JP2006198493A - 液晶パネル処理装置及び液晶パネル処理方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 液晶パネルからの液晶の分離を短時間に効率よく行うことができる液晶パネル処理方法を提供する。
【解決手段】 本発明の液晶パネル処理方法は、チャンバー２０内に収容した液晶パネル１０を減圧加熱処理することで前記液晶パネル１０から液晶を分離するに際して、前記液晶パネル１０にレーザー光を照射することで、該液晶パネル１０に封止された液晶を前記チャンバーの内部空間２０ａに蒸散させるためのリーク路を形成することを特徴としている。
【選択図】 図２

Description

本発明は、液晶パネル処理方法及び液晶パネル処理装置に関するものである。

近年、一般廃棄物や産業廃棄物の量が増加の一途を辿っており、廃棄量の増加の抑制や、廃棄物による環境の悪化を抑制するための無害化に対する要請が高まっている。
例えば、家電製品や情報機器等の表示部に用いられている液晶パネルは、省電力、省スペースという利点から今後も急速に使用量が増大することが予想され、それに伴う廃棄量の増大を抑えるためのリサイクル技術の確立は非常に重要である。

液晶パネルは、一般的には、２枚のガラス基板を、それらの間に枠状のシール材を介在させて貼り合わせ、前記シール材の内側に液晶を封入した構成を備えている。ガラス基板の内側（液晶側）には、ＩＴＯ等の透光性導電材料からなる電極や、着色した樹脂材料からなるカラーフィルタが設けられており、ガラス基板の間に封入された液晶は、有機物を主成分とするものである。一方、ガラス基板の外側には、樹脂フィルムからなる偏光板や位相差板が設けられている。

上述した構成を備える液晶パネルからガラスや希少金属を回収する方法や回収装置の提案が既に成されている。例えば下記特許文献１に記載の技術は、液晶パネルを破砕しないで反応炉に配置し、反応炉内を減圧状態にして加熱することで、液晶パネルを構成する有機物（液晶、カラーフィルタ、偏光板等）を蒸発ないし炭化させることでガラス基板を回収するものである。
特開２００４−２３０２２９号公報

ところで、上記特許文献１に記載の技術を用いて液晶パネルの処理を行う場合、液晶パネルの液晶はシール材によって封止された状態であるから、ガラス基板と液晶とを分離するには、加熱によってシール材又は封止材（シール材の開口部を封止する部材）を脆弱化させてパネル内部から液晶を蒸発させる必要がある。ところが、上記特許文献１に記載の技術を用いて液晶とガラス基板とを分離しようとすると、液晶パネルを減圧下で加熱する際に、処理容器内が真空状態であるため昇温しにくく、液晶パネルへの加温の効率が低くなるために処理時間が長くなるという問題がある。

本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み成されたものであって、液晶パネルからの液晶の分離を短時間に効率よく行うことができる液晶パネル処理方法を提供することを目的としている。また本発明は、上記方法を用いた液晶パネルの処理に好適な液晶パネル処理装置を提供することを目的としている。

本発明は、上記課題を解決するために、処理容器内に収容した液晶パネルを減圧加熱処理することで前記液晶パネルから液晶を分離するに際して、前記液晶パネルにレーザー光を照射することで、該液晶パネルに、その内部に封止されている液晶を前記処理容器の内部空間に蒸散させるためのリーク路を形成することを特徴とする液晶パネル処理方法を提供する。
上記減圧加熱処理は、密閉容器内に被処理物を収容するとともに密閉容器内を減圧、加熱状態に保持することで、前記被処理物から有機物等を蒸散させたり、構成部材を炭化させて被処理物を分解処理する方法である。このような減圧加熱処理により液晶パネルから液晶を分離回収するには、液晶パネルのシール材や基板等に液晶のリーク路を形成することで、液晶が封入されたシール材の内側の領域とシール材の外側の領域とを連通させ、このリーク路を介して液晶を処理容器内に蒸散させることが必要であるが、本発明の液晶パネル処理方法では、前記リーク路を形成するために液晶パネルに対するレーザー光照射を行うようになっている。
このような処理方法とすることで、液晶パネルの全体を加熱しなくても液晶のリーク路を容易に形成することができるので、加熱によってシール材や封止材を脆弱化させる場合に比して液晶の蒸散の開始を大幅に早めることができ、処理時間を短縮して処理量の増大と処理コストの低減を図ることができる。
また、処理容器内壁の熱により液晶パネルを加熱する必要がないので、処理容器内の加熱温度を液晶の蒸発温度程度にまで下げることができ、処理容器の加熱に要する時間とエネルギーとを節約することができ、処理の迅速化と低コスト化を同時に実現できる処理方法となる。さらに、減圧加熱処理では、閉空間で液晶パネルの処理が行われるので、液晶パネルから発生するガス成分や飛散する固体成分を外気から遮断して処理ができ、安全に効率よく液晶パネルの処理を行うことができる。

本発明の液晶パネル処理方法では、前記レーザー光を、前記液晶パネルのシール材及び／又は封止材に、直接又は該液晶パネルの基板を透過して照射することが好ましい。
この処理方法によれば、レーザー光の照射によってシール材及び／又は封止材を加熱し、これらのシール材や封止材を脆弱化させ、あるいは一部除去して、シール材の内側に封止されている液晶のリーク路を形成することができる。シール材や封止材は一般的に樹脂材料からなるものであるから上記レーザー光の照射によって容易にシール機能を失わせることができ、極めて迅速に液晶パネルの処理を行うことができる。

本発明の液晶パネル処理方法では、前記レーザー光を、前記シール材と封止材との境界領域に照射することもできる。
この処理方法によれば、シール材と封止材との境界領域（境界面）を含む部位にレーザー光を照射してシール材と封止材との密着性を低下させ、両者の境界領域に液晶のリーク路を形成することができる。この場合、シール材と封止材との密着性を失わせる程度の照射強度でよいため、比較的低出力のレーザー光を用いることも可能である。

本発明の液晶パネル処理方法では、前記レーザー光を前記液晶パネルの封止材に照射するに際して、前記封止材のうち、該液晶パネルの基板から外側に突出している部位に照射することもできる。
この処理方法では、液晶パネルから外側に突出している封止材に対してレーザー光を照射するので、液晶パネルの基板の内面側に設けられているシール材にレーザー光を照射する場合のように、基板によるレーザー光の減衰や反射が生じることがなく、レーザー光による加熱効率を高め、迅速に封止材の脆弱化あるいは除去を行うことができる。

本発明の液晶パネル処理方法では、前記液晶パネルを構成する基板に前記レーザー光を照射することで、前記基板に亀裂又は貫通孔を形成することもできる。
この処理方法でも、前記亀裂又は貫通孔が液晶のリーク路となり、液晶パネルからの液晶の分離回収を効率よく行うことができる。

本発明の液晶パネル処理方法では、前記液晶パネルに対して、複数本のレーザー光を照射することもできる。
この処理方法によれば、レーザー光の強度を高めて液晶パネルに対するレーザー加工の速度を向上させることができ、処理の迅速化に寄与する。

本発明の液晶パネル処理方法では、前記液晶パネルにレーザー光を照射するに際して、複数の前記液晶パネルを配列して支持し、該複数の液晶パネルに対し前記レーザー光を走査して照射することもできる。
この処理方法によれば、複数の液晶パネルの処理をレーザー光の走査により行うことができるため、複数の液晶パネルの一括処理を効率よく行うことができる。

本発明の液晶パネル処理方法では、前記液晶パネルにレーザー光を照射するに際して、複数の前記液晶パネルを配列して支持し、該複数の液晶パネルに対応して複数本に分岐した前記レーザー光を前記各液晶パネルに照射することもできる。
複数の液晶パネルのそれぞれに対してレーザ光を案内して照射することで、レーザー光を無駄なく液晶パネルに照射することができ、また同時処理が可能になることから処理の迅速化を実現することができる。

本発明の液晶パネル処理装置は、減圧加熱処理によって液晶パネルから液晶を分離する液晶パネル処理装置であって、内部に液晶パネルを収容する処理容器と、前記処理容器内部を加熱する加熱手段と、前記処理容器内部を減圧する排気手段と、前記処理容器内に収容された前記液晶パネルに対してレーザー光を照射するレーザー光出力手段と、を備えたことを特徴とする。
この構成によれば、減圧加熱状態に保持可能な処理容器内において、液晶パネルに対してレーザー光を照射できる液晶パネル処理装置が得られる。そして、前記レーザー光出力手段から出力されたレーザー光によって、液晶パネルに液晶のリーク路を容易かつ迅速に形成することができ、液晶パネルからの液晶の分離回収を容易かつ迅速に行うことができる処理装置となっている。また液晶のリーク路を形成するための加熱を要しないことから、消費エネルギーを節約できる処理装置となっている。

本発明の液晶パネル処理装置では、前記レーザー光出力手段が前記処理容器の外側に設けられており、前記処理容器の壁部に、前記レーザー光出力手段から出力されるレーザー光を該処理容器内部に導入するための窓部が設けられている構成とすることができる。
本発明の液晶パネル処理装置では、前記レーザー光出力手段が、前記処理容器の壁部に設けられた接続部材を介して該処理容器に接続され、該レーザー光出力手段のレーザー光出力部が、前記処理容器内に配置されていることもできる。
レーザー光出力手段について、上記いずれの配置形態も適用することができ、レーザー光出力手段から出力されるレーザーの種類等に応じて適宜選択できる。レーザー光出力手段を処理容器の外側に配設すれば、レーザー光出力手段のメンテナンスや光軸調整が容易になるという利点が得られる。またレーザー光出力部が処理容器内部に配置された構成とすれば、窓部によってレーザー光が減衰することがなく、加工におけるレーザー光の利用効率を高めることができ、またレーザーの種類の制限が緩和されることから液晶パネルの加工に最適なレーザー光出力手段を選択できるという利点が得られる。

本発明の液晶パネル処理装置では、前記処理容器内に、前記レーザー光出力手段から出力されたレーザー光を走査して複数の前記液晶パネルに照射するレーザー光走査手段が設けられている構成とすることもできる。
このような構成とすることで、複数の液晶パネルに対して順次均一な強度のレーザー光を照射することができる、処理効率に優れた液晶パネル処理装置が得られる。

本発明の液晶パネル処理装置では、前記処理容器内に、前記レーザー光出力手段から出力されたレーザー光を複数本のレーザー光に分岐して複数の前記液晶パネルに照射するレーザー光分岐手段が設けられている構成とすることもできる。
このような構成とすることで、複数の液晶パネルの正確な位置に、均一な強度のレーザー光を照射することができる液晶パネル処理装置が得られる。

本発明の液晶パネル処理装置では、不可視光レーザーを出力する第１のレーザー光出力手段と、可視光レーザーを出力する第２のレーザー光出力手段とを備えている構成とすることもできる。
このような構成とすれば、不可視光レーザーを用いる場合に、不可視高レーザーの案内用レーザーとして可視光レーザーを用いることができ、不可視光レーザーの光軸調整等を安全に行うことが可能な液晶パネル処理装置を得ることができる。

本発明の液晶パネル処理装置では、前記処理容器内に、前記液晶パネルを移動自在に支持するパネル支持手段が設けられており、該パネル支持手段の移動動作によって前記液晶パネルに対する前記レーザー光の照射位置及び／又は照射角度が調整可能であることが好ましい。
この構成によれば、前記液晶パネルを支持しているパネル支持手段によって、液晶パネルに対するレーザー光の照射状態を調整することができ、正確な位置に正確な角度で液晶パネルにレーザー光を照射することができる。これにより、迅速に液晶のリーク路を形成することができ、またレーザー光による液晶の分解等も低減することができる。

（第１の実施形態）
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しつつ説明する。
図１は、本発明に係る液晶パネル処理装置の一構成例を示す概略構成図である。図２は、液晶パネル処理装置の主要部たるチャンバーの断面構成図である。

図１に示す液晶パネル処理装置は、内部に液晶パネルを収容するチャンバー（処理容器）２０と、チャンバー２０内部を減圧可能に接続された減圧ポンプ（排気手段）２４とを主体として構成されている。チャンバー２０と減圧ポンプ２４との間に、チャンバー２０の排気から液晶を凝集、分離する凝集器２２が介挿されており、凝集器２２には、凝集器２２で分離した液晶を回収する回収装置２３が接続されている。減圧ポンプ２４には、その排気を処理するガス処理装置２５が接続されている。チャンバー２０には、収容された液晶パネルを加熱する加熱装置（加熱手段）２１が設けられている。

チャンバー２０は、本実施形態の場合、図２に示すように、内部に密閉可能な空間を有する略球状を成して構成されている。チャンバー２０の内部空間２０ａには、収容した液晶パネル１０を所望の姿勢に支持する支持装置（パネル支持手段）１７が設けられている。この支持装置１７は、それと接続された制御装置１７ａから入力される信号に基づいて、内部空間２０ａにおける液晶パネル１０の姿勢を調整できるようになっている。
なお、本実施形態では、支持体１７の上面に液晶パネル１０を載置する構成について図示しているが、支持体１７の態様は図示のものに限定されない。例えば、板状の基体に液晶パネル１０を挿入するための溝部を設け、この溝部によって液晶パネル１０を縦位置に支持する構成とすることもできる。また、液晶パネル１０をクリップのように挟んで支持する構成とすることもできる。さらには、先端が鈎状になった支持部材を複数備え、これらの支持部材によって液晶パネル１０をその側端面で支持する構成とすることもできる。
また上記支持体１７には、液晶パネル１０を加熱するための伝熱手段ないし加熱手段が設けられていてもよい。液晶パネル１０に当接する支持体１７により直接的に液晶パネル１０を加熱することで液晶パネル１０の昇温速度を高め、処理時間の短縮を図ることができる。

チャンバー２０の外側にはレーザー装置（レーザー光出力手段）６０が配設されており、チャンバー２０の壁部には、レーザー装置６０から出力されるレーザー光を透過して内部空間２０ａ内に同舟する窓部２０ｗが設けられている。そして、前記窓部２０ｗを介してチャンバーの内部空間２０ａ内に導入されたレーザー光を液晶パネル１０の所定位置に照射できるようになっている。

チャンバー２０に併設された加熱装置２１は、内部空間２０ａに収容された液晶パネル１０を加熱して液晶を蒸散させる主熱源として機能するものである。加熱装置２１の方式としては、チャンバー２０の内壁を加熱してその輻射熱により液晶パネル１０を加熱する方式や、ヒータ線やランプヒータ等を用いて直接に液晶パネル１０を加熱する方式等、種々の方式が採用でき、複数の加熱手段を併設してもよい。

レーザー装置６０としては、特に限定はなく、処理に供する液晶パネル１０のレーザー光被照射部位（被加工部位）の材質等により適宜選択することができる。したがって、固体レーザー装置（Ｎｄ：ＹＡＧレーザー、Ｔｉ：サファイアレーザーなど）、気体レーザー装置（ＣＯレーザー、ＣＯ_２レーザー、Ａｒイオンレーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザーなど）、半導体レーザー装置、色素レーザー装置、エキシマレーザー装置、自由電子レーザー装置等、種々のものを用いることができる。また発振方式も連続発振、パルス発振のいずれであってもよい。

なお、上記に挙げたレーザー装置のうちには、不可視光のレーザーを出力するものも含まれているが、不可視光レーザーを用いる場合には、その光路に対して重畳可能な可視光レーザーを併用することが好ましい。このような構成とすることで、レーザー光の光軸調整が容易になり、また安全性の面でも有効である。このように複数種のレーザー装置を併用する構成としては、後述する第５の実施形態（図８参照）に例示している。

図１に戻り、減圧ポンプ２４は、チャンバー２０の内部空間２０ａを例えば０．０１〜１０ｋＰａ程度に減圧可能なポンプである。減圧ポンプ２４とチャンバー２０との間に配設された凝集器２２は、減圧加熱処理により液晶パネル１０から蒸発した液晶のガスを冷却し、液化させて排気から分離するものである。凝集器２２で分離された液晶は回収装置２３に送られ、リサイクルするために回収される。あるいは回収装置２３は、液晶を分解して低分子化したり、無害化する分解装置であってもよい。ガス処理装置２５は、液晶を分離した後の排気を清浄化する装置であり、例えば活性炭フィルタ等を用いて排気に含まれる有機物のガス等を吸着除去するものを適用できる。

本実施形態の液晶処理装置による減圧加熱処理に供される液晶パネル１０は、液晶パネルの製造工場より排出されたり、市場において使用済みとなった表示装置等から取り出されたものである。
ここで、図３は、液晶パネル１０の平面構成図であり、図４は、図３のＡ−Ａ線に沿う断面構成図である。本実施形態では液晶パネル１０としてパッシブマトリクス型のものを例示して説明するが、液晶パネル処理装置を用いて処理できる液晶パネルの種類は、パッシブマトリクス型に限られず、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）が基板上に形成されたアクティブマトリクス型のパネルであってもよい。また、基板内面にアルミニウムや銀等からなる反射膜が形成された反射型や半透過反射型の液晶パネルであってもよい。

液晶パネル１０は、図３及び図４に示すように、シール材７を介して所定間隔に対向配置された２枚のガラス基板１１，１２を備え、ガラス基板１１，１２とシール材７とに囲まれる領域に注入された液晶をシール材７の開口部に設けられた封止材７ｂによって封止したものとなっている。なお、図３には封止材７ｂを有する液晶パネル１０を示しているが、シール材に開口部が設けられていない、いわゆる封口レスタイプの液晶パネルであっても、本発明に係る処理装置は問題なく処理することが可能である。封口レスタイプの液晶パネルを加熱のみで処理しようとすると、封止材を有するタイプの液晶パネルのように封止材が先に脆弱化されるということがないため、液晶のリーク路を形成するのにシール材を全体的に脆弱化させる必要がある。そのために処理時間が長くなったり、パネル間で液晶の蒸散状態に差異が生じることもある。これに対して本発明の処理方法では、シール材又は封止材の特定部位をレーザー光照射によって脆弱化等させることができるので、封口レスタイプであっても迅速かつ均一な減圧加熱処理が可能である。

図４に示す断面構造をみると、液晶パネル１０を構成するガラス基板１１，１２は、それらの間に分散配置されたスペーサ３４により所定間隔に離間され、基板端部に設けられたシール材７によって貼り合わされており、ガラス基板１１，１２とシール材７とに囲まれた空間に液晶３５が封入されている。各ガラス基板１１，１２の外面側には、それぞれ粘着材を介して偏光板や位相差板等の光学素子３１，３２が設けられている。

ガラス基板１１の内面側（液晶側）には、カラーフィルタ１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂが配列形成されており、これらのカラーフィルタの間には遮光膜（ブラックマトリクス）１６が形成されている。カラーフィルタ１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂを覆って樹脂材料等からなる平坦化膜１３が形成され、平坦化膜１３上にＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透光性導電材料かからなる平面視略ストライプ状の電極パターン４０と、ポリイミド等からなる配向膜２１とが順に形成されている。

ガラス基板１２の内面側には、平面視略ストライプ状を成して前記電極パターン４０と交差する方向に延びる電極パターン５０が形成されており、電極パターン５０上に、樹脂材料等からなるオーバーコート膜２９と、ポリイミド等からなる配向膜２２とが順に形成されている。

上記構成の液晶パネル処理装置を用いて液晶パネル１０の減圧加熱処理を行うには、図１及び図２に示したように、チャンバー２０内に液晶パネル１０を配置した後、チャンバー２０を密閉して加熱装置２１及び減圧ポンプ２２を動作させ、内部空間２０ａを所定の圧力（０．０１〜１０ｋＰａ）と温度（例えば液晶の蒸発温度である１５０℃程度）に保持する。
その後、レーザー装置６０からレーザー光を出力し、窓部２０ｗを透過して液晶パネル１０の所定位置に照射する。

図５は、上記レーザー装置６０によるレーザー光の照射形態を説明するための図であって、（ａ）は液晶パネル１０の部分平面構成図、（ｂ）は（ａ）に対応する部分側面構成図である。図５において図３と共通の構成要素には同一の符号を付している。

本実施形態の液晶パネル処理方法では、図５に示すように、シール材７の内側に液晶を封止している封止材７ｂの周辺にレーザー光を照射することができる。この場合、シール材７の開口部におけるシール材７と封止材７ｂとの境界部に、液晶パネル１０の基板法線方向（図示Ｘ方向）にレーザー光Ｌ１を照射する（レーザースポットＬｓ１）。あるいは、ガラス基板１１端縁であって封止材７ｂの端部に対して、図示Ｘ方向にレーザー光Ｌ２を照射する（レーザースポットＬｓ２）。

図５ではレーザー光Ｌ１，Ｌ２の照射方向が互いに逆向きであるとして示しているが、かかる図示は図面を見易くするために過ぎず、レーザー光Ｌ１，Ｌ２の照射方向は同一方向であってもよく、液晶パネル１０に対する入射角度も、基板面と垂直である場合に限られない。このことは、図５に示す他のレーザー光Ｌ３〜Ｌ７についても同様である。

このようにしてレーザー光を照射することで、照射部位のシール材７及び封止材７ｂを加熱し、それらを脆弱化あるいは一部除去することができる。すると、この脆弱化ないし一部除去された部位に、液晶のリーク路が形成され、加熱減圧状態に保持されている内部空間２０ａに液晶が蒸発するようになる。これにより液晶パネル１０から液晶を効率よく分離することができる。

なお、シール材７又は封止材７ｂに対するレーザー光の照射形態としては、上記レーザー光Ｌ１，Ｌ２に限らず、液晶パネル１０の側端面部に部分的に突出して形成されている封止材７ｂに対して、封止材７ｂの周りから照射することもできる（レーザー光Ｌ３〜Ｌ５）。この場合、照射位置で封止材７ｂの脆弱化又は一部除去を行うことができ、液晶のリーク路を形成することができる。また、レーザー光Ｌ１，Ｌ２を照射する場合のようにガラス基板１１，１２を透過させるのではなく、パネルから突出している封止材７ｂに対して直接にレーザー光を照射するので、レーザー光の減衰や反射が無く、効果的に封止材７ｂの脆弱化又は除去を行うことができる。

また本実施形態の液晶パネル処理方法では、図５に示すように、液晶パネル１０に対してレーザー光Ｌ６を照射するとともに、図５（ａ）に符号Ｌｓ６を付して示すようにシール材７を横切るように走査することで、当該走査領域のシール材７を部分的に脆弱化又は除去してもよい。このようにレーザー光を走査する場合にも、シール材７に液晶のリーク路を形成でき、封止されている液晶を内部空間２０ａに蒸散させることが可能になる。
なお、図５ではレーザー光Ｌ６の走査領域をシール材７を横切る位置としているが、封止材７ｂ上でレーザー光を走査してもよいのは勿論である。

このようにシール材７及び封止材７ｂの脆弱化ないし一部除去を目的としてレーザー光Ｌ１〜Ｌ６を照射する場合、分解温度が１８０℃程度の樹脂部材を少なくとも脆弱化することができればよいので、レーザー装置６０としては、比較的低出力のレーザーを出力するものを用いることができ、例えば、Ａｒイオンレーザー、Ｋｒイオンレーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、ＹＡＧレーザー等を用いることができる。

上記液晶パネル１０へのレーザー加工によって液晶パネル１０に形成されたリーク路を介して内部空間２０ａに蒸散された液晶は、チャンバー２０の内壁が加熱装置２１により所定温度（例えば液晶の気化温度程度）に保持されているので、気体の状態で減圧ポンプ２４側へ排出される。そして、凝集器２２により液化された液晶が回収装置２３へ回収され、液晶を除去された排ガスは、ガス処理装置２５を介して無害化された後排出される。

本実施形態の液晶パネル処理装置において、上記液晶の分離回収を行う際の加熱装置２１による加熱温度は、１５０℃程度でよい。一般的に、液晶パネル１０に封止されている液晶の蒸発温度は１５０℃程度であり、この蒸発温度を大きく上回る加熱温度とすると、液晶が変質して有害物質を発生させる可能性があり、またリサイクルが困難になる場合もあるからである。

なお、上記液晶の分離回収を行った後、加熱装置２１の出力を上昇させて液晶パネル１０の温度をさらに上昇させ、シール材７や封止材７ｂ、ガラス基板１１，１２上に形成された各構成部材（光学素子３１，３２やカラーフィルタ等）を気化あるいは炭化させて、ガラス基板１１，１２から有機物の構成部材を除去することもできる。このようにして有機物を処理した後のガラス基板１１，１２は、チャンバー２０から取り出した後、基板上に残る有機物の灰や金属類（反射膜や配線等）を溶解除去することでリサイクル品として回収することができる。

本実施形態の液晶パネル処理装置では、図２に示したように、液晶パネル１０の所定位置に対してレーザー光を照射してシール材７及び／又は封止材７ｂを脆弱化あるいは一部除去することで、シール材７及び封止材７ｂにより封止されている液晶のリーク路を形成し、かかるリーク路を介して液晶を内部空間２０ａに蒸散させ、液晶パネル１０から液晶を分離、回収するようになっている。このような構成とすることで、液晶パネル１０からの液晶の分離を迅速に行えるものとなっている。
また本実施形態の液晶パネル処理装置によれば、液晶パネル１０を破砕せずにチャンバー内に配置し、密閉された内部空間２０ａ内で液晶を分離できるので、安全に液晶パネルの処理を行うことができる。

また本実施形態の液晶パネル処理装置では、液晶パネル１０の温度を上昇させなくともレーザー光の照射によって液晶のリーク路を形成することができるので、チャンバー２０内壁の加熱温度を、液晶の蒸発温度程度にまで下げることができる。したがって、過熱による液晶の変質で有害物質が発生したり、液晶のリサイクルが困難になるのを効果的に防止でき、安全かつ効率的に液晶の分離回収を行うことができる。また本実施形態の液晶パネル処理装置では、従来の液晶パネル処理装置に比してチャンバー２０の加熱温度を下げることができるので、内部空間の昇温を迅速に行うことができるとともに、チャンバーの加熱に要するエネルギーも低減でき、処理効率及び処理コストの点で有利なものとなっている。

本実施の形態の液晶パネル処理装置では、液晶パネル１０に対するレーザー光の照射角度を変更したり、液晶パネル１０上でレーザー光を走査することが可能であるが、本実施形態の液晶パネル処理装置には制御装置１７ａにより制御可能な支持体１７が備えられているから、支持体１７により液晶パネル１０の支持姿勢を調整し、レーザー光の照射位置を変更したり、あるいは支持体１７により液晶パネル１０を揺動させて液晶パネル１０上でレーザー光を走査することが可能である。

また、前記角度調整や走査を行うためのレーザー光移動手段は、レーザー装置６０自体に設けられていてもよく、レーザー装置６０と液晶パネル１０との間に配設した光学系に設けられていてもよい。すなわち、レーザー装置６０自体を移動させることで角度調整や走査を行ってもよく、レーザー光の経路を光学系によって変更することで調整や走査を行ってもよい。

（第２の実施形態）
上記第１の実施形態では、レーザー光の照射によりシール材７及び／又は封止材７ｂを脆弱化ないし一部除去することで、液晶のリーク路を形成する場合について説明したが、本発明に係る液晶パネル処理方法では、液晶パネル１０を構成するガラス基板１１，１２に対してレーザー加工を施すことで液晶のリーク路を形成することもできる。以下、この液晶パネル処理方法について、図５を参照して説明する。

ガラス基板１１，１２に液晶のリーク路を形成する場合、図５に示すように、液晶パネル１０の液晶が封止されている平面領域にレーザー光Ｌ７を照射する（レーザースポットＬｓ７）。あるいは、図５（ａ）に符号Ｌｓ６を付して示すように、レーザー光を液晶パネル１０上で走査してもよい。そして、これらのようなレーザー光照射を行うことで、ガラス基板１１，１２に貫通孔あるいは亀裂を生じさせることができ、かかる貫通孔や亀裂をリーク路として液晶を内部空間２０ａに蒸散させることができる。

ガラス基板１１，１２に対してレーザー加工を行う場合には、レーザー装置６０に、ガラス基板１１，１２が吸収可能な波長の高出力レーザー装置を用いる。具体的には、紫外光レーザーや赤外光レーザーを加工に用いることができ、具体例を挙げると、エキシマレーザー、Ｅｒ−ＹＡＧレーザー、ＣＯレーザー、ＣＯ_２レーザー、ＮＯ_２レーザー等である。
なお、上記に例示したレーザーには不可視光レーザーが含まれているから、不可視光レーザーを用いる場合には、その光路に重畳可能な可視光レーザーを併用することが好ましい。このような構成とすることで、正確かつ安全に不可視光レーザーの光軸調整等を行うことができる。この複数種のレーザー装置を併用する構成については、例えば、後述の第５実施形態（図８参照）に示した構成を適用できる。

なお、上記レーザー光照射によりガラス基板１１，１２に形成する貫通孔や亀裂は、液晶のリーク路の形成を目的して形成するものであるから、大きく形成する必要はなく、前記貫通孔や亀裂に起因してガラス基板１１，１２が割れてしまわない程度の大きさとすることが好ましい。チャンバー２０内でガラス基板１１，１２が割れると、その破片が飛散したりするため、ハンドリング性が低下して処理効率が低下したり、ガラス基板１１，１２からの液晶以外の構成部材の除去を行いにくくなる。

（第３の実施形態）
上記実施形態では、図２に示したように、単一のレーザー装置６０をチャンバー２０の外側に配設してチャンバー２０内の液晶パネル１０にレーザー光を照射する場合について説明したが、本発明に係る液晶パネル処理装置は、図６に示すように、複数のレーザー装置（レーザー光出力手段）を具備したものとすることができる。図６において図１から図５と共通の構成要素には同一の符号を付している。

図６に部分断面構成図を示す形態の液晶パネル処理装置は、チャンバー２０の壁部に、互いに離間して配置された２つの窓部２０ｂ、２０ｃが設けられており、各窓部２０ｂ、２０ｃに対応するレーザー装置６０，６１が、チャンバー２０の外側に設けられた構成を備えている。

そして、上記構成を具備した本実施形態の液晶パネル処理装置では、２つのレーザー装置６０，６１から出力されてそれぞれ窓部２０ｂ、２０ｃを透過したレーザー光が、内部空間２０ａに配置された液晶パネル１０上の所定位置（図６では封止材７ｂ）に照射されるようになっている。このように複数のレーザー装置６０，６１から出力されるレーザー光を、液晶パネル１０の略同一位置に照射する構成を採用することで、比較的低出力のレーザー装置を用いた場合にも、液晶パネル１０の加工を迅速に行うことができる。

なお、ＣＯ_２レーザーやエキシマレーザー等の不可視光レーザーを用いる場合には、その光路に重畳可能な可視光レーザーを併用することが好ましい。このような構成とすることで、不可視光レーザーを用いた場合の光軸や照射位置の調整を正確にかつ安全に行うことができる。この不可視光レーザーと可視光レーザーとを併用する場合の構成については、後述する第５の実施形態（図８参照）に一例を示している。

また、本実施形態では２つのレーザー装置６０，６１を用いた場合について説明したが、３つ以上のレーザー装置を用いて上記と同様のレーザー加工を行えるのは勿論である。また本実施形態では、２つのレーザー装置６０，６１を、それぞれから出力されるレーザー光が交差する位置に配置しているが、レーザー装置の配置は図示のものに限定されず、レーザー光を液晶パネル１０に正確に導くための光学系との組み合わせも含め、種々に変更可能である。

また図６には、２本のレーザー光を液晶パネル１０の封止材７ｂに集光させる場合が示されているが、レーザー光の集光位置は図示の位置に限定されるものではない。図５に示したように、液晶パネル１０におけるレーザー光の照射位置は種々に変更が可能である。
なお、２本のレーザー光に対して液晶パネル１０を位置合わせするに際しては、図２に示した支持体１７により液晶パネル１０の支持姿勢を調整し、位置合わせすることができる。

（第４の実施形態）
次に、本発明の第４の実施形態について図７を参照して説明する。本実施形態は、図１及び図２に示した液晶パネル処理装置におけるレーザー装置６０の配置形態の変形例である。図７において図１から図５と共通の構成要素には同一の符号を付している。

本発明に係るレーザー装置６０は、図７（ａ）に示すように、チャンバー２０の壁部に設けた窓部２０ｂの外側に配置し、窓部２０ｂを透過させたレーザー光Ｌを液晶パネル１０に照射する構成としてもよい。しかし、この場合には、窓部２０ｂとレーザー装置６０との組み合わせによっては、液晶パネル１０のガラス基板１１，１２を直接加工してリーク路を形成するパネル処理方法を適用できない場合もあり得る。窓部２０ｂは透過し、ガラス基板１１，１２には吸収されるようなレーザー装置６０を用いる必要があるからである。

そこで本発明では、図７（ｂ）に示すように、レーザー装置６０が、チャンバー２０の壁部に設けられた接続部材（アタッチメント）を介して壁部に直接接続されている構成を採用することもできる。この場合、レーザー装置６０のレーザー光出力部６０ａがチャンバー２０内部に配置されるので、液晶パネル１０に対して直接にレーザー光Ｌを照射することができ、レーザー装置６０の選択幅が広がるので装置構成が容易になるという利点が得られる。また、レーザー光Ｌの減衰も防止できることから、レーザー光強度が実質的に向上することになる。

なお、本実施形態で示した構成は、図６に示した２本のレーザー光を同時に液晶パネル１０に照射する構成にも好適に用いることができる。

（第５の実施形態）
次に、本発明に係る液晶パネル処理装置における、複数の液晶パネルを処理するのに好適な構成について説明する。図８は、複数の液晶パネル１０にレーザー光を案内する手段を具備した液晶パネル処理装置の一例を示す部分断面構成図である。

図８に示す液晶パネル処理装置は、略箱形のチャンバー（処理容器）１２０と、該チャンバー１２０の壁部に配設された２つのレーザー装置６２，６３と、レーザー光を分岐して所定位置に案内するための光学系であるレーザー光分岐手段７０とを備えて構成されている。図８にはチャンバー１２０とそれに併設されている構成部材のみを図示しているが、実際の装置構成は図１に示した先の実施形態の液晶パネル処理装置と同様である。

チャンバー１２０は、先の実施形態のチャンバー２０と概略同様の構成を具備しており、内部空間２０ａを密閉するとともに、加熱減圧状態に保持可能な処理容器である。また、チャンバー１２０の内部空間１２０ａには、複数（図示では３枚）の液晶パネル１０を収容できるようになっている。
チャンバー１２０の壁部に配設されたレーザー装置（レーザー光出力手段）のうち、チャンバー１２０の天井壁部に配設されたレーザー装置６３は、エキシマレーザーやＣＯ_２レーザー、ＮＯ_２レーザー等の不可視光レーザーであり、チャンバー１２０の側壁部に配設されたレーザー装置６２は、Ｈｅ−ＮｅレーザーやＡｒイオンレーザー等の可視レーザーである。これらのレーザー装置６２，６３は、図７（ａ）、（ｂ）に例示した配設形態にてチャンバー１２０の内部空間１２０ａ内にレーザー光を射出可能に配置されている。

レーザー光分岐手段７０は、複数のビームスプリッタ７１〜７３と、複数のミラー７４，７５とを組み合わせた光学系を構成している。レーザー光分岐手段７０は、主として加工用に用いられる不可視光レーザーであるレーザー装置６３のレーザー光６３Ｌを各液晶パネル１０に案内する。また、不可視のレーザー光６３Ｌに対して可視光のレーザー光６２Ｌを重畳し、光軸調整等を容易にする機能を奏する。

ビームスプリッタ７１は、レーザー装置６３から出力されたレーザー光６３Ｌを透過するとともに、レーザー装置６２から出力されたレーザー光６２Ｌを反射することで、レーザー光６３Ｌとレーザー光６２Ｌとを重畳する。この重畳レーザー光６４Ｌはビームスプリッタ７２に入射する。ビームスプリッタ７２は、前記重畳レーザー光６４Ｌの一部を透過し、一部を反射することで、重畳レーザー光６４Ｌを２つのレーザー光に分割する。

ビームスプリッタ７２で反射されたレーザー光は、ミラー７４で反射された後、図示左端の液晶パネル１０の１つに照射される。ビームスプリッタ７２を透過したレーザー光は、先のビープスプリッタ７２と同様の構成を備えたビームスプリッタ７３に入射して分割される。ビープスプリッタ７３で反射されたレーザー光は、ミラー７５で反射された後、図示右端の液晶パネル１０に照射される。ビームスプリッタ７３を透過したレーザー光は、図示中央の液晶パネル１０に照射される。

そして、各液晶パネル１０では、先の実施形態と同様、レーザー光によってシール材７や封止材７ｂ、あるいはガラス基板１１，１２が加工（脆弱化、一部除去、溶融等）される結果、これらに液晶のリーク路が形成され、加熱減圧状態に保持されたチャンバーの内部空間１２０ａに、液晶が蒸散するようになる。

このように、本実施形態の液晶パネル処理装置では、単一のレーザー光を複数の液晶パネル１０に対して複数のレーザー光に分岐して照射するレーザー光分岐手段７０を具備したことで、所定の強度のレーザー光を各液晶パネル１０に対して均一に照射できるものとなっている。したがって、複数の液晶パネルからの液晶の分離、回収を迅速に行うことができ、処理効率に優れた液晶パネル処理装置となっている。

また、レーザー光分岐手段７０では、不可視光レーザーと可視光レーザーとを重畳することができるので、不可視光レーザーの光路を可視化することができ、不可視光レーザーの光軸調整等を安全に行える構成となっている。
なお、上記実施形態では、不可視レーザーであるレーザー装置６３を主としてパネルの加工に用い、可視光レーザーであるレーザー装置６２を不可視光レーザーの可視化（案内）に用いることとしたが、液晶パネル１０における被加工部位（被照射部位）の材質によっては、可視光レーザーも加工に用いることができる。また液晶パネル１０に対して両方のレーザー装置から出力されたレーザー光を同時に照射することもできる。

なお、本実施形態の液晶パネル処理装置においても、図２に示した支持体１７及びその制御装置１７ａが設けられている構成とすることが好ましい。支持体１７によって液晶パネル１０の支持姿勢が調整可能であれば、光学系を固定した状態で液晶パネル１０におけるレーザー光照射位置を容易に調整することができ、処理効率の向上を図ることができる。また支持体１７によって液晶パネル１０を連続的に移動させれば、液晶パネル１０上でレーザー光を走査することができる。

（第６の実施形態）
次に、本発明の第６の実施形態について説明する。図９は、本実施形態に係る液晶パネル処理装置に備えられている、複数の液晶パネル１０にレーザー光を分岐して案内するレーザー光分岐手段８０を示す構成図である。

レーザー光分岐手段８０は、単一のレーザー光を複数の液晶パネル１０のそれぞれに対して分岐して照射するために、レーザー装置６０の近傍から各液晶パネル１０の近傍に分岐して延びる複数本（図示では３本）の光ファイバー８１〜８３を備えたものである。
このような構成とすることで、レーザー装置６０から出力されたレーザー光を、安全かつ確実に複数の液晶パネル１０まで案内することができ、複数の液晶パネル１０の処理を円滑に行うことができるようになる。

光ファイバー８１〜８３の導波路の材質は、使用するレーザー装置６０の種類に応じて適宜選択することができる。例えばレーザー装置６０が可視光レーザーを出力するものである場合には、一般的な石英系の光ファイバーを用いることができる。一方、レーザー装置６０が赤外レーザーを出力するものである場合、石英系の光ファイバーは、波長２μｍ以上の赤外光に対しては分子振動による赤外吸収が極めて大きくなり高損失になるので、赤外光吸収の少ない材料を用いた赤外ファイバや、中空導波路の光ファイバーを用いることが好ましい。

赤外ファイバの導波路材には、重金属酸化物ガラス（ＧｅＯ_２、ＧｅＯ_２−Ｓｂ_３Ｏ_３等）、カルコゲナイドガラス（Ａｓ−Ｓ、Ａｓ−Ｓｅ等）、ハライドガラス（ＺｎＣｌ_２、ＣｄＦ_３−ＢａＦ_２−ＺｒＦ_４等）、結晶性ハロゲン化物（ＡｇＣｌ、ＡｇＢｒ、ＫＣｌ、ＴｌＢｒ／ＴｌＩ等）などを用いることができる。

中空導波路の光ファイバーとしては、例えば、管状の基材の内面に高反射コーティング処理を施した中空導波路を用いることができ、ゲルマニウムや硫化亜鉛等の誘電体をニッケル等の金属管の内面に成膜したものや、石英管の内面に銀からなる反射層を形成し、反射層の表面に光透過性の樹脂膜を形成したものが挙げられる。

なお、本構成においても、レーザー装置６０として不可視光レーザーを用いる場合には、先の第５実施形態と同様、その光路に重畳可能な可視光レーザーを併用する構成とすることが好ましい。このような構成とすれば、レーザー装置６０から光ファイバーへのレーザー光の導入を正確にかつ安全に行うことができ、また光ファイバーから出力されたレーザー光の照射位置を正確にかつ安全に調整することができる。

また、本実施形態の液晶パネル処理装置においても、図２に示した支持体１７及びその制御装置１７ａが設けられている構成とすることが好ましい。支持体１７によって液晶パネル１０の支持姿勢が調整可能であれば、光ファイバーを固定した状態で液晶パネル１０におけるレーザー光照射位置を容易に調整することができ、処理効率の向上を図ることができる。また支持体１７によって液晶パネル１０を連続的に移動させれば、液晶パネル１０上でレーザー光を走査することができる。

（第７の実施形態）
次に、図１０及び図１１を参照して本発明の第７の実施形態について説明する。図１０及び図１１は、本実施形態に係る液晶パネル処理装置のチャンバー内部構造を示す構成図である。これらの図にはチャンバー等は図示を省略しているが、本実施形態の液晶パネル処理装置の全体構成は、図１及び図２に示した第１実施形態と概略同様である。

図１０に示すように、本実施形態の液晶パネル処理装置は、チャンバー内部に配列された複数（図示では４枚）の液晶パネル１０に対して、順次レーザー光を照射するためのポリゴンミラー（レーザー光走査手段）９１を備えている。

ポリゴンミラー９１は、外周面が反射面とされた六角柱状の部材であり、図示Ｚ方向の軸回りに回転するものとなっている。そして、回転状態に維持されたポリゴンミラー９１に対してレーザー装置６０からレーザー光が入射させることで、ポリゴンミラー９１の一側面部にて反射された光を液晶パネル１０に照射するようになっている。ポリゴンミラー９１による反射光の進行方向は、ポリゴンミラー９１に入射するレーザー光の進行方向と、当該レーザー光に対するポリゴンミラーの側面部との角度に応じて決定される。したがって、ポリゴンミラー９１に連続的にレーザー光を入射させると、反射光の進行方向が連続的に変化し、被照射物上の一定の範囲でレーザー光を走査することができる。また、本実施形態のポリゴンミラー９１は六角柱状であるため、ポリゴンミラー９１が一回転する毎に、被照射物はレーザー光により６回走査されることになる。

このようにレーザー光走査手段としてポリゴンミラー９１を用いた場合にも、複数の液晶パネル１０に対して均一にレーザー光を照射することができ、複数の液晶パネル１０への液晶のリーク路の形成を効率よく行うことができる。また、液晶パネル１０上でレーザー光を走査することも容易であるため、シール材又は封止材を横切るようにレーザー光を走査し、シール材や封止材を切断する方法を用いる場合に好適な液晶パネル処理装置となっている。

また、図１０に示す形態では、液晶パネル１０を平面的に（パネルの側端面同士が対向するように）配列しているが、液晶パネル１０の配列形態としては、図１１に示すように、複数の液晶パネル１０をそれらの厚さ方向に配列した形態も適用できる。液晶パネル１０同士は離間されていてもよいし、密着して積層されていてもよい。液晶パネル１０を厚さ方向に配列することで、チャンバー内に多くの液晶パネルを収容できるようになり、処理効率を大幅に向上させることができる。

なお、本構成においても、レーザー装置６０として不可視光レーザーを用いる場合には、先の第５実施形態と同様、その光路に重畳可能な可視光レーザーを併用する構成とすることが好ましい。このような構成とすれば、ポリゴンミラーにより反射されるレーザー光の走査範囲やその照射位置を正確にかつ安全に調整することができる。

また、本実施形態の液晶パネル処理装置においても、図２に示した支持体１７及びその制御装置１７ａが設けられている構成とすることが好ましい。支持体１７によって液晶パネル１０の支持姿勢が調整可能であれば、光学系を固定した状態で液晶パネル１０におけるレーザー光照射位置を容易に調整することができ、処理効率の向上を図ることができる。さらに本実施形態の場合、支持体１７により複数の液晶パネル１０を支持する構成とすることが好ましい。このような構成とすれば、液晶パネル１０毎に位置調整を行う必要が無くなり、処理効率の向上に大いに寄与する。

実施形態に係る液晶パネル処理装置の概略構成図。 同、チャンバーの内部構成を示す断面構成図。 液晶パネルの平面構成図。 液晶パネルの部分断面構成図。 レーザー光の照射形態について説明するための液晶パネルの概略図。 第３実施形態に係る液晶パネル処理装置の部分断面構成図。 第４実施形態に係るレーザー装置の配置形態を示す説明図。 第５実施形態に係る液晶パネル処理装置の部分断面構成図。 第６実施形態に係るレーザー光分岐手段を示す構成図。 第７実施形態に係るレーザー光の照射形態を示す構成図。 第７実施形態に係るレーザー光の照射形態を示す構成図。

符号の説明

１０ 液晶パネル、２０，１２０ チャンバー（処理容器）、２０ａ，１２０ａ 内部空間、２１ 加熱装置（加熱手段）、２２ 凝集器、２３ 回収装置、２４ 減圧ポンプ（排気手段）、２５ ガス処理装置、６０〜６３ レーザー装置（レーザー光出力手段）、２０ｂ，２０ｃ，２０ｗ 窓部、７０，８０ レーザー光分岐手段、９１ レーザー光走査手段。

Claims (15)

1. 処理容器内に収容した液晶パネルを減圧加熱処理することで前記液晶パネルから液晶を分離するに際して、
   前記液晶パネルにレーザー光を照射することで、該液晶パネルに、その内部に封止されている液晶を前記処理容器の内部空間に蒸散させるためのリーク路を形成することを特徴とする液晶パネル処理方法。
2. 前記レーザー光を、前記液晶パネルのシール材及び／又は封止材に、直接又は該液晶パネルの基板を透過して照射することを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル処理方法。
3. 前記レーザー光を、前記シール材と封止材との境界領域に照射することを特徴とする請求項２に記載の液晶パネル処理方法。
4. 前記レーザー光を前記液晶パネルの封止材に照射するに際して、
   前記封止材のうち、該液晶パネルの基板から外側に突出している部位に照射することを特徴とする請求項２に記載の液晶パネル処理方法。
5. 前記液晶パネルを構成する基板に前記レーザー光を照射することで、前記基板に亀裂又は貫通孔を形成することを特徴とする請求項１に記載の液晶パネル処理方法。
6. 前記液晶パネルに対して、複数本のレーザー光を照射することを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の液晶パネル処理方法。
7. 前記液晶パネルにレーザー光を照射するに際して、
   複数の前記液晶パネルを配列して支持し、該複数の液晶パネルに対し前記レーザー光を走査して照射することを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の液晶パネル処理方法。
8. 前記液晶パネルにレーザー光を照射するに際して、
   複数の前記液晶パネルを配列して支持し、該複数の液晶パネルに対応して複数本に分岐した前記レーザー光を前記各液晶パネルに照射することを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の液晶パネル処理方法。
9. 減圧加熱処理によって液晶パネルから液晶を分離する液晶パネル処理装置であって、
   内部に液晶パネルを収容する処理容器と、
   前記処理容器内部を加熱する加熱手段と、
   前記処理容器内部を減圧する排気手段と、
   前記処理容器内に収容された前記液晶パネルに対してレーザー光を照射するレーザー光出力手段と、
   を備えたことを特徴とする液晶パネル処理装置。
10. 前記レーザー光出力手段が前記処理容器の外側に設けられており、
    前記処理容器の壁部に、前記レーザー光出力手段から出力されるレーザー光を該処理容器内部に導入するための窓部が設けられていることを特徴とする請求項９に記載の液晶パネル処理装置。
11. 前記レーザー光出力手段が、前記処理容器の壁部に設けられた接続部材を介して該処理容器に接続され、該レーザー光出力手段のレーザー光出力部が、前記処理容器内に配置されていることを特徴とする請求項９に記載の液晶パネル処理装置。
12. 前記処理容器内に、前記レーザー光出力手段から出力されたレーザー光を走査して複数の前記液晶パネルに照射するレーザー光走査手段が設けられていることを特徴とする請求項９から１１のいずれか１項に記載の液晶パネル処理装置。
13. 前記処理容器内に、前記レーザー光出力手段から出力されたレーザー光を複数本のレーザー光に分岐して複数の前記液晶パネルに照射するレーザー光分岐手段が設けられていることを特徴とする請求項９から１２のいずれか１項に記載の液晶パネル処理装置。
14. 不可視光レーザーを出力する第１のレーザー光出力手段と、可視光レーザーを出力する第２のレーザー光出力手段とを備えていることを特徴とする請求項９から１３のいずれか１項に記載の液晶パネル処理装置。
15. 前記処理容器内に、前記液晶パネルを移動自在に支持するパネル支持手段が設けられており、該パネル支持手段の移動動作によって前記液晶パネルに対する前記レーザー光の照射位置及び／又は照射角度が調整可能であることを特徴とする請求項９から１４のいずれか１項に記載の液晶パネル処理装置。