JP2006190417A - Magneto-optical recording medium - Google Patents

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基伸 三原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magneto-optical recording medium suitable for attaining high recording density and also realizing satisfactory recording magnetic field sensitivity. <P>SOLUTION: This magneto-optical recording medium X1 has a laminated structure, which is composed of a recording layer 11 having a laminated structure composed of a plurarity of perpendicular magnetized films 11a, 11b, and a nucleating layer 24 having a fine rugged surface 24a on the recording layer 11 side. The respective perpendicular magnetized films of the recording layer 11, are provided with denser structure as nearer to the nucleating layer 24, preferably the perpendicular magnetized film is formed under the lower gas pressure condition as nearer to the nucleating layer 24, and the thickness of the perpendicular magnetized film is thinner as nearer to the nucleating layer 24. It is preferable that the recording layer 11 contains nitrogen. The respective perpendicular magnetized films of the recording layer 11 are provided with higher nitrogen composition ratio as nearer to the nucleating layer 24. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、垂直磁化膜により構成される記録層を有する光磁気記録媒体に関する。   The present invention relates to a magneto-optical recording medium having a recording layer composed of a perpendicular magnetization film.

光学的に情報が読み取られる光メディアの一形態として、光磁気記録媒体が知られている。光磁気記録媒体は、熱磁気的に記録され且つ磁気光学効果を利用して再生される書き換え可能な媒体である。光磁気記録媒体については、例えば下記の特許文献1〜3に記載されている。   A magneto-optical recording medium is known as one form of optical media from which information is optically read. A magneto-optical recording medium is a rewritable medium that is thermomagnetically recorded and reproduced using the magneto-optical effect. The magneto-optical recording medium is described in, for example, the following Patent Documents 1 to 3.

特開平6−290496号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-290496 特開2001−56977号公報JP 2001-56777 A 特開2003−132599号公報JP 2003-132599 A

図7は、従来の光磁気記録媒体の一例である光磁気ディスクX4を表す。光磁気ディスクX4は、基板Sと、記録磁性部71と、プリグルーブ層72と、熱伝導層73と、誘電体層74,75と、保護膜76とからなる積層構造を有し、フロントイルミネーション方式の光磁気ディスクとして構成されたものである。   FIG. 7 shows a magneto-optical disk X4 which is an example of a conventional magneto-optical recording medium. The magneto-optical disk X4 has a laminated structure including a substrate S, a recording magnetic part 71, a pregroove layer 72, a heat conductive layer 73, dielectric layers 74 and 75, and a protective film 76, and a front illumination. It is configured as a magneto-optical disk of the type.

記録磁性部71は、熱磁気的な記録および磁気光学効果を利用した再生という2つの機能を担うことが可能な磁性構造を有し、再生方式に応じた1または2以上の磁性膜よりなる(誘電体層74に接する記録層を含む)。当該磁性膜は、希土類−遷移金属アモルファス合金垂直磁化膜である。プリグルーブ層72は、樹脂材料よりなり、その記録磁性部71の側の面には、プリグルーブなどの凹凸形状(図示略)が形成されている。熱伝導層73は、レーザ照射時に記録磁性部71などにて発生する熱を効率よく基板Sの側へ伝えるための部位であり、高熱伝導材料よりなる。誘電体層74,75は、記録磁性部71に対する外部からの不当な磁気的影響等を回避するための部位である。保護膜76は、記録磁性部71を特に塵埃から保護するための部位であり、光透過性の樹脂材料よりなる。   The recording magnetic unit 71 has a magnetic structure capable of performing two functions of thermomagnetic recording and reproduction utilizing the magneto-optical effect, and is composed of one or more magnetic films according to the reproduction method ( Including a recording layer in contact with the dielectric layer 74). The magnetic film is a rare earth-transition metal amorphous alloy perpendicular magnetization film. The pregroove layer 72 is made of a resin material, and an uneven shape (not shown) such as a pregroove is formed on the surface of the recording magnetic portion 71 side. The heat conductive layer 73 is a part for efficiently transmitting heat generated in the recording magnetic part 71 and the like to the substrate S side during laser irradiation, and is made of a high heat conductive material. The dielectric layers 74 and 75 are parts for avoiding an inappropriate magnetic influence from the outside on the recording magnetic part 71. The protective film 76 is a part for protecting the recording magnetic part 71 from dust, and is made of a light transmissive resin material.

このような構成を有する光磁気ディスクX4の製造においては、まず、例えばいわゆる2P法により、基板S上にプリグルーブ層72が形成される。次に、例えばスパッタリング法により、プリグルーブ層72上に、熱伝導層73、誘電体層74、記録磁性部71(誘電体層74に接する記録層を含む)、および誘電体層75が順次形成される。その後、例えばスピンコーティング法により、誘電体層75上に保護膜76が形成される。   In manufacturing the magneto-optical disk X4 having such a configuration, first, the pregroove layer 72 is formed on the substrate S by, for example, a so-called 2P method. Next, the heat conductive layer 73, the dielectric layer 74, the recording magnetic part 71 (including the recording layer in contact with the dielectric layer 74), and the dielectric layer 75 are sequentially formed on the pre-groove layer 72 by sputtering, for example. Is done. Thereafter, a protective film 76 is formed on the dielectric layer 75 by, eg, spin coating.

光磁気ディスクX4への情報記録に際しては、例えば、当該ディスクを回転させた状態で、記録用のレーザ(図示せず)を保護膜76の側から記録磁性部71に対して連続的なパルス信号として照射することにより記録磁性部71を局所的に順次昇温させつつ、磁気記録ヘッド(図示せず)により、所定に変調された記録磁界を当該昇温箇所に印加する。これにより、記録磁性部71ないしこれに含まれる記録層において、磁化方向が順次反転する複数の磁区(記録マーク)が光磁気ディスクX4の周方向ないしトラック延び方向に連なって形成される。このようにして、記録磁性部71ないしこれに含まれる記録層に、磁化方向の変化として所定の情報ないし信号が記録される。   When recording information on the magneto-optical disk X4, for example, with the disk rotated, a recording laser (not shown) is continuously pulsed from the protective film 76 side to the recording magnetic unit 71. As a recording magnetic part 71 is heated locally and sequentially, a recording magnetic field modulated in a predetermined manner is applied to the temperature rising portion by a magnetic recording head (not shown). Thereby, in the recording magnetic part 71 or the recording layer included therein, a plurality of magnetic domains (record marks) whose magnetization directions are sequentially reversed are formed continuously in the circumferential direction of the magneto-optical disk X4 or in the track extending direction. In this way, predetermined information or signals are recorded as changes in the magnetization direction in the recording magnetic part 71 or the recording layer included therein.

光磁気ディスクX4では、上述のような情報記録によって記録層内に安定に形成され得る最小の記録マーク(磁区)が微小であるほど、記録分解能が高く、記録密度が大きい。コンピュータシステムにおける情報処理量の増大に伴い、光磁気ディスクなど記録媒体については、より大きな記録密度が要求される。   In the magneto-optical disk X4, the smaller the minimum recording mark (magnetic domain) that can be stably formed in the recording layer by information recording as described above, the higher the recording resolution and the higher the recording density. As the amount of information processing in a computer system increases, a higher recording density is required for recording media such as magneto-optical disks.

一方、磁性材料の技術分野においては、アモルファス磁性膜内に形成され得る安定磁区の微小さの程度は、当該磁性膜が積層形成される下地面の微細凹凸形状の影響を受けることが知られている。具体的には、当該下地面に適度な粗さの凹凸が存在し且つ当該凹凸が微細なほど、その上に形成されるアモルファス磁性膜において、より小さな安定磁区を形成できる傾向があることが知られている。下地面の凹凸により、アモルファス磁性膜の磁壁抗磁力が増大し、当該膜内に存在する磁壁の位置の揺らぎ(磁壁移動)が抑制されて磁区が安定化され(ピンニング作用)、その結果、当該アモルファス磁性膜の磁区構造が微細化される。   On the other hand, in the technical field of magnetic materials, it is known that the degree of the fineness of stable magnetic domains that can be formed in an amorphous magnetic film is affected by the fine unevenness of the underlying surface on which the magnetic film is laminated. Yes. Specifically, it is known that there is a tendency that a smaller stable magnetic domain can be formed in the amorphous magnetic film formed on the underlying surface as the unevenness having an appropriate roughness is present and the unevenness is finer. It has been. The domain wall coercive force of the amorphous magnetic film increases due to the unevenness of the lower ground, the fluctuation of the position of the domain wall existing in the film (domain wall movement) is suppressed, and the domain is stabilized (pinning action). The magnetic domain structure of the amorphous magnetic film is miniaturized.

そのため、光磁気ディスクX4においては、記録層内に安定に形成され得る最小記録マーク(磁区)の微小化を目的として、図8に示すように核形成層77が設けられる場合がある。核形成層77は、記録磁性部71ないし記録層を形成する際の下地膜として誘電体層74上に例えばスパッタリング法により形成されるものであり、その記録層側に、記録磁性部71ないし記録層に対してピンニング作用を及ぼすための微細凹凸形状を伴う微細凹凸面77aを有する。   Therefore, in the magneto-optical disk X4, a nucleation layer 77 may be provided as shown in FIG. 8 for the purpose of miniaturizing the minimum recording mark (magnetic domain) that can be stably formed in the recording layer. The nucleation layer 77 is formed on the dielectric layer 74 by, for example, sputtering as a base film for forming the recording magnetic part 71 or recording layer, and on the recording layer side, the recording magnetic part 71 or recording layer is formed. It has a fine uneven surface 77a with a fine uneven shape for exerting a pinning action on the layer.

例えば光磁気ディスクX4において図8に示すように核形成層77を採用する場合、採用しない場合よりも、上述のような情報記録時の昇温温度(記録層のキュリー温度以下)にある記録層の磁壁抗磁力は大きい。そのため、光磁気ディスクX4において図8に示すように核形成層77を採用する場合、採用しない場合よりも、当該記録層に記録マーク(磁区)を形成するうえで必要な記録磁界の強度は大きい(記録磁界には、磁壁抗磁力に抗して磁区を形成し得る強度が求められるからである)。すなわち、いわゆる記録磁界感度は低下する。形成すべき記録マークが短いほど、記録磁界の必要強度は大きい(即ち記録磁界感度は低下する)傾向がある。   For example, in the case where the nucleation layer 77 is employed as shown in FIG. 8 in the magneto-optical disk X4, the recording layer at the temperature rise during the information recording as described above (below the Curie temperature of the recording layer), compared to the case where the nucleation layer 77 is not employed. The domain wall coercive force is large. Therefore, when the nucleation layer 77 is employed as shown in FIG. 8 in the magneto-optical disk X4, the intensity of the recording magnetic field required to form the recording mark (magnetic domain) in the recording layer is larger than when the nucleation layer 77 is not employed. (This is because the recording magnetic field is required to have a strength capable of forming a magnetic domain against the domain wall coercive force). That is, so-called recording magnetic field sensitivity decreases. As the recording mark to be formed is shorter, the required strength of the recording magnetic field tends to increase (that is, the recording magnetic field sensitivity decreases).

そして、光磁気ディスクX4において図8に示すように核形成層77を採用すると、記録磁界の必要強度は過度に大きくなる場合がある。情報記録時に磁気記録ヘッドが発生することのできる磁界の強度には制約があるので、記録磁界の必要強度が過度に大きいと、適切に情報記録できない場合ある。この場合には、核形成層採用による高記録密度化の実効を図ることができない。   If the nucleation layer 77 is employed in the magneto-optical disk X4 as shown in FIG. 8, the required strength of the recording magnetic field may be excessively increased. Since there is a restriction on the strength of the magnetic field that can be generated by the magnetic recording head during information recording, if the required strength of the recording magnetic field is excessively large, information cannot be properly recorded. In this case, it is impossible to effectively increase the recording density by employing the nucleation layer.

このように、核形成層77を利用する従来の光磁気ディスクX4では、記録磁界感度が低下し過ぎて核形成層採用による高記録密度化の実効を図ることができない場合があるのである。   As described above, in the conventional magneto-optical disk X4 using the nucleation layer 77, the recording magnetic field sensitivity is too low, and it may not be possible to effectively increase the recording density by employing the nucleation layer.

本発明は、以上のような事情の下で考え出されたものであって、高記録密度化を図るとともに良好な記録磁界感度を実現するのに適した光磁気記録媒体を提供することを、目的とする。   The present invention has been conceived under the circumstances as described above, and provides a magneto-optical recording medium suitable for achieving a high recording density and realizing a good recording magnetic field sensitivity. Objective.

本発明の第1の側面によると光磁気記録媒体が提供される。この光磁気記録媒体は、複数の垂直磁化膜からなる積層構造を有する記録層と、記録層の側に微細凹凸面を有する核形成層と、からなる積層構造を有する。また、記録層の各垂直磁化膜は、核形成層に近い垂直磁化膜ほど緻密な膜組織を有する。   According to a first aspect of the present invention, a magneto-optical recording medium is provided. This magneto-optical recording medium has a laminated structure comprising a recording layer having a laminated structure composed of a plurality of perpendicular magnetization films, and a nucleation layer having a fine irregular surface on the recording layer side. Each perpendicular magnetization film of the recording layer has a denser film structure as the perpendicular magnetization film is closer to the nucleation layer.

磁性材料の技術分野においては、アモルファス磁性膜内に形成され得る安定磁区の微小さの程度は、当該磁性膜を構成する膜組織の影響を受けることが知られている。アモルファス磁性膜内には、微視的には空孔や空隙が存在し得るところ、これら空孔および空隙は、当該磁性膜内に磁気的に形成される磁壁の位置揺らぎを抑制して磁区を安定化させるピンニング作用を有する。アモルファス磁性膜の膜組織が粗であるために当該磁性膜内に存在する空孔および空隙が大きいほど、当該磁性膜において、より強いピンニング作用が生じてより小さな安定磁区を形成できる傾向がある。第1の側面の光磁気記録媒体の記録層においては、核形成層に近い垂直磁化膜ほど、緻密な膜組織を有して空孔や空隙が小さいか又は少ない傾向にあり、従って、核形成層に近い垂直磁化膜ほど膜組織に由来するピンニング作用は弱い。   In the technical field of magnetic materials, it is known that the degree of the fineness of stable magnetic domains that can be formed in an amorphous magnetic film is affected by the film structure constituting the magnetic film. Microscopically, there may be holes and voids in the amorphous magnetic film, but these voids and voids suppress the fluctuation of the position of the magnetic domain wall magnetically formed in the magnetic film, thereby creating a magnetic domain. Has a pinning action to stabilize. Since the amorphous magnetic film has a rough film structure, the larger the pores and voids existing in the magnetic film, the stronger the pinning action in the magnetic film tends to form a smaller stable magnetic domain. In the recording layer of the magneto-optical recording medium of the first aspect, the perpendicular magnetization film closer to the nucleation layer has a dense film structure and tends to have fewer or fewer vacancies and voids. The perpendicular magnetization film closer to the layer has a weaker pinning effect derived from the film structure.

一方、本光磁気記録媒体の記録層には、その直下に位置する核形成層の微細凹凸面の形状(微細凹凸形状)に由来するピンニング作用も生ずる。このピンニング作用は、記録層の厚さ全体にわたって生ずるが、記録層において核形成層(微細凹凸面)に近い部位ほど当該ピンニング作用は強い。   On the other hand, the recording layer of the magneto-optical recording medium also has a pinning action derived from the shape of the fine uneven surface (fine uneven shape) of the nucleation layer located immediately below. This pinning effect occurs over the entire thickness of the recording layer, but the closer the portion of the recording layer is to the nucleation layer (fine irregular surface), the stronger the pinning effect.

本光磁気記録媒体の記録層においては、核形成層に近い垂直磁化膜ほど、膜組織が緻密に(従って、膜組織に由来するピンニング作用は弱く)設定され、核形成層から遠い垂直磁化膜ほど、膜組織が粗に(従って、膜組織に由来するピンニング作用は強く)設定されている。このような構成は、記録層の厚さ全体にわたって充分なピンニング作用を得つつ、記録層における核形成層(微細凹凸面)近傍の部位にて、膜組織に由来するピンニング作用と核形成層に由来するピンニング作用との重畳的作用が過剰となることを回避するのに、適している。記録層の厚さ全体にわたって充分なピンニング作用を得つつ、膜組織に由来するピンニング作用と核形成層に由来するピンニング作用との重畳的作用が過剰となることを回避することにより、記録層(垂直磁化膜)において、磁壁抗磁力が過大となることを回避して、充分であって過大でない強さの磁壁抗磁力を得ることができるのである。磁壁抗磁力について充分な強さを実現することにより、記録層内にて微小磁区を安定化して高記録密度化を図ることが可能となる。一方、磁壁抗磁力について過大でない強さを実現することにより、当該安定な微小磁区を形成するために印加すべき記録磁界の強度を抑制して良好な記録磁界感度を得ることが可能である。以上のように、本発明の第1の側面の光磁気記録媒体は、高記録密度化を図るとともに良好な記録磁界感度を実現するのに適しているのである。   In the recording layer of the magneto-optical recording medium, the perpendicular magnetization film closer to the nucleation layer has a finer film structure (and therefore the pinning effect derived from the film structure is weaker), and the perpendicular magnetization film is farther from the nucleation layer. As shown, the membrane structure is set to be rough (therefore, the pinning action derived from the membrane tissue is strong). With such a configuration, the pinning effect derived from the film structure and the nucleation layer can be obtained at a site near the nucleation layer (fine irregular surface) in the recording layer while obtaining a sufficient pinning effect throughout the thickness of the recording layer. It is suitable for avoiding excessive superimposition with the derived pinning effect. By obtaining a sufficient pinning effect over the entire thickness of the recording layer, while avoiding excessive superposition of the pinning action derived from the film structure and the pinning action derived from the nucleation layer, the recording layer ( In the perpendicular magnetization film), it is possible to avoid the domain wall coercive force from becoming excessive, and to obtain a domain wall coercive force having sufficient strength but not excessive. By realizing a sufficient strength for the domain wall coercive force, it is possible to stabilize the minute magnetic domains in the recording layer and increase the recording density. On the other hand, by realizing a strength that is not excessive with respect to the domain wall coercive force, it is possible to obtain a good recording magnetic field sensitivity by suppressing the strength of the recording magnetic field to be applied in order to form the stable minute magnetic domain. As described above, the magneto-optical recording medium according to the first aspect of the present invention is suitable for increasing the recording density and realizing good recording magnetic field sensitivity.

本発明の第1の側面において、好ましくは、記録層の各垂直磁化膜は、核形成層に近い垂直磁化膜ほど低いガス圧条件で形成される。すなわち、記録層の各垂直磁化膜は、核形成層から遠い垂直磁化膜ほど高いガス圧条件で形成される。このような手法によると、核形成層に近い垂直磁化膜ほど膜組織が緻密で且つ遠い垂直磁化膜ほど膜組織が粗な、本光磁気記録媒体の記録層を、適切に形成することができる。   In the first aspect of the present invention, preferably, each perpendicular magnetization film of the recording layer is formed under a lower gas pressure condition as the perpendicular magnetization film is closer to the nucleation layer. That is, each perpendicular magnetization film of the recording layer is formed under a higher gas pressure condition as the perpendicular magnetization film is farther from the nucleation layer. According to such a technique, it is possible to appropriately form the recording layer of the magneto-optical recording medium in which the perpendicular magnetic film closer to the nucleation layer has a denser film structure and the farther perpendicular magnetic film has a rougher film structure. .

好ましくは、記録層の各垂直磁化膜は、核形成層に近い垂直磁化膜ほど薄い。このような構成は、記録層の厚さ全体にわたって充分なピンニング作用を得つつ、膜組織に由来するピンニング作用と核形成層に由来するピンニング作用との重畳的作用が過剰となることを回避するうえで、好適である。   Preferably, each perpendicular magnetization film of the recording layer is thinner as the perpendicular magnetization film is closer to the nucleation layer. Such a configuration avoids an excessive superimposition of the pinning action derived from the film structure and the pinning action derived from the nucleation layer while obtaining a sufficient pinning action over the entire thickness of the recording layer. In addition, it is preferable.

好ましくは、記録層は窒素を含み、当該記録層の各垂直磁化膜は、核形成層に近い垂直磁化膜ほど高い窒素組成比を有する。垂直磁化膜の窒化は、当該垂直磁化膜の垂直磁気異方性を低下せしめて当該垂直磁化膜の磁壁抗磁力を弱める傾向がある。したがって、本構成は、記録層において核形成層に近い垂直磁化膜ほどピンニング作用が弱くなるように設定するうえで、好適である。   Preferably, the recording layer contains nitrogen, and each perpendicular magnetization film of the recording layer has a higher nitrogen composition ratio as the perpendicular magnetization film is closer to the nucleation layer. The nitridation of the perpendicular magnetization film tends to decrease the perpendicular magnetic anisotropy of the perpendicular magnetization film and weaken the domain wall coercive force of the perpendicular magnetization film. Therefore, this configuration is suitable for setting the perpendicular magnetization film closer to the nucleation layer in the recording layer so that the pinning action is weakened.

本発明の第2の側面によると別の光磁気記録媒体が提供される。この光磁気記録媒体は、垂直磁化膜よりなる記録層と、記録層の側に微細凹凸面を有する核形成層と、からなる積層構造を有する。また、記録層は、核形成層に近い部位ほど緻密な膜組織を有する。   According to the second aspect of the present invention, another magneto-optical recording medium is provided. This magneto-optical recording medium has a laminated structure comprising a recording layer made of a perpendicular magnetization film and a nucleation layer having a fine uneven surface on the recording layer side. In addition, the recording layer has a denser film structure as it is closer to the nucleation layer.

第2の側面の光磁気記録媒体の記録層においては、核形成層に近い部位ほど、緻密な膜組織を有して空孔や空隙が小さいか又は少ない傾向にあり、従って、核形成層に近い部位ほど膜組織に由来するピンニング作用は弱い。一方、記録層には、その直下に位置する核形成層の微細凹凸面の形状(微細凹凸形状)に由来するピンニング作用も生ずる。このピンニング作用は、記録層の厚さ全体にわたって生ずるが、記録層において核形成層(微細凹凸面)に近い部位ほど当該ピンニング作用は強い。   In the recording layer of the magneto-optical recording medium of the second aspect, the portion closer to the nucleation layer has a dense film structure and tends to have fewer or fewer vacancies and voids. The closer to the site, the weaker the pinning effect derived from the membrane tissue. On the other hand, the recording layer also has a pinning action derived from the shape of the fine uneven surface (fine uneven shape) of the nucleation layer located immediately below the recording layer. This pinning effect occurs over the entire thickness of the recording layer, but the closer the portion of the recording layer is to the nucleation layer (fine irregular surface), the stronger the pinning effect.

本光磁気記録媒体の記録層においては、核形成層に近い部位ほど、膜組織が緻密に(従って、膜組織に由来するピンニング作用は弱く)設定され、核形成層から遠い部位ほど、膜組織が粗に(従って、膜組織に由来するピンニング作用は強く)設定されている。このような構成は、記録層の厚さ全体にわたって充分なピンニング作用を得つつ、記録層における核形成層(微細凹凸面)近傍の部位にて、膜組織に由来するピンニング作用と核形成層に由来するピンニング作用との重畳的作用が過剰となることを回避するのに、適している。記録層の厚さ全体にわたって充分なピンニング作用を得つつ、膜組織に由来するピンニング作用と核形成層に由来するピンニング作用との重畳的作用が過剰となることを回避することにより、記録層(垂直磁化膜)において、磁壁抗磁力が過大となることを回避して、充分であって過大でない強さの磁壁抗磁力を得ることができる。したがって、本発明の第2の側面の光磁気記録媒体も、第1の側面の光磁気記録媒体と同様に、高記録密度化を図るとともに良好な記録磁界感度を実現するのに適しているのである。   In the recording layer of the magneto-optical recording medium, the closer to the nucleation layer, the denser the membrane structure (therefore, the pinning action derived from the membrane structure is weaker), and the farther from the nucleation layer, the more Is set roughly (thus, the pinning action derived from the membrane tissue is strong). With such a configuration, the pinning effect derived from the film structure and the nucleation layer can be obtained at a site near the nucleation layer (fine irregular surface) in the recording layer while obtaining a sufficient pinning effect throughout the thickness of the recording layer. It is suitable for avoiding excessive superimposition with the derived pinning effect. By obtaining a sufficient pinning effect over the entire thickness of the recording layer, while avoiding excessive superposition of the pinning action derived from the film structure and the pinning action derived from the nucleation layer, the recording layer ( In the perpendicular magnetization film), it is possible to avoid the domain wall coercive force from becoming excessive, and to obtain a domain wall coercive force having sufficient strength but not excessive. Therefore, the magneto-optical recording medium according to the second aspect of the present invention is also suitable for increasing the recording density and realizing good recording magnetic field sensitivity, similarly to the magneto-optical recording medium according to the first aspect. is there.

本発明の第2の側面において、好ましくは、記録層は、核形成層に近い部位ほど低いガス圧条件で形成される。すなわち、記録層は、核形成層から遠い部位ほど高いガス圧条件で形成される。このような手法によると、核形成層に近い部位ほど膜組織が緻密で且つ遠い部位ほど膜組織が粗な、本光磁気記録媒体の記録層を、適切に形成することができる。   In the second aspect of the present invention, preferably, the recording layer is formed under a lower gas pressure condition at a portion closer to the nucleation layer. That is, the recording layer is formed under a higher gas pressure condition at a portion farther from the nucleation layer. According to such a technique, it is possible to appropriately form the recording layer of the magneto-optical recording medium in which the portion closer to the nucleation layer is denser in film structure and the portion farther away is rougher in film structure.

好ましくは、記録層は、窒素を含み、核形成層に近い部位ほど高い窒素組成比を有する。記録層の窒化は、当該窒化部位の垂直磁気異方性を低下せしめて当該窒化部位の磁壁抗磁力を弱める傾向がある。したがって、本構成は、記録層において核形成層に近い部位ほどピンニング作用が弱くなるように設定するうえで、好適である。   Preferably, the recording layer contains nitrogen, and the portion closer to the nucleation layer has a higher nitrogen composition ratio. The nitriding of the recording layer tends to reduce the perpendicular magnetic anisotropy of the nitriding part and weaken the domain wall coercive force of the nitriding part. Therefore, this configuration is suitable for setting the pinning action to be weaker in the recording layer closer to the nucleation layer.

本発明の第1および第2の側面において、好ましくは、記録層は、TbFeCo、Pt合金、またはPd合金よりなる。これら磁性材料は、本発明における記録層の構成材料として好適である。   In the first and second aspects of the present invention, preferably, the recording layer is made of TbFeCo, a Pt alloy, or a Pd alloy. These magnetic materials are suitable as the constituent material of the recording layer in the present invention.

図1は、本発明の第1の実施形態に係る光磁気ディスクX1の部分断面図である。光磁気ディスクX1は、基板Sと、記録磁性部10と、プリグルーブ層21と、熱伝導層22と、誘電体層23,25と、核形成層24と、保護膜26とを備え、フロントイルミネーション方式の光磁気ディスクとして構成されたものである。また、光磁気ディスクX1は、プリグルーブ層21から保護膜26までの構造を基板Sの片側のみ又は両側に有する。   FIG. 1 is a partial sectional view of a magneto-optical disk X1 according to the first embodiment of the present invention. The magneto-optical disk X1 includes a substrate S, a recording magnetic part 10, a pregroove layer 21, a heat conduction layer 22, dielectric layers 23 and 25, a nucleation layer 24, and a protective film 26, and a front surface. It is configured as an illumination type magneto-optical disk. The magneto-optical disk X1 has a structure from the pre-groove layer 21 to the protective film 26 on only one side or both sides of the substrate S.

基板Sは、光磁気ディスクX1の剛性を確保するための部位であり、例えば、樹脂、シリコン、アルミニウム、またはガラスよりなるディスク基板である。   The substrate S is a part for ensuring the rigidity of the magneto-optical disk X1, and is, for example, a disk substrate made of resin, silicon, aluminum, or glass.

記録磁性部10は、記録層11、中間層12、および再生層13よりなる積層構造を有し、再生層13内での磁壁移動ないし磁区拡大を伴う磁区拡大系再生方式(例えばDWDDやMAMMOSなど)に基づいて再生可能に構成されている。   The recording magnetic unit 10 has a laminated structure composed of a recording layer 11, an intermediate layer 12, and a reproducing layer 13, and a magnetic domain expansion system reproducing system (for example, DWDD, MAMMOS, etc.) accompanied by domain wall movement or magnetic domain expansion in the reproducing layer 13 is used. ) Is configured to be reproducible based on.

記録層11は、光磁気ディスクX1において記録機能を担う部位であり、内部構造層11a,11bよりなる。内部構造層11a,11bは、各々、希土類元素と遷移金属とを含むアモルファス合金よりなり、且つ、垂直磁気異方性を有して垂直方向に磁化された垂直磁化膜である。垂直方向とは、層を構成する磁性膜の膜面に対して垂直な方向をいう。また、記録層11内において、内部構造層11aは相対的に緻密な膜組織を有し、内部構造層11bは相対的に粗な膜組織を有する。具体的には、内部構造層11aの膜組織は、相対的に粒の細かい柱状粒からなり且つ空孔や空隙が相対的に小さいか又は少なく、内部構造層11bの膜組織は、相対的に粒の粗い柱状粒からなり且つ空孔や空隙が相対的に大きいか又は多い。記録層11内では、単一の磁区は、両内部構造層11a,11bにわたって生ずる。このような内部構造層11a,11bは、具体的には、所定の組成比の例えばTbFeCо、TbDyFeCо、PtCo、PdCoなどよりなる。両内部構造層11a,11bは、好ましくは、同一組成を有する。また、内部構造層11aには、当該垂直磁化膜の垂直磁気異方性を低下するための窒素を添加してもよい。内部構造層11aの厚さは例えば5〜25nmであり、内部構造層11bの厚さは、内部構造層11aの厚さより大きい限りにおいて例えば10〜60nmである。   The recording layer 11 is a part responsible for a recording function in the magneto-optical disk X1, and is composed of internal structure layers 11a and 11b. The internal structure layers 11a and 11b are each a perpendicular magnetization film made of an amorphous alloy containing a rare earth element and a transition metal and magnetized in the perpendicular direction with perpendicular magnetic anisotropy. The vertical direction means a direction perpendicular to the film surface of the magnetic film constituting the layer. In the recording layer 11, the internal structure layer 11a has a relatively dense film structure, and the internal structure layer 11b has a relatively coarse film structure. Specifically, the film structure of the internal structure layer 11a is composed of relatively fine columnar grains and the pores and voids are relatively small or few, and the film structure of the internal structure layer 11b is relatively It consists of coarse grained columnar grains and has relatively large or many pores and voids. Within the recording layer 11, a single magnetic domain occurs across both internal structure layers 11a and 11b. Specifically, the internal structure layers 11a and 11b are made of a predetermined composition ratio such as TbFeCо, TbDyFeCо, PtCo, PdCo, or the like. Both internal structure layers 11a and 11b preferably have the same composition. Further, nitrogen for reducing the perpendicular magnetic anisotropy of the perpendicular magnetization film may be added to the internal structure layer 11a. The thickness of the internal structure layer 11a is, for example, 5 to 25 nm, and the thickness of the internal structure layer 11b is, for example, 10 to 60 nm as long as it is larger than the thickness of the internal structure layer 11a.

中間層12は、記録層11および再生層13の交換結合状態を変化させるための部位であって、昇温によりそのキュリー温度にて垂直磁化状態から自発磁化消失状態に転移し且つ降温によりキュリー温度にて自発磁化消失状態から垂直磁化状態に転移する希土類−遷移金属アモルファス合金よりなる。本実施形態では、中間層12のキュリー温度は例えば100〜170℃であり、従って、室温において中間層12は垂直磁化膜である。このような中間層12は、具体的には、所定の組成比の例えばTbFeやTbFeCоなどよりなる。また、中間層12の厚さは例えば10〜30nmである。   The intermediate layer 12 is a part for changing the exchange coupling state of the recording layer 11 and the reproducing layer 13, and changes from the perpendicular magnetization state to the spontaneous magnetization disappearance state at the Curie temperature when the temperature rises, and the Curie temperature due to the temperature fall. It is made of a rare earth-transition metal amorphous alloy that transitions from a spontaneous magnetization disappearance state to a perpendicular magnetization state. In this embodiment, the Curie temperature of the intermediate layer 12 is, for example, 100 to 170 ° C. Therefore, the intermediate layer 12 is a perpendicular magnetization film at room temperature. Specifically, the intermediate layer 12 is made of, for example, TbFe or TbFeCо having a predetermined composition ratio. Moreover, the thickness of the intermediate layer 12 is, for example, 10 to 30 nm.

再生層13は、磁壁移動ないし磁区拡大を伴う再生機能を担う部位であり、希土類−遷移金属アモルファス合金よりなる垂直磁化膜である。このような再生層13は、具体的には、所定の組成比の例えばGdFeCoやGdDyFeCoよりなる。また、再生層13の厚さは10〜50nmである。   The reproducing layer 13 is a part that bears a reproducing function accompanied by domain wall movement or domain expansion, and is a perpendicular magnetization film made of a rare earth-transition metal amorphous alloy. Specifically, the reproducing layer 13 is made of, for example, GdFeCo or GdDyFeCo having a predetermined composition ratio. The reproducing layer 13 has a thickness of 10 to 50 nm.

プリグルーブ層21は、樹脂材料よりなり、その熱伝導層22との接触面には、プリグルーブなどの凹凸形状(図示せず)が形成されている。プリグルーブは渦巻き状または同心円状のパターン形状を有し、このプリグルーブを基に、光磁気ディスクX1におけるランドグルーブ形状が実現される。プリグルーブ層21を構成する樹脂材料としては、例えば、2P法用の樹脂(フォトポリマ)を採用することができる。このようなプリグルーブ層21の厚さは例えば5〜25μmである。   The pregroove layer 21 is made of a resin material, and an uneven shape (not shown) such as a pregroove is formed on the contact surface with the heat conductive layer 22. The pregroove has a spiral or concentric pattern shape, and a land groove shape in the magneto-optical disk X1 is realized based on the pregroove. As a resin material constituting the pre-groove layer 21, for example, a resin for 2P method (photopolymer) can be employed. The thickness of the pregroove layer 21 is, for example, 5 to 25 μm.

熱伝導層22は、光磁気ディスクX1に対して記録用または再生用のレーザが照射されるときに記録磁性部10などにて発生する熱を効率よく基板Sの側へ伝えるための部位であり、例えば、Ag、Ag合金(AgPdCuSi,AgPdCuなど)、Al合金(AlN,AlSi,AlTi,AlCrなど)、Au、またはPtなどの、高熱伝導材料よりなる。熱伝導層22の厚さは、例えば10〜50nmである。   The heat conductive layer 22 is a part for efficiently transmitting heat generated in the recording magnetic unit 10 or the like to the substrate S side when the recording or reproducing laser is irradiated to the magneto-optical disk X1. For example, Ag, Ag alloy (AgPdCuSi, AgPdCu, etc.), Al alloy (AlN, AlSi, AlTi, AlCr, etc.), Au, or Pt. The thickness of the heat conductive layer 22 is, for example, 10 to 50 nm.

誘電体層23,25は、記録磁性部10に対する外部からの不当な磁気的影響等を回避ないし抑制するための部位であり、例えば、SiN、SiO2、YSiO2、ZnSiO2、AlO、またはAlNよりなる。誘電体層23,25の厚さは、例えば5〜100nmである。 The dielectric layers 23 and 25 are parts for avoiding or suppressing an undue magnetic influence on the recording magnetic part 10 from the outside. For example, SiN, SiO 2 , YSiO 2 , ZnSiO 2 , AlO, or AlN It becomes more. The thickness of the dielectric layers 23 and 25 is, for example, 5 to 100 nm.

核形成層24は、その直上の記録層11を形成する際の下地膜として誘電体層23上に設けられたものであり、その記録層11の側に、記録層11に対してピンニング作用を及ぼすための微細凹凸形状を伴う微細凹凸面24aを有する。微細凹凸面24aの表面粗さRa(算術平均粗さ)は例えば0.5〜2nmであり、微細凹凸面24aの凸部の平均高さ(最大高さRyの平均)は例えば1〜6nmである。このような核形成層24は例えばPtよりなる。核形成層24の厚さは、例えば2〜10nmである。   The nucleation layer 24 is provided on the dielectric layer 23 as a base film for forming the recording layer 11 immediately above the nucleation layer 24, and has a pinning effect on the recording layer 11 on the recording layer 11 side. It has a fine uneven surface 24a with a fine uneven shape for effect. The surface roughness Ra (arithmetic average roughness) of the fine uneven surface 24a is, for example, 0.5 to 2 nm, and the average height (average of the maximum height Ry) of the convex portions of the fine uneven surface 24a is, for example, 1 to 6 nm. is there. Such a nucleation layer 24 is made of, for example, Pt. The thickness of the nucleation layer 24 is, for example, 2 to 10 nm.

保護膜26は、記録磁性部10を特に塵埃などから保護すべく記録磁性部10を覆い、光磁気ディスクX1の記録用レーザおよび再生用レーザに対して充分な透過性を有する樹脂材料よりなる。保護膜26を構成するための樹脂としては、例えば、紫外線硬化性の透明樹脂が採用される。   The protective film 26 is made of a resin material that covers the recording magnetic part 10 in order to protect the recording magnetic part 10 from dust and the like, and has sufficient permeability to the recording laser and the reproducing laser of the magneto-optical disk X1. As the resin for forming the protective film 26, for example, an ultraviolet curable transparent resin is employed.

図2は、光磁気ディスクX1を製造するための方法を表す。本方法においては、まず、図2(a)に示すように、基板S上に、プリグルーブ層21、熱伝導層22、および誘電体層23を、順次形成する。プリグルーブ層21の形成手法としては、所定の樹脂を用いて行う2P法を採用することができる。また、熱伝導層22および誘電体層23の形成手法としては、各々、所定のスパッタリング装置および所定のターゲットを用いて所定材料の成膜を行うスパッタリング法を採用することができる。   FIG. 2 shows a method for manufacturing the magneto-optical disk X1. In this method, first, as shown in FIG. 2A, a pregroove layer 21, a heat conductive layer 22, and a dielectric layer 23 are sequentially formed on a substrate S. As a method for forming the pre-groove layer 21, a 2P method using a predetermined resin can be employed. Further, as a method for forming the heat conductive layer 22 and the dielectric layer 23, a sputtering method in which a predetermined material is formed using a predetermined sputtering apparatus and a predetermined target can be employed.

次に、図2(b)に示すように、スパッタリング法により、成長端に微細凹凸面24aを有する核形成層24を誘電体層23上に形成する。   Next, as shown in FIG. 2B, a nucleation layer 24 having a fine irregular surface 24a at the growth end is formed on the dielectric layer 23 by sputtering.

次に、図2(c)に示すように、核形成層24上に記録層11を形成する。具体的には、スパッタリング法により、核形成層24上に内部構造層11a,11bを順次形成する。内部構造層11aの形成に際しては、相対的に低いガス圧条件(スパッタリング装置のチャンバ内のガス圧条件)で所定材料を核形成層24上に成膜し、内部構造層11bの形成に際しては、好ましくは同一材料を、相対的に高いガス圧条件で内部構造層11a上に成膜する。このようにして、上述のように相対的に緻密な膜組織を有する内部構造層11aと、上述のように相対的に粗な膜組織を有する内部構造層11bと、からなる記録層11を形成することができる。また、内部構造層11aに窒素を添加する場合には、内部構造層11aの形成に際し、所定濃度の窒素を含有するガス雰囲気で且つ上述のように相対的に低いガス圧条件で、所定材料を核形成層24上に成膜する。   Next, as shown in FIG. 2C, the recording layer 11 is formed on the nucleation layer 24. Specifically, the internal structure layers 11a and 11b are sequentially formed on the nucleation layer 24 by sputtering. In forming the internal structure layer 11a, a predetermined material is formed on the nucleation layer 24 under relatively low gas pressure conditions (gas pressure conditions in the chamber of the sputtering apparatus), and in forming the internal structure layer 11b, Preferably, the same material is deposited on the internal structure layer 11a under relatively high gas pressure conditions. In this way, the recording layer 11 including the internal structure layer 11a having a relatively dense film structure as described above and the internal structure layer 11b having a relatively coarse film structure as described above is formed. can do. In addition, when adding nitrogen to the internal structure layer 11a, when forming the internal structure layer 11a, a predetermined material is added in a gas atmosphere containing a predetermined concentration of nitrogen and under a relatively low gas pressure condition as described above. A film is formed on the nucleation layer 24.

次に、図2(d)に示すように、記録層11上に、中間層12、再生層13、誘電体層25、および保護膜26を順次形成する。中間層12、再生層13、および誘電体層25の形成手法としては、スパッタリング法を採用することができる。保護膜26については、例えば、透明な紫外線硬化性樹脂材料をスピンコート法により誘電体層25上に成膜した後、当該樹脂材料に紫外線を照射することにより、形成することができる。以上のようにして、光磁気ディスクX1を製造することができる。   Next, as shown in FIG. 2D, the intermediate layer 12, the reproducing layer 13, the dielectric layer 25, and the protective film 26 are sequentially formed on the recording layer 11. As a method for forming the intermediate layer 12, the reproduction layer 13, and the dielectric layer 25, a sputtering method can be employed. The protective film 26 can be formed, for example, by depositing a transparent ultraviolet curable resin material on the dielectric layer 25 by spin coating and then irradiating the resin material with ultraviolet rays. The magneto-optical disk X1 can be manufactured as described above.

光磁気ディスクX1への情報記録においては、例えば、当該ディスクを回転させた状態で、記録用のレーザ(図示せず)を保護膜26の側から記録磁性部10に対して連続的なパルス信号として照射することにより記録磁性部10内の記録層11(内部構造層11a,11b)を局所的に順次昇温させつつ、所定に変調された記録磁界を当該昇温箇所に対して磁気記録ヘッド(図示せず)により印加する。これにより、記録層11において、磁化方向が順次反転する複数の磁区(記録マーク)を光磁気ディスクX1の周方向ないしトラック延び方向に連ねて形成する。このようにして、記録層11に対し、磁化方向の変化として所定の情報ないし信号を記録することができる。   In the information recording on the magneto-optical disk X1, for example, a continuous laser pulse signal is sent from the protective film 26 side to the recording magnetic unit 10 while the disk is rotated. As the recording layer 11 (internal structure layers 11a and 11b) in the recording magnetic part 10 is locally heated sequentially, a recording magnetic field modulated in a predetermined manner is applied to the temperature rising portion. (Not shown). Thereby, in the recording layer 11, a plurality of magnetic domains (record marks) whose magnetization directions are sequentially reversed are formed continuously in the circumferential direction or the track extending direction of the magneto-optical disk X1. In this manner, predetermined information or signals can be recorded on the recording layer 11 as changes in the magnetization direction.

光磁気ディスクX1の記録層11においては、核形成層24に近い内部構造層11a(垂直磁化膜)は、核形成層24から遠い内部構造層11b(垂直磁化膜)よりも、緻密な膜組織を有して空孔や空隙が小さいか又は少なく、従って、膜組織に由来するピンニング作用は弱い。一方、記録層11には、その直下に位置する核形成層24の微細凹凸面24aの形状(微細凹凸形状)に由来するピンニング作用も生ずる。このピンニング作用は記録層11の厚さ全体にわたって生ずるが、記録層11において核形成層24に近い部位ほど当該ピンニング作用は強い。   In the recording layer 11 of the magneto-optical disk X1, the internal structure layer 11a (perpendicular magnetization film) close to the nucleation layer 24 is denser than the internal structure layer 11b (perpendicular magnetization film) far from the nucleation layer 24. Therefore, the pinning action derived from the membrane structure is weak. On the other hand, the recording layer 11 also has a pinning action derived from the shape of the fine uneven surface 24a (fine uneven shape) of the nucleation layer 24 located immediately below it. This pinning action occurs over the entire thickness of the recording layer 11, but the portion closer to the nucleation layer 24 in the recording layer 11 has a stronger pinning action.

光磁気ディスクX1の記録層11においては、核形成層24に近い内部構造層11aは、内部構造層11bよりも膜組織が緻密に(従って、膜組織に由来するピンニング作用は弱く)設定されているため、記録層11の厚さ全体にわたって充分なピンニング作用を得つつ、記録層11における核形成層24近傍の部位にて、膜組織に由来するピンニング作用と核形成層24に由来するピンニング作用との重畳的作用が過剰となることを回避することができる。記録層11の厚さ全体にわたって充分なピンニング作用を得つつ、膜組織に由来するピンニング作用と核形成層24に由来するピンニング作用との重畳的作用が過剰となることを回避することにより、記録層11において、磁壁抗磁力が過大となることを回避して、充分であって過大でない強さの磁壁抗磁力を得ることができる。磁壁抗磁力について充分な強さを実現することにより、記録層11内にて微小磁区を安定化して高記録密度化を図ることが可能となる。一方、磁壁抗磁力について過大でない強さを実現することにより、当該安定な微小磁区を形成するために印加すべき記録磁界の強度を抑制して良好な記録磁界感度を得ることが可能となる。以上のように、光磁気ディスクX1によると、高記録密度化を図るとともに良好な記録磁界感度を実現することが可能なのである。   In the recording layer 11 of the magneto-optical disk X1, the internal structure layer 11a close to the nucleation layer 24 is set to have a finer film structure than the internal structure layer 11b (therefore, the pinning action derived from the film structure is weak). Therefore, the pinning action derived from the film structure and the pinning action derived from the nucleation layer 24 are obtained in the vicinity of the nucleation layer 24 in the recording layer 11 while obtaining a sufficient pinning action over the entire thickness of the recording layer 11. It can be avoided that the superimposing action is excessive. By obtaining a sufficient pinning effect over the entire thickness of the recording layer 11, while avoiding an excessive superimposition of the pinning effect derived from the film structure and the pinning effect derived from the nucleation layer 24, recording is performed. In the layer 11, it is possible to avoid a domain wall coercive force from becoming excessive, and to obtain a domain wall coercive force having sufficient strength but not excessive. By realizing a sufficient strength with respect to the domain wall coercive force, it is possible to stabilize the minute magnetic domains in the recording layer 11 and increase the recording density. On the other hand, by realizing a strength that is not excessive with respect to the domain wall coercive force, it is possible to obtain a good recording magnetic field sensitivity by suppressing the strength of the recording magnetic field to be applied in order to form the stable minute magnetic domain. As described above, according to the magneto-optical disk X1, it is possible to achieve high recording density and good recording magnetic field sensitivity.

図3は、本発明の第2の実施形態に係る光磁気ディスクX2の部分断面図である。光磁気ディスクX2は、基板Sと、記録磁性部30と、プリグルーブ層21と、熱伝導層22と、誘電体層23,25と、核形成層24と、保護膜26とを備え、フロントイルミネーション方式の光磁気ディスクとして構成されたものであり、記録磁性部10に代えて記録磁性部30を備える点において光磁気ディスクX1と異なる。また、光磁気ディスクX2は、プリグルーブ層21から保護膜26までの構造を基板Sの片側のみ又は両側に有する。   FIG. 3 is a partial sectional view of a magneto-optical disk X2 according to the second embodiment of the present invention. The magneto-optical disk X2 includes a substrate S, a recording magnetic part 30, a pregroove layer 21, a heat conductive layer 22, dielectric layers 23 and 25, a nucleation layer 24, and a protective film 26. The magneto-optical disk is configured as an illumination type magneto-optical disk, and differs from the magneto-optical disk X1 in that a recording magnetic part 30 is provided in place of the recording magnetic part 10. The magneto-optical disk X2 has a structure from the pre-groove layer 21 to the protective film 26 on only one side or both sides of the substrate S.

記録磁性部30は、記録層31、中間層32、および再生層33よりなる積層構造を有し、再生層33内での磁壁移動ないし磁区拡大を伴う磁区拡大系再生方式(例えばDWDDやMAMMOSなど)に基づいて再生可能に構成されている。   The recording magnetic unit 30 has a laminated structure composed of a recording layer 31, an intermediate layer 32, and a reproducing layer 33, and a magnetic domain expansion system reproducing system (for example, DWDD, MAMMOS, etc.) accompanied by domain wall movement or magnetic domain expansion in the reproducing layer 33. ) Is configured to be reproducible based on.

記録層31は、光磁気ディスクX2において記録機能を担う部位であり、内部構造層31a,31b,31cよりなる。内部構造層31a,31b,31cは、各々、希土類元素と遷移金属とを含むアモルファス合金よりなり、且つ、垂直磁気異方性を有して垂直方向に磁化された垂直磁化膜である。また、記録層31内において、内部構造層31aは最も緻密な膜組織を有し、内部構造層31cは最も粗な膜組織を有し、内部構造層31bは、内部構造層31aよりも粗で内部構造層31cよりも緻密な膜組織を有する。記録層31内では、単一の磁区は、内部構造層31a,31b,31cにわたって生ずる。このような内部構造層31a,31b,31cは、具体的には、所定の組成比の例えばTbFeCо、TbDyFeCо、PtCo、PdCoなどよりなる。全ての内部構造層31a,31b,31cは、好ましくは、同一組成を有する。また、記録層31には、窒素を添加してもよい。記録層31に窒素を添加する場合、内部構造層31aの窒素組成比を最も高く設定し、且つ、内部構造層31bの窒素組成比を2番目に高く設定する。この場合、内部構造層31cの窒素組成比を最も低く設定するか、或は、内部構造層31cには窒素を添加しない。内部構造層31aの厚さは例えば5〜15nmであり、内部構造層31bの厚さは、内部構造層31aの厚さより大きい限りにおいて例えば10〜30nmであり、内部構造層31cの厚さは、内部構造層31bの厚さ以上であって例えば10〜50nmである。好ましくは、内部構造層31cは内部構造層31bよりも厚い。   The recording layer 31 is a part that bears a recording function in the magneto-optical disk X2, and includes internal structure layers 31a, 31b, and 31c. The internal structure layers 31a, 31b, and 31c are each a perpendicular magnetization film made of an amorphous alloy containing a rare earth element and a transition metal, and having perpendicular magnetic anisotropy and magnetized in the perpendicular direction. In the recording layer 31, the internal structure layer 31a has the finest film structure, the internal structure layer 31c has the roughest film structure, and the internal structure layer 31b is coarser than the internal structure layer 31a. It has a denser film structure than the internal structure layer 31c. Within the recording layer 31, a single magnetic domain occurs across the internal structure layers 31a, 31b, 31c. Specifically, the internal structure layers 31a, 31b, and 31c are made of a predetermined composition ratio such as TbFeCо, TbDyFeCо, PtCo, PdCo, or the like. All the internal structure layers 31a, 31b, 31c preferably have the same composition. Further, nitrogen may be added to the recording layer 31. When adding nitrogen to the recording layer 31, the nitrogen composition ratio of the internal structure layer 31a is set to be the highest, and the nitrogen composition ratio of the internal structure layer 31b is set to be the second highest. In this case, the nitrogen composition ratio of the internal structure layer 31c is set to the lowest or no nitrogen is added to the internal structure layer 31c. The thickness of the internal structure layer 31a is, for example, 5 to 15 nm, the thickness of the internal structure layer 31b is, for example, 10 to 30 nm as long as it is larger than the thickness of the internal structure layer 31a, and the thickness of the internal structure layer 31c is It is not less than the thickness of the internal structure layer 31b and is, for example, 10 to 50 nm. Preferably, the internal structure layer 31c is thicker than the internal structure layer 31b.

記録磁性部30の中間層32および再生層33については、第1の実施形態における記録磁性部10の中間層12および再生層13に関して上述したのと同様である。   The intermediate layer 32 and the reproducing layer 33 of the recording magnetic unit 30 are the same as those described above with respect to the intermediate layer 12 and the reproducing layer 13 of the recording magnetic unit 10 in the first embodiment.

以上の構成を有する光磁気ディスクX2は、記録層11に代えて記録層31を形成する以外は光磁気ディスクX1と同様にして、製造することができる。   The magneto-optical disk X2 having the above configuration can be manufactured in the same manner as the magneto-optical disk X1 except that the recording layer 31 is formed instead of the recording layer 11.

光磁気ディスクX2の記録層31の形成においては、スパッタリング法により、核形成層24上に内部構造層31a,31b,31cを順次形成する。内部構造層31aの形成に際しては、最も低いガス圧条件で所定材料を核形成層24上に成膜し、内部構造層31bの形成に際しては、好ましくは同一材料を、2番目に低いガス圧条件で内部構造層31a上に成膜し、内部構造層31cの形成に際しては、好ましくは同一材料を、最も高いガス圧条件で内部構造層31b上に成膜する。このようにして、最も緻密な膜組織を有する内部構造層31aと、最も粗な膜組織を有する内部構造層31cと、内部構造層31aよりも粗で内部構造層31cよりも緻密な膜組織を有する内部構造層31bとからなる、記録層31を形成することができる。また、内部構造層31aに窒素を添加する場合には、内部構造層31aの形成に際し、所定濃度の窒素を含有するガス雰囲気で且つ上述のように最も低いガス圧条件で、所定材料を核形成層24上に成膜する。内部構造層31bに窒素を添加する場合には、内部構造層31bの形成に際し、内部構造層31aの形成時よりも低い濃度の窒素を含有するガス雰囲気で且つ上述のように2番目に低いガス圧条件で、所定材料を内部構造層31a上に成膜する。   In forming the recording layer 31 of the magneto-optical disk X2, the internal structure layers 31a, 31b, and 31c are sequentially formed on the nucleation layer 24 by sputtering. In forming the internal structure layer 31a, a predetermined material is formed on the nucleation layer 24 under the lowest gas pressure condition, and preferably in the formation of the internal structure layer 31b, the same material is used in the second lowest gas pressure condition. In forming the internal structure layer 31c, the same material is preferably formed on the internal structure layer 31b under the highest gas pressure condition. In this way, the internal structure layer 31a having the finest film structure, the internal structure layer 31c having the roughest film structure, and the film structure rougher than the internal structure layer 31a and denser than the internal structure layer 31c are obtained. The recording layer 31 composed of the internal structure layer 31b can be formed. Further, when nitrogen is added to the internal structure layer 31a, a predetermined material is nucleated in the gas atmosphere containing a predetermined concentration of nitrogen and the lowest gas pressure condition as described above when forming the internal structure layer 31a. A film is formed on the layer 24. When nitrogen is added to the internal structure layer 31b, a gas atmosphere containing a lower concentration of nitrogen than the formation of the internal structure layer 31a and the second lowest gas as described above are formed when the internal structure layer 31b is formed. A predetermined material is deposited on the internal structure layer 31a under a pressure condition.

光磁気ディスクX2への情報記録においては、例えば、当該ディスクを回転させた状態で、記録用のレーザ(図示せず)を保護膜26の側から記録磁性部30に対して連続的なパルス信号として照射することにより記録磁性部30内の記録層31(内部構造層31a,31b,31c)を局所的に順次昇温させつつ、所定に変調された記録磁界を当該昇温箇所に対して磁気記録ヘッド(図示せず)により印加する。このようにして、記録層31に対し、磁化方向の変化として所定の情報ないし信号を記録することができる。   In recording information on the magneto-optical disk X2, for example, a continuous laser signal is sent from the protective film 26 side to the recording magnetic unit 30 by a recording laser (not shown) while the disk is rotated. The recording layer 31 (internal structure layers 31a, 31b, 31c) in the recording magnetic unit 30 is locally heated in sequence, and a predetermined modulated recording magnetic field is magnetically applied to the temperature rising portion. Application is made by a recording head (not shown). In this way, predetermined information or signals can be recorded on the recording layer 31 as changes in the magnetization direction.

光磁気ディスクX2の記録層31においては、核形成層24に近い内部構造層ほど、緻密な膜組織を有して空孔や空隙が小さいか又は少ない傾向にあり、従って、核形成層24に近い内部構造層ほど膜組織に由来するピンニング作用は弱い。一方、記録層31には、その直下に位置する核形成層24の微細凹凸面24aの形状(微細凹凸形状)に由来するピンニング作用も生ずる。このピンニング作用は、記録層31の厚さ全体にわたって生ずるが、記録層31において核形成層24に近い部位ほど当該ピンニング作用は強い。   In the recording layer 31 of the magneto-optical disk X2, the inner structure layer closer to the nucleation layer 24 has a denser film structure and tends to have smaller or fewer holes and voids. The closer the internal structure layer is, the weaker the pinning effect derived from the membrane structure. On the other hand, the recording layer 31 also has a pinning action derived from the shape of the fine uneven surface 24a (fine uneven shape) of the nucleation layer 24 located immediately below. This pinning action occurs over the entire thickness of the recording layer 31, but the pinning action is stronger in the recording layer 31 at a portion closer to the nucleation layer 24.

本光磁気ディスクX2の記録層31においては、核形成層24に近い内部構造層ほど、膜組織が緻密に(従って、膜組織に由来するピンニング作用は弱く)設定され、核形成層24から遠い内部構造層ほど、膜組織が粗に(従って、膜組織に由来するピンニング作用は強く)設定されているため、記録層31の厚さ全体にわたって充分なピンニング作用を得つつ、記録層31における核形成層24近傍の部位にて、膜組織に由来するピンニング作用と核形成層24に由来するピンニング作用との重畳的作用が過剰となることを回避することができる。記録層31の厚さ全体にわたって充分なピンニング作用を得つつ、膜組織に由来するピンニング作用と核形成層24に由来するピンニング作用との重畳的作用が過剰となることを回避することにより、記録層31において、磁壁抗磁力が過大となることを回避して、充分であって過大でない強さの磁壁抗磁力を得ることができる。したがって、光磁気ディスクX2によると、光磁気ディスクX1と同様に、高記録密度化を図るとともに良好な記録磁界感度を実現することが可能なのである。   In the recording layer 31 of the magneto-optical disk X2, the closer the internal structure layer is to the nucleation layer 24, the denser the film structure (and hence the weaker the pinning action derived from the film structure), and the farther from the nucleation layer 24. Since the inner structure layer is set to have a rougher film structure (thus, the pinning action derived from the film structure is stronger), the core in the recording layer 31 is obtained while obtaining a sufficient pinning action over the entire thickness of the recording layer 31. It is possible to avoid that the superimposing action of the pinning action derived from the film structure and the pinning action derived from the nucleation layer 24 becomes excessive at a site in the vicinity of the formation layer 24. By obtaining a sufficient pinning effect over the entire thickness of the recording layer 31, while avoiding an excessive superimposition of the pinning effect derived from the film structure and the pinning effect derived from the nucleation layer 24, recording is performed. In the layer 31, it is possible to avoid the domain wall coercive force from becoming excessive, and to obtain a domain wall coercive force having sufficient strength but not excessive. Therefore, according to the magneto-optical disk X2, as with the magneto-optical disk X1, it is possible to achieve a high recording density and to achieve a good recording magnetic field sensitivity.

図4は、本発明の第3の実施形態に係る光磁気ディスクX3の部分断面図である。光磁気ディスクX3は、基板Sと、記録磁性部40と、プリグルーブ層21と、熱伝導層22と、誘電体層23,25と、核形成層24と、保護膜26とを備え、フロントイルミネーション方式の光磁気ディスクとして構成されたものであり、記録磁性部10に代えて記録磁性部40を備える点において光磁気ディスクX1と異なる。また、光磁気ディスクX3は、プリグルーブ層21から保護膜26までの構造を基板Sの片側のみ又は両側に有する。   FIG. 4 is a partial cross-sectional view of a magneto-optical disk X3 according to the third embodiment of the present invention. The magneto-optical disk X3 includes a substrate S, a recording magnetic part 40, a pregroove layer 21, a heat conductive layer 22, dielectric layers 23 and 25, a nucleation layer 24, and a protective film 26, and a front surface. The magneto-optical disk is configured as an illumination type magneto-optical disk, and differs from the magneto-optical disk X1 in that a recording magnetic unit 40 is provided in place of the recording magnetic unit 10. The magneto-optical disk X3 has a structure from the pre-groove layer 21 to the protective film 26 on only one side or both sides of the substrate S.

記録磁性部40は、記録層41、中間層42、および再生層43よりなる積層構造を有し、再生層43内での磁壁移動ないし磁区拡大を伴う磁区拡大系再生方式(例えばDWDDやMAMMOSなど)に基づいて再生可能に構成されている。   The recording magnetic unit 40 has a laminated structure composed of a recording layer 41, an intermediate layer 42, and a reproducing layer 43, and a magnetic domain expansion system reproducing method (for example, DWDD, MAMMOS, etc.) accompanied by domain wall movement or magnetic domain expansion in the reproducing layer 43. ) Is configured to be reproducible based on.

記録層41は、光磁気ディスクX3において記録機能を担う部位であり、希土類元素と遷移金属とを含むアモルファス合金よりなり、且つ、垂直磁気異方性を有して垂直方向に磁化された垂直磁化膜である。また、記録層41は、核形成層24に近い部位ほど緻密な膜組織を有し、核形成層24から遠い部位ほど粗な膜組織を有する。このような記録層41は、具体的には、所定の組成比の例えばTbFeCо、TbDyFeCо、PtCo、PdCoなどよりなる。また、記録層41には、窒素を添加してもよい。記録層41に窒素を添加する場合、核形成層24に近い部位ほど高い窒素組成比に設定する。記録層41の厚さは例えば15〜90nmである。   The recording layer 41 is a part responsible for the recording function in the magneto-optical disk X3, and is made of an amorphous alloy containing a rare earth element and a transition metal, and has perpendicular magnetic anisotropy and is perpendicularly magnetized in the perpendicular direction. It is a membrane. In addition, the recording layer 41 has a dense film structure at a portion closer to the nucleation layer 24 and a rough film structure at a portion farther from the nucleation layer 24. Specifically, the recording layer 41 is made of a predetermined composition ratio such as TbFeCо, TbDyFeCо, PtCo, PdCo, or the like. Further, nitrogen may be added to the recording layer 41. When nitrogen is added to the recording layer 41, the portion closer to the nucleation layer 24 is set to a higher nitrogen composition ratio. The thickness of the recording layer 41 is, for example, 15 to 90 nm.

記録磁性部40の中間層42および再生層43については、第1の実施形態における記録磁性部10の中間層12および再生層13に関して上述したのと同様である。   The intermediate layer 42 and the reproducing layer 43 of the recording magnetic unit 40 are the same as those described above with respect to the intermediate layer 12 and the reproducing layer 13 of the recording magnetic unit 10 in the first embodiment.

以上の構成を有する光磁気ディスクX3は、記録層11に代えて記録層41を形成する以外は光磁気ディスクX1と同様にして、製造することができる。   The magneto-optical disk X3 having the above configuration can be manufactured in the same manner as the magneto-optical disk X1 except that the recording layer 41 is formed instead of the recording layer 11.

光磁気ディスクX3の記録層41の形成においては、スパッタリング法により、低ガス圧条件から高ガス圧条件へと連続的にガス圧条件を変化させつつ、所定材料を核形成層24上に成膜する。このようにして、核形成層24に近い部位ほど緻密な膜組織を有する記録層41を形成することができる。また、記録層41に窒素を添加する場合には、スパッタリング装置のチャンバ内の窒素濃度を高濃度から低濃度へと連続的に変化させつつ、且つ、上述のように低ガス圧条件から高ガス圧条件へと連続的にガス圧条件を変化させつつ、所定材料を核形成層24上に成膜する。   In forming the recording layer 41 of the magneto-optical disk X3, a predetermined material is formed on the nucleation layer 24 by changing the gas pressure condition continuously from the low gas pressure condition to the high gas pressure condition by sputtering. To do. In this way, it is possible to form the recording layer 41 having a denser film structure at a portion closer to the nucleation layer 24. In addition, when adding nitrogen to the recording layer 41, the nitrogen concentration in the chamber of the sputtering apparatus is continuously changed from a high concentration to a low concentration and, as described above, from a low gas pressure condition to a high gas A predetermined material is formed on the nucleation layer 24 while continuously changing the gas pressure condition to the pressure condition.

光磁気ディスクX3への情報記録においては、例えば、当該ディスクを回転させた状態で、記録用のレーザ(図示せず)を保護膜26の側から記録磁性部40に対して連続的なパルス信号として照射することにより記録磁性部40内の記録層41を局所的に順次昇温させつつ、所定に変調された記録磁界を当該昇温箇所に対して磁気記録ヘッド(図示せず)により印加する。このようにして、記録層41に対し、磁化方向の変化として所定の情報ないし信号を記録することができる。   In recording information on the magneto-optical disk X3, for example, a continuous laser pulse signal is sent from the protective film 26 side to the recording magnetic unit 40 with a recording laser (not shown) while the disk is rotated. The recording layer 41 in the recording magnetic unit 40 is locally heated in sequence, and a predetermined modulated recording magnetic field is applied to the temperature rising portion by a magnetic recording head (not shown). . In this way, predetermined information or signals can be recorded on the recording layer 41 as changes in the magnetization direction.

光磁気ディスクX3の記録層41においては、核形成層24に近い部位ほど、緻密な膜組織を有して空孔や空隙が小さいか又は少ない傾向にあり、従って、核形成層24に近い部位ほど膜組織に由来するピンニング作用は弱い。一方、記録層41には、その直下に位置する核形成層24の微細凹凸面24aの形状(微細凹凸形状)に由来するピンニング作用も生ずる。このピンニング作用は、記録層41の厚さ全体にわたって生ずるが、記録層41において核形成層24に近い部位ほど当該ピンニング作用は強い。   In the recording layer 41 of the magneto-optical disk X3, the portion closer to the nucleation layer 24 has a dense film structure and tends to have fewer or fewer vacancies and voids. The pinning effect derived from the membrane tissue is weak. On the other hand, the recording layer 41 also has a pinning action derived from the shape of the fine uneven surface 24a (fine uneven shape) of the nucleation layer 24 located immediately below it. This pinning action occurs over the entire thickness of the recording layer 41, but the pinning action is stronger in the recording layer 41 closer to the nucleation layer 24.

本光磁気ディスクX3の記録層においては、核形成層24に近い部位ほど、膜組織が緻密に(従って、膜組織に由来するピンニング作用は弱く)設定され、核形成層24から遠い部位ほど、膜組織が粗に(従って、膜組織に由来するピンニング作用は強く)設定されているため、記録層41の厚さ全体にわたって充分なピンニング作用を得つつ、記録層41における核形成層24近傍の部位にて、膜組織に由来するピンニング作用と核形成層24に由来するピンニング作用との重畳的作用が過剰となることを回避することができる。記録層41の厚さ全体にわたって充分なピンニング作用を得つつ、膜組織に由来するピンニング作用と核形成層24に由来するピンニング作用との重畳的作用が過剰となることを回避することにより、記録層41において、磁壁抗磁力が過大となることを回避して、充分であって過大でない強さの磁壁抗磁力を得ることができる。したがって、光磁気ディスクX3によると、光磁気ディスクX1,X2と同様に、高記録密度化を図るとともに良好な記録磁界感度を実現することが可能なのである。   In the recording layer of the magneto-optical disk X3, the closer to the nucleation layer 24, the denser the membrane structure (therefore, the pinning action derived from the film tissue is weaker), and the farther from the nucleation layer 24, Since the film structure is set roughly (and therefore the pinning action derived from the film structure is strong), a sufficient pinning action is obtained over the entire thickness of the recording layer 41, and the nucleation layer 24 in the vicinity of the nucleation layer 24 is obtained. It is possible to avoid an excessive superimposition of the pinning action derived from the membrane tissue and the pinning action derived from the nucleation layer 24 at the site. By obtaining a sufficient pinning effect over the entire thickness of the recording layer 41, it is possible to avoid an excessive superimposition of the pinning effect derived from the film structure and the pinning effect derived from the nucleation layer 24 by recording. In the layer 41, it is possible to avoid a domain wall coercive force from becoming excessive, and to obtain a domain wall coercive force having a sufficient strength that is not excessive. Therefore, according to the magneto-optical disk X3, similarly to the magneto-optical disks X1 and X2, it is possible to achieve a high recording density and to realize a good recording magnetic field sensitivity.

〔光磁気ディスクの作製〕
図5に示す積層構成を有するフロントイルミネーション方式の光磁気ディスクとして、本実施例の光磁気ディスクを作製した。
[Production of magneto-optical disk]
A magneto-optical disk of this example was manufactured as a front-illuminated magneto-optical disk having the laminated structure shown in FIG.

本実施例の光磁気ディスクの作製においては、まず、2P法により、ガラス基板(直径120mm,厚さ1.2mm)上に厚さ10μmのプリグルーブ層を形成した。プリグルーブ層形成材料としては2P法用の樹脂(フォトポリマ)を採用した。また、プリグルーブ層の表面凹凸形状については、トラックピッチ300nmおよびプリグルーブ深さ50nmのランドグルーブ形状とした。   In the production of the magneto-optical disk of this example, first, a pregroove layer having a thickness of 10 μm was formed on a glass substrate (diameter 120 mm, thickness 1.2 mm) by the 2P method. As the pregroove layer forming material, a resin for 2P method (photopolymer) was employed. Further, the surface irregularity shape of the pregroove layer was a land groove shape with a track pitch of 300 nm and a pregroove depth of 50 nm.

次に、スパッタリング法によりプリグルーブ層上にAlSiを成膜することによって、厚さ30nmの熱伝導層を形成した。具体的には、AlターゲットおよびSiターゲットを用いて行うコスパッタリングにより、プリグルーブ層上にAlSiを成膜した。本スパッタリングでは、スパッタガスとしてArを使用し(反応性スパッタリングを除き、本実施例にける以下のスパッタリングにおいても同様)、スパッタガス圧力を0.6Paとし、スパッタ電力を0.3kW(Alターゲット)および0.2kW(Siターゲット)とした。   Next, a 30 nm thick thermal conductive layer was formed by depositing AlSi on the pregroove layer by sputtering. Specifically, AlSi was formed on the pregroove layer by co-sputtering using an Al target and an Si target. In this sputtering, Ar is used as a sputtering gas (except for reactive sputtering, the same applies to the following sputtering in this embodiment), the sputtering gas pressure is 0.6 Pa, and the sputtering power is 0.3 kW (Al target). And 0.2 kW (Si target).

次に、スパッタリング法により熱伝導層上にSiNを成膜することによって、厚さ15nmの誘電体層を形成した。具体的には、Siターゲットを用い、スパッタガスとしてArガスおよびN2ガスを使用して行う反応性スパッタリングにより、熱伝導層上にSiNを成膜した。本スパッタリングでは、ArガスおよびN2ガスの流量比を7:3とし、スパッタガス圧力を0.5Paとし、スパッタ電力を0.8kWとした。 Next, a dielectric layer having a thickness of 15 nm was formed by depositing SiN on the heat conductive layer by sputtering. Specifically, SiN was formed on the heat conductive layer by reactive sputtering performed using an Si target and using Ar gas and N 2 gas as sputtering gas. In this sputtering, the flow ratio of Ar gas and N 2 gas was 7: 3, the sputtering gas pressure was 0.5 Pa, and the sputtering power was 0.8 kW.

次に、スパッタリング法により誘電体層上にPtを成膜することによって、表面に微細凹凸面を有する厚さ3nmの核形成層を形成した。この核形成層の微細凹凸面の表面粗さ(算術平均粗さ)Raは1.0nmであり、微細凹凸面の凸部の平均高さ(最大高さRyの平均)は1.5nmであった。本スパッタリングでは、Ptターゲットを用い、スパッタガス圧力を0.5Paとし、スパッタ電力を0.5kWとした。   Next, a nucleation layer having a thickness of 3 nm having a fine uneven surface on the surface was formed by depositing Pt on the dielectric layer by a sputtering method. The surface roughness (arithmetic average roughness) Ra of the fine uneven surface of this nucleation layer was 1.0 nm, and the average height (average of the maximum height Ry) of the convex portions of the fine uneven surface was 1.5 nm. It was. In this sputtering, a Pt target was used, the sputtering gas pressure was 0.5 Pa, and the sputtering power was 0.5 kW.

次に、核形成層上に記録層を形成した。具体的には、まず、スパッタリング法により核形成層上にTb20Fe65Co15を成膜することによって、厚さ10nmの第1内部構造層を形成した。本スパッタリングでは、TbターゲットおよびFeCo合金ターゲットを用いて行うコスパッタリングにより、核形成層上にTb20Fe65Co15を成膜した。また、本スパッタリングでは、スパッタガス圧力を0.4Paとし、スパッタ電力を0.5kW(Tbターゲット)および1.5kW(FeCo合金ターゲット)とした。この後、スパッタリング法により第1内部構造層上に更にTb20Fe65Co15を成膜することによって、厚さ40nmの第2内部構造層を形成した。本スパッタリングでは、TbターゲットおよびFeCo合金ターゲットを用いて行うコスパッタリングにより、第1内部構造層上にTb20Fe65Co15を成膜し、スパッタガス圧力を3.0Paとし、スパッタ電力を0.5kW(Tbターゲット)および1.5kW(FeCo合金ターゲット)とした。このようにして、本実施例における記録層を核形成層上に形成した。この記録層の構成および記録層形成時のガス圧条件については、図6の表に掲げる。下記の実施例および比較例における記録層の構成およびガス圧条件も、図6の表に掲げる。 Next, a recording layer was formed on the nucleation layer. Specifically, first, a Tb 20 Fe 65 Co 15 film was formed on the nucleation layer by sputtering, thereby forming a first internal structure layer having a thickness of 10 nm. In this sputtering, Tb 20 Fe 65 Co 15 was formed on the nucleation layer by co-sputtering using a Tb target and an FeCo alloy target. In this sputtering, the sputtering gas pressure was 0.4 Pa, and the sputtering power was 0.5 kW (Tb target) and 1.5 kW (FeCo alloy target). Thereafter, a second internal structure layer having a thickness of 40 nm was formed by further depositing Tb 20 Fe 65 Co 15 on the first internal structure layer by a sputtering method. In this sputtering, Tb 20 Fe 65 Co 15 is formed on the first internal structure layer by co-sputtering using a Tb target and an FeCo alloy target, the sputtering gas pressure is set to 3.0 Pa, and the sputtering power is set to 0.3. 5 kW (Tb target) and 1.5 kW (FeCo alloy target). In this way, the recording layer in this example was formed on the nucleation layer. The configuration of this recording layer and the gas pressure conditions when forming the recording layer are listed in the table of FIG. The configuration of the recording layer and the gas pressure conditions in the following examples and comparative examples are also listed in the table of FIG.

次に、スパッタリング法により記録層上にTb22Fe78を成膜することによって、厚さ15nmの中間層を形成した。具体的には、TbターゲットおよびFeターゲットを用いて行うコスパッタリングにより、記録層上にTb22Fe78を成膜した。本スパッタリングでは、スパッタガス圧力を1.0Paとし、スパッタ電力を0.3kW(Tbターゲット)および0.9kW(Feターゲット)とした。 Next, an intermediate layer having a thickness of 15 nm was formed by depositing Tb 22 Fe 78 on the recording layer by sputtering. Specifically, Tb 22 Fe 78 was formed on the recording layer by co-sputtering using a Tb target and an Fe target. In this sputtering, the sputtering gas pressure was 1.0 Pa, and the sputtering power was 0.3 kW (Tb target) and 0.9 kW (Fe target).

次に、スパッタリング法により中間層上にGd25Fe70Co5を成膜することによって、厚さ25nmの再生層を形成した。具体的には、GdターゲットおよびFeCo合金ターゲットを用いて行うコスパッタリングにより、中間層上にGd25Fe70Co5を成膜した。本スパッタリングでは、スパッタガス圧力を0.4Paとし、スパッタ電力を0.4kW(Gdターゲット)および0.8kW(FeCo合金ターゲット)とした。 Next, a reproducing layer having a thickness of 25 nm was formed by depositing Gd 25 Fe 70 Co 5 on the intermediate layer by sputtering. Specifically, Gd 25 Fe 70 Co 5 was formed on the intermediate layer by co-sputtering using a Gd target and an FeCo alloy target. In this sputtering, the sputtering gas pressure was 0.4 Pa, and the sputtering power was 0.4 kW (Gd target) and 0.8 kW (FeCo alloy target).

次に、スパッタリング法により再生層上にSiNを成膜することによって、厚さ60nmの誘電体層を形成した。具体的には、Siターゲットを用い、スパッタガスとしてArガスおよびN2ガスを使用して行う反応性スパッタリングにより、再生層上にSiNを成膜した。本スパッタリングでは、ArガスおよびN2ガスの流量比を7:3とし、スパッタガス圧力を0.5Paとし、スパッタ電力を0.8kWとした。 Next, a dielectric layer having a thickness of 60 nm was formed by depositing SiN on the reproducing layer by sputtering. Specifically, SiN was formed on the reproduction layer by reactive sputtering using an Si target and using Ar gas and N 2 gas as sputtering gas. In this sputtering, the flow ratio of Ar gas and N 2 gas was 7: 3, the sputtering gas pressure was 0.5 Pa, and the sputtering power was 0.8 kW.

次に、誘電体層上に厚さ20μmの保護膜を形成した。具体的には、まず、スピンコート法により、紫外線硬化性の透明樹脂を誘電体層上に塗布した。次に、紫外線照射により、当該樹脂膜を硬化させた。以上のようにして、本実施例の光磁気ディスクを作製した。   Next, a protective film having a thickness of 20 μm was formed on the dielectric layer. Specifically, first, an ultraviolet curable transparent resin was applied on the dielectric layer by spin coating. Next, the resin film was cured by ultraviolet irradiation. As described above, the magneto-optical disk of this example was manufactured.

〔記録磁界およびCNRの測定〕
本実施例の光磁気ディスクについて、必要最小の記録磁界の強度および再生信号のCNRを調べた。具体的には、再生信号の強度(CNR)が飽和するように光磁気ディスクに対して情報記録を行うことが可能な、磁気記録ヘッドによる印加磁界のうち、最小の磁界を特定し、当該最小磁界印加時において媒体表面に形成される磁界の強度を、記録層を通過するように形成される記録磁界の強度として、ガウスメータにより測定した。情報記録は、磁界変調記録方式において、マーク長が80nmの記録マークを長さ80nmのスペースを介して繰り返し形成することにより、行った。このようにして測定された記録磁界の強度は400Oeであった。また、この記録磁界強度で情報記録を実行した場合の再生信号のCNRは39dBであった。これらの値は、図6の表に掲げる。下記の実施例および比較例における記録磁界の強度および再生信号のCNRの値も、図6の表に掲げる。
[Measurement of recording magnetic field and CNR]
For the magneto-optical disk of this example, the minimum required recording magnetic field strength and the CNR of the reproduction signal were examined. Specifically, the minimum magnetic field is specified from among the magnetic fields applied by the magnetic recording head that can record information on the magneto-optical disk so that the intensity (CNR) of the reproduction signal is saturated, and the minimum The intensity of the magnetic field formed on the medium surface when a magnetic field was applied was measured with a gauss meter as the intensity of the recording magnetic field formed so as to pass through the recording layer. Information recording was performed by repeatedly forming a recording mark having a mark length of 80 nm through a space having a length of 80 nm in the magnetic field modulation recording method. The intensity of the recording magnetic field measured in this way was 400 Oe. The CNR of the reproduction signal when information recording was performed with this recording magnetic field strength was 39 dB. These values are listed in the table of FIG. The values of the recording magnetic field and the CNR value of the reproduction signal in the following examples and comparative examples are also listed in the table of FIG.

記録層の形成以外は実施例1と同様にして、本実施例の光磁気ディスクを作製した。本実施例における記録層は、第1内部構造層の厚さを10nmに代えて5nmとし、且つ、第2内部構造層の厚さを40nmに代えて45nmとした以外は、実施例1における記録層と同様にして、形成した。また、本実施例の光磁気ディスクについて、実施例1と同様にして記録磁界の強度および再生信号のCNRを調べたところ、記録磁界の強度は600Oeであり、CNRは40dBであった。   A magneto-optical disk of this example was produced in the same manner as in Example 1 except for the formation of the recording layer. The recording layer in this example was the same as that in Example 1 except that the thickness of the first internal structure layer was changed to 5 nm instead of 10 nm, and the thickness of the second internal structure layer was changed to 45 nm instead of 40 nm. Formed in the same way as the layer. For the magneto-optical disk of this example, the recording magnetic field strength and the reproduction signal CNR were examined in the same manner as in Example 1. The recording magnetic field strength was 600 Oe and the CNR was 40 dB.

記録層の形成以外は実施例1と同様にして、本実施例の光磁気ディスクを作製した。本実施例における記録層は、第1内部構造層の厚さを10nmに代えて15nmとし、且つ、第2内部構造層の厚さを40nmに代えて35nmとした以外は、実施例1における記録層と同様にして、形成した。また、本実施例の光磁気ディスクについて、実施例1と同様にして記録磁界の強度および再生信号のCNRを調べたところ、記録磁界の強度は350Oeであり、CNRは38dBであった。   A magneto-optical disk of this example was produced in the same manner as in Example 1 except for the formation of the recording layer. The recording layer in this example is the same as that in Example 1 except that the thickness of the first internal structure layer is 15 nm instead of 10 nm, and the thickness of the second internal structure layer is 35 nm instead of 40 nm. Formed in the same way as the layer. For the magneto-optical disk of this example, the recording magnetic field strength and the reproduction signal CNR were examined in the same manner as in Example 1. The recording magnetic field strength was 350 Oe, and the CNR was 38 dB.

記録層の形成以外は実施例1と同様にして、本実施例の光磁気ディスクを作製した。本実施例における記録層は、第1内部構造層を形成する際のスパッタガス圧力を0.4Paに代えて1.0Paとした以外は、実施例1における記録層と同様にして、形成した。また、本実施例の光磁気ディスクについて、実施例1と同様にして記録磁界の強度および再生信号のCNRを調べたところ、記録磁界の強度は600Oeであり、CNRは39dBであった。   A magneto-optical disk of this example was produced in the same manner as in Example 1 except for the formation of the recording layer. The recording layer in this example was formed in the same manner as the recording layer in Example 1 except that the sputtering gas pressure when forming the first internal structure layer was changed to 1.0 Pa instead of 0.4 Pa. For the magneto-optical disk of this example, the recording magnetic field strength and the reproduction signal CNR were examined in the same manner as in Example 1. As a result, the recording magnetic field strength was 600 Oe and the CNR was 39 dB.

記録層の形成以外は実施例1と同様にして、本実施例の光磁気ディスクを作製した。本実施例における記録層は、第1内部構造層を形成する際のスパッタガス圧力を0.4Paに代えて2.0Paとした以外は、実施例1における記録層と同様にして、形成した。また、本実施例の光磁気ディスクについて、実施例1と同様にして記録磁界の強度および再生信号のCNRを調べたところ、記録磁界の強度は700Oeであり、CNRは39dBであった。   A magneto-optical disk of this example was produced in the same manner as in Example 1 except for the formation of the recording layer. The recording layer in this example was formed in the same manner as the recording layer in Example 1 except that the sputtering gas pressure when forming the first internal structure layer was set to 2.0 Pa instead of 0.4 Pa. For the magneto-optical disk of this example, the recording magnetic field strength and the reproduction signal CNR were examined in the same manner as in Example 1. As a result, the recording magnetic field strength was 700 Oe and the CNR was 39 dB.

記録層の形成以外は実施例1と同様にして、本実施例の光磁気ディスクを作製した。本実施例における記録層は、第1内部構造層を形成する際のスパッタガスとして、所定濃度のN2を含有するArを使用した以外は、実施例1における記録層と同様にして形成した。本実施例における第1内部構造層は5at%(アトミックパーセント)の窒素を含む。また、本実施例の光磁気ディスクについて、実施例1と同様にして記録磁界の強度および再生信号のCNRを調べたところ、記録磁界の強度は300Oeであり、CNRは37dBであった。 A magneto-optical disk of this example was produced in the same manner as in Example 1 except for the formation of the recording layer. The recording layer in this example was formed in the same manner as the recording layer in Example 1 except that Ar containing a predetermined concentration of N 2 was used as the sputtering gas for forming the first internal structure layer. The first internal structure layer in this example contains 5 at% (atomic percent) of nitrogen. For the magneto-optical disk of this example, the recording magnetic field strength and the reproduction signal CNR were examined in the same manner as in Example 1. The recording magnetic field strength was 300 Oe, and the CNR was 37 dB.

比較例1Comparative Example 1

〔光磁気ディスクの作製〕
図5に示す積層構成を有するフロントイルミネーション方式の光磁気ディスクとして、本比較例の光磁気ディスクを作製した。
[Production of magneto-optical disk]
A magneto-optical disk of this comparative example was manufactured as a front-illuminated magneto-optical disk having the laminated structure shown in FIG.

本比較例の光磁気ディスクの作製においては、まず、実施例1と同様にして、ガラス基板(直径120mm,厚さ1.2mm)上に、プリグルーブ層(厚さ10μm)、熱伝導層(厚さ30nm)、誘電体層(厚さ15nm)、および核形成層(厚さ3nm)を順次形成した。   In the production of the magneto-optical disk of this comparative example, first, in the same manner as in Example 1, a pregroove layer (thickness 10 μm) and a heat conduction layer (thickness 120 μm, thickness 1.2 mm) A thickness of 30 nm), a dielectric layer (thickness of 15 nm), and a nucleation layer (thickness of 3 nm) were sequentially formed.

次に、スパッタリング法により核形成層上にTb20Fe65Co15を成膜することによって、厚さ50nmの記録層を形成した。本スパッタリングでは、TbターゲットおよびFeCo合金ターゲットを用いて行うコスパッタリングにより、核形成層上にTb20Fe65Co15を成膜した。また、本スパッタリングでは、スパッタガス圧力を3.0Paとし、スパッタ電力を0.5kW(Tbターゲット)および1.5kW(FeCo合金ターゲット)とした。このようにして形成した記録層の膜組織は実質的に一様である。 Next, Tb 20 Fe 65 Co 15 was deposited on the nucleation layer by sputtering to form a recording layer having a thickness of 50 nm. In this sputtering, Tb 20 Fe 65 Co 15 was formed on the nucleation layer by co-sputtering using a Tb target and an FeCo alloy target. In this sputtering, the sputtering gas pressure was set to 3.0 Pa, and the sputtering power was set to 0.5 kW (Tb target) and 1.5 kW (FeCo alloy target). The film structure of the recording layer formed in this way is substantially uniform.

この後、当該記録層上に、実施例1と同様にして、中間層(厚さ15nm)、再生層(厚さ25nm)、誘電体層(厚さ60nm)、および保護膜(厚さ20μm)を順次形成した。以上のようにして、本比較例の光磁気ディスクを作製した。   Thereafter, an intermediate layer (thickness 15 nm), a reproduction layer (thickness 25 nm), a dielectric layer (thickness 60 nm), and a protective film (thickness 20 μm) are formed on the recording layer in the same manner as in Example 1. Were sequentially formed. As described above, the magneto-optical disk of this comparative example was produced.

〔記録磁界およびCNRの測定〕
本比較例の光磁気ディスクについて、実施例1と同様にして記録磁界の強度および再生信号のCNRを調べたところ、記録磁界の強度は800Oeであり、CNRは40dBであった。
[Measurement of recording magnetic field and CNR]
For the magneto-optical disk of this comparative example, the recording magnetic field strength and the reproduction signal CNR were examined in the same manner as in Example 1. The recording magnetic field strength was 800 Oe and the CNR was 40 dB.

比較例2Comparative Example 2

記録層形成時のスパッタガス圧力を3.0Paに代えて0.4Paとした以外は比較例1と同様にして、本比較例の光磁気ディスクを作製した。本比較例における記録層の膜組織も、比較例1における記録層と同様に、実質的に一様である。また、本比較例の光磁気ディスクについて、実施例1と同様にして記録磁界の強度および再生信号のCNRを調べたところ、記録磁界の強度は250Oeであり、CNRは25dBであった。   A magneto-optical disk of this comparative example was fabricated in the same manner as in Comparative Example 1 except that the sputtering gas pressure during formation of the recording layer was changed to 0.4 Pa instead of 3.0 Pa. The film structure of the recording layer in this comparative example is also substantially uniform, like the recording layer in comparative example 1. For the magneto-optical disk of this comparative example, the recording magnetic field strength and the reproduction signal CNR were examined in the same manner as in Example 1. The recording magnetic field strength was 250 Oe, and the CNR was 25 dB.

比較例3Comparative Example 3

記録層の形成以外は実施例1と同様にして、本比較例の光磁気ディスクを作製した。本比較例における記録層は、第1内部構造層の厚さを10nmに代えて40nmとして当該第1内部構造層を形成する際のスパッタガス圧力を0.4Paに代えて3.0Paとし、且つ、第2内部構造層の厚さを40nmに代えて10nmとして当該第2内部構造層を形成する際のスパッタガス圧力を3.0Paに代えて0.4Paとした以外は、実施例1における記録層と同様にして、形成した。また、本比較例の光磁気ディスクについて、実施例1と同様にして記録磁界の強度および再生信号のCNRを調べたところ、記録磁界の強度は350Oeであり、CNRは35dBであった。   A magneto-optical disk of this comparative example was produced in the same manner as in Example 1 except for the formation of the recording layer. In the recording layer in this comparative example, the thickness of the first internal structure layer is changed to 40 nm instead of 10 nm, and the sputtering gas pressure when forming the first internal structure layer is set to 3.0 Pa instead of 0.4 Pa. Recording in Example 1 except that the thickness of the second internal structure layer was changed to 10 nm instead of 40 nm, and the sputtering gas pressure when forming the second internal structure layer was changed to 0.4 Pa instead of 3.0 Pa. Formed in the same way as the layer. For the magneto-optical disk of this comparative example, the recording magnetic field strength and the reproduction signal CNR were examined in the same manner as in Example 1. The recording magnetic field strength was 350 Oe, and the CNR was 35 dB.

評価Evaluation

図6の表に示すように、本発明に係る実施例1〜6の光磁気ディスクは、比較例1の光磁気ディスクよりも、記録磁界感度に優れている。比較的高い一様のガス圧条件で記録層が形成された比較例1の光磁気ディスクの必要最小の記録磁界は、800Oeと高い。これに対し、相対的に低いガス圧条件で形成された第1内部構造層と、相対的に高いガス圧条件で形成された第2内部構造層と、から記録層が構成される実施例1〜6の光磁気ディスクでは、必要最小の記録磁界が700Oe以下と低く、良好な記録感度が得られた。   As shown in the table of FIG. 6, the magneto-optical disks of Examples 1 to 6 according to the present invention are superior to the magneto-optical disk of Comparative Example 1 in recording magnetic field sensitivity. The minimum required recording magnetic field of the magneto-optical disk of Comparative Example 1 in which the recording layer is formed under relatively high uniform gas pressure conditions is as high as 800 Oe. On the other hand, Example 1 in which the recording layer is composed of a first internal structure layer formed under a relatively low gas pressure condition and a second internal structure layer formed under a relatively high gas pressure condition. In the magneto-optical disks of -6, the necessary minimum recording magnetic field was as low as 700 Oe or less, and good recording sensitivity was obtained.

一方、本発明に係る実施例1〜6の光磁気ディスクは、比較例2,3の光磁気ディスクよりも、高いCNRを示す。比較的低い一様のガス圧条件で記録層が形成された比較例2の光磁気ディスクのCNRは、25dBと低すぎる。また、相対的に高いガス圧条件で形成された第1内部構造層と、相対的に低いガス圧条件で形成された第2内部構造層と、から記録層が構成される比較例3の光磁気ディスクのCNRは、35dBと低すぎる。これらに対し、相対的に低いガス圧条件で形成された第1内部構造層と、相対的に高いガス圧条件で形成された第2内部構造層と、から記録層が構成される実施例1〜6の光磁気ディスクでは、CNRが37以上であって、マーク長が80nmと短い記録マークについて、良好な再生特性が得られた。短マーク記録において良好な再生特性が得られる実施例1〜6の光磁気ディスクにおいては、高い記録密度での情報記録が可能である。   On the other hand, the magneto-optical disks of Examples 1 to 6 according to the present invention exhibit higher CNR than the magneto-optical disks of Comparative Examples 2 and 3. The CNR of the magneto-optical disk of Comparative Example 2 in which the recording layer is formed under a relatively low uniform gas pressure condition is too low at 25 dB. Further, the light of Comparative Example 3 in which the recording layer is constituted by the first internal structure layer formed under a relatively high gas pressure condition and the second internal structure layer formed under a relatively low gas pressure condition. The CNR of the magnetic disk is too low at 35 dB. On the other hand, Example 1 in which the recording layer is composed of a first internal structure layer formed under a relatively low gas pressure condition and a second internal structure layer formed under a relatively high gas pressure condition. In the magneto-optical disks of -6, good reproduction characteristics were obtained for recording marks having a CNR of 37 or more and a mark length as short as 80 nm. In the magneto-optical disks of Examples 1 to 6 in which good reproduction characteristics can be obtained in short mark recording, information recording at a high recording density is possible.

以上のように、本発明に係る実施例1〜6の光磁気ディスクにおいては、高記録密度化を図るとともに良好な記録磁界感度を実現することができた。   As described above, in the magneto-optical disks of Examples 1 to 6 according to the present invention, it was possible to achieve high recording density and good recording magnetic field sensitivity.

以上のまとめとして、本発明の構成およびそのバリエーションを以下に付記として列挙する。   As a summary of the above, the configurations of the present invention and variations thereof are listed below as supplementary notes.

(付記1)複数の垂直磁化膜からなる積層構造を有する記録層と、
前記記録層の側に微細凹凸面を有する核形成層と、からなる積層構造を有し、
前記記録層の各垂直磁化膜は、前記核形成層に近い垂直磁化膜ほど緻密な膜組織を有する、光磁気記録媒体。
(付記2)前記記録層の各垂直磁化膜は、前記核形成層に近い垂直磁化膜ほど低いガス圧条件で形成される、付記1に記載の光磁気記録媒体。
(付記3)前記記録層の各垂直磁化膜は、前記核形成層に近い垂直磁化膜ほど薄い、付記1または2に記載の光磁気記録媒体。
(付記4)前記記録層は窒素を含み、当該記録層の各垂直磁化膜は、前記核形成層に近い垂直磁化膜ほど高い窒素組成比を有する、付記1から3のいずれか一つに記載の光磁気記録媒体。
(付記5)垂直磁化膜よりなる記録層と、
前記記録層の側に微細凹凸面を有する核形成層と、からなる積層構造を有し、
前記記録層は、前記核形成層に近い部位ほど緻密な膜組織を有する、光磁気記録媒体。
(付記6)前記記録層は、前記核形成層に近い部位ほど低いガス圧条件で形成される、付記5に記載の光磁気記録媒体。
(付記7)前記記録層は、窒素を含み、前記核形成層に近い部位ほど高い窒素組成比を有する、付記5または6に記載の光磁気記録媒体。
(付記8)前記記録層は、TbFeCo、Pt合金、またはPd合金よりなる、付記1から7のいずれか一つに記載の光磁気記録媒体。
(Supplementary note 1) a recording layer having a laminated structure composed of a plurality of perpendicular magnetization films;
A nucleation layer having a fine irregular surface on the recording layer side,
Each perpendicular magnetization film of the recording layer has a denser film structure as the perpendicular magnetization film is closer to the nucleation layer.
(Supplementary note 2) The magneto-optical recording medium according to supplementary note 1, wherein each perpendicular magnetization film of the recording layer is formed under a lower gas pressure condition as the perpendicular magnetization film is closer to the nucleation layer.
(Appendix 3) The magneto-optical recording medium according to appendix 1 or 2, wherein each perpendicular magnetization film of the recording layer is thinner as a perpendicular magnetization film closer to the nucleation layer.
(Appendix 4) The recording layer according to any one of appendices 1 to 3, wherein the recording layer includes nitrogen, and each perpendicular magnetization film of the recording layer has a higher nitrogen composition ratio as the perpendicular magnetization film is closer to the nucleation layer. Magneto-optical recording medium.
(Appendix 5) A recording layer made of a perpendicular magnetization film;
A nucleation layer having a fine irregular surface on the recording layer side,
The magneto-optical recording medium, wherein the recording layer has a denser film structure closer to the nucleation layer.
(Supplementary note 6) The magneto-optical recording medium according to supplementary note 5, wherein the recording layer is formed under a lower gas pressure condition in a portion closer to the nucleation layer.
(Supplementary note 7) The magneto-optical recording medium according to supplementary note 5 or 6, wherein the recording layer contains nitrogen, and a portion closer to the nucleation layer has a higher nitrogen composition ratio.
(Supplementary note 8) The magneto-optical recording medium according to any one of supplementary notes 1 to 7, wherein the recording layer is made of TbFeCo, a Pt alloy, or a Pd alloy.

本発明の第1の実施形態に係る光磁気ディスクの部分断面図である。1 is a partial cross-sectional view of a magneto-optical disk according to a first embodiment of the present invention. 図1に示す光磁気ディスクを製造するための方法を表す。1 represents a method for manufacturing the magneto-optical disk shown in FIG. 本発明の第2の実施形態に係る光磁気ディスクの部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of the magneto-optical disk which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態に係る光磁気ディスクの部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of the magneto-optical disk which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 実施例1〜5および比較例1〜3の光磁気ディスクに共通の積層構成を表す。A common laminated structure is shown in the magneto-optical disks of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3. 実施例1〜6および比較例1〜3の光磁気ディスクにおける記録層の構成、記録層形成時のスパッタガス圧力、並びに、記録磁界およびCNRの測定結果を、まとめた表である。6 is a table summarizing the recording layer configurations, sputtering gas pressures during recording layer formation, and recording magnetic field and CNR measurement results in the magneto-optical disks of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3. 従来の光磁気ディスクの部分断面図である。It is a partial sectional view of a conventional magneto-optical disk. 核形成層を有する従来の光磁気ディスクの部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of the conventional magneto-optical disk which has a nucleation layer.

符号の説明Explanation of symbols

X1,X2,X3,X4 光磁気ディスク
S 基板
10,30,40,71 記録磁性部
11,31,41 記録層
12,32,42 中間層
13,33,43 再生層
21,72 プリグルーブ層
22,73 熱伝導層
23,25,74,75 誘電体層
24,77 核形成層
24a,77a 微細凹凸面
26,76 保護膜
X1, X2, X3, X4 Magneto-optical disk S substrate 10, 30, 40, 71 Recording magnetic part 11, 31, 41 Recording layer 12, 32, 42 Intermediate layer 13, 33, 43 Reproduction layer 21, 72 Pregroove layer 22 , 73 Thermal conductive layer 23, 25, 74, 75 Dielectric layer 24, 77 Nucleation layer 24a, 77a Fine uneven surface 26, 76 Protective film

Claims (5)

複数の垂直磁化膜からなる積層構造を有する記録層と、
前記記録層の側に微細凹凸面を有する核形成層と、からなる積層構造を有し、
前記記録層の各垂直磁化膜は、前記核形成層に近い垂直磁化膜ほど緻密な膜組織を有する、光磁気記録媒体。
A recording layer having a laminated structure composed of a plurality of perpendicular magnetization films;
A nucleation layer having a fine irregular surface on the recording layer side,
Each perpendicular magnetization film of the recording layer has a denser film structure as the perpendicular magnetization film is closer to the nucleation layer.
前記記録層の各垂直磁化膜は、前記核形成層に近い垂直磁化膜ほど低いガス圧条件で形成される、請求項1に記載の光磁気記録媒体。   2. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein each perpendicular magnetization film of the recording layer is formed under a lower gas pressure condition as the perpendicular magnetization film is closer to the nucleation layer. 前記記録層の各垂直磁化膜は、前記核形成層に近い垂直磁化膜ほど薄い、請求項1または2に記載の光磁気記録媒体。   The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein each perpendicular magnetization film of the recording layer is thinner as a perpendicular magnetization film closer to the nucleation layer. 前記記録層は窒素を含み、当該記録層の各垂直磁化膜は、前記核形成層に近い垂直磁化膜ほど高い窒素組成比を有する、請求項1から3のいずれか一つに記載の光磁気記録媒体。   4. The magneto-optical device according to claim 1, wherein the recording layer contains nitrogen, and each perpendicular magnetization film of the recording layer has a higher nitrogen composition ratio as the perpendicular magnetization film is closer to the nucleation layer. 5. recoding media. 垂直磁化膜よりなる記録層と、
前記記録層の側に微細凹凸面を有する核形成層と、からなる積層構造を有し、
前記記録層は、前記核形成層に近い部位ほど緻密な膜組織を有する、光磁気記録媒体。
A recording layer made of a perpendicular magnetization film;
A nucleation layer having a fine irregular surface on the recording layer side,
The magneto-optical recording medium, wherein the recording layer has a denser film structure closer to the nucleation layer.
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