JP2006184820A - Near-infrared absorption film and near-infrared absorption filter - Google Patents

Near-infrared absorption film and near-infrared absorption filter Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a near-infrared absorption film and a near-infrared absorption filter excellent in durability while maintaining a near-infrared blocking effect and visible light transmittance in a broad wavelength region. <P>SOLUTION: The near-infrared absorption film is obtained by laminating, on a transparent base film, a near-infrared absorption layer comprising a composition containing a transparent resin and one or more near-infrared absorbing dyes having maximum absorption at a wavelength of 800-1,100 nm, wherein one of the near-infrared absorbing dyes is an aromatic diimmonium compound having bis(trifluoromethanesulfonyl)imidic acid as a counter anion. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、特に、プラズマディスプレイ(PDP)の前面板や自動車用近赤外線カットフィルムに好適な、近赤外線吸収フィルムおよび近赤外線吸収フィルターに関する。さらに詳しくは、耐久性に優れる近赤外線吸収フィルムおよび近赤外線吸収フィルターに関する。   The present invention particularly relates to a near-infrared absorbing film and a near-infrared absorbing filter suitable for a front panel of a plasma display (PDP) and a near-infrared cut film for automobiles. More specifically, the present invention relates to a near-infrared absorbing film and a near-infrared absorbing filter that are excellent in durability.

近赤外線吸収能を有する光学フィルムは、近赤外線を遮断し、可視光を通過させる性質を有しており、各種の用途に使用されている。近年、薄型大画面ディスプレイとしてプラズマディスプレイが注目されているが、プラズマディスプレイから放出される近赤外線により、近赤外線リモコンを使用する電子機器が誤動作を起こす問題があり、近赤外線吸収フィルムをプラズマディスプレイの前面に設け、近赤外線をカットすることが行われている。   An optical film having near-infrared absorbing ability has a property of blocking near-infrared rays and allowing visible light to pass therethrough, and is used in various applications. In recent years, plasma displays have attracted attention as thin large-screen displays. However, there is a problem that electronic devices using near-infrared remote controls malfunction due to near-infrared rays emitted from plasma displays. A near-infrared ray is cut on the front side.

近赤外線吸収能を有するフィルムとしては、(1)燐酸系ガラスに、銅や鉄などの金属イオンを含有したフィルム、(2)屈折率の異なる層を積層し、透過光を干渉させることで特定の波長を透過させる干渉フィルム、(3)共重合体に銅イオンを含有するアクリル系樹脂フィルム、(4)樹脂に色素を分散又は溶解した層を積層したフィルム、が提案されている。これらの中で(4)のフィルムは、加工性、生産性が良好で、光学設計の自由度も比較的大きく、各種の方法が提案されている(例えば、特許文献1〜7を参照)。   As a film having near infrared absorption ability, (1) a film containing metal ions such as copper and iron on phosphoric acid glass, and (2) a layer having different refractive indexes are laminated to interfere with transmitted light. (3) An acrylic resin film containing a copper ion in a copolymer, and (4) a film in which a layer in which a pigment is dispersed or dissolved is laminated. Among these, the film (4) has good workability and productivity, has a relatively large degree of freedom in optical design, and various methods have been proposed (for example, see Patent Documents 1 to 7).

これらの方法の中には、プラズマディスプレイから放出される近赤外線を十分に遮断する能力を有するものもある。しかしながら、色素としてジインモニウム系化合物を用いた場合には、熱、酸化等による劣化が進み、フィルターの耐久性の点で問題があった。   Some of these methods have the ability to sufficiently block the near infrared rays emitted from the plasma display. However, when a diimmonium-based compound is used as a dye, deterioration due to heat, oxidation, etc. proceeds, and there is a problem in terms of durability of the filter.

前記の課題の解決法として、示差走査熱量測定において温度220℃以上に吸熱ピークを有するジイモニウム系化合物を含有する近赤外線吸収層を有する近赤外線吸収フィルムが開示されている(例えば、特許文献8を参照)。しかしながら、市場要求を満たすレベルには到っていなかった。   As a solution to the above problem, a near-infrared absorbing film having a near-infrared absorbing layer containing a diimonium-based compound having an endothermic peak at a temperature of 220 ° C. or higher in differential scanning calorimetry is disclosed (for example, Patent Document 8). reference). However, it did not reach a level that satisfies the market demand.

また、上記の近赤外線吸収フィルムに用いられる色素は耐候性が良くなく、例えば、プラズマディスプレイから放出される近赤外線を遮断する光学用フィルターとして用いる場合には、さらなる改良が強く求められていた。また、前記の光学フィルターは近赤外線吸収能を有すること以外にも、可視光線領域に特定吸収を付与する色調調整、反射防止性、表面の耐傷付き性等の他の機能を付与することが好ましい。前記の課題解決の方策として、例えば、各種機能を有した機能層を多層化した多層タイプの近赤外線吸収パネルが開示されている(例えば、特許文献9を参照)
この特許文献9においては、近赤外線吸収能以外の機能を付与した機能層としては、電磁波吸収層、反射防止層および紫外線吸収層が開示されている。しかしながら、紫外線吸収層に関しては、明細書中には詳細に記載されていない。詳細な記載のある電磁波吸収層と反射防止層の多層化は、それぞれの機能を有する機能フィルムを近赤外線吸収フィルムと貼り合わせる方法が用いられている。
Moreover, the pigment | dye used for said near-infrared absorption film is not good in weather resistance, For example, when using as an optical filter which interrupts | blocks the near-infrared ray discharge | released from a plasma display, the further improvement was calculated | required strongly. In addition to having the ability to absorb near infrared rays, the optical filter preferably provides other functions such as color tone adjustment for imparting specific absorption to the visible light region, antireflection, and scratch resistance on the surface. . As a measure for solving the above-mentioned problem, for example, a multilayer type near-infrared absorption panel in which functional layers having various functions are multilayered is disclosed (for example, see Patent Document 9).
In Patent Document 9, an electromagnetic wave absorption layer, an antireflection layer, and an ultraviolet absorption layer are disclosed as functional layers having functions other than near infrared absorption ability. However, the ultraviolet absorbing layer is not described in detail in the specification. For the multilayering of the electromagnetic wave absorption layer and the antireflection layer described in detail, a method of bonding a functional film having each function to a near infrared absorption film is used.

また、帯電防止層を含む反射防止機能および紫外線吸収層を複合した近赤外線カットフィルムをプラズマディスプレイパネル表面に直接貼り付けるプラズマディスプレイパネル直貼り用フィルターが開示されている(例えば、特許文献10参照)。   Further, a filter for directly attaching a plasma display panel is disclosed in which a near-infrared cut film that combines an antireflection function including an antistatic layer and an ultraviolet absorbing layer is directly attached to the surface of the plasma display panel (see, for example, Patent Document 10). .

特許文献10においては、帯電防止層を含む反射防止機能を有するフィルムと近赤外線カットフィルムとを紫外線吸収剤を含有する透明性の接着(粘着)剤層によって貼り合わせ、さらに近赤外線カットフィルムの表面に透明感圧接着(粘着)剤層を複合した構成が開示されている。   In Patent Document 10, a film having an antireflection function including an antistatic layer and a near infrared cut film are bonded together with a transparent adhesive (adhesive) agent layer containing an ultraviolet absorber, and the surface of the near infrared cut film is further bonded. Discloses a structure in which a transparent pressure-sensitive adhesive (adhesive) agent layer is combined.

また、近赤外線吸収剤がニッケル錯体化合物に限定されてはいるが、紫外線吸収およびハードコート層の多層化による複合が開示されている(例えば、特許文献11を参照)。この特許文献11においても、紫外線吸収剤含有フィルムと近赤外線吸収色素含有のシートとを貼り合わせる方法が開示されている。   Moreover, although the near-infrared absorber is limited to the nickel complex compound, the composite by ultraviolet absorption and multilayering of a hard-coat layer is disclosed (for example, refer patent document 11). Also in this patent document 11, the method of bonding an ultraviolet absorber containing film and a sheet | seat containing a near-infrared absorption pigment | dye is disclosed.

一方、一枚の基材フィルムで多機能化を行った構成が開示されている(特許文献12参照)。この特許文献12においては、近赤外線吸収機能以外の機能として、反射防止と紫外線吸収機能が付加されている。しかしながら、特許文献12において開示されている構成は、紫外線吸収剤が近赤外線吸収機能を有する積層体を透明な硬質基板に固定するための粘着層に配合されている。そのため、実際にフィルターとして使用する際には、紫外線吸収機能を有する層は近赤外線吸収機能を有する層の反外光側に位置しており、実際の使用時に問題となる外光中の紫外線による近赤外線吸収色素の劣化を抑制する効果は発現されない構成となっている。したがって、外光による近赤外線吸収色素の耐候性を向上させるという市場要求を満足するものではなかった。   On the other hand, the structure which multi-functionalized with one base film is disclosed (refer patent document 12). In Patent Document 12, an antireflection function and an ultraviolet absorption function are added as functions other than the near infrared absorption function. However, the structure currently disclosed in patent document 12 is mix | blended with the adhesion layer for fixing the laminated body which a ultraviolet absorber has a near-infrared absorption function to a transparent hard board | substrate. Therefore, when actually used as a filter, the layer having an ultraviolet absorbing function is located on the side opposite to the outside light side of the layer having a near infrared absorbing function, and is caused by the ultraviolet rays in the outside light, which is a problem in actual use. The effect of suppressing the deterioration of the near-infrared absorbing dye is not exhibited. Therefore, it did not satisfy the market demand for improving the weather resistance of near-infrared absorbing dyes by external light.

上記の公知技術における市場要求を満たす光学特性を有した積層体は、それぞれの機能を有する2枚以上の機能性フィルムを貼り合わせた構成となっている。そのため、貼り合わせによる界面の増加による光学特性の低下の点が改善できていないだけでなく、貼り合わせ工程を必要とするため経済的に不利であるという課題も残されている。また、総厚みが厚くなるため、被貼着体に対する貼着の作業性が劣るという課題を有している。一方、総厚みが薄く被貼着体に対する貼着の作業性が改善された一枚の基材フィルムよりなる構成の積層体は、紫外線吸収機能は付与されているものの、実際の使用時に要求される外光による耐候性の改善効果は発現できない構成になっている。
特開2002−82219号公報 特開2002−214427号公報 特開2002−264278号公報 特開2002−303720号公報 特開2002−333517号公報 特開2003−82302号公報 特開2003−96040号公報 特開2003−114323号公報 特許第3308545号公報 特開2002−189423号公報 特開2003−4904号公報 特開2002−138203号公報
The laminate having optical characteristics that satisfy the market requirements in the above-described known technology has a configuration in which two or more functional films having respective functions are bonded together. Therefore, not only the deterioration of the optical characteristics due to the increase of the interface due to the bonding cannot be improved, but also the problem that it is economically disadvantageous because a bonding step is required remains. Moreover, since total thickness becomes thick, it has the subject that workability | operativity of the sticking to a to-be-adhered body is inferior. On the other hand, a laminate composed of a single base film having a thin total thickness and improved workability for sticking to the adherend is required during actual use, although it has an ultraviolet absorbing function. The effect of improving weather resistance due to external light cannot be expressed.
JP 2002-82219 A JP 2002-214427 A JP 2002-264278 A JP 2002-303720 A JP 2002-333517 A JP 2003-82302 A JP 2003-96040 A JP 2003-114323 A Japanese Patent No. 3308545 JP 2002-189423 A JP 2003-4904 A JP 2002-138203 A

本発明の目的は、従来技術の課題を背景になされたもので、近赤外線の遮断性と、広い波長領域における可視光の透過性を維持しつつ、耐久性に優れる近赤外線吸収フィルムを提供することにある。さらに、近赤外線の遮断性およびその耐久性や耐候性に優れる近赤外線吸収フィルム、反射防止性、虹彩状色彩(干渉縞)発生の抑制等の光学特性に優れる近赤外線吸収フィルム、外観欠点の少ない近赤外線吸収フィルム、また、薄膜化により、被貼着体に対する貼着の作業性が改善された近赤外線吸収フィルターを提供することにある。   The object of the present invention is made in the background of the problems of the prior art, and provides a near-infrared absorbing film excellent in durability while maintaining the blocking property of near-infrared rays and the transmittance of visible light in a wide wavelength region. There is. Furthermore, the near infrared ray absorbing film excellent in blocking properties of near infrared rays and its durability and weather resistance, the near infrared ray absorbing film excellent in optical properties such as antireflection, suppression of the generation of iris-like colors (interference fringes), and few appearance defects An object of the present invention is to provide a near-infrared absorbing filter in which the workability of sticking to an adherend is improved by thinning the near-infrared absorbing film.

前記の課題を解決することができた本発明の近赤外線吸収フィルムは、透明基材フィルム上に、透明樹脂と、波長800〜1100nmに極大吸収を有する近赤外線吸収色素を含有する組成物からなる近赤外線吸収層を積層してなる近赤外線吸収フィルムであって、前記近赤外線吸収色素の1つがビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸を対アニオンとする芳香族ジインモニウム系化合物であることを特徴とする近赤外線吸収フィルムである。また、上記の近赤外線吸収フィルムの近赤外線吸収層の表面に透明粘着剤よりなる粘着層を積層してなることを特徴とする近赤外線吸収フィルターである。   The near-infrared absorbing film of the present invention capable of solving the above-mentioned problems is composed of a transparent resin and a composition containing a near-infrared absorbing dye having a maximum absorption at a wavelength of 800 to 1100 nm on a transparent substrate film. 1. A near-infrared absorption film comprising a near-infrared absorption layer, wherein one of the near-infrared absorption dyes is an aromatic diimmonium compound having bis (trifluoromethanesulfonyl) imidic acid as a counter anion. It is a near-infrared absorbing film. Moreover, it is a near-infrared absorption filter characterized by laminating | stacking the adhesion layer which consists of transparent adhesives on the surface of the near-infrared absorption layer of said near-infrared absorption film.

本発明の近赤外線吸収フィルムは、近赤外線の遮断性と、広い波長領域における可視光の透過性を維持しつつ、耐久性に優れているため、プラズマディスプレイ等の近赤外線を吸収する機能が要求される表示装置等の光学用フィルターとして好適に使用することができる。また、本発明の近赤外線吸収フィルターは、粘着剤で貼り合わせることなく1枚の基材フィルムよりなる多層フィルムで、近赤外線の遮断性、広い波長領域における可視光の透過性を維持しつつ、耐久性に優れており、さらに、一枚の基材フィルムの構成で薄膜状態を維持し、その他の各種機能が付与できるので、被貼着体に対する貼着の作業性が改善され、かつ経済性にも優れており、プラズマディスプレイ等の近赤外線を吸収する機能が要求される表示装置等の光学用フィルターとして好適に使用することができる。   The near-infrared absorbing film of the present invention is excellent in durability while maintaining the blocking property of near-infrared rays and the transmission of visible light in a wide wavelength region, and therefore requires a function of absorbing near-infrared rays such as a plasma display. It can be suitably used as an optical filter for a display device or the like. In addition, the near infrared absorption filter of the present invention is a multilayer film composed of a single base film without being bonded with an adhesive, while maintaining near infrared blocking properties and visible light transmission in a wide wavelength region, It is excellent in durability, and furthermore, it can maintain a thin film state with a single base film configuration and can provide various other functions, so the workability of sticking to the adherend is improved and it is economical It can also be suitably used as an optical filter for a display device or the like that is required to have a function of absorbing near infrared rays such as a plasma display.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明における基材フィルムの材質は、透明体であれば限定されない。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートあるいはポリエチレン−2,6−ナフタレート等のポリエステル樹脂から構成された二軸配向ポリエステルフィルムが、機械的特性、光学特性、耐熱性および経済性の点より好適である。なお、前記のポリエステルは、ホモポリマーでもよいし、2種以上のポリエステルをブレンドして使用したものでもかまわない。さらに、共重合ポリエステルであっても構わない。共重合ポリエステルの場合、共重合成分としては、ジカルボン酸成分またはグリコール成分の少なくとも一方に2種以上の成分を用いる。ジカルボン酸成分としては、アジピン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸;テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸;トリメリット酸及びピロメリット酸等の多官能カルボン酸等が用いられる。また、グリコール成分としては、ジエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール等の脂肪酸グリコール;p−キシレングリコール等の芳香族グリコール;1,4−シクロヘキサンジメタノール等の脂環族グリコール;数平均分子量が150〜20000のポリエチレングリコール等が用いられる。共重合成分の質量比率は20質量%未満である。20質量%以上ではフィルム強度、透明性、耐熱性が劣る傾向がある。また、セルローストリアセテート(TAC)よりなるフィルムも透明性等の光学特性が優れているため好適である。   The material of the base film in the present invention is not limited as long as it is a transparent body. For example, a biaxially oriented polyester film composed of a polyester resin such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, or polyethylene-2,6-naphthalate is preferable from the viewpoint of mechanical properties, optical properties, heat resistance, and economy. The polyester may be a homopolymer or a blend of two or more polyesters. Further, it may be a copolyester. In the case of a copolymerized polyester, two or more components are used as at least one of a dicarboxylic acid component or a glycol component as a copolymerization component. Dicarboxylic acid components include aliphatic dicarboxylic acids such as adipic acid and sebacic acid; aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid; trimellitic acid and pyromellitic acid A polyfunctional carboxylic acid or the like is used. Examples of the glycol component include fatty acid glycols such as diethylene glycol, 1,4-butanediol, propylene glycol, and neopentyl glycol; aromatic glycols such as p-xylene glycol; and alicyclic glycols such as 1,4-cyclohexanedimethanol. A polyethylene glycol having a number average molecular weight of 150 to 20,000 is used. The mass ratio of the copolymerization component is less than 20% by mass. If it is 20% by mass or more, the film strength, transparency, and heat resistance tend to be inferior. A film made of cellulose triacetate (TAC) is also preferable because of excellent optical properties such as transparency.

本発明においては、近赤外線吸収色素の1つがビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸を対アニオンとする芳香族ジインモニウム系化合物であることが重要である。例えば、下記の一般式(I)で示される化合物を挙げることができる。   In the present invention, it is important that one of the near infrared absorbing dyes is an aromatic diimmonium compound having bis (trifluoromethanesulfonyl) imidic acid as a counter anion. For example, the compound shown by the following general formula (I) can be mentioned.

Figure 2006184820
Figure 2006184820

前記の一般式(I)で示される芳香族ジインモニウム系化合物において、R1〜R8は、水素原子、アルキル基、アリ−ル基、アルケニル基、アラルキル基、アルキニル基を表わし、それぞれ同じであっても、異なっていても良い。R9〜R12は、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルキル基、アルコキシ基を表わし、それぞれ同じであっても、異なっていても良い。R1〜R12で置換基を結合できるものは置換基を有しても良い。X-はアニオンを示し、Xはビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸である。 In the aromatic diimmonium compound represented by the general formula (I), R 1 to R 8 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an aralkyl group, and an alkynyl group, and are the same. Or different. R 9 to R 12 represent a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a cyano group, a nitro group, a carboxyl group, an alkyl group, or an alkoxy group, and may be the same or different. What can couple | bond a substituent with R < 1 > -R < 12 > may have a substituent. X represents an anion, and X is bis (trifluoromethanesulfonyl) imidic acid.

本発明では、近赤外線領域全体において、良好な近赤外線の遮断性を付与する目的で、上記のジインモニウム系化合物以外の構造の近赤外線吸収色素を併用するのが好ましい実施態様である。ジインモニウム系化合物以外の近赤外線吸収色素としては、ポリメチン系、金属錯体系、スクアリリウム系、シアニン系、フタロシアニン系、インドアニリン系、ナフタロシアニン系、アゾ系、アントラキノン系、ナフトキノン系、ピリリウム系、チオピリリウム系、クロコニウム系、テトラデヒドロコリン系、トリフェニルメタン系、アミニウム系等が挙げられる。   In the present invention, it is a preferred embodiment that a near-infrared absorbing dye having a structure other than the above-mentioned diimmonium-based compound is used in combination for the purpose of imparting good near-infrared blocking properties in the entire near-infrared region. Near-infrared absorbing dyes other than diimonium compounds include polymethine, metal complex, squarylium, cyanine, phthalocyanine, indoaniline, naphthalocyanine, azo, anthraquinone, naphthoquinone, pyrylium, thiopyrylium , Croconium-based, tetradehydrocholine-based, triphenylmethane-based, aminium-based and the like.

本発明では、これらの色素の1種または2種以上を併用するのが好ましい。前記の特定のジインモニウム系化合物に併用することができる近赤外線吸収色素としては、シアニン系化合物が好ましい。さらに、前記シアニン系化合物のアニオンが金属錯体であることがより好ましい実施態様である。   In the present invention, it is preferable to use one or more of these dyes in combination. The near-infrared absorbing dye that can be used in combination with the specific diimmonium compound is preferably a cyanine compound. Furthermore, it is a more preferable embodiment that the anion of the cyanine compound is a metal complex.

前記のシアニン系化合物は近赤外線吸収能を有するものであれば限定されないが、例えば下記の一般式(II)〜(IV)で示されるカチオンを有するシアニン系化合物が好適である。   The cyanine compound is not limited as long as it has a near-infrared absorbing ability. For example, cyanine compounds having cations represented by the following general formulas (II) to (IV) are preferable.

Figure 2006184820
Figure 2006184820

なお、上記一般式(II)〜(IV)において、環A及び環A′は、ベンゼン環、ナフタレン環又はピリジン環を示し、R13及びR13′は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数6〜30のアリール基、炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数1〜8のアルコキシ基を示し、R14、R15及びR16は、ハロゲン原子、炭素数6〜30のアリール基、炭素数1〜8のアルキル基を示し、CおよびC′は、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、プロパン−2,2−ジイル、ブタン−2,2−ジイル、炭素数3〜6のシクロアルカン−1,1−ジイル、−NH−又は−NB1−を示し、B、B′及びB1は、炭素数1〜30の有機基を表し、r及びr′は0〜2の整数を示す。 In the above general formulas (II) to (IV), ring A and ring A ′ represent a benzene ring, naphthalene ring or pyridine ring, and R 13 and R 13 ′ represent a halogen atom, a nitro group, a cyano group, An aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, wherein R 14 , R 15 and R 16 are a halogen atom and an aryl group having 6 to 30 carbon atoms; Represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and C and C ′ are an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, propane-2,2-diyl, butane-2,2-diyl, and a cyclohexane having 3 to 6 carbon atoms. Represents alkane-1,1-diyl, —NH— or —NB 1 —, B, B ′ and B 1 represent an organic group having 1 to 30 carbon atoms, and r and r ′ represent an integer of 0 to 2. Show.

上記一般式(II)〜(IV)で示されるシアニン系化合物において、R13及びR13′で示されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。また、炭素数6〜30のアリール基としては、フェニル、ナフチル、2−メチルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、4−ビニルフェニル、3−イソプロピルフェニル、4−イソプロピルフェニル、4−ブチルフェニル、4−イソブチルフェニル、4−第三ブチルフェニル、4−ヘキシルフェニル、4−シクロヘキシルフェニル、4−オクチルフェニル、4−(2−エチルヘキシル)フェニル、4−ステアリルフェニル、2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2,4−ジ第三ブチルフェニル、2,5−ジ第三ブチルフェニル、2,6−ジ−第三ブチルフェニル、2,4−ジ第三ペンチルフェニル、2,5−ジ第三アミルフェニル、2,5−ジ第三オクチルフェニル、2,4−ジクミルフェニル、シクロヘキシルフェニル、ビフェニル、2,4,5−トリメチルフェニルが挙げられる。 In the cyanine compounds represented by the general formulas (II) to (IV), examples of the halogen atom represented by R 13 and R 13 ′ include fluorine, chlorine, bromine and iodine. Examples of the aryl group having 6 to 30 carbon atoms include phenyl, naphthyl, 2-methylphenyl, 3-methylphenyl, 4-methylphenyl, 4-vinylphenyl, 3-isopropylphenyl, 4-isopropylphenyl, and 4-butyl. Phenyl, 4-isobutylphenyl, 4-tert-butylphenyl, 4-hexylphenyl, 4-cyclohexylphenyl, 4-octylphenyl, 4- (2-ethylhexyl) phenyl, 4-stearylphenyl, 2,3-dimethylphenyl, 2,4-dimethylphenyl, 2,5-dimethylphenyl, 2,6-dimethylphenyl, 3,4-dimethylphenyl, 3,5-dimethylphenyl, 2,4-ditert-butylphenyl, 2,5-di Tertiary butylphenyl, 2,6-di-tert-butylphenyl, 2,4-ditertiary pentylph Alkenyl, 2,5-di-tert-amyl phenyl, 2,5-di-tert-octylphenyl, 2,4-dicumylphenyl, cyclohexylphenyl, biphenyl, 2,4,5-trimethylphenyl, and the like.

上記一般式(II)〜(IV)のR13及びR13′において、炭素数1〜8のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、2−シクロヘキシルエチル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチルヘキシルが挙げられる。また、R13及びR13′で示される炭素数1〜8のアルコキシ基としては、メチルオキシ、エチルオキシ、イソプロピルオキシ、プロピルオキシ、ブチルオキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、2−エチルヘキシルオキシが挙げられる。R14、R15及びR16で示されるハロゲン原子、炭素数6〜30のアリール基、炭素数1〜8のアルキル基としては、上記R13で例示したものが挙げられる。 In R 13 and R 13 ′ of the general formulas (II) to (IV), examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, secondary butyl, tertiary butyl, isobutyl, Examples include amyl, isoamyl, tertiary amyl, hexyl, cyclohexyl, cyclohexylmethyl, 2-cyclohexylethyl, heptyl, isoheptyl, tertiary heptyl, n-octyl, isooctyl, tertiary octyl, and 2-ethylhexyl. Examples of the alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms represented by R 13 and R 13 ′ include methyloxy, ethyloxy, isopropyloxy, propyloxy, butyloxy, pentyloxy, isopentyloxy, hexyloxy, heptyloxy, octyloxy , 2-ethylhexyloxy. Examples of the halogen atom represented by R 14 , R 15 and R 16 , the aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include those exemplified above for R 13 .

上記一般式(II)〜(IV)のC及びC′における炭素数3〜6のシクロアルカン−1,1−ジイルとしては、シクロプロパン−1,1−ジイル、シクロブタン−1,1−ジイル、2,4−ジメチルシクロブタン−1,1−ジイル、3−ジメチルシクロブタン−1,1−ジイル、シクロペンタン−1,1−ジイル、シクロヘキサン−1,1−ジイルが挙げられる。   Examples of C3-C6 cycloalkane-1,1-diyl in C and C ′ in the general formulas (II) to (IV) include cyclopropane-1,1-diyl, cyclobutane-1,1-diyl, Examples include 2,4-dimethylcyclobutane-1,1-diyl, 3-dimethylcyclobutane-1,1-diyl, cyclopentane-1,1-diyl, cyclohexane-1,1-diyl.

上記一般式(II)〜(IV)のカチオンにおいて、B、B′及びB1で示される炭素数1〜30の有機基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、2−シクロヘキシルエチル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ペプタデシル、オクタデシル等のアルキル基、ビニル、1−メチルエテニル、2−メチルエテニル、プロペニル、ブテニル、イソブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、デセニル、ぺンタデセニル、1−フェニルプロペン−3−イル等のアルケニル基、フェニル、ナフチル、2−メチルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、4−ビニルフェニル、3−イソプロピルフェニル、4−イソプロピルフェニル、4−ブチルフェニル、4−イソブチルフェニル、4−第三ブチルフェニル、4−ヘキシルフェニル、4−シクロヘキシルフェニル、4−オクチルフェニル、4−(2−エチルヘキシル)フェニル、4−ステアリルフェニル、2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2,4−ジ第三ブチルフェニル、シクロヘキシルフェニル等のアルキルアリール基、ベンジル、フェネチル、2−フェニルプロパン−2−イル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等のアリールアルキル基等が挙げられる。 In the cations of the above general formulas (II) to (IV), the organic group having 1 to 30 carbon atoms represented by B, B ′ and B 1 includes methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, Tributyl, isobutyl, amyl, isoamyl, tertiary amyl, hexyl, cyclohexyl, cyclohexylmethyl, 2-cyclohexylethyl, heptyl, isoheptyl, tertiary heptyl, n-octyl, isooctyl, tertiary octyl, 2-ethylhexyl, nonyl, isononyl , Decyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl, hexadecyl, peptadecyl, octadecyl and other alkyl groups, vinyl, 1-methylethenyl, 2-methylethenyl, propenyl, butenyl, isobutenyl, pentenyl, hexenyl, heptenyl, octenyl, decenyl, Alkenyl groups such as ntadecenyl, 1-phenylpropen-3-yl, phenyl, naphthyl, 2-methylphenyl, 3-methylphenyl, 4-methylphenyl, 4-vinylphenyl, 3-isopropylphenyl, 4-isopropylphenyl, 4 -Butylphenyl, 4-isobutylphenyl, 4-tert-butylphenyl, 4-hexylphenyl, 4-cyclohexylphenyl, 4-octylphenyl, 4- (2-ethylhexyl) phenyl, 4-stearylphenyl, 2,3-dimethyl Phenyl, 2,4-dimethylphenyl, 2,5-dimethylphenyl, 2,6-dimethylphenyl, 3,4-dimethylphenyl, 3,5-dimethylphenyl, 2,4-ditert-butylphenyl, cyclohexylphenyl, etc. Alkylaryl group, benzyl, phenethyl , 2-phenyl-2-yl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, styryl, and the like arylalkyl groups cinnamyl and the like.

また、これらがエーテル結合、チオエーテル結合で中断されたものでもよい。例えば、2−メトキシエチル、3−メトキシプロピル、4−メトキシブチル、2−ブトキシエチル、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、3−メトキシブチル、2−フェノキシエチル、3−フェノキシプロピル、2−メチルチオエチル、2−フェニルチオエチルが挙げられる。さらに、これらの基は、アルコキシ基、アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子等で置換されていてもよい。   These may be interrupted by an ether bond or a thioether bond. For example, 2-methoxyethyl, 3-methoxypropyl, 4-methoxybutyl, 2-butoxyethyl, methoxyethoxyethyl, methoxyethoxyethoxyethyl, 3-methoxybutyl, 2-phenoxyethyl, 3-phenoxypropyl, 2-methylthioethyl , 2-phenylthioethyl. Further, these groups may be substituted with an alkoxy group, an alkenyl group, a nitro group, a cyano group, a halogen atom or the like.

上記一般式(II)〜(IV)において、R14がハロゲン原子であると、光学フィルターの近赤外線吸収効果に優れているため好ましい。また、C及びC′がプロパン−2,2−ジイル、ブタン−2,2−ジイル、炭素数3〜6のシクロアルカン−1,1−ジイルから選ばれる基である場合、光安定性が大きいため好ましい。 In the above general formulas (II) to (IV), it is preferable that R 14 is a halogen atom because the near-infrared absorption effect of the optical filter is excellent. Further, when C and C ′ are groups selected from propane-2,2-diyl, butane-2,2-diyl, and cycloalkane-1,1-diyl having 3 to 6 carbon atoms, the photostability is high. Therefore, it is preferable.

また、前記のシアニン化合物の対アニオンは、励起状態にある活性分子を脱励起させる(クエンチングさせる)機能を有する。このようなアニオンとしては、金属錯体が好ましい。その構造は限定されないが、例えば、ベンゼンジチオール金属錯体化合物が好ましい。ベンゼンジチオール金属錯体化合物のアニオンとしては、例えば、下記の一般式(V)で示されるアニオンが挙げられる。   Further, the counter anion of the cyanine compound has a function of de-exciting (quenching) the active molecule in the excited state. As such an anion, a metal complex is preferable. Although the structure is not limited, for example, a benzenedithiol metal complex compound is preferable. Examples of the anion of the benzenedithiol metal complex compound include anions represented by the following general formula (V).

Figure 2006184820
Figure 2006184820

上記の一般式(V)で示されるアニオンにおいて、Mは、ニッケル原子または銅原子を示し、R17及びR17′は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜30のアリール基、−SO2−Z基を示し、Zは、炭素数1〜8のアルキル基、ハロゲン原子で置換してもよい炭素数6〜30のアリール基、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、ピペリジノ基、モルフォリノ基を示し、q及びq′は、1〜4の整数を示す。 In the anion represented by the general formula (V), M represents a nickel atom or a copper atom, R 17 and R 17 ′ represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or 6 to 6 carbon atoms. 30 represents an aryl group, —SO 2 —Z group, and Z represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, a dialkylamino group, or a diarylamino group. , Piperidino group and morpholino group, q and q ′ each represent an integer of 1 to 4.

上記の一般式(V)で示されるアニオンにおいて、R17及びR17′で示されるハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜30アリール基としては、前記の一般式(II)〜(IV)においてR13で例示したもの挙げられる。また、Zで示される炭素数1〜8のアルキル基も同様である。上記ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数6〜30のアリール基は、前記の一般式(II)〜(IV)においてR13で例示したもの、又はこれらのベンゼン環が1〜4個のハロゲン原子で置換されたものが挙げられる。さらに、ジアルキルアミノ基又はジアリールアミノ基に含有されるアルキル基、アリール基としては、前記の一般式(II)〜(IV)においてR13で例示したものが挙げられる。 In the anion represented by the general formula (V), the halogen atom represented by R 17 and R 17 ′, the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and the aryl group having 6 to 30 carbon atoms may be the above general formula (II ), and in ~ (IV) those exemplified in R 13. The same applies to an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by Z. Examples of the aryl group having 6 to 30 carbon atoms which may be substituted with the halogen atom include those exemplified as R 13 in the general formulas (II) to (IV), or those having 1 to 4 benzene rings. Examples thereof include those substituted with a halogen atom. Furthermore, examples of the alkyl group and aryl group contained in the dialkylamino group or diarylamino group include those exemplified for R 13 in the above general formulas (II) to (IV).

本発明に係る上記のカチオンとアニオンとからなるシアニン系化合物は、上記カチオンとアニオンとの塩であり、従来周知の方法に準じて製造することができる。例えば、前記構造のカチオンと、塩素アニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオン、フッ素アニオン等のハロゲンアニオン;過塩素酸アニオン、塩素酸アニオン、チオシアン酸アニオン、六フッ化リンアニオン、六フッ化アンチモンアニオン、四フッ化ホウ素アニオン等の無機系アニオン、ベンゼンスルホン酸アニオン、トルエンスルホン酸アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン等の有機スルホン酸アニオン;オクチルリン酸アニオン、ドデシルリン酸アニオン、オクタデシルリン酸アニオン、フェニルリン酸アニオン、ノニルフェニルリン酸アニオン、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ第三ブチルフェニル)ホスホン酸アニオン等の有機リン酸系アニオンとの塩化合物と、前記アニオンとテトラエチルアンモニウムカチオン、テトラブチルアンモニウムカチオン等のテトラアルキルアンモニウムカチオンとの塩化合物塩交換により容易に得ることができる。   The cyanine compound comprising the above cation and anion according to the present invention is a salt of the above cation and anion, and can be produced according to a conventionally known method. For example, a cation having the above structure and a halogen anion such as chlorine anion, bromine anion, iodine anion, fluorine anion; perchlorate anion, chlorate anion, thiocyanate anion, phosphorus hexafluoride anion, antimony hexafluoride anion, four Inorganic anions such as boron fluoride anion, organic sulfonate anions such as benzenesulfonate anion, toluenesulfonate anion, trifluoromethanesulfonate anion; octyl phosphate anion, dodecyl phosphate anion, octadecyl phosphate anion, phenyl phosphate anion A salt compound with an organic phosphate anion such as nonylphenyl phosphate anion, 2,2′-methylenebis (4,6-ditert-butylphenyl) phosphonate anion, and the anion and tetraethylammonium cation It can be easily obtained by salt compound salt exchange with tetraalkylammonium cations such as tetrabutylammonium cations.

近赤外線吸収色素は、目的とする近赤外線の吸収と、可視域での透過率を達成するように調整して基材上に設けることが重要であり、好ましくは、0.01g/m2以上1.0g/m2以下となるように近赤外線吸収層中に近赤外線吸収色素を存在させる。近赤外線吸収色素の量が少ない場合には、近赤外線領域での吸収能が不充分となることがある。一方、多い場合には可視光域での透明性が不足してディスプレイの輝度が低下しやすくなる。 It is important that the near-infrared absorbing dye is provided on the base material so as to achieve the desired near-infrared absorption and transmittance in the visible range, and preferably 0.01 g / m 2 or more. A near-infrared absorbing dye is present in the near-infrared absorbing layer so as to be 1.0 g / m 2 or less. When the amount of the near-infrared absorbing dye is small, the absorbing ability in the near-infrared region may be insufficient. On the other hand, if it is large, the transparency in the visible light region is insufficient and the brightness of the display tends to decrease.

近赤外線吸収色素は、樹脂中に分散あるいは溶解した状態で前記の基材フィルムに積層する方法が推奨される。この樹脂としては、近赤外線吸収色素を均一に溶解あるいは分散できるものであれば特に限定されないが、ポリエステル系、アクリル系、ポリアミド系、ポリウレタン系、ポリオレフィン系、ポリカーボネート系、ポリスチレン系化合物などの合成樹脂、ゼラチン、セルロース誘導体などの天然高分子などを好適に用いることができる。さらには、O−PET(カネボウ製)、ZEONEX(登録商標;日本ゼオン製)、ARTON(JSR製)、オプトレッツ(日立化成製)、バイロン(登録商標;東洋紡績製)なども使用することができる。このうち、柔軟性と基材との密着性に優れるポリエステル系樹脂およびアクリル系樹脂が好ましい。特に、好ましくは、柔軟性と基材との密着性に優れるポリエステル系樹脂である。樹脂が硬い場合には、後加工の工程で塗膜に微小なひび割れが発生する問題がある。さらに、樹脂のガラス転移温度が、利用する機器の使用保証温度以上であることが好ましい。   A method of laminating the near-infrared absorbing dye on the substrate film in a state of being dispersed or dissolved in the resin is recommended. The resin is not particularly limited as long as it can dissolve or disperse the near-infrared absorbing dye uniformly, but synthetic resins such as polyester, acrylic, polyamide, polyurethane, polyolefin, polycarbonate, and polystyrene compounds. Natural polymers such as gelatin and cellulose derivatives can be preferably used. Furthermore, O-PET (manufactured by Kanebo), ZEONEX (registered trademark; manufactured by Nippon Zeon), ARTON (manufactured by JSR), Optrez (manufactured by Hitachi Chemical), Byron (registered trademark; manufactured by Toyobo), etc. may be used. it can. Of these, polyester resins and acrylic resins that are excellent in flexibility and adhesion to the substrate are preferred. Particularly preferred is a polyester resin excellent in flexibility and adhesion to the substrate. When the resin is hard, there is a problem that minute cracks are generated in the coating film in the post-processing step. Furthermore, the glass transition temperature of the resin is preferably equal to or higher than the guaranteed use temperature of the equipment to be used.

ガラス転移温度が機器使用温度以下であると、樹脂中に分散された色素同士の相互作用や、樹脂が外気中の水分等を吸収による加水分解により、色素やバインダ−樹脂の劣化が大きくなる。また、本発明において、樹脂のガラス転移温度は、機器使用温度以上であれば特に限定されないが、特に好ましくは85℃以上160℃以下である。ガラス転移温度が85℃未満の場合、色素と樹脂との相互作用、色素間の相互作用等が起こり、色素の変性が発生するおそれがある。また、ガラス転移温度が160℃を超える場合、前記の樹脂を溶剤に溶解し、透明基材上に塗布した時に十分な乾燥をしようとすれば高温にしなければならず、基材の熱シワによる平面性不良、さらには、色素の劣化が発生しやすくなる。低温で乾燥した場合、乾燥時間が長く生産性が悪くなり、生産性が不良となる。また、十分な乾燥ができない可能性もあり、溶剤が塗膜中に残留し、前述のように樹脂の見かけのガラス転移温度が低下し、やはり、色素の変性を引き起こしやすくなる。   When the glass transition temperature is equal to or lower than the device operating temperature, the deterioration of the dye and the binder resin increases due to the interaction between the dyes dispersed in the resin and the hydrolysis of the resin by absorbing moisture in the outside air. In the present invention, the glass transition temperature of the resin is not particularly limited as long as it is equal to or higher than the device use temperature, but is particularly preferably 85 ° C. or higher and 160 ° C. or lower. When the glass transition temperature is less than 85 ° C., the interaction between the dye and the resin, the interaction between the dyes, and the like may occur, and the dye may be modified. If the glass transition temperature exceeds 160 ° C., the resin must be dissolved in a solvent and heated to a sufficient temperature when applied on a transparent substrate. Poor planarity and further deterioration of the dye are likely to occur. When dried at a low temperature, the drying time is long and the productivity is deteriorated, resulting in poor productivity. In addition, there is a possibility that sufficient drying cannot be performed, so that the solvent remains in the coating film, the apparent glass transition temperature of the resin is lowered as described above, and it is easy to cause modification of the pigment.

樹脂中の近赤外線吸収色素の量は、1質量%以上10質量%以下が好ましい。樹脂中の近赤外線吸収色素の量が少ない場合には、目的とする近赤外線吸収能を達成するために、近赤外線吸収層の塗工量を増やすことが必要となる。一方、十分な乾燥をしようとすれば高温及び/又は長時間にすることが必要になる。そのため、色素の劣化、基材の平面性不良の問題が発生しやすくなる。逆に、樹脂中の近赤外線吸収色素の量が多い場合には、色素間の相互作用が強くなり、残留溶媒を少なくしたとしても経時での色素の変性が起こりやすくなる。   The amount of the near-infrared absorbing dye in the resin is preferably 1% by mass or more and 10% by mass or less. When the amount of near-infrared absorbing dye in the resin is small, it is necessary to increase the coating amount of the near-infrared absorbing layer in order to achieve the target near-infrared absorbing ability. On the other hand, if sufficient drying is desired, a high temperature and / or a long time are required. Therefore, the problem of deterioration of the pigment and poor flatness of the base material is likely to occur. Conversely, when the amount of near-infrared absorbing dye in the resin is large, the interaction between the dyes becomes strong, and even if the residual solvent is reduced, the dye is likely to be denatured over time.

本発明においては、近赤外線吸収層にHLBが2以上12以下の界面活性剤を含有させることが好ましい実施態様である。本発明においては、上記の近赤外線吸収能を発現する近赤外線吸収層は、樹脂と近赤外線吸収色素を主に含有する塗液を基材上に塗布乾燥して積層する方法が好ましいが、この塗液中に、HLBが2以上12以下の界面活性剤を含有させることがより好ましい実施態様である。界面活性剤を添加することにより近赤外線吸収色素のバインダー樹脂への分散性が向上し、前記の近赤外線吸収層の塗工外観、特に、微小な泡によるヌケ、異物等の付着より凹み、乾燥工程でのハジキが改善され、近赤外線吸収層の外観が良好となる。さらには、界面活性剤が、塗液の塗布乾燥時に、塗膜表面にブリードすることにより、滑り性が付与され、近赤外線吸収層あるいは/及び反対面に表面凹凸を形成しなくともハンドリング性が良好となり、ロール状に巻取ることが容易になる。   In the present invention, it is a preferred embodiment that a near-infrared absorbing layer contains a surfactant having an HLB of 2 or more and 12 or less. In the present invention, the near-infrared absorbing layer expressing the near-infrared absorbing ability is preferably a method in which a coating liquid mainly containing a resin and a near-infrared absorbing dye is applied and dried on a substrate and laminated. In a more preferred embodiment, the coating liquid contains a surfactant having an HLB of 2 or more and 12 or less. By adding a surfactant, the dispersibility of the near-infrared absorbing dye in the binder resin is improved, and the coating appearance of the near-infrared absorbing layer, in particular, dents from adhesion of foreign matter, etc. due to minute bubbles, and drying The repellency in the process is improved and the appearance of the near-infrared absorbing layer is improved. Furthermore, when the surface active agent bleeds on the surface of the coating film when the coating liquid is applied and dried, the slipping property is imparted, and the handling property can be achieved without forming surface irregularities on the near-infrared absorbing layer or / and the opposite surface. It becomes good and it becomes easy to wind up in roll shape.

上記界面活性剤は、カチオン系、アニオン系、ノニオン系の公知のものを好適に使用できるが、近赤外線吸収色素の劣化等の問題から極性基を有していないノニオン系が好ましく、さらには、界面活性能に優れるシリコーン系又はフッ素系界面活性剤が好ましい。   As the surfactant, known cationic, anionic, and nonionic surfactants can be suitably used, but nonionic surfactants that do not have a polar group are preferred in view of problems such as deterioration of near-infrared absorbing dyes. A silicone-based or fluorine-based surfactant having excellent surface activity is preferable.

シリコーン系界面活性剤としては、ジメチルシリコーン、アミノシラン、アクリルシラン、ビニルベンジルシラン、ビニルベンジルアミノシラン、グリシドシラン、メルカプトシラン、ジメチルシラン、ポリジメチルシロキサン、ポリアルコキシシロキサン、ハイドロジエン変性シロキサン、ビニル変性シロキサン、ヒドロキシ変性シロキサン、アミノ変性シロキサン、カルボキシル変性シロキサン、ハロゲン化変性シロキサン、エポキシ変性シロキサン、メタクリロキシ変性シロキサン、メルカプト変性シロキサン、フッ素変性シロキサン、アルキル基変性シロキサン、フェニル変性シロキサン、アルキレンオキシド変性シロキサンなどが挙げられる。   Silicone surfactants include dimethyl silicone, amino silane, acrylic silane, vinyl benzyl silane, vinyl benzyl amino silane, glycid silane, mercapto silane, dimethyl silane, polydimethyl siloxane, polyalkoxy siloxane, hydrodiene modified siloxane, vinyl modified siloxane, hydroxy Examples include modified siloxane, amino-modified siloxane, carboxyl-modified siloxane, halogenated-modified siloxane, epoxy-modified siloxane, methacryloxy-modified siloxane, mercapto-modified siloxane, fluorine-modified siloxane, alkyl group-modified siloxane, phenyl-modified siloxane, and alkylene oxide-modified siloxane.

フッ素系界面活性剤としては、4フッ化エチレン、パーフルオロアルキルアンモニウム塩、パーフルオロアルキルスルホン酸アミド、パーフルオロアルキルスルホン酸ナトリウム、パーフルオロアルキルカリウム塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキルアミノスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルアルキル化合物、パーフルオロアルキルアルキルベタイン、パーフルオロアルキルハロゲン化物などが挙げられる。   Fluorosurfactants include ethylene tetrafluoride, perfluoroalkyl ammonium salt, perfluoroalkyl sulfonic acid amide, sodium perfluoroalkyl sulfonate, perfluoroalkyl potassium salt, perfluoroalkyl carboxylate, perfluoroalkyl sulfone. Acid salts, perfluoroalkyl ethylene oxide adducts, perfluoroalkyl trimethyl ammonium salts, perfluoroalkyl amino sulfonates, perfluoroalkyl phosphate esters, perfluoroalkyl alkyl compounds, perfluoroalkyl alkyl betaines, perfluoroalkyl halides, etc. Is mentioned.

界面活性剤は、上記近赤外線吸収層中に0.01質量%以上2.00質量%以下含まれていることが好ましい。界面活性剤の含有量が少ない場合には、塗工外観や滑り性が不十分となる場合がある。一方、界面活性剤の含有量が多い場合には近赤外線吸収層が水分を吸着しやすくなり、色素の劣化が促進される。   The surfactant is preferably contained in the near-infrared absorbing layer in an amount of 0.01% by mass to 2.00% by mass. When the content of the surfactant is small, the coating appearance and slipperiness may be insufficient. On the other hand, when the content of the surfactant is large, the near-infrared absorbing layer easily adsorbs moisture, and the deterioration of the pigment is promoted.

本発明においては、界面活性剤のHLBは2以上12以下であることが好ましい。HLBが低い場合には界面活性能の不足によりレベリング性が不足する。逆に、HLBが高い場合には、滑り性が不足するだけでなく、近赤外線吸収層が水分を吸着しやすくなり、経時安定性が不良となる。なお、HLBとは、界面活性剤の分子中に含まれる親水基と親油基のバランスを指標化した特性値であり、この値が小さいほど親油性が、逆に大きいほど親水性が高いことを意味する。   In the present invention, the HLB of the surfactant is preferably 2 or more and 12 or less. When the HLB is low, the leveling property is insufficient due to insufficient surface activity. On the other hand, when the HLB is high, not only the slipping property is insufficient, but also the near-infrared absorbing layer tends to adsorb moisture, resulting in poor temporal stability. HLB is a characteristic value indexed by the balance between the hydrophilic group and the lipophilic group contained in the surfactant molecule. The smaller the value, the higher the lipophilicity, and vice versa. Means.

本発明においては、上記の近赤外線吸収層は、塗液を前記の基材フィルム上に塗布、乾燥することにより積層されるが、前記の塗液は、塗工性を考慮して、有機溶媒により希釈することが重要である。この有機溶媒としては、メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、トリデシルアルコール、シクロヘキシルアルコール、2−メチルシクロヘキシルアルコール等のアルコール類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン等のグリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチレンエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルアセテート、エチレングリコールモノブチルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルアセテート等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸イソプロピレン、酢酸n−ブチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソホロン、ジアセトンアルコール等のケトン類を例示することができ、これら単独あるいは2種以上を混合して使用することができる。好ましくは、色素の溶解に優れるケトン系を塗液中の溶媒中に30質量%以上80質量%以下含有させ、それ以外は、レベリング性、乾燥性を考慮して選定することが好ましい。また、溶媒の沸点は、60℃以上180℃以下が好ましい。沸点が低い場合には、塗工中に塗液の固形分濃度が変化し、塗工厚みが安定化しにくい問題がある。逆に、沸点が高い場合には、塗膜中に残存する溶媒量が増え、経時安定性が不良となる。   In the present invention, the near-infrared absorbing layer is laminated by applying and drying a coating liquid on the base film, and the coating liquid is an organic solvent in consideration of coating properties. It is important to dilute with Examples of the organic solvent include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, tridecyl alcohol, cyclohexyl alcohol, and 2-methylcyclohexyl alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, and triethylene glycol. , Polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, glycerin and other glycols, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethylene ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol butyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate , Glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl acetate, ethylene glycol monobutyl acetate, diethylene glycol monomethyl acetate, diethylene glycol monoethyl acetate, diethylene glycol monobutyl acetate, esters such as ethyl acetate, isopropylene acetate, n-butyl acetate, acetone, Examples thereof include ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, isophorone and diacetone alcohol, and these can be used alone or in combination of two or more. Preferably, a ketone system excellent in dissolution of the pigment is contained in the solvent in the coating solution in an amount of 30% by mass to 80% by mass, and other than that, it is preferable to select in consideration of leveling property and drying property. The boiling point of the solvent is preferably 60 ° C. or higher and 180 ° C. or lower. When the boiling point is low, there is a problem that the solid content concentration of the coating liquid changes during coating and the coating thickness is difficult to stabilize. On the other hand, when the boiling point is high, the amount of solvent remaining in the coating film increases and the temporal stability becomes poor.

近赤外線吸収色素および樹脂を溶媒中に溶解あるいは分散する方法としては、加温下での攪拌、分散及び粉砕等の方法が挙げられる。加温することにより色素及び樹脂の溶解性を向上させることができ、未溶解物等による塗工外観への不良が妨げられる。また、樹脂及び色素を分散及び粉砕して、0.3μm以下の微粒子状態で塗液中に分散すれば、透明性に優れる層を形成することが可能となる。分散機及び粉砕機としては、公知のものを用いることができ、具体的には、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、ホモミキサー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー、バタフライミキサー、プラネタリーミキサー、ヘンシェルミキサー等が挙げられる。   Examples of the method for dissolving or dispersing the near-infrared absorbing dye and the resin in a solvent include methods such as stirring, dispersion and pulverization under heating. By heating, the solubility of the pigment and the resin can be improved, and a defect in the coating appearance due to undissolved substances is prevented. Further, if the resin and the pigment are dispersed and pulverized and dispersed in the coating liquid in a fine particle state of 0.3 μm or less, a layer having excellent transparency can be formed. As the disperser and pulverizer, known ones can be used. Specifically, a ball mill, a sand mill, an attritor, a roll mill, an agitator, a colloid mill, an ultrasonic homogenizer, a homomixer, a pearl mill, a wet jet mill, a paint Examples include a shaker, a butterfly mixer, a planetary mixer, a Henschel mixer, and the like.

塗液中にコンタミや1μm以上の未溶解物が存在した場合、塗布後の外観が不良になるため、塗布する前に、フィルタ等で除去することが重要である。フィルタとしては各種公知のものが好適に使用できるが、1μmの大きさのものを99%以上除去することのできるフィルタを用いることが好ましい。1μm以上のコンタミや未溶解物を含む塗液を塗布して乾燥した場合には、その周囲に凹み等が発生し、100〜1000μmサイズの欠点になる場合がある。   If contamination or undissolved material of 1 μm or more is present in the coating liquid, the appearance after application becomes poor. Therefore, it is important to remove it with a filter or the like before application. Various known filters can be suitably used as the filter, but it is preferable to use a filter capable of removing 99% or more of a 1 μm size filter. When a coating liquid containing 1 μm or more of contamination or undissolved material is applied and dried, a dent or the like is generated around the coating liquid, which may be a defect of a size of 100 to 1000 μm.

塗液中に含まれる樹脂及び色素等の固形分濃度は、10質量%以上30質量%が好ましい。固形分濃度が低い場合には、塗布後の乾燥に時間が掛かり生産性が劣るばかりか、塗膜中に残存する溶剤量が増加し、経時安定性が不良となる。逆に、固形分濃度が高い場合には、塗布液の粘度が高くなりレベリング性が不足して塗工外観が不良となる。塗液の粘度は、10cps以上300cps以下が塗工外観の面で好ましく、この範囲になるように、固形分濃度、溶媒量等を調整することが好ましい。   The solid content concentration of the resin and pigment contained in the coating liquid is preferably 10% by mass or more and 30% by mass. When the solid content concentration is low, drying after coating takes time and productivity is inferior, and the amount of solvent remaining in the coating film increases, resulting in poor stability over time. On the other hand, when the solid content concentration is high, the viscosity of the coating solution becomes high and the leveling property is insufficient, resulting in a poor coating appearance. The viscosity of the coating liquid is preferably 10 cps or more and 300 cps or less from the viewpoint of coating appearance, and it is preferable to adjust the solid content concentration, the amount of solvent and the like so as to be in this range.

本発明で、上記の近赤外線吸収層を基材フィルム上に塗布する方法としては、グラビアコート方式、キスコート方式、ディップ方式、スプレイコート方式、カーテンコート方式、エアナイフコート方式、ブレードコート方式、リバースロールコート方式、バーコート方式、リップコート方式など通常用いられている方法が適用できる。これらのなかで、均一に塗布することのできるグラビアコート方式、特にリバースグラビア方式が好ましい。また、グラビアの直径は、80mm以下であることが好ましい。直径が大きい場合には流れ方向にうねスジが発生する問題がある。   In the present invention, the method for applying the near infrared absorbing layer on the substrate film includes gravure coating method, kiss coating method, dip method, spray coating method, curtain coating method, air knife coating method, blade coating method, reverse roll. Conventionally used methods such as a coating method, a bar coating method, and a lip coating method can be applied. Among these, a gravure coating method that can be applied uniformly, particularly a reverse gravure method is preferable. The diameter of the gravure is preferably 80 mm or less. When the diameter is large, there is a problem that undulation lines are generated in the flow direction.

乾燥後の近赤外線吸収層の付着量は特に限定されないが、好ましい下限は1g/m2、特に好ましくは3g/m2である。一方、好ましい上限は50g/m2、特に好ましくは30g/m2以下である。乾燥後の付着量が少ない場合には、近赤外線の吸収力が不足する問題があり、樹脂中の近赤外線吸収色素の存在量を増やすことにより近赤外線の吸収能を所望レベルまで高めたとしても、色素間の相互作用が強くなり、色素の劣化等が起こりやすくなり経時安定性が不良となる。逆に、乾燥後の付着量が多い場合には、近赤外線の吸収能は十分であるが、可視光領域での透明性が低下し、ディスプレイの輝度が低下する。樹脂中の近赤外線吸収色素の存在量を低減することにより光学特性は調節できるが、乾燥が不十分になりやすく、塗膜中の残留溶媒により経時安定性が不良となり、乾燥を十分にした場合には基材の平面性が不良となる。 Although the adhesion amount of the near-infrared absorbing layer after drying is not particularly limited, the preferable lower limit is 1 g / m 2 , and particularly preferably 3 g / m 2 . On the other hand, a preferable upper limit is 50 g / m 2 , particularly preferably 30 g / m 2 or less. When the amount of adhesion after drying is small, there is a problem that the absorption capacity of near infrared rays is insufficient, and even if the absorption capacity of near infrared rays is increased to a desired level by increasing the amount of near infrared absorption pigment in the resin , The interaction between the dyes becomes strong, the dyes are likely to deteriorate, and the stability over time becomes poor. On the contrary, when the amount of adhesion after drying is large, the near-infrared absorbing ability is sufficient, but the transparency in the visible light region is lowered and the brightness of the display is lowered. Optical properties can be adjusted by reducing the amount of near-infrared absorbing pigment present in the resin, but drying tends to be inadequate, and residual solvent in the coating results in poor stability over time, resulting in sufficient drying. In such a case, the flatness of the substrate becomes poor.

上記の塗布液を基材フィルム上に塗布し、乾燥する方法としては、公知の熱風乾燥、赤外線ヒーター等が挙げられるが、乾燥速度が早い熱風乾燥が好ましい。塗布後の初期の恒率乾燥の段階では、20℃以上80℃以下で、2m/秒以上30m/秒の熱風を用いて乾燥することが好ましい。初期乾燥を強く行いすぎる(熱風温度が高い、熱風の風量が大きい)場合には、泡由来の微小なコートヌケ、微小なハジキ、クラック等の塗膜の微小な欠点が発生しやすくなる。逆に、初期乾燥を弱くしすぎる(熱風温度が低い、熱風の風量が小さい)場合には、外観は良好になるが乾燥時間が掛かりコスト面で問題がある。   Examples of the method for applying the coating liquid on the substrate film and drying the substrate include known hot air drying and infrared heaters. Hot air drying with a high drying speed is preferable. In the initial constant rate drying stage after coating, drying is preferably performed at 20 ° C. or more and 80 ° C. or less using hot air of 2 m / sec or more and 30 m / sec. If the initial drying is carried out too strongly (hot air temperature is high, hot air volume is large), minute defects of the coating such as fine coat removal, fine repellency and cracks are likely to occur. Conversely, if the initial drying is too weak (the hot air temperature is low, the hot air volume is small), the appearance will be good, but it will take time to dry and there will be a problem in terms of cost.

減率乾燥の工程では、初期乾燥よりも高温とし、塗膜中の溶剤を減少させることが重要であり、好ましい温度は、120℃以上180℃以下である。温度が低い場合には、塗膜中の溶剤が減少しにくい問題がある。特に、樹脂のガラス転移温度より熱風温度が低い場合に、塗膜中に溶剤が減少しにくくなる。逆に、高温の場合には、熱シワにより基材の平面性が不良となるだけでなく、近赤外線色素が熱により劣化する問題がある。また、通過時間としては、5秒以上180秒以下であることが好ましい。時間が短い場合には塗膜中の残留する溶剤が多くなり経時安定性が不良となり、逆に時間が長い場合には、生産性が不良となるだけでなく、基材に熱シワが発生して平面性が不良となる。   In the reduction drying process, it is important to set the temperature higher than the initial drying to reduce the solvent in the coating film, and the preferable temperature is 120 ° C. or higher and 180 ° C. or lower. When the temperature is low, there is a problem that the solvent in the coating film is difficult to decrease. In particular, when the hot air temperature is lower than the glass transition temperature of the resin, it is difficult for the solvent to decrease in the coating film. On the other hand, when the temperature is high, not only does the flatness of the base material become poor due to heat wrinkles, but there is a problem that the near-infrared dye is deteriorated by heat. The passing time is preferably 5 seconds or more and 180 seconds or less. If the time is short, the amount of solvent remaining in the coating film increases and the aging stability becomes poor. Conversely, if the time is long, not only the productivity becomes poor, but heat wrinkles occur on the substrate. As a result, the flatness becomes poor.

乾燥の最終では、熱風温度を樹脂のガラス転移温度以下にし、フラットの状態で基材フィルムの実温を樹脂のガラス転移温度以下にすることが好ましい。高温のままでは乾燥炉を出た場合には、塗工面がロール表面に接触した際に滑りが不良となり、キズ等が発生するだけでなく、カール等が発生する場合がある。   In the final stage of drying, it is preferable to set the hot air temperature to be equal to or lower than the glass transition temperature of the resin and to set the actual temperature of the base film to be equal to or lower than the glass transition temperature of the resin in a flat state. When leaving the drying furnace at a high temperature, when the coated surface comes into contact with the roll surface, slippage is poor, and not only scratches but also curls may occur.

上記の近赤外線吸収層は、高温、高湿度下に放置されても、近赤外線の透過率、可視光の透過率が変化しないことが好ましい。高温、高湿度下の経時安定性が不良の場合には、ディスプレイの映像の色調が変化するばかりか、近赤外線リモコンを用いた電子機器の誤動作を防止する本発明の効果がなくなる場合がある。上記の本発明の近赤外線吸収層は前記の経時安定性が従来公知の方法に比べて改善されているが、上述の塗液中の溶剤の種類、塗布膜厚、乾燥条件等に由来する近赤外線吸収層中の残留溶媒量や、樹脂中の色素の含有量の調整状態によっても影響を受けるので、これらの点についても配慮することも好ましい実施態様である。なお、近赤外線吸収層の残留溶媒の量は、少なければ少ないほど良いが、3質量%以下にすることが好ましい。3質量%以下になれば、実質的に経時安定性に差がなくなる。しかしながら、さらに残留溶媒量を低下させるために、乾燥を過酷な条件で行うと、フィルムの平面性が不良になる等の弊害が発生するので、適切に調整する。   It is preferable that the near-infrared absorbing layer does not change the near-infrared transmittance and the visible-light transmittance even when left at high temperature and high humidity. When the temporal stability under high temperature and high humidity is poor, not only the color tone of the image on the display changes, but also the effect of the present invention for preventing malfunction of the electronic device using the near infrared remote controller may be lost. The near-infrared absorbing layer of the present invention has improved stability over time as compared with a conventionally known method. Since it is also influenced by the amount of residual solvent in the infrared absorption layer and the adjustment state of the content of the pigment in the resin, it is also a preferred embodiment to consider these points. The amount of residual solvent in the near infrared absorbing layer is preferably as small as possible, but is preferably 3% by mass or less. If it becomes 3 mass% or less, there will be substantially no difference in stability over time. However, if the drying is performed under severe conditions in order to further reduce the amount of residual solvent, adverse effects such as poor flatness of the film occur.

上記の近赤外線吸収層の塗工外観としては、直径300μm以上、より好ましくは100μmのサイズの欠点が存在しないようにすることが望ましい。300μm以上の欠点は、プラズマディスプレイの前面に設置すると輝点のようになって、欠点が顕著化される。また、塗工層の薄いスジ、ムラ等もディスプレイ前面では顕著化されて問題となる。前記の塗工外観は、前記の要件を満たすことで達成できる。   As the coating appearance of the above-mentioned near infrared absorbing layer, it is desirable not to have a defect of a diameter of 300 μm or more, more preferably 100 μm. The defect of 300 μm or more becomes a bright spot when installed on the front surface of the plasma display, and the defect becomes noticeable. Also, streaks, unevenness, etc. with a thin coating layer become prominent on the front surface of the display and become a problem. The coating appearance can be achieved by satisfying the above requirements.

本発明においては、可視光領域に吸収を有する色素の一種を含有させて、色調補正をすることが好ましい実施態様である。例えば、プラズマディスプレイは、600nm付近を中心とするいわゆるネオンオレンジ光を発光するため、赤色にオレンジ色が混ざって、鮮やかな赤色が得られない欠点がある。前記の課題は、550〜620nmの波長域に極大吸収を有する色補正色素を上記の近赤外線吸収層および/または基材フィルムに配合することで解決できる。この色補正色素は、550〜620nm、さらには、570〜600nmに、シャープな吸収を有することが好ましい。波長550〜620nmにおける極大吸収波長での透過率は、50%以下が好ましく、特に好ましくは30%以下である。波長550〜620nmにおける極大吸収波長での透過率が50%を超える場合、プラズマディスプレイから放出されるネオン光を十分に吸収しなくなり、色純度が低下する傾向がある。また、この領域の吸収が広い場合には、R、G、B光のバランスが崩れ、コントラストが低下する傾向がある。   In the present invention, it is a preferred embodiment to perform color tone correction by containing one kind of dye having absorption in the visible light region. For example, since a plasma display emits so-called neon orange light centered around 600 nm, there is a disadvantage that orange is mixed with red and a vivid red cannot be obtained. The said subject can be solved by mix | blending the color correction pigment | dye which has maximum absorption in the wavelength range of 550-620 nm with said near-infrared absorption layer and / or a base film. This color correction dye preferably has a sharp absorption at 550 to 620 nm, more preferably 570 to 600 nm. The transmittance at the maximum absorption wavelength at a wavelength of 550 to 620 nm is preferably 50% or less, particularly preferably 30% or less. When the transmittance at the maximum absorption wavelength at a wavelength of 550 to 620 nm exceeds 50%, the neon light emitted from the plasma display is not sufficiently absorbed, and the color purity tends to be lowered. In addition, when the absorption in this region is wide, the balance of R, G, and B light is lost, and the contrast tends to decrease.

波長550〜620nmにおいて、極大吸収を有する色補正色素としては、例えば、シアニン系、スクアリウム系、アゾメチン系、キサンテン系、オキソノール系、アゾ系、フタロシアニン系、キノン系、アズレニウム系、ピリリウム系、クロコニウム系、ジチオール金属錯体系、ピロメテン系、テトラアザポルフィリン系化合物等の色素が挙げられる。これらのなかで、スクアリリウム系化合物がネオン光にシャープな吸収があり好ましい。色補正色素を配合する層は限定されないが、前記の近赤外線吸収色素と共に近赤外線吸収層に配合するのが好ましい実施態様である。   Examples of the color correction dye having a maximum absorption at a wavelength of 550 to 620 nm include cyanine-based, squalium-based, azomethine-based, xanthene-based, oxonol-based, azo-based, phthalocyanine-based, quinone-based, azulenium-based, pyrylium-based, and croconium-based. And dyes such as dithiol metal complex, pyromethene, and tetraazaporphyrin compounds. Of these, squarylium compounds are preferred because they have sharp absorption in neon light. Although the layer which mix | blends a color correction pigment | dye is not limited, It is a preferable embodiment to mix | blend with a near-infrared absorption layer with the said near-infrared absorption pigment | dye.

近赤外線吸収フィルムの色調としては、Lab表色系で表現すると、a値は−10.0〜+10.0、b値は−10.0〜+10.0であることが好ましい。この範囲であれば、プラズマディスプレイの前面に設置した場合でもナチュラル色となり好ましい。   As the color tone of the near-infrared absorbing film, when expressed in the Lab color system, the a value is preferably -10.0 to +10.0, and the b value is preferably -10.0 to +10.0. If it is this range, even if it installs in the front surface of a plasma display, it becomes a natural color and is preferable.

本発明の近赤外線吸収フィルムには、光あるいは熱に対する安定化を図る目的で各種安定化剤を使用することができ、安定化剤としては、例えば、ハイドロキノン誘導体、ハイドロキノンジエーテル誘導体、フェノール誘導体、スピロインダン又はメチレンジオキシベンゼンの誘導体、クロマン、スピロクロマン又はクマランの誘導体、ハイドロキノンモノエーテル又はパラアミノフェノールの誘導体、ビスフェノール誘導体、ニトロソ化合物)、ジインモニウム化合物、酸化防止剤、ヒンダードアミン系光安定剤等が挙げられる。   In the near-infrared absorbing film of the present invention, various stabilizers can be used for the purpose of stabilizing against light or heat. Examples of the stabilizer include hydroquinone derivatives, hydroquinone diether derivatives, phenol derivatives, Examples include derivatives of spiroindane or methylenedioxybenzene, derivatives of chromane, spirochroman or coumaran, derivatives of hydroquinone monoether or paraaminophenol, bisphenol derivatives, nitroso compounds), diimmonium compounds, antioxidants, hindered amine light stabilizers, and the like.

本発明においては、基材フィルムに紫外線吸収剤を配合するのが好ましい実施態様である。本実施態様により、近赤外線吸収層の外光に対する耐候性が改善される。この紫外線吸収剤は紫外線吸収能を有する化合物で、かつ基材フィルムの製造工程での熱に耐えられるものであれば限定されない。添加される紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤と無機系紫外線吸収剤が挙げられるが、透明性の観点から有機系紫外線吸収剤が好ましい。有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、環状イミノエステル系等、及びその組み合わせが挙げられるが特に限定されない。しかし、耐久性の観点からはベンゾトアゾール系、環状イミノエステル系が特に好ましい。2種以上の紫外線吸収剤を併用した場合には、別々の波長の紫外線を同時に吸収させることができるので、一層紫外線吸収効果を改善することができる。   In this invention, it is a preferable embodiment to mix | blend a ultraviolet absorber with a base film. By this embodiment, the weather resistance with respect to the external light of a near-infrared absorption layer is improved. This ultraviolet absorber is not limited as long as it is a compound having ultraviolet absorbing ability and can withstand heat in the production process of the base film. Examples of the ultraviolet absorber to be added include an organic ultraviolet absorber and an inorganic ultraviolet absorber, and an organic ultraviolet absorber is preferable from the viewpoint of transparency. Examples of organic ultraviolet absorbers include, but are not limited to, benzotriazoles, benzophenones, cyclic imino esters, and combinations thereof. However, from the viewpoint of durability, benzotoazole and cyclic imino ester are particularly preferable. When two or more kinds of ultraviolet absorbers are used in combination, ultraviolet rays having different wavelengths can be absorbed simultaneously, so that the ultraviolet absorption effect can be further improved.

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、2−[2´−ヒドロキシ−5´−(メタクリロイルオキシメチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2´−ヒドロキシ−5´−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2´−ヒドロキシ−5´−(メタクリロイルオキシプロピル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2´−ヒドロキシ−5´−(メタクリロイルオキシヘキシル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2´−ヒドロキシ−3´−tert−ブチル−5´−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2´−ヒドロキシ−5´−tert−ブチル−3´−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2´−ヒドロキシ−5´ −(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2´−ヒドロキシ−5´−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−メトキシ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2´−ヒドロキシ−5´−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−シアノ−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2´−ヒドロキシ−5´−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−tert−ブチル−2H−ベンゾトリアゾール、2−[2´−ヒドロキシ−5´−(メタクリロイルオキシエチル)フェニル]−5−ニトロ−2H−ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。   As the benzotriazole ultraviolet absorber, 2- [2′-hydroxy-5 ′-(methacryloyloxymethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2′-hydroxy-5 ′-(methacryloyloxyethyl) phenyl ] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5 '-(methacryloyloxypropyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5'-(methacryloyloxyhexyl) phenyl]- 2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5'-tert-butyl -3 ′-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -2H-benzotriazo 2- [2′-hydroxy-5 ′-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -5-chloro-2H-benzotriazole, 2- [2′-hydroxy-5 ′-(methacryloyloxyethyl) phenyl]- 5-methoxy-2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -5-cyano-2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5'-(methacryloyl) Oxyethyl) phenyl] -5-tert-butyl-2H-benzotriazole, 2- [2'-hydroxy-5 '-(methacryloyloxyethyl) phenyl] -5-nitro-2H-benzotriazole, and the like.

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、2,2´,4,4´−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,2´−ジヒドロキシ−4,4´−ジメトキシベンゾフェノン、2,2´−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−アセトキシエトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2´−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2´−ジヒドロキシ−4,4´−ジメトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、2,2´−ジヒドロキシ−4,4´−ジメトキシ−5,5´−ジスルホベンゾフェノン・2ナトリウム塩などが挙げられる。   Examples of the benzophenone ultraviolet absorber include 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2 , 4-Dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-acetoxyethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxy Examples thereof include benzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxy-5,5′-disulfobenzophenone, disodium salt, and the like.

環状イミノエステル系紫外線吸収剤としては、2,2´−(1,4−フェニレン)ビス(4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2−メチル−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン、2−ブチル−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン、2−フェニル−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン、2−(1−又は2−ナフチル)−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン、2−(4−ビフェニル)−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン、2−p−ニトロフェニル−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン、2−m−ニトロフェニル−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン、2−p−ベンゾイルフェニル−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン、2−p−メトキシフェニル−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン、2−o−メトキシフェニル−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン、2−シクロヘキシル−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン、2−p−(又はm−)フタルイミドフェニル−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン、2,2´−(1,4−フェニレン)ビス(4H−3,1−ベンズオキサジノン−4−オン)2,2´−ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2´−エチレンビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2´−テトラメチレンビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2´−デカメチレンビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2´−p−フェニレンビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2´−m−フェニレンビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2´−(4,4´−ジフェニレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2´−(2,6−又は1,5−ナフタレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2´−(2−メチル−p−フェニレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2´−(2−ニトロ−p−フェニレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2´−(2−クロロ−p−フェニレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2´−(1,4−シクロヘキシレン)ビス(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、1,3,5−トリ(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン−2−イル)ベンゼン、1,3,5−トリ(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン−2−イル)ナフタレン、および2,4,6−トリ(3,1−ベンゾオキサジン−4−オン−2−イル)ナフタレン、2,8−ジメチル−4H,6H−ベンゾ(1,2−d;5,4−d´)ビス−(1,3)−オキサジン−4,6−ジオン、2,7−ジメチル−4H,9H−ベンゾ(1,2−d;5,4−d´)ビス−(1,3)−オキサジン−4,9−ジオン、2,8−ジフェニル−4H,8H−ベンゾ(1,2−d;5,4−d´)ビス−(1,3)−オキサジン−4,6−ジオン、2,7−ジフェニル−4H,9H−ベンゾ(1,2−d;5,4−d´)ビス−(1,3)−オキサジン−4,6−ジオン、6,6´−ビス(2−メチル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、6,6´−ビス(2−エチル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、6,6´−ビス(2−フェニル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、6,6´−メチレンビス(2−メチル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、6,6´−メチレンビス(2−フェニル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、6,6´−エチレンビス(2−メチル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、6,6´−エチレンビス(2−フェニル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、6,6´−ブチレンビス(2−メチル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、6,6´−ブチレンビス(2−フェニル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、6,6´−オキシビス(2−メチル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、6,6´−オキシビス(2−フェニル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、6,6´−スルホニルビス(2−メチル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、6,6´−スルホニルビス(2−フェニル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、6,6´−カルボニルビス(2−メチル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、6,6´−カルボニルビス(2−フェニル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、7,7´−メチレンビス(2−メチル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、7,7´−メチレンビス(2−フェニル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、7,7´−ビス(2−メチル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、7,7´−エチレンビス(2−メチル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、7,7´−オキシビス(2−メチル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、7,7´−スルホニルビス(2−メチル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、7,7´−カルボニルビス(2−メチル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、6,7´−ビス(2−メチル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、6,7´−ビス(2−フェニル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、6,7´−メチレンビス(2−メチル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、6,7´−メチレンビス(2−フェニル−4H,3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)などが挙げられる。   Examples of the cyclic imino ester ultraviolet absorber include 2,2 ′-(1,4-phenylene) bis (4H-3,1-benzoxazin-4-one), 2-methyl-3,1-benzoxazine-4. -One, 2-butyl-3,1-benzoxazin-4-one, 2-phenyl-3,1-benzoxazin-4-one, 2- (1- or 2-naphthyl) -3,1-benzoxazine -4-one, 2- (4-biphenyl) -3,1-benzoxazin-4-one, 2-p-nitrophenyl-3,1-benzoxazin-4-one, 2-m-nitrophenyl-3 , 1-benzoxazin-4-one, 2-p-benzoylphenyl-3,1-benzoxazin-4-one, 2-p-methoxyphenyl-3,1-benzoxazin-4-one, 2-o- Methoxyphenyl 3,1-benzoxazin-4-one, 2-cyclohexyl-3,1-benzoxazin-4-one, 2-p- (or m-) phthalimidophenyl-3,1-benzoxazin-4-one, 2 , 2 '-(1,4-phenylene) bis (4H-3,1-benzoxazinon-4-one) 2,2'-bis (3,1-benzoxazin-4-one), 2,2' -Ethylenebis (3,1-benzoxazin-4-one), 2,2'-tetramethylenebis (3,1-benzoxazin-4-one), 2,2'-decamethylenebis (3,1- Benzoxazin-4-one), 2,2′-p-phenylenebis (3,1-benzoxazin-4-one), 2,2′-m-phenylenebis (3,1-benzoxazin-4-one) ), 2,2 '-(4,4'-diphenylene ) Bis (3,1-benzoxazin-4-one), 2,2 '-(2,6- or 1,5-naphthalene) bis (3,1-benzoxazin-4-one), 2,2' -(2-Methyl-p-phenylene) bis (3,1-benzoxazin-4-one), 2,2 '-(2-nitro-p-phenylene) bis (3,1-benzoxazin-4-one) ), 2,2 '-(2-chloro-p-phenylene) bis (3,1-benzoxazin-4-one), 2,2'-(1,4-cyclohexylene) bis (3,1-benzo Oxazin-4-one), 1,3,5-tri (3,1-benzoxazin-4-one-2-yl) benzene, 1,3,5-tri (3,1-benzoxazin-4-one) -2-yl) naphthalene and 2,4,6-tri (3,1-benzoxazine-4 -On-2-yl) naphthalene, 2,8-dimethyl-4H, 6H-benzo (1,2-d; 5,4-d ') bis- (1,3) -oxazine-4,6-dione, 2,7-dimethyl-4H, 9H-benzo (1,2-d; 5,4-d ′) bis- (1,3) -oxazine-4,9-dione, 2,8-diphenyl-4H, 8H -Benzo (1,2-d; 5,4-d ') bis- (1,3) -oxazine-4,6-dione, 2,7-diphenyl-4H, 9H-benzo (1,2-d; 5,4-d ') bis- (1,3) -oxazine-4,6-dione, 6,6'-bis (2-methyl-4H, 3,1-benzoxazin-4-one), 6, 6'-bis (2-ethyl-4H, 3,1-benzoxazin-4-one), 6,6'-bis (2-phenyl-4H, 3,1-benzoo Sadin-4-one), 6,6′-methylenebis (2-methyl-4H, 3,1-benzoxazin-4-one), 6,6′-methylenebis (2-phenyl-4H, 3,1-benzo) Oxazin-4-one), 6,6′-ethylenebis (2-methyl-4H, 3,1-benzoxazin-4-one), 6,6′-ethylenebis (2-phenyl-4H, 3,1) -Benzoxazin-4-one), 6,6'-butylenebis (2-methyl-4H, 3,1-benzoxazin-4-one), 6,6'-butylenebis (2-phenyl-4H, 3,1) -Benzoxazin-4-one), 6,6'-oxybis (2-methyl-4H, 3,1-benzoxazin-4-one), 6,6'-oxybis (2-phenyl-4H, 3,1) -Benzoxazin-4-one), 6,6 ' -Sulfonylbis (2-methyl-4H, 3,1-benzoxazin-4-one), 6,6'-sulfonylbis (2-phenyl-4H, 3,1-benzoxazin-4-one), 6, 6'-carbonylbis (2-methyl-4H, 3,1-benzoxazin-4-one), 6,6'-carbonylbis (2-phenyl-4H, 3,1-benzoxazin-4-one), 7,7'-methylenebis (2-methyl-4H, 3,1-benzoxazin-4-one), 7,7'-methylenebis (2-phenyl-4H, 3,1-benzoxazin-4-one), 7,7'-bis (2-methyl-4H, 3,1-benzoxazin-4-one), 7,7'-ethylenebis (2-methyl-4H, 3,1-benzoxazin-4-one) 7,7'-oxybis (2-methyl- 4H, 3,1-benzoxazin-4-one), 7,7′-sulfonylbis (2-methyl-4H, 3,1-benzoxazin-4-one), 7,7′-carbonylbis (2- Methyl-4H, 3,1-benzoxazin-4-one), 6,7'-bis (2-methyl-4H, 3,1-benzoxazin-4-one), 6,7'-bis (2- Phenyl-4H, 3,1-benzoxazin-4-one), 6,7'-methylenebis (2-methyl-4H, 3,1-benzoxazin-4-one), 6,7'-methylenebis (2- Phenyl-4H, 3,1-benzoxazin-4-one) and the like.

特に、分解開始温度が290℃以上の紫外線吸収剤を用いることが、製膜時の工程汚染を少なくする上で好ましい。   In particular, it is preferable to use an ultraviolet absorber having a decomposition start temperature of 290 ° C. or higher in order to reduce process contamination during film formation.

上記の紫外線吸収剤を配合する目的は、後述する本発明の近赤外線吸収フィルムの主機能である近赤外線吸収能を発現させるための近赤外線吸収色素が、耐候性に劣り、外光中に含まれる紫外線による近赤外線吸収色素の性能低下が起こるという現象を抑えることにある。従って、380nm以下の波長における透過率が10%以下であることが好ましい実施態様である。390nm以下の波長における透過率が10%以下であることがより好ましく、400nm以下の波長における透過率が10%以下であることが特に好ましい。前記の特性を満足する前記紫外線吸収剤の添加量は、ポリエステル等の樹脂に対し、0.1〜4質量%が好ましく、さらには0.3〜2質量%が好ましい。この量が0.1質量%未満では紫外線吸収効果が小さく、4質量%を越えるとフィルムが黄変したり、ポリエステルフィルムの製膜性が低下したりするので好ましくない。   The purpose of blending the above-mentioned ultraviolet absorber is a near-infrared absorbing dye for expressing the near-infrared absorbing ability, which is the main function of the near-infrared absorbing film of the present invention described later, is inferior in weather resistance and is included in external light It is to suppress the phenomenon that the performance of the near-infrared absorbing dye is deteriorated due to ultraviolet rays. Therefore, it is a preferred embodiment that the transmittance at a wavelength of 380 nm or less is 10% or less. The transmittance at a wavelength of 390 nm or less is more preferably 10% or less, and the transmittance at a wavelength of 400 nm or less is particularly preferably 10% or less. The addition amount of the ultraviolet absorber satisfying the above characteristics is preferably from 0.1 to 4% by mass, more preferably from 0.3 to 2% by mass, based on the resin such as polyester. If this amount is less than 0.1% by mass, the ultraviolet absorption effect is small, and if it exceeds 4% by mass, the film is yellowed or the film forming property of the polyester film is deteriorated.

本発明においては、表層へのブリードの問題がない高分子タイプの紫外線吸収剤を添加することも好ましい実施態様として推奨される。前記の高分子タイプの紫外線吸収剤とは、紫外線吸収剤として有用な骨格を側鎖に有するポリマーである。ポリエステル樹脂との相溶性から主にポリエステル系、アクリル系ポリマー紫外線吸収剤が好ましい。例えば、ポリエステル樹脂が、ジカルボン酸成分としてテレフタル酸、ジオール成分としてエチレングリコールおよび/または1、4−ブタンジオールを主成分とするポリエステルであって、共重合成分として一般式(VI)で示されるナフタレンテトラカルボン酸ジイミドと一般式(VII)で示されるナフタレンジカルボン酸を含有した紫外線吸収化合物(三菱化学製、Novapex U−110)、2−(2−ヒドロキシルフェニル)ベンゾトリアゾール骨格を側鎖に有するアクリル系ポリマー(BASF製、UVA−1635)などが目的とするUVカット性能および透明性などの特性が優れ好ましい。   In the present invention, it is also recommended as a preferred embodiment to add a polymer type ultraviolet absorber that does not cause a problem of bleeding on the surface layer. The polymer type ultraviolet absorber is a polymer having a skeleton useful as an ultraviolet absorber in the side chain. From the viewpoint of compatibility with the polyester resin, polyester-based and acrylic polymer UV absorbers are mainly preferred. For example, the polyester resin is a polyester mainly composed of terephthalic acid as a dicarboxylic acid component, ethylene glycol and / or 1,4-butanediol as a diol component, and naphthalene represented by the general formula (VI) as a copolymerization component Ultraviolet absorbing compound containing tetracarboxylic acid diimide and naphthalenedicarboxylic acid represented by general formula (VII) (Mitsubishi Chemical, Novapex U-110), acrylic having 2- (2-hydroxylphenyl) benzotriazole skeleton in the side chain The properties such as the UV-cut performance and transparency of the target polymer (made by BASF, UVA-1635) are preferable.

Figure 2006184820
(上記一般式(VI)において、R18、R19はアルキレン基等、Dはヒドロキシ基等を示す。)
Figure 2006184820
(In the general formula (VI), R 18 and R 19 are alkylene groups, etc., and D is a hydroxy group, etc.)

Figure 2006184820
Figure 2006184820

前記高分子タイプの紫外線吸収剤の添加量は、ポリエステルに対し、0.1〜20質量%が好ましく、さらには0.5〜15質量%が好ましい。この量が0.1質量%未満では紫外線劣化防止効果が小さく、20質量%を超えるとフィルムが黄変したり、ポリエステルフィルムの製膜性が低下しやすくなる。   The addition amount of the polymer type ultraviolet absorber is preferably 0.1 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 15% by mass with respect to the polyester. If this amount is less than 0.1% by mass, the effect of preventing UV deterioration is small, and if it exceeds 20% by mass, the film is yellowed or the film-forming property of the polyester film tends to be lowered.

上記紫外線吸収剤の配合方法は限定されないが、例えば、ポリエステル樹脂の場合は、重合時、または溶融押出時が好ましい。その際、紫外線吸収剤はマスターペレットにして添加することが好ましい実施態様である。例えば、好ましい配合方法として以下の方法が例示される。   The method for blending the ultraviolet absorber is not limited. For example, in the case of a polyester resin, polymerization or melt extrusion is preferred. In that case, it is a preferred embodiment that the ultraviolet absorber is added as a master pellet. For example, the following method is illustrated as a preferable blending method.

基材フィルムがポリエステルフィルムの場合について説明する。まず、ポリエステル樹脂と紫外線吸収剤とをブレンドしマスターペレットを調製する。前記のマスターペレットは、易滑性付与を目的とした粒子を実質的に含有していないペレットである。前記のマスターペレットとポリエステル樹脂とを混合した原料ペレットを十分に真空乾燥した後、押出機に供給し、シート状に溶融押出し、キャスティングロール上で冷却固化せしめて未延伸ポリエステルシートを製膜する。この際、押出機の溶融部、混練り部、メルトライン、ギアポンプ、フィルターまでの樹脂温度は280〜290℃、その後のメルトライン、フラットダイまでの樹脂温度は270〜280℃とすることが紫外線吸収剤のダイス出口での昇華、引取ロールの汚染を防止するために好ましい。   The case where a base film is a polyester film is demonstrated. First, a polyester resin and an ultraviolet absorber are blended to prepare a master pellet. The said master pellet is a pellet which does not contain the particle | grains aiming at slipperiness | lubricity provision substantially. The raw material pellets obtained by mixing the master pellets and the polyester resin are sufficiently vacuum-dried, then supplied to an extruder, melt-extruded into a sheet, and cooled and solidified on a casting roll to form an unstretched polyester sheet. At this time, the resin temperature up to the melting part, kneading part, melt line, gear pump, and filter of the extruder is 280 to 290 ° C., and the resin temperature up to the subsequent melt line and flat die is 270 to 280 ° C. It is preferable in order to prevent sublimation at the die outlet of the absorbent and contamination of the take-up roll.

また、溶融樹脂が約280℃に保たれた任意の場所で、樹脂中に含まれる異物を除去するために高精度濾過を行う。溶融樹脂の高精度濾過に用いられる濾材は、特に限定はされないが、ステンレス焼結体の濾材の場合、Si、Ti、Sb、Ge、Cuを主成分とする凝集物及び高融点有機物の除去性能に優れ好適である。さらに、濾材の濾過粒子サイズ(初期濾過効率95%)は、20μm以下、特に15μm以下が好ましい。濾材の濾過粒子サイズ(初期濾過効率95%)が20μmを超えると、20μm以上の大きさの異物が十分除去できない。濾材の濾過粒子サイズ(初期濾過効率95%)が20μm以下の濾材を用いて溶融樹脂の高精度濾過を行うことにより、生産性が低下する場合があるが、粗大粒子による突起の少ないフィルムを得るための重要な工程である。   In addition, high-precision filtration is performed at any place where the molten resin is maintained at about 280 ° C. in order to remove foreign substances contained in the resin. The filter medium used for high-precision filtration of the molten resin is not particularly limited, but in the case of a stainless steel sintered filter medium, the removal performance of aggregates and high melting point organic substances mainly composed of Si, Ti, Sb, Ge, Cu It is excellent and suitable. Further, the filter particle size (initial filtration efficiency 95%) of the filter medium is preferably 20 μm or less, particularly preferably 15 μm or less. When the filter particle size of the filter medium (initial filtration efficiency 95%) exceeds 20 μm, foreign matters having a size of 20 μm or more cannot be sufficiently removed. By performing high-precision filtration of the molten resin using a filter medium having a filter particle size (initial filtration efficiency of 95%) of 20 μm or less, productivity may be reduced, but a film with few protrusions due to coarse particles is obtained. This is an important process.

原料ポリマー中に存在する異物、及び紫外線吸収剤が昇華しロールを汚染し、それらがフィルムに付着したものが存在すると製膜時の延伸工程でこの異物の周囲でポリエステル分子の配向が乱れ、光学的歪みが発生する。この光学的歪みのため、実際の異物の大きさよりもかなり大きな欠点として認識されるため、著しく品位を損なう。例えば、大きさ20μmの異物でも、光学的には50μm以上の大きさとして認識され、さらには100μm以上の大きさの光学欠点として認識される場合もある。高透明なフィルムを得るためには、基材フィルム中に易滑性を付与するための粒子を含有させないか、透明性を阻害しない程度に少量しか含有させないことが望ましいが、粒子含有量が少なくフィルムの透明性が高くなるほど、微小な異物による光学欠点はより鮮明となる傾向にある。また、フィルムが厚手になるほど、フィルム単位面積当たりの異物の含有量が薄手のフィルムより多くなる傾向にあり、一層この問題は大きくなる。   Foreign matter existing in the raw material polymer and UV absorber sublimate and contaminate the roll, and if they are attached to the film, the orientation of the polyester molecules is disturbed around this foreign matter in the stretching process during film formation, and optical Distortion occurs. Because of this optical distortion, it is recognized as a defect that is considerably larger than the actual size of the foreign material, so that the quality is significantly impaired. For example, a foreign substance having a size of 20 μm may be optically recognized as a size of 50 μm or more, and may be recognized as an optical defect having a size of 100 μm or more. In order to obtain a highly transparent film, it is desirable not to include particles for imparting slipperiness in the base film, or to include only a small amount so as not to impair the transparency, but the particle content is small. As the transparency of the film increases, optical defects due to minute foreign substances tend to become clearer. Further, as the film becomes thicker, the content of foreign matters per unit area of the film tends to be larger than that of a thin film, and this problem is further increased.

得られた未延伸フィルムを80〜120℃に加熱したロールで長手方向(縦方向:積層フィルム製造時の走行方向)に2.5〜5.0倍延伸し、一軸配向フィルムを得る。引き続いて、フィルムの端部をクリップで把持して120〜150℃に加熱された熱風ゾーンに導き、幅方向に2.5〜5.0倍に延伸し200〜250℃にて熱処理し、この熱処理工程中で必要に応じて幅方向に3%の弛緩処理し、2軸配向ポリエステルフィルムを得る。   The obtained unstretched film is stretched 2.5 to 5.0 times in the longitudinal direction (longitudinal direction: traveling direction during production of the laminated film) with a roll heated to 80 to 120 ° C. to obtain a uniaxially oriented film. Subsequently, the end of the film was gripped with a clip, led to a hot air zone heated to 120 to 150 ° C., stretched 2.5 to 5.0 times in the width direction, and heat treated at 200 to 250 ° C. In the heat treatment step, a relaxation treatment of 3% in the width direction is performed as necessary to obtain a biaxially oriented polyester film.

本発明においては、請求項5に記載のごとく基材フィルムが少なくとも3層以上の積層構造からなり、上記紫外線吸収剤が基材フィルムの積層構造の中間層(表層以外の層を指す)に含有されてなることがより好ましい実施態様である。すなわち、両表層には紫外線吸収剤を含有させない態様である。この実施態様により、製膜時の押出工程での紫外線吸収剤の昇華が抑制され、前記の昇華物によるダイスの吐出出口や押出原反を冷却する冷却ロールの汚染や、前記の汚染により引き起こされるフィルムの欠点発生が抑制される。また、フィルム内部よりの紫外線吸収剤のブリードが抑制されるので、前記のブリードアウトした紫外線吸収剤による製膜工程のロールやテンターの汚染が軽減され、前記の汚染に起因するフィルム欠点の発生が抑制される。また、前記の紫外線吸収剤のブリードアウトにより引き起こされる接着阻害の発生が抑制される。   In the present invention, as described in claim 5, the base film has a laminated structure of at least three layers, and the ultraviolet absorber is contained in an intermediate layer (a layer other than the surface layer) of the laminated structure of the base film. It is a more preferable embodiment. In other words, both surface layers do not contain an ultraviolet absorber. According to this embodiment, sublimation of the UV absorber in the extrusion process at the time of film formation is suppressed, and this is caused by the contamination of the discharge outlet of the die and the cooling roll that cools the extrusion raw material due to the sublimated product, or the contamination. Generation of defects in the film is suppressed. Moreover, since the bleeding of the ultraviolet absorber from the inside of the film is suppressed, the contamination of the roll and the tenter in the film forming process by the ultraviolet absorber that has been bleed out is reduced, and the occurrence of a film defect due to the contamination is generated. It is suppressed. In addition, occurrence of adhesion inhibition caused by bleeding out of the ultraviolet absorber is suppressed.

前記の方法で実施する場合の層厚み比率は限定なく任意であるが、両表層の厚みがそれぞれ全厚みの3〜15%であることが好ましい。5〜10%がより好ましい。最外層(片側)の比率が3%より低い場合、近赤外線吸収層に含まれる有機系紫外線吸収剤の昇華、およびブリードアウトを十分に防止することができない。また、15%より高い場合は、上記防止効果が飽和し、かつ近赤外線吸収層の紫外線吸収効果が不足する場合があり好ましくない。   The layer thickness ratio in the case of carrying out by the above method is not limited and is arbitrary, but it is preferable that the thicknesses of both surface layers are 3 to 15% of the total thickness, respectively. 5 to 10% is more preferable. When the ratio of the outermost layer (one side) is lower than 3%, sublimation and bleeding out of the organic ultraviolet absorber contained in the near infrared absorption layer cannot be sufficiently prevented. Moreover, when higher than 15%, the said prevention effect is saturated and the ultraviolet-ray absorption effect of a near-infrared absorption layer may be insufficient, and it is not preferable.

本発明における基材フィルム(二軸配向積層ポリエステルフィルム)の各層を構成するポリエステル樹脂は、同種、異種のどちらでも構わないが、生産管理の容易さや屑樹脂の回収等の点より、同種で、かつ全ての層ともにポリエチレンテレフタレート樹脂を用いるのが好ましい実施態様である。   The polyester resin constituting each layer of the base film (biaxially oriented laminated polyester film) in the present invention may be the same type or different types, but from the viewpoint of ease of production management and recovery of waste resin, etc., the same type, A preferred embodiment is to use polyethylene terephthalate resin for all layers.

本発明者等は、前記の基材フィルムの多層化の効果として発現される紫外線吸収剤のフィルムの厚み方向の偏在度合いを表面IR分析法を用いて評価する方法を確立した。評価方法の詳細は実施例の評価方法において記述をするが、多層化による効果は本評価法により得られる数値で管理するのが好ましい。紫外線吸収剤のフィルムの厚み方向の偏在度合いは、基材フィルムの表層と中間層の厚み比の影響を大きく受けるが、同じ厚み構成比でも、例えば、製膜のフィルター後の溶融樹脂移送管やフラットダイスの樹脂温度等によっても変化する。前記の数値で示される紫外線吸収剤の偏在度としては、0.20以下が好ましい。0.10以下がより好ましく、0.05以下が特に好ましい。   The present inventors have established a method for evaluating the degree of uneven distribution in the thickness direction of the ultraviolet absorbent film expressed as an effect of multilayering of the base film using surface IR analysis. Details of the evaluation method will be described in the evaluation method of the embodiment, but it is preferable to manage the effect of multilayering by the numerical value obtained by this evaluation method. The degree of uneven distribution of the ultraviolet absorber in the thickness direction is greatly affected by the thickness ratio of the surface layer and the intermediate layer of the base film, but even with the same thickness component ratio, for example, the molten resin transfer tube after the film-forming filter or It also changes depending on the resin temperature of the flat die. The degree of uneven distribution of the ultraviolet absorber represented by the above numerical values is preferably 0.20 or less. 0.10 or less is more preferable, and 0.05 or less is particularly preferable.

上記方法で得られた2軸配向ポリエステルフィルムは表面に存在する深さ1μm以上、長さ3mm以上のキズが100個/m2以下であることが好ましい。上記キズの個数は30個/m2以下がより好ましく、10個/m2以下であることがさらに好ましい。上記キズの個数をこのような範囲とすれば、光学欠点による問題が生じない。 The biaxially oriented polyester film obtained by the above method preferably has 100 / m 2 or less scratches having a depth of 1 μm or more and a length of 3 mm or more present on the surface. The number of scratches is more preferably 30 pieces / m 2 or less, and further preferably 10 pieces / m 2 or less. If the number of scratches is within such a range, problems due to optical defects do not occur.

前記のフィルムのキズの発生を防止するためには、(a)フィルム表面そのものやロール表面、特にフィルムと接触するロール表面にキズの原因となる「欠点」を発生させないこと、(b)接触するロールの表面上でフィルムが縦方向および横方向にずれないようにすることが重要である。上記の「欠点」とは、ロール表面に形成されるキズ、堆積物、付着物、異物などの、フィルムと接触することによりフィルムに微細なキズを発生させるすべての要因を指す。よって、これらの欠点を無くすことで、フィルム表面へのキズの発生を低減できる。上記欠点の発生を防止するためには、例えば、下記に挙げる方法を採用することができる。   In order to prevent the film from being scratched, (a) the film surface itself or the roll surface, in particular, the roll surface in contact with the film should not cause “defects” that cause scratches, and (b) the contact. It is important that the film does not shift in the machine and transverse directions on the surface of the roll. The above-mentioned “defects” refer to all factors that cause fine scratches on the film by coming into contact with the film, such as scratches, deposits, deposits, and foreign matters formed on the roll surface. Therefore, by eliminating these defects, it is possible to reduce the occurrence of scratches on the film surface. In order to prevent the occurrence of the above defects, for example, the following methods can be employed.

上記フィルム製造時に用いるロールの表面粗度をRaで0.1μm以下とする方法や、堆積物、付着物、異物などのキズ発生要因のロール表面への堆積を防止するため、縦延伸工程の予熱入口と冷却ロールにロールクリーナーを設置する方法が挙げられる。   Preheating of the longitudinal stretching process in order to prevent the surface roughness of the roll used at the time of film production from 0.1 μm or less in Ra, and to prevent the generation of scratches such as deposits, deposits and foreign matters on the roll surface. One method is to install roll cleaners at the inlet and cooling roll.

また、上記フィルム製造工程におけるクリーン度をクラス1000以下(1立方フィート当たりの体積中に0.5μm以上の粒子が1000個以下)とする方法があり、特にロール周りはクラス100以下、キャスト工程で反ロール面を冷却するための送風冷却装置についてもクラス100以下のクリーンエアを使用することが好ましい。   In addition, there is a method in which the degree of cleanliness in the film production process is set to class 1000 or less (1000 particles or less of 0.5 μm or more in a volume per cubic foot). It is preferable to use clean air of class 100 or less for the blower cooling device for cooling the anti-roll surface.

さらに、上記フィルム製造前に、研磨材を用いてロール上の欠陥を削り取る作業などによりロールの掃除を行う方法も挙げられる。また、静電気の発生によってフィルムがゴミなどを吸着し、欠点となることを避けるため、フィルムの帯電量が全工程で±1500V以下になるよう除電装置を設ける方法も挙げられる。基材フィルムのキャストから後述するテンターまでの工程はキズが主に発生し易い工程であり、この区間をコンパクトにレイアウトし、通過時間を5分以下にすることも欠点の発生抑制に寄与し得る。   Furthermore, there is a method of cleaning the roll by an operation of scraping off defects on the roll using an abrasive before the film production. In addition, in order to prevent the film from adsorbing dust or the like due to the generation of static electricity and causing a defect, there is a method of providing a static eliminator so that the charge amount of the film becomes ± 1500 V or less in all steps. The process from the casting of the base film to the tenter described later is a process in which scratches are mainly likely to occur, and laying out this section in a compact manner and reducing the passage time to 5 minutes or less can also contribute to the suppression of the occurrence of defects. .

ロールについては、ロール表面に水膜を形成したり、エアフローティングタイプのロールとすることで、フィルムにロール表面の欠点が直接接触しない構造にすることができる。また、フィルムから析出するオリゴマー量を1000ppm以下とすることで、ロール表面への欠点の付着を減少させ、ロール表面の欠点を低減することができる。   About a roll, it can be set as the structure where the fault of a roll surface does not contact a film directly by forming a water film on the roll surface, or setting it as an air floating type roll. Moreover, the adhesion of the defect to a roll surface can be reduced and the defect of a roll surface can be reduced because the oligomer amount which precipitates from a film shall be 1000 ppm or less.

さらに、延伸後の巻き取り工程において、フィルムの幅方向の端部側の表面を突起付きのローラで押圧して、その部分に凹凸部を形成すると共に、前記の凹凸部が形成されたフィルムを巻取り機構でロール状に巻き取るよう構成し、さらに前記の突起付きのローラにおける突起を先窄まり状に形成し、前記の突起の頂部に丸みをつけ、その頂面の曲率半径を0.4mm以下に設定することで、フィルムの巻取り装置において、フィルムと欠点が接触しないようにすることもできる。   Furthermore, in the winding step after stretching, the surface on the end side in the width direction of the film is pressed with a roller with a protrusion to form an uneven portion on the portion, and the film on which the uneven portion is formed The roll is wound by a winding mechanism, and the protrusions on the roller with the protrusions are tapered so that the top of the protrusions are rounded, and the radius of curvature of the top surface is 0. By setting it to 4 mm or less, it is possible to prevent the film and the defect from coming into contact with each other in the film winding apparatus.

また、ロール表面上で、フィルムがずれないようにすることもキズ発生防止方法として有効である。例えば下記に挙げる方法が採用可能である。例えば、ロールを小径化すること、サクションロールの使用、静電密着、パートニップの密着装置を使用するなどしてフィルムのロールへの密着力を増大させることにより、長いキズの発生を抑えることができる。特にロールを小径化することは、フィルムのずれ量の細分化にもなり、長いキズの発生防止に寄与し得る。また、キズの多くはロール幅方向の端部に向かうほど、長さおよび頻度が増加し、ロール幅方向の端部においてはキズのない部分を得ることが困難であるため、キズの少ないロール幅方向の中央付近をトリミングすることで、キズの少ないフィルムを得ることが可能となる。   It is also effective as a scratch generation prevention method to prevent the film from shifting on the roll surface. For example, the following methods can be employed. For example, by reducing the diameter of the roll, using a suction roll, electrostatic contact, and using a part nip contact device, etc., it is possible to suppress the occurrence of long scratches by increasing the adhesion of the film to the roll. it can. In particular, reducing the diameter of the roll also subdivides the amount of shift of the film and can contribute to the prevention of long scratches. In addition, many of the scratches increase in length and frequency toward the end in the roll width direction, and it is difficult to obtain a scratch-free portion at the end in the roll width direction. By trimming around the center of the direction, a film with few scratches can be obtained.

また、縦方向キズまたは横方向キズの発生要因としては、夫々フィルムの縦方向または横方向での、膨張、収縮などの変形も挙げられる。これらのフィルムの変形は、主としてフィルムの温度変化によって生じる。よって、例えば、ロール表面でのフィルムの温度変化を抑制することで、こうした温度によるフィルム変形量を小さくでき、縦方向キズや横方向キズの発生を防止できる。具体的には、ロール1本当たりでのフィルムの温度変化を40℃以下、好ましくは30℃以下、さらに好ましくは20℃以下、さらに一層好ましくは10℃以下、特に好ましくは5℃以下とすることが推奨される。前記のロール表面でのフィルムの温度変化を抑制する方法としては、例えば、ロール間での空中冷却、水槽を通過させる水中冷却などが挙げられる。さらに、ロール本数を多くすることにより、1本当たりのロール表面でのフィルムの温度変化を低減できる。好ましくは、縦延伸工程でのロール数を10本以上とするのがよい。   In addition, as a cause of occurrence of longitudinal scratches or lateral scratches, deformations such as expansion and contraction in the longitudinal direction or the lateral direction of the film can be mentioned, respectively. These film deformations are mainly caused by changes in the film temperature. Therefore, for example, by suppressing the temperature change of the film on the roll surface, the amount of film deformation due to such temperature can be reduced, and the occurrence of vertical scratches and horizontal scratches can be prevented. Specifically, the temperature change of the film per roll is 40 ° C. or less, preferably 30 ° C. or less, more preferably 20 ° C. or less, still more preferably 10 ° C. or less, and particularly preferably 5 ° C. or less. Is recommended. Examples of the method for suppressing the temperature change of the film on the roll surface include air cooling between rolls and water cooling through a water tank. Furthermore, the temperature change of the film on the roll surface per roll can be reduced by increasing the number of rolls. Preferably, the number of rolls in the longitudinal stretching step is 10 or more.

また、複数のロールの相対的な速度の関係を、フィルムの温度や張力による変形量に対して最も近い速度プロファイルに設定することでフィルムの縦方向のズレを低減することができる。さらに、後述する接着性改質樹脂層形成用の塗布液の塗布工程において、乾燥条件を、ドライヤー区間の初期で乾燥を完了し、出口にかけて冷却することにより、ドライヤー出口でのフィルム温度を40℃以下として、温度変化によるフィルムのずれを低減することもできる。   Further, by setting the relationship between the relative speeds of the plurality of rolls to a speed profile that is closest to the amount of deformation due to the temperature and tension of the film, it is possible to reduce the vertical shift of the film. Furthermore, in the coating step of the coating liquid for forming the adhesive property-modified resin layer, which will be described later, the drying condition is completed at the beginning of the dryer section and is cooled to the outlet, whereby the film temperature at the outlet of the dryer is 40 ° C. In the following, film shift due to temperature change can be reduced.

また、フィルム走行時の張力が低すぎると把持力が下がってずれが発生し、高すぎても応力変形が大きくなってずれが発生するため、最適な張力範囲である4.9〜29.4MPaになるように駆動ロール速度と張力調整手段によって調節することが好ましい。また、製造時の使用温度におけるフィルムとロール間の摩擦係数を0.2以上とすることでロール表面でのフィルムのずれを抑制することができる。   In addition, if the tension during running of the film is too low, the gripping force is lowered and deviation occurs, and if it is too high, the stress deformation becomes large and deviation occurs, so that the optimum tension range is 4.9 to 29.4 MPa. It is preferable to adjust by the driving roll speed and tension adjusting means. Moreover, the shift | offset | difference of the film on a roll surface can be suppressed by making the friction coefficient between the film and roll in the use temperature at the time of manufacture 0.2 or more.

さらに、フリーロールについては特殊ベアリングを採用し、19.6N以下の回転抵抗とすることが好ましい。駆動ロールについては回転斑を0.01%以下に制御するのが好ましい。   Furthermore, it is preferable to use a special bearing for the free roll and to set the rotational resistance to 19.6 N or less. For the driving roll, it is preferable to control the rotation spots to 0.01% or less.

上記の基材フィルムの厚みは限定なく任意に設定できるが、0.038〜0.188mmが好ましい範囲である。0.038mm未満では、近赤外線吸収フィルムの取り扱い性が悪化するので好ましくない。逆に、0.188mmを超えた場合は、近赤外線吸収フィルムの取り扱い性やプラズマディスプレイ等の被貼着体に貼着する時の作業性が悪化するので好ましくない。また、市場の薄膜化要求にも対応できない。   Although the thickness of said base film can be arbitrarily set without limitation, 0.038 to 0.188 mm is a preferable range. If it is less than 0.038 mm, the handleability of the near-infrared absorbing film is deteriorated, which is not preferable. Conversely, if it exceeds 0.188 mm, the handling property of the near-infrared absorbing film and the workability when sticking to an adherend such as a plasma display deteriorate, which is not preferable. In addition, it cannot respond to market demands for thin films.

本発明においては、上記基材フィルムの近赤外線吸収層の反対面に、反射防止機能を有する表面層を積層することが好ましい実施態様である。反射防止機能とは、表面反射を防ぎ、光線透過率を上げると同時に「ギラツキ」を防止する機能を指す。前記の反射防止機能を付与する方法は限定させず任意に選択できるが、例えば、基材の表面に屈折率の異なる層を積層し、前記の層の界面における反射光の干渉を利用して低減する方法が好適である。   In this invention, it is a preferable embodiment to laminate | stack the surface layer which has an antireflection function on the opposite surface of the near-infrared absorption layer of the said base film. The antireflection function refers to a function of preventing surface reflection, increasing light transmittance, and simultaneously preventing “glare”. The method for providing the antireflection function can be arbitrarily selected without limitation. For example, a layer having a different refractive index is laminated on the surface of the base material, and the interference is reduced by using interference of reflected light at the interface of the layer. Is preferred.

前記の方法の反射防止膜を形成する方法として、大きくは下記の2方法が挙げられる。その一つの方法は、基材の表面に、蒸着法やスパッタリング法により反射防止膜を形成する方法であり、他の一つの方法は、基材の表面に、反射防止用塗布液を塗布し乾燥させることにより反射防止膜を形成する方法である。一般論としては、反射防止特性では前者が、経済性では後者が優れていると言われているが、本発明においては、どちらの方法を用いても構わない。また、前記の反射防止膜の材質も限定なく、無機質、有機質あるいは無機/有機のハイブリッドのいずれであっても構わない。   As the method for forming the antireflection film of the above method, there are mainly the following two methods. One method is to form an antireflection film on the surface of the substrate by vapor deposition or sputtering, and the other method is to apply an antireflection coating solution to the surface of the substrate and dry it. This is a method for forming an antireflection film. As a general theory, it is said that the former is superior in terms of antireflection characteristics and the latter is superior in terms of economy, but either method may be used in the present invention. The material of the antireflection film is not limited, and may be any of inorganic, organic or inorganic / organic hybrid.

本発明においては、上記の反射防止膜を形成する時に、傷付き防止性を付与するハード加工、帯電防止性を付与する帯電防止加工、および指紋、皮脂、汗、化粧品等の汚れの付着を防止し、付着しても容易に拭き取れる機能を付与する防汚加工等、近赤外線吸収フィルターとして好適な機能を付与する機能層を複合することが好ましい実施態様である。特に、ハード加工は市場要求が強く、反射防止機能を有する表面の鉛筆硬度が1H以上であることが好ましい実施態様である。前記のハード加工の方法も限定されず任意であるが、多官能性モノマーを主成分とした重合体よりなることが好ましい実施態様である。   In the present invention, when forming the above-described antireflection film, hard processing that imparts scratch resistance, antistatic processing that imparts antistatic properties, and adhesion of dirt such as fingerprints, sebum, sweat, and cosmetics are prevented. In addition, it is a preferred embodiment to combine a functional layer that imparts a function suitable as a near-infrared absorbing filter, such as an antifouling process that imparts a function that can be easily wiped off even if attached. In particular, hard processing has a strong market demand, and the pencil hardness of the surface having an antireflection function is preferably 1H or more. Although the method of the hard processing is not limited and is arbitrary, a preferred embodiment is made of a polymer mainly composed of a polyfunctional monomer.

上記の反射防止機能を有した表面層を形成することにより、本発明の近赤外線吸収フィルムを実際に使用する時に外光の反射が抑制され、例えばプラズマディスプレイパネル等の表示装置の光学フィルターとして用いた場合に、画像の表面の視認性が向上する機能が付与されている。一方、前記の反射防止機能を付与すると、前記の機能層との界面での光の干渉作用により発現する虹彩状色彩(干渉縞)の影響がより顕著になり、その対策が求められている。前記の虹彩状色彩を抑制する方法として、界面の屈折率差を小さくするために両界面の中間屈折率の中間層を設ける方法が有効であることが知られている。本発明においては、前記の中間層として、水性ポリエステル樹脂と、水溶性のチタンキレート化合物、水溶性のチタンアシレート化合物、水溶性のジルコニウムキレート化合物、または水溶性のジルコニウムアシレート化合物の少なくとも1種とを主たる構成成分とした易接着層(以下、干渉縞抑制易接着層と称する)を積層することにより、上記虹彩状色彩の発生を抑制し、かつ反射防止層と基材フィルムとの接着性が向上することができるので好ましい実施態様として推奨される。   By forming the surface layer having the above-described antireflection function, reflection of external light is suppressed when the near-infrared absorbing film of the present invention is actually used, and it is used as an optical filter of a display device such as a plasma display panel. If it is, a function of improving the visibility of the surface of the image is given. On the other hand, when the antireflection function is added, the influence of iris-like colors (interference fringes) that are manifested by the interference of light at the interface with the functional layer becomes more prominent, and countermeasures are required. As a method for suppressing the iris-like color, it is known that a method of providing an intermediate layer having an intermediate refractive index between both interfaces is effective in order to reduce the difference in refractive index between the interfaces. In the present invention, as the intermediate layer, at least one of an aqueous polyester resin and a water-soluble titanium chelate compound, a water-soluble titanium acylate compound, a water-soluble zirconium chelate compound, or a water-soluble zirconium acylate compound is used. And the main component of the adhesive layer (hereinafter referred to as interference fringe suppressing easy adhesive layer) is laminated to suppress the occurrence of the iris-like color and the adhesion between the antireflection layer and the base film. Is recommended as a preferred embodiment.

前記の干渉縞抑制易接着層を構成する水性ポリエステル樹脂とは、水または水溶性の有機溶剤、例えばアルコール、アルキルセロソルブ、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤を50質量%未満含む水溶液に対して、溶解性または分散性を示すポリエステル樹脂を示す。ポリエステル樹脂に水性を付与するためには、水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、エーテル基等の親水性基を導入することが重要であるが、塗膜物性及び密着性の点からスルホン酸基の導入が好ましい。特に、導入するスルホン酸基(例えば、5−スルホイソフタル酸等のスルホン酸基含有多価カルボン酸を用いる)の量は、ポリエステルの全酸成分100モル%中の内、1〜10モル%含有がより好ましい。スルホン酸基が1モル%より少ないとポリエステル自体の水性の発現性に乏しく、水溶性のチタンまたはジルコニウムのキレート化合物またはアシレート化合物との相溶性も低下するため、均一かつ透明な塗膜が得られにくくなる。また、スルホン酸基が10モル%より多いと、密着時の耐湿性が低下しやすくなる。さらに、前記の水性ポリエステルのガラス転移温度は40℃以上が好ましい。   The water-based polyester resin constituting the interference fringe-suppressing easy-adhesion layer is dissolved in water or a water-soluble organic solvent such as an aqueous solution containing less than 50% by mass of an alcohol, alkyl cellosolve, ketone solvent, or ether solvent The polyester resin which shows property or dispersibility is shown. In order to impart water to the polyester resin, it is important to introduce a hydrophilic group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, and an ether group, but from the viewpoint of coating film properties and adhesion. Introduction of sulfonic acid groups is preferred. In particular, the amount of the sulfonic acid group to be introduced (for example, using a sulfonic acid group-containing polyvalent carboxylic acid such as 5-sulfoisophthalic acid) is 1 to 10 mol% out of 100 mol% of the total acid component of the polyester. Is more preferable. If the amount of sulfonic acid groups is less than 1 mol%, the polyester itself is poor in aqueous expression and the compatibility with water-soluble titanium or zirconium chelate compounds or acylate compounds is also reduced, so that a uniform and transparent coating film can be obtained. It becomes difficult. Moreover, when there are more sulfonic acid groups than 10 mol%, the moisture resistance at the time of adhesion | attachment will fall easily. Furthermore, the glass transition temperature of the aqueous polyester is preferably 40 ° C. or higher.

そのため、水性ポリエステルのジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族系を主成分とすることが好ましい。また、グリコール成分として、エチレングリコール、プロパングリコール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール等の比較的炭素数の少ないグリコール、またはビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物等の芳香族系が好ましい。また、ポリエステル原料としてビフェニル等の剛直な成分、または臭素、イオウ等の屈折率の高い原子を有するジカルボン酸成分またはジオール成分をフィルムの物性が低下しない範囲で使用しても特に問題はない。ポリエステルのガラス転移温度が40℃未満であると、密着時の耐湿性が低下傾向になり、かつポリエステルとしての屈折率も低下するために塗膜の屈折率も低下し、結果として、蛍光灯下での虹彩状色彩の抑制性が低下しやすくなる。   For this reason, the dicarboxylic acid component of the aqueous polyester preferably contains an aromatic group such as terephthalic acid, isophthalic acid, or naphthalenedicarboxylic acid as a main component. Moreover, as a glycol component, aromatics, such as glycol with comparatively few carbon numbers, such as ethylene glycol, propane glycol, 1, 4- butanediol, neopentyl glycol, or the ethylene oxide adduct of bisphenol A, are preferable. Further, there is no particular problem even if a rigid component such as biphenyl or a dicarboxylic acid component or diol component having a high refractive index atom such as bromine or sulfur is used as a polyester raw material within a range where the physical properties of the film do not deteriorate. If the glass transition temperature of the polyester is less than 40 ° C., the moisture resistance at the time of adhesion tends to decrease, and the refractive index of the polyester also decreases, so that the refractive index of the coating film also decreases. The suppression of the iris-like color at is likely to decrease.

上記干渉縞抑制易接着層を構成するもう一方の主成分は、水溶性のチタンまたはジルコニウムのキレート化合物またはアシレート化合物である。本発明の水溶性とは、水または水溶性の有機溶剤を50質量%未満含む水溶液に対する溶解性を意味する。水溶性のチタンキレート化合物としては、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトナト)チタン、イソプロポキシ(2−エチル−1,3−ヘキサンジオラト)チタン、ジイソプロポキシビス(トリエタノールアミナト)チタン、ジ−n−ブトキシビス(トリエタノールアミナト)チタン、ヒドロキシビス(ラクタト)チタン、ヒドロキシビス(ラクタト)チタンのアンモニウム塩、チタンベロキソクエン酸アンモニウム塩等が挙げられる。また、水溶性のチタンアシレート化合物としては、オキソチタンビス(モノアンモニウムオキサレート)等、また水溶性のジルコニウム化合物としては、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムアセテート等が挙げられる。   The other main component constituting the interference fringe-suppressing adhesive layer is a water-soluble titanium or zirconium chelate compound or acylate compound. The water-soluble in the present invention means solubility in an aqueous solution containing less than 50% by mass of water or a water-soluble organic solvent. Examples of water-soluble titanium chelate compounds include diisopropoxybis (acetylacetonato) titanium, isopropoxy (2-ethyl-1,3-hexanediolato) titanium, diisopropoxybis (triethanolaminato) titanium, di -N-butoxybis (triethanolaminato) titanium, hydroxybis (lactato) titanium, ammonium salt of hydroxybis (lactato) titanium, ammonium beloxocitrate ammonium salt and the like. Examples of the water-soluble titanium acylate compound include oxotitanium bis (monoammonium oxalate), and examples of the water-soluble zirconium compound include zirconium tetraacetylacetonate and zirconium acetate.

本発明においては、上記の干渉縞抑制易接着層を構成する上記両成分の配合比は、水性ポリエステル樹脂に対する水溶性のチタンキレート化合物、水溶性のチタンアシレート化合物、水溶性のジルコニウムキレート化合物、または水溶性のジルコニウムアシレート化合物の少なくとも1種の混合比(質量比)として、90/10〜5/95であることが好ましい実施態様である。85/15〜10/90がより好ましく、80/20〜15/85が特に好ましい。水性ポリエステル樹脂が10より少ないと、基材フィルムとの密着性が低下し、かつ前記の接着層の形成を基材フィルムの製膜工程の延伸前あるいは一軸延伸後に行う、いわゆるインラインコーティング法で実施した場合に、塗膜としての延伸性が低下し、延伸時に均一な膜にならないため、光学用として重要な透明性が低下する。また、機能性付与層との接着性も問題となる。また、水性ポリエステル樹脂が95より多いと、水溶性のチタンまたはジルコニウムのキレート化合物またはアシレート化合物による架橋が乏しくなるとともに屈折率も低下する。その結果、易接着層の耐湿性が低下し、かつ虹彩状色彩の抑制効果も低下しやすくなる。   In the present invention, the blending ratio of the two components constituting the interference fringe suppression easy-adhesion layer is such that a water-soluble titanium chelate compound, a water-soluble titanium acylate compound, a water-soluble zirconium chelate compound, Alternatively, the mixing ratio (mass ratio) of at least one water-soluble zirconium acylate compound is preferably 90/10 to 5/95. 85/15 to 10/90 is more preferable, and 80/20 to 15/85 is particularly preferable. When the water-based polyester resin is less than 10, the adhesion with the base film is lowered, and the adhesive layer is formed by the so-called in-line coating method, which is performed before stretching or after uniaxial stretching in the film forming process of the base film. In this case, the stretchability as a coating film is lowered, and a uniform film is not formed at the time of stretching, so that the transparency which is important for optical use is lowered. In addition, adhesion with the functional layer is also a problem. On the other hand, when the amount of the water-based polyester resin is more than 95, crosslinking with a water-soluble titanium or zirconium chelate compound or acylate compound becomes poor and the refractive index is lowered. As a result, the moisture resistance of the easy-adhesion layer is lowered, and the effect of suppressing iris colors is likely to be lowered.

本発明の干渉縞抑制易接着層には、前記の水性ポリエステル樹脂の効果に影響を与えない範囲で、アルキッド樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂およびポリビニルアルコール等のビニル樹脂等を併用してもかまわない。また、架橋剤の併用も上記効果に悪影響を与えない範囲では特に限定されない。使用できる架橋剤としては、尿素、メラミン、ベンゾグアナミンなどとホルムアルデヒドとの付加物、これらの付加物と炭素原子数が1〜6のアルコールからなるアルキルエーテル化合物などのアミノ樹脂、多官能性エポキシ化合物、多官能性イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化合物、多官能性アジリジン化合物、オキサゾリン化合物、などが挙げられる。   The interference fringe-suppressing adhesive layer of the present invention may be used in combination with vinyl resin such as alkyd resin, polyurethane resin, acrylic resin and polyvinyl alcohol as long as the effect of the aqueous polyester resin is not affected. . Further, the combined use of the crosslinking agent is not particularly limited as long as the above effect is not adversely affected. Examples of crosslinking agents that can be used include adducts of urea, melamine, benzoguanamine, and the like with formaldehyde, amino resins such as alkyl ether compounds composed of these adducts and alcohols having 1 to 6 carbon atoms, polyfunctional epoxy compounds, A polyfunctional isocyanate compound, a block isocyanate compound, a polyfunctional aziridine compound, an oxazoline compound, etc. are mentioned.

本発明においては、上記のごとく基材フィルムの両面に機能性を有した層が積層される。したがって、前記の基材フィルムの両面は易接着層(上記干渉縞抑制異接着層との区別のため、汎用易接着層という)を設けたものであることが好ましい実施態様である。上記の干渉縞抑制易接着層を形成するのも一方法であるが限定はされない。この汎用易接着層を構成する樹脂としては、例えば共重合ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、スチレン−マレイン酸グラフトポリエステル樹脂、アクリルグラフトポリエステル樹脂などが挙げられ、少なくとも1つ以上を使用することが好ましい。なかでも、共重合ポリエステル系樹脂及びポリウレタン系樹脂からなる樹脂、スチレン−マレイン酸グラフトポリエステル樹脂が、優れた接着性を有しているため、特に好ましい。   In the present invention, functional layers are laminated on both sides of the base film as described above. Therefore, it is a preferred embodiment that both surfaces of the base film are provided with an easy-adhesion layer (referred to as a general-purpose easy-adhesion layer for distinction from the interference fringe suppressing different adhesive layer). The formation of the interference fringe suppressing easy adhesive layer is one method, but is not limited. Examples of the resin constituting the general-purpose easy-adhesion layer include copolymer polyester resins, polyurethane resins, acrylic resins, styrene-maleic acid graft polyester resins, acrylic graft polyester resins, and the like. It is preferable to do. Among these, a resin composed of a copolyester resin and a polyurethane resin and a styrene-maleic acid graft polyester resin are particularly preferable because they have excellent adhesiveness.

上記汎用易接着層形成に用いる塗布液調整について、以下に共重合ポリエステル系樹脂及びポリウレタン系樹脂からなる塗布液の一例について説明する。   Regarding the adjustment of the coating solution used for forming the general-purpose easy-adhesion layer, an example of a coating solution composed of a copolyester resin and a polyurethane resin will be described below.

本発明の汎用易接着層に用いる共重合ポリエステル系樹脂とは、分岐したグリコール成分を構成成分とすることが好ましい。前記の分岐したグリコール成分とは、例えば、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−イソプロピル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−n−ヘキシル−1,3−プロパンジオール、2、2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、2−エチル−2−n−ブチル−1,3−プロパンジオール、2−エチル−2−n−ヘキシル−1,3−プロパンジオール、2、2−ジ−n−ブチル−1,3−プロパンジオール、2−n−ブチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、及び2、2−ジ−n−ヘキシル−1,3−プロパンジオールなどが挙げられる。上記の分岐したグリコール成分は全グリコール成分の中に、好ましくは10モル%以上の割合で、さらに好ましくは20モル%以上の割合で含有される。上記化合物以外のグリコール成分としてはエチレングリコールが最も好ましい。少量であれば、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオールまたは1,4シクロヘキサンジメタノールなどを用いても良い。   The copolymerized polyester resin used for the general-purpose easy-adhesion layer of the present invention preferably contains a branched glycol component as a constituent component. Examples of the branched glycol component include 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-ethyl-1,3-propanediol, and 2-methyl-2-butyl-1,3. -Propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-isopropyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-n-hexyl-1,3-propanediol 2,2-diethyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-n-butyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-n-hexyl-1,3-propanediol, 2, Such as 2-di-n-butyl-1,3-propanediol, 2-n-butyl-2-propyl-1,3-propanediol, and 2,2-di-n-hexyl-1,3-propanediol. And the like. The branched glycol component is contained in the total glycol component in a proportion of preferably 10 mol% or more, more preferably 20 mol% or more. As the glycol component other than the above compounds, ethylene glycol is most preferable. If it is a small amount, diethylene glycol, propylene glycol, butanediol, hexanediol, 1,4 cyclohexanedimethanol or the like may be used.

上記の共重合ポリエステル系樹脂の構成成分であるジカルボン酸成分としては、テレフタル酸およびイソフタル酸が最も好ましい。少量であれば、他のジカルボン酸、例えば、ジフェニルカルボン酸、2,6−ナルタレンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸を加えて共重合させてもよい。上記ジカルボン酸成分の他に、水分散性を付与させるため、5−スルホイソフタル酸を1〜10モル%の範囲で使用するのが好ましく、例えばスルホテレフタル酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸、4−スルホナフタレンイソフタル酸−2,7−ジカルボン酸および5−(4−スルフォフェノキシ)イソフタル酸及びその塩類等を挙げることができる。   As the dicarboxylic acid component, which is a constituent component of the copolymerized polyester resin, terephthalic acid and isophthalic acid are most preferable. If the amount is small, other dicarboxylic acid, for example, aromatic dicarboxylic acid such as diphenylcarboxylic acid or 2,6-naltalenedicarboxylic acid may be added and copolymerized. In addition to the dicarboxylic acid component, 5-sulfoisophthalic acid is preferably used in the range of 1 to 10 mol% in order to impart water dispersibility. For example, sulfoterephthalic acid, 5-sodium sulfoisophthalic acid, 4- Examples thereof include sulfonaphthalene isophthalic acid-2,7-dicarboxylic acid and 5- (4-sulfophenoxy) isophthalic acid and salts thereof.

上記汎用易接着層に用いるポリウレタン樹脂とは、例えば、ブロック型イソシアネート基を含有する樹脂であって、末端イソシアネート基を親水性基で封鎖(以下ブロックと言う)した、熱反応型の水溶性ウレタンなどが挙げられる。上記イソシアネート基のブロック化剤としては、重亜硫酸塩類及びスルホン酸基を含有したフェノール類、アルコール類、ラクタム類オキシム類及び活性メチレン化合物類等が挙げられる。ブロック化されたイソシアネート基はウレタンプレポリマーを親水化あるいは水溶化する。フィルム製造時の乾燥あるいは熱セット過程で、上記樹脂に熱エネルギーが与えられると、ブロック化剤がイソシアネート基からはずれるため、上記樹脂は自己架橋した編み目に混合した水分散性共重合ポリエステル樹脂を固定化するとともに上記樹脂の末端基等とも反応する。塗布液調製中の樹脂は親水性であるため耐水性が悪いが、塗布、乾燥、熱セットして熱反応が完了すると、ウレタン樹脂の親水基すなわちブロック化剤がはずれるため、耐水性が良好な塗膜が得られる。上記ブロック化剤の内、熱処理温度、熱処理時間が適当で、工業的に広く用いられるものとしては重亜硫酸塩類が最も好ましい。   The polyurethane resin used for the general-purpose easy-adhesion layer is, for example, a resin containing a block-type isocyanate group, in which a terminal isocyanate group is blocked with a hydrophilic group (hereinafter referred to as a block), a heat-reactive water-soluble urethane. Etc. Examples of the isocyanate group blocking agent include bisulfites and sulfonic acid group-containing phenols, alcohols, lactam oximes and active methylene compounds. The blocked isocyanate group makes the urethane prepolymer hydrophilic or water-soluble. When heat energy is applied to the resin during drying or heat setting during film production, the blocking agent is released from the isocyanate group, so the resin fixes a water-dispersible copolyester resin mixed in a self-crosslinked stitch. And reacts with the terminal groups of the resin. Since the resin during the preparation of the coating solution is hydrophilic, the water resistance is poor, but when the thermal reaction is completed by coating, drying and heat setting, the hydrophilic group of the urethane resin, that is, the blocking agent is released, so the water resistance is good. A coating film is obtained. Among the above blocking agents, bisulfites are most preferred as those that are suitable for heat treatment and heat treatment and are widely used industrially.

上記樹脂において使用される、ウレタンプレポリマーの化学組成としては(1)分子内に2個以上の活性水素原子を有する、有機ポリイソシアネート、あるいは分子内にとも2とも2個の活性水素原子を有する分子量が200〜20,000の化合物、(2)分子内に2個以上のイソシアネート基を有する、有機ポリイソシアネート、あるいは、(3)分子内に少なくとも2個活性水素原子を有する鎖伸長剤を反応せしめて得られる、末端イソシアネート基を有する化合物である。   The chemical composition of the urethane prepolymer used in the above resin is (1) an organic polyisocyanate having two or more active hydrogen atoms in the molecule, or both having two active hydrogen atoms in the molecule. Reaction of a compound having a molecular weight of 200 to 20,000, (2) an organic polyisocyanate having two or more isocyanate groups in the molecule, or (3) a chain extender having at least two active hydrogen atoms in the molecule It is a compound having a terminal isocyanate group, which is obtained by pre-loading.

上記(1)の化合物として一般に知られているのは、末端又は分子中に2個以上のヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基あるいはメルカプト基を含むものであり、特に好ましい化合物としては、ポリエーテルポリオールおよびポリエーテルエステルポリオール等が挙げられる。ポリエーテルポリオールとしては、例えばエチレンオキシド及び、プロピレンオキシド等アルキレンオキシド類、あるいはスチレンオキシドおよびエピクロルヒドリン等を重合した化合物、あるいはそれらのランダム重合、ブロック重合あるいは多価アルコールへの付加重合を行って得られた化合物がある。   The compound (1) generally known is a compound containing two or more hydroxyl groups, carboxyl groups, amino groups or mercapto groups in the terminal or molecule, and particularly preferred compounds include polyether polyols. And polyether ester polyols. Examples of polyether polyols are compounds obtained by polymerizing alkylene oxides such as ethylene oxide and propylene oxide, styrene oxide and epichlorohydrin, or the like, or random polymerization, block polymerization, or addition polymerization to a polyhydric alcohol. There are compounds.

ポリエステルポリオール及びポリエーテルエステルポリオールとしては、主として直鎖状あるいは分岐状の化合物が挙げられる。コハク酸、アジピン酸、フタル酸及び無水マレイン酸等の多価の飽和あるいは不飽和カルボン酸、あるいは前記のカルボン酸無水物等と、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール及びトリメチロールプロパン等の多価の飽和及び不飽和のアルコール類、比較的低分子量のポリエチレングリコールおよびポリプロピレングリコール等のポリアルキレンエーテルグリコール類、あるいはそれらアルコール類の混合物とを縮合することにより得ることができる。さらにポリエステルポリオールとしてはラクトン及びヒドロキシ酸から得られるポリエステル類、またポリエーテルエステルポリオールとしては、あらかじめ製造されたポリエステル類にエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド等を付加せしめたポリエーテルエステル類も使用することができる。   Examples of the polyester polyol and the polyether ester polyol mainly include linear or branched compounds. Polyvalent saturated or unsaturated carboxylic acids such as succinic acid, adipic acid, phthalic acid and maleic anhydride, or the above carboxylic acid anhydrides, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, Condensation with polyvalent saturated and unsaturated alcohols such as 1,6-hexanediol and trimethylolpropane, polyalkylene ether glycols such as relatively low molecular weight polyethylene glycols and polypropylene glycols, or mixtures of these alcohols Can be obtained. Further, polyesters obtained from lactones and hydroxy acids can be used as the polyester polyol, and polyether esters obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide to a pre-manufactured polyester can also be used.

上記(2)の有機ポリイソシアネートとしては、トルイレンジイソシアネートの異性体類、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類、キシリレンジイソシアネート等の芳香族脂肪族ジイソシアネート類、イソホロンジイソシアネート及び4,4−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネート類、ヘキサメチレンジイソシアネート、および2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート類、あるいはこれらの化合物を単一あるいは複数でトリメチロールプロパン等とあらかじめ付加させたポリイソシアネート類が挙げられる。   Examples of the organic polyisocyanate (2) include isomers of toluylene diisocyanate, aromatic diisocyanates such as 4,4-diphenylmethane diisocyanate, aromatic aliphatic diisocyanates such as xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate and 4,4. -Alicyclic diisocyanates such as dicyclohexylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, and aliphatic diisocyanates such as 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, or a single or a plurality of these compounds with trimethylolpropane and the like in advance. Examples include added polyisocyanates.

上記(3)の少なくとも2個の活性水素を有する鎖伸長剤としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、及び1,6−ヘキサンジオール等のグリコール類、グリセリン、トリメチロールプロパン、およびペンタエリスリトール等の多価アルコール類、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、およびピペラジン等のジアミン類、モノエタノールアミンおよびジエタノールアミン等のアミノアルコール類、チオジエチレングルコール等のチオジグリコール類、あるいは水が挙げられる。   Examples of the chain extender having at least two active hydrogens in (3) above include glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, 1,4-butanediol, and 1,6-hexanediol, glycerin, trimethylolpropane, and Examples include polyhydric alcohols such as pentaerythritol, diamines such as ethylenediamine, hexamethylenediamine, and piperazine, amino alcohols such as monoethanolamine and diethanolamine, thiodiglycols such as thiodiethylene glycol, and water.

上記(3)のウレタンポリマーを合成するには通常、上記鎖伸長剤を用いた一段式あるいは多段式イソシアネート重付加方法により、150℃以下、好ましくは70〜120℃の温度において、5分ないし数時間反応させる。活性水素原子に対するイソシアネート基の比は、1以上であれば自由に選べるが、得られるウレタンプレポリマー中に遊離のイソシアネート基が残存することが重要な点である。さらに遊離のイソシアネート基の含有量は10質量%以下であればよいが、ブロック化された後のウレタンポリマー水溶液の安定性を考慮すると、7質量%以下であるのが好ましい。   In order to synthesize the urethane polymer of the above (3), it is usually 5 minutes to several times at a temperature of 150 ° C. or less, preferably 70 to 120 ° C., by a single-stage or multi-stage isocyanate polyaddition method using the chain extender. Let react for hours. The ratio of isocyanate groups to active hydrogen atoms can be freely selected as long as it is 1 or more, but it is important that free isocyanate groups remain in the obtained urethane prepolymer. Furthermore, the content of free isocyanate groups may be 10% by mass or less, but considering the stability of the urethane polymer aqueous solution after being blocked, it is preferably 7% by mass or less.

得られた上記ウレタンプレポリマーは、好ましくは重亜硫酸塩を用いてブロック化を行う。重亜硫酸塩水溶液と混合し、約5分〜1時間、よく攪拌しながら反応を進行させる。反応温度は60℃以下とするのが好ましい。その後、水で希釈して適当な濃度にして、熱反応型水溶性ウレタン組成物とする。前記の組成物は使用する際、適当な濃度および粘度に調製するが、通常80〜200℃前後に加熱すると、ブロック剤の重亜硫酸塩が解離し、活性なイソシアネート基が再生するために、プレポリマーの分子内あるいは分子間で起こる重付加反応によってポリウレタン重合体が生成する、あるいは他の官能基への付加を起こす性質を有するようになる。   The urethane prepolymer obtained is preferably blocked using bisulfite. Mix with aqueous bisulfite solution and allow reaction to proceed with good agitation for about 5 minutes to 1 hour. The reaction temperature is preferably 60 ° C. or lower. Thereafter, it is diluted with water to an appropriate concentration to obtain a heat-reactive water-soluble urethane composition. The above composition is prepared to have an appropriate concentration and viscosity when used. Usually, when heated to about 80 to 200 ° C., the bisulfite of the blocking agent is dissociated and the active isocyanate group is regenerated. A polyurethane polymer is produced by a polyaddition reaction that occurs within or between the molecules of the polymer, or has the property of causing addition to other functional groups.

上記のブロック型イソシアネート基を含有する樹脂(B)の1例としては、第一工業製薬(株)製の商品名エラストロンが代表的に例示される。エラストロンは、重亜硫酸ソーダによってイソシアネート基をブロックしたものであり、分子末端に強力な親水性を有する、カルバモイルスルホネート基が存在するため、水溶性となっている。   As an example of the resin (B) containing the above-mentioned block type isocyanate group, trade name Elastron manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. is typically exemplified. Elastolone is a compound in which an isocyanate group is blocked with sodium bisulfite, and is water-soluble due to the presence of a carbamoylsulfonate group having strong hydrophilicity at the molecular end.

本発明で使用される、上記の分岐したグリコール成分を含有する共重合ポリエステル樹脂(A)および上記のブロック型イソシアネート基を含有する樹脂(B)を混合して塗布液を調製する場合、樹脂(A)と樹脂(B)の質量比は(A):(B)=90:10〜10:90が好ましく、さらに好ましくは(A):(B)=80:20〜20:80の範囲である。固形分質量に対する上記樹脂(A)の割合が10質量%未満では、基材フィルムへの塗布性が不適で、表面層と前記のフィルムとの間の接着性が不十分となる。10質量%未満の場合には、UV硬化タイプのハードコートにおいては実用性のある接着性が得られない。   When preparing a coating liquid by mixing the copolymerized polyester resin (A) containing the branched glycol component and the resin (B) containing the block-type isocyanate group used in the present invention, the resin ( The mass ratio of A) to the resin (B) is preferably (A) :( B) = 90: 10 to 10:90, more preferably (A) :( B) = 80: 20 to 20:80. is there. If the ratio of the said resin (A) with respect to solid content mass is less than 10 mass%, the applicability | paintability to a base film is unsuitable, and the adhesiveness between a surface layer and the said film will become inadequate. When the content is less than 10% by mass, practical adhesiveness cannot be obtained in a UV curing type hard coat.

本発明で使用される水性塗布液には、熱架橋反応を促進させるため、触媒を添加しても良く、例えば無機物質、塩類、有機物質、アルカリ性物質、酸性物質および含金属有機化合物等、種々の化学物質が用いられる。また水溶液のpHを調節するために、アルカリ性物質あるいは酸性物質を添加してもよい。   In order to promote the thermal crosslinking reaction, a catalyst may be added to the aqueous coating solution used in the present invention, such as inorganic substances, salts, organic substances, alkaline substances, acidic substances and metal-containing organic compounds. These chemicals are used. Moreover, in order to adjust pH of aqueous solution, you may add an alkaline substance or an acidic substance.

上記水性塗布液を基材フィルム表面に塗布する際には、前記のフィルムへの濡れ性を上げ、塗布液を均一に塗布するために、公知のアニオン性活性剤およびノニオン性の界面活性剤を必要量添加して用いることができる。塗布液に用いる溶剤は、水の他にエタノール、イソプロピルアルコールおよびベンジルアルコール等のアルコール類を、全塗布液に占める割合が50質量%未満となるまで混合してもよい。さらに、10質量%未満であれば、アルコール類以外の有機溶剤を溶解可能な範囲で混合してもよい。ただし、塗布液中、アルコール類とその他の有機溶剤との合計は、50質量%未満とする。有機溶剤の添加量が50質量%未満であれば、塗布乾燥時に乾燥性が向上するとともに、水のみの場合と比較して塗布膜の外観向上の効果がある。50質量%を越えると、溶剤の蒸発速度が速く塗工中に塗布液の濃度変化が起こり、粘度が上昇して塗工性が低下するために、塗布膜の外観不良を起こす恐れがあり、さらには火災などの危険性も考えられる。塗布液の溶液粘度は1.0PaS(パスカルセック)以下が好ましい。1.0PaS(パスカルセック)以上ではスジ状の塗布厚み斑が発生しやすい。   When the aqueous coating solution is applied to the surface of the base film, a known anionic surfactant and a nonionic surfactant are added to increase the wettability to the film and to apply the coating solution uniformly. A necessary amount can be added and used. As the solvent used in the coating solution, alcohols such as ethanol, isopropyl alcohol and benzyl alcohol may be mixed in addition to water until the proportion of the total coating solution is less than 50% by mass. Furthermore, if it is less than 10 mass%, you may mix in the range which can melt | dissolve organic solvents other than alcohol. However, the total of alcohols and other organic solvents in the coating solution is less than 50% by mass. If the addition amount of the organic solvent is less than 50% by mass, the drying property is improved at the time of coating and drying, and the appearance of the coating film is improved as compared with the case of using only water. If it exceeds 50% by mass, the evaporation rate of the solvent is high, the coating solution concentration changes during coating, the viscosity rises and the coating property is lowered, and there is a risk of causing poor appearance of the coating film, Furthermore, there is a risk of fire. The solution viscosity of the coating solution is preferably 1.0 PaS (Pascal Sec) or less. When the pressure is 1.0 PaS (Pascal Sec) or higher, streaky coating thickness spots are likely to occur.

本発明では、透明性の点から、易滑性付与を目的とした粒子を、基材フィルム中に含有させずに、汎用易接着層に含有させた構成とすることが好ましい。すなわち、上記水性塗布液に、粒子を添加しフィルム表面に適度な突起を形成するのが好ましい。かかる粒子の例としては、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、シリカ、カオリン、タルク、二酸化チタン、アルミナ、硫酸バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、ゼオライト、硫化モリブデン等の無機粒子、架橋高分子粒子、シュウ酸カルシウム等の有機粒子を挙げることができる。これらの粒子の中でも、シリカ粒子がポリエステル樹脂と屈折率が比較的近く高い透明性が得やすいため最も好適である。   In this invention, it is preferable to set it as the structure made to contain in the general purpose easy-adhesion layer from the transparency point, without making the particle | grains aiming at slipperiness imparting in a base film. That is, it is preferable to add particles to the aqueous coating solution to form appropriate protrusions on the film surface. Examples of such particles include calcium carbonate, calcium phosphate, silica, kaolin, talc, titanium dioxide, alumina, barium sulfate, calcium fluoride, lithium fluoride, zeolite, molybdenum sulfide and other inorganic particles, crosslinked polymer particles, oxalic acid There may be mentioned organic particles such as calcium. Among these particles, silica particles are most preferable because they have a relatively close refractive index to that of the polyester resin and can easily obtain high transparency.

上記水性塗布液に添加する粒子の平均粒径は、通常0.01〜1.0μm、好ましくは0.01〜0.5μm以下、さらに好ましくは0.01〜0.1μm以下である。平均粒径が1.0μmを超えるとフィルム表面が粗面化し、フィルムの透明性が低下する傾向がある。また、上記塗液中に含まれる粒子含有量は、通常、塗布、乾燥後で塗布膜の粒子含有量が60質量%以下、好ましくは50質量%以下、さらに好ましくは40質量%以下になるよう添加する。塗布膜の粒子含有量が60質量%を超えるとフィルムの易接着性が損なわれることがある。   The average particle diameter of the particles added to the aqueous coating solution is usually 0.01 to 1.0 μm, preferably 0.01 to 0.5 μm or less, and more preferably 0.01 to 0.1 μm or less. When the average particle diameter exceeds 1.0 μm, the film surface becomes rough and the transparency of the film tends to be lowered. In addition, the particle content contained in the coating solution is usually such that the particle content of the coating film after application and drying is 60% by mass or less, preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less. Added. If the particle content of the coating film exceeds 60% by mass, the easy adhesion of the film may be impaired.

フィルム中に、上記粒子を2種類以上配合してもよく、同種の粒子で粒径の異なるものを配合してもよい。いずれにしても、粒子全体の平均粒径、および合計の含有量が上記の範囲を満足することが好ましい。上記塗布液を塗布する際には塗布液中の粒子の粗大凝集物を除去するために塗布直前に塗布液が精密濾過されるように濾材を配置することが重要である。本発明で用いられる塗布液を精密濾過するための濾材は、濾過粒子サイズが25μm以下(初期濾過効率95%)の濾材を用いることが好ましい。25μm以上では粗大凝集物が十分除去することが困難であり、除去できなかった多くの粗大凝集物は塗布、乾燥後、一軸延伸、あるいは二軸延伸した際に易接着層に粒子の粗大凝集物が広がって100μm以上の凝集物として認識される場合がある。このような塗布層中の凝集物は、光学欠点の発生原因となる。塗布液を精密濾過するための濾材のタイプは上記性能を有していれば特に限定されないが例えばフィラメント型、フェルト型、メッシュ型が挙げられる。塗布液を精密濾過するための濾材の材質は上記性能を有しており、且つ塗布液に悪影響を及ばさなければ特に限定はされないが例えばステンレス、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン等が挙げられる。   Two or more kinds of the above particles may be blended in the film, or the same kind of particles having different particle diameters may be blended. In any case, it is preferable that the average particle diameter of the whole particle and the total content satisfy the above range. When applying the coating solution, it is important to dispose the filter medium so that the coating solution is precisely filtered immediately before coating in order to remove coarse aggregates of particles in the coating solution. The filter medium for microfiltration of the coating liquid used in the present invention is preferably a filter medium having a filter particle size of 25 μm or less (initial filtration efficiency 95%). When the particle size is 25 μm or more, it is difficult to sufficiently remove coarse agglomerates. Many coarse agglomerates that could not be removed are coarsely agglomerated particles on the easy-adhesion layer when applied, dried, uniaxially or biaxially stretched. May spread and be recognized as an aggregate of 100 μm or more. Such aggregates in the coating layer cause optical defects. The type of filter medium for microfiltration of the coating solution is not particularly limited as long as it has the above performance, and examples thereof include a filament type, a felt type, and a mesh type. The material of the filter medium for finely filtering the coating solution has the above-mentioned performance and is not particularly limited as long as it does not adversely affect the coating solution. Examples thereof include stainless steel, polyethylene, polypropylene, and nylon.

上記水性塗布液の組成物には、その効果を消失しない限りにおいて帯電防止剤、顔料、有機フィラーおよび潤滑剤等の種々の添加剤を混合してもよい。さらに、塗布液が水性であるため、その寄与効果を消失しない限りにおいて、性能向上のために、他の水溶性樹脂、水分散性樹脂およびエマルジョン等を塗布液に添加してもよい。   Various additives such as an antistatic agent, a pigment, an organic filler, and a lubricant may be mixed in the composition of the aqueous coating solution as long as the effect is not lost. Furthermore, since the coating solution is aqueous, other water-soluble resins, water-dispersible resins, emulsions, and the like may be added to the coating solution in order to improve performance as long as the contribution effect is not lost.

上記汎用易接着層を塗布するには、公知の任意の方法で行うことができる。例えばリバースロール・コート法、グラビア・コート法、キス・コート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアナイフコート法、ワイヤーバーバーコート法、パイプドクター法、含浸・コート法およびカーテン・コート法などが挙げられ、これらの方法を単独であるいは組み合わせて行うことができる。   The general-purpose easy-adhesion layer can be applied by any known method. For example, reverse roll coating method, gravure coating method, kiss coating method, roll brush method, spray coating method, air knife coating method, wire barber coating method, pipe doctor method, impregnation / coating method and curtain coating method. These methods can be performed alone or in combination.

上記塗布液を塗布する工程は、通常の塗布工程、すなわち二軸延伸し熱固定した基材フィルムに塗布する工程でもよいが、前記のフィルムの製造工程中に塗布するのが好ましい。さらに好ましくは結晶配向が完了する前の基材フィルムに塗布する。水溶液中の固形分濃度は通常30質量%以下であり、好ましくは10質量%以下である。前記の水性塗布液は、走行しているフィルム1m2あたり0.01〜5g、好ましくは0.2〜4gが塗布されるように塗工する。前記の水性塗布液を塗布したフィルムは、延伸および熱固定のためにテンターに導かれ、そこで加熱されて、熱架橋反応により安定な被膜を形成した積層ポリエステルフィルムとなる。近赤外線吸収層やハードコート層との密着性を十分に得るためには、最終塗布量がフィルム1m2あたり0.01g/m2以上であって、100℃で1分間以上の熱処理を行うことが重要である。塗布液を塗布する際のクリーン度は、埃の付着を少なくする点から、クラス1000以下が好ましい。 Although the process of apply | coating the said coating liquid may be a normal application process, ie, the process of apply | coating to the base film which carried out biaxial stretching and heat setting, it is preferable to apply during the manufacturing process of the said film. More preferably, it is applied to the base film before crystal orientation is completed. The solid content concentration in the aqueous solution is usually 30% by mass or less, preferably 10% by mass or less. The aqueous coating solution is applied so that 0.01 to 5 g, preferably 0.2 to 4 g, is applied per 1 m 2 of the running film. The film coated with the aqueous coating solution is guided to a tenter for stretching and heat setting, and is heated there to form a laminated polyester film in which a stable film is formed by a thermal crosslinking reaction. In order to obtain sufficient adhesion with the near-infrared absorbing layer and the hard coat layer, the final coating amount is 0.01 g / m 2 or more per 1 m 2 of film, and heat treatment is performed at 100 ° C. for 1 minute or more. is important. The degree of cleanness when applying the coating solution is preferably a class of 1000 or less from the viewpoint of reducing the adhesion of dust.

本発明においては、請求項9に記載のごとく、前記の近赤外線吸収フィルムの近赤外線吸収層の表面に、透明粘着剤よりなる粘着層を積層することにより近赤外線吸収フィルターが形成される。前記の粘着層を積層することにより、本発明の近赤外線吸収フィルムを各種装置、部材への固定や機能性シート等との複合化が可能となる。例えば、近赤外線吸収フィルターとしての上記の光学特性を有する積層体を、プラズマディスプレイパネルの表面に直に貼着したり、電磁波吸収機能を有する透光性シートに貼着したりして、固定することができる。前記の透明粘着剤は限定なく公知のものが用いられるが、ブチルアクリレート等のアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、SEBS、SBS等の熱可塑性エラストマー樹脂をベースとしたTPE系粘着剤等が挙げられる。   In this invention, a near-infrared absorption filter is formed by laminating | stacking the adhesion layer which consists of a transparent adhesive on the surface of the near-infrared absorption layer of the said near-infrared absorption film as described in Claim 9. By laminating the pressure-sensitive adhesive layer, the near-infrared absorbing film of the present invention can be fixed to various devices and members, or combined with a functional sheet. For example, the laminate having the above optical characteristics as a near-infrared absorbing filter is fixed by directly attaching it to the surface of the plasma display panel or by attaching it to a translucent sheet having an electromagnetic wave absorbing function. be able to. The transparent adhesive is known without limitation, and examples thereof include acrylic adhesives such as butyl acrylate, rubber adhesives, and TPE adhesives based on thermoplastic elastomer resins such as SEBS and SBS. It is done.

本発明においては、前述のごとく前記の粘着層は近赤外線吸収層表面に形成することが重要である。前記の構成により粘着層を介して、例えばプラズマディスプレイ等に貼着した場合に紫外線吸収層が近赤外線吸収層に対して外光側に設定できるので、特許文献12において開示されている紫外線吸収機能を有する層が近赤外線吸収機能を有する層の反外光側に位置しており、実際の使用時に問題となる外光中の紫外線による近赤外線吸収色素の劣化を抑制する効果は発現されないという課題が改善でき、外光による近赤外線吸収色素の耐候性を向上させるという市場要求を満たすものである。   In the present invention, as described above, it is important to form the adhesive layer on the surface of the near-infrared absorbing layer. Since the ultraviolet absorbing layer can be set on the outside light side with respect to the near infrared absorbing layer when it is attached to, for example, a plasma display or the like through the adhesive layer with the above configuration, the ultraviolet absorbing function disclosed in Patent Document 12 The layer having a near infrared absorption function is located on the side opposite to the outside light side of the layer having a near infrared absorption function, and the problem that the effect of suppressing the deterioration of the near infrared absorption dye due to ultraviolet rays in the outside light, which is a problem during actual use, is not expressed. Satisfying the market demand for improving the weather resistance of near-infrared absorbing dyes by external light.

本発明の近赤外線吸収フィルターは、上記粘着層を含めた積層体の総厚みは限定なく、市場要求に従い任意に設定できるが、0.05〜0.2mmが好ましい範囲である。0.05mm未満では、近赤外線吸収フィルターの取り扱い性が悪化するので好ましくない。逆に、0.2mmを超えた場合は、前記の積層体の取り扱い性やプラズマディスプレイ等に貼着する時の作業性が悪化するので好ましくない。また、市場の薄膜化要求にも対応できない。すなわち、近赤外線吸収フィルターの取り扱い性や、プラズマディスプレイ等に貼着する時の作業性の点から、近赤外線吸収フィルターの薄膜化が市場より要望されていたが、従来技術では、2枚以上の機能性フィルムやシートを貼り合わせることにより製造されていたので、総厚みは0.2mmを超えていたものがほとんどであった。本発明では、上記の構成をとることにより高機能性を維持したまま、近赤外線吸収フィルターの薄膜化に対する市場要求に対応することができる。また、従来技術で必要であった、貼り合わせ工程が省略できるので経済的にも優位である。   In the near-infrared absorption filter of the present invention, the total thickness of the laminate including the adhesive layer is not limited and can be arbitrarily set according to market requirements, but 0.05 to 0.2 mm is a preferable range. If it is less than 0.05 mm, the handleability of the near-infrared absorbing filter deteriorates, which is not preferable. On the other hand, when the thickness exceeds 0.2 mm, the handling property of the laminate and the workability when adhering to a plasma display or the like deteriorate, which is not preferable. In addition, it cannot respond to market demands for thin films. In other words, the near-infrared absorption filter has been requested by the market from the viewpoint of the handleability of the near-infrared absorption filter and the workability when sticking to a plasma display or the like. Since it was manufactured by bonding functional films and sheets, most of the total thickness exceeded 0.2 mm. In the present invention, by adopting the above-described configuration, it is possible to meet the market demand for thinning of the near-infrared absorption filter while maintaining high functionality. Moreover, since the bonding process required in the prior art can be omitted, it is economically advantageous.

本発明における基材フィルムへの各機能を有した層の積層は、粘着層の積層を最後に実施することを除けば、その塗工順序は任意である。また、前記の塗工は各機能層ごとに逐次に行っても良いし、多層コーターを用いて同時に実施しても構わない。   The layering of the layers having each function on the base film in the present invention can be applied in any order except that the adhesion layer is finally laminated. The coating may be performed sequentially for each functional layer or simultaneously using a multilayer coater.

本発明においては、例えば、前記の構成の近赤外線吸収フィルターを、粘着層を介してプラズマディスプレイに直接貼着することが好ましい実施態様である。前記の方法により高機能で薄膜化された近赤外線吸収フィルターをプラズマディスプレイに貼着しその機能を発現させることができる。   In the present invention, for example, it is a preferred embodiment that the near-infrared absorption filter having the above-described configuration is directly attached to the plasma display via an adhesive layer. The near-infrared absorption filter thinned with high function by the above method can be attached to the plasma display to exhibit its function.

また、本発明においては、前記の構成の近赤外線吸収フィルターを、粘着層を介して電磁波吸収機能を有した透光性シートに積層することが、別の好ましい実施態様である。前記の実施態様により近赤外線吸収フィルムに電磁波吸収機能を付与し、例えば、プラズマディスプレイ等に組み込むことができる。本発明における電磁波吸収機能を有した透光性シートは、透光性と電磁波吸収機能を合わせて有しておれば限定はされないが、以下のようなものが挙げられる。
(1)金属繊維や金属被覆有機繊維よりなる導電性メッシュ
(2)透明フィルムあるいはシートに金属膜を積層した後に、フォトリソグラフィー等の手法で格子状やパンチングメタル状などの形状にエッジング加工したエッジング法導電メッシュ複合シート
(3)透明フィルムあるいはシートに導電塗料をパターン印刷した導電印刷メッシュ複合シート
(4)透明フィルムあるいはシートに銀薄膜やITO薄膜等の透明導電層を積層した透明導電体
Moreover, in this invention, it is another preferable embodiment to laminate | stack the near-infrared absorption filter of the said structure on the translucent sheet | seat which has an electromagnetic wave absorption function through the adhesion layer. According to the above embodiment, the near-infrared absorbing film can be provided with an electromagnetic wave absorbing function, and can be incorporated into, for example, a plasma display. Although the translucent sheet | seat with the electromagnetic wave absorption function in this invention will not be limited if it has both translucency and an electromagnetic wave absorption function, The following are mentioned.
(1) Conductive mesh made of metal fibers or metal-coated organic fibers (2) Edging processed by edging into a lattice shape or punching metal shape using a technique such as photolithography after laminating a metal film on a transparent film or sheet Conductive mesh composite sheet (3) Conductive printed mesh composite sheet obtained by pattern-printing conductive paint on transparent film or sheet (4) Transparent conductor in which transparent conductive layer such as silver thin film or ITO thin film is laminated on transparent film or sheet

本発明においては、上記粘着層を形成することなく、基材フィルムのそれぞれ片面に反射防止層と近赤外線吸収層を積層した構成として近赤外線吸収フィルムとして使用することも可能である。前記の方法で使用する場合のプラズマディスプレイパネル等の被貼着体への近赤外線吸収フィルムの固定方法に限定はないが、接着剤や粘着剤を用いて行うのが好ましい実施態様である。この場合、近赤外線吸収層を被貼着体側として固定して使用することが重要である。前記の固定法により、各機能層の機能を発現することができる。   In this invention, it is also possible to use as a near-infrared absorption film as a structure which laminated | stacked the antireflection layer and the near-infrared absorption layer on each single side | surface, without forming the said adhesion layer. Although there is no limitation in the fixing method of the near-infrared absorption film to to-be-adhered bodies, such as a plasma display panel, when using it by the said method, It is a preferable embodiment to carry out using an adhesive agent or an adhesive. In this case, it is important to fix and use the near infrared absorption layer as the adherend side. The function of each functional layer can be expressed by the fixing method.

以下、実施例をもとに本発明を詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、以下の実施例における物性の評価方法は以下の通りである。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail based on an Example, this invention is not limited to these Examples. In addition, the evaluation method of the physical property in the following examples is as follows.

1.光線透過率
分光光度計(日立製作所製、U−3500型)を用い、近赤外線吸収層側から光が透過するようにして、波長200〜1100nmにおける透過率を連続的に測定し、透過率のデータは10nm毎に取り込んだ。なお、透過率の測定の際に、空気層を標準として測定した。紫外線透過率は380nmにおける透過率を、可視光領域の透過率は、450〜700nmにおける透過率の平均値を、ネオン光領域の透過率は、570〜600nmの透過率の平均値を、近赤外線領域の透過率は、900〜1100nmの透過率の平均値を求めた。
1. Light transmittance Using a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, U-3500 type), the transmittance at a wavelength of 200 to 1100 nm is continuously measured so that light is transmitted from the near infrared absorption layer side. Data was taken every 10 nm. In the measurement of transmittance, the air layer was measured as a standard. The ultraviolet transmittance is the transmittance at 380 nm, the transmittance in the visible light region is the average value of the transmittance at 450 to 700 nm, the transmittance in the neon light region is the average value of the transmittance at 570 to 600 nm, and the near infrared ray As the transmittance of the region, an average value of transmittances of 900 to 1100 nm was obtained.

2.色調
色差計(日本電色工業製、ZE−2000)を用い、近赤外線吸収層側に光を照射するようにして、Lab表色系のa値、b値を、標準光としてD65光源、10度視野角で測定した。
2. Color Tone Using a color difference meter (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., ZE-2000) to irradiate light to the near infrared absorption layer side, the a value and b value of the Lab color system are used as the D65 light source, 10 Measured at a viewing angle of degrees.

3.経時安定性
フィルムを、温度60℃、湿度95%RH雰囲気中で500時間放置した後、上記記載の分光特性及び色調を測定した。波長800〜1100nmにおける近赤外線領域の透過率の経時処理前後の変化量を下記式(1)より求め、以下の判断基準でランク付けを行った。
◎:透過率の変化が5%未満
○:透過率の変化が5%以上10%未満
△:透過率の変化が10%以上20%未満
×:透過率の変化が20%以上
変化量(%)=(|処理前の透過率−処理後の透過率|/処理前の透過率)×100
・・・(1)
3. Stability over time The film was allowed to stand for 500 hours in an atmosphere of temperature 60 ° C. and humidity 95% RH, and then the spectral characteristics and color tone described above were measured. The amount of change before and after the aging treatment of the transmittance in the near infrared region at wavelengths of 800 to 1100 nm was obtained from the following formula (1) and ranked according to the following criteria.
◎: Change in transmittance is less than 5% ○: Change in transmittance is from 5% to less than 10% △: Change in transmittance is from 10% to less than 20% ×: Change in transmittance is 20% or more Change (% ) = (| Transmittance before processing−transmittance after processing | / transmittance before processing) × 100
... (1)

また、色調の経時処理前後での下記式(2)の変化量より求め、以下の判断基準でランク付けを行った。
◎:透過率の変化が1未満
○:透過率の変化が1以上2未満
△:透過率の変化が2以上4未満
×:透過率の変化が4以上
変化量 = ((処理前a値−処理後a値)2+(処理前b値−処理後b値)21/2
・・・(2)
Moreover, it calculated | required from the variation | change_quantity of following formula (2) before and behind color-tone processing, and performed ranking according to the following judgment criteria.
A: Change in transmittance is less than 1 ○: Change in transmittance is 1 or more and less than 2 Δ: Change in transmittance is 2 or more and less than 4 ×: Change in transmittance is 4 or more Change amount = ((a value before processing− A value after processing) 2 + (b value before processing-b value after processing) 2 ) 1/2
... (2)

4.耐候性
試験試料を以下の条件で、促進耐候性試験を行い評価した。紫外線オートフェードメーター(スガ試験機製、FAL−AU−H−BR)による照射試験を、ブラックパネル温度63℃で192時間行い、前記の試験前後の試験試料の近赤外線領域の極大吸収波長での透過率を測定した。試験前の透過率をTと試験後の透過率をT1とした。前記の測定値から、下記式(3)で近赤外線吸収能残存率R(%)を求めた。前記の評価は、粘着層を介して、厚さ2mmのSUS板に試料を貼着し、表面層側より紫外線を照射する方法で行った。
R(%)=(T/T1)×100 ・・・(3)
4). Weather resistance Test samples were evaluated under the following conditions by an accelerated weather resistance test. An irradiation test using a UV auto fade meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., FAL-AU-H-BR) is conducted at a black panel temperature of 63 ° C. for 192 hours, and the test sample before and after the test is transmitted at the maximum absorption wavelength in the near infrared region. The rate was measured. The transmittance before the test the transmittance after the test and T was T 1. From the measured value, the near-infrared absorptive residual rate R (%) was determined by the following formula (3). Said evaluation was performed by sticking a sample to a 2 mm-thick SUS plate through an adhesive layer and irradiating ultraviolet rays from the surface layer side.
R (%) = (T / T 1 ) × 100 (3)

5.反射防止層の表面層の反射率
分光光度計(日立製作所製、U−3500型)を用い、JIS−R−3106に準じて、表面層側の5°正反射を測定し、波長380〜700nmでの最小の反射率を求めた。表面層を積層しない比較例のサンプルについては基材フィルムの表面の測定を行った。
5. Reflectivity of surface layer of antireflection layer Using a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, U-3500 type), 5 ° specular reflection on the surface layer side was measured according to JIS-R-3106, and the wavelength was 380 to 700 nm. The minimum reflectivity at was obtained. About the sample of the comparative example which does not laminate | stack a surface layer, the surface of the base film was measured.

6.反射防止層の表面硬度
反射防止機能を有する表面層の表面について、鉛筆引掻き硬度で評価した。サンプルを温度25℃、相対湿度60%RHの条件下で2時間調湿した後評価した。鉛筆引掻き硬度はJIS−S−6006が規定する試験用鉛筆を用いて、JIS−K−5400に準じて実施した。評価結果の鉛筆硬度は9.8Nの荷重にて傷が全く認められない鉛筆の硬度である。表面層を積層しない比較例のサンプルについては基材フィルムの表面の測定を行った。
6). Surface hardness of antireflection layer The surface of the surface layer having an antireflection function was evaluated by pencil scratch hardness. The samples were evaluated after conditioning for 2 hours under conditions of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% RH. The pencil scratch hardness was measured according to JIS-K-5400 using a test pencil specified by JIS-S-6006. The pencil hardness of the evaluation result is that of a pencil in which no scratch is observed at a load of 9.8 N. About the sample of the comparative example which does not laminate | stack a surface layer, the surface of the base film was measured.

7.近赤外線吸収色素を含有する近赤外線吸収層の塗膜外観
近赤外線吸収層を積層した積層フィルムを白色フィルム上に置き、3波長の蛍光灯下で観察して評価を行った。
7). Appearance of coating film of near-infrared absorbing layer containing near-infrared absorbing pigment A laminated film on which a near-infrared absorbing layer was laminated was placed on a white film and evaluated by observing it under a three-wavelength fluorescent lamp.

(7−1)微小欠点
微小欠点は、100m2あたりの300μm以上の大きさの欠点の個数を計測し、以下の判断基準でランク付けを行った。
◎:微小欠点が1個未満
○:微小欠点が1個以上5個未満
△:微小欠点が5個以上10個未満
×:微小欠点が10個以上
(7-1) Minute defects The number of defects having a size of 300 μm or more per 100 m 2 was measured and ranked according to the following criteria.
◎: Less than 1 micro defect ○: 1 or more and less than 5 △: Micro defect is 5 or more and less than 10 ×: 10 or more micro defects

(7−2)塗工不良
塗工ムラ、スジ等の塗工不良を以下の判断基準でランク付けを行った。
◎:近赤外線吸収フィルムを動かしながら観察すると若干外観不良が見られない
○:近赤外線吸収フィルムを動かしながら観察すると若干外観不良が判る
△:近赤外線吸収フィルムを動かしながら観察すると外観不良が判る
×:静止状態でも外観不良が判る
(7-2) Coating failure Coating failures such as coating unevenness and streaks were ranked according to the following criteria.
◎: Some appearance defects are not observed when observed while moving near-infrared absorbing film. ○: Some appearance defects are observed when observed while moving near-infrared absorbing film. △: Appearance defects are found when observed while moving near-infrared absorbing film. : Appearance defects can be seen even when stationary

8.基材フィルムに対する反射防止層および近赤外線吸収層の接着性
JIS−K5400の8.5.1記載に準じた試験方法で接着性を求めた。すなわち、それぞれ、両表面より基材フィルムに達する100個の升目状の切り傷を隙間間隔2mmのカッターガイドを用いて付け、セロハン粘着テープ(ニチバン製、405番;24mm幅)を升目状の切り傷面に貼り付け、気泡や密着不良な部分が残らないようにプラスティック片でこすって完全に付着させた後、垂直に引き剥がして目視により、下記式(4)から接着性を求めた。なお、1つの升目で部分的に剥がれているものは、剥がれた升目とした。
接着性(%)=(1−剥がれた升目の数/評価した升目の数)×100 ・・・(4)
8). Adhesiveness of antireflection layer and near-infrared absorbing layer to substrate film Adhesiveness was determined by a test method according to 8.5.1 of JIS-K5400. That is, 100 grid-like cuts that reach the base film from both surfaces are attached using a cutter guide with a gap interval of 2 mm, and cellophane adhesive tape (Nichiban, No. 405; 24 mm width) is applied to the grid-like cut surface. The film was rubbed with a plastic piece so as not to leave bubbles or poorly adhered parts, and then completely adhered, and then peeled off vertically to determine the adhesiveness from the following formula (4). In addition, what peeled off partially by one square was made into the peeled square.
Adhesiveness (%) = (1−number of cells peeled / number of cells evaluated) × 100 (4)

9.干渉縞
近赤外線吸収フィルターを10×15cmのサイズにカットし測定試料とした。前記の測定用試料を黒色光沢紙に粘着層を介して貼着した。この貼着体のハード近赤外線吸収フィルター面を上面にして、ナショナル パルック 3波長形昼白色(F.L 15EX−N 15W)を光源として斜め上方より反射光を目視で観察した。目視で観察した結果を、下記の基準でランク分けをする。なお、観察は前記の評価に精通した5名で行ない、最も多いランクを評価ランクとする。仮に、2つのランクで同数となった場合には、3つに分かれたランクの中心を採用した。例えば、◎と○が各2名で△が1名の場合は○を、◎が1名で○と△が各2名の場合には○を、◎と△が各2名で○が1名の場合には○を、それぞれ採用する。
◎:あらゆる角度からの観察でも虹彩状色彩が見られない
○:ある角度によっては僅かに虹彩状色彩が見られる
△:僅かに虹彩状色彩が観察される
×:はっきりとした虹彩状色彩が観察される
9. Interference fringes A near-infrared absorption filter was cut to a size of 10 × 15 cm to obtain a measurement sample. The measurement sample was attached to black glossy paper through an adhesive layer. With the hard near infrared absorption filter surface of this sticking body as the upper surface, the reflected light was visually observed from obliquely above using National Parook Three-Wave Daylight White (FL 15EX-N 15W) as a light source. The results of visual observation are ranked according to the following criteria. In addition, observation is performed by five persons familiar with the above evaluation, and the highest rank is set as the evaluation rank. If two ranks have the same number, the center of the rank divided into three is adopted. For example, ◎ and ○ are 2 people each and △ is 1 person, ○ is ◎, ◎ is 1 person and ○ and △ are 2 people each, ○, ◎ and △ are 2 people each and ○ is 1 In the case of names, ○ is adopted.
◎: Iridescent colors are not observed even when observed from all angles. ○: Some iris colors are observed depending on the angle. △: Slightly iris colors are observed. X: Clear iris colors are observed. Be done

10.基材フィルムの表面傷評価
250mm×250mmのフィルム片16枚について評価した。この評価は製膜開始から24時間後のものについて評価した。投光器として20W×2灯の蛍光灯をXYテーブル下方400mmに配置し、XYテーブル上に設けたスリット幅10mmのマスク上に測定対象の試験片を載置する。投光器と受光器を結ぶ線と、試験片表面の鉛直方向とのなす角度を12°となるよう光を入射すると、入射位置の試験片に傷が存在する場合に、その部分が光り輝く。その部分の光量をXYテーブル上方500mmに配置したCCDイメージセンサカメラで電気信号に変換し、その電気信号を増幅し、微分してスレッシュホールド(しきい値)レベルとコンパレータで比較して、光学欠点の検出信号を出力する。
10. Evaluation of surface scratches on substrate film 16 film pieces of 250 mm × 250 mm were evaluated. This evaluation was performed 24 hours after the start of film formation. A fluorescent lamp of 20 W × 2 lamps is arranged as a projector at 400 mm below the XY table, and a test piece to be measured is placed on a mask having a slit width of 10 mm provided on the XY table. When light is incident so that the angle formed between the line connecting the projector and the light receiver and the vertical direction of the surface of the test piece is 12 °, if there is a scratch on the test piece at the incident position, that part shines. The amount of light in that portion is converted into an electrical signal by a CCD image sensor camera placed 500 mm above the XY table, the electrical signal is amplified, differentiated, and compared with a threshold (threshold) level and a comparator, resulting in an optical defect. The detection signal is output.

また、CCDイメージセンサカメラを用いて、傷の画像を入力し、入力された画像のビデオ信号を所定の手順により解析して、光学欠点の大きさを計測し、50μm以上の欠点の位置を表示する。前記の方法による光学欠点の検出は、試験片の両面について行う。上記方法において検出される光学欠点部分から、傷による欠点を選出する。上記方法で傷と判定された部分が中央付近にくるように試料を適当な大きさに裁断し、形状観察用試験片を採取した。前記の試験片について、3次元形状測定装置(マイクロマップ製、TYPE550)を用いて、試験片の欠点を検出した表面に対して垂直方向から観察し、傷の大きさを測定する。   In addition, a CCD image sensor camera is used to input an image of a flaw, the video signal of the input image is analyzed according to a predetermined procedure, the size of the optical defect is measured, and the position of the defect of 50 μm or more is displayed. To do. Detection of optical defects by the above method is performed on both sides of the test piece. Defects due to scratches are selected from the optical defect portions detected in the above method. The sample was cut into an appropriate size so that the portion determined to be a scratch by the above method was near the center, and a shape observation test piece was collected. About the said test piece, it observes from the orthogonal | vertical direction with respect to the surface which detected the fault of the test piece using the three-dimensional shape measuring apparatus (the product made from Micromap, TYPE550), and measures the magnitude | size of a damage | wound.

なお、試験片、すなわちフィルムの表面に対して垂直方向から観察した時に、50μm以内に近接する傷の凹凸は同一の傷とした。これらの傷の最外部を覆う最小面積の長方形の長さおよび幅を、傷の長さおよび幅とする。これらの傷の深さ(傷の最も高いところと最も低いところの高さの差)および長さを計測する。この結果より、深さ1μm以上且つ長さ3mm以上の傷の個数(個/m2)を求め、以下の基準で判定した。
◎:30個/m2以下
○:31〜50個/m2
△:51〜100個/m2
×:101個/m2以上
In addition, when observed from the direction perpendicular to the surface of the test piece, that is, the film surface, the concavity and convexity of the flaws close to each other within 50 μm were the same flaws. The length and width of the rectangle having the smallest area covering the outermost part of these scratches is defined as the length and width of the scratch. The depth (length difference between the highest and lowest scratches) and length of these scratches are measured. From this result, the number of scratches (pieces / m 2 ) having a depth of 1 μm or more and a length of 3 mm or more was determined and judged according to the following criteria.
◎: 30 pieces / m 2 or less ○: 31-50 pieces / m 2
Δ: 51 to 100 / m 2
×: 101 pieces / m 2 or more

11.基材フィルム表面の異物評価
上記傷評価において記載した方法で検出した光学欠点の中より、異物起因の欠点を選別し、前記の部分の試験片をサンプリングした。前記の試験片の欠点が検出された面にAl蒸着を行い、非接触式三次元粗さ計(マイクロマップ製、TYPE550)でフィルム面に対して垂直方向から観察した。最大径が20μm以上の異物の個数(個/m2)を求め、以下の基準で判定した。
◎:2個/m2以下
○:3〜5個/m2
△:6〜10個/m2
×:11個/m2以上
11. Evaluation of foreign matter on the surface of the base film From the optical defects detected by the method described in the above-mentioned scratch evaluation, defects caused by foreign matters were selected, and the test pieces of the above-mentioned portions were sampled. Al vapor deposition was performed on the surface where the defect of the test piece was detected, and the film was observed from a direction perpendicular to the film surface with a non-contact type three-dimensional roughness meter (manufactured by Micromap, TYPE 550). The number of foreign matters having a maximum diameter of 20 μm or more (pieces / m 2 ) was determined and judged according to the following criteria.
◎: 2 pieces / m 2 or less ○: 3-5 pieces / m 2
Δ: 6 to 10 pieces / m 2
×: 11 pieces / m 2 or more

12.基材フィルム中の厚み方向の紫外線吸収剤の偏在性評価
FT−IRにより基材ポリエステルフィルム(B)の表層のポリエステルの特性吸収に対する紫外線吸収剤の特性吸収の吸光度比(X)とフィルム中央部の同様にして求めた吸光度比(Y)を下記方法で測定し、X/Yで表示した。値が小さいほど紫外線吸収剤の偏在度が高くなる。
12 Evaluation of uneven distribution of UV absorber in the thickness direction in the base film Absorbance ratio (X) of the characteristic absorption of the UV absorber to the characteristic absorption of the polyester on the surface layer of the base polyester film (B) by FT-IR and the center of the film The absorbance ratio (Y) determined in the same manner as above was measured by the following method and expressed as X / Y. The smaller the value, the higher the degree of uneven distribution of the ultraviolet absorber.

X: ブランク試料(UV吸収剤を含有しないポリエチレンテレフタレートフィルム)の表層のIRスペクトル(I)と本発明の試料の表層IRスペクトル(II)を測定
する。(I)と(II)の差スペクトルをとり、1700〜1800cm-1での吸光度(
紫外線吸収剤の特徴的な吸収)と(II)のIRスペクトルから得られた1505cm-1での吸収(ポリエチレンテレフタレートの吸収)との吸光度比(1700〜1800cm-1/1505cm-1)をとりXを求めた。
Y: 本発明の試料を厚み方向に全厚みの50%を削りとり、むき出しになった面(フィルム中央部)について、上記と同様の測定を行い、Yを求めた。
X: The IR spectrum (I) of the surface layer of the blank sample (polyethylene terephthalate film containing no UV absorber) and the IR spectrum (II) of the surface layer of the sample of the present invention are measured. The difference spectrum between (I) and (II) is taken and the absorbance at 1700-1800 cm −1 (
X taken ultraviolet absorber characteristic absorption) and the (absorption at 1505cm -1, which derived from IR spectra of II) (absorbance ratio of the absorption of polyethylene terephthalate) (1700~1800cm -1 / 1505cm -1) Asked.
Y: 50% of the total thickness of the sample of the present invention was shaved off in the thickness direction, and the exposed surface (film center portion) was measured in the same manner as described above to obtain Y.

IRスペクトルは下記方法で測定した。
FT−IR装置: Digilab製 FTS-7000e
1回反射ATR装置: Thermo Spectra-Tech製 Thunderdome
IRE: Ge
入射角 : 45°
分解能 : 8cm-1
積算回数: 128回
The IR spectrum was measured by the following method.
FT-IR equipment: Digilab FTS-7000e
Single reflection ATR device: Thunderdome by Thermo Spectra-Tech
IRE: Ge
Incident angle: 45 °
Resolution: 8cm -1
Integration count: 128 times

実施例1
1.基材フィルムの製造
(1)紫外線吸収剤含有マスターバッチの調製
乾燥させた、環状イミノエステル系紫外線吸収剤(サイテック社製、CYASORB UV−3638;2,2´−(1,4−フェニレン)ビス(4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン))10質量部、粒子を含有しないポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂(東洋紡績製、ME−553)90質量部を混合し、混練押出機を用い、マスターバッチを作製した。この時の押出温度は285℃であり、押出時間は7分であった。
Example 1
1. Manufacture of base film (1) Preparation of UV absorber-containing masterbatch Dried cyclic iminoester UV absorber (Cysarb UV-3638; 2,2 '-(1,4-phenylene) bis, manufactured by Cytec Corporation) (4H-3,1-benzoxazin-4-one)) 10 parts by mass, 90 parts by mass of polyethylene terephthalate (PET) resin (Toyobo Co., Ltd., ME-553) containing no particles are mixed, and a kneading extruder is used. A master batch was prepared. The extrusion temperature at this time was 285 ° C., and the extrusion time was 7 minutes.

(2)汎用易接着層形成用の塗布液の調製
汎用易接着層形成用の塗布液を以下の方法に従って調製した。ジメチルテレフタレート(95質量部)、ジメチルイソフタレート(95質量部)、エチレングリコール(35質量部)、ネオペンチルグリコール(145質量部)、酢酸亜鉛(0.1質量部)および三酸化アンチモン(0.1質量部)を反応容器に仕込み、180℃で3時間かけてエステル交換反応を行った。次に、5−ナトリウムスルホイソフタル酸(6.0質量部)を添加し、240℃で1時間かけてエステル化反応を行った後、重縮合反応を行い、ポリエステル樹脂を得た。得られたポリエステル樹脂の30質量%水分散液を6.7質量部、重亜硫酸ソーダでブロックしたイソシアネート基を含有する自己架橋型ポリウレタン樹脂の20質量%水溶液(第一工業製薬製、エラストロンH−3)を40質量部、エラストロン用触媒(第一工業製薬製、Cat64)を0.5質量部、水を47.8質量部およびイソプロピルアルコールを5質量部、それぞれ混合し、さらにアニオン性界面活性剤を塗布液に対し1質量%、コロイダルシリカ粒子(日産化学工業製、スノーテックスOL)を塗布液の固形分に対し5質量%添加し塗布液とした。
(2) Preparation of coating solution for forming general-purpose easy-adhesion layer A coating solution for forming general-purpose easy-adhesion layer was prepared according to the following method. Dimethyl terephthalate (95 parts by mass), dimethyl isophthalate (95 parts by mass), ethylene glycol (35 parts by mass), neopentyl glycol (145 parts by mass), zinc acetate (0.1 parts by mass) and antimony trioxide (0. 1 part by mass) was charged into a reaction vessel, and a transesterification reaction was performed at 180 ° C. over 3 hours. Next, 5-sodium sulfoisophthalic acid (6.0 parts by mass) was added and an esterification reaction was performed at 240 ° C. over 1 hour, followed by a polycondensation reaction to obtain a polyester resin. 6.7 parts by mass of a 30% by mass aqueous dispersion of the obtained polyester resin, 20% by mass aqueous solution of a self-crosslinking polyurethane resin containing an isocyanate group blocked with sodium bisulfite (Elastolone H 3) 40 parts by mass, elastron catalyst (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Cat 64) 0.5 parts by mass, water 47.8 parts by mass and isopropyl alcohol 5 parts by mass, respectively, and anionic surface activity 1% by mass of the coating agent with respect to the coating solution and 5% by mass of colloidal silica particles (manufactured by Nissan Chemical Industries, Snowtex OL) with respect to the solid content of the coating solution were used as the coating solution.

(3)基材フィルムの製膜
固有粘度が0.62dl/gのPET樹脂の粒子を含有しないペレット(東洋紡績製、ME−553)90質量部と、前記の紫外線吸収剤含有マスターバッチ10質量部とを135℃で6時間減圧乾燥(133.32Pa:1Torr)した後、押出機に供給した。押出機の溶融部、混練部、メルトライン、ギアポンプ、フィルターまでの樹脂温度は280℃、その後のメルトライン及びダイスでは樹脂温度を275℃とした。また、前記のフィルターは、ステンレス焼結体の濾材(公称濾過精度:10μm以上の粒子を95%カット)を用いた。
(3) Film formation of base film 90 parts by mass of pellets (Toyobo, ME-553) containing no PET resin particles having an intrinsic viscosity of 0.62 dl / g, and 10 parts by weight of the above-mentioned UV absorber-containing masterbatch The parts were dried under reduced pressure at 135 ° C. for 6 hours (133.32 Pa: 1 Torr) and then supplied to the extruder. The resin temperature up to the melting part, kneading part, melt line, gear pump and filter of the extruder was 280 ° C., and the resin temperature was 275 ° C. in the subsequent melt line and die. The filter used was a stainless sintered body (nominal filtration accuracy: 95% of particles having a size of 10 μm or more).

ダイスのスリット部よりシート状に溶融押出しした樹脂を、静電印加キャスト法を用いて表面温度30℃のキャスティングドラム(ロール径400φ、Ra0.1μm以下)に巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。この時の吐出量は48kg/hrであり、得られた未延伸シートは幅300mm、厚さ1400μmであった。次に、上記キャストフィルムを、加熱されたロール群および赤外線ヒーターを用いて100℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で長手方向(走行方向)に3.5倍延伸して一軸配向フィルムを得た。前記のフィルム製造時に用いる全ロールに関し、ロールの表面粗度をRaで0.1μm以下となるように管理し、縦延伸工程の予熱入口と冷却ロールにロールクリーナーを設置した。縦延伸工程のロール径は150mmであり、サクションロール、静電密着、パートニップの密着装置を採用してフィルムをロールへ密着させた。   The resin melt-extruded into a sheet form from the slit part of the die is wound around a casting drum (roll diameter 400φ, Ra 0.1 μm or less) having a surface temperature of 30 ° C. by using an electrostatic application casting method, and then solidified by cooling, and an unstretched film made. The discharge rate at this time was 48 kg / hr, and the obtained unstretched sheet had a width of 300 mm and a thickness of 1400 μm. Next, the cast film is heated to 100 ° C. using a heated roll group and an infrared heater, and then stretched 3.5 times in the longitudinal direction (running direction) with a roll group having a difference in peripheral speed, and uniaxially oriented. A film was obtained. With respect to all the rolls used at the time of film production, the roll surface roughness was controlled so that Ra was 0.1 μm or less, and roll cleaners were installed at the preheating inlet and the cooling roll in the longitudinal stretching step. The roll diameter in the longitudinal stretching step was 150 mm, and the film was brought into close contact with the roll by employing a suction roll, electrostatic close contact, and part nip contact apparatus.

その後、汎用易接着層形成用の塗布液を濾過粒子サイズ(初期濾過効率95%)25μmのフェルト型ポリプロピレン製濾材で精密濾過し、リバースロール法で両面に塗布、乾燥した。塗布後、引き続いて、フィルムの端部をクリップで把持して130℃に加熱された熱風ゾーンに導き、乾燥後、幅方向に4.0倍に延伸した。さらに、230℃にて5秒間熱処理し、この熱処理工程中で幅方向に3%の弛緩処理を行い、基材フィルムを得た。前記のフィルムの厚さ100μmであり、この時の汎用易接着層の塗布量は0.01g/m2であった。得られたフィルムの波長380nmの透過率を表1に示す。得られた基材フィルムは優れた紫外線吸収性を有していた。また、長時間生産しても表面傷や表面異物等の表面欠点の発生(評価法として記載した方法で評価)が抑制されており、高品質な積層フィルムが安定して生産できた。 Thereafter, a coating solution for forming a general-purpose easy-adhesion layer was microfiltered with a felt type polypropylene filter medium having a filtration particle size (initial filtration efficiency of 95%) of 25 μm, applied to both sides by a reverse roll method, and dried. After coating, the end of the film was subsequently held with a clip and guided to a hot air zone heated to 130 ° C. After drying, the film was stretched 4.0 times in the width direction. Furthermore, it heat-processed at 230 degreeC for 5 second, and 3% of relaxation | loosening processes were performed in the width direction in this heat processing process, and the base film was obtained. The thickness of the film was 100 μm, and the coating amount of the general-purpose easy-adhesion layer at this time was 0.01 g / m 2 . The transmittance of the obtained film at a wavelength of 380 nm is shown in Table 1. The obtained base film had excellent ultraviolet absorptivity. Moreover, even if it produced for a long time, generation | occurrence | production of surface defects, such as a surface crack and a surface foreign material (evaluation by the method described as an evaluation method) was suppressed, and the high quality laminated | multilayer film was able to be produced stably.

2.反射防止層(表面層)の形成
前記の基材フィルムに紫外線硬化型ハードコート塗料(大日精化製、セイカビームEXF−01B)をリバースコーティング法にて乾燥後の膜厚が5μmになるように塗工した。次いで、溶剤を乾燥後、高圧水銀灯により紫外線を800mJ/cm2で照射しハードコート層を形成した。次に、γ−アミノプロピルトリメトキシシランの部分加水分解縮合物5質量部、メタノール30質量部、エタノール30質量部、イソプロパノール35質量部からなる塗布液を乾燥後膜厚0.02μmになるように塗工し、140℃で20秒間乾燥して高屈折率層を形成した。次いで、テトラエトキシシラン24質量部、エタノール50質量部、水20質量部、塩酸4質量部を混合し、加水分解を行った。この低屈折率層を乾燥後の膜厚が0.09μmになるように塗工し、140℃で1分間乾燥して低屈折率層を形成した。さらに、前記低屈折率層の上に、C37−(OC3634−O−(CF22−C24−O−CH2Si(OCH33からなるパーフルオロポリエーテル基含有シランカップリング剤を、パーフルオロへキサンで0.5質量%に希釈した塗布液を塗布した。次いで、120℃で1分間乾燥して、膜厚8nmの防汚層を最表面層として形成した。
2. Formation of antireflection layer (surface layer) UV curable hard coat paint (manufactured by Dainichi Seika Co., Ltd., Seika Beam EXF-01B) is applied to the substrate film by reverse coating method so that the film thickness after drying is 5 μm. Worked. Next, after drying the solvent, ultraviolet rays were irradiated at 800 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp to form a hard coat layer. Next, after drying a coating solution comprising 5 parts by mass of a partially hydrolyzed condensate of γ-aminopropyltrimethoxysilane, 30 parts by mass of methanol, 30 parts by mass of ethanol, and 35 parts by mass of isopropanol, the film thickness is 0.02 μm after drying. It was coated and dried at 140 ° C. for 20 seconds to form a high refractive index layer. Next, 24 parts by mass of tetraethoxysilane, 50 parts by mass of ethanol, 20 parts by mass of water, and 4 parts by mass of hydrochloric acid were mixed and hydrolyzed. This low refractive index layer was coated so that the film thickness after drying was 0.09 μm, and dried at 140 ° C. for 1 minute to form a low refractive index layer. Further, on the low-refractive index layer, a par 3 made of C 3 F 7 — (OC 3 F 6 ) 34 —O— (CF 2 ) 2 —C 2 H 4 —O—CH 2 Si (OCH 3 ) 3 is used. A coating solution in which a fluoropolyether group-containing silane coupling agent was diluted with perfluorohexane to 0.5% by mass was applied. Subsequently, it dried at 120 degreeC for 1 minute, and formed the antifouling layer with a film thickness of 8 nm as an outermost surface layer.

得られた積層フィルムの表面層の特性値を表1に示す。本実施例で得られた積層フィルムは表面反射率が低く、かつ表面硬度も良好であった。また、防汚性にも優れていた。なお、前記の防汚性は、油性ペンの拭き取り性と指紋の拭き取り性で評価した。油性ペンの拭き取り性は、最表面層表面に油性ペンで線を引きその線を、また、指紋の拭き取り性は、最表面層表面に付着させた指紋をセルロース製の不織布(旭化成製、ベンコットンM−3)で拭き取り、その取れやすさを目視判定した。どちらも完全に拭き取ることができた。   Table 1 shows the characteristic values of the surface layer of the obtained laminated film. The laminated film obtained in this example had low surface reflectance and good surface hardness. Also, the antifouling property was excellent. In addition, the said antifouling property was evaluated by the wiping property of an oil-based pen and the wiping property of a fingerprint. The wiping property of the oil-based pen is to draw a line on the surface of the outermost layer with an oil-based pen, and the wiping property of the fingerprint is the cellulose nonwoven fabric (Asahi Kasei, Bencotton). M-3) was wiped off, and the ease of removal was visually determined. Both were completely wiped off.

3.近赤外線吸収層の形成
下記組成の塗布液(固形分濃度が17質量%、粘度が40cps)を上記の基材フィルムに表面層を積層した積層フィルムの基材フィルム面上に、乾燥後の塗布量が8.5g/m2になるように、直径60cmの斜線グラビアを用いてリバースで塗工した。次いで、40℃で5m/秒の熱風で20秒間、150℃で20m/秒の熱風で20秒間、さらに、90℃で20m/秒の熱風で10秒間通過させて乾燥し、近赤外線吸収フィルムを作成した。
3. Formation of near-infrared absorption layer Coating after drying on a base film surface of a laminated film obtained by laminating a surface layer on the above base film with a coating liquid having the following composition (solid content concentration: 17% by mass, viscosity: 40 cps) It applied by reverse using the oblique gravure of diameter 60cm so that quantity might be 8.5 g / m < 2 >. Next, it was dried by passing it through hot air of 5 m / second at 40 ° C. for 20 seconds, hot air of 20 m / second at 150 ° C. for 20 seconds, and further passing hot air of 20 m / second at 90 ° C. for 10 seconds. Created.

[近赤外線吸収層形成用の塗布液]
有機溶剤、樹脂、色素、界面活性剤を下記の質量比で混合し、加温下で色素および樹脂を溶解し、公称ろ過精度1μmのフィルムで未溶解物を除去して塗布液を作成した。
・シクロペンタノン 41.35質量%
・トルエン 41.35質量%
・フルオレン骨格を有する共重合ポリエステル系樹脂 16.40質量%
(カネボウ製、ポリエステル樹脂O−PET)
・ジインモニウム塩化合物 0.61質量%
(日本カーリット製、CIR−1085;アニオンがビス(トリフルオロメタンス
ルホニル)イミド酸イオンタイプ)
・シアニン系化合物 0.05質量%
(旭電化工業製、TZ−114;アニオンが金属錯体タイプ)
・フタロシアニン系化合物 0.16質量%
(日本触媒製、IR−14)
・スクアリリウム塩系化合物 0.05質量%
(協和発酵工業製、SD−184)
・シリコーン系界面活性剤 0.03質量%
(ダウコーニング製、ペインタッド57;HLB=6.7)
[Coating solution for forming near-infrared absorbing layer]
An organic solvent, a resin, a dye, and a surfactant were mixed at the following mass ratio, the dye and the resin were dissolved under heating, and undissolved substances were removed with a film having a nominal filtration accuracy of 1 μm to prepare a coating solution.
・ Cyclopentanone 41.35% by mass
・ Toluene 41.35% by mass
-Copolyester resin having a fluorene skeleton 16.40% by mass
(Made by Kanebo, polyester resin O-PET)
・ Diimonium salt compound 0.61% by mass
(Nippon Carlit, CIR-1085; anion is bis (trifluoromethanesulfonyl) imido ion type)
・ Cyanine compound 0.05% by mass
(Asahi Denka Kogyo, TZ-114; anion is a metal complex type)
-Phthalocyanine compound 0.16% by mass
(Nippon Shokubai, IR-14)
・ Squarylium salt compound 0.05% by mass
(Kyowa Hakko Kogyo, SD-184)
・ Silicone-based surfactant 0.03% by mass
(Dow Corning, Paintad 57; HLB = 6.7)

得られた近赤外線吸収フィルムの物性を表1に示す。近赤外領域の吸収、ネオン光領域の吸収が強く、可視光領域での透過率が高いフィルムが得られた。また、経時安定性や耐候性に優れ、さらに塗工外観も良好であった。   Table 1 shows the physical properties of the obtained near-infrared absorbing film. A film having strong absorption in the near infrared region and neon light region and high transmittance in the visible light region was obtained. In addition, the stability over time and weather resistance were excellent, and the coating appearance was also good.

比較例1
実施例1において、下記(1)〜(4)の変更をすること以外は実施例1と同様にして、本比較例1の近赤外線吸収フィルムを得た。本比較例1で得られた近赤外線吸収フィルムの特性を表1に示す。
(1)近赤外線吸収層の組成を下記のごとく変更する。
・シクロペンタノン 41.37質量%
・トルエン 41.36質量%
・フルオレン骨格を有する共重合ポリエステル系樹脂 16.40質量%
(カネボウ製、O−PET)
・ジインモニウム塩化合物 0.58質量%
(日本カーリット製、CIR−1081;アニオンがヘキサフルオロアンチモン酸イオンタイプ)
・シアニン系化合物 0.05質量%
(旭電化工業製、TZ−114;アニオンが金属錯体タイプ)
・フタロシアニン系化合物 0.16質量%
(日本触媒製、IR−14)
・スクアリリウム塩系化合物 0.05質量%
(協和発酵工業製、SD−184)
・シリコーン系界面活性剤 0.03質量%
(ダウコーニング製、ペインタッド57;HLB=6.7)
(2)基材フィルムへの紫外線吸収剤の配合を取り止める。
(3)基材フィルムへの汎用易接着層の積層を両面とも取り止める。
(4)近赤外線吸収層形成用塗布液への界面活性剤の配合を取り止める。
Comparative Example 1
In Example 1, the near-infrared absorption film of this comparative example 1 was obtained like Example 1 except changing the following (1)-(4). Table 1 shows the properties of the near-infrared absorbing film obtained in Comparative Example 1.
(1) The composition of the near infrared absorbing layer is changed as follows.
・ Cyclopentanone 41.37% by mass
・ Toluene 41.36% by mass
-Copolyester resin having a fluorene skeleton 16.40% by mass
(Kanebo, O-PET)
・ Diimonium salt compound 0.58% by mass
(Nippon Carlit, CIR-1081; anion is hexafluoroantimonate ion type)
・ Cyanine compound 0.05% by mass
(Asahi Denka Kogyo, TZ-114; anion is a metal complex type)
-Phthalocyanine compound 0.16% by mass
(Nippon Shokubai, IR-14)
・ Squarylium salt compound 0.05% by mass
(Kyowa Hakko Kogyo, SD-184)
・ Silicone-based surfactant 0.03% by mass
(Dow Corning, Paintad 57; HLB = 6.7)
(2) Cancel the blending of the UV absorber into the base film.
(3) Stop the lamination of the general-purpose easy-adhesion layer on the base film on both sides.
(4) Cancel the incorporation of the surfactant into the coating solution for forming the near infrared absorbing layer.

本比較例1で得られた近赤外線吸収フィルムは耐久性が劣っている。また、紫外線透過度が高いため、近赤外線吸収色素の光による劣化が大きく耐候性が劣る。また、汎用易接着層が形成されないため、反射防止層や近赤外線吸収層の基材フィルムに対する接着性が劣る。さらに、近赤外線吸収層形成用塗布液への界面活性剤の配合を取り止めたため、近赤外線吸収色素やネオン光カット用の色調調整用色素のバインダー樹脂への分散性が劣るために、近赤外線吸収層の塗膜外観に劣っていた。   The near-infrared absorbing film obtained in Comparative Example 1 has poor durability. Moreover, since the ultraviolet ray transmittance is high, the near-infrared absorbing dye is greatly deteriorated by light and the weather resistance is inferior. Moreover, since a general-purpose easily bonding layer is not formed, the adhesiveness with respect to the base film of an antireflection layer or a near-infrared absorption layer is inferior. Furthermore, since the incorporation of the surfactant into the coating solution for forming the near infrared absorbing layer has been canceled, the dispersibility of the near infrared absorbing dye and the color tone adjusting dye for cutting neon light in the binder resin is inferior. The coating film appearance of the layer was inferior.

実施例2
1.基材フィルムの製造
(1)紫外線吸収剤含有マスターバッチの調製
乾燥させた、環状イミノエステル系紫外線吸収剤(サイテック社製、CYASORB UV−3638;2,2´−(1,4−フェニレン)ビス(4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン))10質量部、粒子を含有しないポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂(東洋紡績製、ME−553)90質量部を混合し、混練押出機を用い、マスターバッチを作製した。この時の押出温度は285℃であり、押出時間は7分であった。
Example 2
1. Manufacture of base film (1) Preparation of UV absorber-containing masterbatch Dried cyclic iminoester UV absorber (Cysarb UV-3638; 2,2 '-(1,4-phenylene) bis, manufactured by Cytec Corporation) (4H-3,1-benzoxazin-4-one)) 10 parts by mass, 90 parts by mass of polyethylene terephthalate (PET) resin (Toyobo Co., Ltd., ME-553) containing no particles are mixed, and a kneading extruder is used. A master batch was prepared. The extrusion temperature at this time was 285 ° C., and the extrusion time was 7 minutes.

(2)干渉縞抑制易接着層形成用塗布液の調製
ジメチルテレフタレート(95質量部)、ジメチルイソフタレート95質量部、エチレングリコール(97質量部)、ネオペンチルグリコール(70質量部)、酢酸亜鉛(0.1質量部)および三酸化アンチモン(0.1質量部)を反応容器に仕込み、180℃で3時間かけてエステル交換反応を行った。次に、5−ナトリウムスルホイソフタル酸(12.1質量部)を添加し、240℃で1時間かけてエステル化反応を行った後、重縮合反応を行い、ポリエステル樹脂を得た。得られたポリエステル水分散液(B−1)40質量部、ヒドロキシビス(ラクタト)チタンの44質量%溶液(松本製薬製、TC310)18質量部、水150質量部およびイソプロピルアルコール100質量部をそれぞれ混合し、さらにアニオン系界面活性剤をそれぞれ塗布液に対し1質量%、コロイダルシリカ微粒子(日本触媒化成製、カタロイドSI80P;平均粒径80nm)水分散液を樹脂固形分に対しシリカとして2質量%添加し塗布液とした。
(2) Preparation of coating solution for formation of interference fringe suppression easy adhesion layer Dimethyl terephthalate (95 parts by mass), 95 parts by mass of dimethyl isophthalate, ethylene glycol (97 parts by mass), neopentyl glycol (70 parts by mass), zinc acetate ( 0.1 parts by mass) and antimony trioxide (0.1 parts by mass) were charged into a reaction vessel, and a transesterification reaction was performed at 180 ° C. over 3 hours. Next, 5-sodium sulfoisophthalic acid (12.1 parts by mass) was added, and after performing esterification reaction at 240 ° C. for 1 hour, polycondensation reaction was performed to obtain a polyester resin. 40 parts by mass of the obtained polyester aqueous dispersion (B-1), 18 parts by mass of a 44% by mass solution of hydroxybis (lactato) titanium (manufactured by Matsumoto Pharmaceutical, TC310), 150 parts by mass of water and 100 parts by mass of isopropyl alcohol, respectively Further, 1% by mass of the anionic surfactant with respect to the coating solution, and 2% by mass of colloidal silica fine particles (manufactured by Nippon Shokuhin Kasei Co., Ltd., Cataloid SI80P; average particle size 80 nm) as silica with respect to the resin solid content. The coating liquid was added.

(3)汎用易接着層形成用塗布液の調製
汎用易接着層形成用の塗布液を以下の方法に従って調製した。ジメチルテレフタレート95質量部、ジメチルイソフタレート95質量部、エチレングリコール35質量部、ネオペンチルグリコール145質量部、酢酸亜鉛0.1質量部および三酸化アンチモン0.1質量部を反応容器に仕込み、180℃で3時間かけてエステル交換反応を行った。次に5−ナトリウムスルホイソフタル酸6.0質量部を添加し、240℃で1時間かけてエステル化反応を行った後、重縮合反応を行い、ポリエステル樹脂を得た。得られたポリエステル樹脂の30質量%水分散液を6.7質量部、重亜硫酸ソーダでブロックしたイソシアネート基を含有する自己架橋型ポリウレタン樹脂の20質量%水溶液(第一工業製薬製、エラストロンH−3)を40質量部、エラストロン用触媒(Cat64)を0.5質量部、水を47.8質量部およびイソプロピルアルコールを5質量部、それぞれ混合し、さらにアニオン性界面活性剤を1質量%、コロイダルシリカ粒子(日産化学工業製、スノーテックスOL)を5質量%添加し塗布液とした。
(3) Preparation of coating solution for forming general-purpose easy-adhesion layer A coating solution for forming general-purpose easy-adhesion layer was prepared according to the following method. A reaction vessel was charged with 95 parts by weight of dimethyl terephthalate, 95 parts by weight of dimethyl isophthalate, 35 parts by weight of ethylene glycol, 145 parts by weight of neopentyl glycol, 0.1 part by weight of zinc acetate and 0.1 part by weight of antimony trioxide. The transesterification was carried out over 3 hours. Next, 6.0 parts by mass of 5-sodium sulfoisophthalic acid was added, esterification reaction was performed at 240 ° C. over 1 hour, and then polycondensation reaction was performed to obtain a polyester resin. 6.7 parts by mass of a 30% by mass aqueous dispersion of the obtained polyester resin, 20% by mass aqueous solution of a self-crosslinking polyurethane resin containing an isocyanate group blocked with sodium bisulfite (Elastolone H 3) 40 parts by mass, elastron catalyst (Cat 64) 0.5 parts by mass, water 47.8 parts by mass and isopropyl alcohol 5 parts by mass, respectively, and further anionic surfactant 1% by mass, Colloidal silica particles (Nissan Chemical Industries, Snowtex OL) were added in an amount of 5% by mass to obtain a coating solution.

(4)基材フィルムの製膜
中間層用原料として固有粘度が0.62dl/gのポリエチレンテレフタレート樹脂の粒子を含有しないペレット(東洋紡績製、ME−553)90質量部と、前記マスターバッチ10質量部とを135℃で6時間減圧乾燥(133.32Pa:1Torr)した後、押出機2(中間層B層用)に供給した。粒子を含有しないポリエチレンテレフタレートのペレット(東洋紡績製、ME−553)を135℃で6時間減圧乾燥(133.32Pa:1Torr)した後、押出機1(外層A層用及び外層C層用)にそれぞれ供給し、押出機熔融部、混練り部、メルトライン、ギアポンプ、フィルターまでの樹脂温度は280℃、その後のメルトラインでは275℃とし、3層合流ブロックにて、積層し、口金よりシート状にして押出た。これらのポリマーは、それぞれステンレス焼結体の濾材(公称濾過精度10μm粒子95%カット)を用いて濾過した。また、フラットダイは樹脂温度が275℃になるようにした。
(4) Film formation of base film 90 parts by mass of pellets (ME-553, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) not containing polyethylene terephthalate resin particles having an intrinsic viscosity of 0.62 dl / g as an intermediate layer raw material, and the master batch 10 The mass part was dried under reduced pressure at 135 ° C. for 6 hours (133.32 Pa: 1 Torr), and then supplied to the extruder 2 (for the intermediate layer B layer). Polyethylene terephthalate pellets (ME-553, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) containing no particles are dried under reduced pressure (135.32 Pa: 1 Torr) at 135 ° C. for 6 hours, and then extruded into an extruder 1 (for outer layer A layer and outer layer C layer). The temperature of the resin to the melter, kneading part, melt line, gear pump, and filter is 280 ° C, and the melt line is 275 ° C in the subsequent melt line. And extruded. Each of these polymers was filtered using a stainless steel sintered filter medium (nominal filtration accuracy: 10 μm particles, 95% cut). Further, the resin temperature of the flat die was set to 275 ° C.

溶融押出しした樹脂を、静電印加キャスト法を用いて表面温度30℃のキャスティングドラム(ロール径400φ、Ra0.1μm以下)に巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。この時の吐出量は48kg/hrであり、得られた未延伸シートは幅300mm、厚さ1400μmであった。また、両表層の厚さの比率が全厚みに対してそれぞれ10%となるように各押出機の吐出量を調整した。次に、上記キャストフィルムを加熱されたロール群および赤外線ヒーターを用いて100℃に加熱し、その後周速差のあるロール群で長手方向(走行方向)に3.5倍延伸して一軸配向フィルムを得た。前記のフィルム製造時に用いる全ロールに関し、ロールの表面粗度をRaで0.1μm以下に管理し、縦延伸工程の予熱入口と冷却ロールにロールクリーナーを設置した。縦延伸工程のロール径は150mmであり、サクションロール、静電密着、パートニップの密着装置を採用してフィルムをロールへ密着させた。   The melt-extruded resin was wound around a casting drum (roll diameter: 400φ, Ra: 0.1 μm or less) having a surface temperature of 30 ° C. by using an electrostatic application casting method, and solidified by cooling to produce an unstretched film. The discharge rate at this time was 48 kg / hr, and the obtained unstretched sheet had a width of 300 mm and a thickness of 1400 μm. Further, the discharge amount of each extruder was adjusted so that the ratio of the thicknesses of both surface layers was 10% with respect to the total thickness. Next, the cast film is heated to 100 ° C. using a heated roll group and an infrared heater, and then stretched 3.5 times in the longitudinal direction (running direction) with a roll group having a difference in peripheral speed, and a uniaxially oriented film Got. With respect to all the rolls used in the film production, the surface roughness of the roll was controlled to 0.1 μm or less by Ra, and roll cleaners were installed at the preheating inlet and the cooling roll in the longitudinal stretching step. The roll diameter in the longitudinal stretching step was 150 mm, and the film was brought into close contact with the roll by employing a suction roll, electrostatic close contact, and part nip contact apparatus.

その後、前記した干渉縞抑制易接着層形成用および汎用易接着層の塗布液をそれぞれ濾過粒子サイズ(初期濾過効率95%)25μmのフェルト型ポリプロピレン製濾材で精密濾過し、リバースロール法でそれぞれ片面づつに塗布、乾燥した。塗布後引き続いて、フィルムの端部をクリップで把持して130℃に加熱された熱風ゾーンに導き、乾燥後幅方向に4.0倍に延伸し230℃にて5秒間熱処理し、この熱処理工程中で幅方向に3%の弛緩処理し、基材フィルムを得た。   Thereafter, the coating liquids for forming the interference fringe-suppressing easy-adhesion layer and the general-purpose easy-adhesion layer described above are each finely filtered with a felt type polypropylene filter medium having a filtration particle size (initial filtration efficiency of 95%) of 25 μm, and each side is applied by the reverse roll method. It was applied and dried one by one. After coating, the end of the film is gripped with a clip, guided to a hot air zone heated to 130 ° C., dried, stretched 4.0 times in the width direction, and heat treated at 230 ° C. for 5 seconds. The base film was obtained by 3% relaxation treatment in the width direction.

前記のフィルムの厚さは100μmであり、この時の各易接着層の塗布量は0.01g/m2であった。得られたフィルムの波長380nmにおける透過率を表1に示す。得られた基材フィルムは優れた紫外線吸収性を有していた。また、長時間生産しても表面傷や表面異物等の表面欠点の発生が抑制されており、前記方法で評価した基材フィルム表面の表面傷および表面の異物評価の結果は共に◎であり、高品質な積層フィルムが安定して生産できた。また、基材フィルム中の厚み方向の紫外線吸収剤の偏在度は0であった。 The thickness of the film was 100 μm, and the coating amount of each easy-adhesion layer at this time was 0.01 g / m 2 . The transmittance of the obtained film at a wavelength of 380 nm is shown in Table 1. The obtained base film had excellent ultraviolet absorptivity. In addition, the occurrence of surface defects such as surface scratches and surface foreign matter is suppressed even if produced for a long time, both the surface scratches on the surface of the base film evaluated by the above method and the results of the evaluation of foreign matter on the surface are ◎, High quality laminated film could be produced stably. Moreover, the uneven distribution degree of the ultraviolet absorber of the thickness direction in a base film was 0.

2.反射防止層(表面層)の形成
前記の基材フィルムの干渉縞抑制易接着層に実施例1と同様の方法で反射防止層を形成した。実施例1と同様の特性が付与できた。さらに、干渉縞抑制易接着層が積層されているので、前記評価法で干渉縞の評価を行ったところ、その結果は、◎であった。
2. Formation of Antireflection Layer (Surface Layer) An antireflection layer was formed in the same manner as in Example 1 on the interference fringe-suppressing adhesive layer of the base film. The same characteristics as in Example 1 could be imparted. Furthermore, since the interference fringe suppression easy adhesion layer was laminated, when the interference fringe was evaluated by the above evaluation method, the result was ◎.

3.近赤外線吸収層の形成
バインダー樹脂をガラス転移点が110℃のポリエステル樹脂に変更する以外は、実施例1と同様の方法で本実施例2の近赤外線吸収フィルムを得た。本実施例2で得られた近赤外線吸収フィルムの特性を表1に示す。本実施例2で得られた近赤外線吸収フィルムは、実施例1で得られた近赤外線吸収フィルムと同様に高品質であった。
3. Formation of near-infrared absorbing layer A near-infrared absorbing film of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the binder resin was changed to a polyester resin having a glass transition point of 110 ° C. Table 1 shows the properties of the near-infrared absorbing film obtained in Example 2. The near-infrared absorbing film obtained in Example 2 was high quality like the near-infrared absorbing film obtained in Example 1.

比較例2
実施例2において、下記(1)〜(4)のように変更すること以外は実施例2と同様にして、本比較例2の近赤外線吸収フィルムを得た。本比較例2で得られた近赤外線吸収フィルムの特性を表1に示す。
(1)近赤外線吸収層の組成を下記のごとく変更する。
・シクロペンタノン 41.37質量%
・トルエン 41.36質量%
・フルオレン骨格を有する共重合ポリエステル系樹脂 16.40質量%
(カネボウ製、O−PET)
・ジインモニウム塩化合物 0.58質量%
(日本カーリット製、CIR−1083;アニオンがヘキサフルオロホスフェートイオンタイプ)
・シアニン系化合物 0.05質量%
(旭電化工業製、TZ−114;アニオンが金属錯体タイプ)
・フタロシアニン系化合物 0.16質量%
(日本触媒製、IR−14)
・スクアリリウム塩系化合物 0.05質量%
(協和発酵工業製、SD−184)
・シリコーン系界面活性剤 0.03質量%
(ダウコーニング製、ペインタッド57;HLB=6.7)
(2)基材フィルムへの紫外線吸収剤の配合を取り止める。
(3)基材フィルムへの干渉縞抑制易接着層および汎用易接着層の積層を両面とも取り止める。
(4)近赤外線吸収層形成用塗布液への界面活性剤の配合を取り止める。
Comparative Example 2
In Example 2, a near-infrared absorbing film of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as Example 2 except that the following changes (1) to (4) were made. Table 1 shows the properties of the near-infrared absorbing film obtained in Comparative Example 2.
(1) The composition of the near infrared absorbing layer is changed as follows.
・ Cyclopentanone 41.37% by mass
・ Toluene 41.36% by mass
-Copolyester resin having a fluorene skeleton 16.40% by mass
(Kanebo, O-PET)
・ Diimonium salt compound 0.58% by mass
(Nippon Carlit, CIR-1083; anion is hexafluorophosphate ion type)
・ Cyanine compound 0.05% by mass
(Asahi Denka Kogyo, TZ-114; anion is a metal complex type)
-Phthalocyanine compound 0.16% by mass
(Nippon Shokubai, IR-14)
・ Squarylium salt compound 0.05% by mass
(Kyowa Hakko Kogyo, SD-184)
・ Silicone-based surfactant 0.03% by mass
(Dow Corning, Paintad 57; HLB = 6.7)
(2) Cancel the blending of the UV absorber into the base film.
(3) The lamination of the interference fringe suppressing easy adhesion layer and the general-purpose easy adhesion layer on the base film is canceled on both sides.
(4) Cancel the incorporation of the surfactant into the coating solution for forming the near infrared absorbing layer.

本比較例2で得られた近赤外線吸収フィルムは耐久性が劣っている。また、紫外線透過度が高いため、近赤外線吸収色素の光による劣化が大きく耐候性が劣る。また、各易接着層が形成されないため、反射防止層や近赤外線吸収層の基材フィルムに対する接着性が劣る。さらに、近赤外線吸収層形成用塗布液への界面活性剤の配合を取り止めたため、近赤外線吸収色素やネオン光カット用の色調調整用色素のバインダー樹脂への分散性が悪く、近赤外線吸収層の塗膜外観に劣っていた。さらに、反射防止層と基材フィルムとの界面に干渉縞抑制易接着層が積層されていないので、干渉縞の評価結果は×であった。   The near-infrared absorbing film obtained in Comparative Example 2 has poor durability. Moreover, since the ultraviolet ray transmittance is high, the near-infrared absorbing dye is greatly deteriorated by light and the weather resistance is inferior. Moreover, since each easily bonding layer is not formed, the adhesiveness with respect to the base film of an antireflection layer or a near-infrared absorption layer is inferior. Furthermore, since the incorporation of the surfactant into the coating solution for forming the near infrared absorbing layer was canceled, the dispersibility of the near infrared absorbing dye and the color adjusting dye for cutting neon light in the binder resin was poor, and the near infrared absorbing layer The film appearance was inferior. Furthermore, since the interference fringe suppression easy adhesion layer was not laminated | stacked on the interface of an antireflection layer and a base film, the evaluation result of the interference fringe was x.

Figure 2006184820
Figure 2006184820

実施例3、4および比較例3、4
プラズマディスプレイパネル(富士通製、PDS4211J−H)の前面パネルを外し、実施例1、2および比較例1、2で得られた近赤外線吸収フィルムの近赤外線吸収層に、n−ブチルアクリレート(78.4質量%)、2−エチルヘキシルアクリレート(19.6質量%)およびアクリル酸(2質量%)の組成よりなるアクリル酸エステル共重合体である透明性粘着剤をコンマコーター法で乾燥後の膜厚で0.025mmとなるように積層し、さらにその表面にシリコーン処理した厚み0.038mmのポリエチレンテレフタレートよりなるセパレータフィルムを積層し、近赤外線吸収フィルターとセパレータフィルムとの複合体を得た。前記の複合体よりセパレータフィルムを剥がし、粘着層を介してプラズマディスプレイパネルに貼着し、機能の評価を実施した。なお、近赤外線吸収フィルムは、厚みが薄く、かつ粘着層が複合されているので、プラズマディスプレイパネル表面をイソプロピルアルコールで湿らせた状態で、前記のフィルムの貼着を行うと、気泡の混入を抑えて綺麗に貼着することができた。
Examples 3 and 4 and Comparative Examples 3 and 4
The front panel of the plasma display panel (Fujitsu, PDS4211J-H) was removed, and n-butyl acrylate (78.78) was applied to the near-infrared absorbing layer of the near-infrared absorbing films obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2. 4 mass%), 2-ethylhexyl acrylate (19.6 mass%) and film thickness after drying a transparent adhesive which is an acrylic ester copolymer comprising a composition of acrylic acid (2 mass%) by a comma coater method Then, a separator film made of polyethylene terephthalate having a thickness of 0.038 mm and treated with silicone was laminated on the surface to obtain a composite of a near-infrared absorbing filter and a separator film. The separator film was peeled off from the composite, and it was attached to a plasma display panel via an adhesive layer, and the function was evaluated. The near-infrared absorbing film has a small thickness and a composite adhesive layer. Therefore, if the film is attached with the surface of the plasma display panel moistened with isopropyl alcohol, air bubbles are mixed in. I was able to stick it cleanly.

実施例1および2で得られた近赤外線吸収フィルムによるフィルター(実施例3および4)は、近赤外線吸収効果が付与されているので、周辺に設置される赤外線リモートコントロール装置に対する妨害を防止できた。また、耐候性や経時安定性が優れているので、長期間使用をしても前記の機能が安定していた。さらに、以下の効果が確認できた。   Since the filters (Examples 3 and 4) using the near-infrared absorbing film obtained in Examples 1 and 2 are provided with a near-infrared absorbing effect, interference with the infrared remote control device installed in the vicinity could be prevented. . In addition, since the weather resistance and stability over time are excellent, the above functions were stable even after long-term use. Furthermore, the following effects were confirmed.

(1)表面に反射防止性が付与されているので、外光反射が抑えられ室内照明に用いた蛍光灯の写り込みが減少した。
(2)表面硬度が高いので傷が付き難い。
(3)防汚性が付与されているので、手で触れて指紋がついても拭き取りで簡単に消すことができる。
(4)ネオンカットの色調改善がされているので色再現性が向上した。具体的には、オレンジ色の入った赤が純赤に、緑がかった青が鮮やかな青に、黄ばんだ感じの白が純白になる。
(1) Since the antireflection property is imparted to the surface, the reflection of external light is suppressed, and the reflection of the fluorescent lamp used for indoor lighting is reduced.
(2) Since the surface hardness is high, it is difficult to be damaged.
(3) Since antifouling property is given, even if it touches with a hand and a fingerprint is attached, it can be easily erased by wiping.
(4) Since the tone of neon cut has been improved, color reproducibility has been improved. Specifically, red with orange color becomes pure red, blue with greenish color becomes vivid blue, and white that looks yellowish becomes pure white.

比較例1の近赤外線吸収フィルムによるフィルター(比較例3)および比較例2の近赤外線吸収フィルムによるフィルター(比較例4)は、経時安定性や耐候性が劣るので、長期使用により、周辺に設置される赤外線リモートコントロール装置に対する妨害が増加した。また、近赤外線吸収層の塗膜外観が劣るため、前記の欠点により画像の質が低下した。さらに、各層の界面の接着性に劣るため、長期使用により界面の部分剥離が発生し、画質の像が低下した。   The filter using the near-infrared absorbing film of Comparative Example 1 (Comparative Example 3) and the filter using the near-infrared absorbing film of Comparative Example 2 (Comparative Example 4) are inferior in stability over time and weather resistance. Increased disturbance to infrared remote control devices. Moreover, since the coating film appearance of the near-infrared absorbing layer was inferior, the image quality was deteriorated due to the above-mentioned defects. Furthermore, since the adhesiveness at the interface of each layer was inferior, partial peeling of the interface occurred due to long-term use, and the image quality was deteriorated.

実施例5
実施例3で作製した近赤外線吸収フィルターを、粘着層を介して、線径0.03mmの繊維を1インチ当たり135本の密度で縦横に編んだメッシュを無電解メッキ法でニッケルおよび銅をメッキした導電メッシュに貼着した。プラズマディスプレイパネル(富士通製、PDS4211J−H)の前面パネルを外し、上記複合体を接着剤で貼着し、機能の評価を実施した。実施例3で確認した効果に加え、電磁波遮断効果が発現された。
Example 5
The near-infrared absorption filter produced in Example 3 was plated with nickel and copper by electroless plating on a mesh in which fibers with a wire diameter of 0.03 mm were knitted longitudinally and horizontally at a density of 135 per inch through an adhesive layer. Affixed to the conductive mesh. The front panel of the plasma display panel (manufactured by Fujitsu, PDS4211J-H) was removed, and the composite was attached with an adhesive to evaluate the function. In addition to the effects confirmed in Example 3, an electromagnetic wave shielding effect was exhibited.

実施例6
実施例3で作製した近赤外線吸収フィルターを、光学用の粘着剤で近赤外線吸収層側をプラズマディスプレイパネル側としてプラズマディスプレイパネルに貼着して評価をし、実施例3と同様の結果を得た。
Example 6
The near-infrared absorption filter produced in Example 3 was attached to a plasma display panel with an optical adhesive and the near-infrared absorption layer side was attached to the plasma display panel for evaluation, and the same results as in Example 3 were obtained. It was.

本発明の近赤外線吸収フィルムは、近赤外線の遮断性、広い波長領域における可視光の透過性を維持しつつ、耐久性に優れており、プラズマディスプレイ等の近赤外線を吸収する機能が要求される表示装置等の光学用フィルムとして好適に使用することがでる。また、本発明の近赤外線吸収フィルターは、粘着剤で貼り合わせることなく1枚の基材フィルムよりなる多層フィルムで、近赤外線の遮断性、広い波長領域における可視光の透過性を維持しつつ、耐久性に優れており、さらに、一枚の基材フィルムの構成で薄膜状態を維持し、その他の各種機能が付与できるので、被貼着体に対する貼着の作業性が改善され、かつ経済性にも優れており、プラズマディスプレイなどの映像出力装置または照明器具などから発生される近赤外線を吸収することで近赤外線の浸入を遮断し、当前記の近赤外線領域の光を通信に使用するリモコン/赤外線通信ポートの誤動作を防ぎ、ひいては、これらの遠隔操作機器で制御する機器の誤動作を防ぐ事ができる。またキャッシュカードIDカード等の偽造防止に利用することもできる等の幅広い用途分野に利用することができ、産業界に寄与することが大である。

The near-infrared absorbing film of the present invention is excellent in durability while maintaining the blocking property of near-infrared rays and the transmittance of visible light in a wide wavelength region, and is required to have a function of absorbing near-infrared rays such as a plasma display. It can be suitably used as an optical film for a display device or the like. In addition, the near infrared absorption filter of the present invention is a multilayer film composed of a single base film without being bonded with an adhesive, while maintaining near infrared blocking properties and visible light transmission in a wide wavelength region, It is excellent in durability, and furthermore, it can maintain a thin film state with a single base film configuration and can provide various other functions, so the workability of sticking to the adherend is improved and it is economical Remote control that blocks near-infrared intrusion by absorbing near-infrared rays generated from video output devices such as plasma displays or lighting fixtures, and uses light in the near-infrared region for communication / The malfunction of the infrared communication port can be prevented, and thus the malfunction of the devices controlled by these remote control devices can be prevented. In addition, it can be used for a wide range of applications such as forgery prevention of cash card ID cards and the like, and contributes greatly to the industry.

Claims (9)

透明基材フィルム上に、透明樹脂と、波長800〜1100nmに極大吸収を有する近赤外線吸収色素を含有する組成物からなる近赤外線吸収層を積層してなる近赤外線吸収フィルムであって、前記近赤外線吸収色素の1つがビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸を対アニオンとする芳香族ジインモニウム系化合物であることを特徴とする近赤外線吸収フィルム。   A near-infrared absorbing film formed by laminating a transparent resin and a near-infrared absorbing layer comprising a composition containing a transparent resin and a near-infrared absorbing dye having a maximum absorption at a wavelength of 800 to 1100 nm, A near-infrared absorbing film, wherein one of the infrared absorbing dyes is an aromatic diimmonium compound having bis (trifluoromethanesulfonyl) imidic acid as a counter anion. 前記近赤外線吸収色素として、さらにシアニン系化合物を用いることを特徴とする請求項1記載の近赤外線吸収フィルム。   The near-infrared absorbing film according to claim 1, wherein a cyanine compound is further used as the near-infrared absorbing dye. シアニン系化合物の対アニオンが金属錯体であることを特徴とする請求項1または2記載の近赤外線吸収フィルム。   The near-infrared absorbing film according to claim 1 or 2, wherein the counter anion of the cyanine compound is a metal complex. 基材フィルムが紫外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルム。   The near-infrared absorbing film according to claim 1, wherein the base film contains an ultraviolet absorber. 基材フィルムが少なくとも3層以上の積層構造からなり、前記紫外線吸収剤が前記の積層構造の中間層に含有されてなることを特徴とする請求項4記載の近赤外線吸収フィルム。   The near-infrared absorbing film according to claim 4, wherein the base film has a laminated structure of at least three layers, and the ultraviolet absorber is contained in an intermediate layer of the laminated structure. 基材フィルムに積層された近赤外線吸収層とは反対面に反射防止層を積層してなることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルム。   The near-infrared absorbing film according to any one of claims 1 to 5, wherein an antireflection layer is laminated on the surface opposite to the near-infrared absorbing layer laminated on the base film. 基材フィルムの少なくとも片面に、水性ポリエステル樹脂と、水溶性のチタンキレート化合物、水溶性のチタンアシレート化合物、水溶性のジルコニウムキレート化合物、または水溶性のジルコニウムアシレート化合物の少なくとも1種とを主たる構成成分とする接着改質層が積層されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルム。   At least one surface of the base film is mainly composed of an aqueous polyester resin and at least one of a water-soluble titanium chelate compound, a water-soluble titanium acylate compound, a water-soluble zirconium chelate compound, or a water-soluble zirconium acylate compound. The near-infrared absorbing film according to any one of claims 1 to 6, wherein an adhesion modified layer as a constituent component is laminated. 前記近赤外線吸収層には、HLBが2以上12以下の界面活性剤が含有されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルム。   The near-infrared absorbing film according to any one of claims 1 to 7, wherein the near-infrared absorbing layer contains a surfactant having an HLB of 2 or more and 12 or less. 請求項1〜8のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルムの近赤外線吸収層の表面に透明粘着剤よりなる粘着層を積層してなることを特徴とする近赤外線吸収フィルター。

A near-infrared absorption filter, comprising an adhesive layer made of a transparent adhesive on the surface of the near-infrared absorption layer of the near-infrared absorption film according to claim 1.

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