JP2006215395A - Near-infrared absorption filter - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a near-infrared absorbing dye having an absorption maximum at about 800-980 nm, excellent in heat resistance, wet heat resistance, etc., and having high solubility in a solvent, and a near-infrared absorption filter using the dye. <P>SOLUTION: The near-infrared absorption filter contains a compound represented by formula (1) wherein R<SP>1</SP>and R<SP>2</SP>each independently denote a monovalent organic group; X<SP>1</SP>and X<SP>2</SP>each independently denote -X(-R)<SB>(n-1)</SB>(where X denotes O, N, S or Si; R denotes a monovalent organic group, a plurality of symbols R may be the same or different; and n denotes the valence of X); R<SP>1</SP>and X<SP>1</SP>, and R<SP>2</SP>and X<SP>2</SP>may independently form a ring through a linking group; and M<SP>1</SP>denotes a metal atom. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は近赤外線吸収フィルター、特に可視光線領域の透過率が高く、近赤外線を有効に遮断する近赤外線吸収フィルターに関するものである。   The present invention relates to a near-infrared absorption filter, and more particularly to a near-infrared absorption filter that has a high transmittance in the visible light region and effectively blocks near-infrared rays.

一般に、近赤外線吸収色素を含有した樹脂からなるプラスチック性近赤外線吸収フィルターはよく知られており、その用途としては、サングラス、溶接用眼鏡、ビルや自動車、電車、飛行機の窓、あるいは情報読み取りのための光学読み取り装置等が挙げられる。
また、最近では、大型薄型の壁掛けテレビとして注目されているプラズマディスプレイパネル(以下、「PDP」という)が、近赤外線を発生して、コードレスホン、近赤外線リモコンを使うビデオデッキ等、周辺にある電子機器に作用し誤動作を起こすことから、PDP用フィルターとしても800nm〜1100nmの近赤外線を吸収する赤外線吸収色素を含有したフィルターの要求がある。
In general, plastic near-infrared absorption filters made of a resin containing a near-infrared absorbing dye are well known, and can be used for sunglasses, welding glasses, buildings, automobiles, trains, airplane windows, or information reading. For example, an optical reading device.
Recently, a plasma display panel (hereinafter referred to as “PDP”), which has been attracting attention as a large and thin wall-mounted TV, generates near infrared rays, such as a video deck using a cordless phone or a near infrared remote control. There is a demand for a filter containing an infrared-absorbing dye that absorbs near-infrared rays of 800 nm to 1100 nm as a filter for PDP because it acts on equipment and causes malfunction.

こうした近赤外線吸収フィルターに用いる近赤外線吸収色素として、800−980nm付近に吸収極大を有するジチオール金属錯体化合物が知られている(特許文献1、特許文献2)。
特開2002−132176号公報 特開昭64−69686号公報
As a near-infrared absorbing dye used for such a near-infrared absorbing filter, a dithiol metal complex compound having an absorption maximum in the vicinity of 800 to 980 nm is known (Patent Document 1, Patent Document 2).
JP 2002-132176 A JP-A 64-69686

しかし、本発明者らが特許文献1に記載の近赤外線吸収色素を用いて近赤外線吸収フィルターを製造したところ、溶媒に対する溶解性が低いため、近赤外線吸収色素を含む塗工液の色素濃度を上げられないという問題があった。また、特許文献2に記載の近赤外線吸収色素は、耐熱性、耐湿熱性が悪いという問題があった。
そこで、本発明においては、目的とする800−980nm付近に吸収極大を有し、耐熱性、耐湿熱性等に優れ、かつ、溶媒に対する溶解性の高い近赤外線吸収色素、およびそれを用いた近赤外線吸収フィルター、特には電子ディスプレイ用近赤外線吸収フィルターを提供することを課題とする。
However, when the present inventors manufactured a near-infrared absorbing filter using the near-infrared absorbing dye described in Patent Document 1, since the solubility in a solvent is low, the dye concentration of the coating liquid containing the near-infrared absorbing dye is There was a problem that it could not be raised. Moreover, the near-infrared absorbing dye described in Patent Document 2 has a problem of poor heat resistance and moist heat resistance.
Therefore, in the present invention, a near-infrared absorbing dye having an absorption maximum in the vicinity of the target 800-980 nm, excellent in heat resistance, moist heat resistance, and the like, and having high solubility in a solvent, and near infrared using the same It is an object of the present invention to provide an absorption filter, particularly a near infrared absorption filter for electronic displays.

本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、ジチオレート金属錯体において、特定の部位にヘテロ原子を有する置換基を導入することで、吸収極大を800−980nm付近に有し、溶媒に対する溶解度が高く、耐熱性および耐湿熱性が優れ、かつ可視領域の副吸収を抑えた近赤外線吸収色素を得ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明の要旨は下記一般式(1)   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have introduced a substituent having a hetero atom at a specific site in a dithiolate metal complex, thereby having an absorption maximum in the vicinity of 800-980 nm. The present inventors have found that a near-infrared absorbing dye having high solubility in a solvent, excellent heat resistance and heat-and-moisture resistance, and suppressing side absorption in the visible region can be obtained, and the present invention has been completed. That is, the gist of the present invention is the following general formula (1).

Figure 2006215395
Figure 2006215395

(式中、R1及びR2は、それぞれ独立して1価の有機基を示す。X1及びX2は、それぞれ独立して−X(−R)(n-1)(Xは酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子またはハロゲン原子を示す。Rは水素原子または一価の有機基を示し、複数あるRは同じでも異なっていても良い。nはXの価数を示す。)で表される置換基を示す。R1とX1及びR2とX1は、それぞれ独立して、連結基を介して環を形成していても良い。M1は金属原子を示す。)で表される化合物を含有する近赤外線吸収フィルターに存する。 (In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a monovalent organic group. X 1 and X 2 each independently represent —X (—R) (n−1) (X represents an oxygen atom ) , A nitrogen atom, a sulfur atom, a silicon atom or a halogen atom, R represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, a plurality of R may be the same or different, and n represents the valence of X.) R 1 and X 1 and R 2 and X 1 may each independently form a ring via a linking group, and M 1 represents a metal atom. It exists in the near-infrared absorption filter containing the compound represented by these.

本発明によれば、近赤外線吸収色素の溶解性が高く、耐光性、耐熱性等に優れ、かつ、可視領域の副吸収を抑えた近赤外線吸収フィルターが提供される。   According to the present invention, there is provided a near-infrared absorbing filter in which a near-infrared absorbing dye has high solubility, is excellent in light resistance, heat resistance, and the like, and suppresses side absorption in the visible region.

以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これらに限定されるものではない。
1.一般式(1)で表される化合物
前記一般式(1)において、R1及びR2は、それぞれ独立して水素原子または1価の有機基である。一価の有機基は、ジチオール環に結合する原子がヘテロ原子ではなく、金属錯体の安定性に悪影響を与えない基であれば特に限定されないが、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良い複素環基が挙げられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited to these unless it exceeds the gist.
1. Compound Represented by General Formula (1) In the general formula (1), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or a monovalent organic group. The monovalent organic group is not particularly limited as long as the atom bonded to the dithiol ring is not a heteroatom and does not adversely affect the stability of the metal complex. Examples thereof include a hydrogen group, an aryl group which may have a substituent, and a heterocyclic group which may have a substituent.

上記脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、2−メチルプロピル基、2−メチルブチル基、3−メチルブチル基、シクロヘキシルメチル基、ネオペンチル基、2−エチルブチル基、イソプロピル基、2−ブチル基、シクロヘキシル基、3−ペンチル基、tert−ブチル基、1,1−ジメチルプロピル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基;2−プロペニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、2,4−ペンタジエニル基等のアルケニル基;エチニル基等のアルキニル基が挙げられる。このうち好ましくは炭素数10以下の分岐鎖1級又は2級又は3級アルキル基である。   Examples of the aliphatic hydrocarbon group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, 2-methylpropyl group, 2-methylbutyl group, 3-methylbutyl group, cyclohexylmethyl group, neopentyl group, 2- Linear, branched or cyclic alkyl groups such as ethylbutyl, isopropyl, 2-butyl, cyclohexyl, 3-pentyl, tert-butyl and 1,1-dimethylpropyl; 2-propenyl Alkenyl groups such as 2-butenyl group, 3-butenyl group and 2,4-pentadienyl group; and alkynyl groups such as ethynyl group. Of these, a branched primary, secondary or tertiary alkyl group having 10 or less carbon atoms is preferred.

上記アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フルオレニル基、フェナンスレニル基、アズレニル基、メタロセン環基などが挙げられる。このうち好ましくは炭素数12以下の単環又は縮合2環式アリール基である。
上記複素環基としては、チエニル基、フリル基、ピロリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、インドールイル基、キノキサリニル基、アクリジニル基、チアゾリル基、ピラジニル基などがあげられる。このうち好ましくは、炭素数12以下の単環又は2環式5員環複素環基である。
Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthranyl group, a fluorenyl group, a phenanthrenyl group, an azulenyl group, and a metallocene ring group. Among these, a monocyclic or condensed bicyclic aryl group having 12 or less carbon atoms is preferable.
Examples of the heterocyclic group include thienyl group, furyl group, pyrrolyl group, pyridyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, indoleyl group, quinoxalinyl group, acridinyl group, thiazolyl group, pyrazinyl group and the like. Of these, a monocyclic or bicyclic 5-membered heterocyclic group having 12 or less carbon atoms is preferable.

該R1及びR2の脂肪族炭化水素基及びアリール基及び複素環基の置換基としては、金属錯体の安定性に悪影響を与えない基であれば、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アミノ基、アシル基、アミノアシル基、ウレイド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、イミド基及びシリル基などからなる群より選択された基が挙げられる。これらの置換基として具体的にはメチル基、エチル基などの炭素数1〜6程度のアルキル基;エチニル基、プロピレニル基などの炭素数1〜6程度のアルケニル基;アセチレニル基など炭素数1〜6程度のアルキニル基;フェニル基、ナフチル基などの炭素数6〜20程度のアリール基;チエニル基、フリル基、ピリジル基などの炭素数3〜20程度のヘテロアリール基;エトキシ基、プロポキシ基などの炭素数1〜6程度のアルコキシ基;フェノキシ基、ナフトキシ基などの炭素数6〜20程度のアリールオキシ基;ピリジルオキシ基、チエニルオキシ基などのなどの炭素数3〜20程度のヘテロアリールオキシ基;メチルチオ基、エチルチオ基などの炭素数1〜6程度のアルキルチオ基;フェニルチオ基、ナフチルチオ基などの炭素数6〜20程度のアリールチオ基;ピリジルチオ基、チエニルチオ基などのなどの炭素数3〜20程度のヘテロアリールチオ基;ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの炭素数1〜20程度の置換基を有していても良いアミノ基;アセチル基、ピバロイル基などの炭素数2〜20程度のアシル基;アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基などの炭素数2〜20程度のアシルアミノ基;3−メチルウレイド基などの炭素数2〜20程度のウレイド基;メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基などの炭素数1〜20程度のスルホンアミド基;ジメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基などの炭素数1〜20程度のカルバモイル基;エチルスルファモイル基などの炭素数1〜20程度のスルファモイル基;ジメチルスルファモイルアミノ基などの炭素数1〜20程度のスルファモイルアミノ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などの炭素数2〜6程度のアルコキシカルボニル基;フェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基などの炭素数7〜20程度のアリールオキシカルボニル基;ピリジルオキシカルボニル基などの炭素数6〜20程度のヘテロアリールオキシカルボニル基;メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、取りフルオロメタンスルホニル基などの炭素数1〜6程度のアルキルスルホニル基;ベンゼンスルホニル基、モノフルオロベンゼンスルホニル基などの炭素数6〜20程度のアリールスルホニル基;チエニルスルホニル基などの炭素数3〜20程度のヘテロアリールオキシスルホニル基;フタルイミドなどの炭素数4〜20程度のイミド基;又は、アルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で3置換されているシリル基が挙げられる。 The substituent for the aliphatic hydrocarbon group, aryl group and heterocyclic group of R 1 and R 2 is not particularly limited as long as it does not adversely affect the stability of the metal complex. Hydroxyl group, nitro group, cyano group, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heteroaryl group, alkoxy group, aryloxy group, heteroaryloxy group, alkylthio group, arylthio group, heteroarylthio group, amino group, Acyl group, aminoacyl group, ureido group, sulfonamido group, carbamoyl group, sulfamoyl group, sulfamoylamino group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, heteroaryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, heteroaryl Sulfonyl group, imide group and And a group selected from the group consisting of a tolyl group and the like. Specific examples of these substituents include alkyl groups having about 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group; alkenyl groups having about 1 to 6 carbon atoms such as an ethynyl group and a propylenyl group; An alkynyl group of about 6; an aryl group of about 6 to 20 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group; a heteroaryl group of about 3 to 20 carbon atoms such as a thienyl group, a furyl group and a pyridyl group; an ethoxy group and a propoxy group An alkoxy group having about 1 to 6 carbon atoms; an aryloxy group having about 6 to 20 carbon atoms such as a phenoxy group and a naphthoxy group; a heteroaryloxy having about 3 to 20 carbon atoms such as a pyridyloxy group and a thienyloxy group Group: an alkylthio group having about 1 to 6 carbon atoms such as methylthio group and ethylthio group; 6 carbon atoms such as phenylthio group and naphthylthio group An arylthio group having about 20; a heteroarylthio group having about 3 to 20 carbon atoms such as a pyridylthio group and a thienylthio group; a substituent having about 1 to 20 carbon atoms such as a dimethylamino group and a diphenylamino group; A good amino group; an acyl group having about 2 to 20 carbon atoms such as an acetyl group and a pivaloyl group; an acylamino group having about 2 to 20 carbon atoms such as an acetylamino group and a propionylamino group; and a carbon number such as a 3-methylureido group A ureido group having about 2 to 20; a sulfonamide group having about 1 to 20 carbon atoms such as methanesulfonamide group and benzenesulfonamide group; a carbamoyl group having about 1 to 20 carbon atoms such as dimethylcarbamoyl group and ethylcarbamoyl group; A sulfamoyl group having about 1 to 20 carbon atoms such as a sulfamoyl group; dimethylsulfa A sulfamoylamino group having about 1 to 20 carbon atoms such as an ylamino group; an alkoxycarbonyl group having about 2 to 6 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group; 7 carbon atoms such as a phenoxycarbonyl group and a naphthoxycarbonyl group An aryloxycarbonyl group having about 20 carbon atoms; a heteroaryloxycarbonyl group having about 6-20 carbon atoms such as a pyridyloxycarbonyl group; a methanesulfonyl group, an ethanesulfonyl group, a fluoromethanesulfonyl group having about 1-6 carbon atoms An alkylsulfonyl group; an arylsulfonyl group having about 6 to 20 carbon atoms such as a benzenesulfonyl group and a monofluorobenzenesulfonyl group; a heteroaryloxysulfonyl group having about 3 to 20 carbon atoms such as a thienylsulfonyl group; and a carbon number of 4 such as phthalimide ~ 2 An imide group of about 0; or a silyl group that is trisubstituted with a substituent selected from the group consisting of an alkyl group and an aryl group.

上記R1及びR2の中でも好ましくヘテロ環を含まない置換基を有していても良いアルキル基、又は、単環式アリール基、又は、単環式へテロアリール基であり、特に好ましくは分岐鎖のアルキル基、又は、単環式アリール基である。
上記X1及びX2は、それぞれ独立して、−X(−R)(n-1)(Xは酸素原子、窒素原子
、硫黄原子、ケイ素原子またはハロゲン原子を示す。Rは水素原子または一価の有機基を示し、複数あるRは同じでも異なっていても良い。nはXの価数を示す。)で表される置換基を示す。
Among the above R 1 and R 2 , preferred are an alkyl group which may have a substituent which does not contain a heterocycle, a monocyclic aryl group or a monocyclic heteroaryl group, and particularly preferably a branched chain Or a monocyclic aryl group.
X 1 and X 2 are each independently -X (-R) (n-1) (X represents an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, a silicon atom or a halogen atom. R represents a hydrogen atom or a single atom. A plurality of Rs may be the same or different, and n represents a valence of X.)

Xとしては、硫黄原子およびケイ素原子が好ましく、硫黄原子がより好ましい。
Rの一価の有機基としては、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、置換基を有していても良いアリール基、又は置換基を有していても良い複素環基である。
上記脂肪族炭化水素基及びアリール基及び複素環基としては、R1及びR2で述べたものと同様のものがあげられる。
X is preferably a sulfur atom or a silicon atom, and more preferably a sulfur atom.
The monovalent organic group for R includes an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a heterocyclic group which may have a substituent. It is.
Examples of the aliphatic hydrocarbon group, aryl group and heterocyclic group are the same as those described for R 1 and R 2 .

該脂肪族炭化水素基及びアリール基及び複素環基の置換基としては、金属錯体の安定性に悪影響を与えない基であれば特に限定されないが、R1及びR2で述べたものと同様のものがあげられる。
また、上記X1及びX2が置換基を有していても良い窒素原子又は酸素原子又は硫黄原子の場合、X1とR1及びX2とR2は、一体となって−CH2−CH2−、−CH2−CH2−CH2−、CH2−CH2−CH2−CH2−、−CH(Ph)−CH2−、−CH(Me)−
CH2−等の置換されていても良いアルキレン基;−CH=CH−、−C(Me)=CH
−、−CH=CH−CH2−CH2−CH=CH−等の置換されていても良いアルケニレン基;−CH2−S−CH2−、−CH2−O−CH2−、−CH2−C(=O)−CH2−、−CH2−CH2−S−CH2−CH2−、−CH2−CH2−O−CH2−CH2−等の連結基を含有するアルキレン基等を形成していても良い。基本骨格の具体的構造としては、例えば、以下のものがあげられる。(ここでRは、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基又は置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いスルホニル基を示し、好ましい例は、R1及びR2のところで述べたものと同様のものがあげられる。)
The substituent of the aliphatic hydrocarbon group, aryl group and heterocyclic group is not particularly limited as long as it does not adversely affect the stability of the metal complex, but the same as those described for R 1 and R 2 Things can be raised.
When X 1 and X 2 are nitrogen atoms, oxygen atoms or sulfur atoms which may have a substituent, X 1 and R 1 and X 2 and R 2 are combined with each other as —CH 2 —. CH 2 -, - CH 2 -CH 2 -CH 2 -, CH 2 -CH 2 -CH2-CH 2 -, - CH (Ph) -CH 2 -, - CH (Me) -
An optionally substituted alkylene group such as CH 2 —; —CH═CH—, —C (Me) ═CH
—, —CH═CH—CH 2 —CH 2 —CH═CH— and the like, an optionally substituted alkenylene group; —CH 2 —S—CH 2 —, —CH 2 —O—CH 2 —, —CH 2 -C (= O) -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 -S-CH 2 -CH 2 -, - contain a linking group such as - CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 2 An alkylene group or the like may be formed. Specific examples of the basic skeleton include the following. (Wherein R represents an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent or a sulfonyl group which may have a substituent, and preferred examples are , R 1 and R 2 are the same as described above.)

Figure 2006215395
Figure 2006215395

(ここでRは、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基又は置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いスルホニル基を示し、好ましい例は、R1
びR2のところで述べたものと同様のものがあげられる。)
−X(−R)(n-1)で表される置換基の中でも、Rが芳香族炭化水素基であって、Xが
硫黄の場合、耐熱性、耐湿熱性および耐光性、特に耐熱性および耐湿熱性がいずれも良好であるため好ましい。
(Wherein R represents an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent or a sulfonyl group which may have a substituent, and preferred examples are , R 1 and R 2 are the same as described above.)
Among the substituents represented by -X (-R) (n-1) , when R is an aromatic hydrocarbon group and X is sulfur, heat resistance, moist heat resistance and light resistance, particularly heat resistance and It is preferable because the heat and humidity resistance is good.

また、上記一般式(1)で表される化合物において、R1及びR2、X1及びX2、はそれぞれ同一でも異なっていても良いが、同一である方がより好ましい。
1は、4配位の形態をとりうる金属原子であれば特に限定されないが、好ましくはN
i、Pd又はPtの10族金属原子;Co;Fe;Cu;Ag;又はZnが挙げられ、より好ましくは10族金属原子であり、特に好ましくはNi又はPdである。
Moreover, in the compound represented by the general formula (1), R 1 and R 2 , X 1 and X 2 may be the same or different, but are preferably the same.
M 1 is not particularly limited as long as it is a metal atom that can take a tetracoordinated form.
i, Pd, or Pt group 10 metal atom; Co; Fe; Cu; Ag; or Zn, and more preferably a group 10 metal atom, and particularly preferably Ni or Pd.

本発明の近赤外線吸収フィルターに用いられる化合物の好ましい具体例としては、例えば、以下に例示されるものが挙げられる。ただし、以下の化合物に限定されるものではない。   Preferable specific examples of the compound used in the near infrared absorption filter of the present invention include, for example, those exemplified below. However, it is not limited to the following compounds.

Figure 2006215395
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Figure 2006215395
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Figure 2006215395
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Figure 2006215395
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Figure 2006215395
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以上のような本発明の近赤外線吸収フィルターに用いられる上記一般式(1)で表される化合物は、リガンド部分の分子量が通常1000以下が好ましく、さらに好ましくは600以下の化合物である。
また、上記一般式(1)で表される化合物のモル吸光係数は、通常5000以上、好ましくは8000以上の化合物である。
The compound represented by the above general formula (1) used in the near-infrared absorption filter of the present invention as described above is preferably a compound having a ligand moiety molecular weight of preferably 1000 or less, more preferably 600 or less.
Further, the molar extinction coefficient of the compound represented by the general formula (1) is usually 5000 or more, preferably 8000 or more.

加えて、上記一般式(1)で表される化合物のトルエン等芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒から選ばれる溶媒に対する25℃における溶解度としては、通常0.01重量%以上、好ましくは0.05重量%以上、より好ましくは0.1重量%以上、更に好ましくは0.2重量%以上である。
また、通常20重量%以下、好ましくは10重量%以下、より好ましくは5重量%以下、更に好ましくは3重量%以下、特に好ましくは2重量%以下である。特にトルエンに対する25℃における溶解度が通常0.8重量%以上、好ましくは0.9重量%以上、より好ましくは1.0重量%以上といった溶解度を達成することができる。
メチルエチルケトンに対する25℃における溶解度が通常0.15重量%以上、好ましくは0.2重量%以上、より好ましくは0.3重量%以上、特に好ましくは0.4重量%以上といった溶解度を達成することができる。
そして、近赤外線吸収フィルターの項で詳述する通り、フィルターに近赤外線吸収色素として含まれる場合に、良好な耐熱性及び耐湿熱体を有するものである。
このような一般式(1)で表される化合物は、例えば、Mol. Cryst. Liq. Crst.(Lett), 56巻、249頁(1980年)記載の公知の方法で [1,3]−ジチオール−2−オン誘導体を得た後、求核性の低い塩基;例えば、リチウムヘキサメチルジシラジドまたはリチウムジイソプロピルアミドなどと作用させた後、各種求電子試薬との反応により目的前駆体を得る。これを例えば、J.Mat.Chem.,1861頁(1994年)などの公知の方法に従い含金属化し、目的金属錯体を得る。また、その吸収極大波長が800〜980nmのものであり、近赤外線吸収色素として好適に使用できる。
In addition, the solubility of the compound represented by the above general formula (1) at 25 ° C. in an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene, an ether solvent such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane, and a solvent selected from a ketone solvent such as methyl ethyl ketone Is usually 0.01% by weight or more, preferably 0.05% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, and further preferably 0.2% by weight or more.
Moreover, it is 20 weight% or less normally, Preferably it is 10 weight% or less, More preferably, it is 5 weight% or less, More preferably, it is 3 weight% or less, Most preferably, it is 2 weight% or less. In particular, the solubility in toluene at 25 ° C. is usually 0.8% by weight or more, preferably 0.9% by weight or more, more preferably 1.0% by weight or more.
The solubility at 25 ° C. in methyl ethyl ketone is usually 0.15% by weight or more, preferably 0.2% by weight or more, more preferably 0.3% by weight or more, and particularly preferably 0.4% by weight or more. it can.
And when it is contained in a filter as a near-infrared absorption pigment | dye as it explains in full detail at the term of a near-infrared absorption filter, it has favorable heat resistance and a heat-and-moisture resistant body.
Such a compound represented by the general formula (1) can be obtained by a known method described in, for example, Mol. Cryst. Liq. Crst. (Lett), 56, 249 (1980) [1,3]- After obtaining a dithiol-2-one derivative, the target precursor is obtained by reacting with a low nucleophilic base; for example, lithium hexamethyldisilazide or lithium diisopropylamide, and then reacting with various electrophiles. . This is described, for example, in J. Org. Mat. Chem. , 1861 (1994) and the like, and metallization is carried out to obtain the target metal complex. Moreover, the absorption maximum wavelength is 800-980 nm, and it can be used conveniently as a near-infrared absorbing dye.

本発明の化合物を製造する具体例としては例えば[1,3]−ジチオール−2−オン誘導体と1.5〜2倍当量の下記式(a)〜(d)で表される化合物
RS−SRR・・・式(a)
R’N−NR’R・・・式(b)
RO−OR・・・式(c)
RR’R’’SiCl・・・式(d)
(式(a)〜(d)中、RR’およびR’’はそれぞれ独立に、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、置換基を有していても良いアリール基、置換基を有していても良い複素環基を示す。好ましい具体例は、先のR1、R2のそれと同じである。)
あるいはハロゲン分子を混合した無水THF溶液を−78℃に冷却する。
ここで、溶媒である無水THF溶液量は、[1,3]−ジチオール−2−オン誘導体1mmolに対し、1〜10ml程度が好ましい。
Specific examples of producing the compound of the present invention include, for example, [1,3] -dithiol-2-one derivatives and 1.5 to 2 equivalents of compounds represented by the following formulas (a) to (d) RS-SRR ... Formula (a)
R'N-NR'R Formula (b)
RO-OR ... Formula (c)
RR′R ″ SiCl Formula (d)
(In the formulas (a) to (d), RR ′ and R ″ are each independently an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, and a substituent. A heterocyclic group which may have a group is shown.Preferable specific examples are the same as those of R1 and R2 above.)
Alternatively, an anhydrous THF solution mixed with halogen molecules is cooled to -78 ° C.
Here, the amount of anhydrous THF solution as a solvent is preferably about 1 to 10 ml with respect to 1 mmol of the [1,3] -dithiol-2-one derivative.

この反応溶液に、[1,3]−ジチオール−2−オン誘導体に対し1.05〜1.2倍当量の1Mのリチウムヘキサメチルジシラジドヘキサン溶液、または、2Mのリチウムジイソプロピルアミドヘプタン・THF溶液を、5〜10分程度で滴下する。
この混合溶液を2時間かけて徐々に0℃まで昇温させ、氷―飽和塩化アンモニウム水溶
液に注ぎ、酢酸エチルなどのエステル系溶媒(あるいは、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒、あるいは、ジエチルエーテルなどのエーテル系溶媒)で抽出したのち、減圧で溶媒を除去し、目的中間体を得る。
In this reaction solution, 1.05 to 1.2 times equivalent of 1M lithium hexamethyldisilazide hexane solution or 2M lithium diisopropylamide heptane / THF with respect to [1,3] -dithiol-2-one derivative. The solution is added dropwise in about 5 to 10 minutes.
The mixed solution is gradually warmed to 0 ° C. over 2 hours, poured into ice-saturated aqueous ammonium chloride solution, and ester solvent such as ethyl acetate (or halogen solvent such as chloroform or ether such as diethyl ether). The solvent is removed under reduced pressure to obtain the target intermediate.

通常、この反応は、副生成物を生成しないので、そのまま、続くニッケル含金属化を行うことができるが、必要に応じてシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製してもよい。
2.一般式(2)〜(11)で表される近赤外線吸収化合物
本発明の近赤外線吸収フィルターには、さらに下記一般式(2)〜(11)で表される化合物からなる群より選ばれる化合物を少なくとも1種類以上含有することにより、750〜1050nmの範囲の近赤外線領域を幅広く吸収できるため、特に電子ディスプレイ用フィルターに用いる場合には好ましい。
Usually, since this reaction does not produce a by-product, the subsequent nickel metallization can be carried out as it is, but it may be purified by silica gel column chromatography if necessary.
2. Near-infrared absorbing compounds represented by general formulas (2) to (11) The near-infrared absorbing filter of the present invention further includes a compound selected from the group consisting of compounds represented by the following general formulas (2) to (11) By containing at least one or more, it is possible to absorb a wide range of near-infrared regions in the range of 750 to 1050 nm.

Figure 2006215395
Figure 2006215395

Figure 2006215395
Figure 2006215395

前記一般式(2)において、A及びA’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。
5及びR6は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。ここで、R5とR6は、互いに直接的に又は連結基を介して結ばれていても良い。M2
は、M1で記載したのと同様のものを用いることができる。
In the general formula (2), A and A ′ each independently represent an aryl group which may have a substituent or a heteroaryl group which may have a substituent.
R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group that may have a substituent, an aryl group that may have a substituent, or a heteroaryl that may have a substituent. Indicates a group. Here, R 5 and R 6 may be linked directly or via a linking group. M 2
May be the same as those described for M 1 .

上記A及びA’のアリール基及びヘテロアリール基を構成する骨格としては、好ましくは6員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基等のアリール基;又は、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等のヘテロアリール基が挙げられる。このうち好ましくは、アリール基、より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。   The skeleton constituting the aryl group and heteroaryl group of A and A ′ is preferably a 6-membered monocyclic ring or a condensed ring thereof. Specifically, a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, An aryl group such as a pyrenyl group or a fluorenyl group; or a heteroaryl group such as a thienyl group, a furyl group, a pyridyl group, an imidazolyl group, a pyrazinyl group, or a pyrazolyl group. Among these, an aryl group is preferable, and an aryl group such as a benzene ring or a naphthalene ring is more preferable.

上記A及びA’のアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、先のR1〜R2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、臭素原子、フッ素原子などのハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基;メチル基、エチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数1〜10のアルキル基;フェニル基、トリル基等の炭素数6〜10のアリール基;ピリジル基、チエニル基等の炭素数4〜8のヘテロアリール基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、i−プロポキシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基などの炭素数1〜6のアルコキシ基;フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数6〜10のアリールオキシ基;または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。 Examples of the substituent of the aryl group and heteroaryl group of A and A ′ include the same substituents as those described above as the substituents of R 1 to R 2. , A nitro group, a cyano group, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent, and a substituent Examples thereof include an alkoxy group which may be substituted, an aryloxy group which may have a substituent, and an amino group which may have a substituent. More specifically, halogen atoms such as chlorine atom, bromine atom and fluorine atom; nitro group; cyano group; methyl group, ethyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-butyl group, n-hexyl group A halogen atom such as a cyclohexyl group, a benzyl group, a phenethyl group or a trifluoromethyl group or an aryl group which may be substituted; an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; an aryl group having 6 to 10 carbon atoms such as a phenyl group or a tolyl group; Groups: heteroaryl groups having 4 to 8 carbon atoms such as pyridyl group and thienyl group; having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, i-propoxy group, t-butoxy group and n-butoxy group Alkoxy group; aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms such as phenoxy group and methylphenoxy group; or amino group, dimethylamino group, diethylamino group, di Eniruamino group include an alkyl group and an amino group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of aryl groups such as methylphenylamino group.

また、A及びA’上の隣り合う2個の置換基が一体となって、−(CH23−又は−(CH24−等の炭素数2〜5程度のアルキレン基、−OCH2O−又は−O(CH22
−等の炭素数1〜4程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
上記R5とR6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、2−メチルプロピル基、2−メチルブチル基、3−メチルブチル基、シクロヘキシルメチル基、ネオペンチル基、2−エチルブチル基、イソプロピル基、2−ブチル基、シクロヘキシル基、3−ペンチル基、1,1−ジメチルプロピル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基が挙げられる。このうち好ましくは炭素数10以下の1級又は2級アルキル基、特に好ましくは炭素数10以下の1級アルキル基である。
上記R5とR6のアルキル基の置換基としては、先のR1〜R2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、特に好ましくは,無置換、ハロゲン原子(特に好ましくはフッ素原子)、シアノ基、アルコキシ基及びアリール基である。
上記R5とR6のアリール基及びヘテロアリール基としてはフェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等の5員又は6員単環若しくはそれらの縮合環が挙げられる。このうち好ましくは、置換基を有していても良いアリール基、より好ましくは、置換基を有していても良いフェニル基である。
Further, two adjacent substituents on A and A ′ are combined to form an alkylene group having about 2 to 5 carbon atoms such as — (CH 2 ) 3 — or — (CH 2 ) 4 —, —OCH 2 O— or —O (CH 2 ) 2 O
An alkylenedioxy group having about 1 to 4 carbon atoms such as-may be formed.
Examples of the alkyl group of R 5 and R 6 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, 2-methylpropyl group, 2-methylbutyl group, 3-methylbutyl group, cyclohexylmethyl group, and neopentyl group. , A linear, branched or cyclic alkyl group such as 2-ethylbutyl group, isopropyl group, 2-butyl group, cyclohexyl group, 3-pentyl group, 1,1-dimethylpropyl group. Among these, a primary or secondary alkyl group having 10 or less carbon atoms is preferable, and a primary alkyl group having 10 or less carbon atoms is particularly preferable.
Examples of the substituent for the alkyl group of R 5 and R 6 include the same substituents as those described above as the substituents for R 1 to R 2 , and particularly preferably an unsubstituted or halogen atom (particularly Preferably a fluorine atom), a cyano group, an alkoxy group and an aryl group.
The aryl group and heteroaryl group of R 5 and R 6 include phenyl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group, pyrenyl group or fluorenyl group, thienyl group, furyl group, pyridyl group, imidazolyl group, pyrazinyl group or pyrazolyl group. 5-membered or 6-membered monocyclic ring or a condensed ring thereof. Of these, an aryl group which may have a substituent is preferable, and a phenyl group which may have a substituent is more preferable.

Figure 2006215395
Figure 2006215395

さらに、置換基を有しても良いフェニル基のうち、特に好ましくは、上記R5及びR6が結合している窒素原子と結合する炭素原子に隣接する炭素原子が、置換基R43及びR44を有する場合である。R43及びR44は、1価の置換基を示す。上記R43及びR44としては、色素の安定性に悪影響を与えない基であれば特に限定されないが、より好ましくは、置換基を有しても良いアルキル基、置換基を有しても良いアルコキシ基、置換基を有しても良いアリール基、置換基を有しても良いアリールオキシ基、置換基を有しても良い複素環基、置換基を有しても良い複素環オキシ基、置換されていても良いアルキルチオ基、置換されていても良いアリールチオ基及び置換されていても良い複素環チオ基からなる群より選ばれる置換基のように立体障害性の高い基であるか、または、Hammettの置換基定数smが0.00<sm<0.90となるような電子吸引性基が挙げられる。
上記電子吸引性基としては、例えば、J.Med.Chem.,16,1207(1973)やJ.Med.Chem.,20,304(1977)に記載されているようなものが挙げられるが、より具体的には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、ハロアリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ハロアルキルスルホニル基、ハロアリールスルホニル基等が挙げられる。
Furthermore, among the phenyl groups which may have a substituent, particularly preferably, the carbon atom adjacent to the carbon atom bonded to the nitrogen atom to which R 5 and R 6 are bonded is the substituent R 43 and R This is the case with 44 . R 43 and R 44 represent a monovalent substituent. R 43 and R 44 are not particularly limited as long as they are groups that do not adversely affect the stability of the dye. More preferably, they may have an alkyl group that may have a substituent or a substituent. Alkoxy group, aryl group which may have a substituent, aryloxy group which may have a substituent, heterocyclic group which may have a substituent, heterocyclic oxy group which may have a substituent A group having a high steric hindrance such as a substituent selected from the group consisting of an optionally substituted alkylthio group, an optionally substituted arylthio group and an optionally substituted heterocyclic thio group, Alternatively, an electron-withdrawing group having a Hammett substituent constant sm of 0.00 <sm <0.90 can be given.
Examples of the electron-withdrawing group include J.I. Med. Chem. 16, 1207 (1973) and J.A. Med. Chem. , 20, 304 (1977), more specifically, halogen atoms, cyano groups, nitro groups, haloalkyl groups, haloalkoxy groups, haloaryloxy groups, acyl groups, Examples include an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a haloalkylsulfonyl group, a haloarylsulfonyl group, and the like.

5及びR6が芳香環の場合、芳香環上の置換基同士は、隣り合う2個の置換基が一体と
なって、−(CH23−又は−(CH24−等の炭素数2〜5程度のアルキレン基、−OCH2O−又は−O(CH22O−等の炭素数1〜4程度のアルキレンジオキシ基等を形
成していても良い。
Xは、15族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。R'
、R'' 、R''' 、R''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置
換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、R1〜R4の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。R'、R'' 、R''' 、R''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、i−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基;トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基;フェニル基;ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
好ましくは、塩を形成しているものより、塩を形成していないものの方がよい。
In the case where R 5 and R 6 are aromatic rings, the substituents on the aromatic ring are formed by combining two adjacent substituents, such as — (CH 2 ) 3 — or — (CH 2 ) 4 —. An alkylene group having about 2 to 5 carbon atoms, an alkylenedioxy group having about 1 to 4 carbon atoms such as —OCH 2 O— or —O (CH 2 ) 2 O— may be formed.
X represents a group 15 atom, particularly preferably a nitrogen atom or a phosphorus atom. R '
, R '', R '' ', R'''' are each independently, optionally be alkyl or substituted optionally substituted is also aryl group, the substituent of the alkyl group and aryl group Examples of the substituent include the same substituents as those exemplified as the substituents for R 1 to R 4 . R ', R'',R''', R 'as''', among them preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, i- propyl, i- butyl, n- butyl, n- hexyl Group, alkyl group such as cyclohexyl group; haloalkyl group such as trichloromethyl group and trifluoromethyl group; phenyl group; aralkyl group such as phenethyl group such as benzyl group.
Preferably, those not forming a salt are better than those forming a salt.

一般式(2)で表される色素の好ましい具体例としては、下記構造式で表される化合物が上げられる。   Preferable specific examples of the dye represented by the general formula (2) include compounds represented by the following structural formula.

Figure 2006215395
Figure 2006215395

Figure 2006215395
Figure 2006215395

Figure 2006215395
Figure 2006215395

前記一般式(3)において、B及びB’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。
7及びR8は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。ここで、R7とR8は、互いに直接的に又は連結基を介して結ばれていても良い。M3
は、M1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
In the general formula (3), B and B ′ each independently represent an aryl group which may have a substituent or a heteroaryl group which may have a substituent.
R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a heteroaryl which may have a substituent. Indicates a group. Here, R 7 and R 8 may be connected to each other directly or via a linking group. M 3
Can use the same metals as described for M 1 .

上記B及びB’のアリール基及びヘテロアリール基を構成する骨格としては、好ましくは6員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基等のアリール基;又は、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等のヘテロアリール基が挙げられる。このうち好ましくは、アリール基、より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。   The skeleton constituting the aryl group and heteroaryl group of B and B ′ is preferably a 6-membered monocyclic ring or a condensed ring thereof. Specifically, a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, An aryl group such as a pyrenyl group or a fluorenyl group; or a heteroaryl group such as a thienyl group, a furyl group, a pyridyl group, an imidazolyl group, a pyrazinyl group, or a pyrazolyl group. Among these, an aryl group is preferable, and an aryl group such as a benzene ring or a naphthalene ring is more preferable.

上記B及びB’のアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、先のR1〜R2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、臭素原子、フッ素原子などのハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基;メチル基、エチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数1〜10のアルキル基;フェニル基、トリル基等の炭素数6〜10のアリール基;ピリジル基、チエニル基等の炭素数4〜8のヘテロアリール基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、i−プロポキシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基などの炭素数1〜6のアルコキシ基;フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数6〜10のアリールオキシ基;または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。 Examples of the substituent for the aryl group and heteroaryl group for B and B ′ include the same substituents as those described above as the substituents for R 1 to R 2. , A nitro group, a cyano group, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent, and a substituent. Examples thereof include an alkoxy group which may be substituted, an aryloxy group which may have a substituent, and an amino group which may have a substituent. More specifically, halogen atoms such as chlorine atom, bromine atom and fluorine atom; nitro group; cyano group; methyl group, ethyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-butyl group, n-hexyl group A halogen atom such as a cyclohexyl group, a benzyl group, a phenethyl group or a trifluoromethyl group or an aryl group which may be substituted; an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; an aryl group having 6 to 10 carbon atoms such as a phenyl group or a tolyl group; Groups: heteroaryl groups having 4 to 8 carbon atoms such as pyridyl group and thienyl group; having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, i-propoxy group, t-butoxy group and n-butoxy group Alkoxy group; aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms such as phenoxy group and methylphenoxy group; or amino group, dimethylamino group, diethylamino group, di Eniruamino group include an alkyl group and an amino group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of aryl groups such as methylphenylamino group.

また、B及びB’上の隣り合う2個の置換基が一体となって、−(CH23−又は−(CH24−等の炭素数2〜5程度のアルキレン基、−OCH2O−又は−O(CH22
−等の炭素数1〜4程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
上記R7及びR8のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基としては、先のR5
びR6のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基であげたものと同様のものがあげ
られる。上記R7及びR8のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基の置換基としては、先のR1〜R2の置換基としてあげたものと同様の置換基があげられるが、特に好ましくは、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基及びアリールオキシ基である。
7及びR8は、直接、あるいは、連結基を介して互いに結ばれていても良いが、特に下図のような場合が好ましい。
Also, two adjacent substituents on B and B ′ are combined to form an alkylene group having about 2 to 5 carbon atoms such as — (CH 2 ) 3 — or — (CH 2 ) 4 —, —OCH 2 O— or —O (CH 2 ) 2 O
An alkylenedioxy group having about 1 to 4 carbon atoms such as-may be formed.
Examples of the alkyl group, aryl group or heteroaryl group for R 7 and R 8 include the same groups as those described above for the alkyl group, aryl group or heteroaryl group for R 5 and R 6 . Examples of the substituent of the alkyl group, aryl group or heteroaryl group of R 7 and R 8 include the same substituents as those described above as the substituents of R 1 to R 2 . A halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group and an aryloxy group;
R 7 and R 8 may be linked to each other directly or via a linking group, but the case as shown in the figure below is particularly preferred.

Figure 2006215395
Figure 2006215395

45 〜R54として好ましい具体例としては、水素原子;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;水酸基;ニトロ基;シアノ基;メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、フェネチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数1〜10のアルキル基;フェニル基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、i−プロポキシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基などの炭素数1〜6のアルコキシ基;フェノキシ基、メチルフェノキシ基などのアルキル基で置換されていても良い炭素数6〜10のアリールオキシ基が挙げられる。R33 〜R41の隣り合う2個の置換基が一体となって、−(CH23−又は−(CH24−等の炭素数2〜5程度のアルキレン基、−OCH2O−又は−O(CH22O−等の炭素数1〜4
程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
Specific preferred examples of R 45 to R 54 include hydrogen atom; halogen atom such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom; hydroxyl group; nitro group; cyano group; methyl group, ethyl group, propyl group, i-propyl group, Halogen atom or aryl group such as i-butyl group, t-butyl group, n-butyl group, n-pentyl group, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, benzyl group, phenethyl group, etc. An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; a phenyl group; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an i-propoxy group, a t-butoxy group and an n-butoxy group; a phenoxy group and a methylphenoxy group And an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms which may be substituted with an alkyl group. Two adjacent substituents of R 33 to R 41 are combined to form an alkylene group having about 2 to 5 carbon atoms such as — (CH 2 ) 3 — or — (CH 2 ) 4 —, —OCH 2 O - or -O (CH 2) 2 O- carbon atoms such as 1 to 4
A certain degree of alkylenedioxy group or the like may be formed.

このうち好ましくは、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、ハロアリールオキシ基等の電子吸引性基、もしくは、水素原子が挙げられ、R45 〜R54の中で、少なくともひとつは水素原子でないものである。さらにはR45 〜R54の少なくとも1つがフッ素原子、塩素原子またはシアノ基であり、残りは水素原子であるのが好ましい。 Among these, preferably, an electron-withdrawing group such as a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a haloalkyl group, a haloalkoxy group, a haloaryloxy group, or a hydrogen atom is used. Among R 45 to R 54 , at least One is not a hydrogen atom. Furthermore, it is preferable that at least one of R 45 to R 54 is a fluorine atom, a chlorine atom or a cyano group, and the rest are hydrogen atoms.

Xは、15族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。R'
、R'' 、R''' 、R''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置
換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、R1〜R2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。R'、R'' 、R''' 、R''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、i−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基;トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基;フェニル基;ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
好ましくは、塩を形成しているものより、塩を形成していないものの方がよい。
X represents a group 15 atom, particularly preferably a nitrogen atom or a phosphorus atom. R '
, R '', R '' ', R'''' are each independently, optionally be alkyl or substituted optionally substituted is also aryl group, the substituent of the alkyl group and aryl group Examples of the substituent include the same substituents as those exemplified as the substituents for R 1 to R 2 . R ', R'',R''', R 'as''', among them preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, i- propyl, i- butyl, n- butyl, n- hexyl Group, alkyl group such as cyclohexyl group; haloalkyl group such as trichloromethyl group and trifluoromethyl group; phenyl group; aralkyl group such as phenethyl group such as benzyl group.
Preferably, those not forming a salt are better than those forming a salt.

前記一般式(3)で表される色素の好ましい具体例として、下記構造式で表される物が挙げられる。   The thing represented by the following structural formula is mentioned as a preferable specific example of the pigment | dye represented by the said General formula (3).

Figure 2006215395
Figure 2006215395

Figure 2006215395
Figure 2006215395

前記一般式(4)において、C及びC’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。
3、R4、R9及びR10は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していても良いア
ルキル基、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。ここで、R3とR4、及び、R9とR10は、互いに直接的に又は連結基を
介して結ばれていても良い。M4は、M1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
In the general formula (4), C and C ′ each independently represent an aryl group which may have a substituent or a heteroaryl group which may have a substituent.
R 3 , R 4 , R 9 and R 10 each independently have a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a substituent. The heteroaryl group which may be present is shown. Here, R 3 and R 4 , and R 9 and R 10 may be connected to each other directly or via a linking group. M 4 can be the same metal as described for M 1 .

上記C及びC’のアリール基及びヘテロアリール基を構成する骨格としては、6員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基等のアリール基;又は、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等のヘテロアリール基が挙げられる。このうち好ましくは、アリール基、より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。
上記C及びC’のアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、先のR1〜R2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、臭素原子、フッ素原子などのハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基;メチル基、エチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数1〜10のアルキル基;フェニル基、トリル基等の炭素数6〜10のアリール基;ピリジル基、チエニル基等の炭素数4〜8のヘテロアリール基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、i−プロポキシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基などの炭素数1〜6のアルコキシ基;フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数6〜10のアリールオキシ基;または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。
The skeleton constituting the aryl group and heteroaryl group of C and C ′ is a 6-membered monocyclic ring or a condensed ring thereof. Specifically, a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, a pyrenyl group Or an aryl group such as a fluorenyl group; or a heteroaryl group such as a thienyl group, a furyl group, a pyridyl group, an imidazolyl group, a pyrazinyl group, or a pyrazolyl group. Among these, an aryl group is preferable, and an aryl group such as a benzene ring or a naphthalene ring is more preferable.
Examples of the substituent of the aryl group and heteroaryl group of C and C ′ include the same substituents as those described above as the substituents of R 1 to R 2. , A cyano group, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent, and a substituent. Examples thereof include an alkoxy group, an aryloxy group which may have a substituent, and an amino group which may have a substituent. More specifically, halogen atoms such as chlorine atom, bromine atom and fluorine atom; nitro group; cyano group; methyl group, ethyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-butyl group, n-hexyl group A halogen atom such as a cyclohexyl group, a benzyl group, a phenethyl group or a trifluoromethyl group or an aryl group which may be substituted; an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; an aryl group having 6 to 10 carbon atoms such as a phenyl group or a tolyl group; Groups: heteroaryl groups having 4 to 8 carbon atoms such as pyridyl group and thienyl group; having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, i-propoxy group, t-butoxy group and n-butoxy group Alkoxy group; aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms such as phenoxy group and methylphenoxy group; or amino group, dimethylamino group, diethylamino group, di Eniruamino group include an alkyl group and an amino group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of aryl groups such as methylphenylamino group.

また、C及びC’上の隣り合う2個の置換基が一体となって、−(CH23−又は−(CH24−等の炭素数2〜5程度のアルキレン基、−OCH2O−又は−O(CH22
−等の炭素数1〜4程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
上記R3、R4、R9及びR10のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基としては
、先のR1〜R2のアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基であげたものと同様のものがあげられる。上記R3、R4、R9及びR10のアルキル基、アリール基又はヘテロアリ
ール基の置換基としては、先のR1〜R2の置換基としてあげたものと同様の置換基があげられるが、特に好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリール基及びアリールオキシ基である。
Further, two adjacent substituents on C and C ′ are combined to form an alkylene group having about 2 to 5 carbon atoms such as — (CH 2 ) 3 — or — (CH 2 ) 4 —, —OCH 2 O— or —O (CH 2 ) 2 O
An alkylenedioxy group having about 1 to 4 carbon atoms such as-may be formed.
Examples of the alkyl group, aryl group or heteroaryl group of R 3 , R 4 , R 9 and R 10 are the same as those described above for the alkyl group, aryl group or heteroaryl group of R 1 to R 2. Can be given. Examples of the substituent of the alkyl group, aryl group or heteroaryl group of R 3 , R 4 , R 9 and R 10 include the same substituents as those described above as the substituents of R 1 to R 2. Are particularly preferably a halogen atom, an alkyl group, a nitro group, an alkoxy group, an aryl group and an aryloxy group.

また、式(4)は、塩型を形成してもよく、Xは、15族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。R'、R'' 、R''' 、R''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、R1〜R2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。R'、R'' 、R''' 、R''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、i−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基;トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基;フェニル基;ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。 Further, formula (4) may form a salt form, and X represents a group 15 atom, particularly preferably a nitrogen atom or a phosphorus atom. R ', R'', R ''', R '''' are each independently, optionally be alkyl or substituted optionally substituted is also aryl groups, the alkyl and aryl groups Examples of the substituent include the same substituents as those exemplified as the substituents for R 1 to R 2 . R ', R'',R''', R 'as''', among them preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, i- propyl, i- butyl, n- butyl, n- hexyl Group, alkyl group such as cyclohexyl group; haloalkyl group such as trichloromethyl group and trifluoromethyl group; phenyl group; aralkyl group such as phenethyl group such as benzyl group.

好ましくは、塩を形成しているものより、塩を形成していないものの方がよい。
前記一般式(4)で表される色素の好ましい具体例として、下記構造式で表される物が挙げられる。
Preferably, those not forming a salt are better than those forming a salt.
Preferred examples of the dye represented by the general formula (4) include those represented by the following structural formula.

Figure 2006215395
Figure 2006215395

前記一般式(5)において、D及びD’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基を示す。
5は、M1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
上記D及びD’のアリール基を構成する骨格としては、好ましくは6員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基が挙げられる。より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。
In the general formula (5), D and D ′ each independently represent an aryl group which may have a substituent.
M 5 can be the same metal as described for M 1 .
The skeleton constituting the aryl group of D and D ′ is preferably a 6-membered monocycle or a condensed ring thereof, and specifically includes a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, and a pyrenyl group. It is done. More preferred is an aryl group such as a benzene ring or a naphthalene ring.

上記D及びD’のアリール基の置換基としては、先のR1〜R2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、臭素原子、フッ素原子などのハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基;メチル基、エチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数1〜10のアルキル基;フェニル基、トリル基等の炭素数6〜10のアリール基;ピリジル基、チエニル基等の炭素数4〜8のヘテロアリール基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、i−プロポキシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基などの炭素数1〜6のアルコキシ基;フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数6〜10のアリールオキシ基;または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。
また、D及びD’上の隣り合う2個の置換基が一体となって、−(CH23−又は−(CH24−等の炭素数2〜5程度のアルキレン基、−OCH2O−又は−O(CH22O−
等の炭素数1〜4程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
Examples of the substituent of the aryl group of D and D ′ include the same substituents as those described above as the substituents of R 1 to R 2. Among them, a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group, A cyano group, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a heteroaryl group which may have a substituent, an alkoxy which may have a substituent Group, an aryloxy group which may have a substituent, or an amino group which may have a substituent. More specifically, halogen atoms such as chlorine atom, bromine atom and fluorine atom; nitro group; cyano group; methyl group, ethyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-butyl group, n-hexyl group A halogen atom such as a cyclohexyl group, a benzyl group, a phenethyl group or a trifluoromethyl group or an aryl group which may be substituted; an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; an aryl group having 6 to 10 carbon atoms such as a phenyl group or a tolyl group; Groups: heteroaryl groups having 4 to 8 carbon atoms such as pyridyl group and thienyl group; having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, i-propoxy group, t-butoxy group and n-butoxy group Alkoxy group; aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms such as phenoxy group and methylphenoxy group; or amino group, dimethylamino group, diethylamino group, di Eniruamino group include an alkyl group and an amino group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of aryl groups such as methylphenylamino group.
Further, two adjacent substituents on D and D ′ are combined to form an alkylene group having about 2 to 5 carbon atoms such as — (CH 2 ) 3 — or — (CH 2 ) 4 —, —OCH 2 O— or —O (CH 2 ) 2 O—
An alkylenedioxy group having about 1 to 4 carbon atoms such as may be formed.

また、式(5)は、塩型を形成してもよく、Xは、15族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。R'、R'' 、R''' 、R''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、R1〜R2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。R'、R'' 、R''' 、R''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、i−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基;トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基;フェニル基;ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。 Formula (5) may form a salt form, and X represents a group 15 atom, particularly preferably a nitrogen atom or a phosphorus atom. R ', R'', R ''', R '''' are each independently, optionally be alkyl or substituted optionally substituted is also aryl groups, the alkyl and aryl groups Examples of the substituent include the same substituents as those exemplified as the substituents for R 1 to R 2 . R ', R'',R''', R 'as''', among them preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, i- propyl, i- butyl, n- butyl, n- hexyl Group, alkyl group such as cyclohexyl group; haloalkyl group such as trichloromethyl group and trifluoromethyl group; phenyl group; aralkyl group such as phenethyl group such as benzyl group.

一般式(5)は、塩を形成しているものも塩を形成していないものも好ましい。
一般式(5)で表される色素の好ましい具体例として、下記構造式で表される物が挙げられる。
In general formula (5), those forming a salt and those not forming a salt are preferred.
Preferred examples of the dye represented by the general formula (5) include those represented by the following structural formula.

Figure 2006215395
Figure 2006215395

前記一般式(6)において、R11〜R14は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、カルバモイル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換されていても良い炭化水素基、置換されていても良いアリール基、又は、置換されていてもよい複素環基であり、好ましくは、置換されていても良いアリール基又は置換されていてもよい脂肪族炭化水素基である。 M6は、上記M1で記載したのと同様の金属を用いることができる。 In the general formula (6), R 11 to R 14 are each independently a hydrogen atom, a cyano group, a carbamoyl group, an alkylaminocarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, or an optionally substituted carbon. A hydrogen group, an optionally substituted aryl group, or an optionally substituted heterocyclic group, preferably an optionally substituted aryl group or an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group; is there. M 6 may be the same metal as described in M 1 above.

上記脂肪族炭化水素基、アリール基及び複素環基の置換基としては、上記R1〜R2で記載したのと同様の基が挙げられる。
また、上記R11〜R14のアリール基及びヘテロアリール基の置換基が、一体となって、−(CH23−又は−(CH24−等の炭素数2〜5程度のアルキレン基、−OCH2
−又は−O(CH22O−等の炭素数1〜4程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
Examples of the substituent for the aliphatic hydrocarbon group, aryl group and heterocyclic group include the same groups as those described above for R 1 to R 2 .
In addition, the substituents of the aryl group and heteroaryl group of R 11 to R 14 are combined to form an alkylene having about 2 to 5 carbon atoms such as — (CH 2 ) 3 — or — (CH 2 ) 4 —. group, -OCH 2 O
An alkylenedioxy group having about 1 to 4 carbon atoms such as — or —O (CH 2 ) 2 O— may be formed.

また、式(6)は、塩型を形成してもよく、Xは、15族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。R'、R'' 、R''' 、R''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、R1〜R2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。R'、R'' 、R''' 、R''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、i−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基;トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基;フェニル基;ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
一般式(6)は、塩を形成しているものも塩を形成していないものも好ましい。
Formula (6) may form a salt form, and X represents a Group 15 atom, and particularly preferably a nitrogen atom or a phosphorus atom. R ', R'', R ''', R '''' are each independently, optionally be alkyl or substituted optionally substituted is also aryl groups, the alkyl and aryl groups Examples of the substituent include the same substituents as those exemplified as the substituents for R 1 to R 2 . R ', R'',R''', R 'as''', among them preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, i- propyl, i- butyl, n- butyl, n- hexyl Group, alkyl group such as cyclohexyl group; haloalkyl group such as trichloromethyl group and trifluoromethyl group; phenyl group; aralkyl group such as phenethyl group such as benzyl group.
In general formula (6), those forming a salt and those not forming a salt are preferred.

一般式(6)で表される色素の好ましい具体例としては、下記構造式で表される化合物が挙げられる。   Preferable specific examples of the dye represented by the general formula (6) include compounds represented by the following structural formula.

Figure 2006215395
Figure 2006215395

前記一般式(7)において、E及びE’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。
7は、M1で記載したのと同様の金属を用いることができる。
上記E及びE’のアリール基及びヘテロアリール基を構成する骨格としては、好ましくは6員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基等のアリール基;又は、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等のヘテロアリール基が挙げられる。このうち好ましくは、アリール基、より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。
In the general formula (7), E and E ′ each independently represent an aryl group which may have a substituent or a heteroaryl group which may have a substituent.
M 7 can be the same metal as described for M 1 .
The skeleton constituting the aryl group and heteroaryl group of E and E ′ is preferably a 6-membered monocyclic ring or a condensed ring thereof. Specifically, a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, An aryl group such as a pyrenyl group or a fluorenyl group; or a heteroaryl group such as a thienyl group, a furyl group, a pyridyl group, an imidazolyl group, a pyrazinyl group, or a pyrazolyl group. Among these, an aryl group is preferable, and an aryl group such as a benzene ring or a naphthalene ring is more preferable.

上記E及びE’のアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、先のR1〜R2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、置換されていてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、臭素原子、フッ素原子などのハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基;メチル基、エチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数1〜10のアルキル基;フェニル基、トリル基等の炭素数6〜10のアリール基;ピリジル基、チエニル基等の炭素数4〜8のヘテロアリール基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、i−プロポキシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基などの炭素数1〜6のアルコキシ基;フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数6〜10のアリールオキシ基;または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。 Examples of the substituent of the aryl group and heteroaryl group of E and E ′ include the same substituents as those described above as the substituents of R 1 to R 2. Nitro group, cyano group, optionally substituted alkyl group, optionally substituted aryl group, optionally substituted heteroaryl group, optionally substituted. Examples thereof include an alkoxy group, an aryloxy group which may have a substituent, and an amino group which may have a substituent. More specifically, halogen atoms such as chlorine atom, bromine atom and fluorine atom; nitro group; cyano group; methyl group, ethyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-butyl group, n-hexyl group A halogen atom such as a cyclohexyl group, a benzyl group, a phenethyl group or a trifluoromethyl group or an aryl group which may be substituted; an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; an aryl group having 6 to 10 carbon atoms such as a phenyl group or a tolyl group; Groups: heteroaryl groups having 4 to 8 carbon atoms such as pyridyl group and thienyl group; having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, i-propoxy group, t-butoxy group and n-butoxy group Alkoxy group; aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms such as phenoxy group and methylphenoxy group; or amino group, dimethylamino group, diethylamino group, di Eniruamino group include an alkyl group and an amino group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of aryl groups such as methylphenylamino group.

また、E及びE’上の隣り合う2個の置換基が一体となって、−(CH23−又は−(CH24−等の炭素数2〜5程度のアルキレン基、−OCH2O−又は−O(CH22
−等の炭素数1〜4程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
また、式(7)は、塩型を形成してもよく、Xは、15族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。R'、R'' 、R''' 、R''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、R1〜R2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。R'、R'' 、R''' 、R''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、i−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基;トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基;フェニル基;ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
Further, two adjacent substituents on E and E ′ are combined to form an alkylene group having about 2 to 5 carbon atoms such as — (CH 2 ) 3 — or — (CH 2 ) 4 —, —OCH 2 O— or —O (CH 2 ) 2 O
An alkylenedioxy group having about 1 to 4 carbon atoms such as-may be formed.
Formula (7) may form a salt form, and X represents a group 15 atom, particularly preferably a nitrogen atom or a phosphorus atom. R ', R'', R ''', R '''' are each independently, optionally be alkyl or substituted optionally substituted is also aryl groups, the alkyl and aryl groups Examples of the substituent include the same substituents as those exemplified as the substituents for R 1 to R 2 . R ', R'',R''', R 'as''', among them preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, i- propyl, i- butyl, n- butyl, n- hexyl Group, alkyl group such as cyclohexyl group; haloalkyl group such as trichloromethyl group and trifluoromethyl group; phenyl group; aralkyl group such as phenethyl group such as benzyl group.

一般式(7)は、塩を形成しているものの方が塩を形成していないものより好ましい。
一般式(7)で表される色素の好ましい具体例として、下記構造式で表される物が挙げられる。
In the general formula (7), those forming a salt are more preferable than those not forming a salt.
Preferred examples of the dye represented by the general formula (7) include those represented by the following structural formula.

Figure 2006215395
Figure 2006215395

前記一般式(8)において、F及びF’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。
8は、M1で記載したのと同様のものを用いることができる。
上記F及びF’のアリール基及びヘテロアリール基を構成する骨格としては、好ましくは6員の単環又はその縮合環であり、具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ピレニル基又はフルオレニル基等のアリール基;又は、チエニル基、フリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ピラジニル基又はピラゾリル基等のヘテロアリール基が挙げられる。このうち好ましくは、アリール基、より好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環のようなアリール基である。
上記F及びF’のアリール基及びヘテロアリール基の置換基としては、先のR1〜R2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられるが、中でも好ましくは、中でも好ましくは、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、置換されていてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していても良いヘテロアリール基、置換基を有していても良いアルコキシ基、置換基を有していても良いアリールオキシ基又は置換基を有していても良いアミノ基があげられる。より具体的には、塩素原子、臭素原子、フッ素原子などのハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基;メチル基、エチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン原子又はアリール基置換されていても良い炭素数1〜10のアルキル基;フェニル基、トリル基等の炭素数6〜10のアリール基;ピリジル基、チエニル基等の炭素数4〜8のヘテロアリール基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、i−プロポキシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基などの炭素数1〜6のアルコキシ基;フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数6〜10のアリールオキシ基;または、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などのアルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基で置換されていても良いアミノ基が挙げられる。
In the general formula (8), F and F ′ each independently represent an aryl group which may have a substituent or a heteroaryl group which may have a substituent.
M 8 may be the same as described for M 1 .
The skeleton constituting the aryl group and heteroaryl group of F and F ′ is preferably a 6-membered monocyclic ring or a condensed ring thereof. Specifically, a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, An aryl group such as a pyrenyl group or a fluorenyl group; or a heteroaryl group such as a thienyl group, a furyl group, a pyridyl group, an imidazolyl group, a pyrazinyl group, or a pyrazolyl group. Among these, an aryl group is preferable, and an aryl group such as a benzene ring or a naphthalene ring is more preferable.
Examples of the substituent of the aryl group and heteroaryl group of F and F ′ include the same substituents as those described above as the substituents of R 1 to R 2 . Halogen atom, hydroxyl group, nitro group, cyano group, optionally substituted alkyl group, optionally substituted aryl group, optionally substituted heteroaryl group, substituted Examples thereof include an optionally substituted alkoxy group, an optionally substituted aryloxy group, and an optionally substituted amino group. More specifically, halogen atoms such as chlorine atom, bromine atom and fluorine atom; nitro group; cyano group; methyl group, ethyl group, i-butyl group, t-butyl group, n-butyl group, n-hexyl group A halogen atom such as a cyclohexyl group, a benzyl group, a phenethyl group or a trifluoromethyl group or an aryl group which may be substituted; an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; an aryl group having 6 to 10 carbon atoms such as a phenyl group or a tolyl group; Groups: heteroaryl groups having 4 to 8 carbon atoms such as pyridyl group and thienyl group; having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, i-propoxy group, t-butoxy group and n-butoxy group Alkoxy group; aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms such as phenoxy group and methylphenoxy group; or amino group, dimethylamino group, diethylamino group, di Eniruamino group include an alkyl group and an amino group which may be substituted with a substituent selected from the group consisting of aryl groups such as methylphenylamino group.

また、F及びF’上の隣り合う2個の置換基が一体となって、−(CH23−又は−(CH24−等の炭素数2〜5程度のアルキレン基、−OCH2O−又は−O(CH22
−等の炭素数1〜4程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
また、式(8)は、塩型を形成してもよく、Xは、15族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。R'、R'' 、R''' 、R''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、R1〜R2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。R'、R'' 、R''' 、R''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、i−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基;トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基;フェニル基;ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
Further, two adjacent substituents on F and F ′ are combined to form an alkylene group having about 2 to 5 carbon atoms such as — (CH 2 ) 3 — or — (CH 2 ) 4 —, —OCH 2 O— or —O (CH 2 ) 2 O
An alkylenedioxy group having about 1 to 4 carbon atoms such as-may be formed.
Formula (8) may form a salt form, and X represents a group 15 atom, particularly preferably a nitrogen atom or a phosphorus atom. R ', R'', R ''', R '''' are each independently, optionally be alkyl or substituted optionally substituted is also aryl groups, the alkyl and aryl groups Examples of the substituent include the same substituents as those exemplified as the substituents for R 1 to R 2 . R ', R'',R''', R 'as''', among them preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, i- propyl, i- butyl, n- butyl, n- hexyl Group, alkyl group such as cyclohexyl group; haloalkyl group such as trichloromethyl group and trifluoromethyl group; phenyl group; aralkyl group such as phenethyl group such as benzyl group.

一般式(8)は、塩を形成していないものの方が塩を形成しているものより好ましい。   In the general formula (8), those not forming a salt are more preferable than those forming a salt.

Figure 2006215395
Figure 2006215395

一般式(9)において、R15〜R30は、任意の置換基を表し、本発明の化合物の基本的性能を損なわない限り特に制限は無いが、例えば、R15〜R30の置換基としてあげたものと同様の基があげられる。
上記一般式(9)におけるM9は、フタロシアニン骨格と錯体を形成出来る元素であれ
ば、特に限定されないが、好ましくは銅原子、バナジウムオキシ基又は塩化スズ基が挙げられる。
In the general formula (9), R 15 ~R 30 represents an optional substituent is not particularly limited as long as they do not impair the basic performance of the compounds of the present invention, for example, as a substituent of R 15 to R 30 The same groups as those mentioned can be mentioned.
M 9 in the general formula (9) is not particularly limited as long as it is an element capable of forming a complex with the phthalocyanine skeleton, and preferably includes a copper atom, a vanadium oxy group, or a tin chloride group.

上記一般式(9)で表される化合物のうち、好ましい具体例としては、特開平10−78509号公報、特開平11−116826号公報、特開平11−65463号公報及び特開2000−26748号公報に記載されているものが挙げられ、中でも、下記に記載したような含フッ素フタロシアニン系化合物が好ましい。   Among the compounds represented by the above general formula (9), preferred specific examples include JP-A-10-78509, JP-A-11-116826, JP-A-11-65463, and JP-A 2000-26748. Those described in the publication can be mentioned, and among them, fluorine-containing phthalocyanine compounds as described below are preferable.

Figure 2006215395
Figure 2006215395

Figure 2006215395
Figure 2006215395

前記一般式(10)において、R31とR32、及び、R33とR34は、それぞれ独立して、置換されていても良い脂肪族炭化水素基又は置換されていても良いアリール基を示す。M10は、M1で記載したものと同様の金属を用いることができる。上記R31〜R34の脂肪族
炭化水素基、アリール基としては、R1〜R2であげたものと同様のものがあげられるが、より具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、2−メチルプロピル基、2−メチルブチル基、3−メチルブチル基、シクロヘキシルメチル基、ネオペンチル基、2−エチルブチル基、イソプロピル基、2−ブチル基、シクロヘキシル基、3−ペンチル基、tert−ブチル基、1,1−ジメチルプロピル基等の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基;2−プロペニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、2,4−ペンタジエニル基等のアルケニル基;エチニル基等のアルキニル基が挙げられる。このうち好ましくは炭素数10以下の1級又は2級アルキル基である。上記アリール基としては、フェニル基又はナフチル基などが挙げられる。
In the general formula (10), R 31 and R 32 , and R 33 and R 34 each independently represent an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group or an optionally substituted aryl group. . M 10 may be the same metal as described for M 1 . Examples of the aliphatic hydrocarbon group and aryl group for R 31 to R 34 are the same as those described for R 1 to R 2 , and more specifically, a methyl group, an ethyl group, n- Propyl group, n-butyl group, 2-methylpropyl group, 2-methylbutyl group, 3-methylbutyl group, cyclohexylmethyl group, neopentyl group, 2-ethylbutyl group, isopropyl group, 2-butyl group, cyclohexyl group, 3-pentyl Group, tert-butyl group, 1,1-dimethylpropyl group and the like linear, branched or cyclic alkyl group; 2-propenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 2,4-pentadienyl group An alkynyl group such as an ethynyl group. Of these, a primary or secondary alkyl group having 10 or less carbon atoms is preferred. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.

該R31〜R34の脂肪族炭化水素基及びアリール基の置換基としては、R1〜R2であげたものと同様のものがあげられる。
また、上記R31とR32、及び、R33とR34が一体となって−CH2−CH2−、−CH2
−CH2−CH2−、−CH2−CF2−CH2−、−CH2−CH2−CH2−CH2−、−CH(Ph)−CH2−、−CH(Me)−CH2−等の置換されていても良いアルキレン基;−CH=CH−、−C(Me)=CH−、−CH=CH−CH2−CH2−CH=CH−等の置換されていても良いアルケニレン基;−CH2−S−CH2−、−CH2−O−CH2−、−CH2−C(=O)−CH2−、−CH2−CH2−S−CH2−CH2−、−CH2
CH2−O−CH2−CH2−等の連結基を含有するアルキレン基等を形成していても良い
Examples of the substituent for the aliphatic hydrocarbon group and aryl group of R 31 to R 34 are the same as those described for R 1 to R 2 .
Further, R 31 and R 32 , and R 33 and R 34 are combined to form —CH 2 —CH 2 —, —CH 2.
-CH 2 -CH 2 -, - CH 2 -CF 2 -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 -CH2-CH 2 -, - CH (Ph) -CH 2 -, - CH (Me) -CH 2 An optionally substituted alkylene group such as —CH—CH—, —C (Me) ═CH—, —CH═CH—CH 2 —CH 2 —CH═CH— and the like may be substituted; Alkenylene group; —CH 2 —S—CH 2 —, —CH 2 —O—CH 2 —, —CH 2 —C (═O) —CH 2 —, —CH 2 —CH 2 —S—CH 2 —CH 2 -, - CH 2 -
An alkylene group containing a linking group such as CH 2 —O—CH 2 —CH 2 — may be formed.

上記R31及びR32、R33及びR34として好ましくは無置換のアルキル基、または、置換基を有していても良いアルキル基、特に好ましくは無置換のアルキル基、ハロゲン原子(特に好ましくはフッ素原子)、シアノ基、アルキル基及びアリール基からなる群より選ばれる置換基を有していても良いアルキル基である。
また、式(10)は、塩型を形成してもよく、Xは、15族原子を表し、特に好ましくは、窒素原子、または、リン原子である。R'、R'' 、R''' 、R''''は、それぞれ独立に、置換されていても良いアルキル基又は置換されていてもよいアリール基であり、上記アルキル基及びアリール基の置換基としては、R1〜R2の置換基としてあげたものと同様の置換基が挙げられる。R'、R'' 、R''' 、R''''として、中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、i−ブチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基などのアルキル基;トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基などのハロアルキル基;フェニル基;ベンジル基などの、フェネチル基などのアラルキル基があげられる。
R 31 and R 32 , R 33 and R 34 are preferably unsubstituted alkyl groups or optionally substituted alkyl groups, particularly preferably unsubstituted alkyl groups, halogen atoms (particularly preferably A fluorine atom), a cyano group, an alkyl group and an aryl group which may have a substituent selected from the group consisting of an aryl group.
Formula (10) may form a salt form, and X represents a group 15 atom, particularly preferably a nitrogen atom or a phosphorus atom. R ', R'', R ''', R '''' are each independently, optionally be alkyl or substituted optionally substituted is also aryl groups, the alkyl and aryl groups Examples of the substituent include the same substituents as those exemplified as the substituents for R 1 to R 2 . R ', R'',R''', R 'as''', among them preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, i- propyl, i- butyl, n- butyl, n- hexyl Group, alkyl group such as cyclohexyl group; haloalkyl group such as trichloromethyl group and trifluoromethyl group; phenyl group; aralkyl group such as phenethyl group such as benzyl group.

一般式(10)は、塩を形成していないものの方が塩を形成しているものより好ましい。一般式(10)で表される色素の好ましい具体例として、下記で表されるものがあげられる。   In the general formula (10), those not forming a salt are more preferable than those forming a salt. Preferable specific examples of the dye represented by the general formula (10) include those represented by the following.

Figure 2006215395
Figure 2006215395

Figure 2006215395
Figure 2006215395

Figure 2006215395
Figure 2006215395

Figure 2006215395
Figure 2006215395

一般式(11)において、R35〜R42は、それぞれ独立に置換基を有しても良いアルキル基、置換基を有しても良いアリール基又は置換基を有しても良いヘテロアリール基を示し、ここで、R35〜R42は隣り合う2つの置換基同士が連結基を介して結合で結ばれていても良い。R35〜R42の置換基として、具体的には、一般式(1)のR1及びR2の説明で述べたものと同様の基が選ばれる。 In the general formula (11), R 35 to R 42 are each independently an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a heteroaryl group which may have a substituent. Here, in R 35 to R 42, two adjacent substituents may be bonded to each other through a linking group. Specific examples of the substituent for R 35 to R 42 are the same as those described in the description of R 1 and R 2 in the general formula (1).

また、R35〜R42は隣り合う2個の置換基が一体となって、−(CH23−又は−(CH24−等の炭素数2〜5程度のアルキレン基、−OCH2O−又は−O(CH22O−
等の炭素数1〜4程度のアルキレンジオキシ基等を形成していても良い。
Xは陰イオンを示し、具体的には、フッ素アニオン、塩素アニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオン、過塩素酸アニオン、6フッ化アンチモン酸イオン、硝酸アニオン、ヘキサフルオロフォスフェイトアニオン、テトラフルオロボレートアニオンで表される1価の陰イオンを示す。
R 35 to R 42 are an alkylene group having about 2 to 5 carbon atoms such as — (CH 2 ) 3 — or — (CH 2 ) 4 —; 2 O— or —O (CH 2 ) 2 O—
An alkylenedioxy group having about 1 to 4 carbon atoms such as may be formed.
X represents an anion, specifically, fluorine anion, chlorine anion, bromine anion, iodine anion, perchlorate anion, hexafluoroantimonate ion, nitrate anion, hexafluorophosphate anion, tetrafluoroborate anion. The monovalent anion represented is shown.

上記一般式(11)で表される化合物のうち、好ましい具体例としては、特開平10−18092号公報、特開平11−170700号公報、特開2000−80071号公報、特開2000−81511号公報及び特開2001−174626号公報に記載されているものが挙げられ、中でも、日本化薬社製「kayasorb IRG022」及び「kayasorb IRG023」として市販されているような色素、並びに、日本カーリット社製「CIR1080」、「CIR1081」、「CIR1083」及び「CIR1085」として市販されているような色素が好ましい。   Among the compounds represented by the general formula (11), preferred specific examples include JP-A-10-18092, JP-A-11-170700, JP-A2000-80071, and JP-A-2000-81511. And those described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-174626, among others, such as “Kayasorb IRG022” and “kayasarb IRG023” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., and Nippon Carlit Dyes such as those commercially available as “CIR1080”, “CIR1081”, “CIR1083” and “CIR1085” are preferred.

ここで、上記一般式(2)〜(8)、(10)で表される化合物は、リガンド部分の分子量が通常800以下、好ましくは500以下の物である。
また、上記一般式(2)〜(8)、(10)で表される化合物のモル吸光係数は、通常通常5000以上、好ましくは8000以上の物である。
一般式(9)に記載のフタロシアニン化合物としては、分子量900〜3000、好ましくは、1000〜2500のものである。
Here, the compounds represented by the general formulas (2) to (8) and (10) are those having a molecular weight of the ligand moiety of usually 800 or less, preferably 500 or less.
The molar extinction coefficient of the compounds represented by the general formulas (2) to (8) and (10) is usually 5000 or more, preferably 8000 or more.
The phthalocyanine compound described in the general formula (9) has a molecular weight of 900 to 3000, preferably 1000 to 2500.

また、上記一般式(9)で表される化合物のモル吸光係数は、通常通常5000以上、好ましくは8000以上の物である。
一般式(11)に記載のジインモニウム化合物としては、分子量600〜3000、好ましくは、900〜2100のものである。
また、上記一般式(11)で表される化合物のモル吸光係数は、通常70000以上、好ましくは90000以上の物である。
Further, the molar extinction coefficient of the compound represented by the general formula (9) is usually 5000 or more, preferably 8000 or more.
The diimmonium compound described in the general formula (11) has a molecular weight of 600 to 3000, preferably 900 to 2100.
The molar extinction coefficient of the compound represented by the general formula (11) is usually 70000 or more, preferably 90000 or more.

加えて、上記一般式(2)〜(11)で表される化合物のトルエン等芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒から選ばれる溶媒に対する溶解度としては、通常0.1%以上、好ましくは0.5%以上である。
尚、上記化合物(2)は、例えば、Russ. J. Gen. Chem., 66巻、1842頁(19
96年)に記載の方法で合成でき、上記化合物(3)は、例えば、特開2001−89492号公報に記載の方法で合成でき、化合物(4)は 例えば、J.Am.Chem.Soc.,88卷、5201頁(1966年)により合成でき、化合物(5)は、例えば、J.Am.Chem.Soc., 88卷、43頁及び4870頁(1966年)に記載の方法で合成でき、化合物(6)は、例えば、J.Am.Chem.Soc.,87卷、1483頁(1965年)に記載の方法で合成でき、化合物(7)及び化合物(8)は、例えば、特開2000−26748号公報に記載の方法でき、化合物(9)は、例えば、The Porphyrin Handbook(2003)に記載の方法で合成でき、化合物(10)は、例えば、J.Mater.Chem.,1861頁(1994)に記載の合成方法で合成でき、化合物(11)は、例えば、特開昭61−246391号公報に記載の方法で合成できる。
In addition, the solubility of the compounds represented by the general formulas (2) to (11) in a solvent selected from aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane, and ketone solvents such as methyl ethyl ketone Is usually 0.1% or more, preferably 0.5% or more.
The above compound (2) is, for example, Russ. J. Gen. Chem., 66, 1842 (19
96), and the above compound (3) can be synthesized, for example, by the method described in JP-A No. 2001-89492. Am. Chem. Soc. 88, p. 5201 (1966). Compound (5) can be synthesized, for example, according to J. Am. Am. Chem. Soc. , 88 卷, 43 and 4870 (1966). Compound (6) can be synthesized, for example, according to J. Am. Am. Chem. Soc. , 87 卷, page 1483 (1965), and the compound (7) and the compound (8) can be synthesized, for example, by the method described in JP-A-2000-26748, For example, the compound (10) can be synthesized by the method described in The Porphyrin Handbook (2003). Mater. Chem. , P. 1861 (1994), and compound (11) can be synthesized, for example, by the method described in JP-A-61-246391.

3.近赤外線吸収フィルター
本願の近赤外線吸収フィルターは、上記一般式(1)で表される化合物を用いることにより、800〜980nm付近に極大吸収を有し、さらに、上記(2)〜(11)で表される化合物と組み合わせて用いることにより、750〜1050nmの波長域をカバーする近赤外線吸収フィルターを効率的に得ることができる。加えて、プラズマディスプレイパネルにおいては、820nm、880nm、980nm近辺の近赤外線発光が特に強いため、この部分の光線透過率が15%以下とするのが好ましい。
3. Near-infrared absorption filter The near-infrared absorption filter of the present application has a maximum absorption in the vicinity of 800 to 980 nm by using the compound represented by the general formula (1). By using in combination with the compound represented, a near-infrared absorption filter covering a wavelength range of 750 to 1050 nm can be efficiently obtained. In addition, in the plasma display panel, near-infrared emission near 820 nm, 880 nm, and 980 nm is particularly strong. Therefore, it is preferable that the light transmittance of this portion is 15% or less.

また、可視光透過率が、特には400〜450nmにおける平均透過率が45%以上であり、加えて、550〜600nmにおける透過率が60%以上、好ましくは70%以上であるため、車窓ガラスに用いた場合の景色の色再現性(明るさ)やディスプレイの画面の明るさ等を確保することもできるものである。
本発明の近赤外線吸収フィルターは、耐熱性及び耐湿熱性も優れたものであり、80℃の恒温槽での500時間耐熱試験後、及び60℃、湿度90%の恒温槽での500時間耐湿熱試験後に可視光領域に新たなピークが出ることもない。
Further, since the visible light transmittance is particularly 45% or more at an average transmittance of 400 to 450 nm, and the transmittance at 550 to 600 nm is 60% or more, preferably 70% or more, When used, the color reproducibility (brightness) of the scenery and the brightness of the display screen can be ensured.
The near-infrared absorption filter of the present invention is excellent in heat resistance and moist heat resistance, and after 500 hours heat resistance test in a constant temperature bath at 80 ° C. and 500 hours heat resistance in a constant temperature bath at 60 ° C. and 90% humidity. No new peak appears in the visible light region after the test.

本願フィルターとして好ましくは、上記耐熱試験及び耐湿熱試験での色素残存率が60%以上、より好ましくは70%以上、さらに好ましくは80%以上、特に好ましくは85%以上、最も好ましくは90%以上となるものである。ここで、色素残存率は、750〜1050nmの領域における対象の色素の最大吸収波長(λmax)の、該試験前後の吸収
強度の減少度合から求める。
さらに、本発明の近赤外線吸収フィルターは、耐光性富士フィルム(株)社製UVカットフィルターを装着した状態でのキセノンランプによる280時間耐光性試験後の色素残存率も優れたものであり、色素残存率が通常70%以上、より好ましくは80%以上、さらに好ましくは90%以上となるものである。
Preferably, the filter of the present application has a dye residual ratio of 60% or more, more preferably 70% or more, more preferably 80% or more, particularly preferably 85% or more, and most preferably 90% or more in the above heat resistance test and moist heat resistance test. It will be. Here, the dye residual ratio is determined from the degree of decrease in the absorption intensity before and after the test of the maximum absorption wavelength (λmax) of the target dye in the region of 750 to 1050 nm.
Furthermore, the near-infrared absorption filter of the present invention has an excellent dye residual rate after a 280-hour light resistance test using a xenon lamp with a UV-resistant filter manufactured by Fuji Film Co., Ltd. The residual ratio is usually 70% or more, more preferably 80% or more, and still more preferably 90% or more.

(フィルターの製造方法)
本発明の赤外線吸収フィルターの製造方法としては、透明基板に近赤外線吸収色素を含む塗工液をコーティングする方法、近赤外線吸収色素をバインダー樹脂と溶融混錬してフィルム状に成形する方法などが挙られるが、近赤外線吸収色素に対する負荷を低減するため、塗工液をコーティングする方法の方が好ましい。
(Filter manufacturing method)
Examples of the method for producing the infrared absorbing filter of the present invention include a method of coating a transparent substrate with a coating liquid containing a near infrared absorbing dye, a method of melting and kneading a near infrared absorbing dye with a binder resin, and forming a film. In order to reduce the load on the near-infrared absorbing dye, the method of coating the coating liquid is preferred.

以下に、透明基板に近赤外線吸収色素を含む塗工液を塗布して赤外線吸収フィルターを製造する方法について詳細に説明する。
(基板)
本発明の赤外線吸収フィルターを構成する透明基板としては、実質的に透明であって、吸収、散乱が大きくない基材であればよく、特に制限はない。その具体的な例としては、ガラス、ポリオレフィン系樹脂、非晶質ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂等が挙げられる。これらの中では、特に非晶質ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル系樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂が好ましい。
Below, the method of apply | coating the coating liquid containing a near-infrared absorption pigment | dye to a transparent substrate and manufacturing an infrared rays absorption filter is demonstrated in detail.
(substrate)
The transparent substrate constituting the infrared absorption filter of the present invention is not particularly limited as long as it is a substrate that is substantially transparent and does not significantly absorb and scatter. Specific examples include glass, polyolefin resin, amorphous polyolefin resin, polyester resin, polycarbonate resin, poly (meth) acrylate resin, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, poly Examples include arylate resin and polyethersulfone resin. Among these, amorphous polyolefin resin, polyester resin, polycarbonate resin, poly (meth) acrylate resin, polyarylate resin, and polyethersulfone resin are particularly preferable.

これらの樹脂は、フェノール系、燐系などの酸化防止剤、ハロゲン系、燐酸系等の難燃剤、耐熱老化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等の公知の添加剤を配合することができる。
透明基板は、これらの樹脂を、射出成形、Tダイ成形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に溶解させてキャスティングする方法などなどの成形方法を用い、フィルム状に成形したものが用いられる。フィルム状に成形された樹脂は延伸されていても未延伸でもよい。また、異なる材料からなるフィルムが積層されていても良い。
These resins should contain known additives such as phenolic and phosphorus antioxidants, halogen and phosphoric acid flame retardants, heat aging inhibitors, ultraviolet absorbers, lubricants and antistatic agents. Can do.
The transparent substrate is obtained by molding these resins into a film using a molding method such as injection molding, T-die molding, calender molding, compression molding, or a method of dissolving and casting in an organic solvent. Used. The resin formed into a film may be stretched or unstretched. Moreover, the film which consists of a different material may be laminated | stacked.

透明基板の厚みは、目的に応じて通常10μm〜5mmの範囲から選択される。
更に、透明基板は、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の従来公知の方法による表面処理や、アンカーコート剤やプライマー等のコーティングを施してもよい。
(近赤外線吸収色素層)
近赤外線吸収色素を含む塗工液は、近赤外線吸収色素をバインダー樹脂とともに溶剤中に溶解又は分散させることにより、調製することができる。また、分散させる場合、近赤外線吸収色素を必要に応じて分散剤を用いて、粒径を通常0.1〜3μmに微粒子化し、バインダーとともに、溶剤に分散させて調製することもできる。
The thickness of the transparent substrate is usually selected from the range of 10 μm to 5 mm depending on the purpose.
Further, the transparent substrate may be subjected to surface treatment by a conventionally known method such as corona discharge treatment, flame treatment, plasma treatment, glow discharge treatment, roughening treatment, chemical treatment, or coating with an anchor coating agent or a primer. Good.
(Near-infrared absorbing dye layer)
The coating liquid containing a near infrared absorbing dye can be prepared by dissolving or dispersing the near infrared absorbing dye together with a binder resin in a solvent. Moreover, when making it disperse | distribute, a near-infrared absorption pigment | dye can also be prepared by making a particle size into 0.1-3 micrometers normally using a dispersing agent as needed, and making it disperse | distribute to a solvent with a binder.

このとき溶剤に溶解又は分散される近赤外線吸収色素、分散剤、およびバインダー樹脂などの全固形分の濃度は、通常5〜50重量%である。また、全固形分に対する金属錯体の濃度は、近赤吸収色素トータルとして通常0.1〜50重量%、好ましくは0.2〜30重量%である。また、一般式(1)で表される化合物の他に一般式(2)〜(11)で表される化合物を併用する場合においては、同一層に併存させても良いし、別層として積層させても良いが、一般式(1)で表される化合物に対する一般式(2)〜(11)で表される化合物の総量の比としては、1:0.1〜1:10、好ましくは、1:0.2〜1:5である。   At this time, the concentration of the total solid content such as the near-infrared absorbing dye, the dispersant, and the binder resin dissolved or dispersed in the solvent is usually 5 to 50% by weight. Moreover, the density | concentration of the metal complex with respect to the total solid is 0.1 to 50 weight% normally as a near red absorption pigment | dye total, Preferably it is 0.2 to 30 weight%. Moreover, when using together the compound represented by General formula (2)-(11) other than the compound represented by General formula (1), you may coexist in the same layer, or it laminates | stacks as another layer The ratio of the total amount of the compounds represented by the general formulas (2) to (11) to the compound represented by the general formula (1) is 1: 0.1 to 1:10, preferably 1: 0.2-1: 5.

尚、バインダー樹脂に対する近赤外線吸収剤の濃度としては、当然のことながら、近赤外線吸収フィルターの膜厚にも依存するため、溶融混練してフィルム状に成形するような場合には、上述の色濃度よりは低くなる。
分散剤としては、ポリビニルブチラール樹脂、フェノキシ樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、石油樹脂、硬化ロジン、ロジンエステル、マレイン化ロジン、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。その使用量は、金属錯体化合物に対して、通常0〜100重量%、好ましくは0〜70重量%である。
The concentration of the near-infrared absorber with respect to the binder resin naturally depends on the film thickness of the near-infrared absorption filter. It becomes lower than the concentration.
Examples of the dispersant include polyvinyl butyral resin, phenoxy resin, rosin-modified phenol resin, petroleum resin, cured rosin, rosin ester, maleated rosin, and polyurethane resin. The amount of its use is 0-100 weight% normally with respect to a metal complex compound, Preferably it is 0-70 weight%.

バインダーとしては、ポリメチルメタクレート樹脂、ポリエチルアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、エチレンービニルアルコール共重合体樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。その使用量は、バインダーに対して金属錯体化合物が、0.01〜20重量%、好ましくは0.1〜10重量%である。
溶媒としては、1,2,3−トリクロロプロパン、テトラクロルエチレン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、オクタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、エナント酸メチル、リノール酸メチル、ステアリン酸メチル等のエステル類シクロヘキサン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、スクアラン等の芳香族炭化水素類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N,N′,N′−テトラメチル尿素等のアミド類、テトラヒドロフラン(以下「THF」という)、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類あるいはこれらの混合物を用いることができる。
Examples of the binder include polymethyl methacrylate resin, polyethyl acrylate resin, polycarbonate resin, ethylene-vinyl alcohol copolymer resin, and polyester resin. The amount of the metal complex compound used is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, based on the binder.
As the solvent, halogenated aliphatic hydrocarbons such as 1,2,3-trichloropropane, tetrachloroethylene, 1,1,2,2-tetrachloroethane, 1,2-dichloroethane, methanol, ethanol, propanol, butanol , Alcohols such as pentanol, hexanol, cyclohexanol, octanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, esters such as ethyl acetate, methyl propionate, methyl enanthate, methyl linoleate, methyl stearate, cyclohexane , Aliphatic hydrocarbons such as hexane, octane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, monochlorobenzene, dichlorobenzene, nitrobenzene, squalane, dimethyl sulfoxide, sulfora Sulfoxides such as N, N-dimethylformamide, amides such as N, N, N ′, N′-tetramethylurea, tetrahydrofuran (hereinafter referred to as “THF”), dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol Ethers such as dimethyl ether and tetraethylene glycol dimethyl ether, or a mixture thereof can be used.

また、近赤外線吸収色素を含む塗工液には、必要に応じて、上記以外の近赤外線吸収剤を添加してもよい。他の近赤外線吸収剤としては、有機物質であるニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、トリアリルメタン系化合物、インモニウム系化合物、ジインモニウム系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物、あるいは、無機物であるカーボンブラックや、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、周期律表4A、5Aまたは6A族に属する金属の酸化物、もしくは炭化物、またはホウ化物などが挙げられる。   Moreover, you may add near-infrared absorbers other than the above to the coating liquid containing a near-infrared absorption pigment | dye as needed. Other near-infrared absorbers include organic substances such as nitroso compounds and their metal complexes, cyanine compounds, squarylium compounds, thiol nickel complex compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, triallylmethane compounds, and immonium compounds. Compound, diimmonium compound, naphthoquinone compound, anthraquinone compound, amino compound, aminium salt compound, inorganic carbon black, indium tin oxide, antimony tin oxide, periodic table 4A, 5A or 6A group Examples thereof include metal oxides, carbides, borides, and the like.

金属錯体を含む塗工液の透明基材へのコーティングは、ディッピング法、フローコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフコート法等の公知の塗工方法で行われる。
金属錯体を含む層は、乾燥後の膜厚が、通常0.1〜30μm、好ましくは0.5〜10μmとなるように塗布される。
Coating on a transparent substrate with a coating solution containing a metal complex is a known dipping method, flow coating method, spray method, bar coating method, gravure coating method, roll coating method, blade coating method, air knife coating method, etc. It is performed by the coating method.
The layer containing the metal complex is applied so that the film thickness after drying is usually 0.1 to 30 μm, preferably 0.5 to 10 μm.

(紫外線カット層)
本発明の赤外線吸収フィルターは、さらに紫外線カット層を設けることにより、金属錯体との相乗効果によって、赤外線吸収フィルターの耐光性を著しく向上させることができる。紫外線カット層としては、400nm以下の波長の紫外線を効率よくカットできるものであり、350nmの波長の光を70%以上吸収できることが好ましい。紫外線カット層の種類については、特に制限されないが、好ましくは紫外線吸収剤を含有する樹脂フィルム(紫外線カットフィルム)が好ましい。
(UV cut layer)
The infrared absorption filter of the present invention can significantly improve the light resistance of the infrared absorption filter due to the synergistic effect with the metal complex by further providing an ultraviolet cut layer. The ultraviolet cut layer is capable of efficiently cutting ultraviolet rays having a wavelength of 400 nm or less, and preferably absorbs 70% or more of light having a wavelength of 350 nm. The type of the ultraviolet cut layer is not particularly limited, but a resin film (ultraviolet cut film) containing an ultraviolet absorber is preferable.

紫外線カット層に用いられる紫外線吸収剤としては、300〜400nmの間に極大吸収を有し、その領域の光を効率よくカットする化合物であれば、有機系、無機系のいずれも特に限定なく用いることができる。例えば有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、パラアミノ安息香酸系紫外線吸収剤、ケイ皮酸系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系紫外線吸収剤等が挙げられ、無機系紫外線級剤としては酸化チタン系紫外線吸収剤、酸化亜鉛系紫外線吸収剤、微粒子酸化鉄系紫外線吸収剤等が挙げられるが、無機系紫外線吸収剤の場合は紫外線カット層中で微粒子状態で存在しているため、赤外線吸収フィルターの効率を損なう恐れがあることから、有機系紫外線吸収剤が好ましい。   As an ultraviolet absorber used for the ultraviolet cut layer, any organic or inorganic compound can be used without particular limitation as long as it has a maximum absorption between 300 to 400 nm and can efficiently cut light in the region. be able to. For example, the organic UV absorbers include benzotriazole UV absorbers, benzophenone UV absorbers, salicylic acid ester UV absorbers, triazine UV absorbers, paraaminobenzoic acid UV absorbers, and cinnamic acid UV absorbers. Acrylate ultraviolet absorbers, hindered amine ultraviolet absorbers and the like, and inorganic ultraviolet grade agents include titanium oxide ultraviolet absorbers, zinc oxide ultraviolet absorbers, and particulate iron oxide ultraviolet absorbers. In the case of inorganic ultraviolet absorbers, organic ultraviolet absorbers are preferred because they exist in the form of fine particles in the ultraviolet cut layer and may impair the efficiency of the infrared absorption filter.

このような紫外線吸収剤としては、例えば、チバガイギー(株)のチヌビンP、チヌビン120、213、234、320、326、327、328、329、384、400、571、住友化学(株)のスミソーブ250、300、577、共同薬品(株)バイオソーブ582、550、591、城北化学(株)のJFー86、79、78、80、旭電化(株)のアデカスタブLA−32,LA−36,LA−34、シプロ化成(株)のシーソルブ100、101、101S、102、103、501、201、202、612NH、大塚化学(株)のRUVA93、30M、30S、BASF(株)のユービナール3039等が挙げられる。   Examples of such ultraviolet absorbers include Tinuvin P, Tinuvin P, Tinuvin 120, 213, 234, 320, 326, 327, 328, 329, 384, 400, 571, Sumitomo Chemical Co., Ltd. , 300, 577, Kyodo Pharmaceutical Co., Ltd. Biosorb 582, 550, 591, Johoku Chemical Co., Ltd. JF-86, 79, 78, 80, Asahi Denka Co., Ltd. Adekastab LA-32, LA-36, LA- 34, Cipro Chemical Co., Ltd. Seasolv 100, 101, 101S, 102, 103, 501, 201, 202, 612NH, Otsuka Chemical Co., Ltd. RUVA93, 30M, 30S, BASF Corporation Ubinar 3039, etc. .

これらの紫外線吸収剤は、単独で用いても良いが、数種類組み合わせても良い。また、紫外線を吸収して可視領域に波長変換するチバガイギー(株)のユービテックスOB,OB−P等の蛍光増白剤も利用できる。
また、紫外線カットフィルムは、市販のUVカットフィルターを使用することもでき、例えば、富士フィルム(株)のSC−38、SC−39、SC−42、三菱レーヨン(株)のアクリプレン等が挙げられる。上記のUVカットフィルター、SC−39、アクリプレンは、ともに350nmの波長を99%以上吸収する紫外線カットフィルムである。
These ultraviolet absorbers may be used alone or in combination. In addition, fluorescent whitening agents such as Ubitex OB and OB-P manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd. that absorb ultraviolet rays and convert the wavelength into the visible region can also be used.
The UV cut film may be a commercially available UV cut filter, such as SC-38, SC-39, SC-42 from Fuji Film Co., Ltd., acrylene from Mitsubishi Rayon Co., Ltd. or the like. . The UV cut filter, SC-39, and acrylene are both UV cut films that absorb 99% or more of the wavelength of 350 nm.

このように紫外線吸収槽を設けた本発明の近赤外線吸収フィルターは、Xeランプを200時間照射することによる耐光性試験後の色素残存率が80%以上、好ましくは85%以上、特に好ましくは90%以上となり、可視光領域に新たな吸収ピークが出てくることもない。ここで、色素残存率は、800〜1100nm領域における試験前後の吸収強度の減少度合から求める。   Thus, the near-infrared absorption filter of the present invention provided with the ultraviolet ray absorption tank has a dye residual ratio of 80% or more, preferably 85% or more, particularly preferably 90 after the light resistance test by irradiating the Xe lamp for 200 hours. %, And no new absorption peak appears in the visible light region. Here, the dye residual ratio is determined from the degree of decrease in absorption intensity before and after the test in the 800 to 1100 nm region.

上記近赤外線吸収フィルターは単独はもちろん透明のガラスや他の透明樹脂板等と貼り合わせた積層体として用いてもよい。
また、本発明により得られる近赤外線吸収フィルターは、本発明のディスプレイパネル用フィルター以外にも、熱線遮断フィルム、サングラス、保護眼鏡、リモコン受光器など幅広い用途に使用することができる。
The near-infrared absorption filter may be used alone or as a laminate laminated with transparent glass or other transparent resin plate.
In addition to the display panel filter of the present invention, the near-infrared absorption filter obtained by the present invention can be used in a wide range of applications such as a heat ray blocking film, sunglasses, protective glasses, and a remote control receiver.

4.電子ディスプレイ用フィルター
さらに、本発明の赤外線吸収フィルターは、必要に応じて、電磁波カット層、表面への蛍光灯などの外光の写り込みを防止する反射防止層、ぎらつき防止層(ノングレア層)、色調補正層を設け、電子ディスプレイ用、より好ましくはプラズマディスプレイパネル用フィルターとして使用することができる。
4). Filter for electronic display Further, the infrared absorption filter of the present invention includes an electromagnetic wave cut layer, an antireflection layer for preventing reflection of external light such as a fluorescent lamp on the surface, and an antiglare layer (non-glare layer) as necessary. Further, a color tone correction layer is provided, and it can be used as a filter for an electronic display, more preferably a plasma display panel.

本発明の電子ディスプレイ用フィルターは、上記近赤外線吸収フィルターを用いている他は、通常、用いられる構成や製造方法等を任意にとることができ、特に限定されるものではないが、以下にプラズマディスプレイパネル用フィルターとして用いる場合を代表例として説明する。
(電磁波カット層)
本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターに用いられる電磁波カット層としては、金属酸化物等の蒸着あるいはスパッタリング方法等が利用できる。通常は酸化インジウムスズ(ITO)が一般的であるが、誘導体層と金属層を基材上に交互にスパッタリング等で積層させることで1000nm以上の光をカットすることもできる。誘電体層としては酸化インジウム、酸化亜鉛などの透明な金属酸化物等であり、金属層としては銀あるいは銀−パラジウム合金が一般的であり、通常、誘電体層より3層、5層、7層あるいは11層程度積層する。基材としては、本発明の赤外線吸収フィルターをそのまま利用しても良いし、樹脂フィルムあるいはガラス上に蒸着あるいはスパッタリングして電磁波カット層を設けた後に、本発明の赤外線吸収フィルターと貼り合わせても良い。
The filter for electronic display of the present invention is not particularly limited except that the near-infrared absorption filter described above is used, and the configuration and manufacturing method used can be arbitrarily selected. The case where it is used as a filter for a display panel will be described as a representative example.
(Electromagnetic wave cut layer)
As the electromagnetic wave cut layer used in the filter for the plasma display panel of the present invention, vapor deposition of metal oxide or the like, sputtering method and the like can be used. Usually, indium tin oxide (ITO) is common, but light of 1000 nm or more can also be cut by alternately laminating a derivative layer and a metal layer on a substrate by sputtering or the like. The dielectric layer is a transparent metal oxide such as indium oxide or zinc oxide, and the metal layer is generally silver or a silver-palladium alloy, and usually three, five, and seven layers from the dielectric layer. Laminate about 11 layers. As the substrate, the infrared absorption filter of the present invention may be used as it is, or after deposition or sputtering on a resin film or glass to provide an electromagnetic wave cut layer, it may be bonded to the infrared absorption filter of the present invention. good.

(反射防止層)
本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターに用いられる反射防止層としては、表面の反射を抑えてフィルターの透過率を向上させるために、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等で単層あるいは多層に積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂などの屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させる方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。
(Antireflection layer)
The antireflection layer used in the plasma display panel filter of the present invention includes a metal oxide, fluoride, silicide, boride, carbide, nitride in order to suppress reflection on the surface and improve the transmittance of the filter. In addition, a method of laminating inorganic substances such as sulfides in a single layer or multiple layers by vacuum deposition, sputtering, ion plating, ion beam assist, etc., single layers of resins having different refractive indexes such as acrylic resins and fluororesins Alternatively, there is a method of laminating in multiple layers. Moreover, the film which gave the antireflection process can also be affixed on this filter.

(色調補正層)
本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターに用いられる色調補正層としては、プラズマディスプレイから発せられる590〜600nmの波長域のネオンオレンジ光をカットできれば特に限定されず、公知のスクアリリウム系化合物、テトラアザポルフィリン系化合物、シアニン系化合物、メチン系化合物、ピロメテン系化合物、ジピロメテン系化合物等の化合物を含有させる。また、消光時のディスプレイの色がニュートラルグレーになるようにその他の色素を添加することもある。
(Color tone correction layer)
The color tone correction layer used in the plasma display panel filter of the present invention is not particularly limited as long as it can cut neon orange light in the wavelength range of 590 to 600 nm emitted from the plasma display, and is well-known squarylium compound, tetraazaporphyrin type Compounds such as compounds, cyanine compounds, methine compounds, pyromethene compounds, and dipyrromethene compounds are included. In addition, other dyes may be added so that the color of the display at the time of extinction becomes neutral gray.

(ノングレア層)
また、上述の各層の他にぎらつき防止層(ノングレア層)も設けてもよい。ノングレア層は、フィルターの視野角を広げる目的で、透過光を散乱させるために、シリカ、メラミン、アクリル等の微粉体をインキ化して、表面にコーティングする方法などを用いることができる。インキの硬化は、熱硬化あるいは光硬化を用いることができる。また、ノングレア処理したフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。更に必要であれば、ハードコート層を設けることもできる。
(Non-glare layer)
In addition to the above layers, a glare prevention layer (non-glare layer) may be provided. In order to scatter the transmitted light, the non-glare layer may be formed by coating fine powders such as silica, melamine, and acrylic and coating the surface in order to scatter transmitted light. The ink can be cured by thermal curing or photocuring. Further, a non-glare-treated film can be stuck on the filter. Further, if necessary, a hard coat layer can be provided.

以下に、実施例により本発明の実施態様を説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これらに限定されるものではない。
実施例1(例示化合物1の製造)
Embodiments of the present invention will be described below by way of examples. However, the present invention is not limited to these examples as long as the gist thereof is not exceeded.
Example 1 (Production of Exemplified Compound 1)

Figure 2006215395
Figure 2006215395

4−フェニル−[1,3]ジチオール−2−オン3g(15.5mmol)とジフェニルジスルフィド5.06g(23.2mmol)を無水THF(30mL)に溶解させ、−78℃に冷却した。この反応溶液にLiN(TMS)2ヘキサン溶液(1M、17.2mL)を5分間で加えた。
この反応溶液を2時間かけて0℃まで昇温し、氷−飽和塩化アンモニウム水溶液に注いだ。酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗った後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;3%酢酸エチル/ヘキサン)により精製し、4−フェニル−5−フェニルチオ−[1,3]ジチオール−2−オンを定量的に得た。
EI MS;302
4-phenyl- [1,3] dithiol-2-one 3 g (15.5 mmol) and diphenyl disulfide 5.06 g (23.2 mmol) were dissolved in anhydrous THF (30 mL) and cooled to -78 ° C. To this reaction solution was added LiN (TMS) 2 hexane solution (1M, 17.2 mL) over 5 min.
The reaction solution was warmed to 0 ° C. over 2 hours and poured into an ice-saturated aqueous ammonium chloride solution. The mixture was extracted with ethyl acetate, and the organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated. The obtained crude product was purified by column chromatography (developing solvent; 3% ethyl acetate / hexane) to quantitatively obtain 4-phenyl-5-phenylthio- [1,3] dithiol-2-one.
EI MS; 302

Figure 2006215395
Figure 2006215395

4−フェニル−5−フェニルチオ−[1,3]ジチオール−2−オン2.4g(13.2mmol)をTHF25mLに溶かした溶液に1Mナトリウムメトキシド−メタノール溶液(17mL)を加え、25℃で30分撹拌した。この反応溶液にメタノール3mLに溶かした0.5当量の塩化ニッケル六水和物を加え、さらに25℃で30分撹拌した。この混合溶液を、トルエン60mL及び酢酸8.5mLの混合溶媒中に注ぎ、空気をバブリングしながら、8時間撹拌した。溶媒を濃縮した後、得られた粗生成物をメタノール懸洗し、ろ過した。沈殿物を再度酢酸エチルで懸洗、ろ過し、例示化合物1を1.78g(74%収率)で得た(λmax(in THF)911nm)。
EI MS:606
実施例2(例示化合物2の製造)
To a solution of 2.4 g (13.2 mmol) of 4-phenyl-5-phenylthio- [1,3] dithiol-2-one in 25 mL of THF was added a 1M sodium methoxide-methanol solution (17 mL), and the mixture was stirred at 25 ° C. for 30 minutes. Stir for minutes. To this reaction solution, 0.5 equivalent of nickel chloride hexahydrate dissolved in 3 mL of methanol was added, and the mixture was further stirred at 25 ° C. for 30 minutes. This mixed solution was poured into a mixed solvent of 60 mL of toluene and 8.5 mL of acetic acid, and stirred for 8 hours while bubbling air. After concentrating the solvent, the resulting crude product was washed with methanol and filtered. The precipitate was washed again with ethyl acetate and filtered to obtain Exemplified Compound 1 in 1.78 g (74% yield) (λmax (in THF) 911 nm).
EI MS: 606
Example 2 (Production of Exemplified Compound 2)

Figure 2006215395
Figure 2006215395

4−フェニル−[1,3]ジチオール−2−オンの代わりに4−(2、5−ジメチルフェニル)−[1,3]ジチオール−2−オンを用いた他は実施例1と同様の方法により、4−(2、5−ジメチルフェニル)−5−フェニルチオ−[1,3]ジチオール−2−オンを89%収率で得た。
EI MS:330
The same method as in Example 1 except that 4- (2,5-dimethylphenyl)-[1,3] dithiol-2-one was used instead of 4-phenyl- [1,3] dithiol-2-one Gave 4- (2,5-dimethylphenyl) -5-phenylthio- [1,3] dithiol-2-one in 89% yield.
EI MS: 330

Figure 2006215395
Figure 2006215395

4−フェニル−5−フェニルチオ−[1,3]ジチオール−2−オンの代わりに4−(2、5−ジメチルフェニル)−5−フェニルチオ−[1,3]ジチオール−2−オンを用いた他は実施例1と同様の方法により、例示化合物2を69%収率で得た(λmax(in THF)898nm)。
EI MS:662
実施例3(例示化合物3の製造)
Others using 4- (2,5-dimethylphenyl) -5-phenylthio- [1,3] dithiol-2-one instead of 4-phenyl-5-phenylthio- [1,3] dithiol-2-one Produced Example Compound 2 in 69% yield by the same method as in Example 1 (λmax (in THF) 898 nm).
EI MS: 662
Example 3 (Production of Exemplified Compound 3)

Figure 2006215395
Figure 2006215395

ジフェニルジスルフィドの代わりにジブチルジスルフィドを用いた他は実施例1と同様の方法により、4−フェニル−5−n−ブチルチオ−[1,3]ジチオール−2−オンを
69%収率で得た。
EI MS:282
4-Phenyl-5-n-butylthio- [1,3] dithiol-2-one was obtained in 69% yield by the same method as in Example 1 except that dibutyl disulfide was used instead of diphenyl disulfide.
EI MS: 282

Figure 2006215395
Figure 2006215395

4−フェニル−5−フェニルチオ−[1,3]ジチオール−2−オンの代わりに4−フェニル−5−n−ブチルチオ−[1,3]ジチオール−2−オンを用いた他は実施例1と同様の方法により、例示化合物3を61%収率で得た(λmax(in THF)952nm)。
EI MS:656
実施例4(例示化合物4の製造)
Example 1 except that 4-phenyl-5-n-butylthio- [1,3] dithiol-2-one was used instead of 4-phenyl-5-phenylthio- [1,3] dithiol-2-one By a similar method, Exemplified Compound 3 was obtained in a yield of 61% (λmax (in THF) 952 nm).
EI MS: 656
Example 4 (Production of Exemplified Compound 4)

Figure 2006215395
Figure 2006215395

4−フェニル−[1,3]ジチオール−2−オンの代わりに4−メチル−5−フェニルチオ−[1,3]ジチオール−2−オンを用いた他は実施例1と同様の方法により、4−メチル−5−フェニルチオ−[1,3]ジチオール−2−オンを96%収率で得た。
EI MS:240
According to the same method as in Example 1, except that 4-methyl-5-phenylthio- [1,3] dithiol-2-one was used instead of 4-phenyl- [1,3] dithiol-2-one, 4 -Methyl-5-phenylthio- [1,3] dithiol-2-one was obtained in 96% yield.
EI MS: 240

Figure 2006215395
Figure 2006215395

4−フェニル−5−フェニルチオ−[1,3]ジチオール−2−オンの代わりに4−メチル−5−フェニルチオ−[1,3]ジチオール−2−オンを用いた他は実施例1と同様の方法により、例示化合物4を72%収率で得た(λmax(in THF)852nm)。
EI MS:482
実施例5(例示化合物5の製造)
The same as Example 1 except that 4-methyl-5-phenylthio- [1,3] dithiol-2-one was used instead of 4-phenyl-5-phenylthio- [1,3] dithiol-2-one. By the method, Exemplified Compound 4 was obtained in a yield of 72% (λmax (in THF) 852 nm).
EI MS: 482
Example 5 (Production of Exemplified Compound 5)

Figure 2006215395
Figure 2006215395

4−フェニル−[1,3]ジチオール−2−オンの代わりに4−t−ブチル−5−フェニルチオ−[1,3]ジチオール−2−オンを用いた他は実施例1と同様の方法により、4−t−ブチル−5−フェニルチオ−[1,3]ジチオール−2−オンを86%収率で得た。
EI MS:282
According to the same method as in Example 1, except that 4-t-butyl-5-phenylthio- [1,3] dithiol-2-one was used instead of 4-phenyl- [1,3] dithiol-2-one. 4-t-butyl-5-phenylthio- [1,3] dithiol-2-one was obtained in 86% yield.
EI MS: 282

Figure 2006215395
Figure 2006215395

4−フェニル−5−フェニルチオ−[1,3]ジチオール−2−オンの代わりに4−t−ブチル−5−フェニルチオ−[1,3]ジチオール−2−オンを用いた他は実施例1と同様の方法により、例示化合物5を72%収率で得た(λmax(in THF)848nm)。
EI MS:566
実施例6(例示化合物6の製造)
Example 1 except that 4-t-butyl-5-phenylthio- [1,3] dithiol-2-one was used instead of 4-phenyl-5-phenylthio- [1,3] dithiol-2-one By the same method, Exemplified Compound 5 was obtained in a yield of 72% (λmax (in THF) 848 nm).
EI MS: 566
Example 6 (Production of Exemplified Compound 6)

Figure 2006215395
Figure 2006215395

4−フェニル−[1,3]ジチオール−2−オンの代わりに4−t−ブチル−[1,3]ジチオール−2−オンを用い、ジフェニルジスルフィドの代わりにジ(4−t−ブチルー2−メチルフェニル)ジスルフィドを用いた他は実施例1と同様の方法により、4−t−ブチル−5−(4−t−ブチル−2−メチルフェニル)チオ−[1,3]ジチオール−2−オンを83%収率で得た。
EI MS:352
4-t-butyl- [1,3] dithiol-2-one was used instead of 4-phenyl- [1,3] dithiol-2-one, and di (4-t-butyl-2-one was used instead of diphenyl disulfide. 4-t-butyl-5- (4-t-butyl-2-methylphenyl) thio- [1,3] dithiol-2-one was prepared in the same manner as in Example 1 except that methylphenyl) disulfide was used. Was obtained in 83% yield.
EI MS: 352

Figure 2006215395
Figure 2006215395

4−フェニル−5−フェニルチオ−[1,3]ジチオール−2−オンの代わりに4−t−ブチル−5−(4−t−ブチル−2−メチルフェニル)チオ−[1,3]ジチオール−
2−オンを用いた他は実施例1と同様の方法により、例示化合物6を77%収率で得た(λmax(in THF)876nm)。
EI MS:706
実施例7(例示化合物24の製造)
4-t-butyl-5- (4-t-butyl-2-methylphenyl) thio- [1,3] dithiol in place of 4-phenyl-5-phenylthio- [1,3] dithiol-2-one
Except that 2-one was used, Exemplified Compound 6 was obtained in a 77% yield by the same method as in Example 1 (λmax (in THF) 876 nm).
EI MS: 706
Example 7 (Production of Exemplified Compound 24)

Figure 2006215395
Figure 2006215395

4−フェニル−[1,3]ジチオール−2−オン3.2g(16.5mmol)とトリメチルシリルクロリド3.3mL(24.8mmol)を無水THF(20mL)に溶解させ、−78
℃に冷却した。この反応溶液にLiN(TMS)2ヘキサン溶液(1M、17.2mL)を5分間で加
えた。この反応溶液を2時間かけて0℃まで昇温し、氷−飽和塩化アンモニウム水溶液に注いだ。酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗った後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮した。得られた粗生成物をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;5%酢酸エチル/ヘキサン)により精製し、4−フェニル−5−トリメチルシリル−[1,3]ジチオール−2−オンを95%収率で得た。
EI MS;266
3.2 g (16.5 mmol) of 4-phenyl- [1,3] dithiol-2-one and 3.3 mL (24.8 mmol) of trimethylsilyl chloride were dissolved in anhydrous THF (20 mL), and -78
Cooled to ° C. To this reaction solution was added LiN (TMS) 2 hexane solution (1M, 17.2 mL) over 5 minutes. The reaction solution was heated to 0 ° C. over 2 hours and poured into an ice-saturated aqueous ammonium chloride solution. The mixture was extracted with ethyl acetate, and the organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated. The resulting crude product was purified by column chromatography (developing solvent; 5% ethyl acetate / hexane) to give 4-phenyl-5-trimethylsilyl- [1,3] dithiol-2-one in 95% yield. It was.
EI MS; 266

Figure 2006215395
Figure 2006215395

4−フェニル−5−トリメチルシリル−[1,3]ジチオール−2−オン2.1g(7.89mmol)をTHF25mLに溶かした溶液に1Mナトリウムメトキシド−メタノール溶液(17mL)を加え、25℃で30分撹拌した。この反応溶液にメタノール3mLに溶かした0.5当量の塩化ニッケル六水和物を加え、さらに25℃で30分撹拌した。この混合溶液を、トルエン60mL及び酢酸8.5mLの混合溶媒中に注ぎ、空気をバブリングしながら、8時間撹拌した。溶媒を濃縮した後、得られた粗生成物をメタノール懸洗し、ろ過した。沈殿物をクロロホルムに溶かし、有機層を飽和食塩水で洗った後、濃縮し、得られた固体を再度メタノール懸洗、ろ過し、例示化合物24を1.71g(81%収率)で得た(λmax(in THF)818nm)。
EI MS:534
実施例8(本発明の化合物の溶解度)
実施例5で製造した例示化合物5の、トルエンとメチルエチルケトンに対する溶解度を測定した。溶解度の測定は25℃で行った。結果を表1に示す。
To a solution of 2.1 g (7.89 mmol) of 4-phenyl-5-trimethylsilyl- [1,3] dithiol-2-one in 25 mL of THF was added 1M sodium methoxide-methanol solution (17 mL), and the mixture was stirred at 25 ° C. for 30 minutes. Stir for minutes. To this reaction solution, 0.5 equivalent of nickel chloride hexahydrate dissolved in 3 mL of methanol was added, and the mixture was further stirred at 25 ° C. for 30 minutes. This mixed solution was poured into a mixed solvent of 60 mL of toluene and 8.5 mL of acetic acid, and stirred for 8 hours while bubbling air. After concentrating the solvent, the resulting crude product was washed with methanol and filtered. The precipitate was dissolved in chloroform, and the organic layer was washed with saturated brine and then concentrated. The obtained solid was again washed with methanol and filtered to obtain Exemplary Compound 24 in 1.71 g (81% yield). (Λmax (in THF) 818 nm).
EI MS: 534
Example 8 (Solubility of Compounds of the Invention)
The solubility of Exemplified Compound 5 produced in Example 5 in toluene and methyl ethyl ketone was measured. The solubility was measured at 25 ° C. The results are shown in Table 1.

比較例1(公知のジチオール金属錯体の溶解度)
特開2002−132176の実施例1で用いられている、下記式(A)で表される公知のジチオール金属錯体の、トルエンとメチルエチルケトンに対する溶解度を測定した。結果を表1に示す。
Comparative Example 1 (Solubility of Known Dithiol Metal Complex)
The solubility of a known dithiol metal complex represented by the following formula (A) used in Example 1 of JP-A-2002-132176 in toluene and methyl ethyl ketone was measured. The results are shown in Table 1.

Figure 2006215395
Figure 2006215395

比較例2(公知のジチオール金属錯体の溶解度)
特開昭64−669686号公報の実施例2で用いられている、下記式(B)で表される公知のジチオール金属錯体の、トルエンとメチルエチルケトンに対する溶解度を測定した。結果を表1に示す。
Comparative Example 2 (Solubility of Known Dithiol Metal Complex)
The solubility of a known dithiol metal complex represented by the following formula (B) used in Example 2 of JP-A-64-669686 in toluene and methyl ethyl ketone was measured. The results are shown in Table 1.

Figure 2006215395
Figure 2006215395

Figure 2006215395
Figure 2006215395

以上の結果より、本発明の化合物を近赤外線吸収色素として用いて近赤外線吸収フィルターを製造すると、溶解度が高いことがわかる。したがって、本発明によれば、少量の樹脂に対して多くの色素を含有させることができ、その結果、近赤外線吸収フィルターを薄膜化できることがわかる。
実施例9(例示化合物1を含む近赤外線吸収フィルター)
例示化合物1(34.3mg)をトルエン0.80gに添加し、これらの中にアクリル系樹脂(オプトレッソOZ1100)のMEK/トルエン(=1/1)溶液(樹脂濃度25重量%)3.2gを添加し、超音波をかけて溶解させ、濾過後、この塗工液を、バーコータ(No.18;江藤器械(株)製)でポリエチレンテレフタレート製フィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外線吸収フィルターを得た。
From the above results, it can be seen that when a near-infrared absorbing filter is produced using the compound of the present invention as a near-infrared absorbing dye, the solubility is high. Therefore, according to the present invention, it can be seen that a large amount of pigment can be contained in a small amount of resin, and as a result, the near-infrared absorption filter can be thinned.
Example 9 (Near-infrared absorption filter containing Exemplified Compound 1)
Illustrative compound 1 (34.3 mg) was added to 0.80 g of toluene, and 3.2 g of a MEK / toluene (= 1/1) solution of acrylic resin (Optreso OZ1100) (resin concentration 25 wt%) was added to these. After adding, dissolving by applying ultrasonic waves, and filtering, this coating solution is applied to a polyethylene terephthalate film with a bar coater (No. 18; manufactured by Eto Kikai Co., Ltd.) and dried to obtain near infrared rays. An absorption filter was obtained.

このフィルターのλmaxは911nmであった。
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、80℃の恒温槽および、60℃、湿度90%の恒温層に500時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験(911nmにおける試験前後の吸収強度の測定)を実施したところ、色素残存率(試験後の強度÷試験前の強度×100)はそれぞれ、95.1%及び99.3%と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
Λmax of this filter was 911 nm.
Furthermore, in order to evaluate heat resistance and moist heat resistance, the test was conducted for 500 hours in a constant temperature bath at 80 ° C. and a constant temperature layer at 60 ° C. and 90% humidity (measurement of absorption strength before and after the test at 911 nm). ), The residual ratio of the dye (strength after the test ÷ strength before the test × 100) was 95.1% and 99.3%, respectively, indicating good heat resistance and moist heat resistance, and the color change of the filter was There wasn't.

実施例10(例示化合物2を含む近赤外線吸収フィルター)
例示化合物2を用いた以外は実施例9と同様の方法により近赤外線吸収フィルターを得た。
このフィルターのλmaxは897nmであった。
実施例9と同様の方法により耐熱性及び耐湿熱性の試験(897nmにおける試験前後の吸収強度の測定)を実施したところ、色素残存率はそれぞれ、95.5%及び99.7%と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
Example 10 (Near-infrared absorption filter containing Exemplified Compound 2)
A near-infrared absorption filter was obtained in the same manner as in Example 9 except that Illustrative Compound 2 was used.
Λmax of this filter was 897 nm.
When heat resistance and heat-and-moisture resistance tests (measurement of absorption intensity before and after the test at 897 nm) were performed in the same manner as in Example 9, the residual dye ratios were 95.5% and 99.7%, respectively, and good heat resistance And resistance to wet heat, and there was no color change of the filter.

実施例11(例示化合物3を含む近赤外線吸収フィルター)
例示化合物3を用いた以外は実施例9と同様の方法により近赤外線吸収フィルターを得た。
Example 11 (Near-infrared absorption filter containing Exemplified Compound 3)
A near-infrared absorption filter was obtained in the same manner as in Example 9 except that the exemplified compound 3 was used.

このフィルターのλmaxは946nmであった。
実施例9と同様の方法により耐熱性及び耐湿熱性の試験(946nmにおける試験前後の吸収強度の測定)を実施したところ、色素残存率はそれぞれ、94.5%及び100.0%と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
This filter had a λmax of 946 nm.
When heat resistance and heat-and-moisture resistance tests (measurement of absorption strength before and after the test at 946 nm) were performed in the same manner as in Example 9, the residual dye ratios were 94.5% and 100.0%, respectively, and good heat resistance And resistance to wet heat, and there was no color change of the filter.

実施例12(例示化合物4を含む近赤外線吸収フィルター)
例示化合物4(34.3mg)を用いた以外は実施例9と同様の方法により近赤外線吸収フィルターを得た。
このフィルターのλmaxは855nmであった。
実施例9と同様の方法により耐熱性及び耐湿熱性の試験(855nmにおける試験前後の吸収強度の測定)を実施したところ、色素残存率はそれぞれ、90.7%及び93.1%と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
Example 12 (Near-infrared absorption filter containing Exemplified Compound 4)
A near-infrared absorption filter was obtained in the same manner as in Example 9 except that the exemplified compound 4 (34.3 mg) was used.
This filter had a λmax of 855 nm.
When heat resistance and heat-and-moisture resistance tests (measurement of absorption intensity before and after the test at 855 nm) were performed in the same manner as in Example 9, the residual dye ratios were 90.7% and 93.1%, respectively, and good heat resistance And resistance to wet heat, and there was no color change of the filter.

実施例13(例示化合物5を含む近赤外線吸収フィルター)
例示化合物5(34.3mg)を用いた以外は実施例9と同様の方法により近赤外線吸収フィルターを得た。
Example 13 (Near-infrared absorption filter containing Exemplified Compound 5)
A near-infrared absorption filter was obtained in the same manner as in Example 9 except that Example Compound 5 (34.3 mg) was used.

このフィルターのλmaxは844nmであった。
実施例9と同様の方法により耐熱性及び耐湿熱性の試験(844nmにおける試験前後の吸収強度の測定)を実施したところ、色素残存率はそれぞれ、96.2%及び100%と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
This filter had a λmax of 844 nm.
When heat resistance and moist heat resistance tests (measurement of absorption intensity before and after the test at 844 nm) were conducted in the same manner as in Example 9, the residual dye ratios were 96.2% and 100%, respectively, and good heat resistance and It showed resistance to moist heat, and there was no color change of the filter.

実施例14(例示化合物6を含む近赤外線吸収フィルター)
例示化合物6(34.3mg)を用いた以外は実施例9と同様の方法により近赤外線吸収フィルターを得た。
このフィルターのλmaxは875nmであった。
実施例9と同様の方法により耐熱性及び耐湿熱性の試験(875nmにおける試験前後の吸収強度の測定)を実施したところ、色素残存率はそれぞれ、94.8%及び99.7%と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
Example 14 (Near-infrared absorption filter containing Exemplified Compound 6)
A near-infrared absorbing filter was obtained in the same manner as in Example 9 except that the exemplified compound 6 (34.3 mg) was used.
Λmax of this filter was 875 nm.
When heat resistance and moist heat resistance tests (measurement of absorption intensity before and after the test at 875 nm) were carried out in the same manner as in Example 9, the residual dye ratios were 94.8% and 99.7%, respectively, and good heat resistance And resistance to wet heat, and there was no color change of the filter.

実施例15(例示化合物24を含む近赤外線吸収フィルター)
例示化合物24(34.3mg)(34.3mg)を用いた以外は実施例9と同様の方法により近赤外線吸収フィルターを得た。
Example 15 (Near-infrared absorption filter containing Exemplified Compound 24)
A near-infrared absorption filter was obtained in the same manner as in Example 9 except that Exemplified Compound 24 (34.3 mg) (34.3 mg) was used.

このフィルターのλmaxは822nmであった。
実施例9と同様の方法により耐熱性及び耐湿熱性の試験(822nmにおける試験前後の吸収強度の測定)を実施したところ、色素残存率はそれぞれ、94.1%及び97.7%と良好な耐熱性および耐湿熱性を示し、フィルターの色変化はなかった。
Λmax of this filter was 822 nm.
When heat resistance and moist heat resistance tests (measurement of absorption intensity before and after the test at 822 nm) were performed in the same manner as in Example 9, the residual dye ratios were 94.1% and 97.7%, respectively, and good heat resistance And resistance to wet heat, and there was no color change of the filter.

比較例3(式(A)の化合物を含む近赤外線吸収フィルター)
比較例1で用いた式(A)で表される化合物(34.3mg)を用いた以外は実施例9と同様の方法により近赤外線吸収フィルターを得た。
このフィルターのλmaxは856nmであった。
実施例9と同様の方法により耐熱性及び耐湿熱性の試験(856nmにおける試験前後の吸収強度の測定)を実施したところ、色素残存率はそれぞれ、96.5%及び98.7%であった。
Comparative Example 3 (Near-infrared absorption filter containing a compound of formula (A))
A near-infrared absorption filter was obtained in the same manner as in Example 9 except that the compound represented by the formula (A) used in Comparative Example 1 (34.3 mg) was used.
This filter had a λmax of 856 nm.
When heat resistance and heat-and-moisture resistance tests (measurement of absorption strength before and after the test at 856 nm) were performed in the same manner as in Example 9, the dye residual ratios were 96.5% and 98.7%, respectively.

比較例4(式(B)の化合物を含む近赤外線吸収フィルター)
比較例2で用いた式(B)で表される化合物(34.3mg)を用いた以外は実施例9と同様の方法により近赤外線吸収フィルターを得た。
このフィルターのλmaxは1007nmであった。
実施例9と同様の方法により耐熱性及び耐湿熱性の試験(1007nmにおける試験前後の吸収強度の測定)を実施したところ、色素残存率はそれぞれ、85.3%及び88.9%であった。
Comparative Example 4 (Near-infrared absorption filter containing a compound of formula (B))
A near-infrared absorption filter was obtained in the same manner as in Example 9 except that the compound represented by the formula (B) used in Comparative Example 2 (34.3 mg) was used.
Λmax of this filter was 1007 nm.
When heat resistance and heat-and-moisture resistance tests (measurement of absorption intensity before and after the test at 1007 nm) were carried out in the same manner as in Example 9, the dye residual ratios were 85.3% and 88.9%, respectively.

以上の近赤外線吸収フィルターの耐熱性および耐湿熱性試験の結果を纏めると以下の表2の通りである。   The results of the heat resistance and moist heat resistance tests of the near infrared absorption filter are summarized in Table 2 below.

Figure 2006215395
Figure 2006215395

以上の結果より、本発明の化合物を近赤外線吸収色素として用いた近赤外線吸収フィルターは、式(B)の化合物に対して、耐熱性、耐湿熱性に優れることが明らかである。
実施例16(例示化合物4および一般式(6)で表される化合物を含む近赤外線吸収フィルター)
例示化合物4(68.2mg)及び一般式(6)で表される、下式に示す化合物(99.0mg)を
From the above results, it is clear that the near-infrared absorption filter using the compound of the present invention as a near-infrared absorbing dye is excellent in heat resistance and moist heat resistance with respect to the compound of formula (B).
Example 16 (Near-infrared absorption filter containing Compound represented by Exemplary Compound 4 and General Formula (6))
Compound (99.0 mg) represented by the following formula represented by Exemplary Compound 4 (68.2 mg) and General Formula (6)

Figure 2006215395
Figure 2006215395

テトラヒドロフラン3.0gに添加し、これらの中にアクリル系樹脂(オプトレッソOZ1100)のテトラヒドロフラン溶液(樹脂濃度30重量%)8.0gを添加し、超音波をかけて溶解させ、濾過後、この塗工液を、バーコータ(No.18;江藤器械(株)製)でポリエチレンテレフタレート製フィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外線吸収フィルターを得た。 Add to 3.0 g of tetrahydrofuran, add 8.0 g of tetrahydrofuran solution (resin concentration 30% by weight) of acrylic resin (Optreso OZ1100), dissolve with ultrasonic waves, filter, and apply this coating. The liquid was applied to a polyethylene terephthalate film with a bar coater (No. 18; manufactured by Eto Kikai Co., Ltd.) and dried to obtain a near infrared absorption filter.

このフィルターは、800−1100nmの平均透過率は、13.4%であり、PDP用近赤外線吸収フィルターとして800−1100nmの領域を有効に遮蔽していた。(図1)
更に、耐熱性および耐湿熱性を評価するため、80℃の恒温槽および、60℃、湿度90%の恒温層に500時間入れて耐熱性及び耐湿熱性の試験を行ったところ、試験後も800−1100nmの領域を有効に遮蔽しており、フィルターの色変化もなかった。(図2,図3)
このフィルターに、富士写真フィルム(株)製UVカットフィルター(SC−42) を装着し、キセノンロングライフフェードメーター(FAL−25AX−HCB−EC)(スガ試験機社製品)により、280時間照射し、試験後測定したところ、800−1100nmの領域を有効に遮蔽しており、フィルター色変化はなかった。(図4)
This filter had an average transmittance of 800 to 1100 nm of 13.4%, and effectively shielded the region of 800 to 1100 nm as a near infrared absorption filter for PDP. (Figure 1)
Furthermore, in order to evaluate the heat resistance and the heat and humidity resistance, a heat resistance and a heat and humidity resistance test were conducted for 500 hours in a constant temperature bath at 80 ° C. and a constant temperature layer at 60 ° C. and a humidity of 90%. The region of 1100 nm was effectively shielded, and there was no color change of the filter. (Fig. 2, Fig. 3)
A UV cut filter (SC-42) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was attached to this filter, and irradiated for 280 hours with a xenon long life fade meter (FAL-25AX-HCB-EC) (product of Suga Test Instruments Co., Ltd.). When measured after the test, the region of 800 to 1100 nm was effectively shielded, and there was no filter color change. (Fig. 4)

実施例16の近赤外線吸収フィルターの透過スペクトルである。It is a transmission spectrum of the near-infrared absorption filter of Example 16. 実施例16の近赤外線吸収フィルターの耐熱性試験後の透過スペクトルである。It is a transmission spectrum after the heat resistance test of the near-infrared absorption filter of Example 16. 実施例16の近赤外線吸収フィルターの耐湿熱性試験後の透過スペクトルである。It is the transmission spectrum after the heat-and-moisture resistance test of the near-infrared absorption filter of Example 16. 実施例16の近赤外線吸収フィルターの耐光性試験後の透過スペクトルである。It is the transmission spectrum after the light resistance test of the near-infrared absorption filter of Example 16.

Claims (6)

下記一般式(1)
Figure 2006215395
(式中、R1及びR2は、それぞれ独立して水素原子または1価の有機基を示す。X1及び
2は、それぞれ独立して−X(−R)(n-1)(Xは酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子またはハロゲン原子を示す。Rは水素原子または一価の有機基を示し、複数あるRは同じでも異なっていても良い。nはXの価数を示す。)で表される置換基を示す。R1とX1及びR2とX1は、それぞれ独立して、連結基を介して環を形成していても良い。M1は金属原子を示す。)で表される化合物を含有することを特徴とする近赤外線吸収フィルター。
The following general formula (1)
Figure 2006215395
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group. X 1 and X 2 each independently represent —X (—R) (n−1) (X Represents an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, a silicon atom or a halogen atom, R represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, a plurality of Rs may be the same or different, and n represents the valence of X. R 1 and X 1 and R 2 and X 1 may each independently form a ring via a linking group, and M 1 represents a metal atom. A near-infrared absorption filter comprising a compound represented by:
下記一般式(2)、
Figure 2006215395
(式中、A及びA’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良い複素環基を示し、R5及び
6は、それぞれ独立して、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、置換基を有し
ていても良いアリール基、置換基を有していても良い複素環基、または、水素原子を示す。)ここで、R5とR6は、互いに直接的に又は連結基を介して結ばれていても良い。あるいは、式(2)にXRR’R’’R’’’ R’’’’が配位して塩型をとっても良い。
ここで、Xは、15族を表し、R’、R’’、R’’’、R’’’’は、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、または、置換基を有していても良いアリール基を示す。M2は金属原子を示す。)で表される化合物、下記一般(3)
Figure 2006215395
(式中、B及びB’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基又は置換基を有していても良い複素環基を示し、R7及び
8は、それぞれ独立して、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、置換基を有し
ていても良いアリール基、置換基を有していても良い複素環基、または、水素原子を示す。)ここで、R7とR8は、互いに直接的に又は連結基を介して結ばれていても良い。あるいは、式(3)にXRR’R’’R’’’ R’’’’が配位して塩型をとっても良い。
ここで、Xは、15族を表し、R’、R’’、R’’’、R’’’’は、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、または、置換基を有していても良いアリール基を示す。M3は金属原子を示す。)で表される化合物、下記一般(4)
Figure 2006215395
(式中、C及びC’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良い複素環基を示し、R3及びR4及びR9及びR10は、それぞれ独立して、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、置換基を有していても良いアリール基、置換基を有していても良い複素環基、または、水素原子を示す。)ここで、R3とR4及びR9とR10は、互いに直接的に又は連結基を介して結ばれていても良い。あるいは、式(4)にXRR’R’’R’’’ R’’’’が配位して塩型をとっても良い。ここで、Xは、15族を表し、R’、R’’、R’’’、R’’’’は、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基基、または、置換基を有していても良いアリール基を示す。M4は金属原子を示す。)で表される化合物、下記一般式(5)
Figure 2006215395
(式中、D及びD’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基を示す。)あるいは、式(5)にXRR’R’’R’’’ R’’’’が配位して塩型をとっても良い。ここで、Xは、15族を表し、R’、R’’、R’’’、R’’’’は、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、または、置換基を有していても良いアリール基を示す。M5は金属原子を示す。)で表される化合物、下記一般式(6)
Figure 2006215395
(式中、R11、R12、R13及びR14は、それぞれ独立して、水素原子、シアノ基、カルバモイル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換されていても良い脂肪族炭化水素基又は置換されていても良いアリール基又は置換されていても良い複素環基を示す。ここで、R11〜R14は隣り合う2個の置換基が連結基を介してつながっていてもよい。あるいは、式(6)にXRR’R’’R’’’ R’’’’が配位して塩型をとっても良い。ここで、Xは、15族を表し、R’、R’’、R’’’、R’’’’は、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、または、置換基を有していても良いアリール基を示す。M6は金属原子を示す)で表される化合物及び下記一般式(7)
Figure 2006215395
(式中、E及びE’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。)あるいは、式(7)にXRR’R’’R’’’ R’’’’が配位して塩型をとっても良い。ここで、Xは、15族を表し、R’、R’’、R’’’、R’’’’は、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、または、置換基を有していても良いアリール基を示す。M7は金属原子を示す。)で表される化合物、下記一般式(8)
Figure 2006215395
(式中、F及びF’は、それぞれ独立して、置換基を有していても良いアリール基又は置換基を有していても良いヘテロアリール基を示す。)あるいは、式(8)にXRR’R’’R’’’ R’’’’が配位して塩型をとっても良い。ここで、Xは、15族を表し、R’、R’’、R’’’、R’’’’は、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、または、置換基を有していても良いアリール基を示す。M8は金属原子を示す。)で表される化合物、下記一般式(9)
Figure 2006215395
(式中、R15〜R30は、それぞれ独立して、任意の置換基を示し、隣り合う2つの置換基が連結基を介して環を形成しても良い。M9は水素原子又は金属原子(ここで、該金属原子は、金属酸化物、金属ハロゲン化物又は金属カルボニル化合物となっていてもよく、若しくは、酸と塩を形成していても良い。)を示す。)で表される化合物、下記一般式(10)
Figure 2006215395
(式中、R31〜R34は、それぞれ独立して、置換されていても良い脂肪族炭化水素基又は置換されていても良いアリール基又は置換されていても良い複素環基を示し、ここで、R31〜R34が、必要に応じて連結基を介しながら、一体となって環を形成していても良い。M10は金属原子示す。あるいは、式(10)にXRR’R’’R’’’ R’’’’が配位して塩型をとっても良い。ここで、Xは、15族を表し、R’、R’’、R’’’、R’’’’は、置換基を有していても良い脂肪族炭化水素基、または、置換基を有していても良いアリール基を示す。M6は金属原子を示す)で表される化合物、および、下記一般式(11)
Figure 2006215395
(式中、R35〜R42は、各々独立して、置換基を有しても良いアルキル基、置換基を有しても良いアリール基又は置換基を有しても良いヘテロアリール基を示す。ここで、R35〜R42は、隣り合う2個の置換基が連結基を介してつながっていても良い。Y-は、陰イオンを示す。)で表される化合物からなる群より選ばれる化合物のうち1種類以上を、更に含有することを特徴とする請求項1に記載の近赤外線吸収フィルター。
The following general formula (2),
Figure 2006215395
(In the formula, A and A ′ each independently represent an aryl group which may have a substituent or a heterocyclic group which may have a substituent, and R 5 and R 6 each represents Independently, an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a heterocyclic group which may have a substituent, or a hydrogen atom .) Here, R 5 and R 6 may be connected to each other directly or via a linking group. Alternatively, XRR′R ″ R ′ ″ R ″ ″ may be coordinated with formula (2) to take a salt form.
Here, X represents Group 15, and R ′, R ″, R ′ ″, R ″ ″ represents an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, or a substituent. The aryl group which may have is shown. M 2 represents a metal atom. ), A compound represented by the following general formula (3)
Figure 2006215395
(In the formula, B and B ′ each independently represent an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent or a heterocyclic group which may have a substituent, and R 7 and R 8. Each independently represents an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a heterocyclic group which may have a substituent, or hydrogen. Here, R 7 and R 8 may be bonded to each other directly or via a linking group. Alternatively, XRR′R ″ R ′ ″ R ″ ″ may coordinate to formula (3) to take a salt form.
Here, X represents Group 15, and R ′, R ″, R ′ ″, R ″ ″ represents an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, or a substituent. The aryl group which may have is shown. M 3 represents a metal atom. ), The following general formula (4)
Figure 2006215395
(In the formula, C and C ′ each independently represents an aryl group which may have a substituent or a heterocyclic group which may have a substituent, and R 3 and R 4 and R 9. And R 10 are each independently an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a heterocyclic group which may have a substituent, Alternatively, it represents a hydrogen atom.) Here, R 3 and R 4, and R 9 and R 10 may be connected to each other directly or via a linking group. Alternatively, XRR′R ″ R ′ ″ R ″ ″ may coordinate to formula (4) to take a salt form. Here, X represents Group 15, and R ′, R ″, R ′ ″, R ″ ″ are aliphatic hydrocarbon groups which may have a substituent, or substituents An aryl group which may have M 4 represents a metal atom. ), A compound represented by the following general formula (5)
Figure 2006215395
(In the formula, D and D ′ each independently represents an aryl group which may have a substituent.) Or, XRR′R ″ R ′ ″ R ′ ″ in the formula (5) 'May coordinate and take a salt form. Here, X represents Group 15, and R ′, R ″, R ′ ″, R ″ ″ represents an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, or a substituent. The aryl group which may have is shown. M 5 represents a metal atom. ), A compound represented by the following general formula (6)
Figure 2006215395
Wherein R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are each independently a hydrogen atom, a cyano group, a carbamoyl group, an alkylaminocarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, or a substituted group. A good aliphatic hydrocarbon group, an optionally substituted aryl group or an optionally substituted heterocyclic group, wherein R 11 to R 14 are adjacent two substituents via a linking group; Alternatively, XRR′R ″ R ′ ″ R ″ ″ may be coordinated to formula (6) to form a salt form, where X represents Group 15 and R ', R ″, R ′ ″, R ″ ″ each represents an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. 6 represents a metal atom) and the following general formula (7)
Figure 2006215395
(In the formula, E and E ′ each independently represent an aryl group which may have a substituent or a heteroaryl group which may have a substituent.) Or in formula (7) XRR′R ″ R ′ ″ R ″ ″ may be coordinated to take a salt form. Here, X represents Group 15, and R ′, R ″, R ′ ″, R ″ ″ represents an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, or a substituent. The aryl group which may have is shown. M 7 represents a metal atom. ), A compound represented by the following general formula (8)
Figure 2006215395
(In the formula, F and F ′ each independently represents an aryl group which may have a substituent or a heteroaryl group which may have a substituent.) Or in formula (8) XRR′R ″ R ′ ″ R ″ ″ may be coordinated to take a salt form. Here, X represents Group 15, and R ′, R ″, R ′ ″, R ″ ″ represents an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, or a substituent. The aryl group which may have is shown. M 8 represents a metal atom. ), A compound represented by the following general formula (9)
Figure 2006215395
(Wherein R 15 to R 30 each independently represents an arbitrary substituent, and two adjacent substituents may form a ring via a linking group. M 9 is a hydrogen atom or a metal An atom (wherein the metal atom may be a metal oxide, a metal halide or a metal carbonyl compound, or may form a salt with an acid). Compound, the following general formula (10)
Figure 2006215395
(Wherein R 31 to R 34 each independently represents an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, an optionally substituted aryl group or an optionally substituted heterocyclic group, R 31 to R 34 may be combined to form a ring through a linking group, if necessary, M 10 represents a metal atom, or XRR′R ′ in formula (10) 'R''' R '''' may be coordinated to take a salt form, where X represents Group 15, and R ', R'',R''', R '''' are , An aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. M 6 represents a metal atom), and Formula (11)
Figure 2006215395
(In the formula, R 35 to R 42 each independently represents an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or a heteroaryl group which may have a substituent. Here, R 35 to R 42 may be those in which two adjacent substituents may be connected via a linking group, and Y represents an anion. The near-infrared absorption filter according to claim 1, further comprising at least one of selected compounds.
さらに紫外線カット層を有することを特徴とする請求項1または2に記載の近赤外線吸収フィルター。   The near-infrared absorption filter according to claim 1, further comprising an ultraviolet cut layer. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の近赤外線吸収フィルターを用いた電子ディスプレイ用フィルター。   The filter for electronic displays using the near-infrared absorption filter of any one of Claims 1-3. 下記一般式(1)
Figure 2006215395
(式中、R1及びR2は、それぞれ独立して1価の有機基を示す。X1及びX2は、それぞれ独立して−X(−R)(n-1)(Xは酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子またはハロゲン原子を示す。Rは水素原子または一価の有機基を示し、複数あるRは同じでも異なっていても良い。nはXの価数を示す。)で表される置換基を示す。R1とX1及びR2とX1は、それぞれ独立して、連結基を介して環を形成していても良い。M1は金属原子を示す。)で表される化合物。
The following general formula (1)
Figure 2006215395
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a monovalent organic group. X 1 and X 2 each independently represent —X (—R) (n−1) (X represents an oxygen atom ) , A nitrogen atom, a sulfur atom, a silicon atom or a halogen atom, R represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, a plurality of R may be the same or different, and n represents the valence of X.) R 1 and X 1 and R 2 and X 1 may each independently form a ring via a linking group, and M 1 represents a metal atom. A compound represented by
請求項5に記載の化合物からなる近赤外線吸収色素。   A near-infrared absorbing dye comprising the compound according to claim 5.
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