JP2006229156A - フォトダイオード - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 n型の半導体カソード層11上に、低不純物濃度の、第1の半導体層12、第2の半導体層13、第3の半導体層14、およびアノード電極15が順次積層されており、半導体カソード層11上の、第1の半導体層12が形成されていない領域にカソード電極16が接続されている。第2の半導体層13のバンドギャップエネルギーは、半導体カソード層11、第1の半導体層12、および第3の半導体層14それぞれのバンドギャップエネルギーよりも小さく、逆バイアス印加時に、第2の半導体層13が光吸収層として作用するように決定されている。第2の半導体層13の厚さは、第1の半導体層12の厚さ以下であり、予め要求された帯域と効率との間のトレードオフを最適化するように設定された厚さ近傍以上である。
【選択図】 図1
Description
(第1の実施形態)
図1(a)および(b)は、本実施形態に係るフォトダイオードの原理的な構成を説明するための図であり、図1(a)は本実施形態に係るフォトダイオードの断面図であり、図1(b)は図1(a)に示されたフォトダイオードのバンドダイアグラムである。
アノード電極15とカソード電極16とに逆バイアス電圧を印加した状態で、本実施形態に係るフォトダイオードに光を照射する。このとき、逆バイアスは、各半導体層12、13および14が空乏化するように、ドーピング濃度に応じて設定すればよい。これにより、図1(b)から分かるように、光吸収層13に、光励起キャリア(電子−ホール対)を発生させる。発生したキャリアのうち電子は、光吸収層13からキャリア走行層12を通って半導体カソード層11に到達する。一方、発生したキャリアのうちホールは、光吸収層13からバリア層14を通ってアノード電極15に到達する。キャリアの動きに従って、半導体カソード層11とアノード電極15のイメージ電荷が変化し、誘導電流として外部回路に電気出力が発生する。
図1で説明した第1の実施形態に係るフォトダイオードの原理的な構成においては、キャリア走行層12と光吸収層13との間、および光吸収層13とバリア層14との間にヘテロ接合界面が存在し、それに伴うバンド不連続が生じうる。これは、キャリア(光吸収層で生成された電子とホール)の反射を起こしたり、ヘテロ界面のノッチ部にキャリアをトラップしたりするので、キャリアの平均速度の低下の原因となる。
図4において、キャリア走行層12と光吸収層13との間に、キャリア走行層12と光吸収層13とのバンドギャップエネルギーの差を緩和するようにバンドギャップエネルギーが傾斜した第4の半導体層(接続層)17が設けられている。また、光吸収層13とバリア層14との間には、光吸収層13とバリア層14とのバンドギャップエネルギーの差を緩和するようにバンドギャップエネルギーが傾斜した第5の半導体層(接続層)18が設けられている。
第2の実施形態で説明した図4に示した構成において、接続層17および18内には、ヘテロ構造に固有の、電子とホールとに対して異なった電界強度値が発生する。その電界により、接続層17の電子に対する電界、および接続層18のホールに対する電界は、ともに低下する。この電界降下は、光吸収層13にて光励起されたそれぞれのキャリアの加速効果を弱めるものであり、通常は動作速度を落とす方向に作用してしまう。
図5において、キャリア走行層12の接続層17側の一部にドナー不純物19aをドーピングしており、かつ光吸収層13の接続層17側の一部にアクセプタ不純物19bをドーピングしている。このようにして、キャリア走行層12の、接続層17に接する所定の領域をドナードープ層21とし、光吸収層13の、接続層17に接する所定の領域をアクセプタドープ層22とする。
同様に、接続層18を挟むようにドナードープ層23およびアクセプタドープ層24とが形成されているので、接続層18について、電界降下を抑えたバンドプロファイルを実現できる。
よって、電子とホールとに作用する電界を素子全体にわたり高く保つことが可能となり、動作速度の低下を抑えることができる。
第1〜第3の実施形態では、各半導体層12、13および14は、低不純物濃度で不純物がドーピングされているが、これに限定されない。すなわち、各半導体層12、13および14の少なくとも1つに、低不純物濃度で不純物をドーピングしても良いし、各半導体層12、13および14全てに、不純物をドーピングしなくてもよい。
すなわち、キャリア走行層12は、InPからなる材料とすると、光吸収層13を、InPにほぼ格子整合するInGaAsからなる材料とし、バリア層14をInPにほぼ格子整合するInAlAsからなる材料とするのが好ましい。また、接続層17を、InPにほぼ格子整合するInGaAsPとし、接続層18を、InPにほぼ格子整合するInGaAlAsとするのが好ましい。
12 キャリア走行層
13 光吸収層
14 バリア層
15 アノード電極
16 カソード電極
17 接続層
18 接続層
19a、20a ドナー不純物
19b、20b アクセプタ不純物
21、23 ドナードープ層
22、24 アクセプタドープ層
Claims (8)
- n型の半導体カソード層上に、第1の半導体層、第2の半導体層、第3の半導体層、およびアノード金属電極層が順次積層され、前記n型の半導体カソード層上の、前記第1の半導体層が形成されていない領域に金属電極が接続されたフォトダイオードであって、
前記第2の半導体層のバンドギャップエネルギーは、前記n型の半導体カソード層、前記第1の半導体層、および前記第3の半導体層それぞれのバンドギャップエネルギーよりも小さく、該第2の半導体層が光吸収層として作用するように決定され、かつ前記第2の半導体層の厚さである第1の厚さは、前記第1の半導体層の厚さである第2の厚さ以下であり、予め要求された帯域と効率との間のトレードオフを最適化するように設定された厚さ近傍以上であることを特徴とするフォトダイオード。 - 前記最適化するように設定された厚さは、前記第2の厚さの略1/3であることを特徴とする請求項1記載のフォトダイオード。
- 前記第1の半導体層、前記第2の半導体層および前記第3の半導体層の少なくとも1つには、逆バイアスが印加されると空乏化する濃度で不純物がドーピングされていることを特徴とする請求項1または2記載のフォトダイオード。
- 前記第1の半導体層および前記第2の半導体層の間に設けられた、接続層としての第4の半導体層をさらに備え、
前記第1の半導体層と前記第4の半導体層との間、および前記第4の半導体層と前記第2の半導体層との間の伝導体端不連続値は、前記第1の半導体層と第2の半導体層との間の伝導帯端不連続値よりも小さくなるように設定されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のフォトダイオード。 - 前記第2の半導体層および前記第3の半導体層の間に設けられた、接続層としての第5の半導体層をさらに備え、
前記第2の半導体層と前記第5の半導体層との間、および前記第5の半導体層と前記第3の半導体層との間の伝導体端不連続値は、前記第2の半導体層と第3の半導体層との間の価電子帯端不連続値よりも小さくなるように設定されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のフォトダイオード。 - 前記第1の半導体層の、前記第4の半導体層に接する所定の領域にドナー不純物をドーピングし、前記第2の半導体層の、前記第4の半導体層に接する所定の領域にアクセプタ不純物をドーピングすることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載のフォトダイオード。
- 前記第2の半導体層の、前記第5の半導体層に接する所定の領域にドナー不純物をドーピングし、前記第3の半導体層の、前記第5の半導体層に接する所定の領域にアクセプタ不純物をドーピングすることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載のフォトダイオード。
- 前記第1、第2、第3、第4および第5の半導体層は、InPにほぼ格子整合するInGaAsP混晶半導体、もしくはInGaAlAs混晶半導体からなる材料であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載のフォトダイオード。
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