JP2006218767A - Method for producing multilayer polyimide film and its utilization - Google Patents

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正美 ▲柳▼田
Masami Yanagida
Kenji Uejima
健二 上島
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the dispersion of film thickness in the width direction of each layer when a multilayer polyimide film is produced. <P>SOLUTION: In the production of the multilayer film having at least two kinds of polyimide layers, when a coextrusion-casting application method and a chemical curing method are adopted, when a polyimide varnish (a solution containing a polyimide resin precursor or the polyimide resin) is extruded on a support, the distance from the tip part (lip part) of an extrusion die to the surface of the support is set to exceed 2 mm and not to exceed 25 mm. When a multilayer liquid film is formed on the support, the occurrence of a neck-in phenomenon is suppressed to reduce the dispersion of film thickness of each layer. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、ポリイミドを含有する層を複数備えており、フレキシブルプリント配線板等の製造に好適に用いることができるポリイミド系多層フィルムの製造方法およびその利用に関するものであり、特に、多層フィルムが、高い耐熱性を示す耐熱性ポリイミド層の少なくとも片面に熱可塑性ポリイミド層を形成した接着フィルムである場合に好適に用いることができるポリイミド系多層フィルムの製造方法とその利用とに関するものである。   The present invention includes a plurality of polyimide-containing layers, and relates to a method for producing a polyimide-based multilayer film that can be suitably used for the production of flexible printed wiring boards and the like, and in particular, the multilayer film includes: The present invention relates to a method for producing a polyimide-based multilayer film that can be suitably used in the case of an adhesive film in which a thermoplastic polyimide layer is formed on at least one side of a heat-resistant polyimide layer exhibiting high heat resistance and its use.

近年、エレクトロニクス製品の軽量化、小型化、高密度化にともない、各種プリント基板の需要が伸びている。これらのプリント基板の中でも、フレキシブル配線板の需要が特に伸びている。フレキシブル配線板はフレキシブルプリント配線板(FPC)等とも称する。フレキシブル配線板は、絶縁性フィルム上に金属層からなる回路が形成された構造を有している。   In recent years, the demand for various printed circuit boards has increased with the reduction in weight, size and density of electronic products. Among these printed boards, the demand for flexible wiring boards is growing. The flexible wiring board is also referred to as a flexible printed wiring board (FPC). The flexible wiring board has a structure in which a circuit made of a metal layer is formed on an insulating film.

上記フレキシブル配線板は、一般に、各種絶縁材料により形成され、柔軟性を有する絶縁性フィルムを基板とし、この基板の表面に、各種接着材料を介して金属箔を加熱・圧着することにより貼り合わせる方法により製造される。上記絶縁性フィルムとしては、ポリイミドフィルム等が好ましく用いられており、上記接着材料としては、エポキシ系、アクリル系等の熱硬化性接着剤が一般的に用いられている。このような熱硬化性接着剤を用いたフレキシブル配線板は、基板/接着材料/金属箔の三層構造を有しているので、以下、説明の便宜上、「三層FPC」と称する。   The above-mentioned flexible wiring board is generally formed of various insulating materials, a flexible insulating film is used as a substrate, and a metal foil is bonded to the surface of the substrate by heating and pressure bonding via various adhesive materials. Manufactured by. A polyimide film or the like is preferably used as the insulating film, and an epoxy or acrylic thermosetting adhesive is generally used as the adhesive material. A flexible wiring board using such a thermosetting adhesive has a three-layer structure of substrate / adhesive material / metal foil, and is hereinafter referred to as “three-layer FPC” for convenience of explanation.

上記三層FPCに用いられる熱硬化性接着剤は、比較的低温での接着が可能であるという利点があるが、相対的に耐熱性が低く電気特性に劣る。そのため、今後、フレキシブル配線板に対して耐熱性、屈曲性、電気的信頼性といった各種特性に対する要求が厳しくなることが想定されているが、熱硬化性接着剤を用いた三層FPCでは、このような要求に十分対応することが困難になると考えられている。   The thermosetting adhesive used for the three-layer FPC has an advantage that it can be bonded at a relatively low temperature, but has relatively low heat resistance and poor electrical characteristics. Therefore, in the future, it is assumed that requirements for various characteristics such as heat resistance, flexibility, and electrical reliability will become stricter for flexible wiring boards. However, in a three-layer FPC using a thermosetting adhesive, It is considered difficult to sufficiently meet such demands.

これに対して、絶縁性フィルムに直接金属層を設けたフレキシブル配線板や、接着層に熱可塑性ポリイミドを使用したフレキシブル配線板が提案されている。これらフレキシブル配線板は絶縁性の基板に直接金属層を形成している状態にあるため、以下、説明の便宜上、「二層FPC」と称する。この二層FPCは、接着剤として、耐熱性、屈曲性、電気的信頼性等に優れるポリイミド系の樹脂を用いるため、あるいは接着剤を用いないため、三層FPCより優れた特性を有する。それゆえ、上記各種特性に対する要求にも十分対応可能であるため産業上有用であり、今後需要が伸びていくことが期待される。   On the other hand, a flexible wiring board in which a metal layer is directly provided on an insulating film and a flexible wiring board using a thermoplastic polyimide as an adhesive layer have been proposed. Since these flexible wiring boards are in a state in which a metal layer is directly formed on an insulating substrate, they are hereinafter referred to as “two-layer FPC” for convenience of explanation. This two-layer FPC has characteristics superior to those of a three-layer FPC because a polyimide resin having excellent heat resistance, flexibility, electrical reliability, and the like is used as an adhesive or no adhesive is used. Therefore, it is industrially useful because it can sufficiently meet the demands for the various characteristics described above, and demand is expected to grow in the future.

上記二層FPCは、基板に金属箔を積層した構造を有するフレキシブル金属張積層板を用いて製造される。このフレキシブル金属張積層板の製造方法としては、キャスト法、メタライジング法、ラミネート法等が挙げられる。キャスト法は、金属箔上に、ポリイミドまたはその前駆体であるポリアミド酸の有機溶媒溶液(便宜上、「ポリイミド系ワニス」と称する)を流延、塗布した後、加熱乾燥および/またはイミド化する方法である。メタライジング法は、スパッタ、蒸着、および/または金属メッキによりポリイミドフィルム上に直接金属層を設ける方法である。ラミネート法は、熱可塑性ポリイミド層を介してポリイミドフィルムと金属箔とを貼り合わせる方法である。   The two-layer FPC is manufactured using a flexible metal-clad laminate having a structure in which a metal foil is laminated on a substrate. Examples of the method for producing the flexible metal-clad laminate include a casting method, a metalizing method, and a laminating method. Casting is a method in which an organic solvent solution of polyimide or its precursor polyamic acid (referred to as “polyimide varnish” for convenience) is cast and applied onto a metal foil, followed by heat drying and / or imidization. It is. The metalizing method is a method in which a metal layer is directly provided on a polyimide film by sputtering, vapor deposition, and / or metal plating. The laminating method is a method of bonding a polyimide film and a metal foil through a thermoplastic polyimide layer.

これらのうち、ラミネート法は、対応できる金属箔の厚み範囲がキャスト法よりも広く、装置に要するコストがメタライジング法よりも低いという点で優れている。ラミネート法を行う装置としては、ロール状の材料を繰り出しながら連続的にラミネートする熱ロールラミネート装置またはダブルベルトプレス装置等が用いられている。これらの中でも、生産性の点から見れば、熱ロールラミネート法をより好ましく用いることができる。   Among these, the laminating method is superior in that the thickness range of the metal foil that can be handled is wider than the casting method, and the cost required for the apparatus is lower than that of the metalizing method. As an apparatus for performing the laminating method, a hot roll laminating apparatus or a double belt press apparatus for continuously laminating a roll-shaped material is used. Among these, the hot roll laminating method can be used more preferably from the viewpoint of productivity.

上記ラミネート法により製造されるフレキシブル金属張積層板においては、基板として、耐熱性ポリイミドを主成分とするポリイミドフィルム(耐熱性ポリイミド層)の少なくとも一方の表面に熱可塑性ポリイミドを含む樹脂組成物の層(熱可塑性ポリイミド層)を設けてなる接着フィルムが広く用いられている。この接着フィルムにおいては、耐熱性ポリイミド層が絶縁性フィルムとなり、熱可塑性ポリイミド層が接着層となる。この接着フィルムは、言い換えれば、多層構造のポリイミド系フィルム(ポリイミド系多層フィルム)ということができる。   In the flexible metal-clad laminate produced by the above laminating method, as a substrate, a layer of a resin composition containing thermoplastic polyimide on at least one surface of a polyimide film (heat-resistant polyimide layer) mainly composed of heat-resistant polyimide An adhesive film provided with a (thermoplastic polyimide layer) is widely used. In this adhesive film, the heat-resistant polyimide layer becomes an insulating film, and the thermoplastic polyimide layer becomes an adhesive layer. In other words, this adhesive film can be referred to as a polyimide film having a multilayer structure (polyimide multilayer film).

上記ポリイミド系多層フィルムの製造方法としては、代表的なものとして塗工法、熱ラミネート法、流延製膜法等が挙げられる。塗工法は、耐熱性ポリイミド層となるポリイミドフィルムの片面または両面に、熱可塑性ポリイミドまたはその前駆体を含有する樹脂組成物の溶液を塗工し乾燥させて製造する方法である。また、熱ラミネート法は、耐熱性ポリイミド層となるポリイミドフィルムの片面または両面に、熱可塑性ポリイミドを主成分とするポリイミドフィルムを加熱して貼り合わせ加工し製造する方法である。   Typical methods for producing the polyimide multilayer film include a coating method, a heat laminating method, a casting film forming method, and the like. The coating method is a method in which a solution of a resin composition containing a thermoplastic polyimide or a precursor thereof is applied to one or both sides of a polyimide film to be a heat-resistant polyimide layer and dried. The thermal laminating method is a method in which a polyimide film containing thermoplastic polyimide as a main component is heated and bonded to one side or both sides of a polyimide film to be a heat resistant polyimide layer.

上記流延製膜法としては、逐次法(逐次コーティング法)と共押出法(共押出−流延塗布法)とが挙げられる。逐次法は、耐熱性ポリイミドまたはその前駆体を含有する樹脂組成物の溶液(便宜上、「耐熱性ポリイミド系ワニス」と称する)と、熱可塑性ポリイミドまたはその前駆体を含有する樹脂組成物の溶液(便宜上、「熱可塑性ポリイミド系ワニス」と称する)とを、支持体上に順次コーティングして行く方法である。共押出−流延塗布法は、支持体上に、耐熱性ポリイミド系ワニスおよび熱可塑性ポリイミド系ワニスの双方を同時に共押出ダイを用いて押し出し成膜する方法である(例えば、特許文献1〜2参照)。   Examples of the casting film forming method include a sequential method (sequential coating method) and a coextrusion method (coextrusion-casting coating method). The sequential method includes a solution of a resin composition containing a heat-resistant polyimide or a precursor thereof (referred to as “heat-resistant polyimide varnish” for convenience) and a solution of a resin composition containing a thermoplastic polyimide or a precursor thereof ( For the sake of convenience, this is referred to as “thermoplastic polyimide varnish”) on the support. The coextrusion-casting coating method is a method in which both a heat-resistant polyimide varnish and a thermoplastic polyimide varnish are simultaneously extruded onto a support using a coextrusion die (for example, Patent Documents 1 and 2). reference).

ここで、上記各製造方法の中でも、共押出−流延塗布法は、一度に多層構造の液膜(多層液膜)を形成できる等、必要となる工程数が少なくて済むこと、工程が少ないことから異物混入などの欠陥要因が少ないこと等から、他の方法と比較して生産性および製品歩留まりが高いという利点がある。それゆえ、一般的には、最も優れた製造方法であると言うことができる。
第2946416号公報(平成11年(1999)7月2日登録、公開番号:特開平11−99554、公開日:平成11年(1999)4月13日) 特開平7−214637公報(平成7年(1995)8月15日公開)
Among the above production methods, the coextrusion-casting coating method can form a multi-layered liquid film (multi-layer liquid film) at a time, for example, requires fewer steps, and requires fewer steps. Therefore, since there are few defect factors such as contamination, there is an advantage that productivity and product yield are higher than other methods. Therefore, it can be said that it is generally the most excellent manufacturing method.
No. 2946416 (Registered July 2, 1999 (1999), publication number: JP-A-11-99554, publication date: April 13, 1999 (1999)) Japanese Patent Laid-Open No. 7-214636 (published August 15, 1995)

ところで、従来の共押出−流延塗布法では、実質的に加熱によってのみイミド化を行う、いわゆる熱キュア法を前提にして製造条件等が検討されてきた。ここで、ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を用いてフィルムを製造する場合、加熱により溶媒を揮散および除去して自己指示性を有するゲルフィルムを形成してからイミド化することが一般的であるが、上記熱キュア法では、ゲルフィルム化の過程やイミド化の過程が極めて長時間となるため、生産性が低いという問題点があった。このような生産性の低さは、トータルコストの増大につながることになる。   By the way, in the conventional coextrusion-casting coating method, production conditions and the like have been studied on the premise of a so-called thermal curing method in which imidization is substantially performed only by heating. Here, when a film is produced using a polyamic acid which is a precursor of polyimide, it is common to imidize after forming a gel film having self-indicating properties by volatilizing and removing the solvent by heating. However, the thermal curing method has a problem in that productivity is low because the process of forming a gel film and the process of imidization take a very long time. Such low productivity leads to an increase in total cost.

そこで、本発明者らは上記の生産性の課題を解決するために検討した結果、イミド化に際して化学脱水剤および触媒を用いる方法、いわゆる化学キュア法の採用が効果的であることを見出した。しかしながら、得られる多層フィルムの品質には未だ向上の余地があることが本発明者らの検討により明らかとなっている。   Accordingly, as a result of studies to solve the above-mentioned productivity problems, the present inventors have found that it is effective to employ a method using a chemical dehydrating agent and a catalyst, that is, a so-called chemical curing method, in imidation. However, it has been revealed by the present inventors that there is still room for improvement in the quality of the resulting multilayer film.

具体的には、化学キュア法を採用すると生産性の低下という課題は解決することができるが、それぞれの層において、幅方向の膜厚に有意なバラツキが生じやすく、しかもそのバラツキが増大する場合があることが本発明者らによって独自に見出された。   Specifically, the use of a chemical cure method can solve the problem of reduced productivity, but significant fluctuations in the film thickness in the width direction tend to occur in each layer, and the fluctuations increase. It was uniquely found by the present inventors.

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、ポリイミド系多層フィルムを製造する場合に、各層の幅方向における膜厚のバラツキを低減することができる技術を提供することにある。   This invention is made | formed in view of said subject, The objective is providing the technique which can reduce the dispersion | variation in the film thickness in the width direction of each layer, when manufacturing a polyimide-type multilayer film. It is in.

本発明者らは上記の課題に鑑み鋭意検討した結果、共押出−流延塗布法において化学キュア法を採用した場合に、化学脱水剤および触媒を含有するポリイミド系ワニスの粘度が著しく低減するため、当該ポリイミド系ワニスを押し出した際に形成される液膜の幅方向の長さが小さくなるという現象(いわゆるネックイン現象)の発生が顕著になることを見出した。そこで、このネックイン現象の発生を抑制することによって各層の膜厚のバラツキを抑制または回避することに成功し、本発明を完成させるに至った。   As a result of intensive investigations in view of the above problems, the present inventors have remarkably reduced the viscosity of a polyimide varnish containing a chemical dehydrating agent and a catalyst when a chemical curing method is employed in the coextrusion-casting coating method. The inventors have found that the phenomenon that the length in the width direction of the liquid film formed when the polyimide-based varnish is extruded becomes small (so-called neck-in phenomenon) occurs. Therefore, by suppressing the occurrence of the neck-in phenomenon, the present inventors have succeeded in suppressing or avoiding the variation in the film thickness of each layer, and completed the present invention.

すなわち、本発明にかかるポリイミド系多層フィルムの製造方法は、上記の課題を解決するために、少なくとも2種以上のポリイミド層を有する多層フィルムの製造方法であって、ポリイミド樹脂の前駆体またはポリイミド樹脂を含有する溶液を、少なくとも2種以上、押出手段から同時に支持体上に押し出して流延することにより複数層が積層された多層液膜を形成する多層液膜形成工程を含んでおり、上記押出手段の先端部分から支持体表面まで距離を、2mmを超え25mm以下に設定することを特徴としている。   That is, the method for producing a polyimide-based multilayer film according to the present invention is a method for producing a multilayer film having at least two kinds of polyimide layers in order to solve the above-described problems, and is a polyimide resin precursor or a polyimide resin. A multilayer liquid film forming step of forming a multilayer liquid film in which a plurality of layers are laminated by extruding and casting at least two kinds of solutions containing at least two types of extrusion onto a support simultaneously from an extrusion means. The distance from the tip portion of the means to the support surface is set to be more than 2 mm and not more than 25 mm.

上記製造方法においては、上記押出手段として、共押出多層ダイが用いられることが好ましい。また、上記溶液の少なくとも1種には、化学脱水剤および触媒が添加されていることが特に好ましい。   In the manufacturing method, a coextrusion multilayer die is preferably used as the extrusion means. Moreover, it is particularly preferable that a chemical dehydrating agent and a catalyst are added to at least one of the above solutions.

上記化学脱水剤は、添加対象となる溶液に含有されるポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して0.5〜4.0モルの範囲内となるように、当該溶液に添加されることが好ましく、1.0〜3.0モルの範囲内となっているがより好ましい。また、上記触媒は、添加対象となる溶液に含有されるポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して0.05〜2.0モルの範囲内となるように、当該溶液に添加されることが好ましく、0.05〜1.0モルの範囲内となっているがより好ましい。   The chemical dehydrating agent is added to the solution so that the chemical dehydrating agent is in the range of 0.5 to 4.0 moles per mole of the amic acid unit in the polyamic acid contained in the solution to be added. However, it is more preferably in the range of 1.0 to 3.0 mol. In addition, the catalyst is added to the solution so that the catalyst is in the range of 0.05 to 2.0 mol with respect to 1 mol of the amic acid unit in the polyamic acid contained in the solution to be added. Is preferable, and it is more preferably in the range of 0.05 to 1.0 mol.

上記製造方法においては、例えば、上記ポリイミド系多層フィルムとして、耐熱性ポリイミドを含有する基盤層の少なくとも片面に熱可塑性ポリイミドを含有する接着層を積層してなる接着フィルムを挙げることができ、このとき、上記基盤層の形成には、耐熱性ポリイミドの前駆体を含有する溶液が用いられるとともに、上記接着層の形成には、熱可塑性ポリイミドの前駆体および/または熱可塑性ポリイミドを含有する溶液が用いられる。   In the above production method, for example, as the polyimide-based multilayer film, an adhesive film formed by laminating an adhesive layer containing a thermoplastic polyimide on at least one side of a base layer containing a heat-resistant polyimide can be exemplified. The base layer is formed using a solution containing a heat-resistant polyimide precursor, and the adhesive layer is formed using a thermoplastic polyimide precursor and / or a solution containing a thermoplastic polyimide. It is done.

また、本発明には、上記製造方法を用いて製造されるポリイミド系多層フィルム、並びに、当該ポリイミド系多層フィルムを絶縁層として用いてなるフレキシブルプリント配線板も含まれる。   The present invention also includes a polyimide multilayer film manufactured using the above manufacturing method, and a flexible printed wiring board using the polyimide multilayer film as an insulating layer.

本発明では、ポリイミド樹脂の前駆体またはポリイミド樹脂を含有する溶液、すなわちポリイミド系ワニスを支持体上に押し出す際に、押出手段と支持体表面との間隔を規定している。これにより、支持体上に形成される液膜において、ネックイン現象の発生を抑制することが可能となる。それゆえ、各層の幅方向における膜厚のバラツキをより一層小さくし、有意な膜厚のバラツキの発生を事実上防止することが可能となる。   In the present invention, when extruding a polyimide resin precursor or a solution containing a polyimide resin, that is, a polyimide varnish, onto the support, the distance between the extrusion means and the support surface is defined. Thereby, it becomes possible to suppress the occurrence of the neck-in phenomenon in the liquid film formed on the support. Therefore, it is possible to further reduce the variation in the film thickness in the width direction of each layer and to effectively prevent the occurrence of a significant film thickness variation.

しかも、共押出−流延塗布法に化学キュア法を採用しているため、イミド化の時間を短縮することができるとともに、各層間の接着強度の低下、製造過程での層間の剥離、さらには支持体からのゲルフィルムの引き剥がしの困難さを抑制または回避することができる。その結果、ポリイミド系多層フィルムの品質低下を回避することができるだけでなく、高品質のポリイミド系多層フィルムをより高い生産性かつより低いコストで提供することができるという効果を奏する。   In addition, since the chemical curing method is adopted for the coextrusion-casting coating method, the time for imidization can be shortened, the adhesive strength between the respective layers is lowered, the peeling between the layers in the manufacturing process, The difficulty in peeling off the gel film from the support can be suppressed or avoided. As a result, not only can the quality of the polyimide-based multilayer film be prevented from being deteriorated, but also there is an effect that a high-quality polyimide-based multilayer film can be provided with higher productivity and lower cost.

本発明の一実施形態について説明すると、以下の通りであるが、本発明はこれに限定されるものではない。   An embodiment of the present invention will be described as follows, but the present invention is not limited to this.

本発明は、少なくとも2種以上のポリイミド層を有するポリイミド系多層フィルムの製造方法であり、複数のポリイミド層を有するポリイミド系多層フィルムを共押出−流延塗布法により製造する際に、イミド化法として化学キュア法を採用する。ここで、ポリイミドの前駆体を含有する溶液および/またはポリイミドを含有する溶液(説明の便宜上、これらをまとめてポリイミド系ワニスと称する)から選択される少なくとも2種以上の溶液を共押出多層ダイ等の押出手段から支持体上に流延して2層以上の多層液膜を形成する工程を含んでおり、この工程において、上記押出手段の先端部分と支持体表面までの距離を規定する。これによって、ネックイン現象を抑制して各層の膜厚のバラツキを低減する。   The present invention is a method for producing a polyimide-based multilayer film having at least two or more kinds of polyimide layers. When a polyimide-based multilayer film having a plurality of polyimide layers is produced by a coextrusion-casting method, an imidization method is used. As a chemical curing method. Here, at least two or more kinds of solutions selected from a solution containing a polyimide precursor and / or a solution containing polyimide (for convenience of description, these are collectively referred to as a polyimide varnish) are co-extruded multilayer die, etc. And a step of forming a multilayer liquid film of two or more layers by casting from the extrusion means to the support, and in this step, the distance between the tip portion of the extrusion means and the support surface is defined. This suppresses the neck-in phenomenon and reduces the variation in the film thickness of each layer.

以下、本発明にかかるポリイミド系多層フィルムの製造方法と、当該製造方法において、上記ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸の好ましい合成方法と、本発明の具体的な利用の一例について順に説明する。   Hereinafter, a method for producing a polyimide-based multilayer film according to the present invention, a preferred method for synthesizing a polyamic acid which is a precursor of the polyimide in the production method, and a specific example of the present invention will be described in order.

(I)多層フィルムの製造方法
上記のように、本発明にかかるポリイミド系多層フィルムの製造方法は、共押出−流延塗布法において化学キュア法を採用する方法であるが、この製造方法を具体的な工程として区分するとすれば、複数種のポリイミド系ワニスを調製する工程(ワニス調製工程)、調製した複数種のポリイミド系ワニスの少なくとも1種に化学脱水剤および触媒を添加する工程(硬化剤添加工程)、複数種のポリイミド系ワニスを支持体上に同時に流延塗布し、多層液膜を形成する工程(多層液膜形成工程)、形成した多層液膜を、自己支持性を有する多層ゲルフィルムに転化する工程(ゲルフィルム形成工程)、多層ゲルフィルムをイミド化する工程(イミド化工程)に区分することができる。以下、各工程について具体的に説明する。
(I) Manufacturing method of multilayer film As described above, the manufacturing method of the polyimide-based multilayer film according to the present invention is a method that employs a chemical curing method in the coextrusion-casting coating method. If it is classified as a general process, a step of preparing a plurality of types of polyimide varnish (varnish preparation step), a step of adding a chemical dehydrating agent and a catalyst to at least one of the prepared types of polyimide varnish (curing agent) Addition step), a step of simultaneously casting a plurality of types of polyimide varnishes on a support to form a multilayer liquid film (multilayer liquid film formation step), and a multilayer gel having self-supporting properties. It can be divided into a process of converting to a film (gel film forming process) and a process of imidizing a multilayer gel film (imidation process). Hereinafter, each step will be specifically described.

<ワニス調製工程>
ワニス調製工程は、ポリイミドの前駆体(ポリアミド酸)を含有する溶液および/またはポリイミドを含有する溶液(ポリイミド系ワニス)を調製する工程であればよく、その具体的な方法は特に限定されるものではない。用いる溶媒としては、ポリアミド酸(あるいはポリアミック酸)またはポリイミドを溶解可能とする有機溶媒であれば特に限定されるものではない。また、溶媒にポリアミド酸またはポリイミドを溶解または分散させる方法も特に限定されるものではなく、公知の方法を好適に用いることができる。なお、本明細書における溶解には、溶媒への樹脂の「溶解」だけでなく「分散」も含まれるものとする。
<Varnish preparation process>
The varnish preparation step may be a step for preparing a solution containing a polyimide precursor (polyamide acid) and / or a solution containing a polyimide (polyimide varnish), and its specific method is particularly limited. is not. The solvent to be used is not particularly limited as long as it is an organic solvent that can dissolve polyamic acid (or polyamic acid) or polyimide. Further, the method for dissolving or dispersing polyamic acid or polyimide in the solvent is not particularly limited, and a known method can be suitably used. Note that the dissolution in the present specification includes not only “dissolution” of the resin in the solvent but also “dispersion”.

特に、ポリイミド系ワニスとしてポリアミド酸溶液を調製する場合には、後述するように、モノマー成分を合成用溶媒中でポリアミド酸に合成することにより得られる、ポリアミド酸の合成用溶媒の溶液をそのままポリイミド系ワニスとして用いることができる。なお、本発明において用いるポリイミド系ワニスの固形分濃度(樹脂成分の濃度)や粘度等の諸条件は特に限定されるものではなく、後段の各工程での条件や、製造しようとするポリイミド系多層フィルムの種類等により適宜設定することができる。   In particular, when preparing a polyamic acid solution as a polyimide-based varnish, the solution of the polyamic acid synthesis solvent obtained by synthesizing the monomer component into the polyamic acid in the synthesis solvent as described later is used as the polyimide varnish. It can be used as a system varnish. Various conditions such as the solid content concentration (resin component concentration) and viscosity of the polyimide varnish used in the present invention are not particularly limited. It can be set as appropriate depending on the type of film.

また、本発明にかかる製造方法を実施する場合に毎回ポリイミド系ワニスを調製する必要性はなく、あらかじめ調製しておき貯蔵しておいたポリイミド系ワニスを使う等してもよい。したがって、本発明にかかる製造方法では、ワニス調製工程は必須ではない。   Moreover, when implementing the manufacturing method concerning this invention, it is not necessary to prepare a polyimide-type varnish every time, You may use the polyimide-type varnish previously prepared and stored. Therefore, in the manufacturing method according to the present invention, the varnish preparation step is not essential.

<硬化剤添加工程>
硬化剤添加工程は、上記ポリイミド系ワニスに硬化剤(化学硬化剤)として化学添加剤および触媒を添加する工程である。つまり、本発明にかかる製造方法では、化学キュア法を採用するため、用いる複数種のポリイミド系ワニスのうち、少なくとも1種には、上記硬化剤を添加する必要がある。
<Curing agent addition process>
The curing agent addition step is a step of adding a chemical additive and a catalyst as a curing agent (chemical curing agent) to the polyimide varnish. That is, in the manufacturing method according to the present invention, since the chemical curing method is employed, it is necessary to add the curing agent to at least one of the plural types of polyimide varnish used.

一般に、ポリイミドの製造においては、ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を脱水転化する反応(イミド化反応)により得ることができる。当該イミド化反応を行う方法としては、熱によってのみ行う熱キュア法と、上記硬化剤(特に化学脱水剤)を用いる化学キュア法の2法が最も広く知られている。このうち化学キュア法は生産性に優れているため、本発明では、少なくとも1種のポリイミド層のイミド化には化学キュア法を採用する。   Generally, in the production of polyimide, it can be obtained by a reaction (imidation reaction) in which polyamic acid which is a precursor of polyimide is dehydrated and converted. As the method for performing the imidization reaction, two methods are most widely known: a thermal curing method performed only by heat and a chemical curing method using the above-described curing agent (particularly a chemical dehydrating agent). Among these, since the chemical curing method is excellent in productivity, in the present invention, the chemical curing method is adopted for imidization of at least one polyimide layer.

上記硬化剤として用いられる化学脱水剤は、硬化剤の主成分であり、ポリアミド酸のアミド基に対する脱水閉環剤であればよく、具体的には、例えば、脂肪族酸無水物、芳香族酸無水物、N,N’−ジアルキルカルボジイミド、低級脂肪族ハロゲン化物、ハロゲン化低級脂肪族酸無水物、アリールスルホン酸ジハロゲン化物、チオニルハロゲン化物を主成分として挙げることができるが、これら化合物に特に限定されるものではない。これら化合物は単独で用いてもよいし、2種類以上を適宜組み合わせた混合物として用いてもよい。これらの中でも、特に、酢酸等の脂肪族酸無水物、および/または、芳香族酸無水物をより好ましく用いることができる。   The chemical dehydrating agent used as the curing agent is a main component of the curing agent and may be any dehydrating ring-closing agent for the amide group of the polyamic acid. Specifically, for example, an aliphatic acid anhydride, an aromatic acid anhydride, and the like. Products, N, N′-dialkylcarbodiimides, lower aliphatic halides, halogenated lower aliphatic acid anhydrides, arylsulfonic acid dihalides, and thionyl halides, but are not limited to these compounds. It is not something. These compounds may be used singly or as a mixture in which two or more kinds are appropriately combined. Among these, in particular, an aliphatic acid anhydride such as acetic acid and / or an aromatic acid anhydride can be more preferably used.

上記硬化剤として用いられる触媒は、アミド基に対する化学脱水剤の脱水閉環作用を促進する効果を有する成分であればよく、具体的には、例えば、脂肪族3級アミン、芳香族3級アミン、複素環式3級アミン等を挙げることができるが、これら化合物に特に限定されるものではない。これら化合物のうち、イミダゾール、ベンズイミダゾール、イソキノリン、キノリン、またはβ−ピコリン等の含窒素複素環化合物をより好ましく用いることができる。   The catalyst used as the curing agent may be any component that has an effect of promoting the dehydration ring-closing action of the chemical dehydrating agent on the amide group. Specifically, for example, an aliphatic tertiary amine, an aromatic tertiary amine, Although heterocyclic tertiary amine etc. can be mentioned, it is not specifically limited to these compounds. Among these compounds, nitrogen-containing heterocyclic compounds such as imidazole, benzimidazole, isoquinoline, quinoline, or β-picoline can be more preferably used.

上記硬化剤をポリイミド系ワニスに添加する方法は特に限定されるものではないが、効率的な添加および分散を図るために、上記硬化剤を溶液に調製してからポリイミド系ワニスに添加することが好ましい。このとき用いられる溶媒は特に限定されるものではないが、ポリイミド系ワニスに用いられている溶媒を好適に用いることができる。   The method of adding the curing agent to the polyimide varnish is not particularly limited, but in order to achieve efficient addition and dispersion, the curing agent may be prepared in a solution and then added to the polyimide varnish. preferable. Although the solvent used at this time is not specifically limited, The solvent used for the polyimide-type varnish can be used conveniently.

上記硬化剤の添加量は特に限定されるものではないが、多すぎたり少なすぎたりすると製造過程において好ましくない問題が生じる場合があるため、好ましい添加量の範囲が存在する。具体的には、化学脱水剤の添加量は、添加対象となるポリイミド系ワニスに含有されるポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して0.5〜4.0モルの範囲内となる量であることが好ましく、1.0〜3.0モルの範囲内となる量であることがより好ましく、1.2〜2.5モルの範囲内となる量であることが特に好ましい。また、触媒の添加量は、添加対象となるポリイミド系ワニスに含有されるポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して0.05〜2.0モルの範囲内となる量であることが好ましく、1.05〜1.0モルの範囲内となる量であることがより好ましく、0.3〜0.8モルの範囲内となる量であることがより好ましい。   The amount of the curing agent to be added is not particularly limited. However, if the amount is too large or too small, an undesirable problem may occur in the production process. Specifically, the chemical dehydrating agent is added in an amount within the range of 0.5 to 4.0 moles with respect to 1 mole of the amic acid unit in the polyamic acid contained in the polyimide varnish to be added. It is preferable that the amount be in the range of 1.0 to 3.0 mol, and it is particularly preferable that the amount is in the range of 1.2 to 2.5 mol. Moreover, it is preferable that the addition amount of a catalyst is the quantity which exists in the range of 0.05-2.0 mol with respect to 1 mol of amic acid units in the polyamic acid contained in the polyimide-type varnish used for addition. The amount is preferably in the range of 1.05 to 1.0 mol, and more preferably in the range of 0.3 to 0.8 mol.

上記化学脱水剤および触媒の添加量すなわちポリイミド系ワニス中の含有量は、上記上限を超えると、押出手段から押し出されて形成される多層液膜を乾燥させる際に、これら硬化剤を添加した層から溶媒が滲出して、隣接する各層の間に当該溶媒が蓄積するおそれがある。この場合、各層間の接着強度が低下したり、得られるポリイミド系多層フィルムにおいて層間が剥離したりする等の問題を引き起こすことがある。一方、上記下限を未満であると、上記多層液膜を平滑な支持体上で乾燥して多層ゲルフィルムとした後に、当該多層ゲルフィルムを支持体から引き剥がすことが困難になるおそれがある。   When the addition amount of the chemical dehydrating agent and the catalyst, that is, the content in the polyimide varnish exceeds the upper limit, a layer to which these curing agents are added when the multilayer liquid film formed by extrusion from the extrusion means is dried. There is a possibility that the solvent oozes out and accumulates between adjacent layers. In this case, the adhesive strength between the respective layers may be lowered, or problems may be caused such that the layers are separated in the obtained polyimide-based multilayer film. On the other hand, if the lower limit is less than the above lower limit, it may be difficult to peel the multilayer gel film from the support after the multilayer liquid film is dried on a smooth support to form a multilayer gel film.

<多層液膜形成工程>
多層液膜形成工程は、押出手段により、少なくとも2種以上のポリイミド系ワニスを同時に支持体上に押し出して流延塗布し、複数層が積層された多層液膜を形成する工程であり、特に本発明では、上記押出手段の先端部分から支持体表面まで距離を、2mmを超え25mm以下に設定している。つまり、本発明では、共押出−流延塗布法により多層液膜を形成することが必須であり、このとき、押出手段の先端部分から支持体の表面まで距離を所定の範囲内に設定することが必須となる。
<Multilayer liquid film formation process>
The multilayer liquid film forming step is a step for forming a multilayer liquid film in which a plurality of layers are laminated by extruding at least two or more kinds of polyimide varnishes onto a support simultaneously by extrusion means, and forming a multilayer liquid film. In the invention, the distance from the tip portion of the extrusion means to the support surface is set to be more than 2 mm and 25 mm or less. That is, in the present invention, it is essential to form a multilayer liquid film by a coextrusion-casting method, and at this time, the distance from the tip portion of the extrusion means to the surface of the support is set within a predetermined range. Is essential.

上記押出手段(押出部材)としては、上記ポリイミド系ワニスを支持体上に押し出して流延塗布できるものであれば特に限定されるものではないが、具体的には、各種押出ダイを好適に用いることができ、より好ましくは、例えば、公知の複数層フィルムを製造するために用いられるTダイス等の共押出多層ダイを好適に用いることができる。共押出多層ダイは、一つの押出ダイにより複数のポリイミド系ワニスを押し出すことができるので、多層液膜を効率的かつ高品位に形成しやすくなる。共押出多層ダイの具体的な構造は特に限定されるものではなく、従来公知のあらゆる構造のものを好適に使用可能であり、製造しようとするポリイミド系多層フィルムの多層構造や、具体的な製造条件等に応じて適切なものを選択して用いればよい。本発明で特に好適に使用可能なものとして、フィードブロックTダイやマルチマニホールドTダイを挙げることができる。   The extrusion means (extrusion member) is not particularly limited as long as it can extrude the polyimide-based varnish onto a support and apply it by casting. Specifically, various extrusion dies are preferably used. More preferably, for example, a coextrusion multilayer die such as a T die used for producing a known multilayer film can be suitably used. The coextrusion multilayer die can extrude a plurality of polyimide varnishes with a single extrusion die, so that it is easy to efficiently form a multilayer liquid film with high quality. The specific structure of the coextrusion multilayer die is not particularly limited, and any conventionally known structure can be suitably used. The multilayer structure of the polyimide-based multilayer film to be manufactured and the specific manufacture What is necessary is just to select and use an appropriate thing according to conditions etc. A feed block T die and a multi-manifold T die can be cited as particularly suitable for use in the present invention.

一般に、押出ダイは、供給された溶液を塗布対象物に塗布するため、先端にはリップ部と呼ばれる一対の平板状の部位が存在しており、このリップ部の間から溶液が押し出されることになる。本発明は、押出手段として押出ダイを用いる場合、このリップ部の先端から支持体表面までの距離を、少なくとも2mmを超え25mm以下に設定すればよく、より好ましくは、3〜20mmの範囲内に設定すればよい。   In general, an extrusion die applies a supplied solution to an object to be applied, so that a tip has a pair of flat plate portions called lip portions, and the solution is pushed out between the lip portions. Become. In the present invention, when an extrusion die is used as the extrusion means, the distance from the tip of the lip portion to the support surface may be set to be at least 2 mm and 25 mm or less, and more preferably within the range of 3 to 20 mm. You only have to set it.

上記押出手段の先端部分から支持体表面までの距離(便宜上、押出距離と称する)が上記範囲を超えると、ネックイン現象、すなわち、ポリイミド系ワニスを押し出した際に形成される多層液膜の幅方向の長さが小さくなるという現象が顕著になり、得られるポリイミド系多層フィルムにおいて、各層の幅方向における膜厚のバラツキが増大することがある。一方、上記押出距離が上記範囲を下回る場合、支持体からの熱の影響を受けて押出手段の先端近傍が加熱されるため、当該押出手段中を通過しているポリイミド系ワニスに含有されるポリアミド酸がイミド化反応を起こすことがある。このイミド化反応は、押出手段の先端近傍でのポリイミド系ワニスの流動性に悪影響を与え、結果として、膜厚のバラツキをより増大したり、多層ゲルフィルムの欠陥点を誘起したりするため好ましくない。   When the distance from the tip of the extrusion means to the support surface (referred to as the extrusion distance for convenience) exceeds the above range, the neck-in phenomenon, that is, the width of the multilayer liquid film formed when the polyimide varnish is extruded The phenomenon that the length in the direction becomes small becomes remarkable, and in the obtained polyimide-based multilayer film, the variation in film thickness in the width direction of each layer may increase. On the other hand, when the extrusion distance is less than the above range, the vicinity of the tip of the extrusion means is heated under the influence of heat from the support, so that the polyamide contained in the polyimide varnish passing through the extrusion means An acid may cause an imidization reaction. This imidization reaction is preferable because it adversely affects the fluidity of the polyimide varnish in the vicinity of the tip of the extrusion means, and as a result, the variation in the film thickness is further increased and the defect point of the multilayer gel film is induced. Absent.

上記支持体としては、押出手段から押し出されたポリイミド系ワニスを表面上で流延して多層液膜を形成できるように表面が平滑となっており、さらに、多層液膜を加熱して自己支持性を有する多層ゲルフィルムにできるものであれば特に限定されるものではない。具体的には、例えば、ドラム状またはベルト状の形状を有していることが好ましい。このような形状であれば、連続的に多層液膜(および多層ゲルフィルム)を形成することができる。   The support has a smooth surface so that a polyimide liquid varnish extruded from the extrusion means can be cast on the surface to form a multilayer liquid film, and the multilayer liquid film is heated to self-support. If it can be made into the multilayer gel film which has property, it will not specifically limit. Specifically, for example, it preferably has a drum shape or a belt shape. If it is such a shape, a multilayer liquid film (and multilayer gel film) can be formed continuously.

上記支持体の材質としては特に限定されるものではなく、金属、プラスチック、ガラス、磁器等を挙げることができるが、多層ゲルフィルムを引き剥がしやすいものであることが好ましい。具体的には、金属が好ましく、より具体的には耐腐食性に優れるステンレス材(SUS材)が好ましい。また、金属の表面にCr、Ni、Snなどの金属メッキをしたものであってもよい。   The material of the support is not particularly limited and may include metals, plastics, glass, porcelain, etc., but it is preferable that the multilayer gel film is easily peeled off. Specifically, a metal is preferable, and more specifically, a stainless material (SUS material) excellent in corrosion resistance is preferable. Further, the surface of the metal may be plated with a metal such as Cr, Ni, or Sn.

<ゲルフィルム形成工程>
ゲルフィルム形成工程は、支持体上に形成された多層液膜を乾燥して自己支持性を有する多層ゲルフィルムを形成する工程である。具体的には、形成された多層液膜の少なくとも一部の溶媒を揮散(蒸発)させればよい。
<Gel film formation process>
A gel film formation process is a process of drying the multilayer liquid film formed on the support body, and forming the multilayer gel film which has self-supporting property. Specifically, it is only necessary to volatilize (evaporate) at least a part of the solvent of the formed multilayer liquid film.

多層液膜中の溶媒の揮散方法、すなわち多層液膜の多層ゲルフィルムへの転化方法に関しては特に限定されるものではないが、加熱および/または送風による方法が最も簡易である。加熱方法を採用する場合は、加熱温度が高すぎると溶媒が急激に揮散するため、当該揮散の痕跡が最終的に得られるポリイミド系多層フィルム中に微笑欠陥を形成することになる。それゆえ、加熱温度は、用いる溶媒の沸点+50℃未満であることが好ましい。   The method for volatilizing the solvent in the multilayer liquid film, that is, the method for converting the multilayer liquid film into the multilayer gel film is not particularly limited, but the method by heating and / or blowing is the simplest. When the heating method is employed, since the solvent is rapidly volatilized when the heating temperature is too high, a smile defect is formed in the polyimide multilayer film from which the trace of the volatilization is finally obtained. Therefore, the heating temperature is preferably less than the boiling point of the solvent used + 50 ° C.

<イミド化工程>
イミド化工程は、上記多層ゲルフィルムをイミド化することでポリイミド系多層フィルムとする工程である。本工程では、上記多層ゲルフィルムは支持体から引き剥がし、高温で加熱することによりイミド化を行う。この加熱により溶媒が実質的に除去されるとともに、アミド基の脱水閉環が生じることによりイミド化が進行する。
<Imidization process>
An imidation process is a process made into a polyimide-type multilayer film by imidating the said multilayer gel film. In this step, the multilayer gel film is peeled off from the support and imidized by heating at a high temperature. By this heating, the solvent is substantially removed, and imidization proceeds by dehydration ring closure of the amide group.

本工程における加熱温度は特に限定されるものではなく、イミド化を十分に実現できる程度の温度であればよいが、具体的には、250〜600℃の範囲内が好ましく、300〜550℃の範囲内がより好ましい。この温度範囲内であれば、イミド化を効率的かつ確実に実現することができるとともに、溶媒も確実に除去することができる。なお、加熱温度は、後述する実施例に示すように、段階的に上昇することが好ましい。これによりイミド化および溶媒の除去をより効率的に行うことができる。   The heating temperature in this step is not particularly limited, and may be a temperature that can sufficiently realize imidization. Specifically, it is preferably in the range of 250 to 600 ° C, and preferably 300 to 550 ° C. Within the range is more preferable. Within this temperature range, imidization can be achieved efficiently and reliably, and the solvent can also be removed reliably. In addition, as shown in the Example mentioned later, it is preferable that heating temperature rises in steps. Thereby, imidation and removal of a solvent can be performed more efficiently.

本工程における加熱時間も特に限定されるものではなく、実質的にイミド化および乾燥が完結することが可能な時間であればよいが、一般的には1〜600秒程度の範囲内で適宜設定することができる。   The heating time in this step is not particularly limited as long as the imidization and drying can be substantially completed. Generally, the heating time is appropriately set within a range of about 1 to 600 seconds. can do.

ここで、イミド化時には、多層ゲルフィルムに張力をかけることが好ましい。これにより、得られるポリイミド系多層フィルムの品質の低下や製造効率の低下を抑制することができる。張力をかける方法は特に限定されるものではないが、例えば、後述する実施例に示すように、テンタークリップで端部を固定化する方法を挙げることができる。また、多層ゲルフィルムにかける張力は、9.8〜147N/m(1〜15kg/m)の範囲内とすることが好ましく、49〜98N/m(5〜10kg/m)の範囲内とすることが特に好ましい。張力が上記範囲を下回る場合、フィルム搬送時にたるみや蛇行が生じるため、巻取り時にシワが入ったり、均一に巻き取れなかったりする等の問題が生じる可能性がある。一方、上記範囲を超える場合、強い張力がかかった状態で高温加熱されるため、得られるポリイミド系多層フィルムの寸法特性が悪化することがある。   Here, it is preferable to apply tension to the multilayer gel film during imidization. Thereby, the fall of the quality of the polyimide-type multilayer film obtained and the fall of manufacturing efficiency can be suppressed. The method for applying the tension is not particularly limited, and examples thereof include a method of fixing the end portion with a tenter clip, as shown in Examples described later. The tension applied to the multilayer gel film is preferably in the range of 9.8 to 147 N / m (1 to 15 kg / m), and in the range of 49 to 98 N / m (5 to 10 kg / m). It is particularly preferred. When the tension is lower than the above range, sagging or meandering occurs during film conveyance, which may cause problems such as wrinkling during winding or even winding. On the other hand, when it exceeds the above range, the dimensional characteristics of the obtained polyimide-based multilayer film may be deteriorated because it is heated at a high temperature under a strong tension.

なお、本発明は、後述するように、接着層(表面層または外層)を熱可塑性ポリイミド層とし、基盤層(内層)を耐熱性ポリイミド層とした接着フィルムの製造に好適に用いることができるが、特に接着層である熱可塑性ポリイミド層の熔融流動性を改善する目的で、当該接着層において、意図的にイミド化率を低くする、および/または、溶媒を残留させることも可能である。   As will be described later, the present invention can be suitably used for the production of an adhesive film in which the adhesive layer (surface layer or outer layer) is a thermoplastic polyimide layer and the base layer (inner layer) is a heat-resistant polyimide layer. In particular, for the purpose of improving the melt fluidity of the thermoplastic polyimide layer as the adhesive layer, it is possible to intentionally lower the imidization rate and / or leave the solvent in the adhesive layer.

また、本発明にかかる製造方法は、上記ワニス調製工程、多層液膜形成工程、硬化剤添加工程、ゲルフィルム形成工程、イミド化工程の全てを含んでいる必要はなく、適宜、各工程を省略したり、他の工程を追加したりすることができる。   Further, the production method according to the present invention does not need to include all of the varnish preparation step, the multilayer liquid film formation step, the curing agent addition step, the gel film formation step, and the imidization step, and each step is appropriately omitted. And other steps can be added.

(II)ポリアミド酸の合成
本発明にかかる製造方法は、あらゆるポリイミド系多層フィルムの製造に好適に用いることができる。ここで、ポリイミド系多層フィルムとは、ポリイミドを含有するポリイミド層を複数層有しており、少なくともポリイミド層として2種以上の異なる層を含んでいる多層フィルムを指す。
(II) Synthesis of Polyamic Acid The production method according to the present invention can be suitably used for production of any polyimide multilayer film. Here, the polyimide-based multilayer film has a plurality of polyimide layers containing polyimide, and refers to a multilayer film including at least two different layers as a polyimide layer.

本発明において、上記ポリイミド系多層フィルムとして特に具体的に用いることができるものとしては、ポリイミド系の接着フィルムを挙げることができる。この接着フィルムは、少なくとも、基盤層(内層)として、耐熱性ポリイミドを含有する層(耐熱性ポリイミド層)と、表面層(外層)として、熱可塑性ポリイミドを含有する層(熱可塑性ポリイミド層)を有している。より具体的な構成としては、例えば、耐熱性ポリイミド層の少なくとも一方の表面(好ましくは両方の表面)に熱可塑性ポリイミド層が積層された構成を挙げることができる。このような接着フィルムは、例えば、フレキシブル配線板の絶縁層等として好適に用いることができる。   In the present invention, examples of the polyimide-based multilayer film that can be specifically used include a polyimide-based adhesive film. This adhesive film has at least a layer containing a heat resistant polyimide (heat resistant polyimide layer) as a base layer (inner layer) and a layer containing a thermoplastic polyimide (thermoplastic polyimide layer) as a surface layer (outer layer). Have. As a more specific structure, the structure by which the thermoplastic polyimide layer was laminated | stacked on the at least one surface (preferably both surfaces) of a heat resistant polyimide layer can be mentioned, for example. Such an adhesive film can be suitably used as, for example, an insulating layer of a flexible wiring board.

以下の説明では、上記耐熱性ポリイミド層と熱可塑性ポリイミド層とを備える接着フィルムを例に挙げて、ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸の合成およびポリイミド系ワニスとしてのポリアミド酸溶液の調製について、詳細に説明する。   In the following description, the adhesive film comprising the heat-resistant polyimide layer and the thermoplastic polyimide layer is taken as an example, and the details of the synthesis of the polyamic acid that is the precursor of the polyimide and the preparation of the polyamic acid solution as the polyimide varnish are detailed. Explained.

<ポリアミド酸の合成方法>
ポリアミド酸の合成方法(重合方法)は、上記耐熱性ポリイミドまたは熱可塑性ポリイミド等、具体的なポリイミドの種類に限定されるものではなく、あらゆる公知の方法およびそれらを組み合わせた方法を用いることができる。ポリアミド酸の合成方法では、モノマー成分の添加順序に大きな特徴があり、このモノマー成分の添加順序を制御することにより、得られるポリイミドの諸物性を制御することが可能となる。したがって、本発明においても、得ようとするポリイミド層に求められる物性に応じて、公知のモノマー成分の添加方法を適宜採用することができる。
<Synthesis method of polyamic acid>
The synthesis method (polymerization method) of the polyamic acid is not limited to a specific kind of polyimide such as the above-mentioned heat-resistant polyimide or thermoplastic polyimide, and any known method and a combination thereof can be used. . The method of synthesizing the polyamic acid has a great feature in the order of addition of the monomer components. By controlling the order of addition of the monomer components, various physical properties of the resulting polyimide can be controlled. Therefore, also in the present invention, a known monomer component addition method can be appropriately employed depending on the physical properties required for the polyimide layer to be obtained.

上記ポリアミド酸の合成方法、すなわちモノマー成分の添加方法としては、具体的には、次の各方法を挙げることができる。なお、モノマー成分としては、少なくとも1種類のジアミン化合物からなるジアミン成分と、少なくとも1種類の酸二無水物からなる酸二無水物時成分とが挙げられ、特に、本発明では、ジアミン成分として芳香族ジアミンを、酸二無水物成分として芳香族テトラカルボン酸二無水物を好適に用いることができる。
1)ジアミン成分を有機溶媒中に溶解し、これと実質的に等モルの酸二無水物を添加して反応させて重合する。
2)酸二無水物成分と、これに対して過小モル量となるジアミン成分とを有機溶媒中で反応させ、両末端に酸無水物基を有するプレポリマーを得る。続いて、全工程において酸二無水物とジアミン成分とが実質的に等モルとなるようにジアミン成分を添加して重合させる。
3)酸二無水物成分と、これに対して過剰モル量となるジアミン成分とを有機溶媒中で反応させ、両末端にアミノ基を有するプレポリマーを得る。続いて、ジアミン成分を追加添加した後に、全工程において酸二無水物成分とジアミン成分とが実質的に等モルとなるように酸二無水物成分を添加して重合する。
4)酸二無水物成分を有機溶媒中に溶解させた後、実質的に等モルとなるようにジアミン成分を添加して重合する。
5)実質的に等モルの酸二無水物成分とジアミン成分との混合物を有機溶媒中で反応させて重合する。
Specific examples of the method for synthesizing the polyamic acid, that is, the method for adding the monomer component, include the following methods. Examples of the monomer component include a diamine component composed of at least one diamine compound and an acid dianhydride component composed of at least one acid dianhydride. An aromatic tetracarboxylic dianhydride can be suitably used as the group diamine as the acid dianhydride component.
1) A diamine component is dissolved in an organic solvent, and a substantially equimolar amount of acid dianhydride is added and reacted with this to polymerize.
2) The acid dianhydride component and a diamine component that is in a small molar amount relative to this are reacted in an organic solvent to obtain a prepolymer having acid anhydride groups at both ends. Subsequently, the diamine component is added and polymerized so that the acid dianhydride and the diamine component are substantially equimolar in all steps.
3) The acid dianhydride component and the diamine component in an excess molar amount with respect to this are reacted in an organic solvent to obtain a prepolymer having amino groups at both ends. Subsequently, after additionally adding the diamine component, the acid dianhydride component is added and polymerized so that the acid dianhydride component and the diamine component are substantially equimolar in all steps.
4) After the acid dianhydride component is dissolved in an organic solvent, the diamine component is added and polymerized so as to be substantially equimolar.
5) Polymerization is carried out by reacting a substantially equimolar mixture of an acid dianhydride component and a diamine component in an organic solvent.

上記各合成方法は単独で用いてもよいし、部分的に組み合わせて用いることもできる。本発明では、これらいかなる合成方法を用いて得られたポリアミド酸をもちいてもよく、具体的な重合方法は特に限定されるものではない。   Each of the above synthesis methods may be used alone or in combination. In the present invention, the polyamic acid obtained using any of these synthesis methods may be used, and the specific polymerization method is not particularly limited.

上記合成方法により得られるポリアミド酸溶液は、通常、5〜35重量%の範囲内、好ましくは10〜30重量%の範囲内の濃度となっている。濃度がこの範囲内であれば適当な分子量と溶液粘度を得ることができる。このようにして得られたポリアミド酸溶液は、本発明において、そのままポリイミド系ワニスとして用いることができる。   The polyamic acid solution obtained by the above synthesis method has a concentration usually in the range of 5 to 35% by weight, preferably in the range of 10 to 30% by weight. If the concentration is within this range, an appropriate molecular weight and solution viscosity can be obtained. The polyamic acid solution thus obtained can be used as it is as a polyimide varnish in the present invention.

上記ポリアミド酸の合成に用いる合成用溶媒としては、重合されるポリアミド酸を溶解する溶媒であればどのようなものを用いてもよいが、具体的には、有機極性溶媒を用いることが好ましく、より具体的には、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドンなどであり、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒を特に好ましく用いることができる。このような溶媒を用いることにより得られるポリアミド酸溶液をそのままポリイミド系ワニスに用いることができる。   As the solvent for synthesis used in the synthesis of the polyamic acid, any solvent may be used as long as it dissolves the polyamic acid to be polymerized, and specifically, an organic polar solvent is preferably used. More specifically, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone and the like, and amide solvents such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide are used. It can be particularly preferably used. The polyamic acid solution obtained by using such a solvent can be used as it is for the polyimide varnish.

<耐熱性ポリイミド>
本発明において製造されるポリイミド系多層フィルムが接着フィルムである場合、基盤層(内層)として好適に用いられる耐熱性ポリイミド層(あるいは高耐熱性ポリイミド層)は、樹脂成分として非熱可塑性ポリイミドを90重量%以上含有するものであれば、その分子構造や層の厚みは特に限定されるものではない。
<Heat resistant polyimide>
When the polyimide-based multilayer film produced in the present invention is an adhesive film, the heat-resistant polyimide layer (or high-heat-resistant polyimide layer) that is suitably used as the base layer (inner layer) is a non-thermoplastic polyimide as a resin component. The molecular structure and the layer thickness are not particularly limited as long as they are contained by weight% or more.

上記耐熱性ポリイミド層として好適に用いられる非熱可塑性ポリイミドは、ポリアミド酸を前駆体として製造されるが、その具体的な製造方法は特に限定されるものではなく、上記のように、通常、酸二無水物成分とジアミン成分とを、実質的に等モル量となるように有機溶媒中に溶解させて、制御された条件下で、これらモノマー成分の重合が完了するまで攪拌することにより製造される。なお、耐熱性ポリイミド層の形成に用いられるポリアミド酸溶液(ポリイミド系ワニス)を、便宜上、耐熱性ポリアミド酸溶液(耐熱性ポリイミド系ワニス)と称する。   The non-thermoplastic polyimide suitably used as the heat-resistant polyimide layer is produced by using polyamic acid as a precursor, but the specific production method is not particularly limited. It is produced by dissolving the dianhydride component and the diamine component in an organic solvent so as to be substantially equimolar amounts, and stirring under controlled conditions until the polymerization of these monomer components is completed. The In addition, the polyamic acid solution (polyimide varnish) used for formation of a heat resistant polyimide layer is called a heat resistant polyamic acid solution (heat resistant polyimide varnish) for convenience.

また、本発明では、後述する剛直構造を有するジアミン成分(便宜上、剛直ジアミン成分と称する)を用いる場合には、当該ジアミン成分によりプレポリマーを得る合成方法も好適に用いることができる。剛直ジアミン成分によりプレポリマーを得れば、弾性率が高く、吸湿膨張係数が小さいポリイミド層を得やすくなる傾向にある。プレポリマーを得る場合には、剛直ジアミン成分と酸二無水物成分とのモル比は、100:70〜100:99または70:100〜99:100の範囲内が好ましく、100:75〜100:90または75:100〜90:100の範囲内がより好ましい。   Moreover, in this invention, when using the diamine component which has the rigid structure mentioned later (it calls a rigid diamine component for convenience), the synthesis method which obtains a prepolymer with the said diamine component can also be used suitably. If a prepolymer is obtained from a rigid diamine component, a polyimide layer having a high elastic modulus and a small hygroscopic expansion coefficient tends to be easily obtained. When obtaining a prepolymer, the molar ratio of the rigid diamine component and the acid dianhydride component is preferably in the range of 100: 70 to 100: 99 or 70: 100 to 99: 100, and 100: 75 to 100: It is more preferably within the range of 90 or 75: 100 to 90: 100.

剛直ジアミン成分と酸二無水物成分とのモル比が上記の範囲を下回ると、得られるポリイミド層において弾性率および吸湿膨張係数の改善効果が得られにくくなることがある。また、上記モノマー成分のモル比が上記の範囲を超えると、得られるポリイミド層における線膨張係数が小さくなりすぎたり、引張伸びが小さくなりすぎたりするなどの弊害が生じることがある。   When the molar ratio of the rigid diamine component and the acid dianhydride component is below the above range, it may be difficult to obtain the effect of improving the elastic modulus and the hygroscopic expansion coefficient in the resulting polyimide layer. On the other hand, when the molar ratio of the monomer components exceeds the above range, adverse effects such as the linear expansion coefficient in the resulting polyimide layer becoming too small and the tensile elongation becoming too small may occur.

上記耐熱性ポリイミド層を合成するために用いられるモノマー成分としては特に限定されるものではないが、酸二無水物成分としては、具体的には、例えば、ピロメリット酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4’−オキシフタル酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、エチレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、ビスフェノールAビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)およびこれら化合物の類似物を挙げることができる。これら化合物は単独で用いてもよいし、複数種類を任意の割合で組み合わせた混合物として用いることができる。   Although it does not specifically limit as a monomer component used in order to synthesize | combine the said heat resistant polyimide layer, As an acid dianhydride component, specifically, for example, pyromellitic dianhydride, 2, 3 , 6,7-Naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 4,4'-oxyphthalic dianhydride, 2,2-bis ( 3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 1,1-bis ( 2,3- Carboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxy) Phenyl) ethane dianhydride, oxydiphthalic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, p-phenylene bis (trimellitic acid monoester acid anhydride), ethylene bis (trimellitic acid mono Ester acid anhydride), bisphenol A bis (trimellitic acid monoester acid anhydride) and analogs of these compounds. These compounds may be used singly or as a mixture in which a plurality of types are combined in an arbitrary ratio.

上記化合物の中でも、特に、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4’−オキシフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物から選択される少なくとも一種を用いることがより好ましい。   Among the above compounds, pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 4,4′-oxyphthalic dianhydride, 3,3 ′, 4, It is more preferable to use at least one selected from 4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride.

このうち、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4’−オキシフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物から選択される少なくとも1種を用いる場合、これら化合物は、全ての酸二無水物成分に対して、60モル%以下であればよく、55モル%以下であることが好ましく、50モル%以下であることがより好ましい。これら化合物の少なくとも1種を用いる場合、その使用量が上記の範囲を上回ると得られるポリイミド層のガラス転移温度(Tg)が低くなりすぎたり、熱時の貯蔵弾性率が低くなりすぎて製膜そのものが困難になったりすることがあるため好ましくない。   Among these, from 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 4,4′-oxyphthalic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride When at least one selected from the above is used, these compounds may be 60 mol% or less, preferably 55 mol% or less, and preferably 50 mol% or less with respect to all the acid dianhydride components. It is more preferable. When at least one of these compounds is used, if the amount used exceeds the above range, the glass transition temperature (Tg) of the polyimide layer obtained becomes too low, or the storage elastic modulus during heating becomes too low to form a film. This is not preferable because it may be difficult.

また、ピロメリット酸二無水物を用いる場合、好ましい使用量は、全ての酸二無水物成分に対して、40〜100モル%の範囲内であればよく、45〜100モル%の範囲内であることが好ましく、50〜100モル%の範囲内であることがより好ましい。ピロメリット酸二無水物をこの範囲で用いれば、得られるポリイミド層においてTgおよび熱時の貯蔵弾性率を、使用または製膜に好適な範囲に保ちやすくなる。   Moreover, when using a pyromellitic dianhydride, the preferable usage-amount should just exist in the range of 40-100 mol% with respect to all the acid dianhydride components, In the range of 45-100 mol%. It is preferable that it is within a range of 50 to 100 mol%. If pyromellitic dianhydride is used in this range, it becomes easy to keep the Tg and the storage modulus at the time of heat in a range suitable for use or film formation in the obtained polyimide layer.

上記耐熱性ポリイミドを合成するために用いられるジアミン成分としては、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、ベンジジン、3,3’−ジクロロベンジジン、3,3‘−ジメチルベンジジン、2,2’−ジメチルベンジジン、3,3’−ジメトキシベンジジン、2,2’−ジメトキシベンジジン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−オキシジアニリン、3,3’−オキシジアニリン、3,4’−オキシジアニリン、1,5−ジアミノナフタレン、4,4’−ジアミノジフェニルジエチルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルエチルホスフィンオキシド、4,4’−ジアミノジフェニルN−メチルアミン、4,4’−ジアミノジフェニル N−フェニルアミン、1,4−ジアミノベンゼン(p−フェニレンジアミン)、1,3−ジアミノベンゼン、1,2−ジアミノベンゼン、ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニル}プロパン、ビス{4−(3−アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノンおよびこれら化合物の類似物を挙げることができる。これら化合物は単独で用いてもよいし、複数種類を任意の割合で組み合わせた混合物として用いることができる。   Examples of the diamine component used to synthesize the heat-resistant polyimide include 4,4′-diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenylmethane, benzidine, 3,3′-dichlorobenzidine, and 3,3′-dimethylbenzidine. 2,2'-dimethylbenzidine, 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,2'-dimethoxybenzidine, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenyl Sulfone, 4,4′-oxydianiline, 3,3′-oxydianiline, 3,4′-oxydianiline, 1,5-diaminonaphthalene, 4,4′-diaminodiphenyldiethylsilane, 4,4 ′ -Diaminodiphenylsilane, 4,4'-diaminodiphenylethylphosphineoxy 4,4′-diaminodiphenyl N-methylamine, 4,4′-diaminodiphenyl N-phenylamine, 1,4-diaminobenzene (p-phenylenediamine), 1,3-diaminobenzene, 1,2-diamino Benzene, bis {4- (4-aminophenoxy) phenyl} sulfone, bis {4- (4-aminophenoxy) phenyl} propane, bis {4- (3-aminophenoxy) phenyl} sulfone, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4′-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1, 3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 3,3′-diamino Mention may be made of benzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone and analogs of these compounds. These compounds may be used singly or as a mixture in which a plurality of types are combined in an arbitrary ratio.

また、上記のように、ジアミン成分としては、剛直ジアミン成分と柔構造を有するジアミン(便宜上、柔ジアミン成分と称する)とを併用することができる。この場合、剛直ジアミン成分と柔ジアミン成分との使用比率は、モル比で、80:20〜20:80の範囲内であればよく、70:30〜30:70の範囲内であることが好ましく、60:40〜30:70の範囲内であることがより好ましい。剛直ジアミン成分の使用比率が上記範囲を上回ると得られるポリイミド層の引張伸びが小さくなる傾向にあり、またこの範囲を下回るとTgが低くなりすぎたり、熱時の貯蔵弾性率が低くなりすぎたりして製膜が困難になるなどの弊害を伴う場合がある。   As described above, a rigid diamine component and a diamine having a flexible structure (referred to as a flexible diamine component for convenience) can be used in combination as the diamine component. In this case, the use ratio of the rigid diamine component and the flexible diamine component may be a molar ratio in the range of 80:20 to 20:80, and preferably in the range of 70:30 to 30:70. , 60:40 to 30:70 is more preferable. If the use ratio of the rigid diamine component exceeds the above range, the tensile elongation of the resulting polyimide layer tends to be small, and if it falls below this range, the Tg becomes too low or the storage modulus during heat becomes too low. As a result, there are cases in which the film formation is difficult.

本発明における剛直ジアミン成分として用いることのできる化合物とは、次に示す一般式(1)   The compound that can be used as the rigid diamine component in the present invention is the following general formula (1)

Figure 2006218767
Figure 2006218767

(ただし、式中のR2 は、次に示す群(2) (In the formula, R 2 represents the following group (2)

Figure 2006218767
Figure 2006218767

で表される2価の芳香族基から選択される基であり、群(2)中のR3 は同一であっても異なっていてもよく、−H、−CH3、−OH、−CF3、−SO4、−COOH、−CO-NH2、−Cl、−Br、−F、および−CH3Oからなる群より選択される何れかの1種の基である。)
で表される化合物を指す。
R 3 in the group (2) may be the same or different, and may be the same or different, —H, —CH 3 , —OH, —CF. 3 , —SO 4 , —COOH, —CO—NH 2 , —Cl, —Br, —F, and any one group selected from the group consisting of —CH 3 O. )
The compound represented by these is pointed out.

また、柔ジアミン成分として用いることのできる化合物とは、エーテル基、スルホン基、ケトン基、スルフィド基等の柔構造を有するジアミン化合物であり、好ましくは、下記一般式(3)で表されるものである。   The compound that can be used as the flexible diamine component is a diamine compound having a flexible structure such as an ether group, a sulfone group, a ketone group, and a sulfide group, and preferably represented by the following general formula (3) It is.

Figure 2006218767
Figure 2006218767

(ただし、式中のR4 は、次に示す群(4) (In the formula, R 4 represents the following group (4)

Figure 2006218767
Figure 2006218767

で表される2価の有機基から選択される基であり、群(4)中のR5 は同一であっても異なっていてもよく、−H、−CH3、−OH、−CF3、−SO4、−COOH、−CO-NH2、−Cl、−Br、−F、および−CH3Oからなる群より選択される1種の基である。)
<熱可塑性ポリイミド>
本発明において製造されるポリイミド系多層フィルムが接着フィルムである場合、表面層(外層)として好適に用いられる熱可塑性ポリイミド層は、ラミネート法により有為な接着力が発現される層であれば、当該層に含まれる熱可塑性ポリイミドの含有量、分子構造、厚み等の諸条件は特に限定されるものではない。しかしながら、有為な接着力を発現させるためには、実質的には熱可塑性ポリイミドを50重量%以上含有することが好ましい。なお、上記耐熱性ポリイミド層と同様、熱可塑性ポリイミド層の形成に用いられるポリアミド酸溶液(ポリイミド系ワニス)を、便宜上、熱可塑性ポリアミド酸溶液(熱可塑性ポリイミド系ワニス)と称する。
And R 5 in the group (4) may be the same or different, and —H, —CH 3 , —OH, —CF 3. , —SO 4 , —COOH, —CO—NH 2 , —Cl, —Br, —F, and —CH 3 O. )
<Thermoplastic polyimide>
When the polyimide-based multilayer film produced in the present invention is an adhesive film, the thermoplastic polyimide layer suitably used as the surface layer (outer layer) is a layer that exhibits a significant adhesive force by a laminating method. Various conditions such as the content of thermoplastic polyimide contained in the layer, the molecular structure, and the thickness are not particularly limited. However, in order to develop a significant adhesive force, it is preferable that substantially 50% by weight or more of thermoplastic polyimide is contained. As with the heat-resistant polyimide layer, the polyamic acid solution (polyimide varnish) used for forming the thermoplastic polyimide layer is referred to as a thermoplastic polyamic acid solution (thermoplastic polyimide varnish) for convenience.

上記熱可塑性ポリイミド層に含有される熱可塑性ポリイミド(広義)としては、熱可塑性ポリイミド(狭義)、熱可塑性ポリアミドイミド、熱可塑性ポリエーテルイミド、熱可塑性ポリエステルイミド等を好適に用いることができる。中でも、低吸湿特性の点から、熱可塑性ポリエステルイミドが特に好適に用いられる。なお、上記熱可塑性ポリイミド(広義)は、上記耐熱性ポリイミド層と同様に、前駆体のポリアミド酸からの転化反応により得ることができ、当該ポリアミド酸の合成方法や用いるモノマー成分としても、前記と同様に公知のあらゆる方法を用いることができる。   As the thermoplastic polyimide (in a broad sense) contained in the thermoplastic polyimide layer, thermoplastic polyimide (in a narrow sense), thermoplastic polyamideimide, thermoplastic polyetherimide, thermoplastic polyesterimide, and the like can be suitably used. Among these, thermoplastic polyesterimide is particularly preferably used from the viewpoint of low moisture absorption characteristics. In addition, the said thermoplastic polyimide (broad sense) can be obtained by the conversion reaction from the precursor polyamic acid similarly to the said heat-resistant polyimide layer. Similarly, any known method can be used.

なお、上記熱可塑性ポリイミド(広義)は、使用するモノマー成分を種々組み合わせることにより、諸特性を調節することができるが、一般に剛直ジアミン成分の使用比率が大きくなるとTgが高くなったり熱時の貯蔵弾性率が大きくなったりして、接着性・加工性が低減するため好ましくない。全ジアミン成分中の剛直ジアミン成分の比率は、40モル%以下であることが好ましく、30モル%以下であることがより好ましく、20モル%以下であることがさらに好ましい。上記熱可塑性ポリイミドの好ましい具体例としては、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物類を含む酸二無水物成分とアミノフェノキシ基を有するジアミン成分とを重合させたものを挙げることができる。   The above-mentioned thermoplastic polyimide (in a broad sense) can be adjusted in various properties by combining various monomer components to be used. Generally, when the use ratio of the rigid diamine component is increased, the Tg is increased or the product is stored during heating. It is not preferable because the elastic modulus is increased and the adhesiveness and workability are reduced. The ratio of the rigid diamine component in the total diamine component is preferably 40 mol% or less, more preferably 30 mol% or less, and further preferably 20 mol% or less. Preferable specific examples of the thermoplastic polyimide include those obtained by polymerizing an acid dianhydride component containing biphenyltetracarboxylic dianhydrides and a diamine component having an aminophenoxy group.

また、既存の装置でラミネートが可能であり、かつ得られるポリイミド系多層フィルムの耐熱性を損なわない点から考えると、上記熱可塑性ポリイミド(広義)は、ガラス転移温度(Tg)を150〜300℃の範囲内に有していることが好ましい。なお、Tgは動的粘弾性測定装置(DMA)により測定した貯蔵弾性率の変曲点の値により求めることができる。   In addition, considering that it can be laminated with existing equipment and does not impair the heat resistance of the obtained polyimide-based multilayer film, the thermoplastic polyimide (in a broad sense) has a glass transition temperature (Tg) of 150 to 300 ° C. It is preferable to have within the range. In addition, Tg can be calculated | required from the value of the inflexion point of the storage elastic modulus measured with the dynamic viscoelasticity measuring apparatus (DMA).

このように、本発明では、製造しようとするポリイミド系多層フィルム(例えば、接着フィルム等)に要求される物性を実現できるように、上記の範囲内で、適宜、酸二無水物成分およびジアミン成分の種類や配合比等を決定して用いればよい。   Thus, in the present invention, an acid dianhydride component and a diamine component are appropriately selected within the above range so that the physical properties required for a polyimide-based multilayer film (for example, an adhesive film) to be produced can be realized. What is necessary is just to determine and use the kind and compounding ratio.

<フィラー>
本発明にかかる製造方法では、上記のようにして得られるポリイミド系ワニスに対して、ポリイミドおよび溶媒以外の成分を適宜添加してもよい。添加される他の成分としては、特に限定されるものではなく、得られるポリイミド層やポリイミド系多層フィルムに要求される物性等に応じて適宜好ましい成分を好ましい範囲内で選択して用いればよい。
<Filler>
In the manufacturing method concerning this invention, you may add suitably components other than a polyimide and a solvent with respect to the polyimide-type varnish obtained as mentioned above. Other components to be added are not particularly limited, and may be appropriately selected and used within a preferable range according to physical properties required for the obtained polyimide layer or polyimide multilayer film.

具体的な成分としては、例えば、フィラーを挙げることができる。フィラーは、摺動性、熱伝導性、導電性、耐コロナ性、ループスティフネス等の諸特性を改善する目的で添加することができる。フィラーとしては具体的には特に限定されるものではないが、例えば、シリカ、酸化チタン、アルミナ、窒化珪素、窒化ホウ素、リン酸水素カルシウム、リン酸カルシウム、雲母等の無機化合物を挙げることができる。また、必要に応じて有機化合物のフィラーを添加してもよい。   Specific examples of the component include a filler. The filler can be added for the purpose of improving various properties such as slidability, thermal conductivity, conductivity, corona resistance, and loop stiffness. Specific examples of the filler include, but are not limited to, inorganic compounds such as silica, titanium oxide, alumina, silicon nitride, boron nitride, calcium hydrogen phosphate, calcium phosphate, and mica. Moreover, you may add the filler of an organic compound as needed.

上記フィラーの粒子径は、改質すべきフィルム特性と添加するフィラーの種類とによって決定されるため特に限定されるものではないが、一般的には、平均粒径が0.05〜100μmの範囲内であればよく、0.1〜75μmの範囲内であることが好ましく、0.1〜50μmの範囲内であることがより好ましく、0.1〜25μmの範囲内であることがさらに好ましい。粒子径が上記範囲を下回ると改質効果が現れにくくなり、この範囲を上回ると表面性を大きく損なったり、機械的特性が大きく低下したりする可能性がある。   The particle size of the filler is not particularly limited because it is determined by the film characteristics to be modified and the type of filler to be added, but generally the average particle size is in the range of 0.05 to 100 μm. It is sufficient that it is within a range of 0.1 to 75 μm, more preferably within a range of 0.1 to 50 μm, and further preferably within a range of 0.1 to 25 μm. If the particle diameter is below the above range, the modification effect is difficult to appear, and if it exceeds this range, the surface properties may be greatly impaired, or the mechanical properties may be greatly deteriorated.

また、フィラーの添加量についても特に限定されるものではなく、改質すべきフィルム特性やフィラー粒子径などにより決定される。一般的には、フィラーの添加量は、ポリイミド100重量部に対して0.01〜100重量部の範囲内であることが好ましく、0.01〜90重量部の範囲内であることがより好ましく、0.02〜80重量部の範囲内であることがさらに好ましい。フィラー添加量が上記の範囲を下回るとフィラーによる改質効果が現れにくく、上記の範囲を上回るとフィルムの機械的特性が大きく損なわれる可能性がある。   Also, the amount of filler added is not particularly limited, and is determined by the film characteristics to be modified, the filler particle diameter, and the like. Generally, the amount of filler added is preferably in the range of 0.01 to 100 parts by weight, more preferably in the range of 0.01 to 90 parts by weight with respect to 100 parts by weight of polyimide. More preferably, it is in the range of 0.02 to 80 parts by weight. If the amount of filler added is less than the above range, the effect of modification by the filler hardly appears, and if it exceeds the above range, the mechanical properties of the film may be greatly impaired.

さらに、フィラーの添加方法も特に限定されるものではなく、例えば、(1)重合前または途中に重合反応液に添加する方法、(2)重合完了後、3本ロールなどを用いてフィラーを混錬する方法、(3)フィラーを含む分散液を用意し、これをポリアミド酸溶液(ポリイミド系ワニス)に混合する方法等のいかなる方法を用いてもよいが、中でも(3)の方法を好ましく用いることができる。上記(3)の方法を選択する場合、特に、支持体上に製膜する直前に混合することが好ましい。これにより、製造ラインがフィラーによる製造ラインの汚染が最も少なくすむ。   Furthermore, the method for adding the filler is not particularly limited. For example, (1) a method of adding to the polymerization reaction solution before or during the polymerization, (2) after the polymerization is completed, the filler is mixed using a three roll or the like. Any method may be used such as a method of tempering, (3) a dispersion containing a filler, and a method of mixing this with a polyamic acid solution (polyimide varnish). Among them, the method (3) is preferably used. be able to. When the method (3) is selected, it is particularly preferable to mix immediately before film formation on a support. This minimizes contamination of the production line by the filler.

上記フィラーを含む分散液を用意する場合、ポリイミド系ワニスの溶媒、またはポリアミド酸の合成用溶媒と同じ溶媒を用いることが好ましい。また、フィラーを良好に分散させ、また分散状態を安定化させるために、必要に応じて分散剤や増粘剤等を、フィルム物性に影響を及ぼさない範囲内で用いることもできる。   When preparing a dispersion containing the filler, it is preferable to use the same solvent as the solvent for the polyimide varnish or the polyamic acid. Moreover, in order to disperse | distribute a filler favorably and stabilize a dispersion state, a dispersing agent, a thickener, etc. can also be used in the range which does not affect a film physical property as needed.

さらに、上記フィラー以外にも、ポリイミド層に要求される諸特性を向上させる等の目的で、ポリイミド以外の他の樹脂成分を添加してもよい。
(III)本発明の利用
本発明の利用(用途)は特に限定されるものではないが、フレキシブルプリント配線板(FPC)等のエレクトロニクス分野に好適に用いることができる。さらに、表面に接着剤を塗布した耐熱性の接着テープ、電線被覆用の絶縁テープ等にも用いることができる。すなわち、本発明には、上記ポリイミド系多層フィルムを用いたFPCの絶縁基板や耐熱性接着テープ、絶縁テープやその製造に用いられ、上記ポリイミドフィルムからなる層を含む積層体等を挙げることができる。
In addition to the filler, other resin components other than polyimide may be added for the purpose of improving various properties required for the polyimide layer.
(III) Use of the Present Invention The use (use) of the present invention is not particularly limited, but can be suitably used in the electronics field such as a flexible printed wiring board (FPC). Furthermore, it can be used for a heat-resistant adhesive tape whose surface is coated with an adhesive, an insulating tape for covering electric wires, and the like. That is, the present invention can include an FPC insulating substrate, a heat-resistant adhesive tape, an insulating tape, and a laminate including the layer made of the polyimide film, which are used in the production thereof. .

本発明にかかる積層体は、上記ポリイミド系多層フィルムを含む多層構造を有しているものであれば特に限定されるものではない。例えば、ラミネート法により金属層を積層したフレキシブル金属張積層板を挙げることができる。積層される金属層の材質は特に限定されるものではないが、例えば、FPCに用いる場合には、パターン配線となる銅層を挙げることができる。もちろん、本発明にかかる積層体には、上記以外の他の層が含まれていてもよいことは言うまでもない。   The laminate according to the present invention is not particularly limited as long as it has a multilayer structure including the polyimide multilayer film. For example, a flexible metal-clad laminate in which metal layers are laminated by a laminating method can be given. Although the material of the metal layer to be laminated is not particularly limited, for example, when used for FPC, a copper layer to be a pattern wiring can be exemplified. Of course, it is needless to say that the layered product according to the present invention may include layers other than those described above.

また、本発明には、上記ポリイミド系多層フィルムをベースフィルムとして製造されるか、上記フレキシブル金属張積層板を用いて製造される上記フレキシブル配線板も含まれる。当該フレキシブル配線板は、金属層すなわちパターン配線と絶縁層との密着性に優れているため、優れた品質を有している。なお、当該フレキシブル配線板の製造方法は特に限定されるものではなく、公知公用で当業者であれば採用し得る種々の方法を用いることができる。   Moreover, the said flexible wiring board manufactured using the said polyimide-type multilayer film as a base film or using the said flexible metal-clad laminated board is also contained in this invention. Since the flexible wiring board has excellent adhesion between the metal layer, that is, the pattern wiring and the insulating layer, it has excellent quality. In addition, the manufacturing method of the said flexible wiring board is not specifically limited, The various methods which can be employ | adopted if it is a publicly known thing and those skilled in the art can be used.

本発明について、実施例および比較例に基づいてより具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。当業者は本発明の範囲を逸脱することなく、種々の変更、修正、および改変を行うことができる。なお、以下の実施例および比較例における多層フィルムにおける各層の厚み測定は次のようにして評価した。   The present invention will be described more specifically based on examples and comparative examples, but the present invention is not limited to this. Those skilled in the art can make various changes, modifications, and alterations without departing from the scope of the present invention. In addition, the thickness measurement of each layer in the multilayer film in the following examples and comparative examples was evaluated as follows.

〔多層フィルムの各層の厚み測定〕
赤外線分光法により、各層の膜厚を幅方向2.5cm間隔で測定した。測定装置として、日本分光社製、商品名:FT/IR−4000を用い、積算回数32回、反射および入射角13°の条件で測定を行った。各層の平均厚みに対して、バラツキが±15%以内の場合○、それを超える場合を×として評価した。
[Measurement of thickness of each layer of multilayer film]
The film thickness of each layer was measured at intervals of 2.5 cm in the width direction by infrared spectroscopy. As a measuring device, a product name: FT / IR-4000 manufactured by JASCO Corporation was used, and measurement was performed under the conditions of 32 times of integration, reflection and an incident angle of 13 °. The case where the variation was within ± 15% with respect to the average thickness of each layer was evaluated as ◯, and the case where the variation was exceeded was evaluated as x.

〔合成例1;耐熱性ポリアミド酸溶液の合成〕
10℃に冷却したN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)239kgに、4,4’−オキシジアニリン(ODA)6.9kg、p−フェニレンジアミン(p−PDA)6.2kg、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン(BAPP)9.4kgを溶解した後、ピロメリット酸二無水物(PMDA)10.4kgを添加し1時間撹拌して溶解させた。ここに、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)20.3kgを添加し1時間撹拌して溶解させ、反応液とした。
[Synthesis Example 1; Synthesis of heat-resistant polyamic acid solution]
239 kg of N, N-dimethylformamide (DMF) cooled to 10 ° C., 6.9 kg of 4,4′-oxydianiline (ODA), 6.2 kg of p-phenylenediamine (p-PDA), 2,2-bis After 9.4 kg of [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP) was dissolved, 10.4 kg of pyromellitic dianhydride (PMDA) was added and dissolved by stirring for 1 hour. To this, 20.3 kg of benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) was added and dissolved by stirring for 1 hour to obtain a reaction solution.

別途調製しておいたPMDAのDMF溶液(PMDA:DMF=0.9kg:7.0kg)を上記反応液に徐々に添加しながら攪拌し、粘度が3500ポイズ程度に達したところで添加および攪拌を止めた。その後1時間攪拌を行うことにより耐熱性ポリアミド酸溶液(耐熱性ポリイミド系ワニス)を得た。得られた耐熱性ポリアミド酸溶液の固形分濃度は18重量%であり、23℃での回転粘度が3500ポイズであった。   Stirring while adding the DMF solution of PMDA (PMDA: DMF = 0.9kg: 7.0kg), prepared separately, to the above reaction solution slowly, stop adding and stirring when the viscosity reaches about 3500 poise. It was. Then, a heat resistant polyamic acid solution (heat resistant polyimide varnish) was obtained by stirring for 1 hour. The resulting heat-resistant polyamic acid solution had a solid content concentration of 18% by weight and a rotational viscosity at 23 ° C. of 3500 poise.

〔合成例2;熱可塑性ポリアミド酸溶液の合成〕
300Lの反応槽にDMFを78kg、BAPPを11.56kg仕込み、窒素雰囲気下で攪拌しながら、3,3’4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)7.87kgを徐々に添加した。続いて、エチレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)(TMEG)を0.38kg添加し、氷浴下で30分間攪拌し、反応液とした。
[Synthesis Example 2: Synthesis of thermoplastic polyamic acid solution]
A 300 L reactor was charged with 78 kg of DMF and 11.56 kg of BAPP, and gradually added 7.87 kg of 3,3′4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) while stirring under a nitrogen atmosphere. did. Subsequently, 0.38 kg of ethylenebis (trimellitic acid monoester acid anhydride) (TMEG) was added and stirred for 30 minutes in an ice bath to obtain a reaction solution.

別途調製しておいたTMEGのDMF溶液(TMEG:DMF=0.2kg:4kg)を上記反応液に徐々に添加しながら攪拌し、粘度が3300ポイズに達したところで添加および攪拌を止めた。これにより、熱可塑性ポリアミド酸溶液(熱可塑性ポリイミド系ワニス)を得た。   A separately prepared TMEG DMF solution (TMEG: DMF = 0.2 kg: 4 kg) was stirred while gradually added to the reaction solution, and the addition and stirring were stopped when the viscosity reached 3300 poise. Thereby, a thermoplastic polyamic acid solution (thermoplastic polyimide varnish) was obtained.

〔実施例1〕
合成例1で得られた耐熱性ポリアミド酸溶液に対して、化学脱水剤として無水酢酸を、触媒としてイソキノリンを添加した。無水酢酸は、当該耐熱性ポリアミド酸溶液に含有されるポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して2.0モルとなるような添加量とし、イソキノリンは、当該耐熱性ポリアミド酸溶液に含有されるポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して0.5モルとなるような添加量とした。
[Example 1]
To the heat-resistant polyamic acid solution obtained in Synthesis Example 1, acetic anhydride was added as a chemical dehydrating agent and isoquinoline was added as a catalyst. Acetic anhydride is added in an amount of 2.0 mol per 1 mol of the amic acid unit in the polyamic acid contained in the heat-resistant polyamic acid solution, and isoquinoline is contained in the heat-resistant polyamic acid solution. The addition amount was 0.5 mol with respect to 1 mol of the amic acid unit in the polyamic acid.

押出手段として、リップ幅650mmのマルチマニホールド式の3層共押出多層ダイを用いるとともに、支持体として、SUS製のエンドレスベルトを用いた。上記3層共押出多層ダイとエンドレスベルト表面との間隔は15mmに設定した。   A multi-manifold type three-layer coextrusion multilayer die having a lip width of 650 mm was used as the extrusion means, and an endless belt made of SUS was used as the support. The distance between the three-layer coextrusion multilayer die and the endless belt surface was set to 15 mm.

上記3層共押出多層ダイに対して、合成例2で得られた熱可塑性ポリアミド酸溶液を外層となるように、上記耐熱性ポリアミド酸溶液を内層となるように供給し、これらポリアミド酸溶液(ポリイミド系ワニス)をエンドレスベルト上に連続的に押し出し、流延することにより、表面から熱可塑性ポリアミド酸溶液の液膜/耐熱性ポリアミド酸溶液の液膜/熱可塑性ポリアミド酸溶液の液膜からなる3層構造の多層液膜を形成した。この多層液膜を130℃、100秒の条件で加熱することにより自己支持性を有する多層ゲルフィルムへ転化させた。   With respect to the three-layer coextrusion multilayer die, the thermoplastic polyamic acid solution obtained in Synthesis Example 2 is supplied so as to be an outer layer, and the heat-resistant polyamic acid solution is supplied as an inner layer. Polyimide varnish) is continuously extruded onto an endless belt and cast to form a liquid film of a thermoplastic polyamic acid solution / a liquid film of a heat-resistant polyamic acid solution / a liquid film of a thermoplastic polyamic acid solution. A multilayer liquid film having a three-layer structure was formed. This multilayer liquid film was converted into a self-supporting multilayer gel film by heating at 130 ° C. for 100 seconds.

得られた多層ゲルフィルムをエンドレスベルトから引き剥がして両端部をテンタークリップに固定し、300℃×16秒、400℃×29秒、450℃×17秒の条件で乾燥およびイミド化させた。これにより、熱可塑性ポリイミド層/耐熱性ポリイミド層/熱可塑性ポリイミド層からなる3層構造の多層フィルムを得た。   The obtained multilayer gel film was peeled off from the endless belt, both ends were fixed to a tenter clip, and dried and imidized under the conditions of 300 ° C. × 16 seconds, 400 ° C. × 29 seconds, 450 ° C. × 17 seconds. Thereby, the multilayer film of the 3 layer structure which consists of a thermoplastic polyimide layer / heat-resistant polyimide layer / thermoplastic polyimide layer was obtained.

得られた多層フィルムから、テンタークリップで固定した両端部をトリミング除去して中央500mm幅のサンプルを切り出し、当該サンプルにおいて各層の厚みを測定し、膜厚のバラツキを評価した。その結果を表1に示す。なお、多層フィルムの一方の外層(ステンレスベルトに接していない側の外層)である熱可塑性ポリイミド層を第1層とし、内層の耐熱性ポリイミド層を第2層とし、他方の外層である熱可塑性ポリイミド層を第3層とした。また、膜厚のバラツキは平均膜厚に対するパーセンテージで示した。   From the obtained multilayer film, both ends fixed with a tenter clip were trimmed and removed, a sample having a center of 500 mm width was cut out, the thickness of each layer was measured in the sample, and the variation in film thickness was evaluated. The results are shown in Table 1. The thermoplastic polyimide layer that is one outer layer (the outer layer that is not in contact with the stainless steel belt) of the multilayer film is the first layer, the heat-resistant polyimide layer that is the inner layer is the second layer, and the thermoplastic that is the other outer layer. The polyimide layer was the third layer. Moreover, the variation in film thickness is shown as a percentage of the average film thickness.

〔実施例2〕
上記3層共押出多層ダイとエンドレスベルト表面との間隔を23mmに設定した以外は、実施例1と同様にして多層フィルムを製造し、サンプルを切り出して各層の厚みを測定するとともに膜厚のバラツキを評価した。その結果を表1に示す。
[Example 2]
Except that the distance between the three-layer coextrusion multilayer die and the endless belt surface was set to 23 mm, a multilayer film was produced in the same manner as in Example 1, the sample was cut out, the thickness of each layer was measured, and the film thickness variation Evaluated. The results are shown in Table 1.

〔実施例3〕
上記3層共押出多層ダイとエンドレスベルト表面との間隔を5mmに設定した以外は、実施例1と同様にして多層フィルムを製造し、サンプルを切り出して各層の厚みを測定するとともに膜厚のバラツキを評価した。その結果を表1に示す。
Example 3
A multilayer film was produced in the same manner as in Example 1 except that the distance between the three-layer coextrusion multilayer die and the endless belt surface was set to 5 mm, the sample was cut out, the thickness of each layer was measured, and the film thickness variation Evaluated. The results are shown in Table 1.

〔比較例1〕
上記3層共押出多層ダイとエンドレスベルト表面との間隔を30mmに設定した以外は、実施例1と同様にして多層フィルムを製造し、サンプルを切り出して各層の厚みを測定するとともに膜厚のバラツキを評価した。その結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
A multilayer film was produced in the same manner as in Example 1 except that the distance between the three-layer coextrusion multilayer die and the endless belt surface was set to 30 mm, the sample was cut out, the thickness of each layer was measured, and the film thickness variation Evaluated. The results are shown in Table 1.

〔比較例2〕
上記3層共押出多層ダイとエンドレスベルト表面との間隔を2mmに設定した以外は、実施例1と同様にして多層フィルムを製造しようと試みた。しかしながら、多層ゲルフィルムにおいて欠陥点が多く生じており、結果として良好な外観の多層フィルムを得ることができなかった。
[Comparative Example 2]
An attempt was made to produce a multilayer film in the same manner as in Example 1 except that the distance between the three-layer coextrusion multilayer die and the endless belt surface was set to 2 mm. However, many defect points have occurred in the multilayer gel film, and as a result, a multilayer film having a good appearance could not be obtained.

Figure 2006218767
Figure 2006218767

表1の結果から明らかなように、本発明にかかる製造方法であれば、ネックイン現象の発生を事実上防止できるため、各層の膜厚のバラツキが小さい多層フィルムを製造することができるのに対して、押出手段と支持体との距離が本発明において規定されている間隔から外れると、単に、各層の膜厚のバラツキが大きくなりやすいだけでなく、外観の良好なフィルムを得ることも困難となる場合があることが分かった。   As is apparent from the results in Table 1, the production method according to the present invention can substantially prevent the occurrence of the neck-in phenomenon, so that it is possible to produce a multilayer film with small variations in the film thickness of each layer. On the other hand, if the distance between the extrusion means and the support deviates from the interval defined in the present invention, not only the variation in the film thickness of each layer is likely to increase, but it is also difficult to obtain a film having a good appearance. It turned out that it may become.

なお本発明は、以上説示した各構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態や実施例にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態や実施例についても本発明の技術的範囲に含まれる。   Note that the present invention is not limited to the configurations described above, and various modifications are possible within the scope of the claims, and technical means disclosed in different embodiments and examples respectively. Embodiments and examples obtained by appropriately combining them are also included in the technical scope of the present invention.

以上のように、本発明では、共押出−流延塗布法において化学キュア法を採用する場合に、押出手段と支持体との間隔を特定の範囲内に規定する。これにより、化学キュア法の採用により生じやすくなるネックイン現象を有効に抑制することができるため、低コストで、膜厚のバラツキが少ない高品質な多層フィルムを製造することが可能となる。そのため、本発明は、ポリイミド系の多層フィルムを製造する分野に利用することができるだけでなく、さらには、これを用いたFPC、TAB、あるいは高密度記録媒体やその利用分野等といった、各種電子部品の製造に関わる分野にも広く応用することが可能である。
As described above, in the present invention, when the chemical curing method is employed in the coextrusion-casting coating method, the distance between the extrusion means and the support is defined within a specific range. As a result, the neck-in phenomenon that is likely to occur due to the adoption of the chemical curing method can be effectively suppressed, so that it is possible to manufacture a high-quality multilayer film at low cost and with little variation in film thickness. Therefore, the present invention can be used not only in the field of manufacturing a polyimide-based multilayer film, but also in various electronic components such as FPC, TAB, high-density recording medium using the same, and its field of use. It can be widely applied to fields related to the manufacture of

Claims (12)

少なくとも2種以上のポリイミド層を有する多層フィルムの製造方法であって、
ポリイミド樹脂の前駆体またはポリイミド樹脂を含有する溶液を、少なくとも2種以上、押出手段から同時に支持体上に押し出して流延することにより複数層が積層された多層液膜を形成する多層液膜形成工程を含んでおり、
上記押出手段の先端部分から支持体表面まで距離を、2mmを超え25mm以下に設定することを特徴とするポリイミド系多層フィルムの製造方法。
A method for producing a multilayer film having at least two polyimide layers,
Forming a multilayer liquid film in which a plurality of layers are laminated by extruding at least two or more types of polyimide resin precursors or polyimide resin solutions onto the support simultaneously from the extrusion means. Process,
A method for producing a polyimide-based multilayer film, characterized in that the distance from the tip portion of the extrusion means to the support surface is set to be more than 2 mm and 25 mm or less.
上記押出手段として、共押出多層ダイが用いられることを特徴とする請求項1に記載のポリイミド系多層フィルムの製造方法。   The method for producing a polyimide-based multilayer film according to claim 1, wherein a co-extrusion multilayer die is used as the extrusion means. 上記溶液の少なくとも1種には、化学脱水剤および触媒が添加されていることを特徴とする請求項1または2に記載のポリイミド系多層フィルムの製造方法。   The method for producing a polyimide-based multilayer film according to claim 1 or 2, wherein a chemical dehydrating agent and a catalyst are added to at least one of the solutions. 上記化学脱水剤は、添加対象となる溶液に含有されるポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して0.5〜4.0モルの範囲内となるように、当該溶液に添加されることを特徴とする請求項3に記載のポリイミド系多層フィルムの製造方法。   The chemical dehydrating agent is added to the solution so that the chemical dehydrating agent is in the range of 0.5 to 4.0 moles per mole of the amic acid unit in the polyamic acid contained in the solution to be added. The method for producing a polyimide-based multilayer film according to claim 3. 上記化学脱水剤の添加量が添加対象となる溶液に含有されるポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して1.0〜3.0モルの範囲内となっていることを特徴とする請求項4に記載のポリイミド系多層フィルムの製造方法。   The amount of the chemical dehydrating agent added is in the range of 1.0 to 3.0 mol with respect to 1 mol of the amic acid unit in the polyamic acid contained in the solution to be added. Item 5. A method for producing a polyimide-based multilayer film according to Item 4. 上記触媒は、添加対象となる溶液に含有されるポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して0.05〜2.0モルの範囲内となるように、当該溶液に添加されることを特徴とする請求項3に記載のポリイミド系多層フィルムの製造方法。   The catalyst is added to the solution so as to be in the range of 0.05 to 2.0 mol with respect to 1 mol of amic acid unit in the polyamic acid contained in the solution to be added. The method for producing a polyimide-based multilayer film according to claim 3. 上記触媒の添加量が添加対象となる溶液に含有されるポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して0.05〜1.0モルの範囲内となっていることを特徴とする請求項6に記載のポリイミド系多層フィルムの製造方法。   7. The addition amount of the catalyst is in the range of 0.05 to 1.0 mol with respect to 1 mol of amic acid unit in the polyamic acid contained in the solution to be added. The manufacturing method of the polyimide-type multilayer film of description. 上記ポリイミド系多層フィルムが、耐熱性ポリイミドを含有する基盤層の少なくとも片面に熱可塑性ポリイミドを含有する接着層を積層してなる接着フィルムであることを特徴とする請求項1ないし5の何れか1項に記載のポリイミド系多層フィルムの製造方法。   6. The adhesive film according to claim 1, wherein the polyimide multilayer film is an adhesive film formed by laminating an adhesive layer containing a thermoplastic polyimide on at least one surface of a base layer containing a heat resistant polyimide. The manufacturing method of the polyimide-type multilayer film as described in a term. 上記基盤層の形成には、耐熱性ポリイミドの前駆体を含有する溶液が用いられるとともに、上記接着層の形成には、熱可塑性ポリイミドの前駆体および/または熱可塑性ポリイミドを含有する溶液が用いられることを特徴とする請求項8に記載のポリイミド系多層フィルムの製造方法。   A solution containing a heat-resistant polyimide precursor is used for forming the base layer, and a solution containing a thermoplastic polyimide precursor and / or a thermoplastic polyimide is used for forming the adhesive layer. The manufacturing method of the polyimide-type multilayer film of Claim 8 characterized by the above-mentioned. 請求項1ないし9の何れか1項に記載のポリイミド系多層フィルムの製造方法を用いて製造されるポリイミド系多層フィルム。   The polyimide multilayer film manufactured using the manufacturing method of the polyimide multilayer film of any one of Claim 1 thru | or 9. 請求項10に記載のポリイミド系多層フィルムを絶縁層として備えるとともに、当該絶縁層に直接積層される金属層とを備えることを特徴とするフレキシブル金属張積層板。   A flexible metal-clad laminate comprising the polyimide-based multilayer film according to claim 10 as an insulating layer and a metal layer directly laminated on the insulating layer. 請求項10に記載のポリイミド系多層フィルムを絶縁層として用いてなるフレキシブルプリント配線板。
A flexible printed wiring board comprising the polyimide multilayer film according to claim 10 as an insulating layer.
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