JP2006210371A - ワーク搬送システムおよびワーク搬送装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 プロセス装置へのウェハ等のワークの搬出入時間を短くすることができるワーク搬送システムを提供する。
【解決手段】 各プロセス装置３間でワークＷ１を搬送するためのワーク搬送システム１において、第１の他のモジュール５からワークＷ１を受け取りこの受け取ったワークＷ１をプロセス装置３まで搬送する第１の搬送装置１１と、前記プロセス装置３から搬出されたワークＷ１を受け取りこの受け取ったワークＷ１を第２の他のモジュール５まで搬送する第２の搬送装置１３とを備えたモジュール７を有するワーク搬送システムである。
【選択図】図２

Description

本発明は、ワーク搬送システムおよびワーク搬送装置に係り、特に、モジュール化されて構成されたものに関する。

従来、ワーク（たとえば、ウェハ）に各種の処理を施す処理装置（プロセス装置、とも称される。）へのウェハの供給は、標準化され一定の内部クリーン度を保持したストッカーボックスまたはカセット（以下簡単に、ストッカー）（たとえば、一般にフープ（ＦＯＵＰ：Ｆｒｏｎｔ Ｅｎｄ Ｏｐｅｎｉｎｇ Ｕｎｉｆｉｅｄ Ｐｏｄ）と称される清浄容器）に複数のウェハを保管した形態で行う、いわゆるバッチ方式が主として採用されている。

その場合、複数のウェハをストッカーに内蔵した形態で各処理装置の直前位置まで搬送するストッカー単位でのバッチ供給となるため、個々の処理の前後にストッカー収納待ち時間等を多く要し、これに実処理時間と搬送時間とを合わせた総処理時間が長くなり、処理効率やスループットの向上に障害となる問題点があった。これを解決する方法の一つとして、従来の処理装置との整合性も考慮してストッカーを利用するにしても、搬送経路のかなりの範囲をウェハ１枚ずつの枚葉方式で搬送して処理装置に供給し総処理時間を短縮する構成が望ましい。

ウェハをこのように枚葉方式で搬送して処理装置に供給する構成を採用したウェハ処理装置の一例として、プロセス装置（処理ユニット）と、搬送装置（搬送ユニット）と、中継ユニットと、出入ユニットとを備えたものが特許文献１に開示されている（特許文献１の図１およびこれに対応する記載を参照）。

前記特許文献１の処理装置の前記搬送装置には、１組のアーム（搬送装置）が設けられており、このアームを駆動することにより、たとえば、出入ユニットから基板を取り出し、この取り出した基板を前記プロセス装置に供給し、前記プロセス装置で処理された基板を前記プロセス装置から搬出し、この搬出した基板を前記中継ユニットに供給するようになっている。すなわち、１組のアームで、前記プロセス装置への基板の搬出入等を行なっている。
特許第３４５３２２３号公報

ところで、前記特許文献１の処理装置では、１組の搬送装置で前記プロセス装置へのウェハの搬入と前記プロセス装置からのウェハの搬出を行なっているので、プロセス装置での処理が完了したウェハをプロセス装置から取り出し中継ユニットまで搬送してから、次のウェハを出入ユニットから取り出して前記プロセス装置に搬入しなければならず、プロセス装置へのウェハの搬出入時間が長くなるという問題がある。

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、プロセス装置へのウェハ等のワークの搬出入時間を短くすることができるワーク搬送システムやワーク搬送装置を提供することを目的とする。

本発明は、各プロセス装置間でワークを搬送するためのワーク搬送システムにおいて、第１の他の装置またはモジュールからワークを受け取りこの受け取ったワークをプロセス装置まで搬送する第１の搬送装置と、前記プロセス装置から搬出されたワークを受け取りこの受け取ったワークを第２の他の装置またはモジュールまで搬送する第２の搬送装置とを備えたモジュールを有するワーク搬送システムである。

本発明によれば、各プロセス装置間でワークを搬送するためのワーク搬送システムにおいて、プロセス装置へのワークの搬出入時間を短くすることができるという効果を奏する。

図１は、本発明の実施形態に係るワーク搬送システム１の概略構成を示す平面図である。

ワーク搬送システム（以下、単に「搬送システム」という場合がある。）１は、たとえばクリーンルーム内に設置された各プロセス装置３の間で、枚葉でウェハを搬送するためのシステムである。ウェハは、搬送システム１で搬送されながら、その間に各プロセス装置で処理（本明細書および請求の範囲において、「加工」と表記する。）されるようになっている。

なお、本実施形態では、ワークとしてウェハを例に掲げて説明するが、ウェハ以外に、ＬＣＤの基板、ＥＬの基板等の電子デバイスの基板、ＤＮＡチップ等の薄い板状のワーク、または、その他の形状のワークを搬送してもよい。

搬送システム１は、適数のＢモジュール（ブリッジモジュール：Ｂｒｉｄｇｅ Ｍｏｄｕｌｅ）５と適数のＡＢモジュール（アダプタ アンド バイパスモジュール：Ａｄａｐｔｅｒ ａｎｄ Ｂｙｐａｓｓ Ｍｏｄｕｌｅ）７とを並べて設置し、プロセス装置３との間でウェハの搬入搬出がない箇所ではＡＢモジュール７の代わりに適数の第１のトランスファモジュール（ＴＦ１モジュール、と略記）８（８Ａ、８Ｂ）を設置することによって構成されている。

ここで、Ｂモジュール５とＡＢモジュール７について説明する。ＴＦ１モジュール８については後で詳しく述べる。

図２は、Ｂモジュール５とＡＢモジュール７の概略構成を示す斜視図であり、図３は、図２におけるＩＩＩ矢視を示す図であり、Ｂモジュール５とＡＢモジュール７の概略構成を示す平面図である。

Ｂモジュール５は、ウェハを一時的に保管可能なステーション６を、予め規格化された１つの基台９の上部に備えている。換言すれば、ウェハを一時的に保管可能な機能を基台９に組み込むことによりモジュール化されている。

ＡＢモジュール７は、第１の搬送装置１１と、第２の搬送装置１３と、ウェハを一時的に保管可能な第１のステーション１７と、プロセス装置３に搬入されるウェハを一時的に保管可能な第２のステーション１９と、前記プロセス装置３から搬出されたウェハを一時的に保管可能な第３のステーション２１とを備えている。

前記各搬送装置１１、１３、前記各ステーション１７、１９、２１は、予め規格化された１つの基台１５の上部に設けられている。換言すれば、ウェハを一時的に保管可能な機能と、ウェハを搬送可能な機能とを基台１５に組み込むことによりモジュール化されている。

また、前記ＡＢモジュール７の一端部側（たとえば図２で左側）がＢモジュール５に隣接して設けられ、他端部側（図２で右側）が他のＢモジュール５に隣接して設けられることによって、前記ＡＢモジュール７は、前記各Ｂモジュール５の間に設けられる。

そして、ＡＢモジュール７は、第１の搬送装置１１を用いてＢモジュール５から受け取ったウェハをプロセス装置３に供給し、前記プロセス装置３から搬出されたウェハを第２の搬送装置１３を用いて他のＢモジュール５に渡すことができるようになっている。また、ＡＢモジュール７は、第１の搬送装置１１を用いてＢモジュール５から受け取ったウェハを、プロセス装置３まで搬送しないでバイパスさせ、第２の搬送装置１３に渡すことができるようにも選択できる。後で説明するように、なんらかの理由でウェハのプロセス装置３での処理が必要ないかまたは不可能な場合にこのバイパスを選択することにより、このプロセス装置３まわりでの不必要な待ち時間をなくして搬送時間を短縮することができる。

より詳しく説明すると、ＡＢモジュール７の第１の搬送装置１１は、図２に二点鎖線で示すＢモジュール５からウェハを受け取り、この受け取ったウェハを、図２に二点鎖線で示すプロセス装置３に搬入するために前記第２のステーション１９まで搬送し、もしくは、前記第１のステーション１７まで搬送するようになっている。

また、前記ＡＢモジュール７の第２の搬送装置１３は、図２に二点鎖線で示すプロセス装置３から搬出され前記第３のステーション２１に保管されているウェハを受け取り、もしくは、前記第１のステーション１７に保管されているウェハを受け取り、この受け取ったウェハを図２に実線で示す他のＢモジュール５まで搬送するようになっている。

なお、前記第１の搬送装置１１が、図２で左側に隣接するＢモジュール５以外に別途隣接配置されたモジュールや装置からウェハを受け取るようになっていてもよいし、また、前記第２の搬送装置１３が、図２で左側に隣接する他のＢモジュール５以外に別途隣接配置されたのモジュールや装置までウェハを搬送するようになっていてもよい。上記の別途隣接配置については後に詳しく述べる。

前記第２のステーション１９に搬入され載置されているウェハは、図２に二点鎖線で示すプロセス装置３に設けられている搬送装置（図示せず）によって、処理（加工）のために前記プロセス装置３内のステーション（図示せず）まで搬送されるようになっている。前記プロセス装置３内のステーションで処理されたウェハは、前記プロセス装置３に設けられている搬送装置（図示せず）によって、前記第３のステーション２１まで搬出され載置されるようになっている。

前記各モジュール５、７の各ステーション６、１７、１９、２１は、前記薄板状のウェハの厚さ方向が上下方向になっている状態でしかもほぼ一定の高さで、前記ウェハを載置して保管するように構成されている。

前記ＡＢモジュール７の各搬送装置１１、１３は、前記薄板状のウェハの厚さ方向が上下方向になっている状態で、前記各モジュール５、７の各ステーション６、１７、１９、２１が保管しているウェハの高さをほぼ一定に保ちつつ、前記ウェハを搬送するように構成されている。

ところで、前記第１の搬送装置１１、前記第１のステーション１７、前記第２の搬送装置１３は、前記第１の搬送装置１１、前記第１のステーション１７、前記第２の搬送装置１３の順に、直線上に並んで配置されている。

前記第２のステーション１９は、前記第１の搬送装置１１、前記第１のステーション１７、前記第２の搬送装置１３が並んでいる方向である長手方向では、前記第１の搬送装置１１と前記第１のステーション１７との間に設置され、前記長手方向とは直交する幅方向では、前記第１の搬送装置１１および前記第１のステーション１７から所定の距離だけ離れて設置されている。

前記第３のステーション２１は、前記長手方向では前記第１のステーション１７と前記第２の搬送装置１３との間に設置され、前記幅方向では、前記第２のステーション１９と同じ側で、前記第１のステーション１７および前記第２の搬送装置１３から所定の距離だけ離れて設置されている。なお、前記第２のステーション１９と前記第３のステーション２１とは、具体例としてはそれぞれの幅方向の前記所定の距離が同一となるように配置される。

また、図２に二点鎖線で示すように、前記第２のステーション１９および前記第３のステーション２１と隣接対向してプロセス装置３が設置されている。なお、前記各ステーション１９、２１の設置間隔や設置高さは、予め規格化されているプロセス装置３のウェハ搬入搬出用接続部の間隔およびウェハ保管搬送高さにそれぞれ対応している。

ここで各モジュールの基台の寸法関係とそのユニット化について説明する。まず、前記Ｂモジュール５の基台９は、水平面への投影形状が正方形状に形成されている。また、前記ＡＢモジュール７の各ステーション１７、１９、２１と各搬送装置１１、１３とが設置されている基台１５は、前記第１のステーション１７と前記各搬送装置１１、１３とが設置されている本体部２３と、前記第２のステーション１９が設置されている第１の補助部２５と、前記第３のステーションが設置されている第２の補助部２７とで構成されている。前記第１の補助部と前記第２の補助部とを一体に構成してもよい。なお、本体部と補助部とを一体にした一体型でも実施可能であるが、設計の柔軟性等の面から分割型が有利である。

前記本体部２３は、水平面への投影形状が長方形状に形成されていると共に、幅が前記Ｂモジュール５の基台９の１辺とほぼ等しく、前記第１の搬送装置１１と前記第１のステーション１７と前記第２の搬送装置１３とが順に並んでいる長手方向の長さが前記幅のほぼ整数倍（小さな整数倍；たとえばほぼ３倍）である長方形状に形成されている。

前記第１の補助部２５の水平面への投影形状は、２つの角が直角で１つの斜辺と下底との交差角度が約４５°程度である台形状に形成されており、前記下底の長さは、前記長方形状の本体部２３の長辺の長さの半分よりも短くなっている。

また、前記第１の補助部２５は、図３の紙面に垂直な方向で上方からから眺めた場合、前記下底が前記第１の搬送装置１１が設けられている側で前記本体部２３の一方の長辺に接し、前記約４５°の角度の斜辺部位が前記第１の搬送装置１１が設けられている側を向くように設けられている。前記第２の補助部２７も、前記第1の補助部２５とほぼ同様で対称的な形状に形成され、前記第１の補助部２５と対称に設けられている。

上記のように、本発明の搬送システムにおいては、各モジュールの基台の水平面への投影外形寸法が規格化されているが、同様に、各モジュール内および隣接モジュール間で隣接するステーションと搬送装置との各中心間距離も所定の寸法に共通化規格化されている。したがって、搬送システムに用いられる全ての搬送装置のストローク、関連寸法および配置等の共通化が可能となり、設計のユニット化、簡易化が図れる。

また、ＡＢモジュール７の構成機器のうちプロセス装置３に対向してウェハの搬入搬出に関わるステーション１９，２１の中心間距離は上記のようにプロセス装置３側の接続部の間隔に対応して設定される。このプロセス装置３側の接続部の間隔寸法は原則として業界規格により標準化されているが、もしプロセス装置３側の何らかの事情により業界規格以外の間隔寸法が採られる場合でも、ＡＢモジュール７の基台９が本体部２３と補助部２５，２７とに分割して規格化されているので、プロセス装置３側に合わせたステーション１７，１９の間隔寸法変更の影響は補助部２５，２７の範囲に留まり、本体部２３の設計製作には直接関係せず、基台の設計製作コストの低減につながる一方、ステーションの間隔設定の自由度が増す。

ここで、前記ＡＢモジュール７の第１のステーション１７等について詳しく説明する。

図３は、図２におけるＩＩＩ矢視を示す図であり、ＡＢモジュール７、Ｂモジュール５の概略構成を示す平面図である。

図４は、図３におけるＩＶＡ−ＩＶＢ矢視を示す図である。

第１のステーション１７は、円形状に形成されたテーブル２９を基台１５の上面に備え、このテーブル２９の上面には、複数の突起３１が設けられている。前記各突起３１の上面は同一水平面内に存在しており、前記各突起３１上に１枚のウェハＷ１を載置し保管することができるようになっている。

また、前記テーブル２９は、図示しないサーボモータや流体圧シリンダ等のアクチュエータによって、基台１５に対して上下方向に移動することができるようになっている。

前記第２のステーション１９、前記第３のステーション２１、前記Ｂモジュール５のステーション６も、前記第１のステーション１７と同様に構成されている。

次に、前記ＡＢモジュール７の第１の搬送装置１１について、図２〜図４を参照して詳しく説明する。

第１の搬送装置１１には、円形状のテーブル３３が設けられている。この円板状のテーブル３３は、基台１５の上面に設けられていると共に、上下方向に延びた軸ＣＬ１を中心にして、図示しないサーボモータ等のアクチュエータにより、前記基台１５に対して回転自在になっている。

前記テーブル３３の外周部近傍には、アーム３５の基端部側が、上下方向に延びた軸ＣＬ３を中心にして、回転（揺動）自在に係合している。前記アーム３５は、図示しないサーボモータ等のアクチュエータにより、前記テーブル３３に対して回転（揺動）自在になっている。

前記アーム３５の先端部側には、フォーク３７の基端部側が、上下方向に延びた軸ＣＬ５を中心にして、回転（揺動）自在に係合している。前記フォーク３７は、図示しないサーボモータ等のアクチュエータにより、前記アーム３５に対して回転（揺動）自在になっている。

前記フォーク３７の先端部側の上面には、複数の突起３９が設けられている。前記各突起３９の上面は同一水平面内に存在しており、前記各突起３９でウェハＷ１を載置することができるようになっている。

なお、第２の搬送装置１３も、前記第１の搬送装置１１と同様に構成されている。

次に、第１のステーション１７に保管されているウェハを前記第２の搬送装置１３で搬出する場合について説明する。

図４に示すように、ウェハＷ１が第１のステーション１７に保管されている状態ではテーブル２９は上昇した位置にあり、テーブル２９の各突起３１の上面は、前記フォーク３７の各突起３９の上面よりも高い位置に存在している。

また、ウェハＷ１がステーション１７に保管されている状態では、ウェハＷ１とテーブル２９との間に形成されている空間に、突起３９が設けられているフォーク３７が入り込めるようになっている。

そして、ウェハＷ１とテーブル２９との間にフォーク３７が入り込んだ状態で、前記テーブル２９が下降すると、前記フォーク３７の突起３９が前記ウェハＷ１の下面と接触すると共に、前記ウェハＷ１の下面と前記テーブル２９の突起３１とが互いに離れ、第２の搬送装置１３のフォーク３７にウェハＷ１を載置することができるようになっている。

そして、前記フォーク３７、アーム３５、テーブル２９を適宜駆動することにより、ウェハＷ１を前記第１のステーション１７から搬出し搬送することができるようになっている。

なお、第２の搬送装置１３による前記第３のステーション２１に載置されているウェハの搬出や、前記第１の搬送装置１１によるＢモジュール５のステーション６に載置されているウェハの搬出も、前記第２の搬送装置１３による前記第１のステーション１７に載置されているウェハの搬出と同様に行なわれる。

また、第１の搬送装置１１のフォーク３７が載置しているウェハＷ１を、第１のステーション１７に載置し保管する場合には、第１のステーション１７のテーブル２９が下降している状態で、前記フォーク３７を前記テーブル２９上の所定の位置まで移動する。この後、前記テーブル２９を上昇させると、前記ウェハＷ１の下面と前記テーブル２９の突起３１とが互いに接触し、前記フォーク３７の突起３９が前記ウェハＷ１の下面から離れると共に、前記突起３１でウェハＷ１を載置し前記第１のステーション１７でウェハＷ１を保管することができるようになっている。

なお、第１の搬送装置１１が載置しているウェハの前記第２のステーション１９への保管や、第２の搬送装置１３が載置しているウェハのＢモジュール５のステーション６への保管も、前記第1の搬送装置による前記第１のステーション１７へのウェハの保管と同様に行なわれる。

ところで、図２や図３に示す状態では、前記ＡＢモジュール７の長手方向の一端面（左側）に、Ｂモジュール５が設置され、前記ＡＢモジュール７の長手方向の他端面（右側）に、他のＢモジュール５が設置されているが、前記ＡＢモジュール７の側面の複数の箇所のうちの適数の箇所で、前記Ｂモジュール５や後述する他のモジュールを、前記ＡＢモジュール７に隣接して配置してもよい。すなわち、たとえば、図３に示すＰＳ１やＰＳ３で示す位置（前記長手方向と直交し隣接している位置）に、Ｂモジュール５等のモジュールを配置するようにしてもよい。

同様に、前記Ｂモジュール５の側面の複数の箇所のうちの適数の箇所で、前記ＡＢモジュール７や後述する他のモジュールを、前記Ｂモジュール５に隣接して配置してもよい。

なお、前記搬送システム１におけるウェハの搬送はいずれの場合でも、各モジュール内および各モジュール間で交互に隣接配置された搬送装置とステーションとの間でウェハを順次受け渡す動作によって行われる。また、前記各搬送装置（たとえば前記ＡＢモジュール７の各搬送装置１１、１３）がそれぞれ隣接対応する前記各ステーション（たとえば前記ＡＢモジュールの各ステーション１９，２１および前記Ｂモジュールのステーション６）との間でウェハを搬送する際には、ウェハが前記各搬送装置のテーブルの中心と前記各ステーションのテーブルの中心とを結ぶ直線上を移動するように構成されているので、ウェハ搬送路の平面上での投影面積を最小限に抑えることができる。

ここで、搬送システム１でウェハを搬送する際に必要なクリーン搬送空間を設ける構成について説明する。図２に示すように、前記Ｂモジュール５にＢモジュール用の、雰囲気清浄化装置を備えたクリーンモジュール４１を設置することにより、前記Ｂモジュール５においてクリーン度の高い空気雰囲気中（たとえばクラス１のクリーン度の雰囲気中）でウェハを取り扱うこと、すなわち、ウェハを保管し搬送することができるようになっている。

前記クリーンモジュール４１は、水平面への投影形状が正方形状であると共に下側が開口している枡状の筐体４３を備え、この筐体４３の上部側には、雰囲気清浄化装置としてファンユニット４５が設けられている。このファンユニット４５は、フィルター（図示せず）とこのフィルターを通過した空気を前記筐体４３内に供給するためのファン（図示せず）とを備えている。フィルターとしては、たとえばＨＥＰＡ（Ｈｉｇｈ Ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ Ｐａｒｔｉｃｕｌａｔｅ Ａｉｒ）フィルター、ＵＬＰＡ（Ｕｌｔｒａ Ｌｏｗ Ｐｅｎｅｔｒａｔｉｏｎ Ａｉｒ）フィルター等を用いるとよい。後に説明する他のクリーンモジュール用フィルターについても同様である。

前記Ｂモジュール５の上面を覆うように前記クリーンモジュール４１を設置すると、前記筐体４３の内側の空間と前記Ｂモジュール５の上面とによってほぼ閉じた空間が形成される。

前記Ｂモジュール５の基台９の上面（前記ステーション６のテーブル２９が設けられている部位以外の上面）には、多数の小さな貫通穴があいており、前記ファンユニット４５から前記空間内にクリーンな空気を供給すると、この供給されたクリーンな空気は、前記Ｂモジュール５の基台９の上面のこれら多数の小さな貫通穴から、前記空間の外に出るようになっている。そして、前記ステーション６が設けられている空間をクリーンな状態で維持することができるようになっている。

前記ＡＢモジュール７にも、前記クリーンモジュール４１とほぼ同様に筐体４９とファンユニット５１とを備えたクリーンモジュール４７が設置され、また、基台１５の上面のうち搬送装置１１，１３のテーブル３３およびステーション１７，１９，２１のテーブル２９が設けられている部位以外の部位に多数の小さな貫通穴が設けられている。

前記筐体４９は、前記ＡＢモジュール７の形態に応じた形状に形成されている。前記ファンユニット５１は、前記筐体４９の大きさに応じて、複数設けられている。なお、前記ファンユニット５１として、前記ファンユニット４５と同一のものを採用し、ファンユニットの共通化をはかってもよい。

このように、前記ＡＢモジュール７に、クリーンモジュール４７を設置することによってクリーン度の高い雰囲気中（たとえばクラス１のクリーン度の雰囲気中）でウェハを取り扱うこと、すなわち、前記各ステーション１７、１９、２１でウェハを保管し、また、前記各搬送装置１１、１３でウェハを搬送することができるようになっている。

また、前述したように、前記Ｂモジュール５や前記ＡＢモジュール７の側面の複数の箇所のうちの適数の箇所に、モジュール等を隣接して配置することができるようになっていることに応じて、前記Ｂモジュール用のクリーンモジュール４１は、このクリーンモジュール４１の側面の複数の箇所のうち適数の箇所で前記ＡＢモジュール用のクリーンモジュール４７等のクリーンモジュールと接続できるように構成されており、前記ＡＢモジュール用のクリーンモジュール４７は、このクリーンモジュール４７の側面の複数の箇所のうち適数の箇所で、前記Ｂモジュール用のクリーンモジュール４１等のクリーンモジュールと接続できるように構成されている。

すなわち、図２に示すように、前記クリーンモジュール４１の筐体４３の側面には、適数の開口部（接続部位）５３が設けられており（筐体４３が正方形状であるので４つの開口部が設けられており）、前記クリーンモジュール４７の筐体４９の側面にも、適数の開口部５５が設けられている。

そして、前記Ｂモジュール５と前記ＡＢモジュール７との相対的な設置位置関係に応じて、前記各開口部５３、５５のうちの適宜の開口部が互いに接続されるようになっている。また、前記および今後説明する各種モジュールの前記開口部は全て共通寸法を持たせ、どのモジュール間でも相互接続が容易に行えるように考慮されている。

なお、前記ＡＢモジュール用のクリーンモジュール４７には、前記プロセス装置３に対向する箇所（すなわち、前記第２および第３のステーションに対応する位置）に、前記プロセス装置３の前面内部に設けられているクリーンブース（図示しない）のウェハ搬入搬出用の接続部と接続するための開口部が設けられている。そして、図５（図１におけるＶＡ−ＶＢ断面）に示すように、前記クリーンモジュール４７と前記プロセス装置３とが互いに接続されている。

また、前記各モジュール５、７用のクリーンモジュール４１、４７の開口部５３、５５には、シャッターが設けられており、前記開口部５３、５５が他のクリーンモジュールの開口部５３、５５と接続されていない場合、前記シャッターでクリーンモジュール内の空間を、外部空間から遮断することができるようになっているので、内部のクリーンな空間が外部から汚染されるのを防ぐことができる。

ところで、図１に示す搬送システム１を構成している各Ｂモジュール５のうちのいずれかのモジュールにおいて、複数枚のウェハを一時的に保管することができるようにしてもよい。

ここで、複数枚（図示例では３枚）のウェハを一時的に保管することができるＢモジュール５ａについて詳しく説明する。

図６は、複数のウェハを一時保管できるＢモジュールの概略構成を示す平面図である。Ｂモジュール５ａの概略構成を示す平面図であり、図７は、図６におけるＶＩＩＡ−ＶＩＩＢ断面を示す図である。

Ｂモジュール５ａは、基台９ａの上面に、円形状に形成されたテーブル５７を備えている。このテーブル５７の上面には、ウェハＷ１を載置するための複数の突起５９が支持部材６０を介して設けられている。前記各突起５９の上面は、同一水平面内に存在していると共に、テーブル５７の周上をほぼ３等分したそれぞれの位置で、３枚のウェハＷ１を載置することができるように配置されている。

前記テーブル５７は、図示しないサーボモータや流体圧シリンダ等のアクチュエータによって、基台９ａに対して上下方向に移動することができるようになっていると共に、図示しないサーボモータや流体圧シリンダ等のアクチュエータによって、基台９ａに対してインデックスすることができるようになっている。

前記テーブル５７がインデックスをしているときに、載置してあるウェハＷ１が遠心力で落下しないようにするための突起６１が、載置されているウェハＷ１を囲むように設けられている。

なお、前記Ｂモジュール５ａで複数枚のウェハを載置できるようにした場合と同様に、前記ＡＢモジュールの前記各ステーション１７、１９、２１で、複数枚のウェハを保管することができるようにしてもよい。

次に、図１に示す前記搬送システム１についてさらに説明する。

前記搬送システム１は、Ｂモジュール５とＡＢモジュール７とをたとえば交互に並べて（必要に応じＴＦ１モジュール（第１のトランスファモジュール）８も含めて）構成されているが、Ｂモジュール５やＡＢモジュール７のほかに、入り口側にバッファモジュール６３が設けられ、出口側にもバッファモジュール６５が設けられている。すなわち、プロセス装置で処理される前のウェハはたとえばバッファモジュール６３において搬送システム１に投入され、所定の搬送および処理を経て処理後のウェハとしてバッファモジュール６５において搬送システム１から排出される。

ここでバッファモジュール６３について詳しく説明する。

図８は、バッファモジュール６３の概略構成を示す平面図である。

バッファモジュール６３には、多数個（枚）のウェハを保管可能なストッカー６７Ａが設けられている。また、前記バッファモジュール６３は、搬送システム１の最も入り口側に設置されているＢモジュール５に隣接して設置されると共に、前記各プロセス装置３で加工される前のウェハであって前記ストッカー６７Ａに保管されている多数個のウェハを、搬送手段を用いて１枚ずつ取り出し前記Ｂモジュール５に供給可能なように構成されている。

また、バッファモジュール６３は、予め規格化された基台６９を備えており、この基台６９は、水平面への投影形状が長方形状であって、幅が前記Ｂモジュール５の幅とほぼ等しく、長さが前記Ｂモジュール５の長さの整数倍（たとえば２倍）に形成されている。

前記基台６９の上面であって長手方向の一端部側には、前記ＡＢモジュール７の搬送装置１１と同様に構成された搬送装置（前記搬送手段の例である搬送装置）７１が設けられており、他端部側には、ウェハを一時的に載置可能なステーション（前記ＡＢモジュール７の第１のステーション１７と同様に構成されたステーション）７３が設けられている。なお、前記搬送装置７１や前記ステーション７３は、前記ＡＢモジュール７とほぼ同じ高さでウェハを搬送し保管するようになっている。また前記搬送装置７１は、前記ＡＢモジュール７の搬送装置１１と同様の構成に、垂直（Ｚ軸）方向の移動機能を付加したものとしてもよい。

前記ストッカー６７Ａは、前記基台６９に隣接して設置されている。前記ストッカー６７Ａにウェハが無くなったときには、別のストッカー６７Ｂと容易に交換することができるようになっている。

なお、前記バッファモジュール６３において、前記ステーション７３を削除し、前記基台６９を、前記Ｂモジュール５の基台９と同様に構成してもよい。

前記バッファモジュール６５は、前記バッファモジュール６３とほぼ同様に構成されていると共に、最も出口側に設置されているＢモジュール５に隣接して設置され、前記各プロセス装置３で加工されたウェハを前記Ｂモジュール５から１枚ずつ受け取って、ストッカーに多数個保管することができるように構成されている。

また、次の各モジュール（ＩＤモジュール、バッファモジュール７５、バッファモジュール８３、第１のトランスファモジュール（ＴＦ１モジュール）８、第２のトランスファモジュール（ＴＦ２モジュール）、第３のトランスファモジュール（ＴＦ３モジュール）、検査モジュール、位置決めモジュール）の少なくともいずれかを、必要に応じて前記搬送システム１に設けてもよい。

これら一連のモジュールのうち、ＩＤモジュール（図示せず）は、ワーク搬送システム１に供給されるウェハに付されているＩＤ（識別符号）を読み取るためのモジュールである。

前記ＩＤモジュールは、たとえば、前記バッファモジュール６３に代えて、ワーク搬送システム１の最も上流側に設置されているＢモジュール５に隣接して設けられ、前記各プロセス装置３で加工される前のウェハであってストッカー６７Ａに保管されている多数個のウェハを、前記バッファモジュール６３の搬送装置７１と同様に構成されている搬送手段を用いて１枚ずつ取り出し、ウェハに付されているＩＤをＩＤ読み取り手段で読み取った後、ウェハを前記搬送手段を用いて前記Ｂモジュール５に供給可能なように構成されている。

具体的には、バッファモジュール６３のステーション７３に、ウェハのＩＤを読み取るためのＩＤ読み取り装置（前記ＩＤ読み取り手段の例であるＩＤ読み取り装置）と、必要に応じてＩＤの読み取りのためにウェハを位置決めする装置（アライメントを含めた位置決めを行なえる装置）とを設け、前記ステーションでＩＤを読み取るようになっている。

また、ＩＤモジュールを、前記Ｂモジュール５に代えて設け、ワーク搬送システム１のたとえば中間部で、ウェハに付されているＩＤを読み取るように構成してもよい。

具体的には、モジュール５のステーションに、ＩＤを読み取るためのＩＤ読み取り装置を設け、前記ステーションでＩＤを読むようにしてもよい。

搬送システム１とプロセス装置３とは、図示しない制御装置の制御の下で動作するようになっているが、前記ＩＤモジュールで読み取ったＩＤを用い、搬送システム１で搬送されプロセス装置３で加工されるウェハの種類を前記制御装置で確認することができ、誤った種類のウェハが搬入され、加工されることを防止できる。

なお、前記ＩＤの読み取りを、ＡＢモジュール７の第１のステーション１７の位置で行なうようにしてもよい。

次に、バッファモジュール７５について説明する。

図９は、バッファモジュール７５の概略構成を示す平面図である。

バッファモジュール７５は、ワーク搬送システム１の中間部で、Ｂモジュールに隣接して設置されると共に、前記各プロセス装置３のうちの所定のプロセス装置で加工されたウェハを、搬送手段を用いて前記Ｂモジュール５から受け取り、この受け取ったウェハを、ストッカーに多数個保管することができるように構成されている。

なお、バッファモジュール７５は、前記Ｂモジュール５からウェハを受け取る代わりに、前記ＡＢモジュール７や他のモジュールからウェハを受け取れるようにしてもよい。

より詳しく説明すると、バッファモジュール７５は、予め規格化された基台７７を備えており、この基台７７は、水平面への投影形状が、前記Ｂモジュール５の基台９と同様な正方形状に形成されている。

前記基台７７の上面には、前記ＡＢモジュール７の搬送装置１１と同様に構成された搬送装置（前記搬送手段の例である搬送装置）７９が設けられており、複数枚のウェハを保管可能のストッカー（前記ストッカー６７Ａと同様なストッカー）８１が前記基台７７に隣接して設けられており、搬送装置７９で他のモジュールから受け取ったウェハを、前記ストッカー８１に供給し保管することができるようになっている。また前記搬送装置７９は、前記ＡＢモジュール７の搬送装置１１と同様の構成に垂直（Ｚ軸）方向の移動機能を付加したものとしてもよい。

前記ストッカー８１は、たとえば、前記基台７７に着脱自在に固定されており、また、前記基台７７、前記ストッカー８１の少なくともいずれかには、前記基台７７とストッカー８１とを容易に移動できるようにするための搬送用の車輪が設けられている。

なお、図１に示す搬送システム１では、各Ｂモジュール５や各ＡＢモジュール７を並べて長く形成されたウェハの搬送ラインの中間部に位置するＢモジュール５Ａに隣接して、バッファモジュール７５が設置されている。

したがって、搬送システム１の経路中で、ウェハを前記搬送システム１から搬出することができる。たとえば、搬送システム１の下流側プロセスの各プロセス装置３Ａがなんらかの要因で長い間停止している場合、中途までの加工がされているウェハを取り出すことができ、この取り出したウェハを、搬送システム１の設置されているプロセス装置以外の他のプロセス装置（各プロセス装置３Ａに相当するプロセス装置）で加工することができる。また、或る中間点から以降のプロセス装置３Ａでの加工の必要のないウェハもその中間点で取り出すことができる。

バッファモジュール８３は、前記バッファモジュール７５とほぼ同様に構成されており、また、ワーク搬送システム１の中間部で、Ｂモジュール５等に隣接して設置されると共に、前記各プロセス装置３のうちの所定のプロセス装置で加工される前のウェハを多数個保管することができ、この保管している各ウェハを１枚ずつ前記Ｂモジュール５や前記ＡＢモジュール７等のモジュールに供給可能なように構成されている。

たとえば、図１に二点鎖線で示すように、ウェハ搬送ラインの中間部に設置されているＢモジュール５Ｂに隣接させて前記バッファモジュール８３を設置すれば、搬送システム１の経路の途中で、ウェハを前記搬送システム１に投入することができる。

そして、搬送システム１の上流側プロセスの各プロセス装置３Ｂがなんらかの要因で長い間停止している場合、搬送システム１の設置されているプロセス装置以外の他のプロセス装置（前記各プロセス装置３Ｂに相当するプロセス装置）で加工されたウェハを、前記搬送システム１に中間で投入することができ、ウェハの加工を下流側のプロセス装置３Ａで行なうことができる。

第１のトランスファモジュール（ＴＦ１モジュール）８（図１参照）は、図２や図３に示すＡＢモジュール７から、第２のステーション１９、第３のステーション２１および各補助部２５、２７を取り去った後の、基台本体部２３に第１の搬送装置１１、第１のステーション１９、および第２の搬送装置１３を配置した構成と同様の構成で、詳しくは基台本体部２３と同様の基台に第３の搬送装置、第４のステーション、および第４の搬送装置を配置した構成である。

そして、第１のトランスファモジュール８は図１に示すように、ワーク搬送システム１の中間部でプロセス装置３と直接に対向せずプロセス装置３との間でのウェハ搬入搬出を必要としない箇所において、ＡＢモジュール７の代わりに、Ｂモジュール５等に隣接して設けられ、これらの隣接している各モジュール間で、具体的には隣接するＢモジュール（第１または第２のモジュール）と第１のトランスファモジュール８の前記第３の搬送装置との間、前記第３の搬送装置と前記第４のステーションとの間、前記第４のステーションと前記第４の搬送装置との間、および前記第４の搬送装置と別の隣接するＢモジュール（第１または第２のモジュール）との間でウェハを搬送することができるようになっている。

第２のトランスファモジュール（ＴＦ２モジュール）は、図８に示すバッファモジュール６３と同様の構成、具体的にはバッファモジュール６３の基台６９と同様の基台に第１の搬送装置１１と同様の第５の搬送装置と第１のステーション１７と同様の第５のステーションとを配置した構成である。

そして、Ｂモジュール５やＡＢモジュール７等のモジュールに隣接して設けられ、これら隣接している各モジュール間で、具体的には隣接するＢモジュール（第１または第２のモジュール）と第２のトランスファモジュールの前記第５の搬送装置との間、前記第５の搬送装置と前記第５のステーションとの間、前記第５のステーションと隣接するＡＢモジュール７の第１または第２の搬送装置との間、または前記第５のステーションと隣接する第１のトランスファモジュールの第３または第４の搬送装置との間でウェハを搬送することができるようになっている。

第３のトランスファモジュール（ＴＦ３モジュール）は、図９に示すバッファモジュール７５と同様の構成、具体的にはバッファモジュール７５の基台７７と同様の基台に第１の搬送装置１１と同様の第６の搬送装置を配置した構成である。

そして、Ｂモジュール５等のモジュールに隣接して設けられ、これらの隣接している各モジュール間で、具体的には隣接するＢモジュール（第１または第２のモジュール）と第３のトランスファモジュールの前記第６の搬送装置との間、前記第６の搬送装置と別の隣接するＢモジュール（第１または第２のモジュール）との間、および前記第６の搬送装置とウェハを一時的に保管可能なステーションを備える別の隣接するいずれかのモジュールの前記ステーションとの間でウェハを搬送することができるようになっている。なお、図１０（搬送システム１の別の設置形態を示す図）では、第３のトランスファモジュール（ＴＦ３モジュール）（図中ＴＦと略記）は、Ｂモジュール５に隣接して設けられている。また、図中でＡＢモジュール（図中ＡＢと記載）の台形状の補助部は記載を省略してある。なお、第３のトランスファモジュール（ＴＦ３モジュール）とそれに隣接するＢモジュールとの組み合わせの代わりにこれと同等の構成の第２のトランスファモジュール（ＴＦ２モジュール）を設置してもよい。

検査モジュール（図示せず）は、前記各プロセス装置３に投入される前のウェハや前記プロセス装置３で加工されたウェハを検査するためのモジュールである。

前記検査モジュールは、たとえば、前記バッファモジュール６３に代えて、ワーク搬送システム１の最も上流側に設置されているＢモジュール５に隣接して設けられ、前記各プロセス装置３で加工される前のウェハであってストッカーに保管されている多数個のウェハを、前記バッファモジュール６３の搬送装置７１と同様に構成されている搬送手段を用いて１枚ずつ取り出し、このウェハが不良材であるか否かを、図示しない検査手段を用いて検査し、この検査後のウェハであって正常なウェハを前記搬送手段を用いて前記Ｂモジュール５に供給可能なように構成されている。

具体的には、前記バッファモジュール６３のステーション７３に検査装置を設け、この検査装置で検査するようになっている。なお、検査の結果不良材であるとされたウェハは、図示しないストッカー等に排出されるようになっている。

また、前記検査モジュールを、前記バッファモジュール６５に代えて、ワーク搬送システム１の最も下流側に設置されているＢモジュールに隣接して設け、前記各プロセス装置３で加工されたウェハであってストッカーに保管される前のウェハについて、前記各プロセス装置３での加工が正常にされたか否かを１枚ずつ検査し、この検査後のウェハであって正常なウェハを前記ストッカーに保管するようにしてもよい。

具体的には、バッファモジュール６５のステーションに検査装置を設け、この検査装置で検査するようにしてもよい。なお、検査の結果不良材であるとされたウェハは、図示しないストッカー等に排出されるようになっている。

また、前記検査モジュールを、前記Ｂモジュール５に代えて設け、ワーク搬送システム１の中間部で、１枚ずつ搬送されて来るウェハについて、プロセス装置３での加工が正常にされたか否かを検査するようにしてもよい。

具体的には、Ｂモジュール５のステーション６に検査装置を設け、この検査装置で検査するようにしてもよい。

さらに、前記ＡＢモジュール７のステーション１７にウェハの検査装置を設けウェハの検査を行なうようにしてもよい。

位置決めモジュール（図示せず）は、前記各プロセス装置３に搬入される前のウェハや前記プロセス装置３で加工されたウェハを、位置決め手段を用いて位置決めするモジュールである。

前記位置決めモジュールは、たとえば、前記バッファモジュール６３に代えて、ワーク搬送システム１の最も上流側に設置されているＢモジュール５に隣接して設けられ、前記各プロセス装置３で加工される前のウェハであってストッカーに保管されている多数個のウェハを、前記バッファモジュール６３の搬送手段（搬送装置７１）と同様に構成された搬送手段を用いて１枚ずつ取り出し、このウェハを前記位置決め手段を用いて位置決めし、この位置決め後のウェハを前記搬送手段を用いて前記Ｂモジュール５に供給可能なように構成されている。

具体的には、前記バッファモジュール６３のステーション７３に前記位置決め手段の例である位置決め装置を設け、この位置決め装置でウェハの位置決めをするようになっている。

また、前記位置決めモジュールを、前記Ｂモジュール５に代えて設け、ワーク搬送システム１の中間部で１枚ずつ搬送されて来るウェハを位置決めするようにしてもよい。

具体的には、前記Ｂモジュール５のステーション６に位置決め装置を設け、この位置決め装置で位置決めをするようにしてもよい。

なお、前記ＡＢモジュール７のステーション１７にウェハの位置決め装置を設け、ウェハの位置決めを行なってもよい。

上述したように、Ｂモジュール５やＡＢモジュール７以外のモジュールを、適宜設けることによって、より柔軟な構成の搬送システムを構成することができ、搬送システムの適用範囲が広くなり、拡張性が高まる。

また、前記各モジュール（ＩＤモジュール、バッファモジュール７５、バッファモジュール８３、第１のトランスファモジュール８、第２のトランスファモジュール、第３のトランスファモジュール、検査モジュール、位置決めモジュール）においても、前記Ｂモジュールや前記ＡＢモジュールと同様に、前記各モジュール用の各クリーンモジュールを設置することによってクリーン度の高い雰囲気中でウェハを取り扱うことができるようになっている。

ところで、図１に示す搬送システム１は、Ｂモジュール５とＡＢモジュール７とを交互に並べることにより「コ」字状の搬送ライン（主搬送ライン）が形成されているが、主搬送ラインの右端折り返し箇所で「コ」字状の右上端に設置されているＢモジュール５Ａと、同じく右下端に設置されているＢモジュール５Ｂとの間の範囲ではプロセス装置３が設置されておらずプロセス装置３へのウェハ搬入搬出がないので、この範囲ではＡＢモジュール７からプロセス３との対応部である補助部を取り去って構成された第１のトランスファモジュール（ＴＦ１モジュール）８Ｂが設置されている。また、主搬送ラインの上流側の中間部に設置されているＢモジュール５Ｃと、主搬送ラインの下流側の中間部に設置されているＢモジュール５Ｄとの間にも、この箇所でもプロセス装置３が設置されておらず対応の必要がないため、第１のトランスファモジュール（ＴＦ１モジュール）８Ａが設置されている。

そして、図１の「コ」字状の主搬送ラインに沿って並置されている各プロセス装置のうち前記Ｂモジュール５Ｃから「コ」字状の主搬送ライン下流に位置する一部のプロセス装置３Ｃでの加工を必要としないウェハについては、「コ」字状の主搬送ライン全てを経由搬送することなく、前記Ｂモジュール５Ｃでウェハを主搬送ラインから分岐し、前記第１のトランスファモジュール（ＴＦ１モジュール）８Ａでバイパスし、前記Ｂモジュール５Ｄでウェハを主搬送ラインに合流することにより、各プロセス装置３のうちの一部のプロセス装置３Ｃによる加工が不要なこれらウェハの、加工不要プロセス装置３Ｃに沿った主搬送ライン部分での不要な搬送を省略できるので、これらウェハの実加工時間、搬送時間、待ち時間等を含む総処理時間（１枚のウェハがバッファモジュール６３を出たとき（搬送および処理ラインに投入されたとき）から必要な処理を完了して搬送および処理ラインから排出されバッファモジュール６５に収納されるまでの時間）を短くすることができるという利点がある。

搬送システム１によれば、プロセス装置３に対向するＡＢモジュール７に２つの搬送装置１１，１３を備え、第１の搬送装置１１を用いて、Ｂモジュール５からウェハを受け取り、この受け取ったウェハをプロセス装置３に搬入するために搬送し、一方、第１の搬送装置１１とは別個の独立した第２の搬送装置１３を用いて、前記プロセス装置３で処理され前記プロセス装置３から搬出されたウェハを、他のＢモジュール５まで搬送するので、前記第２の搬送装置１３でウェハを搬送し始めた後ただちに、前記プロセス装置３に次のウェハを投入することができ、前記特許文献１の場合のように１組の搬送装置でウェハの搬入搬出を行う場合に比べて、前記プロセス装置３へのウェハの搬出入時間を短縮することができる。

そして、搬出入時間を短縮することにより、搬送システム１とプロセス装置３を備えたシステム全体におけるウェハの搬送時間、実処理時間、待ち時間等を含む総処理時間を短縮することができる。

また、搬送システム１によれば、搬送装置を２つ設けてあることにより、各搬送装置１１、１３のそれぞれのストロークを小さくしてもウェハを搬送することができ、搬送装置を小さく構成することにより、搬送装置の稼動部分のイナーシャを小さくすることができ、搬送装置を早く動作させることが容易になり、前記プロセス装置３へのウェハの搬出入時間を短縮することができる。

また、搬送システム１によれば、ＡＢモジュール７に第１のステーション１７を設けてあるので、或るプロセス装置３での処理が不要であるウェハについては、そのプロセス装置３まで搬送せずに手前で前記第１のステーション１７へバイパスすることができる。これにより、バイパスしなければそのプロセス装置３の前後で生じるかもしれない不必要な待ち時間をなくして総処理時間の短縮につながるというバイパス効果が得られる。プロセス装置３が故障の場合も同様にバイパス効果を利用できる。

同様に、プロセス装置３が保守点検等で停止している状態にあっても、この停止しているプロセス装置３をバイパスしてウェハを搬送することができ、搬送システム１と各プロセス装置等で構成されているシステムを停止することなく、プロセス装置３の保守点検等をすることができる。

また、搬送システム１によれば、モジュール化が実施されているので、搬送等に必要な各種機能を予め標準化しておくことができ、ユーザの個々の要求に対して必要となるモジュールを選択して連結すれば、搬送システムを構築することができ、個々のユーザの要求に柔軟に対応することができる。

また、搬送システム１によれば、各モジュールを組み合わせることによって搬送システムが構成されているので、ウェハの搬送に必要な機能を装置モジュールとして予め標準設計しておくことが可能である。また、プロセス装置３に対応するＡＢモジュール７の基台９を本体部２３と、プロセス装置３に対向するステーション１９，２１の設置される補助部２５、２７とに分割して構成しているので、これらステーションに対向するプロセス装置側の接続部間隔が規格と異なる場合でも補助部だけを設計変更すれば済み、本体部への影響がない。

したがって、搬送システムの設計に要する時間やシステム製作に要する時間を削減でき、システムの製造コストを削減することができる。

また、各モジュールによって搬送システム１が構成されているので、ユーザの要求に応じてモジュールを選択し、この選択したものを組み合わせて搬送システムを構成する場合、各モジュールの据付や各モジュール同士の結合を簡便に行なうことができる。また、搬送システム１に故障が発生した場合でも、システムがモジュール化されているので故障発生箇所のモジュールのみを交換することで事態に短時間に対応できる。

さらに、機能の追加、機能の省略、対象ウェハの変更等のような搬送システムの仕様を、変更する場合であっても、モジュール毎に、追加、削除、代替、変更を行なえばよいので、仕様変更に対しても柔軟に対応することができる。また、他品種少量生産に対応することができる。

また、搬送システム１によれば、各モジュールを組み合わせて搬送システムが構成されているので、各モジュールに沿って、圧縮空気、冷却水等のユーティリティ配管や電力線や信号線等のユーティリティ配線を敷設しておくことができ、前記ユーティリティ配管やユーティリティ配線を敷設しておくことにより、前記搬送システムを設置するときのユーティリティ敷設工事を簡素化することができる。

また、搬送システム１において、前記Ｂモジュール５や前記ＡＢモジュール７の第１のステーション１７が、複数のウェハを一時的に保管することができるようにすれば、何らかの要因でいずれかのプロセス装置が一時的に停止した場合等においても、ウェハのスムーズな流れが阻害されにくくなる。

さらに、搬送システム１によれば、各モジュール水平面への投影形状がほぼ正方形の形状、または、短辺の長さが前記長方形状とほぼ等しく長辺の長さが前記短辺の整数倍である長方形の形状になっているので、前記各モジュールを互いに隣接させて設置し搬送システムを構築する場合、図１０に示すように、碁盤の目のように並んだ各正方形のます目にそって、各モジュールを設置すればよく、前記各モジュールの設置作業が容易になる。

また、前記ＡＢモジュール７の補助部２５、２７の水平面への投影形状が本体部と反対側の角部を約４５°程度斜めに落として台形状に形成されているので、前記補助部の設置面積を極力小さく抑えることができる。なお、搬送システム１によれば、前記のように、いずれの搬送装置によるウェハ搬送時にもウェハが直線上を移動するように構成されているので、前記各搬送装置のアーム等が前記補助部２５、２７の台形の斜辺部へ突出することなく稼動させることができ、ウェハを安全且つスムーズに搬送することができる。

ワーク搬送システムの概略構成を示す平面図である。 ＢモジュールとＡＢモジュールの概略構成を示す斜視図である。 図２におけるＩＩＩ矢視を示す図であり、ＢモジュールとＡＢモジュールの概略構成を示す平面図である。 図３におけるＩＶＡ−ＩＶＢ矢視を示す図である。 図１におけるＶＡ−ＶＢ断面を示す図である。 複数のウェハを一時保管できるＢモジュールの概略構成を示す平面図である。 図６におけるＶＩＩＡ−ＶＩＩＢ断面を示す図である。 バッファモジュールの概略構成を示す平面図である。 バッファモジュールの概略構成を示す平面図である。 搬送システムの別の設置形態を示す図である。

符号の説明

１ ワーク搬送システム
３、３Ａ、３Ｂ、３Ｃ プロセス装置
５、５Ａ、５Ｂ、５ａ Ｂモジュール
７、７Ａ、７Ｂ ＡＢモジュール
８、８Ａ、８Ｂ ＴＦ１モジュール（第１のトランスファモジュール）
９、９ａ、１５、６９、７７ 基台
１１、１３、７１、７９ 搬送装置
１７、１９、２１、７３ ステーション
２３ 本体部
２５、２７ 第１および第２の補助部
４１、４７ クリーンモジュール
６３、６５、７５、８３ バッファモジュール
Ｗ１ ウェハ

Claims (10)

1. 各プロセス装置間でワークを搬送するためのワーク搬送システムにおいて、
   第１の他の装置またはモジュールからワークを受け取りこの受け取ったワークをプロセス装置まで搬送する第１の搬送装置と、前記プロセス装置から搬出されたワークを受け取りこの受け取ったワークを第２の他の装置またはモジュールまで搬送する第２の搬送装置とを備えたモジュールを有することを特徴とするワーク搬送システム。
2. 請求項１に記載のワーク搬送システムにおいて、
   前記モジュールは、前記第１の搬送装置が受け取ったワークを、前記プロセス装置まで搬送しないでバイパスさせ、前記第２の搬送装置に渡すことができるように構成されていることを特徴とするワーク搬送システム。
3. 各プロセス装置間でワークを搬送するためのワーク搬送システムにおいて、
   ワークを一時的に保管可能なステーションをその基台に配置した第１のモジュールと；
   ワークを一時的に保管可能な別のステーションをその基台に配置した第２のモジュールと；
   前記第１のモジュールと前記第２のモジュールとに隣接して設けられていると共に、
   ワークを一時的に保管可能な第１のステーションと、
   前記プロセス装置に搬入されるワークを一時的に保管可能な第２のステーションと、
   前記プロセス装置から搬出されたワークを一時的に保管可能な第３のステーションと、
   前記第１のモジュールからワークを受け取りこの受け取ったワークを前記第１のステーションまたは前記第２のステーションまで搬送可能な第１の搬送装置と、
   前記第１のステーションまたは前記第３のステーションからワークを受け取り、この受け取ったワークを前記第２のモジュールまで搬送可能な第２の搬送装置と、
   をその基台に配置した第３のモジュールと；
   を有することを特徴とするワーク搬送システム。
4. 請求項３に記載のワーク搬送システムにおいて、
   前記第１のモジュールと、前記第２のモジュールとのうちの少なくとも一方のモジュールは、複数のワークを一時的に保管することができるように構成されていることを特徴とするワーク搬送システム。
5. 請求項３または請求項４に記載のワーク搬送システムにおいて、
   前記第１のモジュールの前記基台と、前記第２のモジュールの前記基台とは、水平面への投影形状が正方形状に形成されており、
   前記第３のモジュールの各ステーションと各搬送装置とが設置されている前記基台は、前記第１のステーションと前記各搬送装置とが設置されている本体部と；前記第２のステーションと前記第３のステーションとが設置されている補助部と；で構成されており、
   前記本体部は、水平面への投影形状が長方形状であって、幅が前記第１のモジュールの前記基台の１辺とほぼ等しくて長さが前記幅のほぼ整数倍である長方形状に形成されていることを特徴とするワーク搬送システム。
6. 請求項３〜請求項５のいずれか１項に記載のワーク搬送システムにおいて、
   前記第１のモジュールと前記第２のモジュールとは、これらのモジュール用のクリーンモジュールを設置することによってクリーン度の高い雰囲気中でワークを取り扱うことができるように構成されており、
   前記第３のモジュールは、このモジュール用のクリーンモジュールを設置することによってクリーン度の高い雰囲気中でワークを取り扱うことができるように構成されていることを特徴とするワーク搬送システム。
7. 請求項３〜請求項６のいずれか１項に記載のワーク搬送システムにおいて、
   前記ワーク搬送システムは、次に示す第４のモジュール〜第１３のモジュールのうちの少なくとも１つのモジュールを有し、
   前記第４のモジュールは、前記各プロセス装置で加工される前のワークであってストッカーに保管されている多数個のワークを１枚ずつ取り出し前記第１のモジュールに供給可能なように構成されており、
   前記第５のモジュールは、前記各プロセス装置で加工されたワークを前記第２のモジュールから１枚ずつ受け取って、ストッカーに多数個保管することができるように構成されており、
   前記第６のモジュールは、前記ワーク搬送システムに供給されるワークに付されているＩＤを読み取るように構成されており、
   前記第７のモジュールは、前記各プロセス装置のうちの所定のプロセス装置で加工されたワークを、前記第１のモジュールまたは前記第２のモジュールから受け取って、この受け取ったワークを、ストッカーに多数個保管することができるように構成されており、
   前記第８のモジュールは、前記各プロセス装置のうちの所定のプロセス装置で加工される前のワークを、ストッカーに多数個保管することができると共に、この保管されている各ワークを１枚ずつ前記第１のモジュールまたは前記第２のモジュールに供給可能なように構成されており、
   前記第９のモジュールは、ワークを一時的に保管可能な第４のステーションと、前記第１のモジュールまたは前記第２のモジュールまたは一時的に保管可能なステーションを備えた別の隣接するいずれかのモジュール前記ステーションからワークを受け取りこの受け取ったワークを前記第４のステーションまで搬送可能な第３の搬送装置と、前記第４のステーションからワークを受け取り、この受け取ったワークを前記第１のモジュールまたは前記第２のモジュールまたは一時的に保管可能なステーションを備えた別の隣接するいずれかのモジュールの前記ステーションまで搬送可能な第４の搬送装置とを備えており、
   前記第１０のモジュールは、ワークを一時的に保管可能な第５のステーションと、前記第１のモジュールまたは前記第２のモジュールまたは一時的に保管可能なステーションを備えた別の隣接するいずれかのモジュールの前記ステーションからワークを受け取りこの受け取ったワークを前記第５のステーションまで搬送可能な第５の搬送装置とを備え、前記第５のステーションまで搬送されたワークを、搬送装置を備えた別の隣接するいずれかのモジュールの前記搬送装置との間で受け渡すことが可能なように構成されており、
   前記第１１のモジュールは、前記第１のモジュールまたは第２のモジュールまたは一時的に保管可能なステーションを備えた別の隣接するいずれかのモジュールのステーションからワークを受け取りこの受け取ったワークを前記第１のモジューまたは第２のモジュールまたは一時的に保管可能なステーションを備えた別の隣接するいずれかのモジュールの前記ステーションまで搬送可能な第６の搬送装置を備えており、
   前記第１２のモジュールは、前記各プロセス装置に搬入される前のワークや前記プロセス装置で加工されたワークを検査するように構成されており、
   前記第１３のモジュールは、前記各プロセス装置に搬入される前のワークや前記プロセス装置で加工されたワークを位置決めするように構成されていることを特徴とするワーク搬送システム。
8. 請求項７に記載のワーク搬送システムにおいて、
   前記第４のモジュール〜第１３のモジュールは各々基台を有し、前記各基台は、水平面への投影形状が前記第１のモジュールの基台とほぼ等しい大きさの正方形状、または、水平面への投影形状が長方形状であって、幅が前記第１のモジュールの基台の１辺とほぼ等しく、長さが前記幅のほぼ整数倍である長方形状に形成されていることを特徴とするワーク搬送システム。
9. 請求項７または請求項８記載のワーク搬送システムにおいて、
   前記第４のモジュール〜第１３のモジュールは、前記第４のモジュール〜第１３のモジュール用のクリーンモジュールを設置することによってクリーン度の高い雰囲気中でワークを取り扱うことができるように構成されていることを特徴とするワーク搬送システム。
10. 各プロセス装置間でワークを搬送するためのワーク搬送装置において、
    ワークを一時的に保管可能な第１のステーションと；
    前記プロセス装置に搬入されるワークを一時的に保管可能な第２のステーションと；
    前記プロセス装置から搬出されたワークを一時的に保管可能な第３のステーションと；
    第１の他の装置またはモジュールからワークを受け取りこの受け取ったワークを前記第１のステーションまたは前記第２のステーションまで搬送可能な第１の搬送装置と；
    前記第１のステーションまたは前記第３のステーションからワークを受け取り、この受け取ったワークを第２の装置または他のモジュールまで搬送可能な第２の搬送装置と；
    を１つの基台に有していることを特徴とするワーク搬送装置。
    

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