JP2006186337A - Light emitting element and electronic apparatus using the same - Google Patents

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亮二 野村
Tetsushi Seo
哲史 瀬尾
Hiroko Abe
寛子 安部
Takako Takasu
貴子 高須
Hideko Inoue
英子 井上
Toshio Ikeda
寿雄 池田
Daisuke Kumaki
大介 熊木
Junichiro Sakata
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light emitting element in which a drive voltage is low, reliability is high, which can prevent the short circuit of electrodes, and can give high extraction efficiency of the light and high hole-injecting or hole-transporting, and also to provide an electronic apparatus using it. <P>SOLUTION: A conjugate molecule with small ionization potential and a substance with electronic acceptance to the conjugate molecule are mixed to form a complex. A compound layer which constitutes an element is formed using the complex as an element material. The compound layer is arranged between the first electrode and the light emitting layer or between the second electrode and the light emitting layer. Since the compound layer has high conductivity, even if the film is thick, the drive voltage does not rise. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は発光素子に関する。特に、共役分子と共役分子に対して電子受容性を持つ物質との複合体により構成した層を有する発光素子に関する。また、発光素子を有する発光装置に関する。   The present invention relates to a light emitting device. In particular, the present invention relates to a light-emitting element having a layer formed of a complex of a conjugated molecule and a substance having an electron accepting property with respect to the conjugated molecule. Further, the present invention relates to a light emitting device having a light emitting element.

エレクトロルミネセンス(EL)ディスプレイは、次世代のフラットパネルディスプレイ素子として最も注目されているものの一つであり、発光素子により構成される。発光素子は、電流を流すことにより陰極から注入された電子と陽極から注入された正孔が発光層で再結合して分子励起子を形成する。そして、分子励起子が基底状態に戻る際に放出する光子を利用して、発光素子は発光する。従って、分子励起子の励起エネルギーの全てを発光に利用することが、発光効率の良い発光素子を作製するための条件の一つとなる。   An electroluminescence (EL) display is one of the most attracting attention as a next-generation flat panel display element, and is composed of a light emitting element. In the light-emitting element, when current is passed, electrons injected from the cathode and holes injected from the anode are recombined in the light-emitting layer to form molecular excitons. The light-emitting element emits light using photons emitted when the molecular excitons return to the ground state. Therefore, using all of the excitation energy of molecular excitons for light emission is one of the conditions for manufacturing a light-emitting element with high emission efficiency.

上記条件を満たす一つの例としては発光素子の積層構造がある。例えば、陽極と陰極からなる一対の電極間に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層等で積層を形成する。   One example of satisfying the above condition is a stacked structure of light emitting elements. For example, a stacked layer is formed with a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, or the like between a pair of electrodes including an anode and a cathode.

また、発光層に効率良くキャリアである正孔と電子を注入することも、発光効率の良い発光素子を作製するための条件の一つとなる。そのために、正孔注入層にはイオン化ポテンシャルの小さい材料を用い、電子注入層には電子親和力の大きい材料を用いることが知られている。   In addition, efficient injection of holes and electrons as carriers into the light-emitting layer is one of the conditions for manufacturing a light-emitting element with high light-emission efficiency. Therefore, it is known that a material having a low ionization potential is used for the hole injection layer and a material having a high electron affinity is used for the electron injection layer.

以上のような発光素子の積層構造を構成する層は、無機化合物である金属酸化物、または有機化合物で形成されている。   The layers constituting the stacked structure of the light-emitting element as described above are formed of a metal oxide that is an inorganic compound or an organic compound.

また、有機化合物と無機化合物を混合した層を用い、発光素子を形成するという試みもなされている。例えば、下記特許文献1では、シリカマトリックス中に共有結合を介して有機化合物(ホール輸送性化合物、電子輸送性化合物、発光性化合物)を分散した材料でなる層を積層して形成した発光素子も開示されている。特許文献1では、素子の耐久性や耐熱性が向上すると報告されている。
特開2000−306669
In addition, attempts have been made to form a light emitting element using a layer in which an organic compound and an inorganic compound are mixed. For example, in Patent Document 1 below, a light-emitting element formed by laminating a layer made of a material in which an organic compound (a hole transporting compound, an electron transporting compound, or a light-emitting compound) is dispersed in a silica matrix via a covalent bond is also disclosed. It is disclosed. In patent document 1, it is reported that durability and heat resistance of an element improve.
JP 2000-306669 A

しかしながら、発光素子を構成する層として金属酸化物を用いた場合は次のような問題があった。金属酸化物は結晶化しやすく、結晶化により金属酸化物表面に凹凸が形成される。この凸部分に電界が集中し、信頼性の高い発光素子は得られなかった。また、ゴミ等に起因する発光素子の電極同士の短絡を防ぐ目的や、発光層からの光を効率良く取り出すという光学設計の目的で、金属酸化物の膜厚を厚くすると、駆動電圧が上昇するという問題があった。   However, when a metal oxide is used as a layer constituting the light emitting element, there are the following problems. Metal oxide is easily crystallized, and unevenness is formed on the surface of the metal oxide by crystallization. An electric field was concentrated on the convex portion, and a highly reliable light-emitting element could not be obtained. In addition, when the metal oxide film is thickened for the purpose of preventing short-circuit between electrodes of the light-emitting element due to dust or the like, or for the purpose of optical design to efficiently extract light from the light-emitting layer, the driving voltage increases. There was a problem.

一方で、有機化合物を発光素子を構成する層として用いた場合は、陽極として仕事関数が小さいものを使うと、有機化合物にホールが入りにくくなり、駆動電圧が上昇する。したがって、陽極として仕事関数が小さい材料を使うことは好ましくなく、陽極材料に制限があった。また、上記金属酸化物材料と同様に、膜厚を厚くすると駆動電圧が高くなるという問題があった。   On the other hand, when an organic compound is used as a layer constituting the light emitting element, if an anode having a small work function is used, holes are less likely to enter the organic compound, and the drive voltage increases. Therefore, it is not preferable to use a material having a small work function as the anode, and the anode material is limited. Further, like the metal oxide material, there is a problem that the drive voltage increases when the film thickness is increased.

また、上記特許文献1で開示されているような発光素子は、絶縁性である金属酸化物中に有機化合物が単に分散されているだけであるため、従来の発光素子に比べて電流が流れにくくなってしまう(すなわち、ある電流を流すのに必要な電圧が高くなってしまう)。つまり低密度の電流しか流れないことになる。したがって、特許文献1の構成では、耐久性や耐熱性が得られたとしても、駆動電圧の上昇や、それに伴う消費電力の上昇を招いてしまう。   Further, in the light-emitting element disclosed in Patent Document 1, since an organic compound is simply dispersed in an insulating metal oxide, current does not easily flow compared to a conventional light-emitting element. (That is, the voltage required to pass a certain current increases). That is, only a low density current flows. Therefore, even if durability and heat resistance are obtained, the configuration of Patent Document 1 causes an increase in driving voltage and an accompanying increase in power consumption.

さらに、特許文献1で示されているような構成で膜厚を厚くすると、駆動電圧の上昇はさらに顕在化してしまう。つまり、特許文献1の構成では、膜厚を厚くすることは実用的には困難である。   Furthermore, when the film thickness is increased with the configuration shown in Patent Document 1, the increase in the driving voltage becomes more obvious. That is, in the configuration of Patent Document 1, it is practically difficult to increase the film thickness.

図14は上記特許文献1で開示されている従来の発光素子であり、第1の電極(陽極)1501と第2の電極(陰極)1502との間に、シリカマトリクスに有機化合物を分散した材料でなる層1503が挟持されている。すなわち、層1503は全てシリカマトリクスで構成されているが、1511はシリカマトリクスに正孔輸送性化合物を分散した材料でなる正孔輸送層であり、1513はシリカマトリクスに電子輸送性化合物を分散した材料でなる電子輸送層であり、1512はシリカマトリクスに発光性化合物を分散した材料でなる発光層である。この素子に電圧を印加すると、第1の電極(陽極)1501から正孔が、第2の電極(陰極)1502から電子がそれぞれ注入され、発光層1512で再結合し、発光性化合物が発光に至ると考えられる。   FIG. 14 shows a conventional light-emitting element disclosed in Patent Document 1, in which an organic compound is dispersed in a silica matrix between a first electrode (anode) 1501 and a second electrode (cathode) 1502. A layer 1503 is sandwiched. That is, the layer 1503 is entirely composed of a silica matrix, but 1511 is a hole transport layer made of a material in which a hole transport compound is dispersed in a silica matrix, and 1513 is an electron transport compound dispersed in a silica matrix. An electron transport layer made of a material, and 1512 is a light emitting layer made of a material in which a light emitting compound is dispersed in a silica matrix. When voltage is applied to this element, holes are injected from the first electrode (anode) 1501 and electrons are injected from the second electrode (cathode) 1502, recombined in the light-emitting layer 1512, and the light-emitting compound emits light. It is thought that.

この素子におけるキャリア輸送は正孔輸送層1511や電子輸送層1513が担っているが、絶縁性のシリカマトリクスに有機化合物が分散されているため、電流が流れにくいという問題がある。例えば正孔輸送層1511においては、正孔は正孔輸送層1511中に存在する正孔輸送性化合物間をホッピングして移動するため、絶縁性であるシリカマトリクスは正孔の輸送に関与することはない。逆に、正孔のホッピングの妨げになってしまう。電子輸送層1513についても同様のことが言える。したがって当然、従来の発光素子と比較しても駆動電圧は上昇してしまう。   Carrier transport in this element is carried out by the hole transport layer 1511 and the electron transport layer 1513. However, since an organic compound is dispersed in an insulating silica matrix, there is a problem that current hardly flows. For example, in the hole transport layer 1511, since holes move by hopping between hole transport compounds existing in the hole transport layer 1511, the insulating silica matrix is involved in hole transport. There is no. Conversely, hole hopping is hindered. The same can be said for the electron transport layer 1513. Therefore, as a matter of course, the driving voltage increases even when compared with the conventional light emitting device.

そこで本発明は、駆動電圧が低い発光素子を提供することを課題とする。また、信頼性が高い発光素子を提供することを課題とする。また、電極同士の短絡を防止しやすい発光素子を提供することを課題とする。また、光の取り出し効率の高い発光素子を提供することを課題とする。また、正孔注入性または正孔輸送性の高い発光素子を提供することを課題とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a light emitting element with a low driving voltage. It is another object to provide a light-emitting element with high reliability. It is another object of the present invention to provide a light emitting element that can easily prevent a short circuit between electrodes. Another object is to provide a light-emitting element with high light extraction efficiency. It is another object of the present invention to provide a light-emitting element having a high hole-injecting property or a high hole-transporting property.

本発明者は、鋭意検討を重ねた結果、一般式[化1]〜[化5]で示された共役分子のいずれか(以下、共役分子と言う)とこの共役分子に対し電子受容性を持つ物質(以下、電子受容性物質と言う)との複合体からなる層(以下、複合層と言う)を、一対の電極の少なくとも一方と、一対の電極間に位置する発光層との間に配置することで、課題を解決できることを見出した。   As a result of intensive studies, the inventor has made electron acceptability to any one of the conjugated molecules represented by the general formulas [Chemical Formula 1] to [Chemical Formula 5] (hereinafter referred to as conjugated molecules) and this conjugated molecule. A layer (hereinafter referred to as a composite layer) composed of a complex with a substance (hereinafter referred to as an electron-accepting material) is provided between at least one of the pair of electrodes and a light emitting layer positioned between the pair of electrodes. It was found that the problem can be solved by arranging.

電子受容性物質としては、金属酸化物または金属窒化物が好ましく、さらに好ましくは周期表第4族乃至第12族のいずれかの遷移金属酸化物がある。中でも、周期表第4族乃至第8族のいずれかの遷移金属酸化物は電子受容性の高いものが多く、特に酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化レニウム、酸化タングステン、酸化ルテニウム、酸化チタン、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化ニオブが好適である。   As the electron-accepting substance, a metal oxide or a metal nitride is preferable, and a transition metal oxide of any of Groups 4 to 12 of the periodic table is more preferable. Among them, many transition metal oxides of Groups 4 to 8 of the periodic table have high electron-accepting properties, and in particular, vanadium oxide, molybdenum oxide, rhenium oxide, tungsten oxide, ruthenium oxide, titanium oxide, and chromium oxide. Zirconium oxide, hafnium oxide, tantalum oxide and niobium oxide are preferred.

また、電子受容性物質として、電子受容性を持つ有機化合物でも良い。具体的には、7,7,8,8−テトラシアノ−2,3,5,6−テトラフルオロキノジメタン(F4−TCNQ)、クロラニルなどが挙げられる。さらに、電子受容性物質としてルイス酸を用いても良い。ルイス酸の例としては、FeCl(塩化鉄(III))、AlCl(塩化アルミニウム)が挙げられる。 Further, an organic compound having an electron accepting property may be used as the electron accepting substance. Specific examples include 7,7,8,8-tetracyano-2,3,5,6-tetrafluoroquinodimethane (F4-TCNQ) and chloranil. Further, a Lewis acid may be used as the electron accepting substance. Examples of Lewis acid include FeCl 3 (iron chloride (III)) and AlCl 3 (aluminum chloride).

また、複合層における電子受容性物質と一般式[化1]〜[化5]で示された共役分子のいずれかとの最適な混合比は、モル比で電子受容性物質/共役分子=0.1〜10、好ましくは0.5〜2である。この混合比のときが、電子受容性物質と共役分子との間で電子の授受が効率よく行われ、最も複合層の導電性が高くなる。   In addition, the optimum mixing ratio of the electron-accepting substance in the composite layer and any of the conjugated molecules represented by the general formulas [Chemical Formula 1] to [Chemical Formula 5] is as follows. 1-10, preferably 0.5-2. At this mixing ratio, electrons are efficiently exchanged between the electron-accepting substance and the conjugated molecule, and the conductivity of the composite layer is the highest.

Figure 2006186337
(式中、XとZは同一または異なっており、且つ、XとZはそれぞれ硫黄原子、酸素原子、水素、アルキル基もしくはアリール基が結合した窒素原子、又は水素、アルキル基もしくはアリール基が結合した珪素原子のいずれかであり、Yはアリーレン基であり、RからRはそれぞれ、水素、アリール基、アルキル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、チオアルコキシ基、又はアルコキシ基のいずれかである。)
Figure 2006186337
(Wherein X and Z are the same or different, and X and Z are each a nitrogen atom to which a sulfur atom, oxygen atom, hydrogen, alkyl group or aryl group is bonded, or a hydrogen, alkyl group or aryl group bonded thereto) Y is an arylene group, and R 1 to R 6 are each a hydrogen atom, an aryl group, an alkyl group, a cyano group, a dialkylamino group, a thioalkoxy group, or an alkoxy group. is there.)

Figure 2006186337
(式中、Yはアリーレン基であり、RからRはそれぞれ、水素、アリール基、アルキル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、チオアルコキシ基、又はアルコキシ基のいずれかである。)
Figure 2006186337
(In the formula, Y is an arylene group, and R 1 to R 6 are each hydrogen, an aryl group, an alkyl group, a cyano group, a dialkylamino group, a thioalkoxy group, or an alkoxy group.)

Figure 2006186337
(式中、Yはアリーレン基であり、RからRはそれぞれ、水素、アリール基、アルキル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、チオアルコキシ基、又はアルコキシ基のいずれかである。)
Figure 2006186337
(In the formula, Y is an arylene group, and R 1 to R 6 are each hydrogen, an aryl group, an alkyl group, a cyano group, a dialkylamino group, a thioalkoxy group, or an alkoxy group.)

Figure 2006186337
(式中、Yはアリーレン基であり、RからRはそれぞれ、水素、アリール基、アルキル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、チオアルコキシ基、又はアルコキシ基のいずれかであり、RとRは水素、アルキル基又はアリール基のいずれかである。)
Figure 2006186337
(Wherein Y is an arylene group, and R 1 to R 6 are each hydrogen, aryl group, alkyl group, cyano group, dialkylamino group, thioalkoxy group, or alkoxy group, and R 7 and R 8 is either hydrogen, an alkyl group or an aryl group.)

Figure 2006186337
(式中、Yはアリーレン基であり、RからRはそれぞれ、水素、アリール基、アルキル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、チオアルコキシ基、又はアルコキシ基のいずれかであり、RからR10はそれぞれ水素、アルキル基又はアリール基のいずれかである。)
Figure 2006186337
(In the formula, Y is an arylene group, each R 6 is from R 1, hydrogen, an aryl group, an alkyl group, a cyano group, a dialkylamino group, or a thioalkoxy group, or an alkoxy group, a R 7 Each R 10 is hydrogen, an alkyl group, or an aryl group.)

上記一般式[化1]〜[化5]で示される共役分子において、式中Yはアリーレン基であり、且つ、炭素数6から20の二価の芳香族炭化水素基、又は酸素、窒素、硫黄もしくは珪素を含む炭素数4から30の二価の複素芳香環基である。   In the conjugated molecules represented by the above general formulas [Chemical Formula 1] to [Chemical Formula 5], Y is an arylene group and a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, or oxygen, nitrogen, A divalent heteroaromatic group having 4 to 30 carbon atoms and containing sulfur or silicon.

上記一般式[化1]〜[化5]で示す共役分子において、式中RとRとで環構造を形成し、且つRとRとで環構造を形成する。 In the conjugated molecules represented by the general formulas [Chemical Formula 1] to [Chemical Formula 5], R 1 and R 2 form a ring structure, and R 3 and R 4 form a ring structure.

本発明の構成の一つは、第1の電極と第2の電極でなる一対の電極と、その電極の間にある発光層と、第1の電極と発光層との間にある第1の層と、第2の電極と発光層との間にある第2の層とを有し、第1の層または第2の層は、電子受容性物質と一般式[化1]〜[化5]で示される共役分子いずれかとの複合層を含む。   One of the structures of the present invention includes a pair of electrodes including a first electrode and a second electrode, a light emitting layer between the electrodes, and a first electrode between the first electrode and the light emitting layer. And a second layer between the second electrode and the light-emitting layer. The first layer or the second layer includes an electron-accepting substance and the general formulas [Chemical Formula 1] to [Chemical Formula 5]. A composite layer with any of the conjugated molecules represented by

上記構成において、複合層は第1の層において、第1の電極と接して配置されても良いし、発光層と接して配置されても良い。また、複合層は第2の層において、第2の電極と接して配置されても良いし、発光層と接して配置されても良い。   In the above structure, the composite layer may be disposed in contact with the first electrode in the first layer, or may be disposed in contact with the light emitting layer. In the second layer, the composite layer may be disposed in contact with the second electrode or may be disposed in contact with the light emitting layer.

上記構成において、第1の層及び第2の層ともに複合層を含んでも良い。また、第1の電極の電位が第2の電極の電位よりも高くなるように電極に電圧が印加されたときに、発光層から発光する発光素子では、第2の層が複合層を含むときは、複合層に接して発光層側に電子発生層を設ける。   In the above structure, the first layer and the second layer may include a composite layer. In a light-emitting element that emits light from a light-emitting layer when a voltage is applied to the electrode so that the potential of the first electrode is higher than the potential of the second electrode, the second layer includes a composite layer. Provides an electron generating layer on the light emitting layer side in contact with the composite layer.

本明細書における複合層とは、上述した一般式[化1]〜[化5]で示す共役分子のいずれかと、この共役分子に対して電子受容性を持つ物質との複合体を用いて形成した層のことである。   The composite layer in this specification is formed using a composite of any of the conjugated molecules represented by the general formulas [Chemical Formula 1] to [Chemical Formula 5] described above and a substance having an electron accepting property with respect to the conjugated molecule. It is a layer that has been.

一般式[化1]から[化5]で表される共役分子は、イオン化ポテンシャルの小さい電子過剰型芳香環であるチオフェン骨格、フラン骨格、ピロール骨格、シロール骨格のいずれかから二つの骨格をフェニレン環などの共役分子に導入したものである。したがって、共役分子はイオン化ポテンシャルが小さいことがわかっている。特にRからRがアルコキシ基などの電子供与性置換基の場合、共役分子はさらに小さなイオン化ポテンシャルを持つ。このような共役分子と電子受容性物質を混合させ複合層とすることで、共役分子と電子受容性物質との間で電子の授受が起こる。つまり、電圧が発光素子に印加される前に既に複合層において、共役分子が持つイオン化ポテンシャルに基づく正孔が発生している状態になる。 Conjugated molecules represented by the general formulas [Chemical Formula 1] to [Chemical Formula 5] have two skeletons from any one of a thiophene skeleton, a furan skeleton, a pyrrole skeleton, and a silole skeleton, which are electron-rich aromatic rings having a small ionization potential. It is introduced into a conjugated molecule such as a ring. Therefore, it is known that the conjugated molecule has a small ionization potential. In particular, when R 1 to R 6 are electron donating substituents such as an alkoxy group, the conjugated molecule has a smaller ionization potential. By mixing such a conjugated molecule and an electron-accepting substance to form a composite layer, electrons are transferred between the conjugated molecule and the electron-accepting substance. That is, before the voltage is applied to the light-emitting element, holes are already generated in the composite layer based on the ionization potential of the conjugated molecule.

従って、単にイオン化ポテンシャルが小さい材料のみを用いた層よりも、本願の複合層を有したほうが、より正孔注入障壁が低減された発光素子が得られる。また、より正孔が移動しやすい発光素子が得られる。このような複合層の機能からみると、本願の複合層は正孔発生層、正孔輸送層のように機能することもある。   Therefore, it is possible to obtain a light-emitting element with a reduced hole injection barrier by having the composite layer of the present application rather than a layer using only a material having a low ionization potential. In addition, a light-emitting element in which holes can move more easily can be obtained. In view of the function of such a composite layer, the composite layer of the present application may function like a hole generation layer and a hole transport layer.

また、上述したように本願で用いる複合層では、電圧印加前でも電子の授受が行われるため、複合層は非常に導電性の高い膜となる。従って、駆動電圧及び消費電力の小さい発光素子を提供することができる。さらに、複合層の厚膜化に比例して駆動電圧が上昇することが少ない。よって、複合層を厚膜化して発光素子の電極同士の短絡を防止することができる。また、複合層の厚膜化により光の取り出し効率を最適化することが可能となる。さらに、信頼性が高い発光素子を提供することができる。加えて、発光効率の高い発光素子を提供することができる。   In addition, as described above, in the composite layer used in the present application, electrons are transferred even before voltage application, and thus the composite layer is a highly conductive film. Therefore, a light-emitting element with low driving voltage and power consumption can be provided. In addition, the drive voltage rarely increases in proportion to the increase in the thickness of the composite layer. Therefore, the composite layer can be thickened to prevent a short circuit between the electrodes of the light emitting element. Further, the light extraction efficiency can be optimized by increasing the thickness of the composite layer. Furthermore, a highly reliable light-emitting element can be provided. In addition, a light-emitting element with high emission efficiency can be provided.

さらに、共役分子と電子受容性物質を混合させた複合層は結晶化し難いため、層の結晶化に起因した動作不良の少ない発光素子を得ることができる。   Further, since a composite layer in which a conjugated molecule and an electron-accepting substance are mixed is difficult to crystallize, a light-emitting element with less malfunction due to crystallization of the layer can be obtained.

以下、本発明の一態様について説明する。但し、本発明は、実施可能な範囲において、多くの異なる態様で実施することが可能である。本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、以下に示す実施の形態及び実施例は、適宜組み合わせることが可能である。   Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described. However, the present invention can be implemented in many different modes within a practicable range. It will be readily appreciated by those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the present invention. Therefore, the present invention is not construed as being limited to the description of the embodiment. Further, the following embodiments and examples can be combined as appropriate.

(実施の形態1)
本発明の発光素子の一態様について図1を用いて説明する。
(Embodiment 1)
One mode of a light-emitting element of the present invention will be described with reference to FIG.

図1(A)〜(C)には、第1の電極101と第2の電極102との間に、第1の電極101と接する第1の層111、第1の層111と接する第2の層112、第2の層112と第2の電極102に接する第3の層113とを有する発光素子が示されている。図1では、第1の電極101の電位が、第2の電極102の電位よりも高くなるように電極に電圧が印加されるときに、発光する。第2の層112は発光層であり、第3の層113は、電子を第2の層である発光層に運ぶ又は注入する機能を持つ層である。   1A to 1C, a first layer 111 in contact with the first electrode 101 and a second layer in contact with the first layer 111 between the first electrode 101 and the second electrode 102 are illustrated. A light-emitting element having the first layer 112, the second layer 112, and the third layer 113 in contact with the second electrode 102 is shown. In FIG. 1, light is emitted when a voltage is applied to the electrode such that the potential of the first electrode 101 is higher than the potential of the second electrode 102. The second layer 112 is a light emitting layer, and the third layer 113 is a layer having a function of carrying or injecting electrons to the light emitting layer which is the second layer.

第2の層112は発光物質を含んでいる。第2の層112は、発光物質のみから形成された層であってもよい。しかし、濃度消光を生じる場合は、発光物質の有するエネルギーギャップよりも大きいエネルギーギャップを有する物質からなる層中に、発光物質が分散するように混合された層であることが好ましい。第2の層112に発光物質を分散して含ませることで、発光が濃度に起因して消光してしまうことを防ぐことができる。ここで、エネルギーギャップとはLUMO準位とHOMO準位との間のエネルギーギャップをいう。   The second layer 112 includes a light emitting material. The second layer 112 may be a layer formed only from a light emitting substance. However, in the case where concentration quenching occurs, it is preferable that the layer be mixed so that the light-emitting substance is dispersed in a layer made of a substance having an energy gap larger than that of the light-emitting substance. By including a light-emitting substance in the second layer 112 in a dispersed manner, light emission can be prevented from being quenched due to concentration. Here, the energy gap refers to an energy gap between the LUMO level and the HOMO level.

発光物質について特に限定はなく、発光効率が良好で、所望の発光波長の発光をし得る物質を用いればよい。例えば、赤色系の発光を得たいときには、4−ジシアノメチレン−2−イソプロピル−6−[2−(1,1,7,7−テトラメチルジュロリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン(略称:DCJTI)、4−ジシアノメチレン−2−メチル−6−[2−(1,1,7,7−テトラメチルジュロリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン(略称:DCJT)、4−ジシアノメチレン−2−tert−ブチル−6−[2−(1,1,7,7−テトラメチルジュロリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン(略称:DCJTB)やペリフランテン、2,5−ジシアノ−1,4−ビス[2−(10−メトキシ−1,1,7,7−テトラメチルジュロリジン−9−イル)エテニル]ベンゼン等、600nmから680nmに発光スペクトルのピークを有する発光を呈する物質を発光物質として用いることができる。また緑色系の発光を得たいときは、N,N’−ジメチルキナクリドン(略称:DMQd)、クマリン6やクマリン545T、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Alq)等、500nmから550nmに発光スペクトルのピークを有する発光を呈する物質を発光物質として用いることができる。また、青色系の発光を得たいときは、9,10−ビス(2−ナフチル)−tert−ブチルアントラセン(略称:t−BuDNA)、9,9’−ビアントリル、9,10−ジフェニルアントラセン(略称:DPA)、9,10−ビス(2−ナフチル)アントラセン(略称:DNA)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)−4−フェニルフェノラト−ガリウム(略称:BGaq)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)−4−フェニルフェノラト−アルミニウム(略称:BAlq)等、420nmから500nmに発光スペクトルのピークを有する発光を呈する物質を発光物質として用いることができる。以上のように、蛍光を発光する物質の他、ビス[2−(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ピリジナト−N,C2’]イリジウム(III)ピコリナート(略称:Ir(CFppy)(pic))、ビス[2−(4,6−ジフルオロフェニル)ピリジナト−N,C2’]イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:FIr(acac))、ビス[2−(4,6−ジフルオロフェニル)ピリジナト−N,C2’]イリジウム(III)ピコリナート(略称:FIr(pic))、トリス(2−フェニルピリジナト−N,C2’)イリジウム(略称:Ir(ppy))等の燐光を発光する物質も発光物質として用いることができる。 There is no particular limitation on the light-emitting substance, and a substance that has favorable emission efficiency and can emit light with a desired emission wavelength may be used. For example, to obtain red light emission, 4-dicyanomethylene-2-isopropyl-6- [2- (1,1,7,7-tetramethyljulolidin-9-yl) ethenyl] -4H-pyran ( Abbreviation: DCJTI), 4-dicyanomethylene-2-methyl-6- [2- (1,1,7,7-tetramethyljulolidin-9-yl) ethenyl] -4H-pyran (abbreviation: DCJT), 4 -Dicyanomethylene-2-tert-butyl-6- [2- (1,1,7,7-tetramethyljulolidin-9-yl) ethenyl] -4H-pyran (abbreviation: DCJTB), periflanthene, 2,5 -Dicyano-1,4-bis [2- (10-methoxy-1,1,7,7-tetramethyljulolidin-9-yl) ethenyl] benzene, etc., emission spectrum from 600 nm to 680 nm Substance which exhibits emission with a peak can be used as a light-emitting substance. When green light emission is desired, N, N′-dimethylquinacridone (abbreviation: DMQd), coumarin 6, coumarin 545T, tris (8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Alq 3 ), etc., emits light from 500 nm to 550 nm. A substance that emits light having a spectral peak can be used as the light-emitting substance. When blue light emission is desired, 9,10-bis (2-naphthyl) -tert-butylanthracene (abbreviation: t-BuDNA), 9,9′-bianthryl, 9,10-diphenylanthracene (abbreviation) : DPA), 9,10-bis (2-naphthyl) anthracene (abbreviation: DNA), bis (2-methyl-8-quinolinolato) -4-phenylphenolato-gallium (abbreviation: BGaq), bis (2-methyl) A substance exhibiting light emission having an emission spectrum peak at 420 nm to 500 nm, such as -8-quinolinolato) -4-phenylphenolato-aluminum (abbreviation: BAlq), can be used as the light-emitting substance. As described above, in addition to a substance that emits fluorescence, bis [2- (3,5-bis (trifluoromethyl) phenyl) pyridinato-N, C 2 ′ ] iridium (III) picolinate (abbreviation: Ir (CF 3 ppy) 2 (pic)), bis [2- (4,6-difluorophenyl) pyridinato-N, C 2 ′ ] iridium (III) acetylacetonate (abbreviation: FIr (acac)), bis [2- (4 , 6-Difluorophenyl) pyridinato-N, C 2 ′ ] iridium (III) picolinate (abbreviation: FIr (pic)), tris (2-phenylpyridinato-N, C 2 ′ ) iridium (abbreviation: Ir (ppy) 3 ) A phosphorescent substance such as 3 ) can also be used as the light emitting substance.

また、発光物質と共に発光層に含まれ、発光物質を分散状態にするために用いられる物質について特に限定はなく、発光物質として用いる物質のエネルギーギャップ等を勘案して適宜選択すればよい。例えば、9,10−ジ(2−ナフチル)−2−tert−ブチルアントラセン(略称:t−BuDNA)等のアントラセン誘導体、または4,4’−ビス(N−カルバゾリル)ビフェニル(略称:CBP)等のカルバゾール誘導体、2,3−ビス(4−ジフェニルアミノフェニル)キノキサリン(略称:TPAQn)、2,3−ビス{4−[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]フェニル}−ジベンゾ[f,h]キノキサリン(略称:NPADiBzQn)等のキノキサリン誘導体の他、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ピリジナト]亜鉛(略称:Znpp)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾラト]亜鉛(略称:ZnBOX)等の金属錯体等を発光物質と共に用いることができる。 Further, there is no particular limitation on a substance that is included in the light-emitting layer together with the light-emitting substance and is used for dispersing the light-emitting substance, and may be appropriately selected in consideration of an energy gap of the substance used as the light-emitting substance. For example, anthracene derivatives such as 9,10-di (2-naphthyl) -2-tert-butylanthracene (abbreviation: t-BuDNA), or 4,4′-bis (N-carbazolyl) biphenyl (abbreviation: CBP) Carbazole derivatives of 2,3-bis (4-diphenylaminophenyl) quinoxaline (abbreviation: TPAQn), 2,3-bis {4- [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] phenyl} -dibenzo [ In addition to quinoxaline derivatives such as f, h] quinoxaline (abbreviation: NPDiBzQn), bis [2- (2-hydroxyphenyl) pyridinato] zinc (abbreviation: Znpp 2 ), bis [2- (2-hydroxyphenyl) benzoxazola G] A metal complex such as zinc (abbreviation: ZnBOX) or the like can be used together with a light-emitting substance.

図1(A)において、第1の層111は、共役分子と電子受容性物質でなる複合体で構成された複合層114と正孔輸送層115とを有する。複合層114は、第1の層において第1の電極101側に配置され、正孔輸送層115は第2の層112側に配置される。この構成では複合層114は正孔発生層として機能する。   In FIG. 1A, the first layer 111 includes a composite layer 114 and a hole transport layer 115 which are formed using a composite of a conjugated molecule and an electron-accepting substance. The composite layer 114 is disposed on the first electrode 101 side in the first layer, and the hole transport layer 115 is disposed on the second layer 112 side. In this configuration, the composite layer 114 functions as a hole generation layer.

また、一般的には、第1の電極101には仕事関数の大きい電極材料を用いるが、複合層114と第1の電極101が接している場合、第1の電極101に仕事関数が小さい電極(例えばアルミニウムやマグネシウム等)を用いることができる。これは、複合層114の構成因子である共役分子のイオン化ポテンシャルが非常に小さく、複合層114には正孔が発生しているため、仕事関数が小さい第1の電極101と複合層114との間でも正孔の授受が起こるからである。   In general, an electrode material having a high work function is used for the first electrode 101. However, when the composite layer 114 and the first electrode 101 are in contact with each other, the first electrode 101 is an electrode having a low work function. (For example, aluminum or magnesium) can be used. This is because the ionization potential of the conjugated molecule, which is a constituent factor of the composite layer 114, is very small, and holes are generated in the composite layer 114. Therefore, the first electrode 101 and the composite layer 114 having a small work function This is because holes are also exchanged between them.

図1(B)において、第1の層111は、共役分子と電子受容性物質でなる複合体で構成された複合層116と正孔注入層117とを有する。複合層116は、第1の層において第2の層側に配置され、正孔注入層117は第1の電極101側に配置される。この構成では複合層116は正孔輸送層として機能する。   In FIG. 1B, the first layer 111 includes a composite layer 116 and a hole-injection layer 117 that are formed using a composite of a conjugated molecule and an electron-accepting substance. The composite layer 116 is disposed on the second layer side in the first layer, and the hole injection layer 117 is disposed on the first electrode 101 side. In this configuration, the composite layer 116 functions as a hole transport layer.

図1(C)は、第1の層111が共役分子と電子受容性物質でなる複合体で構成された複合層118となっている。この構成では複合層118は正孔発生層、正孔輸送層、又は正孔発生層及び正孔輸送層として機能する。   In FIG. 1C, the first layer 111 is a composite layer 118 including a composite made of a conjugated molecule and an electron accepting substance. In this structure, the composite layer 118 functions as a hole generation layer, a hole transport layer, or a hole generation layer and a hole transport layer.

図1(A)〜(C)のどの構成においても、複合層が第1の電極101と発光層である第2の層112との間に位置するため、正孔注入性もしくは正孔輸送性が高い発光素子が得られる。また、複合層は導電性が高いため膜厚を厚くしても駆動電圧が上昇しない。従って、複合層を厚膜化し、光の取り出し効率を最適にしたり、発光素子の電極同士の短絡を抑えることができる。なお、図1(A)及び図1(B)のそれぞれにおいて、複合層が第1の電極や第2の層に接している例を示したが、必ずしも接している必要はない。図1(A)では複合層114と第1の電極101との間に他の層があっても良いし、図1(B)では複合層116と第2の層112との間に他の層があっても良い。   1A to 1C, since the composite layer is located between the first electrode 101 and the second layer 112 which is a light-emitting layer, hole injecting property or hole transporting property is achieved. A light emitting element having a high value can be obtained. Further, since the composite layer has high conductivity, the driving voltage does not increase even when the film thickness is increased. Therefore, the composite layer can be thickened to optimize the light extraction efficiency, and the short circuit between the electrodes of the light emitting element can be suppressed. Note that in each of FIGS. 1A and 1B, an example in which the composite layer is in contact with the first electrode or the second layer is described; however, the composite layer is not necessarily in contact. 1A, there may be another layer between the composite layer 114 and the first electrode 101. In FIG. 1B, another layer may be provided between the composite layer 116 and the second layer 112. There may be layers.

図1(A)において、正孔輸送層115は、正孔を輸送する機能を有する層であり、複合層114から第2の層112へ正孔を輸送する機能を有する。正孔輸送層115を設けることによって、複合層114と第2の層112との距離を離すことができ、その結果、複合層114に含まれている金属に起因して発光が消光することを防ぐことができる。正孔輸送層は、正孔輸送性の高い物質を用いて形成することが好ましく、特に1×10−6cm/Vs以上の正孔移動度を有する物質を用いて形成することが好ましい。なお、正孔輸送性の高い物質とは、電子よりも正孔の移動度が高く、電子の移動度に対する正孔の移動度の比の値(=正孔移動度/電子移動度)が100よりも大きい物質をいう。正孔輸送層115を形成するのに用いることができる物質の具体例としては、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:NPB)、4,4’−ビス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:TPD)、4,4’,4’’−トリス(N,N−ジフェニルアミノ)トリフェニルアミン(略称:TDATA)、4,4’,4’’−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ]トリフェニルアミン(略称:MTDATA)、4,4’−ビス{N−[4−(N,N−ジ−m−トリルアミノ)フェニル]−N−フェニルアミノ}ビフェニル(略称:DNTPD)、1,3,5−トリス[N,N−ジ(m−トリル)アミノ]ベンゼン(略称:m−MTDAB)、4,4’,4’’−トリス(N−カルバゾリル)トリフェニルアミン(略称:TCTA)、フタロシアニン(略称:HPc)、銅フタロシアニン(略称:CuPc)、バナジルフタロシアニン(略称:VOPc)等が挙げられる。 In FIG. 1A, the hole transport layer 115 is a layer having a function of transporting holes, and has a function of transporting holes from the composite layer 114 to the second layer 112. By providing the hole transport layer 115, the distance between the composite layer 114 and the second layer 112 can be increased, and as a result, light emission is quenched due to the metal contained in the composite layer 114. Can be prevented. The hole transport layer is preferably formed using a substance having a high hole transport property, and particularly preferably formed using a substance having a hole mobility of 1 × 10 −6 cm 2 / Vs or higher. Note that a substance having a high hole-transport property has a higher hole mobility than an electron, and the ratio of the hole mobility to the electron mobility (= hole mobility / electron mobility) is 100. Larger than the substance. Specific examples of a substance that can be used for forming the hole-transport layer 115 include 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (abbreviation: NPB), 4, 4′-bis [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] biphenyl (abbreviation: TPD), 4,4 ′, 4 ″ -tris (N, N-diphenylamino) triphenylamine (abbreviation: TDATA), 4,4 ′, 4 ″ -tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine (abbreviation: MTDATA), 4,4′-bis {N- [4- ( N, N-di-m-tolylamino) phenyl] -N-phenylamino} biphenyl (abbreviation: DNTPD), 1,3,5-tris [N, N-di (m-tolyl) amino] benzene (abbreviation: m -MTDAB), 4,4 ', 4''- Squirrel (N- carbazolyl) triphenylamine (abbreviation: TCTA), phthalocyanine (abbreviation: H 2 Pc), copper phthalocyanine (abbreviation: CuPc), or vanadyl phthalocyanine (abbreviation: VOPc), and the like.

図1(B)において、正孔注入層117は、第1の電極101から複合層116へ正孔の注入を補助する機能を有する層である。正孔注入層117を設けることによって、第1の電極101と複合層116との間のイオン化ポテンシャルの差が緩和され、正孔が注入され易くなる。正孔注入層117は、複合層116を形成している物質よりもイオン化ポテンシャルが小さく、第1の電極101を形成している物質よりもイオン化ポテンシャルが大きい物質、または複合層116と第1の電極101との間に1〜2nmの薄膜として設けたときにエネルギーバンドが曲がるような物質を用いて形成することが好ましい。正孔注入層117を形成するのに用いることのできる物質の具体例として、フタロシアニン(略称:HPc)や銅フタロシアニン(CuPC)等のフタロシアニン系の化合物、或いはポリ(エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(スチレンスルホン酸)水溶液(PEDOT/PSS)等の高分子等が挙げられる。正孔注入層117におけるイオン化ポテンシャルが複合層116におけるイオン化ポテンシャルよりも相対的に大きくなるように、正孔注入層117を形成することが好ましい。なお、正孔注入層117を設ける場合、第1の電極101は、インジウム錫酸化物等の仕事関数の高い物質を用いて形成することが好ましい。 In FIG. 1B, the hole injection layer 117 is a layer having a function of assisting injection of holes from the first electrode 101 to the composite layer 116. By providing the hole injection layer 117, the difference in ionization potential between the first electrode 101 and the composite layer 116 is reduced, and holes are easily injected. The hole injection layer 117 has a lower ionization potential than the material forming the composite layer 116 and has a higher ionization potential than the material forming the first electrode 101, or the composite layer 116 and the first layer. It is preferable to use a substance whose energy band is bent when it is provided as a 1 to 2 nm thin film between the electrode 101 and the electrode 101. Specific examples of a substance that can be used to form the hole-injection layer 117 include phthalocyanine-based compounds such as phthalocyanine (abbreviation: H 2 Pc) and copper phthalocyanine (CuPC), or poly (ethylenedioxythiophene) / Examples thereof include a polymer such as a poly (styrenesulfonic acid) aqueous solution (PEDOT / PSS). It is preferable to form the hole injection layer 117 so that the ionization potential in the hole injection layer 117 is relatively larger than the ionization potential in the composite layer 116. Note that in the case where the hole-injection layer 117 is provided, the first electrode 101 is preferably formed using a substance having a high work function such as indium tin oxide.

第3の層113は、第2の電極102から注入される電子を第2の層である発光層に運ぶ又は注入する機能を持つ層であれば良く、その構成は限定されない。第3の層113が例えば電子輸送層を有する場合は、電子輸送層は一般的に電子を輸送する機能を有する層であれば何でもよい。電子輸送層を形成する材料としては、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Alq)、トリス(4−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Almq)、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]−キノリナト)ベリリウム(略称:BeBq)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)−4−フェニルフェノラト−アルミニウム(略称:BAlq)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾオキサゾラト]亜鉛(略称:Zn(BOX))、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾチアゾラト]亜鉛(略称:Zn(BTZ))等の金属錯体の他、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(略称:PBD)、1,3−ビス[5−(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル]ベンゼン(略称:OXD−7)、3−(4−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−5−(4−ビフェニリル)−1,2,4−トリアゾール(略称:TAZ)、3−(4−tert−ブチルフェニル)−4−(4−エチルフェニル)−5−(4−ビフェニリル)−1,2,4−トリアゾール(略称:p−EtTAZ)、バソフェナントロリン(略称:BPhen)、バソキュプロイン(略称:BCP)、4,4−ビス(5−メチルベンズオキサゾル−2−イル)スチルベン(略称:BzOs)等が挙げられる。 The third layer 113 may be any layer as long as it has a function of carrying or injecting electrons injected from the second electrode 102 to the light-emitting layer that is the second layer, and the structure thereof is not limited. When the third layer 113 includes, for example, an electron transport layer, the electron transport layer may be anything as long as it generally has a function of transporting electrons. As a material for forming the electron transport layer, tris (8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Alq 3 ), tris (4-methyl-8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Almq 3 ), bis (10-hydroxybenzo [h ] - quinolinato) beryllium (abbreviation: BeBq 2), bis (2-methyl-8-quinolinolato) -4-phenylphenolato - aluminum (abbreviation: BAlq), bis [2- (2-hydroxyphenyl) benzoxazolato ] In addition to metal complexes such as zinc (abbreviation: Zn (BOX) 2 ), bis [2- (2-hydroxyphenyl) benzothiazolate] zinc (abbreviation: Zn (BTZ) 2 ), 2- (4-biphenylyl) -5 -(4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole (abbreviation: PBD), 1,3-bis [5- (p -Tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazol-2-yl] benzene (abbreviation: OXD-7), 3- (4-tert-butylphenyl) -4-phenyl-5- (4- Biphenylyl) -1,2,4-triazole (abbreviation: TAZ), 3- (4-tert-butylphenyl) -4- (4-ethylphenyl) -5- (4-biphenylyl) -1,2,4- Triazole (abbreviation: p-EtTAZ), bathophenanthroline (abbreviation: BPhen), bathocuproin (abbreviation: BCP), 4,4-bis (5-methylbenzoxazol-2-yl) stilbene (abbreviation: BzOs), and the like It is done.

また、正孔輸送層115、第3の層113の電子輸送層はバイポーラ性の物質を用いて形成してもよい。バイポーラ性の物質とは、電子または正孔のいずれか一方のキャリアの移動度と他方のキャリアの移動度とを比較したときに、一方のキャリアの移動度に対する他方のキャリアの移動度の比の値が100以下、好ましくは10以下である物質をいう。バイポーラ性の物質として、例えば、2,3−ビス(4−ジフェニルアミノフェニル)キノキサリン(略称:TPAQn)、2,3−ビス{4−[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]フェニル}−ジベンゾ[f,h]キノキサリン(略称:NPADiBzQn)等が挙げられる。バイポーラ性の物質の中でも特に、正孔及び電子の移動度が1×10−6cm/Vs以上の物質を用いることが好ましい。また同一のバイポーラ性の物質を用いて、正孔輸送層115と電子輸送層とを形成しても構わない。 Alternatively, the electron transport layers of the hole transport layer 115 and the third layer 113 may be formed using a bipolar substance. A bipolar substance is the ratio of the mobility of one carrier to the mobility of the other carrier when the mobility of one of the electrons or holes is compared with the mobility of the other carrier. A substance whose value is 100 or less, preferably 10 or less. As a bipolar substance, for example, 2,3-bis (4-diphenylaminophenyl) quinoxaline (abbreviation: TPAQn), 2,3-bis {4- [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] phenyl } -Dibenzo [f, h] quinoxaline (abbreviation: NPDiBzQn) and the like. Among bipolar substances, it is particularly preferable to use a substance having a hole and electron mobility of 1 × 10 −6 cm 2 / Vs or more. Alternatively, the hole transport layer 115 and the electron transport layer may be formed using the same bipolar substance.

第3の層113が電子発生層を有する場合、電子発生層としては、一般的に電子を発生する機能を有する層であれば何でもよい。電子発生層は、電子輸送性の高い物質およびバイポーラ性の物質から選ばれる少なくとも一の物質と、これらの物質に対し電子供与性を示す物質とを混合して形成することができる。ここで、電子輸送性の高い物質およびバイポーラ性の物質の中でも特に1×10−6cm/Vs以上の電子移動度を有する物質であることが好ましい。電子輸送性の高い物質およびバイポーラ性の物質については、それぞれ、上記したものを用いることができる。また、電子供与性を示す物質としては、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の中から選ばれた物質、具体的にはリチウム(Li)、カルシウム(Ca)、ナトリウム(Na)、カリウム(K)、マグネシウム(Mg)等を用いることができる。また、アルカリ金属酸化物またはアルカリ土類金属酸化物、アルカリ金属窒化物、アルカリ土類金属窒化物、アルカリ金属フッ化物、アルカリ土類金属フッ化物等、具体的にはリチウム酸化物(LiO)、カルシウム酸化物(CaO)、ナトリウム酸化物(NaO)、カリウム酸化物(KO)、マグネシウム酸化物(MgO)、窒化マグネシウム(Mg)、フッ化リチウム(LiF)、フッ化セシウム(CsF)、フッ化カルシウム(CaF)等から選ばれる少なくとも一の物質も電子供与性を示す物質として用いることができる。 When the third layer 113 includes an electron generation layer, the electron generation layer may be any layer as long as it generally has a function of generating electrons. The electron generating layer can be formed by mixing at least one substance selected from a substance having a high electron transporting property and a bipolar substance and a substance exhibiting an electron donating property to these substances. Here, among substances having a high electron transporting property and bipolar substances, a substance having an electron mobility of 1 × 10 −6 cm 2 / Vs or more is particularly preferable. As the substance having a high electron transporting property and the bipolar substance, those described above can be used, respectively. Moreover, as the substance exhibiting electron donating property, a substance selected from alkali metals and alkaline earth metals, specifically, lithium (Li), calcium (Ca), sodium (Na), potassium (K), Magnesium (Mg) or the like can be used. Further, alkali metal oxides or alkaline earth metal oxides, alkali metal nitrides, alkaline earth metal nitrides, alkali metal fluorides, alkaline earth metal fluorides, etc., specifically lithium oxide (Li 2 O ), Calcium oxide (CaO), sodium oxide (Na 2 O), potassium oxide (K 2 O), magnesium oxide (MgO), magnesium nitride (Mg 3 N 2 ), lithium fluoride (LiF), At least one substance selected from cesium fluoride (CsF), calcium fluoride (CaF 2 ), and the like can also be used as the substance exhibiting electron donating properties.

第1の電極101はインジウム錫酸化物、酸化珪素を含むインジウム錫酸化物、2〜20wt%の酸化亜鉛を含む酸化インジウムの他、金(Au)、白金(Pt)、ニッケル(Ni)、タングステン(W)、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、銅(Cu)、パラジウム(Pd)、窒化タンタル等の仕事関数の高い物質を用いて形成することができる。   The first electrode 101 includes indium tin oxide, indium tin oxide containing silicon oxide, indium oxide containing 2 to 20 wt% zinc oxide, gold (Au), platinum (Pt), nickel (Ni), tungsten (W), chromium (Cr), molybdenum (Mo), iron (Fe), cobalt (Co), copper (Cu), palladium (Pd), or a material having a high work function such as tantalum nitride. it can.

また、第2の電極102についても、インジウム錫酸化物、酸化珪素を含むインジウム錫酸化物、2〜20wt%の酸化亜鉛を含む酸化インジウムの他、金(Au)、白金(Pt)、ニッケル(Ni)、タングステン(W)、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、銅(Cu)、パラジウム(Pd)、窒化タンタル等の仕事関数の高い物質を用いて形成してもよいし、アルミニウム、またはマグネシウム等の仕事関数の低い物質を用いて形成してもよい。   For the second electrode 102, in addition to indium tin oxide, indium tin oxide containing silicon oxide, indium oxide containing 2 to 20 wt% zinc oxide, gold (Au), platinum (Pt), nickel ( Using a material having a high work function such as Ni), tungsten (W), chromium (Cr), molybdenum (Mo), iron (Fe), cobalt (Co), copper (Cu), palladium (Pd), and tantalum nitride. It may be formed using a substance having a low work function such as aluminum or magnesium.

本形態で示す発光素子は、第1の電極または第2の電極から順に、公知の成膜方法を用いて積層していくことが可能である。特に、複合層は、共役分子と電子受容性物質の両方を抵抗加熱により蒸発させ、共蒸着して形成することができる。その他、共役分子を抵抗加熱により蒸発させる一方で、電子受容性物質をエレクトロンビーム(EB)により蒸発させ、共蒸着しても良い。また、共役分子を抵抗加熱により蒸発させると同時に、電子受容性物質をスパッタリングし、両方を同時に堆積する手法も挙げられる。その他、湿式法により成膜しても良い。   The light-emitting element described in this embodiment can be stacked in order from the first electrode or the second electrode by using a known film formation method. In particular, the composite layer can be formed by evaporating both the conjugated molecule and the electron accepting substance by resistance heating and co-evaporating. In addition, while the conjugated molecule is evaporated by resistance heating, the electron accepting substance may be evaporated by electron beam (EB) and co-evaporated. Further, there is a method in which the conjugated molecules are evaporated by resistance heating, and at the same time, an electron accepting substance is sputtered and both are deposited simultaneously. In addition, the film may be formed by a wet method.

また、第1の電極101及び第2の電極102も同様に、抵抗加熱による蒸着法、EB蒸着、スパッタリング、湿式法などを用いることができる。   Similarly, the first electrode 101 and the second electrode 102 can be formed by a resistance heating evaporation method, EB evaporation, sputtering, a wet method, or the like.

第2の電極102から順に成膜し、第1の電極101をスパッタにより成膜する場合、第1の電極の下に位置する層へのスパッタダメージがあった。しかし複合層は有機膜よりも硬い性質を持つため、図1(A)や図1(C)の構成の場合、スパッタダメージを受けにくく、スパッタダメージから発光層を保護する保護膜となる。これにより欠陥の少ない発光素子を得ることができる。   In the case where the second electrode 102 was formed in order and the first electrode 101 was formed by sputtering, there was sputtering damage to the layer located under the first electrode. However, since the composite layer is harder than the organic film, the structure shown in FIGS. 1A and 1C is less susceptible to sputter damage and serves as a protective film that protects the light-emitting layer from sputter damage. Thereby, a light-emitting element with few defects can be obtained.

(実施の形態2)
本実施の形態を図2を用いて説明する。
(Embodiment 2)
This embodiment will be described with reference to FIG.

図2において、第1の電極201と第2の電極202との間に、第1の電極201と接する第1の層211、第1の層211と接する第2の層212、第2の層212と第2の電極202に接する第3の層213とを有する発光素子が示されている。図2の発光素子は、第1の電極201の電位が第2の電極202の電位よりも高くなるように電圧が印加されたときに、発光する。第2の層212は発光層であり、第1の層211は、正孔を第2の層である発光層に運ぶまたは注入する機能を持つ層である。第1の層は、正孔注入層または正孔輸送層を有すれば良い。本形態の発光材料、第1及び第2の電極材料、電子輸送性材料、正孔輸送性材料、正孔注入性材料としては実施の形態1で示した材料を用いることができる。   In FIG. 2, a first layer 211 in contact with the first electrode 201, a second layer 212 in contact with the first layer 211, and a second layer between the first electrode 201 and the second electrode 202. A light-emitting element having 212 and a third layer 213 in contact with the second electrode 202 is shown. The light-emitting element in FIG. 2 emits light when a voltage is applied so that the potential of the first electrode 201 is higher than the potential of the second electrode 202. The second layer 212 is a light-emitting layer, and the first layer 211 is a layer having a function of transporting or injecting holes to the light-emitting layer that is the second layer. The first layer may have a hole injection layer or a hole transport layer. As the light-emitting material, the first and second electrode materials, the electron transporting material, the hole transporting material, and the hole injecting material of this embodiment, the materials described in Embodiment Mode 1 can be used.

第3の層213は、第2の電極202側に複合層214、第2の層212側に電子発生層215を有する。電子発生層215と第2の層212との間には、電子輸送層等の層が介在していても良いし、介在していなくとも良い。   The third layer 213 includes a composite layer 214 on the second electrode 202 side and an electron generation layer 215 on the second layer 212 side. Between the electron generating layer 215 and the second layer 212, a layer such as an electron transporting layer may be interposed or may not be interposed.

電子発生層215は、電子輸送性の高い物質およびバイポーラ性の物質から選ばれる少なくとも一の物質と、これらの物質に対し電子供与性を示す物質とを混合して形成することができる。ここで、電子輸送性の高い物質およびバイポーラ性の物質の中でも特に1×10−6cm/Vs以上の電子移動度を有する物質であることが好ましい。電子輸送性の高い物質およびバイポーラ性の物質については、それぞれ、上記したものを用いることができる。また、電子供与性を示す物質としては、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の中から選ばれた物質、具体的にはリチウム(Li)、カルシウム(Ca)、ナトリウム(Na)、カリウム(K)、マグネシウム(Mg)等を用いることができる。また、アルカリ金属の酸化物またはアルカリ土類金属の酸化物、アルカリ金属の窒化物、アルカリ土類金属の窒化物、アルカリ金属フッ化物、アルカリ土類金属フッ化物等、具体的にはリチウム酸化物(LiO)、カルシウム酸化物(CaO)、ナトリウム酸化物(NaO)、カリウム酸化物(KO)、マグネシウム酸化物(MgO)、窒化マグネシウム(Mg)、フッ化リチウム(LiF)、フッ化セシウム(CsF)、フッ化カルシウム(CaF)等も電子供与性を示す物質として用いることができる。 The electron generating layer 215 can be formed by mixing at least one substance selected from a substance having a high electron transporting property and a bipolar substance and a substance showing an electron donating property with respect to these substances. Here, among substances having a high electron transporting property and bipolar substances, a substance having an electron mobility of 1 × 10 −6 cm 2 / Vs or more is particularly preferable. As the substance having a high electron transporting property and the bipolar substance, those described above can be used, respectively. Moreover, as the substance exhibiting electron donating property, a substance selected from alkali metals and alkaline earth metals, specifically, lithium (Li), calcium (Ca), sodium (Na), potassium (K), Magnesium (Mg) or the like can be used. Alkali metal oxides or alkaline earth metal oxides, alkali metal nitrides, alkaline earth metal nitrides, alkali metal fluorides, alkaline earth metal fluorides, etc., specifically lithium oxides (Li 2 O), calcium oxide (CaO), sodium oxide (Na 2 O), potassium oxide (K 2 O), magnesium oxide (MgO), magnesium nitride (Mg 3 N 2 ), lithium fluoride (LiF), cesium fluoride (CsF), calcium fluoride (CaF 2 ), or the like can also be used as a substance exhibiting electron donating properties.

本形態の構成により、発光層である第2の層212と第2の電極202との間に複合層214を設けることができる。複合層214は導電性が高い膜であるため、複合層を膜厚化することでき、これにより電極同士の短絡を防ぎ、光の取り出し効率の高い発光素子を得ることができる。また、複合層は結晶化し難いため、層の結晶化に起因した動作不良の少ない発光素子を得ることができる。   With the structure of this embodiment mode, the composite layer 214 can be provided between the second layer 212 that is a light-emitting layer and the second electrode 202. Since the composite layer 214 is a highly conductive film, the thickness of the composite layer can be increased, whereby a short circuit between electrodes can be prevented and a light-emitting element with high light extraction efficiency can be obtained. In addition, since the composite layer is difficult to crystallize, a light-emitting element with less malfunction due to crystallization of the layer can be obtained.

なお、第1の層211内に正孔輸送層や、電子発生層215と第2の層212と間に電子輸送層を設けるか否かについては実施者が適宜選択すればよい。例えば、正孔輸送層、電子輸送層を設けなくても金属に起因した消光等の不具合が生じない場合等は、必ずしもこれらの層を設ける必要がない。   Note that the practitioner may appropriately select whether to provide a hole transport layer in the first layer 211 or an electron transport layer between the electron generation layer 215 and the second layer 212. For example, when there is no problem such as quenching due to metal without providing a hole transport layer and an electron transport layer, these layers are not necessarily provided.

本形態で示す発光素子は、実施の形態1で示した作製方法と同様に、公知の成膜方法で形成することができる。   The light-emitting element described in this embodiment can be formed by a known film formation method in a manner similar to the manufacturing method described in Embodiment 1.

第1の電極201から順に成膜し、第2の電極202をスパッタにより成膜する場合、第2の電極の下に位置する層へのスパッタダメージがあった。しかし複合層214は有機膜よりも硬い性質を持つため、スパッタダメージを受けにくく、スパッタダメージから発光層を保護する保護膜となる。これにより欠陥の少ない発光素子を得ることができる。   When the first electrode 201 was deposited in order and the second electrode 202 was deposited by sputtering, there was sputtering damage to the layer located under the second electrode. However, since the composite layer 214 is harder than the organic film, it is less susceptible to sputter damage and serves as a protective film that protects the light emitting layer from sputter damage. Thereby, a light-emitting element with few defects can be obtained.

(実施の形態3)
本実施の形態は、実施の形態1で示した第2の層112と第1の電極101との間の積層構造と、実施の形態2で示した第2の層212と第2の電極202との間の積層構造を組み合わせたものである。
(Embodiment 3)
In this embodiment mode, the stacked structure between the second layer 112 and the first electrode 101 shown in Embodiment Mode 1, and the second layer 212 and the second electrode 202 shown in Embodiment Mode 2 are used. Is a combination of the laminated structures between the two.

この場合、第1の電極と発光層との間、第2の電極と発光層との間それぞれに複合層を配置することになり、より導電性が高く、且つ正孔注入性または正孔輸送性が高い発光素子を提供することができる。つまり、第1の実施の形態の利点と第2の実施の形態の利点を合わせ持った発光素子が得られる。   In this case, a composite layer is disposed between the first electrode and the light-emitting layer and between the second electrode and the light-emitting layer, respectively, so that the conductivity is higher and the hole injectability or hole transport is higher. A light-emitting element with high performance can be provided. That is, a light emitting device having the advantages of the first embodiment and the advantages of the second embodiment can be obtained.

本形態の一形態である発光素子を図3に示す。図3(A)〜図3(C)は、一対の電極である第1の電極301と第2の電極302の間に発光層である第2の層312が配置され、第1の電極301と第2の層312の間に第1の層311が配置され、第2の電極302と第2の層312の間に第3の層313が配置されている。第3の層は、第2の電極302側にある第1の複合層324と第2の層312側にある電子発生層325を有する。図3に示す素子は、第1の電極301の電位が第2の電極302の電位よりも高くなるように電極に電圧を印加すると発光する発光素子である。   A light-emitting element which is one embodiment of this embodiment is illustrated in FIG. 3A to 3C, a second layer 312 that is a light-emitting layer is provided between a first electrode 301 that is a pair of electrodes and a second electrode 302, and the first electrode 301 is used. The first layer 311 is disposed between the second electrode 312 and the second layer 312, and the third layer 313 is disposed between the second electrode 302 and the second layer 312. The third layer includes a first composite layer 324 on the second electrode 302 side and an electron generation layer 325 on the second layer 312 side. The element illustrated in FIG. 3 is a light-emitting element that emits light when a voltage is applied to an electrode so that the potential of the first electrode 301 is higher than the potential of the second electrode 302.

図3(A)は図1(A)と図2を組み合わせた構造である。図3(A)の第1の層311は、第2の層312側に正孔輸送層326を有し、第1の電極301側に第2の複合層327を有する。   FIG. 3A shows a structure combining FIG. 1A and FIG. The first layer 311 in FIG. 3A includes a hole transport layer 326 on the second layer 312 side and a second composite layer 327 on the first electrode 301 side.

図3(B)は図1(B)と図2を組み合わせた構造である。図3(B)の第1の層311は、第2の層側に第2の複合層328を有し、第1の電極301側に正孔注入層329を有する。   FIG. 3B shows a structure combining FIG. 1B and FIG. The first layer 311 in FIG. 3B includes a second composite layer 328 on the second layer side and a hole injection layer 329 on the first electrode 301 side.

図3(C)は図1(C)と図2を組み合わせた構造である。図3(C)の第1の層311は第2の複合層330となっている。   FIG. 3C shows a structure combining FIG. 1C and FIG. The first layer 311 in FIG. 3C is a second composite layer 330.

本形態において、第1の複合層と第2の複合層を構成する共役分子と電子受容性物質との複合体は、同一でもよいし、異なっていても良い。本形態の発光素子は、第1の層311及び第3の層313の両方に複合層を設けることができるため、導電性が高く、光の取り出し効率が高い素子となる。また、第1の電極または第2の電極をスパッタにより形成するときに下層に位置する層へのスパッタダメージの問題があった。しかし図3(A)や図3(C)の構成では、第1の電極及び第2の電極に接して複合層が形成されるため、第1の電極または第2の電極の形成にともなうスパッタダメージを防ぐことができる。   In this embodiment, the complex of the conjugated molecule and the electron-accepting substance constituting the first composite layer and the second composite layer may be the same or different. In the light-emitting element of this embodiment, a composite layer can be provided in both the first layer 311 and the third layer 313; thus, the light-emitting element has high conductivity and high light extraction efficiency. In addition, when the first electrode or the second electrode is formed by sputtering, there is a problem of sputtering damage to a layer located in a lower layer. However, in the structure shown in FIGS. 3A and 3C, a composite layer is formed in contact with the first electrode and the second electrode, so that the sputter accompanying the formation of the first electrode or the second electrode. Damage can be prevented.

図3では、電子発生層325と第2の層312との間に電子輸送層を設けていないが、設けるか否かについては実施者が適宜選択すればよい。   In FIG. 3, the electron transport layer is not provided between the electron generation layer 325 and the second layer 312, but the practitioner may select appropriately whether or not to provide it.

(実施の形態4)
本発明の発光素子は、表示装置の画素にも使用できるし、光源としても使用できる。発光素子を画素に用いた場合は、動作不良がなく、表示色が良好な画像を表示できる。また、高信頼性な表示装置または発光装置を提供できる。また、発光素子を光源に用いた場合は、発光素子の動作不良に起因した不具合が少なく、明るい発光装置を得ることができる。
(Embodiment 4)
The light-emitting element of the present invention can be used for a pixel of a display device or as a light source. In the case where a light emitting element is used for a pixel, an image with good display color can be displayed without malfunction. In addition, a highly reliable display device or light-emitting device can be provided. In addition, when a light-emitting element is used as a light source, a bright light-emitting device can be obtained with less defects due to malfunction of the light-emitting element.

本形態では、本発明の発光素子を画素に有し、表示機能を有する発光装置について説明する。   In this embodiment mode, a light-emitting device which has the light-emitting element of the present invention in a pixel and has a display function will be described.

図4は発光装置を上面からみた模式図である。図4において、基板6500上には、本発明の発光素子を用いた画素部6511と、ソース信号線駆動回路6512と、書込用ゲート信号線駆動回路6513と、消去用ゲート信号線駆動回路6514とが設けられている。ソース信号線駆動回路6512と、書込用ゲート信号線駆動回路6513と、消去用ゲート信号線駆動回路6514とは、それぞれ、配線群を介して、外部入力端子であるFPC(フレキシブルプリントサーキット)6503と接続している。そして、ソース信号線駆動回路6512と、書込用ゲート信号線駆動回路6513と、消去用ゲート信号線駆動回路6514とは、それぞれ、FPC6503からビデオ信号、クロック信号、スタート信号、リセット信号等を受け取る。またFPC6503にはプリント配線基盤(PWB)6504が取り付けられている。なお、駆動回路部は、上記のように必ずしも画素部6511と同一基板上に設けられている必要はなく、例えば、配線パターンが形成されたFPC上にICチップを実装したもの(TCP)等を利用し、基板外部に設けられていてもよい。   FIG. 4 is a schematic view of the light emitting device as viewed from above. In FIG. 4, over a substrate 6500, a pixel portion 6511 using the light emitting element of the present invention, a source signal line driver circuit 6512, a write gate signal line driver circuit 6513, and an erase gate signal line driver circuit 6514 are provided. And are provided. The source signal line driver circuit 6512, the writing gate signal line driver circuit 6513, and the erasing gate signal line driver circuit 6514 are respectively FPC (flexible printed circuit) 6503 which is an external input terminal through a wiring group. Connected. The source signal line driver circuit 6512, the writing gate signal line driver circuit 6513, and the erasing gate signal line driver circuit 6514 receive a video signal, a clock signal, a start signal, a reset signal, and the like from the FPC 6503, respectively. . A printed wiring board (PWB) 6504 is attached to the FPC 6503. Note that the driver circuit portion is not necessarily provided over the same substrate as the pixel portion 6511 as described above. For example, an IC chip mounted on an FPC on which a wiring pattern is formed (TCP) or the like is used. It may be used and provided outside the substrate.

画素部6511には、列方向に延びた複数のソース信号線が行方向に並んで配列している。また、電流供給線が行方向に並んで配列している。また、画素部6511には、行方向に延びた複数のゲート信号線が列方向に並んで配列している。また画素部6511には、実施の形態1〜3で示したような発光素子を含む画素回路が複数配列している。   In the pixel portion 6511, a plurality of source signal lines extending in the column direction are arranged side by side in the row direction. In addition, current supply lines are arranged side by side in the row direction. In the pixel portion 6511, a plurality of gate signal lines extending in the row direction are arranged side by side in the column direction. In the pixel portion 6511, a plurality of pixel circuits including light-emitting elements as described in Embodiments 1 to 3 are arranged.

図5は、一画素を動作するための回路を表した図である。図5に示す回路には、第1のトランジスタ901と第2のトランジスタ902と本発明の発光素子903とが含まれている。   FIG. 5 is a diagram showing a circuit for operating one pixel. The circuit shown in FIG. 5 includes a first transistor 901, a second transistor 902, and a light emitting element 903 of the present invention.

第1のトランジスタ901と、第2のトランジスタ902とは、それぞれ、ゲート電極と、ドレイン領域と、ソース領域とを含む三端子の素子であり、ドレイン領域とソース領域の間にチャネル領域を有する。ここで、ソース領域とドレイン領域とは、トランジスタの構造や動作条件等によって変わるため、いずれがソース領域またはドレイン領域であるかを限定することが困難である。そこで、本形態においては、ソースまたはドレインとして機能する領域を、それぞれ第1電極、第2電極と表記する。   Each of the first transistor 901 and the second transistor 902 is a three-terminal element including a gate electrode, a drain region, and a source region, and has a channel region between the drain region and the source region. Here, since the source region and the drain region vary depending on the structure and operating conditions of the transistor, it is difficult to limit which is the source region or the drain region. Therefore, in this embodiment, regions functioning as a source or a drain are referred to as a first electrode and a second electrode, respectively.

ゲート信号線911と、書込用ゲート信号線駆動回路913とはスイッチ918によって電気的に接続または非接続の状態になるように設けられている。また、ゲート信号線911と、消去用ゲート信号線駆動回路914とはスイッチ919によって電気的に接続または非接続の状態になるように設けられている。また、ソース信号線912は、スイッチ920によってソース信号線駆動回路915または電源916のいずれかに電気的に接続するように設けられている。そして、第1のトランジスタ901のゲートはゲート信号線911に電気的に接続している。また、第1のトランジスタ901の第1電極はソース信号線912に電気的に接続し、第2電極は第2のトランジスタ902のゲート電極と電気的に接続している。第2のトランジスタ902の第1電極は電流供給線917と電気的に接続し、第2電極は発光素子903に含まれる一の電極と電気的に接続している。なお、スイッチ918は、書込用ゲート信号線駆動回路913に含まれていてもよい。またスイッチ919についても消去用ゲート信号線駆動回路914の中に含まれていてもよい。また、スイッチ920についてもソース信号線駆動回路915の中に含まれていてもよい。   The gate signal line 911 and the writing gate signal line driving circuit 913 are provided so as to be electrically connected or disconnected by a switch 918. The gate signal line 911 and the erasing gate signal line driver circuit 914 are provided so as to be electrically connected or disconnected by a switch 919. The source signal line 912 is provided so as to be electrically connected to either the source signal line driver circuit 915 or the power source 916 by the switch 920. The gate of the first transistor 901 is electrically connected to the gate signal line 911. The first electrode of the first transistor 901 is electrically connected to the source signal line 912, and the second electrode is electrically connected to the gate electrode of the second transistor 902. The first electrode of the second transistor 902 is electrically connected to the current supply line 917, and the second electrode is electrically connected to one electrode included in the light-emitting element 903. Note that the switch 918 may be included in the write gate signal line driver circuit 913. The switch 919 may also be included in the erase gate signal line driver circuit 914. Further, the switch 920 may also be included in the source signal line driver circuit 915.

また画素部におけるトランジスタや発光素子等の配置について特に限定はないが、例えば図6の上面図に表すように配置することができる。図6において、第1のトランジスタ1001の第1電極はソース信号線1004に接続し、第2の電極は第2のトランジスタ1002のゲート電極に接続している。また第2のトランジスタ1002の第1電極は電流供給線1005に接続し、第2電極は発光素子の電極1006に接続している。ゲート信号線1003の一部は第1のトランジスタ1001のゲート電極として機能する。   There is no particular limitation on the arrangement of transistors, light-emitting elements, and the like in the pixel portion, but they can be arranged as shown in the top view of FIG. In FIG. 6, the first electrode of the first transistor 1001 is connected to the source signal line 1004, and the second electrode is connected to the gate electrode of the second transistor 1002. The first electrode of the second transistor 1002 is connected to the current supply line 1005, and the second electrode is connected to the electrode 1006 of the light emitting element. Part of the gate signal line 1003 functions as a gate electrode of the first transistor 1001.

(実施の形態5)
本発明の発光素子を含む発光装置の一態様について、図7及び図8を用いて説明する。
(Embodiment 5)
One mode of a light-emitting device including the light-emitting element of the present invention will be described with reference to FIGS.

図7において、トランジスタ11は、本発明の発光素子12を駆動するために設けられている。発光素子12は、第1の電極13と第2の電極14との間に少なくとも複合層と発光物質を含む層とが積層された層15を有する本発明の発光素子である。トランジスタ11のドレインと第1の電極13とは、第1層間絶縁膜16a、16b、16cを貫通している配線17によって電気的に接続されている。また、発光素子12は、隔壁層18によって、隣接して設けられている別の発光素子と分離されている。このような構成を有する本発明の発光装置は、本形態において、基板10上に設けられている。   In FIG. 7, a transistor 11 is provided to drive the light emitting element 12 of the present invention. The light-emitting element 12 is a light-emitting element of the present invention having a layer 15 in which at least a composite layer and a layer containing a light-emitting substance are stacked between a first electrode 13 and a second electrode 14. The drain of the transistor 11 and the first electrode 13 are electrically connected by a wiring 17 penetrating the first interlayer insulating films 16a, 16b, and 16c. The light emitting element 12 is separated from another light emitting element provided adjacent thereto by a partition wall layer 18. The light-emitting device of the present invention having such a structure is provided over the substrate 10 in this embodiment.

なお、図7に示されたトランジスタ11は、半導体層を中心として基板と逆側にゲート電極が設けられたトップゲート型のものである。但し、トランジスタ11の構造については、特に限定はなく、例えばボトムゲート型のものでもよい。またボトムゲートの場合には、チャネルを形成する半導体層の上に保護膜が形成されたもの(チャネル保護型)でもよいし、或いはチャネルを形成する半導体層の一部が凹状になったもの(チャネルエッチ型)でもよい。なお、21はゲート電極、22はゲート絶縁膜、23は半導体層である。   Note that the transistor 11 illustrated in FIG. 7 is a top-gate transistor in which a gate electrode is provided on the side opposite to a substrate with a semiconductor layer as a center. However, the structure of the transistor 11 is not particularly limited, and may be, for example, a bottom gate type. In the case of a bottom gate, the semiconductor layer forming a channel may be formed with a protective film (channel protection type), or the semiconductor layer forming the channel may be partially concave ( Channel etch type). In addition, 21 is a gate electrode, 22 is a gate insulating film, 23 is a semiconductor layer.

また、トランジスタ11を構成する半導体層は、結晶性、非結晶性のいずれのものでもよい。また、セミアモルファス等でもよい。   Further, the semiconductor layer included in the transistor 11 may be either crystalline or non-crystalline. Moreover, a semi-amorphous etc. may be sufficient.

なお、セミアモルファス半導体とは、次のようなものである。非晶質と結晶構造(単結晶、多結晶を含む)の中間的な構造を有し、自由エネルギー的に安定な第3の状態を有する半導体であって、短距離秩序を持ち、格子歪みを有する結晶質な領域を含んでいるものである。また少なくとも膜中の一部の領域には、0.5〜20nmの結晶粒を含んでいる。ラマンスペクトルが520cm−1よりも低波数側にシフトしている。X線回折ではSi結晶格子に由来するとされる(111)、(220)の回折ピークが観測される。未結合手(ダングリングボンド)を終端するために水素またはハロゲンを少なくとも1原子%またはそれ以上含ませている。所謂微結晶半導体(マイクロクリスタル半導体)とも言われている。珪化物でなる気体をグロー放電分解(プラズマCVD)して形成する。珪化物でなる気体としては、SiH、その他にもSi、SiHCl、SiHCl、SiCl、SiFなどを用いることができる。この珪化物でなる気体をH、又は、HとHe、Ar、Kr、Neから選ばれた一種または複数種の希ガス元素とで希釈しても良い。希釈率は2〜1000倍の範囲。圧力は概略0.1Pa〜133Paの範囲、電源周波数は1MHz〜120MHz、好ましくは13MHz〜60MHz。基板加熱温度は300℃以下でよく、好ましくは100〜250℃。膜中の不純物元素として、酸素、窒素、炭素などの大気成分の不純物は1×1020/cm以下とすることが望ましく、特に、酸素濃度は5×1019/cm以下、好ましくは1×1019/cm以下とする。なお、セミアモルファス半導体を用いたTFT(薄膜トランジスタ)の移動度はおよそ1〜10m/Vsecとなる。 The semi-amorphous semiconductor is as follows. A semiconductor having an intermediate structure between amorphous and crystalline (including single crystal and polycrystal) and having a third state that is stable in terms of free energy, has a short-range order, and has a lattice distortion. It includes a crystalline region having. Further, at least a part of the region in the film contains crystal grains of 0.5 to 20 nm. The Raman spectrum is shifted to the lower wavenumber side than 520 cm −1 . In X-ray diffraction, diffraction peaks of (111) and (220) that are derived from the Si crystal lattice are observed. In order to terminate dangling bonds (dangling bonds), hydrogen or halogen is contained at least 1 atomic% or more. It is also called a so-called microcrystalline semiconductor (microcrystal semiconductor). A gas made of silicide is formed by glow discharge decomposition (plasma CVD). As the gas made of silicide, SiH 4 , Si 2 H 6 , SiH 2 Cl 2 , SiHCl 3 , SiCl 4 , SiF 4, and the like can be used. The gas made of silicide may be diluted with H 2 , or H 2 and one or more kinds of rare gas elements selected from He, Ar, Kr, and Ne. The dilution rate is in the range of 2 to 1000 times. The pressure is generally in the range of 0.1 Pa to 133 Pa, and the power supply frequency is 1 MHz to 120 MHz, preferably 13 MHz to 60 MHz. The substrate heating temperature may be 300 ° C. or less, preferably 100 to 250 ° C. As an impurity element in the film, impurities of atmospheric components such as oxygen, nitrogen, and carbon are desirably 1 × 10 20 / cm 3 or less, and in particular, the oxygen concentration is 5 × 10 19 / cm 3 or less, preferably 1 × 10 19 / cm 3 or less. Note that the mobility of a TFT (thin film transistor) using a semi-amorphous semiconductor is approximately 1 to 10 m 2 / Vsec.

また、半導体層が結晶性のものの具体例としては、単結晶または多結晶性の珪素、或いはシリコンゲルマニウム等から成るものが挙げられる。これらはレーザー結晶化によって形成されたものでもよいし、例えばニッケル等を用いた固相成長法による結晶化によって形成されたものでもよい。   Further, specific examples of the crystalline semiconductor layer include those made of single crystal or polycrystalline silicon, silicon germanium, or the like. These may be formed by laser crystallization, or may be formed by crystallization by a solid phase growth method using nickel or the like, for example.

なお、半導体層が非晶質材料、例えばアモルファスシリコンで形成される場合には、トランジスタ11およびその他のトランジスタ(発光素子を駆動するための回路を構成するトランジスタ)は全てNチャネル型トランジスタで構成された回路を有する発光装置であることが好ましい。それ以外については、Nチャネル型またはPチャネル型のいずれか一のトランジスタで構成された回路を有する発光装置でもよいし、両方のトランジスタで構成された回路を有する発光装置でもよい。   Note that in the case where the semiconductor layer is formed of an amorphous material, for example, amorphous silicon, the transistor 11 and other transistors (transistors constituting a circuit for driving the light-emitting element) are all formed of N-channel transistors. It is preferable that the light emitting device have a circuit. Other than that, a light-emitting device having a circuit including any one of an N-channel transistor and a P-channel transistor, or a light-emitting device including a circuit including both transistors may be used.

さらに、16a〜16cでなる第1層間絶縁膜は、図7(A)〜(C)に示すように多層でもよいし、または単層でもよい。なお、16aは酸化珪素や窒化珪素のような無機物から成り、16bはアクリルやシロキサン(シリコン(Si)と酸素(O)との結合で骨格構造が構成され、置換基に少なくとも水素を含む有機基(例えばアルキル基、芳香族炭化水素)が用いられる。置換基として、フルオロ基を用いてもよい。または置換基として、少なくとも水素を含む有機基と、フルオロ基とを用いてもよい。)、塗布成膜可能な酸化珪素等の自己平坦性を有する物質から成る。さらに、16cはアルゴン(Ar)を含む窒化珪素膜から成る。なお、各層を構成する物質については、特に限定はなく、ここに述べたもの以外のものを用いてもよい。また、これら以外の物質から成る層をさらに組み合わせてもよい。このように、第1層間絶縁膜は、無機物または有機物の両方を用いて形成されたものでもよいし、または無機膜と有機膜のいずれか一で形成されたものでもよい。   Further, the first interlayer insulating film 16a to 16c may be a multilayer as shown in FIGS. 7A to 7C, or may be a single layer. Note that 16a is made of an inorganic material such as silicon oxide or silicon nitride, and 16b is an organic group having a skeleton structure composed of a bond of acrylic or siloxane (silicon (Si) and oxygen (O)) and containing at least hydrogen as a substituent. (For example, an alkyl group or an aromatic hydrocarbon is used. As a substituent, a fluoro group may be used. Alternatively, an organic group containing at least hydrogen and a fluoro group may be used as a substituent.), It is made of a material having self-flatness such as silicon oxide that can be coated and formed. Further, 16c is made of a silicon nitride film containing argon (Ar). In addition, there is no limitation in particular about the substance which comprises each layer, You may use things other than what was described here. Moreover, you may further combine the layer which consists of substances other than these. As described above, the first interlayer insulating film may be formed using both an inorganic material or an organic material, or may be formed of any one of an inorganic film and an organic film.

隔壁層18は、エッジ部において、曲率半径が連続的に変化する形状であることが好ましい。また隔壁層18は、アクリルやシロキサン、レジスト、酸化珪素等を用いて形成される。なお隔壁層18は、無機膜と有機膜のいずれか一で形成されたものでもよいし、または両方を用いて形成されたものでもよい。   The partition layer 18 preferably has a shape in which the radius of curvature continuously changes at the edge portion. The partition layer 18 is formed using acrylic, siloxane, resist, silicon oxide, or the like. The partition wall layer 18 may be formed of any one of an inorganic film and an organic film, or may be formed using both.

なお、図7(A)、(C)は、16a〜16cでなる第1層間絶縁膜のみがトランジスタ11と発光素子12の間に設けられた構成である。図7(B)は、第1層間絶縁膜である16a、16bの他、第2層間絶縁膜である19a、19bが設けられた構成である。図7(B)に示す発光装置においては、第1の電極13は第2層間絶縁膜19a、19bを貫通し、配線17と接続している。   7A and 7C illustrate a configuration in which only the first interlayer insulating film 16a to 16c is provided between the transistor 11 and the light emitting element 12. FIG. FIG. 7B shows a structure in which the first interlayer insulating films 16a and 16b and the second interlayer insulating films 19a and 19b are provided. In the light emitting device shown in FIG. 7B, the first electrode 13 penetrates through the second interlayer insulating films 19 a and 19 b and is connected to the wiring 17.

19a、19bでなる第2層間絶縁膜は、第1層間絶縁膜16a〜16cと同様に、多層でもよいし、または単層でもよい。19aはアクリルやシロキサン、塗布成膜可能な酸化珪素等の自己平坦性を有する物質から成る。さらに、19bはアルゴン(Ar)を含む窒化珪素膜から成る。なお、各層を構成する物質については、特に限定はなく、ここに述べたもの以外のものを用いてもよい。また、これら以外の物質から成る層をさらに組み合わせてもよい。このように、第2層間絶縁膜19a、19bは、無機物または有機物の両方を用いて形成されたものでもよいし、または無機膜と有機膜のいずれか一で形成されたものでもよい。   Similarly to the first interlayer insulating films 16a to 16c, the second interlayer insulating film 19a and 19b may be a multilayer or a single layer. 19a is made of a self-flattening material such as acrylic, siloxane, or silicon oxide that can be coated and formed. Further, 19b is made of a silicon nitride film containing argon (Ar). In addition, there is no limitation in particular about the substance which comprises each layer, You may use things other than what was described here. Moreover, you may further combine the layer which consists of substances other than these. As described above, the second interlayer insulating films 19a and 19b may be formed using both inorganic or organic materials, or may be formed of any one of an inorganic film and an organic film.

発光素子12において、第1の電極および第2の電極がいずれも透光性を有する物質で構成されている場合、図7(A)の白抜きの矢印で表されるように、第1の電極13側と第2の電極14側の両方から発光を取り出すことができる。また、第2の電極14のみが透光性を有する物質で構成されている場合、図7(B)の白抜きの矢印で表されるように、第2の電極14側のみから発光を取り出すことができる。この場合、第1の電極13は反射率の高い材料で構成されているか、または反射率の高い材料から成る膜(反射膜)が第1の電極13の下方に設けられていることが好ましい。また、第1の電極13のみが透光性を有する物質で構成されている場合、図7(C)の白抜きの矢印で表されるように、第1の電極13側のみから発光を取り出すことができる。この場合、第2の電極14は反射率の高い材料で構成されているか、または反射膜が第2の電極14の上方に設けられていることが好ましい。   In the light-emitting element 12, when each of the first electrode and the second electrode is formed using a light-transmitting substance, the first electrode and the second electrode are represented by the white arrows in FIG. Light emission can be extracted from both the electrode 13 side and the second electrode 14 side. In addition, in the case where only the second electrode 14 is formed using a light-transmitting substance, light emission is extracted only from the second electrode 14 side as represented by a white arrow in FIG. 7B. be able to. In this case, it is preferable that the first electrode 13 is made of a material having a high reflectivity, or a film (reflective film) made of a material having a high reflectivity is provided below the first electrode 13. In addition, in the case where only the first electrode 13 is formed using a light-transmitting substance, light emission is extracted only from the first electrode 13 side as represented by a white arrow in FIG. be able to. In this case, it is preferable that the second electrode 14 is made of a highly reflective material, or a reflective film is provided above the second electrode 14.

また、発光素子12は、第1の電極13の電位よりも第2の電極14の電位が高くなるように電圧を印加したときに動作するように層15が積層されたものであってもよいし、或いは、第1の電極13の電位よりも第2の電極14の電位が低くなるように電圧を印加したときに動作するように層15が積層されたものであってもよい。前者の場合、トランジスタ11はNチャネル型トランジスタであり、後者の場合、トランジスタ11はPチャネル型トランジスタである。   In addition, the light emitting element 12 may be one in which the layer 15 is stacked so as to operate when a voltage is applied so that the potential of the second electrode 14 is higher than the potential of the first electrode 13. Alternatively, the layer 15 may be stacked so as to operate when a voltage is applied so that the potential of the second electrode 14 is lower than the potential of the first electrode 13. In the former case, the transistor 11 is an N-channel transistor, and in the latter case, the transistor 11 is a P-channel transistor.

以上のように、本実施の形態では、トランジスタによって発光素子の駆動を制御するアクティブ型の発光装置について説明したが、この他、トランジスタ等の駆動用の素子を特に設けずに発光素子を駆動させるパッシブ型の発光装置であってもよい。   As described above, in this embodiment mode, an active light-emitting device that controls driving of a light-emitting element using a transistor has been described. In addition to this, a light-emitting element is driven without particularly providing a driving element such as a transistor. A passive light emitting device may be used.

図8には本発明を適用して作製したパッシブ型の発光装置の斜視図を示す。図8において、基板951上には、互いに交差する電極952と電極956との間に少なくとも発光物質を含む層と複合層を有する層955が設けられている。電極952の端部は絶縁層953で覆われている。そして、絶縁層953上には隔壁層954が設けられている。隔壁層954の短辺方向の断面は、逆台形状であり底辺の方が上辺よりも短い。このように、隔壁層954を設けることで、静電気等に起因した発光素子の不良を防ぐことが出来る。また、パッシブ型の発光装置においても、低駆動電圧で動作する本発明の発光素子を含むことによって、低消費電力で駆動させることができる。   FIG. 8 is a perspective view of a passive light emitting device manufactured by applying the present invention. In FIG. 8, over a substrate 951, a layer 955 including a layer containing at least a light-emitting substance and a composite layer is provided between an electrode 952 and an electrode 956 that intersect with each other. An end portion of the electrode 952 is covered with an insulating layer 953. A partition layer 954 is provided over the insulating layer 953. The cross section in the short side direction of the partition wall layer 954 has an inverted trapezoidal shape, and the bottom side is shorter than the top side. In this manner, by providing the partition layer 954, defects in the light-emitting element due to static electricity or the like can be prevented. A passive light emitting device can also be driven with low power consumption by including the light emitting element of the present invention that operates at a low driving voltage.

(実施の形態6)
本発明の発光素子を画素として用いた発光装置は、発光素子の動作不良に起因した表示欠陥が少ないため、表示動作が良好である。また、表示欠陥に起因した表示画像の誤認等の少ない電子機器を得ることができる。また、本発明の発光素子を光源として用いた発光装置は、発光素子の動作不良に起因した不具合が少なく良好に照明することができる。このような発光装置をバックライト等の照明部として用いることによって、発光素子の不具合に起因して局所的に暗部が形成されるような動作不良が低減される。
(Embodiment 6)
Since the light-emitting device using the light-emitting element of the present invention as a pixel has few display defects due to the operation failure of the light-emitting element, the display operation is favorable. In addition, it is possible to obtain an electronic device with little misperception of a display image caused by a display defect. In addition, a light-emitting device using the light-emitting element of the present invention as a light source can be favorably illuminated with few defects due to malfunction of the light-emitting element. By using such a light-emitting device as an illuminating unit such as a backlight, an operation failure in which a dark part is locally formed due to a defect of the light-emitting element is reduced.

本発明を適用した発光装置を実装した電子機器の一実施例を図9に示す。   One embodiment of an electronic device mounted with a light emitting device to which the present invention is applied is shown in FIG.

図9(A)は、本発明を適用して作製したパーソナルコンピュータであり、本体5521、筐体5522、表示部5523、キーボード5524などによって構成されている。図7に示したような発光装置を表示部として組み込むことでパーソナルコンピュータを完成できる。また、本発明の発光素子を光源として用いた発光装置を、バックライトとして組み込んでもパーソナルコンピュータを完成させることができる。具体的には、図10に示すように、筐体5511と筐体5514との間に、液晶装置5512と光源として発光装置5513とを組み込めばよい。発光装置5513は本発明の発光素子で構成されるアレイ5518と導光板5517を有する。なお、図10において、液晶装置5512には外部入力端子5515が装着されており、アレイ5518には外部入力端子5516が装着されている。   FIG. 9A illustrates a personal computer manufactured by applying the present invention, which includes a main body 5521, a housing 5522, a display portion 5523, a keyboard 5524, and the like. A personal computer can be completed by incorporating a light emitting device as shown in FIG. 7 as a display portion. Further, a personal computer can be completed even if a light emitting device using the light emitting element of the present invention as a light source is incorporated as a backlight. Specifically, as illustrated in FIG. 10, a liquid crystal device 5512 and a light-emitting device 5513 as a light source may be incorporated between a housing 5511 and a housing 5514. A light-emitting device 5513 includes an array 5518 and a light guide plate 5517 which are formed using the light-emitting elements of the present invention. In FIG. 10, an external input terminal 5515 is attached to the liquid crystal device 5512, and an external input terminal 5516 is attached to the array 5518.

図9(B)は、本発明を適用して作製した電話機であり、本体5552には表示部5551と、音声出力部5554、音声入力部5555、操作スイッチ5556、操作スイッチ5557、アンテナ5553等によって構成されている。本発明の発光素子を有する発光装置を表示部として組み込むことで電話機を完成できる。   FIG. 9B illustrates a telephone manufactured by applying the present invention. A main body 5552 includes a display portion 5551, an audio output portion 5554, an audio input portion 5555, an operation switch 5556, an operation switch 5557, an antenna 5553, and the like. It is configured. A telephone can be completed by incorporating a light-emitting device having the light-emitting element of the present invention as a display portion.

図9(C)は、本発明を適用して作製したテレビ受像機であり、表示部5531、筐体5532、スピーカー5533などによって構成されている。本発明の発光素子を有する発光装置を表示部として組み込むことでテレビ受像機を完成できる。   FIG. 9C illustrates a television set manufactured by applying the present invention, which includes a display portion 5531, a housing 5532, a speaker 5533, and the like. A television receiver can be completed by incorporating a light-emitting device having the light-emitting element of the present invention as a display portion.

以上のように本発明の発光装置は、各種電子機器の表示部として用いるのに非常に適している。なお、電子機器は、本形態で述べたものに限定されるものではなく、ナビゲーション装置等、その他の電子機器であってもよい。   As described above, the light-emitting device of the present invention is very suitable for use as a display portion of various electronic devices. Note that the electronic device is not limited to that described in this embodiment, and may be another electronic device such as a navigation device.

(実施の形態7)
本形態では、本発明の発光素子の材料として使われる複合体について述べる。複合体は、下記の一般式[化1]〜[化5]で示す共役分子のいずれかと、その共役分子に対して電子受容性を持つ物質とを混合したものである。
(Embodiment 7)
In this embodiment mode, a composite used as a material for the light-emitting element of the present invention is described. The complex is a mixture of one of the conjugated molecules represented by the following general formulas [Chemical Formula 1] to [Chemical Formula 5] and a substance having an electron accepting property with respect to the conjugated molecule.

Figure 2006186337
(式中、XとZは同一または異なっており、且つ、XとZはそれぞれ硫黄原子、酸素原子、水素、アルキル基もしくはアリール基が結合した窒素原子、又は水素、アルキル基もしくはアリール基が結合した珪素原子のいずれかであり、Yはアリーレン基であり、RからRはそれぞれ、水素、アリール基、アルキル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、チオアルコキシ基、又はアルコキシ基のいずれかである。)
Figure 2006186337
(Wherein X and Z are the same or different, and X and Z are each a nitrogen atom to which a sulfur atom, oxygen atom, hydrogen, alkyl group or aryl group is bonded, or a hydrogen, alkyl group or aryl group bonded thereto) Y is an arylene group, and R 1 to R 6 are each a hydrogen atom, an aryl group, an alkyl group, a cyano group, a dialkylamino group, a thioalkoxy group, or an alkoxy group. is there.)

Figure 2006186337
(式中、Yはアリーレン基であり、RからRはそれぞれ、水素、アリール基、アルキル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、チオアルコキシ基、又はアルコキシ基のいずれかである。)
Figure 2006186337
(In the formula, Y is an arylene group, and R 1 to R 6 are each hydrogen, an aryl group, an alkyl group, a cyano group, a dialkylamino group, a thioalkoxy group, or an alkoxy group.)

Figure 2006186337
(式中、Yはアリーレン基であり、RからRはそれぞれ、水素、アリール基、アルキル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、チオアルコキシ基、又はアルコキシ基のいずれかである。)
Figure 2006186337
(In the formula, Y is an arylene group, and R 1 to R 6 are each hydrogen, an aryl group, an alkyl group, a cyano group, a dialkylamino group, a thioalkoxy group, or an alkoxy group.)

Figure 2006186337
(式中、Yはアリーレン基であり、RからRはそれぞれ、水素、アリール基、アルキル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、チオアルコキシ基、又はアルコキシ基のいずれかであり、RとRは水素、アルキル基又はアリール基のいずれかである。)
Figure 2006186337
(Wherein Y is an arylene group, and R 1 to R 6 are each hydrogen, aryl group, alkyl group, cyano group, dialkylamino group, thioalkoxy group, or alkoxy group, and R 7 and R 8 is either hydrogen, an alkyl group or an aryl group.)

Figure 2006186337
(式中、Yはアリーレン基であり、RからRはそれぞれ、水素、アリール基、アルキル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、チオアルコキシ基、又はアルコキシ基のいずれかであり、RからR10はそれぞれ、水素、アルキル基又はアリール基のいずれかである。)
Figure 2006186337
(In the formula, Y is an arylene group, each R 6 is from R 1, hydrogen, an aryl group, an alkyl group, a cyano group, a dialkylamino group, or a thioalkoxy group, or an alkoxy group, a R 7 Each R 10 is hydrogen, an alkyl group, or an aryl group.)

上記一般式[化1]〜[化5]で示される共役分子において、式中Yは、アリーレン基であり、且つ、炭素数6から20の二価の芳香族炭化水素基、又は酸素、窒素、硫黄もしくは珪素を含む炭素数4から30の二価の複素芳香環基である。   In the conjugated molecules represented by the general formulas [Chemical Formula 1] to [Chemical Formula 5], Y is an arylene group and a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, or oxygen, nitrogen , A divalent heteroaromatic group having 4 to 30 carbon atoms and containing sulfur or silicon.

これらの共役分子は非常にイオン化ポテンシャルが小さいため、電子受容性物質と複合体を形成することで、複合体内部で電子の授受が行われる。従って、複合体でできた複合層は、正孔が発生するもしくは正孔が移動しやすいという特徴を持つ。また、そのような特徴に起因して、複合層は導電性が高いという特徴をも持つ。従って、イオン化ポテンシャルの小さい材料で構成された層と複合層を比較すると、複合層は電子受容性物質を有しているためより正孔の流れが良好な層となる。   Since these conjugated molecules have a very low ionization potential, electrons are exchanged inside the complex by forming a complex with the electron accepting substance. Therefore, a composite layer made of a composite has a feature that holes are generated or holes are easy to move. In addition, due to such characteristics, the composite layer also has a characteristic of high conductivity. Therefore, when a layer composed of a material having a low ionization potential is compared with the composite layer, the composite layer has an electron-accepting substance and therefore has a better hole flow.

電子受容性物質としては、金属酸化物または金属窒化物が好ましい。中でも周期表第4族乃至第12族のいずれかの遷移金属酸化物は、電子の受容性が高い。また、周期表第4族乃至第8族のいずれかの遷移金属酸化物は電子受容性がさらに高いものが多い。特に酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化レニウム、酸化タングステン、酸化ルテニウム、酸化チタン、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化ニオブが好適である。   As the electron accepting substance, a metal oxide or a metal nitride is preferable. Among them, the transition metal oxide of any of Groups 4 to 12 of the periodic table has high electron acceptability. Further, many transition metal oxides of Groups 4 to 8 of the periodic table have a higher electron accepting property. In particular, vanadium oxide, molybdenum oxide, rhenium oxide, tungsten oxide, ruthenium oxide, titanium oxide, chromium oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, tantalum oxide, and niobium oxide are preferable.

また、電子受容性物質として、電子受容性を持つ有機化合物でも良い。具体的には、7,7,8,8−テトラシアノ−2,3,5,6−テトラフルオロキノジメタン(F4−TCNQ)、クロラニルなどが挙げられる。さらに、電子受容性物質としてルイス酸を用いても良い。ルイス酸の例としては、FeCl(塩化鉄(III))、AlCl(塩化アルミニウム)が挙げられる。 Further, an organic compound having an electron accepting property may be used as the electron accepting substance. Specific examples include 7,7,8,8-tetracyano-2,3,5,6-tetrafluoroquinodimethane (F4-TCNQ) and chloranil. Further, a Lewis acid may be used as the electron accepting substance. Examples of Lewis acid include FeCl 3 (iron chloride (III)) and AlCl 3 (aluminum chloride).

また、複合層における電子受容性物質と一般式[化1]〜[化5]で示される共役分子のいずれかとの最適な混合比は、モル比で電子受容性物質/共役分子=0.1〜10、好ましくは0.5〜2である。この混合比のときが、電子受容性物質と共役分子との間で電子の授受が効率よく行われ、最も複合層の導電性が高くなる。   In addition, the optimum mixing ratio of the electron-accepting substance in the composite layer and any of the conjugated molecules represented by the general formulas [Chemical Formula 1] to [Chemical Formula 5] is as follows. -10, preferably 0.5-2. At this mixing ratio, electrons are efficiently exchanged between the electron-accepting substance and the conjugated molecule, and the conductivity of the composite layer is the highest.

本実施例では、一般式[化2]で示される化合物の代表として、下式[化6]である1,4−ジ(3,4−エチレンジオキシ−2−チエニル)ベンゼンと、下式[化7]で示される4,4’−ジ(3,4−エチレンジオキシ−2−チエニル)ビフェニルのそれぞれを合成した。

Figure 2006186337
Figure 2006186337
In this example, as a representative of the compound represented by the general formula [Chemical Formula 2], 1,4-di (3,4-ethylenedioxy-2-thienyl) benzene represented by the following formula [Chemical Formula 6] and the following formula: Each of 4,4′-di (3,4-ethylenedioxy-2-thienyl) biphenyl represented by [Chemical Formula 7] was synthesized.
Figure 2006186337
Figure 2006186337

化合物[化6]ならびに[化7]は非常にイオン化ポテンシャルが小さい。すなわち一般式[化1]から[化5]で表される化合物においては、RとRで環構造を形成し、RとRで環構造を形成することで分子全体の有効共役長が拡張することがわかった。 Compounds [Chemical 6] and [Chemical 7] have very low ionization potential. That is, in the compounds represented by the general formulas [Chemical Formula 1] to [Chemical Formula 5], R 1 and R 2 form a ring structure, and R 3 and R 4 form a ring structure, thereby effectively conjugating the whole molecule. It turns out that the length extends.

図11は1,4−ジ(3,4−エチレンジオキシ−2−チエニル)ベンゼン([化6])とその類縁体である、1,4−ビス(3,4−ジヘキシルオキシ−2−チエニル)ベンゼンの紫外−可視吸収スペクトルである。1,4−ビス(3,4−ジヘキシルオキシ−2−チエニル)ベンゼンの構造を[化8]に示す。図11の(A)に示すように前者の吸収極大は380nmに見られるのに対し、図11の(B)に示すように後者のそれは300nmに観測され、環構造を有する[化6]がより拡張された共役系を有していることが分かる。なお、図11の(A)で示すように、[化6]の可視光領域における吸収強度は非常に小さく、これは従来の正孔注入材料と比べて著しく異なる点である。

Figure 2006186337
FIG. 11 shows 1,4-di (3,4-ethylenedioxy-2-thienyl) benzene ([Chem. 6]) and its analog 1,4-bis (3,4-dihexyloxy-2- It is an ultraviolet-visible absorption spectrum of thienyl) benzene. The structure of 1,4-bis (3,4-dihexyloxy-2-thienyl) benzene is shown in [Chemical Formula 8]. As shown in FIG. 11 (A), the former absorption maximum is observed at 380 nm, whereas as shown in FIG. 11 (B), the latter is observed at 300 nm. It can be seen that it has a more extended conjugated system. As shown in FIG. 11A, the absorption intensity in the visible light region of [Chemical Formula 6] is very small, which is a significant difference from the conventional hole injection material.
Figure 2006186337

さらに、[化6]と[化8]とでサイクリックボルタンメトリーの測定を行った。この測定結果からも、[化6]が、より拡張された共役系を有していることが示された。サイクリックボルタンメトリーの測定は、アセトニトリルを溶媒として用い、過塩素酸テトラブチルアンモニウムを支持電解質として用いて行った。作用電極、ならびに対極は白金である。また、参照電極は銀/塩化銀を用いた。   Furthermore, cyclic voltammetry was measured with [Chemical Formula 6] and [Chemical Formula 8]. This measurement result also showed that [Chemical 6] has a more extended conjugated system. Cyclic voltammetry was measured using acetonitrile as a solvent and tetrabutylammonium perchlorate as a supporting electrolyte. The working electrode as well as the counter electrode is platinum. The reference electrode was silver / silver chloride.

結果、[化6]の酸化電位は1.20V(vs.Ag/Ag)であるのに対し、[化8]の酸化電位は1.68Vであり、[化8]がより酸化しにくいことが分かった。 As a result, the oxidation potential of [Chemical 6] is 1.20 V (vs. Ag / Ag + ), whereas the oxidation potential of [Chemical 8] is 1.68 V, and [Chemical 8] is more difficult to oxidize. I understood that.

つまり、一般式[化1]から[化5]で表される共役分子において、RとRで環構造を形成し、且つRとRで環構造を形成すると、分子全体の有効共役長が拡張する。有効共役長が拡張すると、バンドギャップが小さくなり、イオン化ポテンシャルが小さくなる。従って、より共役分子の電子供与性が上がることになる。そのため、有効共役長が拡張した共役分子と電子受容性物質を用いて複合層を形成することで、さらに正孔が発生しやすく、導電率の高い複合層が得られる。 That is, in a conjugated molecule represented by the general formulas [Chemical Formula 1] to [Chemical Formula 5], when a ring structure is formed by R 1 and R 2 and a ring structure is formed by R 3 and R 4 , the entire molecule is effective. The conjugate length is extended. As the effective conjugate length increases, the band gap decreases and the ionization potential decreases. Therefore, the electron donating property of the conjugated molecule is further increased. Therefore, by forming a composite layer using a conjugated molecule having an extended effective conjugate length and an electron-accepting substance, a composite layer having a higher conductivity can be obtained because holes are more easily generated.

本実施例では、一般式[化2]で示される化合物の代表として、下式[化9]で示される1,4−ジ(3,4−エチレンジオキシ−5−トリメチルシリル−2−チエニル)ベンゼンの合成について述べる。

Figure 2006186337
In this example, as a representative of the compound represented by the general formula [Chemical Formula 2], 1,4-di (3,4-ethylenedioxy-5-trimethylsilyl-2-thienyl) represented by the following Formula [Chemical Formula 9] The synthesis of benzene is described.
Figure 2006186337

合成スキームを図12に示す。3,4−エチレンジオキシチオフェン(図12(A)の化合物、10.30g、72.5mmol)の乾燥THF溶液(100mL)に1.56Nのn−ブチルリチウムのヘキサン溶液(48mL、74.9mmol)を−78℃にて滴下した。滴下終了後、−78℃にて1時間攪拌した。この溶液にクロロトリメチルシラン(8.93g、82.3mmol)を滴下し、この後反応溶液を室温まで徐々に昇温した。3時間攪拌した後、反応混合物を減圧下において濃縮し、この後ヘキサンで抽出した。ヘキサン層は硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過した。ろ液を濃縮し、残渣を減圧蒸留(200Pa、94−100℃)することにより、図12(B)で示される化合物、2−トリメチルシリル−3,4−エチレンジオキシチオフェンを得た。収率84%。H NMR(300MHz、CDCl)δ 0.286(s、9H)、4.16(s、2H)、4.17(s、2H)、6.54(s、1H):13C NMR(75MHz、CDCl)δ −0.74、 64.42、 64.51、 104.68、 111.28、 142.63、 147.25。 A synthesis scheme is shown in FIG. A dry THF solution (100 mL) of 3,4-ethylenedioxythiophene (compound of FIG. 12 (A), 10.30 g, 72.5 mmol) in a hexane solution of 1.56N n-butyllithium (48 mL, 74.9 mmol). ) Was added dropwise at -78 ° C. After completion of dropping, the mixture was stirred at -78 ° C for 1 hour. Chlorotrimethylsilane (8.93 g, 82.3 mmol) was added dropwise to this solution, and then the reaction solution was gradually warmed to room temperature. After stirring for 3 hours, the reaction mixture was concentrated under reduced pressure and then extracted with hexane. The hexane layer was dried over magnesium sulfate and then filtered. The filtrate was concentrated and the residue was distilled under reduced pressure (200 Pa, 94-100 ° C.) to obtain the compound shown in FIG. 12B, 2-trimethylsilyl-3,4-ethylenedioxythiophene. Yield 84%. 1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 0.286 (s, 9H), 4.16 (s, 2H), 4.17 (s, 2H), 6.54 (s, 1H): 13 C NMR ( 75 MHz, CDCl 3 ) δ −0.74, 64.42, 64.51, 104.68, 111.28, 142.63, 147.25.

図12(B)で示される化合物、2−トリメチルシリル−3,4−エチレンジオキシチオフェン(18.6g、86.0mmol)の乾燥THF溶液(150mL)に、−78℃において1.56Nのn−ブチルリチウムのヘキサン溶液(55mL、86.0mmol)を滴下した。滴下終了後、−78℃にて1時間、0℃において30分攪拌した。この溶液を塩化亜鉛(11.69g、85.8mmol)の乾燥THF懸濁液(100mL)に室温にて滴下した。その後1時間攪拌して図12(C)で表される化合物を系中で得た。この後、1,4−ジブロモベンゼン(6.759g、28.7mmol)とテトラキストリフェニルフォスフィンパラジウム(0)(1.28g、1.11mmol)を加え、さらに10時間加熱還流した。反応混合物を水約1Lへ投入し、沈殿物をろ過した。ろ過物を乾燥させた後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開液、ヘキサン/酢酸エチル 10/1から2/1)によって精製し、更にヘキサン/酢酸エチル(5/1)によって再結晶することにより、図12(D)で表される化合物、1,4−ジ(3,4−エチレンジオキシ−5−トリメチルシリル−2−チエニル)ベンゼンを得た。収率43%。H NMR(300MHz、CDCl)δ 0.311(s、18H)、4.27(s、4H)、4.29(s、4H)、7.69(s、4H)。 To a compound shown in FIG. 12B, 2-trimethylsilyl-3,4-ethylenedioxythiophene (18.6 g, 86.0 mmol) in dry THF (150 mL) at −78 ° C., 1.56 N n- Butyllithium in hexane (55 mL, 86.0 mmol) was added dropwise. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at -78 ° C for 1 hour and at 0 ° C for 30 minutes. This solution was added dropwise at room temperature to a dry THF suspension (100 mL) of zinc chloride (11.69 g, 85.8 mmol). Thereafter, the mixture was stirred for 1 hour to obtain the compound represented by FIG. Thereafter, 1,4-dibromobenzene (6.759 g, 28.7 mmol) and tetrakistriphenylphosphine palladium (0) (1.28 g, 1.11 mmol) were added, and the mixture was further heated to reflux for 10 hours. The reaction mixture was poured into about 1 L of water, and the precipitate was filtered. The filtrate is dried, purified by silica gel column chromatography (developing solution, hexane / ethyl acetate 10/1 to 2/1), and further recrystallized with hexane / ethyl acetate (5/1). The compound represented by 12 (D), 1,4-di (3,4-ethylenedioxy-5-trimethylsilyl-2-thienyl) benzene, was obtained. Yield 43%. 1 H NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 0.311 (s, 18H), 4.27 (s, 4H), 4.29 (s, 4H), 7.69 (s, 4H).

合成した図12(D)で表される化合物の紫外―可視吸収スペクトルを図13に示す。図13に示すように、可視光領域における吸収は極めて小さく、これに起因して素子の着色を大幅に低減できることが可能である。   FIG. 13 shows an ultraviolet-visible absorption spectrum of the synthesized compound represented by FIG. As shown in FIG. 13, the absorption in the visible light region is extremely small, and the coloring of the element can be greatly reduced due to this.

本実施例では、一般式[化1]から[化5]で表される化合物において、RとRに水素以外の置換基を導入する効果について述べる。RとRが水素の場合、溶解性が極めて低い。例えば、実施例1で示した、式[化6]で表される化合物は、25℃において、クロロホルムに対する溶解度は1wt%にも満たない。これに対し、図12(D)で示されるようなRとRがトリメチルシリル基の場合、25℃におけるクロロホルムへの溶解度は15.4wt%である。このように、RとRに水素以外の置換基を導入することによって、溶解性を著しく向上させることができる。 In this example, effects of introducing a substituent other than hydrogen into R 5 and R 6 in the compounds represented by the general formulas [Chemical Formula 1] to [Chemical Formula 5] will be described. When R 5 and R 6 are hydrogen, the solubility is very low. For example, the compound represented by the formula [Chemical Formula 6] shown in Example 1 has a solubility in chloroform of less than 1 wt% at 25 ° C. In contrast, when R 5 and R 6 are trimethylsilyl groups as shown in FIG. 12D, the solubility in chloroform at 25 ° C. is 15.4 wt%. Thus, the solubility can be remarkably improved by introducing substituents other than hydrogen into R 5 and R 6 .

さらにRとRに水素を導入すると溶解性が低いが、水素以外の置換基を導入すると、高い溶解性を反映して膜質の良い蒸着膜が得られる。 Further, when hydrogen is introduced into R 5 and R 6 , the solubility is low. However, when a substituent other than hydrogen is introduced, a deposited film with good film quality is obtained reflecting high solubility.

本実施例では、一般式[化2]で示される化合物の代表として、下式[化10]で示される4,4’−ビス(5−フェニル−3,4−エチレンジオキシ−2−チエニル)ビフェニル(以下、DPEBPと呼ぶ)の合成について述べる。

Figure 2006186337
In this example, as a representative of the compound represented by the general formula [Chemical Formula 2], 4,4′-bis (5-phenyl-3,4-ethylenedioxy-2-thienyl represented by the following Formula [Chemical Formula 10] ) Synthesis of biphenyl (hereinafter referred to as DPEBP) will be described.
Figure 2006186337

まず、中間体である下式[化11](以下、中間体aと呼ぶ)の合成について述べる。2,3−ジヒドロチエノ−[3,4−b]−1,4−ジオキシン22.41gに乾燥THF250mlを加え、−78℃に冷却した。n−ブチルリチウム(1.58Mヘキサン溶液)100mlを滴下し、1時間撹拌した。得られた混合物を室温にて塩化亜鉛25.84gに加え、室温にてさらに1時間撹拌した。これに、ブロモベンゼン18.3mlとテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム1.83gを添加し、加熱還流下5時間撹拌した。室温に冷却した溶液に酢酸エチル、1M塩酸、水を加え、有機層を分取した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を濃縮した。カラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル)で精製した。NMRデータを以下に示す。H NMR(CDCl、δ)7.72ppm(d、2H)、7.36ppm(t、2H)、7.21ppm(t、1H)、6.29ppm(s、1H)、4.29ppm(m、4H)。

Figure 2006186337
First, the synthesis of the following formula [Formula 11] (hereinafter referred to as intermediate a) is described. 250 ml of dry THF was added to 22.41 g of 2,3-dihydrothieno- [3,4-b] -1,4-dioxin and cooled to -78 ° C. 100 ml of n-butyllithium (1.58 M hexane solution) was added dropwise and stirred for 1 hour. The obtained mixture was added to 25.84 g of zinc chloride at room temperature, and further stirred at room temperature for 1 hour. To this were added 18.3 ml of bromobenzene and 1.83 g of tetrakistriphenylphosphine palladium, and the mixture was stirred for 5 hours with heating under reflux. Ethyl acetate, 1M hydrochloric acid and water were added to the solution cooled to room temperature, and the organic layer was separated. After drying with magnesium sulfate, the solvent was concentrated. Purified by column chromatography (hexane / ethyl acetate). NMR data is shown below. 1 H NMR (CDCl 3 , δ) 7.72 ppm (d, 2H), 7.36 ppm (t, 2H), 7.21 ppm (t, 1H), 6.29 ppm (s, 1H), 4.29 ppm (m 4H).
Figure 2006186337

次に、上記で得られた中間体a10.36gにTHF100mlを加え、−78℃に冷却した。n−ブチルリチウム(1.58Mヘキサン溶液)33.1mlを滴下し、1時間撹拌した。得られた混合物を室温にて塩化亜鉛7.77gに加え、室温にてさらに1時間撹拌した。これに、4,4’−ジヨードビフェニル8.77gとテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム549mgを添加し、加熱還流下5時間撹拌した。これをろ過して得られた固体をエタノールにて洗浄した。クロロホルムにて再結晶を行い、本発明の有機化合物DPEBPを得た(黄色粉末)。NMRデータを以下に示す。H NMR(CDCl、δ)7.77ppm(m、12H)、7.44ppm(t、4H)、7.28ppm(t、2H)、4.45ppm(s、8H)。 Next, 100 ml of THF was added to 10.36 g of the intermediate a obtained above and cooled to -78 ° C. 33.1 ml of n-butyllithium (1.58 M hexane solution) was added dropwise and stirred for 1 hour. The obtained mixture was added to 7.77 g of zinc chloride at room temperature, and further stirred at room temperature for 1 hour. To this, 8.77 g of 4,4′-diiodobiphenyl and 549 mg of tetrakistriphenylphosphine palladium were added and stirred for 5 hours while heating under reflux. The solid obtained by filtering this was washed with ethanol. Recrystallization was performed with chloroform to obtain an organic compound DPEBP of the present invention (yellow powder). NMR data is shown below. 1 H NMR (CDCl 3 , δ) 7.77 ppm (m, 12H), 7.44 ppm (t, 4H), 7.28 ppm (t, 2H), 4.45 ppm (s, 8H).

本実施例では、一般式[化2]で示される化合物の代表として、下式[化12]で示される1,4−ビス(5−フェニル−3,4−エチレンジオキシ−2−チエニル)ベンゼン(以下、DPEBZと呼ぶ)の合成について述べる。

Figure 2006186337
In this example, as a representative of the compound represented by the general formula [Chemical Formula 2], 1,4-bis (5-phenyl-3,4-ethylenedioxy-2-thienyl) represented by the following Formula [Chemical Formula 12] The synthesis of benzene (hereinafter referred to as DPEBZ) will be described.
Figure 2006186337

実施例4で得られた中間体a6.07gにTHF100mlを加え、−78℃に冷却した。n−ブチルリチウム(1.58Mヘキサン溶液)19.4mlを滴下し、1時間撹拌した。得られた混合物を室温にて塩化亜鉛4.50gに加え、室温にてさらに1時間撹拌した。これに、1,4−ジヨードベンゼン4.12gとテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム321mgを添加し、加熱還流下5時間撹拌した。これをろ過して得られた固体をエタノールにて洗浄した。クロロホルムにて再結晶を行い、本発明の有機化合物DPEBZを得た(橙色粉末)。NMRデータを以下に示す。H NMR(CDCl、δ)7.77ppm(m、8H)、7.38ppm(t、4H)、7.23ppm(t、2H)、4.38ppm(s、8H)。 To 6.07 g of the intermediate a obtained in Example 4, 100 ml of THF was added and cooled to -78 ° C. 19.4 ml of n-butyllithium (1.58 M hexane solution) was added dropwise and stirred for 1 hour. The obtained mixture was added to 4.50 g of zinc chloride at room temperature, and the mixture was further stirred at room temperature for 1 hour. To this, 4.12 g of 1,4-diiodobenzene and 321 mg of tetrakistriphenylphosphine palladium were added and stirred for 5 hours while heating under reflux. The solid obtained by filtering this was washed with ethanol. Recrystallization was performed with chloroform to obtain an organic compound DPEBZ of the present invention (orange powder). NMR data is shown below. 1 H NMR (CDCl 3 , δ) 7.77 ppm (m, 8H), 7.38 ppm (t, 4H), 7.23 ppm (t, 2H), 4.38 ppm (s, 8H).

本実施例では、一般式[化2]で示される化合物の代表として、下式[化13]で示される4、4’−ビス[5−(4−tert−ブチルフェニル)−3,4−エチレンジオキシ−2−チエニル)ビフェニル(以下、DtBuPEBPと呼ぶ)の合成について述べる。

Figure 2006186337
In this example, as a representative of the compound represented by the general formula [Chemical Formula 2], 4,4′-bis [5- (4-tert-butylphenyl) -3,4- The synthesis of ethylenedioxy-2-thienyl) biphenyl (hereinafter referred to as DtBuPEBP) will be described.
Figure 2006186337

まず、中間体である下式[化14](以下、中間体bと呼ぶ)の合成について述べる。まず、2,3−ジヒドロチエノ−[3,4−b]−1,4−ジオキシン10.57gにTHF100mlを加え、−78℃に冷却した。LDA(2.0M)37.2mlを滴下し、1時間撹拌した。塩化亜鉛12.14gを添加し、室温にてさらに1時間撹拌した。これに、1−ブロモ−4−tert−ブチルベンゼン14.3mlとテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム859mgを添加し、加熱還流下8時間撹拌した。室温に冷却した溶液に酢酸エチル、水を加え、有機層を分取した。硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を濃縮した。その後カラムクロマトグラフィー(トルエン)で精製した。NMRデータを以下に示す。H NMR(CDCl、δ)7.67ppm(d、2H)、7.45ppm(d、2H)、6.32ppm(s、1H)、1.40ppm(s、9H)。

Figure 2006186337
First, the synthesis of the following formula [Formula 14] (hereinafter referred to as intermediate b), which is an intermediate, will be described. First, 100 ml of THF was added to 10.57 g of 2,3-dihydrothieno- [3,4-b] -1,4-dioxin and cooled to -78 ° C. 37.2 ml of LDA (2.0M) was added dropwise and stirred for 1 hour. 12.14 g of zinc chloride was added, and the mixture was further stirred at room temperature for 1 hour. To this, 14.3 ml of 1-bromo-4-tert-butylbenzene and 859 mg of tetrakistriphenylphosphine palladium were added, and the mixture was stirred for 8 hours with heating under reflux. Ethyl acetate and water were added to the solution cooled to room temperature, and the organic layer was separated. After drying with magnesium sulfate, the solvent was concentrated. Then, it was purified by column chromatography (toluene). NMR data is shown below. 1 H NMR (CDCl 3 , δ) 7.67 ppm (d, 2H), 7.45 ppm (d, 2H), 6.32 ppm (s, 1H), 1.40 ppm (s, 9H).
Figure 2006186337

次に、上記で得られた中間体b2.56gにTHF50mlを加え、−78℃に冷却した。LDA(2.0M)5.12mlを滴下し、1時間撹拌した。塩化亜鉛1.53gを添加し、室温にてさらに1時間撹拌した。これに、4,4’−ジヨードビフェニル1.71gとテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム107mgを添加し、加熱還流下6時間撹拌した。室温に冷却した溶液に酢酸エチル、1M塩酸、水を加え、有機層を分取した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を濃縮した。クロロホルムにて再結晶を行い、本発明の有機化合物DtBuPEBPを得た。NMRデータを以下に示す。H NMR(CDCl、δ)7.80ppm(d、4H)、7.66ppm(m、8H)、7.41ppm(d、4H)、4.36ppm(s、8H)、1.32ppm(s、9H)。 Next, 50 ml of THF was added to 2.56 g of the intermediate b obtained above, and the mixture was cooled to −78 ° C. LDA (2.0 M) 5.12 ml was added dropwise and stirred for 1 hour. Zinc chloride (1.53 g) was added, and the mixture was further stirred at room temperature for 1 hour. To this, 1.71 g of 4,4′-diiodobiphenyl and 107 mg of tetrakistriphenylphosphine palladium were added and stirred for 6 hours under heating and reflux. Ethyl acetate, 1M hydrochloric acid and water were added to the solution cooled to room temperature, and the organic layer was separated. After drying with magnesium sulfate, the solvent was concentrated. Recrystallization was performed with chloroform to obtain an organic compound DtBuPEBP of the present invention. NMR data is shown below. 1 H NMR (CDCl 3 , δ) 7.80 ppm (d, 4H), 7.66 ppm (m, 8H), 7.41 ppm (d, 4H), 4.36 ppm (s, 8H), 1.32 ppm (s) 9H).

本発明の発光素子を示す図。FIG. 6 illustrates a light-emitting element of the present invention. 本発明の発光素子を示す図。FIG. 6 illustrates a light-emitting element of the present invention. 本発明の発光素子を示す図。FIG. 6 illustrates a light-emitting element of the present invention. 発光装置の上面図を示す図。FIG. 6 is a top view of a light-emitting device. 一画素を動作するための回路を表した図。The figure showing the circuit for operating one pixel. 画素部における上面図。The top view in a pixel part. 本発明の発光素子を示す図。FIG. 6 illustrates a light-emitting element of the present invention. 本発明のパッシブ型の発光装置を示す図。FIG. 6 illustrates a passive light-emitting device of the present invention. 本発明の電子機器を示す図。FIG. 16 illustrates an electronic device of the invention. 本発明の発光素子をバックライトに組み込んだ電子機器を示す図。FIG. 11 illustrates an electronic device in which a light-emitting element of the present invention is incorporated in a backlight. 共役分子の紫外−可視スペクトルを示す図。The figure which shows the ultraviolet-visible spectrum of a conjugated molecule. 合成スキーム図。Synthesis scheme diagram. 共役分子の紫外−可視スペクトル(塩化メチレン中、2.55×10−5M)を示す図。The figure which shows the ultraviolet-visible spectrum (2.55 * 10 <-5> M in a methylene chloride) of a conjugated molecule. 従来例を示す図。The figure which shows a prior art example.

符号の説明Explanation of symbols

101 第1の電極
102 第2の電極
111 第1の層
112 第2の層
113 第3の層
114 複合層
115 正孔輸送層
116 複合層
117 正孔注入層
118 複合層
201 第1の電極
202 第2の電極
211 第1の層
212 第2の層
213 第3の層
214 複合層
215 電子発生層
301 第1の電極
302 第2の電極
311 第1の層
312 第2の層
313 第3の層
324 第1の複合層
325 電子発生層
326 正孔輸送層
327 第2の複合層
328 第2の複合層
329 正孔注入層
330 第2の複合層
6500 基板
6503 FPC
6504 プリント配線基盤(PWB)
6511 画素部
6512 ソース信号線駆動回路
6513 書込用ゲート信号線駆動回路
6514 消去用ゲート信号線駆動回路
901 第1のトランジスタ
902 第2のトランジスタ
903 発光素子
911 ゲート信号線
912 ソース信号線
913 書込用ゲート信号線駆動回路
914 消去用ゲート信号線駆動回路
915 ソース信号線駆動回路
916 電源
917 電流供給線
918 スイッチ
919 スイッチ
920 スイッチ
1001 第1のトランジスタ
1002 第2のトランジスタ
1003 ゲート信号線
1004 ソース信号線
1005 電流供給線
1006 電極
10 基板
11 トランジスタ
12 発光素子
13 第1の電極
14 第2の電極
15 層
16a 第1層間絶縁膜
16b 第1層間絶縁膜
16c 第1層間絶縁膜
17 配線
18 隔壁層
19a 第2層間絶縁膜
19b 第2層間絶縁膜
21 ゲート電極
22 ゲート絶縁膜
23 半導体層
951 基板
952 電極
953 絶縁層
954 隔壁層
955 層
956 電極
5521 本体
5522 筐体
5523 表示部
5524 キーボード
5551 表示部
5552 本体
5553 アンテナ
5554 音声出力部
5555 音声入力部
5556 操作スイッチ
5557 操作スイッチ
5531 表示部
5532 筐体
5533 スピーカー
5511 筐体
5512 液晶装置
5513 発光装置
5514 筐体
5515 外部入力端子
5516 外部入力端子
5517 導光板
5518 アレイ
1501 第1の電極
1502 第2の電極
1503 層
1511 正孔輸送層
1512 発光層
1513 電子輸送層
101 first electrode 102 second electrode 111 first layer 112 second layer 113 third layer 114 composite layer 115 hole transport layer 116 composite layer 117 hole injection layer 118 composite layer 201 first electrode 202 Second electrode 211 First layer 212 Second layer 213 Third layer 214 Composite layer 215 Electron generation layer 301 First electrode 302 Second electrode 311 First layer 312 Second layer 313 Third layer Layer 324 first composite layer 325 electron generation layer 326 hole transport layer 327 second composite layer 328 second composite layer 329 hole injection layer 330 second composite layer 6500 substrate 6503 FPC
6504 Printed Wiring Board (PWB)
6511 Pixel portion 6512 Source signal line driving circuit 6513 Writing gate signal line driving circuit 6514 Erasing gate signal line driving circuit 901 First transistor 902 Second transistor 903 Light emitting element 911 Gate signal line 912 Source signal line 913 Writing Gate signal line driving circuit 914 erasing gate signal line driving circuit 915 source signal line driving circuit 916 power supply 917 current supply line 918 switch 919 switch 920 switch 1001 first transistor 1002 second transistor 1003 gate signal line 1004 source signal line 1005 Current supply line 1006 Electrode 10 Substrate 11 Transistor 12 Light emitting element 13 First electrode 14 Second electrode 15 Layer 16a First interlayer insulating film 16b First interlayer insulating film 16c First interlayer insulating film 17 Wiring 18 Partition layer 19a Two-layer insulating film 19b Second interlayer insulating film 21 Gate electrode 22 Gate insulating film 23 Semiconductor layer 951 Substrate 952 Electrode 953 Insulating layer 954 Partition layer 955 Layer 956 Electrode 5521 Main body 5522 Housing 5523 Display unit 5524 Keyboard 5551 Display unit 5552 Main unit 5553 Antenna 5554 Audio output unit 5555 Audio input unit 5556 Operation switch 5557 Operation switch 5531 Display unit 5532 Case 5533 Speaker 5511 Case 5512 Liquid crystal device 5513 Light emitting device 5514 Case 5515 External input terminal 5516 External input terminal 5517 Light guide plate 5518 Array 1501 First 1 electrode 1502 second electrode 1503 layer 1511 hole transport layer 1512 light emitting layer 1513 electron transport layer

Claims (9)

第1の電極と第2の電極とでなる一対の電極と、
前記一対の電極間にある発光層と、
前記発光層と前記一対の電極の少なくとも一方との間に配置された複合層とを有し、
前記複合層は一般式[化1]乃至[化5]のいずれかの共役分子と、前記共役分子に対し電子受容性を持つ物質との複合体からなる層であることを特徴とする発光素子。
Figure 2006186337
(式中、XとZは同一または異なっており、且つ、XとZはそれぞれ硫黄原子、酸素原子、水素、アルキル基もしくはアリール基が結合した窒素原子、又は水素、アルキル基もしくはアリール基が結合した珪素原子であり、Yはアリーレン基であり、RからRはそれぞれ、水素、アリール基、アルキル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、チオアルコキシ基、又はアルコキシ基のいずれかである。)

Figure 2006186337
(式中、Yはアリーレン基であり、RからRはそれぞれ、水素、アリール基、アルキル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、チオアルコキシ基、又はアルコキシ基のいずれかである。)

Figure 2006186337
(式中、Yはアリーレン基であり、RからRはそれぞれ、水素、アリール基、アルキル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、チオアルコキシ基、又はアルコキシ基のいずれかである。)

Figure 2006186337
(式中、Yはアリーレン基であり、RからRはそれぞれ、水素、アリール基、アルキル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、チオアルコキシ基、又はアルコキシ基のいずれかであり、RとRはそれぞれ、水素、アルキル基又はアリール基のいずれかである。)

Figure 2006186337
(式中、Yはアリーレン基であり、RからRはそれぞれ、水素、アリール基、アルキル基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、チオアルコキシ基、又はアルコキシ基のいずれかであり、RからR10はそれぞれ水素、アルキル基又はアリール基のいずれかである。)
A pair of electrodes composed of a first electrode and a second electrode;
A light emitting layer between the pair of electrodes;
A composite layer disposed between the light emitting layer and at least one of the pair of electrodes;
The composite layer is a layer formed of a composite of a conjugated molecule represented by any one of the general formulas [Chemical Formula 1] to [Chemical Formula 5] and a substance having an electron accepting property with respect to the conjugated molecule. .
Figure 2006186337
(Wherein X and Z are the same or different, and X and Z are each a nitrogen atom to which a sulfur atom, oxygen atom, hydrogen, alkyl group or aryl group is bonded, or a hydrogen, alkyl group or aryl group bonded thereto) Y is an arylene group, and R 1 to R 6 are each hydrogen, an aryl group, an alkyl group, a cyano group, a dialkylamino group, a thioalkoxy group, or an alkoxy group.)

Figure 2006186337
(In the formula, Y is an arylene group, and R 1 to R 6 are each hydrogen, an aryl group, an alkyl group, a cyano group, a dialkylamino group, a thioalkoxy group, or an alkoxy group.)

Figure 2006186337
(In the formula, Y is an arylene group, and R 1 to R 6 are each hydrogen, an aryl group, an alkyl group, a cyano group, a dialkylamino group, a thioalkoxy group, or an alkoxy group.)

Figure 2006186337
(Wherein Y is an arylene group, and R 1 to R 6 are each hydrogen, aryl group, alkyl group, cyano group, dialkylamino group, thioalkoxy group, or alkoxy group, and R 7 and Each R 8 is hydrogen, an alkyl group, or an aryl group.)

Figure 2006186337
(In the formula, Y is an arylene group, each R 6 is from R 1, hydrogen, an aryl group, an alkyl group, a cyano group, a dialkylamino group, or a thioalkoxy group, or an alkoxy group, a R 7 Each R 10 is hydrogen, an alkyl group, or an aryl group.)
請求項1において、前記第1の電極の電位が前記第2の電極の電位よりも高くなるように電圧が印加されたとき、前記発光素子は前記発光層から発光し、前記第1の電極と前記発光層との間に前記複合層は配置されることを特徴とする発光素子。   The light-emitting element emits light from the light-emitting layer when a voltage is applied so that the potential of the first electrode is higher than the potential of the second electrode. The light emitting element, wherein the composite layer is disposed between the light emitting layer and the light emitting layer. 請求項1において、前記第1の電極の電位が前記第2の電極の電位よりも高くなるように電圧が印加されたとき、前記発光素子は前記発光層から発光し、前記第2の電極と前記発光層との間に前記複合層は配置され、前記複合層と前記発光層側で接する電子発生層を有することを特徴とする発光素子。   The light-emitting element emits light from the light-emitting layer when a voltage is applied so that the potential of the first electrode is higher than the potential of the second electrode. The composite layer is disposed between the light emitting layer and an electron generating layer in contact with the composite layer on the light emitting layer side. 請求項1において、前記第1の電極の電位が前記第2の電極の電位よりも高くなるように電圧が印加されたとき、前記発光素子は前記発光層から発光し、
前記第1の電極と前記発光層との間、及び前記第2の電極と前記発光層との間のそれぞれに、前記複合層は配置され、
前記第2の電極と前記発光層との間に配置された前記複合層と前記発光層側で接する電子発生層を有することを特徴とする発光素子。
The light-emitting element emits light from the light-emitting layer when a voltage is applied so that the potential of the first electrode is higher than the potential of the second electrode.
The composite layer is disposed between each of the first electrode and the light emitting layer and between the second electrode and the light emitting layer,
A light-emitting element, comprising: an electron generation layer that is in contact with the composite layer disposed between the second electrode and the light-emitting layer on the light-emitting layer side.
請求項1乃至請求項4のいずれか一項において、前記共役分子に対し電子受容性を持つ前記物質は、金属酸化物、金属窒化物、有機化合物またはルイス酸であることを特徴とする発光素子。   5. The light-emitting element according to claim 1, wherein the substance having an electron accepting property with respect to the conjugated molecule is a metal oxide, a metal nitride, an organic compound, or a Lewis acid. . 請求項1乃至請求項5のいずれか一項において、前記共役分子の式中Yは、炭素数6から20の二価の芳香族炭化水素基、又は酸素、窒素、硫黄もしくは珪素を含む炭素数4から30の二価の複素芳香環基であることを特徴とする発光素子。   6. The conjugated molecule according to claim 1, wherein Y is a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, or a carbon number containing oxygen, nitrogen, sulfur, or silicon. A light-emitting element having 4 to 30 divalent heteroaromatic groups. 請求項1乃至請求項6のいずれか一項において、前記共役分子のRとRとで環構造を形成し、且つRとRとで環構造を形成することを特徴とする発光素子。 The light emission according to any one of claims 1 to 6, wherein R 1 and R 2 of the conjugated molecule form a ring structure, and R 3 and R 4 form a ring structure. element. 請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の発光素子を画素として用いることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus using the light-emitting element according to claim 1 as a pixel. 請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の発光素子を光源として用いることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus using the light-emitting element according to claim 1 as a light source.
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