminance (cd / m 2 ) and the maximum light emission efficiency (lm / W) were measured, and the light emission luminance was initial. The time for half the value (half life) was measured.
Moreover, each measured value calculated | required the average value of five organic EL elements.

なお、発光輝度の測定は、ITO電極とAlLi電極との間に6Vの電圧を印加することで行った。
そして、比較例1Aで測定された各測定値(発光輝度、最大発光効率、半減期)を基準値として、各実施例、各参考例および各比較例で測定された各測定値を、それぞれ、以下の4段階の基準に従って評価した。
The measurement of light emission luminance was performed by applying a voltage of 6 V between the ITO electrode and the AlLi electrode.
And each measured value measured in Comparative Example 1A (luminescence brightness, maximum luminous efficiency, half life) as a reference value, each measured value measured in each example, each reference example and each comparative example, Evaluation was performed according to the following four-stage criteria.

◎:比較例1Aの測定値に対し、1.50倍以上である
○:比較例1Aの測定値に対し、1.25倍以上、1.50倍未満である
△:比較例1Aの測定値に対し、1.00倍以上、1.25倍未満である
×:比較例1Aの測定値に対し、0.75倍以上、1.00倍未満である
これらの評価結果を、それぞれ、以下の表1(A表)および表1(B表)に示す。
A: The measurement value of Comparative Example 1A is 1.50 times or more. O: The measurement value of Comparative Example 1A is 1.25 times or more and less than 1.50 times. Δ: The measurement value of Comparative Example 1A. In contrast, 1.00 times or more and less than 1.25 times x: 0.75 times or more and less than 1.00 times the measured value of Comparative Example 1A. It shows in Table 1 (Table A) and Table 1 (Table B).

Figure 2006237442
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Figure 2006237442
Figure 2006237442

表1(A表)および表1(B表)に示すように、各実施例の有機EL素子(本発明の導電性材料を主材料とする正孔輸送層と電子輸送層とを備える有機EL素子)は、いずれも、各比較例の有機EL素子と比較して、発光輝度、最大発光効率および半減期ともに、優れた結果が得られた。
これにより、本発明の有機EL素子は、主骨格同士の相互作用が好適に低減されていることが明らかとなった。また、正孔輸送層と発光層との相溶解が好適に防止されていることが明らかとなった。
As shown in Table 1 (Table A) and Table 1 (Table B), organic EL elements of each example (organic EL including a hole transport layer and an electron transport layer mainly composed of the conductive material of the present invention) All of the devices were superior in terms of emission luminance, maximum emission efficiency, and half-life as compared with the organic EL devices of the respective comparative examples.
Thereby, it became clear that the interaction between main skeletons was suitably reduced in the organic EL element of the present invention. Moreover, it became clear that the phase dissolution of the hole transport layer and the light emitting layer was suitably prevented.

また、各実施例の有機EL素子は、いずれも、各参考例の有機EL素子と比較して、最大発光効率が改善されている傾向を示した。なお、このような傾向は、前記一般式(1)で表される化合物とアクリル系架橋剤との混合比が1:1の場合のように特に好ましい正孔輸送材料により形成されているものほど顕著に認められた。これは、アクリル系架橋剤を添加することにより主骨格の離間距離がより適切な距離に保たれていることを示唆する結果であった。   Moreover, as for the organic EL element of each Example, all showed the tendency for the maximum luminous efficiency to be improved compared with the organic EL element of each reference example. In addition, such a tendency is such that it is formed of a particularly preferable hole transport material as in the case where the mixing ratio of the compound represented by the general formula (1) and the acrylic crosslinking agent is 1: 1. Remarkably recognized. This was a result suggesting that the separation distance of the main skeleton was maintained at a more appropriate distance by adding the acrylic crosslinking agent.

また、置換基Xを適宜選択することにより、各実施例において、主骨格の離間距離が適切な大きさに保たれているものほど、優れた発光輝度の向上、最大発光効率の向上および半減期の延長を示す結果が得られた。
さらに、正孔輸送層および電子輸送層を構成する導電性材料をそれぞれ適宜選択すること、すなわち、前記一般式(1)で表される化合物の基Yを適宜選択することにより、各実施例において、正孔輸送層と電子輸送層との組み合わせが適切なものほど、優れた発光輝度の向上、最大発光効率の向上および半減期の延長を示す結果が得られた。
Further, by appropriately selecting the substituent X, in each example, the more the main skeleton separation distance is kept at an appropriate size, the better the emission luminance, the maximum emission efficiency, and the half-life A result indicating an extension of was obtained.
Further, in each example, the conductive materials constituting the hole transport layer and the electron transport layer are appropriately selected, that is, the group Y of the compound represented by the general formula (1) is appropriately selected. The more appropriate the combination of the hole transport layer and the electron transport layer, the better the emission luminance, the maximum emission efficiency, and the half-life extension.

また、置換基Xの官能基としてメタクリロイル基を有する化合物を前記一般式(1)で表される化合物として用い、ポリエステルメタクリレート化合物をポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤として用いた以外は、前記実施例1A〜17Aおよび前記参考例1A〜13Aと同様にして正孔輸送材料と電子輸送材料とを調製して、有機EL素子を作製した。これらの有機EL素子に対して、前記の評価方法と同様にして評価したが、前記と同様の結果が得られた。   In addition, the examples except that a compound having a methacryloyl group as a functional group of the substituent X is used as the compound represented by the general formula (1) and a polyester methacrylate compound is used as a polyester (meth) acrylate-based crosslinking agent. A hole transport material and an electron transport material were prepared in the same manner as 1A to 17A and Reference Examples 1A to 13A, and organic EL devices were produced. These organic EL elements were evaluated in the same manner as in the above evaluation method, but the same results as described above were obtained.

4.有機TFTの製造
以下の各実施例、各参考例および各比較例において、有機TFTを5個ずつ製造した。
(実施例1B)
[有機半導体材料の調製]
ヘテロアリールアミン誘導体として化合物(J)を用いた以外は、前記実施例1Aの正孔輸送材料と同様にして、有機半導体材料(導電性材料用組成物)を得た。
4). Production of Organic TFT Five organic TFTs were produced in each of the following Examples, Reference Examples and Comparative Examples.
(Example 1B)
[Preparation of organic semiconductor materials]
An organic semiconductor material (composition for conductive material) was obtained in the same manner as the hole transport material of Example 1A except that the compound (J) was used as the heteroarylamine derivative.

[有機TFTの製造]
−1B− まず、平均厚さ1mmのガラス基板を用意し、水(洗浄液)を用いて洗浄した。
次に、ガラス基板上に、スピンコート法によってフォトレジストを塗布した後、プレベーク処理を行うことによって被膜を形成した。
次に、この被膜に対して、フォトマスクを介して紫外線を照射(露光)した後に、現像を行った。これにより、ソース電極およびドレイン電極を形成する領域に開口部を有するレジスト層を形成した。
[Manufacture of organic TFT]
-1B- First, a glass substrate having an average thickness of 1 mm was prepared and washed with water (cleaning liquid).
Next, a photoresist was applied on a glass substrate by a spin coating method, and then a pre-baking process was performed to form a film.
Next, the coating film was developed after being irradiated (exposed) with ultraviolet rays through a photomask. Thus, a resist layer having an opening in a region where the source electrode and the drain electrode are formed was formed.

−2B− 次に、この開口部内に、金コロイド水溶液を、インクジェット法により供給した。その後、金コロイド水溶液が供給されたガラス基板を加熱乾燥して、ソース電極およびドレイン電極を得た。
−3B− 次に、レジスト層を、酸素プラズマ処理によって除去した後、ソース電極およびドレイン電極が形成されたガラス基板を、水およびメタノールで順次洗浄した。
-2B- Next, a gold colloid aqueous solution was supplied into the opening by an ink jet method. Thereafter, the glass substrate supplied with the aqueous gold colloid solution was dried by heating to obtain a source electrode and a drain electrode.
-3B- Next, after the resist layer was removed by oxygen plasma treatment, the glass substrate on which the source electrode and the drain electrode were formed was sequentially washed with water and methanol.

−4B− 次に、前記正孔輸送材料に代えて前記有機半導体材料を用いた以外は、前記工程−2A−と同様にすることにより、化合物(J)とポリエステルアクリレート化合物とを重合反応させて、平均厚さ50nmの有機半導体層を形成した。
−5B− 次に、有機半導体層上に、ポリメチルメタアクリレート(PMMA)の酢酸ブチル溶液を、スピンコート法により塗布した後、乾燥させることにより、平均厚さ500nmのゲート絶縁層を形成した。
−6B− 次に、ゲート絶縁層上の、ソース電極とドレイン電極との間の領域に対応する部分に、ポリエチレンジオキシチオフェンの水分散液を、インクジェット法により塗布した後乾燥した。これにより、平均厚さ100nmのゲート電極を形成した。
以上の工程により、有機TFTを製造した。
-4B- Next, the compound (J) and the polyester acrylate compound were subjected to a polymerization reaction in the same manner as in Step-2A- except that the organic semiconductor material was used instead of the hole transport material. An organic semiconductor layer having an average thickness of 50 nm was formed.
-5B- Next, a butyl acetate solution of polymethyl methacrylate (PMMA) was applied on the organic semiconductor layer by a spin coating method, and then dried to form a gate insulating layer having an average thickness of 500 nm.
-6B- Next, an aqueous dispersion of polyethylene dioxythiophene was applied to the region corresponding to the region between the source electrode and the drain electrode on the gate insulating layer by an ink jet method and then dried. Thereby, a gate electrode having an average thickness of 100 nm was formed.
The organic TFT was manufactured by the above process.

(実施例2B〜9B)
有機半導体材料に用いるヘテロアリールアミン誘導体、および、このヘテロアリールアミン誘導体とポリエステルアクリレート化合物との混合比(モル比)をそれぞれ表2に示すように変更した以外は、前記実施例1Bと同様にして、有機半導体材料の調製を行った後、有機TFTを製造した。
(Examples 2B-9B)
Except that the heteroarylamine derivative used for the organic semiconductor material and the mixing ratio (molar ratio) of the heteroarylamine derivative and the polyester acrylate compound were changed as shown in Table 2, respectively, in the same manner as in Example 1B. After preparing the organic semiconductor material, an organic TFT was manufactured.

(参考例1B)
ポリエステルアクリレート化合物の添加を省略した以外は、前記実施例1Bと同様にして、有機半導体材料の調製を行った後、有機TFTを製造した。
(参考例2B〜7B)
有機半導体材料に用いるヘテロアリールアミン誘導体として表2に示すものを用いた以外は、前記参考例1Bと同様にして、有機半導体材料の調製を行った後、有機TFTを製造した。
(Reference Example 1B)
An organic TFT was manufactured after preparing an organic semiconductor material in the same manner as in Example 1B except that the addition of the polyester acrylate compound was omitted.
(Reference Examples 2B-7B)
An organic TFT was prepared after preparing an organic semiconductor material in the same manner as in Reference Example 1B, except that the heteroarylamine derivatives used in the organic semiconductor material were those shown in Table 2.

(比較例1B)
[有機半導体材料の調製]
化合物(Q)をジクロロエタンに溶解させて、有機半導体材料を得た。
[有機TFTの作製]
前記工程−4B−において、水銀ランプによる紫外線の照射を省略し、前記有機半導体材料を用いた以外は、前記実施例1Bと同様にして、有機TFTを製造した。
(比較例2B、3B)
有機半導体材料に用いるヘテロアリールアミン誘導体として表2に示すものを用いた以外は、前記実施例2Bと同様にして、有機半導体材料の調製を行った後、有機TFTを製造した。
(Comparative Example 1B)
[Preparation of organic semiconductor materials]
Compound (Q) was dissolved in dichloroethane to obtain an organic semiconductor material.
[Production of organic TFT]
In the step-4B-, an organic TFT was manufactured in the same manner as in Example 1B except that the irradiation of ultraviolet rays by a mercury lamp was omitted and the organic semiconductor material was used.
(Comparative Examples 2B and 3B)
An organic TFT was manufactured after preparing an organic semiconductor material in the same manner as in Example 2B, except that the heteroarylamine derivatives used in the organic semiconductor material were those shown in Table 2.

5.有機TFTの評価
各実施例、各参考例および各比較例で製造した有機TFTについて、それぞれ、OFF電流、ON電流の値を測定した。
ここで、OFF電流とは、ゲート電圧を印加しないときに、ソース電極とドレイン電極との間に流れる電流の値のことであり、ON電流とは、ゲート電圧を印加したときに、ソース電極とドレイン電極との間に流れる電流の値のことである。
5. Evaluation of Organic TFT The values of the OFF current and the ON current were measured for the organic TFTs produced in each Example, each Reference Example, and each Comparative Example.
Here, the OFF current is a value of a current that flows between the source electrode and the drain electrode when no gate voltage is applied, and the ON current is the value of the source electrode when the gate voltage is applied. It is the value of the current flowing between the drain electrode.

したがって、OFF電流の絶対値と、ON電流の絶対値との比(ON/OFF比)の値が大きいもの程、良好な特性を有する有機TFTであることを意味する。
OFF電流は、ソース電極とドレイン電極との電位差を30Vとして測定し、ON電流は、ソース電極とドレイン電極との電位差を30Vとし、ゲート電圧の絶対値を40Vとして測定した。
Therefore, the larger the ratio of the absolute value of the OFF current and the absolute value of the ON current (ON / OFF ratio), the more the organic TFT has better characteristics.
The OFF current was measured with the potential difference between the source electrode and the drain electrode as 30 V, and the ON current was measured with the potential difference between the source electrode and the drain electrode as 30 V and the absolute value of the gate voltage as 40 V.

そして、各実施例、各参考例および各比較例で測定されたON/OFF比の値を、それぞれ、以下の4段階の基準に従って評価した。
◎:ON/OFF比の値が、10以上である
○:ON/OFF比の値が、10以上、10未満である
△:ON/OFF比の値が、10以上、10未満である
×:ON/OFF比の値が、10未満である
これらの評価結果を、それぞれ、以下の表2に示す。
And the value of ON / OFF ratio measured by each Example, each reference example, and each comparative example was each evaluated in accordance with the following four steps of criteria.
A: ON / OFF ratio value is 10 4 or more B: ON / OFF ratio value is 10 3 or more, less than 10 4 Δ: ON / OFF ratio value is 10 2 or more, 10 3 × less than: the value of the oN / OFF ratio is less than 10 2 these evaluation results, respectively, shown in Table 2 below.

Figure 2006237442
Figure 2006237442

表2に示すように、各実施例の有機TFTは、いずれも、各比較例の有機TFTと比較して、ON/OFF比の値が大きく、特性に優れた結果が得られた。
これにより、主骨格同士の相互作用が好適に低減されていることが明らかとなった。また、有機半導体層とゲート絶縁層との相溶解が好適に防止されていることが明らかとなった。
As shown in Table 2, each of the organic TFTs of each example had a large ON / OFF ratio value and excellent characteristics as compared with the organic TFT of each comparative example.
Thereby, it became clear that the interaction between the main skeletons was suitably reduced. Moreover, it became clear that the phase dissolution of the organic semiconductor layer and the gate insulating layer was suitably prevented.

また、各実施例の有機TFTは、各参考例の有機TFTと比較して、ON/OFF比が改善されている傾向を示した。これは、アクリル系架橋剤を添加することにより主骨格の離間距離がより適切な距離に保たれていることを示唆する結果であった。
さらに、置換基Xを適宜選択することにより、各実施例において、主骨格の離間距離が適切な大きさに保たれているものほど、ON/OFF比の値が大きく、良好な特性を示す結果が得られた。
Moreover, the organic TFT of each Example showed the tendency for ON / OFF ratio to be improved compared with the organic TFT of each reference example. This was a result suggesting that the separation distance of the main skeleton was maintained at a more appropriate distance by adding the acrylic crosslinking agent.
Furthermore, by appropriately selecting the substituent X, in each example, the more the main skeleton separation distance is maintained, the larger the value of the ON / OFF ratio and the better the result. was gotten.

また、置換基Xの官能基としてメタクリロイル基を有する化合物を前記一般式(1)で表される化合物として用い、ポリエステルメタクリレート化合物をポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤として用いた以外は、前記実施例1B〜9Bおよび前記参考例1B〜7Bと同様にして有機半導体材料を調製して、有機TFTを作製した。これらの有機TFTに対して、前記の評価方法と同様にして評価したが、前記と同様の結果が得られた。   In addition, the examples except that a compound having a methacryloyl group as a functional group of the substituent X is used as the compound represented by the general formula (1) and a polyester methacrylate compound is used as a polyester (meth) acrylate-based crosslinking agent. Organic semiconductor materials were prepared in the same manner as 1B to 9B and Reference Examples 1B to 7B, and organic TFTs were produced. These organic TFTs were evaluated in the same manner as in the above evaluation method, but the same results as described above were obtained.

有機EL素子の一例を示した縦断面図である。It is the longitudinal cross-sectional view which showed an example of the organic EL element. 有機TFTの実施形態を示す図であり、(a)は縦断面図、(b)は平面図である。It is a figure which shows embodiment of organic TFT, (a) is a longitudinal cross-sectional view, (b) is a top view. 図2に示す有機TFTの製造方法を説明するための図(縦断面図)である。It is a figure (longitudinal sectional drawing) for demonstrating the manufacturing method of the organic TFT shown in FIG. 図2に示す有機TFTの製造方法を説明するための図(縦断面図)である。It is a figure (longitudinal sectional drawing) for demonstrating the manufacturing method of the organic TFT shown in FIG. 本発明の電子機器を適用したモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。1 is a perspective view showing a configuration of a mobile (or notebook) personal computer to which an electronic apparatus of the present invention is applied. 本発明の電子機器を適用した携帯電話機(PHSも含む)の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the mobile telephone (PHS is also included) to which the electronic device of this invention is applied. 本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the digital still camera to which the electronic device of this invention is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1……有機EL素子 2……基板 3……陽極 4……有機EL層 41……正孔輸送層 42……発光層 43……電子輸送層 5……陰極 6……保護層 10‥‥有機薄膜トランジスタ 20‥‥基板 30‥‥ソース電極 40‥‥ドレイン電極 50‥‥有機半導体層 510‥‥チャネル領域 60‥‥ゲート絶縁層 70‥‥ゲート電極 80‥‥レジスト層 80’‥‥被膜 820‥‥開口部 90‥‥液状材料 1100……パーソナルコンピュータ 1102……キーボード 1104……本体部 1106……表示ユニット 1200……携帯電話機 1202……操作ボタン 1204……受話口 1206……送話口 1300‥‥ディジタルスチルカメラ 1302‥‥ケース(ボディー) 1304‥‥受光ユニット 1306‥‥シャッタボタン 1308‥‥回路基板 1312‥‥ビデオ信号出力端子 1314‥‥データ通信用の入出力端子 1430‥‥テレビモニタ 1440‥‥パーソナルコンピュータ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL element 2 ... Substrate 3 ... Anode 4 ... Organic EL layer 41 ... Hole transport layer 42 ... Light emitting layer 43 ... Electron transport layer 5 ... Cathode 6 ... Protective layer 10 ... Organic thin film transistor 20 ... Substrate 30 ... Source electrode 40 ... Drain electrode 50 ... Organic semiconductor layer 510 ... Channel region 60 ... Gate insulating layer 70 ... Gate electrode 80 ... Resist layer 80 '... Film 820 ... ... Opening 90 ... Liquid material 1100 ... Personal computer 1102 ... Keyboard 1104 ... Main body 1106 ... Display unit 1200 ... Mobile phone 1202 ... Operation buttons 1204 ... Earpiece 1206 ... Mouthpiece 1300 ... Digital still camera 1302 Case (body) 1304 Light receiving unit 1306 Shutter button 130 8 ... Circuit board 1312 ... Video signal output terminal 1314 ... Input / output terminal for data communication 1430 ... Television monitor 1440 ... Personal computer

Claims (32)

下記一般式(1)で表される化合物と、アクリル系架橋剤とを含有することを特徴とする導電性材料用組成物。
Figure 2006237442
[式中、2つのRは、それぞれ独立して、炭素数2〜8の直鎖アルキル基を表し、同一であっても、異なっていてもよく、4つのRは、それぞれ独立して、水素原子、メチル基またはエチル基を表し、同一であっても、異なっていてもよく、2つのXは、それぞれ独立して、下記一般式(2)で表される置換基を表し、同一であっても、異なっていてもよく、Yは、置換もしくは無置換の複素環を少なくとも1つ含む基を表す。]
Figure 2006237442
[式中、nは、2〜8の整数を表し、Zは、水素原子またはメチル基を表す。]
The composition for electroconductive materials characterized by containing the compound represented by following General formula (1), and an acrylic type crosslinking agent.
Figure 2006237442
[Wherein, two R 1 s each independently represent a straight-chain alkyl group having 2 to 8 carbon atoms, and may be the same or different, and four R 2 s each independently Represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, which may be the same or different, and two X's each independently represent a substituent represented by the following general formula (2); Or Y may be different, and Y represents a group containing at least one substituted or unsubstituted heterocycle. ]
Figure 2006237442
[Wherein, n represents an integer of 2 to 8, and Z represents a hydrogen atom or a methyl group. ]
前記アクリル系架橋剤は、ポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤を主成分とするものである請求項1に記載の導電性材料用組成物。   The composition for conductive materials according to claim 1, wherein the acrylic crosslinking agent contains a polyester (meth) acrylate crosslinking agent as a main component. 前記ポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤は、少なくとも2つの(メタ)アクリロイル基を有するものである請求項2に記載の導電性材料用組成物。   The composition for conductive materials according to claim 2, wherein the polyester (meth) acrylate-based crosslinking agent has at least two (meth) acryloyl groups. 前記ポリエステル(メタ)アクリレート系架橋剤は、下記一般式(3)で表される化合物を主成分とするものである請求項2または3に記載の導電性材料用組成物。
Figure 2006237442
[式中、nは、4500以下の整数を表し、2つのAは、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を表し、同一であっても、異なっていてもよい。]
The composition for conductive materials according to claim 2 or 3, wherein the polyester (meth) acrylate-based crosslinking agent contains a compound represented by the following general formula (3) as a main component.
Figure 2006237442
[Wherein n represents an integer of 4500 or less, and two A's each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and may be the same or different. ]
2つの前記置換基Xは、同一である請求項1ないし4のいずれかに記載の導電性材料用組成物。   The said substituent X is the same, The composition for electroconductive materials in any one of Claim 1 thru | or 4. 前記置換基Xは、ベンゼン環の3位、4位または5位のうちのいずれかに結合している請求項1ないし5のいずれかに記載の導電性材料用組成物。   The composition for a conductive material according to any one of claims 1 to 5, wherein the substituent X is bonded to any of the 3-position, 4-position, and 5-position of the benzene ring. 2つの前記置換基Rは、同一である請求項1ないし6のいずれかに記載の導電性材料用組成物。 Two of the substituents R 1, the conductive material composition according to any one of claims 1 identical 6. 前記置換基Rは、ベンゼン環の4位に結合している請求項1ないし7のいずれかに記載の導電性材料用組成物。 The composition for a conductive material according to claim 1, wherein the substituent R 1 is bonded to the 4-position of the benzene ring. 前記複素環は、窒素、酸素、硫黄、セレンおよびテルルのうちの少なくとも1種のヘテロ原子を含有する請求項1ないし8のいずれかに記載の導電性材料用組成物。   The composition for conductive materials according to any one of claims 1 to 8, wherein the heterocyclic ring contains at least one heteroatom selected from nitrogen, oxygen, sulfur, selenium, and tellurium. 前記複素環は、芳香族系のものである請求項1ないし9のいずれかに記載の導電性材料用組成物。   The conductive material composition according to claim 1, wherein the heterocyclic ring is aromatic. 前記基Yは、複素環を1〜5つ含むものである請求項1ないし10のいずれかに記載の導電性材料用組成物。   The composition for a conductive material according to claim 1, wherein the group Y includes 1 to 5 heterocycles. 前記基Yは、前記複素環以外に、置換もしくは無置換の芳香族炭化水素環を少なくとも1つ含む請求項1ないし11のいずれかに記載の導電性材料用組成物。   The composition for a conductive material according to any one of claims 1 to 11, wherein the group Y includes at least one substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon ring in addition to the heterocyclic ring. 前記基Yは、前記一般式(1)中の各Nにそれぞれ、直接結合する前記芳香族炭化水素環と、これらの芳香族炭化水素環の間に存在する少なくとも1つの前記複素環とを含む請求項12に記載の導電性材料用組成物。   The group Y includes the aromatic hydrocarbon ring directly bonded to each N in the general formula (1), and at least one heterocyclic ring present between these aromatic hydrocarbon rings. The composition for conductive materials according to claim 12. 前記基Yの総炭素数は、2〜75である請求項1ないし13のいずれかに記載の導電性材料用組成物。   14. The composition for a conductive material according to claim 1, wherein the total number of carbon atoms of the group Y is 2 to 75. 15. 下記一般式(1)で表される化合物同士の置換基Xを、直接、または前記アクリル系架橋剤を介して、重合反応させて得られることを特徴とする導電性材料。
Figure 2006237442
[式中、2つのRは、それぞれ独立して、炭素数2〜8の直鎖アルキル基を表し、同一であっても、異なっていてもよく、4つのRは、それぞれ独立して、水素原子、メチル基またはエチル基を表し、同一であっても、異なっていてもよく、2つのXは、それぞれ独立して、下記一般式(2)で表される置換基を表し、同一であっても、異なっていてもよく、Yは、置換もしくは無置換の複素環を少なくとも1つ含む基を表す。]
Figure 2006237442
[式中、nは、2〜8の整数を表し、Zは、水素原子またはメチル基を表す。]
A conductive material obtained by polymerizing a substituent X between compounds represented by the following general formula (1) directly or via the acrylic crosslinking agent.
Figure 2006237442
[Wherein, two R 1 s each independently represent a straight-chain alkyl group having 2 to 8 carbon atoms, and may be the same or different, and four R 2 s each independently Represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, which may be the same or different, and two X's each independently represent a substituent represented by the following general formula (2); Or Y may be different, and Y represents a group containing at least one substituted or unsubstituted heterocycle. ]
Figure 2006237442
[Wherein, n represents an integer of 2 to 8, and Z represents a hydrogen atom or a methyl group. ]
前記化合物および前記アクリル系架橋剤は、光照射により重合反応する請求項15に記載の導電性材料。   The conductive material according to claim 15, wherein the compound and the acrylic crosslinking agent undergo a polymerization reaction by light irradiation. 請求項1ないし14のいずれかに記載の導電性材料用組成物を用いて形成されたことを特徴とする導電層。   A conductive layer formed using the composition for conductive material according to claim 1. 請求項15または16に記載の導電性材料を主材料とすることを特徴とする導電層。   A conductive layer comprising the conductive material according to claim 15 or 16 as a main material. 前記導電層は、正孔輸送層である請求項17または18に記載の導電層。   The conductive layer according to claim 17 or 18, wherein the conductive layer is a hole transport layer. 前記正孔輸送層の平均厚さは、10〜150nmである請求項19に記載の導電層。   The conductive layer according to claim 19, wherein the hole transport layer has an average thickness of 10 to 150 nm. 前記導電層は、電子輸送層である請求項17または18に記載の導電層。   The conductive layer according to claim 17, wherein the conductive layer is an electron transport layer. 前記電子輸送層の平均厚さは、1〜100nmである請求項21に記載の導電層。   The conductive layer according to claim 21, wherein the electron transport layer has an average thickness of 1 to 100 nm. 前記導電層は、有機半導体層である請求項17または18に記載の導電層。   The conductive layer according to claim 17, wherein the conductive layer is an organic semiconductor layer. 前記有機半導体層の平均厚さは、0.1〜1000nmである請求項23に記載の導電層。   The conductive layer according to claim 23, wherein an average thickness of the organic semiconductor layer is 0.1 to 1000 nm. 請求項17ないし24のいずれかに記載の導電層を備えることを特徴とする電子デバイス。   An electronic device comprising the conductive layer according to claim 17. 請求項19ないし22のいずれかに記載の導電層を有する積層体を備えることを特徴とする電子デバイス。   An electronic device comprising the laminate having the conductive layer according to claim 19. 前記電子デバイスは、発光素子または光電変換素子である請求項26に記載の電子デバイス。   27. The electronic device according to claim 26, wherein the electronic device is a light emitting element or a photoelectric conversion element. 前記発光素子は、有機エレクトロルミネッセンス素子である請求項27に記載の電子デバイス。   The electronic device according to claim 27, wherein the light emitting element is an organic electroluminescence element. 請求項23または24に記載の導電層を有する積層体を備えることを特徴とする電子デバイス。   An electronic device comprising a laminate having the conductive layer according to claim 23 or 24. 前記電子デバイスは、スイッチング素子である請求項29に記載の電子デバイス。   30. The electronic device according to claim 29, wherein the electronic device is a switching element. 前記スイッチング素子は、有機薄膜トランジスタである請求項30に記載の電子デバイス。   The electronic device according to claim 30, wherein the switching element is an organic thin film transistor. 請求項25ないし31のいずれかに記載の電子デバイスを備えることを特徴とする電子機器。

An electronic apparatus comprising the electronic device according to any one of claims 25 to 31.

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JP5307954B1 (en) * 2011-11-07 2013-10-02 昭和電工株式会社 Organic light emitting device, method for producing the same and use thereof

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