JP2006190817A - Substrate transfer device and substrate transfer method - Google Patents
Substrate transfer device and substrate transfer method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006190817A JP2006190817A JP2005001485A JP2005001485A JP2006190817A JP 2006190817 A JP2006190817 A JP 2006190817A JP 2005001485 A JP2005001485 A JP 2005001485A JP 2005001485 A JP2005001485 A JP 2005001485A JP 2006190817 A JP2006190817 A JP 2006190817A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor substrate
- carrier
- transfer hand
- hand body
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 141
- 238000012546 transfer Methods 0.000 title claims abstract description 72
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 118
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 24
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims abstract description 20
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims abstract description 20
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 10
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 7
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 2
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- 229910001018 Cast iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
本発明は、キャリア内に多段状に収容されたシリコンウエハ等の半導体基板を1枚ずつ取り出して、次工程の加工ステージに移送するための基板移送装置及び基板移送方法に関するものである。 The present invention relates to a substrate transfer apparatus and a substrate transfer method for taking out semiconductor substrates such as silicon wafers stored in multiple stages in a carrier one by one and transferring them to a next processing stage.
一般に、シリコンウエハ等の半導体基板から半導体チップを製造するに際しては、半導体基板の複数枚を、キャリア内に多段状に収容した状態で任意の箇所に移送したのち、このキャリア内から半導体基板を1枚ずつ取り出して、次工程の加工ステージに供給することが行われている。
In general, when a semiconductor chip is manufactured from a semiconductor substrate such as a silicon wafer, a plurality of semiconductor substrates are transferred to an arbitrary position in a state of being accommodated in multiple stages in a carrier, and then the
この種の作業で使用される従来の基板移送装置においては、各半導体基板の略中央部の下方に、扁平状に形成された真空吸着方式の移送ハンド体を挿入したのち、半導体基板の下面略中央部を移送ハンド体で吸着してから、当該移送ハンド体をキャリア内から引き出すことにより、キャリア内から半導体基板を1枚ずつ取り出すように構成されている(例えば特許文献1等参照)。
ところで、キャリア内における各段の半導体基板の保持は、キャリアの左右両内側壁に上下多段状に形成された嵌合溝に対して1枚の半導体基板の左右外周縁を嵌め込み収容することにより、両端自由支持の状態となっているから、キャリア内の半導体基板は自重で下向きに撓み易い。半導体基板の撓みの有無及び大小は、当該半導体基板の厚みに応じて異なる(薄いほど下向きに撓む)。 By the way, the holding of the semiconductor substrate at each stage in the carrier is performed by fitting the left and right outer peripheral edges of one semiconductor substrate into the fitting grooves formed in upper and lower multi-stage shapes on the left and right inner side walls of the carrier. Since both ends are freely supported, the semiconductor substrate in the carrier is easily bent downward by its own weight. Whether the semiconductor substrate is bent or not is different depending on the thickness of the semiconductor substrate (the thinner the substrate, the more downward it is bent).
しかし、前記従来の基板移送装置では、キャリア内から半導体基板を取り出す際に、撓み量の大きい下面略中央部を吸着ハンド体で吸着保持していたから、取り出そうとする半導体基板と移送ハンド体との接触を回避して移送ハンド体の挿入スペースを確保するために、半導体基板の撓み状態に合わせて移送ハンド体の挿入位置を逐一調節するか、又はキャリアにおける半導体基板間の収容ピッチ間隔(嵌合溝の上下ピッチ間隔)を広く設定しなければならなかった。前者の方策では、半導体基板の取り出し作業のたびに移送ハンド体の挿入位置の位置合せをするのが面倒であり、生産性低下の一因になるという問題があった。また、後者の方策では、キャリアにおける半導体基板間の収容ピッチ間隔が大きくなる結果、1つのキャリアに収容可能な半導体基板の枚数が少なくなるという問題があった。 However, in the conventional substrate transfer apparatus, when the semiconductor substrate is taken out from the carrier, the substantially central portion of the lower surface having a large amount of deflection is sucked and held by the suction hand body, so that the contact between the semiconductor substrate to be taken out and the transfer hand body is made. In order to avoid the problem and secure the insertion space of the transfer hand body, the insertion position of the transfer hand body is adjusted one by one according to the bending state of the semiconductor substrate, or the accommodation pitch interval (fitting groove between the semiconductor substrates in the carrier) The vertical pitch interval) had to be set wide. In the former measure, it is troublesome to align the insertion position of the transfer hand body every time the semiconductor substrate is taken out, and this causes a problem of reducing productivity. Further, the latter measure has a problem that the number of semiconductor substrates that can be accommodated in one carrier is reduced as a result of an increase in the accommodation pitch interval between the semiconductor substrates in the carrier.
そこで、本発明は、以上のような問題を解消した基板移送装置と基板移送方法とを提供することを技術的課題とするものである。 In view of the above, it is a technical object of the present invention to provide a substrate transfer apparatus and a substrate transfer method that solve the above problems.
この技術的課題を解決するため、請求項1の発明は、キャリア内に多段状に収容された各半導体基板の下方に挿入して、当該半導体基板を前記キャリア内から1枚ずつ取り出すための扁平状の移送ハンド体を備えた基板移送装置であって、前記移送ハンド体の先端には、前記半導体基板を載せるための一対のフォーク部が、前記キャリア内に挿入したときに両方とも前記半導体基板のうち挿入方向と交差する両外周縁に近い部位に沿って延びるように、相互間の間隔を空けて設けられ、前記両フォーク部は、前記キャリア内に挿入したときに前記半導体基板の外周縁と前記両フォーク部の付け根部分の内径側との間に隙間が空くような長さに設定されているというものである。
In order to solve this technical problem, the invention of
請求項2の発明は、請求項1に記載した基板移送装置において、前記両フォーク部の上面には、前記半導体基板を吸着保持するための上向き開口状の吸引穴がそれぞれ形成されているというものである。 According to a second aspect of the present invention, in the substrate transfer apparatus according to the first aspect, an upward opening-shaped suction hole for adsorbing and holding the semiconductor substrate is formed on the upper surfaces of the fork portions. It is.
請求項3の発明は、キャリア内に多段状に収容された半導体基板を扁平状の移送ハンド体で1枚ずつ取り出して、次工程の加工ステージに移送する基板移送方法であって、前記キャリア内における前記半導体基板の下方に、前記移送ハンド体の先端に設けられた一対のフォーク部を、前記半導体基板の外周縁と前記両フォーク部の付け根部分の内径側との間に隙間が空くようにして挿入したのち、前記移送ハンド体を上昇させるか又は前記キャリアを下降させて、前記半導体基板のうち挿入方向と交差する両外周縁に近い部位を前記両フォーク部で支持するというものである。
The invention of
本発明によると、キャリア内の半導体基板を1枚ずつ取り出すに際しては、移送ハンド体の両フォーク部は、両端自由支持の状態で収容された前記半導体基板のうち挿入方向と交差する両外周縁に近い部位の下方に差し込まれる。また、前記半導体基板の外周縁と前記両フォーク部の付け根部分の内径側との間には、隙間が空くことになる。 According to the present invention, when the semiconductor substrates in the carrier are taken out one by one, both fork portions of the transfer hand body are disposed on both outer peripheral edges intersecting the insertion direction among the semiconductor substrates accommodated in a state where both ends are freely supported. It is inserted below the nearest part. In addition, a gap is formed between the outer peripheral edge of the semiconductor substrate and the inner diameter side of the base portion of the fork portions.
この場合、前記両フォーク部間の間隔は広く空いているから、前記半導体基板が自重で下向きに撓んでいたとしても、前記両フォーク部は、前記半導体基板の大きく撓んだ中央部に接触することなく、上下に並ぶ前記半導体基板間の挿入スペースにスムーズに入り込むことができる。これにより、取り出し時の前記半導体基板の損傷を防止することができる。 In this case, since the space between the fork portions is wide, even if the semiconductor substrate is bent downward due to its own weight, the fork portions are in contact with the greatly bent center portion of the semiconductor substrate. Without any problem, it is possible to smoothly enter the insertion space between the semiconductor substrates arranged vertically. Thereby, damage to the semiconductor substrate at the time of taking out can be prevented.
また、前記半導体基板のうち挿入方向と交差する両外周縁に近い部位は、中央部に比べると下向きの撓み量が小さいので、前記両フォーク部の挿入位置は、取り出し対象の前記半導体基板に対して前記半導体基板の厚みの大小に関係なく一定に設定することができる。従って、前記半導体基板の取り出し作業のたびに、前記両フォーク部の挿入位置の位置合せをする手間をなくすことができるだけでなく、設定ミス等による誤動作等も未然に防ぐことができるから、生産効率を格段に向上させることができるという効果を奏する。 Further, the portion of the semiconductor substrate close to both outer peripheral edges intersecting with the insertion direction has a small downward bending amount as compared with the central portion, and therefore the insertion position of both fork portions is relative to the semiconductor substrate to be taken out. Thus, it can be set constant regardless of the thickness of the semiconductor substrate. Therefore, it is possible not only to eliminate the trouble of aligning the insertion positions of the both fork portions every time the semiconductor substrate is taken out, but also to prevent malfunctions due to setting errors, etc. There is an effect that can be remarkably improved.
さらに、前記半導体基板の外周縁と前記両フォーク部の付け根部分の内径側との間には隙間が空いているから、前記半導体基板が自重で下向きに撓んでいたとしても、取り出し時に前記両フォーク部の付け根部分が前記半導体基板に衝突することはない。従って、本発明によると、取り出し時の前記半導体基板の損傷を確実に回避して、前記半導体基板の歩留まりを向上させることができるという効果をも奏する。 Further, since there is a gap between the outer peripheral edge of the semiconductor substrate and the inner diameter side of the base portion of the both fork portions, even if the semiconductor substrate is bent downward by its own weight, The base portion of the portion does not collide with the semiconductor substrate. Therefore, according to the present invention, it is possible to reliably avoid damage to the semiconductor substrate at the time of taking out and improve the yield of the semiconductor substrate.
以下に、本発明を具体化した実施形態を図面(図1〜図6)に基づいて説明する。図1は基板移送装置の概略正面図、図2は基板移送装置の概略平面図、図3はキャリアから半導体基板を取り出した状態を示す平面図、図4のうち(a)は移送ハンド体の拡大平面図、(b)は(a)のIVb−IVb視側断面図、図5はキャリア内に移送ハンド体を挿入した状態を示す平断面図、図6(a)(b)は移送ハンド体での取り出し態様を示す説明図である。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Embodiments embodying the present invention will be described below with reference to the drawings (FIGS. 1 to 6). 1 is a schematic front view of a substrate transfer device, FIG. 2 is a schematic plan view of the substrate transfer device, FIG. 3 is a plan view showing a state in which a semiconductor substrate is taken out from a carrier, and FIG. (B) is a sectional view taken along the line IVb-IVb of (a), FIG. 5 is a plan sectional view showing a state in which the transfer hand body is inserted into the carrier, and FIGS. 6 (a) and 6 (b) are transfer hands. It is explanatory drawing which shows the taking-out aspect with a body.
まず最初に、図1〜図3等を参照しながら、実施形態のキャリア及び基板移送装置の全体概要について説明する。 First, an overall outline of the carrier and the substrate transfer apparatus according to the embodiment will be described with reference to FIGS.
図1に示すように、キャリア1は、半導体基板10の出し入れ口2を横向きに開口させた略角筒状のものである。キャリア1の左右両内側面には、半導体基板10の左右外周縁が嵌る嵌合溝3(図2、図3及び図5参照)がピッチ間隔Pで上下並列状に複数本形成されている。従って、キャリア1内には、半導体基板10を水平な姿勢で1枚だけ収容する収容部がピッチ間隔Pで上下多段状に設けられている。換言すると、キャリア1内の半導体基板10,10間には収容ピッチ間隔Pのスペースが空いている。このキャリア1はキャリアステージ4の上面に載置されている。
As shown in FIG. 1, the
なお、実施形態のキャリア1は、6インチサイズの半導体基板10用のものである。この場合、収容ピッチ間隔PはSEMI(Semiconductor Equipment and Material International)規格に準拠して略4.76mm程度に設定されている。また、キャリア1の左右両内側面間の開口巾寸法WM(図3及び図6参照)は略132mmほどになっている。
The
キャリアステージ4に相対向して配置された基板移送装置11は、キャリア1内の半導体基板10を1枚ずつ取り出して、次工程の加工ステージ5(図2参照)に移送するためのものである。基板移送装置11は、キャリア1内の各半導体基板10の下方に挿入して、当該半導体基板10をキャリア1内から1枚ずつ取り出すための扁平状の移送ハンド体14と、この移送ハンド体14を先端部に有する屈伸式のアーム体13と、当該アーム体13を支持する鋳鉄製等の機枠12とを備えている。
The
アーム体13は、機枠12に対して鉛直な軸線15回りに水平回動可能で且つ昇降動可能に支持されたヘッド部材16と、ヘッド部材16の先端側に鉛直な軸線17回りに水平回動可能な状態で枢着された第1スイング部材18と、第1スイング部材18の先端側に鉛直な軸線19回りに水平回動可能な状態で枢着された第2スイング部材20とにより構成されている。移送ハンド体14は、第2スイング部材20の先端側に、鉛直な軸線21回りに水平回動可能な状態で枢着されている。
The
実施形態では、アーム体13全体が伸縮するように、移送ハンド体14、両スイング部材18,20及びヘッド部材16を駆動モータ(図示せず)で各々水平回動させることにより、移送ハンド体14が、キャリア1内に挿入された状態(図1及び図2の実線状態参照)から一旦ヘッド部材16の上方にまで、平面視でキャリア1の中心とヘッド部材16の中心とを結ぶ直線SLに沿って移動したのち(図3参照)、次工程の加工ステージ5にまで移動(図2の二点鎖線状態参照)するように構成されている。
In the embodiment, the
次に、図4及び図5等を参照しながら、移送ハンド体の詳細構成について説明する。 Next, a detailed configuration of the transfer hand body will be described with reference to FIGS. 4 and 5 and the like.
移送ハンド体14は、キャリア1内における半導体基板10,10間の挿入スペースSPにスムーズに挿入し得るような側面視扁平状で、且つその先端側が二股状に分かれたような平面視略Y字状(フォーク型)に形成されている。なお、実施形態の移送ハンド体14の厚みは最大でも略2mm程度である。
The
移送ハンド体14の先端側に設けられた一対のフォーク部22,22は、キャリア1内から取り出そうとする半導体基板10が載る部分である。各フォーク部22には、その上面の先端側に、半導体基板10の下面のうち左右外周縁寄りの部位に密着する当接パッド部23が上向き凸状に一体形成されている。各当接パッド部23の上面略中央部には、半導体基板10を吸着保持するための吸引穴24が上向き開口状に形成されている。なお、半導体基板10に塵等の微粒子(パーティクル)が付着したり傷がついたりするのをできるだけ防ぐために、一対の当接パッド部23,23の平面視面積は必要最小限に設定されている。
A pair of
各吸引穴24は、移送ハンド体14の内部に形成された空気流通路25を介して、移送ハンド体14の基端部に形成された流通穴26に連通している。流通穴26には、フレキシブルホース等の連通管27を介して、外気を強制吸引するポンプ等の吸引源(図示せず)が連通接続されている。実施形態では、この吸引源を駆動させて両フォーク部22,22の吸引穴24,24から外気を吸引することにより、両吸引穴24,24に半導体基板10を吸着させるように構成されている。
Each
一方、両フォーク部22,22は、キャリア1内に挿入したときに両方とも半導体基板10の左右両外周縁(挿入方向と交差する両外周縁)に近い部位に沿って延びるように相互間の間隔Wを空けた状態で、移送ハンド体14の先端に設けられている。
On the other hand, both
実施形態では、両フォーク部22,22間の間隔W(一方のフォーク部22の内側縁から他方のフォーク部22の内側縁までの内法寸法)は略108mm程度になっている。各フォーク部22の横巾寸法WFは略10mmほどに設定されている。両フォーク部22,22間の間隔Wは、半導体基板10に対する両フォーク部22,22の支持位置を半導体基板10の中心からできるだけ離すために、半導体基板10の直径の50%以上であればよい。なお、両フォーク部22,22の並び巾寸法(一方のフォーク部22の外側縁から他方のフォーク部22の外側縁までの外法寸法)がキャリア1の開口巾寸法WMよりも小さいことはいうまでもない。
In the embodiment, the distance W between the
また、両フォーク部22,22は、キャリア1内に挿入したときに半導体基板10の外周縁と両フォーク部22,22の付け根部分28の内径側との間に隙間A(図2及び図5参照)が空くような長い長さLF(先端から付け根部分28の内径側までの距離)に設定されている。実施形態では、平面視で両フォーク部22,22の吸引穴24,24を結ぶ直線上に半導体基板10の重心O(中心)が位置した状態で、半導体基板10の外周縁と両フォーク部22,22の付け根部分28の内径側との間に隙間Aが空くように構成されている。
Further, when the
このように設定すると、平面視で重心Oを挟んで点対称な位置において半導体基板10が両フォーク部22,22の吸引穴24,24に吸着されるから、半導体基板10を両フォーク部22,22でバランスよく安定的に保持することができる。なお、吸引穴24が全部で3つ以上ある場合は、取り出そうとする半導体基板10の重心Oが平面視で吸引穴24を結ぶ直線のなす多角形の内径側に位置するようにすればよい。実施形態の各フォーク部22の長さLFは略115mm程度になっている。
With this setting, the
以上の構成において、図6(a)(b)等を参照しながら、キャリア内から半導体基板を1枚ずつ取り出す態様について説明する。 In the above configuration, a mode in which semiconductor substrates are taken out one by one from the carrier will be described with reference to FIGS. 6 (a) and 6 (b).
まず、アーム体13全体が伸びるように移送ハンド体14及び両スイング部材18,20を各々水平回動させることにより、取り出し対象の半導体基板10の下方に、移送ハンド体14の両フォーク部22,22を挿入する(図6(a)(b)の実線状態参照)。このとき、両フォーク部22,22は、両端自由支持の状態で収容された半導体基板10の左右両外周縁に近い部位の下方に配置される。また、平面視で両吸引穴24,24を結ぶ直線上に半導体基板10の重心Oが位置するようにして、半導体基板10の外周縁と両フォーク部22,22の付け根部分28の内径側との間に隙間Aを空ける(図5参照)。
First, by horizontally rotating the
そうすると、両フォーク部22,22間の間隔Wは広く空いているから、半導体基板10が自重で下向きに撓んでいたとしても、両フォーク部22,22は、半導体基板10の大きく撓んだ部分(中央部)に接触することなく、半導体基板10,10間の挿入スペースSPにスムーズに入り込むことができる。これにより、取り出し時の半導体基板10の損傷を防止することができる。
Then, since the interval W between the
また、半導体基板10の左右両外周縁に近い部位は、中央部に比べて下向きの撓み量が小さいので、取り出し対象の半導体基板10に対する両フォーク部22,22の挿入位置を、半導体基板10の厚みの大小に関係なく一定に設定することができる。従って、半導体基板10の取り出し作業のたびに、両フォーク部22,22の挿入位置の位置合せをする手間をなくすことができるだけでなく、設定ミス等による誤動作等も未然に防ぐことができるから、生産効率が格段に向上するのである。
Further, the portion near the left and right outer peripheral edges of the
さらに、半導体基板10の外周縁と両フォーク部22,22の付け根部分28の内径側との間には隙間Aが空いているから、半導体基板10が自重で下向きに撓んでいたとしても、取り出し時に両フォーク部22,22の付け根部分28が半導体基板10に衝突することはない。この点でも、取り出し時の半導体基板10の損傷が防止される。従って、本発明によると、取り出し時の半導体基板10の損傷を確実に回避して、半導体基板10の歩留まりを向上させることができるのである。
Further, since there is a gap A between the outer peripheral edge of the
しかも、従来のように、両フォーク部22,22の挿入スペースSP確保のために、キャリア1における半導体基板10,10間の収容ピッチ間隔Pを大きくする必要がないから、上下に並ぶ半導体基板10,10同士が撓み等により接触しない程度にキャリア1の収容ピッチ間隔Pを狭くして、1つのキャリア1に収容可能な半導体基板10の枚数を多くすることもできる。
In addition, unlike the prior art, it is not necessary to increase the accommodation pitch interval P between the
取り出し対象の半導体基板10の下方に両フォーク部22,22を挿入した後は、ヘッド部材16を上昇動させることにより、取り出し対象の半導体基板10を両フォーク部22,22の上面に載せるようにして持ち上げる。このとき、ポンプ等の吸引源(図示しない)を駆動させて両フォーク部22,22の吸引穴24,24から外気を吸引することにより、両吸引穴24,24に半導体基板10が吸着保持される。
After both
次いで、アーム体13全体が縮むように移送ハンド体14及び両スイング部材18,20を各々水平回動させることにより、半導体基板10を吸着保持した移送ハンド体14をキャリア1内から引き出し、キャリア1の中心とヘッド部材16の中心とを結ぶ直線SLに沿ってヘッド部材16の上部まで、当該移送ハンド体14を直線的に移動させる(図3参照)。
Next, the
その後、図2の時計回りに略90°ほどヘッド部材16を水平回動させてから、アーム体13全体が伸びるように移送ハンド体14及び両スイング部材18,20を各々水平回動させることにより、半導体基板10を吸着保持した移送ハンド体14を加工ステージ5の位置まで移動させる。そして、ヘッド部材16を下降動させるか又は加工ステージ5を上昇動させることにより、半導体基板2を加工ステージ5上に載置したのち、吸引源(図示しない)による吸引穴24,24からの外気の吸引を停止するのである(図2の二点鎖線状態参照)。
Thereafter, the
本発明は、前述の実施形態に限らず、様々な態様に具体化することができる。例えば移送ハンド体の形状は、前述のような平面視略Y字状に限らず、平面視略U字状や平面視略コ字状等のように、先端側が二股状に分かれている形状であればよい。両フォーク部間の間隔及び長さ、フォーク部の横巾寸法等も、キャリアに収容される半導体基板のサイズに応じて自由に設定することができる。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be embodied in various forms. For example, the shape of the transfer hand body is not limited to a substantially Y shape in plan view as described above, but is a shape in which the tip side is divided into two forks, such as a substantially U shape in plan view and a substantially U shape in plan view. I just need it. The distance and length between the fork parts, the width of the fork part, and the like can be freely set according to the size of the semiconductor substrate accommodated in the carrier.
また、キャリアステージ4に、キャリア1が載る上面板を前述の収容ピッチ間隔Pずつ昇降動させる昇降機構を内蔵することにより、キャリアステージ4上のキャリア1を、昇降機構の駆動で収容ピッチ間隔Pずつ昇降動させるように構成してもよい。この場合は、取り出し対象の半導体基板10の下方に両フォーク部22,22を挿入した後、ヘッド部材16に代えてキャリアステージ4を下降動させることにより、取り出し対象の半導体基板10を両フォーク部22,22の上面に載せるようにして持ち上げることができる。
Further, by incorporating an elevating mechanism for moving the upper surface plate on which the
その他、各部の構成は図示の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変更が可能である。 In addition, the configuration of each unit is not limited to the illustrated embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
LF フォーク部の長さ
P 収容ピッチ間隔
SP 挿入スペース
WF 両フォーク部間の間隔
1 キャリア
2 出し入れ口
3 嵌合溝
10 半導体基板
11 基板移送装置
12 機枠
13 アーム体
14 移送ハンド体
16 ヘッド部材
18 第1スイング部材
20 第2スイング部材
22 フォーク部
24 吸引穴
28 付け根部分
LF Length of fork part P Storing pitch interval SP Insertion space WF Distance between both
Claims (3)
前記移送ハンド体の先端には、前記半導体基板を載せるための一対のフォーク部が、前記キャリア内に挿入したときに両方とも前記半導体基板のうち挿入方向と交差する両外周縁に近い部位に沿って延びるように、相互間の間隔を空けて設けられ、
前記両フォーク部は、前記キャリア内に挿入したときに前記半導体基板の外周縁と前記両フォーク部の付け根部分の内径側との間に隙間が空くような長さに設定されていることを特徴とする基板移送装置。 A substrate transfer apparatus provided with a flat transfer hand body for inserting the semiconductor substrates one by one from the inside of the carrier, inserted below each semiconductor substrate accommodated in a multistage manner in a carrier,
At the front end of the transfer hand body, a pair of fork portions for placing the semiconductor substrate are both along a portion near both outer peripheral edges that intersects the insertion direction of the semiconductor substrate when both are inserted into the carrier. Are provided with a space between each other,
The both fork portions are set to such a length that a gap is formed between the outer peripheral edge of the semiconductor substrate and the inner diameter side of the base portion of the fork portions when inserted into the carrier. A substrate transfer device.
前記キャリア内における前記半導体基板の下方に、前記移送ハンド体の先端に設けられた一対のフォーク部を、前記半導体基板の外周縁と前記両フォーク部の付け根部分の内径側との間に隙間が空くようにして挿入したのち、前記移送ハンド体を上昇させるか又は前記キャリアを下降させて、前記半導体基板のうち挿入方向と交差する両外周縁に近い部位を前記両フォーク部で支持することを特徴とする基板移送方法。 A substrate transfer method for taking out semiconductor substrates housed in multiple stages in a carrier one by one with a flat transfer hand body and transferring them to a processing stage of the next process,
Below the semiconductor substrate in the carrier, a pair of fork portions provided at the front end of the transfer hand body are provided with a gap between the outer peripheral edge of the semiconductor substrate and the inner diameter side of the base portions of the fork portions. After being inserted so as to be vacant, the transfer hand body is raised or the carrier is lowered, and the fork portions support the portions of the semiconductor substrate close to both outer peripheral edges that intersect the insertion direction. A substrate transfer method.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005001485A JP5041504B2 (en) | 2005-01-06 | 2005-01-06 | Semiconductor substrate transfer apparatus and semiconductor substrate transfer method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005001485A JP5041504B2 (en) | 2005-01-06 | 2005-01-06 | Semiconductor substrate transfer apparatus and semiconductor substrate transfer method |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006190817A true JP2006190817A (en) | 2006-07-20 |
JP2006190817A5 JP2006190817A5 (en) | 2008-02-21 |
JP5041504B2 JP5041504B2 (en) | 2012-10-03 |
Family
ID=36797745
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005001485A Expired - Fee Related JP5041504B2 (en) | 2005-01-06 | 2005-01-06 | Semiconductor substrate transfer apparatus and semiconductor substrate transfer method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5041504B2 (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010194668A (en) * | 2009-02-25 | 2010-09-09 | Kyocera Corp | Suction conveying member and substrate conveying device using the same |
JP2011211119A (en) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Fuji Electric Co Ltd | Wafer carrying device and wafer carrying method |
JP2013187493A (en) * | 2012-03-09 | 2013-09-19 | Disco Abrasive Syst Ltd | Method for carrying out wafer |
CN105374721A (en) * | 2014-08-14 | 2016-03-02 | 株式会社迪思科 | Transfer unit |
KR101768721B1 (en) * | 2010-03-23 | 2017-08-16 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | Workpiece transport method and workpiece transport apparatus |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63293849A (en) * | 1987-05-27 | 1988-11-30 | Hitachi Ltd | Wafer carrier |
JPH0758188A (en) * | 1993-08-19 | 1995-03-03 | Hitachi Ltd | Wafer processing unit |
JPH1154585A (en) * | 1997-08-01 | 1999-02-26 | Hitachi Ltd | Article identification system |
JPH1171025A (en) * | 1997-09-01 | 1999-03-16 | Nec Corp | Wafer conveying device |
JP2002305233A (en) * | 2001-04-05 | 2002-10-18 | Olympus Optical Co Ltd | Arm for carrying wafer |
-
2005
- 2005-01-06 JP JP2005001485A patent/JP5041504B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63293849A (en) * | 1987-05-27 | 1988-11-30 | Hitachi Ltd | Wafer carrier |
JPH0758188A (en) * | 1993-08-19 | 1995-03-03 | Hitachi Ltd | Wafer processing unit |
JPH1154585A (en) * | 1997-08-01 | 1999-02-26 | Hitachi Ltd | Article identification system |
JPH1171025A (en) * | 1997-09-01 | 1999-03-16 | Nec Corp | Wafer conveying device |
JP2002305233A (en) * | 2001-04-05 | 2002-10-18 | Olympus Optical Co Ltd | Arm for carrying wafer |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010194668A (en) * | 2009-02-25 | 2010-09-09 | Kyocera Corp | Suction conveying member and substrate conveying device using the same |
KR101768721B1 (en) * | 2010-03-23 | 2017-08-16 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | Workpiece transport method and workpiece transport apparatus |
JP2011211119A (en) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Fuji Electric Co Ltd | Wafer carrying device and wafer carrying method |
JP2013187493A (en) * | 2012-03-09 | 2013-09-19 | Disco Abrasive Syst Ltd | Method for carrying out wafer |
CN105374721A (en) * | 2014-08-14 | 2016-03-02 | 株式会社迪思科 | Transfer unit |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5041504B2 (en) | 2012-10-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4680657B2 (en) | Substrate transfer system | |
JP6049971B2 (en) | Robot equipped with end effector and operation method thereof | |
JP4581032B2 (en) | Substrate processing apparatus, pod opening / closing apparatus, substrate processing method, and semiconductor device manufacturing method | |
TWI569338B (en) | Method for detaching a semiconductor chip from a foil | |
JP5833959B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP4333769B2 (en) | Chip mounting apparatus and method for replacing peeling promoting head in chip mounting apparatus | |
JP4873895B2 (en) | Method and apparatus for transporting flat plate-like conveyed product | |
JP2014120740A (en) | Substrate processing apparatus, and sticking or peeling method of substrate | |
JP5041504B2 (en) | Semiconductor substrate transfer apparatus and semiconductor substrate transfer method | |
US10665478B2 (en) | Liquid processing apparatus | |
KR20090025400A (en) | End effector and robot arm apparatus having the same | |
TW201639019A (en) | Substrate treatment device and substrate treatment method | |
JP2017183665A (en) | Substrate carrier device, substrate processing apparatus, and substrate processing method | |
JP6042149B2 (en) | Substrate transfer apparatus, substrate processing apparatus, and substrate transfer method | |
JP5611747B2 (en) | Substrate transfer arm and substrate transfer device | |
TWI759068B (en) | Wafer pick and place device | |
JP2003086667A (en) | Cassette for thin wafer and suction band | |
JP4526316B2 (en) | Workpiece transfer device | |
TW202125688A (en) | Substrate processing method and substrate processing apparatus | |
JP4564695B2 (en) | Wafer cassette and semiconductor wafer loading and unloading method | |
JP2013110268A (en) | Substrate transfer apparatus | |
JP2012216641A (en) | Wafer housing cassette and carrying method | |
KR100676078B1 (en) | Uprighting and feeding device and method for a substrate | |
JP5663260B2 (en) | Substrate deflection correction apparatus and substrate extraction method | |
JP3927113B2 (en) | Spin processing apparatus and spin processing method thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080107 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080107 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100106 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100305 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110216 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111102 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120307 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120418 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120704 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120706 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5041504 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150720 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |