JP2006159785A - Manufacturing method of adhesive film - Google Patents

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JP2006159785A JP2004357252A JP2004357252A JP2006159785A JP 2006159785 A JP2006159785 A JP 2006159785A JP 2004357252 A JP2004357252 A JP 2004357252A JP 2004357252 A JP2004357252 A JP 2004357252A JP 2006159785 A JP2006159785 A JP 2006159785A
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正美 ▲柳▼田
Masami Yanagida
Kenji Uejima
健二 上島
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a multilayer film which enables a self-supporting film to be easily removed from a support while ensuring adhesion between a high heat-resistant polyimide and a thermoplastic poyimide of the multilayer film. <P>SOLUTION: The manufacturing method of the multilayer film having at least two kinds of polyimide layers is provided. The method comprises the process of casting at least two kinds of solutions, which are selected from a solution containing a polyimide resin precursor and a solution containing a polyimide resin, on a support by coextrusion and forming two or more layers, i.e., a plurality of layers. In at least one solution of the solutions used for the coextrusion a chemical dehydrating agent and a catalyst are contained, the chemical dehydrating agent and the catalyst are used in specific amounts, and the surface roughness Ra of the support is in the range of 0.002-1 μm. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、フレキシブルプリント配線板等に好適に用いられる多層フィルムの製造方法に関する。更に詳しくは、高耐熱性ポリイミド層の少なくとも片面に熱可塑性ポリイミド層を形成した接着フィルムの製造を好適に行うことができる接着フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a multilayer film suitably used for flexible printed wiring boards and the like. More specifically, the present invention relates to a method for producing an adhesive film capable of suitably producing an adhesive film in which a thermoplastic polyimide layer is formed on at least one surface of a high heat resistant polyimide layer.

近年、エレクトロニクス製品の軽量化、小型化、高密度化にともない、各種プリント基板の需要が伸びている。これらのプリント基板の中でも、フレキシブル配線板の需要が特に伸びている。フレキシブル配線板は、フレキシブルプリント配線板(FPC)等とも称する。フレキシブル積層板は、絶縁性フィルム上に金属箔からなる回路が形成された構造を有している。   In recent years, the demand for various printed circuit boards has increased with the reduction in weight, size and density of electronic products. Among these printed boards, the demand for flexible wiring boards is growing. The flexible wiring board is also referred to as a flexible printed wiring board (FPC) or the like. The flexible laminate has a structure in which a circuit made of a metal foil is formed on an insulating film.

上記フレキシブル積層板は、一般に、各種絶縁材料により形成され、柔軟性を有する絶縁性フィルムを基板とし、この基板の表面に、各種接着材料を介して金属箔を加熱・圧着することにより貼りあわせる方法により製造される。上記絶縁性フィルムとしては、ポリイミドフィルム等が好ましく用いられており、上記接着材料としては、エポキシ系、アクリル系等の熱硬化性接着剤が一般的に用いられている。このような熱硬化性接着剤を用いたフレキシブル配線板は、基板/接着材料/金属箔の三層構造を有しているので、三層FPCともいう。   The flexible laminate is generally formed of various insulating materials, and a flexible insulating film is used as a substrate, and a metal foil is bonded to the surface of the substrate by heating and pressure bonding via various adhesive materials. Manufactured by. A polyimide film or the like is preferably used as the insulating film, and an epoxy or acrylic thermosetting adhesive is generally used as the adhesive material. A flexible wiring board using such a thermosetting adhesive has a three-layer structure of substrate / adhesive material / metal foil, and is also referred to as a three-layer FPC.

上記三層FPCに用いられる熱硬化性接着剤は、比較的低温での接着が可能であるという利点がある。しかし今後、FPCに対して耐熱性、屈曲性、電気的信頼性といった各種特性に対する要求が厳しくなるに従い、熱硬化性接着剤を用いた三層FPCでは対応が困難になると考えられている。   The thermosetting adhesive used for the three-layer FPC has an advantage that it can be bonded at a relatively low temperature. However, as the requirements for various characteristics such as heat resistance, flexibility, and electrical reliability for FPC become stricter in the future, it is considered that the three-layer FPC using a thermosetting adhesive becomes difficult to cope with.

これに対し、絶縁性フィルムに直接金属層を設けたFPCや、接着層に熱可塑性ポリイミドを使用したFPCが提案されている。このようなFPCは、絶縁性の基板に直接金属層を形成している状態にあるため、二層FPCとも呼ばれる。この二層FPCは、三層FPCより優れた特性を有し、上記各種特性に対する要求にも十分対応可能であることから、今後需要が伸びていくことが期待される。   On the other hand, FPCs in which a metal layer is directly provided on an insulating film and FPCs using thermoplastic polyimide as an adhesive layer have been proposed. Such an FPC is also called a two-layer FPC because a metal layer is directly formed on an insulating substrate. This two-layer FPC has characteristics superior to those of the three-layer FPC and can sufficiently meet the demands for the various characteristics described above, so that demand is expected to increase in the future.

上記二層FPCは、基板に金属箔を積層した構造を有するフレキシブル金属張積層板を用いて製造される。このフレキシブル金属張積層板の作製方法としては、金属箔上にポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を流延、塗布した後イミド化するキャスト法、スパッタ、メッキによりポリイミドフィルム上に直接金属層を設けるメタライジング法、熱可塑性ポリイミドを介してポリイミドフィルムと金属箔とを貼り合わせるラミネート法が挙げられる。   The two-layer FPC is manufactured using a flexible metal-clad laminate having a structure in which a metal foil is laminated on a substrate. As a method for producing this flexible metal-clad laminate, a metal layer is directly provided on a polyimide film by casting, applying a polyamic acid, which is a polyimide precursor, onto a metal foil, and then imidizing, sputtering, or plating. Examples thereof include a metallizing method and a laminating method in which a polyimide film and a metal foil are bonded via a thermoplastic polyimide.

これらのうち、ラミネート法は、対応できる金属箔の厚み範囲がキャスト法よりも広く、装置コストがメタライジング法よりも低いという点で優れている。ラミネートを行う装置としては、ロール状の材料を繰り出しながら連続的にラミネートする熱ロールラミネート装置またはダブルベルトプレス装置等が用いられている。上記の内、生産性の点から見れば、熱ロールラミネート法をより好ましく用いることができる。   Among these, the lamination method is excellent in that the thickness range of the metal foil that can be handled is wider than that of the casting method and the apparatus cost is lower than that of the metalizing method. As a device for laminating, a hot roll laminating device or a double belt press device for continuously laminating a roll-shaped material is used. Of these, the hot roll laminating method can be used more preferably from the viewpoint of productivity.

上記ラミネート法により製造されるフレキシブル金属張積層板においては、基板として、ポリイミドフィルムの少なくとも一方の表面に熱可塑性ポリイミドを含む樹脂組成物の層を設けてなる接着フィルムが広く用いられている。   In the flexible metal-clad laminate produced by the laminating method, an adhesive film in which a layer of a resin composition containing a thermoplastic polyimide is provided on at least one surface of a polyimide film is widely used as a substrate.

上記接着フィルムの製造方法としては、塗工法、熱ラミネート法、共押出法が挙げられる。塗工法は、高耐熱性ポリイミドからなるフィルムの片面または両面に、熱可塑性ポリイミドを含む樹脂組成物の溶液、またはその前駆体の溶液を塗工し乾燥させる工程を含む方法である。熱ラミネート法は、高耐熱性ポリイミドからなるフィルムの片面または両面に、熱可塑性ポリイミドからなるフィルムとを加熱して貼合せ加工し製造する方法である。また、共押出−流延塗布法は、多層ダイを用いて異なる種類のポリイミドワニスの多層液膜を作成し、当該液膜を支持体上に押出し乾燥させて多層の自己支持膜を形成し、次いで支持体から自己支持性膜を引き剥がし更なる乾燥・焼成を行うことで、接着フィルムを得る方法である。このうち、共押出し法は、生産性に優れていることや、工程が少ないことから異物混入などの欠陥要因が少ないことから、最も優れた方法である。   Examples of the method for producing the adhesive film include a coating method, a heat laminating method, and a coextrusion method. The coating method is a method including a step of applying and drying a solution of a resin composition containing a thermoplastic polyimide or a solution of a precursor thereof on one or both sides of a film made of a high heat-resistant polyimide. The thermal laminating method is a method in which one side or both sides of a film made of high heat-resistant polyimide is heated and bonded to a film made of thermoplastic polyimide to produce. Moreover, the coextrusion-casting coating method creates a multilayer liquid film of different types of polyimide varnish using a multilayer die, and extrudes and dries the liquid film on a support to form a multilayer self-supporting film. Next, the self-supporting film is peeled off from the support and further dried and baked to obtain an adhesive film. Among these, the co-extrusion method is the most excellent method because it is excellent in productivity and has few steps of defects such as mixing of foreign substances because there are few steps.

しかしながら、従来の共押出−流延塗布法は、実質的に加熱によってのみイミド化を行う、所謂熱キュア法を前提にして検討されてきた。熱キュア法では、製膜工程における溶媒の揮散・除去及びイミド化の工程が極めて長時間となるため、生産性が低いという問題点があった。生産性の低さは、トータルコストの増大に繋がるという問題点があった。   However, the conventional coextrusion-casting coating method has been studied on the premise of a so-called thermal curing method in which imidization is substantially performed only by heating. The thermal curing method has a problem in that productivity is low because the process of volatilization / removal of the solvent and imidization in the film forming process takes a very long time. The low productivity has the problem of increasing the total cost.

本発明者らによって既に、上記の生産性の課題を解決する目的においては、イミド化に際して化学脱水剤及び触媒を使用する、所謂化学キュア法の採用が効果的であることが見出されている。本発明者らが更に検討を進めたところ、化学キュア法を用いると生産性の課題は解決できるが、各層の層間剥離という問題が発生する場合があることを見出した。すなわち、共押出−流延塗布法によって多層フィルムを製造しようとした場合、当該多層膜を加熱乾燥せしめた際に脱水剤及び触媒を添加した層から溶剤が滲出し、高耐熱性ポリイミド層と熱可塑性ポリイミド層の間に当該溶剤が蓄積する。この溶剤の蓄積は、層間剥離を誘起し、各層間の接着強度の低下や、接着フィルム製造時の困難さを引き起こす場合があった。
第2946416号公報 特開平7−214637号公報
The present inventors have already found that it is effective to employ a so-called chemical curing method using a chemical dehydrating agent and a catalyst for imidization in order to solve the above-mentioned productivity problem. . As a result of further studies by the present inventors, it has been found that the use of a chemical cure method can solve the problem of productivity, but may cause a problem of delamination of each layer. That is, when an attempt is made to produce a multilayer film by the coextrusion-casting method, when the multilayer film is heated and dried, the solvent exudes from the layer to which the dehydrating agent and catalyst are added, and the high heat resistant polyimide layer and the heat The solvent accumulates between the plastic polyimide layers. The accumulation of the solvent induces delamination, which may cause a decrease in adhesive strength between the layers and difficulty in manufacturing an adhesive film.
No. 2946416 Japanese Patent Laid-Open No. 7-214637

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、高耐熱性ポリイミド層の少なくとも片面に熱可塑性ポリイミド層を形成した接着フィルムにおいて、高耐熱性ポリイミド層と、熱可塑性ポリイミド層との密着性を向上させた接着フィルムを好適に製造する方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and the object thereof is an adhesive film in which a thermoplastic polyimide layer is formed on at least one surface of a high heat-resistant polyimide layer. It is providing the method of manufacturing suitably the adhesive film which improved the adhesiveness with a polyimide layer.

本発明者らは、上記の課題に鑑み鋭意検討した結果、層間の密着性を確保したまま、支持体からの容易な引き剥がしを実現可能なことを独自に見出し、本発明を完成させるに至った。すなわち本発明は、以下の新規な製造方法によって、上記課題を解決しうる。
1)少なくとも2種以上のポリイミド層を有する多層フィルムの製造方法であって、ポリイミド樹脂の前駆体を含む溶液・ポリイミド樹脂を含む溶液から選択される少なくとも2種以上の溶液を共押出によって支持体上に流延して2層以上の複数層を形成する工程を含み、前記共押出に用いる溶液の少なくとも1つの溶液には化学脱水剤及び触媒を含有し、化学脱水剤及び触媒を含有せしめる溶液に含まれるポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して0.5〜4.0モルの化学脱水剤と0.05〜2.0モルの触媒を用い、かつ、該支持体は、表面粗さRaが0.002〜1μmの範囲であることを特徴とする、多層フィルムの製造方法。
2)前記支持体の表面粗さRaが0.002〜0.1μmであることを特徴とする、請求項1に記載の接着フィルムの製造方法。
3)前記多層フィルムが高耐熱性ポリイミド層の少なくとも片面に熱可塑性ポリイミドを含有する接着層が積層された接着フィルムであって、前記共押出に用いる溶液が、高耐熱性ポリイミドの前駆体を含む溶液と、熱可塑性ポリイミドの前駆体を含む溶液および/又は熱可塑性ポリイミドを含有する溶液である請求項1または2記載の多層フィルムの製造方法。
4)化学脱水剤及び触媒を含有せしめる溶液に含まれるポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して1.0〜3.0モルの化学脱水剤と0.05〜1.0モルの触媒を用いることを特徴とする、請求項1乃至3に記載の多層フィルムの製造方法。
As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventors have uniquely found that easy peeling from a support can be achieved while ensuring adhesion between layers, and the present invention has been completed. It was. That is, this invention can solve the said subject with the following novel manufacturing methods.
1) A method for producing a multilayer film having at least two or more kinds of polyimide layers, wherein at least two kinds of solutions selected from a solution containing a polyimide resin precursor and a solution containing a polyimide resin are coextruded to support A solution containing a chemical dehydrating agent and a catalyst, and a solution containing the chemical dehydrating agent and the catalyst in at least one of the solutions used for the coextrusion. 0.5 to 4.0 moles of chemical dehydrating agent and 0.05 to 2.0 moles of catalyst with respect to 1 mole of amic acid unit in the polyamic acid contained in A method for producing a multilayer film, wherein Ra is in the range of 0.002 to 1 μm.
2) Surface roughness Ra of the said support body is 0.002-0.1 micrometer, The manufacturing method of the adhesive film of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
3) The multilayer film is an adhesive film in which an adhesive layer containing a thermoplastic polyimide is laminated on at least one surface of a high heat resistant polyimide layer, and the solution used for the coextrusion contains a precursor of the high heat resistant polyimide. The method for producing a multilayer film according to claim 1 or 2, wherein the solution is a solution containing a precursor of a thermoplastic polyimide and / or a solution containing a thermoplastic polyimide.
4) 1.0-3.0 mol of chemical dehydrating agent and 0.05-1.0 mol of catalyst per 1 mol of amic acid unit in the polyamic acid contained in the solution containing the chemical dehydrating agent and catalyst. The method for producing a multilayer film according to claim 1, wherein the multilayer film is used.

本発明によれば、多層フィルムの高耐熱性ポリイミドと熱可塑性ポリイミド間の密着性を確保したまま、自己支持性膜を支持体から容易に剥離できる多層フィルムの製造方法を提供することが可能となる。   According to the present invention, it is possible to provide a method for producing a multilayer film capable of easily peeling the self-supporting film from the support while ensuring the adhesion between the high heat-resistant polyimide of the multilayer film and the thermoplastic polyimide. Become.

本発明の実施の形態について、以下に説明する。   Embodiments of the present invention will be described below.

本発明に係る多層フィルムの製造方法は、少なくとも2種以上のポリイミド層を有する多層フィルムの製造方法であり、ポリイミド樹脂の前駆体を含む溶液・ポリイミド樹脂を含む溶液から選択される少なくとも2種以上の溶液を共押出によって支持体上に流延して2層以上の複数層を形成する工程を含む。ここで、共押出に用いる溶液の少なくとも1つの溶液には化学脱水剤及び触媒を含有し、化学脱水剤及び触媒を含有せしめる溶液に含まれるポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して0.5〜4.0モルの化学脱水剤と0.05〜2.0モルの触媒を用い、かつ、該支持体は、表面粗さRaが0.002〜1μmの範囲であることを特徴としている。   The method for producing a multilayer film according to the present invention is a method for producing a multilayer film having at least two kinds of polyimide layers, and at least two kinds selected from a solution containing a polyimide resin precursor and a solution containing a polyimide resin. And a step of casting the solution on a support by coextrusion to form two or more layers. Here, at least one of the solutions used for coextrusion contains a chemical dehydrating agent and a catalyst. 5 to 4.0 mol of chemical dehydrating agent and 0.05 to 2.0 mol of catalyst are used, and the support is characterized in that the surface roughness Ra is in the range of 0.002 to 1 μm. .

本発明者らは、複数層のポリイミド層を有する多層フィルムを共押出により製造する際に、化学キュア法を採用する方法を既に見出しており、さらに化学キュア法を用いた場合に発生する各層の層間剥離という問題を解決するために、化学キュア剤の添加量を調節することも見出している。これにより、層間剥離の問題を解決することに成功したが、自己支持性膜を支持体から剥離する際に剥離が困難となる場合があることが新たに見出された。本発明においては、さらに支持体の表面粗さを規定することによって、各層の層間剥離が生じないとともに、後述する自己支持性膜を支持体から容易に剥離することができ、目的とするフィルムを得ることが可能となる。   The present inventors have already found a method that employs a chemical curing method when a multilayer film having a plurality of polyimide layers is produced by coextrusion, and further, each layer generated when the chemical curing method is used. In order to solve the problem of delamination, it has also been found that the amount of chemical curing agent added is adjusted. Although this succeeded in solving the problem of delamination, it was newly found that peeling may be difficult when the self-supporting film is peeled from the support. In the present invention, by further defining the surface roughness of the support, delamination of each layer does not occur, and a self-supporting film described later can be easily peeled off from the support. Can be obtained.

該支持体の表面粗さが上記範囲を超えると、最終的に得られる接着フィルムの表面粗さが大きくなり、該接着フィルムを用いてフレキシブル金属張積層板を作成した際に、微小な浮きや膨れなどが発生することがある。該支持体の表面粗さが上記範囲を下回る場合、自己支持性膜を支持体から容易に剥離できなくなったり、支持体の表面加工のためのコストが大きくなるという問題が生じる場合がある。以下、実施の形態の一例に基づき説明する。   When the surface roughness of the support exceeds the above range, the surface roughness of the finally obtained adhesive film increases, and when a flexible metal-clad laminate is produced using the adhesive film, Swelling or the like may occur. When the surface roughness of the support is lower than the above range, there may be a problem that the self-supporting film cannot be easily peeled off from the support or the cost for surface processing of the support increases. Hereinafter, description will be given based on an example of the embodiment.

<高耐熱性ポリイミド層>
本発明に係る高耐熱性ポリイミド層とは、非熱可塑性ポリイミド樹脂を90wt%以上含有すれば、その分子構造、厚みは特に限定されない。高耐熱性ポリイミド層に用いられる非熱可塑性ポリイミドは、ポリアミド酸を前駆体として用いて製造される。ポリアミド酸の製造方法としては公知のあらゆる方法を用いることができ、通常、芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンを、実質的等モル量を有機溶媒中に溶解させて、制御された温度条件下で、上記酸二無水物とジアミンの重合が完了するまで攪拌することによって製造される。これらのポリアミド酸溶液は通常5〜35wt%、好ましくは10〜30wt%の濃度で得られる。この範囲の濃度である場合に適当な分子量と溶液粘度を得る。
<High heat resistant polyimide layer>
The high heat resistant polyimide layer according to the present invention is not particularly limited in its molecular structure and thickness as long as it contains 90 wt% or more of a non-thermoplastic polyimide resin. The non-thermoplastic polyimide used for the high heat resistant polyimide layer is manufactured using polyamic acid as a precursor. Any known method can be used as a method for producing the polyamic acid, and usually, the aromatic tetracarboxylic dianhydride and the aromatic diamine are controlled by dissolving substantially equimolar amounts in an organic solvent. It is produced by stirring under temperature conditions until the polymerization of the acid dianhydride and diamine is completed. These polyamic acid solutions are usually obtained at a concentration of 5 to 35 wt%, preferably 10 to 30 wt%. When the concentration is in this range, an appropriate molecular weight and solution viscosity are obtained.

重合方法としてはあらゆる公知の方法およびそれらを組み合わせた方法を用いることができる。ポリアミド酸の重合における重合方法の特徴はそのモノマーの添加順序にあり、このモノマー添加順序を制御することにより得られるポリイミドの諸物性を制御することができる。従い、本発明においてポリアミド酸の重合にはいかなるモノマーの添加方法を用いても良い。代表的な重合方法として次のような方法が挙げられる。すなわち、
1)芳香族ジアミンを有機極性溶媒中に溶解し、これと実質的に等モルの芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応させて重合する方法。
2)芳香族テトラカルボン酸二無水物とこれに対し過小モル量の芳香族ジアミン化合物とを有機極性溶媒中で反応させ、両末端に酸無水物基を有するプレポリマーを得る。続いて、全工程において芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン化合物が実質的に等モルとなるように芳香族ジアミン化合物を用いて重合させる方法。
3)芳香族テトラカルボン酸二無水物とこれに対し過剰モル量の芳香族ジアミン化合物とを有機極性溶媒中で反応させ、両末端にアミノ基を有するプレポリマーを得る。続いてここに芳香族ジアミン化合物を追加添加後、全工程において芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン化合物が実質的に等モルとなるように芳香族テトラカルボン酸二無水物を用いて重合する方法。
4)芳香族テトラカルボン酸二無水物を有機極性溶媒中に溶解及び/または分散させた後、実質的に等モルとなるように芳香族ジアミン化合物を用いて重合させる方法。
5)実質的に等モルの芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンの混合物を有機極性溶媒中で反応させて重合する方法。
などのような方法である。これら方法を単独で用いても良いし、部分的に組み合わせて用いることもできる。
As the polymerization method, any known method and a combination thereof can be used. The characteristic of the polymerization method in the polymerization of polyamic acid is the order of addition of the monomers, and the physical properties of the polyimide obtained can be controlled by controlling the order of addition of the monomers. Therefore, in the present invention, any method of adding monomers may be used for the polymerization of polyamic acid. The following method is mentioned as a typical polymerization method. That is,
1) A method in which an aromatic diamine is dissolved in an organic polar solvent and this is reacted with a substantially equimolar amount of an aromatic tetracarboxylic dianhydride for polymerization.
2) An aromatic tetracarboxylic dianhydride is reacted with a small molar amount of an aromatic diamine compound in an organic polar solvent to obtain a prepolymer having acid anhydride groups at both ends. Then, the method of superposing | polymerizing using an aromatic diamine compound so that an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine compound may become substantially equimolar in all the processes.
3) An aromatic tetracarboxylic dianhydride is reacted with an excess molar amount of an aromatic diamine compound in an organic polar solvent to obtain a prepolymer having amino groups at both ends. Subsequently, after adding an aromatic diamine compound here, using the aromatic tetracarboxylic dianhydride so that the aromatic tetracarboxylic dianhydride and the aromatic diamine compound are substantially equimolar in all steps. How to polymerize.
4) A method in which an aromatic tetracarboxylic dianhydride is dissolved and / or dispersed in an organic polar solvent and then polymerized using an aromatic diamine compound so as to be substantially equimolar.
5) A method in which a substantially equimolar mixture of aromatic tetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine is reacted in an organic polar solvent for polymerization.
And so on. These methods may be used singly or in combination.

本発明において、上記のいかなる重合方法を用いて得られたポリアミド酸を用いても良く、重合方法は特に限定されるのもではない。   In the present invention, the polyamic acid obtained by using any of the above polymerization methods may be used, and the polymerization method is not particularly limited.

本発明において、後述する剛直構造を有するジアミン成分を用いてプレポリマーを得る重合方法を用いることも好ましい。本方法を用いることにより、弾性率が高く、吸湿膨張係数が小さいポリイミドフィルムが得やすくなる傾向にある。本方法においてプレポリマー調製時に用いる剛直構造を有するジアミンと酸二無水物のモル比は100:70〜100:99もしくは70:100〜99:100、さらには100:75〜100:90もしくは75:100〜90:100が好ましい。この比が上記範囲を下回ると弾性率および吸湿膨張係数の改善効果が得られにくく、上記範囲を上回ると線膨張係数が小さくなりすぎたり、引張伸びが小さくなるなどの弊害が生じることがある。   In this invention, it is also preferable to use the polymerization method which obtains a prepolymer using the diamine component which has a rigid structure mentioned later. By using this method, a polyimide film having a high elastic modulus and a small hygroscopic expansion coefficient tends to be easily obtained. The molar ratio of the diamine having a rigid structure and the acid dianhydride used in preparing the prepolymer in the present method is 100: 70 to 100: 99 or 70: 100 to 99: 100, and further 100: 75 to 100: 90 or 75: 100-90: 100 is preferable. When this ratio is less than the above range, it is difficult to obtain the effect of improving the elastic modulus and the hygroscopic expansion coefficient, and when it exceeds the above range, there are cases where the linear expansion coefficient becomes too small or the tensile elongation becomes small.

ここで、本発明にかかるポリアミド酸組成物に用いられる材料について説明する。   Here, the material used for the polyamic acid composition concerning this invention is demonstrated.

本発明において用いうる適当なテトラカルボン酸二無水物は、ピロメリット酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4’−オキシフタル酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、エチレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、ビスフェノールAビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)及びそれらの類似物を含み、これらを単独または、任意の割合の混合物が好ましく用い得る。   Suitable tetracarboxylic dianhydrides that can be used in the present invention are pyromellitic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetra. Carboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′- Benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 4,4′-oxyphthalic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic acid Dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxy) Phenyl) eta Dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, oxydiphthalic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) Sulfone dianhydride, p-phenylenebis (trimellitic acid monoester acid anhydride), ethylene bis (trimellitic acid monoester acid anhydride), bisphenol A bis (trimellitic acid monoester acid anhydride) and the like These can be used alone or in a mixture of any proportion.

これら酸二無水物の中で特にはピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4’−オキシフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物から選択される少なくとも一種を用いることが好ましい。   Among these acid dianhydrides, pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 4,4′-oxyphthalic dianhydride, 3,3 ′ It is preferable to use at least one selected from 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride.

またこれら酸二無水物の中で3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4’−オキシフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物から選択される少なくとも一種を用いる場合の好ましい使用量は、全酸二無水物に対して、60mol%以下、好ましくは55mol%以下、更に好ましくは50mol%以下である。3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4’−オキシフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物から選択される少なくとも一種を用いる場合、その使用量がこの範囲を上回るとポリイミドフィルムのガラス転移温度が低くなりすぎたり、熱時の貯蔵弾性率が低くなりすぎて製膜そのものが困難になったりすることがあるため好ましくない。   Among these acid dianhydrides, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 4,4′-oxyphthalic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetra The preferred amount of use in the case of using at least one selected from carboxylic dianhydrides is 60 mol% or less, preferably 55 mol% or less, more preferably 50 mol% or less, based on the total acid dianhydrides. 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 4,4′-oxyphthalic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride When using at least one kind, if the amount used exceeds this range, the glass transition temperature of the polyimide film may become too low, or the storage elastic modulus at the time of heating may become too low, making film formation itself difficult. Therefore, it is not preferable.

また、ピロメリット酸二無水物を用いる場合、好ましい使用量は40〜100mol%、更に好ましくは45〜100mol%、特に好ましくは50〜100mol%である。ピロメリット酸二無水物をこの範囲で用いることによりガラス転移温度および熱時の貯蔵弾性率を使用または製膜に好適な範囲に保ちやすくなる。   Moreover, when using pyromellitic dianhydride, the preferable usage-amount is 40-100 mol%, More preferably, it is 45-100 mol%, Most preferably, it is 50-100 mol%. By using pyromellitic dianhydride in this range, the glass transition temperature and the storage elastic modulus at the time of heating can be easily maintained in a range suitable for use or film formation.

本発明にかかる非熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸組成物において使用し得る適当なジアミンとしては、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、ベンジジン、3,3’−ジクロロベンジジン、3,3‘−ジメチルベンジジン、2,2’−ジメチルベンジジン、3,3’−ジメトキシベンジジン、2,2’−ジメトキシベンジジン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−オキシジアニリン、3,3’−オキシジアニリン、3,4’−オキシジアニリン、1,5−ジアミノナフタレン、4,4’−ジアミノジフェニルジエチルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルエチルホスフィンオキシド、4,4’−ジアミノジフェニルN−メチルアミン、4,4’−ジアミノジフェニル N−フェニルアミン、1,4−ジアミノベンゼン(p−フェニレンジアミン)、1,3−ジアミノベンゼン、1,2−ジアミノベンゼン、ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニル}プロパン、ビス{4−(3−アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、4,4'−ジアミノベンゾフェノン及びそれらの類似物などが挙げられる。   Suitable diamines that can be used in the polyamic acid composition that is a precursor of the non-thermoplastic polyimide according to the present invention include 4,4′-diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenylmethane, benzidine, and 3,3 ′. -Dichlorobenzidine, 3,3'-dimethylbenzidine, 2,2'-dimethylbenzidine, 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,2'-dimethoxybenzidine, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'- Diaminodiphenylsulfone, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 4,4′-oxydianiline, 3,3′-oxydianiline, 3,4′-oxydianiline, 1,5-diaminonaphthalene, 4,4 '-Diaminodiphenyldiethylsilane, 4,4'-diaminodiphenylsilane, 4,4'- Aminodiphenylethylphosphine oxide, 4,4′-diaminodiphenyl N-methylamine, 4,4′-diaminodiphenyl N-phenylamine, 1,4-diaminobenzene (p-phenylenediamine), 1,3-diaminobenzene, 1,2-diaminobenzene, bis {4- (4-aminophenoxy) phenyl} sulfone, bis {4- (4-aminophenoxy) phenyl} propane, bis {4- (3-aminophenoxy) phenyl} sulfone, 4 , 4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4′-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) ) Benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-amino) Phenoxy) benzene, 3,3'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone and the like.

ジアミン成分として、剛直構造を有するジアミンと柔構造を有するアミンを併用することもでき、その場合の好ましい使用比率はモル比で80/20〜20/80、さらには70/30〜30/70、特には60/40〜30/70である。剛構造のジアミンの使用比率が上記範囲を上回ると得られるフィルムの引張伸びが小さくなる傾向にあり、またこの範囲を下回るとガラス転移温度が低くなりすぎたり、熱時の貯蔵弾性率が低くなりすぎて製膜が困難になるなどの弊害を伴う場合がある。   As the diamine component, a diamine having a rigid structure and an amine having a flexible structure can be used in combination, and the preferred use ratio in that case is 80/20 to 20/80, more preferably 70/30 to 30/70, in molar ratio. Particularly, it is 60/40 to 30/70. If the use ratio of the rigid diamine exceeds the above range, the tensile elongation of the resulting film tends to be small, and if it falls below this range, the glass transition temperature becomes too low or the storage modulus during heat decreases. In some cases, the film formation is difficult, and it may be harmful.

本発明において、剛直構造を有するジアミンとは、   In the present invention, the diamine having a rigid structure is

Figure 2006159785
式中のR2は
Figure 2006159785
R2 in the formula is

Figure 2006159785
で表される2価の芳香族基からなる群から選択される基であり、式中のR3は同一または異なってH−,CH3−、−OH、−CF3、−SO4、−COOH、−CO-NH2、Cl−、Br−、F−、及びCH3O−からなる群より選択される何れかの1つの基である)
で表されるものをいう。
Figure 2006159785
And R 3 in the formula is the same or different and is H—, CH 3 —, —OH, —CF 3 , —SO 4 , —, or a group selected from the group consisting of divalent aromatic groups. Any one group selected from the group consisting of COOH, —CO—NH 2 , Cl—, Br—, F—, and CH 3 O—)
The one represented by

また、柔構造を有するジアミンとは、エーテル基、スルホン基、ケトン基、スルフィド基などの柔構造を有するジアミンであり、好ましくは、下記一般式(2)で表されるものである。   The diamine having a flexible structure is a diamine having a flexible structure such as an ether group, a sulfone group, a ketone group, or a sulfide group, and is preferably represented by the following general formula (2).

Figure 2006159785
(式中のR4は、
Figure 2006159785
(R 4 in the formula is

Figure 2006159785
で表される2価の有機基からなる群から選択される基であり、式中のR5は同一または異なって、H−,CH3−、−OH、−CF3、−SO4、−COOH、−CO-NH2、Cl−、Br−、F−、及びCH3O−からなる群より選択される1つの基である。)
本発明において用いられるポリイミドフィルムは、上記の範囲の中で所望の特性を有するフィルムとなるように適宜芳香族酸二無水物および芳香族ジアミンの種類、配合比を決定して用いることにより得ることができる。
Figure 2006159785
R 5 in the formula is the same or different and is H—, CH 3 —, —OH, —CF 3 , —SO 4 , —, or a group selected from the group consisting of divalent organic groups represented by One group selected from the group consisting of COOH, —CO—NH 2 , Cl—, Br—, F—, and CH 3 O—. )
The polyimide film used in the present invention is obtained by appropriately determining the type and blending ratio of the aromatic dianhydride and aromatic diamine so as to be a film having desired characteristics within the above range. Can do.

ポリアミド酸を合成するための好ましい溶媒は、ポリアミド酸を溶解する溶媒であればいかなるものも用いることができるが、アミド系溶媒すなわちN,N−ジメチルフォルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドンなどであり、N,N−ジメチルフォルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドが特に好ましく用い得る。   As the preferred solvent for synthesizing the polyamic acid, any solvent can be used as long as it dissolves the polyamic acid. However, amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N- Examples thereof include methyl-2-pyrrolidone, and N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide can be particularly preferably used.

また、摺動性、熱伝導性、導電性、耐コロナ性、ループスティフネス等のフィルムの諸特性を改善する目的でフィラーを添加することもできる。フィラーとしてはいかなるものを用いても良いが、好ましい例としてはシリカ、酸化チタン、アルミナ、窒化珪素、窒化ホウ素、リン酸水素カルシウム、リン酸カルシウム、雲母などが挙げられる。   In addition, a filler can be added for the purpose of improving various film properties such as slidability, thermal conductivity, conductivity, corona resistance, and loop stiffness. Any filler may be used, but preferred examples include silica, titanium oxide, alumina, silicon nitride, boron nitride, calcium hydrogen phosphate, calcium phosphate, mica and the like.

フィラーの粒子径は改質すべきフィルム特性と添加するフィラーの種類によって決定されるため、特に限定されるものではないが、一般的には平均粒径が0.05〜100μm、好ましくは0.1〜75μm、更に好ましくは0.1〜50μm、特に好ましくは0.1〜25μmである。粒子径がこの範囲を下回ると改質効果が現れにくくなり、この範囲を上回ると表面性を大きく損なったり、機械的特性が大きく低下したりする可能性がある。また、フィラーの添加部数についても改質すべきフィルム特性やフィラー粒子径などにより決定されるため特に限定されるものではない。一般的にフィラーの添加量はポリイミド100重量部に対して0.01〜100重量部、好ましくは0.01〜90重量部、更に好ましくは0.02〜80重量部である。フィラー添加量がこの範囲を下回るとフィラーによる改質効果が現れにくく、この範囲を上回るとフィルムの機械的特性が大きく損なわれる可能性がある。フィラーの添加は、
1.重合前または途中に重合反応液に添加する方法
2.重合完了後、3本ロールなどを用いてフィラーを混錬する方法
3.フィラーを含む分散液を用意し、これをポリアミド酸有機溶媒溶液に混合する方法
などいかなる方法を用いてもよいが、フィラーを含む分散液をポリアミド酸溶液に混合する方法、特に製膜直前に混合する方法が製造ラインのフィラーによる汚染が最も少なくすむため、好ましい。フィラーを含む分散液を用意する場合、ポリアミド酸の重合溶媒と同じ溶媒を用いるのが好ましい。また、フィラーを良好に分散させ、また分散状態を安定化させるために分散剤、増粘剤等をフィルム物性に影響を及ぼさない範囲内で用いることもできる。
The particle size of the filler is not particularly limited because it is determined by the film characteristics to be modified and the kind of filler to be added, but generally the average particle size is 0.05 to 100 μm, preferably 0.1. It is -75 micrometers, More preferably, it is 0.1-50 micrometers, Most preferably, it is 0.1-25 micrometers. If the particle size is below this range, the modification effect is less likely to appear. If the particle size is above this range, the surface properties may be greatly impaired or the mechanical properties may be greatly deteriorated. Further, the number of added parts of the filler is not particularly limited because it is determined by the film properties to be modified, the filler particle diameter, and the like. Generally, the addition amount of the filler is 0.01 to 100 parts by weight, preferably 0.01 to 90 parts by weight, and more preferably 0.02 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyimide. If the amount of filler added is less than this range, the effect of modification by the filler hardly appears, and if it exceeds this range, the mechanical properties of the film may be greatly impaired. Addition of filler
1. 1. A method of adding to a polymerization reaction solution before or during polymerization 2. A method of kneading fillers using three rolls after the completion of polymerization. Any method such as preparing a dispersion containing filler and mixing it with a polyamic acid organic solvent solution may be used, but a method of mixing a dispersion containing filler with a polyamic acid solution, particularly immediately before film formation. This method is preferable because the contamination by the filler in the production line is minimized. When preparing a dispersion containing a filler, it is preferable to use the same solvent as the polymerization solvent for the polyamic acid. Further, in order to disperse the filler satisfactorily and stabilize the dispersion state, a dispersant, a thickener and the like can be used within a range not affecting the film physical properties.

このようにして得られた非熱可塑性ポリイミド樹脂の前駆体を有する溶液を、高耐熱性ポリイミドの前駆体を含む溶液ともいう。   The solution containing the precursor of the non-thermoplastic polyimide resin thus obtained is also referred to as a solution containing a precursor of high heat resistant polyimide.

<接着層>
本発明に係る接着層は、ラミネート法により有為な接着力が発現されれば、当該層に含まれる熱可塑性ポリイミド樹脂の含有量、分子構造、厚みは特に限定されない。しかしながら、有為な接着力を発現せしめるためには、実質的には熱可塑性ポリイミド樹脂を50wt%以上含有することが好ましい。
<Adhesive layer>
In the adhesive layer according to the present invention, the content, molecular structure, and thickness of the thermoplastic polyimide resin contained in the layer are not particularly limited as long as a significant adhesive force is expressed by a laminating method. However, in order to develop a significant adhesive force, it is preferable that the thermoplastic polyimide resin is substantially contained in an amount of 50 wt% or more.

熱可塑性ポリイミド層に含有される熱可塑性ポリイミドとしては、熱可塑性ポリイミド、熱可塑性ポリアミドイミド、熱可塑性ポリエーテルイミド、熱可塑性ポリエステルイミド等を好適に用いることができる。中でも、低吸湿特性の点から、熱可塑性ポリエステルイミドが特に好適に用いられる。   As the thermoplastic polyimide contained in the thermoplastic polyimide layer, thermoplastic polyimide, thermoplastic polyamideimide, thermoplastic polyetherimide, thermoplastic polyesterimide and the like can be suitably used. Among these, thermoplastic polyesterimide is particularly preferably used from the viewpoint of low moisture absorption characteristics.

本発明に係る熱可塑性ポリイミド層に含有される熱可塑性ポリイミドは、その前駆体のポリアミド酸からの転化反応により得られる。該ポリアミド酸の製造方法としては、高耐熱性ポリイミド層の前駆体と同様、公知のあらゆる方法を用いることができる。   The thermoplastic polyimide contained in the thermoplastic polyimide layer according to the present invention is obtained by a conversion reaction from the precursor polyamic acid. As the method for producing the polyamic acid, any known method can be used as in the precursor of the high heat resistant polyimide layer.

また、既存の装置でラミネートが可能であり、かつ得られる金属張積層板の耐熱性を損なわないという点から考えると、本発明における熱可塑性ポリイミドは、150〜300℃の範囲にガラス転移温度(Tg)を有していることが好ましい。なお、Tgは動的粘弾性測定装置(DMA)により測定した貯蔵弾性率の変曲点の値により求めることができる。   In view of the fact that lamination with an existing apparatus is possible and the heat resistance of the resulting metal-clad laminate is not impaired, the thermoplastic polyimide in the present invention has a glass transition temperature (150 to 300 ° C.). Tg) is preferred. In addition, Tg can be calculated | required from the value of the inflexion point of the storage elastic modulus measured with the dynamic viscoelasticity measuring apparatus (DMA).

本発明に用いられる熱可塑性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸についても、特に限定されるわけではなく、公知のあらゆるポリアミド酸を用いることができる。ポリアミド酸溶液の製造に関しても、前記原料および前記製造条件等を全く同様に用いることができる。   The polyamic acid that is a precursor of the thermoplastic polyimide used in the present invention is not particularly limited, and any known polyamic acid can be used. Regarding the production of the polyamic acid solution, the raw materials and the production conditions can be used in exactly the same manner.

なお、熱可塑性ポリイミドは、使用する原料を種々組み合わせることにより、諸特性を調節することができるが、一般に剛直構造のジアミン使用比率が大きくなるとガラス転移温度高くなる及び/又は熱時の貯蔵弾性率が大きくなり接着性・加工性が低くなるため好ましくない。剛直構造のジアミン比率は好ましくは40mol%以下、さらに好ましくは30mol%以下、特に好ましくは20mol%以下である。   The properties of thermoplastic polyimide can be adjusted by combining various raw materials to be used, but generally the glass transition temperature becomes higher and / or the storage elastic modulus during heat when the ratio of rigid diamine is increased. Is unfavorable because it increases the adhesion and processability. The diamine ratio of the rigid structure is preferably 40 mol% or less, more preferably 30 mol% or less, and particularly preferably 20 mol% or less.

好ましい熱可塑性ポリイミド樹脂の具体例としては、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物類を含む酸二無水物とアミノフェノキシ基を有するジアミンを重合反応せしめたものが挙げられる。   Specific examples of preferable thermoplastic polyimide resins include those obtained by polymerization reaction of acid dianhydrides including biphenyltetracarboxylic dianhydrides and diamines having aminophenoxy groups.

さらに、本発明に係る接着フィルムの特性を制御する目的で、必要に応じて無機あるいは有機物のフィラー、さらにはその他樹脂を添加しても良い。   Furthermore, for the purpose of controlling the properties of the adhesive film according to the present invention, inorganic or organic fillers, and other resins may be added as necessary.

<接着フィルムの製造>
本発明に係る接着フィルムを得る方法は、共押出−流延塗布法であることが必須である。本発明に係る、共押出−流延塗布法とは、高耐熱性ポリイミドの前駆体を含む溶液と、熱可塑性ポリイミドを含む溶液若しくは熱可塑性ポリイミドの前駆体を含む溶液とを、二層以上の多層ダイを有する押出成形機へ同時に供給して、前記多層ダイの吐出口から両溶液を少なくとも二層の薄膜状体として押出す工程を含むフィルムの製造方法である。一般的に用いられる方法について説明すると、二層以上の多層ダイから押出された前記の両溶液を、平滑な支持体上に連続的に押し出し、次いで、前記支持体上の多層の薄膜状体の溶媒の少なくとも一部を揮散せしめることで、自己支持性を有する多層フィルムが得られる。さらに、当該多層フィルムを前記支持体上から剥離し、最後に、当該多層フィルムを高温(250−600℃)で充分に加熱処理することによって、溶媒を実質的に除去すると共にイミド化を進行させることで、目的の接着フィルムが得られる。また、接着層の熔融流動性を改善する目的で、意図的にイミド化率を低くする及び/又は溶媒を残留させてもよい。
<Manufacture of adhesive film>
It is essential that the method for obtaining the adhesive film according to the present invention is a coextrusion-casting method. The coextrusion-casting method according to the present invention includes a solution containing a precursor of a high heat-resistant polyimide and a solution containing a thermoplastic polyimide or a solution containing a precursor of a thermoplastic polyimide in two or more layers. It is a method for producing a film including a step of simultaneously feeding to an extrusion molding machine having a multilayer die and extruding both solutions as at least two layers of thin-film bodies from the outlet of the multilayer die. To describe a commonly used method, both of the solutions extruded from two or more multilayer dies are continuously extruded onto a smooth support, and then the multilayer thin film on the support is formed. By volatilizing at least a part of the solvent, a multilayer film having self-supporting properties can be obtained. Further, the multilayer film is peeled off from the support, and finally, the multilayer film is sufficiently heated at a high temperature (250-600 ° C.) to substantially remove the solvent and advance imidization. Thereby, the target adhesive film is obtained. Further, for the purpose of improving the melt fluidity of the adhesive layer, the imidization rate may be intentionally lowered and / or the solvent may be left.

本発明に係る支持体とは、多層ダイから押出された多層液膜を流延するもので、当該支持体上で多層液膜を加熱乾燥せしめ、自己支持性を付与するものである。該支持体の形状は特に問わないが、接着フィルムの生産性を考慮すると、ドラム状若しくはベルト状であることが好ましい。また、該支持体の材質も特に問わず、金属、プラスチック、ガラス、磁器などが挙げられ、好ましくは金属であり、更に好ましくは錆びなくて耐腐食に優れるSUS材である。また、Cr、Ni、Snなどの金属メッキをしても良い。   The support according to the present invention casts a multilayer liquid film extruded from a multilayer die, and heat-drys the multilayer liquid film on the support to give self-supporting property. The shape of the support is not particularly limited, but in consideration of the productivity of the adhesive film, a drum shape or a belt shape is preferable. The material of the support is not particularly limited, and examples thereof include metals, plastics, glass, porcelain, etc., preferably metals, and more preferably SUS materials that do not rust and have excellent corrosion resistance. Further, metal plating such as Cr, Ni, Sn may be performed.

本発明において、支持体の表面粗さRaは0.002〜1μmの範囲であることが重要である。本発明に係る支持体の表面粗さは、JIS B−0601「表面あらさ」に基づき、ランダムな箇所で計10点測定した表面粗さRaの平均値を指す。表面粗さRaは例えば、ミツトヨ社製表面粗さ計サーフテストSJ−301を用いて、カットオフ値0.25mmで測定できる。カットオフ値0.25mmで測定した値Raとは、実測データから0.25mmよりも長い波長を有する凹凸を除去した粗さ曲線から算出された算術平均粗さをいう。   In the present invention, it is important that the surface roughness Ra of the support is in the range of 0.002 to 1 μm. The surface roughness of the support according to the present invention refers to an average value of the surface roughness Ra measured at a total of 10 points at random locations based on JIS B-0601 “Surface roughness”. The surface roughness Ra can be measured with a cut-off value of 0.25 mm, for example, using a surface roughness meter Surf Test SJ-301 manufactured by Mitutoyo Corporation. The value Ra measured with a cut-off value of 0.25 mm refers to an arithmetic average roughness calculated from a roughness curve obtained by removing irregularities having a wavelength longer than 0.25 mm from measured data.

一般的にポリイミドは、ポリイミドの前駆体、即ちポリアミド酸からの脱水転化反応により得られ、当該転化反応を行う方法としては、熱によってのみ行う熱キュア法と、化学脱水剤を使用する化学キュア法の2法が最も広く知られている。しかしながら、本発明では、化学キュア法の採用が必須である。   In general, polyimide is obtained by a dehydration conversion reaction from a polyimide precursor, that is, a polyamic acid, and as a method for performing the conversion reaction, a thermal curing method that is performed only by heat and a chemical curing method that uses a chemical dehydrating agent. The two methods are most widely known. However, in the present invention, it is essential to employ a chemical curing method.

ここで、化学硬化剤とは、脱水剤及び触媒を含むものである。ここでいう脱水剤とは、ポリアミック酸に対する脱水閉環剤であり、その主成分として、脂肪族酸無水物、芳香族酸無水物、N,N′−ジアルキルカルボジイミド、低級脂肪族ハロゲン化物、ハロゲン化低級脂肪族酸無水物、アリールスルホン酸ジハロゲン化物、チオニルハロゲン化物またはそれら2種以上の混合物を好ましく用いることができる。その中でも特に、脂肪族酸無水物及び芳香族酸無水物が良好に作用する。また、触媒とは硬化剤のポリアミック酸に対する脱水閉環作用を促進する効果を有する成分であるが、例えば、脂肪族3級アミン、芳香族3級アミン、複素環式3級アミンを用いることができる。そのうち、イミダゾ−ル、ベンズイミダゾ−ル、イソキノリン、キノリン、またはβ−ピコリンなどの含窒素複素環化合物であることが好ましい。さらに、脱水剤及び触媒からなる溶液中に、有機極性溶媒を導入することも適宜選択されうる。   Here, the chemical curing agent includes a dehydrating agent and a catalyst. The dehydrating agent here is a dehydrating ring-closing agent for polyamic acid, and as its main component, aliphatic acid anhydride, aromatic acid anhydride, N, N'-dialkylcarbodiimide, lower aliphatic halide, halogenated Lower aliphatic acid anhydrides, aryl sulfonic acid dihalides, thionyl halides or mixtures of two or more thereof can be preferably used. Of these, aliphatic acid anhydrides and aromatic acid anhydrides work particularly well. The catalyst is a component having an effect of accelerating the dehydration ring-closing action of the curing agent on the polyamic acid. For example, an aliphatic tertiary amine, an aromatic tertiary amine, or a heterocyclic tertiary amine can be used. . Of these, nitrogen-containing heterocyclic compounds such as imidazole, benzimidazole, isoquinoline, quinoline, or β-picoline are preferred. Furthermore, introduction of an organic polar solvent into a solution composed of a dehydrating agent and a catalyst can be appropriately selected.

二層以上の多層ダイから押出された高耐熱性ポリイミドの前駆体溶液と、熱可塑性ポリイミドを含有する溶液若しくは熱可塑性ポリイミドの前駆体を含有する溶液中の溶媒の揮散方法に関しては特に限定されないが、加熱かつ/または送風による方法が最も簡易な方法である。上記加熱の際の温度は、高すぎると溶媒が急激に揮散し、当該揮散の痕が最終的に得られる接着フィルム中に微小欠陥を形成せしめる要因となるため、用いる溶媒の沸点+50℃未満であることが好ましい。   Although there is no particular limitation regarding the method of volatilization of the solvent in the precursor solution of the high heat-resistant polyimide extruded from the multilayer die of two or more layers and the solution containing the thermoplastic polyimide or the precursor of the thermoplastic polyimide, The method using heating and / or blowing is the simplest method. When the temperature at the time of heating is too high, the solvent is volatilized rapidly, and the trace of the volatilization causes a micro defect to be formed in the finally obtained adhesive film. Preferably there is.

イミド化時間に関しては、実質的にイミド化および乾燥が完結するに十分な時間を取ればよく、一義的に限定されるものではないが、一般的には1〜600秒程度の範囲で適宜設定される。   As for the imidization time, it suffices to take a sufficient time for the imidization and drying to be substantially completed, and although it is not uniquely limited, generally it is appropriately set within a range of about 1 to 600 seconds. Is done.

イミド化する際にかける張力としては、1kg/m〜15kg/mの範囲内とすることが好ましく、5kg/m〜10kg/mの範囲内とすることが特に好ましい。張力が上記範囲より小さい場合、フィルム搬送時にたるみや蛇行が生じ、巻取り時にシワが入ったり、均一に巻き取れない等の問題が生じる可能性がある。逆に上記範囲よりも大きい場合、強い張力がかかった状態で高温加熱されるため、得られるフレキシブル金属張積層板の寸法特性が悪化することがある。   The tension applied during imidization is preferably in the range of 1 kg / m to 15 kg / m, and particularly preferably in the range of 5 kg / m to 10 kg / m. If the tension is smaller than the above range, sagging or meandering may occur during film conveyance, which may cause problems such as wrinkling during winding or inability to uniformly wind. On the other hand, when it is larger than the above range, since it is heated at a high temperature in a state where a strong tension is applied, the dimensional characteristics of the obtained flexible metal-clad laminate may be deteriorated.

上記の二層以上の多層ダイとしては各種構造のものが使用できるが、例えば複数層用フィルム作成用のTダイス等が使用できる。また、従来既知のあらゆる構造のものを好適に使用可能であるが、特に好適に使用可能なものとして、フィードブロックTダイやマルチマニホールドTダイが例示される。   As the above-mentioned multilayer die having two or more layers, those having various structures can be used. For example, a T die for forming a film for a plurality of layers can be used. In addition, any conventionally known structure can be suitably used, and feed block T dies and multi-manifold T dies are exemplified as particularly suitable ones.

次に、本発明に係る接着フィルムの製造方法を実施例により詳しく説明する。 Next, the manufacturing method of the adhesive film which concerns on this invention is demonstrated in detail by an Example.

(合成例1;高耐熱性ポリイミド系化合物の前駆体のポリアミド酸の合成)
10℃に冷却したN,N−ジメチルホルムアミド(以下、DMFともいう)239kgに4,4’−オキシジアニリン(以下、ODAともいう)6.9kg、p−フェニレンジアミン(以下、p−PDAともいう)6.2kg、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン(以下、BAPPともいう)9.4kgを溶解した後、ピロメリット酸二無水物(以下、PMDAともいう)10.4kgを添加し1時間撹拌して溶解させた。ここに、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(以下、BTDAともいう)20.3kgを添加し1時間撹拌させて溶解させた。
(Synthesis Example 1; Synthesis of Polyamic Acid as Precursor of High Heat-Resistant Polyimide Compound)
239 kg of N, N-dimethylformamide (hereinafter also referred to as DMF) cooled to 10 ° C., 6.9 kg of 4,4′-oxydianiline (hereinafter also referred to as ODA), p-phenylenediamine (hereinafter also referred to as p-PDA) After dissolving 9.4 kg of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (hereinafter also referred to as BAPP) 6.2 kg, pyromellitic dianhydride (hereinafter also referred to as PMDA). ) 10.4 kg was added and dissolved by stirring for 1 hour. To this, 20.3 kg of benzophenone tetracarboxylic dianhydride (hereinafter also referred to as BTDA) was added and dissolved by stirring for 1 hour.

別途調製しておいたPMDAのDMF溶液(PMDA:DMF=0.9kg:7.0kg)を上記反応液に徐々に添加し、粘度が3500ポイズ程度に達したところで添加を止めた。1時間撹拌を行って固形分濃度18重量%、23℃での回転粘度が3500ポイズの、高耐熱性ポリイミド系化合物の前駆体のポリアミド酸溶液を得た。   A separately prepared DMF solution of PMDA (PMDA: DMF = 0.9 kg: 7.0 kg) was gradually added to the reaction solution, and the addition was stopped when the viscosity reached about 3500 poise. Stirring was performed for 1 hour to obtain a polyamic acid solution of a precursor of a high heat resistant polyimide compound having a solid content concentration of 18% by weight and a rotational viscosity at 23 ° C. of 3500 poise.

(合成例2;熱可塑性ポリイミド系化合物の前駆体のポリアミド酸の合成)
300Lの反応槽にDMFを78kg、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン(BAPP)を11.56kg加え、窒素雰囲気下で攪拌しながら、3,3’4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)を7.87kg徐々に添加した。続いて、エチレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)(TMEG)を0.38kg添加し、氷浴下で30分間撹拌した。0.2kgのTMEGを4kgのDMFに溶解させた溶液を別途調製し、これを上記反応溶液に、粘度に注意しながら徐々に添加、撹拌を行った。粘度が3300poiseに達したところで添加、撹拌をやめ、熱可塑性ポリイミド系化合物の前駆体のポリアミド酸溶液を得た。
Synthesis Example 2 Synthesis of Polyamic Acid as a Precursor of Thermoplastic Polyimide Compound
To a 300 L reaction vessel, 78 kg of DMF and 11.56 kg of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP) were added, and while stirring under a nitrogen atmosphere, 3,3′4,4 7.87 kg of '-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) was gradually added. Subsequently, 0.38 kg of ethylenebis (trimellitic acid monoester acid anhydride) (TMEG) was added and stirred for 30 minutes in an ice bath. A solution prepared by dissolving 0.2 kg of TMEG in 4 kg of DMF was separately prepared, and this was gradually added to the above reaction solution while paying attention to the viscosity and stirred. When the viscosity reached 3300 poise, addition and stirring were stopped to obtain a polyamic acid solution as a precursor of a thermoplastic polyimide compound.

(実施例1)
合成例1で得られた高耐熱性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液に、以下の化学脱水剤及び触媒を含有せしめた。
化学脱水剤:無水酢酸を高耐熱性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸のアミド酸ユニット1モルに対して2.0モル
触媒:イソキノリンを高耐熱性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸のアミド酸ユニット1モルに対して0.5モル
次いで、リップ幅650mmのマルチマニホールド式の3層共押出多層ダイから、外層が合成例2で得られた熱可塑性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸溶液、内層が高耐熱性ポリイミド溶液の前駆体のポリアミド酸溶液となる順番で形成された多層膜を連続的に押出して、当該Tダイスの下20mmを走行しているステンレス製のエンドレスベルト上に流延した。上記エンドレスベルトの表面粗さRaをJIS B−0601「表面あらさ」に基づき、ミツトヨ社製表面粗さ計サーフテストSJ−301を用いて、カットオフ値0.25mmでランダムに10点測定したところ、その平均値は0.008μmであった。次いで、この多層膜を130℃×100秒で加熱することで、自己支持性のゲル膜へと転化せしめた。当該ゲル膜には、層間剥離は観察されず、外観良好な形状のゲル膜であった。また、エンドレスベルトからの該自己支持性のゲル膜の引き剥がしは、容易に行われた。さらに、エンドレスベルトから引き剥がされた自己支持性のゲル膜テンタークリップに固定し、300℃×16秒、400℃×29秒、450℃×17秒で乾燥・イミド化させ、各熱可塑性ポリイミド層3μm、高耐熱性ポリイミド層18μmの良好な形状の接着フィルムを得た。
得られた接着フィルムの両側に18μm圧延銅箔(BHY−22B−T,ジャパンエナジー社製)を、さらに銅箔の両側に保護材料(アピカル125NPI;鐘淵化学工業株式会社製)を用いて、ポリイミドフィルムの張力0.4N/cm、ラミネート温度380℃、ラミネート圧力196N/cm(20kgf/cm)、ラミネート速度1.5m/分の条件で連続的に熱ラミネートを行い、フレキシブル金属張積層板を作製し、その表面を顕微鏡で観察したところ、金属箔の微小な浮きや膨れは観察されなかった。
Example 1
The following chemical dehydrating agent and catalyst were contained in the polyamic acid solution of the precursor of the high heat-resistant polyimide obtained in Synthesis Example 1.
Chemical dehydrating agent: 2.0 mol per 1 mol of polyamic acid amic acid unit of acetic anhydride as precursor of high heat resistant polyimide Catalyst: 1 mol of amic acid unit of polyamic acid as precursor of high heat resistant polyimide Next, from a multi-manifold three-layer coextrusion multilayer die having a lip width of 650 mm, the outer layer is a polyamic acid solution of a precursor of the thermoplastic polyimide obtained in Synthesis Example 2, and the inner layer is highly heat resistant. The multilayer film formed in the order of the polyamic acid solution as the precursor of the polyimide solution was continuously extruded and cast onto a stainless steel endless belt running 20 mm below the T die. When the surface roughness Ra of the endless belt was measured at 10 points at random with a cut-off value of 0.25 mm using a surface roughness meter Surf Test SJ-301 manufactured by Mitutoyo Co., Ltd. based on JIS B-0601 “surface roughness” The average value was 0.008 μm. Next, the multilayer film was heated at 130 ° C. for 100 seconds to be converted into a self-supporting gel film. No delamination was observed on the gel film, and the gel film had a good appearance. Also, the self-supporting gel film was easily peeled off from the endless belt. Furthermore, it is fixed to a self-supporting gel film tenter clip peeled off from the endless belt, dried and imidized at 300 ° C. × 16 seconds, 400 ° C. × 29 seconds, 450 ° C. × 17 seconds, and each thermoplastic polyimide layer An adhesive film having a good shape of 3 μm and a high heat-resistant polyimide layer 18 μm was obtained.
Using 18 μm rolled copper foil (BHY-22B-T, manufactured by Japan Energy Co., Ltd.) on both sides of the obtained adhesive film, and further using a protective material (Apical 125 NPI; manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd.) on both sides of the copper foil, A flexible metal-clad laminate is obtained by continuously laminating a polyimide film with a tension of 0.4 N / cm, a laminating temperature of 380 ° C., a laminating pressure of 196 N / cm (20 kgf / cm), and a laminating speed of 1.5 m / min. When fabricated and the surface thereof was observed with a microscope, the metal foil was not observed to be slightly lifted or swollen.

(参考例1)
エンドレスベルトの表面粗さRaが、1.1μmのものを使用することを除いて、実施例1と同様に接着フィルム及びフレキシブル金属張積層板を作成した。
ゲル膜には層間剥離は観察されず、エンドレスベルトからの自己支持性のゲル膜の引き剥がしは、容易に行われた。
しかしながら、得られたフレキシブル金属張積層板の表面を顕微鏡で観察したところ、250mm×250mmに数個の割合で、微小な浮きが観察された。
(Reference Example 1)
An adhesive film and a flexible metal-clad laminate were prepared in the same manner as in Example 1 except that an endless belt having a surface roughness Ra of 1.1 μm was used.
No delamination was observed in the gel film, and the self-supporting gel film was easily peeled off from the endless belt.
However, when the surface of the obtained flexible metal-clad laminate was observed with a microscope, minute floats were observed at a ratio of several pieces to 250 mm × 250 mm.

(参考例2)
触媒であるイソキノリンの添加量が、高耐熱性ポリイミドの前駆体のポリアミド酸のアミド酸ユニット1モルに対して2.1モルであることを除いて、実施例1と同様に接着フィルムを作成した。
ゲル膜に層間剥離が発生し、エンドレスベルトからの自己支持性ゲル膜の引き剥がしができなかった。
(Reference Example 2)
An adhesive film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the addition amount of isoquinoline as a catalyst was 2.1 mol with respect to 1 mol of the polyamic acid amic acid unit of the precursor of the high heat-resistant polyimide. .
Delamination occurred in the gel film, and the self-supporting gel film could not be peeled from the endless belt.

Claims (4)

少なくとも2種以上のポリイミド層を有する多層フィルムの製造方法であって、ポリイミド樹脂の前駆体を含む溶液・ポリイミド樹脂を含む溶液から選択される少なくとも2種以上の溶液を共押出によって支持体上に流延して2層以上の複数層を形成する工程を含み、前記共押出に用いる溶液の少なくとも1つの溶液には化学脱水剤及び触媒を含有し、化学脱水剤及び触媒を含有せしめる溶液に含まれるポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して0.5〜4.0モルの化学脱水剤と0.05〜2.0モルの触媒を用い、かつ、該支持体は、表面粗さRaが0.002〜1μmの範囲であることを特徴とする、多層フィルムの製造方法。 A method for producing a multilayer film having at least two kinds of polyimide layers, wherein at least two kinds of solutions selected from a solution containing a polyimide resin precursor and a solution containing a polyimide resin are coextruded on a support. Including a step of casting to form two or more layers, wherein at least one of the solutions used in the coextrusion contains a chemical dehydrating agent and a catalyst, and is included in a solution containing the chemical dehydrating agent and the catalyst. 0.5 to 4.0 moles of chemical dehydrating agent and 0.05 to 2.0 moles of catalyst are used per mole of amic acid unit in the polyamic acid, and the support has a surface roughness Ra. Is in the range of 0.002 to 1 μm. 前記支持体の表面粗さRaが0.002〜0.1μmであることを特徴とする、請求項1に記載の接着フィルムの製造方法。 The surface roughness Ra of the said support body is 0.002-0.1 micrometer, The manufacturing method of the adhesive film of Claim 1 characterized by the above-mentioned. 前記多層フィルムが高耐熱性ポリイミド層の少なくとも片面に熱可塑性ポリイミドを含有する接着層が積層された接着フィルムであって、前記共押出に用いる溶液が、高耐熱性ポリイミドの前駆体を含む溶液と、熱可塑性ポリイミドの前駆体を含む溶液および/又は熱可塑性ポリイミドを含有する溶液である請求項1または2記載の多層フィルムの製造方法。 The multilayer film is an adhesive film in which an adhesive layer containing a thermoplastic polyimide is laminated on at least one surface of a high heat resistant polyimide layer, and the solution used for the coextrusion includes a solution containing a precursor of a high heat resistant polyimide; The method for producing a multilayer film according to claim 1 or 2, which is a solution containing a precursor of thermoplastic polyimide and / or a solution containing thermoplastic polyimide. 化学脱水剤及び触媒を含有せしめる溶液に含まれるポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して1.0〜3.0モルの化学脱水剤と0.05〜1.0モルの触媒を用いることを特徴とする、請求項1乃至3に記載の多層フィルムの製造方法。 Use 1.0 to 3.0 mol of chemical dehydrating agent and 0.05 to 1.0 mol of catalyst for 1 mol of amic acid unit in polyamic acid contained in the solution containing the chemical dehydrating agent and catalyst. The manufacturing method of the multilayer film of Claim 1 thru | or 3 characterized by these.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007029609A1 (en) * 2005-09-05 2007-03-15 Kaneka Corporation Heat resistant adhesive sheet
JP2008188843A (en) * 2007-02-02 2008-08-21 Kaneka Corp Multilayer film of polyimide precursor solution, multilayer polyimide film, single sided metal-clad laminated sheet and manufacturing method of multilayer polyimide film

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