JP2006201541A - ミラー基板の形成方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】枠部などの大きな段差を備えている状態のミラー基板に形成されているミラーに対し、より精度よく選択的に金属膜が形成できるようにする。
【解決手段】枠部101aの側にステンシルマスク107を配置し、開口部171を通して、蒸着源より飛来した蒸着原子110をミラー135に到達させ、ミラー135にのみ、金属膜108が形成された状態とする。ステンシルマスク107は、板状の基板部172の上に、枠部101aの開口部に嵌合する嵌合部173を備え、嵌合部173の先端面174に開口部171が形成されている。嵌合部173は、ミラーアレイを構成する1つのミラー135の部分に対応し、各々のミラー毎に各々1つの円形の開口部171を備え、開口部171が形成されている先端面174は、基板部172の平面に略平行に形成されている。
【選択図】 図1

Description

本発明は、通信用の光スイッチング素子などに適用可能なミラー素子を構成するミラー基板の形成方法に関する。
インターネット通信網などにおける基盤となる光ネットワークの分野では、多チャンネル化、波長分割多重(WDM)化、及び低コスト化を実現する技術として、光MEMS(Micro Electro Mechanical System)技術が脚光を浴びており、この技術を用いて光スイッチが開発されている(例えば、特許文献1参照。)。MEMS技術による光スイッチの構成部品として最も特徴的なものが、複数のミラー素子が配列されたミラーアレイである。
ミラーアレイは、ミラー基板と、これに対向配置された電極基板とから構成されている。ミラー基板は、ミラーとして作用する複数の可動構造体と、この可動構造体をトーションバネなどのバネ部材によって回動可能に支持する支持部材とを有する。また、電極基板は、ミラーとして作用する可動構造体に対応した複数の電極部が、土台となる基板の上に形成されたものである。
特許文献1に示された従来のミラーアレイについて図4,図5を用いて説明する。図4は、ミラー基板及び電極基板の構成を示す概略斜視図、図5は、ミラー素子の構成を示す概略斜視図である。なお、図4,図5は、主にミラーアレイの1構成単位であるミラー素子を部分的に示している。ミラーアレイは、図4,図5に示すミラー素子が、2次元的に正方配列されたものである。ミラー素子は、ミラーが形成されたミラー基板200と、電極が形成された電極基板300とを備え、これらが平行に配設されている。
ミラー基板200は、板状の基部210とリング状の可動枠220と円板状のミラー230とを備える。基部210は、平面視略円形の開口を備える。可動枠220は、基部210の開口内に配置され、一対の連結部211a,211bにより基部210に連結している。また、可動枠220も、平面視略円形の開口を備えている。ミラー230は、可動枠220の開口内に配置され、一対のミラー連結部221a,221bにより可動枠220に連結されている。また、基部210の周辺部には、可動枠220及びミラー230を取り囲むような枠部240が形成されている。枠部240は、絶縁層250を介して基部210に固定されている。
連結部211a,211bは、可動枠220の切り欠き内に設けられており、つづら折りの形状を有するトーションバネから構成され、基部210と可動枠220とを連結している。このように基部210に連結された可動枠220は、連結部211a,211bを通る回動軸(可動枠回動軸)を中心に、回動可能とされている。また、ミラー連結部221a,221bは、可動枠220の切り欠き内に設けられており、つづら折りの形状を有するトーションバネから構成され、可動枠220とミラー230とを連結している。このように可動枠220に連結されたミラー230は、ミラー連結部221a,221bを通る回動軸(ミラー回動軸)を中心に回動可能とされている。なお、可動枠回動軸とミラー回動軸とは、互いに直交している。
一方、電極基板300は、突出部320と、突出部320の周辺部に設けられたリブ構造体310とを備える。突出部320は、角錐台の形状を有する第3テラス323と、第3テラス323の上面に形成された角錐台の形状を有する第2テラス322と、第2テラス322の上面に形成された角錐台の形状を有する第1テラス321と、第1テラス321の上面に形成された角錐台の形状を有するピボット330とから構成される。
また、突出部320の外面を含む電極基板300の上面には、対向するミラー基板200のミラー230と同心の円内に、扇形の電極340a,電極340b,電極340c,電極340dが形成されている。さらに、電極基板300の突出部320周囲には、配線370が形成され、配線370には、引き出し線341a〜341dを介して電極340a〜340dが接続されている。
上述した構成とされたミラー基板200と電極基板300とは、各々対応するミラー230と電極340a〜340dとが対向配置され、基部210の下面とリブ構造体310の上面とが接合され、図5に示すようなミラー素子が形成される。
次に、製造方法について簡単に説明する。まず、ミラー基板200は、SOI(Silicon On Insulator)基板から形成できる。SOI基板は、シリコンからなる厚い基体部の上に埋め込み絶縁層を介して薄いシリコン層(SOI層)を備えたものであり、SOI層を加工することで、前述した基部210,可動枠220,ミラー230などの板状の構造体が形成できる。また、SOI基板の厚い基体部を枠状に残すように除去することで、枠部240が形成できる。なお、図4,図5に示す絶縁層250が、SOI基板の埋め込み絶縁層に対応している。
また、電極基板300は、主表面の結晶方位が(100)面の単結晶シリコン基板を、水酸化カリウムなどのアルカリ溶液でエッチング加工することで形成できる。よく知られているように、単結晶シリコンは、(111)面が、(100)面や(110)面に比べて著しくアルカリによるエッチング速度が小さい。この現象を利用することで、角錐台の突出部320や、リブ構造体310が形成可能である。
以上のように、ミラー基板200及び電極基板300が形成された後、これらを貼り合わせることで、図5に示すように、電極340a〜340dに対する電界印加によってミラー230が可動(回動)するミラー素子が形成できる。また、ミラー230における光の反射率を向上させるために、ミラー230の表面(図4及び図5に示されている面)に金などの金属膜を形成する。
なお、出願人は、本明細書に記載した先行技術文献情報で特定される先行技術文献以外には、本発明に関連する先行技術文献を出願時までに発見するには至らなかった。
特開2003−57575号公報
上述したように、ミラー230にAuなどの金属膜を形成する場合、よく知られている技術である蒸着法やスパッタ法などを用いればよい。ところで、ミラー230に金属膜を形成するときに、連結部にも金属膜が形成されると、連結部の正常な動作が阻害されるようになる。図4,図5に示すよなつづら折りの形状のトーションバネでは、動作の中で隣り合う部分が接触することが起こる。ところが、Auなどの金属膜が表面に形成されていると、接触により固着(スティッキング)が起こり、トーションバネ自体が動かなくなる。
ミラーの部分に選択的に金属膜が形成された状態とすることで、上述した問題が解消可能である。部分的に金属膜を形成するためには、一般にフォトリソグラフィ技術により形成されるレジストパターンを用いる技術が応用できる。例えば、全域に金属膜を形成した後、所望とする領域が隠されるレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクとしてエッチングすれば、所望とする領域のみに金属膜が形成された状態が得られる。また、所望とする領域が露出するレジストパターンを形成し、この上から金属膜を形成し、この後、レジストパターンを除去することで、所望とする領域のみに金属膜が形成された状態が得られる。
しかしながら、ミラー基板200は、ミラー230や連結部211a,211bなどの可動する構造体から構成されている。このため、フォトレジストの塗布や現像などの工程において受ける機械的な振動により、微細な可動部分が破壊されいやすく、上述した技術の適用が容易ではない。また、図4に示すように、SOI基板を利用して形成されたミラー基板200においては、ミラー基板200の強度を維持するためなどにより、高さが500μm程度となる枠部240が存在している。このような大きな段差が存在している状態でも、上述した技術の適用を阻害している。
上述したリソグラフィ技術を用いることなく、選択的に金属膜を形成する技術として、蒸着法やスパッタ法においてステンシルマスクを用いることで、所望とする領域に選択的に金属膜を形成する技術がある。この技術では、図6に示すように、ミラー230の金属膜形成面側に、開口部402を備えたステンシルマスク401を配置し、開口部402を通して、蒸着原子410をミラー基板200に到達させ、所望の領域に金属膜を形成する。この技術によれば、レジストの塗布や現像などの破壊につながる機械的な振動が加わる工程がなく、また、工程数も短いため、これらの点では、ミラーへの選択的な金属膜の形成に適している。
しかしながら、前述したSOI基板を用いて形成されたミラー基板200の場合、金属膜の形成面側に枠部240が存在するため、金属膜の形成面とステンシルマスク401とが、500μm程度離れることになる。ここで、蒸着法やスパッタ法による成膜において、成膜面に飛散してくる蒸着原子(粒子)は、全てが成膜面の法線に対して角度の分布を有している。このため、成膜面に対する開口部402の投影領域以外である、可動枠220や連結部(図示せず)にまで、金属膜が形成されるようになる。また、ステンシルマスク401とミラー基板200との位置合わせの精度は、数十μm以下を実現することが非常に困難であり、この点においても、位置ずれの結果、開口部402の投影領域以外に金属膜が形成されやすい状態である。
本発明は、以上のような問題点を解消するためになされたものであり、枠部などの大きな段差を備えている状態のミラー基板に形成されているミラーに対し、より精度よく選択的に金属膜が形成できるようにすることを目的とする。
本発明に係るミラー基板の形成方法は、基板の第1面にミラー形成領域が開口した第1マスクパターンを形成し、この第1マスクパターンをマスクとしたエッチングにより、ミラー形成領域における基板を所定の厚さにまで薄くし、ミラー形成領域の外側に枠部が形成された状態とする工程と、基板の第2面に第2マスクパターンを形成し、この第2マスクパターンをマスクとしたエッチングにより基板を加工し、ミラー形成領域に開口部を備えた基部及びこの基部の開口部内側に一対の連結部を介して回動可能に連結する板状のミラー構造体が形成された状態とする工程と、基板部,基板部の上に形成されてミラー形成領域に対応する枠部の内側に嵌合する嵌合部,この嵌合部の先端部に配置されたて基板部の平面に平行な先端面、この先端面に形成されてミラー構造体の平面形状に一致した開口部を備えたステンシルマスクを用意する工程と、嵌合部をミラー形成領域に対応する枠部の内側に嵌入させてステンシルマスクを基板の第1面の側に配置し、嵌合部が枠部の内側に嵌合された状態とし、第1面の側より基板に対して金属粒子を飛散させ、ミラー構造体の第1面の側に金属粒子を堆積させて金属膜が形成された状態とする工程とを少なくとも備えるようにしたものである。
上記形成方法によれば、ステンシルマスクの嵌合部に形成された開口部の嵌合部における相対的な位置関係と、枠とこの内側のミラー形成領域に形成されたミラー構造体との相対的な位置関係とにより、開口部とミラー構造体との相対的な位置関係が規定されるようになる。
以上説明したように、本発明によれば、基板部,基板部の上に形成されてミラー形成領域に対応する枠部の内側に嵌合する嵌合部,この嵌合部の先端部に配置されたて基板部の平面に平行な先端面、この先端面に形成されてミラー構造体の平面形状に一致した開口部を備えたステンシルマスクを用いるようにした。この結果、枠部などの大きな段差を備えている状態のミラー基板に形成されているミラー(ミラー構造体)に対し、より精度よく選択的に金属膜が形成できるようなるという優れた効果が得られる。
以下、本発明の実施の形態について図を参照して説明する。図1は、本発明の実施の形態におけるミラー基板の形成方法例を示す工程図である。まず、図1(a)に示すように、面方位が(100)であるシリコン基部101の上に、例えば膜厚1μmの酸化シリコンからなる埋め込み絶縁層102と、膜厚10μmのシリコン単結晶層(SOI層)103とが形成されているSOI基板を用意する。ついで、SOI層103の側(表面)に、有機樹脂からなる保護膜104が形成された状態とする。
次に、図1(b)に示すように、シリコン基部101の裏面にマスクパターン105が形成された状態とする。マスクパターン105は、ミラーアレイを構成する1つのミラー部分に対応するパターンであり、ミラー毎に各々1つの正方形の領域が開口しているパターンである。なお、図1は、シリコン基部101上の一部領域を示すものであり、ここでは、切り出すことで1つのミラー基板となる正方形の領域を示している。
この後、マスクパターン105をマスクにし、CF系ガスを用いたドライエッチングにより、シリコン基部101を埋め込み絶縁層102が露出するまでエッチングされた状態とする。このとき、保護膜104が形成されているので、上記エッチング処理の際に、SOI層103は、エッチングされずに保護される。なお、上記エッチングにおいて、ウエットエッチングを用いるようにしてもよい。ところで、マスク105は、単層構造としたが、これに限るものではなく、2層,3層構造のマスクであってもよい。また、保護層104は、有機樹脂に限らず、金属や誘電体から構成されていてもよい。
この後、マスクパターン105及び保護膜104を除去することで、図1(c)に示すように、枠部101aが形成された状態が得られる。マスクパターン105及び保護膜104は、灰化処理や適当なエッチング方法により除去すればよい。ここで、枠部101aの開口内は、ミラー形成領域となるが、ミラーが形成されるSOI層103の裏面は、埋め込み絶縁層102により覆われて保護された状態となっている。
次に、図1(d)に示すように、SOI層103上にマスクパターン106が形成された状態とし、マスクパターン106をマスクとしてSOI層103がエッチング加工された状態とする。このエッチングでは、例えばリアクティブイオンエッチングなどの方向性エッチングにより行い、エッチング箇所において埋め込み絶縁層102の表面を露出させる。このエッチングにより、基部131,可動枠133,ミラー(ミラー構造体)135,及び図示していない連結部,ミラー連結部が形成され、ミラー基板の基本的な構成が形成された状態が得られる。このとき、マスクパターン106の図示していない領域に、ダイシングの際にガイドとなるスクライブラインを形成するためのパターンが備えられ、SOI層103の図示しない領域にスクライブラインが備えられた状態としておく。
次に、マスクパターン106が除去された状態とし、加えて枠部101aの内部に露出している部分の埋め込み絶縁層102が除去された状態とした後、ミラー基板を所定の蒸着装置内に搬入し、図1(e)に示すように、枠部101aの側にステンシルマスク107を配置し、開口部171を通して、図示しない蒸着源(例えばAu)より飛来した蒸着原子(金属粒子)110をミラー135に到達させる。蒸着原子110は、ステンシルマスク107の配置側よりSOI基板(シリコン単結晶層103)の側に飛散させればよい。このことにより、ミラー基板100を構成するミラー135にのみ、例えばAuからなる金属膜108が形成された状態が得られる。
図1(e)に示すステンシルマスク107は、板状の基板部172の上に、枠部101aの開口部に嵌合する嵌合部173を備え、嵌合部173の先端面174に開口部171が形成されている。嵌合部173は、ミラーアレイを構成する1つのミラー135の部分に対応し、各々のミラー毎に各々1つの円形の開口部171を備えた構造体である。開口部171の開口形状は、ミラー135の平面形状に対応させればよい。また、開口部171が形成されている先端面174は、基板部172の平面に略平行に形成されている。
このように構成されたステンシルマスク107を用い、嵌合部173を枠部101aの内部に嵌入させて嵌合した状態とすれば、実質的なステンシルマスクとして機能する先端面174が、金属膜の形成面に近設配置されるようになる。この結果、開口部171以外の領域に、蒸着原子110が到達することが抑制できるようになる。また、嵌合部173を枠部101aの内部に嵌入させれば、開口部171とミラー135とが自動的(自己整合的)に位置合わせされた状態となる。開口部171とミラー135との位置合わせ精度は、開口部171の加工精度、並びにステンシルマスクを構成する構造体各部の加工精度により決定される。この結果、少なくとも数μm以下の精度で、ミラー135に対して開口部171の位置を合わせることが可能となる。
図2は、以上にようにして形成されたミラー基板100の概略的な構成を模式的に示す斜視図である。図2に示すように、ミラー基板100は、SOI層103に形成された基部131と可動枠133とミラー135とを備える。可動枠133は、基部131の開口内に配置され、一対の連結部132a,132bにより基部131に連結している。また、ミラー135は、可動枠133の開口内に配置され、一対のミラー連結部134a,134bにより可動枠133に連結されている。また、基部131の周辺部には、可動枠133及びミラー135を取り囲むように枠部101aが形成されている。枠部101aは、埋め込み絶縁層102を介して基部131に固定されている。
連結部132a,132bは、可動枠133の切り欠き内に設けられ、基部131と可動枠133とを連結している。このように基部131に連結された可動枠133は、連結部132a,132bを通る回動軸(可動枠回動軸)を中心に、回動可能とされている。また、ミラー連結部134a,134bは、可動枠133の切り欠き内に設けられ、可動枠133とミラー135とを連結している。このように可動枠133に連結されたミラー135は、ミラー連結部134a,134bを通るミラー回動軸を中心に回動可能とされている。以上の構成は、図4に示したミラー基板200と同様である。ただし、図2に示すミラー基板100では、ミラー135に選択的に金属膜108が形成されている。金属膜108は、反射膜として機能する。
次に、本実施の形態における他のミラー基板の形成方法例について、図3を用いて説明する。図3では、ステンシルマスク107aを構成する嵌合部173aの側部が、ミラー135に近くなるほど細くなるテーパ形状とされている。また、先端面174aには、ミラー135の平面形状に対応した開口形状の開口部171が備えられている。このように構成されたステンシルマスク107aにおいても、嵌合部173aの付け根の部分の形状が、枠部101aの開口形状に一致していれば、開口部171とミラー135とが自動的(自己整合的)に位置合わせされた状態となる。
従って、図3に示すように構成したステンシルマスク107aを用いても、開口部171とミラー135との位置合わせ精度は、開口部171の加工精度などにより決定され、容易に数μm以下の精度で、ミラー135に対して開口部171の位置を合わせることが可能となる。この結果、図3に示すステンシルマスク107aを用いても、精度よく、ミラー135にのみ金属膜108が形成された状態が得られる。なお、上述では、真空蒸着法を例に説明したが、これに限るものではなく、スパッタ法やレーザアブレーション法などの他の成膜方法にも、上述した方法が適用できることはいうまでもない。
本発明の実施の形態におけるミラー基板の形成方法例を示す工程図である。 ミラー基板100の概略的な構成を模式的に示す斜視図である。 本実施の形態における他のミラー基板の形成方法例を説明するための模式的な断面図である。 MEMS技術を用いて形成された従来よりあるミラーアレイの構成を示す斜視図である。 MEMS技術を用いて形成された従来よりあるミラーアレイの構成を示す斜視図である。 ステンシルマスクを用いた選択的な成膜技術について説明する説明図である。
符号の説明
100…ミラー基板、101…シリコン基部、101a…枠部、102…埋め込み絶縁層、103…シリコン単結晶層(SOI層)、104…保護膜、105…マスクパターン、106…マスクパターン、107…ステンシルマスク、108…金属膜、110…蒸着原子、131…基部、132…連結部、133…可動枠、134…ミラー連結部、135…ミラー、171…開口部、172…基板部、173…嵌合部、174…先端面。

Claims (1)

  1. 基板の第1面にミラー形成領域が開口した第1マスクパターンを形成し、この第1マスクパターンをマスクとしたエッチングにより、前記ミラー形成領域における前記基板を所定の厚さにまで薄くし、前記ミラー形成領域の外側に枠部が形成された状態とする工程と、
    前記基板の第2面に第2マスクパターンを形成し、この第2マスクパターンをマスクとしたエッチングにより前記基板を加工し、前記ミラー形成領域に開口部を備えた基部及びこの基部の開口部内側に一対の連結部を介して回動可能に連結する板状のミラー構造体が形成された状態とする工程と、
    基板部,前記基板部の上に形成されて前記ミラー形成領域に対応する前記枠部の内側に嵌合する嵌合部,この嵌合部の先端部に配置されたて前記基板部の平面に平行な先端面、この先端面に形成されて前記ミラー構造体の平面形状に一致した開口部を備えたステンシルマスクを用意する工程と、
    前記嵌合部を前記前記ミラー形成領域に対応する前記枠部の内側に嵌入させて前記ステンシルマスクを前記基板の前記第1面の側に配置し、前記嵌合部が前記枠部の内側に嵌合された状態とし、前記第1面の側より前記基板に対して金属粒子を飛散させ、前記ミラー構造体の前記第1面の側に前記金属粒子を堆積させて金属膜が形成された状態とする工程と
    を少なくとも備えることを特徴とするミラー基板の形成方法。
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